JP2002229486A - Color display element - Google Patents

Color display element

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JP2002229486A
JP2002229486A JP2001020635A JP2001020635A JP2002229486A JP 2002229486 A JP2002229486 A JP 2002229486A JP 2001020635 A JP2001020635 A JP 2001020635A JP 2001020635 A JP2001020635 A JP 2001020635A JP 2002229486 A JP2002229486 A JP 2002229486A
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JP
Japan
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light
light emitting
color display
layer
display element
Prior art date
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Withdrawn
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JP2001020635A
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Japanese (ja)
Inventor
Masahiro Shinkai
正博 新海
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TDK Corp
Original Assignee
TDK Corp
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a color display element which is large in an aperture ratio and is bright and can be manufactured by a simple process. SOLUTION: At least >=2 kinds of different light emitting layers 12 are formed on respectively separate substrates 11 and sheets containing the individual substrates 11 having the respective light emitting layers 12 are laminated in a direction perpendicular to the light emitting surface, by which the color display element of the constitution capable of making color display of >=2 color is obtd.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、有機EL等の発光
素子を使用した表示素子に関し、特にカラー表示が可能
なカラー表示素子に関する。
[0001] 1. Field of the Invention [0002] The present invention relates to a display device using a light-emitting device such as an organic EL, and more particularly to a color display device capable of performing color display.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来のカラー表示装置では、白色光を発
光させRGBに対応する画素に区切りカラーフィルターを
通して表示したり、RGBに発光する発光体を塗り分けて
同一基板上で表示を行っていた。このため、電力を供給
するラインがショートしたり、RBGの各発光材料が混合
しないようにするため、各画素の間隔は必ず空ける必要
があった。また、隣の画素をあまり近くするとクロスト
ークが発生し、発光させたくない画素まで発光してしま
う。そのため、非発光部分と発光部分との比率、開口率
(発光部分の面積/表示面積)は低い値になっていた。
2. Description of the Related Art In a conventional color display device, white light is emitted to separate pixels into pixels corresponding to RGB and displayed through a color filter, or display is performed on the same substrate by separately applying light emitting elements that emit RGB light. . Therefore, in order to prevent the power supply line from being short-circuited or the light-emitting materials of the RBG from being mixed, the intervals between the pixels have to be always provided. In addition, if an adjacent pixel is too close, crosstalk occurs and a pixel that does not want to emit light emits light. Therefore, the ratio between the non-light-emitting portion and the light-emitting portion and the aperture ratio (the area of the light-emitting portion / the display area) are low.

【0003】特に、TFT駆動方式では回路部分が大きく
開口率は50%前後になっている。特開平1−1114
56号公報ではRGBの発光部分を絶縁体で区切って層構
造にした報告がある。しかし、この方式では、同一基体
上に各層を形成しているため、各層を積層する毎に素子
の凸凹が顕著になり、結果として混色を防ぐためRBGの
発光点を近づけることができない。
In particular, in the TFT driving method, the circuit portion is large and the aperture ratio is about 50%. JP-A 1-1114
In Japanese Patent Publication No. 56, there is a report in which a light emitting portion of RGB is separated by an insulator to form a layer structure. However, in this method, since each layer is formed on the same substrate, the unevenness of the element becomes remarkable each time each layer is laminated, and as a result, the light emitting point of the RBG cannot be brought close to prevent color mixing.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、開口
率が大きく、明るく、しかも簡単なプロセスで作ること
ができるカラー表示素子を提供することである。
SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide a color display element having a large aperture ratio, a bright display and a simple process.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】すなわち上記目的は、以
下の本発明の構成により達成される。 (1) 少なくとも2種以上の異なる発光層が、それぞ
れ別個の基体上に形成され、この各発光層を有する個々
の基体を含有するシートが発光面と垂直方向に積層さ
れ、2色以上のカラー表示が可能なカラー表示素子。 (2) 前記発光層は赤、緑、青のそれぞれの各色に対
応した3種である上記(1)のカラー表示素子。 (3) 少なくとも1つのシートの非発光部分の一部
が、他のシートの発光部分の陰の部分に配置されている
上記(1)のカラー表示素子。 (4) 前記非発光部分の一部には配線電極が形成され
ている上記(1)〜(3)のいずれかのカラー表示素
子。 (5) 有機EL素子である上記(1)〜(4)のいず
れかのカラー表示素子。
That is, the above object is achieved by the following constitution of the present invention. (1) At least two or more types of different light emitting layers are formed on separate substrates, respectively, and sheets containing the individual substrates having the respective light emitting layers are laminated in a direction perpendicular to the light emitting surface, and two or more colors are formed. Color display element capable of displaying. (2) The color display device according to (1), wherein the light emitting layer is of three types corresponding to respective colors of red, green, and blue. (3) The color display element according to (1), wherein a part of the non-light-emitting portion of at least one sheet is arranged in a portion behind the light-emitting portion of another sheet. (4) The color display element according to any one of (1) to (3), wherein a wiring electrode is formed in a part of the non-light emitting portion. (5) The color display device according to any one of the above (1) to (4), which is an organic EL device.

【0006】[0006]

【発明の実施の形態】本発明のカラー表示素子は、少な
くとも2種以上の異なる発光層が、それぞれ別個の基体
上に形成され、この各発光層を有する個々の基体を含有
するシートが発光面と垂直方向に積層され、2色以上の
カラー表示が可能なものである。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION In the color display element of the present invention, at least two or more different light-emitting layers are formed on separate substrates, respectively. Are stacked in the vertical direction, and two or more colors can be displayed.

