JP2002270738A - Heat sink for semiconductor device and semiconductor device using the same - Google Patents

Heat sink for semiconductor device and semiconductor device using the same

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JP2002270738A JP2001065816A JP2001065816A JP2002270738A JP 2002270738 A JP2002270738 A JP 2002270738A JP 2001065816 A JP2001065816 A JP 2001065816A JP 2001065816 A JP2001065816 A JP 2001065816A JP 2002270738 A JP2002270738 A JP 2002270738A
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To improve heat dissipating effect by preventing formation of a gap between a heat sink and a semiconductor device main body. SOLUTION: A heat sink for a semiconductor device is constituted by combination of a first heat sink 10 and a second heat sink 20. A first heat sink 10 side on which the semiconductor device main body 2 is mounted is formed of material of copper or the like whose thermal conductivity is higher than that of aluminum, aluminum alloy, etc., and heat generation from the semiconductor device main body 2 is conducted quickly to the second heat sink 20. As a result, warp is not generated in the semiconductor device main body 2, especially, in its heat dissipating plate, and a gap is not formed to the first heat sink 10, so that heat dissipating effect can be improved.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体装置の放熱
用として用いる半導体装置用ヒート・シンク(heatsink)
及びそれを使用した半導体装置に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a heat sink for a semiconductor device used for heat dissipation of a semiconductor device.
And a semiconductor device using the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】周知のように、高出力で多量の発熱量を
伴う半導体装置本体には複数の放熱フィン(放熱ヒレ)
を備えたヒート・シンクが接するように設けられ、この
ヒート・シンクにより半導体装置の放熱が行なわれる。
このようなヒート・シンクは、通常、熱伝導率が高いほ
ど冷却効率が優れていることからアルミニウムやアルミ
ニウム合金等の高熱伝導率の材料から構成され、押出し
成形により成形加工されていた。
2. Description of the Related Art As is well known, a semiconductor device having a high output and a large amount of heat is provided with a plurality of radiating fins (radiating fins).
Are provided so as to be in contact with each other, and the heat sink radiates heat from the semiconductor device.
Such a heat sink is generally made of a material having a high thermal conductivity such as aluminum or an aluminum alloy because the cooling efficiency is higher as the thermal conductivity is higher, and is formed by extrusion.

【0003】この種のヒート・シンクを使用した半導体
装置の例を図7(a)〜(c)に示す。図において、1
は半導体装置全体を示し、半導体装置1は、図7
(a),(b)に示すように半導体装置本体2と、例え
ばアルミニウム製ヒート・シンク3とを備えている。半
導体装置本体2内には図示を省略したが放熱板上に絶縁
板を介して半導体チップが載置・固定され、絶縁ケース
の上面に所定の外部導出端子が導出されている。また、
絶縁ケースの下面側には前記半導体チップが搭載された
放熱板の外面が露出し、この露出した外面が前記ヒート
・シンク3の上面に接するようにねじ4により固定され
ている。なお、図7(c)は、絶縁ケースを有さない半
導体装置本体2自体が前記ヒート・シンク3上に半田付
け等により直接搭載された例である。
FIGS. 7A to 7C show an example of a semiconductor device using this type of heat sink. In the figure, 1
7 shows the entire semiconductor device, and the semiconductor device 1 is shown in FIG.
As shown in FIGS. 1A and 1B, a semiconductor device main body 2 and a heat sink 3 made of, for example, aluminum are provided. Although not shown, a semiconductor chip is mounted and fixed on a heat sink via an insulating plate inside the semiconductor device body 2, and a predetermined external lead-out terminal is led out from the upper surface of the insulating case. Also,
The outer surface of the heat sink on which the semiconductor chip is mounted is exposed on the lower surface side of the insulating case, and is fixed by screws 4 so that the exposed outer surface is in contact with the upper surface of the heat sink 3. FIG. 7C shows an example in which the semiconductor device main body 2 having no insulating case is directly mounted on the heat sink 3 by soldering or the like.

