JP2002258433A - Photothermographic image forming material and image forming method - Google Patents

Photothermographic image forming material and image forming method

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JP2002258433A
JP2002258433A JP2001057963A JP2001057963A JP2002258433A JP 2002258433 A JP2002258433 A JP 2002258433A JP 2001057963 A JP2001057963 A JP 2001057963A JP 2001057963 A JP2001057963 A JP 2001057963A JP 2002258433 A JP2002258433 A JP 2002258433A
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JP
Japan
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photosensitive layer
image forming
photosensitive
silver halide
group
Prior art date
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JP2001057963A
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Japanese (ja)
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Takeshi Haniyu
武 羽生
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Konica Minolta Inc
Original Assignee
Konica Minolta Inc
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  • Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)
  • Photographic Developing Apparatuses (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a photothermographic image forming material ensuring low fog, high sensitivity and high density and excellent in image preservability and to provide an image forming method less liable to cause interference fringes and giving a uniform finish of development in relation to image formation. SOLUTION: In the photothermographic image forming material having a photosensitive layer containing photosensitive silver halide grains of 20-80 nm average grain diameter, an organic silver salt, a reducing agent and a binder on the base, the photosensitive layer comprises a first photosensitive layer closest to the base and a second photosensitive layer adjacent to the first photosensitive layer, the content of the photosensitive silver halide grains is smaller in the first photosensitive layer than in the second photosensitive layer and the contents of a hydrazide compound and a vinyl compound having an electron withdrawing group in its molecule in the photosensitive layer are larger in the first photosensitive layer than in the second photosensitive layer.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、低カブリ、高感
度、高濃度が得られ、画像保存性のよい光熱写真画像形
成材料、及び該形成材料を用いて、干渉ムラが生じ難
く、均一な現像仕上がりが得られる画像形成方法に関す
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a photothermographic image forming material capable of obtaining low fog, high sensitivity and high density, and having good image storability. The present invention relates to an image forming method capable of obtaining a developed finish.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、医療分野において、環境保護や作
業性の面から、湿式処理に伴う廃液の出ない、光又は熱
処理で画像を形成する写真材料が強く望まれており、特
に、光と熱の両者を利用した現像により、高解像度で鮮
明な黒色画像を形成できる写真技術用途の光熱写真材料
に関する技術が商品化され、急速に普及している。これ
らの光熱写真材料は、通常、80℃以上の温度で現像が
行われるので、25〜45℃の範囲で液体現像される従
来の湿式写真感光材料と区別され、光熱写真画像形成材
料と呼ばれる。
2. Description of the Related Art In recent years, in the medical field, from the viewpoint of environmental protection and workability, a photographic material which forms an image by light or heat treatment and which does not generate waste liquid due to wet processing has been strongly desired. The technology relating to photothermographic materials for photographic technology, which can form a high-resolution and clear black image by development using both heat, has been commercialized and rapidly spread. Since these photothermographic materials are usually developed at a temperature of 80 ° C. or higher, they are distinguished from conventional wet photographic light-sensitive materials which are liquid-developed in the range of 25 ° C. to 45 ° C., and are called photothermographic image forming materials.

【0003】この光熱写真画像形成材料(以下、光熱写
真材料とも略記する)は、感光層中に、ハロゲン化銀粒
子、有機銀塩及び還元剤等を含むことにより、熱現像を
可能にしている。しかし、熱現像後に、未露光部におい
ては、感光性のハロゲン化銀と還元剤が同時に残存する
ため、カブリが増大したり、濃度2.5以上の高濃度部
の濃度の低下等が進行し、保存性が劣化するという課題
の解決が必要であった。
This photothermographic image forming material (hereinafter abbreviated as photothermographic material) enables thermal development by including silver halide particles, organic silver salts, a reducing agent and the like in a photosensitive layer. . However, after heat development, in the unexposed areas, the photosensitive silver halide and the reducing agent remain at the same time, so that fog increases and the density of high-density areas of 2.5 or more decreases. It was necessary to solve the problem that storage stability deteriorated.

【0004】一つの解決方法は、光や熱で酸や酸化剤を
発生する化合物を存在させることであり、これらの技術
は、米国特許3,874,946号、同4,452,8
85号、同4,546,075号、同4,756,99
9号、同5,340,712号、特公昭54−165
号、特開昭50−137126号、特開平7−2781
号、同9−265150号等で開示されるポリハロメタ
ン化合物を使用することであった。しかし、ポリハロメ
タン化合物は、画像部の現像進行を抑制するという副作
用があり、高い感度を得難いという問題があった。
One solution is to have a compound which generates an acid or an oxidizing agent by light or heat. These techniques are disclosed in US Pat. Nos. 3,874,946 and 4,452,8.
No. 85, No. 4,546,075, No. 4,756,99
9, No. 5,340,712, JP-B-54-165
JP-A-50-137126, JP-A-7-2781
No. 9-265150, and the like. However, the polyhalomethane compound has a side effect of suppressing the development progress of the image area, and has a problem that it is difficult to obtain high sensitivity.

【0005】高い感度を得る方法は、効率のよい化学増
感や分光増感剤を使用する他に、現像を連鎖的に加速す
る作用のあるヒドラジド化合物を使用する技術が開示さ
れており、例えば、特開平8−234393号及び同1
1−65020号がある。ヒドラジドは、特に濃度2.
5以上のような高い濃度部の現像を促進する作用がある
ので硬調化剤として印刷用感光材料に応用されている。
別に現像促進化合物として高い感度を得る方法として、
電子求引性基を有するビニル化合物を使用することが特
開平11−95366号、同11−231459号に記
載されている。前記ビニル化合物も、特に濃度2.5以
上のような高濃度部の現像を促進する作用があるので硬
調化剤として印刷用感光材料に応用されている。
As a method for obtaining high sensitivity, there is disclosed a technique using a hydrazide compound having an action of accelerating development in addition to an efficient chemical sensitization or spectral sensitizer. And JP-A-8-234393 and JP-A-8-234393.
No. 1-65020. The hydrazide is in particular at a concentration of 2.
Since it has an action of accelerating the development of a high-density portion such as 5 or more, it is applied to a photosensitive material for printing as a high contrast agent.
Separately, as a method of obtaining high sensitivity as a development accelerating compound,
Use of a vinyl compound having an electron-withdrawing group is described in JP-A-11-95366 and JP-A-11-231559. The vinyl compound also has an effect of accelerating the development of a high-density portion having a density of 2.5 or more, and is therefore applied to a photosensitive material for printing as a high contrast agent.

【0006】従って、画像保存性を向上させるには、保
存中の光や熱により酸や酸化剤を発生させる化合物を使
用する方法があるが、これらは感度を低下させる副作用
があるので、高い感度を得る別の技術が必要であった。
こられの技術を組み合わせてカブリを下げ、高い感度を
得ている。
Therefore, there is a method of using a compound which generates an acid or an oxidizing agent by light or heat during storage in order to improve the image storability, but these compounds have a side effect of lowering the sensitivity. Another technique was needed to obtain.
Combining these technologies reduces fog and achieves high sensitivity.

【0007】高い感度を得る方法として、熱現像方式で
ない湿式処理のハロゲン化銀写真感光材料においては、
感光層を2層設ける技術が知られている。それは、感光
層の支持体に近い部分(下層)は表面よりも感光のため
の入射光が少なくなるので、下層を高感度にすることに
よってハロゲン化銀粒子の現像効率を高めて実質的な高
感度を得るという技術である。下層の高感度化は、化学
増感、分光増感あるいはヒドラジドのような現像促進型
の増感剤が使用された。これは下層の感光層のハロゲン
化銀粒子の感度を高めたり、硬調化を得る方法であっ
た。
As a method of obtaining high sensitivity, in a wet processing silver halide photographic material which is not a heat development method,
A technique for providing two photosensitive layers is known. The reason for this is that the portion of the photosensitive layer close to the support (lower layer) has less incident light for photosensitization than the surface, so that the lower layer is made more sensitive to increase the development efficiency of silver halide grains and to increase the substantially higher efficiency. This is a technique to obtain sensitivity. In order to increase the sensitivity of the lower layer, a development-sensitizing sensitizer such as chemical sensitization, spectral sensitization or hydrazide was used. This was a method of increasing the sensitivity of silver halide grains in the lower photosensitive layer or obtaining a high contrast.

【0008】しかし、ハロゲン化銀粒子、有機銀塩及び
還元剤が存在する光熱写真材料において、感光層を2層
に分け下側の感光層を高感度化するだけでは、低カブ
リ、高感度、高濃度及び画像保存性を全て満足すべきレ
ベルまで良くすることができなかった。
However, in a photothermographic material in which silver halide grains, an organic silver salt and a reducing agent are present, if the photosensitive layer is divided into two layers and the sensitivity of the lower photosensitive layer is merely increased, low fog, high sensitivity, High density and image storability could not all be improved to a satisfactory level.

【0009】又、近年、光熱写真材料の画像形成には、
レーザーで露光する方法が普及している。レーザー光
は、そのコヒーレント特性のため、レーザー入射光が支
持体の表及び裏の界面で反射した2光束が干渉し合いム
ラを生じさせる問題も発生している。この干渉を回避す
る方法として、レーザーのコヒーレントな特性を無くす
ようにすることで波長の異なるレーザー光を重畳して多
重波にする縦マルチ露光法や波長の異なる複数のレーザ
ー光を照射する2光束照射法、所謂ダブルビーム露光法
等がある。何れも、コヒーレント特性を減じる方法であ
り、過度にすると画質を損なう問題があった。
In recent years, image formation of photothermographic materials has involved
The method of exposing with a laser has become widespread. Due to the coherent characteristics of the laser beam, there is also a problem that two beams reflected by the laser incident light at the front and back interfaces of the support interfere with each other to cause unevenness. As a method for avoiding this interference, a longitudinal multi-exposure method in which laser beams having different wavelengths are superposed to form a multiplexed wave by eliminating coherent characteristics of the laser, or a two-beam irradiating a plurality of laser beams having different wavelengths There is an irradiation method, a so-called double beam exposure method and the like. Each of these methods is a method for reducing the coherent characteristics, and there is a problem that an excessive amount degrades the image quality.

