JP2002250917A - Front light device having antireflection property and display device - Google Patents

Front light device having antireflection property and display device

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JP2002250917A
JP2002250917A JP2001050396A JP2001050396A JP2002250917A JP 2002250917 A JP2002250917 A JP 2002250917A JP 2001050396 A JP2001050396 A JP 2001050396A JP 2001050396 A JP2001050396 A JP 2001050396A JP 2002250917 A JP2002250917 A JP 2002250917A
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JP
Japan
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light
guide plate
light guide
fine irregularities
film
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Application number
JP2001050396A
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Japanese (ja)
Inventor
Arimichi Ito
有道 伊東
Tomoyuki Suzuki
智之 鈴木
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Dai Nippon Printing Co Ltd
Original Assignee
Dai Nippon Printing Co Ltd
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To prevent reflection of the light incident through the back side of a light guide plate without substantially increasing the thickness of the light guide plate and to improve the luminance when the device is viewed from the observation side. SOLUTION: In the liquid crystal display device 100 or the like, the following antireflection film 105 is laminated in the opposite side of a light guide plate 102 with a light source 101 to the observation side, with the light guide plate 102 disposed in the observation side of the display part such as a liquid crystal display part 103 having a reflector 104 on the lower face of the display part. The antireflection film 105 has an antireflection layer which is made of a transparent raw material and is composed of a great number of minute recesses and projections with pitches shorter than the wavelength of the light and the refractive index of which varies in the thickness direction.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、フロントライト型
の液晶ディスプレイ装置等のディスプレイ装置に関する
もので、特に、そのフロントライト装置の液晶表示部等
のディスプレイ側からの反射光を、フロントライト装置
に有効に入射させるための処理を施したフロントライト
装置に関するものでもある。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a display device such as a front light type liquid crystal display device, and more particularly, to a front light device that reflects light reflected from a display side such as a liquid crystal display portion of the front light device. The present invention also relates to a front light device that has been subjected to a process for making light incident effectively.

【0002】[0002]

【従来の技術】液晶ディスプレイ装置は、消費電力が少
なく、薄型で軽量化が可能なことから、種々の用途にお
いて、ディスプレイ装置として多用されている。特に、
ハンドヘルドもしくはパームトップ等の携帯用小型コン
ピュータ用のディスプレイ、あるいは携帯電話器その他
のコミュニケーション用端末においては、ほとんどの場
合、液晶ディスプレイが用いられており、今なお、消費
電力の低減および高輝度化、小型化、薄型化、もしくは
軽量化の努力が続いている。
2. Description of the Related Art Liquid crystal display devices have been widely used as display devices in various applications because of their low power consumption, thinness and light weight. In particular,
In most cases, a liquid crystal display is used in a display for a portable small computer such as a handheld or a palmtop, or a mobile phone or other communication terminal. Efforts to reduce size, thickness, or weight continue.

【0003】ところで、液晶層を透明電極を有するガラ
ス板ではさんだ構造の液晶表示部そのものは、自己発光
しないため、液晶ディスプレイ装置とする際には、照明
手段を伴なう必要があり、軽量化と薄型化の一つの手段
として、この照明手段をフロントライト型とする動きが
ある。
A liquid crystal display portion having a structure in which a liquid crystal layer is sandwiched between glass plates having transparent electrodes does not emit light by itself. As one means for reducing the thickness, there is a movement to make this lighting means a front light type.

【0004】図1は、フロントライト装置が適用された
様子を示すための図で、液晶ディスプレイ装置100
は、観察側(図1では、上側である。)から導光板10
2、液晶表示部103、および反射板104とが順に配
置されたものである。導光板102は、透明な板状体か
らなっており、観察側の面に、各稜線(図では必ずしも
明らかではないが、凸部の頂上が紙面の手前から奥に向
かう方向の線である。)が平行なプリズムアレイが形成
されたものであり、この構造の方がコンパクトである
が、観察面側に、一様な傾斜を有した斜面が形成された
ものであってもよい。また、導光板102の観察側と反
対側は、平坦な面となっている。さらに、導光板102
の端部には光源部101が配置されており、光源部10
1は、冷陰極蛍光管、もしくはLED等の棒状の光源1
01aと、光源を覆い、導光板102側に開口部を有す
るリフレクター101bとからなっている。なお、図1
では、光源部101が左方の端部にのみ配置されている
が、光源部101は、左右両方にあってもよいし、導光
板102の全周にわたって配置してあってもよい。
FIG. 1 is a view showing a state in which a front light device is applied.
Represents the light guide plate 10 from the observation side (the upper side in FIG. 1).
2. The liquid crystal display unit 103 and the reflection plate 104 are arranged in this order. The light guide plate 102 is formed of a transparent plate-like body, and each ridge line (not necessarily clear in the drawing, the top of the convex portion is a line extending in the direction from the near side to the far side of the paper) on the surface on the observation side. ) Is a parallel prism array formed, and this structure is more compact. However, an inclined surface having a uniform inclination may be formed on the observation surface side. Further, the opposite side of the light guide plate 102 from the observation side is a flat surface. Further, the light guide plate 102
A light source unit 101 is disposed at an end of the light source unit 10.
1 is a rod-like light source 1 such as a cold cathode fluorescent tube or an LED
01a and a reflector 101b that covers the light source and has an opening on the light guide plate 102 side. FIG.
In the embodiment, the light source unit 101 is disposed only at the left end. However, the light source unit 101 may be disposed on both the left and right sides, or may be disposed over the entire circumference of the light guide plate 102.

【0005】このようなフロントライト装置を備えた液
晶ディスプレイ装置において、光源部101から出た光
は、導光板102内に入射し、導光板102内で乱反射
をくりかえした後、液晶表示部103側に出光する。そ
して、液晶表示部103に入射した光は導光板102の
裏面側(図1中の下面側である。)に出光して、反射板
104にて反射し、再び、液晶表示部103を経て、導
光板102に入射し、観察側に出光するものである。光
源部101から出た光は、このような光路をたどるの
で、各界面で反射、もしくは屈折を起こし、減衰して行
くが、特に、液晶表示部103から戻ってきた光が、導
光板102に入射する際に、この光を導光板102の裏
面側から有効に入射させる必要性が大きい。
In a liquid crystal display device having such a front light device, light emitted from the light source unit 101 enters the light guide plate 102 and repeats irregular reflection in the light guide plate 102, and then repeats the light reflection on the liquid crystal display unit 103 side. Idemitsu. Then, the light that has entered the liquid crystal display unit 103 exits on the back surface side of the light guide plate 102 (the lower surface side in FIG. 1), is reflected by the reflection plate 104, passes through the liquid crystal display unit 103 again, and The light enters the light guide plate 102 and exits to the observation side. Since the light emitted from the light source 101 follows such an optical path, it is reflected or refracted at each interface and attenuates. In particular, the light returned from the liquid crystal display 103 is transmitted to the light guide plate 102. At the time of incidence, there is a great need to make this light effectively enter from the back side of the light guide plate 102.

【0006】従来から、導光板102の表裏を梨地状に
する加工を施したり、特開2000−19330号公報
に見られるように、導光板の非観察側の面に断面が矩形
波状の凹凸(本発明のものよりも大きく、一例として深
さが10μm、幅が25μm程度と記載されている。)
を付与する加工の試みが行なわれているが、いずれの加
工も、導光板の厚みの増加を招きやすく、軽量化、薄型
化に反するものであった。また、特開2000−275
637号公報には、調光フィルムとして、光透過率をフ
ィルムの面方向に連続的に変化させたものが記載されて
いるが、この調光フィルムは、液晶ディスプレイの端部
に配置される光源部からの光をディスプレイ全面に渡っ
て均一化するためのものであって、導光板102の裏面
側からの入射光の有効利用のためのものではなかった。
[0006] Conventionally, the light guide plate 102 has been processed to have a matte finish on the front and back sides, or as shown in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2000-19330, the surface of the non-observation side of the light guide plate has a rectangular wave-shaped cross section. It is larger than that of the present invention, and is described as having a depth of about 10 μm and a width of about 25 μm as an example.)
Attempts have been made to provide a light guide plate, but all of these processes tend to increase the thickness of the light guide plate, which is contrary to the reduction in weight and thickness. Also, JP-A-2000-275
Japanese Patent No. 637 describes a light control film in which light transmittance is continuously changed in a plane direction of the film. The light control film is a light source disposed at an end of a liquid crystal display. This is for making the light from the unit uniform over the entire surface of the display, and not for making effective use of the incident light from the back side of the light guide plate 102.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】本発明においては、導
光板の厚みの実質的な増加を招くことなく、導光板の裏
面側から入射する光の反射を防止し、観察側から眺めた
ときの輝度を向上させることを課題とするものである。
SUMMARY OF THE INVENTION In the present invention, the reflection of light incident from the back side of the light guide plate is prevented without causing a substantial increase in the thickness of the light guide plate, so that the light guide plate when viewed from the observation side can be prevented. It is an object to improve luminance.

【0008】[0008]

【課題を解決する手段】本発明と同じ出願人は、特願2
000−74347号において、光の波長以下のピッチ
の微細凹凸が形成された凹凸部を有する反射防止フィル
ムを既に提案しており、この反射防止フィルムは、種々
のディスプレイ装置の観察側に用いると、外光の反射を
防止して、輝度の高い画像もしくは映像を見ることが可
能になるものであるが、フロントライト型の照明手段の
裏面に適用したところ、表示部側からの光を反射を防止
して、有効に入射させることができ、結果として、液晶
表示部による反射光の有効利用を図ることが可能である
ことが見出された。
Means for Solving the Problems The same applicant as the present invention is disclosed in Japanese Patent Application No.
In 000-74347, an antireflection film having an uneven portion formed with fine unevenness having a pitch equal to or less than the wavelength of light has already been proposed, and this antireflection film is used on the observation side of various display devices. It prevents reflection of external light and makes it possible to view high-luminance images or images.However, when applied to the back of the front light type illumination means, it prevents reflection from the display unit side. As a result, it has been found that the light can be effectively incident, and as a result, the reflected light from the liquid crystal display unit can be effectively used.