【0004】そして、上記ヒート・シンク3は、板状を
した複数枚の放熱フィン3aを所定の間隔で並列させ羽
根板状の断面形状や複数のスリット3bを設けた断面形
状を有するように形成されていた。これらのヒート・シ
ンク3は、半導体装置本体2で発生する熱を効率的に外
部へ放熱させる働きを有しており、半導体装置の電気的
特性や外形によって発熱効率が最適になるように設計さ
れている。
The heat sink 3 is formed by arranging a plurality of plate-shaped radiating fins 3a at predetermined intervals so as to have a sectional shape of a blade plate or a sectional shape provided with a plurality of slits 3b. It had been. These heat sinks 3 have a function of efficiently radiating the heat generated in the semiconductor device body 2 to the outside, and are designed so that the heat generation efficiency is optimized according to the electrical characteristics and the external shape of the semiconductor device. ing.

【0005】従来の半導体装置1は、以上のように構成
されており、特にヒート・シンク3が最適に設計されて
いない場合、図8に示すように半導体装置本体2、特に
放熱板5の熱膨張により、該放熱板5とヒート・シンク
3との間に隙間が生じ、半導体チップ6から発生する熱
を効率良くヒート・シンク3に伝導させ、熱放散させる
ことができないという解決すべき課題があった。
The conventional semiconductor device 1 is configured as described above. In particular, when the heat sink 3 is not optimally designed, as shown in FIG. Due to the expansion, a gap is generated between the heat sink 5 and the heat sink 3, and the heat generated from the semiconductor chip 6 can be efficiently conducted to the heat sink 3 and the heat cannot be dissipated. there were.

【0006】[0006]

【発明の目的】本発明は上記のような各課題を解決する
ためになされたもので、ヒート・シンクと半導体装置本
体との間に隙間が生じることなく、半導体チップからの
発熱をヒート・シンクを介して効率良く熱放散させるこ
とができる半導体装置用ヒート・シンク及びそれを使用
した半導体装置を提供することを目的とするものであ
る。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above-mentioned problems, and has been made to eliminate heat generated from a semiconductor chip without forming a gap between the heat sink and the semiconductor device body. It is an object of the present invention to provide a heat sink for a semiconductor device capable of efficiently dissipating heat through a semiconductor device and a semiconductor device using the same.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】本発明の半導体装置用ヒ
ート・シンクは、互いに異なる材料、例えば第1のヒー
ト・シンクが銅(Cu)で第2のヒート・シンクが例え
ばアルミニウム(Au)材料で形成され、第1のヒート
・シンク側に半導体装置本体が搭載されるようにしたも
のである。上記の1ヒート・シンクのCuの熱伝導率
(20℃)は、3.72(W/cm℃)、第2のヒート
・シンクのAlの熱伝導率は2.04(W/cm℃)で
あり、第1ヒート・シンクの方が第2のヒート・シンク
よりも相対的に熱伝導率が高い。また、第1ヒート・シ
ンク上に搭載される半導体装置本体の接触面が銅製の放
熱板で、この放熱板と第1ヒート・シンクとが接触する
が両者の熱伝導率が等しい。これに起因して半導体装置
本体内部の半導体接合部で発生する熱が放熱板を介して
第1のヒート・シンクに伝達され、さらに、該第1のヒ
ート・シンクから第2のヒート・シンクへ伝達された
後、空気中に放散される。 上記の結果、放熱板の熱膨張による反りが防止され、第
1ヒート・シンクとの間に間隙が形成されなくなり放熱
効果を向上させることができる。また、本発明の半導体
装置は、上記のような構成のヒート・シンクの使用によ
り高性能で安定した特性の半導体装置となる。
The heat sinks for semiconductor devices of the present invention are made of different materials, for example, the first heat sink is made of copper (Cu) and the second heat sink is made of aluminum (Au). And the semiconductor device main body is mounted on the first heat sink side. The heat conductivity (20 ° C.) of Cu in the first heat sink is 3.72 (W / cm ° C.), and the heat conductivity of Al in the second heat sink is 2.04 (W / cm ° C.). And the first heat sink has a relatively higher thermal conductivity than the second heat sink. Further, the contact surface of the semiconductor device body mounted on the first heat sink is a heat radiating plate made of copper, and the heat radiating plate and the first heat sink are in contact with each other, but the heat conductivity of both are equal. The heat generated at the semiconductor junction inside the semiconductor device body due to this is transmitted to the first heat sink via the heat sink, and further from the first heat sink to the second heat sink. After being transmitted, it is released into the air. As a result, warpage due to thermal expansion of the radiator plate is prevented, and no gap is formed between the radiator plate and the first heat sink, so that the radiating effect can be improved. Further, the semiconductor device of the present invention becomes a semiconductor device having high performance and stable characteristics by using the heat sink having the above configuration.

