JP2002203478A - Electron source, adjustment method and manufacturing method therefor, image formation device, adjustment method therefor and storage medium - Google Patents

Electron source, adjustment method and manufacturing method therefor, image formation device, adjustment method therefor and storage medium

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JP2002203478A
JP2002203478A JP2000399326A JP2000399326A JP2002203478A JP 2002203478 A JP2002203478 A JP 2002203478A JP 2000399326 A JP2000399326 A JP 2000399326A JP 2000399326 A JP2000399326 A JP 2000399326A JP 2002203478 A JP2002203478 A JP 2002203478A
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electron
voltage
adjusting
electron source
emitting devices
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Akira Fujii
明 藤井
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  • Manufacture Of Electron Tubes, Discharge Lamp Vessels, Lead-In Wires, And The Like (AREA)
  • Cold Cathode And The Manufacture (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To prevent the electron emission amount from each electron element from easily dispersing by the influence of voltage drop in driving and to simplify the structure of a driving circuit. SOLUTION: Substantially uniform electron emission is realized in actual driving by adjusting a voltage-emission current characteristic of each electron emission element so as to eliminate the influence of voltage drop due to wiring resistance.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は電子源及びその調整
方法及び製造方法に関するものである。
[0001] 1. Field of the Invention [0002] The present invention relates to an electron source, a method for adjusting the electron source, and a method for manufacturing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】本願発明者らは、電子放出素子を用いた
電子源及びそれを用いた画像形成装置の研究を行ってお
り、既に幾つか提案している。
2. Description of the Related Art The inventors of the present application have studied an electron source using an electron-emitting device and an image forming apparatus using the same, and have already proposed some of them.

【0003】電子放出素子には、熱陰極素子と冷陰極素
子の2種類が知られている。このうち冷陰極素子では、
たとえば電界放出型素子や、金属/絶縁層/金属型放出
素子や、表面伝導型放出素子などが知られている。
[0003] Two types of electron-emitting devices are known, a hot cathode device and a cold cathode device. Of these, for cold cathode devices,
For example, field emission devices, metal / insulating layer / metal emission devices, surface conduction emission devices, and the like are known.

【0004】冷陰極素子のうち表面伝導型放出素子(以
下、単に素子とも呼ぶこともある)は、基板上に形成さ
れた小面積のSnO2、Au、In2O3/SnO2、カー
ボン等の薄膜に、膜面に平行に電流を流すことにより電
子放出が生ずる現象を利用するものである。図1にその
典型的な素子構成の例を示す。同図において、3001
は基板で、3004はスパッタで形成された金属酸化物
よりなる導電性薄膜である。導電性薄膜3004は図示
のようにH字形の平面形状に形成されている。該導電性
薄膜3004に通電フォーミングと呼ばれる通電処理を
施すことにより、電子放出部3005、すなわち、表面
伝導型放出素子が形成される。図中の間隔Lは、0.5
〜1[mm],幅Wは0.1[mm]で設定されてい
る。尚、図示の便宜から、電子放出部3005は導電性
薄膜3004の中央に矩形の形状で示したが、これは模
式的なものであり、実際の電子放出部の位置や形状を忠
実に表現しているわけではない。
[0004] Among the cold cathode devices, a surface conduction electron-emitting device (hereinafter sometimes simply referred to as a device) is a thin film of SnO2, Au, In2O3 / SnO2, carbon or the like formed on a substrate. This utilizes a phenomenon in which electron emission occurs when a current is passed in parallel to a plane. FIG. 1 shows an example of a typical element configuration. In the figure, 3001
, A substrate; and 3004, a conductive thin film made of metal oxide formed by sputtering. The conductive thin film 3004 is formed in an H-shaped planar shape as shown. By subjecting the conductive thin film 3004 to an energization process called energization forming, an electron emission portion 3005, that is, a surface conduction type emission element is formed. The interval L in the figure is 0.5
11 [mm] and the width W are set at 0.1 [mm]. In addition, for convenience of illustration, the electron emitting portion 3005 is shown in a rectangular shape at the center of the conductive thin film 3004, but this is a schematic one, and the position and shape of the actual electron emitting portion are faithfully represented. Not necessarily.

【0005】図2に、表面伝導型放出素子の(放出電流
Ie)対(素子印加電圧Vf)特性、および(素子電流
If)対(素子印加電圧Vf)特性の典型的な例を示
す。なお、放出電流Ieは素子電流Ifに比べて著しく
小さく、同一尺度で図示するのが困難であるうえ、これ
らの特性は素子の大きさや形状等の設計パラメータを変
更することにより変化するものであるため、2本のグラ
フは各々任意単位で図示した。
FIG. 2 shows typical examples of (emission current Ie) versus (device applied voltage Vf) characteristics and (device current If) versus (device applied voltage Vf) characteristics of a surface conduction electron-emitting device. Note that the emission current Ie is significantly smaller than the element current If, and it is difficult to show them on the same scale. In addition, these characteristics are changed by changing design parameters such as the size and shape of the element. Therefore, each of the two graphs is shown in arbitrary units.

【0006】表面伝導型放出素子は、放出電流Ieに関
して以下に述べる3つの特性を有している。 1.ある電圧(これを閾値電圧Vthと呼ぶ)以上の大
きさの電圧を素子に印加すると急激に放出電流Ieが増
加するが、一方、閾値電圧Vth未満の電圧では放出電
流Ieはほとんど検出されない。すなわち、放出電流I
eに関して、明確な閾値電圧Vthを持った非線形素子
である。 2.放出電流Ieは素子に印加する電圧Vfに依存して
変化するため、電圧Vfで放出電流Ieの大きさを制御
できる。 3.素子に印加する電圧Vfに対して素子から放出され
る電流Ieの応答速度が速いため、電圧Vfを印加する
時間の長さによって素子から放出される電子の電荷量を
制御できる。
The surface conduction electron-emitting device has the following three characteristics regarding the emission current Ie. 1. When a voltage higher than a certain voltage (referred to as a threshold voltage Vth) or higher is applied to the element, the emission current Ie sharply increases. On the other hand, at a voltage lower than the threshold voltage Vth, the emission current Ie is hardly detected. That is, the emission current I
e is a non-linear element having a clear threshold voltage Vth. 2. Since the emission current Ie changes depending on the voltage Vf applied to the element, the magnitude of the emission current Ie can be controlled by the voltage Vf. 3. Since the response speed of the current Ie emitted from the element with respect to the voltage Vf applied to the element is high, the amount of charge of the electrons emitted from the element can be controlled by the length of time during which the voltage Vf is applied.

【0007】ところで表面伝導型放出素子は、構造が単
純で製造も容易であることから、大面積にわたり多数の
素子を形成できる利点がある。そこで、表面伝導型放出
素子を応用した、画像表示装置、画像記録装置などの画
像形成装置や、電子ビーム源、等が研究されている。
The surface conduction electron-emitting device has an advantage that a large number of devices can be formed over a large area because the structure is simple and the production is easy. Therefore, an image forming apparatus such as an image display device and an image recording device, an electron beam source, and the like, to which the surface conduction electron-emitting device is applied, have been studied.

【0008】発明者らは、さまざまな材料、製法、構造
の表面伝導型放出素子を試みてきた。さらに、多数の表
面伝導型放出素子を配列したマルチ電子ビーム源(単に
電子源とも呼ぶ)、ならびにこの電子源を応用した画像
表示装置について研究を行ってきた。
[0008] The inventors have tried surface conduction type emission devices of various materials, manufacturing methods and structures. Further, research has been conducted on a multi-electron beam source (also simply referred to as an electron source) in which a large number of surface conduction electron-emitting devices are arranged, and on an image display device using the electron source.

【0009】たとえば、図3に示す電気的な配線方法に
よる電子源を試みてきた。図中、4001は表面伝導型
放出素子を模式的に示したもの、4002は行方向配
線、4003は列方向配線である。図においては配線抵
抗4004および4005として示した。上述のような
配線方法を、単純マトリクス配線と呼ぶ。なお、図示の
便宜上、6×6のマトリクスで示しているが、マトリク
スの規模はむろんこれに限ったわけではない。
For example, an electron source based on the electrical wiring method shown in FIG. 3 has been tried. In the figure, 4001 schematically shows a surface conduction electron-emitting device, 4002 shows a row direction wiring, and 4003 shows a column direction wiring. In the figure, they are shown as wiring resistances 4004 and 4005. The above-described wiring method is called simple matrix wiring. For convenience of illustration, the matrix is shown as a 6 × 6 matrix, but the size of the matrix is not limited to this.

【0010】素子を単純マトリクス配線した電子源にお
いては、所望の放出電流を出力させるため、行方向配線
4002および列方向配線4003に適宜の電気信号を
印加する。また、同時に不図示のアノード電極に高電圧
を印加しておく。
In an electron source in which elements are arranged in a simple matrix, an appropriate electric signal is applied to the row wiring 4002 and the column wiring 4003 in order to output a desired emission current. At the same time, a high voltage is applied to an anode electrode (not shown).

【0011】たとえば、マトリクスの中の任意の素子を
駆動するには、選択する行の行方向配線4002の端子
には選択電圧Vsを印加し、同時に非選択の行の行方向
配線4002の端子には非選択電圧Vnsを印加する。
これと同期して列方向配線4003の端子に放出電流を
出力させるための変調電圧Ve1〜Ve6を印加する。
この方法によれば、選択する素子には、Ve1−Vs〜
Ve6−Vsの電圧が印加され、また非選択の素子には
Ve1−Vns〜Ve6−Vnsの電圧が印加される。
ここで、選択する素子に閾値電圧Vth以上の電圧、非
選択の素子に閾値電圧Vth以下の電圧が印加されるよ
う、Ve1〜Ve6,Vs,Vnsを適宜の大きさの電
圧にすれば選択する素子だけから所望の強度の放出電流
が出力される。
For example, in order to drive an arbitrary element in the matrix, a selection voltage Vs is applied to the terminal of the row direction wiring 4002 of the selected row, and at the same time, to the terminal of the row direction wiring 4002 of the non-selected row. Applies a non-selection voltage Vns.
In synchronization with this, modulation voltages Ve1 to Ve6 for outputting an emission current to terminals of the column direction wiring 4003 are applied.
According to this method, the elements to be selected include Ve1-Vs-
A voltage of Ve6-Vs is applied, and voltages of Ve1-Vns to Ve6-Vns are applied to unselected elements.
Here, Ve1 to Ve6, Vs, and Vns are selected by appropriately setting voltages so that a voltage equal to or higher than the threshold voltage Vth is applied to a selected element and a voltage equal to or lower than the threshold voltage Vth is applied to an unselected element. An emission current of a desired intensity is output only from the element.

【0012】[0012]

【発明が解決しようとする課題】図3を上記のような方
法で駆動した際には、実際には行方向配線4002上に
図4に示すような電圧降下が生じる。図4は、行方向配
線4002上で生じる電圧降下を模式的に示したグラフ
である。グラフのx軸は列方向側素子番号、y軸は電圧
降下の量である。なおy軸の電圧降下量については駆動
電圧、作成する素子の素子特性、電子源の配線の電気抵
抗値により変化するため任意単位で示した。
When FIG. 3 is driven by the above method, a voltage drop actually occurs on the row wiring 4002 as shown in FIG. FIG. 4 is a graph schematically showing a voltage drop generated on the row wiring 4002. The x-axis of the graph is the column direction element number, and the y-axis is the amount of voltage drop. The amount of voltage drop on the y-axis is shown in arbitrary units because it varies depending on the drive voltage, the element characteristics of the element to be formed, and the electric resistance of the wiring of the electron source.

