JP2001047755A - Lithographic printing original plate, and lithographic printing method - Google Patents
Lithographic printing original plate, and lithographic printing methodInfo
- Publication number
- JP2001047755A JP2001047755A JP2000141481A JP2000141481A JP2001047755A JP 2001047755 A JP2001047755 A JP 2001047755A JP 2000141481 A JP2000141481 A JP 2000141481A JP 2000141481 A JP2000141481 A JP 2000141481A JP 2001047755 A JP2001047755 A JP 2001047755A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- hydrophilic
- group
- layer
- acid
- particles
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Materials For Photolithography (AREA)
Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、現像不要で耐刷性
に優れたオフセット印刷用のダイレクト感熱平版印刷用
原板に関する。より詳しくは、ディジタル信号に基づい
た走査露光による画像記録が可能であり、且つ水現像可
能な、または現像することなくそのまま印刷機に装着し
印刷することが可能な平版印刷版用原板に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an original plate for direct thermal lithographic printing for offset printing which does not require development and has excellent printing durability. More specifically, the present invention relates to a lithographic printing plate precursor that can record an image by scanning exposure based on a digital signal and can be water-developed or can be mounted on a printing machine and printed without development.
【0002】[0002]
【従来の技術】一般に、平版印刷版は、印刷過程でイン
キを受容する親油性の画像部と湿し水を受容する親水性
の非画像部とからなる。このような平版印刷版用原板と
しては、従来から親水性支持体上に親油性の感光性樹脂
層を設けたPS版が広く用いられている。その製版方法
として、通常は、現像済みリスフイルムなどの画像を通
して露光を行った後、非画像部を現像液によって溶解除
去する方法であり、この方法により所望の印刷版を得て
いる。2. Description of the Related Art In general, a lithographic printing plate comprises an oleophilic image area receiving ink during a printing process and a hydrophilic non-image area receiving fountain solution. As such a lithographic printing plate precursor, a PS plate in which a lipophilic photosensitive resin layer is provided on a hydrophilic support has been widely used. The plate making method is usually a method of exposing through an image of a developed lithographic film or the like, and then dissolving and removing a non-image portion with a developing solution, whereby a desired printing plate is obtained.
【0003】従来のPS版に於ける製版行程は、露光の
後、非画像部を溶解除去する湿式の操作を伴うので、こ
の操作を不要化又は簡易化することが望まれている。特
に近年は、湿式処理に伴って排出される廃液は、廃液処
理コストを要するという経済面のみでなく、産業界全体
の大きな関心事である産業廃棄物の地球環境負荷の面か
らも、改善の要請が強くなっている。[0003] The plate making process in the conventional PS plate involves a wet operation for dissolving and removing a non-image portion after exposure, and it is desired to eliminate or simplify this operation. In particular, in recent years, wastewater discharged from wet processing has not only improved economics, requiring wastewater treatment costs, but has also been improved in terms of the global environmental burden of industrial waste, which is a major concern of the entire industry. Requests are getting stronger.
【0004】この要望に応じた簡易な製版方法の一つと
して、印刷版用原板の非画像部の除去を通常の印刷過程
の中で行えるような画像記録層を用い、露光後、印刷機
上で現像し最終的な印刷版を得る方法が提案されてい
る。このような方法による平版印刷版の製版方式は機上
現像方式と呼ばれる。具体的方法としては、例えば、湿
し水やインク溶剤に可溶な画像記録層の使用、印刷機中
の圧胴やブランケット胴との接触による力学的除去を行
う方法等が挙げられる。しかしながら、機上現像方式の
大きな問題は、印刷用原板が露光後も画像記録層が定着
されないため、例えば、印刷機に装着するまでの間、原
板を完全に遮光状態又は恒温条件で保存する、といった
手間のかかる方法をとる必要があった。[0004] As one of the simple plate making methods responding to this demand, an image recording layer is used which enables the non-image portion of a printing plate to be removed in a normal printing process. And a method for obtaining a final printing plate has been proposed. The lithographic printing plate making method by such a method is called an on-press development method. Specific examples of the method include a method of using an image recording layer soluble in a fountain solution or an ink solvent, and a method of mechanically removing the image recording layer by contact with an impression cylinder or a blanket cylinder in a printing press. However, a major problem of the on-press development method is that the image recording layer is not fixed even after the printing original plate is exposed, for example, until the original plate is mounted on a printing machine, the original plate is stored in a completely light-shielded state or at a constant temperature. It was necessary to take such a troublesome method.
【0005】一方、近年のこの分野のもう一つの動向と
しては、画像情報をコンピュータを用いて電子的に処
理、蓄積、出力するディジタル化技術が広く普及してき
ており、このようなディジタル化技術に対応した、新し
い画像出力方式が種々実用されるようになってきてい
る。とくに、レーザ光のような高収斂性の輻射線にディ
ジタル化された画像情報を担持してこの光で原板を走査
露光し、リスフィルムを介することなく、直接印刷版を
製造するコンピュータ・トゥ・プレート技術が注目され
ている。それに伴ってこの目的に適応した印刷版用原板
を得ることが重要な技術課題となっている。したがっ
て、製版作業の簡素化、乾式化、無処理化は、上記した
環境面と、ディジタル化への適合化の両面から、従来に
も増して強く望まれるようになっている。On the other hand, another trend in this field in recent years is that digitization techniques for electronically processing, storing, and outputting image information using a computer have become widespread. A variety of new image output methods that are compatible have been put to practical use. In particular, a computer-to-tool for manufacturing a printing plate directly without carrying a lithographic film by carrying digitized image information in high-convergent radiation such as laser light and scanning and exposing the original plate with this light. Plate technology is attracting attention. Accordingly, obtaining an original plate for a printing plate adapted to this purpose has become an important technical problem. Therefore, simplification, dryness, and no-processing of the plate making operation are more strongly desired than ever in view of both the above-mentioned environmental aspects and adaptation to digitalization.
【0006】デジタル化技術に組み込みやすい走査露光
による印刷版の製造方法として、最近、半導体レーザ、
YAGレーザ等の固体レーザで高出力のものが安価に入
手できるようになってきたことから、特に、これらのレ
ーザを画像記録手段として用いる製版方法が有望視され
るようになっている。従来方式の製版方法では、感光性
原板に低〜中照度の像様露光を与えて光化学反応による
原板面の像様の物性変化によって画像記録を行っている
が、高出力レーザを用いた高パワー密度の露光を用いる
方法では、露光領域に瞬間的な露光時間の間に大量の光
エネルギーが集中照射して、光エネルギーを効率的に熱
エネルギーに変換し、その熱により化学変化、相変化、
形態や構造の変化・破壊などの熱変化を起こさせ、その
変化を画像記録に利用する。つまり、画像情報はレーザ
ー光などの光エネルギーによって入力されるが、画像記
録は熱エネルギーによる反応によって記録される。通
常、このような高パワー密度露光による発熱を利用した
記録方式はヒートモード記録と呼び、光エネルギーを熱
エネルギーに変えることを光熱変換と呼んでいる。Recently, as a method of manufacturing a printing plate by scanning exposure which is easy to incorporate into digital technology, semiconductor lasers,
Since high-power solid-state lasers such as YAG lasers have become available at low cost, plate-making methods using these lasers as image recording means have become particularly promising. In the conventional plate-making method, image recording is performed by applying imagewise exposure of the photosensitive original plate at low to medium illuminance and changing the image-like physical properties of the original plate surface by a photochemical reaction. In the method using density exposure, a large amount of light energy is intensively applied to an exposure area during an instantaneous exposure time, and the light energy is efficiently converted to heat energy, and the heat causes chemical change, phase change,
A thermal change such as a change or destruction of the form or structure is caused, and the change is used for image recording. That is, image information is input by light energy such as laser light, while image recording is recorded by a reaction by heat energy. Usually, a recording method utilizing heat generated by such high power density exposure is called heat mode recording, and converting light energy into heat energy is called photothermal conversion.
【0007】ヒートモード記録手段を用いる製版方法の
大きな長所は、室内照明のような通常の照度レベルの光
では感光せず、また高照度露光によって記録された画像
は定着が必須ではないことにある。つまり、画像記録に
ヒートモード感材を利用すると、露光前には、室内光に
対して安全であり、露光後にも画像の定着は必須ではな
い。従って、例えば、ヒートモード露光により不溶化若
しくは可溶化する画像記録層を用い、露光した画像記録
層を像様に除去して印刷版とする製版工程を機上現像方
式で行えば、現像(非画像部の除去)は、たとえ画像露
光後ある時間室内の環境光に暴露されても、画像が影響
を受けないような印刷システムが可能となる。従ってヒ
ートモード記録を利用すれば、機上現像方式に望ましい
平版印刷版用原板を得ることも可能となると期待され
る。The major advantages of the plate making method using the heat mode recording means are that the plate making method is not sensitive to light having a normal illuminance level such as room illumination, and that an image recorded by high illuminance exposure does not require fixing. . In other words, if a heat mode photosensitive material is used for image recording, it is safe against room light before exposure, and it is not essential to fix an image after exposure. Therefore, for example, if an image recording layer that is insolubilized or solubilized by heat mode exposure is used, and a plate making process in which the exposed image recording layer is imagewise removed to form a printing plate is performed by an on-press development method, development (non-image Part removal) allows a printing system in which the image is unaffected even if it is exposed to room ambient light for some time after image exposure. Therefore, if heat mode recording is used, it is expected that a lithographic printing plate precursor that is desirable for an on-press development system can be obtained.
【0008】製版工程の簡易化に対する解決手段として
進められたヒートモード方式の一つの手段としてマイク
ロカプセル技術の利用も考えられている。The use of microcapsule technology has been considered as one means of the heat mode system which has been advanced as a solution to the simplification of the plate making process.
【0009】特開平3−108588号公報、特開平5
−8575号公報には、マイクロカプセル化された熱溶
融物質と結着性樹脂とからなる感熱記録層を支持体上に
設け、加熱部を親油性に変化させる版材が開示されてい
る。しかし、マイクロカプセル化された熱溶融物質はい
ずれも媒質との反応性を有せず、したがって拡散性が大
きく、識別性において満足のいくものではなかった。一
方、特開昭62−164596号公報、同62−164
049号公報には、親水性表面を有する支持体上に活性
水素含有バインダーポリマーと共にブロックイソシアネ
ートを含む記録層を設けた平版印刷原版及びその方法が
開示されている。しかし、この版材は、印字後、非印字
部分を除去する現像工程が必要である。JP-A-3-108588 and JP-A-5-108588
JP-A-8575 discloses a plate material in which a heat-sensitive recording layer comprising a microencapsulated heat-fusible substance and a binder resin is provided on a support, and a heating portion is changed to lipophilic. However, none of the microencapsulated hot-melt materials had reactivity with the medium, and therefore had high diffusivity and was not satisfactory in discriminability. On the other hand, JP-A Nos. 62-164596 and 62-164.
No. 049 discloses a lithographic printing plate precursor comprising a support having a hydrophilic surface and a recording layer containing a blocked isocyanate together with an active hydrogen-containing binder polymer, and a method therefor. However, this printing plate requires a developing step of removing a non-printed portion after printing.
【0010】さらに、ダイレクト型平版印刷材料の一つ
に、親水層の表面に画像部をインクジェットやトナー転
写等の外的手段で形成する直描型平版印刷材料がある
が、これらの技術にマイクロカプセル技術を取り入れる
試みも行われている。特開昭62−1587号公報に
は、マイクロカプセル化した非反応性の熱溶融性物質を
塗布し、加熱印字によりトナー受理層を形成する版材が
開示されている。しかし、形成されたトナー受理層に親
油性のトナー等を固着して初めて印刷版となるものであ
り、印字後、画像部が形成されるのではない。Further, as one of the direct type lithographic printing materials, there is a direct drawing type lithographic printing material in which an image portion is formed on the surface of a hydrophilic layer by an external means such as ink jet or toner transfer. Attempts have been made to incorporate capsule technology. Japanese Patent Application Laid-Open No. Sho 62-1587 discloses a plate material in which a microencapsulated non-reactive heat-fusible substance is applied, and a toner receiving layer is formed by heating and printing. However, a printing plate is formed only when lipophilic toner or the like is fixed to the formed toner receiving layer, and an image portion is not formed after printing.
【0011】特開平7−1849号公報にはマイクロカ
プセルとバインダーの界面においてカプセル中の親油性
成分と親水性のバインダーポリマーが化学結合する仕組
みを導入して膨潤を抑制し、耐刷性の向上を図ってお
り、市場の要望に応えるものではあるが、この印刷用原
板は、サーマルヘッドによってカプセルの熱破壊が起こ
ってから、親油性物質がバインダーと反応してインキ受
容領域を形成する方式であるので、親油性物質の拡散に
伴う疎水性領域の拡大が予想され、高精細化には不利な
方式である。このように従来の感熱性平版印刷用の版材
は、マイクロカプセル化しても耐刷力、識別性、親油性
などに乏しいなど、各々の弱点が十分には解決に至って
なく、したがって軽印刷などの用途に限られていた。Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 7-1849 introduces a mechanism in which a lipophilic component in a capsule and a hydrophilic binder polymer are chemically bonded at the interface between the microcapsule and the binder, thereby suppressing swelling and improving printing durability. Although this is intended to meet the needs of the market, this printing plate uses a method in which the lipophilic substance reacts with the binder to form an ink receiving area after the thermal destruction of the capsule by the thermal head. Therefore, it is expected that the hydrophobic region is expanded due to the diffusion of the lipophilic substance, which is disadvantageous for high definition. As described above, conventional plate materials for heat-sensitive lithographic printing, even when microencapsulated, lack printing durability, discrimination, oleophilicity, etc. Was limited to use.
【0012】ヒートモード記録に基づく平版印刷版の好
ましい製造法の一つとして、親水性の基板上に疎水性の
画像記録層を設け、画像状にヒートモード露光し、疎水
性層の溶解性・分散性を変化させ、必要に応じ、湿式現
像により非画像部を除去する方法が提案されている。こ
のような原板の例として、例えば、特公昭46ー279
19号公報には、親水性支持体上に、熱により溶解性が
向上するいわゆるポジ作用を示す記録層、具体的には糖
類やメラミンホルムアルデヒド樹脂等の特定の組成を有
する記録層を設けた原板をヒートモード記録することに
よって、印刷版を得る方法が開示されている。しかしな
がら、この記録層は感熱性が十分でないため、ヒートモ
ード走査露光に対しては、感度が不十分で、したがって
画像部と非画像部の識別性に乏しかった。[0012] As one of the preferred methods for producing a lithographic printing plate based on heat mode recording, a hydrophobic image recording layer is provided on a hydrophilic substrate, exposed to heat in an image form, and the solubility of the hydrophobic layer is determined. A method has been proposed in which the dispersibility is changed and, if necessary, the non-image portion is removed by wet development. As an example of such an original plate, for example, JP-B-46-279
JP-A No. 19 discloses an original plate in which a recording layer having a so-called positive action in which solubility is improved by heat, specifically a recording layer having a specific composition such as a saccharide or a melamine formaldehyde resin, is provided on a hydrophilic support. A method of obtaining a printing plate by recording in a heat mode is disclosed. However, since this recording layer has insufficient heat sensitivity, it has insufficient sensitivity to heat mode scanning exposure, and thus has poor discrimination between an image portion and a non-image portion.
【0013】ヒートモードの熱疎水性化の試みもなされ
た。たとえば、特開昭53−64747号公報、特開平
1−113290号公報等には、支持体上に設けられた
感熱層に分散させた熱溶融樹脂および熱可塑性樹脂を熱
印字により溶融し、加熱部を親水性から親油性に変化さ
せる版材が、また米国特許公報4,034,183号、
同4,063,949号公報などには、支持体上に設け
られた親水性ポリマーをレーザー照射し親水性基を無く
し親油性に転換させる版材が各々開示されている。しか
し、これらの版材は、版表面に存在する熱溶融物質がイ
ンキを受容することにより非画像部が汚れるなど画像部
と非画像部の識別性が低いという問題があった。[0013] Attempts have also been made to make the heat mode thermohydrophobic. For example, JP-A-53-64747 and JP-A-1-113290 disclose that a hot-melt resin and a thermoplastic resin dispersed in a heat-sensitive layer provided on a support are melted by thermal printing and heated. Plate material for changing a portion from hydrophilic to lipophilic is also disclosed in U.S. Pat. No. 4,034,183,
JP-A-4,063,949 and the like each disclose a plate material for irradiating a hydrophilic polymer provided on a support with a laser to remove the hydrophilic group and convert the hydrophilic polymer to lipophilic. However, these plate materials have a problem that the discrimination between the image portion and the non-image portion is low, for example, the non-image portion is stained by the hot-melt substance present on the plate surface receiving the ink.
【0014】一方、EP94/18005号公報には、
親水性架橋層と親油性の光熱変換層を支持体上に担持し
た、同様に現像せずに製版することが可能な、平版印刷
原板が開示されている。しかしながら、製版には架橋さ
れた親水性層を像様に擦りとる操作が必要と記されてお
り、簡易性の点で問題があるように思われる。On the other hand, EP 94/18005 discloses that
There is disclosed a lithographic printing plate precursor in which a hydrophilic crosslinked layer and a lipophilic light-to-heat conversion layer are supported on a support, and can be made in a similar manner without development. However, the prepress requires an operation of rubbing the crosslinked hydrophilic layer imagewise, which seems to be problematic in terms of simplicity.
【0015】また、WO98/40212号公報には、
金属酸化物コロイドを含む親水性層と光熱変換物質を含
む親油性画像記録層を基板上に設けた、現像することな
く製版することが可能な、平版印刷原板が開示されてい
る。しかし、少なくとも本発明者は、光熱変換層が親油
性である場合には、画像部と非画像部との識別性を確保
するのに多くの解決するべき点があると考えている。[0015] WO 98/40212 discloses that
There is disclosed a lithographic printing plate precursor in which a hydrophilic layer containing a metal oxide colloid and an lipophilic image recording layer containing a photothermal conversion substance are provided on a substrate and can be made without development. However, at least the present inventor believes that when the light-to-heat conversion layer is lipophilic, there are many points to be solved in order to ensure the distinction between the image part and the non-image part.
【0016】WO99/04974号公報には、染料や
顔料などの光変換性でインキ受容性の光吸収物質と、金
属や金属酸化物のコロイド状分散物とを含む親水性画像
記録層を基板上に設けた、現像することなく製版するこ
とが可能な、平版印刷原板が開示されている。しかし、
具体的な光熱変換剤としては、光吸収性のカチオン染料
2種とカーボンブラックの例が開示されているだけであ
る。WO 99/04974 discloses that a hydrophilic image recording layer containing a light-converting and ink-receptive light-absorbing substance such as a dye or pigment and a colloidal dispersion of metal or metal oxide is provided on a substrate. Discloses a lithographic printing original plate capable of making a plate without development. But,
Only specific examples of two light-absorbing cationic dyes and carbon black are disclosed as specific light-to-heat converting agents.