【0008】[0008]

【発明の実施の形態】以下に、本発明の実施の形態を、
図を参照して説明する。図1は本発明の第1の実施の形
態を示す。図において、本発明の半導体装置用ヒート・
シンクは、互いに異なる材料より形成された第1のヒー
ト・シンク10と第2のヒート・シンク20の組み合わ
せからなる。そして第1のヒート・シンク10は、第2
のヒート・シンク20よりも相対的に熱伝導率が高い材
料で形成されている。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Embodiments of the present invention will be described below.
This will be described with reference to the drawings. FIG. 1 shows a first embodiment of the present invention. In the figure, the semiconductor device heat
The sink comprises a combination of a first heat sink 10 and a second heat sink 20 formed of different materials. And the first heat sink 10
Is formed of a material having a relatively higher thermal conductivity than the heat sink 20 of FIG.

【0009】すなわち、第1のヒート・シンク10は、
例えばCuの材質により形成される。また、第1のヒー
ト・シンク10は、半導体装置本体2を載置する搭載面
11と、該搭載面11の裏面側となる前記第2のヒート
・シンク20との対向面12とを有している。さらに、
前記対向面12の略中央部から外方(図示では下方)に
突出する延在部13が設けられ、水平方向の複数の放熱
フィン21を形成した一対の第2のヒート・シンク20
を、前記延在部13に密着して配置したものである。
That is, the first heat sink 10
For example, it is formed of a Cu material. Further, the first heat sink 10 has a mounting surface 11 on which the semiconductor device body 2 is mounted, and a surface 12 facing the second heat sink 20 on the back side of the mounting surface 11. ing. further,
A pair of second heat sinks 20 provided with an extending portion 13 protruding outwardly (downward in the figure) from a substantially central portion of the facing surface 12 and having a plurality of heat radiation fins 21 in the horizontal direction.
Are arranged in close contact with the extending portion 13.

【0010】なお、上記第1のヒート・シンク10は、
Cuの材質によって形成するものであるが、単に中央部
が下方に突出している形状であるために、冷間鍛造によ
って容易に製造することができる。また、第2ヒート・
シンク20は、従来と同様にアルミニウム、アルミニウ
ム合金、鉄等の材質によって形成されるが、場合によっ
ては第2のヒート・シンク20側についても銅材で形成
しても良い。 要は、半導体装置本体2と直接接触する載置面が銅材等
の高熱伝導率の材料のものとなるようにすれば良い。 さらに、上記第1、第2のヒート・シンク10,20に
はマイカ等の表面処理を施して熱伝導率をさらに向上さ
せるようにしても良い。 また、複数の放熱フィン21の方向は、必ずしも水平方
向に限定されるものではなく、斜め上方、斜め下方、垂
直下方等でも良いことは言うまでもない。 また、上記のような構成のヒート・シンクの使用して半
導体装置を製作した場合、放熱効果が著しく良好となり
高性能で安定した特性の半導体装置が得られる。
[0010] The first heat sink 10 comprises:
Although it is formed of a Cu material, it can be easily manufactured by cold forging because it has a shape in which the central portion simply protrudes downward. Also, the second heat
The sink 20 is formed of a material such as aluminum, an aluminum alloy, iron, or the like as in the related art. However, in some cases, the second heat sink 20 may be formed of a copper material. The point is that the mounting surface that is in direct contact with the semiconductor device body 2 may be made of a material having a high thermal conductivity such as a copper material. Further, the first and second heat sinks 10 and 20 may be subjected to a surface treatment such as mica to further improve the thermal conductivity. Further, the direction of the plurality of radiating fins 21 is not necessarily limited to the horizontal direction, and may be, for example, diagonally upward, diagonally downward, vertically downward, or the like. Further, when a semiconductor device is manufactured using the heat sink having the above-described configuration, the heat radiation effect is significantly improved, and a semiconductor device having high performance and stable characteristics can be obtained.

