JP2002201189A - ピロン化合物の製造法 - Google Patents
ピロン化合物の製造法Info
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- JP2002201189A JP2002201189A JP2001194578A JP2001194578A JP2002201189A JP 2002201189 A JP2002201189 A JP 2002201189A JP 2001194578 A JP2001194578 A JP 2001194578A JP 2001194578 A JP2001194578 A JP 2001194578A JP 2002201189 A JP2002201189 A JP 2002201189A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】４−ヒドロキシ−６−メチル−３−（４−メチ
ル−２−ペンテノイル）−２−ピロン及び４−ヒドロキ
シ−６−メチル−３−（４−メチルペンタノイル）−２
−ピロンの製造法を提供すること。 【解決手段】３−アセチル−４−ヒドロキシ−６−メチ
ル−２−ピロンとイソブチルアルデヒドとを式Ｒ1Ｒ2Ｎ
Ｈ（式中、Ｒ1およびＲ2はそれぞれ直鎖Ｃ１−Ｃ４アル
キル基を表す。）で示される第２級アミン及びモレキュ
ラーシーブス存在下に、−５〜２５℃で反応させる４−
ヒドロキシ−６−メチル−３−（４−メチル−２−ペン
テノイル）−２−ピロンの製造法、及び該化合物を還元
する４−ヒドロキシ−６−メチル−３−（４−メチルペ
ンタノイル）−２−ピロンの製造法により有害節足動物
防除剤の有効成分又はその製造中間体が有利に製造でき
る。
ル−２−ペンテノイル）−２−ピロン及び４−ヒドロキ
シ−６−メチル−３−（４−メチルペンタノイル）−２
−ピロンの製造法を提供すること。 【解決手段】３−アセチル−４−ヒドロキシ−６−メチ
ル−２−ピロンとイソブチルアルデヒドとを式Ｒ1Ｒ2Ｎ
Ｈ（式中、Ｒ1およびＲ2はそれぞれ直鎖Ｃ１−Ｃ４アル
キル基を表す。）で示される第２級アミン及びモレキュ
ラーシーブス存在下に、−５〜２５℃で反応させる４−
ヒドロキシ−６−メチル−３−（４−メチル−２−ペン
テノイル）−２−ピロンの製造法、及び該化合物を還元
する４−ヒドロキシ−６−メチル−３−（４−メチルペ
ンタノイル）−２−ピロンの製造法により有害節足動物
防除剤の有効成分又はその製造中間体が有利に製造でき
る。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は４−ヒドロキシ−６
−メチル−３−（４−メチル−２−ペンテノイル）−２
−ピロン及び４−ヒドロキシ−６−メチル−３−（４−
メチルペンタノイル）−２−ピロンの製造法に関する。
−メチル−３−（４−メチル−２−ペンテノイル）−２
−ピロン及び４−ヒドロキシ−６−メチル−３−（４−
メチルペンタノイル）−２−ピロンの製造法に関する。
【０００２】
【従来の技術】式（１）
【化１】 で示される４−ヒドロキシ−６−メチル−３−（４−メ
チルペンタノイル）−２−ピロンは、有害節足動物防除
剤の有効成分として用いることができる化合物である。
一方、４−ヒドロキシ−６−メチル−３−（４−メチル
−２−ペンテノイル）−２−ピロンを製造する方法とし
て、特公昭４１−２０７２０号公報に、３−アセチル−
４−ヒドロキシ−６−メチル−２−ピロン（デヒドロ酢
酸）とイソブチルアルデヒドとをクロロホルム中、ピペ
リジン数滴の存在下に数時間加温反応させる方法が記載
されている。しかし、その後、Chemistry and Industry
1969 p1306-1307において、上記特公昭４１−２０７２
０号公報において報告されている融点１７８．５〜１８
１．３℃の化合物は、実際には４−ヒドロキシ−６−メ
