JP2002206181A - Method of manufacturing two-metal layer tbga or fpcb (fbwb) by reel to reel from tape or flexible material lined with copper foil on both sides - Google Patents

Method of manufacturing two-metal layer tbga or fpcb (fbwb) by reel to reel from tape or flexible material lined with copper foil on both sides

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JP2002206181A
JP2002206181A JP2000405013A JP2000405013A JP2002206181A JP 2002206181 A JP2002206181 A JP 2002206181A JP 2000405013 A JP2000405013 A JP 2000405013A JP 2000405013 A JP2000405013 A JP 2000405013A JP 2002206181 A JP2002206181 A JP 2002206181A
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reel
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laser
copper
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method of reforming copper foil to the copper foil which does not reflect lasers and drilling blind holes by a direct laser drilling method. SOLUTION: The copper foil is formed to easily absorb the CO2 laser, to roughen its surfaces, to dye the surfaces black and to reduce a copper thickness in order to lessen energy. Reel-to-reel treatment equipment is internally provided with three chambers for the purposes described above and the copper foil is subjected to each chemical treatment. The copper foil is thus finished to the copper foil which has a copper thickness 1 to 5 μm, surface roughness 1 to 3 μm and black color and permits drilling of only the surface to be irradiated with the laser by the direct laser drilling method.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】今日この頃PCB(PW
B)、またテープ業界では高密度、(ハイデンシティ)
と言われ続けられていますが、その中のFPCB、TB
GA、TCSP、などは急速に対応すべく方法が提案さ
れている。その内の技術のひとつに層間接続はレーザー
でブラインドホールを明け、そのブラインドホールにめ
つきを施して導通させることが行われているが。本発明
は炭酸ガスレーザーでの穴明けに適応可能な銅箔に改質
する方法である。
BACKGROUND OF THE INVENTION Today, PCB (PW)
B) High density in the tape industry (High Density)
It is said that FPCB, TB in it
For GA, TCSP, etc., methods have been proposed to respond rapidly. One of the technologies is to open the blind hole with a laser for the interlayer connection, and to apply the blind hole to the blind hole to make it conductive. The present invention is a method for modifying a copper foil that can be used for drilling with a carbon dioxide laser.

【0002】[0002]