【0011】図2は、上記第1の実施の形態の変形例を
示す。 この変形例では、第1のヒート・シンク10の対向面1
2と第2のヒート・シンクの上方外面23との間に所定
間隔の空間部24が形成されるようにしたものである。
FIG. 2 shows a modification of the first embodiment. In this modification, the opposing surface 1 of the first heat sink 10
A space 24 having a predetermined interval is formed between the second outer surface 23 and the upper outer surface 23 of the second heat sink.

【0012】上記のように構成のヒート・シンクは、第
1のヒート・シンク10の載置面11上に、例えばパワ
ーモジュール等の半導体装置本体2を配置して使用した
場合、第1ヒート・シンク10の方が第2のヒート・シ
ンク20よりも相対的に熱伝導率が高い。そして、第1
ヒート・シンク10上に搭載される半導体装置本体2の
接触面が銅製の放熱板で、この放熱板と第1ヒート・シ
ンク10とが接触するが両者の熱伝導率が等しいため
に、半導体装置本体2の内部の半導体接合部で発生する
熱が、放熱板を介して第1のヒート・シンク10に伝達
され、さらに、第1のヒート・シンク10から第2のヒ
ート・シンク20へ伝達された後、空気中に放散され
る。 上記の結果、放熱板の熱膨張による反りが防止され、第
1ヒート・シンク10と半導体装置本体2の間に間隙が
形成されなくなり放熱効果を向上させることができる。
なお、実際の使用に際しては、半導体装置本体2と第1
のヒート・シンク10との間に適当なサーマルコンパウ
ンド、ジョイントコンパウンド等を塗付しても良い。
The heat sink having the above-described configuration is used when the semiconductor device body 2 such as a power module is disposed on the mounting surface 11 of the first heat sink 10 and used. Sink 10 has a relatively higher thermal conductivity than second heat sink 20. And the first
The contact surface of the semiconductor device main body 2 mounted on the heat sink 10 is a copper radiator plate, and this radiator plate and the first heat sink 10 come into contact with each other, but since the two have the same thermal conductivity, the semiconductor device has Heat generated at the semiconductor junction inside the main body 2 is transmitted to the first heat sink 10 via the heat sink, and further transmitted from the first heat sink 10 to the second heat sink 20. After being released into the air. As a result, warpage due to thermal expansion of the radiator plate is prevented, and no gap is formed between the first heat sink 10 and the semiconductor device main body 2, so that the heat radiation effect can be improved.
In actual use, the semiconductor device body 2 and the first
A suitable thermal compound, joint compound or the like may be applied between the heat sink 10 and the heat sink 10.

【0013】また、第1の実施の形態の変形例では、第
1のヒート・シンク10の対向面12と第2のヒート・
シンク20の上方外面23とを密着させずに、所定の間
隔の空間部24が形成される構造としたため、該空間部
24の間隔を最適に設計することにより、該空間部24
を介して自然対流による空気中への熱放散が期待でき
る。
In a modification of the first embodiment, the opposing surface 12 of the first heat sink 10 and the second heat sink
Since the space portions 24 are formed at predetermined intervals without making close contact with the upper outer surface 23 of the sink 20, the space portions 24 are designed by optimally designing the intervals of the space portions 24.
Can be expected to dissipate heat into the air due to natural convection.