【0013】図4を見ると、列方向側素子番号大きいほ
ど、つまり行方向配線4002の端子から遠い素子端ほ
ど電圧降下の量が大きくなっていくことが分かる。この
行方向配線上の電圧降下の大きさの違いにより、各素子
4001からの電子放出量にばらつきが生じてしまう問
題があった。特に電子源を画像表示装置に応用した場
合、表示画像に輝度ばらつきが生じる可能性があった。
Referring to FIG. 4, it can be seen that the larger the element number in the column direction, that is, the farther from the terminal of the row wiring 4002 the element end, the larger the amount of voltage drop. There is a problem that the amount of electron emission from each element 4001 varies due to the difference in the magnitude of the voltage drop on the row direction wiring. In particular, when the electron source is applied to an image display device, there is a possibility that brightness variations may occur in a displayed image.

【0014】本発明は、上記の問題に鑑みてなされたも
ので、駆動時の電圧降下の影響により各電子素子からの
電子放出量にばらつきが生じにくくすると共に、駆動回
路の構成を簡略化させるることを可能にする電子源の調
整方法及びその製造方法、画像形成装置及びその調整方
法と製造方法、並びに、電子源の調整装置及び方法及び
記憶媒体を提供しようするものである。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above problems, and makes it difficult for the amount of electrons emitted from each electronic element to vary due to the effect of a voltage drop during driving, and to simplify the configuration of a driving circuit. It is an object of the present invention to provide an electron source adjusting method and a manufacturing method thereof, an image forming apparatus, an adjusting method and a manufacturing method thereof, and an electron source adjusting apparatus and method, and a storage medium which enable the adjustment.

【0015】[0015]

【課題を解決するための手段】この課題を解決するた
め、例えば本発明の電子源の調整方法は以下の構成を備
える。すなわち、複数の電子放出素子を配線により接続
した電子源の調整方法であって、前記複数の電子放出素
子のうちの少なくとも一部の電子放出素子の特性を調整
する工程を有しており、該特性の調整は、この電子源を
実際に駆動する際に生じる各電子放出素子の駆動条件の
差異による各電子放出素子からの放出電流の差異を抑制
するように前記複数の電子放出素子の特性を異ならせ
る。
In order to solve this problem, for example, a method for adjusting an electron source according to the present invention has the following arrangement. That is, a method for adjusting an electron source in which a plurality of electron-emitting devices are connected by wiring, comprising a step of adjusting characteristics of at least a part of the electron-emitting devices among the plurality of electron-emitting devices. The characteristics are adjusted by adjusting the characteristics of the plurality of electron-emitting devices so as to suppress a difference in emission current from each electron-emitting device due to a difference in driving conditions of each electron-emitting device that occurs when the electron source is actually driven. Make it different.

【0016】また、本発明の好適な実施態様に従えば、
複数の表面伝導型放出素子を配線により電気的に接続し
基板上に並べた電子源の特性調整方法であって、 1)電子源の駆動時に前記配線で生じる電圧降下をもと
に、前記複数個の表面伝導型放出素子に対し特性調整量
の目標値を定める工程と、 2)前記複数個の表面伝導型放出素子の特性を、特性シ
フト電圧の印加により目標値に応じてシフトさせるシフ
ト工程を備える。
According to a preferred embodiment of the present invention,
A method for adjusting the characteristics of an electron source in which a plurality of surface conduction electron-emitting devices are electrically connected by wiring and arranged on a substrate, wherein: 1) the plurality of surface conduction electron-emitting devices are arranged based on a voltage drop generated in the wiring when the electron source is driven. Setting a target value of the characteristic adjustment amount for each of the surface conduction electron-emitting devices; and 2) shifting the characteristics of the plurality of surface conduction electron-emitting devices according to the target value by applying a characteristic shift voltage. Is provided.

【0017】[0017]

【発明の実施の形態】以下、添付図面に従って本発明に
かかる実施形態を詳細に説明する。
Embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to the accompanying drawings.

【0018】[第1の実施形態]実施形態における電子
源をマルチ電子ビーム源とし、画像表示装置に適用した
例について説明する。
[First Embodiment] An example in which the electron source in the embodiment is a multi-electron beam source and applied to an image display device will be described.

【0019】まず、本実施形態を適用した画像表示装置
の表示パネルの構成と製造法について説明する。
First, the configuration and manufacturing method of a display panel of an image display device to which the present embodiment is applied will be described.

【0020】<表示パネルの構成と製造法>図5は、実
施形態における画像表示装置の表示パネルの斜視図であ
り、内部構造を示すためにパネルの1部を切り欠いて示
している。
<Structure of Display Panel and Manufacturing Method> FIG. 5 is a perspective view of the display panel of the image display device according to the embodiment, in which a part of the panel is cut away to show the internal structure.

【0021】図中、1005はリアプレート、1006
は側壁、1007はフェースプレートであり、1005
〜1007により表示パネルの内部を真空に維持するた
めの気密容器を形成している。気密容器を組み立てるに
あたっては、各部材の接合部に十分な強度と気密性を保
持させるため封着する必要があるが、たとえばフリット
ガラスを接合部に塗布し、大気中あるいは窒素雰囲気中
で、摂氏400〜500度で10分以上焼成することに
より封着を達成した。
In the figure, 1005 is a rear plate, 1006
Is a side wall, 1007 is a face plate, 1005
1007 form an airtight container for maintaining the inside of the display panel at a vacuum. When assembling an airtight container, it is necessary to seal the joints of each member to maintain sufficient strength and airtightness.For example, apply frit glass to the joints, and in air or nitrogen atmosphere, Sealing was achieved by baking at 400 to 500 degrees for 10 minutes or more.

【0022】リアプレート1005には、基板1001
が固定されているが、該基板上には表面伝導型放出素子
1002がn×m個形成されている。n,mは目的とす
る表示画素数に応じて適宜設定される。本実施形態にお
いては、n=3000,m=1024とした。1001
〜1004によって構成される部分をマルチ電子ビーム
源と呼ぶ。
The rear plate 1005 has a substrate 1001
Are fixed, but n × m surface conduction electron-emitting devices 1002 are formed on the substrate. n and m are appropriately set according to the target number of display pixels. In the present embodiment, n = 3000 and m = 1024. 1001
The portion constituted by the elements 1004 to 1004 is called a multi-electron beam source.

【0023】図6に示すのは、マルチ電子ビーム源の平
面図である。基板上には、表面伝導型放出素子1002
が配列され、これらの素子は行方向配線電極1003と
列方向配線電極1004により単純マトリクス状に配線
されている。行方向配線電極1003と列方向配線電極
1004の交差する部分には、電極間に絶縁層(不図
示)が形成されており、電気的な絶縁が保たれている。
FIG. 6 is a plan view of a multi-electron beam source. The surface conduction type emission device 1002 is provided on the substrate.
These elements are wired in a simple matrix by row-direction wiring electrodes 1003 and column-direction wiring electrodes 1004. An insulating layer (not shown) is formed between the row-directional wiring electrodes 1003 and the column-directional wiring electrodes 1004 where they intersect, so that electrical insulation is maintained.

【0024】なお、このような構造のマルチ電子源は、
あらかじめ基板上に行方向配線電極1003、列方向配
線電極1004、電極間絶縁層、および素子電極と導電
性薄膜を形成した後、行方向配線電極1003および列
方向配線電極1004を介して各素子に給電して通電フ
ォーミング処理と通電活性化処理を行うことにより、導
電性薄膜部分に電子放出部を形成した。
The multi-electron source having such a structure is as follows.
After a row-direction wiring electrode 1003, a column-direction wiring electrode 1004, an interelectrode insulating layer, an element electrode and a conductive thin film are formed on a substrate in advance, each element is connected to the element via the row-direction wiring electrode 1003 and the column-direction wiring electrode 1004. An electron emission portion was formed in the conductive thin film portion by supplying current and performing a current forming process and a current activation process.

【0025】フェースプレート1007の下面には、蛍
光膜1008が形成されている。本実施形態ではカラー
表示装置であるため、蛍光膜1008の部分にはCRT
の分野で用いられる赤、緑、青、の3原色の蛍光体が塗
り分けている。各色の蛍光体は、図7に示すようにスト
ライプ状に塗り分けられ、蛍光体のストライプの間には
黒色の導電体1010が設けてある。黒色の導電体10
10を設ける目的は、電子ビームの照射位置に多少のず
れがあっても表示色にずれが生じないようにする事や、
外光の反射を防止して表示コントラストの低下を防ぐ
事、電子ビームによる蛍光膜のチャージアップを防止す
る事などである。黒色の導電体1010には、黒鉛を主
成分として用いたが、上記の目的に適するものであれば
これ以外の材料を用いても良い。また、3原色の蛍光体
の塗り分け方は図7に示したストライプ状の配列に限ら
れるものではなく、デルタ状配列やそれ以外の配列であ
ってもよい。
On the lower surface of the face plate 1007, a fluorescent film 1008 is formed. Since the present embodiment is a color display device, a CRT is
The phosphors of three primary colors of red, green, and blue used in the field are separately applied. Phosphors of each color are separately applied in stripes as shown in FIG. 7, and black conductors 1010 are provided between the stripes of the phosphors. Black conductor 10
The purpose of providing 10 is to prevent the display color from being shifted even if the electron beam irradiation position is slightly shifted,
The purpose is to prevent reflection of external light to prevent a decrease in display contrast, and to prevent charge-up of a fluorescent film by an electron beam. Although graphite is used as a main component for the black conductor 1010, any other material may be used as long as it is suitable for the above purpose. The method of applying the three primary color phosphors is not limited to the stripe-shaped arrangement shown in FIG. 7, but may be a delta arrangement or another arrangement.

【0026】蛍光膜1008のリアプレート側の面に
は、CRTの分野では公知のメタルバック1009を設
けてある。メタルバック1009を設けた目的は、蛍光
膜1008が発する光の一部を鏡面反射して光利用率を
向上させる、負イオンの衝突から蛍光膜1008を保護
する、電子ビーム加速電圧を印加するための電極として
作用させる、更には、蛍光膜1008を励起した電子の
導電路として作用させるためである。メタルバック10
09は、蛍光膜1008をフェースプレート基板100
7上に形成した後、蛍光膜表面を平滑化処理し、その上
にAlを真空蒸著する方法により形成した。
On the surface on the rear plate side of the fluorescent film 1008, a metal back 1009 known in the field of CRT is provided. The purpose of providing the metal back 1009 is to improve the light utilization rate by mirror-reflecting a part of light emitted from the fluorescent film 1008, to protect the fluorescent film 1008 from negative ion collision, and to apply an electron beam acceleration voltage. The purpose of this is to make the phosphor film 1008 act as a conductive path for the excited electrons. Metal back 10
09 is to attach the fluorescent film 1008 to the face plate substrate 100.
7, the surface of the fluorescent film was smoothed, and Al was formed thereon by vacuum evaporation.

【0027】図5におけるDx1〜DxmおよびDy1
〜DynおよびHvは、当該表示パネルと不図示の電気
回路とを電気的に接続するために設けた気密構造の電気
接続用端子である。Dx1〜Dxmは電子源の行方向配
線1003と、Dy1〜Dynは電子源の列方向配線1
004と、Hvはフェースプレートのメタルバック10
09と電気的に接続している。
Dx1 to Dxm and Dy1 in FIG.
Dyn and Hv are electric connection terminals of an airtight structure provided for electrically connecting the display panel to an electric circuit (not shown). Dx1 to Dxm are the row direction wirings 1003 of the electron source, and Dy1 to Dyn are the column direction wirings 1 of the electron source.
004 and Hv are the metal back 10 of the face plate.
09 is electrically connected.

