JP2002228530A - シャドウマスクの架張応力測定方法 - Google Patents

シャドウマスクの架張応力測定方法

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JP2002228530A
JP2002228530A JP2001021189A JP2001021189A JP2002228530A JP 2002228530 A JP2002228530 A JP 2002228530A JP 2001021189 A JP2001021189 A JP 2001021189A JP 2001021189 A JP2001021189 A JP 2001021189A JP 2002228530 A JP2002228530 A JP 2002228530A
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shadow mask
load
tensile stress
tension
frame
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Hideki Kodaira
秀樹 小平
Shingo Akao
慎吾 赤尾
Hiroshi Kojima
弘 小島
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Toppan Inc
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Toppan Printing Co Ltd
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  • Force Measurement Appropriate To Specific Purposes (AREA)
  • Manufacture Of Electron Tubes, Discharge Lamp Vessels, Lead-In Wires, And The Like (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】ある張力を架けた状態で取り付けられたフレー
ム付シャドウマスクの任意の場所で、簡易、且つ高精度
に架張応力を測定する方法を提供することを目的とす
る。 【解決手段】移動保持機構50に取り付けられたロード
セル60及び測定子61にてフレーム20に取り付けら
れたシャドウマスク10の所定位置を押しつけ、荷重量
及び変位量を測定する操作を2回繰り返して、荷重量、
変位量及びその他の諸元を下記の式に代入して荷張応力
0を求める。荷張応力T0は、T0=[F1×(Y0R 2
1 21/2×{(Y0R 2+X2 21/2−Y0R}/{(Y0R
/Y0L+1)X1}−F2×(Y0R 2+X2 21/2×{(Y
0R 2+X2 21/2−Y0R}/{(Y0R/Y0L+1)
2}]/(Y0R 2+X2 21/2−(Y0R 2+X1 21/2
で表される。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、テレビ、コンピュ
ーター等のディスプレー用のブラウン管中に用いられる
シャドウマスクの架張応力測定方法に関するものであ
る。
【0002】
【従来の技術】従来、ブラウン管のシャドウマスクは、
一定の形状にプレスされて取り付けられており、これを
変形させるような応力が発生することはなかった。その
為、架張応力を詳細に測定する必要がなかった。しか
し、近年のブラウン管の平面化ニーズに伴い、シャドウ
マスクをその取付フレームにある張力をかけて取り付け
る工法が開発されている。これに伴い、シャドウマスク
が弛まないように制御する為に、また、張力が偏って局
所的にシャドウマスクの貫通孔にずれが生じ、ブラウン
管の表示品質に影響が与えることがないように、フレー
ムに取り付けられたシャドウマスクの面内での、所望の
箇所での架張応力を測定する必要が生じてきている。な
お、上記の架張応力については、シャドウマスク面内で
均一でなくても、貫通孔位置の設計であわせることがで
きるため、問題はないが、意図した張力と異なってしま
うと、その部分で貫通孔に位置ずれが生じてしまい、ブ
