JP2002196120A

JP2002196120A - 非球面投射レンズの基板用組成物及び該組成物を用いた非球面投射レンズの基板及び非球面投射レンズ

Info

Publication number: JP2002196120A
Application number: JP2000392419A
Authority: JP
Inventors: Keishin Handa; 敬信半田; Manabu Nishikawa; 西川　　学
Original assignee: Mitsubishi Chemical Corp
Current assignee: Mitsubishi Chemical Corp
Priority date: 2000-12-25
Filing date: 2000-12-25
Publication date: 2002-07-10

Abstract

(57)【要約】【課題】軽量、安価にもかかわらず高形状精度であ
り、特にスクリーンに対して垂直方向では無く、斜め方
向、特に斜め下方より投射する投射デバイスに組み込ま
れて、歪み・変形の無い高精細な画像を投射することが
できる大型の投射レンズ、その基板、基板用組成物を提
供する。【解決手段】平面面積が１５０ｃｍ²以上、平面の最
小幅が１０ｃｍ以上、成形品厚さが３ｍｍ以上の非球面
の成形体の光学機能形成面の表面に反射層を設けて投射
レンズを構成するための樹脂組成物であって、樹脂中に
含まれるＯＨ基含有量が２５０ｐｐｍ以下、ガラス転移
点が７０℃以上の非晶性熱可塑性樹脂と該樹脂に対して
１００〜２０００ｐｐｍのアルコールの脂肪酸エステル
系離型剤を含有してなる非球面レンズの基板用組成物。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、投射レンズの基板
用組成物及び該組成物を用いた投射レンズの基板及び非
球面投射レンズに関するものである。詳しくは、オーバ
ーヘッドプロジェクター、ウインドーディスプレー、フ
ロントデータプロジェクター等の投射デバイスに使用さ
れる高精度、高精細な投射レンズ（投射デバイス）、特
にリアプロジェクション・テレビ等に使用するミラー型
の樹脂製曲面投射レンズ用の基板を形成するのに適した
組成物及び該組成物を用いた投射レンズの基板及び非球
面投射レンズに関するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来、この種の大型で高精度を要求され
る光学部品に使用される材料は無機ガラスあるいはアル
ミ・鋼材等の金属材料が圧倒的に多かった。これは無機
ガラスあるいは金属材料の持つ優れた光学精度、特に温
度変化があっても歪みの少ない画像が得られること、さ
らに精密切削加工・研磨加工適性の高さによるものであ
る。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、ガラス
あるいはアルミ・鋼材等の材料を使用した場合、ガラス
の場合は、ガラスを熱プレス成形する方法が一般的であ
るが、ガラスが十分に溶融する７００℃以上まで均一に
加熱する必要があり、このような加熱装置を備えた装置
自体が高価になるばかりか、加熱・冷却時間を考慮する
とサイクルタイムも長くなり、また高温での圧縮に耐え
る高い形状精度及び耐久性を有する金型も必要となるこ
とから、ガラス部品が非常に高価なものとなってしまう
欠点があった。

【０００４】このため、投射デバイス用の部品として用
いる場合、高コストが許容される極めて特殊な用途にし
か使用できず、一般オフィス用さらに家庭用デバイスと
しては普及していない。またアルミ・鋼材等の金属材料
を使用した場合は、基本的に一個一個について精密な切
削加工、磨き加工により製作する必要があるため、やは
り部品自体が極めて高価になる上、量産に適さないとの
問題点があった。

【０００５】例えば特許公報特開平９―９６７７５に
は、画像を斜め投射した際の台形歪みの補正機能を備え
る画像投影装置の発明について記載があるが「投影装置
の映写対物レンズが非常に大口径を為す場合を除き、上
記映写対物レンズを移動できる範囲が比較的狭い。とこ
ろが、大口径の映写対物レンズは装置全体のサイズを大
きくし、製造コストも高くなる」との記載もある。

【０００６】上記のような製造工程、製造装置の問題点
を解決するための手段の一つは、成形が比較的容易な樹
脂材料により製作することにあるが、成形収縮が極めて
大きいという熱可塑性樹脂の本来の性質上、反りやヒ
ケ、あるいは金型からの形状（曲面）転写不良が発生す
るため、投射レンズ、特に斜め投射時の台形歪みを補正
する機能も有する投射レンズとして用いて、高精細な画
質を獲得できるような大型（大面積かつ厚肉）で高い形
状精度を有する成形品（基板）を得ることはできなかっ
た。

【０００７】また、エポキシ系、ジアクリレート系等の
熱あるいは光による硬化性樹脂を材料とする場合は、硬
化収縮が５〜２０容量％程度発生するため、収縮による
変形等が発生し、反射面に歪みを生じ、やはり高精細な
画質を獲得できるような大型（大面積かつ厚肉）で高い
形状精度を有する投射レンズを形成することはできなか
った。

【０００８】さらに硬化性樹脂の硬化時間あるいは初期
硬化後のアニール処理（硬化促進、架橋密度向上、残留
応力緩和）に数時間〜数十時間という長時間を要するた
め、やはり大量生産に適さないとの問題点があった。ま
た、従来、投射レンズとして高精細な画質を獲得できる
ような大型で高い形状精度を得ることが従来は困難であ
った。

【０００９】特に非球面の広い光学機能有効面積有する
場合は、この面は超鏡面状態が必要であるため超鏡面に
加工されたスタンパーを組み込んだ金型にて成形する際
にその超鏡面を投射レンズの基体に転写する必要があ
る。この超鏡面を転写するには、溶融直後の樹脂組成物
をスタンパー面に高圧で押しつけ、さらにその状態を維
持したまま冷却を行う必要がある。

【００１０】このような鏡面転写を実現する方法として
は、プレス成形、射出成形などの方法があるが、特にゲ
ートシール成形法、リメルト成形法などが良く知られて
いる。このような成形方法の場合は、容積一定で行って
いて、樹脂の膨張圧力を利用しているが、樹脂の膨張率
をアップするためには、樹脂温度を高くする必要があ
り、樹脂の熱安定性を考えると温度を高くすることには
限界があり、また、実際に膨張率をアップして樹脂と超
鏡面の密着度を高くしたとしても、成形体を超鏡面スタ
ンパーから離型する際には、密着度が高いため離型力が
大きくなり、離型時に成形体の割れや変形が生じる原因
となる。

【００１１】特に離型面の面積（この場合は、超鏡面と
密着している光学機能有効面）が大きいほど離型力は大
きくなり形状精度に問題を生じる。このような問題を解
決するために、使用する樹脂組成物中の離型剤及び種類
と量をある範囲に規定することで離型性を良好にするこ
とができるとともに、成形体表面の超鏡面も実現するこ
とができる組成物を見いだした。

