JP2002212733A - プラズマ処理装置 - Google Patents
プラズマ処理装置Info
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- JP2002212733A JP2002212733A JP2001013323A JP2001013323A JP2002212733A JP 2002212733 A JP2002212733 A JP 2002212733A JP 2001013323 A JP2001013323 A JP 2001013323A JP 2001013323 A JP2001013323 A JP 2001013323A JP 2002212733 A JP2002212733 A JP 2002212733A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 フッ素系ガスやフッ素ラジカルによる影響を
受けづらくし、長期にわたって良好な視界にて内部を観
察することを可能とする。 【解決手段】 製膜室１０を形成する真空チャンバ１２
の上面に、孔部３２にガラス製の窓部３３を気密的に取
り付けることにより、製膜室内監視用ビューポート３１
を設ける。製膜室内監視用ビューポート３１を構成する
窓部３３の内面側に、フッ素系ガス及びフッ素ラジカル
に対して耐食性に優れたＭｇＦ2を蒸着してなる被覆層
３７を設ける。
受けづらくし、長期にわたって良好な視界にて内部を観
察することを可能とする。 【解決手段】 製膜室１０を形成する真空チャンバ１２
の上面に、孔部３２にガラス製の窓部３３を気密的に取
り付けることにより、製膜室内監視用ビューポート３１
を設ける。製膜室内監視用ビューポート３１を構成する
窓部３３の内面側に、フッ素系ガス及びフッ素ラジカル
に対して耐食性に優れたＭｇＦ2を蒸着してなる被覆層
３７を設ける。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、例えば、シリコン
太陽電池等の半導体を製造する際に用いられるプラズマ
ＣＶＤ装置やドライエッチング装置等のプラズマ処理装
置に関するものである。
太陽電池等の半導体を製造する際に用いられるプラズマ
ＣＶＤ装置やドライエッチング装置等のプラズマ処理装
置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来より、シリコン太陽電池等の半導体
を製造する際に、その製膜を行う装置として、プラズマ
ＣＶＤ装置が用いられて、ここではプラズマ処理装置の
代表例としてプラズマＣＶＤ装置製膜室について説明を
行う。例えば、シリコン太陽電池を製造する際に用いら
れるプラズマＣＶＤ装置は、減圧にされた製膜室内へＳ
ｉＨ4からなる原料ガスを含む処理原料ガスである製膜
ガスを送り込み、高周波電流によってプラズマを生じさ
せ、製膜室内に支持されて加熱されたＳｉ系の基板に製
膜を施すようになっている。
を製造する際に、その製膜を行う装置として、プラズマ
ＣＶＤ装置が用いられて、ここではプラズマ処理装置の
代表例としてプラズマＣＶＤ装置製膜室について説明を
行う。例えば、シリコン太陽電池を製造する際に用いら
れるプラズマＣＶＤ装置は、減圧にされた製膜室内へＳ
ｉＨ4からなる原料ガスを含む処理原料ガスである製膜
ガスを送り込み、高周波電流によってプラズマを生じさ
せ、製膜室内に支持されて加熱されたＳｉ系の基板に製
膜を施すようになっている。
【０００３】ところで、上記プラズマＣＶＤ装置におい
て、Ｓｉ系の製膜を繰り返し行うと、製膜室の内面や製
膜室内の部材の表面にＳｉ系の膜や粉からなる付着物が
付着し、これが多くなると剥離や脱落して製膜膜中への
パーティクル混入などの歩留り低下の要因となるため、
付着したＳｉ系の付着物を定期的に除去する必要があ
り、一般的には製膜室を大気開放してＳｉ系の付着物が
付着した製膜ユニット部品などを取り外して洗浄し、洗
浄品を再度製膜室に取り付け、装置を真空引きし立ち上
げるメンテナンスを実施している。また、この洗浄済部
品との取り替えメンテナンスを容易化して装置の稼働率
を向上させるために、量産対応用のプラズマＣＶＤ装置
には、製膜室を開放することなく、付着したＳｉ系の付
着物を除去するセルフクリーニング機能が設けられてい
るものがある。このセルフクリーニング機能は、製膜室
内にＮＦ3ガスなどのフッ素系ガスを導入してプラズマ
を発生させることにより、製膜室内にてフッ素ラジカル
を生成させ、このフッ素ラジカルと付着したＳｉ系膜と
を反応させてＳｉＦ4ガスとして外部へ排出することに
より行われる。
て、Ｓｉ系の製膜を繰り返し行うと、製膜室の内面や製
膜室内の部材の表面にＳｉ系の膜や粉からなる付着物が
付着し、これが多くなると剥離や脱落して製膜膜中への
パーティクル混入などの歩留り低下の要因となるため、
付着したＳｉ系の付着物を定期的に除去する必要があ
り、一般的には製膜室を大気開放してＳｉ系の付着物が
付着した製膜ユニット部品などを取り外して洗浄し、洗
浄品を再度製膜室に取り付け、装置を真空引きし立ち上
げるメンテナンスを実施している。また、この洗浄済部
品との取り替えメンテナンスを容易化して装置の稼働率
を向上させるために、量産対応用のプラズマＣＶＤ装置
には、製膜室を開放することなく、付着したＳｉ系の付
着物を除去するセルフクリーニング機能が設けられてい
るものがある。このセルフクリーニング機能は、製膜室
内にＮＦ3ガスなどのフッ素系ガスを導入してプラズマ
を発生させることにより、製膜室内にてフッ素ラジカル
を生成させ、このフッ素ラジカルと付着したＳｉ系膜と
を反応させてＳｉＦ4ガスとして外部へ排出することに
より行われる。
【０００４】また、この種のプラズマＣＶＤ装置には、
真空チャンバにビューポートが設けられており、このビ
ューポートによって製膜室内部の観察を行うことができ
るようになっている。
真空チャンバにビューポートが設けられており、このビ
ューポートによって製膜室内部の観察を行うことができ
るようになっている。
【０００５】一般には図９に示すように、ビューポート
１は、真空チャンバに固定された筒体２と、この筒体２
の端部に気密状態に取り付けられた石英ガラス等から形