【0010】別の取組み方として、光熱写真材料から
は、反射光を抑えるハレーション防止層の塗設がある
が、過度のハレーション防止は感度を低下させるという
問題があった。ハロゲン化銀粒子での光散乱を利用して
反射を抑えるには、感光層を2層に分けて感度の低いハ
ロゲン化銀粒子を支持体に近い感光層に含有させる方法
があるが、この方法は光熱写真材料の感度を低下させて
しまう問題があった。入射光の反射による干渉を防ぐ方
法も、未だ満足する方法が見い出されていないのが実状
である。
As another approach, a photothermographic material is provided with an antihalation layer for suppressing reflected light, but there is a problem that excessive antihalation reduces the sensitivity. In order to suppress reflection by utilizing light scattering in silver halide grains, there is a method in which the photosensitive layer is divided into two layers and low-sensitivity silver halide grains are contained in the photosensitive layer close to the support. Has a problem that the sensitivity of the photothermographic material is lowered. As a method of preventing interference due to reflection of incident light, a satisfactory method has not yet been found.

【0011】[0011]

【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の目的
は、低カブリ、高感度、高濃度が得られ、画像保存性に
優れる光熱写真画像形成材料を提供することにあり、
又、画像形成に際して干渉ムラが生じ難く、均一な現像
仕上がりを与える画像形成方法を提供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION Accordingly, an object of the present invention is to provide a photothermographic image forming material capable of obtaining low fog, high sensitivity and high density and having excellent image storability.
Another object of the present invention is to provide an image forming method which is less likely to cause interference unevenness during image formation and gives a uniform development finish.

【0012】[0012]

【課題を解決するための手段】本発明の上記目的は、支
持体上に、平均粒子径が20〜80nmである感光性ハ
ロゲン化銀粒子、有機銀塩、還元剤及び結合剤を含有す
る感光層を有する光熱写真画像形成材料において、該感
光層が支持体に最も近い第1感光層と第1感光層に隣接
する第2感光層から成り、かつ前記感光性ハロゲン化銀
粒子の含有量は第1感光層<第2感光層であり、感光層
中のヒドラジド化合物、分子内に電子求引性基を有する
ビニル化合物の含有量は第1感光層>第2感光層である
光熱写真画像形成材料によって達成される。尚、上記光
熱写真画像形成材料の第2感光層の感光性ハロゲン化銀
粒子が不安定硫黄又はセレン化合物で化学増感されてい
ること、感光層の少なくとも一方の感光性ハロゲン化銀
粒子が酸化剤存在下に熱処理されていること、ヒドラジ
ド化合物の−NHNH−基の少なくとも一方の−NH−
が、置換基を有してもよいベンゾイル基、フェニル基、
トリフェニルメチル基から選ばれる基を有すること、電
子求引性基を有するビニル化合物が同時に電子供与性基
を有すること、は何れも好ましい態様である。
An object of the present invention is to provide a photosensitive composition containing photosensitive silver halide grains having an average grain size of 20 to 80 nm, an organic silver salt, a reducing agent and a binder on a support. In a photothermographic image forming material having a layer, the photosensitive layer comprises a first photosensitive layer closest to a support and a second photosensitive layer adjacent to the first photosensitive layer, and the content of the photosensitive silver halide grains is Photothermographic image formation in which the first photosensitive layer <the second photosensitive layer, the content of the hydrazide compound in the photosensitive layer and the content of the vinyl compound having an electron-withdrawing group in the molecule is the first photosensitive layer> the second photosensitive layer Achieved by the material. The photosensitive silver halide grains of the second photosensitive layer of the photothermographic image forming material are chemically sensitized with an unstable sulfur or selenium compound, and at least one of the photosensitive silver halide grains of the photosensitive layer is oxidized. Heat treatment in the presence of an agent, and at least one of -NH- of -NHNH- groups of the hydrazide compound.
Is a benzoyl group which may have a substituent, a phenyl group,
It is a preferred embodiment that both have a group selected from a triphenylmethyl group and that the vinyl compound having an electron withdrawing group has an electron donating group at the same time.

【0013】本発明の目的は、上記光熱写真画像形成材
料に画像を記録する際の走査レーザー光が、同一波長
で、かつ入射角の異なる2重ビームである、又、走査レ
ーザー光が、縦マルチであるレーザー光走査露光機によ
る露光である、画像形成方法によっても達成される。
[0013] It is an object of the present invention that the scanning laser light for recording an image on the photothermographic image forming material is a double beam having the same wavelength and different incident angles. It is also achieved by an image forming method, which is exposure by a multi-laser scanning exposure device.

【0014】以下、本発明を詳細に説明する。本発明の
光熱写真材料(特に医療用)は、下塗りした支持体上
に、少なくとも感光性ハロゲン化銀粒子、有機銀塩、還
元剤及び結合剤を含有する異なる感光層2層を塗設する
ことにより製造できる。二つの感光層中には、以下に説
明する感光性ハロゲン化銀粒子とヒドラジド化合物及び
/又はビニル化合物を異なった量で含有させることが特
徴である。即ち、支持体上に、支持体に最も近い第1感
光層と、この感光層の上に隣接する第2感光層を設ける
が、必要によっては、中間層を介して第2感光層を設け
てもよい。
Hereinafter, the present invention will be described in detail. The photothermographic material (especially for medical use) of the present invention comprises two different photosensitive layers containing at least photosensitive silver halide grains, an organic silver salt, a reducing agent and a binder, on an undercoated support. Can be manufactured. The two photosensitive layers are characterized by containing photosensitive silver halide grains described below and hydrazide compounds and / or vinyl compounds in different amounts. That is, a first photosensitive layer closest to the support and a second photosensitive layer adjacent to the photosensitive layer are provided on the support. If necessary, a second photosensitive layer may be provided via an intermediate layer. Is also good.

【0015】第1感光層の感光性ハロゲン化銀粒子の単
位面積当たりの含有量は第2感光層のハロゲン化銀粒子
の含有量より少ないことが必要である。又、この時、第
1感光層に含有されるヒドラジド化合物及び/又はビニ
ル化合物は、第2感光層に含有される該化合物類の含有
量より多いことを特徴とする。この時の量は、質量でも
モル換算量でもよい。
It is necessary that the content per unit area of the photosensitive silver halide grains in the first photosensitive layer is smaller than the content of the silver halide grains in the second photosensitive layer. At this time, the hydrazide compound and / or the vinyl compound contained in the first photosensitive layer is characterized by being larger than the content of the compounds contained in the second photosensitive layer. The amount at this time may be either mass or molar equivalent.

【0016】感光層の上には、通常、保護層が設けられ
る。又、支持体に対して感光層の裏側には、バッキング
層やバッキング保護層を設けてもよいし、両面に感光層
を設けることもできる。以下に、感光層に添加されるヒ
ドラジド化合物、ビニル化合物、有機銀塩、還元剤、感
光性ハロゲン化銀粒子、ハロゲン化銀粒子の感度を高め
るための化学増感剤、酸化処理剤、分光増感剤、結合
剤、結合剤を架橋する架橋剤、色調剤又は促進剤である
フタラジン化合物等について、順次詳述する。
A protective layer is usually provided on the photosensitive layer. A backing layer or a backing protective layer may be provided on the back side of the photosensitive layer with respect to the support, or a photosensitive layer may be provided on both sides. The following are hydrazide compounds, vinyl compounds, organic silver salts, reducing agents, photosensitive silver halide grains, chemical sensitizers for increasing the sensitivity of silver halide grains, oxidizing agents, and spectral sensitizers added to the photosensitive layer. The sensitizer, the binder, the crosslinking agent that crosslinks the binder, the phthalazine compound that is a color tone agent or an accelerator, and the like will be sequentially described in detail.

【0017】(ヒドラジド化合物)現像促進剤であるヒ
ドラジド化合物としては−CONHNHCO−結合を有
する化合物が好ましいが、特に好ましいヒドラジド化合
物は、−NHNH−結合にカルボニル(−CO−)基又
はスルホニル(−SO2−)基が連結した化合物であ
る。好ましい構造を下記一般式(I)で示すことができ
る。
(Hydrazide compound) As the hydrazide compound which is a development accelerator, a compound having a -CONHNHCO- bond is preferable, and a particularly preferable hydrazide compound is a carbonyl (-CO-) group or a sulfonyl (-SO 2- ) A compound in which groups are linked. A preferred structure can be represented by the following general formula (I).

【0018】[0018]

【化1】 Embedded image

【0019】式中、R11はベンゼン環又はナフタレン環
を有する芳香族基、ピリジン環、ピロール環、チオフェ
ン環又はフラン環を有する複素環基、トリフェニルメチ
ル基を表し、それぞれの環上には置換基を有してもよ
い。置換基としては、1940年にマックグローヒル
ブック社(McGrawHill Book Co.,
N.Y.)から出版されたフィジカル オーガニック
ケミストリー(Physical Organic C
hemistry),78頁に記載のL.P.Hamm
ett(L.P.ハメット)の置換基定数が−1.0〜
1.0の範囲内にある任意の置換基を選択することがで
きる。更に、1958年にD.H.McDaniel
(D.H.マックダニエル),H.C.Brown
(H.C.ブラウン)等による追加修正された置換基
{ジャーナル オブ オーガニック ケミストリー
(J.Org.Chem.)1958年,23巻,42
0頁記載のもの}でもよい。Lは連結基を表し、カルボ
ニル基、スルホニル基、スルフィニル基等を表し、nは
1又は0を表す。R12は炭素数1〜12のアルキル基
(メチル、エチル、ブチル、オクチル、メトキシメチル
等)、炭素数1〜12のアルコキシ基(メトキシ、エト
キシ、ブトキシ、オクトキシ等)を表す。
In the formula, R 11 represents an aromatic group having a benzene ring or a naphthalene ring, a heterocyclic group having a pyridine ring, a pyrrole ring, a thiophene ring or a furan ring, and a triphenylmethyl group. It may have a substituent. As a substituent, McGraw-Hill in 1940
Book Company (McGrawHill Book Co.,
N. Y. ) Published by Physical Organic
Chemistry (Physical Organic C
Chemistry), p. 78. P. Hamm
ett (LP Hammett) has a substituent constant of -1.0 to
Any substituent within the range of 1.0 can be selected. Further, in 1958, D.C. H. McDaniel
(DH MacDaniel), H.M. C. Brown
(H. C. Brown) et al.—Substituents modified by J. Org. Chem., 1958, 23, 42, Journal of Organic Chemistry.
It may be the one described on page 0. L represents a linking group, representing a carbonyl group, a sulfonyl group, a sulfinyl group, or the like, and n represents 1 or 0. R 12 represents an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms (eg, methyl, ethyl, butyl, octyl, methoxymethyl) and an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms (eg, methoxy, ethoxy, butoxy, octoxy).

