JP2002241806A - Equipment and method for manufacturing metallic ultrafine particle - Google Patents

Equipment and method for manufacturing metallic ultrafine particle

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JP2002241806A
JP2002241806A JP2001044244A JP2001044244A JP2002241806A JP 2002241806 A JP2002241806 A JP 2002241806A JP 2001044244 A JP2001044244 A JP 2001044244A JP 2001044244 A JP2001044244 A JP 2001044244A JP 2002241806 A JP2002241806 A JP 2002241806A
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Japan
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discharge
electrode
arc
voltage
discharge electrode
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Tsutomu Tanaka
努 田中
Takanori Nakamura
孝則 中村
Yasuhiko Karasawa
泰彦 唐沢
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Murata Manufacturing Co Ltd
Original Assignee
Murata Manufacturing Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide equipment and a method for manufacturing metallic ultrafine particles which enable stable formation of high-quality metallic ultrafine particles by stably maintaining the shape of an arc column in forming the metallic ultrafine particles using arc discharge. SOLUTION: In order to maintain the shape of the arc column, the distance (interelectrode distance D) between a discharge electrode 13 and a target 5 is maintained nearly constant. In particular, the maintenance of the interelectrode distance D can be done more easily and more accurately by detecting the discharge voltage in the case where arc discharge is initiated and changing the position of the discharge electrode 13 in such a way that the discharge voltage can be held at a nearly constant value.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、金属超微粒子の製
造装置および製造方法に関するものであり、特に、アー
ク放電を利用して金属超微粒子を長時間生成させる際
に、アーク柱の形状を長時間ほぼ一定に維持することに
よって金属超微粒子の生成条件を安定させる金属超微粒
子の製造装置および製造方法に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an apparatus and a method for producing ultrafine metal particles, and more particularly to a method for producing ultrafine metal particles using arc discharge for a long period of time. The present invention relates to an apparatus and a method for producing ultrafine metal particles, which stabilize the conditions for producing ultrafine metal particles by maintaining the time substantially constant.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来より、金属微粒子の中でも、特に粒
子径がnm単位となる金属超微粒子を製造する技術とし
ては、アーク放電を利用することが知られている。この
技術では、一般的には、近接して配置させた放電用電極
(陰極)とターゲットとなる金属母材(陽極)との間に
電圧を印加してアーク放電を生じさせることで金属超微
粒子を生成しており、さらに、雰囲気ガスとして、水素
ガス、または水素ガスおよび不活性ガスの混合ガスを用
いる(この方法を水素アーク法とする)ことで、粒径が
数十nm程度の金属超微粒子を得ることが可能となって
いる。
2. Description of the Related Art Conventionally, it has been known to use an arc discharge as a technique for producing ultrafine metal particles having a particle diameter of nm units among metal fine particles. In this technique, generally, a voltage is applied between a discharge electrode (cathode) arranged in close proximity and a metal base material (anode) serving as a target to generate an arc discharge, whereby metal ultrafine particles are formed. Further, by using hydrogen gas or a mixed gas of hydrogen gas and an inert gas as an atmospheric gas (this method is referred to as a hydrogen arc method), a metal particle having a particle size of about several tens nm is obtained. Fine particles can be obtained.

【0003】上記水素アーク法に代表される金属超微粒
子の生成技術では、得られる金属超微粒子の生成量や粒
径を安定させるためには、アーク柱(陰極と陽極との間
に生じる、電子およびイオンのプラズマからなる電弧)
の形状を安定して維持することが重要になる。つまり、
アーク柱の形状が変化すると、金属超微粒子の生成条件
が異なってしまい、その生成速度や粒子径が変化するた
めに、金属超微粒子の品質を低下させることになる。
In the technique for producing ultrafine metal particles represented by the hydrogen arc method, in order to stabilize the amount and particle size of the resulting ultrafine metal particles, an arc column (electron generated between a cathode and an anode, And an arc composed of ion plasma)
It is important to maintain the shape of the stably. That is,
If the shape of the arc column changes, the conditions for generating the ultrafine metal particles differ, and the generation speed and the particle diameter change, thereby deteriorating the quality of the ultrafine metal particles.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】ところが、従来の水素
アーク法に関する技術では、アーク柱の形状を安定して
維持する点についてはほとんど考慮されておらず、それ
ゆえ、高品質の金属超微粒子を製造することができない
という問題点を招来している。
However, in the technology relating to the conventional hydrogen arc method, little consideration has been given to maintaining the shape of the arc column in a stable manner. This leads to the problem that it cannot be manufactured.

【0005】上記水素アーク法による一般的な金属超微
粒子の製造方法は、ターゲット(金属母材)が消費され
ることで1回のアーク放電が終了するバッチ方式の製造
方法となる。通常、ターゲットが消費されれば、その体
積も減少することから、アーク放電が継続すれば、放電
用電極とターゲットとの間隔は徐々に拡大していく。そ
の結果、アーク放電の進行に伴ってアーク柱の形状も変
化してしまう。
[0005] The general method for producing ultrafine metal particles by the hydrogen arc method is a batch-type production method in which one arc discharge is completed when a target (metal base material) is consumed. Normally, when the target is consumed, its volume is also reduced. Therefore, if the arc discharge continues, the distance between the discharge electrode and the target gradually increases. As a result, the shape of the arc column changes with the progress of the arc discharge.

【0006】従来の水素アーク法を用いた市販の金属超
微粒子の製造装置では、放電用電極もターゲットも位置
が変化しないように保持された状態でアーク放電を生じ
させるようになっている。そのため、上記ターゲットの
消耗により放電用電極とターゲットとの間隔が必ず変化
するので、アーク柱の形状を維持することはできず、そ
の結果、高品質の金属超微粒子を製造することができな
かった。
In a conventional apparatus for producing ultrafine metal particles using the hydrogen arc method, arc discharge is generated in a state where both the discharge electrode and the target are held so as not to change their positions. Therefore, the distance between the discharge electrode and the target always changes due to the consumption of the target, so that the shape of the arc column could not be maintained, and as a result, high-quality metal ultrafine particles could not be manufactured. .

【0007】本発明は、上記問題点に鑑みてなされたも
のであって、その目的は、アーク放電を利用して金属超
微粒子を生成する際に、アーク柱の形状を安定して維持
することで、高品質の金属超微粒子を安定して生成する
ことができる金属超微粒子の製造装置および製造方法を
提供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above problems, and has as its object to stably maintain the shape of an arc column when generating ultrafine metal particles using arc discharge. Therefore, it is an object of the present invention to provide an apparatus and a method for producing ultrafine metal particles, which can stably produce high-quality ultrafine metal particles.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】本発明にかかる金属超微
粒子の製造装置は、上記の課題を解決するために、放電
用電極と、該放電用電極に近接した位置に設けられ、金
属母材を保持する保持電極と、これらに接続されるアー
ク電源とを備えており、アーク電源より上記放電用電極
および保持電極の間に電圧を印加することによってアー
ク放電を発生させる金属超微粒子の製造装置において、
さらに、アーク放電の発生に伴う放電電圧を検知する電
圧検知手段と、上記放電用電極または保持電極の何れか
一方の位置を変化させて、放電用電極および金属母材の
間の間隔を変化させる位置変化手段と、少なくとも該位
置変化手段の動作を制御することにより上記放電電圧を
ほぼ一定の値に維持する制御手段とを備えていることを
特徴としている。
In order to solve the above-mentioned problems, an apparatus for producing ultrafine metal particles according to the present invention is provided with a discharge electrode and a metal base material provided at a position close to the discharge electrode. And an arc power supply connected to these electrodes, and an apparatus for producing ultrafine metal particles that generates an arc discharge by applying a voltage between the discharge electrode and the holding electrode from the arc power supply At
Further, a voltage detecting means for detecting a discharge voltage accompanying the occurrence of arc discharge, and changing a position of one of the discharge electrode and the holding electrode to change an interval between the discharge electrode and the metal base material. It is characterized by comprising a position changing means and a control means for maintaining the discharge voltage at a substantially constant value by controlling at least the operation of the position changing means.

【0009】上記構成によれば、電圧検知手段によりア
ーク放電の放電電圧を検知して、これを制御用のパラメ
ータとして用いることで、制御手段は、位置変化手段の
動作をより一層確実に制御することができる。その結
果、金属超微粒子の生成により金属母材が徐々に消耗し
ても、放電用電極および金属母材の間の間隔である電極
間隔をほぼ一定に維持してアーク柱の形状を安定させる
ことが可能になり、金属超微粒子を長時間安定して生成
することができる。
According to the above arrangement, the control means controls the operation of the position changing means more reliably by detecting the discharge voltage of the arc discharge by the voltage detection means and using the detected discharge voltage as a control parameter. be able to. As a result, even if the metal base material is gradually consumed due to the generation of the ultrafine metal particles, the shape of the arc column is stabilized by maintaining the electrode interval between the discharge electrode and the metal base material substantially constant. And the ultrafine metal particles can be stably generated for a long time.