【0028】気密容器内部を真空に排気するには、気密
容器を組み立てた後、不図示の排気管と真空ポンプとを
接続し、気密容器内を1e−6[Pa]程度の真空度ま
で排気する。その後、排気管を封止するが、気密容器内
の真空度を維持するために、封止の直前あるいは封止後
に気密容器内の所定の位置にゲッター膜(不図示)を形
成する。ゲッター膜とは、たとえばBaを主成分とする
ゲッター材料をヒーターもしくは高周波加熱により加熱
し蒸着して形成した膜であり、該ゲッター膜の吸着作用
により気密容器内は1e−6[Pa]程度の真空度に維
持される。
In order to evacuate the inside of the hermetic container, after assembling the hermetic container, an exhaust pipe (not shown) and a vacuum pump are connected, and the inside of the hermetic container is evacuated to a degree of vacuum of about 1e-6 [Pa]. I do. Thereafter, the exhaust pipe is sealed, but a getter film (not shown) is formed at a predetermined position in the airtight container immediately before or after the sealing in order to maintain the degree of vacuum in the airtight container. The getter film is, for example, a film formed by heating and depositing a getter material containing Ba as a main component by a heater or high-frequency heating, and the inside of the hermetic container is about 1e-6 [Pa] due to the adsorbing action of the getter film. The degree of vacuum is maintained.

【0029】以上のようにして画像表示装置を製造する
ことになるが、次に、実施形態における電子放出特性調
整方法を適用した例を以下に説明する。
The image display device is manufactured as described above. Next, an example in which the electron emission characteristic adjusting method according to the embodiment is applied will be described below.

【0030】本願出願人は、既に、表面伝導型放出素子
に関する技術を提案している。これらの中で、表面伝導
型電子放出素子のメモリ効果を利用した提案がある。放
出素子のメモリ効果とは、過去に経験しなかった電圧が
印加されると、図2における閾値Vthが高い方向にシフ
トし、結果的に、図2の放出電流の曲線が駆動電圧の高
い方向にシフトする、というものである。本実施形態で
は、かかる性質を利用する。
The applicant of the present application has already proposed a technique relating to a surface conduction electron-emitting device. Among these, there are proposals utilizing the memory effect of the surface conduction electron-emitting device. The memory effect of the emission element means that when a voltage that has not been experienced in the past is applied, the threshold value Vth in FIG. 2 shifts to a higher direction, and as a result, the emission current curve in FIG. It shifts to. In the present embodiment, such a property is used.

【0031】実施形態における特性調整を簡単に説明す
ると、駆動時の電圧降下が相対的に小さい素子の特性
を、駆動電圧における放出電子量が相対的に少なくなる
方向にシフトさせるものである。これを行中の各放出素
子に適用して、調整を全素子に対して行えば、電圧降下
の相対的に大きい素子では駆動電圧での放出電子を相対
的に多く、電圧降下の相対的に小さい素子では駆動電圧
での放出電子を相対的に少なくする方向に調整できる。
すなわち電圧降下の大きさに応じて特性のシフト量を適
切に加減することで、電圧降下により駆動電圧にばらつ
きが生じても各素子からの放出電流の大きさが概一定に
なるよう調整する。
To briefly explain the characteristic adjustment in the embodiment, the characteristic of an element having a relatively small voltage drop during driving is shifted in a direction in which the amount of emitted electrons at the driving voltage becomes relatively small. If this is applied to each emission element in the row and adjustment is performed for all elements, an element having a relatively large voltage drop emits more electrons at the drive voltage and a relatively large voltage drop. In the case of a small device, adjustment can be made in such a direction that emission electrons at a drive voltage are relatively reduced.
That is, by appropriately adjusting the shift amount of the characteristic according to the magnitude of the voltage drop, the magnitude of the emission current from each element is adjusted to be substantially constant even if the drive voltage varies due to the voltage drop.

【0032】以下、具体的にその方法について図8のフ
ローチャートを用いて説明する。
Hereinafter, the method will be specifically described with reference to the flowchart of FIG.

【0033】まず図8のステップS1で、画像表示装置
の駆動時に行方向配線で生じる電圧降下を計算する。行
方向配線上のy番の素子(電気接続用端子に近い素子が
1番目となる)で発生する電圧降下をVdrop(y)とす
ると、次式によってその近似値を算出することができ
る。
First, in step S1 of FIG. 8, a voltage drop generated in the row wiring when the image display device is driven is calculated. Assuming that Vdrop (y) is the voltage drop generated at the y-th element on the row direction wiring (the element closest to the electric connection terminal is the first element), an approximate value can be calculated by the following equation.

【0034】 Vdrop(y)≒Σ{Rx×i×If(Vdrv)×(n−i)}…(式1) ここで、Σはi=1 to i=yについての積和であ
り、各記号は; Rx:行方向配線の素子間1区画の抵抗値 If(V):電圧Vにおける素子電流 Vdrv:画像表示の際の駆動電圧 n:列方向側の素子数、である。
Vdrop (y) {Rx × i × If (Vdrv) × (ni)} (Expression 1) Here, Σ is the sum of products for i = 1 to i = y. Symbols are: Rx: resistance value of one section between elements of row direction wiring If (V): element current at voltage V Vdrv: drive voltage for image display n: number of elements in column direction side

【0035】ところで画像表示装置が表示する内容や、
駆動方式(パルス幅変調、パルス高変調等)により、各
素子に対する駆動電圧Vdrvが変化する場合がある。こ
のような場合、各素子の駆動電圧の平均値等を計算に用
いてもよい。また、式1でいったん計算したVdrop
(y)より実効駆動電圧Vdrv−Vdrop(y)を算出
し、その値を式1に代入してVdrop(y)を再計算する
ことを繰り返しを行うことでVdrop(y)の精度を高め
ることも可能である。実際、計算の繰り返し(収束計
算)無しでも十分な精度を得ることができた。
The contents displayed by the image display device,
The driving voltage Vdrv for each element may change depending on the driving method (pulse width modulation, pulse height modulation, etc.). In such a case, the average value of the drive voltage of each element may be used for the calculation. In addition, Vdrop once calculated by Equation 1
(Y) calculating the effective drive voltage Vdrv-Vdrop (y), substituting the value into Equation 1, and recalculating Vdrop (y), thereby improving the accuracy of Vdrop (y). Is also possible. In fact, sufficient accuracy could be obtained without repeating the calculation (convergence calculation).

【0036】なお、Rx、If(V)についてはあらか
じめデータを実測し、取得しておく必要がある。
It is necessary to measure and obtain data of Rx and If (V) in advance.

【0037】次にステップS2で、先に計算した電圧降
下をVdrop(y)をもとに、各素子で特性をシフトする
量(シフト後を目標値とも呼ぶ)を設定する。本実施形
態では設定した目標値に応じて特性をシフトすることに
より実効駆動電圧(Vdrv−Vdrop(y))における各
素子からの放出電流が値Iedestに揃うようにする。な
お本実施形態では、Iedestの値として、行方向配線の
端子から一番遠く電圧降下最大の素子Dnが、実効駆動
電圧(Vdrv−Vdrop(n))において放出する電流値
を用いた。本実施形態では特性シフトを電子が出にくい
方向に行うため、Iedestの値として電子源中放出電流
が最小となる素子Dnの値を用いている。すなわち、一
番小さな素子の放出電流に合わせた(一番小さな素子は
調整しない)。これにより、輝度の低下を抑制させなが
ら、概略均一な輝度を得ることができる。
Next, in step S2, an amount by which the characteristic is shifted by each element (the shifted value is also referred to as a target value) is set based on the previously calculated voltage drop based on Vdrop (y). In the present embodiment, the emission current from each element at the effective drive voltage (Vdrv-Vdrop (y)) is adjusted to the value Iedest by shifting the characteristics according to the set target value. In the present embodiment, the current value emitted from the element Dn farthest from the terminal of the row-direction wiring and having the largest voltage drop at the effective drive voltage (Vdrv-Vdrop (n)) is used as the value of Iedest. In the present embodiment, in order to shift the characteristic in a direction in which electrons are hardly emitted, the value of the element Dn that minimizes the emission current in the electron source is used as the value of Iedest. That is, the emission current of the smallest element was adjusted (the smallest element was not adjusted). This makes it possible to obtain substantially uniform luminance while suppressing a decrease in luminance.

【0038】目標値の設定方法を図9を用いて説明す
る。図9は、ある行方向配線上y番目の素子Dyの素子
特性をグラフ化したものである。Iedrv(y)は素子
Dyが実効駆動電圧(Vdrv−Vdrop(y))において
放出する電流である。素子Dyの目標値Ieshift
(y)は、Iedrvb(y)から値Iedestを減じた値
として設定する。このような目標値を設定し、その値に
したがって素子Dyの素子特性を図9に示すようにIe
(v)からIe’(v)にシフトさせれば、実効駆動電
圧における放出電流をIedestにすることができる。
A method for setting the target value will be described with reference to FIG. FIG. 9 is a graph of the element characteristics of the y-th element Dy on a certain row direction wiring. Iedrv (y) is the current emitted by the element Dy at the effective drive voltage (Vdrv-Vdrop (y)). Target value Ieshift of element Dy
(Y) is set as a value obtained by subtracting the value Iedest from Iedrvb (y). Such a target value is set, and the element characteristic of the element Dy is changed according to the target value as shown in FIG.
By shifting from (v) to Ie ′ (v), the emission current at the effective drive voltage can be set to Iedest.

【0039】ところで、Iedrv(y)は実効駆動電圧
に対し単調増加するので、電圧降下Vdrop(y)がより
小さい、つまり実効駆動電圧がより大な素子において目
標値はより大きく設定される。以上まとめると、目標値
Ieshift(y)は次式で表現できる。
Since Iedrv (y) monotonically increases with respect to the effective drive voltage, the target value is set to be larger in an element having a smaller voltage drop Vdrop (y), that is, an element having a larger effective drive voltage. In summary, the target value Ieshift (y) can be expressed by the following equation.

【0040】 Ieshift(y)=Ie(Vdrv−Vdrop(y)) −Ie(Vdrv−Vdrop(n)) (式2) ステップS3では、ステップS2で設定した目標値Ie
shift(y)(y=1〜y=n)にしたがって、素子特
性調整を行う。
Ieshift (y) = Ie (Vdrv−Vdrop (y)) − Ie (Vdrv−Vdrop (n)) (Equation 2) In step S3, the target value Ie set in step S2.
The element characteristics are adjusted according to shift (y) (y = 1 to y = n).

【0041】発明者らは、特性シフト電圧がより大きい
ほど特性シフト量が大きくなる相関関係を見出してい
る。図10は特性シフト電圧Vshiftの大きさと放出電
流のシフト量Shift(Vshift)の相関を模式的に
示したグラフである。グラフのX軸は素子に印加するシ
フト電圧の電圧値で、Y軸は放出電流のシフト量を示し
ている。なお、シフト電圧の電圧値および放出電流のシ
フト量は素子の材料や形状等を変更した場合その量が大
きく変化するため任意単位で示した。グラフを見ると電
圧Vsthから特性のシフトが起こり始め、電圧値に対し
単調増加してシフト量が大きくなっていくことが分か
る。
The inventors have found a correlation in which the characteristic shift amount increases as the characteristic shift voltage increases. FIG. 10 is a graph schematically showing the correlation between the magnitude of the characteristic shift voltage Vshift and the shift amount Shift (Vshift) of the emission current. The X-axis of the graph indicates the voltage value of the shift voltage applied to the element, and the Y-axis indicates the shift amount of the emission current. Note that the shift value of the shift voltage and the voltage value of the shift voltage are shown in arbitrary units because when the material or shape of the element is changed, the shift greatly changes. From the graph, it can be seen that the characteristic shift starts to occur from the voltage Vsth, and monotonically increases with the voltage value, and the shift amount increases.