【0014】図3は、本発明の第2の実施の形態であ
る。この実施の形態は、第1のヒート・シンク10の延
在部13に密着して配置する一対の第2のヒート・シン
ク20を、空洞部22を有する箱型に形成したものであ
る。この空洞部22は図示のように単一のものであって
も良いが、複数のスリット状のものであっても良い。
FIG. 3 shows a second embodiment of the present invention. In this embodiment, a pair of second heat sinks 20 arranged in close contact with the extending portions 13 of the first heat sink 10 are formed in a box shape having a cavity 22. The hollow portion 22 may be a single one as shown, but may be a plurality of slits.

【0015】図4は、本発明の第3の実施の形態であ
る。この実施の形態は、第1のヒート・シンク10が、
半導体装置本体2を載置する搭載面11と、該搭載面1
1の裏面側となる第2のヒート・シンク20との対向面
12とを有し、該対向面12の一端部から略直角に外方
に突出する延在部13Aを設け、該延在部13Aの内側
面に接するように、水平方向の複数の放熱フィン21を
有する前記第2のヒート・シンク20を密着して配置し
たことを特徴とするものである。
FIG. 4 shows a third embodiment of the present invention. In this embodiment, the first heat sink 10
A mounting surface 11 on which the semiconductor device body 2 is mounted;
And an extension 13A protruding outward at a substantially right angle from one end of the facing surface 12 and having an opposite surface 12 facing the second heat sink 20 on the back surface side of the first heat sink 20. The second heat sink 20 having a plurality of radiating fins 21 in the horizontal direction is arranged in close contact with the inner side surface of 13A.

【0016】上記第3の実施の形態においても、第1の
実施の形態と同様に半導体装置本体2の内部の半導体接
合部で発生する熱が、放熱板を介して第1のヒート・シ
ンク10に伝達され、さらに、第1のヒート・シンク1
0から第2のヒート・シンク20へ伝達された後、空気
中に放散される。 上記の結果、放熱板の熱膨張による反りが防止され、第
1ヒート・シンク10と半導体装置本体2の間に間隙が
形成されなくなり放熱効果を向上させることができる。
In the third embodiment, as in the first embodiment, the heat generated at the semiconductor junction inside the semiconductor device body 2 is supplied to the first heat sink 10 via the heat sink. To the first heat sink 1
After being transmitted from 0 to the second heat sink 20, it is dissipated into the air. As a result, warpage due to thermal expansion of the radiator plate is prevented, and no gap is formed between the first heat sink 10 and the semiconductor device main body 2, so that the heat radiation effect can be improved.

【0017】図5は、上記第3の実施の形態の変形例を
示す。 この変形例では、第1のヒート・シンク10の対向面1
2と、第2のヒート・シンクの上方外面23との間に所
定間隔の空間部24が形成されるようにしたものであ
る。
FIG. 5 shows a modification of the third embodiment. In this modification, the opposing surface 1 of the first heat sink 10
A space 24 having a predetermined space is formed between the second heat sink 2 and the upper outer surface 23 of the second heat sink.

【0018】図6は、本発明の第4の実施の形態であ
る。この実施の形態は、前記第1のヒート・シンク10
の延在部13Aの内側面に密着配置される前記第2のヒ
ート・シンク20が、空洞部又は複数のスリット部(図
示では単一の空洞部22A)を有する箱型に形成したも
のである。この実施の形態よっても前記と同様に第1ヒ
ート・シンク10と半導体装置本体2の間に間隙が形成
されなくなり放熱効果を向上させることができる。
FIG. 6 shows a fourth embodiment of the present invention. In this embodiment, the first heat sink 10
The second heat sink 20, which is disposed in close contact with the inner surface of the extending portion 13A, is formed in a box shape having a cavity or a plurality of slits (a single cavity 22A in the figure). . According to this embodiment as well, no gap is formed between the first heat sink 10 and the semiconductor device body 2 as described above, and the heat radiation effect can be improved.