【００１２】従来は、光学系部品用の樹脂組成物は、添
加剤などの低分子の含有物は殆ど含有していないのが一
般的であった。これは、低分子量のものは成形時や成形
直後に成形体の表面にブリード（析出）してきて、超鏡
面である光学機能有効面の平滑性を損なう可能性がある
ためである。

【００１３】例えば、表面に出てきた低分子量体が超鏡
面スタンパーと成形体表面の間に存在すると、超鏡面の
転写が損なわれ平滑性が損なわれるなどの問題があっ
た。また、通常の成形では問題にならないような樹脂組
成物中のＯＨ基の存在も先に述べたような超鏡面を転写
した場合の成形体の離型性と関係があることが確認され
ている。

【００１４】すなわち、ＯＨ基は極性が大きく通常、樹
脂組成物と金属などの無機物との接着性を向上させるた
めに樹脂成形体表面に積極的に導入することが行われて
いる。このような、ＯＨ基の存在は超鏡面を転写させた
成形体を離型させる際に金属などの無機物で作られてい
るスタンパー面との密着力を高めているため離型時に離
型不良などの問題を生じる原因となっている。

【００１５】また、樹脂のガラス転移点としては、７０
℃以下であると製品の使用温度によっては製品が変形し
やすくなり、投射レンズとしての機能に問題を生じるこ
とがある。

【００１６】

【課題を解決するための手段】本発明では、これらの問
題を解決するために、鋭意検討を重ねた結果、投射用レ
ンズ用基板用の特殊な組成物を見出し、その特定の組成
物を用いることにより、高精度かつ歪みの少ない非球面
反射面を有する非球面投射レンズが得られることを見出
し、本発明を完成するに至った。

【００１７】すなわち、本発明の要旨は（１）平面面積
が１５０ｃｍ²以上、平面の最小幅が１０ｃｍ以上、成
形品厚さが３ｍｍ以上の非球面の成形体の光学機能形成
面の表面に反射層を設けて投射レンズを構成するための
樹脂組成物であって、樹脂中に含まれるＯＨ基含有量が
２５０ｐｐｍ以下、ガラス転移点が７０℃以上の非晶性
熱可塑性樹脂と該樹脂に対して１００〜２０００ｐｐｍ
のアルコールの脂肪酸エステル系離型剤を含有してなる
非球面レンズの基板用組成物に存する。

【００１８】更に以下の態様も本発明の要旨の１つとす
る。（２）非晶質熱可塑性樹脂がポリカーボネート樹脂であ
ることを特徴とする上記（１）に記載の非球面投射レン
ズの基板用組成物。（３）アルコールの肪酸エステルがグリセリンモノステ
アレート及び／又はでペンタエリスリトールテトラステ
アレートであることを特徴とする上記（１）又は（２）
に記載の非球面投射レンズの基板用組成物。（４）上記（１）乃至（３）のいずれかに記載の組成物
を用いて、表面粗さ１００Å以下の鏡面金型から転写し
て形成された、光学機能形成面の少なくとも８０％の面
積における表面粗さ（Ｒａ）が２００Å以下である光学
機能形成面の表面に反射層を設けてなる投射レンズ用の
基板。（５）上記（１）乃至（４）のいずれかに記載の組成物
を用い、レンズの曲面部分における、樹脂基材の光学機
能面に対して垂直方向よりの入射光に対する単位厚さあ
たりの面内複屈折位相差の平均値を、光学機能面の面積
の少なくとも６０％の領域において、３０ｎｍ／ｍｍ以
下となるように成形してなる非球面投射レンズの基板。（６）上記（４）又は（５）に記載の非球面投射レンズ
の基板の鏡面上に金属又は金属酸化物からなるアンカー
コートを設け、その上にアルミニウムの反射膜を設けた
ことを特徴とする非球面投射レンズ。

【００１９】

【発明の実施の形態】以下、本発明の投射レンズの基板
用組成物および該組成物を用いた投射レンズの基板の詳
細を説明する。（非球面投射レンズ基体の形状）すなわち、本発明の基
板用組成物は、通常光学凸曲面に形成した光学機能形成
面の表面に反射層を設けて、小型液晶画面等から投射さ
れる画像を斜め方向、特に斜め下方向より拡大投射する
投射レンズを構成するためのものであり、しかも前述の
通り、本投射レンズを設置する位置精度を実用デバイス
として現実的な範囲とする必要があり、これらの結果、
拡大倍率を上げるため光学機能形成面の面積が大きい、
すなわち平面面積が１５０ｃｍ²以上、平面の最小幅が
１０ｃｍ以上必要である。また、成形体が大きいため自
重及び取り付けによる荷重などにより、形状が変形しな
いように成形品厚さが３ｍｍ以上のものを製造する必要
がある。しかも、投射拡大倍率が大きいことから、レン
ズの歪みはそのまま画像の歪みとして拡大してしまうた
め、溶融成形の際の収縮等による歪みの極めて少ない組
成物を提供することが必要となり、また、反射面の粗さ
も拡大表示される上、乱反射による画像の輝度低下を避
け、また輝度ムラを避ける必要があるため、光学機能形
成面の表面が極めて平滑な鏡面となる組成物が必要とな
る。

【００２０】すなわち、投射レンズとしての表面粗さ
（Ｒａ）は、成形時の金型表面の鏡面状態及び成形され
た基板にもよるが、表面粗さ（Ｒａ）にして、１００Å
以下、好ましくは８０Å以下、より好ましくは６０Å以
下に仕上げられた鏡面金型から転写して形成され、それ
から得られた基板に反射層を形成し、光学機能形成面と
して、少なくとも８０％の面積における表面粗さ（Ｒ
ａ）が２００Å以下となるような基板が得られるような
樹脂組成物とする事が要求される。（熱可塑性樹脂）本発明の投射レンズの基板を構成する
組成物の一成分である熱可塑性樹脂としては、分子量
（Ｍｖ）２０，０００以上で、樹脂中に含まれるＯＨ基
含有量が２５０ｐｐｍ以下、ガラス転移点が７０℃以
上、６０℃、９０ＲＨ％における飽和吸水率が１％以下
の非晶質熱可塑性樹脂に多価アルコールの脂肪酸エステ
ルの離型剤が１００〜２０００ｐｐｍ添加した樹脂組成
物が用いられる。

【００２１】樹脂のガラス転移点（Ｔｇ）が７０℃以上
であることが必要な理由としては、投射レンズを高温下
で使用した場合に、投射レンズが変形しないことが必要
で有るためである。すなわち、Ｔｇが７０℃以上の樹脂
で有ればレンズの使用温度が６０℃以下であれば非晶質
熱可塑性樹脂は、変形しない。