チル−３−（４−メチル−２−ペンテノイル）−２−ピ
ロンではなく、核磁気共鳴スペクトル、赤外分光スペク
トルのデータから次式
チルペンタノイル）−２−ピロンは、有害節足動物防除
剤の有効成分として用いることができる化合物である。
一方、４−ヒドロキシ−６−メチル−３−（４−メチル
−２−ペンテノイル）−２−ピロンを製造する方法とし
て、特公昭４１−２０７２０号公報に、３−アセチル−
４−ヒドロキシ−６−メチル−２−ピロン（デヒドロ酢
酸）とイソブチルアルデヒドとをクロロホルム中、ピペ
リジン数滴の存在下に数時間加温反応させる方法が記載
されている。しかし、その後、Chemistry and Industry
1969 p1306-1307において、上記特公昭４１−２０７２
０号公報において報告されている融点１７８．５〜１８
１．３℃の化合物は、実際には４−ヒドロキシ−６−メ
チル−３−（４−メチル−２−ペンテノイル）−２−ピ
ロンではなく、核磁気共鳴スペクトル、赤外分光スペク
トルのデータから次式
【化２】 で示される３，４−ジヒドロ−２−イソプロピル−７−
メチル−２Ｈ，５Ｈ−ピラノ［４，３−ｂ］−ピラン−
４，５−ジオンであることが確認された。即ち、特公昭
４１−２０７２０号公報に具体的に記載されている反応
条件では３−アセチル−４−ヒドロキシ−６−メチル−
２−ピロンとイソブチルアルデヒドとから４−ヒドロキ
シ−６−メチル−３−（４−メチル−２−ペンテノイ
ル）−２−ピロンを実質的に得ることができなかった。
メチル−２Ｈ，５Ｈ−ピラノ［４，３−ｂ］−ピラン−
４，５−ジオンであることが確認された。即ち、特公昭
４１−２０７２０号公報に具体的に記載されている反応
条件では３−アセチル−４−ヒドロキシ−６−メチル−
２−ピロンとイソブチルアルデヒドとから４−ヒドロキ
シ−６−メチル−３−（４−メチル−２−ペンテノイ
ル）−２−ピロンを実質的に得ることができなかった。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】本発明は３−アセチル
−４−ヒドロキシ−６−メチル−２−ピロンから４−ヒ
ドロキシ−６−メチル−３−（４−メチル−２−ペンテ
ノイル）−２−ピロンを高収率で製造し、さらにこれを
式（１）で示される４−ヒドロキシ−６−メチル−３−
（４−メチルペンタノイル）−２−ピロンに導くことに
より、有害節足動物防除剤の有効成分として用いること
ができる該化合物の工業的に有利な製造法を提供するこ
とを課題とする。
−４−ヒドロキシ−６−メチル−２−ピロンから４−ヒ
ドロキシ−６−メチル−３−（４−メチル−２−ペンテ
ノイル）−２−ピロンを高収率で製造し、さらにこれを
式（１）で示される４−ヒドロキシ−６−メチル−３−
（４−メチルペンタノイル）−２−ピロンに導くことに
より、有害節足動物防除剤の有効成分として用いること
ができる該化合物の工業的に有利な製造法を提供するこ
とを課題とする。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記の事
情に鑑み、４−ヒドロキシ−６−メチル−３−（４−メ
チルペンタノイル）−２−ピロンの製造法を鋭意検討し
た結果、式（２）
情に鑑み、４−ヒドロキシ−６−メチル−３−（４−メ
チルペンタノイル）−２−ピロンの製造法を鋭意検討し
た結果、式（２）
【化３】 で示される３−アセチル−４−ヒドロキシ−６−メチル
−２−ピロンとイソブチルアルデヒドとを式Ｒ1Ｒ2ＮＨ
（式中、Ｒ1およびＲ2はそれぞれ直鎖Ｃ１−Ｃ４アルキ
ル基を表す。）で示される第２級アミン及びモレキュラ
ーシーブス存在下に、−５〜２５℃で反応させることに
より、式（３）
−２−ピロンとイソブチルアルデヒドとを式Ｒ1Ｒ2ＮＨ
（式中、Ｒ1およびＲ2はそれぞれ直鎖Ｃ１−Ｃ４アルキ
ル基を表す。）で示される第２級アミン及びモレキュラ
ーシーブス存在下に、−５〜２５℃で反応させることに