ラウン管の表示品質に影響を与えてしまう。
【0003】そのため、シャドウマスク上に錘を載置
し、錘を載置する前後のシャドウマスク面高さの変位量
を求めることで、その架張応力を測定する方法などが開
発されてきており、特開2000−180278号公報
に記載されている。また、シャドウマスク上の特定孔の
位置を具体的に測定し、どの程度位置ズレしているかに
よって、その架張応力を測定する方法が開発されてきて
いる。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】上記のように、錘を載
置する方法は、錘とマスクが広範囲で接触する為、局所
的な架張応力の測定に問題があった。また、シャドウマ
スク上の特定孔がどの程度位置ズレがあるかを求めて、
その架張応力を測定する方法も、非常に煩雑なので、ブ
ラウン管の製造工程に求められている簡易かつ高精度の
検査体制に対応できるものではない、という問題点を有
している。
【0005】本発明は上記の問題点に鑑み考案されたも
ので、ある張力を架けた状態で取り付けられたフレーム
付シャドウマスクの任意の場所で、簡易、且つ高精度に
架張応力を測定する方法を提供することを目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明に於いて上記課題
を解決するために、まず請求項1では、フレームにある
張力をかけた状態で取り付けられた多数の貫通孔が設け
られた金属板からなるシャドウマスクの架張状態を測定
するシャドウマスクの架張応力測定方法であって、フレ
ームに取り付けられたシャドウマスク表面の所望の位置
に、局部的に垂直に荷重を与え、生じた変位量を測定す
る操作を前記荷重を変えて2回繰り返すことにより架張
応力T0を求めることを特徴とするシャドウマスクの架
張応力測定方法としたものである。
【0007】また、請求項2では、前記架張応力T
0が、T0=[F1×(Y0R 2+X1 21/2×{(Y0R 2+X
2 21/2−Y0R}/{(Y0R/Y0L+1)X1}−F2×
(Y0R 2+X2 21/2×{(Y0R 2+X2 21/2−Y0R}/
{(Y0R/Y0L+1)X2}]/(Y0R 2+X2 21/2
(Y0R 2+X1 21/2}なる式で表されることを特徴とす
る請求項1記載のシャドウマスクの架張応力測定方法と
したものである。
【0008】
【発明の実施の形態】本発明のシャドウマスクの架張応
力測定方法は、フレームにある張力を架けた状態で取り
付けられたシャドウマスクの所定位置に、局部的に垂直
に荷重を与え、生じた変位量を測定する操作を荷重を変
えて2回繰り返すことにより、所望の箇所の架張応力を
算出するようにしたものである。さらに、架張応力は上
記の数式に荷重、変位量及びその他の寸法諸元を代入し
て求める。
【0009】シャドウマスクの所定位置に、局部的に垂
直に荷重を与える手段は、図2に示すように、ロードセ
ル61の取り付けられた測定子61をシャドウマスク1
0に押しつけることにより行い、ロードセル61に表示
される荷重にて押しつけ量を調整する。測定子61の先
端の面積は小さいものが好ましく、例えば、0.5mm
2乃至2mm2のものが使用され、好ましくは1mm2
度のものである。これは、シャドウマスク10の貫通孔
間のブリッジ幅が100μm程度であるためで、あまり
測定子61の先端面積が小さすぎると、シャドウマスク
10を突き破ることになり、あまり測定子の先端面積が
大きすぎると、隣接するブリッジにも接触し、同じ荷重
を与えても変位量が異なってしまう可能性があるためで
ある。
【0010】以下本発明の実施の形態につき説明する。
図1(a)は、本発明の架張応力測定方法を適用しうる
フレーム付シャドウマスクの概略構成を示す斜視図であ
る。図1(b)は、図1(a)の斜視図をA−A’線で
切断したフレーム付シャドウマスクの構成断面図であ
る。図1(c)は、図1(a)の斜視図をB−B’線で
切断したフレーム付シャドウマスクの構成断面図であ
る。図2は、本発明のシャドウマスクの架張応力測定方
法の一実施形態の概略構成を示す説明図である。図3
(a)及び(b)は、シャドウマスクの荷張応力を測定
している状態を示す概略構成模式断面図である。
【0011】シャドウマスク10は、図1(a)に示す