成された窓部３と、筒体２の中間部分に設けられた金属
板からなるシャッター４とを備えている。シャッター４
は筒体２内にて回動可能に支持されており、回動軸５の
端部に設けられて筒体２の外部に配設されたレバー６を
把持して回動させることにより、筒体２内がシャッター
４によって開閉されるようになっている。つまり、シャ
ッター４を開くことにより、窓部３から製膜室内を観察
することができ、また、シャッター４を閉じることによ
り、窓部３が保護されてビューポート１の腐食や膜付着
による視界低下が抑制されるようになっている。
１は、真空チャンバに固定された筒体２と、この筒体２
の端部に気密状態に取り付けられた石英ガラス等から形
成された窓部３と、筒体２の中間部分に設けられた金属
板からなるシャッター４とを備えている。シャッター４
は筒体２内にて回動可能に支持されており、回動軸５の
端部に設けられて筒体２の外部に配設されたレバー６を
把持して回動させることにより、筒体２内がシャッター
４によって開閉されるようになっている。つまり、シャ
ッター４を開くことにより、窓部３から製膜室内を観察
することができ、また、シャッター４を閉じることによ
り、窓部３が保護されてビューポート１の腐食や膜付着
による視界低下が抑制されるようになっている。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】ところで、上記のビュ
ーポート１にあっては、窓部３がシャッター４によって
保護されるが、シャッター４だけでは、筒体２を完全に
閉鎖することができず、セルフクリーニング時に発生し
たフッ素系ガス及びフッ素ラジカルによって窓部３が腐
食してしまうことがあった。つまり、窓部３は、主成分
がＳｉＯ2であり、Ｓｉ系の付着物と同様に、フッ素系
ガスやフッ素系ガス及びフッ素ラジカルによって腐食さ
れて白濁してしまい、視界が妨げられて製膜室内の観察
を行うことができなくなることがあった。
ーポート１にあっては、窓部３がシャッター４によって
保護されるが、シャッター４だけでは、筒体２を完全に
閉鎖することができず、セルフクリーニング時に発生し
たフッ素系ガス及びフッ素ラジカルによって窓部３が腐
食してしまうことがあった。つまり、窓部３は、主成分
がＳｉＯ2であり、Ｓｉ系の付着物と同様に、フッ素系
ガスやフッ素系ガス及びフッ素ラジカルによって腐食さ
れて白濁してしまい、視界が妨げられて製膜室内の観察
を行うことができなくなることがあった。
【０００７】特に、プラズマ状態を観察するために、窓
部３がプラズマの発生箇所近傍に設けられている場合
は、フッ素ラジカルによる影響が大きく、したがって、
短期間の使用によってプラズマ状態の観察ができなくな
ってしまう恐れがあった。
部３がプラズマの発生箇所近傍に設けられている場合
は、フッ素ラジカルによる影響が大きく、したがって、
短期間の使用によってプラズマ状態の観察ができなくな
ってしまう恐れがあった。
【０００８】この発明は、上記事情に鑑みてなされたも
ので、フッ素系ガスやフッ素ラジカルによる影響を受け
づらく、長期にわたって良好な視界にて内部を観察する
ことが可能なプラズマＣＶＤ装置やドライエッチング装
置等のプラズマ処理装置を提供することを目的としてい
る。
ので、フッ素系ガスやフッ素ラジカルによる影響を受け
づらく、長期にわたって良好な視界にて内部を観察する
ことが可能なプラズマＣＶＤ装置やドライエッチング装
置等のプラズマ処理装置を提供することを目的としてい
る。
【０００９】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、請求項１記載のプラズマ処理装置は、チャンバによ
って形成されたプラズマ処理室内に接地電極と非接地電
極とが設けられ、前記接地電極に基板を支持させて前記
プラズマ処理室内に処理原料ガスを導入するとともに前
記非接地電極に高周波電流を給電することにより、プラ
ズマ処理室内にてプラズマを生じさせて前記基板に製膜
を施すプラズマ処理装置であって、前記チャンバには、
前記プラズマ処理室内の監視用ビューポートが設けら
れ、該製膜室内監視用ビューポートは、前記チャンバに
形成された孔部に気密的に取り付けられたガラス製の窓
部を有し、該窓部には、前記プラズマ処理室側に、フッ
素系ガス及びフッ素ラジカルに対して耐食性を有する耐
食材をコーティングしてなる被覆層が設けられているこ
とを特徴としている。
に、請求項１記載のプラズマ処理装置は、チャンバによ
って形成されたプラズマ処理室内に接地電極と非接地電
極とが設けられ、前記接地電極に基板を支持させて前記
プラズマ処理室内に処理原料ガスを導入するとともに前
記非接地電極に高周波電流を給電することにより、プラ
ズマ処理室内にてプラズマを生じさせて前記基板に製膜
を施すプラズマ処理装置であって、前記チャンバには、
前記プラズマ処理室内の監視用ビューポートが設けら
れ、該製膜室内監視用ビューポートは、前記チャンバに
形成された孔部に気密的に取り付けられたガラス製の窓
部を有し、該窓部には、前記プラズマ処理室側に、フッ
素系ガス及びフッ素ラジカルに対して耐食性を有する耐
食材をコーティングしてなる被覆層が設けられているこ
とを特徴としている。
【００１０】つまり、プラズマ処理室を形成するチャン
バに設けられた製膜室内監視用ビューポートを構成する
ガラス製の窓部の内面側に、プラズマに対して耐食性を
有する耐食材をコーティングしてなる被覆層が設けられ
ているので、プラズマ処理室内にクリーニングガスを導
入してプラズマを生じさせてプラズマ処理室内をクリー
ニングする際に発生するフッ素系ガス及びフッ素ラジカ
ルによる窓部の腐食を防止することができ、良好な視界
を長期的に確保することができる。
バに設けられた製膜室内監視用ビューポートを構成する
ガラス製の窓部の内面側に、プラズマに対して耐食性を
有する耐食材をコーティングしてなる被覆層が設けられ
ているので、プラズマ処理室内にクリーニングガスを導
入してプラズマを生じさせてプラズマ処理室内をクリー
ニングする際に発生するフッ素系ガス及びフッ素ラジカ
ルによる窓部の腐食を防止することができ、良好な視界
を長期的に確保することができる。
【００１１】請求項２記載のプラズマ処理装置は、請求
項１記載のプラズマ処理装置において、前記被覆層が、