より、式（３）
【化４】 で示される４−ヒドロキシ−６−メチル−３−（４−メ
チル−２−ペンテノイル）−２−ピロンを高収率で製造
でき、さらに３−アセチル−４−ヒドロキシ−６−メチ
ル−２−ピロンとイソブチルアルデヒドとを式Ｒ1Ｒ2Ｎ
Ｈ（式中、Ｒ1およびＲ2はそれぞれ直鎖Ｃ１−Ｃ４アル
キル基を表す。）で示される第２級アミン及びモレキュ
ラーシーブス存在下に、−５〜２５℃で反応させ、次い
で還元することにより４−ヒドロキシ−６−メチル−３
−（４−メチルペンタノイル）−２−ピロンが高収率で
得られることを見出し本発明を完成した。
チル−２−ペンテノイル）−２−ピロンを高収率で製造
でき、さらに３−アセチル−４−ヒドロキシ−６−メチ
ル−２−ピロンとイソブチルアルデヒドとを式Ｒ1Ｒ2Ｎ
Ｈ（式中、Ｒ1およびＲ2はそれぞれ直鎖Ｃ１−Ｃ４アル
キル基を表す。）で示される第２級アミン及びモレキュ
ラーシーブス存在下に、−５〜２５℃で反応させ、次い
で還元することにより４−ヒドロキシ−６−メチル−３
−（４−メチルペンタノイル）−２−ピロンが高収率で
得られることを見出し本発明を完成した。
【０００５】すなわち、本発明は３−アセチル−４−ヒ
ドロキシ−６−メチル−２−ピロンとイソブチルアルデ
ヒドとを式Ｒ1Ｒ2ＮＨ（式中、Ｒ1およびＲ2はそれぞれ
直鎖Ｃ１−Ｃ４アルキル基を表す。）で示される第２級
アミン及びモレキュラーシーブス存在下に、−５〜２５
℃で反応させることを特徴とする４−ヒドロキシ−６−
メチル−３−（４−メチル−２−ペンテノイル）−２−
ピロンの製造法（以下、本発明製造法１と記す。）及び
３−アセチル−４−ヒドロキシ−６−メチル−２−ピロ
ンとイソブチルアルデヒドとを式Ｒ1Ｒ2ＮＨ（式中、Ｒ
1およびＲ2はそれぞれ直鎖Ｃ１−Ｃ４アルキル基を表
す。）で示される第２級アミン及びモレキュラーシーブ
ス存在下に、−５〜２５℃で反応させ、次いで還元する
ことを特徴とする４−ヒドロキシ−６−メチル−３−
（４−メチルペンタノイル）−２−ピロンの製造法（以
下、本発明製造法２と記す。）を提供する。
ドロキシ−６−メチル−２−ピロンとイソブチルアルデ
ヒドとを式Ｒ1Ｒ2ＮＨ（式中、Ｒ1およびＲ2はそれぞれ
直鎖Ｃ１−Ｃ４アルキル基を表す。）で示される第２級
アミン及びモレキュラーシーブス存在下に、−５〜２５
℃で反応させることを特徴とする４−ヒドロキシ−６−
メチル−３−（４−メチル−２−ペンテノイル）−２−
ピロンの製造法（以下、本発明製造法１と記す。）及び
３−アセチル−４−ヒドロキシ−６−メチル−２−ピロ
ンとイソブチルアルデヒドとを式Ｒ1Ｒ2ＮＨ（式中、Ｒ
1およびＲ2はそれぞれ直鎖Ｃ１−Ｃ４アルキル基を表
す。）で示される第２級アミン及びモレキュラーシーブ
ス存在下に、−５〜２５℃で反応させ、次いで還元する
ことを特徴とする４−ヒドロキシ−６−メチル−３−
（４−メチルペンタノイル）−２−ピロンの製造法（以
下、本発明製造法２と記す。）を提供する。
【０００６】
【発明の実施の形態】まず、本発明製造法１について説
明する。本発明製造法は、下記のスキームで示される。
明する。本発明製造法は、下記のスキームで示される。
【化５】 該反応においてモレキュラーシーブスは市販のものをそ
のまま使用することができる。用いられるモレキュラー
シーブスとしては、例えばモレキュラーシーブス３Ａが
あげられる。反応に用いられるモレキュラーシーブスの
量は、３−アセチル−４−ヒドロキシ−６−メチル−２
−ピロン１重量部に対して、通常は０．５〜４重量部で
あり、好ましくは０．５〜３重量部である。また、該反
応に用いることができる式Ｒ1Ｒ2ＮＨで示されるアミン
化合物としては例えば、ジエチルアミン、メチルエチル
アミン、ジプロピルアミン及びジブチルアミンが挙げら
れる。該反応の反応温度は、温度を低く設定すると本発
明製造法１の反応を完結させるのにより長い時間を要す