【0007】このように、それぞれ種類(発光色)の異
なる発光層を別個の基体上に形成し、発光層が形成され
ている基体を含むシートを積層して複数色のカラー発光
を行わせることにより、各発光層を含む素子のパターン
が単純になり、各発光層により形成される画素を大きく
することができる。すなわち、それぞれの発光層は、別
個の基体上に独立して形成されているので、各発光層へ
の配線は、それぞれの基体上に形成すればよく、配線構
造が単純になる。しかも、積層された場合、非発光部、
特に配線電極を他のシートの発光部分の陰の部分に配置
することで、発光部の大きさを、非発光部にまで拡大し
て大きくすることが可能となる。
[0007] As described above, light emitting layers of different types (emission colors) are formed on separate substrates, and sheets including the substrate on which the light emitting layers are formed are laminated to emit color light of a plurality of colors. Thereby, the pattern of the element including each light emitting layer is simplified, and the pixel formed by each light emitting layer can be enlarged. That is, since each light emitting layer is independently formed on a separate base, wiring to each light emitting layer may be formed on each base, and the wiring structure is simplified. Moreover, when laminated, the non-light emitting portion,
In particular, by arranging the wiring electrode in a portion of the other sheet behind the light emitting portion, it is possible to enlarge the size of the light emitting portion up to the non-light emitting portion.

【0008】本発明において、発光層はそれぞれ別個の
基体上に形成される。本発明における発光層は、好まし
くはエレクトロルミネッセンスを発する機能を有する機
能膜であり、必要な構成膜、例えば電極、配線構造、絶
縁層等を有する。この機能膜は、面発光が可能であり、
均一な表示品質が得られることから好ましい。このよう
なエレクトロルミネッセンスを発する機能膜を用いた素
子としては、有機EL素子、無機EL素子等が知られて
いるが、低電圧駆動が可能な点、薄膜プロセス、塗布プ
ロセスによる形成が容易な点から有機EL素子が好まし
い。
In the present invention, the light emitting layers are formed on separate substrates. The light emitting layer in the present invention is preferably a functional film having a function of emitting electroluminescence, and has necessary constituent films, for example, an electrode, a wiring structure, an insulating layer, and the like. This functional film is capable of surface light emission,
This is preferable because uniform display quality can be obtained. Organic EL devices, inorganic EL devices, and the like are known as devices using such a functional film that emits electroluminescence. However, they can be driven at a low voltage, and can be easily formed by a thin film process and a coating process. Therefore, an organic EL element is preferable.

【0009】各発光層が形成される基体としては特に限
定されるものではなく、所定の発光層が形成可能であっ
て、発光層からの発光に対する透過性を有するものであ
ればよい。具体的には、非晶質基板たとえばガラス、石
英など、結晶基板たとえば、Si、GaAs、ZnS
e、ZnS、GaP、InPなどがあげられ、またこれ
らの結晶基板に結晶質、非晶質あるいは金属のバッファ
層を形成した基板も用いることができる。可撓性を持た
せたり、軽量化を図るために、樹脂基板を使ってもよ
い。また、光取り出し側でない基体には金属基板を用い
てもよく、金属基板としては、Mo、Al、Pt、I
r、Au、Pdなどを用いることができる。
The substrate on which each light-emitting layer is formed is not particularly limited, as long as it can form a predetermined light-emitting layer and has transparency to light emitted from the light-emitting layer. Specifically, an amorphous substrate such as glass, quartz, etc., a crystalline substrate such as Si, GaAs, ZnS
e, ZnS, GaP, InP, and the like, and a substrate in which a crystalline, amorphous, or metal buffer layer is formed on these crystalline substrates can also be used. A resin substrate may be used to provide flexibility or reduce weight. Further, a metal substrate may be used as a substrate that is not on the light extraction side, and Mo, Al, Pt, I
r, Au, Pd or the like can be used.

【0010】基体は、発光波長帯域、通常350〜80
0nm、特に各発光光に対する光透過率が50%以上、特
に60%以上であることが好ましい。
The substrate is used in an emission wavelength band, usually 350 to 80.
It is preferable that the light transmittance for 0 nm, particularly for each emitted light, is 50% or more, particularly 60% or more.

【0011】次に、図を参照しつつ本発明のカラー表示
素子について説明する。図1は本発明のカラー表示装置
の基本構成を示す一部概略断面図であり、図2は図1の
光取り出し側からみた平面図である。この例では、赤
(R)、緑(G)、青(B)のフルカラー表示素子を示
している。
Next, the color display element of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a partial schematic cross-sectional view showing the basic configuration of the color display device of the present invention, and FIG. 2 is a plan view seen from the light extraction side in FIG. In this example, red (R), green (G), and blue (B) full-color display elements are shown.