【0020】ヒドラジド化合物は、現像促進剤としての
他に、コントラスト調節剤又は硬調化剤としても使用す
ることができる。以下に好ましい化合物を示すが、これ
らに限定されない。
The hydrazide compound can be used not only as a development accelerator but also as a contrast regulator or a high contrast agent. Preferred compounds are shown below, but are not limited thereto.

【0021】[0021]

【化2】 Embedded image

【0022】[0022]

【化3】 Embedded image

【0023】ヒドラジド化合物の塗布液への添加方法
は、エチルケトンやアセトン等のケトン類、トルエンや
キシレン等の芳香族系やノルマルヘキサンやデカン等の
非芳香族系等の有機溶媒に分散して添加してもよいし、
水に分散して感光層や保護層、バッキング層やバッキン
グ保護層に添加してもよい。好ましい層は感光層や感光
層に隣接する非感光性層である。
The method of adding the hydrazide compound to the coating solution is as follows. May be
It may be dispersed in water and added to the photosensitive layer, the protective layer, the backing layer, and the backing protective layer. Preferred layers are photosensitive layers and non-photosensitive layers adjacent to photosensitive layers.

【0024】その使用量は、感光層の保護層あるいはバ
ッキング層やバッキング層の保護層において、両者とも
支持体の片面側の使用量の合計が1mg〜10g/m2
であることが好ましい。この範囲未満ではヒドラジド化
合物の現像促進性や硬調化の効果が得られず、この範囲
を超えると塗布性の劣化やカブリが増大するので好まし
くない。
The total amount of the protective layer for the photosensitive layer or the backing layer or the protective layer for the backing layer may be 1 mg to 10 g / m 2 on the one side of the support.
It is preferred that If the amount is less than the above range, the effect of promoting the development of the hydrazide compound and the effect of increasing the contrast cannot be obtained.

【0025】(ビニル化合物)本発明に使用するビニル
化合物は、1−ヒドロキシエチレン誘導体とも呼ぶこと
ができ、2位に電子求引性基を少なくとも1個有するこ
とが好ましい。更には、2位に電子求引性基及び電子供
与性基を有するものが好ましい。又、電子求引性基を2
個有するものであってもよい。電子求引性や電子供与性
基は、前記ヒドラジド化合物で述べたハメット則に記載
された置換基やマックダニエルとブラウン等の追加置換
基の中から置換基定数が−1.0〜0迄の電子供与性基
及び0〜1.0迄の電子求引性基を選択することができ
る。特に好ましいビニル化合物の構造を下記一般式(I
I)で示す。
(Vinyl compound) The vinyl compound used in the present invention can be called a 1-hydroxyethylene derivative, and preferably has at least one electron-withdrawing group at the 2-position. Further, those having an electron withdrawing group and an electron donating group at the 2-position are preferred. Further, when the electron withdrawing group is 2
May be provided. The electron-withdrawing or electron-donating group has a substituent constant of -1.0 to 0 from among the substituents described in the Hammett's rule described in the hydrazide compound and the additional substituents such as Mac Daniel and Brown. Electron donating groups and 0 to 1.0 electron withdrawing groups can be selected. The structure of a particularly preferred vinyl compound is represented by the following general formula (I
Indicated by I).

【0026】[0026]

【化4】 Embedded image

【0027】式中、少なくともR21及びR22の一方は電
子求引性基を示し、他方は電子求引性基又は電子供与性
基を示す。こられの置換基は、前記ヒドラジド化合物で
説明したハメットの置換基又はマックダニエルとブラウ
ンの電子求引性基や電子供与性基を選択することができ
る。又、R21とR22が互いに結合して5又は6員の環状
構造を有する飽和環又は不飽和環を形成してもよい。
又、ヘテロ原子の導入された複素環であってもよい。こ
れら環上に、更にハメットやマックダニエルが挙げた置
換基を有してもよい。以下に好ましいビニル化合物を示
す。
In the formula, at least one of R 21 and R 22 represents an electron withdrawing group, and the other represents an electron withdrawing group or an electron donating group. As these substituents, the Hammett substituent described in the above hydrazide compound or the electron withdrawing group or electron donating group of Mac Daniel and Brown can be selected. Further, R 21 and R 22 may be bonded to each other to form a saturated or unsaturated ring having a 5- or 6-membered cyclic structure.
Further, it may be a heterocycle into which a hetero atom has been introduced. These rings may further have substituents such as those mentioned by Hammett and MacDaniel. Preferred vinyl compounds are shown below.

【0028】[0028]

【化5】 Embedded image

【0029】[0029]

【化6】 Embedded image

【0030】ビニル化合物の塗布液への添加方法は、前
記ヒドラジド化合物と全く同様である。好ましい添加層
は、感光層や感光層に隣接する層である。使用量も前記
ヒドラジド化合物と全く同様で、支持体の片面側の使用
量の合計が1mg〜10g/m2であることが好まし
い。この範囲未満ではビニル化合物の現像促進性(高感
度化)や硬調化の効果が得られず、この範囲を超えると
塗布性の劣化やカブリが増大するので好ましくない。
The method for adding the vinyl compound to the coating solution is exactly the same as that for the hydrazide compound. Preferred additive layers are a photosensitive layer and a layer adjacent to the photosensitive layer. The amount used is exactly the same as the hydrazide compound, and the total amount used on one side of the support is preferably 1 mg to 10 g / m 2 . If the amount is less than this range, the effect of promoting the development (high sensitivity) and high contrast of the vinyl compound cannot be obtained, and if the amount exceeds this range, the coating property deteriorates and fogging increases.

【0031】(有機銀塩)光熱写真材料に含有される有
機銀塩は還元可能な銀源であり、還元可能な銀イオン源
を含有する有機酸、ヘテロ有機酸及び酸ポリマーの銀塩
などが用いられる。又、配位子が、4.0〜10.0の
銀イオンに対する総安定定数を有する有機又は無機の銀
塩錯体も有用である。有機銀塩を形成するのに好ましい
有機酸は、没食子酸、蓚酸、ベヘン酸、ステアリン酸、
パルミチン酸、ラウリン酸、アラキジン酸、アラキドン
酸、ドコサン酸等を挙げることができる。
(Organic silver salt) The organic silver salt contained in the photothermographic material is a reducible silver source, and organic acids, heteroorganic acids and silver salts of acid polymers containing a reducible silver ion source can be used. Used. Also useful are organic or inorganic silver salt complexes wherein the ligand has a total stability constant for silver ions of 4.0 to 10.0. Preferred organic acids for forming organic silver salts are gallic acid, oxalic acid, behenic acid, stearic acid,
Palmitic acid, lauric acid, arachidic acid, arachidonic acid, docosanoic acid and the like can be mentioned.

【0032】(還元剤)好ましく使用される還元剤の例
は、米国特許3,770,448号、同3,773,5
12号、同3,593,863号等に記載されており、
代表的には以下の化合物が挙げられる。
(Reducing Agent) Examples of the reducing agent preferably used are described in US Pat. Nos. 3,770,448 and 3,773,5.
No. 12, No. 3,593,863, etc.,
Typically, the following compounds are mentioned.

【0033】K−1:1,1−ビス(2−ヒドロキシ−
3,5−ジメチルフェニル)−3,5,5−トリメチル
ヘキサン K−2:ビス(2−ヒドロキシ−3−t−ブチル−5−
メチルフェニル)メタン K−3:2,2−ビス(4−ヒドロキシ−3−メチルフ
ェニル)プロパン K−4:4,4−エチリデン−ビス(2−t−ブチル−
6−メチルフェノール) K−5:2,2−ビス(3,5−ジメチル−4−ヒドロ
キシフェニル)プロパン 上記化合物は、水に分散したり、有機溶媒に溶解して使
用する。有機溶媒は、メタノールやエタノール等のアル
コール類やアセトンやメチルエチルケトン等のケトン
類、トルエンやキシレン等の芳香族系を任意に選択する
ことができる。還元剤の使用量は、銀1モル当たり1×
10-2〜10モル、好ましくは1×10-2〜1.5モル
である。
K-1: 1,1-bis (2-hydroxy-
3,5-dimethylphenyl) -3,5,5-trimethylhexane K-2: bis (2-hydroxy-3-t-butyl-5-
Methylphenyl) methane K-3: 2,2-bis (4-hydroxy-3-methylphenyl) propane K-4: 4,4-ethylidene-bis (2-t-butyl-
6-Methylphenol) K-5: 2,2-bis (3,5-dimethyl-4-hydroxyphenyl) propane The above compound is used by dispersing in water or dissolving in an organic solvent. As the organic solvent, alcohols such as methanol and ethanol, ketones such as acetone and methyl ethyl ketone, and aromatic solvents such as toluene and xylene can be arbitrarily selected. The amount of reducing agent used is 1 × per mole of silver.
It is 10 -2 to 10 mol, preferably 1 × 10 -2 to 1.5 mol.

【0034】(感光性ハロゲン化銀粒子)感光性ハロゲ
ン化銀粒子は、シングルジェット又はダブルジェット法
などの写真技術の分野で公知の任意の方法により、例え
ばアンモニア法乳剤、中性法、酸性法等の何れかの方法
で予め調製し、次いで他の成分と混合して本発明に用い
る組成物中に導入することができる。この場合に、感光
性ハロゲン化銀と有機銀塩の接触を充分に行わせるた
め、例えば感光性ハロゲン化銀を調製する時の保護ポリ
マーとして、米国特許3,706,564号、同3,7
06,565号、同3,713,833号、同3,74
8,143号、英国特許1,362,970号等に記載
されたポリビニルアセタール類などのゼラチン以外のポ
リマーを用いる手段や、英国特許1,354,186号
に記載されるような感光性ハロゲン化銀乳剤のゼラチン
を酵素分解する手段、又は米国特許4,076,539
号に記載されているように、感光性ハロゲン化銀粒子を
界面活性剤の存在下で調製することによって保護ポリマ
ーの使用を省略する手段等の各手段を適用することがで
きる。
(Photosensitive Silver Halide Particles) The photosensitive silver halide particles can be prepared by any method known in the field of photographic technology such as a single jet method or a double jet method, for example, by an ammonia method emulsion, a neutral method, or an acid method. Or the like, and then mixed with other components and introduced into the composition used in the present invention. In this case, in order to sufficiently contact the photosensitive silver halide with the organic silver salt, for example, as a protective polymer for preparing the photosensitive silver halide, US Pat. Nos. 3,706,564 and 3,7
06,565, 3,713,833, 3,74
No. 8,143, British Patent No. 1,362,970, etc., means using a polymer other than gelatin such as polyvinyl acetal, and photosensitive halogenation as described in British Patent No. 1,354,186. Means for enzymatic degradation of silver emulsion gelatin or US Pat. No. 4,076,539
As described in the above item, various means such as a method of omitting the use of a protective polymer by preparing photosensitive silver halide grains in the presence of a surfactant can be applied.