前記窓部に、フッ素系ガス及びフッ素ラジカルに対して
耐食性に優れたＭｇＦ2を蒸着してなることを特徴とし
ている。
項１記載のプラズマ処理装置において、前記被覆層が、
前記窓部に、フッ素系ガス及びフッ素ラジカルに対して
耐食性に優れたＭｇＦ2を蒸着してなることを特徴とし
ている。
【００１２】すなわち、製膜室内監視用ビューポートを
構成する窓部の内面側に、フッ素系ガス及びフッ素ラジ
カルに対して極めて良好な耐食性を有するＭｇＦ2を蒸
着することにより被覆層が形成されているので、製膜室
内監視用ビューポートにおける良好な視界をさらに長期
的に確保することができる。
構成する窓部の内面側に、フッ素系ガス及びフッ素ラジ
カルに対して極めて良好な耐食性を有するＭｇＦ2を蒸
着することにより被覆層が形成されているので、製膜室
内監視用ビューポートにおける良好な視界をさらに長期
的に確保することができる。
【００１３】請求項３記載のプラズマ処理装置は、請求
項１または請求項２記載のプラズマ処理装置において、
前記製膜室内監視用ビューポートの前記窓部が、前記チ
ャンバに固定された筒体に設けられ、該筒体には、前記
窓部のプラズマ処理室側に、筒体内を開閉させる金属板
からなるシャッターが設けられていることを特徴として
いる。
項１または請求項２記載のプラズマ処理装置において、
前記製膜室内監視用ビューポートの前記窓部が、前記チ
ャンバに固定された筒体に設けられ、該筒体には、前記
窓部のプラズマ処理室側に、筒体内を開閉させる金属板
からなるシャッターが設けられていることを特徴として
いる。
【００１４】つまり、製膜室内監視用ビューポートを構
成する窓部の内側に金属板からなるシャッターが設けら
れているので、プラズマ処理室内を監視しないときは、
金属板によって筒体内を閉鎖して、窓部とプラズマ処理
室内とのガス拡散を抑制することができ、窓部の劣化を
さらに長期的に防止することができる。
成する窓部の内側に金属板からなるシャッターが設けら
れているので、プラズマ処理室内を監視しないときは、
金属板によって筒体内を閉鎖して、窓部とプラズマ処理
室内とのガス拡散を抑制することができ、窓部の劣化を
さらに長期的に防止することができる。
【００１５】請求項４記載のプラズマ処理装置は、請求
項１〜３のいずれか１項記載のプラズマ処理装置におい
て、前記製膜室内監視用ビューポートの窓部が、フッ素
系ガス及びフッ素ラジカルに対して耐食性に優れたアル
ミナを主成分としたサファイアガラスから形成されてい
ることを特徴としている。
項１〜３のいずれか１項記載のプラズマ処理装置におい
て、前記製膜室内監視用ビューポートの窓部が、フッ素
系ガス及びフッ素ラジカルに対して耐食性に優れたアル
ミナを主成分としたサファイアガラスから形成されてい
ることを特徴としている。
【００１６】このように、製膜室内監視用ビューポート
を構成する窓部が、フッ素系ガス及びフッ素ラジカルに
対して耐食性に優れたアルミナを主成分としたサファイ
アガラスから形成されているので、窓部の腐食による劣
化をさらに長期的に防止することができる。
を構成する窓部が、フッ素系ガス及びフッ素ラジカルに
対して耐食性に優れたアルミナを主成分としたサファイ
アガラスから形成されているので、窓部の腐食による劣
化をさらに長期的に防止することができる。
【００１７】請求項５記載のプラズマ処理装置は、請求
項１〜４のいずれか１項記載のプラズマ処理装置におい
て、前記非接地電極に高周波電流を給電することにより
生じるプラズマの発生箇所を囲う防着板が設けられ、該
防着板には、プラズマ監視用ビューポートが設けられ、
該プラズマ監視用ビューポートは、前記防着板に形成さ
れた孔部に取り付けられたガラス製の窓部を有し、該窓
部は、フッ素系ガス及びフッ素ラジカルに対して耐食性
に優れたアルミナを主成分としたサファイアガラスから
形成されていることを特徴としている。
項１〜４のいずれか１項記載のプラズマ処理装置におい
て、前記非接地電極に高周波電流を給電することにより
生じるプラズマの発生箇所を囲う防着板が設けられ、該
防着板には、プラズマ監視用ビューポートが設けられ、
該プラズマ監視用ビューポートは、前記防着板に形成さ
れた孔部に取り付けられたガラス製の窓部を有し、該窓
部は、フッ素系ガス及びフッ素ラジカルに対して耐食性
に優れたアルミナを主成分としたサファイアガラスから
形成されていることを特徴としている。
【００１８】つまり、プラズマの発生箇所を覆う防着板
に設けられて強いフッ素系ガス及びフッ素ラジカルに曝
されるプラズマ監視用ビューポートに用いられる窓部が
フッ素系ガス及びフッ素ラジカルに対して耐食性に優れ
たアルミナを主成分としたサファイアガラスから形成さ
れているので、このプラズマ監視用ビューポートの劣化
を極力抑えることができる。
に設けられて強いフッ素系ガス及びフッ素ラジカルに曝
されるプラズマ監視用ビューポートに用いられる窓部が
フッ素系ガス及びフッ素ラジカルに対して耐食性に優れ
たアルミナを主成分としたサファイアガラスから形成さ
れているので、このプラズマ監視用ビューポートの劣化
を極力抑えることができる。
【００１９】請求項６記載のプラズマ処理装置は、請求
項５記載のプラズマ処理装置において、前記プラズマ監
視用ビューポートの少なくとも内面側に好ましくは両面
側に、フッ素系ガス及びフッ素ラジカルに対して耐食性
を有する耐食材をコーティングしてなる被覆層が設けら
れていることを特徴としている。
項５記載のプラズマ処理装置において、前記プラズマ監
視用ビューポートの少なくとも内面側に好ましくは両面
側に、フッ素系ガス及びフッ素ラジカルに対して耐食性
を有する耐食材をコーティングしてなる被覆層が設けら
れていることを特徴としている。
【００２０】すなわち、プラズマ監視用ビューポートを
構成する窓部の内面側に、プラズマに対して耐食性を有
する耐食材をコーティングしてなる被覆層が設けられて
いるので、フッ素系ガス及びフッ素ラジカルによる窓部
の腐食をさらに抑えることができ、良好な視界を長期的
に確保することができる。
構成する窓部の内面側に、プラズマに対して耐食性を有
する耐食材をコーティングしてなる被覆層が設けられて
いるので、フッ素系ガス及びフッ素ラジカルによる窓部