【0009】第1の発明は、透明な導光板と前記導光板
の端面に配置されて、前記導光板内に光を入射する光源
部とからなり、前記導光板は観察側が一様な傾斜を有し
ているか、もしくは各稜線が平行なプリズムアレイが形
成されていることにより、前記導光板内に入射された光
を非観察側に反射して出射するよう構成されており、か
つ、前記導光板の非観察側には、透明性素材で形成さ
れ、光の波長以下のピッチの無数の微細凹凸からなり、
厚み方向に光の屈折率が変化する反射防止層が積層され
たことを特徴とする、反射防止性能を有するフロントラ
イト装置に関するものである。第2の発明は、第1の発
明において、透明性フィルムの片側に、前記微細凹凸か
らなる反射防止層が積層された反射防止フィルムが、前
記透明性フィルム側が前記導光板側を向いて、前記導光
板に積層されることにより微細凹凸が形成されたことを
特徴とする請求項1記載の反射防止性能を有するフロン
トライト装置に関するものである。第3の発明は、第1
または第2の発明において、前記反射防止層は、前記導
光板に接着剤層を介して積層されていることを特徴とす
る反射防止性能を有するフロントライト装置に関するも
のである。第4の発明は、第1〜第3いずれかの発明に
おいて、前記微細凹凸は、感光性樹脂にレーザー光干渉
法により微細凹凸を形成した型を利用して作られたもの
であることを特徴とする反射防止性能を有するフロント
ライト装置に関するものである。第5の発明は、第1〜
第3いずれかの発明において、前記微細凹凸は、ガラス
基板、もしくは表面に金属層を形成したガラス基板上の
金属層に、電子ビームエッチング法により微細凹凸を形
成した型を利用して作られたものであることを特徴とす
る反射防止性能を有するフロントライト装置に関するも
のである。第6の発明は、第1〜第5いずれかの発明の
フロントライト装置を表示部の前面に配置したことを特
徴とするディスプレイ装置に関するものである。第7の
発明は、第6の発明において、表示部が液晶表示部であ
るディスプレイ装置に関するものである。
A first invention comprises a transparent light guide plate and a light source unit disposed on an end face of the light guide plate and for entering light into the light guide plate, wherein the light guide plate has a uniform inclination on the observation side. The light incident on the light guide plate is reflected and emitted to the non-observation side by having a prism array having parallel ridges. On the non-observation side of the light plate, formed of a transparent material, consisting of countless fine irregularities with a pitch less than the wavelength of light,
The present invention relates to a front light device having antireflection performance, characterized in that an antireflection layer whose refractive index changes in the thickness direction is laminated. According to a second aspect, in the first aspect, the antireflection film in which the antireflection layer including the fine irregularities is laminated on one side of the transparent film, wherein the transparent film side faces the light guide plate side, 2. A front light device having antireflection performance according to claim 1, wherein fine irregularities are formed by being laminated on the light guide plate. The third invention is the first invention
Alternatively, in the second invention, the anti-reflection layer relates to a front light device having anti-reflection performance, wherein the anti-reflection layer is laminated on the light guide plate via an adhesive layer. A fourth invention is characterized in that, in any one of the first to third inventions, the fine unevenness is formed using a mold in which fine unevenness is formed on a photosensitive resin by a laser light interference method. The present invention relates to a front light device having anti-reflection performance. The fifth invention relates to the first to fifth aspects.
In any one of the third inventions, the fine irregularities are formed using a mold in which fine irregularities are formed by an electron beam etching method on a glass substrate or a metal layer on a glass substrate having a metal layer formed on the surface. The present invention relates to a front light device having anti-reflection performance, characterized in that the front light device is characterized in that: A sixth invention relates to a display device, wherein the front light device according to any one of the first to fifth inventions is arranged on a front surface of a display unit. A seventh invention is directed to the display device according to the sixth invention, wherein the display unit is a liquid crystal display unit.

【0010】[0010]

【発明の実施の形態】図2に示すように、本発明の液晶
ディスプレイ装置は、図1に示した従来のものとほぼ同
様な構造を有しており、光源部101と、微細凹凸を有
する反射防止フィルム105を下面側に有する透明な導
光板102、液晶表示部103、および反射板104と
からなっており、光源部101は導光板102の端面に
配置されており、導光板102、液晶表示部103、お
よび反射板104は互いに平行に重ねて配置されてい
る。図2に示すディスプレイ装置は、一例を挙げたもの
に過ぎず、反射型の表示部と、その観察側に導光板およ
び照明装置を伴なったものであれば、いずれのタイプの
反射型のディスプレイとフロントライト装置を有するも
のにも本発明は適用可能である。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS As shown in FIG. 2, the liquid crystal display device of the present invention has substantially the same structure as that of the conventional liquid crystal display device shown in FIG. The light source unit 101 includes a transparent light guide plate 102 having an anti-reflection film 105 on the lower surface side, a liquid crystal display unit 103, and a reflector plate 104. The light source unit 101 is disposed on an end surface of the light guide plate 102, and the light guide plate 102 The display unit 103 and the reflection plate 104 are arranged so as to be parallel to each other. The display device shown in FIG. 2 is merely an example, and any type of a reflective display unit provided with a reflective display unit and a light guide plate and a lighting device on its observation side. The present invention is also applicable to a device having a front light device.

【0011】導光板102は、透明な板状体からなって
おり、観察側の面(図では上面である。)に、各稜線が
平行なプリズムアレイが形成されたものであり、非観察
側の面は、平坦な面となっている。勿論、観察面側に、
一様な傾斜を有した斜面が形成されたものであってもよ
い。
The light guide plate 102 is formed of a transparent plate-like body, and has a prism array whose ridge lines are parallel to each other on the surface on the observation side (the upper surface in the figure). Is a flat surface. Of course, on the observation side,
An inclined surface having a uniform inclination may be formed.

【0012】光源部101は、冷陰極蛍光管、もしくは
LED等の棒状の光源101aと、光源101aを覆っ
て、導光板102側に一定幅の開口部を有するリフレク
ター(反射板)101bとからなっており、この開口部
が、導光板102の端面を向いている。なお、光源部1
01は、左端にのみ設置位置が限られることはなく、左
右両方や全周にわたって配置してもよい。
The light source 101 includes a rod-shaped light source 101a such as a cold cathode fluorescent tube or an LED, and a reflector (reflection plate) 101b which covers the light source 101a and has an opening having a fixed width on the light guide plate 102 side. The opening faces the end surface of the light guide plate 102. The light source unit 1
The position of 01 is not limited only to the left end, and may be arranged on both the left and right sides or the entire circumference.

【0013】本発明においては、導光板102の下面に
反射防止フィルム105が積層されており、この反射防
止フィルム105は下面側に凹凸を有しているもので、
例えば図3に示すように、透明性フィルム1上に、透明
性素材で形成され、光の波長以下のピッチの、即ち微細
な凹凸2(以降において、「光の波長以下のピッチの微
細な凹凸」を単に微細凹凸とも言う。)を多数有する透
明層3が積層されたものである。図3に示す反射防止フ
ィルムは、図2に示す反射防止フィルム105とは上下
が逆に示してある。導光板102と反射防止フィルム1
05の透明性フィルム1との積層は、適宜に、例えば、
透明な接着剤層を介して行なうか、もしくは機械的に固
定する方法によればよい。前者の方が、接着が全面に渡
って確実である利点がある。なお、本発明において、導
光板102の反射を防止する目的では、上記のように、
透明性フィルム1を有していなくてもよく、単に、透明
性素材で形成され、光の波長以下のピッチの、即ち微細
な凹凸2を多数有する透明層3を有していれば足り、こ
の透明層3が導光板に直接積層されていても、接着剤層
を介して積層されていてもよい。
In the present invention, an antireflection film 105 is laminated on the lower surface of the light guide plate 102, and the antireflection film 105 has irregularities on the lower surface side.
For example, as shown in FIG. 3, on the transparent film 1, formed of a transparent material and having a pitch equal to or less than the wavelength of light, that is, fine irregularities 2 (hereinafter, "fine irregularities having a pitch equal to or less than the wavelength of light"). Is also simply referred to as fine irregularities.). The anti-reflection film shown in FIG. 3 is shown upside down with respect to the anti-reflection film 105 shown in FIG. Light guide plate 102 and antireflection film 1
05 and the transparent film 1 may be appropriately laminated, for example,
It may be performed through a transparent adhesive layer or by a method of mechanically fixing. The former has the advantage that the adhesion is reliable over the entire surface. In the present invention, for the purpose of preventing reflection of the light guide plate 102, as described above,
It is not necessary to have the transparent film 1, and it is sufficient that the transparent film 1 has only a transparent layer 3 formed of a transparent material and having a pitch equal to or less than the wavelength of light, that is, having a large number of fine irregularities 2. The transparent layer 3 may be directly laminated on the light guide plate, or may be laminated via an adhesive layer.

【0014】そこで、上記の反射防止フィルム105、
およびポイントとなる微細凹凸2等について、以下に説
明する。
Therefore, the above-mentioned antireflection film 105,
The fine irregularities 2 and the like serving as points will be described below.

【0015】図3(a)に示すように、反射防止フィル
ム105は、例えば、透明基材フィルム1上に、光の波
長以下のピッチの無数の微細凹凸2からなり、厚み方向
に光の屈折率が変化する透明層3(機能上は反射防止層
である。)を積層したものである。透明層3は、透明基
材フィルムの面方向につながった連続した層であること
が普通だが、互いに離れた多数の凸部からなっていても
よい。
As shown in FIG. 3A, the anti-reflection film 105 is composed of, for example, a myriad of fine irregularities 2 having a pitch equal to or less than the wavelength of light on a transparent base film 1 and refracting light in the thickness direction. A transparent layer 3 (functionally an anti-reflection layer) whose rate changes is laminated. The transparent layer 3 is usually a continuous layer connected in the plane direction of the transparent substrate film, but may be composed of a large number of convex portions separated from each other.

【0016】反射防止フィルム105は、図3(b)に
示すように、透明層3の表面の凹凸部2上に光の屈折率
が異なる別の透明層からなる表面層4をさらに積層した
ものであってもよい。表面層4の上面は図では平坦なも
のとして描いたが、凹凸部2の形状に沿った形状であっ
てもよい。表面層4は、その上面が、図示のように凹凸
部2の頂部と同じ高さで一定になるよう形成してもよい
が、凹凸の頂部より高く形成すること、もしくは凹凸の
頂部より低く形成することもあり得る。
As shown in FIG. 3B, the antireflection film 105 is obtained by further laminating a surface layer 4 made of another transparent layer having a different refractive index of light on the uneven portion 2 on the surface of the transparent layer 3. It may be. Although the upper surface of the surface layer 4 is illustrated as being flat in the figure, the upper surface may have a shape conforming to the shape of the uneven portion 2. The surface layer 4 may be formed so that the upper surface thereof is constant at the same height as the top of the uneven portion 2 as shown in the figure, but may be formed higher than the top of the unevenness or formed lower than the top of the unevenness. It could be.

【0017】上記の図3(a)、および(b)に示すい
ずれの例においても、透明基材フィルム1は省いてもよ
い。また、図3(a)、および(b)、並びに以降に示
すいずれの例においても、凹凸部2は、反射防止フィル
ム1の片面にのみ形成されたものに限ることなく、反射
防止フィルム1の両面に凹凸部2が形成されたものであ
り得る。
In any of the examples shown in FIGS. 3A and 3B, the transparent base film 1 may be omitted. In addition, in each of FIGS. 3A and 3B and the examples described below, the uneven portions 2 are not limited to those formed on only one surface of the antireflection film 1. The uneven portion 2 may be formed on both surfaces.

【0018】透明基材フィルム1としては、透明性、平
滑性を備え、異物の混入のないものが好ましく、また、
加工上および製品の使用上の理由で機械的強度があるも
のが好ましい。さらに、反射防止フィルムにディスプレ
イの熱が伝わって来るような場合には、耐熱性があるも
のが好ましい。
The transparent substrate film 1 is preferably one having transparency and smoothness and free of foreign matter.
Those having mechanical strength are preferred for processing and product use reasons. Further, when the heat of the display is transmitted to the antireflection film, a film having heat resistance is preferable.

【0019】一般的に透明基材フィルム1として好まし
いものは、セルロースジアセテート、セルローストリア
セテート、セルロースアセテートブチレート、ポリエチ
レンテレフタレートを代表とする各種ポリエステル、ポ
リアミド、ポリイミド、ポリエーテルスルフォン、ポリ
スルフォン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン、ポ
リ塩化ビニル、ポリビニルアセタール、ポリエーテルケ
トン、ポリメタクリル酸メチル、ポリカーボネート、も
しくはポリウレタン等の熱可塑性樹脂のフィルムであ
る。
In general, the transparent substrate film 1 is preferably made of various polyesters represented by cellulose diacetate, cellulose triacetate, cellulose acetate butyrate, polyethylene terephthalate, polyamide, polyimide, polyether sulfone, polysulfone, polypropylene, It is a film of a thermoplastic resin such as polymethylpentene, polyvinyl chloride, polyvinyl acetal, polyether ketone, polymethyl methacrylate, polycarbonate, or polyurethane.