【0010】本発明にかかる金属超微粒子の製造装置
は、上記構成に加えて、上記位置変化手段が、放電用電
極の位置のみを変化させるものであることを特徴として
いる。
An apparatus for producing ultrafine metal particles according to the present invention is characterized in that, in addition to the above configuration, the position changing means changes only the position of the discharge electrode.

【0011】上記構成によれば、放電用電極の位置のみ
を変化させることで電極間隔を変化させている。放電用
電極は略棒形状となっていることが多いため軸方向(長
手方向)に移動させることで、保持電極に比べて位置変
化に必要な容積をより小さくすることが可能となる。そ
の結果、位置変化手段の構成、ひいては製造装置全体の
構成を簡素化することができる。
According to the above configuration, the distance between the electrodes is changed by changing only the position of the discharge electrode. Since the discharge electrode often has a substantially bar shape, by moving the discharge electrode in the axial direction (longitudinal direction), it is possible to reduce the volume required for position change as compared with the holding electrode. As a result, it is possible to simplify the configuration of the position changing means and, consequently, the configuration of the entire manufacturing apparatus.

【0012】本発明にかかる金属超微粒子の製造方法
は、上記の課題を解決するために、放電用電極および金
属母材を近接して配置し、これらの間に電圧を印加する
ことによって、アーク放電を発生させる金属超微粒子の
製造方法において、アーク放電の発生に伴う放電電圧を
検知した上で、該放電電圧をほぼ一定の値に維持するよ
うに上記放電用電極および金属母材の少なくとも一方の
位置を変化させることを特徴としている。
In order to solve the above-mentioned problems, the method for producing ultrafine metal particles according to the present invention comprises disposing an electrode for discharge and a metal base material in close proximity to each other, and applying a voltage between the electrodes to form an arc. In the method for producing metal ultrafine particles for generating electric discharge, at least one of the above-mentioned electric discharge electrode and the metal base material so as to maintain the electric discharge voltage at a substantially constant value after detecting the electric discharge voltage accompanying the occurrence of arc discharge. Is changed.

【0013】上記方法によれば、アーク放電の放電電圧
を検知して、これを制御用のパラメータとして用いるこ
とで、金属超微粒子の生成により金属母材が徐々に消耗
しても、放電用電極および金属母材の間の間隔である電
極間隔をほぼ一定に維持してアーク柱の形状を安定させ
ることが可能になる。その結果、金属超微粒子を長時間
安定して生成することができる。
According to the above method, the discharge voltage of the arc discharge is detected and used as a control parameter, so that the discharge electrode can be used even if the metal base material is gradually consumed by the generation of ultrafine metal particles. In addition, it is possible to stabilize the shape of the arc column by maintaining the electrode interval, which is the interval between the metal base materials, substantially constant. As a result, ultrafine metal particles can be stably generated for a long time.

【0014】本発明にかかる金属超微粒子の製造方法
は、上記の課題を解決するために、放電用電極および金
属母材を近接して配置し、これらの間に電圧を印加する
ことによって、アーク放電を発生させる金属超微粒子の
製造方法において、アーク放電の発生により金属母材が
消耗することによって変化する、放電用電極および金属
母材の間隔をほぼ一定の値に維持するように上記放電用
電極および金属母材の少なくとも一方の位置を変化させ
ることを特徴としている。
In order to solve the above-mentioned problems, the method for producing ultrafine metal particles according to the present invention comprises disposing an electric discharge electrode and a metal base material in close proximity to each other, and applying a voltage between them to form an arc. In the method for producing metal ultrafine particles for generating electric discharge, the distance between the discharge electrode and the metal base material, which changes due to the consumption of the metal base material by the occurrence of arc discharge, is maintained at a substantially constant value. The position of at least one of the electrode and the metal base material is changed.

【0015】上記方法によれば、放電用電極および金属
母材の間隔である電極間隔をほぼ一定に維持すること
で、アーク柱の形状を維持することができる。そのた
め、上記電極間隔を直接検知したり、放電電圧などのパ
ラメータを用いて間接的に検知して、電極間隔を一定値
に維持することで、アーク柱の形状を維持して、金属超
微粒子を安定して生成することができる。
According to the above method, the shape of the arc column can be maintained by keeping the distance between the discharge electrodes and the metal base material substantially constant. Therefore, by directly detecting the above-mentioned electrode interval or indirectly using parameters such as discharge voltage and maintaining the electrode interval at a constant value, the shape of the arc column is maintained, and the metal ultrafine particles are removed. It can be produced stably.

【0016】[0016]

【発明の実施の形態】本発明の実施の一形態について、
図1ないし図7に基づいて説明すれば以下の通りであ
る。なお、本発明はこれに限定されるものではない。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS One embodiment of the present invention will be described.
The following is a description based on FIGS. 1 to 7. Note that the present invention is not limited to this.

【0017】本発明にかかる金属超微粒子の製造装置お
よび製造方法は、金属超微粒子をアーク放電により生成
する際に、アーク柱の形状を維持するために、放電用電
極とターゲット(金属母材)との間隔(電極間隔)をほ
ぼ一定に維持するものである。特に、本実施の形態で
は、アーク放電に伴う放電電圧(アーク電圧)を検知し
て、これをパラメータとして用いることで、電極間隔を
一定に維持する制御をより正確に行うものである。
An apparatus and a method for producing ultrafine metal particles according to the present invention provide a discharge electrode and a target (metal base material) for maintaining the shape of an arc column when generating ultrafine metal particles by arc discharge. (Electrode spacing) is maintained substantially constant. In particular, in the present embodiment, a discharge voltage (arc voltage) accompanying an arc discharge is detected and used as a parameter to more accurately control the electrode interval to be kept constant.

【0018】具体的には、図2に示すように、本実施の
形態にかかる金属超微粒子の製造装置は、アーク放電に
より金属超微粒子を生成する粒子生成部10と、粒子生
成部10に水素ガスを含む雰囲気ガスを供給するガス供
給部20と、生成した金属超微粒子を回収するための粒
子回収部30と、該製造装置の動作を制御する制御部4
0とを備えている。なお、図2における破線の矢印は制
御信号の送信経路を示し、細い実線は電気的な接続経路
を示し、太い実線(後述する位置変化機構15−トーチ
12−放電用電極13の間)は機械的な関係を示してい
る。
Specifically, as shown in FIG. 2, the apparatus for producing ultrafine metal particles according to the present embodiment includes a particle generator 10 for generating ultrafine metal particles by arc discharge, A gas supply unit 20 for supplying an atmosphere gas containing a gas, a particle collection unit 30 for collecting the generated ultrafine metal particles, and a control unit 4 for controlling the operation of the manufacturing apparatus
0. Note that the dashed arrows in FIG. 2 indicate the transmission path of the control signal, the thin solid line indicates the electrical connection path, and the thick solid line (between the position change mechanism 15-the torch 12-the discharge electrode 13 described later) indicates the mechanical connection Shows a typical relationship.

【0019】上記粒子生成部10は、図3にも示すよう
に、チャンバー11と、トーチ(電極支持架・トーチ機
構)12と、放電用電極13と、保持台(ハース・保持
電極)14と、位置変化機構(位置変化手段)15と、
アーク電源16と、電流モニター(電流検知手段)17
と、電圧モニター(電圧検知手段)18とを備えてい
る。
As shown in FIG. 3, the particle generator 10 includes a chamber 11, a torch (electrode supporting frame / torch mechanism) 12, a discharge electrode 13, a holding table (hearth / holding electrode) 14, A position changing mechanism (position changing means) 15;
Arc power supply 16 and current monitor (current detection means) 17
And a voltage monitor (voltage detecting means) 18.

【0020】上記チャンバー11は、放電用電極13お
よびターゲット(金属母材)5の間でアーク放電を生じ
させ得る空間を有する函体となっている。その具体的な
構成は特に限定されるものではなく、従来公知の構成を
好適に用いることができるが、好ましくは、図3に示す
ように、一方の側部から雰囲気ガスを供給して他方の側
部から雰囲気ガスを排出するようになっている。
The chamber 11 is a box having a space where an arc discharge can be generated between the discharge electrode 13 and the target (metal base material) 5. The specific configuration is not particularly limited, and a conventionally known configuration can be suitably used. However, as shown in FIG. 3, preferably, an atmosphere gas is supplied from one side and the other is supplied. Atmospheric gas is discharged from the side.

【0021】上記チャンバー11には、後述する雰囲気
ガス用配管23およびシールドガス用配管24が接続さ
れており、チャンバー11内に対して雰囲気ガスを供給
する。それゆえ、上記雰囲気ガスは、図中矢印Aにて示
すように、雰囲気ガス用配管23およびシールドガス用
配管24から供給され、チャンバー11から後述する回
収フィルター32を介して排出されるようになってい
る。
An atmosphere gas pipe 23 and a shield gas pipe 24, which will be described later, are connected to the chamber 11, and supply the atmosphere gas into the chamber 11. Therefore, the atmosphere gas is supplied from the atmosphere gas pipe 23 and the shield gas pipe 24 as shown by the arrow A in the figure, and is discharged from the chamber 11 through the recovery filter 32 described later. ing.

