JP2002236224A - ファイバグレーティング作製方法、作製装置、及びファイバグレーティング - Google Patents
ファイバグレーティング作製方法、作製装置、及びファイバグレーティングInfo
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- JP2002236224A JP2002236224A JP2001032736A JP2001032736A JP2002236224A JP 2002236224 A JP2002236224 A JP 2002236224A JP 2001032736 A JP2001032736 A JP 2001032736A JP 2001032736 A JP2001032736 A JP 2001032736A JP 2002236224 A JP2002236224 A JP 2002236224A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 損失中心波長又は損失特性の異なる種々の長
周期ファイバグレーティングを安価に提供する作製方
法、作製装置、及び特性の異なる種々の長周期ファイバ
グレーティングを提供する。 【解決手段】 長周期ファイバグレーティングの作製装
置１は、レーザ装置２と、ミラー３と、強度変調マスク
４と、マスク保持部材５と、光ファイバ載置台６とを備
える。マスク保持部材５は、強度変調マスク４が有する
パターンが光ファイバの長手方向に対して所定の角度と
なるように強度変調マスク４を回転する回転機構を有す
る。長周期ファイバグレーティングの作製に際して、こ
の角度を適宜調整することによって、マスクを取り替え
ることなく様々な損失ピーク波長を有する種々の長周期
ファイバグレーティングを作製できる。
周期ファイバグレーティングを安価に提供する作製方
法、作製装置、及び特性の異なる種々の長周期ファイバ
グレーティングを提供する。 【解決手段】 長周期ファイバグレーティングの作製装
置１は、レーザ装置２と、ミラー３と、強度変調マスク
４と、マスク保持部材５と、光ファイバ載置台６とを備
える。マスク保持部材５は、強度変調マスク４が有する
パターンが光ファイバの長手方向に対して所定の角度と
なるように強度変調マスク４を回転する回転機構を有す
る。長周期ファイバグレーティングの作製に際して、こ
の角度を適宜調整することによって、マスクを取り替え
ることなく様々な損失ピーク波長を有する種々の長周期
ファイバグレーティングを作製できる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、光ファイバに屈折
率変化誘起光を照射して作製されるファイバグレーティ
ング、その作製方法、及びその作製装置に関する。
率変化誘起光を照射して作製されるファイバグレーティ
ング、その作製方法、及びその作製装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】ファイバグレーティングは、二酸化ゲル
マニウム(ＧｅＯ2)等の紫外光等の照射により屈折率変
化を誘起する添加物が添加された光ファイバに対し、屈
折率変化誘起光を所定のパターンを有するマスクを透過
させて照射することにより作製される。このようなファ
イバグレーティングの中には、光増幅器の利得の波長依
存性を平坦化する利得等化フィルタとして一般に用いら
れる長周期ファイバグレーティングがある。
マニウム(ＧｅＯ2)等の紫外光等の照射により屈折率変
化を誘起する添加物が添加された光ファイバに対し、屈
折率変化誘起光を所定のパターンを有するマスクを透過
させて照射することにより作製される。このようなファ
イバグレーティングの中には、光増幅器の利得の波長依
存性を平坦化する利得等化フィルタとして一般に用いら
れる長周期ファイバグレーティングがある。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】長周期ファイバグレー
ティングが利得等化フィルタとして利用されることを考
慮すると、様々な透過損失中心波長又は損失特性を有す
る種々の長周期ファイバグレーティングが必要とされ
る。このような種々の長周期ファイバグレーティングを
作製するためには、作製しようとする長周期ファイバグ
レーティングの種類毎にピッチの異なるパターンを有す
る複数個のマスクを用意する必要がある。このように複
数個のマスクを用意する場合には、マスクにかかるコス
トが高くならざるを得なかった。
ティングが利得等化フィルタとして利用されることを考
慮すると、様々な透過損失中心波長又は損失特性を有す
る種々の長周期ファイバグレーティングが必要とされ