【0019】[0019]

【発明の効果】以上のように本発明によれば、半導体装
置用ヒート・シンクを第1のヒート・シンクと第2のヒ
ート・シンクの組み合わせとして構成し、半導体装置本
体を搭載する第1のヒート・シンク側をアルミニウム、
アルミニウム合金等より熱伝導率の高い銅等の材料で形
成し、半導体装置本体のからの発熱を迅速に第2のヒー
ト・シンクに伝熱するようにしたので、半導体装置本
体、特にその放熱板に反りが生じず、第1のヒート・シ
ンクとの間に間隙が形成されないために放熱効果を向上
させることができる。また、従来のように放熱効果を高
めるためにヒート・シンク自体を大型化させたり、放熱
フィンの表面積を多くするために複雑な形状にしたり、
板厚を厚くするなどの必要がなくなりコスト的に安価と
なる。さらに、ヒート・シンク全体を銅材で構成する場
合には、放熱フィン等の形状加工が難しいが、本発明で
は銅製の第1のヒート・シンクがシンプルな形状である
ために冷間鍛造等により製作することができる。さら
に、上記のような構成のヒート・シンクの使用して半導
体装置を製作した場合、放熱効果が著しく良好となり高
性能で安定した特性の半導体装置が得られるなどの優れ
た効果がある。
As described above, according to the present invention, a heat sink for a semiconductor device is constituted as a combination of a first heat sink and a second heat sink, and a first heat sink for mounting a semiconductor device main body. Aluminum on the heat sink side
It is made of a material such as copper having higher thermal conductivity than aluminum alloy and the like, and heat generated from the semiconductor device main body is quickly transferred to the second heat sink. No warpage occurs, and no gap is formed between the first heat sink and the first heat sink, so that the heat radiation effect can be improved. Also, as in the past, the heat sink itself was increased in size to enhance the heat radiation effect, or the heat sink was made complex in order to increase the surface area of the fin,
There is no need to increase the plate thickness, and the cost is reduced. Further, when the entire heat sink is made of a copper material, it is difficult to shape the heat radiating fins and the like. However, in the present invention, the first heat sink made of copper has a simple shape, and thus is formed by cold forging or the like. Can be manufactured. Further, when a semiconductor device is manufactured using the heat sink having the above-described configuration, there is an excellent effect that a heat radiation effect is remarkably improved, and a semiconductor device having high performance and stable characteristics is obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の第1の実施の形態を示す斜視図であ
る。
FIG. 1 is a perspective view showing a first embodiment of the present invention.

【図2】上記第1の実施の形態の変形例を示す斜視図で
ある。
FIG. 2 is a perspective view showing a modification of the first embodiment.

【図3】本発明の第2の実施の形態を示す斜視図であ
る。
FIG. 3 is a perspective view showing a second embodiment of the present invention.

【図4】本発明の第3の実施の形態を示す斜視図であ
る。
FIG. 4 is a perspective view showing a third embodiment of the present invention.

【図5】上記第3の実施の形態の変形例を示す斜視図で
ある。
FIG. 5 is a perspective view showing a modification of the third embodiment.

【図6】本発明の第4の実施の形態を示す斜視図であ
る。
FIG. 6 is a perspective view showing a fourth embodiment of the present invention.

【図7】(a),(b),(c)は、いずれも従来のヒ
ート・シンクの使用例を示す斜視図である。
FIGS. 7A, 7B, and 7C are perspective views each showing an example of use of a conventional heat sink.