【0012】図において、各基体11R,11G,11
B上には、それぞれ赤(R)、緑(G)、青(B)に対
応した発光層12R,12G,12Bが形成されてい
る。この発光層12R,12G,12Bは、単純に発光
機能を有する構成層の他、電極、絶縁層、電荷注入輸送
層あるいは誘電体層など、発光機能に関与する構成層が
含まれる。さらに、この各発光層12R,12G,12
Bには、発光に必要な電源(電圧・電流)を供給する配
線電極13R,13g,13bが接して配置されてい
る。そして、各発光層12R,12G,12Bが形成さ
れた基体11R,11G,11B上には、封止部材14
R,14G,14Bが設けられていて、外気や水分から
発光層を保護すると共に、積層した際の機械的外力から
も保護している。
In the figure, each base 11R, 11G, 11
Light emitting layers 12R, 12G, and 12B corresponding to red (R), green (G), and blue (B) are formed on B, respectively. The light-emitting layers 12R, 12G, and 12B include constituent layers having a light-emitting function and constituent layers related to the light-emitting function, such as an electrode, an insulating layer, a charge injection / transport layer, and a dielectric layer. Further, each of the light emitting layers 12R, 12G, 12
In B, wiring electrodes 13R, 13g, and 13b for supplying power (voltage and current) necessary for light emission are arranged in contact with each other. The sealing member 14 is provided on the bases 11R, 11G, and 11B on which the light emitting layers 12R, 12G, and 12B are formed.
R, 14G, and 14B are provided to protect the light emitting layer from the outside air and moisture, and also to protect against mechanical external force when the layers are stacked.

【0013】そして、各基体11R,11G,11B上
に、発光層12R,12G,12B、配線電極13R,
13g,13b、封止部材14R,14G,14B等が
形成されたシートが、基体面、つまり発光面と垂直方向
に積層されている。そして、図示例の好ましい態様で
は、非発光部である配線電極13g,13b形成領域の
一部が、他のシートの発光層12R,12G,12Bの
背面、つまり光り取り出し側と反対側に配置されてい
る。このため、各発光層12R,12G,12Bからの
発光15R,15G,15Bは、配線電極13R,13
g,13bに遮られることなくそのまま取り出すことが
できる。
Then, the light emitting layers 12R, 12G, 12B, the wiring electrodes 13R,
Sheets on which 13g, 13b, sealing members 14R, 14G, 14B, etc. are formed are stacked in the direction perpendicular to the substrate surface, that is, the light emitting surface. In a preferred embodiment of the illustrated example, a part of the formation region of the wiring electrodes 13g and 13b, which is a non-light emitting portion, is disposed on the back surface of the light emitting layers 12R, 12G and 12B of the other sheet, that is, on the opposite side to the light extraction side. ing. For this reason, the light emission 15R, 15G, 15B from each light emitting layer 12R, 12G, 12B is transmitted to the wiring electrodes 13R, 13R.
It can be taken out without being blocked by g and 13b.

【0014】このように、各発光層12R,12G,1
2B、すなわち発光領域(画素)の背面に、積層される
他のシートの非発光部の少なくとも一部を配置すること
で、発光部12R,12G,12Bの大きさを、今まで
配線電極等、非発光部に存在していた構造部材の部分に
まで拡大することができる。しかも、それぞれの発光部
12R,12G,12Bは、各シートごとに独立して存
在しているので、配線電極等の構造部材もそれぞれのシ
ートに分散され、非発光部が占める領域が少なくて済
み、その分発光部を大きくすることができる。
As described above, each of the light emitting layers 12R, 12G, 1
2B, that is, at least a part of the non-light-emitting portion of another sheet to be laminated is arranged on the back surface of the light-emitting region (pixel), so that the size of the light-emitting portions 12R, 12G, and 12B can be changed so far. It can be expanded to the part of the structural member that was present in the non-light emitting part. In addition, since the light emitting portions 12R, 12G, and 12B exist independently for each sheet, structural members such as wiring electrodes are also dispersed in each sheet, and the area occupied by the non-light emitting portions is small. Therefore, the light emitting portion can be enlarged accordingly.

【0015】また、各発光層の構造が単純で、駆動が容
易になると共に、クロストークの心配もなく、シート毎
に調整メンテナンスを行うことができ、調整が容易で、
製造時の品質管理も容易になり、歩留まりも向上する。
Further, the structure of each light emitting layer is simple, driving is easy, and there is no need to worry about crosstalk, and adjustment and maintenance can be performed for each sheet.
Quality control at the time of manufacturing becomes easy, and the yield is also improved.

【0016】各シートの積層順は、光取り出し側に近い
側に波長の短い発光層を配置するとよい。光取り出し側
に、より短波長の発光層を配置することで、構成部材の
光学的影響を少なくすることができる。また、各シート
は好ましくは密着して積層され、その間には通常、封止
材と接着剤との機能を備え、ELを保護しうる部材が配
置される。シート間の積層間隔は極力狭くするようにす
るとよい。
In the order of lamination of the sheets, a light emitting layer having a short wavelength is preferably arranged on the side near the light extraction side. By arranging a light emitting layer having a shorter wavelength on the light extraction side, the optical influence of the constituent members can be reduced. In addition, the respective sheets are preferably laminated in close contact with each other, and a member having a function of a sealing material and an adhesive and capable of protecting the EL is disposed therebetween. The stacking interval between sheets is preferably made as small as possible.

【0017】配線電極は、その一部が上記発光層の陰に
配置されることが好ましく、特に発光部と重複しうる投
影面積のうち、発光部と重複する領域が20%以上、さ
らには30%以上であることが好ましい。
It is preferable that a part of the wiring electrode is arranged behind the light emitting layer. In particular, of the projected area which can overlap with the light emitting portion, the area overlapping with the light emitting portion is 20% or more, and more preferably 30%. % Is preferable.

