JP2002220598A - 1-hydroperfluorocycloalkanol-based detergent - Google Patents

1-hydroperfluorocycloalkanol-based detergent

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JP2002220598A
JP2002220598A JP2001359432A JP2001359432A JP2002220598A JP 2002220598 A JP2002220598 A JP 2002220598A JP 2001359432 A JP2001359432 A JP 2001359432A JP 2001359432 A JP2001359432 A JP 2001359432A JP 2002220598 A JP2002220598 A JP 2002220598A
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cleaning
cleaning agent
cleaned
hydroperfluorocycloalkanols
hydroperfluorocycloalkanol
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Shuichi Okamoto
秀一 岡本
Takashi Okazoe
隆 岡添
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AGC Inc
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Asahi Glass Co Ltd
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  • Detergent Compositions (AREA)
  • Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a detergent capable of being used with no problem in work environments without influencing adverse effects on the ecosystem on the earth. SOLUTION: This detergent comprises 1-hydroperfluorocycloalkanols such as 1-hydrodecafluorocyclohexanol, 1-hydrooctafluorocyclopentanol and 1- hydrododecafluorocycloheptanol as an essential ingredient.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は洗浄剤に関し、特
に、半導体製造工程で使用される基板等の洗浄に有効な
洗浄剤に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a cleaning agent, and more particularly to a cleaning agent effective for cleaning a substrate or the like used in a semiconductor manufacturing process.

【0002】[0002]

【従来の技術】ICやLSI等の半導体の製造に用いら
れるウエハ等の基板、フォトリソグラフィ工程で使用さ
れるマスクやレチクルおよびその前駆体としての石英基
板等の基板、ペリクルを製造する際に使用されるガラス
基板、さらには、光ディスク用のスタンパの製造に使用
される基板等は、その性質上きわめてきれいに洗浄され
ている必要がある。
2. Description of the Related Art Used for manufacturing substrates such as wafers used in the manufacture of semiconductors such as ICs and LSIs, substrates such as quartz substrates used as masks and reticles used in photolithography processes and their precursors, and pellicles. A glass substrate to be manufactured, and furthermore, a substrate used for manufacturing a stamper for an optical disk, and the like, need to be extremely cleanly cleaned due to their properties.

【0003】このような基板の洗浄方法としては、従
来、超音波洗浄法、ブラシ等によるこすり洗い法、また
は蒸気洗浄乾燥法が広く用いられている。また、該洗浄
方法に用いる洗浄剤としては、イソプロピルアルコー
ル、フロン類、CF3CF2CH2OH等が知られてい
る。また、CF3CH(OH)CF3、CF3CH(O
H)CF2CF3、(CF33C(OH)、(CF32
(OH)CH3を使用した洗浄剤も知られている(特開
平6−346096)。
[0003] As a method for cleaning such a substrate, an ultrasonic cleaning method, a scrubbing method using a brush or the like, or a steam cleaning and drying method has hitherto been widely used. Further, as a cleaning agent used in the cleaning method, isopropyl alcohol, chlorofluorocarbons, CF 3 CF 2 CH 2 OH and the like are known. Further, CF 3 CH (OH) CF 3 , CF 3 CH (O
H) CF 2 CF 3 , (CF 3 ) 3 C (OH), (CF 3 ) 2 C
A cleaning agent using (OH) CH 3 is also known (JP-A-6-346096).

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】しかし、イソプロピル
アルコールは可燃性であり、洗浄工程の作業環境に特別
な配慮が必要である問題がある。また、クロロフルオロ
カーボン等のフロン類は大気中に放出された場合に、成
層圏のオゾン層を破壊し、その結果地球上の生態系に悪
影響を及ぼすことが指摘され、これらのフロン類は生産
および使用が規制されている。また、CF3CF2CH2
OH中の水酸基は1級水酸基であることから、洗浄性に
劣る問題があった。さらに、CF3CH(OH)CF3
CF3CH(OH)CF2CF3、(CF33C(O
H)、(CF32C(OH)CH3は2級水酸基を有す
る化合物ではあるが、入手が困難である欠点があった。
However, since isopropyl alcohol is flammable, there is a problem that special consideration must be given to the working environment of the washing process. It has also been pointed out that fluorocarbons such as chlorofluorocarbons, when released into the atmosphere, destroy the ozone layer in the stratosphere and, as a result, adversely affect ecosystems on the planet. Is regulated. Also, CF 3 CF 2 CH 2
Since the hydroxyl group in OH is a primary hydroxyl group, there is a problem that cleaning properties are poor. Further, CF 3 CH (OH) CF 3 ,
CF 3 CH (OH) CF 2 CF 3 , (CF 3 ) 3 C (O
H) and (CF 3 ) 2 C (OH) CH 3 are compounds having a secondary hydroxyl group, but have the drawback that they are difficult to obtain.