【0022】上記チャンバー11内には、上記トーチ1
2、放電用電極13、保持台14が配置されている。放
電用電極13は、トーチ12の端部に固定支持されてお
り、保持台14は、放電用電極13の近傍となる位置に
配置され、かつその上方にターゲット5を載置可能とす
るような台形状となっている。
In the chamber 11, the torch 1
2. Discharge electrode 13 and holding table 14 are arranged. The discharge electrode 13 is fixedly supported at the end of the torch 12, and the holding table 14 is arranged at a position near the discharge electrode 13, and allows the target 5 to be mounted thereon. It has a trapezoidal shape.

【0023】上記トーチ12は、一次方向に長さを有す
る略棒形状となっており、上記放電用電極13を、アー
ク電源16に接続した状態でその端部に安定して保持す
るようになっている。このトーチ12の具体的な構成と
しては、放電用電極13を安定して保持できるようにな
っていれば特に限定されるものではない。
The torch 12 has a substantially rod shape having a length in the primary direction. The torch 12 stably holds the discharge electrode 13 at an end thereof while being connected to an arc power supply 16. ing. The specific configuration of the torch 12 is not particularly limited as long as the discharge electrode 13 can be stably held.

【0024】また、上記トーチ12には、図4に示すよ
うに、放電用電極13の周囲にシールドガスを形成する
ために、シールドガス用配管24およびシールドガスノ
ズル25が備えられていてもよい。上記シールドガス
は、アーク放電が安定した後に、金属超微粒子を放電用
電極13に付着させないために該放電用電極13の周囲
に形成されるものである。これは、金属超微粒子が放電
用電極13の先端に付着すると、変形や溶融などを引き
起こして、該放電用電極13を過剰に消耗してしまうた
めである。
As shown in FIG. 4, the torch 12 may be provided with a shield gas pipe 24 and a shield gas nozzle 25 for forming a shield gas around the discharge electrode 13. The shield gas is formed around the discharge electrode 13 after the arc discharge is stabilized in order to prevent the ultrafine metal particles from adhering to the discharge electrode 13. This is because, when the metal ultrafine particles adhere to the tip of the discharge electrode 13, the discharge electrode 13 is excessively consumed due to deformation, melting, and the like.

【0025】図4では、シールドガスノズル25が、ト
ーチ12における放電用電極13の周囲に配置されてい
るので、放電用電極13の周囲からその軸方向(長手方
向)に沿って雰囲気ガスが流出され(図中矢印B)、シ
ールドガスが形成される。また、このときアーク放電に
より生成した金属超微粒子は図中矢印Cに示すように、
ターゲット5の斜め上方に配置される放電用電極13と
は反対側に吹き出すことになる。なお、シールドガス用
配管24およびシールドガスノズル25は、必ずしもト
ーチ12に備えられていなくてもよく、別の構成として
放電用電極13の近傍に設けられていてもよい。
In FIG. 4, since the shield gas nozzle 25 is arranged around the discharge electrode 13 in the torch 12, the atmosphere gas flows out from around the discharge electrode 13 along its axial direction (longitudinal direction). (Arrow B in the figure), a shielding gas is formed. In addition, the ultrafine metal particles generated by the arc discharge at this time, as shown by arrow C in the figure,
It blows out to the side opposite to the discharge electrode 13 arranged diagonally above the target 5. Note that the shield gas pipe 24 and the shield gas nozzle 25 are not necessarily provided in the torch 12, and may be provided near the discharge electrode 13 as another configuration.

【0026】上記放電用電極13は、金属超微粒子の前
駆体となるターゲット(金属母材)5との間にアーク放
電を生じさせるための電極であり、通常、タングステン
(W)を主成分としているタングステン電極が好適に用
いられる。このタングステン電極には金属酸化物が添加
されることが多く、一般的には、1〜2%程度の範囲内
で酸化トリウム(ThO2 )が含まれている「トリタ
ン」などと呼ばれる材料が好適に用いられる。
The discharge electrode 13 is an electrode for generating an arc discharge between the discharge electrode 13 and a target (metal base material) 5 which is a precursor of ultrafine metal particles, and usually contains tungsten (W) as a main component. Is preferably used. A metal oxide is often added to the tungsten electrode, and generally, a material called “tritan” containing thorium oxide (ThO 2 ) in a range of about 1 to 2% is preferable. Used for

【0027】上記放電用電極13の形状も特に限定され
るものではないが、通常は、図5に示すように、アーク
放電を生じ易くするために先端部を先鋭化した形状のも
のが好適に用いられる。その長さや径も特に限定される
ものではないが、たとえば、長さL=35mm、径φ=
4mm程度のものが好適に用いられる。
The shape of the discharge electrode 13 is not particularly limited, but usually, as shown in FIG. 5, a shape having a sharpened tip is preferable in order to easily generate arc discharge. Used. The length and diameter are not particularly limited either. For example, length L = 35 mm, diameter φ =
Those having a size of about 4 mm are preferably used.

【0028】上記保持台14は、ターゲット5をその上
方に載置した状態で保持し、かつアーク電源16から該
ターゲット5に対して電圧を印加するようになってい
る。具体的な形状としては、台形状となっており、上方
に載置したターゲット5に電圧を印加できるような構成
となっていれば特に限定されるものではない。また、そ
の材質としても、ターゲット5に電圧を印加できるよう
なものであれば特に限定されないが、一般的には銅が好
ましく用いられる。
The holding table 14 holds the target 5 in a state of being placed thereon, and applies a voltage from the arc power supply 16 to the target 5. The specific shape is not particularly limited as long as it has a trapezoidal shape and is configured to apply a voltage to the target 5 placed above. The material is not particularly limited as long as a voltage can be applied to the target 5, but copper is generally preferably used.

【0029】この保持台14は、アーク放電に際して、
水冷などの冷却手段(図示せず)によって冷却されるよ
うになっている。そのため、通常、図3や図4に示すよ
うに、自重で若干潰れて略楕円球形に丸まった状態とな
り、安定して金属超微粒子を生成することができる。
The holding table 14 is used for arc discharge.
The cooling is performed by cooling means (not shown) such as water cooling. Therefore, as shown in FIGS. 3 and 4, usually, the metal particles are slightly crushed by their own weight and are rounded into a substantially elliptical sphere, so that ultrafine metal particles can be stably generated.

【0030】なお、ターゲット5を保持する手段として
は、ターゲット5を保持した状態で該ターゲット5に電
圧を印加できる保持電極となっていれば、上記保持台1
4に限定されるものではない。
As a means for holding the target 5, if the holding electrode is a holding electrode capable of applying a voltage to the target 5 while holding the target 5, the holding table 1
It is not limited to four.

【0031】上記位置変化機構15は、トーチ12を移
動させることによって、放電用電極13とターゲット5
との間隔(電極間隔)を変化させるようになっている。
具体的には、本実施の形態では、トーチ12が略棒形状
であり、その端部に放電用電極13を配置しているの
で、駆動源としてモーターを用いた場合には、たとえば
ラック−ピニオン機構やボールネジ構造などを用いて、
トーチ12の長手方向に沿って該トーチ12を移動させ
る構成を好適に用いることができる。なお、図3では、
説明の便宜上、位置変化機構15を模式的に示してい
る。
The position changing mechanism 15 moves the torch 12 so that the discharge electrode 13 and the target 5 are moved.
(Electrode spacing) is changed.
Specifically, in the present embodiment, the torch 12 has a substantially rod shape, and the discharge electrode 13 is disposed at the end thereof. Therefore, when a motor is used as a driving source, for example, a rack-pinion Using a mechanism or a ball screw structure,
A configuration in which the torch 12 is moved along the longitudinal direction of the torch 12 can be suitably used. In FIG. 3,
For convenience of explanation, the position changing mechanism 15 is schematically illustrated.

【0032】本発明においては、後述するように、アー
ク放電が安定して金属超微粒子が生成している状況で
は、ターゲット5の消耗に対応させて、電極間隔をほぼ
一定に維持するようになっている。それゆえ、放電用電
極13または保持台14の何れか一方、あるいは放電用
電極13および保持台14の双方を動かすようになって
いればよいが、好ましくは、トーチ12をその長手方向
に沿って移動させることによって放電用電極13のみを
軸方向に移動させれば、移動に必要な空間をより小さく
することが可能であり、位置変化機構15の構成を簡素
化することができるため好ましい。
In the present invention, as will be described later, when the arc discharge is stable and the ultrafine metal particles are generated, the distance between the electrodes is maintained substantially constant in accordance with the consumption of the target 5. ing. Therefore, any one of the discharge electrode 13 and the holder 14 or both the discharge electrode 13 and the holder 14 may be moved, but preferably, the torch 12 is moved along its longitudinal direction. It is preferable to move only the discharge electrode 13 in the axial direction by moving it, because the space required for the movement can be made smaller and the configuration of the position changing mechanism 15 can be simplified.