【0017】特開平6−199064号及びWO98/
40212号公報には、光熱変換剤を含む層とその層と
は親水性・疎水性の程度の異なる層とを組み合わせて用
いる2層構成のレーザー光記録による平版印刷原板が提
示されており、これらは今後さらなる改良を進めるべき
方法を示唆するものである。JP-A-6-199064 and WO98 /
Japanese Patent No. 40212 discloses a two-layered lithographic printing plate precursor using laser light recording in which a layer containing a photothermal conversion agent and a layer having a different hydrophilicity / hydrophobicity are used in combination. Suggests ways to further improve in the future.
【0018】また、従来のヒートモードポジ方式原板に
は別の大きな問題として非画像部における残膜と呼ばれ
る現象がある。即ち、記録層中の支持体近傍での露光に
よる溶解性変化が、記録層表面近傍に比較して小さいた
めに支持体近傍の膜物質が溶解し去らないで残るという
欠陥が起こりがちで、その点の改良が必要であった。一
般にヒートモードポジ型原板においては、ヒートモード
露光時の熱の発生は記録層中の光吸収剤の光吸収に基く
ものであるため、熱の発生量は記録層表面で大きく、支
持体近傍では小さいことが多い。このため、支持体近傍
での記録層の親水化の程度が比較的低くなってしまうも
のである。結果として、しばしば、本来、親水性表面を
提供すべき露光部において、疎水性の膜が除去されきれ
ずに残膜となることがあった。このような、非画像部の
残膜は、印刷物に印刷汚れを引き起こす。従来から、し
ばしば用いられている光熱変換層と画像記録層を機能分
離させた重層方式は、この点で不利な方向である。Further, another problem of the conventional heat mode positive type original plate is a phenomenon called a residual film in a non-image portion. That is, the change in solubility due to exposure in the vicinity of the support in the recording layer is small compared to the vicinity of the surface of the recording layer, so that a defect that the film material in the vicinity of the support remains without being dissolved tends to occur. Point improvement was needed. In general, in a heat mode positive original plate, the amount of heat generated at the time of heat mode exposure is based on the light absorption of the light absorbing agent in the recording layer. Often small. For this reason, the degree of hydrophilization of the recording layer near the support is relatively low. As a result, the hydrophobic film is often not completely removed from the exposed portion where the hydrophilic surface is to be provided. Such a residual film in the non-image portion causes printing stains on printed matter. Conventionally, a multi-layer system in which a photothermal conversion layer and an image recording layer are often used is separated in function.
【0019】上記したヒートモードの画像記録による製
版・印刷技術の経緯に示されるように、この製版・印刷
方法の特徴的な利点は、版下からフィルムを介すること
なく直接に刷版を作ることができ、したがって機上で製
版することも可能であり、現像操作を省くこともできる
ことであるが、一方、ヒートモード感度の不足や、熱に
よる画像物質拡散、画像記録層の表面と底部での感度の
相違などの弱点を有している。これらの弱点は基本的に
は画像部と非画像部との識別性の不足を招来する欠陥で
あり、したがって印刷品質や耐刷性に直結する欠陥でも
ある。したがってヒートモードの画像記録を利用する製
版・印刷方法の、印刷品質と耐刷性の両面を向上させる
ための基本的な方策は、識別性を向上させることに尽き
るといえる。その解決によってその他の色々な表現で上
記した欠陥も自ずから解決すると期待できる。As shown in the background of the plate making and printing technique using the image recording in the heat mode, the characteristic advantage of this plate making and printing method is that a plate is directly made from under the plate without passing through a film. Therefore, it is possible to make a plate on the machine and to omit the development operation.However, on the other hand, the lack of heat mode sensitivity, the diffusion of the image substance due to heat, the surface and bottom of the image recording layer, It has weaknesses such as differences in sensitivity. These weaknesses are basically defects that cause insufficient discrimination between an image portion and a non-image portion, and are therefore directly related to print quality and printing durability. Therefore, it can be said that the basic measure for improving both the printing quality and the printing durability of the plate making / printing method using the image recording in the heat mode is to improve the discriminability. It can be expected that the above-mentioned defect in various other expressions will be solved by itself.
【0020】[0020]
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、レー
ザー露光などを用いるヒートモードの製版方式の前記し
た欠陥を解決することによって、短時間での走査露光の
のちに現像処理を行うことなく製版することが可能であ
り、耐刷性にすぐれ、印刷面上の印刷汚れも少ないヒー
トモード型の平版印刷版用原板を提供することにある。
また、耐刷性と印刷汚れ抑止の両面の向上の具体的手段
という観点からは、画像部と非画像部との識別性に優れ
たヒートモード型の平版印刷版用原板を提供することに
ある。SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to solve the above-mentioned defects of a heat-mode plate making method using laser exposure or the like so that development processing is not performed after scanning exposure in a short time. It is an object of the present invention to provide a heat-mode type lithographic printing plate precursor that can be made into a plate, has excellent printing durability, and has less printing stains on a printing surface.
Further, from the viewpoint of specific means for improving both the printing durability and the prevention of printing stains, it is an object of the present invention to provide a heat-mode type lithographic printing plate precursor excellent in discrimination between an image portion and a non-image portion. .
【0021】[0021]
【課題を解決するための手段】本発明者は、上記の課題
解決の鍵は、像状の光照射による親水性から疎水性への
変化を最大限に発揮させる新たな手段を発見することで
あると考えて研究を重ね、あらたな識別能発現の原理を
見いだし、それに基づいて発明を完成するに至った。す
なわち、本発明は、以下の通りである。The key to solving the above problem is to find a new means for maximizing the change from hydrophilic to hydrophobic by image-like light irradiation. We continued our research, thinking that there was, and found a new principle of expressing discrimination ability, and based on that, completed the invention. That is, the present invention is as follows.
【0022】1.支持体上に設けられた親水性の媒質か
らなる層が、表面が親水性の疎水性化前駆体とそれ自体
又は少なくとも表面が親水性の光熱変換剤を含有するこ
とを特徴とする平版印刷用原板。1. A layer made of a hydrophilic medium provided on the support, for lithographic printing, wherein the surface contains a hydrophobizing precursor having a hydrophilic property and a light-to-heat conversion agent having a hydrophilic property itself or at least a surface property. Original plate.
【0023】2.親水性の媒質からなる層が、ゾルゲル
変換性であることを特徴とする上記1に記載の平版印刷
用原板。2. 2. The lithographic printing original plate as described in 1 above, wherein the layer made of a hydrophilic medium has a sol-gel conversion property.
【0024】3.表面が親水性の疎水性化前駆体が、芯
部に疎水性物質を内包し、かつ表面親水性の表層部を有
する複合構成の粒子分散物であることを特徴とする請求
項1又は2に記載の平版印刷用原板。3. The hydrophobizing precursor having a hydrophilic surface is a composite particle dispersion containing a hydrophobic substance in a core and having a surface layer having a hydrophilic surface, according to claim 1 or 2, The lithographic printing plate as described.
【0025】4.光熱変換剤が、表面が親水性の金属、
金属化合物、顔料及び炭素単体から選択される固体の微
粒子あるいは親水性媒質に溶存可能の親水性染料である
ことを特徴とする上記1〜3のいずれか1項に記載の平
版印刷用原板。4. The light-to-heat conversion agent is a metal having a hydrophilic surface,
4. The lithographic printing original plate as described in any one of the above items 1 to 3, wherein the lithographic printing plate is a solid fine particle selected from a metal compound, a pigment, and simple carbon or a hydrophilic dye soluble in a hydrophilic medium.
【0026】5.表面に水溶性保護層を設けたことを特
徴とする上記1〜5のいずれか1項に記載の平版印刷用
原板。[5] The lithographic printing original plate as described in any one of the above items 1 to 5, wherein a water-soluble protective layer is provided on the surface.
【0027】6.上記1〜5のいずれかに記載の平版印
刷用原板に光熱変換性の可視光又は赤外線光を像様に照
射したのち、照射面にインキを接触させて画像面がイン
キを受け入れた印刷版面を形成させて印刷を行うことを
特徴とする平版印刷方法。6. After irradiating the lithographic printing plate precursor according to any one of the above 1 to 5 with visible light or infrared light having photothermal conversion in an imagewise manner, the illuminated surface is brought into contact with ink to form a printing plate surface in which the image surface has received the ink. A lithographic printing method characterized by forming and printing.
【0028】本発明の基本は、製版後の画像部と非画像
部の識別効果を最大限に発現するには、まず原板表面が
十分に親水性であることが肝要で、それによって光照射
部と非照射部の疎水性・親水性の差が拡大するのであっ
て、原板表面の親水性度の不足を照射領域の疎水性化の
強化で補うことはできないという原理の発見である。こ
の原理に基づいて、本発明では支持体上に設けられた画
像記録層の構成要素のすべて、すなわち画像記録層の媒
質と、疎水性化前駆体の表面と、光熱変換剤そのもの又
は粒子形態の場合はその表面のいずれをも親水性とした
基本構成としている。この画像記録層へ像様の光照射を
行うと光熱変換剤が発熱し、その熱によって疎水性化前
駆体がその近傍を疎水性とし、形成された画像部の疎水
性は、非画像部の親水性との間に顕著な識別性を発現す
る。これが印刷版を形成したときに非画像部のインキ反
発性を高めて印刷汚れを防ぎ、耐刷性を向上させる鍵と
なる。The basis of the present invention is that in order to maximize the effect of discriminating the image area and the non-image area after plate making, it is essential that the surface of the original plate be sufficiently hydrophilic. This is the discovery of the principle that the difference between the hydrophobicity and the hydrophilicity of the non-irradiated portion increases, and the lack of the degree of hydrophilicity on the surface of the original plate cannot be compensated for by increasing the hydrophobicity of the irradiated region. Based on this principle, in the present invention, all of the components of the image recording layer provided on the support, that is, the medium of the image recording layer, the surface of the hydrophobizing precursor, the photothermal conversion agent itself or the particle form In this case, the basic configuration is such that all of the surfaces are hydrophilic. When imagewise light irradiation is performed on the image recording layer, the photothermal conversion agent generates heat, and the heat causes the hydrophobizing precursor to make its vicinity hydrophobic, and the hydrophobicity of the formed image area is reduced to that of the non-image area. Expresses remarkable distinction between hydrophilicity. This is the key to improving the ink repellency of the non-image area when printing plates are formed, preventing printing stains, and improving printing durability.
【0029】本発明においては、この基本に適うよう、
画像記録層の構成要素のそれぞれについて親水性化が図
られている。まず、媒質に関しては、高親水性の具体的
な媒質は、ゾルゲル変換性の媒質であって、とくに後述
するシラノール・シロキサンのゾルゲル変換系で代表さ
れる金属水酸化物ゾルから脱水縮合によって金属酸化物
のゲル状構造に変換する形のゾルゲル変換性の媒質が、
好ましい実施態様の一つである。In the present invention, to meet this basic,
Each component of the image recording layer is made hydrophilic. First, with regard to the medium, a specific medium having high hydrophilicity is a sol-gel converting medium. A sol-gel converting medium that converts to a gel-like structure of a product,
This is one of preferred embodiments.
【0030】画像記録層の親水性度をさらに向上させる
には、このゾルゲル変換性の親水性の媒質の中に、高度
に親水性のシリカ、水酸化珪素、水酸化アルミニウム、
酸化アルミニウム、酸化チタン及び水酸化チタンから選
ばれたコロイド分散物を含有させることが効果的であ
る。In order to further improve the degree of hydrophilicity of the image recording layer, highly hydrophilic silica, silicon hydroxide, aluminum hydroxide,
It is effective to contain a colloidal dispersion selected from aluminum oxide, titanium oxide and titanium hydroxide.
【0031】つぎに、表面が親水性の疎水性化前駆体
は、(1)芯部に疎水性物質を内包し、かつ表面親水性
の表層部を有する複合構成の粒子分散物で、光の照射と
光熱変換による熱の作用によって内包されていた疎水性
物質が近傍を疎水性化する前駆体、及び(2)表面親水
性の熱架橋性の粒子分散物で熱の作用で架橋反応が開始
されることによって疎水性を発現する前駆体がある。前
者の複合構成の粒子分散物の好ましい形態としては、 ヒートモードの画像露光の温度で軟化あるいは溶融す
る熱可塑性樹脂を内包し、表面に親水性ゾル粒子層を凝
集付着させたいわゆるヘテロ凝集粒子、 同じく表面にゾルゲル変換層などの親水性表層を形成
させた親水化処理粒子、 分散重合で得た熱可塑性重合体の疎水性微粒子を芯部
としてその周囲に親水性ポリマーの重合層を形成させた
コアシェル型の複合粒子、 熱拡散性あるいは熱可塑性の疎水性有機化合物を親水
性媒質中に乳化分散させた乳化物粒子、及び 疎水性の芯物質を表面親水性の壁材料で保護したマイ
クロカプセル粒子が挙げられる。 その詳細は、本発明の実施の形態及び実施例の中で説明
する。Next, the hydrophobizing precursor having a hydrophilic surface is (1) a composite particle dispersion having a hydrophobic substance in the core and a surface layer having a hydrophilic surface. Crosslinking reaction is started by the action of heat in the precursor, in which the hydrophobic substance contained by the action of irradiation and light-to-heat conversion makes the vicinity hydrophobic, and (2) a heat-crosslinkable particle dispersion having a hydrophilic surface. There is a precursor that develops hydrophobicity by being performed. As the preferred form of the former composite particle dispersion, a so-called hetero-aggregated particle containing a thermoplastic resin that softens or melts at the temperature of image exposure in a heat mode, and has a hydrophilic sol particle layer aggregated and adhered to the surface, Similarly, a hydrophilic polymerized layer having a hydrophilic surface layer such as a sol-gel conversion layer formed on its surface, and a hydrophobic polymer fine particle obtained by dispersion polymerization were used as a core to form a hydrophilic polymer layer around the core. Core-shell composite particles, emulsion particles in which a heat-diffusible or thermoplastic hydrophobic organic compound is emulsified and dispersed in a hydrophilic medium, and microcapsule particles in which a hydrophobic core substance is protected by a surface hydrophilic wall material Is mentioned. The details will be described in the embodiments and examples of the present invention.
【0032】後者の熱架橋の開始によって疎水性を発現
する粒子分散物には、重合性モノマーと架橋性化合物の
混合分散物が挙げられる。そのほか熱の作用によって粒
子の近傍を疎水性化する作用を有する化合物や化合物群
であれば、疎水性前駆体として用いることができる。The latter particle dispersion exhibiting hydrophobicity by initiation of thermal crosslinking includes a mixed dispersion of a polymerizable monomer and a crosslinking compound. In addition, any compound or compound group that has a function of making the vicinity of particles hydrophobic by the action of heat can be used as a hydrophobic precursor.
【0033】前記の乳化分散粒子に内包できる、ある
いは前記のマイクロカプセル粒子に内包できる具体的
な疎水性化合物は、常圧において融点が300℃以下で
沸点が100℃以上の液体又は固体状の有機低分子化合
物及び25℃における水100gへの溶解度又は25℃
における100g当たりの吸水量が2g以下である有機
高分子化合物である。有機低分子化合物は、上記の融点
と沸点を有してかつ25℃における水100gへの溶
解度が2g以下であるか、有機概念図における有機性
/無機性の比が0.7以上であるかの少なくともいずれ
かであることがとくに好ましい。Specific hydrophobic compounds which can be included in the emulsified and dispersed particles or the microcapsule particles are liquid or solid organic compounds having a melting point of 300 ° C. or less and a boiling point of 100 ° C. or more at normal pressure. Low molecular weight compound and solubility in water at 25 ° C in 100g or 25 ° C
Is an organic polymer compound having a water absorption of 2 g or less per 100 g. The low-molecular organic compound has the above melting point and boiling point, and the solubility in 100 g of water at 25 ° C. is 2 g or less, or the organic / inorganic ratio in the organic conceptual diagram is 0.7 or more. Particularly preferred is at least one of the following.
【0034】一方、これらの粒子に内包できる有機高分
子化合物は、好ましくはポリウレタン類、ポリカーボネ
−ト類、ポリエステル類、ポリアクリレ−ト類、セルロ
ースエステル類、セルロースアセタール類の少なくとも
一つである。On the other hand, the organic high molecular compound that can be included in these particles is preferably at least one of polyurethanes, polycarbonates, polyesters, polyacrylates, cellulose esters, and cellulose acetal.
【0035】次に、親水性媒質中に含まれる光熱変換剤
は、表面を親水性化した光熱変換性の固体微粒子、ある
いは媒質中に染着又は分子分散可能な光熱変換生分解性
の親水性染料である。固体微粒子は、金属、金属化合
物、顔料及び炭素単体から選択される固体の微粒子であ
る。Next, the photothermal conversion agent contained in the hydrophilic medium may be a photothermal conversion solid fine particle having a hydrophilic surface, or a photothermal conversion biodegradable hydrophilic particle capable of being dyed or dispersed in the medium. It is a dye. The solid fine particles are solid fine particles selected from a metal, a metal compound, a pigment, and carbon alone.
【0036】また、原板の取り扱い中の原板の汚れの防
止、とくに疎水性化の防止のために、本発明の印刷原板
には表面に水溶性保護層を設けることが好ましい。つぎ
に以上に概括した本発明について、さらに詳細を実施態
様の中で説明する。It is preferable to provide a water-soluble protective layer on the surface of the printing plate of the present invention in order to prevent contamination of the plate during handling of the plate, especially to prevent hydrophobicity. Next, the present invention summarized above will be described in more detail in embodiments.
【0037】[0037]
【発明の実施の形態】以下、画像記録層から順次説明す
る。 〔画像記録層〕本発明の画像記録層は、支持体上に設け
られた親水性層であって、表面が親水性の疎水性化前駆
体と、それ自体が親水性又は表面が親水性の光熱変換剤
とを含有している。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The image recording layer will be described below in order. (Image recording layer) The image recording layer of the present invention is a hydrophilic layer provided on a support, and a surface-hydrophobizing precursor, a hydrophilic precursor itself or a hydrophilic surface. A light-to-heat conversion agent.
【0038】(光熱変換剤)本発明における光熱変換剤
は、吸光度が少なくとも0.3×103 cm-1の物質を指
しており、好ましくは1×103cm -1以上、より好まし
くは1×104cm -1以上でかつ吸収光は実質的に蛍光や
燐光に変換されない物質を指す。なお、吸光度は透過濃
度を厚みで除した値である。また、染料など媒質中に実
質的に分子分散している場合は、媒質の光吸収係数が上
記の値である。いうまでもなく、多くの物質は多少とも
光を吸収し、光を吸収すればそれによって励起したその
物質のエネルギー準位は、基底準位に戻るときに蛍燐光
を発しないかぎり、熱の放出となるので厳密には殆どの
物質がたとえ僅かではあっても光熱変換作用を持ってい
るといえる。したがって、光熱変換性の物質という場合
には、目的とする熱変化をもたらすことができる大きさ
の光吸収特性を有する物質を指すのが適切であり、本発
明における光熱変換剤は、その目的から少なくとも上記
の吸光度を持っている物質を意味している。本発明に用
いられる上記の要件を満たした光熱変換剤は、金属、金
属酸化物、金属窒化物、金属硫化物、金属炭化物等の金
属化合物、非金属単体及び化合物、炭素単体、顔料及び
染料のいずれであってもよい。(Light-to-heat conversion agent) The light-to-heat conversion agent in the present invention refers to a substance having an absorbance of at least 0.3 × 10 3 cm −1 , preferably 1 × 10 3 cm −1 or more, more preferably 1 × 10 3 cm −1 or more. Absorbed light refers to a substance that is not less than × 10 4 cm −1 and that is not substantially converted into fluorescence or phosphorescence. The absorbance is a value obtained by dividing the transmission concentration by the thickness. When the molecule is substantially dispersed in a medium such as a dye, the light absorption coefficient of the medium is the above value. Needless to say, many substances absorb some light, and if they absorb light, the energy level of the excited substance will release heat unless it emits phosphorescence when returning to the ground level. Strictly speaking, it can be said that most substances have a light-to-heat conversion action even if slightly. Therefore, in the case of a light-to-heat conversion substance, it is appropriate to refer to a substance having light absorption characteristics of a size that can bring about a desired heat change, and the light-to-heat conversion agent in the present invention is used for the purpose. It means a substance having at least the above absorbance. The photothermal conversion agent satisfying the above requirements used in the present invention is a metal, a metal oxide, a metal nitride, a metal sulfide, a metal compound such as a metal carbide, a non-metal simple substance and a compound, a carbon simple substance, a pigment and a dye. Either one may be used.