【0005】本発明の目的は、作業環境上の問題なく使
用でき、地球上の生態系に悪影響を及ぼさない洗浄剤を
提供することにある。
An object of the present invention is to provide a cleaning agent which can be used without problems in the working environment and which does not adversely affect the ecosystem on the earth.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】本発明者等は、上記の問
題を解決するために検討を重ねた結果、1−ヒドロペル
フルオロシクロアルカノール類は、不燃性で、かつ塩素
原子を含まないためオゾン層を破壊せず、大気中での寿
命が短いために地球温暖化への寄与が小さいことを見い
出した。
Means for Solving the Problems The present inventors have conducted various studies to solve the above-mentioned problems. As a result, 1-hydroperfluorocycloalkanols are nonflammable and contain no chlorine atom, so that ozone They found that their contribution to global warming was small due to their short lifetime in the atmosphere without destroying the layers.

【0007】さらに1−ヒドロペルフルオロシクロアル
カノール類は、ペルフルオロアルキル基を有する2級の
アルコールであることに起因する、きわめて極性の高い
水酸基を持つことから、イオン性の汚染物質やフラック
ス等に対する優れた洗浄剤であることを見い出した。す
なわち、本発明は1−ヒドロペルフルオロシクロアルカ
ノール類を必須成分とする洗浄剤を提供する。
Further, 1-hydroperfluorocycloalkanols have an extremely polar hydroxyl group due to secondary alcohols having a perfluoroalkyl group, and are therefore excellent against ionic contaminants and fluxes. It was found to be a cleaning agent. That is, the present invention provides a detergent containing 1-hydroperfluorocycloalkanol as an essential component.

【0008】[0008]

【発明の実施の形態】本発明における1−ヒドロペルフ
ルオロシクロアルカノール類としては、炭素数5〜10
の1−ヒドロペルフルオロシクロアルカノールが好まし
く、特に炭素数5〜7の1−ヒドロペルフルオロシクロ
アルカノール(すなわち、1−ヒドロオクタフルオロシ
クロペンタノール、1−ヒドロデカフルオロシクロヘキ
サノール、1−ヒドロドデカフルオロシクロヘプタノー
ル)が好ましい。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The 1-hydroperfluorocycloalkanols of the present invention include those having 5 to 10 carbon atoms.
1-hydroperfluorocycloalkanol is particularly preferable, and in particular, 1-hydroperfluorocycloalkanol having 5 to 7 carbon atoms (ie, 1-hydrooctafluorocyclopentanol, 1-hydrodecafluorocyclohexanol, 1-hydrododecafluorocycloheptanol) Is preferred.

【0009】1−ヒドロペルフルオロシクロアルカノー
ル類は、不燃性であることから、作業環境上の不都合が
なく、かつ、使用しやすい洗浄剤である。また、1−ヒ
ドロペルフルオロシクロアルカノール類は、水酸基が結
合した炭素原子の隣りの炭素原子にフッ素原子が結合し
た構造を有しており、その水酸基の性質が通常のアルコ
ール性水酸基の性質と異なるために、イオン性物質や極
性化合物に高い洗浄性を示しうる化合物である。
[0009] 1-Hydroperfluorocycloalkanols are non-flammable and therefore have no inconvenience in the working environment and are easy-to-use detergents. Further, 1-hydroperfluorocycloalkanols have a structure in which a fluorine atom is bonded to a carbon atom adjacent to a carbon atom to which a hydroxyl group is bonded, and the properties of the hydroxyl group are different from those of a normal alcoholic hydroxyl group. In addition, it is a compound that can exhibit high detergency to ionic substances and polar compounds.