【００２２】使用温度の６０℃という温度は、特に高温
地域での製品保管時の最も過酷な条件として設定された
温度条件である。また、使用樹脂としては、６０℃、９
０％ＲＨにおける飽和吸水率が１％以下であるものが好
ましい。これは、投射レンズ用基板に反射膜を形成する
場合、通常は真空蒸着、スパッタリング、イオンプレー
ティングなどの方法で形成するが、これらの薄膜形成方
法では、減圧状態で成膜させるため成形基板中に存在し
ていた水分が成膜中に蒸発してきて、反射膜に曇りが生
じたり、反射膜と基板との密着性が悪くなるなどの原因
となるためである。

【００２３】樹脂中のＯＨ基としては、樹脂中のＯＨ基
が２５０ｐｐｍ以上では、成型品と金型とが密着し易
く、金型からの成型品の離型時に金型に成形品が付着
し、無理に剥離させると成形品が反るなどの離型不良が
発生する。これは、樹脂中に含まれるＯＨ基が熱成形時
に金型表面の金属もしくは金属酸化物、金属水酸化物等
と水素結合を形成し、密着力が高くなるためと考えられ
る。

【００２４】特に、大型の成形品ほど、離型に必要な力
は大きくなり、成型品に変形や反りが生ずる可能性があ
り、また投射レンズとしての性能上も変形が大きいと画
像の歪みの原因となる。このため、樹脂中のＯＨ基の含
有量としては２５０ｐｐｍ以下、好ましくは１５０ｐｐ
ｍ以下、より好ましくは１００ｐｐｍ以下が良い。

【００２５】さらに、超鏡面を成形体に転写するには、
金型の超鏡面に高圧で溶融樹脂を押し付ける必要があ
る。しかし、超鏡面に高圧で押し付けられて成形された
成形体は、離型しにくい、このため（多価）アルコール
の脂肪酸エステルの離型剤を１００〜２５００ｐｐｍ使
用すると、鏡面転写性を損なわずに離型することができ
る。

【００２６】１００ｐｐｍ以下であると、離型剤が少な
すぎて離型不良が発生し、２５００ｐｐｍ以上では離型
剤が多すぎて、成形の際に成型品の表面にブリードアウ
トして、金型鏡面からの鏡面転写性を損なったり、成形
後、基板表面にブリードアウトしてきて、反射層を形成
（成膜）する際に基板と反射層の密着性を悪くする原因
となる。

【００２７】また、離型剤は１種類のアルコールの脂肪
酸エステルで有る必要はなく、２種類以上のアルコール
の脂肪酸エステルやアルコールの脂肪酸エステルとたの
種類の離型剤を組み合わせて使用することもできる。例
えば、少量で離型効果を発現するものと、離型効果は少
ないが、熱安定性に優れている物などを併用することも
できる。

【００２８】添加量は、離型剤の合計の量として１００
ｐｐｍ〜２５００ｐｐｍであることが好ましい。本発明
に用いる非晶質熱可塑性樹脂としては、ポリメチルメタ
クリレート等のアクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、
ポリエステルカーボネート樹脂、芳香族ポリエステル樹
脂、ポリサルホン樹脂、ポリエーテルサルホン樹脂、ポ
リスチレン、アクリル−スチレン共重合体等のスチロー
ル系樹脂、環状ポリオレフィン樹脂等が挙げられる。非
晶質熱可塑性樹脂が好ましい理由としては、成形収縮性
が少なく、また収縮時に収縮のムラや凹凸が発生しな
い、透明性があるなどから好ましい。

【００２９】その中でも耐熱性（Ｔｇの高さ）、耐衝撃
性、可視領域での透明性、コスト等を考慮するとポリカ
ーボネート系樹脂が望ましい。ポリカーボネートでも特
に好ましいのは、粘度平均分子量が２００００〜２５０
００のものが好ましい、２００００以下では、流動性が
低すぎて成形しにくい、剛性が足りないなどの問題があ
る、２５０００を越えると分子鎖の絡み合いが強いため
熱成型時の配向緩和が困難となり、熱劣化を引き起こさ
ないような低い成形温度では、鏡面を精密に転写させる
ため、あるいは成形品の反り・変形を抑制するための分
子鎖の配向緩和が不十分となったり、成形時間が長くな
り高精度大型投射レンズ用成形材料として不適切であ
る。（離型剤）離型剤としては、樹脂との相溶性の点から
（多価）アルコールの脂肪酸エステルが好ましい。

【００３０】アルコールの脂肪酸エステルとしては、グ
リセリン及び他の短鎖長脂肪酸アルコールと脂肪酸のエ
ステルの組み合わせ、脂肪族アルコールと脂肪酸エステ
ルの組み合わせなどがある。特に、グリセリン及び短鎖
長脂肪族アルコールと脂肪酸のエステルの組み合わせた
ものが好ましく、例えばグリセリンモノステアレート、
１,２水酸化ステアレート、グリセリントリステアレ
ト、トリメチロールプロパントリステアレート、ペンタ
エリスリトールテトラステアレート、ブチルステアレー
ト、イソブチルステアレートなどがある。

【００３１】この中でも、とくにグリセリンモノステア
レートが分子量が低くブリードし易いため離型効果が発
現しやすいため、好ましい。しかし、グリセリンモノス
テアレートは、低分子量であるため成形時に温度が高く
なると、揮発や分解を起こしやすくなるため、特に加工
温度が２００℃を越えるような場合については、ペンタ
エリスリトールテトラステアレートなどが使用される。