【0042】よって、目標値Ieshift(y)から特性
のシフトに必要なシフト電圧値Vshift(y)を図10
の相関を参照することで決定し、素子Dyに印加するこ
とで目標値Ieshift(y)だけ特性をシフトすること
ができる。なお、シフト電圧Vshiftとシフト量Shi
ft(Vshift)の相関(曲線)については、シフト電
圧をさまざまに変えシフト量を計測する実験を繰り返し
行いデータテーブルとしてあらかじめ取得しておく必要
がある。
Therefore, the shift voltage value Vshift (y) necessary for shifting the characteristic from the target value Ieshift (y) is shown in FIG.
The characteristic can be shifted by the target value Ieshift (y) by applying the value to the element Dy. Note that the shift voltage Vshift and the shift amount Shi are
Regarding the correlation (curve) of ft (Vshift), it is necessary to acquire an advance as a data table by repeating an experiment in which the shift voltage is variously changed and the shift amount is measured.

【0043】以上説明した目標値Ieshift(y)に応
じてシフト電圧値Vshift(y)の値を決定し素子Dy
にシフト電圧を印加する工程を画像表示装置の全素子に
行うことで、画像表示装置を駆動した際に電圧降下が生
じても、各素子から概均一な放出電流Iedestを得るこ
とができる。
The value of the shift voltage value Vshift (y) is determined according to the target value Ieshift (y) described above, and the element Dy is determined.
By applying the step of applying the shift voltage to all the elements of the image display device, even if a voltage drop occurs when the image display device is driven, a substantially uniform emission current Iedest can be obtained from each element.

【0044】なお、素子特性が表示駆動中に変化するこ
とがないよう、駆動電圧Vdrvとシフト電圧は以下のよ
うな関係にしている。
The driving voltage Vdrv and the shift voltage have the following relationship so that the element characteristics do not change during display driving.

【0045】 Vdrv <= Vsth < Vshift(y) (式3) 次に、本実施形態の特性調整で用いた装置と、その装置
を用いた特性調整の方法について図11を用いて説明す
る。図11で406は制御装置である。本実施形態では
制御装置406としてパーソナルコンピュータ(PC)
を用いている。特性シフト電圧の印加時の各種機器の制
御および全体のシーケンスの制御はPC上で動作するソ
フトウェアにより行っている。制御装置406内部の構
成を簡単に説明しておく。406−1はCPUであり、
オペレーティングシステム(OS)やその他ソフトウェ
アの実行や制御装置406全般の制御を行う。406−
2はパラレルI/O等のインターフェイスでCPU40
6−1と各装置との通信に用いた。406−3はRAM
(ランダムアクセスメモリー)等のメモリーであり、C
PU406−1からの命令に応じて、データをCPU4
06−1に送受信することができる。
Vdrv <= Vsth <Vshift (y) (Equation 3) Next, an apparatus used in the characteristic adjustment of this embodiment and a method of adjusting the characteristic using the apparatus will be described with reference to FIG. In FIG. 11, reference numeral 406 denotes a control device. In this embodiment, a personal computer (PC) is used as the control device 406.
Is used. The control of various devices and the control of the entire sequence when the characteristic shift voltage is applied are performed by software running on a PC. The configuration inside the control device 406 will be briefly described. 406-1 is a CPU,
It executes an operating system (OS) and other software and controls the entire control device 406. 406-
Reference numeral 2 denotes an interface such as a parallel I / O and the like.
6-1 was used for communication between each device. 406-3 is RAM
(Random access memory), etc.
In response to an instruction from PU 406-1, data is transferred to CPU 4
06-1.

【0046】401は画像表示装置である。配線切り替
器402,403は画像表示装置401の取り出し端子
と、波形発生器404,405とを接続するか、グラン
ドと接続するかを任意に切り替えることができる。配線
切り替器402,403はリレー等のスイッチ素子から
構成しており、制御装置406からの信号によりスイッ
チ動作を行うことができる。波形発生器404,405
はメモリーとDAコンバータ等から構成しており、制御
装置406のメモリー406−3から転送した任意波形
のパターンを所望のタイミングで出力する事ができる。
407は電流計である。電流計407は画像表示装置の
高圧取り出し端子Hvと直流高圧408との間に直列に
挿入した。電流計407のデータはデジタル値に変換
(A/D変換)され制御装置406に転送される。
Reference numeral 401 denotes an image display device. The wiring switches 402 and 403 can arbitrarily switch between connecting the extraction terminal of the image display device 401 and the waveform generators 404 and 405 or connecting to the ground. The wiring changers 402 and 403 are configured by switch elements such as relays, and can perform a switching operation by a signal from the control device 406. Waveform generators 404, 405
Is composed of a memory, a DA converter, and the like, and can output an arbitrary waveform pattern transferred from the memory 406-3 of the control device 406 at a desired timing.
407 is an ammeter. The ammeter 407 was inserted in series between the high voltage output terminal Hv of the image display device and the DC high voltage 408. The data of the ammeter 407 is converted into a digital value (A / D conversion) and transferred to the control device 406.

【0047】さて、図11の装置を用いた特性調整の具
体的な手順について説明する。まず、制御装置406で
式1をもとに行方向配線上の各素子の素子端での電圧降
下Vdrop(y)を計算する。本実施形態では式1の各パ
ラメータに以下のような値を用いた。
Now, a specific procedure of characteristic adjustment using the apparatus shown in FIG. 11 will be described. First, the controller 406 calculates the voltage drop Vdrop (y) at the element end of each element on the row wiring based on Equation 1. In the present embodiment, the following values are used for each parameter of Expression 1.

【0048】RX=4.2e−3[Ω] Vdrv=14[V] 素子電流特性If(V)はあらかじめ、本実施形態と同
条件で作成した素子に対し、駆動電圧をさまざまに変え
て素子電流を測定することによりデータテーブルとして
取得し、あらかじめ制御装置406のメモリー406−
3に収納した。
RX = 4.2e-3 [Ω] Vdrv = 14 [V] The element current characteristics If (V) are different from the elements prepared in advance under the same conditions as those of the present embodiment by changing the drive voltage variously. The current is acquired as a data table by measuring the current, and the memory 406-
3

【0049】次に、素子特性調整量の目標値Ieshift
(y)を計算する。制御装置406で、先に求めた電圧
降下Vdrop(y)の値を使い式2により算出した。
Next, the target value Ieshift of the element characteristic adjustment amount
Calculate (y). The control device 406 calculated the value of the voltage drop Vdrop (y) previously obtained by the equation (2).

【0050】次に目標値Ieshift(y)と、事前に実
験で取得した素子特性調整量対特性シフト電圧の電圧値
の相関から、各素子に印加すべき特性シフト電圧の電圧
値Vshift(y)(本実施形態では14.5[V]〜1
7.0[V])を制御装置406で算出し、制御装置4
06のメモリ406−3に結果を収納した。
Next, from the correlation between the target value Ieshift (y) and the voltage value of the element characteristic adjustment amount versus the characteristic shift voltage obtained in advance through experiments, the voltage value Vshift (y) of the characteristic shift voltage to be applied to each element. (In the present embodiment, 14.5 [V] to 1
7.0 [V]) is calculated by the control device 406 and the control device 4
The result was stored in the memory 406-3 of No. 06.

【0051】特性シフト電圧には、電圧値=Vshift
(y)[V]、パルス幅1[ms]、周期3[ms]、
の矩形パルスを用いた。なお特性調整の進行具合をモニ
タする目的で上記パルス電圧の間にパルス幅500[u
s]、電圧値Vmoni=Vdrv−Vdrop(y)の矩形波を
挿入している。
For the characteristic shift voltage, voltage value = Vshift
(Y) [V], pulse width 1 [ms], period 3 [ms],
Were used. In order to monitor the progress of the characteristic adjustment, a pulse width of 500 [u] is applied between the pulse voltages.
s], and a rectangular wave having a voltage value Vmoni = Vdrv−Vdrop (y) is inserted.

【0052】特性シフト電圧の印加は各素子個別に逐次
行った。ここでは一例として行方向配線x番、列方向配
線y番により選択される素子に特性シフト電圧の印加を
行った例を説明する。
The application of the characteristic shift voltage was performed sequentially for each element. Here, as an example, an example in which a characteristic shift voltage is applied to an element selected by a row direction wiring number x and a column direction wiring number y will be described.

【0053】まず、配線切り替器402により行方向配
線x番に波形発生器404を接続し、その他の行方向配
線はグランドに接続した。同様に配線切り替器403に
より列方向配線y番に波形発生器405を接続し、その
他の列方向配線はグランドに接続した。接続終了後、波
形発生器404から電圧値−Vshift(y)/2
[V]、波形発生器405から電圧値+Vshift(y)
/2[V]の特性シフト電圧を出力させた。この間電流
計407は電圧Vmoniが印加された時点での放出電流I
emoniを測定し制御装置406にデータを転送する。制
御装置406はIemoniを監視しその値がIedest以下
になった場合、波形発生器404、405の出力を停止
させた。
First, the waveform generator 404 was connected to the row wiring x by the wiring switch 402, and the other row wirings were connected to the ground. Similarly, the waveform generator 405 was connected to the column wiring y by the wiring switch 403, and the other column wirings were connected to the ground. After the connection is completed, the voltage value -Vshift (y) / 2 is output from the waveform generator 404.
[V], voltage value + Vshift (y) from waveform generator 405
/ 2 [V] characteristic shift voltage was output. During this time, the ammeter 407 indicates the emission current I when the voltage Vmoni is applied.
Emoni is measured and the data is transferred to the controller 406. The control device 406 monitors Iemoni and stops the output of the waveform generators 404 and 405 when the value falls below Iestest.

【0054】なお、特性シフト電圧の印加中は画像表示
装置の気密容器内部が1e−6[pa]程度の真空度を
保つようにした。また直流高圧電源408の出力電圧は
1.0[KV]に設定した。
During the application of the characteristic shift voltage, the inside of the airtight container of the image display device was kept at a degree of vacuum of about 1e-6 [pa]. The output voltage of the DC high-voltage power supply 408 was set to 1.0 [KV].

【0055】以上説明したように、各放出素子の特性が
同じとするのではなく、むしろ電圧降下を加味して、そ
れらと相殺するよう、それぞれの特性を異なるように調
整することで、実際に画像を表示させる際の駆動回路内
に、画像信号を補正する回路を付加することが不要、も
しくは設けるにしてもその規模を小さくできるようにな
る。
As described above, the characteristics of each emission element are not made the same, but rather, by adjusting the respective characteristics differently so as to cancel out the voltage drop by taking into account the voltage drop. It is not necessary to add a circuit for correcting an image signal in a drive circuit for displaying an image, or even if it is provided, the size of the circuit can be reduced.

【0056】すなわち、以上の説明の如く、特性調整を
施した画像表示装置においては、表示駆動時に電圧降下
の影響の受け難く高品質な画像表示を行うことができ
た。
That is, as described above, in the image display device in which the characteristics are adjusted, a high-quality image display which is hardly affected by a voltage drop during display driving can be performed.

【0057】<第2の実施形態>本第2の実施形態にお
いても上記第1の実施形態で説明したものと同じ画像表
示装置に本発明の特性調整方法を適用した例を説明す
る。
<Second Embodiment> In the second embodiment, an example in which the characteristic adjustment method of the present invention is applied to the same image display device as that described in the first embodiment will be described.

【0058】第1の実施形態では特性のシフト量をシフ
ト電圧の波高値により調整したが、本第2の実施形態で
はシフト電圧の印加時間により特性のシフト量を調整す
る。発明者らは鋭意研究した結果、シフト電圧の印加時
間と特性のシフト量に相関があることを見出しているか
らである。
In the first embodiment, the shift amount of the characteristic is adjusted by the peak value of the shift voltage. In the second embodiment, the shift amount of the characteristic is adjusted by the application time of the shift voltage. This is because, as a result of intensive studies, the inventors have found that there is a correlation between the application time of the shift voltage and the shift amount of the characteristic.