【0018】配線電極以外の非発光部としては、TFT
駆動を行うためのトランジスターや、コンデンサ等の周
辺部品、エッジカバーとしてのポリイミド、レジスト材
料部分等を挙げることができる。これらを発光部の陰に
配置してもよい。
Non-light-emitting portions other than the wiring electrodes include TFTs
Peripheral components such as transistors and capacitors for driving, polyimide as an edge cover, a resist material portion, and the like can be given. These may be arranged behind the light emitting unit.

【0019】本発明に好適に使用される有機EL素子の
構造を、図3に示す。図示例の有機EL素子は、基板2
1/ホール注入電極22/ホール注入輸送層23/発光
層24/電子注入輸送層25/電子注入電極26とが順
次積層された構造になっており、発光層の材料を選ぶこ
とで各色発光が可能である。なお、通常、配線電極は、
ホール注入電極22、電子注入電極26と電源(駆動回
路)とを接続する。
FIG. 3 shows the structure of an organic EL device suitably used in the present invention. The organic EL element in the illustrated example is a substrate 2
1 / hole injecting electrode 22 / hole injecting / transporting layer 23 / light emitting layer 24 / electron injecting / transporting layer 25 / electron injecting electrode 26 are sequentially laminated, and light emission of each color is achieved by selecting a material of the light emitting layer. It is possible. Usually, the wiring electrode is
The hole injection electrode 22, the electron injection electrode 26, and a power supply (drive circuit) are connected.

【0020】電子注入電極としては、低仕事関数の物質
が好ましく、例えば、K、Li、Na、Mg、La、C
e、Ca、Sr、Ba、Al、Ag、In、Sn、Z
n、Zr等の金属元素単体、または安定性を向上させる
ためにそれらを含む2成分、3成分の合金系を用いるこ
とが好ましい。電子注入電極は蒸着法やスパッタ法で形
成することが可能である。
As the electron injection electrode, a substance having a low work function is preferable. For example, K, Li, Na, Mg, La, C
e, Ca, Sr, Ba, Al, Ag, In, Sn, Z
It is preferable to use a single metal element such as n or Zr, or a two-component or three-component alloy system containing them for improving the stability. The electron injection electrode can be formed by an evaporation method or a sputtering method.

【0021】電子注入電極薄膜の厚さは、電子注入を十
分行える一定以上の厚さとすれば良く、0.1nm以上、
好ましくは1nm以上とすればよい。また、その上限値に
は特に制限はないが、通常膜厚は1〜500nm程度とす
ればよい。
The thickness of the thin film of the electron injection electrode may be a certain thickness or more capable of sufficiently injecting electrons.
Preferably, the thickness may be 1 nm or more. The upper limit is not particularly limited, but the thickness may be generally about 1 to 500 nm.

【0022】ホール注入電極は、通常基板側から発光し
た光を取り出す構成であるため、透明ないし半透明な電
極が好ましい。透明電極としては、ITO(錫ドープ酸
化インジウム)、IZO(亜鉛ドープ酸化インジウ
ム)、ZnO、SnO2、In2 3等が挙げられるが、
好ましくはITO(錫ドープ酸化インジウム)、IZO
(亜鉛ドープ酸化インジウム)が好ましい。
The hole injection electrode usually emits light from the substrate side.
Because it is a structure that extracts light, it is transparent or translucent.
Pole is preferred. ITO (tin-doped acid)
Indium oxide), IZO (zinc-doped indium oxide)
), ZnO, SnOTwo, InTwoO ThreeAnd the like,
Preferably ITO (tin-doped indium oxide), IZO
(Zinc-doped indium oxide) is preferred.

【0023】ホール注入電極は、発光波長帯域、通常3
50〜800nm、特に各発光光に対する光透過率が50
%以上、特に60%以上であることが好ましい。
The hole injection electrode has an emission wavelength band, usually 3
50 to 800 nm, especially 50% light transmittance for each emitted light.
%, Especially 60% or more.

【0024】ホール注入電極の厚さは、ホール注入を十
分行える一定以上の厚さを有すれば良く、好ましくは5
0〜500nm、さらには50〜300nmの範囲が好まし
い。また、その上限は特に制限はないが、あまり厚いと
剥離などの心配が生じる。厚さが薄すぎると、製造時の
膜強度やホール輸送能力、抵抗値の点で問題がある。
The thickness of the hole injecting electrode may be a certain thickness or more for sufficiently injecting holes, and is preferably 5 or more.
The range is preferably from 0 to 500 nm, more preferably from 50 to 300 nm. The upper limit is not particularly limited, but if the thickness is too large, there is a fear of peeling or the like. If the thickness is too small, there is a problem in the film strength at the time of manufacturing, the hole transport ability, and the resistance value.

【0025】このホール注入電極層は蒸着法等によって
も形成できるが、好ましくはスパッタ法により形成する
ことが好ましい。
This hole injection electrode layer can be formed by a vapor deposition method or the like, but is preferably formed by a sputtering method.

【0026】有機EL素子の有機層は、次のようなもの
である。
The organic layer of the organic EL device is as follows.