【００３２】また、これらの両方を併用して使用する場
合もある。（付加成分）付加成分としては、熱安定剤、紫外線防止
剤、顔料、染料などがある。熱安定剤としては、例え
ば、２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、２、６
−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシメチルフェノール、
２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−エチルフェノール、２，
４，６−トリ−ｔ−ブチルフェノール、ブチル化ヒドロ
キシアニソール、シクロヘキシルフェノール、スチレン
化フェノール、２，５−ジ−ｔ−ブチルハイドロキノ
ン、ｎ−オクタデシル−３−（３’、５’−ジ−ｔ−ブ
チル−４’−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、
２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−ｔ−ブチル
フェノール）、４，４’−イソプロピリデンビスフェノ
ール、４，４’−メチレンビス（２，６−ジ−ｔ−ブチ
ルフェノール）、１，１−ビス（４’−ヒドロキシフェ
ニル）シクロヘキサン、２，２’−チオビス（４−メチ
ル−６−ｔ−ブチルフェノール）、１，１，３−トリス
（２’−メチル−４’−ヒドロキシ−５’−ｔ−ブチル
フェニル）ブタン等のフェノール系化合物、アルドール
−α−ナフチルアミン、フェニル−α−ナフチルアミ
ン、フェニル−β−ナフチルアミン、Ｎ、Ｎ’−ジフェ
ニル−ｐ−フェニレンジアミン、１，２−ジヒドロ−
２，２，４−トリメチルキノリン等のアミン系、ジラウ
リルチオジプロピオネート、ジミリスチルチオジプロピ
オネート、ジステアリルチオジプロピオネート等の硫黄
系化合物、トリフェニルホスファイト、ジフェニルイソ
デシルホスファイト、フェニルジイソデシルホスファイ
ト、トリス（ノニルフェニル）ホスファイト、トリス
（モノ及びジ−ノニルフェニル）ホスファイト、４，
４’−ブチリデンビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフ
ェニル）−ジトリデシルホスファイト、ジステアリルペ
ンタエリスリトールジホスファイト、トリラウリルトリ
チオホスファイト、及びトリオクタデシルホスファイ
ト、ｏ−シクロヘキシルフェニルホスファイト、ジイソ
デシルペンタエリスリトールジホスファイト、ジノニル
フェニルペンタエリスリトールジホスファイト、テトラ
フェニルジプロピレングリコールジホスファイト、トリ
ス（２、４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、
４、４’−イソプロピリデンジフェニルテトラアルキル
ホスファイト、４、４’−イソプロピリデンビス（３−
メチル−６−ｔ−ブチルフェニル）−ジトリデシルホス
ファイト、１、１、３−トリス（２’−メチル−４’−
ジトリデシルホスファイト、１、１、３−トリス（２’
−メチル−４’−ジトリデシルホスファイト−５’−ｔ
−ブチルフェニル）ブタン、ポリ（ジプロピレングリコ
ール）フェニルホスファイト等のリン系化合物、９、１
０−ジヒドロ−９−オキサ−１０−ホスフェナントレン
−１０−オキシド、１０−デシロキシ−９、１０−ジヒ
ドロ−９−オキサ−１０−ホスファフェナントレン、１
０−（３’、５’−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベ
ンジル）−９、１０−ジヒドロ−９−オキサ−１０−ホ
スファフェナントレン−１０−オキシド等のホスファフ
ェナントレン系化合物が挙げられる。（投射レンズ用基板の成形方法）本発明方法で得ようと
する投射レンズの具体的大きさを例示すると、平面面積
が１５０ｃｍ²以上、平面の最小幅が１０ｃｍ以上、成
形品厚さが３ｍｍ以上のものが対象となる。

【００３３】さらにスクリーン面積が３０型を越えるよ
うな大型の投写型画像デバイスにおいては、上記の投射
レンズは形状精度が厳しく要求され、不自然感の無い投
射画像を得るためには、レンズ上の一画素領域内での面
に対して垂直方向の形状誤差が±サブミクロン以下であ
ることが望ましい。これを越えるような形状誤差がある
場合は、スクリーン上の画素が本来の形状から歪んだ
り、甚だしい場合は幾つかに分裂してスクリーン上に結
像する。通常２０倍程度に拡大して３０型以上の大画面
に投射するタイプの大型レンズにおいては、そのレンズ
上での一画素の大きさは数ｍｍ〜１ｃｍ程度の幅を有す
る。

【００３４】さらに光学機能面全体での形状誤差が±８
０μ、より好ましくは±５０μ、さらに好ましくは±３
０μ以下であることが望ましい。反り、ヒケ等により光
学機能面全体として、上記の範囲を逸脱する場合は、画
像が垂れたり歪んだりして不自然に見える。上述の樹脂
組成物を、金型の鏡面部に高圧で押し付けて成形するこ
とにより、このような大型の投射レンズの基板が得られ
る。

【００３５】このような成形方法としては、ゲートシー
ル法、リメルト成形法などがある。これらの、成形方法
では金型のキャビティ内に事前に予備成形された樹脂組
成物からなる予備成形体を充填（装着）し、ガラス転移
温度以上に加熱することにより、キャビティ内で成形体
を膨張させ、その膨張力で金型の鏡面部に予備成形体の
表面に押し付け、鏡面を転写する方法である。

【００３６】また、これらの成形方法よりも鏡面の転写
性を良くするための成形方法として、さらに金型全体を
減圧室に入れて加熱することでキャビティ内の樹脂組成
物や予備成形体の膨張をさらに促進して鏡面部に押し付
ける圧力を増し、超鏡面をもつ投射レンズ用基板を得る
方法もある。いずれの成形方法でも、金型の鏡面部に樹
脂を溶融状態又はや熱変形温度以上の温度でで押し付け
て成形することの概念は同じである。

【００３７】さらに、転写された鏡面の平滑性だけでな
く、全体の形状も製品の性能に影響してくる。全体の形
状としては、反りやヒケなどがある。反りやヒケなどが
発生すると、たとえ鏡面部の平滑性が優れていても、ラ
イン画像の直線が湾曲するなどの問題を生じる。このよ
うな、反りやひけなどは、冷却過程での調整が必要とな
る。

【００３８】冷却過程は、ガラス転移点より高い温度で
一定時間保持することにより、材料内部の応力を緩和
し、その後ガラス転移点以下の温度にして（できるだけ
室温近くまで下げるのが好ましい）金型から取り出す。
このような方法で成形された樹脂基板は、レンズの曲面
部分（光学機能面）における、樹脂基板の光学機能面に
対して垂直方向よりの入射光に対する単位厚さあたりの
面内複屈折位相差がきわめて少ない。

【００３９】すなわち、複屈折率は、光学機能面の面積
の中央部分を含む少なくとも６０％以上、好ましくは少
なくとも７０％、より好ましくは少なくとも８０％の領
域において、３０ｎｍ／ｍｍ以下、好ましくは２０ｎｍ
／ｍｍ以下、より好ましくは１０ｎｍ／ｍｍ以下、最も
好ましくは５ｎｍ／ｍｍ以下とすることにより変形の少
ない基板が得られる。

【００４０】光学機能面とは光学的に歪みがあっては困
る部分で、光学部品本来の役目をなす部分（面）であ
る。製造上、光学機能面の周囲に光学機能を果たす必要
のない部分を形成する場合が有るが、そのような縁部分
は含まない。また、光学機能面の中央部分とは平面的に
見た中心部を云う。光学機能面の中央部分を含む少なく
とも６０％の面内複屈折位相差を上記の範囲に有るよう
に形成することにより、所望の投射レンズが得られる。

【００４１】このような基材を得るための具体的成形方
法を説明する。図１、図２は本発明方法の投射レンズを
成形するのに用いる金型の一例の縦断面図である。図
中、１は鏡面金型、２はヒーター、３は周枠、４は裏面
金型、５はヒーター、６，７は冷却装置、８は荷重、９
は減圧加熱槽、１０は樹脂基板をそれぞれ示す。本発明
方法の投射レンズを製造する工程の一例につき説明す
る。

