JP2002192846A - Original plate for planographic printing - Google Patents

Original plate for planographic printing

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JP2002192846A
JP2002192846A JP2000395208A JP2000395208A JP2002192846A JP 2002192846 A JP2002192846 A JP 2002192846A JP 2000395208 A JP2000395208 A JP 2000395208A JP 2000395208 A JP2000395208 A JP 2000395208A JP 2002192846 A JP2002192846 A JP 2002192846A
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JP
Japan
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group
resin
hydrophilic
acid
fine particles
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP2000395208A
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Japanese (ja)
Inventor
Akihiro Endo
章浩 遠藤
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Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
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Publication date
Application filed by Fuji Photo Film Co Ltd filed Critical Fuji Photo Film Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an original plate for planographic printing capable of being printed in a state directly mounted on a printing press without being treated after scanning exposure based on a digital signal and improved in antistaining properties and printing durability. SOLUTION: The original plate for paleographic printing is obtained by providing a hydrophilic layer, which contains self-water dispersible hydrophobilized resin fine particles, a photothermal converting agent and a hydrophilic binder and can be made hydrophobic by heat, on a support.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、支持体上に画像形
成を行う親水層を有する現像不要のネガ型平版印刷用原
板に関する。より詳しくは、デジタル信号に基づいた赤
外線走査露光による画像記録が可能であり、画像記録し
たものは現像処理することなくそのまま印刷機に装着し
て印刷が可能な平版印刷用原板に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a negative-working negative planographic printing plate having a hydrophilic layer for forming an image on a support. More specifically, the present invention relates to a lithographic printing original plate capable of recording an image by infrared scanning exposure based on a digital signal and mounting the image-recorded image directly on a printing machine without development processing.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年進展が著しいコンピュータ・ツウ・
プレート用刷版については、多数の研究がなされてい
る。その中で一層の工程合理化と廃液処理問題の解決を
目指すものとして、露光後現像処理することなしにその
まま印刷機に装着して印刷できる平版印刷用原板や、印
刷機上で露光し、そのまま印刷できる平版印刷用原板が
研究され、種々の方法が提案されている。
2. Description of the Related Art In recent years, computer-to-computer
Numerous studies have been made on plate printing plates. Among them, the aim is to further streamline the process and solve the problem of waste liquid treatment. As a result, lithographic printing original plates that can be mounted directly on a printing press without exposure and development processing, or exposed on a printing press and printed directly Possible lithographic printing plates have been studied and various methods have been proposed.

【0003】有望な方法の一つは、熱可塑性ポリマー微
粒子や親油性物質を内包したマイクロカプセルなどの微
粒子を親水性樹脂などのマトリックス中に分散した親水
層(画像形成層)を有する感熱性平版印刷用原板を用いる
ものである。親水層に熱を加えると、熱可塑性ポリマー
微粒子が、溶融合体し、もしくは内包された親油性物質
がマイクロカプセル外に散出して、親水層表面を親油性
画像部に変換する。この親油性画像部と未露光の親水性
マトリックスからなる親水性非画像部との表面構成を印
刷面として用いることにより、完全無処理で、湿し水を
使用する平版印刷を行えることが知られている。
One promising method is a heat-sensitive lithographic plate having a hydrophilic layer (image forming layer) in which fine particles such as thermoplastic polymer fine particles and microcapsules containing a lipophilic substance are dispersed in a matrix such as a hydrophilic resin. An original plate for printing is used. When heat is applied to the hydrophilic layer, the thermoplastic polymer particles melt and coalesce, or the contained lipophilic substance scatters out of the microcapsules, converting the hydrophilic layer surface into a lipophilic image area. It is known that lithographic printing using a fountain solution can be performed without any treatment by using the surface configuration of the lipophilic image area and the hydrophilic non-image area composed of an unexposed hydrophilic matrix as a printing surface. ing.

【0004】また、このような無処理の平版印刷用原板
は、明室に置かれた印刷機にそのまま装着されるので、
室内光に当たっても問題のない性質(明室取り扱い性)を
有することが必要とされるが、記録手段として熱記録ヘ
ッドや赤外線露光を用いることにより、明室取り扱い性
が可能になることも知られている。
[0004] In addition, such an unprocessed lithographic printing plate is directly mounted on a printing machine placed in a bright room.
It is necessary to have a property that does not cause problems even when exposed to room light (light room handling), but it is also known that the use of a thermal recording head or infrared exposure as a recording means enables light room handling. ing.

【0005】例えば、特開昭59−174394号公
報、1992年1月のResearch Disclosure No.333
03等には、熱可塑性ポリマー微粒子を親水性樹脂中に
分散した感熱層を有する感熱性平版印刷原板が開示され
ており、熱記録後、無処理で印刷できることが記載され
ている。
For example, Japanese Unexamined Patent Publication No. 59-174394, Research Disclosure No. 333, January 1992,
No. 03 and the like disclose a heat-sensitive lithographic printing original plate having a heat-sensitive layer in which thermoplastic polymer fine particles are dispersed in a hydrophilic resin, and describe that printing can be performed without treatment after thermal recording.

【0006】また、例えば、日本特許2938397号
公報、特開平9−127683号公報およびWO99−
10186号には、親水性バインダーポリマー中に熱可
塑性疎水性重合体の微粒子を分散させた感光層(画像記
録層)を親水性支持体上に設けた平版印刷用原板が開示
されている。この公報には、該平版印刷用原板におい
て、赤外線レーザー露光して熱可塑性疎水性重合体の微
粒子を熱により合体させて画像形成した後、印刷機シリ
ンダー上に版を取付け、湿し水および/またはインキに
より機上現像できることが記載されている。
Further, for example, Japanese Patent No. 2938397, Japanese Patent Application Laid-Open No. 9-127683 and WO99-
No. 10186 discloses a lithographic printing original plate in which a photosensitive layer (image recording layer) in which fine particles of a thermoplastic hydrophobic polymer are dispersed in a hydrophilic binder polymer is provided on a hydrophilic support. According to this publication, the lithographic printing original plate is subjected to infrared laser exposure to form an image by heat-bonding thermoplastic hydrophobic polymer fine particles to form an image. Then, the plate is mounted on a printing press cylinder, and dampening water and / or Alternatively, it is described that on-press development can be performed with ink.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、これら
先行技術による平版印刷用原板は、印刷における汚れ難
さおよび耐刷性が不十分である問題があった。従って、
本発明の目的は、この問題を解決することである。すな
わち、露光後、処理を行うことなく直接印刷機に装着し
て印刷することが可能で、しかも汚れ難さと耐刷性の改
良された平版印刷用原板を提供することである。
However, these lithographic printing original plates according to the prior art have a problem in that they are difficult to stain in printing and have insufficient printing durability. Therefore,
It is an object of the present invention to solve this problem. That is, it is an object of the present invention to provide a lithographic printing original plate which can be directly mounted on a printing machine for printing after exposure without any processing, and has improved stain resistance and printing durability.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】本発明者は、前記課題に
対して、親水性結着剤中の疎水性化樹脂微粒子の熱に対
する極性変換挙動を詳細に検討した結果、疎水性化樹脂
の分子構造中に親水性基を導入することによって、自己
水分散可能となり、且つ親水性結着剤との相溶性が良化
するため、非画像部の親水性を低下させることなく、皮
膜強度が向上して耐刷性に優れ、しかも加熱により親油
性画像部に変換した皮膜のインキ受容性も維持可能であ
ることを見出した。さらに、この傾向は、コア部を親油
性樹脂、シェル部を親水性成分とするコア/シェル構造
を有する疎水性化樹脂微粒子において顕著であることを
見出した。これらの発見に基づいて更に研究を重ね本発
明を完成するに至った。すなわち、本発明は以下の通り
である。
In order to solve the above-mentioned problems, the present inventor has studied in detail the polarity conversion behavior of the hydrophobized resin fine particles in the hydrophilic binder to heat. By introducing a hydrophilic group into the molecular structure, self-water dispersion becomes possible, and the compatibility with the hydrophilic binder is improved, so that the film strength is reduced without lowering the hydrophilicity of the non-image area. It has been found that the printing durability is improved and the ink receptivity of the film converted into the lipophilic image area by heating can be maintained. Further, it has been found that this tendency is remarkable in the hydrophobic resin fine particles having a core / shell structure in which the core portion is a lipophilic resin and the shell portion is a hydrophilic component. Based on these findings, the present inventors have further studied and completed the present invention. That is, the present invention is as follows.

【0009】1.支持体上に、自己水分散性の疎水性化
樹脂微粒子、光熱変換剤および親水性結着剤を含有す
る、熱により疎水化可能な親水層を有することを特徴と
する平版印刷用原板。
1. A lithographic printing plate comprising a support and a heat-hydrophobizable hydrophilic layer containing self-water dispersible hydrophobic resin fine particles, a photothermal conversion agent and a hydrophilic binder.

【0010】2.該疎水性化樹脂粒子の樹脂が、分子内
にアクリル樹脂、エポキシ樹脂、スチレン樹脂、ウレタ
ン樹脂、フェノール樹脂、ビニルエステル樹脂及びその
誘導体からなる群から選ばれる少なくとも一つの親油性
樹脂の構造部分と、カルボン酸基、スルホン酸基、リン
酸基、水酸基、アミド基、スルホンアミド基およびアミ
ノ基から選ばれる少なくとも一つの親水性基を有する構
造部分とを有する樹脂であることを特徴とする前記1記
載の平版印刷用原板。
[0010] 2. The resin of the hydrophobized resin particles has, in the molecule, an acrylic resin, an epoxy resin, a styrene resin, a urethane resin, a phenol resin, a structural portion of at least one lipophilic resin selected from the group consisting of vinyl ester resins and derivatives thereof. A resin having a structural portion having at least one hydrophilic group selected from a carboxylic acid group, a sulfonic acid group, a phosphoric acid group, a hydroxyl group, an amide group, a sulfonamide group and an amino group. The lithographic printing plate as described.

【0011】3.該疎水性化樹脂微粒子がコア/シェル
構造を有し、コア部は親油性樹脂、シェル部は親水性の
成分からなる微粒子であることを特徴とする前記1記載
の平版印刷用原板。
3. 2. The lithographic printing original plate as described in 1 above, wherein the hydrophobic resin fine particles have a core / shell structure, the core portion is a lipophilic resin, and the shell portion is fine particles comprising a hydrophilic component.

【0012】4.コア部の親油性樹脂が、アクリル樹
脂、エポキシ樹脂、スチレン樹脂、ウレタン樹脂、フェ
ノール樹脂、ビニルエステル樹脂及びその誘導体からな
る群から選ばれる少なくとも一つの樹脂であることを特
徴とする前記3記載の平版印刷用原板。
4. The lipophilic resin of the core portion is at least one resin selected from the group consisting of an acrylic resin, an epoxy resin, a styrene resin, a urethane resin, a phenol resin, a vinyl ester resin and a derivative thereof. Lithographic printing plate.

【0013】5.シェル部の親水性の成分が、カルボン
酸基、リン酸基、ホスホン酸基、水酸基、アミド基、ス
ルホンアミド基およびアミノ基から選ばれた少なくとも
一つの親水性基を有する樹脂であることを特徴とする前
記3又は4記載の平版印刷用原板。
5. The hydrophilic component of the shell portion is a resin having at least one hydrophilic group selected from a carboxylic acid group, a phosphoric acid group, a phosphonic acid group, a hydroxyl group, an amide group, a sulfonamide group, and an amino group. 5. The lithographic printing original plate as described in 3 or 4 above.

【0014】ここで、特開平11−348446号に
は、光を吸収し熱を発生する物質、アニオン型自己水分
散性樹脂微粒子およびフッ素系界面活性剤を含有する感
熱性組成物を、親水性表面を持つ支持体上に塗設したネ
ガ型平版印刷版原版が開示されている。しかしながら、
この平版印刷版原版は、露光後、湿式現像を行って未露
光部を除去し、支持体の親水性表面を非画像部とする印
刷用原板に関するものであり、本発明の如き、露光後、
無処理で印刷可能で、支持体上に設けた親水層未露光部
が非画像部となる平版印刷用原板に対して何ら開示も示
唆もしていない。
Japanese Patent Application Laid-Open No. 11-348446 discloses a heat-sensitive composition containing a substance that absorbs light and generates heat, an anionic self-water-dispersible resin fine particle, and a fluorine-containing surfactant. A negative planographic printing plate precursor coated on a support having a surface is disclosed. However,
This lithographic printing plate precursor is, after exposure, removes unexposed portions by performing wet development, and relates to a printing plate having a hydrophilic surface of a support as a non-image portion, and after exposure, as in the present invention,
There is no disclosure or suggestion for a lithographic printing original plate which can be printed without processing and in which an unexposed portion of the hydrophilic layer provided on the support becomes a non-image portion.

【0015】[0015]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て詳細に説明する。本発明の平版印刷用原板では、支持
体上に親水層を有するのが基本の層構成であり、必要に
応じて、支持体と親水層の間に断熱層、親水層の上に水
可溶性の保護層を有することができる。
Embodiments of the present invention will be described below in detail. In the lithographic printing plate precursor of the present invention, the basic layer configuration is to have a hydrophilic layer on the support, and if necessary, a heat-insulating layer between the support and the hydrophilic layer, and a water-soluble layer on the hydrophilic layer. It can have a protective layer.

【0016】〔親水層〕本発明の親水層は、自己水分散
性の疎水性化樹脂微粒子、光熱変換剤および親水性結着
剤を含有する。
[Hydrophilic layer] The hydrophilic layer of the present invention contains hydrophobic particles of a self-dispersible hydrophobic resin, a photothermal conversion agent and a hydrophilic binder.

【0017】本発明の自己水分散性の疎水性化樹脂微粒
子は、熱軟化性または熱融解性の樹脂粒子で、親水層に
一定以上の熱を加えたときに融着もしくは合体して親水
層を疎水性に変換する機能を有する自己水分散性の樹脂
微粒子である。好適な自己水分散性の疎水性化樹脂微粒
子として、(1)分子内に親油性樹脂部分と親水性基を
有する原料樹脂を、特開平3−221137号や特開平
5−66600号に記載されているような転相乳化法に
よって乳化剤や保護コロイドなしに水に分散した樹脂微
粒子、および(2)コア/シェル構造を有し、コア部は
親油性樹脂、シェル部は親水性の成分からなる樹脂微粒
子を挙げることができる。
The self-water dispersible hydrophobized resin particles of the present invention are heat-softening or heat-fusing resin particles, which are fused or united when a certain amount of heat is applied to the hydrophilic layer. Self-dispersible resin fine particles having the function of converting phenol into hydrophobic. As preferred self-water dispersible hydrophobized resin fine particles, (1) a starting resin having a lipophilic resin portion and a hydrophilic group in a molecule is described in JP-A-3-221137 and JP-A-5-66600. Resin fine particles dispersed in water without an emulsifier or protective colloid by the phase inversion emulsification method as described above, and (2) having a core / shell structure, a core portion comprising a lipophilic resin, and a shell portion comprising a hydrophilic component. Resin fine particles can be used.

【0018】転相乳化法に用いる原料樹脂分子内の親水
性基としては、カルボン酸基、スルホン酸基、リン酸
基、水酸基、アミド基、スルホンアミド基およびアミノ
基を挙げることができる。親水基を有する単量体の具体
例として、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、クロト
ン酸、イタコン酸、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸
モノブチル、マレイン酸モノブチル、アシッドホスホオ
キシエチルメタクリレート、アシッドホスホオキシプロ
ピルメタクリレート、3−クロロ−2−アクリルアミド
−2−メチルプロパンスルホン酸、2−スルホエチルメ
タクリレート、アクリルアミド、N−ビニルピロリド
ン、N−ビニルイミダゾール、ヒドロキシエチルアクリ
レートなどを挙げることができる。
Examples of the hydrophilic group in the raw material resin molecule used in the phase inversion emulsification method include a carboxylic acid group, a sulfonic acid group, a phosphoric acid group, a hydroxyl group, an amide group, a sulfonamide group and an amino group. Specific examples of the monomer having a hydrophilic group, for example, acrylic acid, methacrylic acid, crotonic acid, itaconic acid, maleic acid, fumaric acid, monobutyl itaconate, monobutyl maleate, acid phosphooxyethyl methacrylate, acid phosphooxypropyl Examples thereof include methacrylate, 3-chloro-2-acrylamido-2-methylpropanesulfonic acid, 2-sulfoethyl methacrylate, acrylamide, N-vinylpyrrolidone, N-vinylimidazole, and hydroxyethyl acrylate.

【0019】転相乳化法に用いる原料樹脂分子内の親油
性樹脂部分の例として、下記(A)〜(J)の重合性単
量体を重合または共重合させて得られる重合体部分を挙
げることができる。
As an example of the lipophilic resin portion in the raw material resin molecule used in the phase inversion emulsification method, a polymer portion obtained by polymerizing or copolymerizing the following polymerizable monomers (A) to (J) is exemplified. be able to.

【0020】(A)アクリル酸エステル類。この単量体
群の例には、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、ア
クリル酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸アミ
ル、アクリル酸ヘキシル、アクリル酸シクロヘキシル、
アクリル酸オクチル、アクリル酸フェニル、アクリル酸
ベンジル、アクリル酸−2−クロロエチル、アクリル酸
−2−ヒドロキシエチル、アクリル酸4−ヒドロキシブ
チル、o−、m−およびp−ヒドロキシフェニルアクリ
レート、グリシジルアクリレート、N−ジメチルアミノ
エチルアクリレートなどが挙げられる。
(A) Acrylic esters. Examples of this monomer group include methyl acrylate, ethyl acrylate, propyl acrylate, butyl acrylate, amyl acrylate, hexyl acrylate, cyclohexyl acrylate,
Octyl acrylate, phenyl acrylate, benzyl acrylate, 2-chloroethyl acrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, 4-hydroxybutyl acrylate, o-, m- and p-hydroxyphenyl acrylate, glycidyl acrylate, N -Dimethylaminoethyl acrylate and the like.

【0021】(B)メタクリル酸エステル類。この単量
体群の例には、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチ
ル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸ブチル、メタ
クリル酸アミル、メタクリル酸ヘキシル、メタクリル酸
シクロヘキシル、メタクリル酸オクチル、メタクリル酸
フェニル、メタクリル酸ベンジル、メタクリル酸−2−
クロロエチル、メタクリル酸−2−ヒドロキシエチル、
メタクリル酸−4−ヒドロキシブチル、o−、m−およ
びp−ヒドロキシフェニルメタクリレート、グリシジル
メタクリレート、N,N−ジメチルアミノエチルメタク
リレートなどが挙げられる。
(B) Methacrylic esters. Examples of this monomer group include methyl methacrylate, ethyl methacrylate, propyl methacrylate, butyl methacrylate, amyl methacrylate, hexyl methacrylate, cyclohexyl methacrylate, octyl methacrylate, phenyl methacrylate, benzyl methacrylate, Methacrylic acid-2-
Chloroethyl, 2-hydroxyethyl methacrylate,
4-Hydroxybutyl methacrylate, o-, m- and p-hydroxyphenyl methacrylate, glycidyl methacrylate, N, N-dimethylaminoethyl methacrylate and the like.