る。このような種々の長周期ファイバグレーティングを
作製するためには、作製しようとする長周期ファイバグ
レーティングの種類毎にピッチの異なるパターンを有す
る複数個のマスクを用意する必要がある。このように複
数個のマスクを用意する場合には、マスクにかかるコス
トが高くならざるを得なかった。
【０００４】また、従来は、異なる種類の長周期ファイ
バグレーティングを作製する毎にマスクを交換しなけれ
ばならず作製に手間がかかっていた。
バグレーティングを作製する毎にマスクを交換しなけれ
ばならず作製に手間がかかっていた。
【０００５】本発明は、このような事情を鑑みてなされ
たものであり、損失中心波長又は損失特性の異なる種々
の長周期ファイバグレーティングを安価に提供する作製
方法、作製装置、及び特性の異なる種々の長周期ファイ
バグレーティングを提供することを目的とする。
たものであり、損失中心波長又は損失特性の異なる種々
の長周期ファイバグレーティングを安価に提供する作製
方法、作製装置、及び特性の異なる種々の長周期ファイ
バグレーティングを提供することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明に係るファイバグ
レーティングの作製方法は、屈折率変化誘起光の照射に
より屈折率変化を引き起こす添加物が添加された光ファ
イバに対し屈折率変化誘起光を照射してファイバグレー
ティングを作製する方法であって、光ファイバにグレー
ティングを形成するためにマスク部材に備えられたパタ
ーンと光ファイバの長手方向とのなす角度を調整し、屈
折率変化誘起光をマスク部材を透過させて光ファイバに
照射してファイバグレーティングを作製することを特徴
とする。
レーティングの作製方法は、屈折率変化誘起光の照射に
より屈折率変化を引き起こす添加物が添加された光ファ
イバに対し屈折率変化誘起光を照射してファイバグレー
ティングを作製する方法であって、光ファイバにグレー
ティングを形成するためにマスク部材に備えられたパタ
ーンと光ファイバの長手方向とのなす角度を調整し、屈
折率変化誘起光をマスク部材を透過させて光ファイバに
照射してファイバグレーティングを作製することを特徴
とする。
【０００７】上記の作製方法によれば、マスク部材が有
するパターンが光ファイバの長手方向に対して所定の角
度となるようにマスク部材と光ファイバとが保持され
る。マスク部材と光ファイバとをこのように保持した後
に、屈折率変化を生じさせる添加物が添加された光ファ
イバに対してマスク部材を通過した屈折率変化誘起光を
照射する。これにより、マスク部材の通過によって周期
的な強度分布を持った屈折率変化誘起光により光ファイ
バにグレーティングが形成される。ここで、マスク部材
が有するパターンと光ファイバの長手方向とのなす角度
が適宜調整されれば、屈折率変化誘起光が有する強度分
布の光ファイバの長手方向に沿った実質的な周期が変更
される。すなわち、長周期ファイバグレーティングの作
製に際して、この角度を適宜調整することのみによっ
て、様々な損失最大波長を有する種々の長周期ファイバ
グレーティングが作製される。
するパターンが光ファイバの長手方向に対して所定の角
度となるようにマスク部材と光ファイバとが保持され
る。マスク部材と光ファイバとをこのように保持した後
に、屈折率変化を生じさせる添加物が添加された光ファ
イバに対してマスク部材を通過した屈折率変化誘起光を
照射する。これにより、マスク部材の通過によって周期
的な強度分布を持った屈折率変化誘起光により光ファイ
バにグレーティングが形成される。ここで、マスク部材
が有するパターンと光ファイバの長手方向とのなす角度
が適宜調整されれば、屈折率変化誘起光が有する強度分
布の光ファイバの長手方向に沿った実質的な周期が変更
される。すなわち、長周期ファイバグレーティングの作
製に際して、この角度を適宜調整することのみによっ
て、様々な損失最大波長を有する種々の長周期ファイバ
グレーティングが作製される。
【０００８】また、本発明に係るファイバグレーティン
グの作製装置は、屈折率変化誘起光の照射により屈折率
変化を引き起こす添加物が添加された光ファイバに対し
屈折率変化誘起光を照射してファイバグレーティングを
作製する作製装置であって、屈折率変化誘起光を放射す
る光源と、この光源からの屈折率変化誘起光の照射によ
り光ファイバにグレーティングを形成するためのパター
ンを有するマスク部材と、マスク部材を保持する保持手
段と、光ファイバを保持する光ファイバ保持手段と、保
持手段により保持されるマスク部材が有するパターンと
光ファイバ保持手段により保持される光ファイバの長手
方向とのなす角度を調整する角度調整手段とを備えるこ