【0059】図12は電圧値Vsth以上の大きさの、あ
る特性シフト電圧を印加したときの特性シフト量Shi
ftとシフト電圧の印加時間の相関を模式的に示す図で
ある。図示のX軸にはシフト電圧印加時間を対数で、Y
軸には特性シフト量Shiftをそれぞれ設定してい
る。同図に示すようにシフト電圧の印加時間の対数にお
おむね正比例して特性シフト量が増加する。
FIG. 12 shows the characteristic shift amount Shi when a certain characteristic shift voltage having a voltage value Vsth or more is applied.
It is a figure which shows typically the correlation of ft and the application time of a shift voltage. On the X-axis shown, the shift voltage application time is expressed in logarithm,
The characteristic shift amount Shift is set for each axis. As shown in the figure, the characteristic shift amount increases substantially directly in proportion to the logarithm of the application time of the shift voltage.

【0060】以下、図8のフローチャートにしたがって
本第2の実施形態での特性調整方法について説明してい
く。なお第1の実施形態と方法が異なる部分についての
み説明をするものとする。なお式や記号についても第1
の実施形態と同じものを用いて説明していく。
Hereinafter, the characteristic adjustment method according to the second embodiment will be described with reference to the flowchart of FIG. Note that only the differences between the first embodiment and the method will be described. The formulas and symbols are also the first
The description will be made using the same components as those of the first embodiment.

【0061】図8のステップS1にける、画像表示装置
の駆動時に行方向配線で生じる電圧降下を計算する方法
は第1の実施形態と同じである。
The method of calculating the voltage drop caused in the row wiring at the time of driving the image display device in step S1 of FIG. 8 is the same as in the first embodiment.

【0062】次にステップS2で、ステップS1で計算
した電圧降下をVdrop(y)をもとに、各素子で特性を
シフトする量を設定する。これも第1の実施形態と同じ
である。
Next, in step S2, the amount by which the characteristics are shifted in each element is set based on the voltage drop calculated in step S1 based on Vdrop (y). This is the same as in the first embodiment.

【0063】ステップS3では、ステップS2で設定し
た目標値Ieshift(y)(y=1〜y=n)にしたが
って、素子特性調整を行う。
In step S3, element characteristics are adjusted in accordance with the target value Ieshift (y) (y = 1 to y = n) set in step S2.

【0064】既に述べたように発明者らは、特性シフト
電圧の印加時間が長いほど特性シフト量が大きくなる相
関関係を見出している。よって、目標値Ieshift
(y)から特性のシフトに必要なシフト電圧印加時間T
shift(y)を図12の曲線を参照(テーブルとしてメ
モリやハードディスクに格納しておく)することで決定
し、素子Dyに印加することで目標値Ieshift(y)
だけ特性をシフトすることができる。なお、シフト電圧
印加時間Tshiftとシフト量Shiftの相関(曲線)
については、シフト電圧印加時間をさまざまに変えシフ
ト量を計測する実験を繰り返し行いデータテーブルとし
てあらかじめ取得しておく必要がある。
As described above, the present inventors have found a correlation in which the characteristic shift amount increases as the application time of the characteristic shift voltage increases. Therefore, the target value Ieshift
From (y), the shift voltage application time T required for shifting the characteristics
The shift (y) is determined by referring to the curve in FIG. 12 (stored in a memory or a hard disk as a table), and applied to the element Dy to set the target value Ieshift (y).
Only the characteristics can be shifted. The correlation (curve) between the shift voltage application time Tshift and the shift amount Shift
Regarding the above, it is necessary to repeat the experiment of measuring the shift amount while changing the shift voltage application time variously, and to obtain a data table in advance.

【0065】以上説明した目標値Ieshift(y)に応
じてシフト電圧を印加する時間Tshift(y)の値を決
定し素子Dyにシフト電圧を印加する工程を画像表示装
置の全素子に行うことで、画像表示装置を駆動した際に
電圧降下が生じても、各素子から概均一な放出電流Ie
destを得ることができる。
The step of determining the value of the time Tshift (y) for applying the shift voltage according to the target value Ieshift (y) described above and applying the shift voltage to the element Dy is performed on all the elements of the image display apparatus. Even if a voltage drop occurs when the image display device is driven, a substantially uniform emission current Ie is obtained from each element.
You can get dest.

【0066】本第2の実施形態の特性調整で用いた装置
は第1の実施形態で用いた装置と同じである。
The device used in the characteristic adjustment of the second embodiment is the same as the device used in the first embodiment.

【0067】本第2の実施形態では、特性シフト電圧の
電圧値を16.0[V]、パルス幅1[ms]、周期3
[ms]、の矩形パルスを用いた。また特性調整の進行
具合をモニタする目的で上記パルス電圧の間にパルス幅
500[us]、電圧値Vmoni=Vdrv−Vdrop(y)
の矩形波を挿入している。
In the second embodiment, the voltage value of the characteristic shift voltage is 16.0 [V], the pulse width is 1 [ms], and the period is 3
[Ms]. In order to monitor the progress of the characteristic adjustment, a pulse width of 500 [us] and a voltage value Vmoni = Vdrv-Vdrop (y) are applied between the pulse voltages.
Square wave is inserted.

【0068】本第2の実施形態においても制御装置40
6はVmoniが印加されている時点での放出電流Iemoni
を監視しその値がIedest以下になった場合、特性シフ
ト電圧の印加時間がTshift(y)以下であっても波形
発生器404、405の出力を停止させた。
Also in the second embodiment, the control device 40
6 is an emission current Iemoni when Vmoni is applied.
Was monitored and when the value became Iestest or less, the output of the waveform generators 404 and 405 was stopped even when the application time of the characteristic shift voltage was Tshift (y) or less.

【0069】以上で説明したような特性調整を施した画
像表示装置において、第1の実施形態と同様、表示駆動
時に電圧降下の影響の受け難く高品質な画像表示を行う
ことができ、表示駆動の構成を簡略化させることが可能
となる。
In the image display device having the above-described characteristic adjustment, similar to the first embodiment, it is possible to perform high-quality image display which is hardly affected by a voltage drop during display driving. Can be simplified.

【0070】<第3の実施形態>発明者らは鋭意研究し
た結果、表面伝導型放出素子について以下の性質を確認
している。
Third Embodiment As a result of intensive studies, the inventors have confirmed the following properties of a surface conduction electron-emitting device.

【0071】1.素子電流Ifと放出電流Ieとの間に
強い(1対1対応に近い)相関性があること。
1. There is a strong (close to one-to-one correspondence) correlation between the device current If and the emission current Ie.

【0072】2.特性シフト電圧の印加により、素子電
流特性が放出電流特性と同様なシフトを起こす。
2. Due to the application of the characteristic shift voltage, the element current characteristic shifts similarly to the emission current characteristic.

【0073】この事実に基づき、本第3の実施形態では
表面伝導型放出素子を流れる素子電流特性のシフト量を
目標値とする。つまり、目標値にしたがって電圧降下が
生じても素子電流が一定になるように調整(2.の性質
を利用)すれば、1.の性質があるため放出電流を一定
にすることができる。
Based on this fact, in the third embodiment, the shift amount of the device current characteristic flowing through the surface conduction electron-emitting device is set as the target value. That is, if the element current is adjusted so as to be constant even if a voltage drop occurs according to the target value (using the property of 2.), then 1. , The emission current can be kept constant.

【0074】本第3の実施形態においても第1の実施形
態で用いたのと同じ画像表示装置に特性調整を施した例
を説明する。基本的に特性調整方法は第1の実施形態と
同様なため、方法が異なる部分についてのみ説明をする
ものとする。以下、重複する式や記号についても第1の
実施形態と同じものを用いた。
In the third embodiment, an example will be described in which the same image display device as that used in the first embodiment is subjected to characteristic adjustment. Since the characteristic adjustment method is basically the same as that of the first embodiment, only the differences will be described. Hereinafter, the same formulas and symbols as those in the first embodiment are used for the overlapping formulas and symbols.

【0075】図8のステップS1における、画像表示装
置の駆動時に行方向配線で生じる電圧降下を計算する方
法は第1の実施形態と同じである。
The method of calculating the voltage drop that occurs in the row wiring at the time of driving the image display device in step S1 of FIG. 8 is the same as in the first embodiment.

【0076】次に図8のステップS2で、先に計算した
電圧降下をVdrop(y)をもとに、各素子で目標値を設
定する。本第3の実施形態では、設定した目標値に応じ
て特性をシフトすることにより実効駆動電圧(Vdrv−
Vdrop(y))における各素子の素子電流が値Ifdest
に揃うようにする。なお本実施形態ではIfdestの値と
して、行方向配線の端子から一番遠く電圧降下最大の素
子Dnに、実効駆動電圧(Vdrv−Vdrop(n))にお
いて流れる電流値を用いた。
Next, in step S2 of FIG. 8, a target value is set for each element based on the voltage drop calculated in advance, based on Vdrop (y). In the third embodiment, the effective drive voltage (Vdrv-
Vdrop (y)), the element current of each element is the value Ifdest
To be aligned. In this embodiment, the value of Ifdest is a current value flowing at the effective drive voltage (Vdrv-Vdrop (n)) to the element Dn farthest from the terminal of the row direction wiring and having the largest voltage drop.

【0077】目標値の設定方法を図13を用いて説明す
る。同図は、ある行方向配線上y番目の素子Dyの素子
電流特性をグラフ化したものである。Ifdrv(y)は
素子Dyを実効駆動電圧(Vdrv−Vdrop(y))にお
いて流れる素子電流である。素子Dyの目標値Ifshif
t(y)は、Ifdrv(y)から値Ifdestを減じた値と
して設定する。以上まとめると、目標値Ifshift
(y)は次式で表現できる。
A method for setting the target value will be described with reference to FIG. FIG. 11 is a graph of the element current characteristics of the y-th element Dy on a certain row direction wiring. Ifdrv (y) is an element current flowing through the element Dy at an effective drive voltage (Vdrv-Vdrop (y)). Target value Ifshif of element Dy
t (y) is set as a value obtained by subtracting the value Ifdest from Ifdrv (y). In summary, the target value Ifshift
(Y) can be expressed by the following equation.

【0078】 Ifshift(y)=If(Vdrv−Vdrop(y)) −If(Vdrv−Vdrop(n)) (式4) ところで、素子電流特性をシフトさせることで電圧降下
Vdrop(y)も変化する。このような場合、式1のIf
(Vdrv)からIfshift(y)を差し引きVdrop(y)
を再計算し、さらに式4を計算することを繰り返し行う
ことで、目標値をより適切な値に設定することもでき
る。本第3の実施形態では、このような計算の繰り返し
(収束計算)をすることなく、適当な目標値を得ること
ができることが確かめられた。
Ifshift (y) = If (Vdrv−Vdrop (y)) − If (Vdrv−Vdrop (n)) (Equation 4) By shifting the element current characteristics, the voltage drop Vdrop (y) also changes. . In such a case, If in Equation 1
Subtract Ifshift (y) from (Vdrv) and Vdrop (y)
Is calculated again, and the calculation of Expression 4 is repeatedly performed, so that the target value can be set to a more appropriate value. In the third embodiment, it has been confirmed that an appropriate target value can be obtained without repeating such calculation (convergence calculation).

【0079】図8のステップS3では、ステップS2で
設定した目標値Ifshift(y)(y=1〜y=n)に
したがって、素子特性調整を行う。
In step S3 of FIG. 8, element characteristics are adjusted in accordance with the target value Ifshift (y) (y = 1 to y = n) set in step S2.