【0010】本発明の洗浄剤は、1−ヒドロペルフルオ
ロシクロアルカノール類を必須成分とするものであり、
1−ヒドロペルフルオロシクロアルカノール類の1種の
みからなる、2種以上のみからなる、または1−ヒドロ
ペルフルオロシクロアルカノール類の1種以上と他の溶
剤の1種以上からなるものが好ましく、特に1−ヒドロ
ペルフルオロシクロアルカノール類の1種または2種以
上のみからなるのが好ましい。また本発明の洗浄剤に
は、洗浄剤の安定性を高める化合物を配合してもよい。
The detergent of the present invention contains 1-hydroperfluorocycloalkanol as an essential component,
Preferred are those composed of only one or more 1-hydroperfluorocycloalkanols, or those composed of one or more 1-hydroperfluorocycloalkanols and one or more other solvents, particularly 1- It is preferable to consist of only one or more hydroperfluorocycloalkanols. The cleaning agent of the present invention may contain a compound that enhances the stability of the cleaning agent.

【0011】他の溶剤としては、炭化水素類、アルコー
ル類、ケトン類、エーテル類及びエステル類からなる群
より選ばれる少なくとも1種が挙げられ、アルコール類
が好ましい。他の溶剤を洗浄剤中に含有させる場合の量
は、洗浄剤中に好ましくは40%以下、より好ましくは
20%以下、さらに好ましくは10%以下である。
Examples of the other solvent include at least one selected from the group consisting of hydrocarbons, alcohols, ketones, ethers and esters, and alcohols are preferred. The amount of the other solvent contained in the detergent is preferably 40% or less, more preferably 20% or less, and further preferably 10% or less.

【0012】炭化水素類としては、炭素数5〜15の鎖
状または環状の飽和または不飽和炭化水素類が好まし
く、n−ペンタン、シクロペンタン、n−ヘキサン、シ
クロヘキサン、n−ヘプタン等の炭素数5〜7の炭化水
素が特に好ましい。
The hydrocarbons are preferably chain or cyclic saturated or unsaturated hydrocarbons having 5 to 15 carbon atoms, such as n-pentane, cyclopentane, n-hexane, cyclohexane and n-heptane. 5-7 hydrocarbons are particularly preferred.

【0013】アルコール類としては、1−ヒドロペルフ
ルオロシクロアルカノール類以外のアルコール類であ
り、炭素数1〜16の鎖状または環状の飽和または不飽
和アルコール類が好ましく、メタノール、エタノール、
n−プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、n
−ブチルアルコール、sec−ブチルアルコール、イソ
ブチルアルコール、tert−ブチルアルコール、1−
ペンタノール、2−ペンタノール、1−エチル−1−プ
ロパノール、2−メチル−1−ブタノール、3−メチル
−1−ブタノール、3−メチル−2−ブタノール、ネオ
ペンチルアルコール、1−ヘキサノール、2−メチル−
1−ペンタノール、4−メチル−2−ペンタノール、2
−エチル−1−ブタノール、1−ヘプタノール、2−ヘ
プタノール、3−ヘプタノール、1−オクタノール、2
−オクタノール、2−エチル−1−ヘキサノール、1−
ノナノール、3,5,5−トリメチル−1−ヘキサノー
ル、1−デカノール、1−ウンデカノール、1−ドデカ
ノール、アリルアルコール、プロパルギルアルコール、
ベンジルアルコール、シクロヘキサノール、1−メチル
シクロヘキサノール、2−メチルシクロヘキサノール、
3−メチルシクロヘキサノール、4−メチルシクロヘキ
サノール、α−テルピネオール、2,6−ジメチル−4
−ヘプタノール、ノニルアルコール、テトラデシルアル
コール等が挙げられる。より好ましくは、メタノール、
エタノール、イソプロピルアルコール等の炭素数3以下
のアルカノールである。
The alcohols are alcohols other than 1-hydroperfluorocycloalkanols, and are preferably chain or cyclic saturated or unsaturated alcohols having 1 to 16 carbon atoms, such as methanol, ethanol,
n-propyl alcohol, isopropyl alcohol, n
-Butyl alcohol, sec-butyl alcohol, isobutyl alcohol, tert-butyl alcohol, 1-
Pentanol, 2-pentanol, 1-ethyl-1-propanol, 2-methyl-1-butanol, 3-methyl-1-butanol, 3-methyl-2-butanol, neopentyl alcohol, 1-hexanol, 2- Methyl-
1-pentanol, 4-methyl-2-pentanol, 2
-Ethyl-1-butanol, 1-heptanol, 2-heptanol, 3-heptanol, 1-octanol, 2
-Octanol, 2-ethyl-1-hexanol, 1-
Nonanol, 3,5,5-trimethyl-1-hexanol, 1-decanol, 1-undecanol, 1-dodecanol, allyl alcohol, propargyl alcohol,
Benzyl alcohol, cyclohexanol, 1-methylcyclohexanol, 2-methylcyclohexanol,
3-methylcyclohexanol, 4-methylcyclohexanol, α-terpineol, 2,6-dimethyl-4
-Heptanol, nonyl alcohol, tetradecyl alcohol and the like. More preferably, methanol,
It is an alkanol having 3 or less carbon atoms such as ethanol and isopropyl alcohol.

