JP2002211103A - 偽造防止パターン及びこれを用いた有価証券 - Google Patents

偽造防止パターン及びこれを用いた有価証券

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Abstract

(57)【要約】 【課題】通常の状態では潜像パターンが容易に視認でき
ないような潜像パターンであり、これによって、偽造、
改竄等の不正行為防止の効果を更に高めることができる
偽造防止パターンを提供する。 【解決手段】潜像パターンを形成する領域内に存在する
閉図形1に形成される凹凸の角度方向と、潜像パターン
を形成しない領域内に存在する閉図形2に形成される凹
凸の角度方向とが異なることを特徴とする偽造防止パタ
ーン。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、紙幣、株券、商品
券、宝くじ等の有価証券に施されている偽造防止手段の
1つである潜像パターンに関するものである。
【0002】
【従来の技術】偽造防止手段として、ホロクラムを有価
証券に貼り付けたり、紙に透かし模様を入れたり、視認
する位置によって像が表示される潜像パターン、複写で
再現できないマイクロ文字や細紋を印刷したり、蛍光イ
ンキ、赤外吸収インキ、UVインキ等を用いて印刷する
等の各種の方法が複合的に施されている。
【0003】この偽造防止手段の1つである潜像パター
ンは、図5に示すように、他の偽造防止手段とともに有
価証券(10)の一部分に設けられている。この有価証
券を真上方向から見ると、(11)部は単なる細紋の模
様とでしか認識できないが、この部分に微細な凹凸形状
で潜像パターンを形成しておくと、有価証券を傾けたり
或いは視点方向を移動させると、凹凸による影が生じて
潜像パターンが浮かび上がり、認識できるようになる。
この部分が潜像パターン表示部(11)となっている。
【0004】この凹凸形状を形成する手法としては様々
な方法が用いられるが、中でも凹版印刷やスクリーン印
刷によるインキの盛り、或いはエンボスプレス加工が一
般的に採用されている。
【0005】従来、このような潜像パターンは、図6に
示すように潜像パターンとして「2」の文字を例にとっ
て説明すると、潜像パターンを形成する領域内は横(水
平)角度方向の線状に沿って微細な凹凸形状(12)に
し、文字「2」パターンの領域外は縦(垂直)方向の線
状に沿って微細な凹凸形状(13)に成形されている。
【0006】このような構成の潜像パターンは、潜像パ
ターンの全領域にわたって規則的な凹凸で形成されてい
るために、通常の状態(潜像パターンが認識不可能と意
図した状態、例えば、印刷物の垂直方向から眺めた場合
など)においても、潜像が視認されてしまうことがあ
る。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】本発明は以上のような
問題点に着目してなされたもので、通常の状態では潜像
パターンが容易に視認できないような潜像パターンであ
り、これによって、偽造、改竄等の不正行為防止の効果
を更に高めることができる偽造防止パターンを提供する
ことを課題としている。
【0008】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
になされた請求項1に記載の発明は、潜像パターンを形
成する領域内に存在する閉図形(以下、潜像パターン内
閉図形と記す)に形成される凹凸の角度方向と、潜像パ
ターンを形成しない領域内に存在する閉図形(以下、潜
像パターン外閉図形と記す)に形成される凹凸の角度方
向とが異なることを特徴とする偽造防止パターンであ
る。
【0009】また、請求項2に記載の発明は、潜像パタ
ーン内閉図形に形成される凹凸の角度方向が±10°以
内であることを特徴とする請求項1に記載の偽造防止パ
ターンである。
【0010】また、請求項3に記載の発明は、潜像パタ
ーン外閉図形に形成される凹凸の角度方向が、潜像パタ
ーン内閉図形に形成された凹凸の最小角度方向より20
°以上小さい、又は最大角度より20°以上大きいこと
を特徴とする請求項1、請求項2に記載の偽造防止パタ
ーンである。
【0011】また、請求項4に記載の発明は、潜像パタ
ーン内閉図形に形成される凹凸の角度方向と、潜像パタ
ーン外閉図形に形成される凹凸の角度方向とが約90°
であることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に
記載の偽造防止パターンである。
【0012】また、請求項5に記載の発明は、閉図形の
大きさが、それぞれ異なることを特徴とする請求項1〜
4のいずれか1項に記載の偽造防止パターンである。
【0013】また、請求項6に記載の発明は、請求項1
〜5のいずれか1項に記載の偽造防止パターンを設けた
ことを特徴とする有価証券である。
【0014】潜像パターンは、丸、矩形、楕円、星、或
いは不定形の閉図形の集合によって潜像パターンを形成
しており、閉図形の配置、形状、大きさもランダムで構
わないので通常の状態では容易に視認できなくなる。ま
た、閉図形内に形成される凹凸の角度方向は、必ずしも
同一である必要はなく、±10°の許容範囲がある。こ
の許容範囲内であれば、同一方向から観測した場合、支
障無く潜像パターンが視認できる。また、凹凸の角度方
向を変えることで偽造、改竄の不正行為がより効果的に
防止できる。
【0015】また、潜像パターン内に形成する凹凸の角
度方向と、潜像パターン以外の凹凸の角度方向は、潜像
パターンが分離して視認される必要がある。このため
に、両者の角度に差を設ける必要がある。この角度差と
して、潜像パターン外閉図形に形成された凹凸の角度
は、潜像パターン内閉図形に形成された凹凸の最小角度
方向より20°以上小さい、又は最大角度より20°以
上大きくすることで、潜像パターンが分離されて視認で
きる。好ましい両者の差は、一方が水平、他の一方が垂
直、すなわち、90°である。また、閉図形の大きさも
同一であっても良いが、大きさを変えることで通常の状
態で更に視認し難くなり好都合である。
【0016】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て詳細に説明する。
【0017】図1は、本発明の潜像パターンの1例を示
す平面図である。図1(a)に示すように、潜像パター
ンとして、「2」の数字を例にして説明すると、「2」
の潜像パターン内閉図形(1)である円形に形成される
凹凸の角度を垂直にし、潜像パターン外閉図形(2)で
あるの円形に形成される凹凸の角度を水平にしたもので
ある。これを、紙面に対して左右方向に徐々に傾けて眺
めると、ある角度に達すると図1(b)に示すように、
潜像パターンが鮮明に視認されるようになる。
【0018】図2は、図1の潜像パターン内閉図形
(1)である円形の構成を説明する図であり、(a)は
平面図、(b)はX−X部の断面図を示す。すなわち、
基材(4)に凹凸を設けたことで基材を傾けると影が生
じ、濃く視認されるようになる。また、(c)は図1の
潜像パターン外閉図形(2)である円形を構成を説明す
る図であり、(c)は平面図、(d)はY−Y部の断面
図を示す。このように、凹凸の角度方向を変えておくこ
とで、傾けたり、観察する位置を変えることにより、一
方が影を生じた時には、他方は影を生じなく、両者が分
離されて視認されることになる。
【0019】図3は、他の潜像パターンの例であり、潜
像パターン内閉図形である円形の凹凸の角度方向を±1
0°範囲内で変化させ、潜像パターン外閉図形である円
形の大きさ、凹凸の角度をそれそれ変化させたものであ
る。この例では、潜像パターン内閉図形である1Aの円
形に形成された凹凸の角度を基準にして時計方向に+1
0°回転させたものが1B、−10°回転させたものが
1Cである。また潜像パターン外閉図形である2Aの円
形に形成された凹凸を基準にして時計方向に+20°回
転させたものが2B、−20°回転させたものが2Cで
ある。
【0020】図4は、他の潜像パターンの例であり、閉
図形の形状、大きさをを変化させたものである。図4
(a)は閉図形の形状及び大きさを、図4(b)は閉図
形の形状、大きさ、凹凸の角度方向をそれぞれ変化させ
たものである。
【0021】上記の説明では、潜像パターン内閉図形に
形成される凹凸の角度は垂直にし、潜像パターン外閉図
形に形成される凹凸の角度方向は水平にしたが、これに
限定されるものではないことは当然である。
【0022】この潜像パターンを形成するには、先に記
述したように、インキをインキ被膜が大きい凹版印刷方
式、或いはスクリーン印刷方式でインキ被膜層によって
凹凸形状を形成したり、金型に用いてプレス方式で紙等
の有価証券基材に直接で凹凸形状を形成する通常の方法
が用いられる。この凹凸形状のピッチは5〜20本/mm
程度、凹凸の高低差は10〜100μm程度である。
【0023】
【発明の効果】以上説明したように、潜像パターンは閉
図形の集合で形成することで、通常の状態では潜像パタ
ーンが容易に視認できないようにすることができる。ま
た、凹凸の角度方向も必ずしも同一しなくてもよく、変
化させることによって、偽造、改竄等の不正行為の効果
を更に高めることが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の潜像パターンを説明する1例であり、
(a)は潜像パターンの平面図、(b)は視認される潜
像パターンが視認された状態を示す平面図である。
【図2】本発明の潜像パターンを形成する閉図形の構成
を説明するものであり、(a)は閉図形に形成される凹
凸の角度方向が垂直であること示す閉図形の平面図、
(b)は(a)のX−X部の断面図、(c)は閉図形に
形成される凹凸の角度方向が水平であることを示す図形
の平面図、(d)は(c)のY−Y部の断面図をそれぞ
れ示す。
【図3】本発明の他の潜像パターンを示す1例の平面図
である。
【図4】本発明の他の潜像パターンを示す1例の平面図
である。
【図5】潜像パターンを設けた有価証券の1例を示す平
面図である。
【図6】従来の潜像パターンの1例を示す平面図であ
る。
【符号の説明】
1…潜像パターン内閉図形 2…潜像パターン外閉図形 3…凹凸 4…基材 10…有価証券 11…潜像パターン表示部 12、13…凹凸
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 2C005 HA01 HB10 HB12 JB21 JB40 2H113 AA01 AA06 BA03 BA10 BA27 BB02 BB22 CA37 CA39 EA01