【0080】発明者らは素子電流特性のシフト量につい
て、放出電流特性と同じくシフト電圧がより大きいほ
ど、またその印加時間が長いほど特性シフト量が大きく
なる相関関係を見出している。よって、目標値Ifshif
t(y)から特性のシフトに必要なシフト電圧値Vshift
(y)を(素子電流特性シフト量)対(シフト電圧値)
相関を参照することで決定し、素子Dyに印加すること
で目標値Ifshift(y)だけ特性をシフトすることが
できる。なお本第3の実施形態では特性のシフト量をシ
フト電圧の電圧値により調整するが、第2の実施形態と
同じようにシフト電圧の印加時間により調整してもよ
い。
The inventors have found a correlation between the shift amount of the element current characteristic and the characteristic shift amount that increases as the shift voltage increases and the application time increases as in the emission current characteristic. Therefore, the target value Ifshif
Shift voltage value Vshift required to shift characteristics from t (y)
(Y) is (element current characteristic shift amount) vs. (shift voltage value)
It is determined by referring to the correlation, and the characteristic can be shifted by the target value Ifshift (y) by applying it to the element Dy. In the third embodiment, the shift amount of the characteristic is adjusted by the voltage value of the shift voltage. However, the shift amount may be adjusted by the application time of the shift voltage as in the second embodiment.

【0081】以上説明した目標値Ifshift(y)に応
じてシフト電圧値Vshift(y)の値を決定し素子Dy
にシフト電圧を印加する工程を画像表示装置の全素子に
行うことで、画像表示装置を駆動した際に電圧降下が生
じても、各素子に概均一な素子電流Ifdestを流すこと
ができる。すなわち駆動時に各素子より概均一な放出電
流を出力させることができる。
The value of the shift voltage Vshift (y) is determined according to the target value Ifshift (y) described above, and the element Dy is determined.
By applying a step of applying a shift voltage to all the elements of the image display device, even if a voltage drop occurs when the image display device is driven, a substantially uniform element current Ifdest can flow through each element. That is, a substantially uniform emission current can be output from each element during driving.

【0082】次に、本第3の実施形態の特性調整で用い
た装置と、その装置を用いた特性調整の方法について図
14を用いて説明する。基本的に第1の実施形態で用い
た装置(図11)と同じ構成の装置、および方法である
ので異なる部分のみ説明する。図14で図11と共通の
部分については番号も同じにした。
Next, an apparatus used in the characteristic adjustment of the third embodiment and a method of adjusting the characteristic using the apparatus will be described with reference to FIG. Since the apparatus and method have basically the same configuration as the apparatus (FIG. 11) used in the first embodiment, only different parts will be described. In FIG. 14, the same parts as those in FIG. 11 have the same numbers.

【0083】図11において、707は電流計である。
電流計707は波形発生器404と配線切り替器402
との間に直列に挿入した。電流計707のデータはデジ
タル値に変換され制御装置406に転送される。
In FIG. 11, reference numeral 707 denotes an ammeter.
The ammeter 707 includes a waveform generator 404 and a wiring switch 402.
And inserted in series. The data of the ammeter 707 is converted into a digital value and transferred to the control device 406.

【0084】特性シフト電圧には第1の実施形態と同じ
く、電圧値=Vshift(y)[V]、パルス幅1[m
s]、周期3[ms]、の矩形パルスを用いた。また特
性調整の進行具合をモニタする目的で上記パルス電圧の
間にパルス幅500[us]、電圧値Vmoni=Vdrv−
Vdrop(y)の矩形波を挿入しているのも第1の実施形
態と同様である。
As in the first embodiment, the characteristic shift voltage has a voltage value = Vshift (y) [V] and a pulse width of 1 [m].
s] and a rectangular pulse having a period of 3 [ms]. In order to monitor the progress of the characteristic adjustment, a pulse width of 500 [us] and a voltage value Vmoni = Vdrv−
As in the first embodiment, a rectangular wave of Vdrop (y) is inserted.

【0085】シフト電圧印加している間、制御装置40
6はVmoniが印加されている時点での電流Ifmoniを監
視し素子電流がIfdest以下になった場合、波形発生器
404、405の出力を停止させた。
While the shift voltage is being applied, the control device 40
6 monitors the current Ifmoni when Vmoni is applied, and stops the output of the waveform generators 404 and 405 when the element current becomes equal to or less than Ifdest.

【0086】以上、本第3の実施形態では特性調整の目
標値として素子電流を用いたが、目標値として放出電流
を用いたときと同様、表示駆動時に電圧降下の影響の受
け難く高品質な画像表示を行うことができた。
As described above, in the third embodiment, the element current is used as the target value for the characteristic adjustment. However, similar to the case where the emission current is used as the target value, high quality which is hardly affected by a voltage drop during display driving. Image display could be performed.

【0087】<第4の実施形態>本第4の実施形態にお
いても、第1の実施形態と同じ画像表示装置に適用した
例を示す。本第4の実施形態では駆動時に各表面伝導型
放出素子からの放出電子量が、行方向配線の中心部付近
の素子で相対的に多く、行方向配線の端部付近の素子で
相対的に少なくなるよう特性の調整を行うものである。
すなわち画像表示装置の中心から周辺部に明から暗のグ
ラデーション的な輝度分布を生じさせる。
<Fourth Embodiment> An example in which the fourth embodiment is applied to the same image display device as the first embodiment will be described. In the fourth embodiment, the amount of electrons emitted from each surface conduction electron-emitting device during driving is relatively large in the element near the center of the row-directional wiring, and relatively large in the element near the end of the row-directional wiring. The characteristic is adjusted so as to reduce the number.
That is, a gradation-like luminance distribution from light to dark is generated from the center to the periphery of the image display device.

【0088】このような特性調整を行うと画像表時に輝
度分布が一般的にテレビでよく用いられるCRT(ブラ
ウン管)に似た傾向となり、CRTを常用してきた観測
者に対し視覚上の違和感を与えにくくなる効果がある。
さらに、観測者に違和感を与えることなく画像表示装置
の素子が放出する電子量を平均に落とす、すなわち画像
表示装置消費電力を低減できる利点を併せ持つことがで
きる。
When such a characteristic adjustment is performed, the luminance distribution at the time of displaying an image tends to resemble a CRT (CRT) generally used in a television, and gives a sense of visual discomfort to an observer who regularly uses the CRT. There is an effect that becomes difficult.
Further, it is possible to reduce the amount of electrons emitted from the elements of the image display device to an average without giving a sense of discomfort to the observer, that is, to reduce the power consumption of the image display device.

【0089】以下、その方法を第1の実施形態と異なる
部分についてのみ説明する。以下、共通する部分につい
ては式、記号、図等は第1の実施形態と同じものであ
る。
Hereinafter, the method will be described only for parts different from the first embodiment. Hereinafter, the formulas, symbols, figures, and the like regarding the common parts are the same as those in the first embodiment.

【0090】図8のステップS1での電圧降下の計算方
法は第1の実施形態と同じである。
The method of calculating the voltage drop in step S1 of FIG. 8 is the same as in the first embodiment.

【0091】次にステップS2で、ステップS1で計算
したVdrop(y)をもとに目標値を設定する。第1の実
施形態では実効駆動電圧における各素子からの放出電流
がIedestの値にそろうように設定した。本第4の実施
形態では、実効駆動電圧での放出電流が行方向配線の中
心部付近の素子で相対的に多く、行方向配線の端部付近
の素子で相対的に少なくなる放出電流分布Ieprofile
(y)を持つよう目標値Ieshift(y)を設定する。
放出電流の分布Ieprofile(y)は本実施形態では次
式のような2次曲線により設定した。なおIeprofile
(y)は行方向配線上y番目の素子Dyが放出する放出
電流値とする。
Next, in step S2, a target value is set based on Vdrop (y) calculated in step S1. In the first embodiment, the emission current from each element at the effective drive voltage is set to be equal to the value of Iedest. In the fourth embodiment, the emission current distribution Ieprofile in which the emission current at the effective drive voltage is relatively large in the element near the center of the row direction wiring and relatively small in the element near the end of the row direction wiring.
The target value Ishift (y) is set to have (y).
In this embodiment, the emission current distribution Ieprofile (y) is set by a quadratic curve such as the following equation. Ieprofile
(Y) is the emission current value emitted by the y-th element Dy on the row direction wiring.

【0092】 Ieprofile(y)=−a(y−n/2)^2 +Ie(Vdrv−Vdrop(n/2)) (式5) a:係数 Ieprofile(y)をグラフ化すると図15のように行
方向配線中央部をピークとして、周辺ほど値が小さい上
に凸の曲線となる。なお本第4の実施形態では一例とし
て分布Ieprofile(y)をyに対しての2次曲線とし
たが、その他の分布形状を採用しても差し支えない。ま
た係数aについては素子作製条件を変更し電子放出量が
変わる場合や、分布の調整具合に応じてその都度適当に
変更する必要がある。
Ieprofile (y) = − a (yn−2 / 2) ^ 2 + Ie (Vdrv−Vdrop (n / 2)) (Equation 5) a: Coefficient Ieprofile (y) is graphed as shown in FIG. With the center in the row direction wiring as a peak, the curve becomes an upwardly convex curve with a smaller value toward the periphery. In the fourth embodiment, the distribution Ieprofile (y) is a quadratic curve with respect to y as an example. However, other distribution shapes may be used. It is necessary to appropriately change the coefficient a each time the element production conditions are changed to change the amount of electron emission, or depending on the degree of distribution adjustment.

【0093】目標値Ieshift(y)は本第4の実施形
態では次式のようにした。
In the fourth embodiment, the target value Ieshift (y) is expressed by the following equation.

【0094】 Ieshift(y)=Ie(Vdrv−Vdrop(y)) −Ieprofile(y) (式6) このように設定した目標値に応じて、素子特性をシフト
させれば実効駆動電圧における放出電流を分布Ieprof
ile(y)にすることができる。
Ieshift (y) = Ie (Vdrv−Vdrop (y)) − Iprofile (y) (Equation 6) If the element characteristics are shifted according to the target value set as described above, the emission current at the effective driving voltage is obtained. The distribution IEprof
ile (y).

【0095】図8のステップS3で特性をシフトする方
法、および特性シフトを行う装置については第1の実施
形態と同じである。
The method for shifting the characteristics in step S3 of FIG. 8 and the device for shifting the characteristics are the same as in the first embodiment.

【0096】以上で説明したような特性調整を施した画
像表示装置においては、表示駆動時に電圧降下の影響の
受け難く高品質な画像表示を行うことができた。さらに
CRTを常用してきた観測者に対し視覚上の違和感を与
えにくい画像表示、および画像表示装置消費電力の低減
をも達成することができた。
In the image display device having the characteristics adjusted as described above, a high-quality image display that is hardly affected by a voltage drop during display driving can be performed. Further, it was possible to achieve an image display in which an observer who regularly uses a CRT does not easily give a sense of incongruity visually, and a reduction in power consumption of the image display device.

【0097】なお、上記第1乃至第4の実施形態におけ
る調整を制御する装置は、パーソナルコンピュータ等の
汎用情報処理装置を用い、その調整手順はプログラムに
よって実現した。従って、本願発明は、図11等に示さ
れる特定のハードウェアを備えることが必要になるもの
の、情報処理装置にプログラムをインストールすること
で上記各実施形態を実現できるのは明らかである。すな
わち、本願発明はプログラムコード自体が前述した各実
施形態の機能を実現することになり、そのプログラムコ
ードを記憶した記憶媒体は本発明を構成することにな
る。また、コンピュータが読み出したプログラムコード
を実行することにより、前述した実施形態の機能が実現
されるだけでなく、そのプログラムコードの指示に基づ
き、コンピュータ上で稼働しているオペレーティングシ
ステム(OS)などが実際の処理の一部または全部を行
い、その処理によって前述した実施形態の機能が実現さ
れる場合も含まれることは言うまでもない。
Note that a general-purpose information processing device such as a personal computer is used as the device for controlling the adjustment in the first to fourth embodiments, and the adjustment procedure is realized by a program. Therefore, although it is necessary for the present invention to include the specific hardware shown in FIG. 11 and the like, it is obvious that the above embodiments can be realized by installing a program in the information processing apparatus. That is, in the present invention, the program code itself realizes the functions of the above-described embodiments, and a storage medium storing the program code constitutes the present invention. When the computer executes the readout program codes, not only the functions of the above-described embodiments are realized, but also an operating system (OS) running on the computer based on the instructions of the program codes. It goes without saying that a case where some or all of the actual processing is performed and the functions of the above-described embodiments are realized by the processing is also included.