【0035】感光性ハロゲン化銀は、画像形成後のヘイ
ズを低く抑えるために、又、良好な画質を得るために粒
子サイズが小さいものが好ましい。平均粒子サイズで2
0〜80nm、好ましくは30〜60nm、特に35〜
55nmが好ましい。又、ハロゲン化銀の形状としては
特に制限はなく、立方体、八面体のいわゆる正常晶や正
常晶でない球状、棒状、平板状等の粒子がある。又、ハ
ロゲン化銀組成としても特に制限はなく、塩化銀、塩臭
化銀、塩沃臭化銀、臭化銀、沃臭化銀、沃化銀の何れで
あってもよい。
The photosensitive silver halide preferably has a small grain size in order to suppress haze after image formation and to obtain good image quality. 2 in average particle size
0-80 nm, preferably 30-60 nm, especially 35-
55 nm is preferred. The shape of the silver halide is not particularly limited, and may be cubic, octahedral, so-called normal crystals, or non-normal crystals, such as spherical, rod-like, or tabular grains. The silver halide composition is not particularly limited, and may be any of silver chloride, silver chlorobromide, silver chloroiodobromide, silver bromide, silver iodobromide, and silver iodide.

【0036】上記感光性ハロゲン化銀の量は、該ハロゲ
ン化銀及び有機銀塩の総量に対し50質量%以下が適当
で、好ましくは25〜0.1質量%、更に好ましくは1
5〜0.1質量%の範囲である。尚、ハロゲン化銀形成
成分(臭化カリウム、塩化ナトリウム等のハロゲン塩や
各種ハロゲン化物)を用いて有機銀塩の一部をハロゲン
化銀に変換させる工程を有する場合の反応温度、反応時
間、反応圧力等の諸条件は、作製の目的に合わせ適宜設
定することができる。
The amount of the photosensitive silver halide is suitably 50% by mass or less, preferably 25 to 0.1% by mass, more preferably 1% by mass, based on the total amount of the silver halide and the organic silver salt.
The range is 5 to 0.1% by mass. The reaction temperature, the reaction time and the reaction time when a step of converting a part of the organic silver salt into silver halide by using a silver halide forming component (halogen salts such as potassium bromide and sodium chloride and various halides) are included. Various conditions such as a reaction pressure can be appropriately set according to the purpose of production.

【0037】(化学増感剤)上記した各種の方法によっ
て調製される感光性ハロゲン化銀は、例えば含硫黄化合
物、金化合物、白金化合物、パラジウム化合物、銀化合
物、又はこれらの組合せによって化学増感することがで
きる。この化学増感の方法及び手順については、例えば
米国特許4,036,650号、英国特許1,518,
850号、特開昭51−22430号、同51−783
19号、同51−81124号等に記載される方法を参
考にすることができる。
(Chemical Sensitizer) The photosensitive silver halide prepared by the above-mentioned various methods can be chemically sensitized with, for example, a sulfur-containing compound, a gold compound, a platinum compound, a palladium compound, a silver compound, or a combination thereof. can do. The method and procedure of this chemical sensitization are described, for example, in US Pat. No. 4,036,650, British Patent 1,518,
No. 850, JP-A-51-22430 and JP-A-51-783.
Nos. 19 and 51-81124 can be referred to.

【0038】特に好ましい化学増感剤は不安定硫黄化合
物又はセレン化合物で、ハロゲン化銀粒子の存在下に熱
を加えると硫化銀やセレン化銀を生成させることのでき
る化合物である。好ましい化合物は、チオ尿素又はセレ
ノ尿素を基本にして、それぞれの基本構造のアミノ基に
炭素数1〜12のアルキルや電子求引性又は電子供与性
の置換基を有するフェニル基で置換された化合物が好ま
しい。別の好ましい構造としてホスホセレニド又はホス
ホスルフィド化合物がある。燐原子に硫黄又はセレンが
結合しており、同時に、この燐原子に炭素数1〜12の
アルキル基(メチル、エチル、ブチル、オクチル等)や
芳香族基(フェニル、ナフチル、p−クロロフェニル、
2,3,4,5,6−ペンタクロロフェニル等)が結合
した化合物である。以下に好ましい化合物例を示す。
Particularly preferred chemical sensitizers are unstable sulfur compounds or selenium compounds which can generate silver sulfide or silver selenide when heat is applied in the presence of silver halide grains. Preferred compounds are compounds based on thiourea or selenourea, in which the amino group of each basic structure is substituted with an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms or a phenyl group having an electron-withdrawing or electron-donating substituent. Is preferred. Another preferred structure is a phosphoselenide or phosphosulfide compound. Sulfur or selenium is bonded to a phosphorus atom, and at the same time, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms (methyl, ethyl, butyl, octyl, etc.) or an aromatic group (phenyl, naphthyl, p-chlorophenyl,
2,3,4,5,6-pentachlorophenyl). Preferred examples of the compound are shown below.

【0039】[0039]

【化7】 Embedded image

【0040】(酸化剤)本発明に使用する酸化剤は、過
酸化水素、クロラミン化合物、テトラゾリウム化合物等
が好ましい。テトラゾリウム化合物は、1,3,5−ト
リフェニルテトラゾリウム化合物のフェニル基の少なく
とも一つにアルキル基(メチル、エチル、ブチル、オク
チル等)又はアルコキシ基(メトキシ、エトキシ、ブト
キシ、オクトキシ等)、スルホ基、カルボキシル基、ヒ
ドロキシル基、ヒドロキシエトキシ基、シアノ基、ニト
ロ基等を導入したものが好ましい。
(Oxidizing Agent) The oxidizing agent used in the present invention is preferably hydrogen peroxide, a chloramine compound, a tetrazolium compound, or the like. The tetrazolium compound includes an alkyl group (methyl, ethyl, butyl, octyl, etc.) or an alkoxy group (methoxy, ethoxy, butoxy, octoxy, etc.), a sulfo group in at least one of the phenyl groups of the 1,3,5-triphenyltetrazolium compound. It is preferable to introduce a carboxyl group, a hydroxyl group, a hydroxyethoxy group, a cyano group, a nitro group or the like.

【0041】酸化剤の好ましい添加量は、ハロゲン化銀
1モルに対して1×10-8〜1×10-2モルが好まし
い。酸化剤の添加方法は、前記の化学増感剤である不安
定硫黄化合物と併用することが好ましい。酸化剤として
特に下記の化合物が好ましいが、これらに限定されな
い。
The preferable addition amount of the oxidizing agent is 1 × 10 −8 to 1 × 10 −2 mol per 1 mol of silver halide. The oxidizing agent is preferably added in combination with the above-mentioned unstable sulfur compound which is a chemical sensitizer. The following compounds are particularly preferable as the oxidizing agent, but are not limited thereto.

【0042】PZ−1:過酸化水素 PZ−2:クロラミン−B(N−クロロベンゼンスルホ
ンアミド・ナトリウム) PZ−3:クロラミン−T(N−クロロ−4−メチルル
ベンゼンスルホンアミド・ナトリウム) PZ−4:1,3,5−トリメトキシフェニルテトラゾ
リウムクロリド PZ−5:1,3,5−トリメチルフェニルテトラゾリ
ウムクロリド PZ−6:1,3,5−トリフェニルテトラゾリウムク
ロリド 上記酸化剤は、ハロゲン化銀粒子の形成後に該合物を水
や有機溶媒に溶解して、ロゲン化銀粒子1モル当たり1
×10-8〜1モル、好ましくは1×10-7〜10-2
ル、最も好ましくは1×10-6〜1×10-3モルの範囲
で添加するのが好ましい。添加してから処理する条件
は、温度を30℃〜97℃の範囲で1分〜8時間、好ま
しくは5分〜1時間の範囲で処理する。
PZ-1: hydrogen peroxide PZ-2: chloramine-B (sodium N-chlorobenzenesulfonamide) PZ-3: chloramine-T (sodium N-chloro-4-methyllbenzenesulfonamide) PZ- 4: 1,3,5-trimethoxyphenyltetrazolium chloride PZ-5: 1,3,5-trimethylphenyltetrazolium chloride PZ-6: 1,3,5-triphenyltetrazolium chloride The oxidizing agent is a silver halide particle. Is dissolved in water or an organic solvent after the formation of
It is preferably added in the range of from 10-8 to 1 mol, preferably from 1 × 10-7 to 10-2 mol, most preferably from 1 × 10-6 to 1 × 10-3 mol. After the addition, the treatment is performed at a temperature of 30 ° C. to 97 ° C. for 1 minute to 8 hours, preferably for 5 minutes to 1 hour.

【0043】酸化剤と化学増感剤の添加方法は、酸化剤
を添加し酸化処理した後、化学増感をすることが好まし
いが、酸化処理の途中から化学増感をしてもよいし、化
学増感後に酸化処理をしてもよい。又、酸化処理を化学
増感の前後の両方に実施してもよい。その場合の条件は
同一でもよいし、異なってもよい。
As for the method of adding the oxidizing agent and the chemical sensitizer, it is preferable to perform the chemical sensitization after adding the oxidizing agent and performing the oxidation treatment, but the chemical sensitization may be performed during the oxidation treatment. Oxidation treatment may be performed after chemical sensitization. Further, the oxidation treatment may be performed both before and after the chemical sensitization. The conditions in that case may be the same or different.

【0044】(分光増感)ハロゲン化銀粒子は、必要に
より分光増感色素で増感することができ、例えば特開昭
63−159841号、同60−140335号、同6
3−231437号、同63−259651号、同63
−304242号、同63−15245号、米国特許
4,639,414号、同4,740,455号、同
4,741,966号、同4,751,175号、同
4,835,096号等に記載された増感色素を使用す
ることができる。
(Spectral Sensitization) The silver halide grains can be sensitized with a spectral sensitizing dye if necessary. For example, JP-A Nos. 63-159841, 60-140335, and 6
Nos. 3-231437, 63-259651 and 63
-304242, 63-15245, U.S. Patent Nos. 4,639,414, 4,740,455, 4,741,966, 4,751,175, and 4,835,096 And the like.

