JP2002214427A - Nir absorbing composition, absorbing film and method for preparing the composition - Google Patents

Nir absorbing composition, absorbing film and method for preparing the composition

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JP2002214427A
JP2002214427A JP2001113152A JP2001113152A JP2002214427A JP 2002214427 A JP2002214427 A JP 2002214427A JP 2001113152 A JP2001113152 A JP 2001113152A JP 2001113152 A JP2001113152 A JP 2001113152A JP 2002214427 A JP2002214427 A JP 2002214427A
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film
nir
composition
absorbing
nir absorbing
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JP2001113152A
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Japanese (ja)
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Toshishige Uehara
寿茂 上原
Hiroyuki Hagiwara
裕之 萩原
Minoru Tosaka
実 登坂
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Showa Denko Materials Co Ltd
Original Assignee
Hitachi Chemical Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an NIR absorbing composition which efficiently absorbs heat rays emitted from a plasma display, particularly IR in the near infrared region(NIR), ensures a very low degree of heat deterioration and a very low degree of cracking and is stable with age and to provide an NIR absorbing film using the composition at a low cost. SOLUTION: The NIR absorbing composition contains 100 pts.wt. polyacrylic ester or acrylic ester copolymer and 0.1-10 pts.wt. organic IR absorbent as essential components in such a way that the elongation percentage of a coating of the composition after fracture at 80-100 deg.C is made higher than the heat shrinkage percentage. The acrylic ester copolymer is preferably a copolymer of acrylamide and at least one other acrylic ester.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、プラズマディスプ
レイから発生する近赤外線を遮蔽するための樹脂組成
物、それを使ったNIR吸収フィルム並びにその製造方
法に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a resin composition for shielding near infrared rays generated from a plasma display, an NIR absorbing film using the same, and a method for producing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、赤外線吸収性を付与させる方法と
して、樹脂中に赤外線吸収性のある材料を混合し、樹脂
とともに押出し成型する方法、樹脂/赤外線吸収剤を混
合した組成物を溶剤を用いて塗布する方法、あるいは真
空蒸着やスパッタなどの気相法を利用した薄膜形成法が
あった。
2. Description of the Related Art Conventionally, as a method of imparting an infrared absorbing property, a method of mixing a material having an infrared absorbing property into a resin and extruding the resin with the resin, and a method of mixing a resin / infrared absorbing composition with a solvent are used. And a thin film forming method using a vapor phase method such as vacuum evaporation or sputtering.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】しかし押出し成型法で
は、高温の加工温度にさらされるため、成型加工工程に
おいて赤外線吸収剤が熱劣化するという問題があった。
このような製造工程時の赤外線吸収剤の劣化を防止する
ため、特定の樹脂組成物を、該赤外線吸収剤「粒子」の
いわゆる“バインダ”として用いてこれを保護してやる
と、前記のような製造工程に伴う劣化の進行を抑制する
こともある程度可能である。しかし、このような場合で
も、製造された赤外線吸収性組成物を用いて皮膜を形成
したとき、プラズマディスプレイのEMIシールドなど
高温にさらされる使用環境下において、皮膜でのクラッ
ク発生など外観不良が発生しやすかった。さらにまた気
相薄膜法では、設備が大がかりで投資コストが高い上
に、所望の赤外線吸収性を発現させるためには複数の材
料を数層から、場合によっては10層以上積層させる必
要がある。このため、コスト競争力のあるものとなって
いないのが現状である。
However, in the extrusion molding method, there is a problem that the infrared absorbing agent is thermally deteriorated in the molding process because it is exposed to a high processing temperature.
In order to prevent the infrared absorbent from deteriorating during the production process, a specific resin composition is used as a so-called “binder” for the infrared absorbent “particles” to protect the infrared absorbent. It is also possible to some extent to suppress the progress of deterioration accompanying the process. However, even in such a case, when a film is formed using the manufactured infrared-absorbing composition, in a use environment where the film is exposed to high temperatures such as an EMI shield of a plasma display, appearance defects such as cracks occur in the film. It was easy. Furthermore, in the vapor phase thin film method, the equipment is large and the investment cost is high, and it is necessary to laminate a plurality of materials from several layers, and in some cases, ten or more layers in order to express desired infrared absorption. For this reason, it is currently not cost-competitive.

【0004】本発明は、かかる従来技術の問題点に鑑
み、プレズマディスプレイから放出される熱線、特に近
赤外領域(NIR)の赤外線を効率的に吸収し、熱劣化
の程度やクラックの発生の程度が極めて少なく、経時的
にも安定なNIR吸収性組成物およびその組成物を使っ
たNIR吸収フィルムを安価に供給せんとするものであ
る。
[0004] In view of the problems of the prior art, the present invention efficiently absorbs heat rays emitted from a plasma display, particularly infrared rays in the near infrared region (NIR), and causes the degree of thermal degradation and the generation of cracks. It is intended to supply an NIR-absorbing composition having an extremely small degree and stable over time and an NIR-absorbing film using the composition at low cost.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】本発明は、(a) 皮膜に
したときの80〜100℃における破断伸び率が加熱収
縮率より大きいポリアクリル酸エステル又はアクリル酸
エステル共重合体材料100重量部、及び(b)有機系赤
外線吸収剤0.1〜10重量部、を必須成分とする、プ
ラズマディスプレイの前面パネル部に使用するNIR吸
収性組成物である。
According to the present invention, there is provided (a) 100 parts by weight of a polyacrylate or acrylate copolymer material having a breaking elongation at 80 to 100 ° C. which is larger than a heat shrinkage when formed into a film. And (b) 0.1 to 10 parts by weight of an organic infrared absorbing agent, which is an NIR absorbing composition used for a front panel of a plasma display.