【0022】(C)置換アクリルアミド及び置換メタク
リルアミド類。この単量体群の例には、N−メチロール
アクリルアミド、N−メチロールメタクリルアミド、N
−エチルアクリルアミド、N−エチルメタクリルアミ
ド、N−ヘキシルアクリルアミド、N−ヘキシルメタク
リルアミド、N−シクロヘキシルアクリルアミド、N−
シクロヘキシルメタクリルアミド、N−ヒドロキシエチ
ルアクリルアミド、N−ヒドロキシエチルアクリルアミ
ド、N−フェニルアクリルアミド、N−フェニルメタク
リルアミド、N−ベンジルアクリルアミド、N−ベンジ
ルメタクリルアミド、N−ニトロフェニルアクリルアミ
ド、N−ニトロフェニルメタクリルアミド、N−エチル
−N−フェニルアクリルアミドおよびN−エチル−N−
フェニルメタクリルアミド、N−(4−ヒドロキシフェ
ニル)アクリルアミド、N−(4−ヒドロキシフェニ
ル)メタクリルアミドなどが挙げられる。
(C) Substituted acrylamides and substituted methacrylamides. Examples of this monomer group include N-methylol acrylamide, N-methylol methacrylamide,
-Ethylacrylamide, N-ethylmethacrylamide, N-hexylacrylamide, N-hexylmethacrylamide, N-cyclohexylacrylamide, N-
Cyclohexyl methacrylamide, N-hydroxyethyl acrylamide, N-hydroxyethyl acrylamide, N-phenyl acrylamide, N-phenyl methacrylamide, N-benzyl acrylamide, N-benzyl methacrylamide, N-nitrophenyl acrylamide, N-nitrophenyl methacrylamide , N-ethyl-N-phenylacrylamide and N-ethyl-N-
Examples include phenylmethacrylamide, N- (4-hydroxyphenyl) acrylamide, and N- (4-hydroxyphenyl) methacrylamide.

【0023】(D)ビニルエーテル類。この単量体群の
例には、エチルビニルエーテル、2−クロロエチルビニ
ルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、プロピ
ルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、オクチルビ
ニルエーテル、フェニルビニルエーテルなどが挙げられ
る。 (E)ビニルエステル類。この単量体群の例には、ビニ
ルアセテート、ビニルクロロアセテート、ビニルブチレ
ート、安息香酸ビニルなどが挙げられる。 (F)スチレン類。この単量体群の例には、スチレン、
メチルスチレン、t−ブチルスチレン、クロロメチルス
チレン、o−、m−およびp−ヒドロキシスチレンなど
が挙げられる。
(D) Vinyl ethers. Examples of this monomer group include ethyl vinyl ether, 2-chloroethyl vinyl ether, hydroxyethyl vinyl ether, propyl vinyl ether, butyl vinyl ether, octyl vinyl ether, phenyl vinyl ether and the like. (E) Vinyl esters. Examples of this group of monomers include vinyl acetate, vinyl chloroacetate, vinyl butyrate, vinyl benzoate, and the like. (F) Styrenes. Examples of this group of monomers include styrene,
Examples include methylstyrene, t-butylstyrene, chloromethylstyrene, o-, m- and p-hydroxystyrene.

【0024】(G)ビニルケトン類。この単量体群の例
には、メチルビニルケトン、エチルビニルケトン、プロ
ピルビニルケトン、フェニルビニルケトンなどが挙げら
れる。 (H)オレフィン類。この単量体群の例には、エチレ
ン、プロピレン、イソブチレン、ブタジエン、イソプレ
ンなどが挙げられる。 (I)N−含有単量体。この単量体群の例には、N−ビ
ニルカルバゾール、アクリロニトリル、メタクリロニト
リルなどが挙げられる。
(G) Vinyl ketones. Examples of this monomer group include methyl vinyl ketone, ethyl vinyl ketone, propyl vinyl ketone, phenyl vinyl ketone, and the like. (H) olefins. Examples of this monomer group include ethylene, propylene, isobutylene, butadiene, isoprene and the like. (I) N-containing monomers. Examples of this monomer group include N-vinylcarbazole, acrylonitrile, methacrylonitrile, and the like.

【0025】(J)不飽和スルホンアミド。この単量体
群の例には、N−(o−アミノスルホニルフェニル)ア
クリルアミド、N−(m−アミノスルホニルフェニル)
アクリルアミド、N−(p−アミノスルホニルフェニ
ル)アクリルアミド、N−〔1−(3−アミノスルホニ
ル)ナフチル〕アクリルアミド、N−(2−アミノスル
ホニルエチル)アクリルアミドなどのアクリルアミド
類、N−(o−アミノスルホニルフェニル)メタクリル
アミド、N−(m−アミノスルホニルフェニル)メタク
リルアミド、N−(p−アミノスルホニルフェニル)メ
タクリルアミド、N−〔1−(3−アミノスルホニル)
ナフチル〕メタクリルアミド、N−(2−アミノスルホ
ニルエチル)メタクリルアミドなどのメタクリルアミド
類、また、o−アミノスルホニルフェニルアクリレー
ト、m−アミノスルホニルフェニルアクリレート、p−
アミノスルホニルフェニルアクリレート、1−(3−ア
ミノスルホニルフェニルナフチル)アクリレートなどの
アクリル酸エステル類などの不飽和スルホンアミド、o
−アミノスルホニルフェニルメタクリレート、m−アミ
ノスルホニルフェニルメタクリレート、p−アミノスル
ホニルフェニルメタクリレート、1−(3−アミノスル
ホニルフェニルナフチル)メタクリレートなどが挙げら
れる。
(J) Unsaturated sulfonamide. Examples of this monomer group include N- (o-aminosulfonylphenyl) acrylamide, N- (m-aminosulfonylphenyl)
Acrylamides such as acrylamide, N- (p-aminosulfonylphenyl) acrylamide, N- [1- (3-aminosulfonyl) naphthyl] acrylamide, N- (2-aminosulfonylethyl) acrylamide, N- (o-aminosulfonyl) Phenyl) methacrylamide, N- (m-aminosulfonylphenyl) methacrylamide, N- (p-aminosulfonylphenyl) methacrylamide, N- [1- (3-aminosulfonyl)
Naphthyl] methacrylamides such as methacrylamide and N- (2-aminosulfonylethyl) methacrylamide; o-aminosulfonylphenyl acrylate; m-aminosulfonylphenyl acrylate;
Unsaturated sulfonamides such as acrylates such as aminosulfonylphenyl acrylate and 1- (3-aminosulfonylphenylnaphthyl) acrylate; o
-Aminosulfonylphenyl methacrylate, m-aminosulfonylphenyl methacrylate, p-aminosulfonylphenyl methacrylate, 1- (3-aminosulfonylphenylnaphthyl) methacrylate and the like.

【0026】転相乳化法に用いる原料樹脂分子内の親油
性樹脂部分としては、場合によっては、上記の重合性単
量体類と重合性不飽和基含有オリゴマーとの共重合体で
あってもよい。このような重合性不飽和基含有オリゴマ
ーとしては、例えば、ビニル変性ポリエステル、ビニル
変性ポリウレタン、ビニル変性エポキシ樹脂、ビニル変
性フェノール樹脂等を挙げることができる。具体例とし
ては、無水マレイン酸、フマル酸、テトラヒドロ無水フ
タル酸、エンドメチレンテトラヒドロ無水マレイン酸、
α−テルピネン無水マレイン酸付加物、トリオールのモ
ノアリルエーテル、ペンタエリスリットジアリルエーテ
ルもしくはアリルグリシジルエーテル等の各種化合物の
重縮合ないしは付加により重合性不飽和結合(ビニル
基)が導入される。
In some cases, the lipophilic resin portion in the raw material resin molecule used in the phase inversion emulsification method may be a copolymer of the above-mentioned polymerizable monomers and an oligomer containing a polymerizable unsaturated group. Good. Examples of such a polymerizable unsaturated group-containing oligomer include vinyl-modified polyester, vinyl-modified polyurethane, vinyl-modified epoxy resin, and vinyl-modified phenol resin. Specific examples include maleic anhydride, fumaric acid, tetrahydrophthalic anhydride, endomethylene tetrahydromaleic anhydride,
Polymerizable unsaturated bonds (vinyl groups) are introduced by polycondensation or addition of various compounds such as α-terpinene maleic anhydride adduct, triallyl monoallyl ether, pentaerythritol diallyl ether or allyl glycidyl ether.

【0027】さらに、ポリエステル中に酸基を導入せし
めるには、例えば、フタル酸の如き二塩基酸を過剰に用
いることによればよく、それによって末端にカルボキシ
ル基を有するものが得られる。あるいは、無水トリメリ
ット酸の使用によって、主鎖中に酸基を有するものが得
られる。
Further, in order to introduce an acid group into the polyester, for example, an excess of a dibasic acid such as phthalic acid may be used, whereby a product having a terminal carboxyl group can be obtained. Alternatively, one having an acid group in the main chain can be obtained by using trimellitic anhydride.

【0028】ビニル変性ポリウレタンとしては、例え
ば、グリセリンモノアリルエーテル又は1,2−結合を
含むブタジエンポリオールの如き、各種のポリオールと
ジイソシアネートとの付加重合などにより得られる。あ
るいは、末端にイソシアネート基を有するウレタンと水
酸基含有重合性単量体類との付加反応等によっても、ビ
ニル結合が導入される。また、ジメチロールプロピオン
酸等を、ポリオール成分として加えることによっても、
ポリウレタン中に酸成分を導入せしめることができる。
The vinyl-modified polyurethane can be obtained by, for example, addition polymerization of various polyols and diisocyanate such as glycerin monoallyl ether or butadiene polyol having a 1,2-bond. Alternatively, a vinyl bond is also introduced by an addition reaction of urethane having an isocyanate group at a terminal with a polymerizable monomer having a hydroxyl group. Also, by adding dimethylolpropionic acid or the like as a polyol component,
An acid component can be introduced into the polyurethane.

【0029】ビニル変性エポキシ樹脂としては、例え
ば、エポキシ樹脂の末端エポキシ基とアクリル酸又はメ
タクリル酸のカルボキシル基とを反応せしめたもの等を
挙げることができる。
Examples of the vinyl-modified epoxy resin include those obtained by reacting a terminal epoxy group of an epoxy resin with a carboxyl group of acrylic acid or methacrylic acid.

【0030】ビニル変性フェノール樹脂としては、例え
ば、フェノール樹脂の水酸基と(メタ)アクリル酸ハロ
ゲン化物もしくはグリシジル(メタ)アクリレートとを
反応させたものなどを挙げることができる。
Examples of the vinyl-modified phenol resin include those obtained by reacting a hydroxyl group of a phenol resin with a (meth) acrylic halide or glycidyl (meth) acrylate.

【0031】さらに、カルボキシル基含有ビニル共重合
体に、グリシジル基含有重合性単量体を付加せしめた重
合性ビニル基を有する重合性単量体類のオリゴマーが得
られる。ここで用いられる重合性単量体類は、前掲した
ものの中から選ばれる。しかし、重合性ビニル基を有す
るオリゴマーであれば、上述した種類や方法に限定され
るものではない。
Further, an oligomer of a polymerizable monomer having a polymerizable vinyl group obtained by adding a glycidyl group-containing polymerizable monomer to a carboxyl group-containing vinyl copolymer is obtained. The polymerizable monomers used here are selected from those described above. However, if it is an oligomer having a polymerizable vinyl group, it is not limited to the above-described types and methods.

【0032】これらの単量体および重合性不飽和基含有
オリゴマーから選ばれた少なくとも一つと前記の親水基
有する単量体とを共重合することにより転相乳化法によ
る自己水分散性樹脂微粒子の原料樹脂が得られる。この
原料樹脂は、重量平均子量が500〜500,000、
数平均分子量が200〜60000であることが好まし
い。
By copolymerizing at least one selected from these monomers and oligomers having a polymerizable unsaturated group with the above-mentioned monomer having a hydrophilic group, a self-water-dispersible resin fine particle is obtained by a phase inversion emulsification method. A raw resin is obtained. This raw material resin has a weight average particle size of 500 to 500,000,
The number average molecular weight is preferably from 200 to 60,000.

【0033】さらに、自己水分散性樹脂微粒子の原料樹
脂は、熱反応性官能基を有することもできる。熱反応性
官能基としては、重合反応を行うエチレン性不飽和基
(例えば、アクリロイル基、メタクリロイル基、ビニル
基、アリル基など)、付加反応を行うエポキシ基、イソ
シアナート基あるいはそのブロック体など挙げることが
できる。熱反応性官能基の導入は、露光後の画像部の強
度を高め、耐刷性の向上に効果がある。熱反応性官能基
の導入は、例えば、WO96−34316号公報に記載
されている高分子反応で行うことができる。
Further, the raw material resin of the self-water dispersible resin fine particles may have a heat-reactive functional group. Examples of the heat-reactive functional group include an ethylenically unsaturated group that performs a polymerization reaction (for example, an acryloyl group, a methacryloyl group, a vinyl group, an allyl group, and the like), an epoxy group that performs an addition reaction, an isocyanate group, and a block body thereof. be able to. The introduction of a heat-reactive functional group is effective in increasing the strength of the image area after exposure and improving printing durability. The introduction of the heat-reactive functional group can be performed, for example, by a polymer reaction described in WO 96-34316.

【0034】上記の他にも、本発明で用いられる自己分
散性樹脂微粒子としては、ウレタン樹脂、例えば、特開
平1−287183号公報に示されたウレタン樹脂ディ
スパージョン等、エポキシ樹脂、例えば、特開昭53−
1228号、同55−3481号又は同55−9433
号に記述されるような各種のエポキシ化合物等を挙げる
ことができる。
In addition to the above, as the self-dispersible resin fine particles used in the present invention, urethane resin, for example, urethane resin dispersion disclosed in JP-A-1-287183, epoxy resin, for example, Kaisho 53-
No. 1228, No. 55-3481 or No. 55-9433
And various epoxy compounds as described in the above item.

【0035】本発明の疎水性化樹脂微粒子は、光照射に
よる発熱で融解、拡散、浸出して近傍を疎水化する作用
を高めるため、微粒子中に疎水性有機低分子化合物を内
包することができる。
The hydrophobic resin fine particles of the present invention can contain a hydrophobic organic low-molecular compound in the fine particles in order to enhance the action of melting, diffusing and leaching due to the heat generated by light irradiation to make the vicinity hydrophobic. .

【0036】このような有機低分子化合物としては、印
刷インキよう成分、可塑剤類、その他、高沸点の脂肪族
および芳香族の炭化水素、カルボン酸、アルコール、エ
ステル、エーテル、アミンおよびそれらの誘導体などを
挙げることができる。
Examples of such organic low molecular weight compounds include printing ink components, plasticizers, other high-boiling aliphatic and aromatic hydrocarbons, carboxylic acids, alcohols, esters, ethers, amines and derivatives thereof. And the like.

【0037】具体例としては、アマニ油、大豆油、けし
油、サフラワー油などの油脂類、燐酸トリブチル、燐酸
トリクレシル、フタール酸ジブチル、ラウリン酸ブチ
ル、フタール酸ジオクチルなどの可塑剤、カルナバワッ
クス、カスターワックス、マイクロクリスタリンワック
ス、パラフィンワックス、セラックろう、パームろう、
蜜ろうなどのワックス類や低分子量ポリエチレン、ベヘ
ン酸銀、ステアリン酸カルシウム、パルミチン酸マグネ
シウムなどの長鎖脂肪酸の金属塩などの微粒子分散物、
n−ノナン、n−デカン、n−ヘキサデカン、オクタデ
カン、エイコサン、カプロン酸、カプリン酸、ステアリ
ン酸、オレイン酸、ドデシルアルコール、オクチルアル
コール、n−オクタデシルアルコール、2−オクタノー
ル、ラウリルアルコール、ラウリルメチルエーテル、ス
テアリルメチルエーテル、ステアリルアミドなどを挙げ
られる。
Specific examples include fats and oils such as linseed oil, soybean oil, poppy oil, and safflower oil; plasticizers such as tributyl phosphate, tricresyl phosphate, dibutyl phthalate, butyl laurate, and dioctyl phthalate; carnauba wax; Custer wax, microcrystalline wax, paraffin wax, shellac wax, palm wax,
Fine particle dispersions such as waxes such as beeswax and metal salts of long chain fatty acids such as low molecular weight polyethylene, silver behenate, calcium stearate, magnesium palmitate,
n-nonane, n-decane, n-hexadecane, octadecane, eicosane, caproic acid, capric acid, stearic acid, oleic acid, dodecyl alcohol, octyl alcohol, n-octadecyl alcohol, 2-octanol, lauryl alcohol, lauryl methyl ether, Examples include stearyl methyl ether, stearylamide and the like.

【0038】上記の疎水性有機化合物の疎水性化樹脂微
粒子への内包は、樹脂微粒子の合成の際に疎水性化樹脂
を溶かした有機溶剤中に添加して転相乳化することによ
って行うことができる。
The above-mentioned inclusion of the hydrophobic organic compound in the hydrophobic resin fine particles can be carried out by adding the hydrophobic organic compound to an organic solvent in which the hydrophobic resin is dissolved and performing phase inversion emulsification. it can.

【0039】上記の自己水分散性の疎水性化樹脂微粒子
の凝固温度は、70℃以上が好ましいが、経時安定性を
考えると100℃以上がさらに好ましい。
The solidification temperature of the self-water dispersible hydrophobized resin fine particles is preferably 70 ° C. or higher, and more preferably 100 ° C. or higher in consideration of stability over time.

【0040】本発明に用いられるコアシェル構造の自己
水分散性樹脂微粒子は、乳化(転相乳化法も含む)又は分
散重合で得た熱の作用で軟化もしくは融解する疎水性重
合体の微粒子を芯部として、その周囲に親水性ポリマー
の重合層を形成させたコアシェル型の複合微粒子あるい
は簡単にコアシェル型微粒子と呼ぶ異相構造微粒子であ
る。親水性ポリマーの重合層を形成は、コア粒子(シー
ド)の分散液に親水性モノマーを添加して、コア粒子の
表面に親水性モノマーを重合させて行う。
The self-water-dispersible resin fine particles having a core-shell structure used in the present invention comprise fine particles of a hydrophobic polymer softened or melted by the action of heat obtained by emulsification (including the phase inversion emulsification method) or dispersion polymerization. As the part, core-shell type composite fine particles having a polymer layer of a hydrophilic polymer formed therearound or hetero-phase structure fine particles simply referred to as core-shell type fine particles. The formation of the polymer layer of the hydrophilic polymer is performed by adding a hydrophilic monomer to a dispersion of core particles (seed) and polymerizing the hydrophilic monomer on the surface of the core particles.

【0041】コア相を構成する重合体は、アクリル樹
脂、エポキシ樹脂、スチレン樹脂、ウレタン樹脂、フェ
ノール樹脂、ビニルエステル樹脂及びその誘導体からな
る群から選ばれる少なくとも一つの親油性樹脂である。
具体的には、前記の転相乳化法に用いる原料樹脂として
記載した樹脂類および前記の転相乳化法で得た樹脂微粒
子から選ぶことができる。
The polymer constituting the core phase is at least one lipophilic resin selected from the group consisting of acrylic resin, epoxy resin, styrene resin, urethane resin, phenol resin, vinyl ester resin and derivatives thereof.
Specifically, it can be selected from the resins described as the raw material resin used in the phase inversion emulsification method and the resin fine particles obtained by the phase inversion emulsification method.