【0039】<光熱変換性の固体微粒子>光熱変換性の
固体微粒子は、それ自体が疎水性の物質からなるもの
も、親水性の物質からなるものも、またその中間のもの
のいずれでもよいが、それ自体が親水性である物質を除
いては、表面親水性化処理を施す必要がある。表面親水
性化処理の詳細は、後に具体的な例で述べるシリケート
処理、アルミネート処理、水蒸気処理による水の化学吸
着層の付与、保護コロイド性高分子の表面層の付与、界
面活性剤処理の単独あるいは組み合わせによって行われ
る。<Solid Fine Particles with Light-to-Heat Conversion> The solid fine particles with light-to-heat conversion may be made of a hydrophobic substance, a hydrophilic substance, or an intermediate substance. Except for substances that are themselves hydrophilic, it is necessary to apply a surface hydrophilic treatment. Details of the surface hydrophilicity treatment include silicate treatment, aluminate treatment, provision of a water chemically adsorbed layer by steam treatment, provision of a protective colloid polymer surface layer, and surfactant treatment described later in specific examples. It is performed alone or in combination.
【0040】この種の好ましい金属化合物は、遷移金属
の酸化物、周期律表の2〜8族の金属元素の硫化物及び
周期律表の3〜8族の金属の窒化物である。遷移金属酸
化物には鉄、コバルト、クロム、マンガン、ニッケル、
モリブデン、テルル、ニオブ、イットリウム、ジルコニ
ウム、ビスマス、ルテニウム、バナジウムなどの酸化物
が含まれる。また、必ずしも遷移金属に含めない分類法
もあるが、亜鉛、水銀、カドミウム、銀、銅の酸化物も
本発明に用いることができる。これらの中では、Fe
O,Fe2 O3 ,Fe3 O4 ,CoO,Cr2 O3 ,M
nO2 ,ZrO2,Bi2 O3 ,CuO,CuO2 ,A
gO,PbO,PbO2 、VOx (x=1〜5)がとく
に好ましい金属酸化物の例として挙げられる。VOx に
は、黒色のVO、V2 O3 、VO2 、や褐色のV2 O5
が挙げられる。Preferred metal compounds of this type are oxides of transition metals, sulfides of metal elements of groups 2 to 8 of the periodic table and nitrides of metals of groups 3 to 8 of the periodic table. Transition metal oxides include iron, cobalt, chromium, manganese, nickel,
Oxides such as molybdenum, tellurium, niobium, yttrium, zirconium, bismuth, ruthenium, and vanadium are included. In addition, although there is a classification method that is not necessarily included in the transition metal, oxides of zinc, mercury, cadmium, silver, and copper can also be used in the present invention. Among these, Fe
O, Fe 2 O 3 , Fe 3 O 4 , CoO, Cr 2 O 3 , M
nO 2 , ZrO 2 , Bi 2 O 3 , CuO, CuO 2 , A
gO, PbO, PbO 2 , and VO x (x = 1 to 5) are examples of particularly preferred metal oxides. VO x includes black VO, V 2 O 3 , VO 2 , and brown V 2 O 5
Is mentioned.
【0041】好ましい無機金属酸化物としては、TiO
x (x=1.0〜2.0)、SiO x (x=0.6〜
2.0)、AlOx (x=1.0〜2.0)も挙げるこ
とができる。TiOx (x=1.0〜2.0)には、黒
色のTiO、黒紫色のTi2 O 3 、結晶形と狭雑物によ
って無色から黒色までの種々の色を呈するTiO2 類が
ある。SiOx (x=0.6〜2.0)には、SiO、
Si3 O2 、無色あるいは共存物質によって紫、青、赤
などの色を示すSiO2 が挙げられる。また、AlOx
(x=1.5)には、無色あるいは共存物質によって
赤、青、緑などに呈色するコランダムなどが挙げられ
る。Preferred inorganic metal oxides include TiO.
x(X = 1.0-2.0), SiO x(X = 0.6-
2.0), AlOx(X = 1.0-2.0)
Can be. TiOx(X = 1.0-2.0)
Color TiO, black purple TiTwoO ThreeDue to crystal form and contaminants
TiO that exhibits various colors from colorless to blackTwoKind
is there. SiOx(X = 0.6-2.0) is SiO,
SiThreeOTwoPurple, blue, red depending on colorless or coexisting substance
SiO showing colors such asTwoIs mentioned. Also, AlOx
(X = 1.5)
Corundum that shows colors such as red, blue, and green
You.
【0042】金属酸化物が多価金属の低次酸化物の場合
は、光熱変換剤であって、かつ自己発熱型の空気酸化反
応物質でもある場合がある。その場合は、光吸収したエ
ネルギーのほかに自己発熱反応の結果発生した熱エネル
ギーも利用できるので、好ましい。これらの多価金属の
低次酸化物は、Fe,Co,Niなどの低次酸化物が挙
げられる。具体的には、酸化第一鉄、四三酸化鉄、一酸
化チタン、酸化第一錫、酸化第一クロムなどが挙げられ
る。その中でも酸化第一鉄、四三酸化鉄及び一酸化チタ
ンが好ましい。When the metal oxide is a lower oxide of a polyvalent metal, it may be a photothermal conversion agent and a self-heating type air oxidation reactant. In that case, heat energy generated as a result of the self-exothermic reaction can be used in addition to the energy absorbed by light, which is preferable. The lower oxides of these polyvalent metals include lower oxides such as Fe, Co, and Ni. Specifically, ferrous oxide, triiron tetroxide, titanium monoxide, stannous oxide, chromous oxide and the like can be mentioned. Among them, ferrous oxide, ferric oxide and titanium monoxide are preferable.
【0043】自己発熱反応が起こるかどうかは、示差熱
天秤(TG/DTA)により容易に確認することができ
る。示差熱天秤に、自己発熱反応物質を挿入して、温度
を一定速度で上昇させていくと、ある温度で発熱ピーク
が出現して発熱反応が起こったことが観測される。金属
あるいは低次酸化金属の酸化反応を自己発熱反応として
用いた場合、発熱ピークが現れるとともに、熱天秤では
重量が増えることも同様に観測される。繰り返しになる
が、光・熱変換機構に加えて自己発熱反応エネルギーを
利用することにより、従来よりも単位輻射線量当たり、
より多くの熱エネルギーを、しかも持続的に利用するこ
とができ、そのために感度を向上させることができる。Whether or not the self-exothermic reaction occurs can be easily confirmed by a differential thermobalance (TG / DTA). When the self-heating substance was inserted into the differential thermobalance and the temperature was increased at a constant rate, an exothermic peak appeared at a certain temperature, and it was observed that an exothermic reaction occurred. When an oxidation reaction of a metal or a lower metal oxide is used as a self-heating reaction, an exothermic peak appears and an increase in weight is also observed on a thermobalance. Again, by using self-heating energy in addition to the light-heat conversion mechanism,
More heat energy can be used in a sustained manner, thereby improving sensitivity.
【0044】光熱変換性微粒子が金属硫化物からなる場
合、好ましい金属硫化物は、遷移金属などの重金属硫化
物である。中でも好ましい硫化物には鉄、コバルト、ク
ロム、マンガン、ニッケル、モリブデン、テルル、スト
ロンチウム、錫、銅、銀、鉛、カドミウムの硫化物が挙
げられ、とりわけ、硫化銀、硫化第一鉄及び硫化コバル
トが好ましい。When the light-to-heat converting fine particles are made of a metal sulfide, a preferred metal sulfide is a heavy metal sulfide such as a transition metal. Among them, preferred sulfides include sulfides of iron, cobalt, chromium, manganese, nickel, molybdenum, tellurium, strontium, tin, copper, silver, lead and cadmium, among which silver sulfide, ferrous sulfide and cobalt sulfide Is preferred.
【0045】光熱変換性微粒子が金属窒化物からなる場
合、好ましい金属窒化物は、金属のアジド化合物であ
る。とくに銅、銀及び錫のアジド化物が好ましい。これ
らのアジド化合物は、光分解によって発熱する自己発熱
性化合物でもある。そのほかの好ましい無機金属窒化物
には、TiNx (x=1.0〜2.0)、SiNx (x
=1.0〜2.0)、AlNx (x=1.0〜2.0)
などが挙げられる。TiNx (x=1.0〜2.0)と
しては、青銅色のTiNや褐色のTiNx (x=1.
3)が挙げられる。SiNx (x=1.0〜2.0)と
しては、Si2 N3 ,SiN,Si3 N4 が挙げられ
る。また、AlNx (x=1.0〜2.0)にはAlN
などを挙げることができる。When the photothermal conversion fine particles are made of a metal nitride, the preferred metal nitride is a metal azide compound. Particularly, azides of copper, silver and tin are preferred. These azide compounds are also self-heating compounds that generate heat by photolysis. Other preferred inorganic metal nitrides include TiN x (x = 1.0-2.0), SiN x (x
= 1.0-2.0), AlN x (x = 1.0-2.0)
And the like. As the TiN x (x = 1.0 to 2.0), bronze TiN or brown TiN x (x = 1.
3). Examples of SiN x (x = 1.0 to 2.0) include Si 2 N 3 , SiN, and Si 3 N 4 . AlN x (x = 1.0 to 2.0) has AlN
And the like.
【0046】上記の各金属酸化物、硫化物及び窒化物
は、いずれも公知の製造方法によって得られる。また、
チタンブラック、鉄黒、モリブデン赤、エメラルドグリ
ーン、カドミウム赤、コバルト青、紺青、ウルトラマリ
ンなどの名称で市販されているものも多い。Each of the above metal oxides, sulfides and nitrides can be obtained by a known production method. Also,
Many are commercially available under names such as titanium black, iron black, molybdenum red, emerald green, cadmium red, cobalt blue, navy blue, and ultramarine.
【0047】これら親水性の金属化合物の粒子サイズ
は、粒子を構成する物質の屈折率や吸光係数によって最
適サイズがことなるが、一般に0.005〜5μmであ
り、好ましくは0.01〜3μmである。粒子サイズ
が、微小に過ぎると光散乱により、粗大に過ぎると粒子
界面反射により、光吸収の非効率化がおこる。The particle size of these hydrophilic metal compounds varies depending on the refractive index and the extinction coefficient of the substance constituting the particles, but is generally 0.005 to 5 μm, preferably 0.01 to 3 μm. is there. When the particle size is too small, light scattering is caused, and when the particle size is too large, light absorption becomes inefficient due to reflection at the particle interface.
【0048】<光熱変換性の金属微粒子>次に、光熱変
換性の金属微粒子について述べる。金属粒子の多くは、
光熱変換性であってかつ自己発熱性でもある。また、そ
れ自体が親水性ではない金属化合物の場合と同様に表面
親水性化処理が必要である。<Light-to-heat converting metal fine particles> Next, light-to-heat converting metal fine particles will be described. Many of the metal particles are
It is photothermal and self-heating. Further, a surface hydrophilic treatment is required as in the case of a metal compound which is not hydrophilic itself.
【0049】金属微粒子としては、Mg、Al、Si、
Ti、V、Cr、Mn、Fe、Co、Ni、Cu、Z
n、Ga、Ge、Y、Zr、Nb、Mo、Tc、Ru、
Pd、Ag、Cd、In、Sn、Sb、Hf、Ta、
W、Re、Os、Ir、Pt、Au、Pb等の微粒子が
含まれる。これらの金属微粒子は光熱変換性であると同
時に自己発熱性でもある。この中でも、吸収光の光熱変
換によって得た熱エネルギーにより、酸化反応等の発熱
反応を容易に起こすものが好ましく、具体的には、A
l、Si、Ti、V、Cr、Mn、Fe、Co、Ni、
Cu、Zn、Y、Zr、Mo、Ag、In、Sn、Wが
好ましい。その中でもとくに輻射線の吸光度が高く、自
己発熱反応熱エネルギーの大きいものとして、Fe、C
o、Ni、Cr、Ti、Zrが好ましい。As the metal fine particles, Mg, Al, Si,
Ti, V, Cr, Mn, Fe, Co, Ni, Cu, Z
n, Ga, Ge, Y, Zr, Nb, Mo, Tc, Ru,
Pd, Ag, Cd, In, Sn, Sb, Hf, Ta,
Fine particles such as W, Re, Os, Ir, Pt, Au, and Pb are included. These metal fine particles are self-heating as well as light-to-heat converting. Among these, those which easily cause an exothermic reaction such as an oxidation reaction by thermal energy obtained by photothermal conversion of absorbed light are preferable.
1, Si, Ti, V, Cr, Mn, Fe, Co, Ni,
Cu, Zn, Y, Zr, Mo, Ag, In, Sn, and W are preferable. Among them, those having high absorbance of radiation and large heat energy of self-heating reaction include Fe and C.
o, Ni, Cr, Ti and Zr are preferred.
【0050】また、これらの金属は、単体粒子のみでな
く、2成分以上の合金で構成されていてもよく、また、
金属と前記した金属酸化物、窒化物、硫化物及び炭化物
等で構成された粒子でもよい。金属単体の方が酸化等の
自己発熱反応熱エネルギーは大きいが、空気中での取り
扱いが煩雑で、空気に触れると自然発火する危険がある
ものもある。そのような金属粉体は、表面から数nmの
厚みは金属の酸化物、窒化物、硫化物、炭化物等で覆わ
れている方が好ましい。これらの粒子の粒径は、10μ
m以下、好ましくは、0.005〜5μm、さらに好ま
しくは、0.01〜3μmである。0.01μm以下で
は、粒子の分散が難しく、10μm以上では、印刷物の
解像度が悪くなる。These metals may be composed of not only single particles but also alloys of two or more components.
Particles composed of a metal and the above-described metal oxides, nitrides, sulfides, carbides and the like may be used. The metal itself has a higher self-heating reaction heat energy such as oxidation, but its handling in the air is complicated, and there is a danger of spontaneous ignition when exposed to air. Such a metal powder is preferably covered with a metal oxide, nitride, sulfide, carbide, or the like with a thickness of several nm from the surface. The size of these particles is 10μ
m, preferably 0.005 to 5 μm, more preferably 0.01 to 3 μm. If it is less than 0.01 μm, it is difficult to disperse the particles, and if it is more than 10 μm, the resolution of the printed matter deteriorates.
【0051】以上に述べた弱親水性又は疎水性の、無機
金属酸化物及び無機金属窒化物、金属単体及び合金並び
に吸光性単体などの固体微粒子は、表面を親水性化処理
することによって、本発明の効果が発揮される。表面親
水性化の手段は公知の表面親水性化手段を用いることが
できる。例えば、親水性でかつ粒子への吸着性を有する
界面活性剤を添加して粒子表面を親水性基の界面吸着層
を形成させて分散させる方法、その際、ゼラチン、カゼ
イン、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドンな
どの保護コロイド性の親水性かつ表面吸着性の高分子皮
膜を設ける方法、さらにそれに界面活性剤も介在させて
粒子表面をより親水性且つ安定化させる分散方法、粒子
の構成物質と反応する親水性基をもつ物質で表面処理し
たり、などの方法をを用いることができる。The above-mentioned solid fine particles, such as inorganic metal oxides and inorganic metal nitrides, simple metals and alloys, and light-absorbing simple substances, which are weakly hydrophilic or hydrophobic, are subjected to a hydrophilic treatment on the surface thereof. The effects of the invention are exhibited. As a means for making the surface hydrophilic, a known means for making the surface hydrophilic can be used. For example, a method of adding a surfactant having hydrophilicity and adsorptivity to particles to form a surface-adsorbing layer of hydrophilic groups on the surface of the particles and dispersing the particles, gelatin, casein, polyvinyl alcohol, polyvinylpyrrolidone A method of providing a protective and colloidal hydrophilic and surface-adsorbing polymer film, a dispersion method of interposing a surfactant on the particle surface to make the particle surface more hydrophilic and stable, and a hydrophilicity that reacts with the constituent materials of the particle. For example, surface treatment with a substance having a functional group or the like can be used.
【0052】とくに好ましいのは、表面シリケート処理
であり、例えば、鉄微粒子や四三酸化鉄微粒子の場合
は、70°Cの珪酸ナトリウム(3%)水溶液に30秒
浸漬する方法によって表面を十分に親水性化することが
できる。この中でも、表面を親水性化した金属酸化物微
粒子、とくに表面をシリケート処理して金属酸化物微粒
子、とりわけ、表面をシリケート処理した鉄酸化物や鉄
の微粒子は、本発明の効果の好ましい態様である。Particularly preferred is a surface silicate treatment. For example, in the case of iron fine particles or iron trioxide fine particles, the surface is sufficiently immersed in a 70 ° C. aqueous solution of sodium silicate (3%) for 30 seconds. It can be made hydrophilic. Among these, metal oxide fine particles having a hydrophilic surface, particularly metal oxide fine particles having a silicate surface, particularly iron oxide or iron fine particles having a silicate surface, are preferred embodiments of the effects of the present invention. is there.