【従来の技術】高密度パターンの場合層間接続にはブラ
インドビァでなければできない。ブラインドホールを明
けるにはレーザーを使う。そしてレーザーは穴明け速度
の早い炭酸ガスレーザーを用いる。しかし炭酸ガスレー
ザーは銅に反射され、銅を貫通できない。以上が今日の
結論である。よって現在の2メタルレイヤー材を使っ
た、2メタルレイヤーFPCB、TBGAは次の様な工
程で炭酸ガスレーザーによってブラインドホールーが明
けられている。なを現在FPCBがリールツーリールで
ブラインドホール明け及びめつき工程がなされてはいな
いのでTBGAの生産工程で書く。 1.図1の様な絶縁樹脂テープの両面に銅箔1と銅箔2
が張り合わさっている材料(2メタルレイヤー材)を所
定の幅にスリットし、スプロケットホールをパンチし
て、以降の工程の搬送、位置決め、などを容易にする。 2.ドライフィルム両面ラミネイト、図2になる 3.銅箔2の面に穴明けパターンを露光、銅箔1の面は
全面露光 4.現像、図3になる。 5.エッチング、図4になる 6.ドライフィルム剥離、図5になる 7.炭酸ガスレーザー穴明け、エッチングで銅箔に穴を
明け、銅が炭酸ガスレーザーを反射するのを利用して、
銅箔をレジストとして用いている。この工程のレーザー
穴明け方法を一般にコンフォーマルマスク法と呼ばれて
いる。図6になる。 8.デスミヤー、以下の工程は銅めつき、ドライフィル
ムラミネイト、パターン露光、現像、エッチング、剥
離、印刷、金めつきと通常工程である。
2. Description of the Related Art In the case of a high-density pattern, interlayer connection can only be performed by blind vias. Use a laser to open the blind hole. The laser uses a carbon dioxide laser with a high drilling speed. However, the carbon dioxide laser is reflected by the copper and cannot penetrate the copper. That is the conclusion of today. Therefore, the blind hole is formed by the carbon dioxide gas laser in the following process in the two metal layer FPCB and TBGA using the current two metal layer material. What is written in the TBGA production process because the FPCB is not currently reel-to-reel and does not have blind hole drilling and plating processes. 1. Copper foil 1 and copper foil 2 on both sides of the insulating resin tape as shown in FIG.
The material (2 metal layer material) on which is adhered is slit into a predetermined width, and a sprocket hole is punched to facilitate transportation, positioning, and the like in the subsequent steps. 2. 2. Dry film double-sided lamination, as shown in Figure 2 3. Exposure of a drilling pattern on the surface of copper foil 2, and exposure of the entire surface of copper foil 1 FIG. 3 shows the development. 5. Etching, becomes FIG. 6. Dry film peeling, as shown in FIG. CO2 laser drilling, drilling holes in copper foil by etching, utilizing the fact that copper reflects the CO2 laser,
Copper foil is used as the resist. The laser drilling method in this step is generally called a conformal mask method. FIG. 8. Desmear, the following steps are copper plating, dry film lamination, pattern exposure, development, etching, peeling, printing, and plating.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】以上述べた様に炭酸ガ
スレーザーによって穴明けがされているがその為に工程
2のラミネイトから6の剥離までしなければならない。
これはPCB,TBGA製作工程の大半を2回使うとい
うことで、コストがかかる。またエッチングをすること
によってドライフイルムが張れない部分すなわちスプロ
ケットの部分はエッチングで銅がなくなる、このため8
のデスミヤーが終ったときスプロケットホールがダメー
ジを受け、破損することも多い。また無電解銅めつき、
銅めつきの工程ではめつきの密着が悪いため、剥がれて
ごみの原因になり色々なトラブルを引き起こしている。
それに加えてレーザーマスク用に穴明けた位置とパター
ン作製時の位置とを合わせることが困難な事が多い。現
実にこの不良率の高さにより、TBGAの価格は高く、
量産されていると言い難い。このような理由からダイレ
クトレーザドリリング法の技術確立が期待されている。
As described above, piercing is performed by a carbon dioxide gas laser. For this purpose, the laminating process in step 2 must be carried out from the laminating process to the peeling process.
This is costly because most of the PCB and TBGA fabrication steps are used twice. Further, by etching, a portion where the dry film is not stretched, that is, a portion of the sprocket, is free of copper by the etching.
At the end of the desmear, the sprocket holes are damaged and often damaged. In addition, electroless copper plating,
In the copper plating process, the adhesion of the plating is poor, so that the copper is peeled off, causing garbage and causing various troubles.
In addition, it is often difficult to match the position drilled for the laser mask with the position for pattern fabrication. Actually, due to the high defect rate, the price of TBGA is high,
It is hard to say that it is mass-produced. For these reasons, the establishment of the technology of the direct laser drilling method is expected.

【0004】[0004]