【0006】プラズマディスプレイのガラスパネル前面
に塗布して使用する、NIR吸収性フィルムにおいて
は、まずパネル面との接着界面において、(1) 長時間高
温にさらされ、また昇温/降温の温度変化の使用環境下
においても、各点に於いて強固、安定な接着性を保つこ
とができること、(2) クラックなど破断が生じないよう
フィルム全体として適正な熱力学的特性を有しているこ
と、さらに、(3) 対磨耗性、耐擦傷性など機械的、(4)
着色、退色、樹脂の変性など化学的にも、使用環境下で
十分安定であることなど、が望まれる。
An NIR-absorbing film applied to the front surface of a glass panel of a plasma display is firstly exposed to a high temperature for a long time at the bonding interface with the panel surface, and changes in temperature during temperature rise / fall. Even under the use environment, it should be able to maintain strong and stable adhesiveness at each point, (2) having appropriate thermodynamic properties as a whole film so as not to cause cracks such as cracks, Furthermore, (3) mechanical properties such as abrasion resistance and scratch resistance, (4)
It is also desired that the resin be chemically stable under the use environment, such as coloring, fading, and denaturation of the resin.

【0007】本発明者らはこれまで、NIR吸収性フィ
ルム材料、特にプラズマディスプレイのEMIシールド
フィルム付加機能としての赤外線吸収性皮膜、の調査、
研究を精力的に行ってきた。その結果、塗布され皮膜と
した組成物に前記のごとく温度変化の伴う使用条件下に
おいてクラックが発生しないようにするためには、機械
的特性と熱力学的特性との間の競合関係、すなわちプラ
ズマディスプレイ前面の高温の使用条件下(試験温度と
してより余裕のある80〜100℃が一般に採用されて
いる)において該皮膜が加熱収縮率より大きな破断伸び
率を有するようフィルムが構成されていることが非常に
重要であると認識している。
The present inventors have investigated NIR absorbing film materials, in particular, infrared absorbing films as an additional function of an EMI shielding film for a plasma display.
I have been working hard. As a result, in order to prevent cracks from occurring in the applied film-forming composition under the above-mentioned use conditions with temperature changes, the competition between mechanical and thermodynamic properties, that is, plasma The film must be configured so that the film has a breaking elongation greater than the heat shrinkage under high-temperature use conditions (80 to 100 ° C., which has more room for test temperature, is generally adopted) on the front surface of the display. We recognize that it is very important.

【0008】NIR吸収フィルムを、プラズマディスプ
レイの前面から発生する近赤外線を遮蔽する用途に使用
する場合、一般にプラズマディスプレイは80℃以上の
高温になることが多く、このような条件下で該フィルム
には微小クラックが発生する。この微小クラックは肉眼
では通常ほとんど観測されないが、ディスプレイ前面に
配置すると乱反射して明確な外観不良になるため、この
ようなプラズマディスプレイ用途では特に重要である。
既述のように発明者らは、このような使用環境下におい
てもフィルムの破断伸び率が加熱収縮率より大きくなる
よう成されていれば、フィルムは熱膨張、収縮に耐え、
微傷クラックの発生も極力抑えられるのではないかとの
アイデアを得、これに基づいて、実際に種々試験をし、
実験的裏づけを得、本発明を完成するに至っている。
When an NIR absorbing film is used for shielding near infrared rays generated from the front surface of a plasma display, the temperature of the plasma display generally rises to 80 ° C. or higher, and under such conditions, the film may not be covered. Causes minute cracks. Although these minute cracks are rarely observed with the naked eye, they are particularly important in such plasma display applications, because they are irregularly reflected when placed on the front of the display, resulting in a distinctly poor appearance.
As described above, the present inventors, even under such a use environment, if the elongation at break of the film is configured to be larger than the heat shrinkage, the film withstands thermal expansion and shrinkage,
I got the idea that the generation of micro cracks could be suppressed as much as possible, and based on this, actually conducted various tests,
With experimental support, the present invention has been completed.

【0009】なお、実施例に例示されるように、このよ
うな機械的/熱力学的特性上の関係を有する重合体/赤
外線吸収剤組成物を得るため、具体的には、該重合体の
製造時モノマーの一部としてアクリルアミドを、少量、
かつ適量使用して得られるアクリルアミド/アクリル酸
エステル共重合体を用いることが好適である。
As exemplified in the Examples, in order to obtain a polymer / infrared absorber composition having such a mechanical / thermodynamic property relationship, specifically, Acrylamide as a part of the monomer during production,
It is preferable to use an acrylamide / acrylic ester copolymer obtained by using an appropriate amount.

【0010】有機系赤外線吸収剤としては、アミニウム
化合物、ジイモニウム化合物、ニッケルジチオール化合
物、或いはこれらの混合物が望ましい。
As the organic infrared absorber, an aminium compound, a diimonium compound, a nickel dithiol compound, or a mixture thereof is desirable.

【0011】ポリアクリル酸エステル又はアクリル酸エ
ステル共重合体材料の弾性率は、80℃〜100℃にお
いて0.1GPa以上であることがさらに望ましい。
It is further desirable that the elastic modulus of the polyacrylate or acrylate copolymer material is 0.1 GPa or more at 80 ° C. to 100 ° C.

【0012】本発明はまた、プラスチックフィルム上に
前記のごとくのNIR吸収性組成物の層を有するNIR
吸収フィルムであって、前記プラスチックフィルムは6
0%以上の可視光透過率を有することが望ましく、典型
的にはプラズマディスプレイパネル表面に付けたEMI
シールドフィルムを構成するものである。
The present invention also provides a NIR having a layer of the NIR absorbing composition as described above on a plastic film.
An absorbent film, wherein the plastic film is 6
It is desirable to have a visible light transmittance of 0% or more, and typically EMI applied to the surface of a plasma display panel
It constitutes a shield film.