【0020】上記のうちで、写真用乳剤を塗布した写真
用フィルムの場合に、よく用いられるポリエステルは機
械強度やコーティング適性の点で好ましい。透明性が高
く、光学的に異方性がなく、かつ低屈折率である点で
は、セルローストリアセテート等が好ましい。透明性と
耐熱性を備えた点ではポリカーボネートが好ましい。
Of the above, in the case of a photographic film coated with a photographic emulsion, a polyester which is often used is preferred in view of mechanical strength and coating suitability. Cellulose triacetate and the like are preferable in terms of high transparency, no optical anisotropy, and low refractive index. Polycarbonate is preferred in terms of transparency and heat resistance.

【0021】なお、これらの熱可塑性樹脂のフィルムは
フレキシブルで使いやすいが、取り扱い時も含めて曲げ
る必要が全くなく、硬いものが望まれるときは、上記の
樹脂の板やガラス板等の板状のものも使用できる。厚み
としては、8〜1000μm程度が好ましく、25〜3
00μm程度がより好ましい。板状のものの場合には、
この範囲を超えてもよい。
Although these thermoplastic resin films are flexible and easy to use, there is no need to bend them even during handling, and when a hard material is desired, a plate-like material such as the above resin plate or glass plate can be used. Can also be used. The thickness is preferably about 8 to 1000 μm, and is preferably 25 to 3 μm.
It is more preferably about 00 μm. In the case of a plate,
This range may be exceeded.

【0022】上記の透明基材フィルム1には、その上
面、もしくは上面および下面に形成する層との接着性の
向上のために、通常、行なわれ得る各種の処理、即ち、
コロナ放電処理、酸化処理等の物理的な処理のほか、ア
ンカー剤もしくはプライマーと呼ばれる塗料の塗布を予
め行なって、プライマー層(図示せず。)を形成してお
いてもよい。
In order to improve the adhesiveness of the transparent substrate film 1 to the layers formed on the upper surface, or the upper and lower surfaces, various kinds of treatments that can be usually performed, that is,
In addition to a physical treatment such as a corona discharge treatment and an oxidation treatment, a primer layer (not shown) may be formed by applying a paint called an anchor agent or a primer in advance.

【0023】無数の微細凹凸が形成された凹凸部2を有
する透明層3は、熱可塑性樹脂、もしくは熱硬化性樹脂
であり得るが、電離放射線硬化性樹脂組成物の硬化物か
らなっていることが製法上、好ましい。電離放射線硬化
性樹脂組成物としては、凹凸部2を金型を用いたキャス
ティング法によって形成する際の硬化速度が速く、かつ
透明層3の表面の傷付きが起きないよう、硬化後に高い
耐擦傷性を有するものが好ましい。電離放射線硬化性樹
脂組成物としては、硬化後の硬度が、JIS K540
0で示す鉛筆硬度試験で「H」以上の硬度を示すものが
より好ましい。
The transparent layer 3 having the irregularities 2 on which innumerable fine irregularities are formed can be made of a thermoplastic resin or a thermosetting resin, but is made of a cured product of an ionizing radiation-curable resin composition. Is preferred in terms of the production method. The ionizing radiation-curable resin composition has a high abrasion resistance after curing so that the curing rate when forming the uneven portion 2 by the casting method using a mold is high and the surface of the transparent layer 3 is not damaged. Those having properties are preferred. The hardness after curing of the ionizing radiation-curable resin composition is JIS K540.
Those showing a hardness of “H” or more in a pencil hardness test indicated by 0 are more preferable.

【0024】また、透明層3の光の屈折率は、反射防止
性能を発揮するためには低い方が好ましいが、反射防止
フィルムとして長期間使用するには、表面の耐久性、特
に耐擦傷性が必要であり、硬度を高くした方が有利にな
るため、密度を上げて硬度を高くする必要がある。従っ
て、透明層3の光の屈折率としては、1.4〜1.7、
より好ましくは、1.6以下である。
The refractive index of light of the transparent layer 3 is preferably low in order to exhibit anti-reflection performance. However, for long-term use as an anti-reflection film, the durability of the surface, especially the abrasion resistance, is low. It is necessary to increase the hardness, so that it is necessary to increase the density to increase the hardness. Therefore, the refractive index of light of the transparent layer 3 is 1.4 to 1.7,
More preferably, it is 1.6 or less.

【0025】電離放射線硬化性樹脂組成物としては、分
子中に重合性不飽和結合または、エポキシ基を有するプ
レポリマー、オリゴマー、及び/又はモノマーを適宜に
混合したものである。電離放射線とは、電磁波又は荷電
粒子線のうち分子を重合又は架橋し得るエネルギー量子
を有するものを指し、通常は、紫外線又は電子線を用い
る。
The ionizing radiation-curable resin composition is obtained by appropriately mixing a prepolymer, an oligomer and / or a monomer having a polymerizable unsaturated bond or an epoxy group in a molecule. Ionizing radiation refers to electromagnetic waves or charged particle beams having energy quanta that can polymerize or crosslink molecules, and usually use ultraviolet rays or electron beams.

【0026】電離放射線硬化性樹脂組成物中のプレポリ
マー、オリゴマーの例としては、不飽和ジカルボン酸と
多価アルコールの縮合物等の不飽和ポリエステル類、ポ
リエステルメタクリレート、ポリエーテルメタクリレー
ト、ポリオールメタクリレート、メラミンメタクリレー
ト等のメタクリレート類、ポリエステルアクリレート、
エポキシアクリレート、ウレタンアクリレート、ポリエ
ーテルアクリレート、ポリオールアクリレート、メラミ
ンアクリレート等のアクリレート類、もしくはカチオン
重合型エポキシ化合物が挙げられる。
Examples of prepolymers and oligomers in the ionizing radiation-curable resin composition include unsaturated polyesters such as condensates of unsaturated dicarboxylic acids and polyhydric alcohols, polyester methacrylates, polyether methacrylates, polyol methacrylates, melamines. Methacrylates such as methacrylate, polyester acrylate,
Examples include acrylates such as epoxy acrylate, urethane acrylate, polyether acrylate, polyol acrylate, and melamine acrylate, and cationic polymerization type epoxy compounds.

【0027】電離放射線硬化性樹脂組成物中のモノマー
の例としては、スチレン、α−メチルスチレン等のスチ
レン系モノマー、アクリル酸メチル、アクリル酸−2−
エチルヘキシル、アクリル酸メトキシエチル、アクリル
酸ブトキシエチル、アクリル酸ブチル、アクリル酸メト
キシブチル、アクリル酸フェニル等のアクリル酸エステ
ル類、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタ
クリル酸プロピル、メタクリル酸メトキシエチル、メタ
クリル酸エトキシメチル、メタクリル酸フェニル、メタ
クリル酸ラウリル等のメタクリル酸エステル類、アクリ
ル酸−2−(N,N−ジエチルアミノ)エチル、アクリ
ル酸−2−(N,N−ジメチルアミノ)エチル、アクリ
ル酸−2−(N,N−ジベンジルアミノ)メチル、アク
リル酸−2−(N,N−ジエチルアミノ)プロピル等の
不飽和置換の置換アミノアルコールエステル類、アクリ
ルアミド、メタクリルアミド等の不飽和カルボン酸アミ
ド、エチレングリコールジアクリレート、プロピレング
リコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジア
クリレート、1,6−ヘキサンジオールジアクリレー
ト、トリエチレングリコールジアクリレート等の化合
物、ジプロピレングリコールジアクリレート、エチレン
グリコールジアクリレート、プロピレングリコールジメ
タクリレート、ジエチレングリコールジメタクリレート
等の多官能性化合物、及び/又は分子中に2個以上のチ
オール基を有するポリチオール化合物、例えばトリメチ
ロールプロパントリチオグリコレート、トリメチロール
プロパントリチオプロピレート、ペンタエリスリトール
テトラチオグリコレート等が挙げられる。
Examples of monomers in the ionizing radiation-curable resin composition include styrene monomers such as styrene and α-methylstyrene, methyl acrylate, and acrylic acid-2-
Acrylic esters such as ethylhexyl, methoxyethyl acrylate, butoxyethyl acrylate, butyl acrylate, methoxybutyl acrylate, phenyl acrylate, methyl methacrylate, ethyl methacrylate, propyl methacrylate, methoxyethyl methacrylate, methacrylic acid Methacrylic esters such as ethoxymethyl, phenyl methacrylate and lauryl methacrylate; 2- (N, N-diethylamino) ethyl acrylate; 2- (N, N-dimethylamino) ethyl acrylate; -2 acrylic acid -(N, N-dibenzylamino) methyl, unsaturated substituted substituted alcoholic esters such as 2- (N, N-diethylamino) propyl acrylate, unsaturated carboxylic acid amides such as acrylamide and methacrylamide, ethylene Guri Diacrylate, propylene glycol diacrylate, neopentyl glycol diacrylate, 1,6-hexanediol diacrylate, triethylene glycol diacrylate, and other compounds, dipropylene glycol diacrylate, ethylene glycol diacrylate, propylene glycol dimethacrylate, diethylene glycol Polyfunctional compounds such as dimethacrylate and / or polythiol compounds having two or more thiol groups in the molecule, such as trimethylolpropane trithioglycolate, trimethylolpropane trithiopropylate, pentaerythritol tetrathioglycolate, etc. Is mentioned.

【0028】通常、電離放射線硬化性樹脂組成物中のモ
ノマーとしては、以上の化合物を必要に応じて、1種若
しくは2種以上を混合して用いるが、電離放射線硬化性
組成物に通常の塗布適性を与えるために、前記のプレポ
リマー又はオリゴマーを5重量%以上、前記モノマー及
び/又はポリチオール化合物を95重量%以下とするの
が好ましい。
Usually, as the monomer in the ionizing radiation-curable resin composition, one or a mixture of two or more of the above compounds is used as necessary. In order to provide suitability, it is preferable that the content of the prepolymer or oligomer is 5% by weight or more and the content of the monomer and / or polythiol compound is 95% by weight or less.

【0029】電離放射線硬化性樹脂組成物を硬化させた
ときのフレキシビリティーが要求されるときは、モノマ
ー量を減らすか、官能基の数が1又は2のアクリレート
モノマーを使用するとよい。電離放射線硬化性樹脂組成
物を硬化させたときの耐摩耗性、耐熱性、耐溶剤性が要
求されるときは、官能基の数が3つ以上のアクリレート
モノマーを使う等、電離放射線硬化性樹脂組成物の設計
が可能である。ここで、官能基が1のものとして、2−
ヒドロキシアクリレート、2−ヘキシルアクリレート、
フェノキシエチルアクリレートが挙げられる。官能基が
2のものとして、エチレングリコールジアクリレート、
1,6−ヘキサンジオールジアクリレートが挙げられ
る。官能基が3以上のものとして、トリメチロールプロ
パントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアク
リレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、
ジペンタエリスリトールヘキサアクレリート等が挙げら
れる。
When flexibility is required when the ionizing radiation-curable resin composition is cured, the amount of the monomer may be reduced or an acrylate monomer having one or two functional groups may be used. When abrasion resistance, heat resistance, and solvent resistance are required when the ionizing radiation-curable resin composition is cured, an ionizing radiation-curable resin such as an acrylate monomer having three or more functional groups is used. Composition design is possible. Here, assuming that the functional group is 1, 2-
Hydroxy acrylate, 2-hexyl acrylate,
Phenoxyethyl acrylate is exemplified. As those having two functional groups, ethylene glycol diacrylate;
1,6-hexanediol diacrylate is exemplified. As those having three or more functional groups, trimethylolpropane triacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate,
And dipentaerythritol hexaacrylate.