【００４２】冷却装置６の上にヒーター２、鏡面金型１
を配置し、鏡面金型１の周囲に周枠３を配置する。これ
らの成形装置を減圧加熱槽９内に置き、ヒーター２の設
定温度を使用する熱可塑性樹脂のガラス転移点＋１０〜
２０℃に設定する。金型１の表面は熱可塑性樹脂のＴｇ
〜Ｔｇ−３０℃付近まで予熱されればよい。予熱完了
後、この上に基材１０を形成する熱可塑性樹脂樹脂のペ
レットもしくはプリプレグを置く、またはペレット等を
全体がほぼ均一の厚みとなるように敷き詰める。プリプ
レグを用いるのが好ましく、プリプレグは得ようとする
レンズの厚さより３〜２０％程度厚くされているものが
好ましい。

【００４３】投射レンズは反り・変形を防止するため、
全体がほぼ同じ厚さ、すなわち、投射レンズの反射面部
分における樹脂基材の厚みが、樹脂基材の平均厚さの±
５０％以内の厚さとされていることが望ましい。製品中
の厚さが大きく異なる場合は、冷却時の収縮応力に偏り
が発生するため、反りや変形が発生することが多い。ま
た、レンズの周囲に補強のためリブを設けることも考え
られるが、この場合はリブの設けられた部分の厚さは平
均厚さの計算には算入しない。減圧度は大気圧に対し、
−６０ｋＰａ〜−１０２ｋＰａ程度である。この減圧度
は−６０ｋＰａ以下であることが望ましく、より好まし
くは、−９３ｋＰａ以下である。−６０ｋＰａよりも高
いと成形品内部に気泡が閉じこめられ成形品全体の形状
・反りが雰囲気温度によって変化し、光学部品としての
精度が低下する恐れがあり、さらに成形品の端部、具体
的には例えば成形品の周囲に設けた外部機器に取り付け
るための舌片状の取り付け部等、の先端部へ樹脂が十分
に充填せず、端部の欠けた成形品となる場合がある。上
記減圧度及び樹脂材料のＴｇ＋３０〜１００℃程度の温
度まで上昇させ温度が一定になるまで保持し、十分に内
部が溶融された状態で、裏面金型４、ヒーター５、冷却
装置７をセットする。

【００４４】この状態で１０〜５０Ｋｇの荷重８を架け
る。裏面金型４を含め総重量は約２０〜６０Ｋｇとな
る。成形品に対するプレス圧力は約４ｋＰａである。裏
面金型４を被せて荷重８を載せることにより、裏面形状
を形成する。裏面形状に凹凸が発生したり、泡を噛み込
んだ場合は、各部の厚さのバラつきとなるため、上述の
通り形状精度が出ない。

【００４５】適正な圧力範囲は、１〜１００００ｋＰａ
の範囲、好ましくは２〜２０００ｋＰａ。より好ましく
は４〜１０００ｋＰａが望ましい。この圧力未満である
と、裏面形状の形成が不十分であり、この圧力を越える
と分子鎖の配向緩和が不十分であるため、成形品に反り
や変形が発生する場合がある。Ｔｇより７０〜１００℃
高温とするのがより好ましく、Ｔｇより８０〜９０℃高
温とするのが最も好ましい。

【００４６】加熱保持する時間は、１〜６０分、好まし
くは５〜４０分、より好ましくは１０〜３０分が望まし
い。この時間を越える場合は、サイクルタイムが長くな
り工業化の適性が減少する。なお、加熱開始後、１０分
〜６０分間程度の間、ヒーター２，５のうち下側となる
ヒーター２を上側となるヒーター５よりも２０〜１２０
℃程度高温にコントロールするのが良く、このようにす
ることにより、樹脂基板１０の内部、特に鏡面金型１の
鏡面側に気泡を滞留させない効果が期待される。

【００４７】最終的にはＴｇより５０〜１２０℃程度高
い温度であってほぼ同じ温度にヒーター２，５をコント
ロールし、５分〜３０分程度保持する。次いで、減圧状
態から加熱状態のまま、不活性ガスを減圧加熱槽９に導
入し、大気圧付近まで復圧する。復圧するガスは、窒素
等の不活性ガスであることが望ましい。ただし少々酸素
を含んでいても、気泡発生を抑制する、あるいは発生し
た気泡を消泡させる効果に問題は無い。ただし、有酸素
ガスは樹脂表面を酸化劣化させるため、離型不良や成形
品表面のダメージを引き起こす場合があり、好ましくな
い。

【００４８】この観点より復圧するのに用いる不活性ガ
ス中の酸素濃度は１０ｖｏｌ％未満、より好ましくは５
ｖｏｌ％未満、最もこのましくは２ｖｏｌ％未満である
ことが望ましい。復圧後、樹脂内部がピーク温度（Ｔｇ
より３０〜１２０℃程度高い温度、好ましくはＴｇより
５０〜１００℃高い温度）に達してから１０〜４０分程
度この温度に保持した後、冷却動作に入る。ここで配向
を緩和し低復屈折を得る。

【００４９】冷却水等の冷却媒体を冷却装置６，７に流
し、ヒーター２，５の設定をＴｇ〜Ｔｇ＋３０℃程
度まで下げ、この温度で１０〜４０分程度保持する。こ
の状態で１０〜４０分保持した後、さらにこれらの温度
を１０〜５０℃下げ１０〜４０分程度保持し、さらに１
０〜４０分かけてＴｇ以下までヒーター熱板の温度を下
げる。このように、極めてゆっくりと温度を下げてく
る。

【００５０】成形品の冷却は上述のように、０．５〜５
℃／分程度の冷却速度で徐々に冷却される。冷却速度に
ついては、Ｔｇを通過する時点、好ましくはＴｇの上下
１０℃、より好ましくは上下１５℃の範囲において成形
品表面が（３０（℃／分））／（成形品平均厚（ｍ
ｍ））以下の冷却速度であることが望ましく、これは好
ましくは（２０（℃／分））／（成形品平均厚（ｍ
ｍ））以下より好ましくは（１０（℃／分））／（成形
品平均厚（ｍｍ））以下、最も好ましくは（５（℃／
分））／（成形品平均厚（ｍｍ））以下であることが望
ましい。

【００５１】この冷却速度よりも冷却が速い場合は、内
部に温度分布、さらにそれに伴う内部応力さらには配向
再形成が生じ、反りや変形、ヒケが発生して形状精度が
低下する。これは厚肉で、大型の成型品であるほど顕著
である。なおＴｇ近傍での冷却が特に重要である理由
は、Ｔｇ通過時の樹脂の体積変化が極めて大きく、さら
にＴｇを下回ると分子鎖の動きが固定されることから、
反り、変形、ヒケ等の形状精度に与える影響が特に大き
いからである。