【0013】本発明はまた、プラスチックフィルムと、
プラスチックフィルムの上に積層された第1層と、第1
層の上に積層された第2層とから成る、プラズマディス
プレイの前面パネル部に使用するNIR吸収積層体であ
って、前記第1層が下記(A)から成り且つ第2層が下
記(B)から成るか、又は前記第1層が下記(B)から
成り且つ第2層が下記(A)から成る、前記のNIR吸
収積層体である。
[0013] The present invention also provides a plastic film,
A first layer laminated on the plastic film;
A NIR absorption laminate for use in a front panel portion of a plasma display, comprising a second layer laminated on a layer, wherein the first layer comprises the following (A) and the second layer comprises the following (B) Or the first layer comprises the following (B) and the second layer comprises the following (A).

【0014】(A)前記のNIR吸収性組成物 (B)80℃における弾性率が前記(A)を構成するポ
リアクリル酸エステル又はアクリル酸エステル共重合体
より小さい樹脂 さらにまた本発明は、(a)アクリル酸エステル共重合
体100重量部と(b)有機系赤外線吸収剤0.1〜1
0重量部とを必須成分とする、プラズマディスプレイの
前面パネル部に使用するNIR吸収性組成物の製造方法
であって、モノマーの一部にアクリルアミドを使用し且
つその添加量を調整して前記共重合体(a)を重合生成
することによって、該組成物を皮膜にしたときの80℃
〜100℃における破断伸び率が加熱収縮率より大きく
なるようにする、前記の製造方法である。前記方法にお
いては、共重合体(a)の80〜100℃における弾性
率が0.1GPa以上となるように前記アクリルアミド
を使用し且つその添加量を調整することがさらに望まし
い。
(A) The above-mentioned NIR absorbing composition (B) A resin having an elastic modulus at 80 ° C. smaller than that of the polyacrylate or acrylate copolymer constituting the above (A). a) 100 parts by weight of an acrylate copolymer and (b) an organic infrared absorbent 0.1 to 1
A method for producing an NIR-absorbing composition for use in a front panel part of a plasma display, comprising 0 parts by weight as an essential component. 80 ° C. when the composition is formed into a film by polymerizing the polymer (a)
The above-mentioned production method, wherein the elongation at break at -100 ° C is larger than the heat shrinkage. In the above method, it is further desirable to use the acrylamide and adjust the amount of the acrylamide so that the modulus of elasticity of the copolymer (a) at 80 to 100 ° C. is 0.1 GPa or more.

【0015】なお、本願においては“破断伸び率”、
“加熱収縮率”との語を用いているが、これらの定義は
それぞれ、JIS K−7113、K−7197に与え
られているとおりのものである。
In the present application, “elongation at break”
The term "heat shrinkage" is used, and these definitions are as given in JIS K-7113 and K-7197, respectively.

【0016】[0016]

【発明の実施の形態】以下、本発明を詳細に説明する。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, the present invention will be described in detail.

【0017】本発明において、使用可能なポリアクリル
酸エステルとしては、ポリエチルアクリレート、ポリブ
チルアクリレート、ポリ−2−エチルヘキシルアクリレ
ート、ポリ−t−ブチルアクリレート、ポリ−3−エト
キシプロピルアクリレート、ポリオキシカルボニルテト
ラメタクリレート、ポリメチルアクリレート、ポリイソ
プロピルメタクリレート、ポリドデシルメタクリレー
ト、ポリテトラデシルメタクリレート、ポリ−n−プロ
ピルメタクリレート、ポリ−3,3,5−トリメチルシ
クロヘキシルメタクリレート、ポリエチルメタクリレー
ト、ポリ−2−ニトロ−2−メチルプロピルメタクリレ
ート、ポリ−1,1−ジエチルプロピルメタクリレー
ト、ポリメチルメタクリレートなどのポリ(メタ)アク
リル酸エステルが使用可能である。これらのアクリルポ
リマーは必要に応じて、2種類以上共重合してもよい
し、2種類以上をブレンドして使用することも可能であ
る。
In the present invention, usable polyacrylates include polyethyl acrylate, polybutyl acrylate, poly-2-ethylhexyl acrylate, poly-t-butyl acrylate, poly-3-ethoxypropyl acrylate, and polyoxycarbonyl. Tetramethacrylate, polymethylacrylate, polyisopropylmethacrylate, polydodecylmethacrylate, polytetradecylmethacrylate, poly-n-propylmethacrylate, poly-3,3,5-trimethylcyclohexylmethacrylate, polyethylmethacrylate, poly-2-nitro-2 Poly (meth) acrylates such as -methylpropyl methacrylate, poly-1,1-diethylpropyl methacrylate and polymethyl methacrylate are used It is a function. If necessary, two or more of these acrylic polymers may be copolymerized, or two or more of them may be used as a blend.

【0018】さらにアクリル樹脂とアクリル以外との共
重合樹脂としてはエポキシアクリレート、ウレタンアク
リレート、ポリエーテルアクリレート、ポリエステルア
クリレートなども使用することもできる。特に接着性の
点から、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレー
ト、ポリエーテルアクリレートが優れており、エポキシ
アクリレートとしては、1,6−ヘキサンジオールジグ
リシジルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジ
ルエーテル、アリルアルコールジグリシジルエーテル、
レゾルシノールジグリシジルエーテル、アジピン酸ジグ
リシジルエステル、フタル酸ジグリシジルエステル、ポ
リエチレングリコールジグリシジルエーテル、トリメチ
ロールプロパントリグリシジルエーテル、グリセリント
リグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールテトラグ
リシジルエーテル、ソルビトールテトラグリシジルエー
テル等の(メタ)アクリル酸付加物が挙げられる。これ
らの共重合樹脂は必要に応じて、2種以上併用すること
ができる。
Further, epoxy acrylate, urethane acrylate, polyether acrylate, polyester acrylate and the like can also be used as the copolymer resin of acrylic resin and other than acrylic resin. In particular, urethane acrylate, epoxy acrylate, and polyether acrylate are excellent from the viewpoint of adhesiveness. Examples of epoxy acrylate include 1,6-hexanediol diglycidyl ether, neopentyl glycol diglycidyl ether, allyl alcohol diglycidyl ether,
(Meta) such as resorcinol diglycidyl ether, diglycidyl adipic ester, diglycidyl phthalate, polyethylene glycol diglycidyl ether, trimethylolpropane triglycidyl ether, glycerin triglycidyl ether, pentaerythritol tetraglycidyl ether, sorbitol tetraglycidyl ether, etc. Acrylic acid adducts are mentioned. These copolymer resins can be used in combination of two or more as necessary.