【0045】(結合剤)光熱写真材料の感光層又は非感
光層に用いられる高分子結合剤としては、ポリビニルブ
チラール、ポリアクリルアミド、ポリスチレン、ポリ酢
酸ビニル、ポリウレタン、ポリアクリル酸エステル、ス
チレン−ブタジエン共重合体、アクリロニトリル−ブタ
ジエン共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ス
チレン−ブタジエン−アクリル酸共重合体などが挙げら
れる。塗布・乾燥して膜を形成した後、その塗膜の平衡
含水率の低いものが好ましく、特に含水率の低いものと
して、例えば有機溶媒系のセルロースアセテート、セル
ロースアセテートブチレート及びポリアセタール等を挙
げることができる。ポリアセタールは、ポリ酢酸ビニル
を鹸化することによりポリビニルアルコールを製造し、
このポリビニルアルコールをアルデヒド化合物で反応さ
せて得られるポリマーを意味するが、本発明に好ましい
ポリアセタールは、ブチルアルデヒドでアセタール化を
したポリブチラール、アセトアルデヒドでアセタール化
したポリアセタール(狭義でのポリアセタール)が好ま
しい。アセタール化は、1〜100%まで理論的には存
在するが、実用的には20〜95%の範囲が好ましい。
(Binder) Polymer binders used for the photosensitive layer or the non-photosensitive layer of the photothermographic material include polyvinyl butyral, polyacrylamide, polystyrene, polyvinyl acetate, polyurethane, polyacrylate, and styrene-butadiene. Examples thereof include a polymer, an acrylonitrile-butadiene copolymer, a vinyl chloride-vinyl acetate copolymer, and a styrene-butadiene-acrylic acid copolymer. After coating and drying to form a film, those having a low equilibrium water content of the coating film are preferable, and particularly those having a low water content include, for example, organic solvent-based cellulose acetate, cellulose acetate butyrate, and polyacetal. Can be. Polyacetal produces polyvinyl alcohol by saponifying polyvinyl acetate,
The polyacetal obtained by reacting the polyvinyl alcohol with an aldehyde compound means a polyacetal which is preferably acetalized with butylaldehyde and a polyacetal which is acetalized with acetaldehyde (polyacetal in a narrow sense). Acetalization theoretically exists up to 1 to 100%, but practically the range of 20 to 95% is preferable.

【0046】(架橋剤)結合剤は、単独で造膜すること
により下層や上層との接着を保持し、傷の付き難い膜強
度を得ることができるが、架橋剤を使用することにより
更に膜接着や膜強度を高めることができる。本発明に好
ましい架橋剤は、イソシアナート基、ビニルスルホニル
基又はエポキシ基を有するものが好ましい。特に好まし
い架橋剤は、分子内にイソシアナート基、ビニルスルホ
ニル基又はエポキシ基を少なくとも2個有する多官能型
架橋剤が挙げられる。
(Crosslinking agent) The binder can maintain the adhesion to the lower layer and the upper layer by forming the film alone, and can obtain a film strength which is hard to be damaged. Adhesion and film strength can be increased. Preferred crosslinking agents for the present invention are those having an isocyanate group, a vinylsulfonyl group or an epoxy group. Particularly preferred crosslinking agents include polyfunctional crosslinking agents having at least two isocyanate groups, vinylsulfonyl groups or epoxy groups in the molecule.

【0047】好ましい架橋剤の具体例を以下に示す。 H−1:ヘキサメチレンジイソシアナート H−2:ヘキサメチレンジイソシアナート3量体 H−3:トリレンジイソシアナート H−4:p−フェニレンジイソシアナート H−5:キシリレンジイソシアナート H−6:1,3−ビス(イソシアナトメチル)シクロヘ
キサン H−7:テトラメチレンキシリレンジイソシアナート H−8:m−i−プロペニル−α,α−ジメチルベンジ
ルイソシアナート
Specific examples of preferred crosslinking agents are shown below. H-1: hexamethylene diisocyanate H-2: hexamethylene diisocyanate trimer H-3: tolylene diisocyanate H-4: p-phenylene diisocyanate H-5: xylylene diisocyanate H-6 : 1,3-bis (isocyanatomethyl) cyclohexane H-7: tetramethylene xylylene diisocyanate H-8: mi-propenyl-α, α-dimethylbenzyl isocyanate

【0048】[0048]

【化8】 Embedded image

【0049】上記架橋剤は、水、アルコール類、ケトン
類、非極性の有機溶媒類に溶解して添加してもよいし、
塗布液中に固形のまま分散、添加してもよい。添加量
は、架橋される基と当量が好ましいが10倍まで増量し
てもよいし、10分の1以下まで減量してもよい。少な
すぎると架橋反応が進まないし、多すぎると未反応の架
橋剤が写真性を劣化させるので好ましくない。
The crosslinking agent may be added by dissolving it in water, alcohols, ketones or non-polar organic solvents.
It may be dispersed and added as a solid in the coating solution. The addition amount is preferably equivalent to the group to be crosslinked, but may be increased up to 10 times or reduced to 1/10 or less. If the amount is too small, the crosslinking reaction does not proceed. If the amount is too large, the unreacted crosslinking agent deteriorates photographic properties, which is not preferable.

【0050】(フタラジン化合物)本発明には現像促進
剤又は色調剤としてフタラジン化合物を使用することが
好ましいが、特にフタラジン環の1,4,6,7位に置
換基を有するものが好ましく、該置換基としては、それ
ぞれ炭素数1〜26の置換されてもよいアルキル基又は
アルケニル基等の脂肪族基、フェニル基やナフチル基等
の芳香族基、ピリジル基、フリル基、ピリミジル基、イ
ミダゾール基、チオフェニル基等が好ましい。
(Phthalazine compound) In the present invention, it is preferable to use a phthalazine compound as a development accelerator or a color tone agent. Particularly, a phthalazine compound having a substituent at the 1,4,6,7-position of the phthalazine ring is preferable. Examples of the substituent include an aliphatic group such as an alkyl group or an alkenyl group which may have 1 to 26 carbon atoms, an aromatic group such as a phenyl group and a naphthyl group, a pyridyl group, a furyl group, a pyrimidyl group, and an imidazole group. And a thiophenyl group.

【0051】フタラジン化合物の塗布液への添加方法
は、エチルケトンやアセトン等のケトン類、トルエンや
キシレン等の芳香族系やノルマルヘキサンやデカン等の
非芳香族系等の有機溶媒に溶解して添加してもよいし、
水に分散して感光層や保護層、バッキング層やバッキン
グ保護層に添加してもよい。使用量は、感光層又は感光
層の保護層への使用量の合計が1mg〜10g/m2
範囲が好ましい。この範囲未満ではフタラジン化合物の
現像促進性や色調改良効果が得られず、これを超えると
塗布性やカブリが増大するので好ましくない。
The phthalazine compound is added to the coating solution by dissolving it in a ketone such as ethyl ketone or acetone, or an organic solvent such as an aromatic solvent such as toluene or xylene or a non-aromatic solvent such as normal hexane or decane. May be
It may be dispersed in water and added to the photosensitive layer, the protective layer, the backing layer, and the backing protective layer. The amount used is preferably such that the total amount used for the photosensitive layer or the protective layer of the photosensitive layer is 1 mg to 10 g / m 2 . If the amount is less than this range, the phthalazine compound does not have the effect of promoting development and the effect of improving color tone. If the amount exceeds this range, coatability and fog increase, which is not preferable.

【0052】フタラジン化合物の好ましい具体例を以下
に示す。
Preferred specific examples of the phthalazine compound are shown below.

【0053】[0053]

【化9】 Embedded image

【0054】(染料)本発明の光熱写真材料には、必要
によりハレーション防止用又はハレーション防止用のア
ンチハレーション層(AH層)又はバッキング層(BC
層)が設けられる。該AH層又はBC層に用いられる染
料としては、画像露光光を吸収する染料であればよく、
好ましい例として特開平2−216140号、同7−1
3295号、同7−11432号、米国特許5,38
0,635号等に記載される染料を挙げることができ
る。
(Dye) The photothermographic material of the present invention may contain an antihalation layer or an antihalation antihalation layer (AH layer) or a backing layer (BC) if necessary.
Layer) is provided. The dye used in the AH layer or the BC layer may be any dye that absorbs image exposure light,
Preferred examples are described in JP-A-2-216140 and 7-1.
No. 3295, No. 7-11432, U.S. Pat.
And the dyes described in U.S. Pat.

【0055】(支持体)支持体としては、ポリエチレン
テレフタレート(PET)、ポリエチレンナフタレート
(PEN)又はシンジオタクチックポリスチレン(SP
S)等が好ましく、2軸延伸や熱固定した、光学的に等
方性が高く寸法安定性の良い50〜400μm厚のもの
がよい。
(Support) As the support, polyethylene terephthalate (PET), polyethylene naphthalate (PEN) or syndiotactic polystyrene (SP)
S) and the like are preferable, and those having a thickness of 50 to 400 μm, which is biaxially stretched or heat-fixed, has high optical isotropy and good dimensional stability, are preferable.

【0056】次に、本発明の光熱写真材料を用いる画像
形成方法について述べる。(画像露光)光熱写真材料の
露光方法としては、特開平9−304869号、同9−
311403号及び特開2000−10230号等に記
載の方法によりレーザー露光することができる。本発明
の光熱写真材料の露光は、当該写真材料に付与した感色
性に対し適切な光源を用いることが望ましい。例えば、
写真材料を赤外光に感じ得るものとした場合は、赤外光
域の如何なる光源にも適用可能であるが、レーザーパワ
ーがハイパワーであること、写真材料を透明にできる等
の点から、赤外半導体レーザー(780nm、810n
m)が好ましく用いられる。
Next, an image forming method using the photothermographic material of the present invention will be described. (Image exposure) JP-A-9-304869 and JP-A-9-304869 describe exposure methods for photothermographic materials.
Laser exposure can be performed according to the method described in JP-A-311403 and JP-A-2000-10230. In the exposure of the photothermographic material of the present invention, it is desirable to use a light source appropriate for the color sensitivity imparted to the photographic material. For example,
If the photographic material can be felt in infrared light, it can be applied to any light source in the infrared light range, but from the viewpoint that the laser power is high power, the photographic material can be made transparent, etc. Infrared semiconductor laser (780 nm, 810 n
m) is preferably used.