とを特徴とする。
グの作製装置は、屈折率変化誘起光の照射により屈折率
変化を引き起こす添加物が添加された光ファイバに対し
屈折率変化誘起光を照射してファイバグレーティングを
作製する作製装置であって、屈折率変化誘起光を放射す
る光源と、この光源からの屈折率変化誘起光の照射によ
り光ファイバにグレーティングを形成するためのパター
ンを有するマスク部材と、マスク部材を保持する保持手
段と、光ファイバを保持する光ファイバ保持手段と、保
持手段により保持されるマスク部材が有するパターンと
光ファイバ保持手段により保持される光ファイバの長手
方向とのなす角度を調整する角度調整手段とを備えるこ
とを特徴とする。
【０００９】このような作製装置によれば、角度調整手
段により、マスク部材が有するパターンと光ファイバの
長手方向とのなす角度が容易に調整され得る。そのた
め、様々な損失最大波長を有する種々の長周期ファイバ
グレーティングが容易に作製される。
段により、マスク部材が有するパターンと光ファイバの
長手方向とのなす角度が容易に調整され得る。そのた
め、様々な損失最大波長を有する種々の長周期ファイバ
グレーティングが容易に作製される。
【００１０】また、本発明に係る長周期ファイバグレー
ティングは、上記のファイバグレーティングの作製方法
及び作製装置により作製されることを特徴とする。
ティングは、上記のファイバグレーティングの作製方法
及び作製装置により作製されることを特徴とする。
【００１１】
【発明の実施の形態】以下、本発明に係る長周期ファイ
バグレーティングの作製方法及び装置の好適な実施形態
について図面を参照しながら説明する。なお、以下の説
明においては、同一の要素には同一の符号を用いること
とし、重複する説明は省略する。
バグレーティングの作製方法及び装置の好適な実施形態
について図面を参照しながら説明する。なお、以下の説
明においては、同一の要素には同一の符号を用いること
とし、重複する説明は省略する。
【００１２】図１は、本実施形態の長周期ファイバグレ
ーティングの作製方法に用いられる長周期ファイバグレ
ーティングの作製装置の模式図である。図２(ａ)は、図
１の長周期ファイバグレーティングの作製装置の要部を
模式的に示す平面図である。図２(ｂ)は、図２(ａ)のＩ
−Ｉ線における断面図である。図１において、長周期フ
ァイバグレーティングの作製装置１は、レーザ装置２、
ミラー３、強度変調マスク４、マスク保持部材５、及び
光ファイバ載置台６を備える。レーザ装置２は、例えば
ＫｒＦエキシマレーザ装置のような紫外域レーザ光Ｌを
放射する。ミラー３は、レーザ装置２からのレーザ光Ｌ
を反射し、同レーザ光Ｌを強度変調マスク４に対して照
射させる。
ーティングの作製方法に用いられる長周期ファイバグレ
ーティングの作製装置の模式図である。図２(ａ)は、図
１の長周期ファイバグレーティングの作製装置の要部を
模式的に示す平面図である。図２(ｂ)は、図２(ａ)のＩ
−Ｉ線における断面図である。図１において、長周期フ
ァイバグレーティングの作製装置１は、レーザ装置２、
ミラー３、強度変調マスク４、マスク保持部材５、及び
光ファイバ載置台６を備える。レーザ装置２は、例えば
ＫｒＦエキシマレーザ装置のような紫外域レーザ光Ｌを
放射する。ミラー３は、レーザ装置２からのレーザ光Ｌ
を反射し、同レーザ光Ｌを強度変調マスク４に対して照
射させる。
【００１３】強度変調マスク４は、レーザ装置２から放
射される紫外域レーザ光Ｌを透過する材料で構成され、
縞状パターンを有している。図２(ａ)に示す通り、この
縞状パターンは、所定の間隔で配列しレーザ光Ｌの透過
を妨げる線Ｓから成る。縞状パターンのピッチ(隣合う
２つの線Ｓの間隔と一方の線Ｓの線幅との合計)は数百
μｍ程度である。このような縞状パターンを有する強度
変調マスク４を透過するレーザ光Ｌは、この縞状パター
ンにより周期的な強度分布を有することになる。
射される紫外域レーザ光Ｌを透過する材料で構成され、
縞状パターンを有している。図２(ａ)に示す通り、この
縞状パターンは、所定の間隔で配列しレーザ光Ｌの透過
を妨げる線Ｓから成る。縞状パターンのピッチ(隣合う
２つの線Ｓの間隔と一方の線Ｓの線幅との合計)は数百
μｍ程度である。このような縞状パターンを有する強度
変調マスク４を透過するレーザ光Ｌは、この縞状パター
ンにより周期的な強度分布を有することになる。
【００１４】マスク保持部材５は強度変調マスク４を保
持する。また、マスク保持部材５には、保持された強度
変調マスク４を水平方向に回転する回転機構が設けられ
ている。これにより、強度変調マスク４の縞状パターン
を構成する線Ｓと垂直な方向が光ファイバ７の長手方向