【0019】製造される樹脂皮膜の80〜100℃にお
ける加熱収縮率は、典型的には2〜5%である。従っ
て、破断伸び率は5%以上と理解される。10%以上で
あるとさらに好ましい。
The heat shrinkage of the produced resin film at 80 to 100 ° C. is typically 2 to 5%. Therefore, the elongation at break is understood to be 5% or more. More preferably, it is 10% or more.

【0020】本発明者らは、弾性率の観点からもNIR
吸収フィルムとして適した薄膜特性を検討してきた。こ
れによれば、80℃〜100℃における重合体の弾性率
が0.1GPa以上に設計されていることが望ましい。
弾性率が0.1GPaより小さいと、フィルムとした樹
脂組成物の流動性が増し、赤外線吸収剤の経時安定性が
低下する。0.3GPa程度であることが特に望ましい
ようである。
The present inventors have found that the NIR
We have studied thin film properties suitable as an absorbing film. According to this, it is desirable that the elastic modulus of the polymer at 80 ° C to 100 ° C is designed to be 0.1 GPa or more.
If the elastic modulus is less than 0.1 GPa, the fluidity of the resin composition formed into a film increases, and the temporal stability of the infrared absorbent decreases. It seems particularly desirable to be about 0.3 GPa.

【0021】本発明で使用する樹脂組成物には、必要に
応じてさらに、希釈剤、可塑剤、酸化防止剤、紫外線吸
収剤、充填剤、粘着付与剤、架橋剤などの添加剤を配合
しても良い。
The resin composition used in the present invention may further contain additives such as a diluent, a plasticizer, an antioxidant, an ultraviolet absorber, a filler, a tackifier, and a crosslinking agent, if necessary. May be.

【0022】本発明で使用する赤外線吸収剤として、ア
ミニウム化合物、ジイモニウム化合物(日本化薬株式会
社製商品名)あるいはニッケルジチオール系(SIR−
128、SIR−130、SIR−132、SIR−1
59、SIR−152、SIR−162)、(以上、三
井化学株式会社製商品名)などの有機系赤外線吸収剤が
挙げられ、これらを上記樹脂中に含有させることができ
る。これらの赤外線吸収性化合物のうち、最も効果的に
赤外線を吸収する効果があるのは、ジイモニウム化合物
赤外線吸収剤である。有機系赤外線吸収剤以外の赤外線
吸収剤の場合、これらの化合物の一次粒子の粒径に注意
する必要がある。粒径が赤外線の波長より大きすぎると
遮蔽効率は向上するが、粒子表面で乱反射が起き、ヘイ
ズが増大するため透明性が低下する。一方、粒径が赤外
線の波長に比べて短かすぎると遮蔽効果が低下する。好
ましい粒径は0.01〜5μmで0.1〜3μmがさら
に好ましい。
As the infrared absorber used in the present invention, an aminium compound, a diimonium compound (trade name, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) or a nickel dithiol (SIR-
128, SIR-130, SIR-132, SIR-1
Organic IR absorbers such as No. 59, SIR-152, SIR-162) and (these are trade names of Mitsui Chemicals, Inc.), and these can be contained in the resin. Among these infrared absorbing compounds, the diimonium compound infrared absorbing agent has the most effective effect of absorbing infrared light. In the case of infrared absorbers other than organic infrared absorbers, attention must be paid to the particle size of the primary particles of these compounds. If the particle size is too large than the wavelength of infrared rays, the shielding efficiency is improved, but irregular reflection occurs on the particle surface and haze is increased, so that transparency is reduced. On the other hand, if the particle size is too short compared to the wavelength of infrared rays, the shielding effect will be reduced. The preferred particle size is 0.01 to 5 μm, more preferably 0.1 to 3 μm.

【0023】赤外線吸収性の材料である赤外線吸収剤
は、上記ポリアクリル酸エステル中に均一に分散され
る。その配合の最適量は、ポリアクリル酸エステル10
0重量部に対して赤外線吸収剤が0.1〜10重量部で
ある。0.1重量部未満では赤外線吸収効果が不足、1
0重量部を超えると樹脂との十分な混和状態(ミシビリ
ティ)の達成が困難となり、好ましくない。
The infrared absorbing agent, which is an infrared absorbing material, is uniformly dispersed in the polyacrylate. The optimal amount of the compound is polyacrylate 10
The infrared absorber is 0.1 to 10 parts by weight with respect to 0 parts by weight. If the amount is less than 0.1 part by weight, the infrared absorbing effect is insufficient.
Exceeding 0 parts by weight makes it difficult to achieve a sufficient miscibility with the resin, which is not preferred.