【0027】発光層には発光機能を有する化合物である
蛍光性物質が用いられる。このような蛍光性物質として
は、例えば、特開昭63−264692号公報に開示さ
れているような化合物、例えばキナクリドン、ルブレ
ン、スチリル系色素等の化合物から選択される少なくと
も1種が挙げられる。また、トリス(8−キノリノラ
ト)アルミニウム等の8−キノリノールないしその誘導
体を配位子とする金属錯体色素などのキノリン誘導体、
テトラフェニルブタジエン、アントラセン、ペリレン、
コロネン、12−フタロペリノン誘導体等が挙げられ
る。さらには、特開平8−12600号公報に記載のフ
ェニルアントラセン誘導体、特開平8−12969号公
報に記載のテトラアリールエテン誘導体等を用いること
ができる。
For the light emitting layer, a fluorescent substance which is a compound having a light emitting function is used. Examples of such a fluorescent substance include compounds disclosed in JP-A-63-264892, for example, at least one selected from compounds such as quinacridone, rubrene, and styryl dyes. A quinoline derivative such as a metal complex dye having 8-quinolinol or a derivative thereof as a ligand, such as tris (8-quinolinolato) aluminum;
Tetraphenylbutadiene, anthracene, perylene,
Coronene, 12-phthaloperinone derivatives, and the like. Further, a phenylanthracene derivative described in JP-A-8-12600, a tetraarylethene derivative described in JP-A-8-12969, and the like can be used.

【0028】このような蛍光物質はそれ自体で発光が可
能なホスト物質と組み合わせ、ドーパントとして使用す
ることができる。その場合、発光層における蛍光性物質
の含有量は0.01〜10質量% 、さらには0.1〜5
質量% であることが好ましい。ホスト物質と組み合わせ
て使用することによって、ホスト物質の発光波長特性を
変化させることができ、長波長に移行した発光が可能に
なるとともに、素子の発光効率や安定性が向上する。
Such a fluorescent substance can be used as a dopant in combination with a host substance capable of emitting light by itself. In that case, the content of the fluorescent substance in the light emitting layer is 0.01 to 10% by mass, and further 0.1 to 5% by mass.
% By mass. When used in combination with a host substance, the emission wavelength characteristics of the host substance can be changed, light emission shifted to a longer wavelength becomes possible, and the luminous efficiency and stability of the device are improved.

【0029】ホスト物質としては、キノリノラト錯体が
好ましく、さらには8−キノリノールないしその誘導体
を配位子とするアルミニウム錯体が好ましい。このよう
なアルミニウム錯体としては、特開昭63−26469
2号、特開平3−255190号、特開平5−7077
3号、特開平5−258859号、特開平6−2158
74号等に開示されているものを挙げることができる。
As the host substance, a quinolinolato complex is preferable, and an aluminum complex having 8-quinolinol or a derivative thereof as a ligand is preferable. Such an aluminum complex is disclosed in JP-A-63-26469.
No. 2, JP-A-3-255190, JP-A-5-7707
3, JP-A-5-258859, JP-A-6-2158
No. 74 and the like.

【0030】このほかのホスト物質としては、特開平8
−12600号公報に記載のフェニルアントラセン誘導
体や特開平8−12969号公報に記載のテトラアリー
ルエテン誘導体なども好ましい。
Other host materials include those disclosed in
Also preferred are phenylanthracene derivatives described in JP-A-12600 and tetraarylethene derivatives described in JP-A-8-12969.

【0031】発光層は電子注入輸送層を兼ねたものであ
ってもよく、このような場合はトリス(8−キノリノラ
ト)アルミニウム等を使用することが好ましい。
The light emitting layer may also serve as an electron injection / transport layer. In such a case, it is preferable to use tris (8-quinolinolato) aluminum or the like.

【0032】電子注入輸送性の化合物としては、キノリ
ン誘導体、さらには8−キノリノールないしその誘導体
を配位子とする金属錯体、特にトリス(8−キノリノラ
ト)アルミニウム(Alq3)を用いることが好まし
い。また、上記のフェニルアントラセン誘導体、テトラ
アリールエテン誘導体を用いるのも好ましい。
As the compound capable of injecting and transporting electrons, it is preferable to use a quinoline derivative, furthermore a metal complex having 8-quinolinol or a derivative thereof as a ligand, particularly tris (8-quinolinolato) aluminum (Alq3). It is also preferable to use the above-mentioned phenylanthracene derivatives and tetraarylethene derivatives.

【0033】ホール注入輸送層用の化合物としては、強
い蛍光を持ったアミン誘導体、例えばトリフェニルジア
ミン誘導体、スチリルアミン誘導体、芳香族縮合環を持
つアミン誘導体を用いるのが好ましい。
As the compound for the hole injecting / transporting layer, it is preferable to use an amine derivative having strong fluorescence, for example, a triphenyldiamine derivative, a styrylamine derivative, or an amine derivative having an aromatic condensed ring.

【0034】本発明において、発光層を含む有機層は塗
布法により形成することが好ましい。各発光層はそれぞ
れ別個の基体上に独立して形成されるため、塗布法によ
る形成が容易であり、塗り分けの際の発光層同士の混合
も生じない。
In the present invention, the organic layer including the light emitting layer is preferably formed by a coating method. Since each light emitting layer is independently formed on a separate substrate, it is easy to form by a coating method, and there is no mixing of the light emitting layers at the time of separate coating.