の腐食をさらに抑えることができ、良好な視界を長期的
に確保することができる。
【００２１】請求項７記載のプラズマ処理装置は、請求
項６記載のプラズマ処理装置において、前記被覆層が、
前記窓部に、フッ素系ガス及びフッ素ラジカルに対して
耐食性に優れたＭｇＦ2を蒸着してなることを特徴とし
ている。
項６記載のプラズマ処理装置において、前記被覆層が、
前記窓部に、フッ素系ガス及びフッ素ラジカルに対して
耐食性に優れたＭｇＦ2を蒸着してなることを特徴とし
ている。
【００２２】このように、プラズマ監視用ビューポート
を構成する窓部の内面側に、フッ素系ガス及びフッ素ラ
ジカルに対して極めて良好な耐食性を有するＭｇＦ2を
蒸着することにより被覆層が形成されているので、プラ
ズマ監視用ビューポートにおける良好な視界をさらに長
期的に確保することができる。
を構成する窓部の内面側に、フッ素系ガス及びフッ素ラ
ジカルに対して極めて良好な耐食性を有するＭｇＦ2を
蒸着することにより被覆層が形成されているので、プラ
ズマ監視用ビューポートにおける良好な視界をさらに長
期的に確保することができる。
【００２３】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施形態例のプラ
ズマ処理装置を図面を参照して説明する。ここでは、プ
ラズマ処理装置として、プラズマＣＶＤ装置を例にとっ
て説明する。図１及び図２において、符号１１は、プラ
ズマＣＶＤ装置（プラズマ処理装置）である。このプラ
ズマＣＶＤ装置１１は、図示しない真空ポンプによって
減圧される製膜室（プラズマ処理室）１０を形成する真
空チャンバ１２の略中央に、両側面にラダー電極１３が
設けられた製膜ユニット１４を有しており、この製膜ユ
ニット１４の両側面側に、ヒータカバー１５を介して基
板加熱ヒータ１６が設けられている。
ズマ処理装置を図面を参照して説明する。ここでは、プ
ラズマ処理装置として、プラズマＣＶＤ装置を例にとっ
て説明する。図１及び図２において、符号１１は、プラ
ズマＣＶＤ装置（プラズマ処理装置）である。このプラ
ズマＣＶＤ装置１１は、図示しない真空ポンプによって
減圧される製膜室（プラズマ処理室）１０を形成する真
空チャンバ１２の略中央に、両側面にラダー電極１３が
設けられた製膜ユニット１４を有しており、この製膜ユ
ニット１４の両側面側に、ヒータカバー１５を介して基
板加熱ヒータ１６が設けられている。
【００２４】図３に示すように、製膜ユニット１４その
中央に温度制御ヒータ２１が設けられ、この温度ヒータ
２１の両側部に、防着板２２を介して配設された前記ラ
ダー電極１３が配設された構造とされており、外周がラ
ダー電極１３を臨む部分が開口された排気カバー２３に
よって囲われた構造とされている。そして、このプラズ
マＣＶＤ装置１１では、真空チャンバ１２内が減圧され
た状態にてＳｉＨ4からなる原料ガスを含む処理原料ガ
スである製膜ガスが送り込まれ、ラダー電極１３に高周
波電流が供給されると、真空チャンバ１１内にてプラズ
マが発生し、基板加熱ヒータ１６によって加熱された基
板Ｋに製膜が施されるようになっている。
中央に温度制御ヒータ２１が設けられ、この温度ヒータ
２１の両側部に、防着板２２を介して配設された前記ラ
ダー電極１３が配設された構造とされており、外周がラ
ダー電極１３を臨む部分が開口された排気カバー２３に
よって囲われた構造とされている。そして、このプラズ
マＣＶＤ装置１１では、真空チャンバ１２内が減圧され
た状態にてＳｉＨ4からなる原料ガスを含む処理原料ガ
スである製膜ガスが送り込まれ、ラダー電極１３に高周
波電流が供給されると、真空チャンバ１１内にてプラズ
マが発生し、基板加熱ヒータ１６によって加熱された基
板Ｋに製膜が施されるようになっている。
【００２５】このプラズマＣＶＤ装置１１には、真空チ
ャンバ１２の上面に、複数の製膜室内監視用ビューポー
ト３１が設けられ、基板搬送や製膜時のプラズマ発光状
況を含めた各処理状況を確認できるようになっている。
図４に示すように、この製膜室内監視用ビューポート３
１は、真空チャンバ１２に形成された孔部３２に、窓部
３３が取り付けられた構造とされている。窓部３３は、
その周囲が、真空チャンバ１２にネジ止め固定された固
定具３４によって固定されており、その両面における外
周に設けられたパッキン３５によって気密状態に取り付
けられている。
ャンバ１２の上面に、複数の製膜室内監視用ビューポー
ト３１が設けられ、基板搬送や製膜時のプラズマ発光状
況を含めた各処理状況を確認できるようになっている。
図４に示すように、この製膜室内監視用ビューポート３
１は、真空チャンバ１２に形成された孔部３２に、窓部
３３が取り付けられた構造とされている。窓部３３は、
その周囲が、真空チャンバ１２にネジ止め固定された固
定具３４によって固定されており、その両面における外
周に設けられたパッキン３５によって気密状態に取り付
けられている。
【００２６】この製膜室内監視用ビューポート３１を構
成する窓部３３は、石英ガラス等から形成されており、
その製膜室１０側に、耐食材をコーティングしてなる被
覆層３７が設けられている。この被覆層３７としては、
フッ素系ガス及びフッ素ラジカルに対して耐食性に優れ
たものが用いられており、ここでは、ＭｇＦ2が用いら
れている。そして、このＭｇＦ2は、窓部３３の表面
に、真空蒸着によって薄膜形成することによりコーティ
ングされている。
成する窓部３３は、石英ガラス等から形成されており、
その製膜室１０側に、耐食材をコーティングしてなる被
覆層３７が設けられている。この被覆層３７としては、
フッ素系ガス及びフッ素ラジカルに対して耐食性に優れ
たものが用いられており、ここでは、ＭｇＦ2が用いら
れている。そして、このＭｇＦ2は、窓部３３の表面
に、真空蒸着によって薄膜形成することによりコーティ
ングされている。
【００２７】なお、この被覆層３７の厚さとしては、ピ
ンホールが生じることなくかつ膜自体の光干渉模様によ
る視界不良が生じることのない０.０５〜１.０μｍの範
囲でコーティングされており、０.１μｍ程度が好適で
ある。
ンホールが生じることなくかつ膜自体の光干渉模様によ
る視界不良が生じることのない０.０５〜１.０μｍの範
囲でコーティングされており、０.１μｍ程度が好適で