ように、フレーム20に荷張された状態で取り付けられ
ている。シャドウマスク10の架張応力測定は図2に示
すように、移動保持機構50に取り付けられたロードセ
ル60及び測定子61にてフレーム20に取り付けられ
たシャドウマスク10の所定位置を押しつけ、荷重量及
び変位量を測定するものである。フレーム20に取り付
けられたシャドウマスク10は保持台41にて測定台3
0上に固定される。一方ロードセル60及び測定子61
は移動保持機構50を介して移動ステージ42に取り付
けられ、測定台30上にセットされる。移動ステージ4
2は測定子61とシャドウマスク10のとの位置関係を
調整し、移動保持機構50にて測定子61を左右上下に
移動させてシャドウマスク10の測定位置及びシャドウ
マスク10に対する測定子61の荷重方向の角度調整が
できるようになっている(図2参照)。
【0012】以下、その動作を説明する。まず、フレー
ム付きシャドウマスク10を測定台30上に固定し、ロ
ードセル60の移動保持機構50にてシャドウマスク1
0の測定位置を設定し、移動ステージ42によりロード
セル60の測定子61がシャドウマスク10の測定位置
に接する状態まで移動し、接した状態でステージ42を
停止し、その時のステージ42の位置(X0)を測定す
る(図3(a)参照)。
【0013】次に、ステージ42をシャドウマスク10
方向に移動し、測定子61にてシャドウマスク10の所
定位置を押しつけ、所定の荷重になった所でステージ4
2を停止し、その時のステージ42の位置(X1)を測
定する(図3(b)参照)。位置(X1)と位置(X0
の差が、シャドウマスク10に所定荷重を架けた時の、
シャドウマスクの変位量xである。さらに、同様の操作
で、シャドウマスクの同じ位置を、別の荷重で押しつけ
変位量を測定する。このように、2回の操作を繰り返し
て、シャドウマスク10の所定位置の荷重及び変位量x
を求めることにより、上記の式に代入して、架張応力T
0を求めることができる。
【0014】請求項2の架張応力T0の算出式について
説明する。図4は、測定子61にてシャドウマスク10
の所定位置を所定の荷重F1で押しつけた時の張力成分
及び位置関係を模式的に示す説明図である。ここで、F
1は測定子61にてシャドウマスク10の所定位置を所
定の荷重で押しつけたときのジグ応力を、T1Rは荷重F
1をかけたときの荷重点からフレームまでの右方向の張
力成分を、T1Lは荷重F1をかけたときの荷重点からフ
レームまでの左方向の張力成分を、X1は荷重F1をかけ
たときのシャドウマスクの変位量を、Y0Rは荷重をかけ
ないときの荷重点からフレームまでの右方向の距離を、
0Lは荷重をかけないときの荷重点からフレームまでの
左方向の距離を、Y1Rは荷重F1をかけたときの荷重点
からフレームまでの右方向の距離、Y1Lは荷重F1をか
けたときの荷重点からフレームまでの左方向の距離を、
それぞれ示す。図5は、T1R及びT1Lの張力成分をベク
トル表示で示した説明図である。図6は、測定子61に
てシャドウマスク10の所定位置を所定の荷重F1で押
しつけた時の張力成分、変位量を模式的に示す説明図で
ある。ここで、X1は、測定子61にてシャドウマスク
10の所定位置を荷重F1で押しつけた時のシャドウマ
スクの変位量を、Y0Rは、荷重をかけない時の荷重点か
らフレームまでの右方向の距離を、T0は、荷重をかけ
ない時のシャドウマスクの張力を、T1Rは、荷重F1
かけた為に新たに増加したシャドウマスク張力の増加分
を、Y1Rは、荷重F1をかけた時の荷重点からフレーム
までの右方向の距離を、それぞれ示す。
【0015】図5より、T1Lの張力成分AとT1Rの張力
成分Bが等しいことより、 T1L×Y0L/Y1L−T1R×Y0R/Y1R=0……とな
り、 さらに、図5より、ジグ応力F1とT1Rの張力成分Cと
1Lの張力成分Dとの和が等しいことより、 F1=T1L×X1/Y1L+T1R×X1/Y1R……とな
る。 シャドウマスクの架張時の張力をT0、ヤング率をEと
すると、図6より T1R=T0+ΔT1R=T0+E(Y1R−Y0R)……とな
る。 式より、 T1L×Y0L/Y1L=T1R×Y0R/Y1R1L=T1R×Y0R×Y1L/Y1R×Y0L……となる。 この式を式に代入すると、 F1=(T1R×Y0R×Y1L/Y1R×Y0L)×X1/Y1L