【0033】また、位置変化機構15としては、保持台
14を移動させて上記電極間隔を変化させるような構成
であってもよい。つまり、位置変化機構15としては、
上記電極間隔を変化させ得る構成であればよく、トーチ
12、または保持台14、あるいは、これら双方を移動
させるかについては、製造装置の構成に応じて適宜変更
されるものである。
Further, the position changing mechanism 15 may be configured to change the electrode interval by moving the holding table 14. That is, as the position changing mechanism 15,
Any structure that can change the above-mentioned electrode interval may be used, and whether torch 12 or holding table 14 or both of them are moved is appropriately changed according to the structure of the manufacturing apparatus.

【0034】本発明においては、放電用電極13と保持
台14との位置関係は特に限定されるものではない。し
たがって、後述するように、保持台14のほぼ直上に放
電用電極13が配置されていてもよいし、図3や図4な
どに示すように、保持台14上に載置されて保持される
ターゲット5に対して、放電用電極13が、雰囲気ガス
の流れ方向(矢印A方向)の上流側に斜め上方で配置さ
れた状態でアーク放電がなされていてもよい。
In the present invention, the positional relationship between the discharge electrode 13 and the holder 14 is not particularly limited. Therefore, as described later, the discharge electrode 13 may be disposed almost directly above the holding table 14, or may be placed and held on the holding table 14 as shown in FIGS. The arc discharge may be performed on the target 5 in a state where the discharge electrode 13 is disposed obliquely upward on the upstream side in the flow direction of the atmospheric gas (the direction of the arrow A).

【0035】前者の構成は、従来の一般的な金属超微粒
子の製造装置に用いられており、後者の構成は、上記シ
ールドガスによる金属超微粒子の付着の抑制効果を向上
させ得るには好ましい構成となっている。つまり後者の
構成では、チャンバー11内で生成した金属超微粒子
を、雰囲気ガスの流れに乗せて効率的に搬送するため、
シールドガスによるシールド効果を向上させることがで
きる。なお、上記「斜め上方」となる具体的な配置は特
に限定されるものではないが、たとえば、図3や図4で
は、トーチ12を水平方向から約45°傾斜させるよう
に配置している。
The former configuration is used in a conventional general apparatus for producing ultrafine metal particles, and the latter configuration is a preferable configuration for improving the effect of suppressing the adhesion of ultrafine metal particles by the shield gas. It has become. That is, in the latter configuration, the metal ultrafine particles generated in the chamber 11 are efficiently transported by being carried by the flow of the atmospheric gas.
The shielding effect by the shielding gas can be improved. The specific arrangement of the “diagonally above” is not particularly limited. For example, in FIGS. 3 and 4, the torch 12 is arranged so as to be inclined by about 45 ° from the horizontal direction.

【0036】上記アーク電源16は、金属超微粒子を製
造するために、上記放電用電極13およびターゲット
5、つまり保持台14に電気的に接続されることになる
ターゲット5に対して高周波電圧(開始電圧)を印加
し、これらの間にアーク放電を生じさせる(図2参
照)。本実施の形態では、放電用電極13をアノード
(陰極)とし、ターゲット5をカソード(陽極)とする
ため、アーク電源16のマイナス極が放電用電極13
に、プラス極が保持台14に接続されている。
The arc power supply 16 applies a high-frequency voltage (start voltage) to the discharge electrode 13 and the target 5, that is, the target 5 to be electrically connected to the holding table 14 in order to produce ultrafine metal particles. Voltage) to generate an arc discharge between them (see FIG. 2). In the present embodiment, the discharge electrode 13 is used as an anode (cathode) and the target 5 is used as a cathode (anode).
The positive pole is connected to the holding table 14.

【0037】上記電流モニター17および電圧モニター
18は、図2に示すように、それぞれ、アーク放電に伴
う放電用電極13およびターゲット5の間でで流れる電
流(アーク電流とする)の発生や、電圧(アーク電圧と
する)の変化を検知する。図2から明らかなように、電
流モニター17および電圧モニター18の検知結果は、
何れも制御部40に出力され、制御部40における位置
変化機構15の動作制御に利用される。その具体的な構
成は特に限定されるものではなく、電流・電圧の検知に
一般的に用いられている公知の電流計や電圧計を好まし
く用いることができる。
As shown in FIG. 2, the current monitor 17 and the voltage monitor 18 generate an electric current (referred to as an arc current) flowing between the discharge electrode 13 and the target 5 due to the arc discharge, respectively, and (Referred to as arc voltage) is detected. As apparent from FIG. 2, the detection results of the current monitor 17 and the voltage monitor 18 are as follows.
Any of them is output to the control unit 40 and used for operation control of the position changing mechanism 15 in the control unit 40. The specific configuration is not particularly limited, and a known ammeter or voltmeter generally used for detecting current and voltage can be preferably used.

【0038】上記ターゲット5としては、金属全般を用
いることができる。一般的には、ニッケル(Ni)や鉄
(Fe)などが多く用いられる。ターゲット5の形状と
しても特に限定されるものではなく、所望の金属をアー
ク放電が可能なように適当な形状に成形すればよい。ま
た、上記ターゲット5から生成される金属超微粒子は、
その平均粒径が1nm以上100nm以下の範囲内とな
っていることが好ましい。
As the target 5, any metal can be used. Generally, nickel (Ni), iron (Fe), and the like are often used. The shape of the target 5 is not particularly limited, and a desired metal may be formed into an appropriate shape so as to enable arc discharge. The metal ultrafine particles generated from the target 5 are as follows:
It is preferable that the average particle size is in the range of 1 nm to 100 nm.

【0039】上記ガス供給部20は、ガスタンク21a
・21b・21c、ガス供給バルブ22a・22b・2
2c、雰囲気ガス用配管23、シールドガス用配管24
を含んでおり、上記チャンバー11内に、水素ガスを含
むアーク放電用の雰囲気ガスを供給する(図中矢印
A)。
The gas supply unit 20 includes a gas tank 21a
.21b.21c, gas supply valves 22a.22b.2
2c, atmosphere gas pipe 23, shield gas pipe 24
And an atmosphere gas for arc discharge including hydrogen gas is supplied into the chamber 11 (arrow A in the figure).

【0040】上記雰囲気ガスとしては、本実施の形態で
は、水素(H2 )ガスと、アルゴン(Ar)またはヘリ
ウム(He)の二種類の不活性ガスとが用いられる。そ
のため、これら雰囲気ガスを供給するために、水素ガス
用のガスタンク21a、アルゴンガス用のガスタンク2
1b、ヘリウムガス用のガスタンク21cの3つが設け
られている。これらガスタンク21a・21b・21c
は、雰囲気ガス用配管23およびシールドガス用配管2
4によってチャンバー11に接続されており、さらに、
各ガスタンク21a・21b・21cにそれぞれ対応し
て設けられるガス供給バルブ22a・22b・22cに
よって、各雰囲気ガスの供給量が調節可能となってい
る。
In this embodiment, hydrogen (H 2 ) gas and two kinds of inert gases of argon (Ar) or helium (He) are used as the atmosphere gas. Therefore, in order to supply these atmospheric gases, a gas tank 21a for hydrogen gas and a gas tank 2 for argon gas are used.
1b and a gas tank 21c for helium gas are provided. These gas tanks 21a, 21b, 21c
Are the atmosphere gas pipe 23 and the shield gas pipe 2
4, connected to the chamber 11;
The supply amount of each atmosphere gas can be adjusted by gas supply valves 22a, 22b, and 22c provided corresponding to the gas tanks 21a, 21b, and 21c, respectively.

【0041】上記雰囲気ガスとして用いられるガスとし
ては、特に限定されるものではないが、金属超微粒子の
生成においては、水素ガスを用いることが非常に好まし
い。また、水素ガス以外のガスとしては、アルゴンガ
ス、ヘリウムガスなどの各種不活性ガスが好ましく用い
られるが特に限定されるものではない。
The gas used as the atmosphere gas is not particularly limited, but it is very preferable to use hydrogen gas in the production of ultrafine metal particles. As the gas other than the hydrogen gas, various inert gases such as an argon gas and a helium gas are preferably used, but are not particularly limited.

【0042】また、上記雰囲気ガスの組成についても特
に限定されるものではないが、通常は、水素ガスが50
体積%以上であることが好ましい。水素ガス濃度が50
体積%以上であれば、金属超微粒子の生成効率が向上す
る傾向にある。その他、アルゴンガスやヘリウムガスな
どの不活性ガスの組成についても特に限定されるもので
はない。
The composition of the atmosphere gas is not particularly limited.
It is preferably at least volume%. Hydrogen gas concentration is 50
If it is at least% by volume, the production efficiency of ultrafine metal particles tends to be improved. In addition, the composition of an inert gas such as an argon gas or a helium gas is not particularly limited.