【0042】シェル相を形成する親水性樹脂は、カルボ
ン酸基、スルホン酸基、リン酸基、水酸基、アミド基、
スルホンアミド基およびアミノ基から選ばれた少なくと
も一つの親水性基を有する樹脂である。かかる樹脂とし
ては、これらの親水基を有する単量体と前記の(A)〜
(J)の重合性単量体もしくは重合性不飽和基含有オリ
ゴマーとの共重合体など、転相乳化法に用いる原料樹脂
分子の合成法で述べた樹脂を挙げることができる。その
他に、例えば、特開平5−9431号に記述されるよう
なコアシェル構造の各種エポキシ樹脂も本発明の自己水
分散性樹脂微粒子として好適である。
The hydrophilic resin forming the shell phase includes carboxylic acid groups, sulfonic acid groups, phosphoric acid groups, hydroxyl groups, amide groups,
It is a resin having at least one hydrophilic group selected from a sulfonamide group and an amino group. Examples of such a resin include these monomers having a hydrophilic group and the above-mentioned (A) to (A).
Examples of the resin described in the method of synthesizing the raw material resin molecules used in the phase inversion emulsification method, such as a copolymer with the polymerizable monomer or the oligomer having a polymerizable unsaturated group (J). In addition, for example, various epoxy resins having a core-shell structure described in JP-A-5-9431 are also suitable as the self-water-dispersible resin fine particles of the present invention.

【0043】上記のコアシェル構造の自己水分散性樹脂
微粒子の場合も、前述の転相乳化による樹脂微粒子の場
合と同様に、樹脂表面に親水性化合物を吸着させたり、
樹脂内に疎水性有機化合物を内包させることができる。
吸着または内包に適した化合物としては、転相乳化によ
る樹脂微粒子で述べたのと同じ化合物を挙げられる。
In the case of the above-mentioned core-shell structure self-water-dispersible resin fine particles, similarly to the case of the above-mentioned resin fine particles by phase inversion emulsification, a hydrophilic compound can be adsorbed on the resin surface,
A hydrophobic organic compound can be included in the resin.
Compounds suitable for adsorption or inclusion include the same compounds as described for the resin fine particles by phase inversion emulsification.

【0044】本発明に用いる疎水性化樹脂微粒子の平均
粒径は、0.01〜20μmが好ましいが、その中でも
0.05〜2.0μmがさらに好ましく、特に0.1〜
1.0μmが最適である。この範囲内で良好な解像度と
経持安定性が得られる。
The average particle size of the hydrophobic resin fine particles used in the present invention is preferably 0.01 to 20 μm, more preferably 0.05 to 2.0 μm, and particularly preferably 0.1 to 2.0 μm.
1.0 μm is optimal. Within this range, good resolution and long-term stability can be obtained.

【0045】本発明の親水層は、感度を高めるため、光
を熱に変換する光熱変換剤を含有している。さらに、本
発明においては、光変換剤を後述の断熱層や水可溶性保
護層に含有させることもできる。かかる光熱変換剤とし
ては、700nm以上の光を吸収する物質であればよ
く、種々の金属微粒子、顔料、及び染料(色素とも呼
ぶ)を用いることができる。
The hydrophilic layer of the present invention contains a photothermal converting agent for converting light into heat in order to increase the sensitivity. Further, in the present invention, a light conversion agent may be contained in a heat insulating layer or a water-soluble protective layer described below. The photothermal conversion agent may be any substance that absorbs light of 700 nm or more, and various metal fine particles, pigments, and dyes (also referred to as pigments) can be used.

【0046】金属微粒子としては、A1、Si、Ti、
V、Cr、Mn、Fe、Co、Ni、Cu、Zn、Y、
Zr、Mo、Ag、Au、Pt、Pd、Rh、In、S
n、W、Te、Pb、Ge、Re、Sbの単体または合
金もしくはそれらの酸化物、窒化物、硫化物もしくはア
ジド化物などで親水層の結着樹脂に分散し得るものを挙
げることができる。中でも、Fe、Ag、Au、Pt、
PdおよびCuの微粒子が特に好ましいものとして挙げ
られる。
As the metal fine particles, A1, Si, Ti,
V, Cr, Mn, Fe, Co, Ni, Cu, Zn, Y,
Zr, Mo, Ag, Au, Pt, Pd, Rh, In, S
Examples thereof include simple substances of n, W, Te, Pb, Ge, Re, and Sb, alloys thereof, and oxides, nitrides, sulfides, or azides thereof, which can be dispersed in the binder resin of the hydrophilic layer. Among them, Fe, Ag, Au, Pt,
Fine particles of Pd and Cu are particularly preferred.

【0047】顔料としては、市販の顔料及びカラーイン
デックス(C.I.)便覧、「最新顔料便覧」(日本顔
料技術協会編、1977年刊)、「最新顔料応用技術」
(CMC出版、1986年刊)、「印刷インキ技術」
(CMC出版、1984年刊)に記載されている顔料が
利用できる。
As pigments, commercially available pigment and color index (CI) handbook, “Latest Pigment Handbook” (edited by Japan Pigment Technical Association, 1977), “Latest Pigment Application Technology”
(CMC Publishing, 1986), "Printing Ink Technology"
(CMC Publishing, 1984) can be used.

【0048】顔料の種類としては、黒色顔料、褐色顔
料、赤色顔料、紫色顔料、青色顔料、緑色顔料、蛍光顔
料、金属粉顔料、その他、ポリマー結合色素が挙げられ
る。具体的には、不溶性アゾ顔料、アゾレーキ顔料、縮
合アゾ顔料、キレートアゾ顔料、フタロシアニン系顔
料、アントラキノン系顔料、ペリレン及びペリノン系顔
料、チオインジゴ系顔料、キナクリドン系顔料、ジオキ
サジン系顔料、イソインドリノン系顔料、キノフタロン
系顔料、染付けレーキ顔料、アジン顔料、ニトロソ顔
料、ニトロ顔料、天然顔料、蛍光顔料、無機顔料、カー
ボンブラック、黒鉛(グラファイト)、骨炭(ボーンブ
ラック)等が使用できる。チタンブラック、鉄黒、モリ
ブデン赤、エメラルドグリーン、カドミウム赤、コバル
ト青、紺青、ウルトラマリンなどの名称で市販されてい
るものも使用できる。上記の中でも、カーボンブラック
が特に好ましい。
Examples of the type of the pigment include a black pigment, a brown pigment, a red pigment, a violet pigment, a blue pigment, a green pigment, a fluorescent pigment, a metal powder pigment, and a polymer-bound pigment. Specifically, insoluble azo pigments, azo lake pigments, condensed azo pigments, chelated azo pigments, phthalocyanine pigments, anthraquinone pigments, perylene and perinone pigments, thioindigo pigments, quinacridone pigments, dioxazine pigments, isoindolinone pigments Quinophthalone pigments, dyed lake pigments, azine pigments, nitroso pigments, nitro pigments, natural pigments, fluorescent pigments, inorganic pigments, carbon black, graphite (graphite), bone charcoal (bone black), and the like. Those commercially available under the names of titanium black, iron black, molybdenum red, emerald green, cadmium red, cobalt blue, dark blue, ultramarine and the like can also be used. Among the above, carbon black is particularly preferred.

【0049】光熱変換剤として用いられる染料は、市販
の染料及び文献(例えば「染料便覧」有機合成化学協会
編集、昭和45年刊、「化学工業」1986年5月号
P.45〜51の「近赤外吸収色素」、「90年代機能
性色素の開発と市場動向」第2章2.3項(1990)
シーエムシー)又は特許に記載されている公知の染料が
利用できる。
Dyes used as photothermal conversion agents are commercially available dyes and literatures (for example, "Kensen Binran (Handbook of Dyes)" edited by The Society of Synthetic Organic Chemistry, published in 1970, "Kagaku Kogyo", May 1986, p. Infrared absorbing dyes "," Developments and market trends of functional dyes in the 1990s ", Chapter 2, section 2.3 (1990)
Or known dyes described in Patents.

【0050】具体的には、ポリメチン色素、シアニン色
素、スクアリリウム色素、ピリリウム色素、ジインモニ
ウム色素、フタロシアニン化合物、トリアリールメタン
色素、金属ジチオレンから選ばれる染料である。これら
のうち更に好ましいものとしては、ポリメチン色素、シ
アニン色素、スクアリリウム色素、ピリリウム色素、ジ
インモニウム色素、フタロシアニン化合物であり、その
中でも合成適性の観点からポリメチン色素、シアニン色
素、フタロシアニン化合物が最も好ましい。上記した色
素は、水溶性基を分子内に有する水溶性染料であっても
よい。水溶性の染料が有する好ましい水溶性基として
は、スルホン酸基、カルボキシル基及びホスホン酸基を
挙げることができる。親水層用光熱変換剤として用いら
れる染料の具体例を以下に示すが、これらに限定される
ものではない。
Specifically, it is a dye selected from a polymethine dye, a cyanine dye, a squarylium dye, a pyrylium dye, a diimmonium dye, a phthalocyanine compound, a triarylmethane dye, and a metal dithiolene. Of these, polymethine dyes, cyanine dyes, squarylium dyes, pyrylium dyes, diimmonium dyes, and phthalocyanine compounds are more preferable. Among them, polymethine dyes, cyanine dyes, and phthalocyanine compounds are most preferable from the viewpoint of synthesis suitability. The dye described above may be a water-soluble dye having a water-soluble group in the molecule. Preferred water-soluble groups of the water-soluble dye include a sulfonic acid group, a carboxyl group and a phosphonic acid group. Specific examples of the dye used as the photothermal conversion agent for the hydrophilic layer are shown below, but are not limited thereto.

【0051】[0051]

【化1】 Embedded image

【0052】[0052]

【化2】 Embedded image

【0053】[0053]

【化3】 Embedded image

【0054】親水層中に含まれる光熱変換剤の含有量
は、光熱変換剤の光吸収により発生する熱によって疎水
性前駆体の近傍が熱融着を引き起こして疎水化するのに
足りる量であればよく、親水層固形分の2〜50質量%
の間で広く選択できる。この範囲内で親水層の膜強度を
低下させることなく良好な感度が得られる。
The content of the photothermal conversion agent contained in the hydrophilic layer should be sufficient to cause the vicinity of the hydrophobic precursor to be thermally fused by the heat generated by the light absorption of the photothermal conversion agent to become hydrophobic. Good, 2-50% by mass of solid content of hydrophilic layer
You can choose widely between. Within this range, good sensitivity can be obtained without reducing the film strength of the hydrophilic layer.

【0055】本発明の親水層において、上述の自己水分
散性の疎水性化樹脂微粒子および光熱変換剤は親水性結
着剤中に分散されている。好適な親水性結着剤として、
親水性の有機高分子結着樹脂および親水性のゾルゲル変
換系の無機結着樹脂を挙げることができる。そのなかで
も高い親水性及び熱反応による親水層の破壊に耐えうる
結着樹脂としてポリシロキサンのゲル組織を形成する性
質を有するゾルゲル変換系結着樹脂が好ましい。以下に
親水層の親水性結着樹脂について説明する。
In the hydrophilic layer of the present invention, the self-water-dispersible hydrophobic resin fine particles and the photothermal conversion agent are dispersed in a hydrophilic binder. As a suitable hydrophilic binder,
Examples thereof include a hydrophilic organic polymer binder resin and a hydrophilic sol-gel conversion type inorganic binder resin. Among them, a sol-gel conversion type binder resin having a property of forming a polysiloxane gel structure is preferable as a binder resin having high hydrophilicity and withstanding the destruction of the hydrophilic layer due to a thermal reaction. Hereinafter, the hydrophilic binder resin of the hydrophilic layer will be described.

【0056】有機高分子結着樹脂の具体例としては、ア
ラビアゴム、ポリビニルアルコール(PVA)類,澱粉
及びその誘導体、カルボキシメチルセルローズ及びその
ナトリウム塩やヒドロキシエチルセルローズあるいはセ
ルロースアセテートのようなセルロース誘導体、アルギ
ン酸ナトリウム、カゼイン、ゼラチン、ポリビニルピロ
リドン、酢酸ビニル−マレイン酸共重合体、スチレン−
マレイン酸共重合体、アルギン酸及びそのアルカリ金属
塩、アルカリ土類金属塩又はアンモニウム塩、ポリアク
リル酸及びそれらの塩、ポリメタクリル酸及びそれらの
塩、ポリ(エチレンオキサイド)、水溶性ウレタン樹
脂、水溶性ポリエステル樹脂、ヒドロキシエチルアクリ
レートのホモポリマー及びコポリマー、ヒドロキシエチ
ルメタクリレートのホモポリマー及びコポリマー、ヒド
ロキシプロピルアクリレートのホモポリマー及びコポリ
マー、ヒドロキシプロピルメタクリレートのホモポリマ
ー及びコポリマー、ヒドロキシブチルアクリレートのホ
モポリマー及びコポリマー、ヒドロキシブチルメタクリ
レートのホモポリマー及びコポリマー、ポリエチレング
リコールジアクリレート系ポリマー、ヒドロキシプロピ
ルメタクリレートのホモポリマー及びコポリマー、ポリ
エチレングリコール類、ポリ(ヒドロキシプロピレン)
類等の親水性樹脂が挙げられる。
Specific examples of the organic polymer binder resin include gum arabic, polyvinyl alcohol (PVA), starch and its derivatives, carboxymethyl cellulose and its sodium salt, and cellulose derivatives such as hydroxyethyl cellulose and cellulose acetate; Sodium alginate, casein, gelatin, polyvinylpyrrolidone, vinyl acetate-maleic acid copolymer, styrene-
Maleic acid copolymer, alginic acid and its alkali metal salt, alkaline earth metal salt or ammonium salt, polyacrylic acid and their salts, polymethacrylic acid and their salts, poly (ethylene oxide), water-soluble urethane resin, water-soluble Polyester resin, hydroxyethyl acrylate homopolymer and copolymer, hydroxyethyl methacrylate homopolymer and copolymer, hydroxypropyl acrylate homopolymer and copolymer, hydroxypropyl methacrylate homopolymer and copolymer, hydroxybutyl acrylate homopolymer and copolymer, hydroxy Butyl methacrylate homopolymer and copolymer, polyethylene glycol diacrylate polymer, hydroxypropyl methacrylate Moporima and copolymers, polyethylene glycols, poly (hydroxypropylene)
And other hydrophilic resins.

【0057】又、好ましくは上記親水性樹脂を架橋して
用いてもよく、その場合の樹脂を架橋させる耐水化剤と
しては、グリオキザール、メラミンホルムアルデヒド樹
脂、尿素ホルムアルデヒド樹脂などのアルデヒド類、N
−メチロール尿素やN−メチロールメラミン、メチロー
ル化ポリアミド樹脂などのメチロール化合物、ジビニル
スルホンやビス(β−ヒドロキシエチルスルホン酸)な
どの活性ビニル化合物、エピクロルヒドリンやポリエチ
レングリコールジグリシジルエーテル、ポリアミド・ポ
リアミン・エピクロロヒドリン付加物、ポリアミドエピ
クロロヒドリン樹脂などのエポキシ化合物、モノクロル
酢酸エステルやチオグリコール酸エステルなどのエステ
ル化合物、ポリアクリル酸やメチルビニルエーテル/マ
レイン酸共重合物などのポリカルボン酸類、ほう酸、チ
タニルスルフェート、Cu、Al、Sn、V、Cr塩な
どの無機系架橋剤、変成ポリアミドポリイミド樹脂など
が挙げられる。そのほか、塩化アンモニウム、シランカ
ップリング剤、チタネートカップリング剤などの架橋触
媒を併用できる。
Preferably, the hydrophilic resin may be cross-linked to be used. In this case, examples of the water-resistant agent for cross-linking the resin include aldehydes such as glyoxal, melamine formaldehyde resin, and urea formaldehyde resin;
-Methylol urea, N-methylol melamine, methylol compounds such as methylolated polyamide resins, active vinyl compounds such as divinyl sulfone and bis (β-hydroxyethyl sulfonic acid), epichlorohydrin and polyethylene glycol diglycidyl ether, polyamide / polyamine / epichloro Hydrin adducts, epoxy compounds such as polyamide epichlorohydrin resin, ester compounds such as monochloroacetate and thioglycolate, polycarboxylic acids such as polyacrylic acid and methyl vinyl ether / maleic acid copolymer, boric acid, titanyl Examples include inorganic crosslinking agents such as sulfate, Cu, Al, Sn, V, and Cr salts, and modified polyamide polyimide resins. In addition, a crosslinking catalyst such as ammonium chloride, a silane coupling agent, and a titanate coupling agent can be used in combination.

【0058】本発明の親水層のとくに好ましい結着剤
は、以下に述べるゾルゲル変換系結着樹脂である。本発
明に好ましく適用できるゾルゲル変換が可能な系は、多
価元素から出ている結合が酸素原子を介して網目状構造
を形成し、同時に多価元素は未結合の水酸基やアルコキ
シ基も有していてこれらが混在した樹脂状構造となって
いる高分子体であって、アルコキシ基や水酸基が多い段
階ではゾル状態であり、脱水縮合結合化が進行するのに
伴って網目状の樹脂構造が強固となる。また、樹脂組織
の親水性度が変化する性質に加えて、水酸基の一部が固
体微粒子に結合することによって固体微粒子の表面を修
飾し、親水性度を変化させる働きをも併せ持っている。
The particularly preferred binder for the hydrophilic layer of the present invention is a sol-gel conversion type binder resin described below. The sol-gel conversion system that can be preferably applied to the present invention is such that the bond coming out of the polyvalent element forms a network structure via an oxygen atom, and at the same time, the polyvalent element also has an unbonded hydroxyl group or alkoxy group. It is a polymer having a resin-like structure in which these are mixed, and is in a sol state at a stage where there are many alkoxy groups and hydroxyl groups, and a network-like resin structure is formed as dehydration condensation bonding proceeds. Be strong. Further, in addition to the property of changing the degree of hydrophilicity of the resin structure, it also has a function of modifying the surface of the solid fine particles by binding a part of hydroxyl groups to the solid fine particles, thereby changing the degree of hydrophilicity.

【0059】ゾルゲル変換を行う水酸基やアルコキシ基
を有する化合物の多価結合元素は、アルミニウム、珪
素、チタン及びジルコニウムなどであり、これらはいず
れも本発明に用いることができるが、以下はもっとも好
ましく用いることのできるシロキサン結合によるゾルゲ
ル変換系について説明する。アルミニウム、チタン及び
ジルコニウムを用いるゾルゲル変換は、下記の説明の珪
素をそれぞれの元素に置き換えて実施することができ
る。
The polyvalent bonding element of the compound having a hydroxyl group or an alkoxy group which undergoes sol-gel conversion is aluminum, silicon, titanium, zirconium or the like, and any of them can be used in the present invention. A description will be given of a sol-gel conversion system using a siloxane bond. The sol-gel conversion using aluminum, titanium, and zirconium can be performed by substituting silicon for each element described below.

【0060】すなわち、とくに好ましく用いられるの
は、ゾルゲル変換が可能な少なくとも1個のシラノール
基を有するシラン化合物を含んだ系である。
That is, a system containing a silane compound having at least one silanol group capable of sol-gel conversion is particularly preferably used.

【0061】以下に、ゾルゲル変換を利用する系につい
てさらに説明する。ゾルゲル変換によって形成される無
機親水性結着樹脂は、好ましくはシロキサン結合及びシ
ラノール基を有する樹脂であり、本発明の平版印刷版用
原板の親水層は、少なくとも1個のシラノール基を有す
るシラン化合物を含んだゾルの系である塗布液を、塗布
後の経時の間に、シラノール基の加水分解縮合が進んで
シロキサン骨格の構造が形成され、ゲル化が進行するこ
とによって形成される。
Hereinafter, a system utilizing the sol-gel conversion will be further described. The inorganic hydrophilic binder resin formed by the sol-gel conversion is preferably a resin having a siloxane bond and a silanol group, and the hydrophilic layer of the lithographic printing plate precursor according to the present invention is a silane compound having at least one silanol group. The coating solution is a sol-based coating solution containing, during the elapse of time after application, hydrolytic condensation of silanol groups proceeds to form a siloxane skeleton structure and gelation proceeds.