【００５２】この冷却時の圧力は大きすぎると配向が緩
和されにくいので、成形品の面積当たり１〜１００００
ｋＰａの範囲、好ましくは２〜２０００ｋＰａ、より好
ましくは４〜１０００ｋＰａが望ましい。圧力が低すぎ
ると鏡面転写が不十分となる場合がある。一方、この冷
却速度、と冷却時の圧力を旨くコントロールすれば、射
出成形機を用いての成形も可能である。勿論、金型に、
精密な制御が可能な加熱装置、冷却装置、圧力制御装置
等の設置が必要となろう。

【００５３】このようにしてゆっくりと所定圧力下に冷
却された基材は金型から取り出される。（反射層の形成）金型から取り出された基材の表面には
金属蒸着膜等からなる反射層が設けられる。

【００５４】蒸着とは狭義の蒸着ではなく、スパッタ、
反応性スパッタ等を含む広義を意味する。通常、蒸着を
行う前に基材を洗浄する。洗浄する理由は表面に付着し
た油脂分、添加剤ブリード物を除去し、反射蒸着膜形成
後にシミ・曇り等の欠陥の無い外観を得ると共に、反射
膜の密着性を向上させることにある。洗浄の方法として
は、常温で洗浄液に１０〜１２０秒間程度浸漬すれば良
い。

【００５５】浸漬時には、効率よく均一に洗浄するため
に超音波を基板の光学機能面に直接当てるのが好まし
い。洗浄液については、フロン系洗浄剤（但し、オゾン
層破壊物質に指定されていない物が好ましい。）n-ヘキ
サン、アルコール系のもが好ましい。乾燥の方法として
は、使用した洗浄剤の蒸気で乾燥し、その後さらに真空
乾燥機で乾燥させることが好ましい。蒸着処理として
は、基板の乾燥後、成膜装置に入れて、真空度を１×１
０^-4〜１×１０^-6ｋＰａまで上げて、成形品の鏡面側に
アンカーコート（下引層）、反射層、保護層を成膜す
る。アンカーコートとしては、金属、例えばクロム（Ｃ
ｒ）、ニッケル（Ｎｉ）など、酸化珪素（ＳｉＯ２やＳ
ｉＯ）などの金属又は金属酸化物がある。

【００５６】基材との接着性や良好な外観が得られるこ
とから酸化珪素（ＳｉＯ₂やＳｉＯ）が好ましい。アン
カーコートの膜厚としては、３０〜１５００Åが好まし
い。３０Å以下であるとピンホールができやすく基材と
の密着性が悪くなる可能性があり、１５００Å以上では
樹脂基材との線膨張係数の差によりアンカーコート膜が
割れやすくなることから３０〜１５００Åが好ましい。
反射層としては、先に述べたようにアルミニウム（Ａ
ｌ）、銀（Ａｇ）などが使われるが、反射率、耐久性、
コストの面からアルミが好ましい。

【００５７】反射層の膜厚としては、５００Å以下では
反射率が７０％以下と低くなる傾向があり、３０００Å
以上では割れが発生する可能性があることから、５００
〜３０００Åであることが好ましい。反射層の上には透
明な保護層が設けられるのがよく、透明な膜であること
が好ましいことから酸化珪素（ＳｉＯ₂又はＳｉＯ）が
好ましく、膜厚としては、３０Å以下ではピンホールが
できやすく、空気中の酸素や水分を遮断できずに反射層
の酸化を生じ反射率を低下させる原因となる。

【００５８】１５００Å以上では、樹脂基材との線膨張
係数の差により膜割れが発生し易くなるとともに反射率
が低下する。また、反射率をアップさせるために保護層
と反射層の間に増反射膜として酸化チタン（ＴｉＯ、Ｔ
ｉＯ₂）の膜を成膜する事もある。この場合の増反射膜
の厚さは５〜１０００Å程度である。

【００５９】可視光領域での反射率はできるだけ高いこ
とが望ましいが、光源の光量を有効利用するとの観点で
可視領域の平均値で７０％以上であることが望ましく、
８０％以上がより好ましく、さらに９０％以上が最も好
ましい。なおアルミニウムの理論反射率は可視領域の平
均値で約９３％である。反射率の測定は、一般的には、
非球面形状では測定は難しいため、樹脂成形基材を成膜
する際に同時に平板モニターガラスを成膜してこのガラ
ス板を測定して評価する。

【００６０】反射率の測定法はと（株）日立製作所製、
自記分光光度計・Ｕ−４０００（商品名）を使用して、
５°正反射付属装置をセットし、Ｖ−Ｎ法により絶対反
射率を測定した。（複屈折率）本発明方法の樹脂製非球面ミラーは、液晶
プロジェクター、ＤＬＰプロジェクター等の投射デバイ
スに使用するミラー型の透明熱可塑樹脂基材製・非球面
投射レンズであって、レンズの曲面部分における、樹脂
基材の光学機能面に対して垂直方向よりの入射光に対す
る単位厚さあたりの面内複屈折位相差の平均値を、光学
機能面の面積の中央部分を含む少なくとも６０％以上の
領域において、３０ｎｍ／ｍｍ以下とするのが望まし
い。

【００６１】なお、複屈折位相差の測定にあたっては、
表面にキズや微細な凹凸が存在すると光が散乱され、測
定結果に影響を与えることがあるので、基材の屈折率と
同じ屈折率に調整され、かつ基材樹脂を常温短時間では
犯さない屈折率調整液を表面に塗布もしくは、屈折率調
整液内に浸漬させて測定する等の工夫が有効である。ま
た樹脂基材に染料等が入って着色している場合には、複
屈折位相差の測定波長を透過率の高い領域に可視領域内
でシフトさせる等して測定することが有効である。

【００６２】被測定基材を平行ニコル状態に設置した２
枚の偏光子内に配置し、被測定基材を回転させた時の光
線透過率の変化より複屈折位相差を測定するタイプの複
屈折測定器であれば、被測定基材の透過率が１０％程度
以上あれば測定可能性がある。被測定基材の光線透過率
が１０％を下回る場合は、着色原因となる染料、顔料、
カーボンブラック等の着色剤を添加せず、同一材料・条
件で成形した基材について評価する。

【００６３】また、成型品表面に金属蒸着膜、誘電体蒸
着膜等が形成されている場合には酸、アルカリ溶液等に
より溶解、除去してから評価する。（測定方法）・ガラス転移点（Ｔｇ）ＤＳＣ法・飽和吸水率ＡＳＴＭＤ５７０準拠・粘度平均分子量ウベローデ型キャピラリー粘度計を用いて、塩化メチレン中２０℃の極限粘度［η］を測定し、以下の式により粘度平均分子量（Ｍｖ）を求める。