【0043】上記雰囲気ガス用配管23およびシールド
ガス用配管24は、上述したように、チャンバー11に
対して接続されているが、雰囲気ガスを主に供給するの
は雰囲気ガス用配管23であり、シールドガス用配管2
4は、放電用電極13近傍に配置されるシールドガスノ
ズル25より形成されるシールドガス用の雰囲気ガスを
供給するようになっている。したがって、シールドガス
用配管24は、雰囲気ガス用配管23から分岐するよう
な構成となっていればよい。
The atmosphere gas pipe 23 and the shield gas pipe 24 are connected to the chamber 11 as described above. The atmosphere gas pipe 23 mainly supplies the atmosphere gas. Piping for shielding gas 2
Numeral 4 supplies an atmosphere gas for a shield gas formed by a shield gas nozzle 25 arranged near the discharge electrode 13. Therefore, the shield gas pipe 24 may be configured to branch off from the atmosphere gas pipe 23.

【0044】上記雰囲気ガス用配管23は、シールドガ
ス用配管24を分岐しているだけではなく、粒子回収部
30にも接続されており、供給された雰囲気ガスをガス
循環ポンプ35により循環させるようになっている。な
お、上記各配管23・24の材質や形状は特に限定され
るものではなく、従来公知のガス用のステンレス製パイ
プなどを好適に用いることができる。
The atmosphere gas pipe 23 not only branches the shield gas pipe 24 but is also connected to the particle recovery section 30 so that the supplied atmosphere gas is circulated by the gas circulation pump 35. It has become. The material and shape of each of the pipes 23 and 24 are not particularly limited, and a conventionally known gas stainless steel pipe or the like can be suitably used.

【0045】チャンバー11内における上記雰囲気ガス
の圧力についても特に限定されるものではないが、一般
的には、40kPa以上100kPa以下の範囲内であ
ることが好ましい。また、チャンバー11に供給される
上記雰囲気ガスの流量も特に限定されるものではない
が、雰囲気ガスの主供給配管である雰囲気ガス用配管2
3から供給される際には、一般的には、搬送のためのガ
ス流速が0.7m/s以上となる程度の流量であること
が好ましい。
The pressure of the atmospheric gas in the chamber 11 is not particularly limited, but is generally preferably in the range of 40 kPa to 100 kPa. Further, the flow rate of the atmosphere gas supplied to the chamber 11 is not particularly limited, but the atmosphere gas pipe 2 which is a main supply pipe of the atmosphere gas is used.
In general, when supplied from 3, the flow rate is preferably such that the gas flow rate for transport is 0.7 m / s or more.

【0046】さらに、上記シールドガス用配管24から
供給される雰囲気ガスの流量としても、シールドガスを
形成できる程度であれば特に限定されるものではない
が、たとえば5L/min 程度の流量を挙げることができ
る。通常、このシールドガス用配管24からの雰囲気ガ
スの供給量は、上記雰囲気ガス用配管23からの雰囲気
ガスの供給量に対しては誤差範囲内となる程度の量であ
る。
The flow rate of the atmosphere gas supplied from the shield gas pipe 24 is not particularly limited as long as the flow rate of the shield gas can be formed. For example, a flow rate of about 5 L / min is exemplified. Can be. Normally, the supply amount of the atmosphere gas from the shield gas pipe 24 is an amount within an error range with respect to the supply amount of the atmosphere gas from the atmosphere gas pipe 23.

【0047】上記粒子回収部30は、回収フィルター3
2、およびガス循環ポンプ35を含んでおり、雰囲気ガ
スの流れを利用してチャンバー11内で生成した金属超
微粒子を回収する。
The above-mentioned particle collecting section 30 includes a collecting filter 3
2, and a gas circulation pump 35 for recovering the ultrafine metal particles generated in the chamber 11 using the flow of the atmospheric gas.

【0048】上記回収フィルター32は、図3では、チ
ャンバー11内において、放電用電極13・保持台14
と対向するような位置に配置されており、かつチャンバ
ー11内の雰囲気ガスが排出される位置に配置されてい
る。また、放電用電極13・保持台14のある側には、
雰囲気ガス用配管23およびシールドガス用配管24が
接続されている。それゆえチャンバー11内では、放電
用電極13・保持台14のある側から回収フィルター3
2に向かって雰囲気ガスの流れが形成される(図中矢印
A)。その結果、回収フィルター32では金属超微粒子
を回収することになる。
In FIG. 3, the recovery filter 32 includes a discharge electrode 13 and a holding base 14 in the chamber 11.
And at a position where the atmospheric gas in the chamber 11 is discharged. Also, on the side where the discharge electrode 13 and the holder 14 are located,
The atmosphere gas pipe 23 and the shield gas pipe 24 are connected. Therefore, in the chamber 11, the collection filter 3 is located from the side where the discharge electrode 13 and the holding table 14 are located.
2, the flow of the atmospheric gas is formed (arrow A in the figure). As a result, the collection filter 32 collects the ultrafine metal particles.

【0049】該回収フィルター32としては、たとえ
ば、メンブレンフィルター、HEPAフィルターやUL
PAフィルターなどが好適に用いられるが、金属超微粒
子を確実に回収できるようなフィルター構造となってい
れば特に限定されるものではない。また、金属超微粒子
を回収する手段としては、フィルター構造に限定される
ものではなく、サイクロンなどのような構成を用いても
よい。
The collection filter 32 is, for example, a membrane filter, a HEPA filter, or a UL filter.
A PA filter or the like is preferably used, but is not particularly limited as long as it has a filter structure capable of reliably collecting ultrafine metal particles. Further, the means for collecting the ultrafine metal particles is not limited to the filter structure, and a configuration such as a cyclone may be used.

【0050】上記チャンバー11内から排出された雰囲
気ガスは、ガス循環ポンプ35を介して雰囲気ガス用配
管23に戻り、チャンバー11および各配管23・24
を循環するようになっている(図中矢印A)。
The atmosphere gas discharged from the chamber 11 returns to the atmosphere gas pipe 23 through the gas circulation pump 35, and is returned to the chamber 11 and the pipes 23 and 24.
(Arrow A in the figure).

【0051】また、真空ポンプ33は、メインバルブ3
4を介してチャンバー11に接続されており、チャンバ
ー11内から雰囲気ガスを吸引して排出する。
The vacuum pump 33 is connected to the main valve 3
The chamber 11 is connected to the chamber 11 through the chamber 4 and sucks and discharges the atmospheric gas from the chamber 11.

【0052】上記制御部40は、アーク放電の状態に基
づいて、少なくとも位置変化機構15の動作を制御する
ようになっており、より好ましくは、図2に示すよう
に、アーク電源16、ガス供給部20、粒子回収部30
などの動作も制御するようになっている。
The control unit 40 controls at least the operation of the position changing mechanism 15 based on the state of the arc discharge. More preferably, as shown in FIG. Unit 20, particle collection unit 30
Such operations are also controlled.

【0053】次に、本実施の形態にかかる金属超微粒子
の製造方法、すなわち、上記制御部40により、アーク
放電の形状を維持する方法について説明する。
Next, a method for producing ultrafine metal particles according to the present embodiment, that is, a method for maintaining the shape of arc discharge by the control unit 40 will be described.

【0054】前述したように、水素アーク法による金属
超微粒子の製造においては、金属超微粒子の品質を高い
ものとするには、放電用電極13とターゲット5との間
に生ずるアーク柱の形状を安定して維持させることが重
要となる。ところが、従来の構成では、トーチ12およ
び保持台14がチャンバー11内でほぼ完全に固定され
ていたため、アーク放電が進行すると、上記ターゲット
5から金属超微粒子が生成するに伴って、該ターゲット
5は徐々に消耗し、これに伴って、放電用電極13とタ
ーゲット5との間隔である上記電極間隔は拡大してい
く。
As described above, in the production of ultrafine metal particles by the hydrogen arc method, in order to improve the quality of ultrafine metal particles, the shape of the arc column generated between the discharge electrode 13 and the target 5 must be improved. It is important to keep it stable. However, in the conventional configuration, since the torch 12 and the holding table 14 are almost completely fixed in the chamber 11, as the arc discharge proceeds, the target 5 becomes The electrode is gradually consumed, and accordingly, the electrode interval between the discharge electrode 13 and the target 5 is increased.