【0024】ポリアクリル酸エステル中に、上記の赤外
線吸収剤を含有させた組成物は、アセトン、MEKある
いはアセトニトリルなどから選ばれた1種類以上の溶媒
に希釈後、透明フィルムの片面に形成される。あるいは
赤外線吸収剤を先にこれらの溶媒に希釈後、ポリアクリ
ル酸エステルと混合することもできる。この際、これら
の組成物のpHは4.0〜8.0の範囲にあることが好
ましく、pH値がこの範囲を逸脱すると、NIR吸収フ
ィルムの経時安定性が低下することがある。またフィル
ム化の際に、残存する溶媒の量は10%以下で、5%以
下にすると、NIR吸収性の経時安定性が増す。このよ
うにして得られた赤外線吸収剤を含有した組成物の皮膜
をプラスチックフィルムの第1層目に形成し、その上の
第2層目に80℃における弾性率が第1層目のポリアク
リル酸エステルより小さい樹脂層を形成してもよい。あ
るいは、透明フィルムの第1層目に80℃における弾性
率が2層目より小さい樹脂層の皮膜を形成し、第2層目
に組成物を形成することもできる。その際、赤外線吸収
剤を含有した層が少なくとも1層は必要であり、それ以
外の層は赤外線吸収剤を含有してなくても良い。このよ
うな低弾性率の樹脂としては、上記ポリアクリル酸エス
テルのほかに、天然ゴム、イソプレンゴム、クロロプレ
ンゴム、ポリイソブチレン、ブチルゴム、ハロゲン化ブ
チル、アクリロニトリル−ブタジエンゴム、スチレン−
ブタジエンゴム、ポリイソブテン、カルボキシゴム、ネ
オプレン、ポリブタジエン、アニリンホルムアルデヒド
樹脂、尿素ホルムアルデヒド樹脂、フェノールホルムア
ルデヒド樹脂、リグリン樹脂、キシレンホルムアルデヒ
ド樹脂、キシレンホルムアルデヒド樹脂、メラミンホル
ムアルデヒド樹脂、エポキシ樹脂、尿素樹脂、アニリン
樹脂、メラミン樹脂、フェノール樹脂、ホルマリン樹
脂、金属酸化物、金属塩化物、オキシム、アルキルフェ
ノール樹脂等が用いられる。その他にもポリ−1,2−
ブタジエン、ポリブテン、ポリ−2−ヘプチル−1,3
−ブタジエン、ポリ−2−t−ブチル−1,3−ブタジ
エン、ポリ−1,3−ブタジエンなどの(ジ)エン類、
ポリオキシエチレン、ポリオキシプロピレン、ポリビニ
ルエチルエーテル、ポリビニルヘキシルエーテル、ポリ
ビニルブチルエーテルなどのポリエーテル類、ポリビニ
ルアセテート、ポリビニルプロピオネートなどのポリエ
ステル類、ポリウレタン、エチルセルロース、ポリ塩化
ビニル、ポリアクリロニトリル、ポリメタクリロニトリ
ル、ポリスルホン、ポリスルフィド、フェノキシ樹脂な
どが使用可能である。これらのポリマーは必要に応じ
て、2種以上共重合してもよいし、2種類以上をブレン
ドして使用することも可能である。これらの組成物は透
明フィルム上に0.1〜100μmの厚さで塗布され
る。塗布された赤外線吸収性の化合物を含む組成物は熱
や紫外線を使用して硬化させてもよい。
The composition containing the above-mentioned infrared absorbent in a polyacrylate is diluted with one or more solvents selected from acetone, MEK, acetonitrile and the like, and then formed on one surface of a transparent film. . Alternatively, the infrared absorbing agent may be first diluted with these solvents and then mixed with the polyacrylate. At this time, the pH of these compositions is preferably in the range of 4.0 to 8.0, and if the pH value deviates from this range, the temporal stability of the NIR absorbing film may decrease. Further, when the film is formed, the amount of the remaining solvent is 10% or less, and when the amount is 5% or less, the stability over time of NIR absorbability is increased. A film of the composition containing the infrared absorbing agent thus obtained is formed on the first layer of the plastic film, and the second layer thereon has a polyacrylic modulus of 80% at the first layer. A resin layer smaller than an acid ester may be formed. Alternatively, it is also possible to form a film of a resin layer having an elastic modulus at 80 ° C. smaller than the second layer on the first layer of the transparent film and form the composition on the second layer. At that time, at least one layer containing the infrared absorber is required, and the other layers may not contain the infrared absorber. Examples of the resin having such a low elastic modulus include, in addition to the above-mentioned polyacrylate, natural rubber, isoprene rubber, chloroprene rubber, polyisobutylene, butyl rubber, butyl halide, acrylonitrile-butadiene rubber, styrene-
Butadiene rubber, polyisobutene, carboxy rubber, neoprene, polybutadiene, aniline formaldehyde resin, urea formaldehyde resin, phenol formaldehyde resin, ligulin resin, xylene formaldehyde resin, xylene formaldehyde resin, melamine formaldehyde resin, epoxy resin, urea resin, aniline resin, melamine resin Phenolic resin, formalin resin, metal oxide, metal chloride, oxime, alkylphenol resin and the like. In addition, poly-1,2-
Butadiene, polybutene, poly-2-heptyl-1,3
(Di) enes such as butadiene, poly-2-t-butyl-1,3-butadiene and poly-1,3-butadiene;
Polyethers such as polyoxyethylene, polyoxypropylene, polyvinyl ethyl ether, polyvinyl hexyl ether, and polyvinyl butyl ether; polyesters such as polyvinyl acetate and polyvinyl propionate; polyurethane, ethyl cellulose, polyvinyl chloride, polyacrylonitrile, and polymethacryloyl Nitriles, polysulfones, polysulfides, phenoxy resins and the like can be used. If necessary, two or more of these polymers may be copolymerized, or two or more of them may be used as a blend. These compositions are applied in a thickness of 0.1 to 100 μm on a transparent film. The applied composition containing an infrared absorbing compound may be cured using heat or ultraviolet light.