【0014】ケトン類としては、炭素数3〜9の鎖状ま
たは環状の飽和または不飽和ケトン類が好ましく、アセ
トン、メチルエチルケトン等の炭素数3〜4のケトンが
特に好ましい。
As the ketone, a chain or cyclic saturated or unsaturated ketone having 3 to 9 carbon atoms is preferable, and a ketone having 3 to 4 carbon atoms such as acetone and methyl ethyl ketone is particularly preferable.

【0015】エーテル類としては、炭素数2〜8の鎖状
または環状の飽和または不飽和エーテル類が好ましく、
ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジオキサ
ン、テトラヒドロフラン等の炭素数4〜6のエーテルが
特に好ましい。
As the ethers, chain or cyclic saturated or unsaturated ethers having 2 to 8 carbon atoms are preferable.
Ethers having 4 to 6 carbon atoms, such as diethyl ether, diisopropyl ether, dioxane and tetrahydrofuran, are particularly preferred.

【0016】エステル類としては、炭素数2〜19の鎖
状または環状の飽和または不飽和エステル類が好まし
く、酢酸メチル、酢酸エチル等の炭素数3〜4のエステ
ルが特に好ましい。
As the esters, chain or cyclic saturated or unsaturated esters having 2 to 19 carbon atoms are preferable, and esters having 3 to 4 carbon atoms such as methyl acetate and ethyl acetate are particularly preferable.

【0017】本発明の洗浄剤で洗浄できる被洗浄物とし
ては、1−ヒドロペルフルオロシクロアルカノール類に
対して安定なものであれば特に限定されず、種々の被洗
浄物が挙げられる。これらのうち、1−ヒドロペルフル
オロシクロアルカノール類は、イオン性の汚染物質やフ
ラックス等を良好に洗浄しうることから、半導体用の基
板の洗浄剤としてきわめて有効であり、好ましい。
The object to be cleaned with the cleaning agent of the present invention is not particularly limited as long as it is stable to 1-hydroperfluorocycloalkanols, and includes various objects to be cleaned. Among these, 1-hydroperfluorocycloalkanols are very effective as a cleaning agent for a substrate for a semiconductor because they can satisfactorily clean ionic contaminants and fluxes, and are preferred.

【0018】被洗浄物としては、たとえば、ガラス、石
英またはこれらの表面にクロム等を蒸着させて被膜を形
成したもの、樹脂または樹脂上に回路パターン等を有す
るもの等が挙げられる。被洗浄物の具体例としては、半
導体の製造に用いられるウエハ等の基板、フォトリソグ
ラフィ工程で使用されるマスクやレチクルおよびその前
駆体としての石英基板、ペリクルを製造する際に使用さ
れるガラス基板並びに光ディスク用のスタンパの製造に
使用される基板等が挙げられる。
Examples of the object to be cleaned include glass, quartz, or those obtained by depositing chromium or the like on the surface thereof to form a coating, resin, or those having a circuit pattern or the like on the resin. Specific examples of the object to be cleaned include a substrate such as a wafer used in semiconductor manufacturing, a mask or reticle used in a photolithography process and a quartz substrate as a precursor thereof, and a glass substrate used in manufacturing a pellicle. And a substrate used for manufacturing a stamper for an optical disk.