るようになり、一方、温度を高く設定すると目的物の収
率が低下する傾向があることから−５〜２５℃の範囲内
であり、好ましくは−５〜２０℃、より好ましくは０〜
１０℃の範囲内である。
のまま使用することができる。用いられるモレキュラー
シーブスとしては、例えばモレキュラーシーブス３Ａが
あげられる。反応に用いられるモレキュラーシーブスの
量は、３−アセチル−４−ヒドロキシ−６−メチル−２
−ピロン１重量部に対して、通常は０．５〜４重量部で
あり、好ましくは０．５〜３重量部である。また、該反
応に用いることができる式Ｒ1Ｒ2ＮＨで示されるアミン
化合物としては例えば、ジエチルアミン、メチルエチル
アミン、ジプロピルアミン及びジブチルアミンが挙げら
れる。該反応の反応温度は、温度を低く設定すると本発
明製造法１の反応を完結させるのにより長い時間を要す
るようになり、一方、温度を高く設定すると目的物の収
率が低下する傾向があることから−５〜２５℃の範囲内
であり、好ましくは−５〜２０℃、より好ましくは０〜
１０℃の範囲内である。
【０００７】３−アセチル−４−ヒドロキシ−６−メチ
ル−２−ピロンとイソブチルアルデヒドとの反応は、無
溶媒でも行うことができるが、通常、溶媒中で行われ
る。該反応に用いられる溶媒としては、反応に不活性な
溶媒であれば特に限定されるものではないが、収率の点
からはテトラヒドロフラン、メチルイソブチルケトンま
たはアセトンが好ましい。反応時間は通常０．５〜２４
時間の範囲である。反応終了後は、濾過によりモレキュ
ラーシーブスを除去した後、濾液を有機溶媒抽出、濃縮
等の通常の後処理操作を行うことにより、４−ヒドロキ
シ−６−メチル−３−（４−メチル−２−ペンテノイ
ル）−２−ピロンを単離することができる。また、必要
に応じて、再結晶、クロマトグラフィー等により精製す
ることもできる。
ル−２−ピロンとイソブチルアルデヒドとの反応は、無
溶媒でも行うことができるが、通常、溶媒中で行われ
る。該反応に用いられる溶媒としては、反応に不活性な
溶媒であれば特に限定されるものではないが、収率の点
からはテトラヒドロフラン、メチルイソブチルケトンま
たはアセトンが好ましい。反応時間は通常０．５〜２４
時間の範囲である。反応終了後は、濾過によりモレキュ
ラーシーブスを除去した後、濾液を有機溶媒抽出、濃縮
等の通常の後処理操作を行うことにより、４−ヒドロキ
シ−６−メチル−３−（４−メチル−２−ペンテノイ
ル）−２−ピロンを単離することができる。また、必要
に応じて、再結晶、クロマトグラフィー等により精製す
ることもできる。
【０００８】次に、本発明製造法２について説明する。
本発明製造法２は３−アセチル−４−ヒドロキシ−６−
メチル−２−ピロンとイソブチルアルデヒドとを式Ｒ1
Ｒ2ＮＨ（式中、Ｒ1およびＲ2はそれぞれ直鎖Ｃ１−Ｃ
４アルキル基を表す。）で示される第２級アミン及びモ
レキュラーシーブスの存在下に、−５〜２５℃で反応さ
せる前半工程と、次いで還元する後半工程から成り立つ
ものである。本発明製造法２の前半工程は前記本発明製
造法１の方法と同様に達成することができる。この前半
工程の後は、通常の後処理操作に付して４−ヒドロキシ
−６−メチル−３−（４−メチル−２−ペンテノイル）
−２−ピロンを単離し後半工程を行うことができ、ま
た、４−ヒドロキシ−６−メチル−３−（４−メチル−
２−ペンテノイル）−２−ピロンを単離することなく、
例えば前半工程の反応混合物を必要に応じて濾過してモ
レキュラーシーブスを除いた後に、後半工程を行うこと
もできる。
本発明製造法２は３−アセチル−４−ヒドロキシ−６−
メチル−２−ピロンとイソブチルアルデヒドとを式Ｒ1
Ｒ2ＮＨ（式中、Ｒ1およびＲ2はそれぞれ直鎖Ｃ１−Ｃ
４アルキル基を表す。）で示される第２級アミン及びモ
レキュラーシーブスの存在下に、−５〜２５℃で反応さ
せる前半工程と、次いで還元する後半工程から成り立つ