ある。
【００２８】このように、上記のプラズマＣＶＤ装置１
１によれば、製膜室１０を形成する真空チャンバ１２に
設けられた製膜室内監視用ビューポート３１を構成する
ガラス製の窓部３３の内面側に、フッ素系ガス及びフッ
素ラジカルに対して極めて良好な耐食性を有するＭｇＦ
2からなる耐食材を蒸着してコーティングしてなる被覆
層３７が設けられているので、製膜室１２内にフッ素系
ガスからなるクリーニングガスを導入してプラズマを生
じさせて製膜室１２内をクリーニングする際に発生する
フッ素系ガス及びフッ素ラジカルによる窓部３３の腐食
を防止することができ、良好な視界を長期的に確保する
ことができる。
１によれば、製膜室１０を形成する真空チャンバ１２に
設けられた製膜室内監視用ビューポート３１を構成する
ガラス製の窓部３３の内面側に、フッ素系ガス及びフッ
素ラジカルに対して極めて良好な耐食性を有するＭｇＦ
2からなる耐食材を蒸着してコーティングしてなる被覆
層３７が設けられているので、製膜室１２内にフッ素系
ガスからなるクリーニングガスを導入してプラズマを生
じさせて製膜室１２内をクリーニングする際に発生する
フッ素系ガス及びフッ素ラジカルによる窓部３３の腐食
を防止することができ、良好な視界を長期的に確保する
ことができる。
【００２９】（実験例）図５に示すものは、耐食材とし
て用いたＭｇＦ2と他の材料とのフッ素ラジカルによる
腐食量の比較実験の結果を示すものである。つまり、耐
食材として使用候補にあるＭｇＦ2、Ｎｉ、Ａｌ2Ｏ3、
Ａｌ、及び比較用に通常の真空チャンバ構成材であるＳ
ＵＳ３０４をフッ素ラジカルに所定時間暴露し、フッ素
ラジカルによる腐食量を、断面を顕微鏡で腐食箇所の厚
みを測定することにより求めた。
て用いたＭｇＦ2と他の材料とのフッ素ラジカルによる
腐食量の比較実験の結果を示すものである。つまり、耐
食材として使用候補にあるＭｇＦ2、Ｎｉ、Ａｌ2Ｏ3、
Ａｌ、及び比較用に通常の真空チャンバ構成材であるＳ
ＵＳ３０４をフッ素ラジカルに所定時間暴露し、フッ素
ラジカルによる腐食量を、断面を顕微鏡で腐食箇所の厚
みを測定することにより求めた。
【００３０】この図から明らかなように、耐食材として
優れるＮｉの腐食量を１とした際に、ＳＵＳ３０４が腐
食量：約１０、Ａｌが腐食量：約２であったのに対し
て、ＭｇＦ2は、Ｎｉ、Ａｌ2Ｏ3とともに腐食量：１以
下であった。つまり、耐食材として用いたＭｇＦ2は、
フッ素ラジカルに対して極めて良好な耐食性を有するこ
とが分かった。
優れるＮｉの腐食量を１とした際に、ＳＵＳ３０４が腐
食量：約１０、Ａｌが腐食量：約２であったのに対し
て、ＭｇＦ2は、Ｎｉ、Ａｌ2Ｏ3とともに腐食量：１以
下であった。つまり、耐食材として用いたＭｇＦ2は、
フッ素ラジカルに対して極めて良好な耐食性を有するこ
とが分かった。
【００３１】図６及び図７に示すものは、製膜ユニット
１４を構成する防着板２２の側部にプラズマ監視用ビュ
ーポート４１を設け、さらに、真空チャンバ１２の側部
にも製膜室内監視用ビューポート４２を設けたものであ
り、これらプラズマ監視用ビューポート４１及び製膜室
内監視用ビューポート４２は、略同一軸線上に配置され
ている。これにより、真空チャンバ１２の外側の大気下
において、これらビューポート４１、４２を介して、Ｏ
ＥＳ（Optical Emission Spectroscope）によって製膜
ユニット１４にて生じているプラズマの発光状況を観察
することができるようになっている。
１４を構成する防着板２２の側部にプラズマ監視用ビュ
ーポート４１を設け、さらに、真空チャンバ１２の側部
にも製膜室内監視用ビューポート４２を設けたものであ
り、これらプラズマ監視用ビューポート４１及び製膜室
内監視用ビューポート４２は、略同一軸線上に配置され
ている。これにより、真空チャンバ１２の外側の大気下
において、これらビューポート４１、４２を介して、Ｏ
ＥＳ（Optical Emission Spectroscope）によって製膜
ユニット１４にて生じているプラズマの発光状況を観察
することができるようになっている。
【００３２】ここで、防着板２２に設けられたプラズマ
監視用ビューポート４１は、防着板２２に形成された孔
部に窓部４３を嵌め込んだ構造とされており、この窓部
４３としては、図５の耐食材腐食量評価試験にあるよう
に、フッ素系ガス及びフッ素ラジカルに対して極めて耐
食性に優れたアルミナを主成分としたガラスであるいわ
ゆるサファイアガラスから形成されている。なお、真空
チャンバ１２に設けられた製膜室内監視用ビューポート
４２は、前述した製膜室内監視用ビューポート３１と同
一構造とされている。
監視用ビューポート４１は、防着板２２に形成された孔
部に窓部４３を嵌め込んだ構造とされており、この窓部
４３としては、図５の耐食材腐食量評価試験にあるよう
に、フッ素系ガス及びフッ素ラジカルに対して極めて耐
食性に優れたアルミナを主成分としたガラスであるいわ
ゆるサファイアガラスから形成されている。なお、真空
チャンバ１２に設けられた製膜室内監視用ビューポート
４２は、前述した製膜室内監視用ビューポート３１と同
一構造とされている。
【００３３】このように、上記のプラズマＣＶＤ装置１
１によれば、プラズマの発生箇所を覆う防着板２２に設
けられて強いフッ素ラジカルに曝されるプラズマ監視用
ビューポート４１に用いられる窓部４３がフッ素系ガス
及びフッ素ラジカルに対して耐食性に優れたアルミナを
主成分としたサファイアガラスから形成されているの
で、このプラズマ監視用ビューポート４１の劣化を極力
抑えることができる。
１によれば、プラズマの発生箇所を覆う防着板２２に設
けられて強いフッ素ラジカルに曝されるプラズマ監視用
ビューポート４１に用いられる窓部４３がフッ素系ガス
及びフッ素ラジカルに対して耐食性に優れたアルミナを
主成分としたサファイアガラスから形成されているの
で、このプラズマ監視用ビューポート４１の劣化を極力
抑えることができる。
【００３４】なお、上記の例では、真空チャンバ１２に
設けた製膜室内監視用ビューポート３１、４２に、被覆
層３７がコーティングされた石英ガラスからなる窓部３
３を用い、防着板２２に設けたプラズマ監視用ビューポ
ート４１に、サファイアガラスから形成された窓部４３