に対して所定の角度となるよう適宜調整され得る。さら
に、マスク保持部材５は、上記の角度が調整された後
に、強度変調マスク４をしっかりと固定し得ると好まし
い。マスク保持部材５は、例えば、回転ステージを有す
るユニバーサルステージ又は光学ステージといった光学
実験用部品等を適宜組み合わせるようにして構成されて
よい。
持する。また、マスク保持部材５には、保持された強度
変調マスク４を水平方向に回転する回転機構が設けられ
ている。これにより、強度変調マスク４の縞状パターン
を構成する線Ｓと垂直な方向が光ファイバ７の長手方向
に対して所定の角度となるよう適宜調整され得る。さら
に、マスク保持部材５は、上記の角度が調整された後
に、強度変調マスク４をしっかりと固定し得ると好まし
い。マスク保持部材５は、例えば、回転ステージを有す
るユニバーサルステージ又は光学ステージといった光学
実験用部品等を適宜組み合わせるようにして構成されて
よい。
【００１５】光ファイバ載置台６は、長周期グレーティ
ングが形成される光ファイバ７を当該載置台６に固定す
る固定部材６ａを有している。すなわち、グレーティン
グが形成される光ファイバ７は、図２(ｂ)に示す通り、
強度変調マスク４の下方に載置されて固定部材６ａによ
り固定される。光ファイバ７には、レーザ光Ｌの照射に
より屈折率に変化を生じさせる添加物であるＧｅＯ2等
が添加されている。
ングが形成される光ファイバ７を当該載置台６に固定す
る固定部材６ａを有している。すなわち、グレーティン
グが形成される光ファイバ７は、図２(ｂ)に示す通り、
強度変調マスク４の下方に載置されて固定部材６ａによ
り固定される。光ファイバ７には、レーザ光Ｌの照射に
より屈折率に変化を生じさせる添加物であるＧｅＯ2等
が添加されている。
【００１６】次に、上記のように構成された長周期ファ
イバグレーティングの作製装置１を用いて実施される長
周期ファイバグレーティングの作製方法について説明す
る。
イバグレーティングの作製装置１を用いて実施される長
周期ファイバグレーティングの作製方法について説明す
る。
【００１７】先ず、強度変調マスク４の下方に光ファイ
バ７を載置し、固定部材６ａを用いて光ファイバ７を光
ファイバ載置台６に固定する。そして、強度変調マスク
４をマスク保持部材５に取付ける。次に、強度変調マス
ク４の縞状パターンを構成する線Ｓと垂直な方向が光フ
ァイバの長手方向に対して所定の角度となるようにマス
ク保持部材５を調整する。ここで、所定の角度は、後述
のように、損失ピーク波長の角度依存性に関する検討等
を予め行ない、その結果に基づいて決定されるのが好ま
しい。
バ７を載置し、固定部材６ａを用いて光ファイバ７を光
ファイバ載置台６に固定する。そして、強度変調マスク
４をマスク保持部材５に取付ける。次に、強度変調マス
ク４の縞状パターンを構成する線Ｓと垂直な方向が光フ
ァイバの長手方向に対して所定の角度となるようにマス
ク保持部材５を調整する。ここで、所定の角度は、後述
のように、損失ピーク波長の角度依存性に関する検討等
を予め行ない、その結果に基づいて決定されるのが好ま
しい。
【００１８】マスク保持部材５を調整した後、レーザ装
置２からレーザ光Ｌを放出させれば、レーザ光Ｌはミラ
ー３に反射されて、強度変調マスク４に対して垂直に照
射される。強度変調マスク４に照射されたレーザ光Ｌ
は、強度変調マスク４を透過する際に所定の強度変調を
受けて周期的な強度分布を持つこととなる。このような
周期的な強度分布を持つレーザ光Ｌの照射により、強度
の強い部分において光ファイバ７中に添加されたＧｅＯ
2等により屈折率が高くなり、その結果、周期的な屈折
率変化を有する長周期グレーティングが形成される。
置２からレーザ光Ｌを放出させれば、レーザ光Ｌはミラ
ー３に反射されて、強度変調マスク４に対して垂直に照
射される。強度変調マスク４に照射されたレーザ光Ｌ
は、強度変調マスク４を透過する際に所定の強度変調を
受けて周期的な強度分布を持つこととなる。このような
周期的な強度分布を持つレーザ光Ｌの照射により、強度
の強い部分において光ファイバ７中に添加されたＧｅＯ
2等により屈折率が高くなり、その結果、周期的な屈折
率変化を有する長周期グレーティングが形成される。
【００１９】続いて、上記の長周期ファイバグレーティ
ングの作製方法及び作製装置１の作用について説明す
る。図３(ａ)は、強度変調マスク４と光ファイバ７との
位置関係を示す模式図である。図３(ｂ)は、本実施形態
の長周期ファイバグレーティングの作製装置１により作
製した複数個の長周期ファイバグレーティングの透過ス
ペクトルを示すグラフである。図３(ｃ)は、強度変調マ
スク４に設けられた縞状パターンと光ファイバ７とのな