【００６４】［η］＝１．２３×１０^-4×（Ｍｖ）Ｅ０．８３・末端ＯＨ基の定量方法四塩化チタン／酢酸法（ＭａｋｒｏｍｏｌＣｈｅｍ、８８、２１５：１９６５）塩化メチレンを溶媒として５％酢酸濃度の溶液を作る。
次に、５％酢酸溶液１０ｍｌに９０ｍｌの塩化メチレン
を入れて希釈しさらにその中に２．５ｍｌの四塩化チタ
ンを添加して、四塩化チタン溶液を作る。あらかじめ所
定のＯＨ基を含有する塩化メチレン溶液を量を変えて数
種類作る。そのそれぞれの溶液に一定量の５％酢酸溶液
と四塩化チタン溶液を入れて、その溶液の吸光度を計測
し検量線を作成する。

【００６５】実際に測定したい樹脂を塩化メチレンの溶
液に溶かして、先程と同じ量の５％酢酸溶液と四塩化チ
タン溶液をその溶液に添加し、その溶液の吸光度を測定
し、検量線からＯＨ基の量を同定する。・複屈折率の測定方法王子計測機器株式会社のＫＯＢＲＡ−ＣＣＤ／Ｘを使用
し、測定は約３００μ角の分割セルごとに実施し、この
測定値を計算処理することによって評価した。測定条件
としては、波長５９０ｎｍに於ける複屈折位相差を光学
機能面全面に渡って測定した。

【００６６】（約３００μｍの分割せるごとに測定）・蒸着膜の密着性評価１０ｍｍ幅のセロテープ（登録商標）を約１０ｍｍ蒸着
面に密着させて、水平面に対して４５°の角度で引っ張
る。（ＪＩＳＺ１５２２準拠）・表面粗さ計小坂（ＫｏｓａｋａｌａｂｏｒａｔｏｒｙＬｔｄ）
製、ＭｏｄｅｌＳＰ−６１（商品名）測定条件：測定倍率１０倍測定高低倍率２００００倍

【００６７】

【実施例１】粘度平均分子量２００００、樹脂中に含ま
れるＯＨ基含有量が１８０ｐｐｍ、Ｔｇ＝１５０℃（Ｄ
ＳＣ法）、界面重合法で製造されたポリカーボネート樹
脂を使用した。本樹脂の飽和吸水率は０．３ｗｔ％（Ａ
ＳＴＭＤ５７０）であった。これを乾燥して用いた。
上記ポリカーボネート樹脂、グリセリン及び短鎖長脂肪
族アルコールと脂肪酸のエステルを組み合わせた離型剤
であるグリセリンモノステアレートを４００ｐｐｍ添加
した。

【００６８】また熱安定剤として、トリス（２，４−ジ
ーtert−ブチルフェニル）フォスファイト（商品名；チ
バ・スペシャルティ・ケミカルズＩＲＧＡＦＯＳ１６
８）を３００ｐｐｍ添加した。添加剤の混練はＪＳＷ社
製ＴＥＸ４４（商品名）二軸混練機を使用して実施し、
上記組成のペレットを得た。

【００６９】まず下記式（１）に示す曲面を有し、非球
面中心から４０ｍｍの位置を底辺とする平面投影寸法２
５ｃｍ角の非球面金型の鏡面金型１（スタンパー）を製
作した。このスタンパーの表面粗さは全面で４０Å〜８
０Åであった。このスタンパーに対し、ちょうど樹脂成
形品の平均厚さが１０ｍｍとなるように周枠３で囲める
ようにし填し、枠まで含めて組み上げた上で（以下、金
型組み上げ物ということがある）その枠内（図３と図１
に囲まれた部分）に先に述べたペレットを入れた。この
状態で蓋４をして、これらをヒーター２，５、冷却装置
６，７に挟み、全体を減圧加熱槽９に入れて、−７０ｋ
Ｐａまで減圧した。その後ヒーター２，５に通電し、２
４０℃まで昇温した。

【００７０】次いで、加熱状態を保ちつつ樹脂成型品面
積当たり４．５ｋＰａの荷重を掛けた。通電後３０分経
過後ヒーターは下側のヒーター２を２４０℃、上側のヒ
ーター５を２４０℃に設定し３０分間保持した。次に、
加熱槽９内の圧力を大気圧まで復圧した。この状態で冷
却装置６，７に水を流量を調整しながら流して冷却しな
がら、ヒーター２，５を１６０℃として５０分保持、次
に、ヒーター２，５を１４０℃とし３０分保持、またヒ
ーター２，５を１１０℃とし３０分保持してゆっくりと
冷却した。計算では、Ｔｇを通過する時点の冷却速度は
０．７℃／分であった。

【００７１】１００℃まで３℃／分で降温させ、減圧加
熱槽９を開放し、金型組み上げ物を取り出し、周枠３、
金型１，４を分解、離型させて内部の樹脂基板１０を取
り出した。

【００７２】

【数１】

【００７３】（ｃ＝１／ｒ，ｃ：曲率，ｒ
：半径，ｋ：円錐率，Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄは係
数） r = -１６０ k = -8.0 A = 7.0E-9 B = -9.0E-14 C = 6.5E-19 D = -2.0E-24 なお、座標設定は図３の通りとした。

【００７４】投射レンズの反射面部分における樹脂基材
の厚みは、平均厚さが１０ｍｍであり、最大厚さ１２ｍ
ｍ、最小厚さ８ｍｍであった。さらにこの成形品につい
て、先に述べた方法で複屈折を測定した。測定に当たっ
ては、基材表面の微細な凹凸やキズによる光の散乱の影
響をキャンセルするため、基材と同じ屈折率に調整した
屈折率調整液を気泡が入らないように表面に塗布して測
定した。

【００７５】この分割セルごとの測定値について、低い
方から７５％の測定値の平均値を求めたところ５０ｎｍ
であった。従って単位厚さあたりの複屈折位相差は５ｎ
ｍ／ｍｍであった。また、基材の表面粗さを測定したと
ころ、０．０１３〜０．０１６μｍの粗さであった。

【００７６】目視による表面状態も良好であった。

【００７７】

【実施例２】離型剤を、ペンタエリスリトールテトラス
テアレートに変えて、添加量を１０００ｐｐｍとし、実
施例１と同様にして投射レンズ用基材を得た。投射レン
ズ用基材の厚みは、平均厚さは１０ｍｍで最大厚さが１
１．５ｍｍ、最小厚さが９．５ｍｍであった。

【００７８】得られた成形体を実施例１と同様に評価し
た。複屈折率：７ｎｍ／ｍｍ表面粗さ：８０Å〜１００Åμｍ目視：表面状態良好

【００７９】

【実施例３】離型剤をペンタエリスリトールテトラステ
アレート１５００ｐｐｍとグリセリンモノステアレー
ト５００ｐｐｍを同時に添加した以外は、実施例１
と同様にして投射レンズ用基材を得た。投射レンズ用基
材の平均厚さは１０．５ｍｍで最大厚さが１２ｍｍ、最
小厚さが９．０ｍｍであった。