【0062】また、このゾルゲル変換によって形成され
る層は、膜強度、柔軟性などの物理的性能の向上や、塗
布性の改良などを目的として、後述する有機親水性ポリ
マーや架橋剤などを添加することも可能である。ゲル構
造を形成するシロキサン樹脂は、下記一般式(I)で、
また少なくとも1個のシラノール基を有するシラン化合
物は、下記一般式(II)で示される。また、親水層に含
まれる物質系は、必ずしも一般式(II)のシラン化合物
単独である必要はなく、一般には、シラン化合物が部分
加水重合したオリゴマーからなっていてもよく、あるい
は、シラン化合物とそのオリゴマーの混合組成であって
もよい。
The layer formed by the sol-gel conversion may be added with an organic hydrophilic polymer or a cross-linking agent, which will be described later, for the purpose of improving physical properties such as film strength and flexibility, and improving coatability. It is also possible. The siloxane resin forming a gel structure is represented by the following general formula (I):
The silane compound having at least one silanol group is represented by the following general formula (II). The substance system contained in the hydrophilic layer does not necessarily have to be a silane compound of the general formula (II) alone, and may generally be composed of an oligomer obtained by partially hydrolyzing the silane compound, or The mixture composition of the oligomer may be used.

【0063】[0063]

【化4】 Embedded image

【0064】上記一般式(I)のシロキサン系樹脂は、
下記一般式(II)で示されるシラン化合物の少なくとも
1種を含有する分散液からゾル−ゲル変換によって形成
され、一般式(I)中のR01〜R03の少なくとも一つは
水酸基を表し、他は下記一般式(II)中の記号のR0
びYから選ばれる有機残基を表わす。
The siloxane resin represented by the general formula (I) is
It is formed by a sol-gel conversion from a dispersion containing at least one silane compound represented by the following general formula (II), and at least one of R 01 to R 03 in the general formula (I) represents a hydroxyl group; Others represent an organic residue selected from the symbols R 0 and Y in the following general formula (II).

【0065】一般式(II) (R0nSi(Y)4-n Formula (II) (R 0 ) n Si (Y) 4-n

【0066】一般式(II)中、R0は水酸基、炭化水素
基又はヘテロ環基を表わす。Yは水素原子、ハロゲン原
子、−OR1、−OCOR2、又は、−N(R3)(R4
を表す(R1、R2は、各々炭化水素基を表し、R3、R4
は同じでも異なってもよく、水素原子又は炭化水素基を
表す)。nは0、1、2又は3を表わす。
In the general formula (II), R 0 represents a hydroxyl group, a hydrocarbon group or a heterocyclic group. Y is a hydrogen atom, a halogen atom, —OR 1 , —OCOR 2 , or —N (R 3 ) (R 4 )
(R 1 and R 2 each represent a hydrocarbon group, and R 3 and R 4
May be the same or different and represent a hydrogen atom or a hydrocarbon group). n represents 0, 1, 2 or 3.

【0067】一般式(II)中のR0の炭化水素基又はヘ
テロ環基とは、例えば炭素数1〜12の置換されてもよ
い直鎖状もしくは分岐状のアルキル基(例えば、メチル
基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘ
キシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル
基、ドデシル基等であって、これらの基に置換する基と
しては、ハロゲン原子(塩素原子、フッ素原子、臭素原
子)、ヒドロキシ基、チオール基、カルボキシ基、スル
ホ基、シアノ基、エポキシ基、−OR′基(R′は、メ
チル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘプチル
基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、プロペニル
基、ブテニル基、ヘキセニル基、オクテニル基、2−ヒ
ドロキシエチル基、3−クロロプロピル基、2−シアノ
エチル基、N,N−ジメチルアミノエチル基、2−ブロ
モエチル基、2−(2−メトキシエチル)オキシエチル
基、2−メトキシカルボニルエチル基、3−カルボキシ
プロピル基、ベンジル基等を示す)、
The hydrocarbon group or heterocyclic group represented by R 0 in the general formula (II) is, for example, a linear or branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms which may be substituted (for example, methyl group, Ethyl group, propyl group, butyl group, pentyl group, hexyl group, heptyl group, octyl group, nonyl group, decyl group, dodecyl group and the like. Fluorine atom, bromine atom, hydroxy group, thiol group, carboxy group, sulfo group, cyano group, epoxy group, -OR 'group (R' is methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, heptyl group, hexyl Group, octyl group, decyl group, propenyl group, butenyl group, hexenyl group, octenyl group, 2-hydroxyethyl group, 3-chloropropyl group, 2-cyanoethyl group, N, N-dimethyl Tylaminoethyl group, 2-bromoethyl group, 2- (2-methoxyethyl) oxyethyl group, 2-methoxycarbonylethyl group, 3-carboxypropyl group, benzyl group, etc.),

【0068】−OCOR′基、−COOR′基、−CO
R′基、−N(R″)( R″ )(R″ は、水素原子又
は前記R′と同一の内容を表わし、各々同じでも異なっ
てもよい)、−NHCONHR′基、−NHCOOR′
基、−Si(R′)3基、−CONHR″基、−NHC
OR′基等が挙げら、これらの置換基はアルキル基に複
数置換してもよい)、炭素数2〜12の置換されてもよ
い直鎖状又は分岐状のアルケニル基(例えば、ビニル
基、プロペニル基、ブテニル基、ペンテニル基、ヘキセ
ニル基、オクテニル基、デセニル基、ドデセニル基等で
あって、これらの基に置換する基としては、前記アルキ
ル基に置換する基と同一の内容のものが挙げられる)、
炭素数7〜14の置換されてもよいアラルキル基(例え
ば、ベンジル基、フェネチル基、3−フェニルプロピル
基、ナフチルメチル基、2−ナフチルエチル基等であっ
て、これらの基に置換する基としては、前記アルキル基
に置換する基と同一の内容のものが挙げられ、又複数置
換してもよい)、
-OCOR 'group, -COOR' group, -CO
R 'group, -N (R ") (R") (R "represents the same content as hydrogen atom or R' and may be the same or different), -NHCONHR 'group, -NHCOOR'
Group, -Si (R ') 3 group, -CONHR "group, -NHC
An OR 'group and the like; these substituents may be substituted with a plurality of alkyl groups; a linear or branched alkenyl group having 2 to 12 carbon atoms which may be substituted (for example, vinyl group, A propenyl group, a butenyl group, a pentenyl group, a hexenyl group, an octenyl group, a decenyl group, a dodecenyl group, and the like, and the groups substituted with these groups include those having the same contents as the groups substituted with the alkyl group. ),
Aralkyl groups having 7 to 14 carbon atoms which may be substituted (for example, benzyl group, phenethyl group, 3-phenylpropyl group, naphthylmethyl group, 2-naphthylethyl group, etc. Is the same as the group substituted with the alkyl group, and may be substituted plurally.)

【0069】炭素数5〜10の置換されてもよい脂環式
基(例えば、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、2
−シクロヘキシルエチル基、2−シクロペンチルエチル
基、ノルボニル基、アダマンチル基等であって、これら
の基に置換する基としては、前記アルキル基の置換基と
同一の内容のものが挙げられ、又複数置換してもよ
い)、炭素数6〜12の置換してもよいアリール基(例
えばフェニル基、ナフチル基で、置換基としては前記ア
ルキル基に置換する基と同一の内容のものが挙げられ、
又、複数置換してもよい)、又は、窒素原子、酸素原
子、イオウ原子から選ばれる少なくとも1種の原子を含
有する縮環してもよいヘテロ環基(例えば該ヘテロ環と
しては、ピラン環、フラン環、チオフェン環、モルホリ
ン環、ピロール環、チアゾール環、オキサゾール環、ピ
リジン環、ピペリジン環、ピロリドン環、ベンゾチアゾ
ール環、ベンゾオキサゾール環、キノリン環、テトラヒ
ドロフラン環等で、置換基を含有してもよい。置換基と
しては、前記アルキル基中の置換基と同一の内容のもの
が挙げられ、又複数置換されてもよい)を表わす。
An optionally substituted alicyclic group having 5 to 10 carbon atoms (for example, cyclopentyl, cyclohexyl, 2
A cyclohexylethyl group, a 2-cyclopentylethyl group, a norbornyl group, an adamantyl group and the like, and the groups substituted with these groups include those having the same contents as the substituents of the alkyl group. And a substituted or unsubstituted aryl group having 6 to 12 carbon atoms (e.g., a phenyl group or a naphthyl group, and examples of the substituent include those having the same contents as the group substituted with the alkyl group.
A heterocyclic group containing at least one atom selected from a nitrogen atom, an oxygen atom and a sulfur atom which may be condensed (for example, a pyran ring , Furan ring, thiophene ring, morpholine ring, pyrrole ring, thiazole ring, oxazole ring, pyridine ring, piperidine ring, pyrrolidone ring, benzothiazole ring, benzoxazole ring, quinoline ring, tetrahydrofuran ring, etc. Examples of the substituent include those having the same content as the substituent in the alkyl group, and may be substituted plurally.

【0070】一般式(II)中のYの−OR1基、−OCO
2基又は−N(R3)(R4)基の置換基としては、例
えば以下の置換基を表わす。−OR1基において、R1
炭素数1〜10の置換されてもよい脂肪族基(例えば、
メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘプチル
基、ヘキシル基、ペンチル基、オクチル基、ノニル基、
デシル基、プロペニル基、ブテニル基、ヘプテニル基、
ヘキセニル基、オクテニル基、デセニル基、2−ヒドロ
キシエチル基、2−ヒドロキシプロピル基、2−メトキ
シエチル基、2−(メトキシエチルオキソ)エチル基、
2−(N,N−ジエチルアミノ)エチル基、2−メトキ
シプロピル基、2−シアノエチル基、3−メチルオキサ
プロピル基、2−クロロエチル基、シクロヘキシル基、
シクロペンチル基、シクロオクチル基、クロロシクロヘ
キシル基、メトキシシクロヘキシル基、ベンジル基、フ
ェネチル基、ジメトキシベンジル基、メチルベンジル
基、ブロモベンジル基等が挙げられる)を表わす。
In the general formula (II), -OR 1 group of Y, -OCO
Examples of the substituent of the R 2 group or the —N (R 3 ) (R 4 ) group include the following substituents. In the —OR 1 group, R 1 is an aliphatic group having 1 to 10 carbon atoms which may be substituted (for example,
Methyl, ethyl, propyl, butyl, heptyl, hexyl, pentyl, octyl, nonyl,
Decyl group, propenyl group, butenyl group, heptenyl group,
Hexenyl group, octenyl group, decenyl group, 2-hydroxyethyl group, 2-hydroxypropyl group, 2-methoxyethyl group, 2- (methoxyethyloxo) ethyl group,
2- (N, N-diethylamino) ethyl group, 2-methoxypropyl group, 2-cyanoethyl group, 3-methyloxapropyl group, 2-chloroethyl group, cyclohexyl group,
Cyclopentyl, cyclooctyl, chlorocyclohexyl, methoxycyclohexyl, benzyl, phenethyl, dimethoxybenzyl, methylbenzyl, bromobenzyl, etc.).

【0071】−OCOR2基において、R2は、R1と同
一の内容の脂肪族基又は炭素数6〜12の置換されても
よい芳香族基(芳香族基としては、前記R中のアリール
基で例示したと同様のものが挙げられる)を表わす。又
−N(R3)(R4)基において、R3、R4は、互いに同
じでも異なってもよく、各々、水素原子又は炭素数1〜
10の置換されてもよい脂肪族基(例えば、前記の−O
1基のR1と同様の内容のものが挙げられる)を表わ
す。より好ましくは、R3とR4の炭素数の総和が16個
以内である。一般式(II)で示されるシラン化合物の具
体例としては、以下のものが挙げられるが、これに限定
されるものではない。
In the —OCOR 2 group, R 2 is an aliphatic group having the same contents as R 1 or an aromatic group having 6 to 12 carbon atoms which may be substituted (the aromatic group is the aryl group in the aforementioned R). And the same as those exemplified for the group). In the —N (R 3 ) (R 4 ) group, R 3 and R 4 may be the same or different from each other.
10 optionally substituted aliphatic groups (for example, the above-mentioned -O
R 1 has the same contents as R 1 ). More preferably, the total number of carbon atoms of R 3 and R 4 is 16 or less. Specific examples of the silane compound represented by the general formula (II) include the following, but are not limited thereto.

【0072】テトラクロルシラン、テトラメトキシシラ
ン、テトラエトキシシラン、テトライソプロポキシシラ
ン、テトラ−n−プロピルシラン、メチルトリクロルシ
ラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシ
シラン、エチルトリクロルシラン、エチルトリメトキシ
シラン、エチルトリエトキシシラン、n−プロピルトリ
クロルシラン、n−プロピルトリブロムシラン、n−プ
ロピルトリメトキシシラン、n−プロピルトリエトキシ
シラン、n−デシルトリメトキシシラン、n−ヘキシル
トリクロルシラン、n−へキシルトリメトキシシラン、
n−へキシルトリメトキシシラン、フェニルトリクロル
シラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエ
トキシシラン、ジメトキシジエトキシシラン、ジメチル
ジクロルシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチル
ジエトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン、フェ
ニルメチルジメトキシシラン、トリエトキシヒドロシラ
ン、トリメトキシヒドロシラン、ビニルトリクロルシラ
ン、ビニルトリメトキシシラン、トリフルオロプロピル
トリクロルシラン、トリフルオロプロピルトリメトキシ
シラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシ
ラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラ
ン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ
−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ−メタ
アクリロイルプロピルメチルトリメトキシシラン、γ−
メタアクリロキシプロピルトリt−ブトキシシラン、γ
−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アミノ
プロピルメチルジエトキシシラン、γ−アミノプロピル
トリエトキシシラン、γ−メルカプトプロピルメチルジ
メトキシシラン、γ−メルカプトプロピルメチルジエト
キシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラ
ン、γ−メルカプトプロピルトリエトキシシラン、β−
(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキ
シシラン等が挙げられる。
Tetrachlorosilane, tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetraisopropoxysilane, tetra-n-propylsilane, methyltrichlorosilane, methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, ethyltrichlorosilane, ethyltrimethoxysilane, Ethyltriethoxysilane, n-propyltrichlorosilane, n-propyltribromosilane, n-propyltrimethoxysilane, n-propyltriethoxysilane, n-decyltrimethoxysilane, n-hexyltrichlorosilane, n-hexyltri Methoxysilane,
n-hexyltrimethoxysilane, phenyltrichlorosilane, phenyltrimethoxysilane, phenyltriethoxysilane, dimethoxydiethoxysilane, dimethyldichlorosilane, dimethyldimethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, diphenyldiethoxysilane, phenylmethyldimethoxysilane , Triethoxyhydrosilane, trimethoxyhydrosilane, vinyltrichlorosilane, vinyltrimethoxysilane, trifluoropropyltrichlorosilane, trifluoropropyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, γ-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane Silane, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ
-Glycidoxypropyltriethoxysilane, γ-methacryloylpropylmethyltrimethoxysilane, γ-
Methacryloxypropyltri-t-butoxysilane, γ
-Aminopropylmethyldimethoxysilane, γ-aminopropylmethyldiethoxysilane, γ-aminopropyltriethoxysilane, γ-mercaptopropylmethyldimethoxysilane, γ-mercaptopropylmethyldiethoxysilane, γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, γ -Mercaptopropyltriethoxysilane, β-
(3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane and the like.

【0073】本発明の親水性層の無機親水性結着樹脂形
成に用いる一般式(II)で示されるシラン化合物ととも
に、Ti、Zn、Sn、Zr、Al等のゾル−ゲル変換
の際に樹脂に結合して成膜可能な金属化合物を併用する
ことができる。用いられる金属化合物として、例えば、
Ti(OR104(R10はメチル基、エチル基、プロピ
ル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基等)、TiC
4、Zn(OR102、Zn(CH3COCHCOC
32、Sn(OR104、Sn(CH3COCHCOC
34、Sn(OCOR104、SnCl4、Zr(OR
1 04、Zr(CH3COCHCOCH34、Al(OR
103、Al(CH3COCHCOCH33等が挙げられ
る。
In addition to the silane compound represented by the general formula (II) used for forming the inorganic hydrophilic binder resin of the hydrophilic layer of the present invention, the resin is used in the sol-gel conversion of Ti, Zn, Sn, Zr, Al, etc. Can be used in combination with a metal compound capable of forming a film. As the metal compound used, for example,
Ti (OR 10 ) 4 (R 10 is a methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, pentyl group, hexyl group, etc.), TiC
l 4 , Zn (OR 10 ) 2 , Zn (CH 3 COCHCOC)
H 3 ) 2 , Sn (OR 10 ) 4 , Sn (CH 3 COCHCOC)
H 3 ) 4 , Sn (OCOR 10 ) 4 , SnCl 4 , Zr (OR
1 0) 4, Zr (CH 3 COCHCOCH 3) 4, Al (OR
10 ) 3 , Al (CH 3 COCHCOCH 3 ) 3 and the like.

【0074】更に、一般式(II)で示されるシラン化合
物、更には併用する前記の金属化合物の加水分解及び重
縮合反応を促進するために、酸性触媒又は塩基性触媒を
併用することが好ましい。触媒は、酸あるいは塩基性化
合物をそのままか、あるいは水またはアルコールなどの
溶媒に溶解させた状態のもの(以下、それぞれ酸性触
媒、塩基性触媒という)を用いる。そのときの濃度につ
いては特に限定しないが、濃度が濃い場合は加水分解、
重縮合速度が速くなる傾向がある。但し、濃度の濃い塩
基性触媒を用いると、ゾル溶液中で沈殿物が生成する場
合があるため、塩基性触媒の濃度は1N(水溶液での濃
度換算)以下が望ましい。
Further, in order to accelerate the hydrolysis and polycondensation reaction of the silane compound represented by the general formula (II), and the metal compound used in combination, it is preferable to use an acidic catalyst or a basic catalyst in combination. As the catalyst, an acid or basic compound used as it is or in a state of being dissolved in a solvent such as water or alcohol (hereinafter referred to as an acidic catalyst or a basic catalyst, respectively) is used. The concentration at that time is not particularly limited, but when the concentration is high, hydrolysis,
The polycondensation rate tends to increase. However, when a highly concentrated basic catalyst is used, a precipitate may be formed in the sol solution. Therefore, the concentration of the basic catalyst is preferably 1 N (concentration conversion in an aqueous solution) or less.

【0075】酸性触媒あるいは塩基性触媒の種類は特に
限定されないが、濃度の濃い触媒を用いる必要がある場
合には、焼結後に触媒結晶粒中にほとんど残留しないよ
うな元素から構成される触媒がよい。具体的には、酸性
触媒としては、塩酸などのハロゲン化水素、硝酸、硫
酸、亜硫酸、硫化水素、過塩素酸、過酸化水素、炭酸、
蟻酸や酢酸などのカルボン酸、そのRCOOHで表され
る構造式のRを他元素または置換基によって置換した置
換カルボン酸、ベンゼンスルホン酸などのスルホン酸な
ど、塩基性触媒としては、アンモニア水などのアンモニ
ア性塩基、エチルアミンやアニリンなどのアミン類など
が挙げられる。
The type of the acidic catalyst or the basic catalyst is not particularly limited, but when it is necessary to use a catalyst having a high concentration, a catalyst composed of an element which hardly remains in the catalyst crystal grains after sintering is used. Good. Specifically, examples of the acidic catalyst include hydrogen halides such as hydrochloric acid, nitric acid, sulfuric acid, sulfurous acid, hydrogen sulfide, perchloric acid, hydrogen peroxide, carbonic acid,
Examples of basic catalysts include carboxylic acids such as formic acid and acetic acid, substituted carboxylic acids obtained by substituting R in the structural formula represented by RCOOH with other elements or substituents, sulfonic acids such as benzenesulfonic acid, and the like. Examples include ammoniacal bases and amines such as ethylamine and aniline.