す角度に対して損失最大波長がどのように変化するかを
示す特性図である。
ングの作製方法及び作製装置１の作用について説明す
る。図３(ａ)は、強度変調マスク４と光ファイバ７との
位置関係を示す模式図である。図３(ｂ)は、本実施形態
の長周期ファイバグレーティングの作製装置１により作
製した複数個の長周期ファイバグレーティングの透過ス
ペクトルを示すグラフである。図３(ｃ)は、強度変調マ
スク４に設けられた縞状パターンと光ファイバ７とのな
す角度に対して損失最大波長がどのように変化するかを
示す特性図である。
【００２０】図３(ａ)に示す通り、強度変調マスク４に
は、ピッチ４００μｍで周期的に配置された複数本の線
Ｓからなる縞状のパターンが設けられている。ここで、
図示の通り、この線Ｓと直交する方向と光ファイバの長
手方向とのなす角度をθ(°)とする。この角度θは、上
述の通り、マスク保持部材５により適宜設定される。
は、ピッチ４００μｍで周期的に配置された複数本の線
Ｓからなる縞状のパターンが設けられている。ここで、
図示の通り、この線Ｓと直交する方向と光ファイバの長
手方向とのなす角度をθ(°)とする。この角度θは、上
述の通り、マスク保持部材５により適宜設定される。
【００２１】図３(ｂ)に、角度θを０°及び３．３°に
設定して作製した２つの長周期ファイバグレーティング
の透過スペクトルＴ1及びＴ2を示す。同図から、角度θ
の相違によって透過率が最小となる波長、すなわち損失
ピーク波長が変化することがわかる。また、図３(ｃ)に
示した、損失ピーク波長の角度θ依存性の結果から、角
度θを０°から約６°まで変えることにより、損失ピー
ク波長を１５４６ｎｍから１５５５ｎｍまで容易に変化
させられることが分かる。
設定して作製した２つの長周期ファイバグレーティング
の透過スペクトルＴ1及びＴ2を示す。同図から、角度θ
の相違によって透過率が最小となる波長、すなわち損失
ピーク波長が変化することがわかる。また、図３(ｃ)に
示した、損失ピーク波長の角度θ依存性の結果から、角
度θを０°から約６°まで変えることにより、損失ピー
ク波長を１５４６ｎｍから１５５５ｎｍまで容易に変化
させられることが分かる。
【００２２】角度θによって損失ピーク波長を制御でき
る理由は、強度変調マスク４に設けられた縞状パターン
のピッチが角度θの変更により実質的に変化することに
ある。すなわち、図３(ａ)に示す通り、縞状パターンの
本来のピッチ(４００μｍ)は、この縞状パターンの線Ｓ
と直交する直線上の点Ａと点Ｂとの間隔に相当する。し
かし、この縞状パターンを光ファイバ７の長手方向に対
して角度θ傾けるようにするため、実質的なピッチは、
光ファイバ７の長手方向に伸びる直線上の点Ａと点Ｃと
の間隔に相当する。この間隔は、本来のピッチと角度θ
とから４００/cos(θ)μｍで与えられる。
る理由は、強度変調マスク４に設けられた縞状パターン
のピッチが角度θの変更により実質的に変化することに
ある。すなわち、図３(ａ)に示す通り、縞状パターンの
本来のピッチ(４００μｍ)は、この縞状パターンの線Ｓ
と直交する直線上の点Ａと点Ｂとの間隔に相当する。し
かし、この縞状パターンを光ファイバ７の長手方向に対
して角度θ傾けるようにするため、実質的なピッチは、
光ファイバ７の長手方向に伸びる直線上の点Ａと点Ｃと
の間隔に相当する。この間隔は、本来のピッチと角度θ
とから４００/cos(θ)μｍで与えられる。
【００２３】図４は、角度θ(０°〜６°)から実質的な
ピッチである４００/cos(θ)μｍを求め、このピッチに
対して損失ピーク波長がどのように変化するかを示すグ
ラフである。角度θを０°から６°へと変化させること
は、実質的なピッチを４００μｍから４０２μｍへと変
化させることに相当する。そして、実質的なピッチを変
化させることにより、損失ピーク波長が１５４６μｍか
ら１５５５μｍの範囲にあるような長周期ファイバグレ
ーティングが作製され得ることが分かる。
ピッチである４００/cos(θ)μｍを求め、このピッチに
対して損失ピーク波長がどのように変化するかを示すグ
ラフである。角度θを０°から６°へと変化させること
は、実質的なピッチを４００μｍから４０２μｍへと変
化させることに相当する。そして、実質的なピッチを変
化させることにより、損失ピーク波長が１５４６μｍか
ら１５５５μｍの範囲にあるような長周期ファイバグレ
ーティングが作製され得ることが分かる。
【００２４】なお、作製装置１により、強度変調マスク
４と光ファイバ７の長手方向とのなす角をθ°として作
製した長周期ファイバグレーティングは、グレーティン
グ部に周期的に設けられる高屈折率部と屈折率が増加し