1R×X1/Y1R1=T1R(Y0R×X1/Y1R×Y0L
1/Y1R)……となる。 この式に式を代入すると、 F1={T0+E(Y1R−Y0R)}×(Y0R×X1/Y1R
×Y0L+X1/Y1R)={T0+E(Y1R−Y0R)}×X
1/Y1R(Y0R/Y0L+1)となる。 よって、 F1×Y1R/{(Y0R/Y0L+1)×X1}=T0+E
(Y1R−Y0R)……となる。
【0016】図7は、測定子61にてシャドウマスク1
0の同一箇所を所定の荷重F2で押しつけた時の張力成
分及び位置関係を模式的に示す説明図である。F2、T
2R、T2L、X1、Y0R及びY0Lは図4の場合と同様なの
で説明は省略する。図8は、T2R及びT2Lの張力成分を
ベクトル表示で示した説明図である。図9は、測定子6
1にてシャドウマスク10の所定位置を所定の荷重F2
で押しつけた時の張力成分、変位量を模式的に示す説明
図である。ここで、X2は、測定子61にてシャドウマ
スク10の所定位置を荷重F2で押しつけた時のシャド
ウマスクの変位量を、Y0Rは、荷重をかけない時の荷重
点からフレームまでの右方向の距離を、T0は、荷重を
かけない時のシャドウマスクの張力を、T2Rは、荷重F
2をかけた為に新たに増加したシャドウマスク張力の増
加分を、Y2Rは、荷重F2をかけた時の荷重点からフレ
ームまでの右方向の距離を、それぞれ示す。
【0017】シャドウマスク10の同一箇所を所定の荷
重F2を加えたときも同様にして、 F2={T0+E(Y2R−Y0R)}×X2/Y2R(Y0R
0L+1)となり、 F2×Y2R/{(Y0R/Y0L+1)×X2}=T0+E
(Y2R−Y0R)……となり、 ×(Y2R−Y0R)−×(Y1R−Y0R)より、 F1×Y1R×(Y2R−Y0R)/{(Y0R/Y0L+1)×
1}−F2×Y2R×(Y1R−Y0R)/{(Y0R/Y0L
1)×X2}=T0×(Y2R−Y1R)となる。よって、架
張時の架張応力T0は T0=[F1×Y1R×(Y2R−Y0R)/{(Y0R/Y0L
1)×X1}−F2×Y 2R×(Y1R−Y0R)/{(Y0R
0L+1)×X2}]/(Y2R−Y1R)……となる。 ここで、式にY1R=(Y0R 2+X1 21/2、Y2R=(Y
0R 2+X2 21/2を代入すると、架張時の架張応力T0は T0=[F1×(Y0R 2+X1 21/2×{(Y0R 2+X2 2
1/2−Y0R)}/{(Y 0R/Y0L+1)×X1}−F2×
(Y0R 2+X2 21/2×{(Y0R 2+X1 21/2−Y 0R)}
/{(Y0R/Y0L+1)×X2}]/{(Y0R 2+X2 2
1/2−(Y0R 2+X 1 21/2}……となる。 このようにして、請求項2の架張応力T0の算出式が求
められる。
【0018】図10に本発明のシャドウマスクの架張応
力測定方法を用いて、フレーム付きシャドウマスクの架
張応力分布を測定した測定結果の一例を示す。このよう
に、フレーム付きシャドウマスクの各位置での荷重と変
位量を測定することにより、本発明の算出式を用いて、
フレーム付きシャドウマスクの架張応力T0を簡易、且
つ高精度に測定できる。
【0019】
【発明の効果】上記したように、本発明のシャドウマス
クの架張応力測定方法を用いれば、ある張力をかけた状
態で取り付けられたフレーム付きのシャドウマスクの架
張応力分布を、簡易、且つ高精度に測定でき、フレーム
付きのシャドウマスク分野において、優れた実用上の効
果を発揮する。
【図面の簡単な説明】
【図1】(a)は、本発明のシャドウマスクの架張応力
測定方法を適用しうるフレーム付シャドウマスクの概略
構成を示す斜視図である。(b)は、図1(a)の斜視
図をA−A’線で切断したフレーム付シャドウマスクの
構成断面図である。(c)は、図1(a)の斜視図をB
−B’線で切断したフレーム付シャドウマスクの構成断
面図である。
【図2】本発明のシャドウマスクの架張応力測定方法の
一実施形態の概略構成を示す説明図である。
【図3】(a)及び(b)は、シャドウマスクの荷張応
力を測定している状態を示す概略構成模式断面図であ
る。
【図4】測定子61にてシャドウマスク10の所定位置
を所定の荷重で押しつけた時の張力成分及び位置関係を