【００８０】得られた成形体を実施例１と同様に評価し
た。複屈折率：６ｎｍ／ｍｍ表面粗さ：９０〜１００Å 目視：表面状態良好

【００８１】

【比較例１】離型剤をペンタエリスリトールテトラステ
アレート３０００ｐｐｍを添加した以外は、実施例１
と同様にして投射レンズ用基材を得た。投射レンズ用基
材の平均厚さは１０．２ｍｍであった。最大厚さが１
１．５ｍｍ、最小厚さが９．８ｍｍであった。得られた
成形体を実施例１と同様に評価した。

【００８２】複屈折率：９ｎｍ／ｍｍ表面粗さ：１００〜２００Åであった。外観：表面にべた付きが見られた。

【００８３】

【比較例２】離型剤をグリセリンモノステアレートを８
０ｐｐｍ添加した以外は、実施例１と同様にして投射レ
ンズ用基材を得た。投射レンズ用基材の平均厚さは、
９．９ｍｍであった。最大厚さが、１０．８ｍｍ、最小
厚さが９．１ｍｍであった。得られた成形体を実施例１
と同様にして評価した。

【００８４】複屈折率：１２ｎｍ／ｍｍ表面粗さ：１０００〜１２０００Åであった。外観：金型から離型する際に、離型不良を起こしたこと
が原因と思われるキズが見られた。

【００８５】

【比較例３】樹脂成形品の平均厚みが２ｍｍとなるよう
な周枠を作製した以外は、実施例１と同様にして投射レ
ンズ用基材を得た。投射レンズ用基材の平均厚みは、
２．１ｍｍであった。最大厚さが２．２ｍｍ、最小厚さ
が１．９ｍｍであった。得られた成形体を実施例１と同
様に評価した。

【００８６】複屈折率：２ｎｍ／ｍｍ表面粗さ：１００〜１１０Å 外観：金型から離型する際に、変形が生じたために外観
が不良となった。

【００８７】

【実施例４】実施例１で得られた投射レンズ用基板の表
面をイソプロピルアルコールで洗浄し、乾燥後、その面
上に、Ｃｒ／ＡＬ／ＳｉＯを１００Å／１５００Å／４
００Åの厚さで蒸着した。この膜については、６０℃９
０ＲＨ％の雰囲気下で２５０時間保持した後セローテー
プによる剥離試験を実施したが、膜は剥離しなかった。

【００８８】この投射レンズに画素数１００万の画像を
投射し、１００ｃｍ×７６ｃｍ角のスクリーンに斜め下
方より投射したところ、良好な画像が得られた。

【００８９】

【比較例４】比較例１で得られた投射レンズ用基材の表
面をイソプロピルアルコールで洗浄し、乾燥後、その面
上に、Ｃｒ／ＡＬ／ＳｉＯを１００Å／１５００Å／４
００Åの厚さで蒸着した。この膜については、６０℃９
０ＲＨ％の雰囲気下で２５０時間保持した後セロテープ
による剥離試験を実施した。膜は剥離した。

【００９０】この投射レンズに画素数１００万の画像を
投射し、１００ｃｍ×７６ｃｍ角のスクリーンに斜め下
方より投射したところ、剥離部に対応すると思われる部
分が画像不良となった。

【００９１】

【発明の効果】本発明の組成物により、高精度かつ歪み
の少ない非球面反射面を有する非球面投射レンズが得ら
れる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明方法の投射レンズを成形するのに用いる
金型の一例の縦断面図

【図２】本発明方法の投射レンズを成形するのに用いる
金型の一例の縦断面図

【図３】実施例１における座標設定図

【符号の説明】

１鏡面金型２ヒーター３周枠４裏面金型５ヒーター６冷却装置７冷却装置８荷重９減圧加熱槽１０樹脂基板Ｚ非球面中心を原点とする非球面の回転対称軸上の座
標ｈ非球面中心を原点とする非球面の回転対称軸と鉛直
方向への距離座標

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号ＦＩテーマコート゛(参考）Ｃ０８Ｌ 101/00 Ｃ０８Ｌ 101/00 Ｇ０２Ｂ 1/04 Ｇ０２Ｂ 1/04 5/08 5/08 Ａ // Ｂ２９Ｋ 69:00 Ｂ２９Ｋ 69:00 Ｂ２９Ｌ 11:00 Ｂ２９Ｌ 11:00 Ｆターム(参考） 2H042 DA02 DA04 DA11 DA15 DA18 DC02 DC12 DD09 4F202 AA28 AH75 AM28 AM30 CA09 CB01 CK11 4F204 AA28 AH75 AM28 AM30 FA01 FB01 FN11 FN12 FN15 4J002 BC031 BC071 BG031 BG041 BG061 BK001 CF001 CG001 CN031 EH046 EH056 FD060 GP01

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】平面面積が１５０ｃｍ²以上、平面の最
小幅が１０ｃｍ以上、成形品厚さが３ｍｍ以上の非球面
の成形体の光学機能形成面の表面に反射層を設けて投射
レンズを構成するための樹脂組成物であって、樹脂中に
含まれるＯＨ基含有量が２５０ｐｐｍ以下、ガラス転移
点が７０℃以上の非晶性熱可塑性樹脂と該樹脂に対して
１００〜２０００ｐｐｍのアルコールの脂肪酸エステル
系離型剤を含有してなる非球面レンズの基板用組成物。
【請求項２】非晶質熱可塑性樹脂がポリカーボネート樹
脂であることを特徴とする請求項１に記載の非球面投射
レンズの基板用組成物
【請求項３】アルコールの肪酸エステルがグリセリン
モノステアレート及び／又はでペンタエリスリトールテ
トラステアレートであることを特徴とする請求項１又は
２に記載の非球面投射レンズの基板用組成物。
【請求項４】請求項１乃至３のいずれかに記載の組成
物を用いて、表面粗さ１００Å以下の鏡面金型から転写
して形成された、光学機能形成面の少なくとも８０％の
面積における表面粗さ（Ｒａ）が２００Å以下である光
学機能形成面の表面に反射層を設けてなる投射レンズ用
の基板。
【請求項５】請求項１乃至４のいずれかに記載の組成
物を用い、レンズの曲面部分における、樹脂基材の光学
機能面に対して垂直方向よりの入射光に対する単位厚さ
あたりの面内複屈折位相差の平均値を、光学機能面の面
積の少なくとも６０％の領域において、３０ｎｍ／ｍｍ
以下となるように成形してなる非球面投射レンズの基
板。
【請求項６】請求項４又は５に記載の非球面投射レンズ
の基板の鏡面上に金属又は金属酸化物からなるアンカー
コートを設け、その上にアルミニウムの反射膜を設けた
ことを特徴とする非球面投射レンズ。