ていない部分との界面が光ファイバ７の長手方向に対し
て９０°−θ°といった角度を成しているという構成上
の特徴を有している。
４と光ファイバ７の長手方向とのなす角をθ°として作
製した長周期ファイバグレーティングは、グレーティン
グ部に周期的に設けられる高屈折率部と屈折率が増加し
ていない部分との界面が光ファイバ７の長手方向に対し
て９０°−θ°といった角度を成しているという構成上
の特徴を有している。
【００２５】以上説明したように、本実施形態の作製方
法及び作製装置１によれば、強度変調マスク４を一つだ
け用いた場合であっても、損失ピーク波長がそれぞれ異
なる長周期ファイバグレーティングを作製することがで
きる。例えば、図中の５つの黒丸で示す損失ピーク波長
を有する長周期ファイバグレーティングをそれぞれ作製
する場合には、従来の方法では５つの強度変調マスク４
を用意しなければならなかった。本実施形態の作製方法
及び作製装置１によれば、強度変調マスク４は唯一つで
よいので、強度変調マスク４に要するコストを低減でき
る。その結果、長周期ファイバグレーティングの作製コ
ストを低減できる。
法及び作製装置１によれば、強度変調マスク４を一つだ
け用いた場合であっても、損失ピーク波長がそれぞれ異
なる長周期ファイバグレーティングを作製することがで
きる。例えば、図中の５つの黒丸で示す損失ピーク波長
を有する長周期ファイバグレーティングをそれぞれ作製
する場合には、従来の方法では５つの強度変調マスク４
を用意しなければならなかった。本実施形態の作製方法
及び作製装置１によれば、強度変調マスク４は唯一つで
よいので、強度変調マスク４に要するコストを低減でき
る。その結果、長周期ファイバグレーティングの作製コ
ストを低減できる。
【００２６】強度変調マスク４に破損やよごれ等があれ
ば、作製される長周期ファイバグレーティングの特性が
劣化するなどの問題が生じてしまう。強度変調マスク４
の破損やよごれ等を防ぐためには、デシケータ等の専用
の保管場所が必要となる。本実施形態の作製装置１を用
いて長周期ファイバグレーティングを作製する場合は、
必要となる強度変調マスク４の数を低減できるので、保
管場所或いは保管にかかるスペース及びコストを低減で
きる。
ば、作製される長周期ファイバグレーティングの特性が
劣化するなどの問題が生じてしまう。強度変調マスク４
の破損やよごれ等を防ぐためには、デシケータ等の専用
の保管場所が必要となる。本実施形態の作製装置１を用
いて長周期ファイバグレーティングを作製する場合は、
必要となる強度変調マスク４の数を低減できるので、保
管場所或いは保管にかかるスペース及びコストを低減で
きる。
【００２７】また、強度変調マスク４の破損やよごれ等
を防ぐためには、その取扱いには注意を要する。本実施
形態の作製装置１によれば、１つの強度変調マスク４で
種々の特性を有する長周期ファイバグレーティングを作
製できるので、強度変調マスク４の交換作業の頻度が低
減される。そのため、破損やよごれの生じる可能性が低
減され得る。また、このような事情から、作製装置１は
作業員の作業上の負担を軽減し得るといった利点を有し
ている。
を防ぐためには、その取扱いには注意を要する。本実施
形態の作製装置１によれば、１つの強度変調マスク４で
種々の特性を有する長周期ファイバグレーティングを作
製できるので、強度変調マスク４の交換作業の頻度が低
減される。そのため、破損やよごれの生じる可能性が低
減され得る。また、このような事情から、作製装置１は
作業員の作業上の負担を軽減し得るといった利点を有し
ている。
【００２８】以上、実施形態に基づいて、本発明による
長周期ファイバグレーティングの作製装置について説明
したが、本発明は上記の実施形態に限られることなく、
様々な変形が可能である。
長周期ファイバグレーティングの作製装置について説明
したが、本発明は上記の実施形態に限られることなく、
様々な変形が可能である。
【００２９】上記の実施形態においては、強度変調マス
ク４がマスク保持部材５により回転され、強度変調マス
ク４の縞状パターンが光ファイバ７の長手方向に対して
所定の角度となるようにされた。しかし、光ファイバ載
置台６を回転可能に設け、これを回転させることによ
り、強度変調マスク４の縞状パターンが光ファイバ７の
長手方向に対して所定の角度をなすようにしてもよい。
ク４がマスク保持部材５により回転され、強度変調マス
ク４の縞状パターンが光ファイバ７の長手方向に対して
所定の角度となるようにされた。しかし、光ファイバ載
置台６を回転可能に設け、これを回転させることによ
り、強度変調マスク４の縞状パターンが光ファイバ７の
長手方向に対して所定の角度をなすようにしてもよい。