模式的に示す説明図である。
【図5】T1R及びT1Lの張力成分をベクトル表示で示し
た説明図である。
【図6】測定子61にてシャドウマスク10の所定位置
を所定の荷重F1で押しつけた時の張力成分、変位量を
模式的示す説明図である。
【図7】測定子61にてシャドウマスク10の所定位置
を所定の荷重で押しつけた時の張力成分及び位置関係を
模式的に示す説明図である。
【図8】T2R及びT2Lの張力成分をベクトル表示で示し
た説明図である。
【図9】測定子61にてシャドウマスク10の所定位置
を所定の荷重F2で押しつけた時の張力成分、変位量を
模式的に示す説明図である。
【図10】本発明のシャドウマスクの架張応力測定方法
を用いて、フレーム付きのシャドウマスクの架張応力分
布を測定した測定結果の一例を示す説明図である。
【符号の説明】
10……シャドウマスク 20……フレーム 30……測定台 41……保持台 42……移動ステージ 50……ロードセルの移動保持機構 60……ロードセル 61……測定子 T0……架張応力 F1、F2……荷重あるいはジグ応力 Y0R……荷重をかけないときの荷重点からフレームまで
の右方向の距離 Y0L……荷重をかけないときの荷重点からフレームまで
の左方向の距離 X1、X2……荷重をかけたときのシャドウマスクの変位
量 T1R、T2R……荷重をかけたときの荷重点からフレーム
までの右方向の張力成分 T1L、T2L……荷重をかけたときの荷重点からフレーム
までの左方向の張力成分 Y1R、Y2R……荷重をかけたときの荷重点からフレーム
までの右方向の距離 Y1L、Y2L……荷重をかけたときの荷重点からフレーム
までの左方向の距離 A、B、C、D……張力成分のベクトル方向成分

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】フレームにある張力をかけた状態で取り付
    けられた多数の貫通孔が設けられた金属板からなるシャ
    ドウマスクの架張状態を測定するシャドウマスクの架張
    応力測定方法であって、フレームに取り付けられたシャ
    ドウマスク表面の所望の位置に、局部的に垂直に荷重を
    与え、生じた変位量を測定する操作を前記荷重を変えて
    2回繰り返すことにより架張応力T0を求めることを特
    徴とするシャドウマスクの架張応力測定方法。
  2. 【請求項2】前記架張応力T0が、T0=[F1×(Y0R 2
    +X1 21/2×{(Y0R 2+X2 21/ 2−Y0R}/{(Y
    0R/Y0L+1)X1}−F2×(Y0R 2+X2 21/2×
    {(Y0R 2+X2 21/2−Y0R}/{(Y0R/Y0L+1)
    2}]/(Y0R 2+X2 21/2−(Y0R 2+X1 21/2
    なる式で表されることを特徴とする請求項1記載のシャ
    ドウマスクの架張応力測定方法。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6848960B2 (en) * 2001-06-21 2005-02-01 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Method for manufacturing color selection electrode structure and color cathode ray tube having the color selection electrode structure

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US6848960B2 (en) * 2001-06-21 2005-02-01 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Method for manufacturing color selection electrode structure and color cathode ray tube having the color selection electrode structure

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