【0035】塗布法により形成する場合、例えば、溶解
性の高い高分子蛍光体を用いた発光層や、高分子蛍光体
と電荷輸送材料との混合発光層、あるいはこのような発
光層と電子注入電極(陰電極)との間に電子注入輸送性
材料を含有する電子注入輸送層を有していたり、発光層
とホール注入電極の間にホール注入輸送性材料を含有す
るホール注入輸送層を有していてもよい。
In the case of forming by a coating method, for example, a light emitting layer using a polymer phosphor having high solubility, a mixed light emitting layer of a polymer phosphor and a charge transport material, or such a light emitting layer and an electron injection It has an electron injection / transport layer containing an electron injection / transport material between the electrode (negative electrode) and a hole injection / transport layer containing the hole injection / transport material between the light emitting layer and the hole injection electrode. It may be.

【0036】このような高分子蛍光体としては、ポリエ
チレンジオキシチオフェンポリスチレンサルフォネート
(Polyethlene dioxytiophene polystyrene sulphonate
:PEDOT/PSS)、ポリビニルカルバゾール(PVK)、
金属フタロシアニン化合物、ポリアニリン/ポリスチレ
ンサルフォネート(Pani/PSS)、ポリパラフェ
ニレンビニレン誘導体(PPV誘導体)、ポリアリルフ
ルオレン誘導体のいずれか、またはこれらの混合物を挙
げることができる。
As such a polymeric fluorescent substance, polyethylene dioxythiophene polystyrene sulphonate (Polyethlene dioxytiophene polystyrene sulphonate) is used.
: PEDOT / PSS), polyvinyl carbazole (PVK),
Any of a metal phthalocyanine compound, polyaniline / polystyrene sulfonate (Pani / PSS), a polyparaphenylenevinylene derivative (PPV derivative), a polyallylfluorene derivative, or a mixture thereof can be given.

【0037】金属フタロシアニン化合物としては特に制
限はなく、公知のいずれであってもよい。中心金属とし
てはCu、Fe、Zn、Co、Pt、Cr、Ni、Pd
などが挙げられ、Cu、Znが好ましく、特にCuが好
ましい。
The metal phthalocyanine compound is not particularly limited, and may be any known one. As the central metal, Cu, Fe, Zn, Co, Pt, Cr, Ni, Pd
And the like, and Cu and Zn are preferable, and Cu is particularly preferable.

【0038】塗布法に用いることのできる溶媒として
は、有機材料が溶解し、塗布に際して障害が生じないも
のであれば特に限定されるものではない。具体的には、
アルコール系、炭化水素系、ケトン系、エーテル系等一
般に用いられているものを使用することができる。なか
でも、クロロホルム、塩化メチレン、ジクロロエタン、
テトラヒドロフラン、トルエン、キシレンなどが好まし
い。蛍光体の構造や分子量にもよるが、通常はこれらの
溶媒に0.1質量%以上溶解させることができる。
The solvent that can be used in the coating method is not particularly limited as long as the organic material dissolves and does not cause any trouble during coating. In particular,
Alcohols, hydrocarbons, ketones, ethers and the like generally used can be used. Among them, chloroform, methylene chloride, dichloroethane,
Tetrahydrofuran, toluene, xylene and the like are preferred. Although it depends on the structure and molecular weight of the phosphor, it can be usually dissolved in these solvents in an amount of 0.1% by mass or more.

【0039】また、発光層は1層であっても2層以上あ
ってもよく、発光層と電荷輸送層で複数層を形成してい
てもよい。さらに、発光層には、高分子蛍光材料以外
に、他の蛍光材料、電荷輸送性材料を含有していてもよ
い。また、前記高分子蛍光体および/または電荷輸送材
料を高分子化合物に分散させてもよい。
The light emitting layer may be a single layer or two or more layers, and a plurality of light emitting layers and a charge transport layer may be formed. Further, the light emitting layer may contain other fluorescent materials and charge transporting materials in addition to the polymeric fluorescent material. Further, the polymeric fluorescent substance and / or the charge transport material may be dispersed in a polymeric compound.

【0040】なお、上記電子注入輸送層、ホール注入輸
送層を無機物質(シリコン、ゲルマニウム、ストロンチ
ウム、ルビジウム等の酸化物など)を用いて形成するこ
ともできる。
The electron injection / transport layer and the hole injection / transport layer can be formed using an inorganic substance (eg, an oxide such as silicon, germanium, strontium, and rubidium).

【0041】有機EL素子各層を成膜した後に、SiO
X 等の無機材料、テフロン(登録商標)、塩素を含むフ
ッ化炭素重合体等の有機材料等を用いた保護膜を形成し
てもよい。保護膜は透明でも不透明であってもよく、保
護膜の厚さは50〜1200nm程度とする。保護膜は、
前記の反応性スパッタ法の他に、一般的なスパッタ法、
蒸着法、PECVD法等により形成すればよい。
After forming each layer of the organic EL element, the SiO 2
A protective film using an inorganic material such as X, an organic material such as Teflon (registered trademark), a fluorocarbon polymer containing chlorine, or the like may be formed. The protective film may be transparent or opaque, and the thickness of the protective film is about 50 to 1200 nm. The protective film is
In addition to the reactive sputtering method, a general sputtering method,
It may be formed by an evaporation method, a PECVD method, or the like.