【課題を解決するための手段】本発明はテープ状の2メ
タルレイヤー材を用いてFPCB、TBGA、TCSP
を製造するとき炭酸ガスレーザーによるブラインドホー
ル穴明けをダイレクトレーザードリリング法に適応する
銅箔に、張り合わされた銅箔2をリールツーリールの処
理装置で改質することである。その工程は 9.所定の幅にスリット 10.リールツーリール処理装置にて銅箔エッチング処
理。1−5μmにする。図7のようになる。 11.リールツーリール処理装置にて粗化処理。1−3
μm。図8になる。 12.リールツーリール処理装置にて黒染めする。 13.スプロケットホールパンチング。 14.炭酸ガスレーザー穴明け。図9のようになる。 以上の如く工程は極めて簡単になる。次に請求項2の処
理装置は図10の様にリールに巻かれたテープ(2メタ
ルレイヤー材)が巻きだし機から処理チャンバーに入っ
ていき各々の処理液で処理され水洗され乾燥されて巻き
取り機でリールに巻き取られる。本発明は炭酸ガスレー
ザーで穴明けできる条件の銅箔に改質するため、3つの
処理チャンバーがあり、水洗チャンバーが付属してい
て、液の噴流口がテープの下側にあり、ポンプで送り込
まれた液は噴流口から銅箔2に当たる、その力でテープ
は浮き上がり噴流口に引っ付くことなく処理される。図
11はテープと噴流口との位置と寸法を示す。この装置
はテープまたはフレキシブル基板のような軽い、リール
ツーリールにしか適用できない。しかしテープ、フレキ
シブル基板の片面処理については非常に有用である。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention provides an FPCB, TBGA, TCSP using a two-metal tape material.
Is to modify a copper foil 2 bonded to a copper foil adapted to a direct laser drilling method by a hole drilling by a carbon dioxide laser in a reel-to-reel processing apparatus. The process is 9. Slit to predetermined width 10. Copper foil etching processing by reel-to-reel processing equipment. 1-5 μm. As shown in FIG. 11. Roughening processing by reel-to-reel processing equipment. 1-3
μm. FIG. 12. Dye black with a reel-to-reel processing unit. 13. Sprocket hole punching. 14. Carbon dioxide laser drilling. As shown in FIG. As described above, the process becomes extremely simple. Next, in the processing apparatus of the second aspect, the tape (two metal layer materials) wound on the reel as shown in FIG. 10 enters the processing chamber from the unwinding machine, is treated with each processing solution, washed with water, dried and wound. It is wound on a reel by a take-up machine. The present invention has three processing chambers, a washing chamber is attached, and a jet port of the liquid is under the tape, so that the copper foil is reformed into a copper foil under conditions that can be drilled by a carbon dioxide laser. The discharged liquid hits the copper foil 2 from the jet port, and the tape is lifted by the force, and the tape is processed without being caught by the jet port. FIG. 11 shows the positions and dimensions of the tape and the jet port. This device is only applicable to light, reel-to-reel such as tape or flexible substrates. However, it is very useful for single-sided processing of tapes and flexible substrates.

【0005】[0005]

【発明の実施の形態】本発明は銅箔を3種類の液で連続
的に3種類の処理をおこなうもので第1段は銅をエッチ
ングする液、硫酸過酸化水素系、過硫酸系、硝酸系、塩
化鉄、塩銅などが使えるが、つぎの粗面化液は硫酸過酸
化水素系にインヒビターを入れたものであるから、硫酸
過酸化水素系が良い。黒染め液は次亜塩素酸などの酸化
剤で銅に黒色酸化膜をつくる。銅箔の厚さは炭酸ガスレ
ーザーのエネルギーを下げるためには薄い方が良いが、
後工程の銅めつきに必要な厚さ最低1μmは確保した方
がよい。装置の構造では水洗チャンバーはテープの上部
からもスプレーなどで洗浄する、そうして次の処理チャ
ンバーの入り口にはエァーで水切りを充分にする。また
処理チャンバーではチャンバー天井からの水滴、側面か
らの跳ね返りなどに備えてエァー水切りノズルを適当に
取り付ける。以上の装置と処理液で処理され、巻き取ら
れたテープは炭酸ガスレーザーで直接穴明けができる。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The present invention is to continuously perform three kinds of treatments on a copper foil with three kinds of liquids. System, iron chloride, copper salt, etc. can be used. However, since the next roughening solution contains an inhibitor in a sulfuric acid hydrogen peroxide system, a sulfuric acid hydrogen peroxide system is preferred. The black dye solution forms a black oxide film on copper with an oxidizing agent such as hypochlorous acid. The thickness of the copper foil should be thin to reduce the energy of the carbon dioxide laser,
It is better to secure a minimum thickness of 1 μm required for copper plating in a later step. In the structure of the apparatus, the rinsing chamber is also cleaned from the top of the tape with a spray or the like, and the entrance of the next processing chamber is sufficiently drained with an air. In the processing chamber, an air drain nozzle is appropriately mounted in preparation for water drops from the chamber ceiling, rebound from the side, and the like. The tape that has been processed and wound with the above apparatus and processing solution can be directly punched with a carbon dioxide laser.