【0030】電離放射線硬化性樹脂組成物を硬化させた
ときのフレキシビリティーや表面硬度等の物性を調整す
るため、電離放射線硬化性樹脂組成物に、電離放射線照
射では硬化しない樹脂を添加することもできる。具体的
な樹脂の例としては次のものがある。ポリウレタン樹
脂、セルロース樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、ポリ
エステル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポ
リ酢酸ビニル等の熱可塑性樹脂である。中でも、ポリウ
レタン樹脂、セルロース樹脂、ポリビニルブチラール樹
脂等の添加がフレキシビリティーの向上の点で好まし
い。
In order to adjust physical properties such as flexibility and surface hardness when the ionizing radiation-curable resin composition is cured, a resin which is not cured by ionizing radiation irradiation is added to the ionizing radiation-curable resin composition. Can also. Examples of specific resins include the following. Thermoplastic resins such as polyurethane resin, cellulose resin, polyvinyl butyral resin, polyester resin, acrylic resin, polyvinyl chloride resin, and polyvinyl acetate. Above all, addition of a polyurethane resin, a cellulose resin, a polyvinyl butyral resin or the like is preferable from the viewpoint of improving flexibility.

【0031】電離放射線硬化性樹脂組成物の硬化が紫外
線照射により行われるときは、光重合開始剤や光重合促
進剤を添加する。光重合開始剤としては、ラジカル重合
性不飽和基を有する樹脂系の場合は、アセトフェノン
類、ベンゾフェノン類、チオキサントン類、ベンゾイ
ン、ベンゾインメチルエーテル等を単独又は混合して用
いる。また、カチオン重合性官能基を有する樹脂系の場
合は、光重合開始剤として、芳香族ジアゾニウム塩、芳
香族スルホニウム塩、芳香族ヨードニウム塩、メタセロ
ン化合物、ベンゾインスルホン酸エステル等を単独又は
混合物として用いる。光重合開始剤の添加量は、電離放
射線硬化性樹脂組成物100重量部に対し、0.1〜1
0重量部である。
When the ionizing radiation-curable resin composition is cured by ultraviolet irradiation, a photopolymerization initiator or a photopolymerization accelerator is added. As the photopolymerization initiator, in the case of a resin system having a radically polymerizable unsaturated group, acetophenones, benzophenones, thioxanthones, benzoin, benzoin methyl ether or the like is used alone or as a mixture. In the case of a resin system having a cationically polymerizable functional group, an aromatic diazonium salt, an aromatic sulfonium salt, an aromatic iodonium salt, a metaceron compound, a benzoin sulfonic acid ester, or the like is used alone or as a mixture as a photopolymerization initiator. . The addition amount of the photopolymerization initiator is 0.1 to 1 with respect to 100 parts by weight of the ionizing radiation-curable resin composition.
0 parts by weight.

【0032】電離放射線硬化性樹脂組成物には、次のよ
うな有機反応性ケイ素化合物を併用してもよい。
The following organic reactive silicon compound may be used in combination with the ionizing radiation-curable resin composition.

【0033】有機ケイ素化合物の1は、一般式RmSi
(OR’)nで表せるもので、RおよびR’は炭素数1
〜10のアルキル基を表し、Rの添え字mとR’の添え
字nとは、各々が、m+n=4の関係を満たす整数であ
る。
One of the organosilicon compounds has the general formula R m Si
(OR ') n and R and R' have 1 carbon atom
Represents an alkyl group of 10 to 10, and the suffix m of R and the suffix n of R ′ are each an integer satisfying a relationship of m + n = 4.

【0034】具体的には、テトラメトキシシラン、テト
ラエトキシシラン、テトラ−iso−プロポキシシラ
ン、テトラ−n−プロポキシシラン、テトラ−n−ブト
キシシラン、テトラ−sec−ブトキシシラン、テトラ
−tert−ブトキシシラン、テトラペンタエトキシシ
ラン、テトラペンタ−iso−プロポキシシラン、テト
ラペンタ−n−プロポキシシラン、テトラペンタ−n−
ブトキシシラン、テトラペンタ−sec−ブトキシシラ
ン、テトラペンタ−tert−ブトキシシラン、メチル
トリエトキシシラン、メチルトリプロポキシシラン、メ
チルトリブトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、
ジメチルジエトキシシラン、ジメチルエトキシシラン、
ジメチルメトキシシラン、ジメチルプロポキシシラン、
ジメチルブトキシシラン、メチルジメトキシシラン、メ
チルジエトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン等
が挙げられる。
Specifically, tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetra-iso-propoxysilane, tetra-n-propoxysilane, tetra-n-butoxysilane, tetra-sec-butoxysilane, tetra-tert-butoxysilane , Tetrapentaethoxysilane, tetrapenta-iso-propoxysilane, tetrapenta-n-propoxysilane, tetrapenta-n-
Butoxysilane, tetrapenta-sec-butoxysilane, tetrapenta-tert-butoxysilane, methyltriethoxysilane, methyltripropoxysilane, methyltributoxysilane, dimethyldimethoxysilane,
Dimethyldiethoxysilane, dimethylethoxysilane,
Dimethylmethoxysilane, dimethylpropoxysilane,
Examples include dimethylbutoxysilane, methyldimethoxysilane, methyldiethoxysilane, hexyltrimethoxysilane, and the like.

【0035】電離放射線硬化性樹脂組成物に併用し得る
有機ケイ素化合物の2は、シランカップリング剤であ
る。
The organosilicon compound 2 which can be used in combination with the ionizing radiation-curable resin composition is a silane coupling agent.

【0036】具体的には、γ−(2−アミノエチル)ア
ミノプロピルトリメトキシシラン、γ−(2−アミノエ
チル)アミノプロピルメチルジメトキシシラン、β−
(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキ
シシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ
−メタクリロキシプロピルメトキシシラン、N−β−
(N−ビニルベンジルアミノエチル)−γ−アミノプロ
ピルメトキシシラン・塩酸塩、γ−グリシドキシプロピ
ルトリメトキシシラン、アミノシラン、メチルメトキシ
シラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ−メルカプト
プロピルトリメトキシシラン、γ−クロロプロピルトリ
メトキシシラン、ヘキサメチルジシラザン、ビニルトリ
ス(β−メトキシエトキシ)シラン、オクタデシルジメ
チル[3−(トリメトキシシリル)プロピル]アンモニ
ウムクロライド、メチルトリクロロシラン、ジメチルジ
クロロシラン等が挙げられる。
Specifically, γ- (2-aminoethyl) aminopropyltrimethoxysilane, γ- (2-aminoethyl) aminopropylmethyldimethoxysilane, β-
(3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, γ-aminopropyltriethoxysilane, γ
-Methacryloxypropylmethoxysilane, N-β-
(N-vinylbenzylaminoethyl) -γ-aminopropylmethoxysilane hydrochloride, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, aminosilane, methylmethoxysilane, vinyltriacetoxysilane, γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, γ- Chloropropyltrimethoxysilane, hexamethyldisilazane, vinyltris (β-methoxyethoxy) silane, octadecyldimethyl [3- (trimethoxysilyl) propyl] ammonium chloride, methyltrichlorosilane, dimethyldichlorosilane and the like can be mentioned.

【0037】電離放射線硬化性樹脂組成物に併用し得る
有機ケイ素化合物の3は、電離放射線硬化性ケイ素化合
物である。具体的には、電離放射線の照射によって反応
し架橋する複数の官能基、例えば、重合性二重結合基を
有する分子量5,000以下の有機ケイ素化合物が挙げ
られ、より具体的には、片末端ビニル官能性ポリシラ
ン、両末端ビニル官能性ポリシラン、片末端ビニル官能
ポリシロキサン、両末端ビニル官能ポリシロキサン、又
はこれらの化合物を反応させたビニル官能性ポリシラ
ン、もしくはビニル官能性ポリシロキサン等が挙げられ
る。
The organosilicon compound 3 that can be used in combination with the ionizing radiation-curable resin composition is an ionizing radiation-curable silicon compound. Specific examples include a plurality of functional groups that react and crosslink by irradiation with ionizing radiation, for example, an organosilicon compound having a molecular weight of 5,000 or less and having a polymerizable double bond group, and more specifically, one end. Examples include vinyl-functional polysilanes, vinyl-functional polysilanes at both ends, vinyl-functional polysiloxane at one terminal, vinyl-functional polysiloxane at both terminals, and vinyl-functional polysilane or vinyl-functional polysiloxane obtained by reacting these compounds.

【0038】より具体的には、次のような化合物であ
る。
More specifically, the following compounds are used.

【0039】[0039]

【化1】 Embedded image

【0040】その他、電離放射線硬化性樹脂組成物に併
用し得る有機ケイ素化合物としては、3−(メタ)アク
リロキシプロピルトリメトキシシラン、3−(メタ)ア
クリロキシプロピルメチルジメトキシシラン等の(メ
タ)アクリロキシシラン化合物等が挙げられる。
Other organosilicon compounds that can be used in combination with the ionizing radiation-curable resin composition include (meth) acrylonitrile such as 3- (meth) acryloxypropyltrimethoxysilane and 3- (meth) acryloxypropylmethyldimethoxysilane. Acryloxysilane compounds and the like can be mentioned.

【0041】透明層3の上面に形成する光の波長以下の
ピッチの微細凹凸2の形状としては、図3および図4
(a)に例示するような、断面の上縁の微細凹凸2の形
状が正弦曲線のもの以外にも、図4(b)に示すような
断面の頂部2aが円弧状で、立ち上がり部分2bが直線
状であり、上へ行くほどすぼまった形状のもの、図4
(c)に示すような上側が尖った三角波状のもの、図4
(d)に示すような断面が上すぼまりの台形状のもの等
の種々のバリエーションがあり得る。
The shape of the fine irregularities 2 having a pitch equal to or less than the wavelength of light formed on the upper surface of the transparent layer 3 is shown in FIGS.
In addition to the shape of the fine unevenness 2 at the upper edge of the cross section as exemplified in FIG. 4A, the top 2a of the cross section as shown in FIG. FIG. 4 shows a straight-line shape, with the shape decreasing toward the top.
FIG. 4 shows a triangular wave shape with a sharp upper side as shown in FIG.
There can be various variations, such as a trapezoidal one whose cross section is as shown in FIG.

【0042】微細凹凸の形状としては上記の図3、図4
(a)、図4(b)、図4(c)、および図4(d)に
示すような断面形状のものが好ましく、このような断面
形状のものを使用すると、透明層3の厚み方向の位置に
より、光の屈折率が連続的に変化する性質が付与され
る。特に図3(a)、図4(a)、図4(b)、および
図4(c)に示すような形状のものが空気中に存在する
場合、透明層3の最上部では、透明層3の存在する割合
が限りなく0%に近いので、透明層の屈折率は周囲を取
り巻く物質(通常の生活空間では空気であり、透明層の
屈折率より明らかに低く、その屈折率はほぼ1.0であ
る。)の屈折率と等しく、凹凸の最も下部では、透明層
の存在する割合が限りなく100%に近いので、透明層
3を構成する素材の屈折率と等しく、中間部では、その
高さにおける透明層3の面積率(即ち、そのスライスレ
ベルにおける透明層3の断面積が全体に占める割合)に
比例した屈折率を有し、従って、透明層3は、その厚み
方向に、空気の屈折率から透明層の屈折率の間で連続的
に屈折率が変化する性質を持った反射防止層としての機
能を有する。
FIGS. 3 and 4 show the shapes of the fine irregularities.
4A, 4B, 4C, and 4D are preferable. When such a cross-sectional shape is used, the thickness direction of the transparent layer 3 is reduced. Depending on the position, the property that the refractive index of light changes continuously is imparted. In particular, when the shape shown in FIG. 3A, FIG. 4A, FIG. 4B, and FIG. 4C is present in the air, the transparent layer 3 Since the proportion of 3 present is infinitely close to 0%, the refractive index of the transparent layer is substantially lower than that of the surrounding substance (air in a normal living space, which is clearly lower than that of the transparent layer; .0), and at the lowermost part of the unevenness, the ratio of the transparent layer present is infinitely close to 100%. Therefore, it is equal to the refractive index of the material constituting the transparent layer 3, and in the middle part, The transparent layer 3 has a refractive index proportional to the area ratio of the transparent layer 3 at that height (that is, the ratio of the cross-sectional area of the transparent layer 3 at the slice level to the entire area). The property that the refractive index changes continuously between the refractive index of air and the refractive index of the transparent layer It has a function as an antireflection layer having a.