を用いたが、特に、強いプラズマに暴露される部分に
は、サファイアガラスから形成された窓部４３の好まし
くは両側表面に被覆層３７をコーティングしても良く、
このようにすると、フッ素系ガス及びフッ素ラジカルに
対するさらなる耐食性を確保することができる。
設けた製膜室内監視用ビューポート３１、４２に、被覆
層３７がコーティングされた石英ガラスからなる窓部３
３を用い、防着板２２に設けたプラズマ監視用ビューポ
ート４１に、サファイアガラスから形成された窓部４３
を用いたが、特に、強いプラズマに暴露される部分に
は、サファイアガラスから形成された窓部４３の好まし
くは両側表面に被覆層３７をコーティングしても良く、
このようにすると、フッ素系ガス及びフッ素ラジカルに
対するさらなる耐食性を確保することができる。
【００３５】また、図８に示すものは、金属板からなる
シャッター５１によって開閉される筒体５２の端部に窓
部５３を設けた製膜室内監視用ビューポート５４であ
り、この窓部５３として、前述した実施形態例の被覆層
３７がコーティングされた石英ガラスからなる窓部３３
あるいはサファイアガラスから形成された窓部４３、さ
らには、表面に被覆層３７をコーティングしたサファイ
アガラスからなる窓部４３を用いることにより、フッ素
系ガス及びフッ素ラジカルに対して極めて高い耐食性を
得ることができる。
シャッター５１によって開閉される筒体５２の端部に窓
部５３を設けた製膜室内監視用ビューポート５４であ
り、この窓部５３として、前述した実施形態例の被覆層
３７がコーティングされた石英ガラスからなる窓部３３
あるいはサファイアガラスから形成された窓部４３、さ
らには、表面に被覆層３７をコーティングしたサファイ
アガラスからなる窓部４３を用いることにより、フッ素
系ガス及びフッ素ラジカルに対して極めて高い耐食性を
得ることができる。
【００３６】つまり、この製膜室内監視用ビューポート
５４による観察を行う場合は、シャッター５１によって
筒体５２を閉じ、観察時にシャッター５１を回動させて
筒体５２を開くことにより、非観察時における窓部５３
へのフッ素系ガス及びフッ素ラジカルの拡散侵入を少な
くし、窓部５３の腐食をシャッター５１によって防ぐこ
とができる。なお、符号５６は、回動軸５５を中心とし
てシャッター５１を回動させるためのレバーである。な
おまた、これらの監視用ビューポートの耐食化にかかる
本発明内容は、同様にフッ素系ガス及びフッ素ラジカル
を用いてプラズマ処理を行うドライエッチング装置にお
いても同様に用いることができる。
５４による観察を行う場合は、シャッター５１によって
筒体５２を閉じ、観察時にシャッター５１を回動させて
筒体５２を開くことにより、非観察時における窓部５３
へのフッ素系ガス及びフッ素ラジカルの拡散侵入を少な
くし、窓部５３の腐食をシャッター５１によって防ぐこ
とができる。なお、符号５６は、回動軸５５を中心とし
てシャッター５１を回動させるためのレバーである。な
おまた、これらの監視用ビューポートの耐食化にかかる
本発明内容は、同様にフッ素系ガス及びフッ素ラジカル
を用いてプラズマ処理を行うドライエッチング装置にお
いても同様に用いることができる。
【００３７】
【発明の効果】以上、説明したように、本発明のプラズ
マ処理装置によれば、下記の効果を得ることができる。
請求項１記載のプラズマ処理装置によれば、プラズマ処
理室を形成するチャンバに設けられた製膜室内監視用ビ
ューポートを構成するガラス製の窓部の内面側に、プラ
ズマに対して耐食性を有する耐食材をコーティングして
なる被覆層が設けられているので、プラズマ処理室内に
クリーニングガスを導入してプラズマを生じさせてプラ
ズマ処理室内をクリーニングする際に発生するフッ素系
ガス及びフッ素ラジカルによる窓部の腐食を防止するこ
とができ、良好な視界を長期的に確保することができ
る。
マ処理装置によれば、下記の効果を得ることができる。
請求項１記載のプラズマ処理装置によれば、プラズマ処
理室を形成するチャンバに設けられた製膜室内監視用ビ
ューポートを構成するガラス製の窓部の内面側に、プラ
ズマに対して耐食性を有する耐食材をコーティングして
なる被覆層が設けられているので、プラズマ処理室内に
クリーニングガスを導入してプラズマを生じさせてプラ
ズマ処理室内をクリーニングする際に発生するフッ素系
ガス及びフッ素ラジカルによる窓部の腐食を防止するこ
とができ、良好な視界を長期的に確保することができ
る。
【００３８】請求項２記載のプラズマ処理装置によれ
ば、製膜室内監視用ビューポートを構成する窓部の内面
側に、フッ素系ガス及びフッ素ラジカルに対して極めて
良好な耐食性を有するＭｇＦ2を蒸着することにより被
覆層が形成されているので、製膜室内監視用ビューポー
トにおける良好な視界をさらに長期的に確保することが
できる。
ば、製膜室内監視用ビューポートを構成する窓部の内面
側に、フッ素系ガス及びフッ素ラジカルに対して極めて
良好な耐食性を有するＭｇＦ2を蒸着することにより被
覆層が形成されているので、製膜室内監視用ビューポー
トにおける良好な視界をさらに長期的に確保することが
できる。
【００３９】請求項３記載のプラズマ処理装置によれ
ば、製膜室内監視用ビューポートを構成する窓部の内側
に金属板からなるシャッターが設けられているので、プ
ラズマ処理室内を監視しないときは、金属板によって筒
体内を閉鎖して、窓部とプラズマ処理室内とを遮断して
おくことができ、窓部の劣化をさらに長期的に防止する
ことができる。
ば、製膜室内監視用ビューポートを構成する窓部の内側
に金属板からなるシャッターが設けられているので、プ
ラズマ処理室内を監視しないときは、金属板によって筒
体内を閉鎖して、窓部とプラズマ処理室内とを遮断して
おくことができ、窓部の劣化をさらに長期的に防止する
ことができる。
【００４０】請求項４記載のプラズマ処理装置によれ
ば、製膜室内監視用ビューポートを構成する窓部が、フ
ッ素系ガス及びフッ素ラジカルに対して耐食性に優れた
アルミナを主成分としたサファイアガラスから形成され
ているので、窓部の劣化をさらに長期的に防止すること
ができる。
ば、製膜室内監視用ビューポートを構成する窓部が、フ
ッ素系ガス及びフッ素ラジカルに対して耐食性に優れた