ものである。本発明製造法２の前半工程は前記本発明製
造法１の方法と同様に達成することができる。この前半
工程の後は、通常の後処理操作に付して４−ヒドロキシ
−６−メチル−３−（４−メチル−２−ペンテノイル）
−２−ピロンを単離し後半工程を行うことができ、ま
た、４−ヒドロキシ−６−メチル−３−（４−メチル−
２−ペンテノイル）−２−ピロンを単離することなく、
例えば前半工程の反応混合物を必要に応じて濾過してモ
レキュラーシーブスを除いた後に、後半工程を行うこと
もできる。
【０００９】後半工程の反応は、通常、遷移金属触媒の
存在下、溶媒中で、式（３）で示される化合物と水素と
を反応させることにより行われる。該反応に用いられる
溶媒は還元反応に不活性な溶媒であり、例えば酢酸エチ
ル、酢酸ブチル等のエステル類、メチルイソブチルケト
ン等のケトン類及びトルエン等の芳香族炭化水素類が挙
げられる。遷移金属触媒としては例えばパラジウム触
媒、白金触媒が挙げられ、具体的には例えば５％パラジ
ウム−炭素、酸化白金があげられる。遷移金属化合物の
使用量は、前半工程の後、４−ヒドロキシ−６−メチル
−３−（４−メチル−２−ペンテノイル）−２−ピロン
を単離した後に後半工程を行う場合には、４−ヒドロキ
シ−６−メチル−３−（４−メチル−２−ペンテノイ
ル）−２−ピロン１００重量部に対して通常１〜１０重
量部の割合であり、前半工程の後、４−ヒドロキシ−６
−メチル−３−（４−メチル−２−ペンテノイル）−２
−ピロンを単離せずに後半工程を行う場合には、３−ア
セチル−４−ヒドロキシ−６−メチル−２−ピロン１０
０重量部に対して、通常１〜１０重量部の割合である。
反応時間は通常０．５〜２４時間の範囲である。反応終
了後の反応液は、濾過により触媒を除去した後、濾液を
有機溶媒抽出、濃縮等の通常の後処理操作を行うことに
より、４−ヒドロキシ−６−メチル−３−（４−メチル
ペンタノイル）−２−ピロンを単離することができる。
また、必要に応じて蒸留、晶析、クロマトグラフィー等
により精製することができる。
存在下、溶媒中で、式（３）で示される化合物と水素と
を反応させることにより行われる。該反応に用いられる
溶媒は還元反応に不活性な溶媒であり、例えば酢酸エチ
ル、酢酸ブチル等のエステル類、メチルイソブチルケト
ン等のケトン類及びトルエン等の芳香族炭化水素類が挙
げられる。遷移金属触媒としては例えばパラジウム触
媒、白金触媒が挙げられ、具体的には例えば５％パラジ
ウム−炭素、酸化白金があげられる。遷移金属化合物の
使用量は、前半工程の後、４−ヒドロキシ−６−メチル
−３−（４−メチル−２−ペンテノイル）−２−ピロン
を単離した後に後半工程を行う場合には、４−ヒドロキ
シ−６−メチル−３−（４−メチル−２−ペンテノイ
ル）−２−ピロン１００重量部に対して通常１〜１０重
量部の割合であり、前半工程の後、４−ヒドロキシ−６
−メチル−３−（４−メチル−２−ペンテノイル）−２
−ピロンを単離せずに後半工程を行う場合には、３−ア
セチル−４−ヒドロキシ−６−メチル−２−ピロン１０
０重量部に対して、通常１〜１０重量部の割合である。
反応時間は通常０．５〜２４時間の範囲である。反応終
了後の反応液は、濾過により触媒を除去した後、濾液を
有機溶媒抽出、濃縮等の通常の後処理操作を行うことに
より、４−ヒドロキシ−６−メチル−３−（４−メチル
ペンタノイル）−２−ピロンを単離することができる。
また、必要に応じて蒸留、晶析、クロマトグラフィー等
により精製することができる。
【００１０】
【実施例】以下、製造例をあげて本発明を詳しく説明す
るが、本発明はこの例に限定されるものではない。
るが、本発明はこの例に限定されるものではない。
【００１１】製造例１ 窒素雰囲気下、乾燥テトラヒドロフラン１５ｍｌに３−
アセチル−４−ヒドロキシ−６−メチル−２−ピロン
３．０ｇ、イソブチルアルデヒド１．９ｇおよびモレキ