【0053】また、界面活性剤を分散のために使用する
場合は、分散される粒子と画像記録層の媒質の種類に応
じて適当な界面活性剤が選択される。このような親水性
媒質へ粒子を表面親水性の状態で分散するには、ソルビ
タントリステアレート、ソルビタンモノパルミテート、
ソルビタントリオレート、ステアリン酸モノグリセリ
ド、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル等の非
イオン界面活性剤、アルキルジ(アミノエチル)グリシ
ン、アルキルポリアミノエチルグリシン塩酸塩、2−ア
ルキル−N−カルボキシエチル−N−ヒドロキシエチル
イミダゾリニウムベタインやN−テトラデシル−N,N
−ベタイン型(例えば、商品名アモーゲンK、第一工業
(株)製)等の両性界面活性剤、ドデシルベンゼンスル
ホン酸やそのほかの炭素数8〜22のアルキルベンゼン
スルホン酸、アルキルナフタレンスルホン酸(アルキル
基の数は1又は2個で炭素数の和は1〜6)やナフタレ
ンスルホン酸、及びそれらのホルマリン縮合物(縮合数
は2〜5)、炭素数8〜22のアルキル硫酸などのアニ
オン性界面活性剤を用いることができる。When a surfactant is used for dispersion, an appropriate surfactant is selected according to the type of the particles to be dispersed and the medium of the image recording layer. To disperse the particles in such a hydrophilic medium in a surface hydrophilic state, sorbitan tristearate, sorbitan monopalmitate,
Nonionic surfactants such as sorbitan triolate, stearic acid monoglyceride, polyoxyethylene nonylphenyl ether, alkyldi (aminoethyl) glycine, alkylpolyaminoethylglycine hydrochloride, 2-alkyl-N-carboxyethyl-N-hydroxyethylimidazo Linium betaine or N-tetradecyl-N, N
Amphoteric surfactants such as betaine type (for example, trade name Amogen K, manufactured by Daiichi Kogyo Co., Ltd.), dodecylbenzenesulfonic acid and other alkylbenzenesulfonic acids having 8 to 22 carbon atoms, alkylnaphthalenesulfonic acids (alkyl groups) Is 1 or 2 and the sum of carbon numbers is 1 to 6), naphthalenesulfonic acid, or a formalin condensate thereof (condensation number is 2 to 5), or an anionic interface such as alkyl sulfuric acid having 8 to 22 carbon atoms. An activator can be used.
【0054】<光熱変換性の非金属単体>本発明では、
上記の金属化合物及び金属のほかに、非金属単体及び非
金属化合物の光熱変換性微粒子も用いられる。これらの
光熱変換性微粒子には、カーボンブラック、黒鉛(グラ
ファイト)、骨炭(ボーンブラック)などの単体粒子の
ほか各種の有機、無機顔料が挙げられる。これらはそれ
自体の多くは疎水性であり、表面に親水性化処理を施す
必要がある。<Non-metallic simple substance having photothermal conversion>
In addition to the above metal compounds and metals, non-metallic simple substances and non-metallic light-heat converting fine particles are also used. These light-heat converting fine particles include simple organic particles such as carbon black, graphite (graphite) and bone charcoal (bone black), as well as various organic and inorganic pigments. Many of these are themselves hydrophobic, and their surfaces need to be subjected to a hydrophilic treatment.
【0055】表面親水性化には、従来公知の任意の方法
を用いることができる。たとえば、カーボンブラック粒
子の表面は、公知の方法で水酸基導入処理あるいはシリ
ケート処理を施すことによって親水性化できる。例え
ば、カーボンブラック粒子10gを減圧にした反応容器
に入れて脱気したのち、水蒸気を流しながら、プラズマ
照射を行って水酸基導入カーボンブラックを得ることが
できる。さらに、得られた水酸基導入カーボンブラック
を水に分散させ、テトラエトキシシランを滴下させて室
温にて反応させると表面シリケート処理したカーボンブ
ラックが得られる。For making the surface hydrophilic, any conventionally known method can be used. For example, the surface of the carbon black particles can be made hydrophilic by performing a hydroxyl group introduction treatment or a silicate treatment by a known method. For example, 10 g of carbon black particles are placed in a reaction vessel under reduced pressure, degassed, and then subjected to plasma irradiation while flowing steam to obtain hydroxyl group-introduced carbon black. Furthermore, when the obtained hydroxyl group-introduced carbon black is dispersed in water, tetraethoxysilane is added dropwise and reacted at room temperature to obtain a surface silicate-treated carbon black.
【0056】<光熱変換性の顔料>本発明には、それ自
体が親水性表面を有するか、親水性表面の被覆層を有
し、かつ画像形成用の照射光に対して光熱変換性の微粒
子分散性の任意の顔料を用いることができる。顔料は、
金属錯体顔料、非金属顔料のいずれであってもよい。<Photothermally Convertible Pigment> The present invention relates to fine particles which have a hydrophilic surface or a coating layer of a hydrophilic surface and which are photothermally convertible to irradiation light for image formation. Any dispersible pigment can be used. The pigment is
Any of a metal complex pigment and a non-metallic pigment may be used.
【0057】好ましい顔料は、コバルトグリーン(C.
I.77335),エメラルドグリーン(C.I.77
410),フタロシアニンブル−(C.I.7410
0),銅フタロシアニン(C.I.74160),ウル
トラマリン(C.I.77007),紺青(C.I.7
7510),コバルト紫(C.I.77360),パリ
オジェン赤310(C.I.71155),パーマネン
トレッドBL(C.I.71137),ペリレン赤
(C.I.71140),ローダミンレーキB(C.
I.45170:2),ヘリオボルドーBL(C.I.
14830),ライトファーストレッドトーナーR
(C.I.12455),ファーストスカーレットV
D、リゾールファーストスカーレットG(C.I.12
315),パーマネントブラウンFG(C.I.124
80),インダンスレンブリリアントオレンジRK
(C.I.59300),赤口黄鉛(C.I.7760
1),ハンザイエロー10G(C.I.11710),
チタンイエロー(C.I.77738),亜鉛黄(C.
I.77955),クロムイエロー(C.I.7760
0)などが挙げられるほか、静電記録用トナーに用いら
れる各種の顔料も好ましく用いることができる。A preferred pigment is cobalt green (C.I.
I. 77335), emerald green (CI.77)
410), Phthalocyanine Bull- (CI. 7410)
0), copper phthalocyanine (CI. 74160), ultramarine (CI. 77007), navy blue (CI. 7)
7510), cobalt violet (CI. 77360), paliogen red 310 (CI. 71155), permanent red BL (CI. 71137), perylene red (CI. 71140), rhodamine lake B (C. .
I. 45170: 2), Helio Bordeaux BL (CI.
14830), Light Fast Red Toner R
(CI. 12455), First Scarlet V
D, Resol first scarlet G (CI.12)
315), permanent brown FG (CI.124)
80), Indanthrene Brilliant Orange RK
(CI. 59300), red-mouthed graphite (CI. 7760)
1), Hansa Yellow 10G (CI. 11710),
Titanium yellow (C.I.77738), zinc yellow (C.I.
I. 77955), chrome yellow (CI 7760)
0) and various pigments used in electrostatic recording toners can also be preferably used.
【0058】顔料についても、それ自体が親水性のもの
以外は、それ自体が親水性ではない金属化合物、金属及
び炭素単体粒子の場合について前記した方法と同じ表面
親水性化処理を行う必要がある。Regarding the pigment, it is necessary to perform the same surface hydrophilicity treatment as described above for the case of a metal compound, metal and carbon simple particles that are not themselves hydrophilic, except that the pigment itself is hydrophilic. .
【0059】画像形成層において、光熱変換性の微粒子
の含有量は、固形の構成成分の1〜95重量%であり、
好ましくは、3〜90重量%、より好ましくは、5〜8
0重量%である。1重量%以下では発熱量が不足し、9
5重量%以上では膜強度が低下する。In the image forming layer, the content of the light-heat converting fine particles is 1 to 95% by weight of the solid constituents.
Preferably, it is 3 to 90% by weight, more preferably 5 to 8%.
0% by weight. If the amount is less than 1% by weight, the calorific value is insufficient and 9
When the content is 5% by weight or more, the film strength decreases.
【0060】<光熱変換性の親水性染料>光熱変換剤と
しては、照射光の分光波長領域に光吸収域を有する、か
つ親水性媒質に対して染着性又は分子分散性である親水
性染料を用いることもできる。好ましい染料は、IR吸
収剤であり、具体的には、水溶性基を分子内に有する染
料で、かつポリメチン色素、シアニン色素、スクアリリ
ウム色素、ピリリウム色素、ジインモニウム色素、フタ
ロシアニン化合物、トリアリールメタン色素、金属ジチ
オレンから選ばれる染料である。これらのうち更に好ま
しいものとしては、ポリメチン色素、シアニン色素、ス
クアリリウム色素、ピリリウム色素、ジインモニウム色
素、フタロシアニン化合物であり、その中でも合成適性
の観点からポリメチン色素、シアニン色素、フタロシア
ニン化合物がもっとも好ましい。また、好ましい水溶性
基としては、スルホン酸基、カルボキシル基及びホスホ
ン酸基である。本発明に用いられるIR吸収剤の具体例
を以下に示すが、本発明はこれらに限定されるものでは
ない。<Heat-Converting Hydrophilic Dye> As the light-to-heat converting agent, a hydrophilic dye having a light absorption region in a spectral wavelength region of irradiation light and being dyeable or dispersible in a hydrophilic medium is used. Can also be used. Preferred dyes are IR absorbers, specifically, dyes having a water-soluble group in the molecule, and include a polymethine dye, a cyanine dye, a squarylium dye, a pyrylium dye, a diimmonium dye, a phthalocyanine compound, a triarylmethane dye, It is a dye selected from metal dithiolenes. Of these, polymethine dyes, cyanine dyes, squarylium dyes, pyrylium dyes, diimmonium dyes, and phthalocyanine compounds are more preferable. Among them, polymethine dyes, cyanine dyes, and phthalocyanine compounds are most preferable from the viewpoint of synthesis suitability. Preferred water-soluble groups are a sulfonic acid group, a carboxyl group and a phosphonic acid group. Specific examples of the IR absorber used in the present invention are shown below, but the present invention is not limited to these.
【0061】[0061]
【化1】 Embedded image
【0062】[0062]
【化2】 Embedded image
【0063】[0063]
【化3】 Embedded image
【0064】[0064]
【化4】 Embedded image
【0065】[0065]
【化5】 Embedded image
【0066】[0066]
【化6】 Embedded image
【0067】本発明において、これらの赤外線吸収剤の
含有量は、感光層の全固形分中、6重量%以上であり、
好ましくは10重量%以上、特に好ましくは15重量%
以上で用いられる。赤外線吸収剤の含有量が6重量%未
満であると感度が低くなってしまう。In the present invention, the content of these infrared absorbers is at least 6% by weight based on the total solid content of the photosensitive layer.
Preferably at least 10% by weight, particularly preferably 15% by weight
Used above. When the content of the infrared absorbent is less than 6% by weight, the sensitivity is lowered.
【0068】本発明の効果を発揮するためには、光熱変
換剤が前記した吸光度を持っていることに加えて、この
光熱変換剤を含んだ画像記録層中も、光熱変換作用が効
果的に起るのに必要なレベルの光吸収能すなわち粒子密
度を有している必要がある。その必要な光吸収能は、光
熱変換が可能な300〜1200nmの分光波長領域中
に吸光度が0.3以上の分光吸収域を有することである
が、具体的には画像形成用の照射光の波長域(単波長光
の場合は、その波長を中心とする100nm幅の波長
域)に吸光度が0.3以上の吸収極大を有するか、又は
この波長域に吸収極大を有しなくても吸光度が0.3以
上の連続した100nm以上の分光波長域が存在してい
ることを意味する。この光吸収能の条件を満たしておれ
ば、この吸光波長域に相当する波長の像様露光を行うこ
とによって感光度が増大して識別性が向上する。In order to exhibit the effect of the present invention, in addition to the photothermal conversion agent having the above-mentioned absorbance, the photothermal conversion effect is effectively exerted in the image recording layer containing the photothermal conversion agent. It must have the required level of light absorption or particle density to occur. The necessary light absorption capability is to have a spectral absorption region having an absorbance of 0.3 or more in a spectral wavelength region of 300 to 1200 nm where photothermal conversion is possible. Absorbance has an absorption maximum of 0.3 or more in a wavelength range (in the case of single wavelength light, a wavelength range of 100 nm width centered on the wavelength), or absorbance does not have an absorption maximum in this wavelength range. Means that there is a continuous spectral wavelength range of 100 nm or more with 0.3 or more. If the condition of the light absorption ability is satisfied, the sensitivity is increased by performing imagewise exposure at a wavelength corresponding to the absorption wavelength range, and the discrimination property is improved.
【0069】また、画像形成層の透過濃度は、国際規格
ISO5-3 及び ISO5-4 に準拠して測定したときに0.3
〜3.0であることが好ましい。透過濃度が3.0を超
えると輻射線のアテニユエーションの結果、画像層の底
部の輻射線強度の低下が著しくなって疎水性への変化が
起こりにくくなる。また、透過濃度が0.3以下では、
輻射線エネルギーの吸収が十分でなく、光・熱変換によ
って得られる熱エネルギーの量が不十分となりやすい。The transmission density of the image forming layer is determined according to international standards.
0.3 when measured according to ISO5-3 and ISO5-4
It is preferably from 3.0 to 3.0. When the transmission density exceeds 3.0, the radiation intensity is significantly reduced at the bottom of the image layer as a result of radiation attenuation, and the change to hydrophobicity hardly occurs. When the transmission density is 0.3 or less,
The absorption of radiation energy is not sufficient, and the amount of heat energy obtained by light-to-heat conversion tends to be insufficient.
【0070】(疎水性化前駆体)以上で光熱変換性の微
粒子の説明を終わり、次に表面が親水性の疎水性化前駆
体について説明する。本発明では、公知のいろいろの熱
により極性が疎水性に変化する物質系を表面親水性にし
て疎水性化前駆体として用いることができる。以下の
(1)及び(2)項に、疎水性化前駆体の好ましい実施
形態を示すが、本発明はこれらの例に限定されるもので
はない。 (1)芯部に疎水性物質を内包し、かつ表面親水性の表
層部を有する複合構成の粒子分散物であって、光の照射
と光熱変換による熱の作用によって粒子形状がこわれて
内包されていた疎水性物質によって疎水性化が起こる前
駆体。 (2)表面親水性の熱架橋性の粒子分散物であって、熱
の作用で架橋反応が開始されることによって疎水性を発
現する前駆体。以下にこれらについてさらに説明する。(Hydrophobicizing Precursor) The description of the photothermal converting fine particles is completed above, and then the hydrophobizing precursor having a hydrophilic surface is described. In the present invention, a known substance whose polarity is changed to hydrophobic by various kinds of heat can be surface-hydrophilized and used as a hydrophobizing precursor. Preferred embodiments of the hydrophobizing precursor are shown in the following sections (1) and (2), but the present invention is not limited to these examples. (1) A particle dispersion having a composite structure in which a core contains a hydrophobic substance and has a surface layer having a hydrophilic surface. Precursors that have been hydrophobized by the existing hydrophobic substance. (2) A precursor which is a heat-crosslinkable particle dispersion having a surface hydrophilicity and which exhibits hydrophobicity when a cross-linking reaction is initiated by the action of heat. These will be further described below.
【0071】(1)芯部に疎水性物質を内包し、表面親
水性の表層部を有する複合構成の粒子分散物。前者
(1)の複合構成の粒子分散物の好ましい粒子の形態と
しては、 ヒートモードの画像露光がもたらす温度で軟化あるい
は溶融する熱可塑性樹脂を内包し、表面に親水性ゾル粒
子層を凝集付着させたいわゆるヘテロ凝集表面層の複合
粒子(以後へテロ凝集表面層粒子とも呼ぶ)、 同じく表面にゾルゲル変換物質を処理してゾルゲル変
換によって親水性ゲルの表層を形成させた表面ヘテロ相
の複合粒子(以後表面へテロ相粒子とも呼ぶ)、 分散重合で得た熱可塑性重合体の疎水性微粒子を芯部
としてその周囲に親水性ポリマーの重合層を形成させた
コアシェル型の複合粒子(以後コアシェル型粒子とも呼
ぶ)、 熱拡散性あるいは熱可塑性の疎水性有機化合物を親水
性媒質中に乳化分散させた乳化物粒子(以後疎水性有機
物内包粒子とも呼ぶ)、及び 疎水性の芯物質を表面親水性の壁材料で保護したマイ
クロカプセル粒子(以後単にマイクロカプセル粒子とも
呼ぶ)が挙げられる。後者(2)の熱架橋の開始によっ
て疎水性を発現する粒子分散物には、重合性モノマーと
架橋性化合物と熱重合開始剤の混合分散物が挙げられ
る。(1) A composite particle dispersion in which a core contains a hydrophobic substance and has a surface layer having a hydrophilic surface. The preferred particle form of the composite particle dispersion of the former (1) includes a thermoplastic resin that softens or melts at a temperature caused by heat mode image exposure, and causes a hydrophilic sol particle layer to coagulate and adhere to the surface. Composite particles of a so-called hetero-aggregated surface layer (hereinafter also referred to as hetero-aggregated surface layer particles), and surface hetero-phase composite particles of a surface treated with a sol-gel conversion material to form a hydrophilic gel surface layer by sol-gel conversion ( Core-shell type composite particles (hereinafter referred to as core-shell type particles) in which hydrophobic fine particles of a thermoplastic polymer obtained by dispersion polymerization are formed as a core and a polymer layer of a hydrophilic polymer is formed around the core. ), Emulsion particles obtained by emulsifying and dispersing a heat-diffusible or thermoplastic hydrophobic organic compound in a hydrophilic medium (hereinafter also referred to as hydrophobic organic substance-containing particles). ), And microcapsule particles in which a hydrophobic core substance is protected by a surface hydrophilic wall material (hereinafter also simply referred to as microcapsule particles). The latter (2) particle dispersion exhibiting hydrophobicity by the initiation of thermal crosslinking includes a mixed dispersion of a polymerizable monomer, a crosslinking compound and a thermal polymerization initiator.
【0072】<へテロ凝集表面層粒子>前者(1)の
のへテロ凝集表面層粒子は、モノマーを界面活性剤ミセ
ルで保護して乳化分散して重合させて得た熱軟化性又は
熱溶融性樹脂の乳化重合分散物粒子が内包されており、
光照射と光熱変換作用による熱の効果で、樹脂粒子が軟
化、溶融などを起こし、親水性の表面層をこわして粒子
として存在していた近傍を疎水性化する。親水性の表面
層は、シリカ微粒子、アルミナ微粒子のような親水性の
きわめて大きいゾル状の微粒子分散物を添加して樹脂の
乳化重合分散物粒子の周囲に吸着させて形成した保護層
である。ゾル状の微粒子分散物については、のちに親水
性の画像記録層の媒質への添加成分として説明するゾル
状微粒子と同じである。<Hetero-aggregated surface layer particles> The former (1) hetero-aggregated surface layer particles are obtained by heat-softening or heat-melting obtained by emulsifying, dispersing and polymerizing a monomer protected by a surfactant micelle. Emulsion polymer dispersion particles of the conductive resin are included,
The resin particles are softened or melted by the effect of heat due to light irradiation and photothermal conversion, breaking the hydrophilic surface layer and rendering the vicinity existing as particles hydrophobic. The hydrophilic surface layer is a protective layer formed by adding a very hydrophilic sol-like fine particle dispersion such as silica fine particles and alumina fine particles and adsorbing the dispersion around the emulsion polymerization dispersion particles of the resin. The sol-like fine particle dispersion is the same as the sol-like fine particles described below as a component to be added to the medium of the hydrophilic image recording layer.
【0073】<表面へテロ相粒子>前者(1)のとし
て挙げたへテロ表面相粒子は、上記と同じく熱軟化性
又は熱溶融性樹脂の乳化重合分散物粒子そコア粒子とし
て、その表面を親水性の画像記録層の媒質の項で述べる
ゾルゲル変換性物質で処理して粒子表面にゲル相を形成
させた親水性表面の粒子である。<Surface Heterophase Particles> The heterosurface phase particles mentioned as the former (1) are the same as those described above and are used as particles of emulsion-polymerized dispersion of heat-softening or heat-meltable resin and core particles, and the surface thereof is These are particles having a hydrophilic surface, which have been treated with a sol-gel converting substance described in the section of the medium of the hydrophilic image recording layer to form a gel phase on the particle surface.