【0042】有機EL素子の製造方法は、通常行われる
蒸着法を用いることも可能であるが、溶剤に溶解した上
で塗布法で製造すると良い。塗布法を行うときは、スク
リーン印刷法、ディッピング法、スプレーコート法等溶
媒の特性にあわせて選択をすればよいが、スプレーコー
ト法が一番好ましい。また、蒸着法と塗布法を併用する
こともできる。
As a method of manufacturing the organic EL element, a commonly used vapor deposition method can be used, but it is preferable to manufacture the organic EL element by dissolving it in a solvent and then applying the coating method. When performing the coating method, selection may be made according to the characteristics of the solvent such as a screen printing method, a dipping method, and a spray coating method, but the spray coating method is most preferable. Further, a vapor deposition method and a coating method can be used in combination.

【0043】さらに、素子の有機層や電極の劣化を防ぐ
ために、素子最上部を封止板等により封止することが好
ましい。封止板は、湿気の浸入を防ぐために、接着性樹
脂層を用いて、封止板を接着し密封する。
Further, in order to prevent deterioration of the organic layer and the electrodes of the device, it is preferable to seal the uppermost portion of the device with a sealing plate or the like. The sealing plate adheres and seals the sealing plate using an adhesive resin layer in order to prevent moisture from entering.

【0044】封止板の材料としては、好ましくは平板状
であって、ガラスや石英、樹脂等の透明ないし半透明材
料が挙げられるが、特にガラスが好ましい。このような
ガラス材として、コストの面からアルカリガラスが好ま
しいが、この他、ソーダ石灰ガラス、鉛アルカリガラ
ス、ホウケイ酸ガラス、アルミノケイ酸ガラス、シリカ
ガラス等のガラス組成のものも好ましい。特に、ソーダ
ガラスで、表面処理の無いガラス材が安価に使用でき、
好ましい。封止板としては、ガラス板以外にも、金属
板、プラスチック板等を用いることもできる。
The material of the sealing plate is preferably a flat plate, and may be a transparent or translucent material such as glass, quartz, and resin. Glass is particularly preferred. As such a glass material, an alkali glass is preferable from the viewpoint of cost, and in addition, a glass composition such as soda lime glass, lead alkali glass, borosilicate glass, aluminosilicate glass, and silica glass is also preferable. In particular, soda glass, a glass material without surface treatment can be used at low cost,
preferable. As the sealing plate, other than a glass plate, a metal plate, a plastic plate, or the like can be used.

【0045】封止板は、スペーサーを用いて高さを調整
し、所望の高さに保持してもよい。スペーサーの材料と
しては、樹脂ビーズ、シリカビーズ、ガラスビーズ、ガ
ラスファイバー等が挙げられ、特にガラスビーズ等が好
ましい。
The height of the sealing plate may be adjusted by using a spacer, and may be maintained at a desired height. Examples of the material of the spacer include resin beads, silica beads, glass beads, and glass fibers, and glass beads are particularly preferable.

【0046】また、各発光層(EL構造体)を保護する
ための封止部材としては、積層する基体との接着層の機
能を兼ね備えた接着剤が好ましい。接着剤としては、安
定した接着強度が保て、気密性が良好なものであれば特
に限定されるものではないが、カチオン硬化タイプの紫
外線硬化型エポキシ樹脂接着剤を用いることが好まし
い。具体的には、スリーボンド社から発売されている3
0Y−332等を挙げることができる。
As a sealing member for protecting each light emitting layer (EL structure), an adhesive having a function of an adhesive layer with a substrate to be laminated is preferable. The adhesive is not particularly limited as long as it can maintain stable adhesive strength and has good airtightness. However, it is preferable to use a cationic curing type ultraviolet curing epoxy resin adhesive. Specifically, 3Bond released by ThreeBond
0Y-332 and the like.

【0047】[0047]

【実施例】ガラス基板としてコーニング社製商品名70
59基板を用い、これを中性洗剤を用いてスクラブ洗浄
した。
EXAMPLE A glass substrate manufactured by Corning Co., Ltd. with a trade name of 70
This was scrub-cleaned with a neutral detergent using 59 substrates.

【0048】この基板上にITO酸化物ターゲットを用
いRFマグネトロンスパッタリング法により、基板温度2
50℃で、膜厚200nmのITOホール注入電極層を所
定パターンに形成した。このようなITOパターン付基
板を、それぞれRGBに対応した3種類用意した。
A substrate temperature of 2 was formed on the substrate by RF magnetron sputtering using an ITO oxide target.
At 50 ° C., a 200 nm-thick ITO hole injection electrode layer was formed in a predetermined pattern. Three types of such substrates with an ITO pattern were prepared, each corresponding to RGB.

【0049】ITO電極層等が形成された各基板の表面
をUV/O3 洗浄した後、ホール注入層としてポリエチ
レンジオキシチオフェン(PEDOT、バイエル製)を
100nm成膜した。
After the surface of each substrate on which the ITO electrode layer and the like were formed was washed with UV / O 3 , a 100-nm thick film of polyethylene dioxythiophene (PEDOT, manufactured by Bayer) was formed as a hole injection layer.