アルミナを主成分としたサファイアガラスから形成され
ているので、窓部の劣化をさらに長期的に防止すること
ができる。
【００４１】請求項５記載のプラズマ処理装置によれ
ば、プラズマの発生箇所を覆う防着板に設けられて強い
フッ素系ガス及びフッ素ラジカルに曝されるプラズマ監
視用ビューポートに用いられる窓部がフッ素系ガス及び
フッ素ラジカルに対して耐食性に優れたアルミナを主成
分としたサファイアガラスから形成されているので、こ
のプラズマ監視用ビューポートの劣化を極力抑えること
ができる。
ば、プラズマの発生箇所を覆う防着板に設けられて強い
フッ素系ガス及びフッ素ラジカルに曝されるプラズマ監
視用ビューポートに用いられる窓部がフッ素系ガス及び
フッ素ラジカルに対して耐食性に優れたアルミナを主成
分としたサファイアガラスから形成されているので、こ
のプラズマ監視用ビューポートの劣化を極力抑えること
ができる。
【００４２】請求項６記載のプラズマ処理装置によれ
ば、プラズマ監視用ビューポートを構成する窓部の内面
側に、プラズマに対して耐食性を有する耐食材をコーテ
ィングしてなる被覆層が設けられているので、フッ素系
ガス及びフッ素ラジカルによる窓部の腐食をさらに抑え
ることができ、良好な視界を長期的に確保することがで
きる。
ば、プラズマ監視用ビューポートを構成する窓部の内面
側に、プラズマに対して耐食性を有する耐食材をコーテ
ィングしてなる被覆層が設けられているので、フッ素系
ガス及びフッ素ラジカルによる窓部の腐食をさらに抑え
ることができ、良好な視界を長期的に確保することがで
きる。
【００４３】請求項７記載のプラズマ処理装置によれ
ば、プラズマ監視用ビューポートを構成する窓部の内面
側に、フッ素系ガス及びフッ素ラジカルに対して極めて
良好な耐食性を有するＭｇＦ2を蒸着することにより被
覆層が形成されているので、プラズマ監視用ビューポー
トにおける良好な視界をさらに長期的に確保することが
できる。
ば、プラズマ監視用ビューポートを構成する窓部の内面
側に、フッ素系ガス及びフッ素ラジカルに対して極めて
良好な耐食性を有するＭｇＦ2を蒸着することにより被
覆層が形成されているので、プラズマ監視用ビューポー
トにおける良好な視界をさらに長期的に確保することが
できる。
【図１】 本発明の実施形態例のプラズマ処理装置であ
るプラズマＣＶＤ装置の構成及び構造を説明するプラズ
マＣＶＤ装置の概略断面図である。
るプラズマＣＶＤ装置の構成及び構造を説明するプラズ
マＣＶＤ装置の概略断面図である。
【図２】 本発明の実施形態例のプラズマ処理装置であ
るプラズマＣＶＤ装置の構成及び構造を説明するプラズ
マＣＶＤ装置の斜視図である。
るプラズマＣＶＤ装置の構成及び構造を説明するプラズ
マＣＶＤ装置の斜視図である。
【図３】 本発明の実施形態例のプラズマ処理装置であ
るプラズマＣＶＤ装置の内部構造を説明するプラズマＣ
ＶＤ装置の分解斜視図である。
るプラズマＣＶＤ装置の内部構造を説明するプラズマＣ
ＶＤ装置の分解斜視図である。
【図４】 本発明の実施形態例のプラズマ処理装置であ
るプラズマＣＶＤ装置に設けられるビューポートの断面
構造図である。
るプラズマＣＶＤ装置に設けられるビューポートの断面
構造図である。
【図５】 本発明の実施形態例のプラズマ処理装置であ
るプラズマＣＶＤ装置に設けられるビューポートの被覆
層として用いられる耐食材の腐食量の比較実験の結果を
示すグラフ図である。
るプラズマＣＶＤ装置に設けられるビューポートの被覆
層として用いられる耐食材の腐食量の比較実験の結果を
示すグラフ図である。
【図６】 本発明の他の実施形態例のプラズマ処理装置
であるプラズマＣＶＤ装置の内部構造を説明するプラズ
マＣＶＤ装置の分解斜視図である。
であるプラズマＣＶＤ装置の内部構造を説明するプラズ
マＣＶＤ装置の分解斜視図である。
【図７】 本発明の他の実施形態例のプラズマ処理装置
であるプラズマＣＶＤ装置の構成及び構造を説明するプ
ラズマＣＶＤ装置の概略斜視図である。
であるプラズマＣＶＤ装置の構成及び構造を説明するプ
ラズマＣＶＤ装置の概略斜視図である。
【図８】 本発明の他の実施形態例のプラズマ処理装置
であるプラズマＣＶＤ装置に設けられたビューポート一
部を断面視した斜視図である。
であるプラズマＣＶＤ装置に設けられたビューポート一
部を断面視した斜視図である。
【図９】 プラズマＣＶＤ装置に設けられたビューポー
トの従来例を説明するビューポートの一部を断面視した
斜視図である。
トの従来例を説明するビューポートの一部を断面視した
斜視図である。
１０ 製膜室（プラズマ処理室） １１ プラズマＣＶＤ装置（プラズマ処理装置） １２ 真空チャンバ（チャンバ） １３ ラダー電極（非接地電極） １５ ヒータカバー（接地電極） ２２ 防着板 ３１、４２、５４ 製膜室内監視用ビューポート ３２ 孔部 ３３ 窓部 ３７ 被覆層 ４１ プラズマ監視用ビューポート ４３ 窓部 ５１ シャッター ５２ 筒体 ５３ 窓部 Ｋ 基板
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 高野 暁己 長崎県長崎市深堀町五丁目717番１号 三 菱重工業株式会社長崎研究所内 Ｆターム(参考） 4K029 AA09 AA24 BA42 BC01 CA01 4K030 DA06 FA01 KA12 KA37 KA47 LA16 5F004 AA15 AA16 BC08 BD04 DA17 5F045 AA08 AB04 AC01 AC02 BB08 CA13 EB03 EB06 EC03 EH04
Claims (7)
- 【請求項１】 チャンバによって形成されたプラズマ処
理室内に接地電極と非接地電極とが設けられ、前記接地
電極に基板を支持させて前記プラズマ処理室内に処理原
料ガスを導入するとともに前記非接地電極に高周波電流
を給電することにより、プラズマ処理室内にてプラズマ
を生じさせて前記基板に製膜を施すプラズマＣＶＤ装置
などのプラズマ処理装置であって、 前記チャンバには、前記プラズマ処理室内の監視用ビュ
ーポートが設けられ、 該プラズマ処理室内監視用ビューポートは、前記チャン
バに形成された孔部に気密的に取り付けられたガラス製
の窓部を有し、 該窓部には、前記プラズマ処理室側に、フッ素系ガス及