【0043】また、図3(b)に示す断面形状の微細凹
凸の場合、透明層3の最も上部では、実際には透明層4
が限りなく100%に近いので、微細凹凸2の頂上で
は、透明層4の屈折率を有し、凹凸の最も下部では、前
の例と同様、透明層3を構成する素材の屈折率と等し
く、中間部では、その高さにおける透明層3の面積率と
透明層4の面積率によって屈折率が連続的に変化する性
質を持った反射防止層としての機能を有する。さらに図
4(d)に示すような断面形状の微細凹凸の場合、透明
層3の最も上部では、そこに存在する透明層3の面積率
と、透明層3および空気の屈折率によって決まる屈折率
を有し、凹凸の最も下部では、前の例と同様、透明層3
を構成する素材の屈折率と等しく、中間部では、その高
さにおける透明層3の面積率に比例して屈折率が連続的
に変化する性質を持った反射防止層としての機能を有す
る。図示はしないが、図4(b)、図4(c)、および
図4(d)に示すような形状の凹凸に、図3(b)を引
用して説明したような、屈折率の異なる透明層4を重ね
ても凹凸2を充填してもよい。
In the case of the fine irregularities having a sectional shape shown in FIG. 3B, the uppermost part of the transparent layer 3 is actually the transparent layer 4.
Is as close as possible to 100%, so that the top of the fine irregularities 2 has the refractive index of the transparent layer 4 and the lowest part of the irregularities is equal to the refractive index of the material forming the transparent layer 3 as in the previous example. The intermediate portion has a function as an antireflection layer having a property that the refractive index continuously changes depending on the area ratio of the transparent layer 3 and the area ratio of the transparent layer 4 at that height. Further, in the case of fine irregularities having a cross-sectional shape as shown in FIG. 4D, at the top of the transparent layer 3, the area ratio of the transparent layer 3 existing there and the refractive index determined by the refractive indexes of the transparent layer 3 and air. In the lowermost part of the unevenness, as in the previous example, the transparent layer 3
The intermediate portion has a function as an antireflection layer having a property that the refractive index continuously changes in proportion to the area ratio of the transparent layer 3 at that height. Although not shown, the unevenness having the shape shown in FIGS. 4 (b), 4 (c) and 4 (d) has different refractive indexes as described with reference to FIG. 3 (b). The transparent layer 4 may be stacked or the irregularities 2 may be filled.

【0044】以上の説明からも明らかなように、逆に、
厚み方向の位置と屈折率との要望される関係が与えられ
れば、微細凹凸2の断面形状を設計することが可能であ
る。断面形状によって、屈折率の変化が連続的なもの
も、不連続的なものも、いずれも形成可能であるが、屈
折率が不連続なものは、屈折率の異なる層を重ねて積層
することによっても実現でき、むしろ、本発明における
反射防止フィルムは、屈折率が連続的に変化するものと
して製作してあるものの方が好ましく、かつ、屈折率が
空気の屈折率から透明層3の屈折率のまで連続的に変化
するものがより好ましい。
As is clear from the above description, on the contrary,
Given the desired relationship between the position in the thickness direction and the refractive index, it is possible to design the cross-sectional shape of the fine irregularities 2. Depending on the cross-sectional shape, either a continuous or discontinuous change in the refractive index can be formed, but for a discontinuous refractive index, layers with different refractive indices should be stacked. Rather, it is preferable that the antireflection film of the present invention is manufactured so that the refractive index changes continuously, and the refractive index is changed from the refractive index of air to the refractive index of the transparent layer 3. More preferably, it changes continuously up to.

【0045】これらの断面形状を持つ透明層3を、凹凸
部2のある側から観察するとき、微細凹凸の配列として
は、図5(a)(斜視図である。)中に示す凹部5が平
行に配列したものや、図5(b)もしくは図5(c)に
上方から見た図(同心円は等高線を示す。)で示すよう
に、平面的に並べて配列して形成したものとが有り得
る。いずれのタイプのものも、反射防止性を有するが、
図5(a)に示すような溝状のタイプのものは方向性を
有するために、入射光の方向によって反射率が変わる。
これに対し、図5(b)もしくは図5(c)に示すよう
な凹凸2を二次元に配列した二次元配列の微細凹凸を有
するものは、方向性が事実上無く、好ましい。勿論、図
5(b)もしくは図5(c)に示すような、凹凸2を二
次元に配列したものの凸部の形状を、(この図のものは
凸部が円形であるが、)楕円形にして方向性を持たせる
こともできる。
When observing the transparent layer 3 having such a cross-sectional shape from the side having the concave-convex portions 2, the concave-convex portion 5 shown in FIG. As shown in FIG. 5 (b) or FIG. 5 (c) as viewed from above (concentric circles indicate contour lines), there may be ones arranged in a plane and arranged in parallel. . Both types have anti-reflective properties,
Since the groove type shown in FIG. 5A has directionality, the reflectance changes depending on the direction of incident light.
On the other hand, those having fine unevenness in a two-dimensional array in which the unevenness 2 is two-dimensionally arranged as shown in FIG. 5B or FIG. 5C are preferable because they have virtually no directionality. Of course, as shown in FIG. 5 (b) or FIG. 5 (c), the shape of the projections of the two-dimensionally arranged irregularities 2 is changed to an elliptical shape (in this figure, the projections are circular). Can be given a direction.

【0046】凹凸部2の形状自体には種々のものがあり
得るが、断面形状に表れる凹凸の波のピッチ(=周期)
は、光の波長以下の微細なものである必要があり、ピッ
チとしては、300nm以下が好ましい。型の精度や、
製品における型の再現性を考慮すると、ピッチとして
は、100nm以上であることが好ましいが、下限は特
になく、もっと細かくてもよい。凹凸部2は高低差が大
きい方が、反射率が低くなり、反射防止効果があるた
め、高低差が100nm以上であることが好ましい。上
限は特に無いが、通常のピッチである200nm〜30
0nmを想定すると、ピッチの値の50%〜200%程
度であることが好ましく、100nm〜600nm程度
である。勿論、これらの範囲を外れるものもあり得る。
Although the shape of the uneven portion 2 itself can be various, the pitch (= period) of the wave of the unevenness appearing in the sectional shape
Must be finer than the wavelength of light, and the pitch is preferably 300 nm or less. The accuracy of the type,
In consideration of the reproducibility of the mold in the product, the pitch is preferably 100 nm or more, but there is no particular lower limit, and the pitch may be finer. It is preferable that the height difference is 100 nm or more, because the unevenness portion 2 has a larger difference in height and has a lower reflectance and an antireflection effect. There is no particular upper limit, but a normal pitch of 200 nm to 30
Assuming 0 nm, the pitch value is preferably about 50% to 200%, and more preferably about 100 nm to 600 nm. Of course, some may fall outside these ranges.

【0047】電離放射線硬化性樹脂組成物を用いて、透
明層3の上面に微細凹凸からなる凹凸部を形成するに
は、例えば、透明層3を塗布形成する際に、凹凸を有す
る型付け用フィルムで塗膜を被覆したまま硬化させる
か、形成された塗膜に型付け用ロール等の型付け手段
を、必要に応じて加熱しつつ押し付けて行なうか、ある
いは、剥離面に凹凸を有する剥離性基材上に塗布形成し
て透明層3を転写し得る転写フィルムを作成し、その転
写フィルムを用いて転写する等の方法が採れる。
In order to form an uneven portion composed of fine unevenness on the upper surface of the transparent layer 3 using the ionizing radiation-curable resin composition, for example, when forming the transparent layer 3, a molding film having unevenness Cured while the coating film is coated with, or by applying a molding means such as a molding roll to the formed coating film while heating, if necessary, or a releasable substrate having irregularities on the release surface For example, a method of preparing a transfer film capable of transferring the transparent layer 3 by coating and forming the same thereon, and performing transfer using the transfer film may be employed.

【0048】より好ましい形成方法は次の通りである。
まず、適当な基材に感光性樹脂を積層したものを準備
し、これにレーザー光干渉法により露光を行なう。感光
性樹脂としては、一般的なものに加え、レリーフホログ
ラム製造用として市販されているフィルム付きの感光材
を利用することができ、手法自体もホログラムの製造方
法として、よく行なわれていて、安定な手法である。露
光は、レーザー光を2ないしそれ以上に分割して干渉さ
せることによって行ない、ピッチが光の波長以下の硬化
部と未硬化部とを得る。露光後、感光性樹脂の種類に応
じた現像法、通常は特定の溶剤による未硬化部分の除去
により、現像を行なって、ピッチが光の波長以下の無数
の微細凹凸が形成された凹凸型面を有する原型を得る。
この他、レーザー光干渉法以外の手法で、ピッチが光の
波長以下の無数の微細凹凸が形成された凹凸型面を有す
る原型を得るには、サンドブラスト法がある。また、フ
ォトマスク製作における電子ビームエッチングを、適宜
な基板上に行なうこと、例えば、ガラス基板、もしくは
表面に金属層を形成したガラス基板上の金属層等に行な
うことによっても、ピッチが光の波長以下の無数の微細
凹凸が形成された凹凸型面を有する原型を得ることがで
きる。
A more preferable forming method is as follows.
First, a material obtained by laminating a photosensitive resin on an appropriate base material is prepared, and this is exposed by a laser light interference method. As the photosensitive resin, in addition to a general resin, a photosensitive material with a film which is commercially available for the production of a relief hologram can be used. It is an effective method. Exposure is performed by splitting the laser beam into two or more beams and causing interference, to obtain a cured portion and an uncured portion having a pitch equal to or less than the wavelength of the light. After exposure, a development method according to the type of the photosensitive resin, usually by removing uncured portions with a specific solvent, development is performed, and a pitch-shaped uneven surface with a myriad of fine irregularities whose pitch is equal to or less than the wavelength of light is formed. To obtain a prototype having
In addition, there is a sandblasting method for obtaining a prototype having an uneven surface with a myriad of fine irregularities having a pitch equal to or less than the wavelength of light by a method other than the laser light interference method. Also, by performing electron beam etching in photomask production on an appropriate substrate, for example, on a glass substrate or a metal layer on a glass substrate having a metal layer formed on the surface, the pitch can be adjusted to the wavelength of light. A prototype having an uneven mold surface on which the following innumerable fine irregularities are formed can be obtained.