【0055】たとえば、図6に示すように、アーク放電
により溶融して略球形/略楕円球形となったターゲット
5が消耗すると、ターゲット5そのものの体積が減少
し、それゆえ、略球形/略楕円球形状のターゲット5の
径が小さくなる。その結果、放電用電極13とターゲッ
ト5との間隔である上記電極間隔Dは、たとえばΔdだ
け拡大する。
For example, as shown in FIG. 6, when the target 5 which has been melted by arc discharge to become a substantially spherical / elliptical sphere is consumed, the volume of the target 5 itself is reduced, and therefore, the substantially spherical / substantially elliptical. The diameter of the spherical target 5 becomes smaller. As a result, the above-mentioned electrode interval D, which is the interval between the discharge electrode 13 and the target 5, is enlarged by, for example, Δd.

【0056】そこで、電極間隔Dを一定にするために、
位置変化機構15などを設けて、放電用電極13および
ターゲット5の少なくとも一方の位置を変化させること
が考えるられるが、ターゲット5の消耗に伴う電極間隔
Dの微小な変化Δdに対応させて、放電用電極13およ
びターゲット5の少なくとも一方の位置を変化させるこ
とは通常困難である。
Therefore, in order to keep the electrode interval D constant,
It is conceivable to change the position of at least one of the discharge electrode 13 and the target 5 by providing the position changing mechanism 15 or the like. It is usually difficult to change the position of at least one of the electrode 13 and the target 5.

【0057】本実施の形態では、本発明者らが独自に見
出した、アーク放電に伴う放電電圧をほぼ一定とすると
電極間隔Dもほぼ一定になるという知見に基づいて、位
置変化機構15の動作制御に、電圧モニター18で検知
した放電電圧を利用している。つまり、本発明にかかる
金属超微粒子の製造装置または製造方法では、アーク柱
を安定した形状とするために、アーク放電に伴う放電電
圧を電圧モニター18で検知し、この放電電圧の値を一
定値とするように、制御部40にて位置変化機構15の
動作を制御するようになっている。
In the present embodiment, the operation of the position change mechanism 15 is based on the finding that the electrode spacing D is also substantially constant when the discharge voltage associated with the arc discharge is substantially constant, which the present inventors independently found. The discharge voltage detected by the voltage monitor 18 is used for control. That is, in the apparatus or method for producing ultrafine metal particles according to the present invention, in order to make the arc column have a stable shape, the discharge voltage accompanying the arc discharge is detected by the voltage monitor 18 and the value of the discharge voltage is set to a fixed value. The operation of the position changing mechanism 15 is controlled by the control unit 40 as follows.

【0058】本実施の形態では、まず、予め金属超微粒
子を生成するための生成条件を決定する実験を行い、こ
の実験結果で、金属超微粒子の生成に好ましい放電電圧
の具体的な値(好適電圧値VB とする)を決定してお
く。そして、制御部40では、この好適電圧値VB の値
を設定した上で、好適電圧値VB が常に維持されるよう
に位置変化機構15の動作を制御する。
In the present embodiment, first, an experiment for previously determining the generation conditions for generating the ultrafine metal particles is performed, and based on the results of the experiment, the specific value of the discharge voltage (preferably the preferable discharge voltage for generating the ultrafine metal particles) keep determine a voltage value V B). Then, the control unit 40, upon setting the value of the preferred voltage value V B, controls the operation of the position change mechanism 15 as a preferred voltage value V B is maintained at all times.

【0059】具体的には、アーク電源16より、放電用
電極13とターゲット5(保持台14)との間に高周波
電圧が印加されることによってアーク放電が開始され、
アーク柱が形成される。アーク柱の形成は、放電用電極
13とターゲット5(保持台14)との間に生じる絶縁
破壊によるものであるため、アーク柱の形成と同時にア
ーク電流が流れる。そこで、電流モニター17によりア
ーク電流の発生をモニターすることでアーク放電の開始
を検知する。
Specifically, an arc discharge is started by applying a high-frequency voltage between the discharge electrode 13 and the target 5 (holding table 14) from the arc power supply 16,
An arc column is formed. Since the formation of the arc column is due to dielectric breakdown occurring between the discharge electrode 13 and the target 5 (holding table 14), an arc current flows simultaneously with the formation of the arc column. Therefore, the start of arc discharge is detected by monitoring the generation of arc current by the current monitor 17.

【0060】制御部40では、電流モニター17によ
り、放電用電極13とターゲット5との間にアーク電流
が検知されたという検知結果に基づいて、アーク放電が
開始されたと認識する。その後、アーク電源16から印
加される高周波電圧は直流電圧に切り換える。
The control unit 40 recognizes that the arc discharge has started based on the detection result that the arc current has been detected between the discharge electrode 13 and the target 5 by the current monitor 17. Thereafter, the high frequency voltage applied from the arc power supply 16 is switched to a DC voltage.

【0061】たとえば、放電用電極13をターゲット5
に対して傾斜して配置させた場合を例に挙げる(図4参
照)と、図1(a)に示すように、アーク放電の発熱に
より溶融して最終的に略球形/略楕円形状となったター
ゲット5は、表面張力上安定するため、一定の電極間隔
Dでアーク放電も安定し、アーク柱の形状がほぼ一定に
維持される。それゆえ、金属超微粒子が安定して生成さ
れて雰囲気ガスの流れ(図中矢印A)に沿って吹き出す
(図中矢印C)。
For example, the discharge electrode 13 is
As an example (see FIG. 4), an arrangement is made in such a manner as to be inclined with respect to .alpha., As shown in FIG. Since the target 5 is stable in terms of surface tension, the arc discharge is also stable at a constant electrode interval D, and the shape of the arc column is maintained substantially constant. Therefore, ultrafine metal particles are generated stably and blown out along the flow of the atmospheric gas (arrow A in the figure) (arrow C in the figure).

【0062】この金属超微粒子の生成に伴ってターゲッ
ト5は徐々に消耗して電極間隔Dは拡大するが、これに
伴って、電圧モニター18で検知される直流電圧値V
(検知結果)も変化する。そこで制御部40は、直流電
圧値Vがほぼ好適電圧値VB となる(V=VB )よう
に、位置変化機構15を動作させて電極間隔Dの拡大を
抑制する制御を行う。
The target 5 gradually wears out with the generation of the metal ultrafine particles, and the electrode interval D increases, but the DC voltage V detected by the voltage monitor 18 is accordingly increased.
(Detection result) also changes. Where the control unit 40, the DC voltage value V is substantially suitable voltage V B (V = V B) As described above, performs control to suppress the expansion of the electrode spacing D by operating the position change mechanism 15.

【0063】その結果、図1(b)に示すように、略球
形/略楕円形状のターゲット5が消耗して、その径が小
さくなっても、これに応じて位置変化機構15が動作
し、放電用電極13とターゲット5との間の電極間隔D
がほぼ一定に維持される。それゆえ、アーク柱の形状も
一定に維持され、金属超微粒子の生成と吹き出し方向は
雰囲気ガスの流れ方向に沿って安定化することになる。
As a result, as shown in FIG. 1 (b), even when the substantially spherical / elliptical target 5 is consumed and its diameter is reduced, the position changing mechanism 15 operates accordingly. Electrode spacing D between discharge electrode 13 and target 5
Is maintained substantially constant. Therefore, the shape of the arc column is also kept constant, and the generation and blowing direction of the ultrafine metal particles are stabilized along the flow direction of the atmospheric gas.

【0064】同様に、放電用電極13をターゲット5に
対して略垂直に配置させた場合であっても、図7(a)
に示すように、最終的に略球形/略楕円形状となったタ
ーゲット5は、一定の電極間隔Dにて、安定したアーク
柱を形成し、安定して金属超微粒子を生成する。しかし
ながら、金属超微粒子の生成に伴ってターゲット5が徐
々に消耗して電極間隔Dは拡大するので、電圧モニター
18で検知される直流電圧値Vがほぼ好適電圧値VB
なる(V=VB )ように、位置変化機構15を動作させ
て電極間隔Dの拡大を抑制する。その結果、図7(b)
に示すように、放電用電極13とターゲット5との間の
電極間隔Dがほぼ一定に維持されるので、アーク柱の形
状も一定に維持され、金属超微粒子の生成が安定化す
る。
Similarly, even when the discharge electrode 13 is arranged substantially perpendicular to the target 5, FIG.
As shown in (2), the target 5 finally having a substantially spherical / elliptical shape forms a stable arc column at a fixed electrode interval D and stably generates ultrafine metal particles. However, since the electrode spacing D is to enlarge depleted target 5 gradually along with the generation of the ultrafine metal particles, the DC voltage value V detected by the voltage monitoring 18 becomes almost suitable voltage V B (V = V B ) As described above, the position change mechanism 15 is operated to suppress an increase in the electrode interval D. As a result, FIG.
As shown in (2), since the electrode interval D between the discharge electrode 13 and the target 5 is maintained substantially constant, the shape of the arc column is also maintained constant, and the generation of ultrafine metal particles is stabilized.