【0057】露光はレーザー走査露光により行うことが
好ましいが、その露光方法には種々の方法が採用でき
る。例えば、第1の好ましい方法として、写真材料の露
光面と走査レーザー光の為す角度(入射角)が実質的に
垂直になることがないレーザー走査露光機を用いる方法
が挙げられる。ここで、「実質的に垂直になることがな
い」とは、レーザー走査中に最も垂直に近い角度として
好ましくは55〜88度、より好ましくは60〜86
度、更に好ましくは65〜84度、最も好ましくは70
〜82度であることを言う。
The exposure is preferably performed by laser scanning exposure, but various methods can be adopted as the exposure method. For example, as a first preferred method, there is a method using a laser scanning exposure machine in which the angle (incident angle) between the exposure surface of the photographic material and the scanning laser beam does not become substantially perpendicular. Here, “not substantially perpendicular” means that the angle is most perpendicular to the laser scanning, preferably 55 to 88 degrees, more preferably 60 to 86 degrees.
Degrees, more preferably 65-84 degrees, most preferably 70 degrees.
Say ~ 82 degrees.

【0058】レーザー光が、写真材料に走査される時の
写真材料露光面でのビームスポット直径は、好ましくは
200μm以下、より好ましくは100μm以下であ
る。これは、スポット径が小さい方がレーザー入射角度
の垂直からの「ずらし角度」を減らせる点で好ましい。
尚、ビームスポット直径の下限は10μmである。この
ようなレーザー走査露光を行うことにより、干渉縞様の
ムラの発生など、反射光に起因する画質劣化を減じるこ
とが出来る。
The beam spot diameter on the photographic material exposure surface when the laser light is scanned on the photographic material is preferably 200 μm or less, more preferably 100 μm or less. This is preferable because the spot diameter is smaller in that the “shift angle” of the laser incident angle from the perpendicular can be reduced.
Note that the lower limit of the beam spot diameter is 10 μm. By performing such laser scanning exposure, it is possible to reduce image quality deterioration due to reflected light, such as occurrence of interference fringe-like unevenness.

【0059】又、別の方法として、写真材料の露光は縦
マルチである走査レーザー光を発するレーザー走査露光
機を用いて行うことも好ましい。縦単一モードの走査レ
ーザー光に比べて干渉縞様のムラの発生等の画質劣化が
減少する。縦マルチ化するには、合波による、戻り光を
利用する、高周波重畳を掛ける等の方法がよい。尚、縦
マルチとは露光波長が単一でないことを意味し、通常、
露光波長の分布が5nm以上、好ましくは10nm以上
になると良い。露光波長の分布の上限には特に制限はな
いが、通常60nm程度である。
As another method, it is preferable that the exposure of the photographic material is performed using a laser scanning exposure machine that emits a scanning laser beam which is a vertical multi. Image quality deterioration such as generation of interference fringe-like unevenness is reduced as compared with the scanning laser beam in the longitudinal single mode. To achieve vertical multiplication, a method such as multiplexing, using return light, or superimposing high frequency is preferable. In addition, the vertical multi means that the exposure wavelength is not single, and usually,
The distribution of the exposure wavelength may be 5 nm or more, preferably 10 nm or more. The upper limit of the exposure wavelength distribution is not particularly limited, but is usually about 60 nm.

【0060】更に、別の態様として、2本以上のレーザ
ーを用いて走査露光により画像を形成することも好まし
い。このような複数本のレーザーを利用した画像記録方
法は、高解像度化、高速化の要求から1回の走査で複数
ラインずつ画像を書き込むレーザープリンタやデジタル
複写機の画像書込み手段で使用されている技術であり、
例えば特開昭60−166916号等により知られてい
る。これは、光源ユニットから放射されたレーザー光を
ポリゴンミラーで偏向走査し、fθレンズ等を介して感
光体上に結像する方法であり、これはレーザーイメ−ジ
ャ等と原理的に同じレーザー走査光学装置である。
Further, as another embodiment, it is preferable to form an image by scanning exposure using two or more lasers. Such an image recording method using a plurality of lasers is used in an image writing means of a laser printer or a digital copier which writes an image by a plurality of lines in one scan due to a demand for high resolution and high speed. Technology,
For example, it is known from JP-A-60-166916. This is a method in which a laser beam emitted from a light source unit is deflected and scanned by a polygon mirror to form an image on a photoreceptor via an fθ lens or the like. This is the same laser scanning principle as a laser imager or the like. An optical device.

【0061】(熱現像装置)光熱写真材料を現像する装
置は、特開平11−65067号、同11−72897
号及び同11−84619号等に記載の装置を使用する
ことができる。
(Heat Developing Apparatus) An apparatus for developing a photothermographic material is disclosed in JP-A-11-65067 and JP-A-11-72897.
And the devices described in JP-A-11-84619 and the like can be used.

【0062】[0062]

【実施例】以下、実施例にて本発明を説明するが、本発
明の実施態様はこれらにより限定れない。尚、特に断り
ない限り、実施例中の「%」は「質量%」を表す。
EXAMPLES The present invention will be described below with reference to examples, but embodiments of the present invention are not limited thereto. Unless otherwise specified, “%” in the examples represents “% by mass”.

【0063】実施例1 〈下引済み支持体の作製〉厚さ175μmのPET支持
体の両面に12W/m2・分のコロナ放電処理を施し、
一方の面に下記下引塗布液a−1を乾燥膜厚0.6μm
になるように塗設し乾燥させて下引層A−1を設け、
又、反対側の面に下記下引塗布液b−1を乾燥膜厚0.
6μmになるように塗設し乾燥させて下引層B−1を設
けた。 (下引塗布液a−1)ブチルアクリレート/t−ブチル
アクリレート/スチレン/2−ヒドロキシエチルアクリ
レート(30/20/25/25%)共重合体ラテック
ス液(固形分30%)を15倍に希釈。 (下引塗布液b−1)ブチルアクリレート/スチレン/
グリシジルアクリレート/(40/20/40%)の共
重合体ラテックス液(固形分30%)を15倍に希釈す
る。
Example 1 <Preparation of Subbed Support> A PET support having a thickness of 175 μm was subjected to a corona discharge treatment of 12 W / m 2 · min.
On one surface, the following undercoating coating solution a-1 was dried to a thickness of 0.6 μm.
Is applied and dried to provide an undercoat layer A-1,
On the other side, the following undercoating coating solution b-1 was dried to a dry film thickness of 0.
It was applied to a thickness of 6 μm and dried to form an undercoat layer B-1. (Undercoating solution a-1) A butyl acrylate / t-butyl acrylate / styrene / 2-hydroxyethyl acrylate (30/20/25/25%) copolymer latex liquid (solid content 30%) was diluted 15 times. . (Subbing coating solution b-1) butyl acrylate / styrene /
A glycidyl acrylate / (40/20/40%) copolymer latex liquid (solid content 30%) is diluted 15-fold.

【0064】引き続き、下引層A−1及びB−1の表面
に、12W/m2・分のコロナ放電処理を施し、下引層
A−1の上には、下記下引上層塗布液a−2を塗布・乾
燥して下引上層A−2(感光層側)を設け、下引層B−
1の上には、下記下引上層塗布液b−2を塗布・乾燥し
て帯電防止機能を持つ下引上層B−2(BC層側)を設
けた。 (下引上層塗布液a−2) スチレン−ブタジエンの1:2共重合体 0.4g/m2 ブチルアクリレート/t−ブチルアクリレート/スチレン/2−ヒドロキシエ チルアクリレート/メタクリル酸(30/20/25/20/5%)共重合体 ラテックス液(固形分30%) 0.3g/m2 (下引上層塗布液b−2) スチレン−ブタジエンの1:2共重合体 0.4g/m2 導電性酸化錫微粒子(平均粒径16nm) 0.023g/m2 ブチルアクリレート/t−ブチルアクリレート/スチレン/2−ヒドロキシエ チルアクリレート/メタクリル酸(30/20/25/20/5%)共重合体 ラテックス液(固形分30%) 0.3g/m2 このように作製した下塗り済み支持体上に、下記組成の
AH層、第1感光層、第2感光層、保護層を同時重層塗
布した。尚、感光層の塗布に先立ち、BC層とBC層保
護層を予め同時重層塗布した。先ず、塗布に先立ちハロ
ゲン化銀を、次に有機銀塩を調製した。 〈ハロゲン化銀の調製〉水900ml中に、イナートゼ
ラチン7.5g及び臭化カリウム10mgを溶解して温
度12℃、pHを3.0に合わせた後、硝酸銀74gを
含む水溶液370mlと臭化カリウムと沃化カリウム
(98/2モル比)を硝酸銀に対し当モル含む水溶液3
70mlをpAg7.7に保ちながらコントロールドダ
ブルジェット法で10分間かけて添加した。硝酸銀の添
加と同期してヘキサクロロイリジウムのナトリウム塩を
1×10-6モル/銀1モル添加した。その後、4−ヒド
ロキシ−6−メチル−1,3,3a,7−テトラザイン
デン(以下、ST−1と略す)0.3gを添加し、水酸
化ナトリウムでpHを5に調整して、平均粒子サイズ3
8nm、投影直径面積の変動係数8%、〔100〕面比
率87%の立方体沃臭化銀粒子から成る乳剤を得た。こ
の乳剤にゼラチン凝集剤を用いて凝集沈降させ、脱塩処
理後乾燥し、56gの粉末体を得た。この調製方法を基
準処方として下記平均粒子径の変化を行った。
Subsequently, the surface of the undercoat layers A-1 and B-1 was subjected to a corona discharge treatment of 12 W / m 2 · min, and the undercoat layer A-1 was coated with the following undercoat upper layer coating solution a -2 is applied and dried to provide an undercoating upper layer A-2 (photosensitive layer side), and an undercoating layer B-
On top of No. 1, a lower pulling upper layer B-2 (BC layer side) having an antistatic function by applying and drying the following lower pulling upper layer coating solution b-2 was provided. (Undercoat upper layer coating solution a-2) Styrene-butadiene 1: 2 copolymer 0.4 g / m 2 butyl acrylate / t-butyl acrylate / styrene / 2-hydroxyethyl acrylate / methacrylic acid (30/20 / 25/20/5%) Copolymer Latex liquid (solid content 30%) 0.3 g / m 2 (Undercoat upper layer coating solution b-2) Styrene-butadiene 1: 2 copolymer 0.4 g / m 2 Conductive tin oxide fine particles (average particle diameter 16 nm) 0.023 g / m 2 butyl acrylate / t-butyl acrylate / styrene / 2-hydroxyethyl acrylate / methacrylic acid (30/20/25/20/5%) copolymer A latex solution (solid content: 30%) 0.3 g / m 2 An AH layer, a first photosensitive layer, a second photosensitive layer, and a protective layer having the following composition were simultaneously formed on the undercoated support thus prepared. Multi-layer coating was performed. Prior to the application of the photosensitive layer, a BC layer and a BC layer protective layer were simultaneously applied in multiple layers. First, a silver halide was prepared prior to coating, and then an organic silver salt was prepared. <Preparation of silver halide> In 900 ml of water, 7.5 g of inert gelatin and 10 mg of potassium bromide were dissolved and adjusted to a temperature of 12 ° C. and a pH of 3.0, and 370 ml of an aqueous solution containing 74 g of silver nitrate and potassium bromide were added. Aqueous solution containing potassium and potassium iodide (98/2 molar ratio) in equimolar amounts to silver nitrate 3
70 ml was added over 10 minutes by the controlled double jet method while keeping pAg at 7.7. Synchronously with the addition of silver nitrate, the sodium salt of hexachloroiridium was added at 1 × 10 -6 mol / mol of silver. Thereafter, 0.3 g of 4-hydroxy-6-methyl-1,3,3a, 7-tetrazaindene (hereinafter abbreviated as ST-1) was added, the pH was adjusted to 5 with sodium hydroxide, and the average was adjusted. Particle size 3
An emulsion comprising cubic silver iodobromide grains having a diameter of 8 nm, a variation coefficient of the projected diameter area of 8%, and a [100] face ratio of 87% was obtained. This emulsion was coagulated and precipitated using a gelatin coagulant, desalted, and dried to obtain 56 g of a powder. The average particle diameter was changed as follows using this preparation method as a reference formulation.