【0025】以下実施例により本発明を詳細に説明す
る。
Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to examples.

【0026】[0026]

【実施例1】500cm3の温度計、冷却管、窒素導入
管を有した三つ口フラスコにトルエン200cm3、メ
タクリル酸メチル(MMA)50g、メタクリル酸エチ
ル(EMA)5g、アクリルアミド(AM)2g、AIB
N250mgを入れ、窒素でバブリングさせながら100
℃で3時間、還流中で攪拌を行った。その後、メタノー
ルで再沈殿させ、得られたポリマーをろ過後、減圧乾燥
してポリアクリル酸エステルを合成した。このポリマー
の80℃における弾性率は1.2GPaであった。これ
を樹脂層1の主成分とした。
Example 1 In a three-necked flask equipped with a 500 cm 3 thermometer, a cooling tube and a nitrogen inlet tube, 200 cm 3 of toluene, 50 g of methyl methacrylate (MMA), 5 g of ethyl methacrylate (EMA), and 2 g of acrylamide (AM) , AIB
Add 250 mg of N and bubbling with nitrogen
Stirring was performed at reflux for 3 hours. Thereafter, the precipitate was reprecipitated with methanol, and the obtained polymer was filtered and dried under reduced pressure to synthesize a polyacrylate. The elastic modulus at 80 ° C. of the polymer was 1.2 GPa. This was used as the main component of the resin layer 1.

【0027】<樹脂層1の組成> ポリアクリル酸エステル(MMA/EMA/AM=88
/9/3)100重量部 SIR−159(赤外線吸収剤:三井東圧化学株式会社
製商品名)0.5重量部 MEK 230重量部 アセトン 10重量部 上記樹脂組成物の溶媒乾燥後の80℃に於ける皮膜の加
熱収縮率は2.5%、破断伸び率は7%であった。
<Composition of Resin Layer 1> Polyacrylate (MMA / EMA / AM = 88)
/ 9/3) 100 parts by weight SIR-159 (infrared absorbent: trade name of Mitsui Toatsu Chemicals, Inc.) 0.5 part by weight MEK 230 parts by weight Acetone 10 parts by weight 80 ° C. after drying the above resin composition in a solvent The heat shrinkage of the film was 2.5%, and the elongation at break was 7%.

【0028】次に、上記ポリアクリル酸エステルの合成
手順と同様にして、メタクリル酸メチル(MMA)50
g、メタクリル酸エチル(EMA)5g、メタクリル酸ブ
チル(BMA)3g、AIBN225mgを入れ、窒素で
バブリングさせながら100℃で2.5時間、還流中で
攪拌を行った。その後、メタノールで再沈殿させ、得ら
れたポリマーをろ過後、減圧乾燥してポリアクリル酸エ
ステルを合成した。このポリマーの80℃における弾性
率は0.6GPaであった。これを樹脂層2の主成分と
した。
Next, methyl methacrylate (MMA) 50 was prepared in the same manner as in the above polyacrylate synthesis procedure.
g, 5 g of ethyl methacrylate (EMA), 3 g of butyl methacrylate (BMA), and 225 mg of AIBN, and the mixture was stirred under reflux at 100 ° C. for 2.5 hours while bubbling with nitrogen. Thereafter, the precipitate was reprecipitated with methanol, and the obtained polymer was filtered and dried under reduced pressure to synthesize a polyacrylate. The elastic modulus at 80 ° C. of the polymer was 0.6 GPa. This was used as the main component of the resin layer 2.

【0029】<樹脂層2の組成> ポリアクリル酸エステル(MMA/EMA/BMA=8
6/9/5)100重量部 MEK 230重量部 このようにして得られた樹脂層1を、PETフィルム
(東洋紡株式会社製、商品名A−4100、フィルム厚
50μm)上に、乾燥後の塗布厚が15μmになるよう
に塗布した。その後樹脂層1上に、樹脂層2を、乾燥塗
布厚が10μmになるように塗布し、NIR吸収フィル
ムを作製した。
<Composition of Resin Layer 2> Polyacrylate (MMA / EMA / BMA = 8)
6/9/5) 100 parts by weight MEK 230 parts by weight The resin layer 1 thus obtained is applied on a PET film (manufactured by Toyobo Co., Ltd., trade name A-4100, film thickness 50 μm) after drying. It was applied to a thickness of 15 μm. Thereafter, the resin layer 2 was applied on the resin layer 1 so that the dry coating thickness became 10 μm, thereby producing an NIR absorption film.

【0030】[0030]

【実施例2】樹脂層1中の赤外線吸収剤としてSIR−
159の代わりに、NIR−022(日本化薬株式会社
製商品名)を1.0重量部添加した以外は、実施例1と
同様にして作製し、これを樹脂層3とした。このポリマ
ーの80℃における弾性率は1.2GPaで、この樹脂
組成物の溶媒乾燥後の80℃に於ける皮膜の加熱収縮率
は2.2%、破断伸び率は9%であった。実施例1で得
られた樹脂層2を、PETフィルム(東洋紡株式会社
製、商品名A−4100、フィルム厚50μm)上に、
乾燥後の塗布厚が5μmになるように塗布した。その後
樹脂層2上に、本実施例の樹脂層3を、乾燥塗布厚が2
0μmになるように塗布し、NIR吸収フィルムを作製
した。
Embodiment 2 As an infrared absorber in the resin layer 1, SIR-
A resin layer 3 was prepared in the same manner as in Example 1 except that 1.0 part by weight of NIR-022 (trade name, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) was added instead of 159. The elastic modulus of the polymer at 80 ° C. was 1.2 GPa, the heat shrinkage of the film at 80 ° C. after drying the solvent of the resin composition was 2.2%, and the elongation at break was 9%. The resin layer 2 obtained in Example 1 was coated on a PET film (manufactured by Toyobo Co., Ltd., trade name: A-4100, film thickness: 50 μm).
Coating was performed so that the coating thickness after drying was 5 μm. Thereafter, the resin layer 3 of the present embodiment is coated on the resin layer 2 with a dry coating thickness of 2.
It was applied so as to have a thickness of 0 μm to prepare an NIR absorption film.