【0049】得られた原型は、凹凸を形成しやすくする
ために、比較的分子量の小さい高分子からなっているた
め、溶剤に対する耐久性も不十分であり、また、もろい
ため、この原型を何度も使用して複製を行なうことは、
必ずしも好ましくない。そこで、原型にニッケル等の金
属でめっきを行なって、第1の金属製の型を形成し、こ
の第1の金属製の型を使用するか、または第1の金属製
の型にめっきを行なって、第2の金属製の型を幾つか形
成し、得られた第2の金属製の型を使用して複製を行な
う事が好ましい。なお、これら金属製の型を金属製スタ
ンパーと言うことが多い。
The resulting prototype is made of a polymer having a relatively small molecular weight in order to facilitate the formation of irregularities, so that it has insufficient durability against solvents and is brittle. Doing duplication using
Not always preferred. Therefore, the first mold is plated with a metal such as nickel to form a first metal mold, and the first metal mold is used, or the first metal mold is plated. Then, it is preferable to form several second metal molds and use the obtained second metal mold to perform duplication. Note that these metal molds are often referred to as metal stampers.

【0050】より好ましくは、このようにして得られた
型面の形状をロール面に形成し、必要に応じて、殖版
(同一版面上に多面付けにすること)して得られる型ロ
ールや型面の形状をロールの面長方向および円周方向
に、連続的に形成した型ロールを使用するとよい。
More preferably, the shape of the mold surface obtained in this way is formed on a roll surface, and if necessary, a mold roll obtained by multiplying the plate (by applying multiple surfaces on the same plate surface), It is preferable to use a mold roll in which the shape of the mold surface is continuously formed in the surface length direction and the circumferential direction of the roll.

【0051】なお、型面の形状を複製する際に、原型と
第2の金属製の型とは同形状であり、原型と第1の金属
製の型とは互いに逆型形状の関係となる。また反射防止
フィルムの微細凹凸の形状と、それを製造するための型
上の型面の微細凹凸の形状とは逆型形状となる。従っ
て、反射防止フィルムとして欲しい形状が得られるよ
う、必要なら更に、めっきによる金属型の形成を加え
て、微細凹凸の形状を逆転させるとよい。ただし、微細
凹凸の断面形状が正弦曲線のように、元の型形状と逆型
形状との間で違いがない場合もある。以下の説明で用い
る型の型面の微細凹凸形状としては、上記のような例外
を除き、反射防止フィルムに、得たい微細凹凸形状が得
られるよう、逆型形状に形成されているものとする。
When duplicating the shape of the mold surface, the original mold and the second metal mold have the same shape, and the original mold and the first metal mold have an inverse relationship to each other. . Further, the shape of the fine irregularities of the antireflection film and the shape of the fine irregularities of the mold surface on the mold for manufacturing the antireflection film are reversed. Therefore, in order to obtain a desired shape as an anti-reflection film, it is preferable to further form a metal mold by plating to reverse the shape of the fine unevenness, if necessary. However, there are cases where there is no difference between the original mold shape and the inverse mold shape, such as a sinusoidal cross section of the fine unevenness. Except for the above exceptions, the anti-reflection film, as the fine irregularities on the mold surface of the mold used in the following description, is assumed to be formed in an inverted mold so that the desired fine irregularities can be obtained. .

【0052】図6は、型ローラを用いて、反射防止フィ
ルム105を連続的に製造するための装置10を使用し
て製造する様子を示すものである。図6において、透明
基材フィルム1は、図中向かって左側上方より巻き出さ
れ、ニップローラ11aと型ローラ12の間に導かれ、
型ローラ12の上側を半周した後、ニップローラ11b
との間を通過して、向かって右側方向に排出される。型
ローラ12は型ローラ12内に矢印で示す時計回り方向
に回転するよう駆動されており、ニップローラ11a、
および11bは、型ローラの回転に合わせて連れまわり
(いずれも回転方向はローラ内に矢印で示す。)するよ
う構成されている。また、透明基材フィルム1の巻き出
し側にはブレーキが設置され、排出側に設置された巻き
上げモータとにより、走行時の張力の調整が可能であ
る。また、両ニップローラ11a、および11bの間で
は、張力が一定に保たれている。
FIG. 6 shows a state in which the antireflection film 105 is manufactured by using the apparatus 10 for continuously manufacturing the antireflection film 105 by using a mold roller. In FIG. 6, the transparent substrate film 1 is unwound from the upper left side in the figure, and is guided between the nip roller 11a and the mold roller 12,
After making a half turn around the upper side of the mold roller 12, the nip roller 11b
And is discharged in the right direction. The mold roller 12 is driven so as to rotate in the clockwise direction indicated by an arrow in the mold roller 12, and the nip roller 11a,
And 11b are configured to rotate together with the rotation of the mold roller (the direction of rotation is indicated by an arrow in the roller). Further, a brake is installed on the unwinding side of the transparent base material film 1, and the tension during running can be adjusted by a winding motor installed on the discharge side. The tension between the nip rollers 11a and 11b is kept constant.

【0053】型ローラ12の真下には、ダイヘッド13
が設置されており、ダイヘッド13は内部に液溜め1
4、上方にスリット15を有し、パイプ16を経由し
て、外部より電離放射線硬化性樹脂組成物17が供給さ
れるよう構成されている。スリット15からは透明基材
フィルム1の走行に合わせて、必要量の電離放射線硬化
性樹脂組成物17が上方に押出され、型ローラ表面に塗
付され、型ローラ12の凹部12a内にも電離放射線硬
化性樹脂組成物17が充填され、ニップローラ11aと
型ローラとの間を通るときに、塗付量が規制される。
Immediately below the mold roller 12, a die head 13 is provided.
The die head 13 has a liquid reservoir 1 inside.
4. It has a slit 15 above and is configured to be supplied with an ionizing radiation-curable resin composition 17 from the outside via a pipe 16. A required amount of the ionizing radiation-curable resin composition 17 is extruded upward from the slit 15 in accordance with the travel of the transparent base film 1, applied to the surface of the mold roller, and ionized into the concave portion 12 a of the mold roller 12. When the radiation-curable resin composition 17 is filled and passes between the nip roller 11a and the mold roller, the amount of application is regulated.

【0054】型ローラ12の上方には、電離放射線照射
装置18が設置されており、照射装置18の下を通る際
に電離放射線が照射され、透明基材フィルム1上の電離
放射線硬化性樹脂組成物が架橋硬化し、透明層3と透明
基材フィルム1とが接着する。この後、ローラ11bに
より、型ローラより離型して硬化した透明層3を透明基
材フィルム1に有する反射防止フィルム105を巻き取
る。
Above the mold roller 12, an ionizing radiation irradiating device 18 is installed. When the ionizing radiation irradiates when passing under the irradiating device 18, the ionizing radiation curable resin composition on the transparent substrate film 1 is formed. The object is cross-linked and cured, and the transparent layer 3 and the transparent substrate film 1 adhere to each other. Thereafter, the antireflection film 105 having the transparent layer 3 which has been released from the mold roller and cured and is provided on the transparent base material film 1 is wound by the roller 11b.

【0055】なお、透明基材フィルム1をラミネートす
るときは、型ローラ12の表面の凹部12aが少なくと
も埋まっており、埋めた電離放射線硬化性樹脂組成物の
露出面に透明基材フィルムが接していれば足りるが、透
明基材フィルムを使用しないときは、電離放射線硬化性
樹脂組成物が型面上で連続した皮膜を生成するよう、十
分な量の電離放射線硬化性樹脂組成物を適用するとよ
い。なお、図示の例では型ローラ12に電離放射線硬化
性樹脂組成物を適用するようにしており、この方が好ま
しいが、ラミネート時の気泡の抱き込みを防止できるの
なら、電離放射線硬化性樹脂組成物を、透明基材フィル
ム1側に適用した後、型ローラ12に接触させてもよ
い。
When the transparent substrate film 1 is laminated, at least the concave portion 12a on the surface of the mold roller 12 is filled, and the transparent substrate film is in contact with the exposed surface of the filled ionizing radiation-curable resin composition. Sufficient, when not using a transparent substrate film, it is good to apply a sufficient amount of the ionizing radiation-curable resin composition so that the ionizing radiation-curable resin composition forms a continuous film on the mold surface. . In the example shown in the figure, the ionizing radiation-curable resin composition is applied to the mold roller 12, and this is more preferable. However, if it is possible to prevent air bubbles from being trapped during lamination, the ionizing radiation-curable resin composition may be used. May be applied to the transparent substrate film 1 side and then contact the mold roller 12.

【0056】型ローラ12の表面に電離放射線硬化性樹
脂組成物を塗布した後、必要ならドクタリングを施して
もよい。上記において、電離放射線としては、通常、紫
外線、もしくは電子線を用いるが、これら以外であって
もよい。また、照射する場所は上方の一個所に限定する
ことはなく、塗付直後から、ニップローラ11bを通過
するまでの任意の位置に所望の個数の電離放射線照射装
置を設置して照射を行なってよい。また、型ローラ12
の周囲で、充分な場所が確保できない場合には、ニップ
ローラ11bを出た後の位置に更に電離放射線照射装置
を設置して照射を行なってもよい。
After the ionizing radiation-curable resin composition is applied to the surface of the mold roller 12, doctoring may be performed if necessary. In the above, as the ionizing radiation, ultraviolet rays or electron beams are usually used, but other than these may be used. Further, the irradiation position is not limited to the upper one position, and irradiation may be performed by installing a desired number of ionizing radiation irradiation devices at an arbitrary position immediately after the application and before passing through the nip roller 11b. . Also, the mold roller 12
If a sufficient place cannot be secured around the nip roller 11b, irradiation may be performed by further installing an ionizing radiation irradiation device at a position after exiting the nip roller 11b.

【0057】電離放射線照射により、電離放射線硬化性
樹脂組成物17が硬化するとともに、透明基材フィルム
1との間の接着力が生じるので、その後、透明基材フィ
ルム1ごと剥離することにより、透明基材フィルム1上
に硬化した電離放射線硬化性樹脂組成物からなる透明層
3が積層しており、かつ透明層3の表面に、型面の微細
凹凸形状が反映した微細凹凸を有する反射防止フィルム
が得られる。
The irradiation of ionizing radiation cures the ionizing radiation-curable resin composition 17 and produces an adhesive force between the resin composition 17 and the transparent substrate film 1. An antireflection film having a transparent layer 3 made of a cured ionizing radiation-curable resin composition laminated on a base film 1 and having fine irregularities on the surface of the transparent layer 3 reflecting the fine irregularities on the mold surface. Is obtained.

【0058】なお、透明基材フィルムを伴なわない反射
防止フィルムを得るには、透明基材フィルムのラミネー
トを省いて行なう方法もあるが、透明基材フィルム1の
電離放射線硬化性樹脂組成物を適用する側の表面に剥離
性を与えておき、型面から透明層を剥離すると同時に透
明基材フィルム1を分離してしまうか、あるいは先に透
明基材フィルム1のみ剥離した後に透明層3を剥離する
か、もしくは共に剥離した後に透明基材フィルム1を剥
離することによっても、透明基材フィルム1を伴なわな
い反射防止フィルムとすることができる。透明基材フィ
ルム1を工程中に使用した方が、透明層3の厚みの規制
がしやすく、空中の塵埃の影響も回避できるので好まし
い。
In order to obtain an antireflection film without a transparent substrate film, there is a method in which the lamination of the transparent substrate film is omitted, but the ionizing radiation-curable resin composition of the transparent substrate film 1 is used. The surface on the side to be applied is provided with releasability, and the transparent layer is separated from the mold surface and the transparent substrate film 1 is separated at the same time, or the transparent layer 3 is removed after only the transparent substrate film 1 is removed first. The antireflection film without the transparent substrate film 1 can also be obtained by peeling or by peeling the transparent substrate film 1 after peeling them together. It is preferable to use the transparent substrate film 1 during the process because the thickness of the transparent layer 3 can be easily regulated and the influence of dust in the air can be avoided.