【0065】平均粒子径10nmのハロゲン化銀粒子:
臭化カリウムと沃化カリウムを含む溶液及び硝酸銀溶液
をダブルジェットで添加する時の温度を5℃に設定し、
かつST−1の0.2gを予めゼラチン溶液に添加し溶
解しておいた。
Silver halide grains having an average grain size of 10 nm:
The temperature at which the solution containing potassium bromide and potassium iodide and the silver nitrate solution are added by a double jet is set to 5 ° C.
Further, 0.2 g of ST-1 was previously added to and dissolved in the gelatin solution.

【0066】平均粒子径100nmのハロゲン化銀粒
子:基準処方の温度を36℃にして、16分間に亘って
ダブルジェットで添加した。化学増感は、ダブルジェッ
トで添加が終了した後、温度を52℃に設定し、表1、
表2に記載の本発明の化学増感剤をハロゲン化銀1モル
当たり10-5モル添加して60分間化学熟成を行った。
酸化処理を行う場合は、表1、表2に記載の酸化処理剤
をハロゲン化銀1モル当たり10-5モル添加し、48℃
で46分間攪拌を行った。 〈有機銀塩の調製〉3980mlの純水に、ベヘン酸1
11.4g、アラキジン酸83.8g、ステアリン酸5
4.9gを80℃で溶解した。次に、高速で攪拌しなが
ら1.5モルの水酸化ナトリウム水溶液540.2ml
を添加し、濃硝酸6.9mlを加えた後、55℃に冷却
して有機酸ナトリウム溶液を得た。この溶液の温度を5
5℃に保ったまま、5分間攪拌した後、1モルの硝酸銀
水溶液760.6mlを2分間で添加し、更に20分攪
拌、濾過により水溶性塩類を除去した。その後、濾液の
電導度が2μS/cmになるまで、脱イオン水による水
洗、濾過を繰り返し、最後に遠心脱水後、乾燥し、有機
銀塩358gのフレークを得た。 〈感光層及びBC層の塗布〉前記下引済み支持体上に、
以下の感光層側及びBC層側の各層を塗布した。尚、乾
燥は感光層側及びBC層側とも、それぞれ45℃・1分
間で行った。 〈BC層側塗布〉BC層側には、以下の組成物をメチル
エチルケトン(MEK)溶媒に溶解して調製したBC
層、BC保護層塗布液を、以下の付量になるように同時
重層塗布・乾燥してBC層を形成した。 (BC層組成物) 結合剤(PVB−1) 1.8g/m2 架橋剤(H−2) 1×10-4モル/m2 染料(F−1) 2.2×10-5モル/m2
Silver halide grains having an average grain size of 100 nm: The temperature of the standard formulation was adjusted to 36 ° C. and added by double jet over 16 minutes. After chemical sensitization was completed by double jet addition, the temperature was set to 52 ° C.
The chemical sensitizers of the present invention described in Table 2 were added in an amount of 10 -5 mol per mol of silver halide, followed by chemical ripening for 60 minutes.
In the case of carrying out the oxidation treatment, the oxidation treatment agents shown in Tables 1 and 2 are added in an amount of 10 -5 mol per mol of silver halide, and the mixture is added at 48 ° C.
For 46 minutes. <Preparation of organic silver salt> Behenic acid 1 was added to 3980 ml of pure water.
11.4 g, arachidic acid 83.8 g, stearic acid 5
4.9 g were melted at 80 ° C. Next, while stirring at a high speed, 540.2 ml of a 1.5 mol aqueous sodium hydroxide solution
Was added and 6.9 ml of concentrated nitric acid was added, followed by cooling to 55 ° C. to obtain a sodium organic acid solution. The temperature of this solution is 5
After stirring for 5 minutes while maintaining the temperature at 5 ° C., 760.6 ml of a 1 mol aqueous silver nitrate solution was added over 2 minutes, and the mixture was further stirred for 20 minutes and filtered to remove water-soluble salts. Thereafter, water washing with deionized water and filtration were repeated until the conductivity of the filtrate reached 2 μS / cm, and finally, after centrifugal dehydration and drying, 358 g of organic silver salt flakes were obtained. <Coating of photosensitive layer and BC layer> On the undercoated support,
The following layers on the photosensitive layer side and the BC layer side were coated. The drying was performed at 45 ° C. for 1 minute on both the photosensitive layer side and the BC layer side. <Coating on BC layer side> On the BC layer side, a BC prepared by dissolving the following composition in a methyl ethyl ketone (MEK) solvent
The layer and the BC protective layer coating solution were simultaneously coated and dried so as to have the following amounts to form a BC layer. (BC layer composition) Binder (PVB-1) 1.8 g / m 2 Crosslinker (H-2) 1 × 10 −4 mol / m 2 Dye (F-1) 2.2 × 10 −5 mol / m 2

【0067】[0067]

【化10】 Embedded image

【0068】 (BC保護層組成物) 結合剤(セルロースアセテートブチレート) 1.1g/m2 マット剤(平均粒子径6μmのシリカ微粒子) 0.1g/m2 〈感光層側の塗布〉感光層側には、以下のAH層、第1
感光層、第2感光層及び表面保護層組成物を、それぞれ
MEK溶媒に溶解して調製した各層塗布液を、以下の付
量になるように同時重層塗布・乾燥して感光層を形成し
た。 (AH層組成物) 結合剤(セルロースアセテートブチレート) 0.4g/m2 染料(F−1) 1.3×10-5モル/m2 (第1感光層組成物) ハロゲン化銀粒子粉末 表1,3記載 有機銀塩フレーク 表1,3記載 ヒドラジド化合物 表1,3記載 ビニル化合物表 表1,3記載 結合剤(PVB−1) 2.6g/m2 分光増感色素(SD−1) 2×10-5モル/m2 カブリ防止剤−1(ピリジニウムヒドロブロミドペルブロミド) 0.3mg/m2 カブリ防止剤−2(イソチアゾロン) 1.2mg/m2 還元剤(K−1) 3×10-4モル/m2
(BC protective layer composition) Binder (cellulose acetate butyrate) 1.1 g / m 2 Matting agent (fine silica particles having an average particle diameter of 6 μm) 0.1 g / m 2 <Coating on photosensitive layer side> Photosensitive layer On the side, the following AH layer, the first
Each layer coating solution prepared by dissolving the photosensitive layer, the second photosensitive layer, and the surface protective layer composition in a MEK solvent was simultaneously coated and dried so as to have the following coating weight to form a photosensitive layer. (AH layer composition) Binder (cellulose acetate butyrate) 0.4 g / m 2 Dye (F-1) 1.3 × 10 −5 mol / m 2 (first photosensitive layer composition) Silver halide particle powder Organic silver salt flakes described in Tables 1 and 3 Hydrazide compounds described in Tables 1 and 3 Vinyl compound tables described in Tables 1 and 3 Binder (PVB-1) 2.6 g / m 2 Spectral sensitizing dye (SD-1) ) 2 × 10 -5 mol / m 2 antifoggant -1 (pyridinium hydrobromide perbromide) 0.3 mg / m 2 antifoggant-2 (isothiazolone) 1.2 mg / m 2 reducing agent (K-1) 3 × 10 -4 mol / m 2

【0069】[0069]

【化11】 Embedded image

【0070】 (第2感光層組成物) ハロゲン化銀粒子粉末 表2,4記載 有機銀塩フレーク 表2,4記載 ヒドラジド化合物 表2,4記載 ビニル化合物 表2,4記載 結合剤(PVB−1) 2.6g/m2 分光増感色素(SD−1) 2×10-5モル/m2 カブリ防止剤−1(前出) 0.3mg/m2 カブリ防止剤−2(前出) 1.2mg/m2 還元剤(K−1) 3×10-4モル/m2 (表面保護層組成物) セルロースアセテートブチレート 1.2g/m2 フタラジン 0.2g/m2 4−メチルフタル酸 0.7g/m2 テトラクロロフタル酸 0.2g/m2 テトラクロロフタル酸無水物 0.5g/m2 このようにして試料101〜136を作製した。(Second photosensitive layer composition) Silver halide particle powder described in Tables 2 and 4 Organic silver salt flake described in Tables 2 and 4 Hydrazide compound described in Tables 2 and 4 Vinyl compound described in Tables 2 and 4 Binder (PVB-1) ) 2.6 g / m 2 sensitizing dye (SD-1) 2 × 10 exits -5 mol / m 2 antifoggant -1 (pre) 0.3 mg / m 2 antifoggant-2 (supra) 1 0.2 mg / m 2 reducing agent (K-1) 3 × 10 -4 mol / m 2 (surface protective layer composition) Cellulose acetate butyrate 1.2 g / m 2 Phthalazine 0.2 g / m 2 4-methylphthalic acid 0 .7g / m 2 tetrachlorophthalic acid 0.2 g / m 2 tetrachlorophthalic anhydride 0.5 g / m 2 was thus prepared samples 101-136.