【0074】<コアシェル型粒子>上記のコアシェル
型の複合粒子は、熱の作用で軟化、あるいは融解する樹
脂(以後熱可塑性樹脂とも呼ぶ)の粒子分散物をそのモ
ノマーの乳化重合によって調製し、これをコア粒子(シ
ード)として、その分散液に親水性モノマーを添加し
て、コア粒子の表面に親水性モノマーを重合させて表面
親水性層とするコアシェル型の異相構造粒子である。コ
ア粒子を構成するモノマーは、次のの項で述べる高分
子化合物用のモノマー成分として示したA〜Lの群の中
で疎水性で熱可塑性樹脂用のものから選ばれる。同様に
親水性のシェル相を形成するモノマーは、AからLの群
の親水性モノマーから選択することができる。<Core-Shell Type Particles> The core-shell type composite particles are prepared by preparing a particle dispersion of a resin (hereinafter also referred to as a thermoplastic resin) which softens or melts under the action of heat by emulsion polymerization of its monomer. Are core particle (seed), a hydrophilic monomer is added to the dispersion, and the surface of the core particle is polymerized with the hydrophilic monomer to form a surface hydrophilic layer. The monomer constituting the core particles is selected from those for hydrophobic and thermoplastic resins in the group of A to L shown as the monomer components for the polymer compound described in the following section. Similarly, the monomers forming the hydrophilic shell phase can be selected from the hydrophilic monomers from the group A to L.
【0075】<疎水性有機物内包粒子>上記の疎水性
有機物内包粒子は、内包される疎水性物質が乳化分散さ
れて親水性表面をもつ粒子形態をとっている。ヒートモ
ードの光照射による熱の作用によって乳化された粒子が
粒子形状を維持できなくなり、媒質への浸出、拡散、溶
解などによって前駆体の近傍を疎水性にする。疎水性の
有機低分子化合物及び有機高分子化合物の中にこの目的
に適合する化合物がある。<Particles Encapsulating Hydrophobic Organic Matter> The particles encapsulating hydrophobic organic matter described above are in the form of particles having a hydrophilic surface in which the encapsulated hydrophobic substance is emulsified and dispersed. The emulsified particles cannot maintain the particle shape due to the action of heat due to heat mode light irradiation, and the vicinity of the precursor is made hydrophobic by leaching, diffusing, dissolving, etc. into the medium. Among hydrophobic organic low molecular weight compounds and organic high molecular weight compounds, there are compounds suitable for this purpose.
【0076】・有機低分子化合物 疎水性化前駆体が有機低分子化合物を内包する場合、好
ましい有機低分子化合物は、常圧において融点が300
℃以下、沸点が100℃以上の固体又は液体の有機化合
物又は水に対する溶解度又は吸水率が100g当たり2
g以下である有機高分子化合物であり、その両方を用い
ることも好ましい態様である。有機低分子化合物は、拡
散浸透性が比較的高いので、熱によって移動性が与えら
れると、粒子が存在していた近傍に拡散して直接あるい
は間接的に疎水性化する。また、常温で固体であり、熱
によって融解して疎水性領域を形成する化合物も含まれ
る。移動性が大きすぎると疎水性領域が広がり過ぎ、ま
た熱エネルギーの局部集中度が低下して疎水性化の効果
が減少する。したがって、上記の沸点と融点の条件を満
たす化合物が好ましい。ここで、低分子化合物と呼んで
いるのは沸点又は融点を有する化合物という意味で用い
ており、そのような化合物を通常分子量は2000以
下、多くは1000以下である。Organic Low-Molecular Compound When the hydrophobic precursor contains an organic low-molecular compound, a preferable organic low-molecular compound has a melting point of 300 at normal pressure.
° C or less, the solubility or water absorption of a solid or liquid organic compound having a boiling point of 100 ° C or more or water is 2 per 100 g.
It is also a preferred embodiment to use an organic polymer compound of not more than g and using both of them. Since organic low molecular weight compounds have relatively high diffusion permeability, when mobility is given by heat, they are diffused in the vicinity of the presence of particles to make them hydrophobic directly or indirectly. Also included are compounds that are solid at room temperature and melt by heat to form a hydrophobic region. If the mobility is too large, the hydrophobic region is too wide, and the local concentration of heat energy is reduced, thereby reducing the effect of hydrophobicity. Therefore, a compound satisfying the above conditions of the boiling point and the melting point is preferable. Here, the term "low molecular weight compound" is used to mean a compound having a boiling point or a melting point, and such a compound usually has a molecular weight of 2000 or less, and often 1000 or less.
【0077】また、上記の溶解度又は吸水率の条件は、
有機高分子化合物が疎水性であることの指標として経験
的に判った条件である。この条件であると、熱の作用に
よって粒子が存在していた近傍の有機高分子の状態の変
化によって粒子近傍の疎水性化を発現させることができ
る。The conditions for the solubility or water absorption are as follows:
These conditions are empirically found as an index that the organic polymer compound is hydrophobic. Under this condition, hydrophobicity in the vicinity of the particles can be expressed by a change in the state of the organic polymer in the vicinity where the particles were present due to the action of heat.
【0078】疎水性化の目的に適う好適な有機低分子化
合物は、上記の化合物の移動性に関連する融点、沸点の
観点とは別に、前駆体の近傍をそれ自体で十分に疎水性
と成しうる必要性から、水への溶解性が極めて少ない
か、有機性の程度が高い必要がある。その条件を具体化
して示したのが、前記したように、有機低分子化合物
が、25℃における水100gへの溶解度が2g以下
であるか、有機概念図における有機性/無機性の比が
0.7以上であるかの少なくともいずれかに相当する場
合である。Suitable low molecular weight organic compounds suitable for the purpose of hydrophobization are, in addition to the viewpoints of the melting point and boiling point related to the mobility of the above-mentioned compounds, to make the vicinity of the precursor sufficiently hydrophobic by itself. It is necessary to have a very low solubility in water or a high degree of organicity. The conditions are concretely shown as described above. As described above, the solubility of the low-molecular organic compound in 100 g of water at 25 ° C. is 2 g or less, or the organic / inorganic ratio in the organic conceptual diagram is 0%. .7 or more.
【0079】有機概念図は、化合物の有機性及び無機性
の程度を示すのに実際的で簡便な実用尺度であり、その
詳細については、田中善生著「有機概念図」(三共出版
社、1983年初版刊行)の1〜31頁に詳記されてい
る。有機概念図上の上記の範囲の有機化合物が疎水性化
を促進する作用を持つ理由は不明であるが、この範囲の
化合物は、有機性が比較的大きい化合物であり、複合粒
子近傍を疎水性にする。有機概念図における有機性が1
00以上でその上限についての制約はとくにないが、通
常100〜1200、好ましくは100〜800であ
り、その有機性/無機性の比が0.7〜無限大(すなわ
ち無機性が0)、好ましくは0.9〜10の範囲に入る
有機化合物である。The organic conceptual diagram is a practical and simple practical scale for indicating the degree of organicity and inorganicity of a compound. For details, see “Organic conceptual diagram” by Yoshio Tanaka (Sankyo Shuppansha, 1983). The first edition of this year) is described in detail on pages 1-31. The reason why the organic compounds in the above range on the organic conceptual diagram have an action of promoting hydrophobicity is unknown, but the compounds in this range are compounds having relatively large organicity, and the vicinity of the composite particles is hydrophobic. To 1 in the organic conceptual diagram
The upper limit is not particularly limited to 00 or more, but is usually 100 to 1200, preferably 100 to 800, and the organic / inorganic ratio is 0.7 to infinity (that is, the inorganic property is 0), preferably Is an organic compound falling within the range of 0.9 to 10.
【0080】この温度範囲の沸点をもつ有機低分子化合
物は、具体的には脂肪族及び芳香族炭化水素、脂肪族及
び芳香族カルボン酸、脂肪族及び芳香族アルコール、脂
肪族及び芳香族エステル、脂肪族及び芳香族エーテル、
有機アミン類、有機珪素化合物、また、効果は大きくは
ないが印刷用インキに添加できることが知られている各
種溶剤や可塑剤類の中に見られる。The organic low molecular weight compounds having a boiling point in this temperature range are, for example, aliphatic and aromatic hydrocarbons, aliphatic and aromatic carboxylic acids, aliphatic and aromatic alcohols, aliphatic and aromatic esters, Aliphatic and aromatic ethers,
It is found in organic amines, organic silicon compounds, and various solvents and plasticizers which are not so effective but can be added to printing inks.
【0081】好ましい脂肪族炭化水素は、炭素数8〜3
0の、より好ましくは炭素数8〜20の脂肪族炭化水素
であり、好ましい芳香族炭化水素は、炭素数6〜40
の、より好ましくは炭素数6〜20の芳香族炭化水素で
ある。好ましい脂肪族アルコールは、炭素数2〜30
の、より好ましくは炭素数2〜18の脂肪族アルコール
であり、好ましい芳香族アルコールは、炭素数6〜30
の、より好ましくは炭素数6〜18の芳香族アルコール
である。好ましい脂肪族カルボン酸は、炭素数2〜24
の脂肪族カルボン酸であり、より好ましくは炭素数2〜
20の脂肪族モノカルボン酸及び炭素数4〜12の脂肪
族ポリカルボン酸であり、また、好ましい芳香族カルボ
ン酸は、炭素数6〜30の、より好ましくは炭素数6〜
18の芳香族カルボン酸である。好ましい脂肪族エステ
ルは、炭素数2〜30の、より好ましくは炭素数2〜1
8の脂肪酸エステルであり、好ましい芳香族エステル
は、炭素数8〜30の、より好ましくは炭素数8〜18
の芳香族カルボン酸エステルである。好ましい脂肪族エ
ーテルは、炭素数8〜36の、より好ましくは炭素数8
〜18の芳香族エーテルであり、好ましい芳香族エーテ
ルは、炭素数7〜30の、より好ましくは炭素数7〜1
8の芳香族エーテルである。そのほか、炭素数7〜30
の、より好ましくは炭素数7〜18の脂肪族あるいは芳
香族アミドも用いることができる。Preferred aliphatic hydrocarbons are those having 8 to 3 carbon atoms.
0, more preferably an aliphatic hydrocarbon having 8 to 20 carbon atoms, and a preferred aromatic hydrocarbon is 6 to 40 carbon atoms.
And more preferably an aromatic hydrocarbon having 6 to 20 carbon atoms. Preferred aliphatic alcohols have 2 to 30 carbon atoms.
Are more preferably aliphatic alcohols having 2 to 18 carbon atoms, and preferred aromatic alcohols are those having 6 to 30 carbon atoms.
And more preferably an aromatic alcohol having 6 to 18 carbon atoms. Preferred aliphatic carboxylic acids have 2 to 24 carbon atoms.
Aliphatic carboxylic acid, more preferably having 2 to 2 carbon atoms
Preferred are aliphatic monocarboxylic acids having 20 and aliphatic polycarboxylic acids having 4 to 12 carbon atoms, and preferred aromatic carboxylic acids are those having 6 to 30 carbon atoms, and more preferably having 6 to 30 carbon atoms.
18 aromatic carboxylic acids. Preferred aliphatic esters have 2 to 30 carbon atoms, more preferably 2 to 1 carbon atoms.
And preferred aromatic esters are those having 8 to 30 carbon atoms, more preferably 8 to 18 carbon atoms.
Is an aromatic carboxylate. Preferred aliphatic ethers are those having 8 to 36 carbon atoms, more preferably 8 carbon atoms.
To 18 aromatic ethers, and preferred aromatic ethers are those having 7 to 30 carbon atoms, more preferably 7 to 1 carbon atoms.
8 aromatic ethers. In addition, carbon number 7-30
And more preferably an aliphatic or aromatic amide having 7 to 18 carbon atoms.
【0082】具体例としては、2,2,4−トリメチル
ペンタン(イソオクタン)、n−ノナン、n−デカン、
n−ヘキサデカン、オクタデカン、エイコサン、メチル
ヘプタン、2,2−ジメチルヘキサン、2−メチルオク
タンなどの脂肪族炭化水素;ベンゼン、トルエン、キシ
レン、クメン、ナフタレン、アントラセン、スチレンな
どの芳香族炭化水素;ドデシルアルコール、オクチルア
ルコール、n−オクタデシルアルコール、2−オクタノ
ール、ラウリルアルコールなどの1価アルコール;プロ
ピレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエ
チレングリコール、グリセリン、ヘキシレングリコー
ル、ジプロピレングリコールなどの多価アルコール;ベ
ンジルアルコール、4−ヒドロキシトルエン、フェネチ
ルアルコール、1−ナフトール、2−ナフトール、カテ
コール、フェノールなどの芳香族アルコール;酢酸、プ
ロピオン酸、酪酸、カプロン酸、アクリル酸、クロトン
酸、カプリン酸、ステアリン酸、オレイン酸などの脂肪
族1価カルボン酸;しゅう酸、琥珀酸、アジピン酸、マ
レイン酸、グルタール酸などの多価脂肪族カルボン酸;
安息香酸、2−メチル安息香酸、4−メチル安息香酸な
どの芳香族カルボン酸;酢酸エチル、酢酸イソブチル、
酢酸−n−ブチル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸
エチル、酪酸メチル、アクリル酸メチル、しゅう酸ジメ
チル、琥珀酸ジメチル、クロトン酸メチルなどの脂肪族
エステル;安息香酸メチル、2−メチル安息香酸メチル
などの芳香族カルボン酸エステル;イミダゾール、トリ
エタノールアミン、ジエタノールアミン、シクロヘキシ
ルアミン、ヘキサメチレンテトラミン、トリエチレンテ
トラミン、アニリン、オクチルアミン、アニリン、フェ
ネチルアミンなどの有機アミン;アセトン、メチルエチ
ルケトン、メチルイソブチルケトン、ベンゾフェノンな
どのケトン類、メトキシベンゼン、エトキシベンゼン、
メトキシトルエン、ラウリルメチルエーテル、ステアリ
ルメチルエーテルなどのエーテル及びステアリルアミ
ド、ベンゾイルアミド、アセトアミドなどのアミド類が
挙げられる。そのほか、沸点が前記の好ましい範囲にあ
るエチレングリコールモノエチルエーテル、シクロヘキ
サノン、ブチルセロソルブ、セロソルブアセテートなど
の有機溶剤も使用することができる。As specific examples, 2,2,4-trimethylpentane (isooctane), n-nonane, n-decane,
Aliphatic hydrocarbons such as n-hexadecane, octadecane, eicosane, methylheptane, 2,2-dimethylhexane and 2-methyloctane; aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene, cumene, naphthalene, anthracene and styrene; dodecyl Monohydric alcohols such as alcohol, octyl alcohol, n-octadecyl alcohol, 2-octanol and lauryl alcohol; polyhydric alcohols such as propylene glycol, triethylene glycol, tetraethylene glycol, glycerin, hexylene glycol, dipropylene glycol; benzyl alcohol , 4-hydroxytoluene, phenethyl alcohol, 1-naphthol, 2-naphthol, catechol, aromatic alcohols such as phenol; acetic acid, propionic acid, butyric acid, Prong acid, acrylic acid, crotonic acid, capric acid, stearic acid, aliphatic monocarboxylic acids such as oleic acid; oxalic acid, succinic acid, adipic acid, maleic acid, polyvalent aliphatic carboxylic acids such as glutaric acid;
Aromatic carboxylic acids such as benzoic acid, 2-methylbenzoic acid and 4-methylbenzoic acid; ethyl acetate, isobutyl acetate,
Aliphatic esters such as n-butyl acetate, methyl propionate, ethyl propionate, methyl butyrate, methyl acrylate, dimethyl oxalate, dimethyl succinate and methyl crotonate; and methyl benzoate and methyl 2-methylbenzoate Aromatic carboxylic esters; organic amines such as imidazole, triethanolamine, diethanolamine, cyclohexylamine, hexamethylenetetramine, triethylenetetramine, aniline, octylamine, aniline, and phenethylamine; ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, and benzophenone , Methoxybenzene, ethoxybenzene,
Examples include ethers such as methoxytoluene, lauryl methyl ether, and stearyl methyl ether, and amides such as stearyl amide, benzoyl amide, and acetamide. In addition, organic solvents such as ethylene glycol monoethyl ether, cyclohexanone, butyl cellosolve, and cellosolve acetate having a boiling point within the above preferred range can also be used.
【0083】また、印刷用インキの成分であるアマニ
油、大豆油、けし油、サフラワー油などの油脂類、燐酸
トリブチル、燐酸トリクレシル、フタール酸ジブチル、
ラウリン酸ブチル、フタール酸ジオクチル、パラフィン
ワックスなどの可塑剤も挙げられる。Also, oils and fats such as linseed oil, soybean oil, poppy oil, and safflower oil, which are components of the printing ink, tributyl phosphate, tricresyl phosphate, dibutyl phthalate,
Plasticizers such as butyl laurate, dioctyl phthalate, and paraffin wax are also included.
【0084】また、長鎖脂肪酸と長鎖一価アルコールの
エステル、すなわちワックスも、疎水性で適当に低融点
であって、光熱変換性の微粒子の近傍で光照射によって
生じた熱によって融解してその領域を疎水性化する好ま
しい低分子有機化合物である。ワックスは、50〜20
0°Cで溶融するものが好ましく、その例としては、原
料などによってカルナバワックス、カスターワックス、
マイクロクリスタリンワックス、パラフィンワックス、
セラックろう、パームろう、蜜ろう等と呼ばれているい
ずれをも用いることができる。ワックス類のほかに、低
分子量ポリエチレン;オレイン酸、ステアリン酸、パル
ミチン酸などの固体酸;ベヘン酸銀、ステアリン酸カル
シウム、パルミチン酸マグネシウムなどの長鎖脂肪酸の
金属塩などの微粒子分散物も用いることができる。Further, an ester of a long-chain fatty acid and a long-chain monohydric alcohol, ie, a wax, is also hydrophobic, has a suitably low melting point, and is melted by heat generated by light irradiation in the vicinity of light-heat converting fine particles. It is a preferred low molecular weight organic compound that renders the region hydrophobic. Wax is 50-20
It is preferable to melt at 0 ° C., and examples thereof include carnauba wax, caster wax,
Microcrystalline wax, paraffin wax,
Any of so-called shell wax, palm wax, beeswax and the like can be used. In addition to waxes, low molecular weight polyethylene; solid acids such as oleic acid, stearic acid, and palmitic acid; and fine particle dispersions of metal salts of long chain fatty acids such as silver behenate, calcium stearate, and magnesium palmitate can also be used. it can.