【0059】反射防止フィルム105は、微細凹凸2が
表面に露出したままでも、充分効果を発揮するが、不用
意な接触による傷付きや汚染を防止する意味で、透明層
3よりも光の屈折率が低い樹脂組成物からなる低屈折率
層4を微細凹凸2上に積層しておくことが好ましい。
The anti-reflection film 105 exhibits a sufficient effect even when the fine irregularities 2 are exposed on the surface, but is more refracted than the transparent layer 3 in terms of preventing damage and contamination due to careless contact. It is preferable that a low refractive index layer 4 made of a resin composition having a low refractive index is laminated on the fine unevenness 2.

【0060】低屈折率層4をフッ素系樹脂もしくはシリ
コーン系樹脂の素材で形成すると、いずれも光の屈折率
が1.3〜1.4であるため、電離放射線硬化性樹脂組
成物の硬化物からなる透明層3の一般的な屈折率(アク
リレート系の樹脂組成物の硬化物であり、光の屈折率は
1.5以上である。)よりも低いので好ましく、なお、
これら素材の水との接触角が100度以上あるため、防
汚性も有していて好ましい。上記のフッ素系樹脂もしく
はシリコーン系樹脂等の使用によって、低屈折率層4に
特別の機能を持たせる必要性が低いときは、下層の透明
層3との接着を考慮して選択したフッ素系樹脂・シリコ
ーン系樹脂以外の熱可塑性樹脂を用いて低屈折率層4を
構成してもよい。
When the low refractive index layer 4 is formed of a fluorine resin or silicone resin material, the cured product of the ionizing radiation-curable resin composition has a refractive index of 1.3 to 1.4 in all cases. Is preferable since it is lower than the general refractive index of the transparent layer 3 (which is a cured product of an acrylate resin composition and the refractive index of light is 1.5 or more).
Since these materials have a contact angle with water of 100 degrees or more, they also have antifouling properties and are therefore preferable. When it is not necessary to provide the low refractive index layer 4 with a special function by using the above-mentioned fluororesin or silicone resin, the fluororesin selected in consideration of adhesion to the lower transparent layer 3 The low-refractive-index layer 4 may be made of a thermoplastic resin other than the silicone resin.

【0061】これらの素材は、蒸着等の乾式工程、もし
くは通常のコーティングのような湿式工程のいずれによ
って形成してもよい。あるいは、透明層3に微細凹凸を
与えるための型面に予め塗付しておき、その上から電離
放射線硬化性樹脂組成物を適用することにより、積層す
る方法も採れる。または、上記のフッ素系樹脂もしくは
シリコーン系樹脂を、透明層3を形成するための電離放
射線硬化性樹脂組成物と混合して、透明層3を形成する
際に、これらフッ素系樹脂もしくはシリコーン系樹脂を
ブリードアウトさせることによってよい。
These materials may be formed by either a dry process such as vapor deposition or a wet process such as ordinary coating. Alternatively, a method in which the transparent layer 3 is preliminarily applied to a mold surface for providing fine irregularities, and an ionizing radiation-curable resin composition is applied thereon, and a method of laminating the transparent layer 3 may be employed. Alternatively, when the above-mentioned fluorine-based resin or silicone-based resin is mixed with an ionizing radiation-curable resin composition for forming the transparent layer 3 to form the transparent layer 3, Bleed out.

【0062】反射防止フィルム105は、上記の構成に
加えて、使用時の塵埃の付着を防止するための帯電防止
処理や、反射防止フィルムを適用する際の便を考慮し
て、微細凹凸2を有するのとは反対側に粘着加工を施す
等を行なってもよい。
The anti-reflection film 105 has, in addition to the above-described structure, an antistatic treatment for preventing dust from adhering at the time of use, and fine irregularities 2 in consideration of convenience when applying the anti-reflection film. For example, an adhesive process may be performed on the side opposite to the side having the adhesive.

【0063】帯電防止処理は、具体的には帯電防止剤や
導電性微粒子を適用することにより行なえ、透明層3や
表面層4をコーティングにより形成する際には、用いる
塗料組成物中に混合して適用するとよい。あるいは、帯
電防止処理は、帯電防止剤単体を透明層3上に塗付する
ことによって行なってもよい。透明層3の下層に、もし
くは透明基材フィルム1を伴なうときは、基材フィルム
1と透明層3との間に、導電性微粒子を含んだ塗料組成
物を用いて形成した導電性層もしくは金属酸化物薄膜を
形成することにより、帯電防止処理を行なってもよい。
The antistatic treatment can be specifically performed by applying an antistatic agent or conductive fine particles. When the transparent layer 3 or the surface layer 4 is formed by coating, it is mixed with a coating composition to be used. It is good to apply. Alternatively, the antistatic treatment may be performed by applying an antistatic agent alone on the transparent layer 3. A conductive layer formed using a coating composition containing conductive fine particles between the base film 1 and the transparent layer 3 when the transparent layer 3 is provided below or with the transparent base film 1 Alternatively, an antistatic treatment may be performed by forming a metal oxide thin film.

【0064】粘着加工は、ポリアクリル酸エステルやゴ
ム系の粘着剤を直接塗付してもよいが、通常は、離型紙
に粘着剤を塗付したものをラミネートすることによって
適用し、離型紙は、粘着剤が露出して不用意に接着した
り、塵埃が付着するのを防止する意味で、使用するまで
の間、貼ったままにしておくとよい。粘着剤層の厚みと
しては、20〜40μm程度が好ましい。
The adhesive processing may be carried out by directly applying a polyacrylic acid ester or a rubber-based adhesive. However, it is usually applied by laminating a release paper coated with an adhesive and releasing the release paper. In order to prevent the adhesive from being exposed and inadvertently adhering or dust from adhering, it is preferable to keep the sticker until it is used. The thickness of the pressure-sensitive adhesive layer is preferably about 20 to 40 μm.

【0065】本発明において、フロントライト装置に反
射防止フィルム105を適用するには、いずれも、反射
防止フィルムの透明基材フィルム1側と導光板102の
裏面側とを接着剤層を介して積層する、いわゆるラミネ
ート法がある。接着剤層は、積層時に、いずれかもしく
は両方に適用するか、または、予め、反射防止フィルム
105の透明基材フィルム1の露出面側に適用しておく
とよい。
In the present invention, in order to apply the anti-reflection film 105 to the front light device, in any case, the transparent base film 1 side of the anti-reflection film and the back surface side of the light guide plate 102 are laminated via an adhesive layer. There is a so-called lamination method. The adhesive layer may be applied to one or both at the time of lamination, or may be applied in advance to the exposed surface side of the transparent base film 1 of the antireflection film 105.

【0066】フロントライト装置に反射防止フィルム1
05を適用するには、導光板102を製造する過程で、
反射防止フィルム105を適用するか、もしくは凹凸部
2を有する透明層3のみを適用する方法がある。
The anti-reflection film 1 was added to the front light device.
To apply No. 05, in the process of manufacturing the light guide plate 102,
There is a method in which the antireflection film 105 is applied, or only the transparent layer 3 having the uneven portions 2 is applied.

【0067】導光板102が、アクリル樹脂等の注型重
合で製造される場合には、導光板102を製作するため
の型内部に、凹凸部2を得るための型形状を形成してお
き、そのような型を使用して、注型重合を行なうことに
より、凹凸部2が形成され、この場合、凹凸部2と導光
板105とは、素材が同じで、素材的には連続したもの
が得られる。
When the light guide plate 102 is manufactured by casting polymerization of an acrylic resin or the like, a mold shape for obtaining the concavo-convex portion 2 is formed inside a mold for manufacturing the light guide plate 102. By performing casting polymerization using such a mold, the uneven portion 2 is formed. In this case, the uneven portion 2 and the light guide plate 105 are made of the same material, and the material is continuous. can get.

【0068】導光板102が、射出成形で製造される場
合には、金型内に反射防止フィルムをセットしておき、
射出の際の熱と圧力を利用して、積層させることができ
る。また、導光板102が、熱プレスにより製造される
場合には、素材のいずれか適当な側に反射防止フィルム
をセットして、熱プレスと同時に積層することができ
る。なお、以上の説明においては、反射防止層もしくは
反射防止フィルムを導光板の非観察側に適用することに
ついて説明した。これはフロントライト装置を用いる場
合に、映像の輝度を向上させるポイントだからである
が、導光板の観察側も室内照明や太陽光等の外光を反射
して、映像のコントラストを損なうことがあるため、上
記のような反射防止層もしくは反射防止フィルムは、導
光板の観察側にも適用でき、導光板の観察側、もしくは
非観察側の片方に適用し、片方の側のみに適用するとき
は、他方の側には反射防止の手段を講じる場合と講じな
い場合とがあり得る。
When the light guide plate 102 is manufactured by injection molding, an anti-reflection film is set in a mold,
Lamination can be performed using heat and pressure at the time of injection. When the light guide plate 102 is manufactured by hot pressing, an anti-reflection film can be set on any appropriate side of the material and can be laminated simultaneously with hot pressing. In the above description, the application of the antireflection layer or the antireflection film to the non-observation side of the light guide plate has been described. This is because when using a front light device, it is a point to improve the brightness of the image.However, the observation side of the light guide plate may also reflect external light such as indoor lighting or sunlight, and may impair the contrast of the image. Therefore, the anti-reflection layer or the anti-reflection film as described above can also be applied to the observation side of the light guide plate, applied to one of the observation side of the light guide plate, or the non-observation side, when applied to only one side On the other side, there may be a case where anti-reflection means is taken and a case where no anti-reflection means is taken.

【0069】[0069]

【発明の効果】請求項1の発明によれば、フロントライ
ト装置の非観察側に、厚み方向に光の屈折率が変化する
反射防止層が積層されているので、非観察側に入射する
光の反射を有効に抑制でき、観察側から眺めたときの映
像の輝度が向上し、しかも、反射防止層は微細凹凸から
なるので、反射防止機能を向上させたことによる厚みの
増加を抑制することが可能な、反射防止性能を有するフ
ロントライト装置を提供することができる。請求項2の
発明によれば、請求項1の発明の効果に加え、反射防止
層が透明基材フィルムに積層された反射防止フィルムの
形態を有しているので、反射防止層の製作、装置への適
用がが容易に行なえる、反射防止性能を有するフロント
ライト装置を提供することができる。請求項3の発明に
よれば、請求項1または請求項2の発明の効果に加え、
反射防止層が接着剤層を介して積層されているので、導
光板への反射防止層の積層が全面に渡って安定な、反射
防止性能を有するフロントライト装置を提供することが
できる。請求項4の発明によれば、ホログラムの製造時
に安定的に使用されている手法を利用でき、微細凹凸の
量産が容易な、反射防止性能を有するフロントライト装
置を提供することができる。請求項5の発明によれば、
フォトマスクの形成等に安定的に使用されている手法を
利用でき、微細凹凸の量産が容易な、反射防止性能を有
するフロントライト装置を提供することができる。請求
項6の発明によれば、請求項1〜5いずれかの発明の効
果を備えたフロントライト装置を有するディスプレイ装
置を提供することができる。請求項7の発明によれば、
請求項6の発明の効果を備えた液晶ディスプレイ装置を
提供することができる。
According to the first aspect of the present invention, the anti-reflection layer whose refractive index changes in the thickness direction is laminated on the non-observation side of the front light device. Reflection can be effectively suppressed, the brightness of the image when viewed from the observation side is improved, and the anti-reflection layer is made up of fine irregularities, so the increase in thickness due to the improved anti-reflection function is suppressed. It is possible to provide a front light device having anti-reflection performance, which is capable of performing the above. According to the invention of claim 2, in addition to the effect of the invention of claim 1, since the anti-reflection layer has the form of an anti-reflection film laminated on a transparent substrate film, the production and the apparatus of the anti-reflection layer It is possible to provide a front light device having an anti-reflection performance, which can be easily applied to a front light device. According to the invention of claim 3, in addition to the effect of the invention of claim 1 or claim 2,
Since the anti-reflection layer is laminated via the adhesive layer, it is possible to provide a front light device having anti-reflection performance in which the lamination of the anti-reflection layer on the light guide plate is stable over the entire surface. According to the fourth aspect of the present invention, it is possible to provide a front light device having antireflection performance, which can utilize a method which is stably used at the time of manufacturing a hologram and can easily mass-produce fine irregularities. According to the invention of claim 5,
It is possible to provide a front light device having antireflection performance, which can utilize a method which is stably used for forming a photomask or the like and which can easily mass-produce fine irregularities. According to the invention of claim 6, it is possible to provide a display device having a front light device having the effect of any one of claims 1 to 5. According to the invention of claim 7,
A liquid crystal display device having the effects of the invention of claim 6 can be provided.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】フロントライト型液晶ディスプレイの従来例を
示す図である。
FIG. 1 is a diagram showing a conventional example of a front light type liquid crystal display.