【００３０】また、マスク保持部材５と回転可能な光フ
ァイバ載置台６とを互いに回転させて上記の所定の角度
を実現するようにしても良い。さらにまた、回転可能な
光ファイバ載置台６の回転方向は、水平方向に限らず、
光ファイバ７を強度変調マスク４の裏面(レーザ光Ｌの
放出側面)と垂直な方向に所定の角度をなすように保持
するようにしても構わない。
ァイバ載置台６とを互いに回転させて上記の所定の角度
を実現するようにしても良い。さらにまた、回転可能な
光ファイバ載置台６の回転方向は、水平方向に限らず、
光ファイバ７を強度変調マスク４の裏面(レーザ光Ｌの
放出側面)と垂直な方向に所定の角度をなすように保持
するようにしても構わない。
【００３１】さらに、強度変調マスク４に替わって回折
光学素子等を用い、屈折率変化誘起光が周期的な強度分
布を持つようにしても良い。
光学素子等を用い、屈折率変化誘起光が周期的な強度分
布を持つようにしても良い。
【００３２】作製するグレーティングの長さを考慮の
上、レーザ装置２から放出されるレーザ光Ｌのビーム径
を光学レンズ系等により適宜調整すると好ましい。ま
た、ミラー３を移動可能に設け、このミラー３を移動さ
せることによりレーザ光Ｌを光ファイバの長手方向に沿
って掃引すれば、比較的長いファイバグレーティングを
作製する場合に好適である。
上、レーザ装置２から放出されるレーザ光Ｌのビーム径
を光学レンズ系等により適宜調整すると好ましい。ま
た、ミラー３を移動可能に設け、このミラー３を移動さ
せることによりレーザ光Ｌを光ファイバの長手方向に沿
って掃引すれば、比較的長いファイバグレーティングを
作製する場合に好適である。
【００３３】
【発明の効果】以上説明したように、本発明に係るファ
イバグレーティングの作製方法及び作製装置によれば、
マスク部材に設けられたパターンと光ファイバの長手方
向とのなす角度が適宜調整される。この調整により、様
々な損失中心波長或いは損失特性を有する種々のファイ
バグレーティングが安価に提供される。
イバグレーティングの作製方法及び作製装置によれば、
マスク部材に設けられたパターンと光ファイバの長手方
向とのなす角度が適宜調整される。この調整により、様
々な損失中心波長或いは損失特性を有する種々のファイ
バグレーティングが安価に提供される。
【図１】図１は、本実施形態の長周期ファイバグレーテ
ィングの作製方法に用いられる長周期ファイバグレーテ
ィングの作製装置の模式図である。
ィングの作製方法に用いられる長周期ファイバグレーテ
ィングの作製装置の模式図である。
【図２】図２(ａ)は、図１の長周期ファイバグレーティ
ングの作製装置の要部を模式的に示す平面図である。図
２(ｂ)は、図２(ａ)のＩ−Ｉ線における断面図である。
ングの作製装置の要部を模式的に示す平面図である。図
２(ｂ)は、図２(ａ)のＩ−Ｉ線における断面図である。
【図３】図３(ａ)は、強度変調マスク４と光ファイバ７
との位置関係を示す模式図である。図３(ｂ)は、本実施
形態の長周期ファイバグレーティングの作製装置により
作製した長周期ファイバグレーティングの透過スペクト
ルを示すグラフである。図３(ｃ)は、強度変調マスクに
設けられた縞状パターンと光ファイバとのなす角度に対
して損失最大波長がどのように変化するかを示す特性図
である。
との位置関係を示す模式図である。図３(ｂ)は、本実施
形態の長周期ファイバグレーティングの作製装置により
作製した長周期ファイバグレーティングの透過スペクト
ルを示すグラフである。図３(ｃ)は、強度変調マスクに
設けられた縞状パターンと光ファイバとのなす角度に対
して損失最大波長がどのように変化するかを示す特性図
である。
【図４】図４は、実質的なピッチに対して損失ピーク波
長がどのように変化するかを示すグラフである。
長がどのように変化するかを示すグラフである。
１…長周期ファイバグレーティングの作製装置、２…レ
ーザ装置、３…ミラー、４…強度変調マスク、５…マス
ク保持部材、６…光ファイバ載置台、７…光ファイバ、
６ａ…固定部材、Ｌ…レーザ光。
ーザ装置、３…ミラー、４…強度変調マスク、５…マス
ク保持部材、６…光ファイバ載置台、７…光ファイバ、
６ａ…固定部材、Ｌ…レーザ光。
Claims (3)
- 【請求項１】 屈折率変化誘起光の照射により屈折率変
化を引き起こす添加物が添加された光ファイバに対し前
記屈折率変化誘起光を照射してファイバグレーティング
を作製する作製方法であって、 前記光ファイバにグレーティングを形成するためにマス
ク部材に備えられたパターンと前記光ファイバの長手方
向とのなす角度を調整し、 前記屈折率変化誘起光を前記マスク部材を透過させて前
記光ファイバに照射してファイバグレーティングを作製