【0098】さらに、記憶媒体から読み出されたプログ
ラムコードが、コンピュータに挿入された機能拡張カー
ドやコンピュータに接続された機能拡張ユニットに備わ
るメモリに書込まれた後、そのプログラムコードの指示
に基づき、その機能拡張カードや機能拡張ユニットに備
わるCPUなどが実際の処理の一部または全部を行い、
その処理によって前述した実施形態の機能が実現される
場合も含まれることは言うまでもない。
Further, after the program code read from the storage medium is written into a memory provided in a function expansion card inserted into the computer or a function expansion unit connected to the computer, the program code is read based on the instruction of the program code. , The CPU provided in the function expansion card or the function expansion unit performs part or all of the actual processing,
It goes without saying that a case where the function of the above-described embodiment is realized by the processing is also included.

【0099】本発明を上記記憶媒体に適用する場合、そ
の記憶媒体には、先に説明した図8に示したフローチャ
ートに対応するプログラムコードが格納されることにな
る。記憶媒体としては、フロッピー(登録商標)ディス
ク、CDROM、MO等、様々なものが考えられる。
When the present invention is applied to the storage medium, the storage medium stores program codes corresponding to the above-described flowchart shown in FIG. Various types of storage media such as a floppy (registered trademark) disk, CDROM, and MO are conceivable.

【0100】[0100]

【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、駆
動時の電圧降下の影響による各電子素子からの電子放出
量にばらつきが生じにくくすると共に、駆動回路の構成
を簡略化させるることが可能になる。
As described above, according to the present invention, it is possible to reduce the variation in the amount of electron emission from each electronic element due to the influence of the voltage drop during driving and to simplify the configuration of the driving circuit. Becomes possible.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】表面伝導型放出素子の一例を示す図である。FIG. 1 is a diagram showing an example of a surface conduction electron-emitting device.

【図2】表面伝導型放出素子の素子特性の一例を示す図
である。
FIG. 2 is a diagram illustrating an example of device characteristics of a surface conduction electron-emitting device.

【図3】マルチビーム電子源の配線方法を説明する図で
ある。
FIG. 3 is a diagram illustrating a wiring method of a multi-beam electron source.

【図4】マルチ電子ビーム源で駆動時に発生する電圧降
下を説明する図である。
FIG. 4 is a diagram illustrating a voltage drop generated during driving by a multi-electron beam source.

【図5】実施形態における画像表示装置の一部を切り欠
いて示した斜視図である。
FIG. 5 is a perspective view in which a part of the image display device according to the embodiment is cut away.

【図6】実施形態におけるたマルチ電子ビーム源の基板
の平面図である。
FIG. 6 is a plan view of a substrate of the multi-electron beam source according to the embodiment.

【図7】表示パネルのフェースプレートの蛍光体配列を
例示した平面図である。
FIG. 7 is a plan view illustrating a phosphor array of a face plate of the display panel.

【図8】実施形態における特性調整方法の手順をしめす
フローチャートである。
FIG. 8 is a flowchart illustrating a procedure of a characteristic adjustment method according to the embodiment.

【図9】第1の実施形態における目標値設定方法を説明
する図である。
FIG. 9 is a diagram illustrating a target value setting method according to the first embodiment.

【図10】シフト電圧値と電子放出特性シフト量の相関
を説明する図である。
FIG. 10 is a diagram illustrating a correlation between a shift voltage value and a shift amount of an electron emission characteristic.

【図11】第1の実施形態で用いた特性調整装置と表示
パネルとの接続関係を示す図である。
FIG. 11 is a diagram illustrating a connection relationship between a characteristic adjustment device and a display panel used in the first embodiment.

【図12】シフト電圧印加時間と電子放出特性シフト量
の相関を示す図である。
FIG. 12 is a diagram showing a correlation between a shift voltage application time and an electron emission characteristic shift amount.

【図13】第3の実施形態における目標値設定方法を説
明する図である。
FIG. 13 is a diagram illustrating a target value setting method according to a third embodiment.

【図14】第3の実施形態における特性調整装置と表示
パネルとの接続関係を示す図である。
FIG. 14 is a diagram illustrating a connection relationship between a characteristic adjustment device and a display panel according to a third embodiment.

【図15】第4の実施形態における電子放出分布を説明
する図である。
FIG. 15 is a diagram illustrating an electron emission distribution in a fourth embodiment.