【0065】アーク放電を開始させる上記高周波電圧の
範囲としては、特に限定されるものではない。たとえば
上述したような構成の製造装置では、約7kV前後の値
を挙げることができる。また、アーク放電開始後の上記
直流電圧(アーク電圧・放電電圧)の範囲としても特に
限定されるものではないが、30V以上50V以下の範
囲内が好ましく、20V以上30V以下の範囲内がより
好ましい。同様に、上記アーク放電に伴うアーク電流の
範囲としても特に限定されるものではないが、一般的に
は、100A以上400A以下の範囲内が好ましい。
The range of the high-frequency voltage for starting the arc discharge is not particularly limited. For example, in the manufacturing apparatus having the above-described configuration, a value of about 7 kV can be given. The range of the DC voltage (arc voltage / discharge voltage) after the start of arc discharge is not particularly limited, but is preferably in the range of 30 V to 50 V, and more preferably in the range of 20 V to 30 V. . Similarly, the range of the arc current associated with the arc discharge is not particularly limited, but is generally preferably in the range of 100A or more and 400A or less.

【0066】さらに、上記電極間隔Dの範囲としては、
アーク電源16の出力や、放電用電極13・ターゲット
5の材質等によって適宜設定されるものであって特に限
定されない。たとえば、放電用電極13として1〜2%
の酸化トリウムを含むタングステン電極を用い、ターゲ
ット5としてニッケルを用いる場合には、アーク放電開
始時点で1.0mm以上1.5mm以下の範囲内、アー
ク放電安定後の時点で5mm以上30mm以下の範囲内
を挙げることができる。
Further, the range of the electrode interval D is as follows.
It is appropriately set depending on the output of the arc power supply 16 and the materials of the discharge electrode 13 and the target 5, and is not particularly limited. For example, as the discharge electrode 13, 1-2%
When a nickel electrode is used as the target 5 using a tungsten electrode containing thorium oxide, a range of 1.0 mm to 1.5 mm at the start of arc discharge and a range of 5 mm to 30 mm at the time of stable arc discharge. Can be mentioned.

【0067】また、上記好適電圧値VB の具体的な値と
しても、電極間隔Dや装置の構成などによって適宜変化
するものであり特に限定されない。たとえば、電極間隔
D、直流電圧が上記範囲内であり、ターゲット5に対し
て放電用電極13が傾斜して配置される条件(図1・図
6等参照)では、約30V前後となる。
The specific value of the preferred voltage value V B also varies as appropriate depending on the electrode spacing D and the configuration of the device, and is not particularly limited. For example, under conditions where the electrode spacing D and the DC voltage are within the above ranges and the discharge electrode 13 is arranged obliquely with respect to the target 5 (see FIGS. 1 and 6 and the like), the voltage is about 30 V.

【0068】さらに、上記制御部40による位置変化機
構15の制御手法も、特に限定されるものではない。た
とえば本実施の形態では、PID制御(比例積分微分制
御)を用いている。
The method of controlling the position changing mechanism 15 by the control unit 40 is not particularly limited. For example, in the present embodiment, PID control (proportional-integral-differential control) is used.

【0069】このように、本実施の形態では、電圧モニ
ターにより得られる検知結果(直流電圧値V)を、電極
間隔Dを一定に維持するためのパラメータとして用いる
ことで、制御部は、位置変化機構の動作をより一層確実
に制御することができる。その結果、アーク放電が安定
してターゲットが徐々に消耗しても、電極間隔Dをほぼ
一定に維持してアーク柱の形状を安定させることが可能
になり、金属超微粒子を長時間安定して生成することが
できる。それゆえ、水素アーク法を用いてバッチ処理に
より金属超微粒子を生成しても、その生成量や粒径を所
定の範囲内に調整することが可能になり、高品質の金属
超微粒子を非常に安定して製造することができる。
As described above, in the present embodiment, by using the detection result (DC voltage value V) obtained by the voltage monitor as a parameter for maintaining the electrode interval D constant, the control unit can control the position change. The operation of the mechanism can be more reliably controlled. As a result, even if the arc discharge is stabilized and the target is gradually consumed, it becomes possible to maintain the electrode interval D substantially constant and stabilize the shape of the arc column, and to stabilize the ultrafine metal particles for a long time. Can be generated. Therefore, even when ultrafine metal particles are produced by batch processing using the hydrogen arc method, it is possible to adjust the production amount and particle size within a predetermined range, and to produce ultrahigh-quality ultrafine metal particles. It can be manufactured stably.

【0070】なお、本実施の形態では、ターゲットが消
耗することによって変化する上記電極間隔Dをほぼ一定
の値に維持するために、パラメータとして放電電圧(上
記直流電圧値V)を用いたが、本発明はこれに限定され
るものではない。すなわち本発明では、ターゲットの消
耗による電極間隔Dの拡大にほぼ対応させて上記放電用
電極およびターゲットの少なくとも一方の位置を変化さ
せて、該電極間隔Dを一定に維持するようになっていれ
ばよい。
In this embodiment, the discharge voltage (the DC voltage value V) is used as a parameter in order to maintain the electrode interval D, which changes as the target wears out, at a substantially constant value. The present invention is not limited to this. That is, in the present invention, if the position of at least one of the discharge electrode and the target is changed so as to substantially correspond to the increase in the electrode interval D due to the consumption of the target, the electrode interval D is kept constant. Good.

【0071】それゆえ、たとえば生成される金属超微粒
子の粒径を測定できる場合では、該粒径の測定値をパラ
メータとして用いて、放電用電極およびターゲットの少
なくとも一方の位置を変化させるように制御してもよい
し、画像認識システムを用いて、放電用電極およびター
ゲットの少なくとも一方の位置を変化させるように制御
してもよい。これら何れの場合でも、予め実験を行った
りすることで、粒径や電極間隔の好適な範囲を設定して
おけばよい。
Therefore, for example, when the particle size of the produced ultrafine metal particles can be measured, the measured value of the particle size is used as a parameter to control at least one of the position of the discharge electrode and the target. Alternatively, control may be performed to change at least one of the position of the discharge electrode and the position of the target using an image recognition system. In any of these cases, a suitable range of the particle size and the electrode interval may be set by conducting experiments in advance.

【0072】また、本発明における電極間隔を変化させ
る制御は、上述してきた説明から明らかなように、アー
ク放電が安定した後の期間でなされるものであり、アー
ク放電開始直後からアーク放電が安定化するまでの期間
において実施されるものではない。
Further, the control for changing the electrode interval in the present invention is performed during a period after the arc discharge is stabilized, as is clear from the above description. It will not be implemented in the period until it is changed.

【0073】[0073]

【発明の効果】以上のように、本発明にかかる金属超微
粒子の製造装置は、アーク放電の発生に伴う放電電圧を
検知する電圧検知手段と、放電用電極または保持電極の
何れか一方の位置を変化させて、放電用電極および金属
母材の間の間隔を変化させる位置変化手段と、少なくと
も該位置変化手段の動作を制御することにより上記放電
電圧をほぼ一定の値に維持する制御手段とを備えている
構成である。
As described above, the apparatus for producing ultrafine metal particles according to the present invention includes a voltage detecting means for detecting a discharge voltage accompanying the occurrence of arc discharge, and a position for one of the discharge electrode and the holding electrode. Position changing means for changing the distance between the discharge electrode and the metal base material, and control means for maintaining the discharge voltage at a substantially constant value by controlling at least the operation of the position changing means. It is a configuration provided with.

【0074】上記構成では、制御手段は、電圧検知手段
により検知した放電電圧を制御用のパラメータとして用
いるので、位置変化手段の動作をより一層確実に制御す
ることができる。その結果、金属超微粒子の生成により
金属母材が徐々に消耗しても電極間隔をほぼ一定に維持
してアーク柱の形状を安定させることが可能になり、金
属超微粒子を長時間安定して生成することができるとい
う効果を奏する。
In the above configuration, since the control means uses the discharge voltage detected by the voltage detecting means as a control parameter, the operation of the position changing means can be controlled more reliably. As a result, even if the metal base material is gradually consumed due to the generation of the ultrafine metal particles, it is possible to maintain the electrode gap almost constant and to stabilize the shape of the arc column, and to stabilize the ultrafine metal particles for a long time. This has the effect that it can be generated.

【0075】上記金属超微粒子の製造装置は、上記構成
に加えて、上記位置変化手段が、放電用電極の位置のみ
を変化させるものであることが好ましい。
In the above apparatus for producing ultrafine metal particles, it is preferable that, in addition to the above configuration, the position changing means changes only the position of the discharge electrode.

【0076】上記構成では、放電用電極の位置のみを変
化させることで電極間隔を変化させているため、保持電
極に比べて位置変化に必要な容積をより小さくすること
が可能となる。その結果、位置変化手段の構成、ひいて
は製造装置全体の構成を簡素化することができるという
効果を奏する。
In the above configuration, since only the position of the discharge electrode is changed to change the electrode interval, it is possible to make the volume required for the position change smaller than that of the holding electrode. As a result, there is an effect that the configuration of the position changing means and the configuration of the entire manufacturing apparatus can be simplified.