【0006】[0006]

【発明の効果】以上に述べた様に、本発明は処理装置を
通し、スプロケットホールパンチで、炭酸ガスレーザー
ドリリングができる。従来法と比較してドライフィルム
ラミネイト、露光、の直接の材料費と露光費用の削減の
みで約50%のコストダウンになる。それに加えてスプ
ロケットホールの破損がほとんど起こらず。後の工程の
位置合わせが従来のコンフォーマルマスク法に比較して
格段に容易になる。またスプロケットホール部分の銅め
つきも銅上に付くのであるから密着も良く、剥がれ落ち
る事も無い。また銅箔2が薄いことは銅めつきの厚さを
パターンのファインの程度に合わせられる。例えばパタ
ーンのS/Lが30μm/30μmならば銅めつき厚を
15μmにする。逆に銅箔厚が12μmだとめつきで1
5μm付ければS/L、30/30μmはエチングでき
ない。もうひとつは銅箔1の厚さに合わせた銅めつき厚
にすることが出来るからパターンエッチングが非常に簡
単になる。ただし、銅めつきもこのような片面めつき装
置を使用しなければならない。TBGAの生産において
はわたし達はすでに実施している。なをスプロケットホ
ールパンチが処理装置通し後にするのはこの処理装置を
通すとき銅箔1側にシールマスクをせずにしかも銅箔2
側のみに液をあてる目的であるから、スプロケットホー
ルから液のもれ上りがおこらないためである。次に請求
項2の処理装置については特別にコストが掛かる訳では
ない。ただ噴流口についてはすこしの工夫が必要であ
る。その事によって銅箔1の面にシールするためのテー
プなりドライフイルムを張る必要がないことである。当
然コストは安くなる。
As described above, according to the present invention, carbon dioxide laser drilling can be performed with a sprocket hole punch through a processing apparatus. Compared with the conventional method, the direct material cost of dry film lamination and exposure and the cost of exposure alone are reduced by about 50%. In addition, sprocket holes are hardly damaged. Positioning in the subsequent steps is much easier than in the conventional conformal mask method. In addition, the sprocket hole is also adhered to the copper, so that the sprocket hole has good adhesion and does not come off. The thin copper foil 2 allows the thickness of the copper plating to be adjusted to the fineness of the pattern. For example, if the S / L of the pattern is 30 μm / 30 μm, the copper plating thickness is set to 15 μm. Conversely, if the copper foil thickness is 12 μm,
If 5 μm is added, S / L and 30/30 μm cannot be etched. The other is that the thickness of the copper can be adjusted according to the thickness of the copper foil 1, so that the pattern etching becomes very simple. However, for copper plating, such a single-side plating device must be used. We are already doing TBGA production. What is done after the sprocket hole punch passes through the processing device is that the copper foil 1 does not have a seal mask when passing through the processing device and the copper foil 2
This is because the purpose is to apply the liquid only to the side, so that the liquid does not leak from the sprocket hole. Next, the processing device of claim 2 does not require any special cost. However, it is necessary to devise a little bit about the spout. As a result, there is no need to provide a tape or a dry film for sealing on the surface of the copper foil 1. Naturally, the cost is lower.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】一般に用いられている2メタルレイヤー材であ
ってテープ用にスプロケットホールがパンチされたとこ
ろの断面図である。
FIG. 1 is a cross-sectional view of a commonly used two-metal layer material in which a sprocket hole has been punched for a tape.

【図2】従来法のドライフィルムがラミネイトされたと
ころの断面図である。
FIG. 2 is a cross-sectional view showing a state where a conventional dry film is laminated.

【図3】従来法で穴パターンが現像されたところの断面
図である。
FIG. 3 is a cross-sectional view showing a state where a hole pattern is developed by a conventional method.

【図4】従来法で穴パターンがエッチングされたところ
の断面図である。
FIG. 4 is a cross-sectional view showing a state where a hole pattern is etched by a conventional method.

【図5】従来法でドライフィルムが剥離されたところの
断面図である。
FIG. 5 is a cross-sectional view showing a state where a dry film is peeled off by a conventional method.

【図6】従来法(コンフォーマルマスク法)で炭酸ガス
レーザーで穴明けされたところの断面図である。
FIG. 6 is a cross-sectional view of a conventional method (conformal mask method) in which a hole is formed by a carbon dioxide laser.