【0085】・有機高分子化合物 上記した溶解度又は吸水性の条件を満たす好ましい有機
高分子化合物は、共存する低分子有機化合物に溶解可能
又はそれ自体が熱可塑性の疎水性高分子化合物であり、
例えば、ポリ塩化ビニル、ポリビニルアセテート、ポリ
ビニルフェノール、ポリビニルハロゲン化フェノール、
ポリビニルホルマール、ポリビニルアセタール、ポリビ
ニルブチラール、ポリアミド、ポリウレタン、ポリウレ
ア、ポリイミド、ポリカーボネート、エポキシ樹脂、フ
ェノール、ボラック、又はレゾールフェノール類とアル
デヒド又はケトンとの縮合樹脂、ポリ塩化ビニリデン、
ポリスチレン、アクリル系共重合樹脂などが挙げられ
る。Organic Polymer Compound A preferable organic polymer compound satisfying the above-mentioned conditions of solubility or water absorption is a hydrophobic polymer compound which is soluble in coexisting low molecular organic compounds or is thermoplastic itself,
For example, polyvinyl chloride, polyvinyl acetate, polyvinyl phenol, polyvinyl halogenated phenol,
Polyvinyl formal, Polyvinyl acetal, Polyvinyl butyral, Polyamide, Polyurethane, Polyurea, Polyimide, Polycarbonate, Epoxy resin, Phenol, Volak, or Condensation resin of resole phenols with aldehyde or ketone, Polyvinylidene chloride,
Examples include polystyrene and acrylic copolymer resins.
【0086】好ましい化合物の一つは、必ずしも熱可塑
性ではないが、有機低分子化合物通うのフェノールノボ
ラック樹脂又はレゾール樹脂であり、フェノール、クレ
ゾール(m−クレゾール、p−クレゾール、m/p混合
クレゾール)、フェノール/クレゾール(m−クレゾー
ル、p−クレゾール、m/p混合クレゾール)、フェノ
ール変性キシレン、tert−ブチルフェノール、オク
チルフェノール、レゾルシノール、ピロガロール、カテ
コール、クロロフェノール(m−Cl、p−Cl)、ブ
ロモフェノール(m−Br、p−Br)、サリチル酸、
フロログルシノールなどのホルムアルデヒドとの縮合の
ノボラック樹脂及びレゾール樹脂、さらに上記フェノー
ル類化合物とアセトンとの縮合樹脂などが挙げられる。One of the preferred compounds is a phenol novolak resin or a resole resin which is not necessarily thermoplastic but which passes through organic low molecular weight compounds, such as phenol, cresol (m-cresol, p-cresol, m / p mixed cresol). Phenol / cresol (m-cresol, p-cresol, m / p mixed cresol), phenol-modified xylene, tert-butylphenol, octylphenol, resorcinol, pyrogallol, catechol, chlorophenol (m-Cl, p-Cl), bromophenol (M-Br, p-Br), salicylic acid,
Novolak resins and resole resins for condensation with formaldehyde such as phloroglucinol, and condensation resins of the above-mentioned phenolic compounds and acetone are also included.
【0087】その他の好適な高分子化合物として以下
(A)〜(L)に示すモノマーをその構成単位とする通
常1万〜20万の分子量を持つ共重合体を挙げることが
できる。(A)芳香族水酸基を有するアクリルアミド
類、メタクリルアミド類、アクリル酸エステル類、メタ
クリル酸エステル類およびヒドロキシスチレン類、例え
ばN−(4−ヒドロキシフェニル)アクリルアミドまた
はN−(4−ヒドロキシフェニル)メタクリルアミド、
o−、m−およびp−ヒドロキシスチレン、o−、m−
およびp−ヒドロキシフェニルアクリレートまたはメタ
クリレート、(B)脂肪族水酸基を有するアクリル酸エ
ステル類およびメタクリル酸エステル類、例えば、2−
ヒドロキシエチルアクリレートまたは2−ヒドロキシエ
チルメタクリレート、(C)アクリル酸メチル、アクリ
ル酸エチル、アクリル酸プロピル、アクリル酸ブチル、
アクリル酸アミル、アクリル酸ヘキシル、アクリル酸シ
クロヘキシル、アクリル酸オクチル、アクリル酸フェニ
ル、アクリル酸ベンジル、アクリル酸−2−クロロエチ
ル、アクリル酸4−ヒドロキシブチル、グリシジルアク
リレート、N−ジメチルアミノエチルアクリレートなど
の(置換)アクリル酸エステル、(D)メタクリル酸メ
チル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸プロピル、メ
タクリル酸ブチル、メタクリル酸アミル、メタクリル酸
ヘキシル、メタクリル酸シクロヘキシル、メタクリル酸
オクチル、メタクリル酸フェニル、メタクリル酸ベンジ
ル、メタクリル酸−2−クロロエチル、メタクリル酸4
−ヒドロキシブチル、グリシジルメタクリレート、N−
ジメチルアミノエチルメタクリレートなどの(置換)メ
タクリル酸エステル、As other suitable high molecular compounds, copolymers having a molecular weight of usually 10,000 to 200,000, which includes the following monomers (A) to (L) as structural units, can be mentioned. (A) Acrylamides, methacrylamides, acrylates, methacrylates and hydroxystyrenes having an aromatic hydroxyl group, such as N- (4-hydroxyphenyl) acrylamide or N- (4-hydroxyphenyl) methacrylamide ,
o-, m- and p-hydroxystyrene, o-, m-
And p-hydroxyphenyl acrylate or methacrylate, (B) acrylates and methacrylates having an aliphatic hydroxyl group, for example, 2-
Hydroxyethyl acrylate or 2-hydroxyethyl methacrylate, (C) methyl acrylate, ethyl acrylate, propyl acrylate, butyl acrylate,
Amyl acrylate, hexyl acrylate, cyclohexyl acrylate, octyl acrylate, phenyl acrylate, benzyl acrylate, 2-chloroethyl acrylate, 4-hydroxybutyl acrylate, glycidyl acrylate, N-dimethylaminoethyl acrylate, etc. Substitution) acrylic ester, (D) methyl methacrylate, ethyl methacrylate, propyl methacrylate, butyl methacrylate, amyl methacrylate, hexyl methacrylate, cyclohexyl methacrylate, octyl methacrylate, phenyl methacrylate, benzyl methacrylate, benzyl methacrylate 2-chloroethyl acid, methacrylic acid 4
-Hydroxybutyl, glycidyl methacrylate, N-
(Substituted) methacrylates such as dimethylaminoethyl methacrylate,
【0088】(E)アクリルアミド、メタクリルアミ
ド、N−メチロールアクリルアミド、N−メチロールメ
タクリルアミド、N−エチルアクリルアミド、N−エチ
ルメタクリルアミド、N−ヘキシルアクリルアミド、N
−ヘキシルメタクリルアミド、N−シクロヘキシルアク
リルアミド、N−シクロヘキシルメタクリルアミド、N
−ヒドロキシエチルアクリルアミド、N−ヒドロキシエ
チルアクリルアミド、N−フェニルアクリルアミド、N
−フェニルメタクリルアミド、N−ベンジルアクリルア
ミド、N−ベンジルメタクリルアミド、N−ニトロフェ
ニルアクリルアミド、N−ニトロフェニルメタクリルア
ミド、N−エチル−N−フェニルアクリルアミドおよび
N−エチル−N−フェニルメタクリルアミドなどのアク
リルアミドもしくはメタクリルアミド、(E) acrylamide, methacrylamide, N-methylolacrylamide, N-methylolmethacrylamide, N-ethylacrylamide, N-ethylmethacrylamide, N-hexylacrylamide, N
-Hexyl methacrylamide, N-cyclohexyl acrylamide, N-cyclohexyl methacrylamide, N
-Hydroxyethylacrylamide, N-hydroxyethylacrylamide, N-phenylacrylamide, N
Acrylamides such as -phenylmethacrylamide, N-benzylacrylamide, N-benzylmethacrylamide, N-nitrophenylacrylamide, N-nitrophenylmethacrylamide, N-ethyl-N-phenylacrylamide and N-ethyl-N-phenylmethacrylamide Or methacrylamide,
【0089】(F)エチルビニルエーテル、2−クロロ
エチルビニルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテ
ル、プロピルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、
オクチルビニルエーテル、フェニルビニルエーテルなど
のビニルエーテル類、(G)ビニルアセテート、ビニル
クロロアセテート、ビニルブチレート、安息香酸ビニル
などのビニルエステル類、(H)スチレン、メチルスチ
レン、クロロメチルスチレンなどのスチレン類、(I)
メチルビニルケトン、エチルビニルケトン、プロピルビ
ニルケトン、フェニルビニルケトンなどのビニルケトン
類、(J)エチレン、プロピレン、イソブチレン、ブタ
ジエン、イソプレンなどのオレフィン類、(F) ethyl vinyl ether, 2-chloroethyl vinyl ether, hydroxyethyl vinyl ether, propyl vinyl ether, butyl vinyl ether,
Vinyl ethers such as octyl vinyl ether and phenyl vinyl ether; (G) vinyl esters such as vinyl acetate, vinyl chloroacetate, vinyl butyrate and vinyl benzoate; (H) styrenes such as styrene, methyl styrene and chloromethyl styrene; I)
Vinyl ketones such as methyl vinyl ketone, ethyl vinyl ketone, propyl vinyl ketone, and phenyl vinyl ketone; (J) olefins such as ethylene, propylene, isobutylene, butadiene, and isoprene;
【0090】(K)N−ビニルピロリドン、N−ビニル
カルバゾール、4−ビニルピリジン、アクリロニトリ
ル、メタクリロニトリルなど、(L)N−(o−アミノ
スルホニルフェニル)アクリルアミド、N−(m−アミ
ノスルホニルフェニル)アクリルアミド、N−(p−ア
ミノスルホニルフェニル)アクリルアミド、N−〔1−
(3−アミノスルホニル)ナフチル〕アクリルアミド、
N−(2−アミノスルホニルエチル)アクリルアミドな
どのアクリルアミド類、N−(o−アミノスルホニルフ
ェニル)メタクリルアミド、N−(m−アミノスルホニ
ルフェニル)メタクリルアミド、N−(p−アミノスル
ホニルフェニル)メタクリルアミド、N−〔1−(3−
アミノスルホニル)ナフチル〕メタクリルアミド、N−
(2−アミノスルホニルエチル)メタクリルアミドなど
のメタクリルアミド類、また、o−アミノスルホニルフ
ェニルアクリレート、m−アミノスルホニルフェニルア
クリレート、p−アミノスルホニルフェニルアクリレー
ト、1−(3−アミノスルホニルフェニルナフチル)ア
クリレートなどのアクリル酸エステル類などの不飽和ス
ルホンアミド、o−アミノスルホニルフェニルメタクリ
レート、m−アミノスルホニルフェニルメタクリレー
ト、p−アミノスルホニルフェニルメタクリレート、1
−(3−アミノスルホニルフェニルナフチル)メタクリ
レートなどのメタクリル酸エステル類などの不飽和スル
ホンアミド。(K) (L) N- (o-aminosulfonylphenyl) acrylamide, N- (m-aminosulfonylphenyl) such as N-vinylpyrrolidone, N-vinylcarbazole, 4-vinylpyridine, acrylonitrile and methacrylonitrile ) Acrylamide, N- (p-aminosulfonylphenyl) acrylamide, N- [1-
(3-aminosulfonyl) naphthyl] acrylamide,
Acrylamides such as N- (2-aminosulfonylethyl) acrylamide, N- (o-aminosulfonylphenyl) methacrylamide, N- (m-aminosulfonylphenyl) methacrylamide, N- (p-aminosulfonylphenyl) methacrylamide , N- [1- (3-
Aminosulfonyl) naphthyl] methacrylamide, N-
Methacrylamides such as (2-aminosulfonylethyl) methacrylamide, o-aminosulfonylphenyl acrylate, m-aminosulfonylphenyl acrylate, p-aminosulfonylphenyl acrylate, 1- (3-aminosulfonylphenylnaphthyl) acrylate and the like Unsaturated sulfonamides such as acrylates, o-aminosulfonylphenyl methacrylate, m-aminosulfonylphenyl methacrylate, p-aminosulfonylphenyl methacrylate, 1
Unsaturated sulfonamides such as methacrylic esters such as-(3-aminosulfonylphenylnaphthyl) methacrylate;
【0091】これらの有機高分子化合物は、重量平均子
量が500〜20000、数平均分子量が200〜60
000であることが好ましい。These organic polymer compounds have a weight average molecular weight of 500 to 20,000 and a number average molecular weight of 200 to 60.
000 is preferred.
【0092】疎水性化前駆体は、有機低分子化合物の
み、あるいは高分子有機化合物のみで構成されていても
よいが、有機低分子化合物と高分子有機化合物の両方を
含んでいてもよく、さらに両者の親和性を高めるなどの
目的の第3成分を含んでいてもよい。The hydrophobizing precursor may be composed of only an organic low-molecular compound or a high-molecular organic compound, but may contain both an organic low-molecular compound and a high-molecular organic compound. It may contain a third component for the purpose of enhancing the affinity between the two.
【0093】疎水性化前駆体の表面を親水性にするに
は、光熱変換剤について前記した表面親水性か方法を用
いることもできる。例えば、親水性でかつ疎水性化前駆
体への吸着性を有する界面活性剤を添加して粒子表面を
親水性基の界面吸着層を形成させて粒子分散させる方
法、そのさい、ゼラチン、ポリビニルアルコール、ポリ
ビニルピロリドンなどの保護コロイド性の親水性かつ表
面吸着性の高分子皮膜を設ける方法、さらにそれに界面
活性剤も介在させて粒子表面をより親水性且つ安定化さ
せる分散方法、粒子の構成物質と反応する親水性基をも
つ物質で表面処理したり、などの方法をを用いることが
できる。疎水性化前駆体の表面親水性化に用いる界面活
性剤も、光熱変換剤の表面親水性化に関して述べた界面
活性剤を使用することができる。In order to make the surface of the hydrophobizing precursor hydrophilic, the method described above for the photothermal conversion agent may be used as the surface hydrophilicity. For example, a method of adding a surfactant which is hydrophilic and has an adsorptivity to a hydrophobizing precursor to form a surface adsorption layer of a hydrophilic group on the particle surface to disperse the particles, in which case, gelatin, polyvinyl alcohol A method of providing a protective and colloidal hydrophilic and surface-adsorbing polymer film such as polyvinylpyrrolidone, a dispersion method of further stabilizing the particle surface by interposing a surfactant therein, For example, surface treatment with a substance having a hydrophilic group that reacts can be used. As the surfactant used for hydrophilizing the surface of the hydrophobizing precursor, the surfactant described for the surface hydrophilization of the photothermal conversion agent can be used.
【0094】以上の〜の各表面親水性の疎水性化前
駆体中の疎水性の構成成分(芯物質)の合計量は、疎水
性化前駆体の全量に対して、10〜95重量%が適当で
あり、20〜80重量%が好ましい。また、において
有機低分子化合物及び高分子有機化合物を共に使用する
場合、その比率は任意である。一方、親水性表面層を形
成する成分は、〜の形態によって界面活性剤、保護
コロイド、親水性重合樹脂、親水性ゾル、ゾルゲル変換
成分などと異なるが、また画像記録層の媒質中にも分布
している場合もあるが、疎水性前駆体の表面層を構成し
ている量は、疎水性化前駆体の全量に対して、5〜80
重量%であり、10〜50重量%であることが好まし
い。また、分散物粒子のサイズは、〜の形態によっ
て最適サイズの範囲は異なるが、ほぼ体積平均で5μm
以下、0.01μm以上が好ましく、更に好ましくは
0.05〜2μm、とくに好ましくは0.2〜0.5μ
mの範囲に調整することが好ましい。The total amount of the hydrophobic constituents (core substances) in the surface hydrophilic hydrophobizing precursors described above is 10 to 95% by weight based on the total amount of the hydrophobizing precursors. It is suitable, and preferably 20 to 80% by weight. In the case where a low-molecular organic compound and a high-molecular organic compound are used together, the ratio is arbitrary. On the other hand, the components forming the hydrophilic surface layer are different from surfactants, protective colloids, hydrophilic polymer resins, hydrophilic sols, sol-gel conversion components, etc. depending on the form of, but are also distributed in the medium of the image recording layer. In some cases, the amount constituting the surface layer of the hydrophobic precursor is 5 to 80 with respect to the total amount of the hydrophobic precursor.
% By weight, and preferably from 10 to 50% by weight. In addition, the size of the dispersion particles varies in the range of the optimal size depending on the form of, but is approximately 5 μm in volume average.
Hereinafter, it is preferably 0.01 μm or more, more preferably 0.05 to 2 μm, and particularly preferably 0.2 to 0.5 μm.
It is preferable to adjust to the range of m.
【0095】<マイクロカプセル粒子>次に、芯部に疎
水性物質を内包し、かつ表面親水性の表層部を有する複
合構成の粒子分散物の項として上記したマイクロカプ
セルの構成材料でカプセルの熱破壊により近傍を疎水性
化する疎水性化前駆体について述べる。本発明で用いる
マイクロカプセルは各種公知の方法で作成することがで
き、その芯物質(カプセル内に内包する物質)は、上記
した有機低分子化合物及び高分子有機化合物、さらにそ
れらを混和する有機溶剤類を用いることができる。すな
わち芯物質を有機溶剤と混合してから又は直接に、水性
媒体中に乳化分散し、油性液滴のまわりに高分子物質か
らなる壁膜を形成することにより調製することができ
る。また、別の範疇の芯物質としては熱によって粒子近
傍に疎水性のポリマ−とくに架橋構造体を形成する重合
性モノマ−及び/又は架橋性化合物を挙げることができ
るが、この芯物質を用いた疎水性前駆体粒子は、次の
(2)項の疎水性前駆体粒子にも分類できるので、この
重合性モノマー及び/又は架橋性化合物からなる芯物質
の詳細に関しては次項に述べる。マイクロカプセルの壁
膜となる高分子物質の具体例としては、例えばポリウレ
タン樹脂、ポリウレア樹脂、ポリアミド樹脂、ポリエス
テル樹脂、ポリカーボネート樹脂、アミノアルデヒド樹
脂、メラミン樹脂、ポリスチレン樹脂、スチレン−アク
リレート共重合体樹脂、スチレン−メタクリレート共重
合体樹脂、ゼラチン、ポリビニルアルコール等が挙げら
れる。これらのうち特に好ましい壁膜としてはポリウレ
タン・ポリウレア樹脂からなる壁膜を有するマイクロカ
プセルである。<Microcapsule Particles> Next, as a term of the composite particle dispersion having a hydrophobic substance in the core and having a surface layer having a hydrophilic surface, the heat of the capsules is determined using the constituent material of the microcapsules described above. The hydrophobizing precursor that makes the vicinity hydrophobic by breaking will be described. The microcapsules used in the present invention can be prepared by various known methods, and the core substance (the substance contained in the capsule) is the above-mentioned organic low-molecular compound and high-molecular organic compound, and an organic solvent that mixes them. Can be used. That is, it can be prepared by mixing the core substance with an organic solvent or directly emulsifying and dispersing it in an aqueous medium to form a wall film composed of a polymer substance around oily droplets. As another category of core material, there may be mentioned a polymerizable monomer and / or a crosslinkable compound which forms a hydrophobic polymer, particularly a crosslinked structure in the vicinity of particles by heat, and this core material was used. Since the hydrophobic precursor particles can also be classified into the following hydrophobic precursor particles of the item (2), the details of the core material composed of the polymerizable monomer and / or the crosslinkable compound will be described in the next section. Specific examples of the polymer substance serving as the wall film of the microcapsules include, for example, polyurethane resin, polyurea resin, polyamide resin, polyester resin, polycarbonate resin, aminoaldehyde resin, melamine resin, polystyrene resin, styrene-acrylate copolymer resin, Styrene-methacrylate copolymer resin, gelatin, polyvinyl alcohol, and the like. Among these, a particularly preferred wall film is a microcapsule having a wall film made of a polyurethane / polyurea resin.