【0071】[0071]

【表1】 [Table 1]

【0072】[0072]

【表2】 [Table 2]

【0073】[0073]

【表3】 [Table 3]

【0074】[0074]

【表4】 [Table 4]

【0075】各試料について写真性能を評価した。 《写真性能の評価》作製した試料を25℃・48%RH
(相対湿度)の雰囲気下に3日間保存した後、810n
mの半導体レーザー露光用の感光計で露光後、120℃
で8秒間加熱・現像し、得られた試料のカブリ、感度、
最高濃度(Dmax)を求めた。
The photographic performance of each sample was evaluated. << Evaluation of photographic performance >> The prepared sample was subjected to 25 ° C. and 48% RH
After storing for 3 days in an atmosphere of (relative humidity), 810 n
120 ° C after exposure with a sensitometer for semiconductor laser exposure
Heating and development for 8 seconds, fog, sensitivity,
The highest density ( Dmax ) was determined.

【0076】又、画像保存性として、40℃・48%R
Hの部屋に30日間放置した時のカブリ値を評価した。
感度は、濃度0.3を与える露光量の逆数で表し、基準
を100とする相対感度で表した。レーザー露光は入射
角を90度のシングルモードに設定した。
As the image preserving property, 40 ° C./48% R
The fog value when left in the room H for 30 days was evaluated.
The sensitivity was represented by the reciprocal of the exposure amount giving a density of 0.3, and was represented by a relative sensitivity with the reference being 100. The laser exposure was set to a single mode with an incident angle of 90 degrees.

【0077】結果を表5、表6に示す。The results are shown in Tables 5 and 6.

【0078】[0078]

【表5】 [Table 5]

【0079】[0079]

【表6】 [Table 6]

【0080】尚、表5及び表6において、*1は感光層
中のハロゲン化銀粒子の1m2当たりの含有量比(第2
感光層/第1感光層)を、*2は感光層中のヒドラジド
化合物の1m2当たりの含有量比(第1感光層/第2感
光層)を、*3は感光層中のビニル化合物の1m2当た
りの含有量比(第1感光層/第2感光層)を、それぞれ
表す。
In Tables 5 and 6, * 1 represents the content ratio of silver halide grains in the photosensitive layer per m 2 (second
* 2 is the content ratio of hydrazide compound in the photosensitive layer per 1 m 2 (first photosensitive layer / second photosensitive layer), * 3 is the ratio of vinyl compound in the photosensitive layer. The content ratio per 1 m 2 (first photosensitive layer / second photosensitive layer) is shown.

【0081】表5及び表6より、本発明の平均粒子径の
感光性ハロゲン化銀粒子を使用し、第2感光層のハロゲ
ン化銀粒子の含有量を第1感光層の含有量より多くし、
第1感光層のヒドラジド化合物又はビニル化合物の含有
量を第2感光層の含有量より多くすると、カブリ、感
度、最高濃度、保存性に優れる光熱写真材料が得られる
ことが判る。又、ハロゲン化銀粒子を本発明の化学増感
剤で増感すると、高感度が得られ、最高濃度も高く、保
存性も良好なことが判る。
As can be seen from Tables 5 and 6, the photosensitive silver halide grains having an average grain size according to the present invention were used, and the content of the silver halide grains in the second photosensitive layer was made larger than that in the first photosensitive layer. ,
It can be seen that when the content of the hydrazide compound or vinyl compound in the first photosensitive layer is larger than that in the second photosensitive layer, a photothermographic material excellent in fog, sensitivity, maximum density and storage stability can be obtained. When the silver halide grains are sensitized with the chemical sensitizer of the present invention, high sensitivity is obtained, the maximum density is high, and the storage stability is good.

【0082】実施例2 実施例1と同様の試料101,116,126,130
及び134を作製し、露光、現像後の画像を評価した
が、ここではレーザー露光の入射角を変化させて露光す
る方法、レーザー光を2分して行路長を20〜100n
m±3nmの差をつけて、再び合成して露光する2重ビ
ーム露光法、1MHzの高周波を重畳した波長での露光
法を実施した。
Example 2 Samples 101, 116, 126 and 130 similar to those of Example 1
And 134 were produced, and the images after exposure and development were evaluated. Here, a method of exposing by changing the incident angle of laser exposure, a laser beam divided into two and a path length of 20 to 100 n were used.
A double beam exposure method of combining and exposing again with a difference of m ± 3 nm was performed, and an exposure method at a wavelength in which a high frequency of 1 MHz was superimposed was performed.

【0083】結果を表7、表8に示す。尚、干渉ムラの
評価は、光学濃度1.0における干渉ムラを目視で下記
基準により5段階評価した。
The results are shown in Tables 7 and 8. The evaluation of interference unevenness was performed by visually evaluating interference unevenness at an optical density of 1.0 on the basis of the following five criteria.

【0084】5:ムラの全くないレベル 4:僅かにムラの見えるレベル 3:ムラが見えるが実質的に問題のないレベル 2:ムラが可成り見えるレベル 1:ムラが強く見えるレベル5: Level with no unevenness 4: Level where slight unevenness is visible 3: Level where unevenness is visible but practically no problem 2: Level where unevenness is quite visible 1: Level where unevenness is strongly visible

【0085】[0085]

【表7】 [Table 7]

【0086】[0086]

【表8】 [Table 8]

【0087】この結果より、本発明の光熱写真材料を露
光する際に、入射角を変化させ角度が55〜88度の間
が好ましいことが判る。又、2重ビーム露光や高周波重
畳の露光により微粒子の光散乱が少なくなり、干渉ムラ
が少なくなり画質の向上していることが判る。
From these results, it can be seen that, when exposing the photothermographic material of the present invention, the incident angle is changed and the angle is preferably between 55 and 88 degrees. Further, it can be seen that the light scattering of the fine particles is reduced by the double beam exposure or the exposure of the high frequency superimposition, the interference unevenness is reduced and the image quality is improved.

【0088】[0088]

【発明の効果】本発明の、低カブリ、高感度、高濃度が
得られ、画像保存性に優れる光熱写真画像形成材料を用
いることにより、干渉ムラが生じ難く、均一な現像仕上
がりが得られる。
By using the photothermographic image forming material of the present invention, which has low fog, high sensitivity and high density, and is excellent in image storability, interference unevenness hardly occurs and a uniform development finish can be obtained.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) G03D 13/00 G03D 13/00 H ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat ゛ (Reference) G03D 13/00 G03D 13/00 H

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 支持体上に、平均粒子径が20〜80n
mである感光性ハロゲン化銀粒子、有機銀塩、還元剤及
び結合剤を含有する感光層を有する光熱写真画像形成材
料において、該感光層が支持体に最も近い第1感光層と
第1感光層に隣接する第2感光層から成り、かつ前記感
光性ハロゲン化銀粒子の含有量は第1感光層<第2感光
層であり、感光層中のヒドラジド化合物、分子内に電子
求引性基を有するビニル化合物の含有量は第1感光層>
第2感光層であることを特徴とする光熱写真画像形成材
料。
An average particle size of 20 to 80 n on a support.
m, a photosensitive layer comprising a photosensitive layer containing photosensitive silver halide grains, an organic silver salt, a reducing agent and a binder. A second photosensitive layer adjacent to the photosensitive layer, wherein the content of the photosensitive silver halide grains is such that the first photosensitive layer <the second photosensitive layer, the hydrazide compound in the photosensitive layer, and the electron-withdrawing group in the molecule. Content of the vinyl compound having the first photosensitive layer>
A photothermographic image forming material, which is a second photosensitive layer.
【請求項2】 第2感光層の感光性ハロゲン化銀粒子が
不安定硫黄又はセレン化合物で化学増感されていること
を特徴とする請求項1記載の光熱写真画像形成材料。
2. The photothermographic image forming material according to claim 1, wherein the photosensitive silver halide grains in the second photosensitive layer are chemically sensitized with an unstable sulfur or selenium compound.
【請求項3】 感光層の少なくとも一方の感光性ハロゲ
ン化銀粒子が酸化剤存在下に熱処理されていることを特
徴とする請求項1又は2記載の光熱写真画像形成材料。
3. The photothermographic image forming material according to claim 1, wherein at least one of the photosensitive silver halide grains in the photosensitive layer is heat-treated in the presence of an oxidizing agent.
【請求項4】 ヒドラジド化合物の−NHNH−基の少
なくとも一方の−NH−が、置換基を有してもよいベン
ゾイル基、フェニル基、トリフェニルメチル基から選ば
れる基を有することを特徴とする請求項1〜3の何れか
1項記載の光熱写真画像形成材料。
4. The hydrazide compound, wherein at least one of the —NHNH— groups has a group selected from a benzoyl group, a phenyl group and a triphenylmethyl group which may have a substituent. The photothermographic image forming material according to claim 1.
【請求項5】 電子求引性基を有するビニル化合物が同
時に電子供与性基を有することを特徴とする請求項1〜
3の何れか1項記載の光熱写真画像形成材料。
5. The vinyl compound having an electron-withdrawing group has an electron-donating group at the same time.
4. The photothermographic image forming material according to any one of the above items 3.
【請求項6】 請求項1〜5の何れか1項記載の光熱写
真画像形成材料に画像を記録する際の走査レーザー光
が、同一波長で、かつ入射角の異なる2重ビームである
ことを特徴とする画像形成方法。
6. A scanning laser beam for recording an image on the photothermographic image forming material according to claim 1, wherein the scanning laser beam is a double beam having the same wavelength and different incident angles. Characteristic image forming method.
【請求項7】 請求項1〜5の何れか1項記載の光熱写
真画像形成材料に画像を記録する際の走査レーザー光
が、縦マルチであるレーザー光走査露光機による露光で
あることを特徴とする画像形成方法。
7. A scanning laser beam for recording an image on the photothermographic image forming material according to any one of claims 1 to 5, wherein the scanning laser beam is an exposure by a laser beam scanning exposure device which is a vertical multi. Image forming method.
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