【0019】本発明の洗浄剤による洗浄方法は特に限定
されず、洗浄剤中に被洗浄物を浸漬する方法、被洗浄物
に洗浄剤をスプレーする方法、洗浄剤の蒸気中に被洗浄
物を入れて被洗浄物表面を洗浄した後に乾燥させる蒸気
洗浄乾燥法等が挙げられ、特に蒸気洗浄乾燥法が好まし
い。これらの方法において、洗浄剤として用いる1−ヒ
ドロペルフルオロシクロアルカノール類の融点が室温よ
りも高い場合には、融点以上に加熱して用いられる。
The method of cleaning with the cleaning agent of the present invention is not particularly limited, and includes a method of immersing the object to be cleaned in the cleaning agent, a method of spraying the cleaning object on the object to be cleaned, and a method of cleaning the object to be cleaned in the vapor of the cleaning agent. A steam washing and drying method for drying after washing the surface of the object to be washed, and the like, is particularly preferable. In these methods, when the melting point of 1-hydroperfluorocycloalkanol used as a cleaning agent is higher than room temperature, it is used after being heated to the melting point or higher.

【0020】蒸気洗浄乾燥法で洗浄を行う場合の具体的
な手法としては、まず、大部分の汚れを除去する前処理
を行うのが好ましい。該前処理の方法としては、洗剤や
超純水に被洗浄物を浸して超音波振動で被洗浄物に付着
している異物を除去する方法、洗剤や超純水を用いてブ
ラシでこすり洗いする方法、または硫酸−過酸化水素
水、水酸化アンモニウム−過酸化水素水等の溶液中に被
洗浄物を浸して酸化反応で有機物を除去する方法等が挙
げられる。
As a specific method for performing the cleaning by the steam cleaning and drying method, it is preferable to first perform a pretreatment for removing most of the stains. As a method of the pretreatment, there is a method of immersing an object to be cleaned in a detergent or ultrapure water and removing foreign substances adhering to the object to be cleaned by ultrasonic vibration, and rubbing with a brush using a detergent or ultrapure water. Or a method in which an object to be cleaned is immersed in a solution of sulfuric acid-hydrogen peroxide solution, ammonium hydroxide-hydrogen peroxide solution or the like to remove organic substances by an oxidation reaction.

【0021】つぎに、本発明の洗浄剤を用いて蒸気洗浄
乾燥法による洗浄を行う。該蒸気洗浄乾燥法としては、
蒸気中に該蒸気よりも低い温度の被洗浄物を置き、被洗
浄物表面で蒸気を凝縮させて被洗浄物表面を洗い流し、
被洗浄物の温度が蒸気の温度と等しくなった時点を乾燥
状態として、この時点で終了させる方法が例示されう
る。
Next, cleaning by a steam cleaning and drying method is performed using the cleaning agent of the present invention. As the steam cleaning and drying method,
Place the object to be cleaned at a temperature lower than the vapor in the steam, condense the vapor on the surface of the object to be cleaned, and wash off the surface of the object to be cleaned,
A method in which the time when the temperature of the object to be cleaned becomes equal to the temperature of the steam is set to a dry state and the process is terminated at this time may be exemplified.

【0022】本発明の洗浄剤を用いて蒸気洗浄乾燥法で
洗浄を行った場合には、洗浄乾燥された基板表面には洗
浄剤は残留しない利点がある。また、洗浄後の乾燥に要
する時間も短く、短時間で乾燥できる利点がある。そし
て、該利点は従来の洗浄剤に比べて、本発明の洗浄剤を
用いた場合にきわめて顕著に認められる。
When cleaning is performed by the steam cleaning and drying method using the cleaning agent of the present invention, there is an advantage that the cleaning agent does not remain on the cleaned and dried substrate surface. Further, there is an advantage that the time required for drying after washing is short, and drying can be performed in a short time. And, the advantage is extremely remarkably recognized when the cleaning agent of the present invention is used as compared with the conventional cleaning agent.

【0023】[0023]