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】潜像パターンを形成する領域内に存在する
    閉図形に形成される凹凸の角度方向と、潜像パターンを
    形成しない領域内に存在する閉図形に形成される凹凸の
    角度方向とが異なることを特徴とする偽造防止パター
    ン。
  2. 【請求項2】潜像パターンを形成する領域に存在する閉
    図形に形成される凹凸の角度方向が±10°以内である
    ことを特徴とする請求項1に記載の偽造防止パターン。
  3. 【請求項3】潜像パターンを形成しない領域内に存在す
    る閉図形に形成される凹凸の角度方向が、潜像パターン
    を形成する領域内に存在する閉図形に形成された凹凸の
    最小角度方向より20°以上小さい、又は最大角度より
    20°以上大きいことを特徴とする請求項1、請求項2
    に記載の偽造防止パターン。
  4. 【請求項4】潜像パターンを形成する領域内に存在する
    閉図形に形成される凹凸の角度方向と、潜像パターンを
    形成しない領域内に存在する閉図形に形成される凹凸の
    角度方向とが約90°であることを特徴とする請求項1
    〜3のいずれか1項に記載の偽造防止パターン。
  5. 【請求項5】閉図形の大きさが、それぞれ異なることを
    特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載の偽造防
    止パターン。
  6. 【請求項6】請求項1〜5のいずれか1項に記載の偽造
    防止パターンを設けたことを特徴とする有価証券。
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