【図8】従来のヒート・シンクを使用した場合に、ヒー
ト・シンクと半導体装置本体との間に間隙が形成された
状態を示す正面図である。
FIG. 8 is a front view showing a state where a gap is formed between the heat sink and the semiconductor device body when a conventional heat sink is used.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 半導体装置 2 半導体装置本体 3 ヒート・シンク 3a 放熱フィン 4 ねじ 5 放熱板 6 半導体チップ 10 第1のヒート・シンク 11 搭載面 12 対向面 13,13A 延在部 20 第2のヒート・シンク 21 放熱フィン 22,22A 空洞部 23 上方外面 24 空間部 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Semiconductor device 2 Semiconductor device main body 3 Heat sink 3a Radiation fin 4 Screw 5 Heat sink 6 Semiconductor chip 10 First heat sink 11 Mounting surface 12 Opposite surface 13, 13A Extension part 20 Second heat sink 21 Heat radiation Fin 22, 22A cavity 23 upper outer surface 24 space

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】半導体装置に取り付けるヒート・シンクで
あって、該ヒート・シンクは、第1のヒート・シンクと
第2のヒート・シンクとを備え、半導体装置本体を搭載
する搭載面に対向する対向面より延在する放熱部を有す
る第1のヒート・シンクと、該第1のヒート・シンクの
前記対向面の直下に配置された第2のヒート・シンクと
を備えたことを特徴とする半導体装置用ヒート・シン
ク。
1. A heat sink attached to a semiconductor device, the heat sink including a first heat sink and a second heat sink, facing a mounting surface on which a semiconductor device body is mounted. A first heat sink having a heat radiating portion extending from the opposing surface; and a second heat sink disposed immediately below the opposing surface of the first heat sink. Heat sink for semiconductor devices.
【請求項2】前記第1のヒート・シンクの材質が銅であ
ることを特徴とする請求項1に記載の半導体装置用ヒー
ト・シンク。
2. The heat sink for a semiconductor device according to claim 1, wherein a material of said first heat sink is copper.
【請求項3】半導体装置本体を搭載する搭載面に対向す
る対向面より延在する放熱部を有する第1のヒート・シ
ンクと、該第1のヒート・シンクの前記対向面の直下に
配置された第2のヒート・シンクとを備え、前記第1の
ヒート・シンクの前記搭載面に半導体装置本体を搭載・
固定してなる半導体装置。
3. A first heat sink having a heat radiating portion extending from an opposing surface opposite to a mounting surface on which a semiconductor device main body is mounted, and disposed immediately below the opposing surface of the first heat sink. A second heat sink, and a semiconductor device body mounted on the mounting surface of the first heat sink.
A fixed semiconductor device.
【請求項4】前記第1ヒート・シンクの対向面と前記第
2ヒート・シンクの外面とを密着させたことを特徴とす
る請求項1に記載の半導体装置用ヒート・シンク。
4. The heat sink for a semiconductor device according to claim 1, wherein an opposing surface of said first heat sink and an outer surface of said second heat sink are brought into close contact with each other.
【請求項5】前記第1ヒート・シンクの対向面と前記第
2ヒート・シンクの外面との間に所定の空間部が形成さ
れるようにしたことを特徴とする請求項1に記載の半導
体装置用ヒート・シンク。
5. The semiconductor according to claim 1, wherein a predetermined space is formed between a facing surface of said first heat sink and an outer surface of said second heat sink. Heat sink for equipment.
【請求項6】前記第1のヒート・シンクの直下に配置す
る前記第2のヒート・シンクは、複数の放熱フィンを有
することを特徴とする請求項1の半導体装置用ヒート・
シンク。
6. The heat sink for a semiconductor device according to claim 1, wherein said second heat sink disposed immediately below said first heat sink has a plurality of radiating fins.
sink.
【請求項7】前記第1のヒート・シンクの直下に配置す
る前記第2のヒート・シンクが、単一の空洞部又は複数
のスリット部を有する箱型に形成されたことを特徴とす
る請求項1の半導体装置用ヒート・シンク。
7. The second heat sink disposed immediately below the first heat sink is formed in a box shape having a single cavity or a plurality of slits. Item 6. A heat sink for a semiconductor device according to Item 1.
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CN108490421A (en) * 2018-06-08 2018-09-04 上海禾赛光电科技有限公司 A kind of laser radar radiator

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