【0031】[0031]

【比較例1】実施例1と同様にして、樹脂層1の主成分
であるポリアクリル酸エステルを合成した。ただしその
組成を、MMA/AN(アクリロニトリル)=95/5
とした。このポリマーの80℃における破断伸び率は
2.5%、加熱収縮率は4%で、80℃における弾性率
は0.8GPaであった。この樹脂層1を使って実施例
1と同様にしてNIR吸収フィルムを作製した。
Comparative Example 1 In the same manner as in Example 1, a polyacrylic ester as a main component of the resin layer 1 was synthesized. However, the composition is MMA / AN (acrylonitrile) = 95/5
And The elongation at break of this polymer at 80 ° C. was 2.5%, the shrinkage upon heating was 4%, and the elastic modulus at 80 ° C. was 0.8 GPa. Using this resin layer 1, an NIR absorption film was produced in the same manner as in Example 1.

【0032】[0032]

【比較例2】実施例1と同様にして、樹脂層1の主成分
であるポリアクリル酸エステルを合成した。ただしその
組成を、MMA/MAA(メタクリル酸)=81/19
とした。このポリマーの80℃における破断伸び率は
3.5%、加熱収縮率は5%で、80℃における弾性率
は1.1GPaであった。この樹脂層1を使って実施例
1と同様にしてNIR吸収フィルムを作製した。
Comparative Example 2 In the same manner as in Example 1, a polyacrylic ester as a main component of the resin layer 1 was synthesized. However, the composition was MMA / MAA (methacrylic acid) = 81/19
And The elongation at break of this polymer at 80 ° C. was 3.5%, the heat shrinkage was 5%, and the elastic modulus at 80 ° C. was 1.1 GPa. Using this resin layer 1, an NIR absorption film was produced in the same manner as in Example 1.

【0033】以上のようにして作製したNIR吸収フィ
ルムのクラック発生の程度、NIR吸収性、経時安定性
について調べた結果を表1にまとめて示す。
Table 1 summarizes the results of an investigation on the degree of cracking, NIR absorption, and stability over time of the NIR absorbing film produced as described above.

【0034】クラック発生は、NIR吸収フィルムを8
0℃に500時間放置した後、その程度を肉眼で観察し
た。弾性率は、レオメトリック・サイエンティフィック
・エフ・イー社製粘弾性測定装置RSA−IIを使い、
80℃における貯蔵弾性率を採用した。NIR吸収特性
は、日本分光株式会社製分光光度計V−570を使用
し、65℃90%RH中に1000時間暴露した後のN
IRフィルムの850〜1100nm領域の単純平均透
過率を使った。経時安定性は、NIRフィルムを65℃
90%RH中に1000時間暴露した後の色彩の変化を
肉眼で確認し、その変化の程度を大〜小の相対評価で表
した。
The occurrence of cracks was caused by the NIR absorption film
After standing at 0 ° C. for 500 hours, the degree was visually observed. The elastic modulus was measured using a viscoelasticity measuring device RSA-II manufactured by Rheometric Scientific F.E.
The storage modulus at 80 ° C. was employed. The NIR absorption characteristics were measured by using a spectrophotometer V-570 manufactured by JASCO Corporation, and exposing the NIR
The simple average transmittance in the 850-1100 nm region of the IR film was used. The aging stability is as follows.
The change in color after exposure to 90% RH for 1000 hours was visually confirmed, and the degree of the change was expressed by a large to small relative evaluation.

【0035】[0035]

【表1】 [Table 1]

【0036】[0036]

【発明の効果】以上の実施例の結果からも理解されるよ
うに、本発明によるNIR吸収フィルムは、クラック発
生の程度が極めて小さく、850〜1100nmの波長
領域の近赤外線吸収特性の経時安定性に優れており、加
熱・加湿試験における変化も少なく、経時安定性に優れ
ている。
As will be understood from the results of the above examples, the NIR absorbing film according to the present invention has a very small degree of crack generation and has a long-term stability of near-infrared absorption characteristics in a wavelength range of 850 to 1100 nm. And little change in heating and humidification tests, and excellent in stability over time.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) C09D 5/32 C09D 5/32 133/06 133/06 C09K 3/00 105 C09K 3/00 105 G09F 9/00 313 G09F 9/00 313 // C08L 67:02 C08L 67:02 (72)発明者 登坂 実 茨城県下館市大字小川1500番地 日立化成 工業株式会社総合研究所内 Fターム(参考) 2H048 CA04 CA05 CA12 4F006 AA35 AB24 AB55 BA03 CA05 4F100 AK01A AK01C AK25B AK25J AK26B AK26J AK42 AL01B BA02 BA03 CA07B EH462 GB41 JA03B JD10 JK07B JK07C JK08B JK14 JL02 JM02B JN08 4J038 CG141 CH031 CH041 CJ131 GA09 KA12 NA11 PB08 PB09 PC08 5G435 AA00 AA12 AA14 BB06 GG11 KK07 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat ゛ (Reference) C09D 5/32 C09D 5/32 133/06 133/06 C09K 3/00 105 C09K 3/00 105 G09F 9 / 00 313 G09F 9/00 313 // C08L 67:02 C08L 67:02 (72) Inventor Minoru Tosaka 1500 Oji Ogawa, Shimodate-shi, Ibaraki Prefecture F-term in Hitachi Chemical Industry Research Laboratory 2H048 CA04 CA05 CA12 4F006 AA35 AB24 AB55 BA03 CA05 4F100 AK01A AK01C AK25B AK25J AK26B AK26J AK42 AL01B BA02 BA03 CA07B EH462 GB41 JA03B JD10 JK07B JK07C JK08B JK14 JL02 JM02B JN08 4J011 CG141 A0311