ュラーシーブス３Ａ粉末３．０ｇ加え、ここに攪拌下０
〜５℃でジエチルアミン０．５３ｇの乾燥テトラヒドロ
フラン１０ｍｌ溶液を、約１時間かけて滴下した。滴下
後さらに、０〜５℃にて２時間攪拌した。その後、反応
混合物をセライト濾過し、セライトを酢酸エチル５０ｍ
ｌで洗浄した。濾液と洗浄液を合わせた溶液を０．１％
塩酸で１回、水で２回、飽和食塩水で１回順次洗浄、無
水硫酸ナトリウムで乾燥した後、減圧下で濃縮し、４−
ヒドロキシ−６−メチル−３−（４−メチル−２−ペン
テノイル）−２−ピロン ３．９ｇを得た。1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ内部標準）δ値（ｐｐ
ｍ)：１.１３(ｄ、６Ｈ)、２．２７（ｓ、３Ｈ）、２．
６０（ｍ、１Ｈ）、５．９３(ｓ、１Ｈ)、７．２３(ｄ
ｄ、１Ｈ)、７．５８（ｄ、１Ｈ）
アセチル−４−ヒドロキシ−６−メチル−２−ピロン
３．０ｇ、イソブチルアルデヒド１．９ｇおよびモレキ
ュラーシーブス３Ａ粉末３．０ｇ加え、ここに攪拌下０
〜５℃でジエチルアミン０．５３ｇの乾燥テトラヒドロ
フラン１０ｍｌ溶液を、約１時間かけて滴下した。滴下
後さらに、０〜５℃にて２時間攪拌した。その後、反応
混合物をセライト濾過し、セライトを酢酸エチル５０ｍ
ｌで洗浄した。濾液と洗浄液を合わせた溶液を０．１％
塩酸で１回、水で２回、飽和食塩水で１回順次洗浄、無
水硫酸ナトリウムで乾燥した後、減圧下で濃縮し、４−
ヒドロキシ−６−メチル−３−（４−メチル−２−ペン
テノイル）−２−ピロン ３．９ｇを得た。1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ内部標準）δ値（ｐｐ
ｍ)：１.１３(ｄ、６Ｈ)、２．２７（ｓ、３Ｈ）、２．
６０（ｍ、１Ｈ）、５．９３(ｓ、１Ｈ)、７．２３(ｄ
ｄ、１Ｈ)、７．５８（ｄ、１Ｈ）
【００１２】製造例２ 窒素雰囲気下、４−ヒドロキシ−６−メチル−３−（４
−メチル−２−ペンテノイル）−２−ピロン １．０ｇ
を酢酸エチル１０ｍｌに溶解し、ここに５％パラジウム
−炭素０．０５ｇを加えた。反応容器内の窒素を水素に
置換して室温で３時間攪拌した。その後、反応混合物を
セライト濾過し、減圧下濃縮して得られた残渣をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィーに付し、４−ヒドロキシ
−６−メチル−３−（４−メチルペンタノイル）−２−
ピロン ０．８５ｇを得た。1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ（ｐｐｍ）：０．９４（６
Ｈ，ｄ）、１．５４（２Ｈ，ｑ）、１．６３（１Ｈ，
ｍ）、２．２７（３Ｈ，ｓ）、３．０８（２Ｈ，ｔ）、
５．９３（１Ｈ，ｓ）、１７．８８（１Ｈ，ｓ）
−メチル−２−ペンテノイル）−２−ピロン １．０ｇ
を酢酸エチル１０ｍｌに溶解し、ここに５％パラジウム
−炭素０．０５ｇを加えた。反応容器内の窒素を水素に
置換して室温で３時間攪拌した。その後、反応混合物を
セライト濾過し、減圧下濃縮して得られた残渣をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィーに付し、４−ヒドロキシ
−６−メチル−３−（４−メチルペンタノイル）−２−
ピロン ０．８５ｇを得た。1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ（ｐｐｍ）：０．９４（６
Ｈ，ｄ）、１．５４（２Ｈ，ｑ）、１．６３（１Ｈ，
ｍ）、２．２７（３Ｈ，ｓ）、３．０８（２Ｈ，ｔ）、
５．９３（１Ｈ，ｓ）、１７．８８（１Ｈ，ｓ）
【００１３】製造例３ 窒素雰囲気下、メチルイソブチルケトン６０ｇに３−ア
セチル−４−ヒドロキシ−６−メチル−２−ピロン１
０．０ｇ、イソブチルアルデヒド６．４ｇおよびモレキ
ュラーシーブス３Ａ粉末２０．０ｇを加え、ここに撹拌