【図7】本発明の処理法及び処理装置で片面銅箔のみが
第1段処理されたところの断面図である。
FIG. 7 is a cross-sectional view showing a state where only the single-sided copper foil has been subjected to the first-stage processing by the processing method and processing apparatus of the present invention.

【図8】本発明の処理法及び処理装置で第2段目の粗面
化処理されたところの断面図である。
FIG. 8 is a cross-sectional view showing a second surface roughening process performed by the processing method and the processing apparatus of the present invention.

【図9】本発明の工程でスプロケットホールパンチ後炭
酸ガスレーザーで穴明けされたところの断面図である。
FIG. 9 is a cross-sectional view of a place where a hole is punched by a carbon dioxide laser after a sprocket hole punch in the process of the present invention.

【図10】本発明のリールツーリール処理装置の側面概
略説明図である。
FIG. 10 is a schematic side view illustrating a reel-to-reel processing apparatus of the present invention.

【図11】本発明の処理装置の噴流口とテープとの関係
を示す断面図。
FIG. 11 is a cross-sectional view showing a relationship between a jet port and a tape of the processing apparatus of the present invention.

【図12】従来法で穴埋め銅めつきを予めした後層間接
続銅めつきされたところの断面図である。
FIG. 12 is a cross-sectional view showing a state in which copper for interlayer connection is copper-plated after filling copper in a conventional manner.

【図13】本発明で穴埋め銅めつきを予めした後層間接
続銅めつきされたところの断面図である。
FIG. 13 is a cross-sectional view showing a state where copper for interlayer connection is plated after filling copper for filling in the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1−銅箔 2−銅箔 3−樹脂製材 4−スプロケットホール 5−ドライフィルム 6−ブラインドホール 7−巻き出しリール 8−巻き取リール 9−処理チャンバー 10−噴流口 11−リザーブ槽 12−ポンプ 13−2メタルレイヤー材(テープ) 14−水洗チャンバー 15−乾燥器 16−穴埋め銅めつき 17−層間接続銅めつき 1-copper foil 2-copper foil 3-resin lumber 4-sprocket hole 5-dry film 6-blind hole 7-unwinding reel 8-winding reel 9-processing chamber 10-spout port 11-reservoir 12-pump 13 -2 Metal layer material (tape) 14-Washing chamber 15-Dryer 16-Filled copper filling 17-Interlayer connecting copper plating

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】ブラインドホールを炭酸ガスレーザーで直
接銅箔上から穴明け(一般にダイレクトレーザードリリ
ング法と言われている)可能な状態に銅箔を加工する方
法において、湿式法のリールツーリールで銅箔1側をシ
ールすることなくレーザー照射側銅箔2を銅箔厚をエチ
ングで薄く、表面を粗面化液で粗くし、酸化剤で黒染め
処理する3つの工程を持つ処理装置で、炭酸ガスレーザ
ー穴明け可能な銅箔、すなわち厚さ1−5μm、表面粗
さ1−3μm、レーザー光吸収が容易い色(黒)を生産
する方法。
1. A method of processing a copper foil so that a blind hole can be directly drilled from a copper foil by a carbon dioxide gas laser (generally referred to as a direct laser drilling method). A processing device having three steps of thinning the copper foil 2 on the laser irradiation side without etching the copper foil 1 side by etching the copper foil thickness, roughening the surface with a roughening solution, and blackening with an oxidizing agent, A method for producing a carbon dioxide laser-drillable copper foil, that is, a color (black) with a thickness of 1 to 5 μm, a surface roughness of 1 to 3 μm, and easy absorption of laser light.
【請求項2】上記の3つの工程を持つ処理装置であって
図10、図11の様なテープの下側(銅箔2側)にポン
プによって送り込まれた液を噴流口より当てる。噴流口
の幅W2はテープの幅W1より狭くすることによって液
はテープの上側(銅箔1側)にはまわらない、構造をも
った処理装置。
2. A processing apparatus having the above three steps, wherein a liquid fed by a pump is applied from a jet port to a lower side (copper foil 2 side) of a tape as shown in FIGS. A processing apparatus having a structure in which the liquid does not flow above the tape (the copper foil 1 side) by making the width W2 of the jet outlet smaller than the width W1 of the tape.
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