びフッ素ラジカルに対して耐食性を有する耐食材をコー
ティングしてなる被覆層が設けられていることを特徴と
するプラズマ処理装置。 - 【請求項２】 前記被覆層は、前記窓部に、フッ素系ガ
ス及びフッ素ラジカルに対して耐食性に優れたＭｇＦ2
を蒸着してなることを特徴とする請求項１記載のプラズ
マ処理装置。 - 【請求項３】 前記製膜室内監視用ビューポートの前記
窓部は、前記チャンバに固定された筒体に設けられ、該
筒体には、前記窓部のプラズマ処理室側に、筒体内を開
閉させる金属板からなるシャッターが設けられているこ
とを特徴とする請求項１または請求項２記載のプラズマ
処理装置。 - 【請求項４】 前記製膜室内監視用ビューポートの窓部
は、フッ素系ガス及びフッ素ラジカルに対して耐食性に
優れたアルミナを主成分としたサファイアガラスから形
成されていることを特徴とする請求項１〜３のいずれか
１項記載のプラズマ処理装置。 - 【請求項５】 前記非接地電極に高周波電流を給電する
ことにより生じるプラズマの発生箇所を囲う防着板が設
けられ、該防着板には、プラズマ監視用ビューポートが
設けられ、 該プラズマ監視用ビューポートは、前記防着板に形成さ
れた孔部に取り付けられたガラス製の窓部を有し、 該窓部は、フッ素系ガス及びフッ素ラジカルに対して耐
食性に優れたアルミナを主成分としたサファイアガラス
から形成されていることを特徴とする請求項１〜４のい
ずれか１項記載のプラズマ処理装置。 - 【請求項６】 前記プラズマ監視用ビューポートには、
少なくとも内面側に、フッ素系ガス及びフッ素ラジカル
に対して耐食性を有する耐食材をコーティングしてなる
被覆層が設けられていることを特徴とする請求項５記載
のプラズマ処理装置。 - 【請求項７】 前記被覆層は、前記窓部に、フッ素系ガ
ス及びフッ素ラジカルに対して耐食性に優れたＭｇＦ2
を蒸着してなることを特徴とする請求項６記載のプラズ
マ処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001013323A JP3501399B2 (ja) | 2001-01-22 | 2001-01-22 | プラズマ処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001013323A JP3501399B2 (ja) | 2001-01-22 | 2001-01-22 | プラズマ処理装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002212733A true JP2002212733A (ja) | 2002-07-31 |
| JP3501399B2 JP3501399B2 (ja) | 2004-03-02 |
Family
ID=18880195
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001013323A Expired - Fee Related JP3501399B2 (ja) | 2001-01-22 | 2001-01-22 | プラズマ処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3501399B2 (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005220424A (ja) * | 2004-02-06 | 2005-08-18 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 製膜カバーおよび真空処理装置 |
| KR100717974B1 (ko) | 2005-02-04 | 2007-05-14 | 주식회사 에이디피엔지니어링 | 플라즈마 처리장치 |
| JP2009130255A (ja) * | 2007-11-27 | 2009-06-11 | Ulvac Japan Ltd | 成膜装置 |
| JP2011231384A (ja) * | 2010-04-28 | 2011-11-17 | Ulvac Japan Ltd | 成膜装置及びアライメント方法 |
| JP2012233234A (ja) * | 2011-05-02 | 2012-11-29 | Ulvac Japan Ltd | 真空処理装置 |
| JP7496476B2 (ja) | 2020-10-08 | 2024-06-06 | ハンソル アイワンス カンパニー リミテッド | 耐プラズマガラス及びその製造方法 |
-
2001
- 2001-01-22 JP JP2001013323A patent/JP3501399B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005220424A (ja) * | 2004-02-06 | 2005-08-18 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 製膜カバーおよび真空処理装置 |
| KR100717974B1 (ko) | 2005-02-04 | 2007-05-14 | 주식회사 에이디피엔지니어링 | 플라즈마 처리장치 |
| JP2009130255A (ja) * | 2007-11-27 | 2009-06-11 | Ulvac Japan Ltd | 成膜装置 |
| JP2011231384A (ja) * | 2010-04-28 | 2011-11-17 | Ulvac Japan Ltd | 成膜装置及びアライメント方法 |
| JP2012233234A (ja) * | 2011-05-02 | 2012-11-29 | Ulvac Japan Ltd | 真空処理装置 |
| JP7496476B2 (ja) | 2020-10-08 | 2024-06-06 | ハンソル アイワンス カンパニー リミテッド | 耐プラズマガラス及びその製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
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