することを特徴とするファイバグレーティングの作製方
法。 - 【請求項２】 屈折率変化誘起光の照射により屈折率変
化を引き起こす添加物が添加された光ファイバに対し前
記屈折率変化誘起光を照射してファイバグレーティング
を作製する作製装置であって、 前記屈折率変化誘起光を放射する光源と、 前記光源からの前記屈折率変化誘起光の照射により前記
光ファイバにグレーティングを形成するためのパターン
を有するマスク部材と、 前記マスク部材を保持する保持手段と、 前記光ファイバを保持する光ファイバ保持手段と、 前記保持手段により保持される前記マスク部材が有する
前記パターンと前記光ファイバ保持手段により保持され
る前記光ファイバの長手方向とのなす角度を調整する角
度調整手段と、を備えることを特徴とするファイバグレ
ーティングの作製装置。 - 【請求項３】 請求項１記載のファイバグレーティング
の作製方法又は請求項２記載のファイバグレーティング
の作製装置により作製されたファイバグレーティング。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001032736A JP2002236224A (ja) | 2001-02-08 | 2001-02-08 | ファイバグレーティング作製方法、作製装置、及びファイバグレーティング |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001032736A JP2002236224A (ja) | 2001-02-08 | 2001-02-08 | ファイバグレーティング作製方法、作製装置、及びファイバグレーティング |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002236224A true JP2002236224A (ja) | 2002-08-23 |
Family
ID=18896618
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001032736A Pending JP2002236224A (ja) | 2001-02-08 | 2001-02-08 | ファイバグレーティング作製方法、作製装置、及びファイバグレーティング |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2002236224A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009063485A (ja) * | 2007-09-07 | 2009-03-26 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 長周期グレーティングを用いた心線対照方法および装置 |
| CN102681366A (zh) * | 2012-05-28 | 2012-09-19 | 上海理工大学 | 凹面全息光栅制作中的曝光光路系统及调整回转中心的方法 |
| CN114089467A (zh) * | 2021-11-29 | 2022-02-25 | 广东工业大学 | 一种周期可调的长周期光栅的制备装置及其制备方法 |
-
2001
- 2001-02-08 JP JP2001032736A patent/JP2002236224A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009063485A (ja) * | 2007-09-07 | 2009-03-26 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 長周期グレーティングを用いた心線対照方法および装置 |
| CN102681366A (zh) * | 2012-05-28 | 2012-09-19 | 上海理工大学 | 凹面全息光栅制作中的曝光光路系统及调整回转中心的方法 |
| CN102681366B (zh) * | 2012-05-28 | 2014-12-17 | 上海理工大学 | 凹面全息光栅制作中的曝光光路系统及调整回转中心的方法 |
| CN114089467A (zh) * | 2021-11-29 | 2022-02-25 | 广东工业大学 | 一种周期可调的长周期光栅的制备装置及其制备方法 |
| CN114089467B (zh) * | 2021-11-29 | 2024-04-16 | 广东工业大学 | 一种周期可调的长周期光栅的制备装置及其制备方法 |
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