【図2】本発明のフロントライト型液晶ディスプレイを
示す図である。
FIG. 2 is a diagram showing a front light type liquid crystal display of the present invention.

【図3】反射防止フィルムの凹凸の形状を示す図であ
る。
FIG. 3 is a view showing the shape of unevenness of an antireflection film.

【図4】別の反射防止フィルムの凹凸の形状を示す図で
ある。
FIG. 4 is a view showing the shape of unevenness of another antireflection film.

【図5】凹凸の配置を示す図である。FIG. 5 is a diagram showing an arrangement of irregularities.

【図6】微細凹凸の製造方法を示す図である。FIG. 6 is a diagram showing a method for producing fine irregularities.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

100 液晶ディスプレイ 101 光源部(101a;光源、101b;リフレ
クター) 102 導光板 103 液晶表示部 104 反射板 105 反射防止フィルム 1 透明基材フィルム 2 凹凸部 3 透明層 4 表面層 11 ニップロール 12 型ロール 13 ダイヘッド 14 液溜め 15 スリット 16 パイプ 17 電離放射線硬化性樹脂組成物 18 電離放射線照射装置
DESCRIPTION OF SYMBOLS 100 Liquid crystal display 101 Light source part (101a; light source, 101b; reflector) 102 Light guide plate 103 Liquid crystal display part 104 Reflector 105 Antireflection film 1 Transparent base film 2 Uneven part 3 Transparent layer 4 Surface layer 11 Nip roll 12 Type roll 13 Die head 14 Reservoir 15 Slit 16 Pipe 17 Ionizing radiation curable resin composition 18 Ionizing radiation irradiation device

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) G09F 9/00 336 G09F 9/00 336B Fターム(参考) 2H042 BA03 BA12 BA20 CA12 2H091 FA14X FA23X FA31X FA37X FA41X FB02 FC19 FC25 FD06 LA30 5G435 AA03 AA18 BB12 BB16 EE22 FF08 GG24 HH02 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification code FI Theme coat ゛ (Reference) G09F 9/00 336 G09F 9/00 336B F term (Reference) 2H042 BA03 BA12 BA20 CA12 2H091 FA14X FA23X FA31X FA37X FA41X FB02 FC19 FC25 FD06 LA30 5G435 AA03 AA18 BB12 BB16 EE22 FF08 GG24 HH02

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 透明な導光板と前記導光板の端面に配置
されて、前記導光板内に光を入射する光源部とからな
り、前記導光板は観察側が一様な傾斜を有しているか、
もしくは各稜線が平行なプリズムアレイが形成されてい
ることにより、前記導光板内に入射された光を非観察側
に反射して出射するよう構成されており、かつ、前記導
光板の非観察側には、透明性素材で形成され、光の波長
以下のピッチの無数の微細凹凸からなり、厚み方向に光
の屈折率が変化する反射防止層が積層されたことを特徴
とする反射防止性能を有するフロントライト装置。
1. A light guide plate, comprising: a transparent light guide plate; and a light source unit disposed on an end face of the light guide plate and configured to allow light to enter the light guide plate, wherein the light guide plate has a uniform inclination on the observation side. ,
Alternatively, by forming a prism array in which each ridge line is parallel, the light incident on the light guide plate is configured to be reflected and emitted to the non-observation side, and the non-observation side of the light guide plate is configured. The anti-reflection performance is characterized by being laminated with an anti-reflection layer formed of a transparent material, consisting of countless fine irregularities with a pitch equal to or less than the wavelength of light, and changing the refractive index of light in the thickness direction. Having a front light device.
【請求項2】 透明性フィルムの片側に、前記微細凹凸
からなる反射防止層が積層された反射防止フィルムが、
前記透明性フィルム側が前記導光板側を向いて、前記導
光板に積層されることにより微細凹凸が形成されたこと
を特徴とする請求項1記載の反射防止性能を有するフロ
ントライト装置。
2. An antireflection film in which an antireflection layer comprising the fine irregularities is laminated on one side of a transparent film,
The front light device having antireflection performance according to claim 1, wherein the transparent film side faces the light guide plate side, and fine irregularities are formed by being laminated on the light guide plate.
【請求項3】 前記反射防止層は、前記導光板に接着剤
層を介して積層されていることを特徴とする請求項1ま
たは請求項2記載の反射防止性能を有するフロントライ
ト装置。
3. The front light device having antireflection performance according to claim 1, wherein the antireflection layer is laminated on the light guide plate via an adhesive layer.
【請求項4】 前記微細凹凸は、感光性樹脂にレーザー
光干渉法により微細凹凸を形成した型を利用して作られ
たものであることを特徴とする請求項1〜請求項3いず
れか記載の反射防止性能を有するフロントライト装置。
4. The method according to claim 1, wherein the fine irregularities are formed using a mold in which fine irregularities are formed on a photosensitive resin by a laser light interference method. Front light device with anti-reflection performance.
【請求項5】 前記微細凹凸は、ガラス基板、もしくは
表面に金属層を形成したガラス基板上の金属層に、電子
ビームエッチング法により微細凹凸を形成した型を利用
して作られたものであることを特徴とする請求項1〜請
求項3いずれか記載の反射防止性能を有するフロントラ
イト装置。
5. The fine irregularities are formed by using a mold in which fine irregularities are formed on a glass substrate or a metal layer on a glass substrate having a metal layer formed on the surface by an electron beam etching method. The front light device having anti-reflection performance according to any one of claims 1 to 3.
【請求項6】 請求項1〜請求項5いずれかの発明のフ
ロントライト装置を表示部の前面に配置したことを特徴
とするディスプレイ装置。
6. A display device, wherein the front light device according to any one of claims 1 to 5 is arranged on a front surface of a display unit.
【請求項7】 表示部が液晶表示部である請求項6記載
のディスプレイ装置。
7. The display device according to claim 6, wherein the display unit is a liquid crystal display unit.
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Cited By (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2003009056A2 (en) * 2001-07-17 2003-01-30 Siemens Aktiengesellschaft Combined instrument with a liquid crystal display with a reflector on the rear side thereof
WO2005078483A1 (en) * 2004-02-18 2005-08-25 Zeon Corporation Optical member, its manufacturing method, and display
JP2006179495A (en) * 2003-10-06 2006-07-06 Omron Corp Surface light source device and display device
KR100603692B1 (en) 2004-07-14 2006-07-20 옵티맥스 테크놀러지 코포레이션 Method to prepare optical film
US7162139B2 (en) 2003-10-06 2007-01-09 Omron Corporation Surface light source device and display device
KR100700686B1 (en) 2005-08-18 2007-03-27 제일모직주식회사 Dot prism film attached light guide panel of LCD and method of fabricating the same
CN100376903C (en) * 2003-07-12 2008-03-26 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 Fabrication method of light conducting plate
JP2018101523A (en) * 2016-12-20 2018-06-28 大日本印刷株式会社 Light guide place, surface light source device, display device and manufacturing method of light guide plate
JP2018101524A (en) * 2016-12-20 2018-06-28 大日本印刷株式会社 Manufacturing method of light guide plate, light guide place, surface light source device, display device
US10295728B2 (en) 2014-10-23 2019-05-21 Corning Incorporated Light diffusing component and a method of manufacturing a light diffusing component
JP2019102151A (en) * 2017-11-29 2019-06-24 パナソニックIpマネジメント株式会社 Lighting device and method for manufacturing lighting device
JP2020144316A (en) * 2019-03-08 2020-09-10 パナソニックIpマネジメント株式会社 Lighting device and manufacturing method of lighting device

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH11306828A (en) * 1998-04-24 1999-11-05 Hoshiden Philips Display Kk Lighting system
JP2000048617A (en) * 1998-07-28 2000-02-18 Nitto Denko Corp Light guide plate, surface light source device and reflective liquid crystal display device
JP2000071290A (en) * 1998-08-28 2000-03-07 Teijin Ltd Manufacture of antireflection article
JP2000131522A (en) * 1998-10-23 2000-05-12 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> Polarizer and its production and waveguide type optical device using the same

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH11306828A (en) * 1998-04-24 1999-11-05 Hoshiden Philips Display Kk Lighting system
JP2000048617A (en) * 1998-07-28 2000-02-18 Nitto Denko Corp Light guide plate, surface light source device and reflective liquid crystal display device
JP2000071290A (en) * 1998-08-28 2000-03-07 Teijin Ltd Manufacture of antireflection article
JP2000131522A (en) * 1998-10-23 2000-05-12 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> Polarizer and its production and waveguide type optical device using the same

Cited By (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2003009056A3 (en) * 2001-07-17 2003-12-11 Siemens Ag Combined instrument with a liquid crystal display with a reflector on the rear side thereof
WO2003009056A2 (en) * 2001-07-17 2003-01-30 Siemens Aktiengesellschaft Combined instrument with a liquid crystal display with a reflector on the rear side thereof
CN100376903C (en) * 2003-07-12 2008-03-26 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 Fabrication method of light conducting plate
JP4577210B2 (en) * 2003-10-06 2010-11-10 オムロン株式会社 Surface light source device and display device
JP2006179495A (en) * 2003-10-06 2006-07-06 Omron Corp Surface light source device and display device
US7162139B2 (en) 2003-10-06 2007-01-09 Omron Corporation Surface light source device and display device
WO2005078483A1 (en) * 2004-02-18 2005-08-25 Zeon Corporation Optical member, its manufacturing method, and display
KR100603692B1 (en) 2004-07-14 2006-07-20 옵티맥스 테크놀러지 코포레이션 Method to prepare optical film
KR100700686B1 (en) 2005-08-18 2007-03-27 제일모직주식회사 Dot prism film attached light guide panel of LCD and method of fabricating the same
US10295728B2 (en) 2014-10-23 2019-05-21 Corning Incorporated Light diffusing component and a method of manufacturing a light diffusing component
JP2018101523A (en) * 2016-12-20 2018-06-28 大日本印刷株式会社 Light guide place, surface light source device, display device and manufacturing method of light guide plate
JP2018101524A (en) * 2016-12-20 2018-06-28 大日本印刷株式会社 Manufacturing method of light guide plate, light guide place, surface light source device, display device
JP2019102151A (en) * 2017-11-29 2019-06-24 パナソニックIpマネジメント株式会社 Lighting device and method for manufacturing lighting device
JP2020144316A (en) * 2019-03-08 2020-09-10 パナソニックIpマネジメント株式会社 Lighting device and manufacturing method of lighting device
JP7241278B2 (en) 2019-03-08 2023-03-17 パナソニックIpマネジメント株式会社 Lighting device and method for manufacturing lighting device

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