【0076】以上述べたように、ゾル−ゲル法によって
作成される親水層は、本発明の平版印刷版用原版にとく
に好ましい。上記のゾル−ゲル法のさらに詳細は、作花
済夫「ゾル−ゲル法の科学」(株)アグネ承風社(刊)
(1988年)、平島碩「最新ゾル−ゲル法による機能
性薄膜作成技術」総合技術センター(刊)(1992
年)等の成書等に詳細に記述されている。
As described above, the hydrophilic layer formed by the sol-gel method is particularly preferable for the lithographic printing plate precursor according to the invention. For further details of the above sol-gel method, see Sakuhana Saio, "Science of the sol-gel method", Agne Shofusha Co., Ltd. (published)
(1988), Takashi Hirashima, "Functional thin film production technology by latest sol-gel method", General Technology Center (published) (1992)
It is described in detail in written documents such as year).

【0077】親水層中には、上記した光熱変換剤、疎水
性化樹脂微粒子、及び親水性結着樹脂のほかに、感度の
向上、親水性の程度の制御、親水層の物理的強度の向
上、層を構成する組成物相互の分散性の向上、塗布性の
向上、印刷適性の向上、製版作業性の便宜上などの種々
の目的の化合物、例えば、親水性ゾル状微粒子、界面活
性剤、着色剤などを添加することができる。これらの添
加物には、例として以下のものが挙げられる。
In the hydrophilic layer, in addition to the photothermal conversion agent, the hydrophobized resin fine particles, and the hydrophilic binder resin, improvement in sensitivity, control of the degree of hydrophilicity, improvement in physical strength of the hydrophilic layer. Various compounds for various purposes such as improvement of dispersibility between compositions constituting a layer, improvement of applicability, improvement of printability, and convenience of plate making operation, for example, hydrophilic sol-like fine particles, surfactant, coloring Agents and the like can be added. These additives include, by way of example, the following:

【0078】親水性ゾル状微粒子としては、特に限定さ
れないが、好ましくはシリカゾル、アルミナゾル、酸化
マグネシウム、炭酸マグネシウム、アルギン酸カルシウ
ムであり、これらは光熱変換性ではなくても親水性を助
長したり、ゾルゲル膜の強化などに用いることができ
る。より好ましくは、シリカゾル、アルミナゾル、アル
ギン酸カルシウムゾル又はこれらの混合物である。好ま
しい固形分としての含有量は、親水層固形分の1.0〜
70質量%,好ましくは5.0〜50質量%である。ま
た、光熱変換剤、疎水性化樹脂微粒子及び親水性ゾル状
微粒子の合計の添加量は、親水層の固形物成分の2〜9
5質量%であり、好ましくは5〜85質量%である。
The hydrophilic sol-like fine particles are not particularly limited, but are preferably silica sol, alumina sol, magnesium oxide, magnesium carbonate, and calcium alginate. It can be used for strengthening a film. More preferably, it is a silica sol, an alumina sol, a calcium alginate sol or a mixture thereof. The content as a preferable solid content is 1.0 to 1.0 of the solid content of the hydrophilic layer.
70 mass%, preferably 5.0 to 50 mass%. The total addition amount of the photothermal conversion agent, the hydrophobized resin fine particles and the hydrophilic sol-like fine particles is 2 to 9 of the solid component of the hydrophilic layer.
5 mass%, preferably 5 to 85 mass%.

【0079】シリカゾルは、表面に多くの水酸基を持
ち、内部はシロキサン結合(−Si−O−Si)を構成
している。表面水酸基によって粒子径1〜100nmの
シリカ超微粒子が、水もしくは、極性溶媒中に分散した
状態で存在するので、コロイダルシリカとも称されてい
るものである。具体的には、加賀美敏郎、林瑛監修「高
純度シリカの応用技術」第3巻、(株)シーエムシー
(1991年)に記載されている。
The silica sol has many hydroxyl groups on the surface, and the inside of the sol forms a siloxane bond (—Si—O—Si). Since ultrafine silica particles having a particle diameter of 1 to 100 nm exist in a state of being dispersed in water or a polar solvent due to surface hydroxyl groups, they are also called colloidal silica. Specifically, it is described in "Applied Technology of High Purity Silica", Vol. 3, supervised by Yoshitoshi Kaga and Ei Hayashi, CMC Corporation (1991).

【0080】又アルミナゾルは、5〜200nmのコロ
イドの大きさをもつアルミナ水和物(ベーマイト系)
で、水中の陰イオン(例えば、フッ素イオン、塩素イオ
ン等のハロゲン原子イオン、酢酸イオン等のカルボン酸
アニオン等)を安定剤として分散されたものである。
Alumina sol is an alumina hydrate (boehmite) having a colloidal size of 5 to 200 nm.
And an anion (for example, a halogen ion such as a fluorine ion or a chloride ion, or a carboxylate anion such as an acetate ion) in water is dispersed as a stabilizer.

【0081】上記親水性ゾル状微粒子は、平均粒径が1
0〜50nmのものが好ましいが、より好ましい平均粒
径は10〜40nmのものである。これら親水性ゾル状
微粒子は、いずれも、市販品として容易に入手できる。
The hydrophilic sol fine particles have an average particle diameter of 1
The average particle size is preferably from 0 to 50 nm, more preferably from 10 to 40 nm. All of these hydrophilic sol-like fine particles can be easily obtained as commercial products.

【0082】本発明の平版印刷版用原板の親水層中に
は、印刷条件に対する安定性を拡げるため、ノニオン系
及びアニオン系界面活性剤のほか、特開平2−1953
56号公報に記載されているようなカチオン界面活性
剤、含フッ素界面活性剤、及び特開昭59−12104
4号及び特開平4−13149号公報に記載されている
両性界面活性剤を添加することができる。
In the hydrophilic layer of the lithographic printing plate precursor according to the present invention, in addition to nonionic and anionic surfactants, JP-A-2-1953
No. 56, cationic surfactants, fluorine-containing surfactants, and JP-A-59-12104.
No. 4 and JP-A-4-13149 can be added.

【0083】ノニオン界面活性剤の具体例としては、ポ
リオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレ
ンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンセチルエー
テル、ポリオキシエチレンオレイルエーテルなどのポリ
オキシエチレンアルキルエーテル類、ポリオキシエチレ
ンノニルフェニルエーテルなどのポリオキシエチレンア
ルキルアリールエーテル類、ポリオキシエチレン・ポリ
オキシプロピレンブロックコポリマー類、さらにポリオ
キシエチレン・ポリオキシプロピレンブロックコポリマ
ーの端末の水酸基に炭素数5〜24の脂肪族基がエーテ
ル結合した複合ポリオキシアルキレンアルキルエーテル
類、同じくアルキル置換アリール基がエーテル結合した
複合ポリオキシアルキレンアルキルアリールエーテル
類、ソルビタンモノラウレート、ソルビタンモノステア
レート、ソルビタントリステアレート、ソルビタンモノ
パルミテート、ソルビタンモノオレート、ソルビタント
リオレートなどのソルビタン脂肪酸エステル類、ポリオ
キシエチレンソルビタンモノラウレート、ポリオキシエ
チレンソルビタンモノパルミテート、ポリオキシエチレ
ンソルビタンモノステアレート、ポリオキシエチレンソ
ルビタントリステアレート、ポリオキシエチレンソルビ
タントリオレートなどのポリオキシエチレンソルビタン
脂肪酸エステル類などが挙げられる。
Specific examples of nonionic surfactants include polyoxyethylene alkyl ethers such as polyoxyethylene lauryl ether, polyoxyethylene stearyl ether, polyoxyethylene cetyl ether and polyoxyethylene oleyl ether, and polyoxyethylene nonylphenyl. Polyoxyethylene alkylaryl ethers such as ethers, polyoxyethylene / polyoxypropylene block copolymers, and aliphatic groups having 5 to 24 carbon atoms were ether-bonded to hydroxyl groups at the terminals of polyoxyethylene / polyoxypropylene block copolymers. Complex polyoxyalkylene alkyl ethers, also complex polyoxyalkylene alkyl aryl ethers in which alkyl-substituted aryl groups are ether-bonded, sorbitan mono Urate, sorbitan monostearate, sorbitan tristearate, sorbitan monopalmitate, sorbitan monooleate, sorbitan triolate and other sorbitan fatty acid esters, polyoxyethylene sorbitan monolaurate, polyoxyethylene sorbitan monopalmitate, polyoxyethylene Examples include polyoxyethylene sorbitan fatty acid esters such as sorbitan monostearate, polyoxyethylene sorbitan tristearate, and polyoxyethylene sorbitan triolate.

【0084】両性界面活性剤の具体例としては、アルキ
ルジ(アミノエチル)グリシン、アルキルポリアミノエ
チルグリシン塩酸塩、2−アルキル−N−カルボキシエ
チル−N−ヒドロキシエチルイミダゾリニウムベタイン
やN−テトラデシル−N,N−ベタイン型(例えば、商
品名アモーゲンK、第一工業(株)製)等が挙げられ
る。
Specific examples of the amphoteric surfactant include alkyldi (aminoethyl) glycine, alkylpolyaminoethylglycine hydrochloride, 2-alkyl-N-carboxyethyl-N-hydroxyethylimidazolinium betaine and N-tetradecyl-N , N-betaine type (for example, trade name Amogen K, manufactured by Daiichi Kogyo Co., Ltd.) and the like.

【0085】アニオン系活性剤の具体例としては、アル
キルスルホン酸類、アリールスルホン酸類、脂肪族カル
ボン酸類、アルキルナフタレンスルホン酸類、アルキル
ナフタレンスルホン酸又はナフタレンスルホン酸とホル
ムアルデヒドの縮合型のもの、炭素数9〜26の脂肪族
スルホン酸類、アルキルベンゼンスルホン酸類、ラウリ
ルポリオキシエチレン硫酸、セチルポリオキシエチレン
スルホン酸、オレイルポリオキシエチレンホスホン酸な
どのポリオキシエチレン含有硫酸やポリオキシエチレン
含有燐酸などが挙げられる。
Specific examples of the anionic activator include alkylsulfonic acids, arylsulfonic acids, aliphatic carboxylic acids, alkylnaphthalenesulfonic acids, alkylnaphthalenesulfonic acids or condensation type of naphthalenesulfonic acid and formaldehyde, and those having 9 carbon atoms. To 26-26 aliphatic sulfonic acids, alkylbenzene sulfonic acids, polyoxyethylene-containing sulfuric acid such as lauryl polyoxyethylene sulfate, cetyl polyoxyethylene sulfonic acid, oleyl polyoxyethylene phosphonic acid, and polyoxyethylene-containing phosphoric acid.

【0086】カチオン活性剤の具体例としては、ラウリ
ルアミンアセテート、ラウリルトリメチルアンモニウム
クロライド、ジステアリルジメチルアンモニウムクロラ
イド、アルキルベンジルジメチルアンモニウムクロライ
ドなどが挙げられる。
Specific examples of the cationic activator include laurylamine acetate, lauryltrimethylammonium chloride, distearyldimethylammonium chloride, alkylbenzyldimethylammonium chloride and the like.

【0087】親水層には、場合によりさらに、上記の界
面活性剤の添加量の範囲内でフッ素系の界面活性剤を用
いることもできる。具体的にはパーフルオロアルキル基
を有する界面活性剤が好ましく、カルボン酸、スルホン
酸、硫酸エステル及びリン酸エステルのいづれかを有す
るアニオン型の界面活性剤、又は、脂肪族アミン、第4
級アンモニウム塩のようなカチオン型の界面活性剤、又
はベタイン型の両性界面活性剤、又は、ポリオキシ化合
物の脂肪族エステル、ポリアルキレンオキシド縮合型、
ポリエチレンイミン縮合型のようなノニオン型界面活性
剤などが挙げられる。
For the hydrophilic layer, a fluorine-based surfactant may be further used in the range of the amount of the above-mentioned surfactant. Specifically, a surfactant having a perfluoroalkyl group is preferable, and an anionic surfactant having any of carboxylic acid, sulfonic acid, sulfate ester and phosphate ester, or an aliphatic amine,
Cationic surfactants such as quaternary ammonium salts, or betaine-type amphoteric surfactants, or aliphatic esters of polyoxy compounds, polyalkylene oxide condensation type,
Nonionic surfactants such as polyethyleneimine condensed type are exemplified.

【0088】上記界面活性剤の親水層全固形物中に占め
る割合は、0.05〜15質量%が好ましく、より好ま
しくは0.1〜5質量%である。
The proportion of the surfactant in the total solids in the hydrophilic layer is preferably from 0.05 to 15% by mass, more preferably from 0.1 to 5% by mass.

【0089】〔断熱層〕本発明の平版印刷用原板には必
須ではないが、支持体と親水層の間に断熱層を設けるこ
とが好ましい。以下に、断熱層について説明する。感光
層の下層として設けられている断熱層は、熱伝導率が低
く支持体への熱拡散を抑制する機能を有する層である。
さらに、断熱層には、光熱変換剤を含有させることもで
き、その場合には光照射によって発熱して熱融着感度の
向上に寄与する。
[Heat Insulating Layer] Although not essential for the lithographic printing plate of the present invention, it is preferable to provide a heat insulating layer between the support and the hydrophilic layer. Hereinafter, the heat insulating layer will be described. The heat-insulating layer provided as a lower layer of the photosensitive layer is a layer having a low thermal conductivity and a function of suppressing heat diffusion to the support.
Further, the heat insulating layer may contain a photothermal conversion agent. In this case, heat is generated by light irradiation, which contributes to improvement of the heat fusion sensitivity.

【0090】このような断熱層は、有機性又は無機性の
樹脂を主成分として含有する。有機性又は無機性の樹脂
は、親水性あるいは、疎水性のものから広く選択するこ
とができる。
Such a heat insulating layer contains an organic or inorganic resin as a main component. The organic or inorganic resin can be widely selected from hydrophilic or hydrophobic resins.

【0091】例えば、疎水性を有する樹脂としてはポリ
エチレン、ポリプロピレン、ポリエステル、ポリアミ
ド、アクリル樹脂、塩化ビニル樹脂、塩化ピニリデン樹
脂、ポリビニルブチラール樹脂、ニトロセルロース、ポ
リアクリレート、ポリメタクリレート、ポリカーボネー
ト、ポリウレタン、ポリスチレン、塩化ビニル樹脂−酢
酸ビニル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルア
ルコール共重合体、塩化ビニル−樹脂ビニル−マレイン
酸共重合体、塩化ビニル−アクリレート共重合体、ポリ
塩化ビニリデン、塩化ビニリデン−アクリロニトリル共
重合体などが挙げられる。
For example, hydrophobic resins include polyethylene, polypropylene, polyester, polyamide, acrylic resin, vinyl chloride resin, pinylidene chloride resin, polyvinyl butyral resin, nitrocellulose, polyacrylate, polymethacrylate, polycarbonate, polyurethane, polystyrene, and the like. Vinyl chloride resin-vinyl acetate copolymer, vinyl chloride-vinyl acetate-vinyl alcohol copolymer, vinyl chloride-resin vinyl-maleic acid copolymer, vinyl chloride-acrylate copolymer, polyvinylidene chloride, vinylidene chloride-acrylonitrile And copolymers.

【0092】本発明では、疎水性を有する樹脂は、水性
エマルジョンから構成されたものも用いることができ
る。水性エマルジョンの具体例としては、ビニル系ポリ
マーラテックス(ポリアクリレート系、酢酸ビニル系、
エチレン−酢酸ビニル系など)、共役シエン系ポリマー
ラテックス(メタクリル酸メチル−ブタジエン系、スチ
レン−ブタジエン系、アグリロニトリル−プブタジエン
系、クロロプレン系など)及びポリウレタン樹脂などが
挙げられる。
In the present invention, as the resin having hydrophobicity, a resin composed of an aqueous emulsion can be used. Specific examples of the aqueous emulsion include vinyl polymer latex (polyacrylate, vinyl acetate,
Ethylene-vinyl acetate-based), conjugated cyanene-based polymer latex (methyl methacrylate-butadiene-based, styrene-butadiene-based, aggrilonitrile-butadiene-based, chloroprene-based, etc.), and polyurethane resin.

【0093】次に、親水性を有する樹脂としては、具体
的には、ポリビニルアルコール(PVA),カルボキシ
変性PVA等の変性PVA,澱粉及びその誘導体、カル
ボキシメチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース
のようなセルロース誘導体、アルギン酸アンモニウム、
ポリアクリル酸、ポリアクリル酸塩、ポリエチレンオキ
サイド、水溶性ウレタン樹脂、水溶性ポリエステル樹
脂、ポリヒドロキシエチルアクリレート、ポリエチレン
グリコールジアクリレート系ポリマー、N−ビニルカル
ボン酸アミドポリマー、カゼイン、ゼラチン、ポリビニ
ルピロリドン、酢酸ビニル−クロトン酸共重合体、スチ
レン−マレイン酸共重合体等の水溶性樹脂などが挙げら
れる。
Next, examples of the hydrophilic resin include polyvinyl alcohol (PVA), modified PVA such as carboxy-modified PVA, starch and derivatives thereof, cellulose derivatives such as carboxymethylcellulose and hydroxyethylcellulose, and alginic acid. Ammonium,
Polyacrylic acid, polyacrylate, polyethylene oxide, water-soluble urethane resin, water-soluble polyester resin, polyhydroxyethyl acrylate, polyethylene glycol diacrylate polymer, N-vinyl carboxylic acid amide polymer, casein, gelatin, polyvinyl pyrrolidone, acetic acid Water-soluble resins such as vinyl-crotonic acid copolymer and styrene-maleic acid copolymer are exemplified.

【0094】上記親水性を有する樹脂は架橋し、硬化し
て用いることが好ましく、架橋剤(耐水剤ともいう)と
しては、前記した親水層に用いたものと同じ耐水剤を使
用することができる。
The hydrophilic resin is preferably crosslinked and cured before use. As the crosslinking agent (also referred to as a waterproofing agent), the same waterproofing agent as used for the hydrophilic layer can be used. .

【0095】さらに、無機高分子としては、ゾルゲル変
換によって形成される無機マトリックスが好ましい。具
体的には、前述の親水層に好適なゾルゲル変換系と同じ
ものを用いることができる。
Further, as the inorganic polymer, an inorganic matrix formed by sol-gel conversion is preferable. Specifically, the same sol-gel conversion system suitable for the above-mentioned hydrophilic layer can be used.

【0096】これらの断熱層に用いられる樹脂の中で、
親水層との接着性の観点から、とくに親水性の樹脂が好
ましい。
Among the resins used for these heat insulating layers,
From the viewpoint of adhesion to the hydrophilic layer, a hydrophilic resin is particularly preferable.

【0097】断熱層中には光熱変換剤を含有させること
ができるが、その光熱変換剤としては、前記した親水層
に用いた光熱変換剤と同じ物質を使用することができ
る。断熱層の光熱変換剤の含有量は、断熱層固形分の2
〜95質量%の間で広く選択できる。
The heat-insulating layer can contain a light-to-heat converting agent. As the light-to-heat converting agent, the same substance as the light-to-heat converting agent used for the hydrophilic layer can be used. The content of the light-to-heat conversion agent in the heat insulating layer is 2% of the solid content of the heat insulating layer.
It can be widely selected between 9595% by mass.