Claims (30)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 複数の電子放出素子を配線により接続し
た電子源の調整方法であって、 前記複数の電子放出素子のうちの少なくとも一部の電子
放出素子の特性を調整する工程を有しており、該特性の
調整は、この電子源を実際に駆動する際に生じる各電子
放出素子の駆動条件の差異による各電子放出素子からの
放出電流の差異を抑制するように前記複数の電子放出素
子の特性を異ならせるものである電子源の調整方法。
1. A method of adjusting an electron source in which a plurality of electron-emitting devices are connected by wiring, comprising a step of adjusting characteristics of at least a part of the plurality of electron-emitting devices. The adjustment of the characteristics is performed by controlling the plurality of electron-emitting devices so as to suppress a difference in emission current from each electron-emitting device due to a difference in driving conditions of each electron-emitting device caused when the electron source is actually driven. Electron source adjustment method that makes the characteristics of the electron source different.
【請求項2】 複数の電子放出素子を配線により接続し
た電子源の調整方法であって、 前記複数の電子放出素子のうちの少なくとも一部の電子
放出素子の特性を調整する工程を有しており、この電子
源は実際に駆動する際に各電子放出素子の駆動条件に差
異が生じるものであり、該特性の調整は、前記差異のあ
る駆動条件をそれぞれ与えられた各電子放出素子からの
放出電流が所望の値となるように前記複数の電子放出素
子の特性を異ならせるものである電子源の調整方法。
2. A method for adjusting an electron source in which a plurality of electron-emitting devices are connected by wiring, comprising a step of adjusting characteristics of at least a part of the plurality of electron-emitting devices. When the electron source is actually driven, a difference occurs in the driving conditions of the respective electron-emitting devices, and the adjustment of the characteristics is performed by adjusting the driving conditions of the respective electron-emitting devices given the different driving conditions. A method for adjusting an electron source, wherein the characteristics of the plurality of electron-emitting devices are varied so that the emission current has a desired value.
【請求項3】 前記電子放出素子の特性とは、前記電子
放出素子に印加される電圧の値に対する放出電流の値の
関係であることを特徴とする請求項1又は2に記載の電
子源の調整方法。
3. The electron source according to claim 1, wherein the characteristic of the electron-emitting device is a relationship between a value of an emission current and a value of a voltage applied to the electron-emitting device. Adjustment method.
【請求項4】 前記電子放出素子の特性の調整は、前記
電子放出素子に電圧を印加することにより行う請求項1
乃至3いずれか1項に記載の電子源の調整方法。
4. The adjustment of characteristics of the electron-emitting device is performed by applying a voltage to the electron-emitting device.
4. The method for adjusting an electron source according to any one of claims 3 to 3.
【請求項5】 前記電子放出素子の特性の調整の程度
は、前記電子放出素子に印加する電圧の大きさにより制
御することを特徴とする請求項4に記載の電子源の調整
方法。
5. The method according to claim 4, wherein the degree of adjustment of the characteristics of the electron-emitting device is controlled by the magnitude of a voltage applied to the electron-emitting device.
【請求項6】 前記電子放出素子の特性の調整の程度
は、前記電子放出素子に印加する電圧の印加時間により
制御することを特徴とする請求項5に記載の電子源の調
整方法。
6. The method according to claim 5, wherein the degree of adjustment of the characteristics of the electron-emitting device is controlled by the application time of a voltage applied to the electron-emitting device.
【請求項7】 前記特性の調整のために前記電子放出素
子に印加する電圧は、実際の駆動の際に該電子放出素子
に印加される電圧よりも大きい電圧であることを特徴と
する請求項4乃至6いずれか1項に記載の電子源の調整
方法。
7. A voltage applied to the electron-emitting device for adjusting the characteristic is higher than a voltage applied to the electron-emitting device during actual driving. The method for adjusting an electron source according to any one of claims 4 to 6.
【請求項8】 前記特性の調整工程においては、前記複
数の電子放出素子のそれぞれに、実際の駆動の際に各電
子放出素子に印加される電圧以上の電圧を印加すること
を特徴とする請求項1乃至7いずれか1項に記載の電子
源の調整方法。
8. In the characteristic adjusting step, a voltage equal to or higher than a voltage applied to each of the plurality of electron-emitting devices at the time of actual driving is applied to each of the plurality of electron-emitting devices. Item 8. The method for adjusting an electron source according to any one of Items 1 to 7.
【請求項9】 前記特性の調整を行う工程の前に、特性
の調整量の目標値を定める工程を有する請求項1乃至8
いずれか1項に記載の電子源の調整方法。
9. The method according to claim 1, further comprising a step of setting a target value of the characteristic adjustment amount before the step of performing the characteristic adjustment.
The method for adjusting an electron source according to claim 1.
【請求項10】 前記特性の調整を行う工程は、前記電
子放出素子の特性をモニタしながら行うことを特徴とす
る請求項1乃至9いずれか1項に記載の電子源の調整方
法。
10. The method according to claim 1, wherein the step of adjusting the characteristics is performed while monitoring the characteristics of the electron-emitting device.
【請求項11】 前記特性の調整を行う工程は、前記電
子放出素子において電子放出のための電圧が印加される
間隙が形成された後に行われることを特徴とする請求項
1乃至10いずれか1項に記載の電子源の調整方法。
11. The method according to claim 1, wherein the step of adjusting the characteristics is performed after a gap for applying a voltage for electron emission is formed in the electron-emitting device. Adjustment method of the electron source described in the paragraph.
【請求項12】 前記間隙は前記間隙に面する2つの導
電性部材の間に位置するものであり、前記間隙を形成す
る2つの導電性部材の少なくとも一方は炭素もしくは炭
素化合物を主成分とする膜であることを特徴とする請求
項11に記載の電子源の調整方法。
12. The gap is located between two conductive members facing the gap, and at least one of the two conductive members forming the gap has carbon or a carbon compound as a main component. The method for adjusting an electron source according to claim 11, wherein the electron source is a film.
【請求項13】 前記特性を調整する工程は、有機ガス
の分圧が1.0×10-6Pa以下である雰囲気で行うこ
とを特徴とする請求項1乃至12いずれか1項に記載の
電子源の調整方法。
13. The electronic device according to claim 1, wherein the step of adjusting the characteristics is performed in an atmosphere in which a partial pressure of an organic gas is 1.0 × 10 −6 Pa or less. How to adjust the source.
【請求項14】 複数の電子放出素子を共通の第1配線
に接続すると共に、前記複数の電子放出素子それぞれを
別々の第2配線に接続した電子線の調整方法であって、 前記複数の電子放出素子のうちの少なくとも一部の電子
放出素子に電圧を印加する電圧印加工程を有しており、
該電圧印加工程において印加する前記電圧の大きさは、
この電子源の実際の駆動の際に、前記第1配線に所定の
第1電位を与え、前記第2配線のそれぞれに等しい電位
である第2電位を与えたときに前記各電子放出素子に前
記第1配線と前記第2配線により印加される電圧を予測
し、該予測された電圧が大きい前記電子放出素子に対し
ては、前記予測された電圧が相対的に小さい前記電子放
出素子に対するものよりも大きく設定されることを特徴
とする電子源の調整方法。
14. A method of adjusting an electron beam in which a plurality of electron-emitting devices are connected to a common first wiring and each of the plurality of electron-emitting devices is connected to a separate second wiring. A voltage application step of applying a voltage to at least a part of the electron-emitting devices,
The magnitude of the voltage applied in the voltage applying step is:
At the time of actual driving of the electron source, a predetermined first potential is applied to the first wiring, and a second potential that is equal to each of the second wirings is applied to each of the electron-emitting devices. The voltage applied by the first wiring and the second wiring is predicted, and the predicted voltage is higher for the electron-emitting device than for the electron-emitting device whose predicted voltage is relatively lower. The method for adjusting an electron source, wherein the setting is also made large.
【請求項15】 複数の電子放出素子を共通の第1配線
に接続すると共に、前記複数の電子放出素子それぞれを
別々の第2配線に接続した電子源の調整方法であって、 前記複数の電子放出素子のうちの少なくとも一部の電子
放出素子に電圧を印加する電圧印加工程を有しており、
該電圧印加工程において印加する前記電圧の印加時間
は、この電子源の実際の駆動の際に、前記第1配線に所
定の第1電位を与え、前記第2配線のそれぞれに等しい
電位である第2電位を与えたときに前記各電子放出素子
に前記第1配線と前記第2配線により印加される電圧を
予測し、該予測された電圧が大きい前記電子放出素子に
対しては、前記予測された電圧が相対的に小さい前記電
子放出素子に対するものよりも長く設定されることを特
徴とする電子源の調整方法。
15. A method for adjusting an electron source, comprising connecting a plurality of electron-emitting devices to a common first wiring and connecting each of the plurality of electron-emitting devices to a separate second wiring. A voltage application step of applying a voltage to at least a part of the electron-emitting devices,
The application time of the voltage to be applied in the voltage applying step is such that, when the electron source is actually driven, a predetermined first potential is applied to the first wiring and the potential is equal to each of the second wirings. When two potentials are applied, a voltage applied to each of the electron-emitting devices by the first wiring and the second wiring is predicted, and for the electron-emitting device having the larger predicted voltage, the predicted voltage is calculated. Wherein the applied voltage is set longer than that for the electron-emitting device.
【請求項16】 複数の電子放出素子を共通の第1配線
に接続すると共に、前記複数の電子放出素子それぞれを
別々の第2配線に接続した電子源の調整方法であって、 前記複数の電子放出素子のうちの少なくとも一部の電子
放出素子に電圧を印加する電圧印加工程を有しており、
該電圧印加工程において印加する前記電圧の大きさは、
この電子源を実際に駆動する際に前記第1配線に電位を
与える電位印加部からの距離が短い前記電子放出素子に
対しては、前記距離が相対的に長い前記電子放出素子に
対するものよりも大きく設定されることを特徴とする電
子源の調整方法。
16. An adjusting method of an electron source, wherein a plurality of electron-emitting devices are connected to a common first wiring and each of the plurality of electron-emitting devices is connected to a separate second wiring. A voltage application step of applying a voltage to at least a part of the electron-emitting devices,
The magnitude of the voltage applied in the voltage applying step is:
When the electron source is actually driven, the distance from the potential application unit that applies a potential to the first wiring is shorter for the electron-emitting device than for the electron-emitting device that is relatively long. A method for adjusting an electron source, which is set to be large.
【請求項17】 複数の電子放出素子を共通の第1配線
に接続すると共に、前記複数の電子放出素子それぞれを
別々の第2配線に接続した電子源の調整方法であって、 前記複数の電子放出素子のうちの少なくとも一部の電子
放出素子に電圧を印加する電圧印加工程を有しており、
該電圧印加工程において印加する前記電圧の印加時間
は、この電子源を実際に駆動する際に前記第1配線に電
位を与える電位印加部からの距離が短い前記電子放出素
子に対しては、前記距離が相対的に長い前記電子放出素
子に対するものよりも長く設定されることを特徴とする
電子源の調整方法。
17. A method for adjusting an electron source, wherein a plurality of electron-emitting devices are connected to a common first wiring and each of the plurality of electron-emitting devices is connected to a separate second wiring. A voltage application step of applying a voltage to at least a part of the electron-emitting devices,
The application time of the voltage applied in the voltage application step is, for the electron-emitting device having a short distance from a potential application unit that applies a potential to the first wiring when the electron source is actually driven, A method for adjusting an electron source, wherein the distance is set longer than that for the electron-emitting device, which is relatively long.
【請求項18】 前記電圧印加工程において印加する前
記電圧は、この電子源の実際の駆動の際に印加される電
圧よりも大きいことを特徴とする請求項14乃至17い
ずれか1項に記載の電子源の調整方法。
18. The method according to claim 14, wherein the voltage applied in the voltage applying step is higher than a voltage applied when the electron source is actually driven. How to adjust the electron source.
【請求項19】 前記電圧印加工程において印加する前
記電圧は該電圧を印加する前記電子放出素子が接続され
る前記第1配線と前記第2配線に異なる電位を印加する
ことにより印加する請求項14乃至18いずれか1項に
記載の電子瀕の調整方法。
19. The voltage applied in the voltage applying step is applied by applying different potentials to the first wiring and the second wiring connected to the electron-emitting device to which the voltage is applied. 19. The method for adjusting an electron beam according to any one of claims 18 to 18.
【請求項20】 前記電子源は前記第1配線を複数有し
ており、該複数の第1配線は前記複数の第2配線と共に
マトリクス配線を構成しており、前記複数の第1配線の
それぞれに複数の前記電子放出素子が接続されており、
前記電圧印加工程は、前記複数の第1配線のそれぞれに
接続される複数の電子放出素子に対して行うことを特徴
とする請求項14乃至19いずれか1項に記載の電子源
の調整方法。
20. The electron source includes a plurality of the first wirings, the plurality of first wirings constitute a matrix wiring together with the plurality of second wirings, and each of the plurality of first wirings Are connected to the plurality of electron-emitting devices,
20. The method according to claim 14, wherein the voltage applying step is performed on a plurality of electron-emitting devices connected to each of the plurality of first wirings.
【請求項21】 前記電圧印加工程は、前記電子放出素
子の特性をモニタしながら行うことを特徴とする請求項
14乃至20いずれか1項に記載の電子源の調整方法。
21. The method according to claim 14, wherein the voltage applying step is performed while monitoring characteristics of the electron-emitting device.
【請求項22】 前記電圧印加工程は、前記電子放出素
子において電子放出のための電圧が印加される間隙が形
成された後に行われることを特徴とする請求項14乃至
21いずれか1項に記載の電子源の調整方法。
22. The method according to claim 14, wherein the voltage applying step is performed after a gap for applying a voltage for electron emission is formed in the electron-emitting device. How to adjust the electron source.
【請求項23】 前記間隙は前記間隙に面する2つの導
電性部材の間に位置するものであり、前記間隙を形成す
る2つの導電性部材の少なくとも一方は炭素もしくは炭
素化合物を主成分とする膜であることを特徴とする請求
項22に記載の電子源の調整方法。
23. The gap is located between two conductive members facing the gap, and at least one of the two conductive members forming the gap has carbon or a carbon compound as a main component. The method for adjusting an electron source according to claim 22, wherein the electron source is a film.
【請求項24】 前記電圧を印加する工程は、有機ガス
の分圧が1.0×10-6Pa以下である雰囲気で行うこ
とを特徴とする請求項14乃至23いずれか1項に記載
の電子源の調整方法。
24. The electron device according to claim 14, wherein the step of applying a voltage is performed in an atmosphere in which a partial pressure of an organic gas is 1.0 × 10 −6 Pa or less. How to adjust the source.
【請求項25】 複数の電子放出素子を有しており、請
求項1乃至24いずれか1項に記載の電子源の調整方法
によって調整を行った電子源。
25. An electron source having a plurality of electron-emitting devices, wherein the electron source is adjusted by the method for adjusting an electron source according to claim 1. Description:
【請求項26】 複数の電子放出素子を有する電子源の
製造方法であって、請求項1乃至24いずれかに記載の
電子源の調整方法を行うことを特徴とする電子源の製造
方法。
26. A method for manufacturing an electron source having a plurality of electron-emitting devices, wherein the method for adjusting an electron source according to claim 1 is performed.
【請求項27】 複数の電子放出素子を有する電子源
と、該電子源から放出される電子により画像を形成する
画像形成部材とを有する画像形成装置の調整方法であっ
て、 前記電子源を請求項1乃至24いずれか1項に記載の電
子源の調整方法によって調整することを特徴とする画像
形成装置の調整方法。
27. A method for adjusting an image forming apparatus, comprising: an electron source having a plurality of electron-emitting devices; and an image forming member that forms an image by using electrons emitted from the electron source. 25. An adjustment method for an image forming apparatus, wherein the adjustment is performed by the electron source adjustment method according to any one of items 1 to 24.
【請求項28】 複数の電子放出素子を有する電子源
と、該電子源から放出される電子により画像を形成する
画像形成部材とを有する画像形成装置であって、 請求項27に記載の画像形成装置の調整方法により調整
された画像形成装置。
28. An image forming apparatus comprising: an electron source having a plurality of electron-emitting devices; and an image forming member for forming an image by using electrons emitted from the electron source, wherein the image forming apparatus according to claim 27 is provided. An image forming apparatus adjusted by an apparatus adjusting method.
【請求項29】 複数の電子放出素子を有する電子源
と、該電子源から放出される電子により画像を形成する
画像形成部材とを有する画像形成装置の製造方法であっ
て、 請求項27に記載の調整方法を行うことを特徴とする画
像形成装置の製造方法。
29. A method for manufacturing an image forming apparatus, comprising: an electron source having a plurality of electron-emitting devices; and an image forming member for forming an image by electrons emitted from the electron source, wherein the method comprises the steps of: A method for manufacturing an image forming apparatus, comprising:
【請求項30】 駆動時の印加電圧よりも高い調整用電
圧を印加した場合、電圧−電子放出の特性曲線がシフト
する特性を有する複数の電子放出素子を、複数の行及び
列配線に接続してマトリックス状に配置した構造を有す
る電子源を調整する調整装置用のプログラムコードを格
納する記憶媒体であって、 注目行配線に接続された複数の電子放出素子中の所定の
電子放出素子の前記電圧−電子放出の特性曲線を目標特
性曲線として定め、 前記所定の電子放出素子以外の電子放出素子を調整対象
電子放出素子としたとき、当該調整対象電子放出素子の
電圧−電子放出の特性曲線が、前記目標電圧−電子放出
の特性曲線へにシフトするよう、当該調整対象電子放出
素子に前記調整用電圧を印加させるプログラムコードを
格納することを特徴とする記憶媒体。
30. Connecting a plurality of electron-emitting devices having a characteristic that a characteristic curve of voltage-electron emission shifts when a voltage for adjustment higher than an applied voltage at the time of driving is applied to a plurality of row and column wirings. A storage medium for storing a program code for an adjustment device for adjusting an electron source having a structure arranged in a matrix, wherein the predetermined number of electron emission elements among a plurality of electron emission elements connected to a row of interest wiring. A voltage-electron emission characteristic curve is defined as a target characteristic curve, and when an electron emission element other than the predetermined electron emission element is used as an adjustment target electron emission element, the voltage-electron emission characteristic curve of the adjustment target electron emission element is And storing a program code for applying the adjustment voltage to the target electron-emitting device to be shifted to the characteristic curve of the target voltage-electron emission.憶媒 body.
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