【実施例】以下、実施例を用いて本発明を説明するが、
本発明はこれらの実施例に限定されない。 [例1〜3(実施例)]レチクル用のガラス基板につい
て硫酸洗浄(120℃、5分)を行い、水洗(3分)し
た後、さらに水中で超音波洗浄(3分)を行った。この
予備洗浄の後、洗浄剤として1−ヒドロデカフルオロシ
クロヘキサノール(例1)、1−ヒドロオクタフルオロ
シクロペンタノール(例2)、1−ヒドロドデカフルオ
ロシクロヘプタノール(例3)を用いて、蒸気洗浄乾燥
法により基板の洗浄を行い、乾燥後の乾燥状態を目視に
より観察した。結果を表1に示す。
Hereinafter, the present invention will be described with reference to Examples.
The present invention is not limited to these examples. [Examples 1 to 3 (Examples)] A reticle glass substrate was washed with sulfuric acid (120 ° C., 5 minutes), washed with water (3 minutes), and further ultrasonically washed in water (3 minutes). After this preliminary washing, using 1-hydrodecafluorocyclohexanol (Example 1), 1-hydrooctafluorocyclopentanol (Example 2), and 1-hydrododecafluorocycloheptanol (Example 3) as detergents, The substrate was cleaned by a steam cleaning and drying method, and the dried state after drying was visually observed. Table 1 shows the results.

【0024】[0024]

【表1】 [Table 1]

【0025】[例4(実施例)]1−ヒドロデカフルオ
ロシクロヘキサノールを用いてフラックスの洗浄試験を
行った。プリント基板全面にフラックス(タムラF−A
L−4、タムラ製作所製)を塗布し、200℃の電気炉
で2分間焼成後、70℃に加温した1−ヒドロデカフル
オロシクロヘキサノール中に3分間浸漬した。結果を表
2に示す。
Example 4 (Example) A flux washing test was performed using 1-hydrodecafluorocyclohexanol. Flux (Tamura FA) on the entire surface of the printed circuit board
L-4, manufactured by Tamura Seisakusho Co., Ltd.), baked in an electric furnace at 200 ° C. for 2 minutes, and immersed in 1-hydrodecafluorocyclohexanol heated to 70 ° C. for 3 minutes. Table 2 shows the results.

【0026】[例5(比較例)]1−ヒドロデカフルオ
ロシクロヘキサノールを1,1,2−トリクロロ−1,
2,2−トリフルオロエタンに変更した他は例4と同様
にしてフラックスの洗浄試験を行った。結果を表2に示
す。
Example 5 (Comparative Example) 1-hydrodecafluorocyclohexanol was converted to 1,1,2-trichloro-1,
A flux washing test was performed in the same manner as in Example 4 except that the flux was changed to 2,2-trifluoroethane. Table 2 shows the results.

【0027】[0027]

【表2】 [Table 2]

【0028】[0028]

【発明の効果】本発明によれば、不燃性でありかつ洗浄
能に優れた1−ヒドロペルフルオロシクロアルカノール
類を洗浄剤に用いることにより、作業環境上の問題な
く、従来の洗浄剤よりも優れた洗浄を行うことができ
る。また、本発明の洗浄剤は乾燥性にも優れることか
ら、乾燥時間を短縮でき、蒸気洗浄乾燥法を行った場合
には、より有利な条件で洗浄を行うことができる。
According to the present invention, 1-hydroperfluorocycloalkanols, which are nonflammable and have excellent cleaning ability, are used as a cleaning agent, so that they are superior to conventional cleaning agents without any problem in working environment. Washing can be performed. Further, since the cleaning agent of the present invention has excellent drying properties, the drying time can be shortened, and when the steam cleaning and drying method is performed, cleaning can be performed under more advantageous conditions.

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】1−ヒドロペルフルオロシクロアルカノー
ル類を必須成分とする洗浄剤。
1. A cleaning agent containing 1-hydroperfluorocycloalkanols as an essential component.
【請求項2】1−ヒドロペルフルオロシクロアルカノー
ル類が、1−ヒドロペルフルオロシクロヘキサノールで
ある請求項1に記載の洗浄剤。
2. The cleaning agent according to claim 1, wherein the 1-hydroperfluorocycloalkanol is 1-hydroperfluorocyclohexanol.
【請求項3】半導体用の基板の洗浄に用いる請求項1ま
たは2に記載の洗浄剤。
3. The cleaning agent according to claim 1, which is used for cleaning a semiconductor substrate.
【請求項4】蒸気洗浄乾燥法による洗浄に用いる請求項
3に記載の洗浄剤。
4. The cleaning agent according to claim 3, which is used for cleaning by a steam cleaning and drying method.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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CN105524748A (en) * 2014-09-30 2016-04-27 台氟科技股份有限公司 Electronic element cleaning agent and application method thereof

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CN105524748A (en) * 2014-09-30 2016-04-27 台氟科技股份有限公司 Electronic element cleaning agent and application method thereof

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