【0098】断熱層には、上記した樹脂及び光熱変換剤
のほかに、断熱層の物理的強度の向上、層を構成する組
成物相互の分散性の向上、塗布性の向上、親水層との接
着性向上などの理由で、種々の目的の化合物、例えば親
水性ゾル状微粒子、界面活性剤などを添加することがで
きる。親水性ゾル状微粒子および界面活性剤は、前述し
た親水層に添加するものと同様なものを、同じ添加量の
範囲で用いることができる。
In addition to the above-mentioned resin and light-to-heat conversion agent, the heat-insulating layer may have an improved physical strength of the heat-insulating layer, an improved dispersibility between the constituent components of the layer, an improved applicability, and a hydrophilic layer. Various objective compounds, for example, hydrophilic sol-like fine particles, a surfactant and the like can be added for reasons such as improvement in adhesiveness. The same hydrophilic sol fine particles and surfactant as those added to the hydrophilic layer described above can be used in the same amount range.

【0099】〔水可溶性の保護層〕本発明の平版印刷原
板は、親水層が最表面である場合は、原板が製品形態で
輸送されたり、保管されたりする際、あるいは使用前の
取り扱いの際、環境の雰囲気の影響によって疎水性化し
たり、温湿度の影響を受けたり、あるいは機械的な傷な
ど又は汚れなどの影響を受けやすい。これを防止するた
めに、本発明の平版印刷用原板では水可溶性の表面保護
層を設けることができる。水可溶性の保護層は、印刷の
初期の段階で湿し水に溶解して洗い去られるので、特に
除去の手間をかける必要はなく、印刷の支障にはならな
い。以下水溶性の保護層に含有される成分について説明
する。
[Water-soluble protective layer] The lithographic printing plate precursor according to the present invention, when the hydrophilic layer is the outermost surface, is used when the plate is transported or stored in a product form, or when it is handled before use. It is susceptible to hydrophobization due to the influence of the environment atmosphere, temperature and humidity, mechanical scratches and dirt. In order to prevent this, the lithographic printing plate precursor of the present invention can be provided with a water-soluble surface protective layer. The water-soluble protective layer is dissolved in dampening water at the initial stage of printing and is washed away, so that there is no need to take extra steps for removal and does not hinder printing. Hereinafter, the components contained in the water-soluble protective layer will be described.

【0100】水可溶性保護層は水溶性高分子を主成分と
して含有する。水溶性高分子としては、例えば水酸基、
カルボキシル基、塩基性窒素含有基等の基を十分に有す
る高分子が挙げられる。具体的には、ポリビニルアルコ
ール(PVA)、カルボキシ変性PVA等の変性PV
A、アラビアガム、ポリアクリルアミド及びその共重合
体、アクリル酸共重合体、ビニルメチルエーテル/無水
マレイン酸共重合体、酢酸ビニル/無水マレイン酸共重
合体、スチレン/無水マレイン酸共重合体、焙焼デキス
トリン、酸素分解デキストリン、酵素分解エーテル化デ
キストリン、澱粉及びその誘導体、カルボキシメチルセ
ルローズ、カルボキシエチルセルローズ、メチルセルロ
ーズ、ヒドロキシエチルセルローズのようなセルロース
誘導体、カゼイン、ゼラチン、ポリビニルピロリドン、
酢酸ビニル−クロトン酸共重合体、スチレン−マレイン
酸共重合体、アルギン酸及びそのアルカリ金属塩、アル
カリ土類金属塩又はアンモニウム塩、ポリアクリル酸、
ポリ(エチレンオキサイド)、水溶性ウレタン樹脂、水
溶性ポリエステル樹脂、ポリヒドロキシエチルアクリレ
ート、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコ
ール、N−ビニルカルボン酸アミドポリマー等が挙げら
れる。なかでも、ポリビニルアルコール(PVA)、カ
ルボキシ変性PVA等の変性PVA、アラビアガム、ポ
リアクリルアミド、ポリアクリル酸、アクリル酸共重合
体、ポリビニルピロリドン、アルギン酸及びそのアルカ
リ金属塩の使用が好ましい。
The water-soluble protective layer contains a water-soluble polymer as a main component. Examples of the water-soluble polymer include a hydroxyl group,
A polymer having a sufficient group such as a carboxyl group or a basic nitrogen-containing group is exemplified. Specifically, modified PV such as polyvinyl alcohol (PVA) and carboxy-modified PVA
A, gum arabic, polyacrylamide and its copolymer, acrylic acid copolymer, vinyl methyl ether / maleic anhydride copolymer, vinyl acetate / maleic anhydride copolymer, styrene / maleic anhydride copolymer, Baked dextrin, oxygenated dextrin, enzymatically degraded etherified dextrin, starch and its derivatives, carboxymethylcellulose, carboxyethylcellulose, methylcellulose, cellulose derivatives such as hydroxyethylcellulose, casein, gelatin, polyvinylpyrrolidone,
Vinyl acetate-crotonic acid copolymer, styrene-maleic acid copolymer, alginic acid and its alkali metal salts, alkaline earth metal salts or ammonium salts, polyacrylic acid,
Examples include poly (ethylene oxide), a water-soluble urethane resin, a water-soluble polyester resin, polyhydroxyethyl acrylate, polyethylene glycol, polypropylene glycol, and N-vinyl carboxylic acid amide polymer. Among them, it is preferable to use modified PVA such as polyvinyl alcohol (PVA) and carboxy-modified PVA, gum arabic, polyacrylamide, polyacrylic acid, acrylic acid copolymer, polyvinylpyrrolidone, alginic acid and alkali metal salts thereof.

【0101】保護層塗布液中の水溶性樹脂の含有量は、
3〜25質量%が適当であり、好ましい範囲は10〜2
5質量%である。なお、本発明においては上記水溶性樹
脂を2種以上混合使用してもよい。
The content of the water-soluble resin in the coating solution for the protective layer is as follows:
3 to 25% by mass is appropriate, and a preferable range is 10 to 2%.
5% by mass. In the present invention, two or more of the above water-soluble resins may be used in combination.

【0102】保護層の塗布液には、界面活性剤を添加し
てもよい。使用できる界面活性剤としてはアニオン界面
活性剤又はノニオン界面活性剤が挙げられる。具体例と
しては、前記の親水層に用いられる界面活性剤と同じも
のを用いることができる。界面活性剤の添加量は、好ま
しくは保護層の固形分の0.01〜1質量%であり、更
に好ましくは0.05〜0.5質量%である。
A surfactant may be added to the coating solution for the protective layer. Surfactants that can be used include anionic or nonionic surfactants. As a specific example, the same surfactant as that used for the hydrophilic layer can be used. The amount of the surfactant added is preferably 0.01 to 1% by mass of the solid content of the protective layer, and more preferably 0.05 to 0.5% by mass.

【0103】さらに必要により湿潤剤としてグリセリ
ン、エチレングリコール、トリエチレングリコール等の
低級多価アルコールも添加することができる。これら湿
潤剤の使用量は保護層中に0.1〜5.0質量%が適当
であり、さらに好ましい範囲は0.5〜3.0質量%で
ある。
If necessary, lower polyhydric alcohols such as glycerin, ethylene glycol and triethylene glycol can be added as a wetting agent. The use amount of these wetting agents is suitably 0.1 to 5.0% by mass in the protective layer, and a more preferred range is 0.5 to 3.0% by mass.

【0104】以上の他に保護層の塗布液には、防腐剤や
消泡剤を添加することができる。防腐剤としては、例え
ば安息香酸及びその誘導体、フェノール、ホルマリン、
デヒドロ酢酸ナトリウム等を0.005〜2.0質量%
の範囲で添加できる。好ましい消泡剤には有機シリコー
ン化合物が含まれ、その添加量は0.0001〜0.1
質量%の範囲が好ましい。
In addition to the above, a preservative and an antifoaming agent can be added to the coating solution for the protective layer. As preservatives, for example, benzoic acid and its derivatives, phenol, formalin,
0.005 to 2.0% by mass of sodium dehydroacetate
Can be added in the range. Preferred antifoaming agents include an organosilicone compound, the amount of which is 0.0001 to 0.1.
The range of mass% is preferred.

【0105】また、水可溶性の保護層には、光熱変換剤
を添加してもよい。光熱変換剤としては、親水層に添加
してもよいと前記した光熱変換剤を、前記した添加量の
範囲で使用することができる。
Further, a light-to-heat conversion agent may be added to the water-soluble protective layer. As the light-to-heat conversion agent, the light-to-heat conversion agent described above, which may be added to the hydrophilic layer, can be used in the range of the addition amount described above.

【0106】〔塗布〕上記した親水層、断熱層、保護層
は、それぞれ各構成成分を混合し、調整された塗布液を
支持体上に、従来公知の塗布方法のいずれかを用いて、
塗布・乾燥し、塗布層を形成する。塗布する方法として
は、公知の種々の方法を用いることができるが、例え
ば、バーコター塗布、回転塗布、スプレー塗布、カーテ
ン塗布、ディップ塗布、エアーナイフ塗布、ブレード塗
布、ロール塗布等を挙げることができる。
[Coating] The above-mentioned hydrophilic layer, heat insulating layer and protective layer are prepared by mixing the respective constituent components and applying a prepared coating solution on a support by any of conventionally known coating methods.
Coating and drying to form a coating layer. As a method of coating, various known methods can be used, and examples thereof include bar coating, spin coating, spray coating, curtain coating, dip coating, air knife coating, blade coating, and roll coating. .

【0107】塗布、乾燥後に得られる各層の塗布量(固
形分)は、用途によって異なるが、一般的な平版印刷版
用原板についていえば、親水層では0.1〜30g/m
2が好ましく、0.3〜10g/m2がより好ましい。断
熱層では、0.1〜10g/m2が好ましく、0.3〜
5g/m2がより好ましい。保護層では、0.1〜5g
/m2が好ましく、0.2〜3g/m2がより好ましい。
塗布は、通常、断熱層、親水層、保護層の順序で行われ
る。
The coating amount (solid content) of each layer obtained after coating and drying varies depending on the application, but for a general lithographic printing plate precursor, 0.1 to 30 g / m 2 for the hydrophilic layer.
2 is preferred, and 0.3 to 10 g / m 2 is more preferred. In the heat insulating layer, 0.1 to 10 g / m 2 is preferable, and 0.3 to
5 g / m 2 is more preferred. 0.1 to 5 g for the protective layer
/ M 2 is preferable, 0.2 to 3 g / m 2 is more preferable.
The application is usually performed in the order of a heat insulating layer, a hydrophilic layer, and a protective layer.

【0108】[支持体]つぎに親水層または断熱層を塗設
する支持体について述べる。支持体には、寸度的に安定
な板状物が用いられる。本発明に用いることができる支
持体としては、紙、プラスチック(例えば、ポリエチレ
ン、ポリプロピレン、ポリスチレン等)がラミネートさ
れた紙、金属板(例えば、アルミニウム、亜鉛、銅、ニ
ッケル、ステンレス鋼等)、プラスチックフィルム(例
えば、二酢酸セルロース、三酢酸セルロース、プロピオ
ン酸セルロース、酪酸セルロース、酢酸酪酸セルロー
ス、硝酸セルロース、ポリエチレンテレフタレート、ポ
リエチレン、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリカー
ボネート、ポリビニルアセタール等)、上記の金属がラ
ミネート又は蒸着された紙もしくはプラスチックフィル
ム等が含まれる。
[Support] Next, a support on which a hydrophilic layer or a heat insulating layer is provided will be described. A dimensionally stable plate is used for the support. Examples of the support that can be used in the present invention include paper, paper laminated with plastic (eg, polyethylene, polypropylene, polystyrene, etc.), metal plate (eg, aluminum, zinc, copper, nickel, stainless steel, etc.), plastic Films (eg, cellulose diacetate, cellulose triacetate, cellulose propionate, cellulose butyrate, cellulose acetate butyrate, cellulose nitrate, polyethylene terephthalate, polyethylene, polystyrene, polypropylene, polycarbonate, polyvinyl acetal, etc.), and the above metals are laminated or deposited Paper or plastic film.

【0109】好ましい支持体は、ポリエステルフィル
ム、アルミニウム、又は印刷版上で腐食しにくいSUS
鋼板であり、その中でも寸法安定性がよく、比較的安価
であるアルミニウム板が好ましい。好適なアルミニウム
板は、純アルミニウム板及びアルミニウムを主成分と
し、微量の異元素を含む合金板であり、更にアルミニウ
ムがラミネートもしくは蒸着されたプラスチックフィル
ムでもよい。アルミニウム合金に含まれる異元素には、
ケイ素、鉄、マンガン、銅、マグネシウム、クロム、亜
鉛、ビスマス、ニッケル、チタンなどがある。合金中の
異元素の含有量は高々10質量%以下である。本発明に
おいて特に好適なアルミニウムは、純アルミニウムであ
るが、完全に純粋なアルミニウムは精錬技術上製造が困
難であるので、僅かに異元素を含有するものでもよい。
このように本発明に適用されるアルミニウム板は、その
組成が特定されるものではなく、従来より公知の素材の
アルミニウム板を適宜に利用することができる。本発明
で用いられる支持体の厚みはおよそ0.05mm〜0.
6mm程度、好ましくは0.1mm〜0.4mm、特に
好ましくは0.15mm〜0.3mmである。
Preferred supports are polyester film, aluminum, or SUS which is not easily corroded on a printing plate.
It is a steel plate, and among them, an aluminum plate which has good dimensional stability and is relatively inexpensive is preferable. Suitable aluminum plates are a pure aluminum plate and an alloy plate containing aluminum as a main component and a trace amount of a different element, and may be a plastic film on which aluminum is laminated or vapor-deposited. The foreign elements contained in the aluminum alloy include:
Silicon, iron, manganese, copper, magnesium, chromium, zinc, bismuth, nickel, titanium and the like. The content of the foreign element in the alloy is at most 10% by mass or less. Particularly preferred aluminum in the present invention is pure aluminum. However, completely pure aluminum is difficult to produce due to refining technology, and therefore may contain a slightly different element.
As described above, the composition of the aluminum plate applied to the present invention is not specified, and an aluminum plate of a conventionally known material can be appropriately used. The thickness of the support used in the present invention is approximately 0.05 mm to 0.1 mm.
It is about 6 mm, preferably 0.1 mm to 0.4 mm, particularly preferably 0.15 mm to 0.3 mm.

【0110】アルミニウム板は使用するに先立ち、表面
の圧延油を除去するための例えば界面活性剤、有機溶剤
またはアルカリ性水溶液などによる脱脂処理、次いで表
面の粗面化、陽極酸化等の表面処理をすることが好まし
い。表面処理により、親水層との接着性の確保が容易に
なる。
Prior to use, the aluminum plate is subjected to a degreasing treatment with, for example, a surfactant, an organic solvent or an alkaline aqueous solution to remove rolling oil on the surface, and then to a surface treatment such as surface roughening and anodic oxidation. Is preferred. The surface treatment facilitates securing the adhesiveness to the hydrophilic layer.

【0111】アルミニウム板の表面の粗面化処理は、種
々の方法により行われるが、例えば、機械的に粗面化す
る方法、電気化学的に表面を溶解粗面化する方法及び化
学的に表面を選択溶解させる方法により行われる。機械
的方法としては、ボール研磨法、ブラシ研磨法、ブラス
ト研磨法、バフ研磨法などの公知の方法を用いることが
できる。化学的方法としては、特開昭54−31187
号公報に記載されているような鉱酸のアルミニウム塩の
飽和水溶液に浸漬する方法が適している。また、電気化
学的な粗面化法としては塩酸または硝酸などの酸を含む
電解液中で交流または直流により行う方法がある。ま
た、特開昭54−63902号に開示されているように
混合酸を用いた電解粗面化方法も利用することができ
る。このような粗面化方法のうち、特に特開昭55−1
37993号公報に記載されているような機械的粗面化
と電気化学的粗面化を組合せた粗面化方法が、感脂性画
像の支持体への接着力が強いので好ましい。
The surface roughening treatment of the aluminum plate is performed by various methods. For example, a method of mechanically roughening the surface, a method of electrochemically dissolving and roughening the surface, and a method of chemically roughening the surface. Is selectively dissolved. Known mechanical methods such as a ball polishing method, a brush polishing method, a blast polishing method, and a buff polishing method can be used as the mechanical method. The chemical method is described in JP-A-54-31187.
The method of immersion in a saturated aqueous solution of an aluminum salt of a mineral acid as described in Japanese Patent Application Laid-Open Publication No. H10-157, 1988 is suitable. As an electrochemical surface roughening method, there is a method in which an alternating current or a direct current is used in an electrolytic solution containing an acid such as hydrochloric acid or nitric acid. Also, an electrolytic surface roughening method using a mixed acid as disclosed in JP-A-54-63902 can be used. Among such surface roughening methods, in particular, JP-A-55-1
A surface roughening method combining mechanical surface roughening and electrochemical surface roughening as described in 37993 is preferable because the adhesive force of the oil-sensitive image to the support is strong.

【0112】上記の如き方法による粗面化は、アルミニ
ウム板の表面の中心線表面粗さ(Ra)が0.3〜1.
0μmとなるような範囲で施されることが好ましい。粗
面化されたアルミニウム板は必要に応じて水酸化カリウ
ムや水酸化ナトリウムなどの水溶液を用いてアルカリエ
ッチング処理がされ、さらに中和処理された後、所望に
より耐摩耗性を高めるために陽極酸化処理が施される。
The surface roughening by the above-mentioned method is performed when the center line surface roughness (Ra) of the surface of the aluminum plate is 0.3-1.
It is preferable that the coating be performed within a range of 0 μm. The roughened aluminum plate is subjected to an alkali etching treatment using an aqueous solution of potassium hydroxide or sodium hydroxide as required, and further neutralized, and then anodized to enhance abrasion resistance if desired. Processing is performed.

【0113】アルミニウム板の陽極酸化処理に用いられ
る電解質としては、多孔質酸化皮膜を形成する種々の電
解質の使用が可能で、一般的には硫酸、塩酸、蓚酸、ク
ロム酸あるいはそれらの混酸が用いられる。それらの電
解質の濃度は電解質の種類によって適宜決められる。陽
極酸化の処理条件は、用いる電解質により種々変わるの
で一概に特定し得ないが、一般的には電解質の濃度が1
〜80質量%溶液、液温は5〜70℃、電流密度5〜6
0A/dm2、電圧1〜100V、電解時間10秒〜5分
の範囲であれば適当である。形成される酸化皮膜量は、
1.0〜5.0g/m2、特に1.5〜4.0g/m2
あることが好ましい。陽極酸化皮膜の量は1.0g/m
2より少ないと耐刷性が不十分であったり、傷が付き易
くなる。
As the electrolyte used for the anodic oxidation treatment of the aluminum plate, various electrolytes forming a porous oxide film can be used. Generally, sulfuric acid, hydrochloric acid, oxalic acid, chromic acid or a mixed acid thereof is used. Can be The concentration of these electrolytes is appropriately determined depending on the type of the electrolyte. Anodizing treatment conditions vary depending on the electrolyte to be used, and thus cannot be specified unconditionally.
~ 80 mass% solution, liquid temperature 5 ~ 70 ° C, current density 5 ~ 6
0 A / dm 2 , a voltage of 1 to 100 V, and an electrolysis time of 10 seconds to 5 minutes are appropriate. The amount of oxide film formed is
It is preferably from 1.0 to 5.0 g / m 2 , particularly preferably from 1.5 to 4.0 g / m 2 . 1.0 g / m of anodic oxide film
If it is less than 2 , the printing durability will be insufficient or it will be easily scratched.