Claims (10)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 下記(a)及び(b)を必須成分とする、プ
ラズマディスプレイの前面パネル部に使用するNIR吸
収性組成物。 (a) 皮膜にしたときの80〜100℃における破断伸
び率が加熱収縮率より大きいポリアクリル酸エステル又
はアクリル酸エステル共重合体材料100重量部 (b)有機系赤外線吸収剤0.1〜10重量部
1. An NIR absorbing composition for use in a front panel of a plasma display, comprising the following components (a) and (b) as essential components: (a) 100 parts by weight of a polyacrylate or acrylate copolymer material whose elongation at break at 80 to 100 ° C. when formed into a film is larger than the heat shrinkage (b) Organic infrared absorber 0.1 to 10 Parts by weight
【請求項2】 前記有機系赤外線吸収剤が、アミニウム
化合物、ジイモニウム化合物、ニッケルジチオール化合
物及びこれらの混合物から成る群から選ばれた赤外線吸
収剤である、請求項1に記載のNIR吸収性組成物。
2. The NIR absorbing composition according to claim 1, wherein the organic infrared absorbing agent is an infrared absorbing agent selected from the group consisting of an aminium compound, a diimonium compound, a nickel dithiol compound, and a mixture thereof. .
【請求項3】 前記ポリアクリル酸エステル又はアクリ
ル酸エステル共重合体材料の弾性率が80℃〜100℃
において0.1GPa以上である、請求項1に記載のN
IR吸収性組成物。
3. An elastic modulus of the polyacrylate or acrylate copolymer material is 80 ° C. to 100 ° C.
The N according to claim 1, which is 0.1 GPa or more.
IR absorbing composition.
【請求項4】 前記アクリル酸エステル共重合体が、ア
クリルアミドと他の少なくとも一種のアクリル酸エステ
ルとの共重合体である、請求項1に記載のNIR吸収性
組成物。
4. The NIR absorbing composition according to claim 1, wherein the acrylate ester copolymer is a copolymer of acrylamide and at least one other acrylate ester.
【請求項5】 プラスチックフィルム上に請求項1乃至
4に記載のNIR吸収性組成物の層を有するNIR吸収
フィルム。
5. An NIR absorbing film having a layer of the NIR absorbing composition according to claim 1 on a plastic film.
【請求項6】 前記プラスチックフィルムが60%以上
の可視光透過率を有する、請求項5に記載のNIR吸収
フィルム。
6. The NIR absorbing film according to claim 5, wherein the plastic film has a visible light transmittance of 60% or more.
【請求項7】 プラズマディスプレイパネル表面に付け
たEMIシールドフィルムを構成する、請求項5に記載
のNIR吸収フィルム。
7. The NIR absorbing film according to claim 5, which constitutes an EMI shielding film attached to the surface of the plasma display panel.
【請求項8】 プラスチックフィルムと、前記プラスチ
ックフィルムの上に積層された第1層と、前記1層の上
に積層された第2層とから成る、プラズマディスプレイ
の前面パネル部に使用するNIR吸収積層体であって、
前記第1層が下記(A)から成り且つ第2層が下記
(B)から成るか、又は前記第1層が下記(B)から成
り且つ第2層が下記(A)から成る、前記のNIR吸収
積層体。 (A)請求項1乃至3に記載のNIR吸収性組成物 (B)80℃における弾性率が前記(A)を構成するポ
リアクリル酸エステル又はアクリル酸エステル共重合体
材料より小さい樹脂
8. An NIR absorber for use in a front panel of a plasma display, comprising: a plastic film; a first layer laminated on the plastic film; and a second layer laminated on the one layer. A laminate,
Wherein the first layer comprises the following (A) and the second layer comprises the following (B), or the first layer comprises the following (B) and the second layer comprises the following (A): NIR absorbing laminate. (A) the NIR absorbing composition according to any one of claims 1 to 3 (B) a resin having an elastic modulus at 80 ° C smaller than that of the polyacrylate or acrylate copolymer material constituting (A).
【請求項9】 (a)アクリル酸エステル共重合体10
0重量部と(b)有機系赤外線吸収剤0.1〜10重量
部とを必須成分とする、プラズマディスプレイの前面パ
ネル部に使用するNIR吸収性組成物の製造方法であっ
て、 モノマーの一部にアクリルアミドを使用し且つその添加
量を調整して前記共重合体(a)を重合生成することに
よって、該組成物を皮膜にしたときの80℃〜100℃
における破断伸び率が加熱収縮率より大きくなるように
する、前記製造方法。
9. (a) Acrylate copolymer 10
A method for producing an NIR-absorbing composition for use in a front panel of a plasma display, comprising, as essential components, 0 parts by weight and (b) 0.1 to 10 parts by weight of an organic infrared absorbent. By using acrylamide for the part and adjusting the addition amount thereof to polymerize the copolymer (a), the composition is formed into a film at 80 ° C to 100 ° C.
The manufacturing method according to the above, wherein the elongation at break in the above is larger than the heat shrinkage.
【請求項10】 なおかつ、該共重合体(a)の80〜
100℃における弾性率が0.1GPa以上となるよう
に前記アクリルアミドを使用し且つその添加量を調整す
る、請求項9に記載の製造方法。
10. The copolymer (a) having a molecular weight of 80 to
The production method according to claim 9, wherein the acrylamide is used and its amount added is adjusted so that the elastic modulus at 100 ° C is 0.1 GPa or more.
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