下約０℃でジエチルアミン１．７ｇのメチルイソブチル
ケトン５．０ｇの溶液を約１５分かけて滴下した。滴下
後さらに、約０℃にて２０．５時間撹拌した。その後、
反応混合物をセライトろ過し、セライトをメチルイソブ
チルケトン１０．０ｇで洗浄した。濾液と洗浄液を合わ
せた溶液を約０℃に保ちつつ窒素雰囲気下で５％パラジ
ウム−炭素０．５ｇを加えた。反応容器内の窒素を水素
に置換して約０℃で水素を追加しながら１．３時間撹拌
した。その後、反応混合物をセライト濾過し、濾液に室
温下濃塩酸２．５ｇ、および水５０ｇを順次撹拌しなが
ら加え、さらに３０分撹拌を続けた後、分液して得られ
た有機層を減圧下濃縮して４−ヒドロキシ−６−メチル
−３−（４−メチルペンタノイル）−２−ピロン １
０．４ｇを得た。
セチル−４−ヒドロキシ−６−メチル−２−ピロン１
０．０ｇ、イソブチルアルデヒド６．４ｇおよびモレキ
ュラーシーブス３Ａ粉末２０．０ｇを加え、ここに撹拌
下約０℃でジエチルアミン１．７ｇのメチルイソブチル
ケトン５．０ｇの溶液を約１５分かけて滴下した。滴下
後さらに、約０℃にて２０．５時間撹拌した。その後、
反応混合物をセライトろ過し、セライトをメチルイソブ
チルケトン１０．０ｇで洗浄した。濾液と洗浄液を合わ
せた溶液を約０℃に保ちつつ窒素雰囲気下で５％パラジ
ウム−炭素０．５ｇを加えた。反応容器内の窒素を水素
に置換して約０℃で水素を追加しながら１．３時間撹拌
した。その後、反応混合物をセライト濾過し、濾液に室
温下濃塩酸２．５ｇ、および水５０ｇを順次撹拌しなが
ら加え、さらに３０分撹拌を続けた後、分液して得られ
た有機層を減圧下濃縮して４−ヒドロキシ−６−メチル
−３−（４−メチルペンタノイル）−２−ピロン １
０．４ｇを得た。
【００１４】さらに、上述のようにして得られる４−ヒ
ドロキシ−６−メチル−３−（４−メチルペンタノイ
ル）−２−ピロンが有害節足動物防除剤の有効成分とし
て有用であることを参考例により示す。
ドロキシ−６−メチル−３−（４−メチルペンタノイ
ル）−２−ピロンが有害節足動物防除剤の有効成分とし
て有用であることを参考例により示す。
【００１５】参考例（イエバエに対するノックダウン試
験） ４−ヒドロキシ−６−メチル−３−（４−メチルペンタ
ノイル）−２−ピロン０．５部をジクロロメタン１０部
に溶解し、これをアイソパーＭ（イソパラフィン・エク
ソン化学製）８９．５部と混合して０．５％油剤を調製
した。イエバエ（Musca domestica）成虫１０頭（雄雌
各５頭）を１辺７０ｃｍの立方体のガラスチャンバー
（体積０．３４ｍ3）内に放った。前記油剤０．７ｍｌ
を、チャンバー側面の小窓からスプレーガンにて０．９
ｋｇ／ｃｍ2の圧力でチャンバー内に散布した。１５分
後にイエバエのノックダウン状況を観察した。その結
果、ノックダウン率は９５％であった。
験） ４−ヒドロキシ−６−メチル−３−（４−メチルペンタ
ノイル）−２−ピロン０．５部をジクロロメタン１０部
に溶解し、これをアイソパーＭ（イソパラフィン・エク
ソン化学製）８９．５部と混合して０．５％油剤を調製
した。イエバエ（Musca domestica）成虫１０頭（雄雌
各５頭）を１辺７０ｃｍの立方体のガラスチャンバー
（体積０．３４ｍ3）内に放った。前記油剤０．７ｍｌ
を、チャンバー側面の小窓からスプレーガンにて０．９
ｋｇ／ｃｍ2の圧力でチャンバー内に散布した。１５分
後にイエバエのノックダウン状況を観察した。その結
果、ノックダウン率は９５％であった。
【００１６】
【発明の効果】本発明製造法により４−ヒドロキシ−６
−メチル−３−（４−メチル−２−ペンテノリル）−２
−ピロンおよび４−ヒドロキシ−６−メチル−３−（４
−メチルペンタノイル）−２−ピロンを有利に製造する
ことができ、これらの化合物は有害節足動物防除剤の有
効成分又はその製造中間体として有用である。