【0114】これらの陽極酸化処理の内でも、とくに英
国特許第1,412,768号公報に記載されている硫
酸中で高電流密度で陽極酸化する方法及び米国特許第
3,511,661号公報に記載されている燐酸を電解
浴として陽極酸化する方法が好ましい。
Among these anodizing treatments, in particular, a method of anodizing at a high current density in sulfuric acid described in British Patent No. 1,412,768 and US Pat. No. 3,511,661. The method of anodizing using phosphoric acid as an electrolytic bath described in above is preferable.

【0115】断熱層が疎水性を有する樹脂の場合は、支
持体表面を疎水性化することが望ましい。支持体表面の
疎水性化処理は、たとえばシランカップリング剤や、場
合によってはチタンカップリング剤を含んだ下塗り液を
塗布することによって行われる。シランカップリング剤
はおもに一般式(R11O)3SiR12(R11、R12はア
ルキル基又は置換アルキル基)で表され、R11O基は加
水分解してOH基となって支持体表面とエーテル結合で
結合し、R12基がインキを受容する疎水性の表面を提供
する。
When the heat insulating layer is a resin having hydrophobicity, it is desirable to make the surface of the support hydrophobic. The surface of the support is hydrophobized by applying an undercoating liquid containing, for example, a silane coupling agent or, in some cases, a titanium coupling agent. The silane coupling agent is mainly represented by the general formula (R 11 O) 3 SiR 12 (R 11 and R 12 are an alkyl group or a substituted alkyl group), and the R 11 O group is hydrolyzed to an OH group to form a support. bound at the surface and an ether bond, R 12 group provides a hydrophobic surface for receiving ink.

【0116】シランカップリング剤としては、γ−クロ
ロプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリクロロシラ
ン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス(β−メ
トキシエトキシ)シラン、γ−メタクロキシプロピルト
リメトキシシラン、γ−グリコキシドキシピロピルトリ
メトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラ
ン、γ−メルカプトトリメトキシシラン、γ−ウレイド
プロピルトリエトキシシラン、N−(β−アミノエチ
ル)−(β−アミノプロチル)ジメトキシシランなどが
挙げられる。プラスチック支持体の場合は、親水層との
密着性を確保するためには、塗布の前に公知の方法で帯
電処理が施される。
Examples of the silane coupling agent include γ-chloropropyltrimethoxysilane, vinyltrichlorosilane, vinyltriethoxysilane, vinyltris (β-methoxyethoxy) silane, γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane, and γ-glycoxide. Examples thereof include propyltrimethoxysilane, γ-aminopropyltriethoxysilane, γ-mercaptotrimethoxysilane, γ-ureidopropyltriethoxysilane, and N- (β-aminoethyl)-(β-aminopropyl) dimethoxysilane. In the case of a plastic support, in order to secure adhesion to the hydrophilic layer, a charging treatment is performed by a known method before coating.

【0117】〔製版および印刷〕本発明の平版印刷用原
板は熱により画像形成される。具体的には、熱記録ヘッ
ド等による直接画像様記録、赤外線レーザによる走査露
光、キセノン放電灯などの高照度フラッシュ露光や赤外
線ランプ露光などが用いられるが、波長700〜120
0nmの赤外線を放射する半導体レーザ、YAGレーザ
等の固体高出力赤外線レーザによる露光が好適である。
本発明の平版印刷用原板は、レーザー出力が0.1〜3
00Wのレーザーで照射をすることができる。また、パ
ルスレーザーを用いる場合には、ピーク出力が1000
W、好ましくは2000Wのレーザーを照射するのが好
ましい。この場合の露光量は、印刷用画像で変調する前
の面露光強度が0.1〜10J/cm2の範囲であるこ
とが好ましく、0.3〜1J/cm2の範囲であること
がより好ましい。支持体が透明である場合は、支持体の
裏側から支持体を通して露光することもできる。
[Plate Making and Printing] The lithographic printing original plate of the present invention forms an image by heat. Specifically, direct image-like recording using a thermal recording head or the like, scanning exposure using an infrared laser, high-illuminance flash exposure such as a xenon discharge lamp, or infrared lamp exposure is used.
Exposure with a solid-state high-output infrared laser such as a semiconductor laser or a YAG laser that emits 0-nm infrared light is preferable.
The lithographic printing plate of the present invention has a laser output of 0.1 to 3
Irradiation can be performed with a 00W laser. When a pulse laser is used, the peak output is 1000
It is preferable to irradiate a laser beam of W, preferably 2000 W. In this case, the exposure amount is preferably in the range of 0.1 to 10 J / cm 2 , more preferably in the range of 0.3 to 1 J / cm 2 , before the surface exposure intensity is modulated in the print image. preferable. If the support is transparent, it can be exposed through the support from the back side of the support.

【0118】画像露光された本発明の平版印刷用原板
は、それ以上の処理なしに印刷機に装着し、インキと湿
し水を用いて通常の手順で印刷することができる。ま
た、これらの平版印刷用原板は、印刷機シリンダー上に
取りつけた後に、印刷機に搭載されたレーザーにより露
光し、そのままインキと湿し水を用いて通常の手順で印
刷することができる。すなわち、本発明の平版印刷用原
板は、露光後、特に現像処理を経ることなく無処理で印
刷を開始できる。
The lithographic printing plate precursor of the present invention, which has been image-exposed, can be mounted on a printing press without any further processing, and can be printed by an ordinary procedure using ink and fountain solution. Also, after these lithographic printing original plates are mounted on a printing press cylinder, they can be exposed by a laser mounted on the printing press, and can be printed as they are using ink and fountain solution in a normal procedure. That is, the lithographic printing original plate of the present invention can start printing without exposure after exposure, without any particular development processing.

【0119】[0119]

【実施例】以下、実施例に基づいて本発明を具体的に説
明するが、本発明はこの実施例に限定されるものではな
い。なお、樹脂微粒子分散液の乾燥固形分比は、試料溶
液約1gを秤量するとともに、120℃で、1時間乾燥
後の試料を秤量し、その質量比により求めた。数平均分
子量は、GPCにより測定し、ポリスチレン換算の分子
量でもって記した。酸価は、所定量の試料溶液を秤量
し、濃度既知の水酸化カリウムのメタノール溶液で滴定
して求めた。粒径は、大塚電子(株) レーザードップラ
ー式粒度分布計ELS−800で測定した。
Hereinafter, the present invention will be described specifically with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples. The dry solid content ratio of the resin fine particle dispersion was determined by weighing about 1 g of the sample solution, weighing the sample after drying at 120 ° C. for 1 hour, and determining the mass ratio. The number average molecular weight was measured by GPC, and described in terms of the molecular weight in terms of polystyrene. The acid value was determined by weighing a predetermined amount of a sample solution and titrating with a methanol solution of potassium hydroxide having a known concentration. The particle size was measured with a laser Doppler particle size distribution analyzer ELS-800, Otsuka Electronics Co., Ltd.

【0120】〔自己水分散性の疎水性化樹脂微粒子の作
製例1〕アクリルポリマー微粒子 攪拌装置、還流装置、窒素導入管、滴下装置及び温度計
を備えた1Lの四つ口フラスコにメチルエチルケトンの
400gを仕込み、80℃に昇温した。スチレンの80
g、メタクリル酸メチルの300g、メタクリル酸の2
4.5g、2,2´-アゾビス(イソ酪酸)ジメチル(V−
601和光純薬工業(株)製の重合開始剤)8gをよく
混合した溶液を2時間かけて滴下した。8時間攪拌後、
V−601の0.5gを加え、さらに、8時間撹拌する
ことによって、乾燥固形分比が50%、酸価39.2、
数平均分子量が20000のアクリルポリマーが得られ
た。上記のアクリルポリマーの溶液100gをトリエチ
ルアミン2.71gで中和し、攪拌しながら水を滴下し
た。溶液は徐々に増粘し、約150gの水を滴下した辺
りから著しく粘度が低下して転相が完了した。さらに1
50gの水を加えた後、得られた分散液を40℃に加熱
して、有機溶剤ならびに余剰の水を減圧除去することに
よって、乾燥固形分比33.7%、平均粒径0.12μ
mのアクリルポリマー微粒子の水分散体が得られた。
[Production Example 1 of Self-Water-Dispersible Hydrophobized Resin Fine Particles] Acrylic polymer fine particles 400 g of methyl ethyl ketone was placed in a 1-L four-necked flask equipped with a stirrer, a reflux device, a nitrogen inlet tube, a dropping device, and a thermometer. And heated to 80 ° C. 80 of styrene
g, 300 g of methyl methacrylate, 2 of methacrylic acid
4.5 g, 2,2′-azobis (isobutyric acid) dimethyl (V-
601 (a polymerization initiator manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) was added dropwise over 2 hours. After stirring for 8 hours,
By adding 0.5 g of V-601 and further stirring for 8 hours, the dry solid content ratio was 50%, the acid value was 39.2,
An acrylic polymer having a number average molecular weight of 20,000 was obtained. 100 g of the above acrylic polymer solution was neutralized with 2.71 g of triethylamine, and water was added dropwise with stirring. The solution gradually increased in viscosity, and the viscosity was remarkably reduced around the time when about 150 g of water was dropped, whereby the phase inversion was completed. One more
After adding 50 g of water, the obtained dispersion is heated to 40 ° C., and the organic solvent and excess water are removed under reduced pressure, whereby the dry solid content ratio is 33.7%, and the average particle size is 0.12 μm.
Thus, an aqueous dispersion of acrylic polymer fine particles of m was obtained.

【0121】〔自己水分散性の疎水性化樹脂微粒子の作
製例2〕ポリウレタン微粒子 攪拌装置、還流装置、乾燥窒素導入管及び温度計を備え
た1Lの四つ口フラスコに「バーノックDN−980」
[大日本インキ化学工業(株)製のポリイソシアネート
の商品名]の533g、2,2−ビス(ヒドロキシメチ
ル)プロピオン酸の33.5g、ジブチル錫ジラウレー
トの0.05g及び酢酸エチルの300gを加え、80
℃で3時間撹拌することによって乾燥固形分比が50.
0%、イソシアナート基含有率6.80%なるポリウレ
タンプレポリマーの溶液が得られた。上記のポリウレタ
ンプレポリマー溶液100gにメチルエチルケトンの3
0gを加え、トリエチルアミンの3.50gで中和し、
攪拌しながら水を滴下した。プレポリマー溶液は徐々に
増粘し、約300gの水を加えた後、ジエチレントリア
ミンの2.51gを50gの水に溶解した水溶液を攪拌
しながらゆっくりと加えた。次いで、得られた分散液を
40℃に加熱して、有機溶剤ならびに余剰の水を減圧除
去することによって、乾燥固形分比33.5%、平均粒
径0.08μmのウレタン微粒子の水分散体が得られ
た。酸価は、31.0であった。
[Preparation Example 2 of Self-Water-Dispersible Hydrophobized Resin Fine Particles] Polyurethane fine particles “Varnock DN-980” was placed in a 1 L four-necked flask equipped with a stirrer, a reflux device, a dry nitrogen inlet tube and a thermometer.
533 g of [trade name of polyisocyanate manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.], 33.5 g of 2,2-bis (hydroxymethyl) propionic acid, 0.05 g of dibutyltin dilaurate and 300 g of ethyl acetate were added. , 80
Stirring at 3 ° C. for 3 hours resulted in a dry solids ratio of 50.
A solution of a polyurethane prepolymer having 0% and an isocyanate group content of 6.80% was obtained. To 100 g of the above polyurethane prepolymer solution, add 3
0 g, neutralized with 3.50 g of triethylamine,
Water was added dropwise with stirring. The prepolymer solution gradually thickened, and after adding about 300 g of water, an aqueous solution in which 2.51 g of diethylenetriamine was dissolved in 50 g of water was slowly added with stirring. Next, the obtained dispersion was heated to 40 ° C., and an organic solvent and excess water were removed under reduced pressure, whereby an aqueous dispersion of urethane fine particles having a dry solid content ratio of 33.5% and an average particle size of 0.08 μm was obtained. was gotten. The acid value was 31.0.

【0122】〔自己水分散性の疎水性化樹脂微粒子の作
製例3〕コアシェル型(スチレン-グリシジルメタクリレ
ートコア/アクリレートコポリマーシェル) コンデンサー、機械式撹拌器、温度計、窒素導入口/排
出口および2つのモノマー供給管を備えた500mlフラ
スコ内に、メタクリル酸25g、スチレン10g、エチ
ルアクリレート2g、過酸化ベンゾイル(BPO)3g、
n−ブタノール70gなる各原料を均一に混合したもの
40mlを入れ110℃に保ちながら攪拌しつつ2時間
加熱した。室温に降温後、蒸留水200mlおよび25
%アンモニア水10mlを加え、この混合物を透明にな
るまで撹拌した。その後、アスコルビン酸0.9gおよ
び過硫酸カリウム1.48gを加えた。スチレン(7
1.21g)、グリシジルメタクリレート(3.744
g)およびブロモトリクロロメタン(3g)を添加し、
窒素雰囲気下で温度を35℃に上げた。温度を7時間3
5℃に維持した。固形分含有率は25%であった。コア
はスチレン/グリシジルメタクリレートコポリマーであ
り、シェル材としてコアと会合するカルボキシル化アク
リレートコポリマーである。
[Production Example 3 of Self-Water-Dispersible Hydrophobized Resin Fine Particles] Core-shell type (styrene-glycidyl methacrylate core / acrylate copolymer shell) condenser, mechanical stirrer, thermometer, nitrogen inlet / outlet and 2 In a 500 ml flask equipped with two monomer supply tubes, 25 g of methacrylic acid, 10 g of styrene, 2 g of ethyl acrylate, 3 g of benzoyl peroxide (BPO),
40 ml of a mixture obtained by uniformly mixing each material of 70 g of n-butanol was added and heated at 110 ° C. for 2 hours while stirring. After cooling to room temperature, 200 ml of distilled water and 25 ml
10 ml of aqueous ammonia was added and the mixture was stirred until it became clear. Thereafter, 0.9 g of ascorbic acid and 1.48 g of potassium persulfate were added. Styrene (7
1.21 g), glycidyl methacrylate (3.744)
g) and bromotrichloromethane (3 g),
The temperature was increased to 35 ° C. under a nitrogen atmosphere. Temperature for 7 hours 3
Maintained at 5 ° C. The solids content was 25%. The core is a styrene / glycidyl methacrylate copolymer and a carboxylated acrylate copolymer associated with the core as a shell material.

【0123】〔自己水分散性の疎水性化樹脂微粒子の作
製例4〕コアシェル型(エポキシコア/アクリレートコポ
リマーシェル) 反応容器に液状エポキシ樹脂DER333(ダウケミカ
ル社製触媒添加エポキシ樹脂、エポキシ当量約200)
105gにビスフエノールA54gを加え撹拌しながら
約2時間かけて190℃に加熱し、さらにこの温度で2
時間保持した。この反応生成物はエポキシ当量約300
0のエポキシ樹脂となった。ついで反応容器に還流冷却
器をセットし、系内を密閉した後、n―ブタノール15
3gを、ポンプを用いて在入し、これにより上記エポキ
シ樹脂の溶液を得、これを117℃に保持した。別の容
器にメタクリル酸29g、スチレン18g、エチルアク
リレート20g及び過酸化ベンゾイル4.6gを入れて
混合した。このモノマー混合物を、上記エポキシ樹脂を
収容した反応容器に180分間にわたり一定速度で添加
した。反応温度は116〜117℃に維持し、上記モノ
マー混合物の添加が終わってから、さらに3時間そのま
ま撹拌を続けた。反応生成物はn―ブタノールに分散さ
れ半濁状になっていた。
[Preparation Example 4 of Self-Water-Dispersible Hydrophobized Resin Fine Particles] A core-shell type (epoxy core / acrylate copolymer shell) liquid epoxy resin DER333 (a catalyst-added epoxy resin manufactured by Dow Chemical Company, epoxy equivalent: about 200) )
To 105 g, 54 g of bisphenol A was added and heated to 190 ° C. over about 2 hours with stirring.
Hold for hours. The reaction product has an epoxy equivalent of about 300
0 was obtained. Then, a reflux condenser was set in the reaction vessel, and the inside of the system was closed.
3 g were introduced by means of a pump, whereby a solution of the epoxy resin was obtained, which was kept at 117.degree. In another container, 29 g of methacrylic acid, 18 g of styrene, 20 g of ethyl acrylate and 4.6 g of benzoyl peroxide were put and mixed. This monomer mixture was added at a constant rate over 180 minutes to the reaction vessel containing the epoxy resin. The reaction temperature was maintained at 116 to 117 ° C., and after the addition of the monomer mixture was completed, stirring was continued for another 3 hours. The reaction product was dispersed in n-butanol and became semi-turbid.

【0124】このような樹脂分散液を50℃に加熱した
500gの脱イオン水及び26gのジメチルエタノール
アミン混合液に徐々に加え、約1時間撹拌した後脱イオ
ン水330g加えた。この状態では上記反応生成物の樹
脂は微分散し、乳白色になっていた。ついで上記水中分
散液を50〜60℃で減圧蒸留し、260gを留去し
た。 その水分散液を限外濾過モジュール(ACP−10
50旭化成工業(株)製)を用い洗浄を行なった。得ら
れた水分散液は樹脂が微分散しており、乳白色になって
いた。この水分散液は3カ月放置しても樹脂の凝集ある
いは沈澱はなく分散系は安定であった。この分散液の不
揮分23%、この分散液中のn―ブタノールはガスクロ
マトグラフイーによる分析の結果検出されなかった。
This resin dispersion was gradually added to a mixed solution of 500 g of deionized water and 26 g of dimethylethanolamine heated to 50 ° C., and after stirring for about 1 hour, 330 g of deionized water was added. In this state, the resin of the reaction product was finely dispersed and turned milky white. Subsequently, the above-mentioned dispersion in water was distilled under reduced pressure at 50 to 60 ° C. to remove 260 g. The aqueous dispersion is passed through an ultrafiltration module (ACP-10).
(Asahi Kasei Kogyo Co., Ltd.). In the obtained aqueous dispersion, the resin was finely dispersed and turned milky white. The aqueous dispersion was stable for three months without aggregation or precipitation of the resin, and the dispersion was stable. The non-volatile content of this dispersion was 23%, and n-butanol in this dispersion was not detected as a result of analysis by gas chromatography.