【0077】また、本発明にかかる金属超微粒子の製造
方法は、以上のように、アーク放電の発生に伴う放電電
圧を検知した上で、該放電電圧をほぼ一定の値に維持す
るように上記放電用電極および金属母材の少なくとも一
方の位置を変化させる方法である。
Further, as described above, the method for producing ultrafine metal particles according to the present invention detects the discharge voltage accompanying the occurrence of arc discharge, and maintains the discharge voltage at a substantially constant value. This is a method of changing at least one of the position of the discharge electrode and the metal base material.

【0078】上記方法では、アーク放電の放電電圧を検
知して、これを制御用のパラメータとして用いること
で、金属超微粒子の生成により金属母材が徐々に消耗し
ても電極間隔をほぼ一定に維持してアーク柱の形状を安
定させることが可能になる。その結果、金属超微粒子を
長時間安定して生成することができるという効果を奏す
る。
In the above method, the discharge voltage of the arc discharge is detected and used as a control parameter, so that even if the metal base material is gradually consumed due to the generation of the ultrafine metal particles, the electrode interval is kept substantially constant. It is possible to maintain and stabilize the shape of the arc column. As a result, there is an effect that metal ultrafine particles can be stably generated for a long time.

【0079】さらに本発明にかかる金属超微粒子の製造
方法は、上記放電電圧を検知しなくても、アーク放電の
発生により金属母材が消耗することによって変化する、
放電用電極および金属母材の間隔をほぼ一定の値に維持
するように上記放電用電極および金属母材の少なくとも
一方の位置を変化させる方法となっていればよい。
Further, in the method for producing ultrafine metal particles according to the present invention, even if the discharge voltage is not detected, the change is caused by the consumption of the metal base material due to the occurrence of arc discharge.
Any method may be used as long as at least one of the positions of the discharge electrode and the metal base material is changed so that the distance between the discharge electrode and the metal base material is maintained at a substantially constant value.

【0080】つまり電極間隔をほぼ一定に維持すること
で、アーク柱の形状を維持することができる。そのた
め、本発明では、上記電極間隔を直接検知したり、放電
電圧以外の各種パラメータを用いて間接的に検知して、
電極間隔を一定値に維持することで、アーク柱の形状を
維持して、金属超微粒子を安定して生成することができ
るという効果を奏する。
That is, the shape of the arc column can be maintained by maintaining the electrode interval substantially constant. Therefore, in the present invention, the electrode interval is directly detected, or indirectly detected using various parameters other than the discharge voltage,
By maintaining the electrode spacing at a constant value, there is an effect that the shape of the arc column can be maintained and metal ultrafine particles can be stably generated.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の第1の実施の形態にかかる金属超微粒
子の製造装置によってアーク放電が安定した状態での電
極間隔の状態を示す説明図であり、(a)はアーク放電
安定直後の状態を示し、(b)は、アーク放電安定後に
ターゲットが徐々に消耗した時点での状態を示す。
FIG. 1 is an explanatory view showing a state of an electrode interval in a state where arc discharge is stabilized by a manufacturing apparatus of ultrafine metal particles according to a first embodiment of the present invention, and FIG. (B) shows the state when the target is gradually consumed after the arc discharge is stabilized.

【図2】図1に示すアーク放電を実施する上記製造装置
の制御系統を示すブロック図である。
FIG. 2 is a block diagram showing a control system of the manufacturing apparatus for performing the arc discharge shown in FIG.

【図3】図2に示す製造装置の概略構成を示す模式図で
ある。
FIG. 3 is a schematic diagram showing a schematic configuration of the manufacturing apparatus shown in FIG.

【図4】図2に示す製造装置に備えられるシールドガス
形成のための構成を示す説明図である。
FIG. 4 is an explanatory diagram showing a configuration for forming a shielding gas provided in the manufacturing apparatus shown in FIG. 2;

【図5】図2に示す製造装置に用いられる放電用電極の
形状を示す説明図である。
FIG. 5 is an explanatory view showing a shape of a discharge electrode used in the manufacturing apparatus shown in FIG.

【図6】アーク放電の実施によりターゲットが消耗する
ことに伴う電極間隔の拡大を示す説明図である。
FIG. 6 is an explanatory diagram showing an enlargement of an electrode interval due to consumption of a target due to execution of arc discharge.

【図7】図1に示す金属超微粒子の製造装置によってア
ーク放電が安定した状態での電極間隔の状態の他の例を
示す説明図であり、(a)はアーク放電安定直後の状態
を示し、(b)は、アーク放電安定後にターゲットが徐
々に消耗した時点での状態を示す。
7A and 7B are explanatory diagrams showing another example of the state of electrode spacing in a state where arc discharge is stabilized by the apparatus for manufacturing ultrafine metal particles shown in FIG. 1; FIG. 7A shows a state immediately after arc discharge is stabilized; And (b) shows the state at the time when the target is gradually consumed after the arc discharge is stabilized.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

5 ターゲット(金属母材) 13 放電用電極 14 保持台(保持電極) 15 位置変化機構(位置変化手段) 16 アーク電源 18 電圧モニター(電圧検知手段) 40 制御部(制御手段) 5 Target (Metal Base Material) 13 Discharge Electrode 14 Holder (Holding Electrode) 15 Position Changing Mechanism (Position Changing Means) 16 Arc Power Supply 18 Voltage Monitor (Voltage Detecting Means) 40 Control Unit (Control Means)

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 唐沢 泰彦 京都府長岡京市天神二丁目26番10号 株式 会社村田製作所内 Fターム(参考) 4K017 AA02 CA08 EA13  ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (72) Inventor Yasuhiko Karasawa 2-26-10 Tenjin, Nagaokakyo-shi, Kyoto F-term in Murata Manufacturing Co., Ltd. 4K017 AA02 CA08 EA13

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】放電用電極と、該放電用電極に近接した位
置に設けられ、金属母材を保持する保持電極と、これら
に接続されるアーク電源とを備えており、アーク電源よ
り上記放電用電極および保持電極の間に電圧を印加する
ことによってアーク放電を発生させる金属超微粒子の製
造装置において、 さらに、アーク放電の発生に伴う放電電圧を検知する電
圧検知手段と、 上記放電用電極または保持電極の何れか一方の位置を変
化させて、放電用電極および金属母材の間の間隔を変化
させる位置変化手段と、 少なくとも該位置変化手段の動作を制御することにより
上記放電電圧をほぼ一定の値に維持する制御手段とを備
えていることを特徴とする金属超微粒子の製造装置。
A discharge electrode, a holding electrode provided at a position close to the discharge electrode for holding a metal base material, and an arc power supply connected thereto; The apparatus for producing metal ultrafine particles that generates an arc discharge by applying a voltage between the electrode for use and the holding electrode, further comprising: voltage detection means for detecting a discharge voltage accompanying the occurrence of the arc discharge; A position changing means for changing a position of one of the holding electrodes to change an interval between the discharge electrode and the metal base material; and controlling the operation of at least the position changing means to make the discharge voltage substantially constant. And a control means for maintaining the value of the ultrafine metal particles.
【請求項2】上記位置変化手段は、放電用電極の位置の
みを変化させるものであることを特徴とする請求項1記
載の金属超微粒子の製造装置。
2. The apparatus according to claim 1, wherein said position changing means changes only the position of the discharge electrode.
【請求項3】放電用電極および金属母材を近接して配置
し、これらの間に電圧を印加することによって、アーク
放電を発生させる金属超微粒子の製造方法において、 アーク放電の発生に伴う放電電圧を検知した上で、該放
電電圧をほぼ一定の値に維持するように上記放電用電極
および金属母材の少なくとも一方の位置を変化させるこ
とを特徴とする金属超微粒子の製造方法。
3. A method for producing ultrafine metal particles in which a discharge electrode and a metal base material are arranged close to each other and a voltage is applied between the electrodes and the metal base material to produce an arc discharge. A method for producing ultrafine metal particles, comprising detecting a voltage and changing at least one of the position of the discharge electrode and the metal base material so as to maintain the discharge voltage at a substantially constant value.
【請求項4】放電用電極および金属母材を近接して配置
し、これらの間に電圧を印加することによって、アーク
放電を発生させる金属超微粒子の製造方法において、 アーク放電の発生により金属母材が消耗することによっ
て変化する、放電用電極および金属母材の間隔をほぼ一
定の値に維持するように上記放電用電極および金属母材
の少なくとも一方の位置を変化させることを特徴とする
金属超微粒子の製造方法。
4. A method for producing ultrafine metal particles in which a discharge electrode and a metal base material are arranged close to each other and a voltage is applied between the electrodes to generate an arc discharge, the method comprising the steps of: A metal which changes as the material is consumed, wherein at least one of the position of the discharge electrode and the metal base material is changed so as to maintain the distance between the discharge electrode and the metal base material at a substantially constant value. A method for producing ultrafine particles.
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