−メチル−３−（４−メチル−２−ペンテノリル）−２
−ピロンおよび４−ヒドロキシ−６−メチル−３−（４
−メチルペンタノイル）−２−ピロンを有利に製造する
ことができ、これらの化合物は有害節足動物防除剤の有
効成分又はその製造中間体として有用である。
Claims (2)
- 【請求項１】３−アセチル−４−ヒドロキシ−６−メチ
ル−２−ピロンとイソブチルアルデヒドとを式Ｒ1Ｒ2Ｎ
Ｈ（式中、Ｒ1およびＲ2はそれぞれ直鎖Ｃ１−Ｃ４アル
キル基を表す。）で示される第２級アミンおよびモレキ
ュラーシーブス存在下に、−５〜２５℃で反応させるこ
とを特徴とする４−ヒドロキシ−６−メチル−３−（４
−メチル−２−ペンテノイル）−２−ピロンの製造法。 - 【請求項２】３−アセチル−４−ヒドロキシ−６−メチ
ル−２−ピロンとイソブチルアルデヒドとを式Ｒ1Ｒ2Ｎ
Ｈ（式中、Ｒ1およびＲ2はそれぞれ直鎖Ｃ１−Ｃ４アル
キル基を表す。）で示される第２級アミン及びモレキュ
ラーシーブス存在下に、−５〜２５℃で反応させ、次い
で還元することを特徴とする４−ヒドロキシ−６−メチ
ル−３−（４−メチルペンタノイル）−２−ピロンの製
造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001194578A JP2002201189A (ja) | 2000-07-12 | 2001-06-27 | ピロン化合物の製造法 |
Applications Claiming Priority (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000211001 | 2000-07-12 | ||
| JP2000337153 | 2000-11-06 | ||
| JP2000-211001 | 2000-11-06 | ||
| JP2000-337153 | 2000-11-06 | ||
| JP2001194578A JP2002201189A (ja) | 2000-07-12 | 2001-06-27 | ピロン化合物の製造法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002201189A true JP2002201189A (ja) | 2002-07-16 |
Family
ID=27344025
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001194578A Pending JP2002201189A (ja) | 2000-07-12 | 2001-06-27 | ピロン化合物の製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2002201189A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2020130004A1 (ja) * | 2018-12-18 | 2020-06-25 | 株式会社村田製作所 | 回路基板及び電子機器 |
-
2001
- 2001-06-27 JP JP2001194578A patent/JP2002201189A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2020130004A1 (ja) * | 2018-12-18 | 2020-06-25 | 株式会社村田製作所 | 回路基板及び電子機器 |
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|---|---|---|---|
| RD05 | Notification of revocation of power of attorney |
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