【0096】ポリウレタン・ポリウレア樹脂からなる壁
膜を有するマイクロカプセルは、多価イソシアネート等
の壁材をカプセル化するべき芯物質中に混合し、ポリビ
ニルアルコール等の保護コロイド物質を溶解した水性媒
体中に乳化分散し、液温を上昇させて油滴界面で高分子
形成反応を起こすことによって製造される。Microcapsules having a polyurethane / polyurea resin wall film are prepared by mixing a wall material such as polyvalent isocyanate into a core material to be encapsulated, and dissolving a protective colloid material such as polyvinyl alcohol in an aqueous medium. It is manufactured by emulsifying and dispersing, raising the liquid temperature and causing a polymer forming reaction at the oil droplet interface.
【0097】ここで多価イソシアネート化合物の具体例
を以下に示すと、例えばm−フェニレンジイソシアネー
ト、p−フェニレンジイソシアネート、2,6−トリレ
ンジイソシアネート、2,4−トリレンジイソシアネー
ト、ナフタレン−1,4−ジイソシアネート、ジフェニ
ルメタン−4,4′−ジイソシアネート、、3,3′−
ジフェニルメタン−4,4′−ジイソシアネート、キシ
レン−1,4−ジイソシアネート、4,4′−ジフェニ
ルプロパンジイソシアネート、トリメチレンジイソシア
ネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、プロピレン
−1,2−ジイソシアネート、ブチレン−1,2−ジイ
ソシアネート、シクロヘキシレン−1,2−ジイソシア
ネート、シクロヘキシレン−1,4−ジイソシアネート
等のジイソシアネート類、4,4′,4″−トリフェニ
ルメタントリイソシアネート、トルエン−2,4,6−
トリイソシアネート等のトリイソシアネート類、4,
4′−ジメチルジフェニルメタン−2,2′,5,5′
−テトライソシアネート等のテトライソシアネート類、
ヘキサメチレンジイソシアネートとメチメチロールプロ
パンとの付加物、2,4−トリレンジイソシアネートと
トレメチロールプロパンとの付加物、キシリレンジイソ
シアネートとトリメチロールプロパンとの付加物、トリ
レンジイソシアネートとヘキサントリオールとの付加物
等のイソシアネートプレポリマー等が挙げられるが、上
記化合物に限定されるものではない。また、必要に応じ
二種類以上の併用も可能である。これらのうち特に好ま
しいものは分子内にイソシアネート基を三個以上有する
ものである。Here, specific examples of the polyvalent isocyanate compound are shown below. For example, m-phenylene diisocyanate, p-phenylene diisocyanate, 2,6-tolylene diisocyanate, 2,4-tolylene diisocyanate, naphthalene-1,4 -Diisocyanate, diphenylmethane-4,4'-diisocyanate, 3,3'-
Diphenylmethane-4,4'-diisocyanate, xylene-1,4-diisocyanate, 4,4'-diphenylpropane diisocyanate, trimethylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, propylene-1,2-diisocyanate, butylene-1,2-diisocyanate, Diisocyanates such as cyclohexylene-1,2-diisocyanate and cyclohexylene-1,4-diisocyanate; 4,4 ', 4 "-triphenylmethane triisocyanate; toluene-2,4,6-
Triisocyanates such as triisocyanate, 4,
4'-dimethyldiphenylmethane-2,2 ', 5,5'
-Tetraisocyanates such as tetraisocyanate,
Adduct of hexamethylene diisocyanate with methylethylolpropane, adduct of 2,4-tolylenediisocyanate with tremethylolpropane, adduct of xylylenediisocyanate with trimethylolpropane, adduct of tolylenediisocyanate with hexanetriol But is not limited to the above compounds. Also, two or more kinds can be used in combination as needed. Of these, particularly preferred are those having three or more isocyanate groups in the molecule.
【0098】カプセルの壁材としては、前記したゼラチ
ン、ポリウレア、ポリウレタン、ポリイミド、ポリエス
テル、ポリカーボネート、メラミン等を用いることがで
きるが熱応答性マイクロカプセルを得るにはポリウレ
ア、ポリウレタン壁が好ましい。またカプセル壁に熱応
答性を付与するには、カプセル壁としてガラス転移点が
室温以上、200℃以下とすればよく、特に70℃〜1
50℃の範囲が好ましい。As the capsule wall material, the above-mentioned gelatin, polyurea, polyurethane, polyimide, polyester, polycarbonate, melamine and the like can be used, but polyurea and polyurethane walls are preferable for obtaining thermoresponsive microcapsules. Further, in order to impart thermal responsiveness to the capsule wall, the glass transition point of the capsule wall may be from room temperature to 200 ° C., and particularly from 70 ° C. to 1 ° C.
A range of 50 ° C. is preferred.
【0099】カプセル壁のガラス転移温度を制御するに
は、カプセル壁のポリマー種を選ぶか、適当な可塑剤を
添加することで可能である。このような助剤としては、
フェノール化合物、アルコール化合物、アミド化合物、
スルホンアミド化合物等があり、これらは、カプセルの
芯物質中に含有させてもよいし、分散物としてマイクロ
カプセル外に添加してもよい。The glass transition temperature of the capsule wall can be controlled by selecting a polymer type of the capsule wall or adding an appropriate plasticizer. Such auxiliaries include:
Phenolic compounds, alcohol compounds, amide compounds,
There are sulfonamide compounds and the like, which may be contained in the core substance of the capsule or may be added outside the microcapsule as a dispersion.
【0100】マイクロカプセル化の一般的な手法、用い
る素材などについては、米国特許第3726804号、
同第3796696号に記載されており、本発明にも適
用することができる。For general techniques of microencapsulation and materials to be used, see US Pat. No. 3,726,804,
No. 3,796,696, and can be applied to the present invention.
【0101】マイクロカプセルのサイズは、特に画像の
解像度向上及び取り扱い性の点から体積平均で5μm以
下、0.02μm以上が好ましく、更に好ましくは0.
05〜0.7μmの範囲に調整することが好ましい。The size of the microcapsules is preferably not more than 5 μm and not less than 0.02 μm, more preferably not less than 0.02 μm in terms of volume average, particularly from the viewpoint of improving the resolution of images and handling.
It is preferable to adjust the thickness within a range of from 0.5 to 0.7 μm.
【0102】(2)重合性モノマー/架橋性化合物を含
み、熱破壊に伴って粒子の近傍に疎水性のポリマー/架
橋構造を形成する疎水性化前駆体。前記の(2)項とし
て記したこの疎水性化前駆体は、常温では反応せず、熱
の作用で重合または架橋反応が始まる熱反応性官能基を
有し、前駆体粒子近傍を疎水性化する重合性モノマー
や、架橋性化合物系を含んだ分散物である。この例とし
ては、高温度で重合反応とくに架橋反応が進行する重合
性モノマー、架橋基を持つ熱架橋性ポリマーやオリゴマ
ー及び熱重合開始剤を含む系が挙げられる。この分散物
の表面親水性化には、上記、及びの疎水性化前駆
体の項で前記した表面親水性化手段を用いて分散させる
ことができる。(2) A hydrophobizing precursor containing a polymerizable monomer / crosslinkable compound and forming a hydrophobic polymer / crosslinked structure in the vicinity of particles with thermal destruction. The hydrophobizing precursor described as the above item (2) does not react at room temperature, has a heat-reactive functional group where polymerization or crosslinking reaction starts by the action of heat, and hydrophobizes the vicinity of the precursor particles. It is a dispersion containing a polymerizable monomer and a crosslinkable compound. Examples of such a system include a polymerizable monomer which undergoes a polymerization reaction, particularly a crosslinking reaction, at a high temperature, a system containing a heat-crosslinkable polymer or oligomer having a crosslinking group, and a thermal polymerization initiator. In order to make the surface of the dispersion hydrophilic, the dispersion can be dispersed by using the surface hydrophilizing means described above in the section of the hydrophobizing precursor.
【0103】上記の熱反応性官能基としては、重合反応
を行うエチレン性不飽和基(例えば、アクリロイル基、
メタクリロイル基、ビニル基、アリル基など)、付加反
応を行うイソシアナート基あるいはそのブロック体およ
びその反応相手である活性水素原子を有する官能基(例
えば、アミノ基、ヒドロキシル基、カルボキシル基な
ど)、同じく付加反応を行うエポキシ基およびその反応
相手であるアミノ基、カルボキシル基あるいはヒドロキ
シル基、縮合反応を行うカルボキシル基とヒドロキシル
基あるいはアミノ基、開環付加反応を行う酸無水物とア
ミノ基あるいはヒドロキシル基などを挙げることができ
る。しかし、化学結合が形成されるならば、どのような
反応を行う官能基でも良い。As the above-mentioned heat-reactive functional group, an ethylenically unsaturated group which undergoes a polymerization reaction (for example, an acryloyl group,
A methacryloyl group, a vinyl group, an allyl group, etc.), an isocyanate group for performing an addition reaction or a block thereof and a functional group having an active hydrogen atom as a reaction partner thereof (for example, an amino group, a hydroxyl group, a carboxyl group, etc.), Epoxy group and addition partner amino group, carboxyl group or hydroxyl group for addition reaction, carboxyl group and hydroxyl group or amino group for condensation reaction, acid anhydride and amino group or hydroxyl group for ring opening addition reaction, etc. Can be mentioned. However, a functional group that performs any reaction may be used as long as a chemical bond is formed.
【0104】本発明の親水層に用いる、熱反応性官能基
を有する微粒子ポリマーとしては、アクリロイル基、メ
タクリルロイル基、ビニル基、アリル基、エポキシ基、
アミノ基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、イソシア
ネート基、酸無水物およびそれらを保護した基を有する
ものを挙げることができる。これらの官能基のポリマー
粒子への導入は、重合時に行ってもよいし、重合後に高
分子反応を利用して行ってもよい。As the fine particle polymer having a thermoreactive functional group used in the hydrophilic layer of the present invention, acryloyl group, methacryloyl group, vinyl group, allyl group, epoxy group,
Examples thereof include an amino group, a hydroxyl group, a carboxyl group, an isocyanate group, an acid anhydride and those having a group protecting them. The introduction of these functional groups into the polymer particles may be performed at the time of polymerization, or may be performed using a polymer reaction after polymerization.
【0105】重合時に導入する場合は、これらの官能基
を有するモノマーを乳化重合あるいは懸濁重合すること
が好ましい。そのような官能基を有するモノマーの具体
例として、アリルメタクリレート、アリルアクリレー
ト、ビニルメタクリレート、ビニルアクリレート、グリ
シジルメタクリレート、グリシジルアクリレート、2−
イソシアネートエチルメタクリレートあるいはそのアル
コールなどによるブロックイソシアナート、2−イソシ
アネートエチルアクリレートあるいはそのアルコールな
どによるブロックイソシアナート、2−アミノエチルメ
タクリレート、2−アミノエチルアクリレート、2−ヒ
ドロキシエチルメタクリレート、2−ヒドロキシエチル
アクリレート、アクリル酸、メタクリル酸、無水マレイ
ン酸、2官能アクリレート、2官能メタクリレートなど
を挙げることができるが、これらに限定されない。これ
らのモノマーと共重合可能な、熱反応性官能基をもたな
いモノマーとしては、例えば、スチレン、アルキルアク
リレート、アルキルメタクリレート、アクリロニトリ
ル、酢酸ビニルなどを挙げることができるが、熱反応性
官能基をもたないモノマーであれば、これらに限定され
ない。熱反応性官能基の導入を重合後に行う場合に用い
る高分子反応としては、例えば、WO96−34316
号公報に記載されている高分子反応を挙げることができ
る。When introduced at the time of polymerization, it is preferable to carry out emulsion polymerization or suspension polymerization of monomers having these functional groups. Specific examples of the monomer having such a functional group include allyl methacrylate, allyl acrylate, vinyl methacrylate, vinyl acrylate, glycidyl methacrylate, glycidyl acrylate,
Block isocyanate with isocyanate ethyl methacrylate or its alcohol, block isocyanate with 2-isocyanate ethyl acrylate or its alcohol, 2-aminoethyl methacrylate, 2-aminoethyl acrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, Examples include, but are not limited to, acrylic acid, methacrylic acid, maleic anhydride, bifunctional acrylate, bifunctional methacrylate, and the like. Examples of the monomer having no heat-reactive functional group copolymerizable with these monomers include, for example, styrene, alkyl acrylate, alkyl methacrylate, acrylonitrile, and vinyl acetate. The monomer is not limited to these as long as it has no monomer. As the polymer reaction used when the heat-reactive functional group is introduced after the polymerization, for example, WO96-34316
The polymer reaction described in Japanese Patent Application Laid-Open No. H10-260, can be mentioned.
【0106】上記の熱反応性官能基を有する微粒子ポリ
マーの中で、微粒子ポリマー同志が熱により合体するも
のが好ましく、その表面は親水性で、水に分散するもの
が、特に好ましい。微粒子ポリマーのみを塗布し、凝固
温度よりも低い温度で乾燥して作製した時の皮膜の接触
角(空中水滴)が、凝固温度よりも高い温度で乾燥して
作製した時の皮膜の接触角(空中水滴)よりも低くなる
ことが好ましい。このように微粒子ポリマー表面を親水
性にするには、ポリビニルアルコール、ポリエチレング
リコールなどの親水性ポリマーあるいはオリゴマー、ま
たは親水性低分子化合物を微粒子ポリマー表面に吸着さ
せてやれば良いが、その方法はこれらに限定されるもの
ではない。Among the fine particle polymers having a heat-reactive functional group, those in which the fine particle polymers are united by heat are preferable, and those whose surfaces are hydrophilic and which are dispersed in water are particularly preferable. The contact angle (water droplets in the air) of a film produced by applying only the fine particle polymer and drying at a temperature lower than the coagulation temperature is lower than the contact angle of the film produced by drying at a temperature higher than the coagulation temperature ( (Water droplets in the air). In order to make the surface of the fine particle polymer hydrophilic as described above, a hydrophilic polymer or oligomer such as polyvinyl alcohol or polyethylene glycol, or a hydrophilic low-molecular compound may be adsorbed on the surface of the fine particle polymer. However, the present invention is not limited to this.
【0107】これらの熱反応性官能基を有する微粒子ポ
リマーの凝固温度は、70℃以上が好ましいが、経時安
定性を考えると100℃以上がさらに好ましい。上記の
微粒子ポリマーの平均粒径は、0.01〜20μmが好
ましいが、その中でも0.05〜2.0μmがさらに好
ましく、特に0.1〜1.0μmが最適である。平均粒
径が大き過ぎると解像度が悪く、また小さ過ぎると経時
安定性が悪くなってしまう。The solidification temperature of these fine particles of a polymer having a thermoreactive functional group is preferably 70 ° C. or higher, and more preferably 100 ° C. or higher in view of stability over time. The average particle size of the fine particle polymer is preferably 0.01 to 20 μm, more preferably 0.05 to 2.0 μm, and most preferably 0.1 to 1.0 μm. If the average particle size is too large, the resolution will be poor, and if it is too small, the stability over time will be poor.
【0108】これらの反応性官能基を有する微粒子ポリ
マーの添加量は、感熱層固形分の50重量%以上が好ま
しく、60重量%以上がさらに好ましい。The addition amount of the fine particle polymer having a reactive functional group is preferably 50% by weight or more, more preferably 60% by weight or more of the solid content of the heat-sensitive layer.
【0109】本発明に用いられるマイクロカプセルは、
熱反応性官能基を有する化合物を内包してもよい。この
熱反応性官能基を有する化合物としては、重合性不飽和
基、ヒドロキシル基、カルボキシル基あるいはカルボキ
シレート基あるいは酸無水物、アミノ基、エポキシ基、
および、イソシアナート基あるいはそのブロック体から
選ばれた少なくとも一個の官能基を有する化合物を挙げ
ることができる。The microcapsules used in the present invention are:
A compound having a thermoreactive functional group may be included. Compounds having this heat-reactive functional group include polymerizable unsaturated groups, hydroxyl groups, carboxyl groups or carboxylate groups or acid anhydrides, amino groups, epoxy groups,
And a compound having at least one functional group selected from an isocyanate group or a block thereof.
【0110】重合性不飽和基を有する化合物としては、
エチレン性不飽和結合、例えばアクリロイル基、メタク
リロイル基、ビニル基、アリル基などを少なくとも1
個、好ましくは2個以上有する化合物が好ましく、この
様な化合物群は当該産業分野において広く知られるもの
であり、本発明においては、これらを特に限定なく用い
ることができる。これらは、化学的形態としては、モノ
マー、プレポリマー、すなわち2量体、3量体およびオ
リゴマー、またはそれらの混合物、あるいはそれらの共
重合体である。The compound having a polymerizable unsaturated group includes
At least one ethylenically unsaturated bond such as an acryloyl group, a methacryloyl group, a vinyl group, an allyl group;
And preferably two or more compounds. Such a compound group is widely known in the industrial field, and in the present invention, these can be used without particular limitation. These are, in chemical form, monomers, prepolymers, ie, dimers, trimers and oligomers, or mixtures thereof, or copolymers thereof.
【0111】例として、不飽和カルボン酸(例えば、ア
クリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イ
ソクロトン酸、マレイン酸など)、そのエステルおよび
アミドが挙げられ、好ましくは、不飽和カルボン酸と脂
肪族多価アルコールとのエステルおよび不飽和カルボン
酸と脂肪族多価アミンとのアミドが挙げられる。また、
ヒドロキシル基、アミノ基、メルカプト基等の求核性置
換基を有する不飽和カルボン酸エステルまたは不飽和カ
ルボン酸アミドと、単官能もしくは多官能イソシアネー
トまたはエポキシドとの付加反応物、および、単官能も
しくは多官能のカルボン酸との脱水縮合反応物等も好適
に使用される。また、イソシアナート基やエポキシ基な
どの親電子性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル
またはアミドと、単官能もしくは多官能のアルコール、
アミンおよびチオールとの付加反応物、さらに、ハロゲ
ン基やトシルオキシ基等の脱離性置換基を有する不飽和
カルボン酸エステルまたはアミドと、単官能もしくは多
官能アルコール、アミンおよびチオールとの置換反応物
も好適である。また、別の好適な例として、上記の不飽
和カルボン酸を、不飽和ホスホン酸あるいはクロロメチ
ルスチレンに置き換えた化合物を挙げることができる。Examples include unsaturated carboxylic acids (eg, acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, isocrotonic acid, maleic acid, etc.), esters and amides thereof, preferably unsaturated carboxylic acids and fatty acids. Esters with aliphatic polyhydric alcohols and amides of unsaturated carboxylic acids with aliphatic polyhydric amines. Also,
An addition reaction product of an unsaturated carboxylic acid ester or unsaturated carboxylic acid amide having a nucleophilic substituent such as a hydroxyl group, an amino group or a mercapto group with a monofunctional or polyfunctional isocyanate or an epoxide; A dehydration-condensation reaction product with a functional carboxylic acid is also preferably used. Further, an unsaturated carboxylic acid ester or amide having an electrophilic substituent such as an isocyanate group or an epoxy group, and a monofunctional or polyfunctional alcohol,
Addition reactants with amines and thiols, and also substituted reactants with unsaturated carboxylic esters or amides having a leaving group such as a halogen group or tosyloxy group, and monofunctional or polyfunctional alcohols, amines and thiols. It is suitable. Another preferred example is a compound in which the above unsaturated carboxylic acid is replaced with unsaturated phosphonic acid or chloromethylstyrene.