【0125】〔自己水分散性の疎水性化樹脂微粒子の作
製例5〕 コアシェル型(スチレンブタジエンコア/カ
ルボキシル基含有エポキシシェル) 窒素ガス置換した4つ口フラスコに、n−ブタノール1
20gとビスフェノ−ルF型エポキシ樹脂150gとを
仕込み加熱溶解した。この溶液に、メタクリル酸25
g、スチレン10g、エチルアクリレート2g、過酸化
ベンゾイル(BPO)3g、n−ブタノール10gなる各
原料を均一に混合したものを、フラスコ内を110℃に
保ちながら攪拌しつつ、2時間かけて徐々に滴下した。
滴下終了後も、さらに、同温度で4時間のあいだ攪拌
し、固形分が58%なるカルボキシル基含有自己乳化性
エポキシ樹脂の溶液を得た。窒素ガスを封入した4つ口
フラスコに、上記で得た自己乳化性エポキシ樹脂100
gを仕込み、これを100℃まで加熱し、ジメチルエタ
ノールアミン4gとイオン交換水260gとの混合液
を、攪拌しながら、10分かけて滴下し、カルボキシル
基を有し、かつ、自己乳化性を有するエポキシ樹脂の水
性分散体を得た。さらに、減圧下にて、n−ブタノール
と水を共沸蒸留により、130g留去せしめて、不揮発
分が25%の、溶剤を含まないカルボキシル基含有自己
乳化性エポキシ樹脂(A)の水性分散体を得た。上記水
性分散体100g、ブタジエン4g、スチレン3g、B
PO 0.35gを、窒素ガス置換した攪拌装置付きの
オ−トクレ−ブに仕込み、攪拌しながら、この混合物を
50℃に加熱し、内圧が0Kg/cm2になるまで攪拌
を続けた処、固型分が29.8%なる目的とする水性樹
脂組成物が得られた。この水性樹脂組成物は、20日後
においても、粘度の変化が認められなかった。
[Preparation Example 5 of Self-Water-Dispersible Hydrophobized Resin Fine Particles] Core-shell type (styrene-butadiene core / carboxyl group-containing epoxy shell) n-butanol 1 was placed in a four-necked flask purged with nitrogen gas.
20 g and 150 g of bisphenol F-type epoxy resin were charged and dissolved by heating. To this solution, methacrylic acid 25
g, 10 g of styrene, 2 g of ethyl acrylate, 3 g of benzoyl peroxide (BPO), and 10 g of n-butanol were uniformly mixed, and gradually stirred over 2 hours while stirring at 110 ° C. while maintaining the inside of the flask at 110 ° C. It was dropped.
After the completion of the dropwise addition, the mixture was further stirred at the same temperature for 4 hours to obtain a solution of a carboxyl group-containing self-emulsifying epoxy resin having a solid content of 58%. The self-emulsifying epoxy resin 100 obtained above was placed in a four-necked flask filled with nitrogen gas.
g, heated to 100 ° C., and a mixed liquid of 4 g of dimethylethanolamine and 260 g of ion-exchanged water was added dropwise over 10 minutes with stirring to have a carboxyl group and to have self-emulsifiability. To obtain an aqueous dispersion of epoxy resin. Further, under reduced pressure, 130 g of n-butanol and water were distilled off by azeotropic distillation, and a non-solvent-containing aqueous dispersion of a carboxyl group-containing self-emulsifiable epoxy resin (A) having a nonvolatile content of 25% was obtained. I got 100 g of the above aqueous dispersion, 4 g of butadiene, 3 g of styrene, B
0.35 g of PO was charged into an autoclave equipped with a stirrer purged with nitrogen gas, and the mixture was heated to 50 ° C. while stirring, and stirring was continued until the internal pressure became 0 kg / cm 2 . The desired aqueous resin composition having a solid content of 29.8% was obtained. This aqueous resin composition showed no change in viscosity even after 20 days.

【0126】〔比較用の非自己分散性樹脂微粒子の作製
例a〕油相成分として、ポリスチレン30g、パイオニ
ンA41C(竹本油脂製)0.5gを酢酸エチル75.
0gメチルエチルケトン30.0gの混合溶媒に溶解し
た。水相成分として、PVA205(ケン化度88%の
ポリビニルアルコール、クラレ製)の4%水溶液を10
0g作製した。油相成分および水相成分を、ホモジナイ
ザーを用いて10000rpmで乳化した。その後、水
を80g添加し、室温で30分、さらに40℃で3時間
攪拌した。このようにして得られたポリマー微粒子分散
液の固形分濃度は16%であり、平均粒径は0.21μ
mであった。
[Production Example a of Non-self-dispersible Resin Fine Particles for Comparison] As an oil phase component, 30 g of polystyrene and 0.5 g of Pionin A41C (manufactured by Takemoto Oil & Fat) were mixed with 75 g of ethyl acetate.
0 g of methyl ethyl ketone was dissolved in a mixed solvent of 30.0 g. As an aqueous phase component, a 4% aqueous solution of PVA205 (polyvinyl alcohol having a saponification degree of 88%, manufactured by Kuraray Co., Ltd.) was used in an amount of 10%.
0 g was produced. The oil phase component and the water phase component were emulsified at 10,000 rpm using a homogenizer. Thereafter, 80 g of water was added, and the mixture was stirred at room temperature for 30 minutes and further at 40 ° C. for 3 hours. The solid content concentration of the polymer fine particle dispersion thus obtained was 16%, and the average particle size was 0.21 μm.
m.

【0127】〔比較用の非自己分散性疎水性化樹脂微粒
子の作製例b〕油相成分として、ポリメチルメタクリレ
ート30g、パイオニンA41C(竹本油脂製)0.5
gを酢酸エチル75.0gメチルエチルケトン30.0
gの混合溶媒に溶解した。水相成分として、PVA20
5(ケン化度88% クラレ製)の4%水溶液を100g作
製した。油相成分および水相成分を、ホモジナイザーを
用いて10000rpmで乳化した。その後、水を80g添
加し、室温で30分、さらに40℃で3時間攪拌した。
このようにして得られたポリマー微粒子分散液の固形分
濃度は16%であり、平均粒径は0.23μmであっ
た。
[Preparation Example b of Non-self-dispersible Hydrophobized Resin Fine Particles for Comparison] As an oil phase component, 30 g of polymethyl methacrylate, 0.5 pionin A41C (manufactured by Takemoto Yushi)
g of ethyl acetate 75.0 g methyl ethyl ketone 30.0
g of the mixed solvent. As an aqueous phase component, PVA20
100 g of a 4% aqueous solution of No. 5 (88% saponification, manufactured by Kuraray Co., Ltd.) was prepared. The oil phase component and the aqueous phase component were emulsified at 10,000 rpm using a homogenizer. Thereafter, 80 g of water was added, and the mixture was stirred at room temperature for 30 minutes and further at 40 ° C. for 3 hours.
The solid content concentration of the polymer fine particle dispersion thus obtained was 16%, and the average particle size was 0.23 μm.

【0128】〔比較用の非自己分散性疎水性化樹脂微粒
子の作製例c〕油相成分として、エポキシ樹脂(エピコ
ート1004、油化シェルエポキシ(株)製)30g、
パイオニンA41C0.5gを酢酸エチル75.0gメ
チルエチルケトン30.0gの混合溶媒に溶解した。水
相成分として、PVA205の4%水溶液を100g作
製した。油相成分および水相成分を、ホモジナイザーを
用いて10000rpmで乳化した。その後、水を80
g添加し、室温で30分、さらに40℃で3時間攪拌し
た。このようにして得られたポリマー微粒子分散液の固
形分濃度は16%であり、平均粒径は0.5μmであっ
た。
[Production Example c of Non-self-dispersible Hydrophobized Resin Fine Particles for Comparison] As an oil phase component, 30 g of an epoxy resin (Epicoat 1004, manufactured by Yuka Shell Epoxy Co., Ltd.) was used.
0.5 g of Pionein A41C was dissolved in a mixed solvent of 75.0 g of ethyl acetate and 30.0 g of methyl ethyl ketone. As an aqueous phase component, 100 g of a 4% aqueous solution of PVA205 was prepared. The oil phase component and the water phase component were emulsified at 10,000 rpm using a homogenizer. Then add water to 80
g was added and the mixture was stirred at room temperature for 30 minutes and further at 40 ° C. for 3 hours. The solid content concentration of the polymer fine particle dispersion thus obtained was 16%, and the average particle size was 0.5 μm.

【0129】実施例1〜3および比較例1〜3 〔アルミニウム支持体の作製〕99.5質量%アルミニ
ウムに、銅を0.01質量%、チタンを0.03質量
%、鉄を0.3質量%、ケイ素を0.1質量%含有する
JISA105のアルミニウム材の厚み0.24mm圧
延板を、400メッシュのパミストン(共立窯業製)の
20質量%水性懸濁液と、回転ナイロンブラシ(6,1
0−ナイロン)とを用いてその表面を砂目立てした後、
よく水で洗浄した。次に、10質量%水酸化ナトリウム
水溶液に70℃で60秒間浸漬してエッチングした後、
流水で水洗した。更に、20質量%硝酸水溶液で中和
し、水洗浄した。得られたアルミニウム板を1.0質量
%硝酸水溶液(硝酸アルミ子ウム0.5質量%含有)中
で、陽極時電圧12.7ボルト、陽極時電気量に対する
陰極時電気量の比が0.9、陽極時電気量160クロー
ン/dm2の条件の矩形波交番波形の電流を用いて電解
粗面化処理を行った。得られた基板の表面粗さは、0.
6μm(Ra表示)であった。この処理に続いて、40
℃の1質量%水酸化ナトリウム水溶液中に30秒間浸漬
して、エッチングした後、水洗した。次に、55℃、3
0質量%の硫酸水溶液中に1分間浸漬した。さらに、3
5℃の硫酸20質量%水溶液(アルミニウム0.8質量
%含有)中で直流電流を用いて、陽極酸化皮膜質量が
2.5g/dm2となるように陽極酸化処理を行った。
これを水洗、乾燥して支持体を作製した。
Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 to 3 [Preparation of aluminum support] 99.5% by weight of aluminum, 0.01% by weight of copper, 0.03% by weight of titanium, and 0.3% by weight of iron A 0.24 mm-thick rolled sheet of JISA105 aluminum material containing 0.1% by mass of silicon and 0.1% by mass of silicon was coated with a 400-mesh aqueous suspension of 20% by mass of pumistone (manufactured by Kyoritsu Ceramics) and a rotating nylon brush (6, 1
0-nylon) and the surface is grained,
Washed well with water. Next, after immersing in a 10% by mass aqueous solution of sodium hydroxide at 70 ° C. for 60 seconds for etching,
It was washed with running water. Furthermore, it was neutralized with a 20% by mass aqueous solution of nitric acid and washed with water. The obtained aluminum plate was placed in a 1.0% by mass aqueous nitric acid solution (containing 0.5% by mass of aluminum nitrate) and the voltage at the anode was 12.7 volts, and the ratio of the amount of electricity at the cathode to the amount of electricity at the anode was 0.1%. 9. Electrolytic surface roughening treatment was performed using a current having a rectangular wave alternating waveform under the condition of an electric quantity at the anode of 160 clones / dm 2 . The surface roughness of the obtained substrate was 0.1.
It was 6 μm (Ra indication). Following this processing, 40
It was immersed in a 1% by mass aqueous solution of sodium hydroxide at 30 ° C. for 30 seconds, etched, and then washed with water. Next, at 55 ° C, 3
It was immersed in a 0% by mass aqueous sulfuric acid solution for 1 minute. In addition, 3
Anodizing treatment was performed in a 20% by mass aqueous sulfuric acid solution (containing 0.8% by mass of aluminum) at 5 ° C. using a direct current so that the mass of the anodic oxide film became 2.5 g / dm 2 .
This was washed with water and dried to prepare a support.

【0130】〔平版印刷版の作製〕このように作製した
陽極酸化アルミニウム支持体上に、下記のように断熱層
と親水層をこの順に塗布して、平版印刷版を作製した。
[Preparation of a lithographic printing plate] A heat insulating layer and a hydrophilic layer were applied in this order on the anodized aluminum support thus prepared to prepare a lithographic printing plate.

【0131】上記の支持体上に、下記組成の断熱層塗布
液を1.0g/m2厚で塗布して断熱層を作製した。
On the above support, a heat insulating layer coating solution having the following composition was applied at a thickness of 1.0 g / m 2 to form a heat insulating layer.

【0132】 (断熱層塗布液) ブチラール樹脂BM−S(積水化学(株)製)10%MEK溶液 59g カーボンブラック分散物(固形分含量21%) 13.5g MEK(メチルエチルケトン) 62.7g(Coating Solution for Thermal Insulation Layer) Butyral resin BM-S (manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd.) 10% MEK solution 59 g Carbon black dispersion (solid content 21%) 13.5 g MEK (methyl ethyl ketone) 62.7 g

【0133】前記断熱層上に、下記組成の親水層塗布液
を用いバーコーターにて、乾燥膜質量が3.0g/m2
になるように塗布した。乾燥はオーブンにて45℃20
分間行った。その後、温度45℃湿度40%の条件下で
3日間放置して硬膜を行ない、平版印刷用原板を作製し
た。
A dry film weight of 3.0 g / m 2 was applied on the heat insulating layer by a bar coater using a hydrophilic layer coating solution having the following composition.
It was applied so that Drying in oven at 45 ° C 20
Minutes. Thereafter, the film was left for 3 days under conditions of a temperature of 45 ° C. and a humidity of 40% to form a hardened film, thereby producing a lithographic printing original plate.

【0134】 (親水層塗布液組成) ゾルゲル調製液 7.0g コロイダルシリカ(平均粒子径20nm)の20%水溶液 4.0g 疎水性化樹脂微粒子(11%水溶液) 10.0g 光熱変換剤(本明細書記載のIR−1)の1.5%水溶液 10.0g イオン交換水 5g(Composition of hydrophilic layer coating solution) Sol-gel preparation solution 7.0 g 20% aqueous solution of colloidal silica (average particle diameter 20 nm) 4.0 g Hydrophobized resin fine particles (11% aqueous solution) 10.0 g Photothermal conversion agent (this specification) Of 1.5% aqueous solution of IR-1) described in the description 10.0 g of ion-exchanged water

【0135】ここで、疎水性化樹脂微粒子は、下記の表
1に示した組み合わせで各実施例に使用した。また、ゾ
ルゲル調製液は、下記組成の溶液を調製し、室温で2時
間熟成して用いた。
Here, the hydrophobic resin fine particles were used in each of the examples in combinations shown in Table 1 below. The sol-gel preparation solution was prepared by preparing a solution having the following composition and aging at room temperature for 2 hours.

【0136】 (ゾルゲル調製液) テトラメトキシシラン 9.2g エタノール 16.2g イオン交換水 10.2g 0.1モル/リットル硝酸水溶液 6.0g(Sol-gel preparation liquid) Tetramethoxysilane 9.2 g Ethanol 16.2 g Deionized water 10.2 g 0.1 mol / L nitric acid aqueous solution 6.0 g

【0137】このように作製した印刷用原板を、水冷式
40W赤外線半導体レーザを搭載したクレオ社製トレン
ドセッター3244VFSにて、出力12W、外面ドラ
ム回転数94rpm、版面エネルギー300mJ/cm
2、解像度2400dpiの条件で露光して、露光部表
面に熱融着した画像領域を形成した。露光後の非画像部
および画像部表面について空中水滴接触角を測定し、結
果を表1に示した。また、露光した印刷版は、現像処理
することなくそのまま印刷機に装着して印刷した。印刷
機にRYOBI−3200MCDを用い、湿し水にEU
−3(富士写真フイルム(株)製)の1容量%水溶液を
用い、インキはGEOS(N)墨(大日本インキ化学工
業(株)製)を用いた。印刷での汚れ難さと耐刷性の評
価結果を表1に示した。耐刷性評価は2万枚で終了し
た。表1の耐刷性2以上は、2万枚時点でまだ余力があ
ったことを示す。
The printing plate thus prepared was subjected to an output of 12 W, an outer drum rotation speed of 94 rpm, a plate surface energy of 300 mJ / cm by a Creo Trendsetter 3244 VFS equipped with a water-cooled 40 W infrared semiconductor laser.
2. Exposure was performed under the conditions of a resolution of 2400 dpi to form an image area thermally fused on the exposed surface. The contact angles of water droplets in the air were measured for the non-image portion and the image portion surface after the exposure, and the results are shown in Table 1. Further, the exposed printing plate was mounted on a printing machine as it was without being subjected to development processing, and printing was performed. Use RYOBI-3200MCD for the printing press and EU
-3 (manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) in 1% by volume aqueous solution, and the ink used was GEOS (N) black (manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.). Table 1 shows the evaluation results of the difficulty in printing and the printing durability. The printing durability evaluation was completed at 20,000 sheets. A printing durability of 2 or more in Table 1 indicates that there was still room at 20,000 sheets.

【0138】[0138]

【表1】 [Table 1]

【0139】上記の結果は、自己水分散性の疎水化性樹
脂微粒子を用いた印刷用原板の方が、非画像部の水に対
する接触角が低く、印刷での汚れ難さに優れ、耐刷性も
優れていることを示している。
The above results show that the original plate for printing using self-water dispersible hydrophobic resin fine particles has a lower contact angle with water in the non-image area, is more resistant to stains in printing, and It shows that the properties are also excellent.

【0140】[0140]

【発明の効果】本発明によれば、露光後、現像処理を必
要としないで直接印刷機に装着して印刷することが可能
で、かつ印刷紙面上の印刷汚れも少なく耐刷性に優れた
平版印刷用原板を提供できる。
According to the present invention, after exposure, it is possible to directly mount the printing apparatus on a printing machine without the need for a developing process and to perform printing. A lithographic printing plate can be provided.

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 支持体上に、自己水分散性の疎水性化樹
脂微粒子、光熱変換剤および親水性結着剤を含有する、
熱により疎水化可能な親水層を有することを特徴とする
平版印刷用原板。
Claims 1. A self-dispersible hydrophobic resin fine particle, a photothermal conversion agent and a hydrophilic binder are contained on a support.
A lithographic printing plate having a hydrophilic layer that can be rendered hydrophobic by heat.
【請求項2】 該疎水性化樹脂粒子の樹脂が、分子内に
アクリル樹脂、エポキシ樹脂、スチレン樹脂、ウレタン
樹脂、フェノール樹脂、ビニルエステル樹脂及びその誘
導体からなる群から選ばれる少なくとも一つの親油性樹
脂の構造部分と、カルボン酸基、スルホン酸基、リン酸
基、水酸基、アミド基、スルホンアミド基およびアミノ
基から選ばれる少なくとも一つの親水性基を有する構造
部分とを有する樹脂であることを特徴とする請求項1記
載の平版印刷用原板。
2. The resin of said hydrophobized resin particles, wherein at least one lipophilic resin selected from the group consisting of acrylic resin, epoxy resin, styrene resin, urethane resin, phenol resin, vinyl ester resin and derivatives thereof in the molecule. A resin having a structural portion of a resin and a structural portion having at least one hydrophilic group selected from a carboxylic acid group, a sulfonic acid group, a phosphoric acid group, a hydroxyl group, an amide group, a sulfonamide group, and an amino group. 2. The lithographic printing original plate according to claim 1, wherein:
【請求項3】 該疎水性化樹脂微粒子がコア/シェル構
造を有し、コア部は親油性樹脂、シェル部は親水性の成
分からなる微粒子であることを特徴とする請求項1記載
の平版印刷用原板。
3. The lithographic plate according to claim 1, wherein the hydrophobic resin fine particles have a core / shell structure, the core portion is a lipophilic resin, and the shell portion is fine particles comprising a hydrophilic component. Original plate for printing.
【請求項4】 コア部の親油性樹脂が、アクリル樹脂、
エポキシ樹脂、スチレン樹脂、ウレタン樹脂、フェノー
ル樹脂、ビニルエステル樹脂及びその誘導体からなる群
から選ばれる少なくとも一つの樹脂であることを特徴と
する請求項3記載の平版印刷用原板。
4. The lipophilic resin of the core portion is an acrylic resin,
The lithographic printing plate according to claim 3, wherein the plate is at least one resin selected from the group consisting of an epoxy resin, a styrene resin, a urethane resin, a phenol resin, a vinyl ester resin, and derivatives thereof.
【請求項5】 シェル部の親水性成分が、カルボン酸
基、スルホン酸基、リン酸基、水酸基、アミド基、スル
ホンアミド基およびアミノ基から選ばれた少なくとも一
つの親水性基を有する樹脂であることを特徴とする請求
項3又は4記載の平版印刷用原板。
5. The resin according to claim 5, wherein the hydrophilic component in the shell has at least one hydrophilic group selected from a carboxylic acid group, a sulfonic acid group, a phosphoric acid group, a hydroxyl group, an amide group, a sulfonamide group and an amino group. The original plate for lithographic printing according to claim 3 or 4, wherein:
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