【0050】次いで、青色発光体として、ジスチル系化
合物(出光製IDE102)を、緑色としてはクマリン
6を、赤色としては4−ジシアノメチレン−2−メチル
−6−(4−ジメチルアミノスリチル)4H−ピラン
(DCM1)をそれぞれドーパントとし、ポリビニルカ
ルバゾル(PVK)ポリマーをホスト材料としてそれぞ
れ、トルエン溶媒に溶解させた。この各溶液を、スピン
コート法によって先の基板上にそれぞれ塗布した。
Next, a distyl compound (IDE102 manufactured by Idemitsu) is used as a blue light emitter, coumarin 6 is used as a green light, and 4-dicyanomethylene-2-methyl-6- (4-dimethylaminosurityl) 4H is used as a red light. -Pyran (DCM1) was used as a dopant, and a polyvinyl carbazole (PVK) polymer was used as a host material and dissolved in a toluene solvent. Each of the solutions was applied on the substrate by a spin coating method.

【0051】次に、各基板を80℃で真空乾燥を一時間
行った後、LiFを3nm、Al電極を80nm蒸着した。
次に、UV硬化型接着剤(スリーボンド社製30Y−3
32)を使用して青、緑、赤色のパネルに順に重ね合わ
せた。この上に同様にUV硬化型接着剤を使用して封止
ガラスを接着して、カラー発光素子とした。この時の開
口率は、81%であった。
Next, each substrate was vacuum-dried at 80 ° C. for 1 hour, and then LiF was deposited to a thickness of 3 nm and an Al electrode was deposited to a thickness of 80 nm.
Next, a UV-curable adhesive (30Y-3 manufactured by Three Bond Co., Ltd.)
32) using blue, green, and red panels. A sealing glass was similarly adhered thereon using a UV-curable adhesive to obtain a color light emitting device. The aperture ratio at this time was 81%.

【0052】得られた素子の、それぞれのパネルを点灯
させ、白色になるように調整した。この時の全体の発光
輝度は、300cd/m2 であった。それぞれの発光比率
は、青28%、緑52%、赤20%であった。このとき
の、それぞれの駆電圧は、青8V 、緑7V 、赤10V で
あった。時間分割駆動でこのパネルを駆動したところ、
発光時間に依存した階調が得られた。
Each panel of the obtained device was turned on and adjusted to be white. At this time, the entire light emission luminance was 300 cd / m 2 . The respective light emission ratios were 28% for blue, 52% for green, and 20% for red. At this time, the driving voltages were 8 V for blue, 7 V for green, and 10 V for red. When driving this panel by time division drive,
A gradation depending on the light emission time was obtained.

【0053】[0053]

【発明の効果】以上のように本発明によれば、開口率が
大きく、明るく、しかも簡単なプロセスで作ることがで
きるカラー表示素子を提供することができる。
As described above, according to the present invention, it is possible to provide a color display element which has a large aperture ratio, is bright, and can be manufactured by a simple process.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明のカラー表示素子の概略構成を示す一部
断面図である。
FIG. 1 is a partial cross-sectional view showing a schematic configuration of a color display element of the present invention.

【図2】図1の光取り出し側からみた平面図である。FIG. 2 is a plan view seen from a light extraction side in FIG. 1;

【図3】本発明のカラー表示素子に好適に用いることの
できる有機EL素子の基本構造を示す断面図である。
FIG. 3 is a cross-sectional view showing a basic structure of an organic EL element that can be suitably used for the color display element of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

11R,G,B 基体 12R,G,B 発光層 13R,G,B 配線電極 14R,G,B 封止部材 15R,G,B 発光 11R, G, B Base 12R, G, B Light emitting layer 13R, G, B Wiring electrode 14R, G, B Sealing member 15R, G, B Light emission

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 少なくとも2種以上の異なる発光層が、
それぞれ別個の基体上に形成され、 この各発光層を有する個々の基体を含有するシートが発
光面と垂直方向に積層され、2色以上のカラー表示が可
能なカラー表示素子。
At least two or more different light-emitting layers comprise
A color display element capable of displaying two or more colors by forming sheets containing individual substrates each having a light-emitting layer formed on a separate substrate and stacked in a direction perpendicular to the light-emitting surface.
【請求項2】 前記発光層は赤、緑、青のそれぞれの各
色に対応した3種である請求項1のカラー表示素子。
2. The color display device according to claim 1, wherein said light emitting layers are of three types corresponding to respective colors of red, green and blue.
【請求項3】 少なくとも1つのシートの非発光部分の
一部が、他のシートの発光部分の陰の部分に配置されて
いる請求項1のカラー表示素子。
3. The color display element according to claim 1, wherein a part of the non-light-emitting portion of at least one sheet is arranged in a portion behind the light-emitting portion of another sheet.
【請求項4】 前記非発光部分の一部には配線電極が形
成されている請求項1〜3のいずれかのカラー表示素
子。
4. The color display element according to claim 1, wherein a wiring electrode is formed on a part of said non-light emitting portion.
【請求項5】 有機EL素子である請求項1〜4のいず
れかのカラー表示素子。
5. The color display device according to claim 1, which is an organic EL device.
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2005071693A (en) * 2003-08-21 2005-03-17 Semiconductor Energy Lab Co Ltd Light emitting device, its manufacturing method, and three-dimensional display device
JP2005203352A (en) * 2004-01-15 2005-07-28 Chi Mei Optoelectronics Corp El display device and its manufacturing method
JP2008026385A (en) * 2006-07-18 2008-02-07 Fujitsu Ltd Display apparatus of mobile terminal

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