【0112】不飽和カルボン酸と脂肪族多価アルコール
とのエステルである重合性化合物の具体例としては、ア
クリル酸エステルとして、エチレングリコールジアクリ
レート、トリエチレングリコールジアクリレート、1,
3−ブタンジオールジアクリレート、テトラメチレング
リコールジアクリレート、プロピレングリコールジアク
リレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、ト
リメチロールプロパンジアクリレート、トリメチロール
プロパントリアクリレート、トリメチロールプロパント
リス(アクリロイルオキシプロピル)エーテル、トリメ
チロールエタントリアクリレート、ヘキサンジオールジ
アクリレート、1,4−シクロヘキサンジオールジアク
リレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、
ペンタエリスリトールジアクリレート、ペンタエリスリ
トールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラ
アクリレート、ジペンタエリスリトールジアクリレー
ト、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペ
ンタエリスリトールヘキサアクリレート、ソルビトール
トリアクリレート、ソルビトールテトラアクリレート、
ソルビトールペンタアクリレート、ソルビトールヘキサ
アクリレート、トリス(アクリロイルオキシエチル)イ
ソシアヌレート、ポリエステルアクリレートオリゴマー
等を挙げることができる。Specific examples of the polymerizable compound which is an ester of an unsaturated carboxylic acid and an aliphatic polyhydric alcohol include acrylates such as ethylene glycol diacrylate, triethylene glycol diacrylate,
3-butanediol diacrylate, tetramethylene glycol diacrylate, propylene glycol diacrylate, neopentyl glycol diacrylate, trimethylolpropane diacrylate, trimethylolpropane triacrylate, trimethylolpropane tris (acryloyloxypropyl) ether, trimethylolethane Triacrylate, hexanediol diacrylate, 1,4-cyclohexanediol diacrylate, tetraethylene glycol diacrylate,
Pentaerythritol diacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol diacrylate, dipentaerythritol pentaacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, sorbitol triacrylate, sorbitol tetraacrylate,
Examples thereof include sorbitol pentaacrylate, sorbitol hexaacrylate, tris (acryloyloxyethyl) isocyanurate, and polyester acrylate oligomer.
【0113】メタクリル酸エステルとしては、テトラメ
チレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリ
コールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメ
タクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレ
ート、トリメチロールエタントリメタクリレート、エチ
レングリコールジメタクリレート、1,3−ブタンジオ
ールジメタクリレート、ヘキサンジオールジメタクリレ
ート、ペンタエリスリトールジメタクリレート、ペンタ
エリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリト
ールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールジ
メタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタク
リレート、ソルビトールトリメタクリレート、ソルビト
ールテトラメタクリレート、ビス〔p−(3−メタクリ
ロイルオキシ−2−ヒドロキシプロポキシ)フェニル〕
ジメチルメタン、ビス−〔p−(メタクリロイルオキシ
エトキシ)フェニル〕ジメチルメタン等を挙げることが
できる。Examples of methacrylic acid esters include tetramethylene glycol dimethacrylate, triethylene glycol dimethacrylate, neopentyl glycol dimethacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, trimethylolethane trimethacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, and 1,3-butanediol. Dimethacrylate, hexanediol dimethacrylate, pentaerythritol dimethacrylate, pentaerythritol trimethacrylate, pentaerythritol tetramethacrylate, dipentaerythritol dimethacrylate, dipentaerythritol hexamethacrylate, sorbitol trimethacrylate, sorbitol tetramethacrylate, bis [p- (3- Methacryloyloxy-2 Hydroxypropoxy) phenyl]
Examples thereof include dimethylmethane and bis- [p- (methacryloyloxyethoxy) phenyl] dimethylmethane.
【0114】イタコン酸エステルとしては、エチレング
リコールジイタコネート、プロピレングリコールジイタ
コネート、1,3−ブタンジオールジイタコネート、
1,4−ブタンジオールジイタコネート、テトラメチレ
ングリコールジイタコネート、ペンタエリスリトールジ
イタコネート、ソルビトールテトライタコネート等を挙
げることができる。Examples of itaconic acid esters include ethylene glycol diitaconate, propylene glycol diitaconate, 1,3-butanediol diitaconate,
Examples thereof include 1,4-butanediol diitaconate, tetramethylene glycol diitaconate, pentaerythritol diitaconate, and sorbitol tetritaconate.
【0115】クロトン酸エステルとしては、エチレング
リコールジクロトネート、テトラメチレングリコールジ
クロトネート、ペンタエリスリトールジクロトネート、
ソルビトールテトラジクロトネート等を挙げることがで
きる。イソクロトン酸エステルとしては、エチレングリ
コールジイソクロトネート、ペンタエリスリトールジイ
ソクロトネート、ソルビトールテトライソクロトネート
等を挙げることができる。マレイン酸エステルとして
は、エチレングリコールジマレート、トリエチレングリ
コールジマレート、ペンタエリスリトールジマレート、
ソルビトールテトラマレート等を挙げることができる。The crotonates include ethylene glycol dicrotonate, tetramethylene glycol dicrotonate, pentaerythritol dicrotonate,
Sorbitol tetradicrotonate and the like can be mentioned. Examples of the isocrotonic acid ester include ethylene glycol diisocrotonate, pentaerythritol diisocrotonate, and sorbitol tetraisocrotonate. Maleic esters include ethylene glycol dimaleate, triethylene glycol dimaleate, pentaerythritol dimaleate,
Sorbitol tetramalate and the like can be mentioned.
【0116】その他のエステルの例として、例えば、特
公昭46−27926号、特公昭51−47334号、
特開昭57−196231号記載の脂肪族アルコール系
エステル類や、特開昭59−5240号、特開昭59−
5241号、特開平2−226149号記載の芳香族系
骨格を有するもの、特開平1−165613号記載のア
ミノ基を含有するもの等を挙げることができる。Examples of other esters include, for example, JP-B-46-27926, JP-B-51-47334,
Aliphatic alcohol esters described in JP-A-57-196231, JP-A-59-5240 and JP-A-59-196231
Examples thereof include those having an aromatic skeleton described in JP-A-5241 and JP-A-2-226149 and those containing an amino group described in JP-A-1-165613.
【0117】また、脂肪族多価アミン化合物と不飽和カ
ルボン酸とのアミドのモノマーの具体例としては、メチ
レンビス−アクリルアミド、メチレンビス−メタクリル
アミド、1,6−ヘキサメチレンビス−アクリルアミ
ド、1,6−ヘキサメチレンビス−メタクリルアミド、
ジエチレントリアミントリスアクリルアミド、キシリレ
ンビスアクリルアミド、キシリレンビスメタクリルアミ
ド等を挙げることができる。その他の好ましいアミド系
モノマーの例としては、特公昭54−21726記載の
シクロへキシレン構造を有すものを挙げることができ
る。Specific examples of the amide monomer of the aliphatic polyamine compound and the unsaturated carboxylic acid include methylene bis-acrylamide, methylene bis-methacrylamide, 1,6-hexamethylene bis-acrylamide, 1,6- Hexamethylene bis-methacrylamide,
Examples thereof include diethylenetriaminetrisacrylamide, xylylenebisacrylamide, and xylylenebismethacrylamide. Examples of other preferred amide monomers include those having a cyclohexylene structure described in JP-B-54-21726.
【0118】また、イソシアネートと水酸基の付加反応
を用いて製造されるウレタン系付加重合性化合物も好適
であり、そのような具体例としては、例えば、特公昭4
8−41708号公報中に記載されている1分子に2個
以上のイソシアネート基を有するポリイソシアネート化
合物に、下記式(I)で示される水酸基を有する不飽和
モノマーを付加させた1分子中に2個以上の重合性不飽
和基を含有するウレタン化合物等が挙げられる。 一般式(I) CH2=C(R1)COOCH2CH(R2)OH (ただし、R1およびR2は、HまたはCH3を示す。)A urethane-based addition-polymerizable compound produced by an addition reaction between an isocyanate and a hydroxyl group is also suitable.
JP-A-8-41708 discloses a polyisocyanate compound having two or more isocyanate groups in one molecule and an unsaturated monomer having a hydroxyl group represented by the following formula (I) added to one molecule. Urethane compounds containing at least two polymerizable unsaturated groups are exemplified. General formula (I) CH2 = C (R1) COOCH2CH (R2) OH (where R1 and R2 represent H or CH3)
【0119】また、特開昭51−37193号、特公平
2−32293号、特公平2−16765号に記載され
ているようなウレタンアクリレートや、特公昭58−4
9860号、特公昭56−17654号、特公昭62−
39417、特公昭62−39418号記載のエチレン
オキサイド系骨格を有するウレタン化合物も好適なもの
として挙げることができる。Further, urethane acrylates described in JP-A-51-37193, JP-B-2-32293 and JP-B-2-16765, and JP-B-58-4
9860, JP-B-56-17654, JP-B-62-
Urethane compounds having an ethylene oxide skeleton described in 39417 and JP-B-62-39418 are also preferable.
【0120】さらに、特開昭63−277653号、特
開昭63−260909号、特開平1−105238号
に記載される、分子内にアミノ構造やスルフィド構造を
有するラジカル重合性化合物を好適なものとして挙げる
ことができる。Further, radically polymerizable compounds having an amino structure or a sulfide structure in the molecule described in JP-A-63-277563, JP-A-63-260909, and JP-A-1-105238 are preferable. It can be mentioned as.
【0121】その他の好適なものの例としては、特開昭
48−64183号公報、特公昭49−43191号公
報、同52−30490号公報の各公報に記載されてい
るようなポリエステルアクリレート類、エポキシ樹脂と
(メタ)アクリル酸を反応させたエポキシアクリレート
類等の多官能のアクリレートやメタクリレートを挙げる
ことができる。また、特公昭46−43946号公報、
特公平1−40337号公報、同1−40336号公報
記載の特定の不飽和化合物や、特開平2−25493号
公報に記載のビニルホスホン酸系化合物等も好適なもの
として挙げることができる。また、ある場合には、特開
昭61−22048号公報記載のペルフルオロアルキル
基を含有する化合物も好適に使用される。さらに日本接
着協会誌、20巻7号、300〜308ページ(198
4年)に光硬化性モノマーおよびオリゴマーとして紹介
されているものも好適に使用することができる。Examples of other suitable compounds include polyester acrylates and epoxy resins described in JP-A-48-64183, JP-B-49-43191 and JP-B-52-30490. Examples thereof include polyfunctional acrylates and methacrylates such as epoxy acrylates obtained by reacting a resin with (meth) acrylic acid. In addition, JP-B-46-43946,
Specific unsaturated compounds described in JP-B-1-40337 and JP-A-1-40336 and vinylphosphonic acid-based compounds described in JP-A-2-25493 can also be mentioned as preferable ones. In some cases, compounds containing a perfluoroalkyl group described in JP-A-61-22048 are also preferably used. Furthermore, The Journal of the Adhesion Society of Japan, Vol. 20, No. 7, pp. 300-308 (198
Those introduced as photocurable monomers and oligomers in (4 years) can also be suitably used.
【0122】好適なエポキシ化合物としては、グリセリ
ンポリグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジ
グリシジルエーテル、ポリプロピレンジグリシジルエー
テル、トリメチロールプロパンポリグリシジルエーテ
ル、ソルビトールポリグリシジルエーテル、ビスフェノ
ール類あるいはポリフェノール類もしくはそれらの水素
添加物のポリグリシジルエーテルなどが挙げられる。Suitable epoxy compounds include glycerin polyglycidyl ether, polyethylene glycol diglycidyl ether, polypropylene diglycidyl ether, trimethylolpropane polyglycidyl ether, sorbitol polyglycidyl ether, bisphenols and polyphenols, and hydrogenated products thereof. And polyglycidyl ether.
【0123】好適なイソシアネート化合物としては、ト
リレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシア
ネート、ポリメチレンポリフェニルポリイソシアネー
ト、キシリレンジイソシアネート、ナフタレンジイソシ
アネート、シクロヘキサンフェニレンジイソシアネー
ト、イソホロンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイ
ソシアネート、シクロヘキシルジイソシアネート、ある
いは、それらをアルコールあるいはアミンでブロックし
た化合物を挙げることができる。Preferred isocyanate compounds include tolylene diisocyanate, diphenylmethane diisocyanate, polymethylene polyphenyl polyisocyanate, xylylene diisocyanate, naphthalene diisocyanate, cyclohexane phenylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, cyclohexyl diisocyanate, and alcohols such as alcohols. Alternatively, a compound blocked with an amine can be mentioned.
【0124】好適なアミン化合物としては、エチレンジ
アミン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミ
ン、ヘキサメチレンジアミン、プロピレンジアミン、ポ
リエチレンイミンなどが挙げられる。Suitable amine compounds include ethylenediamine, diethylenetriamine, triethylenetetramine, hexamethylenediamine, propylenediamine, polyethyleneimine and the like.
【0125】好適なヒドロキシル基を有する化合物とし
ては、末端メチロール基を有する化合物、ペンタエリス
リトールなどの多価アルコール、ビスフェノール・ポリ
フェノール類などを挙げることができる。好ましカルボ
キシル基を有する化合物としては、ピロメリット酸、ト
リメリット酸、フタル酸などの芳香族多価カルボン酸、
アジピン酸などの脂肪族多価カルボン酸などが挙げられ
る。 好適な酸無水物としては、ピロメリット酸無水
物、ベンゾフェノンテトラカルボン酸無水物などが挙げ
られる。Suitable compounds having a hydroxyl group include compounds having a terminal methylol group, polyhydric alcohols such as pentaerythritol, and bisphenols and polyphenols. Preferred compounds having a carboxyl group include pyromellitic acid, trimellitic acid, aromatic polycarboxylic acids such as phthalic acid,
Examples include aliphatic polycarboxylic acids such as adipic acid. Suitable acid anhydrides include pyromellitic anhydride, benzophenonetetracarboxylic anhydride and the like.
【0126】エチレン状不飽和化合物の共重合体の好適
なものとして、アリルメタクリレートの共重合体を挙げ
ることができる。例えば、アリルメタクリレート/メタ
クリル酸共重合体、アリルメタクリレート/エチルメタ
クリレート共重合体、アリルメタクリレート/ブチルメ
タクリレート共重合体などを挙げることができる。Preferred copolymers of the ethylenically unsaturated compound include allyl methacrylate copolymers. For example, an allyl methacrylate / methacrylic acid copolymer, an allyl methacrylate / ethyl methacrylate copolymer, an allyl methacrylate / butyl methacrylate copolymer, and the like can be given.
【0127】本発明の画像記録層には、このように熱反
応性基を有する微粒子ポリマーあるいはマイクロカプセ
ルを用いるので、必要に応じてこれらの反応を開始ある
いは促進する化合物を添加してもよい。反応を開始ある
いは促進する化合物としては、熱によりラジカルあるい
はカチオンを発生するような化合物を挙げることがで
き、例えば、ロフィンダイマー、トリハロメチル化合
物、過酸化物、アゾ化合物、ジアゾニウム塩あるいはジ
フェニルヨードニウム塩などを含んだオニウム塩、アシ
ルホスフィン、イミドスルホナートなどが挙げられる。
これらの化合物は、感熱層固形分の1〜20重量%の範
囲で添加することができる。好ましくは3〜10重量%
の範囲である。この範囲内で、機上現像性を損なわず、
良好な反応開始あるいは促進効果が得られる。Since the fine particle polymer or the microcapsule having a heat-reactive group is used in the image recording layer of the present invention, a compound for initiating or promoting these reactions may be added as necessary. Examples of the compound that initiates or promotes the reaction include compounds that generate radicals or cations by heat, and include, for example, lophine dimers, trihalomethyl compounds, peroxides, azo compounds, diazonium salts, and diphenyliodonium salts. Onium salts, acylphosphines, imidosulfonates and the like.
These compounds can be added in the range of 1 to 20% by weight of the solid content of the heat-sensitive layer. Preferably 3 to 10% by weight
Range. Within this range, the on-press developability is not impaired,
Good reaction initiation or promotion effect can be obtained.
【0128】これらの重合性及び架橋性有機化合物の添
加量は、疎水性前駆体の全量に対して、5〜95重量%
が適当であり、20〜90重量%が好ましく、実質的に
300〜80重量%が最も好ましい。These polymerizable and crosslinkable organic compounds are added in an amount of 5 to 95% by weight based on the total amount of the hydrophobic precursor.
Is suitable, preferably 20 to 90% by weight, and most preferably substantially 300 to 80% by weight.
【0129】(親水性媒質)以上に、本発明の親水性の
画像記録層に含まれる表面が親水性の疎水性化前駆体及
びそれ自体が親水性又は表面が親水性の光熱変換剤につ
いて述べた。つぎに画像記録層の親水性媒質の構成につ
いて述べる。(Hydrophilic Medium) The hydrophobizing precursor having a hydrophilic surface and the photothermal conversion agent having a hydrophilic surface or a hydrophilic surface are described in the hydrophilic image recording layer of the present invention. Was. Next, the configuration of the hydrophilic medium of the image recording layer will be described.
【0130】親水性の媒質は、親水性高分子、金属水酸
化物と金属酸化物の系からなるゾル・ゲル変換性材料、
親水性ゾル粒子、そのほか副次的な成分として染料、界
面活性剤など親水性の程度を制御する目的、記録層の物
理的強度の向上、層を構成する組成物相互の分散性の向
上、塗布性の向上、印刷適性の向上、製版作業性の便宜
上などの種々の目的の化合物から選択された構成となっ
ている。親水性の画像記録層は、ゾルゲル変換系である
ことがとくに本発明に望ましい。そのなかでもポリシロ
キサンのゲル組織を形成する性質を有するゾルゲル変換
系が好ましい。The hydrophilic medium includes a hydrophilic polymer, a sol-gel conversion material composed of a system of a metal hydroxide and a metal oxide,
The purpose of controlling the degree of hydrophilicity such as hydrophilic sol particles and other secondary components such as dyes and surfactants, improving the physical strength of the recording layer, improving the dispersibility of the constituents of the layer, and coating The composition is selected from a variety of compounds for various purposes such as improvement of printing properties, improvement of printing suitability, and convenience of plate making work. The hydrophilic image recording layer is particularly preferably a sol-gel conversion system in the present invention. Among them, a sol-gel conversion system having a property of forming a gel structure of polysiloxane is preferable.
【0131】<ゾルゲル変換系の媒質>本発明の画像記
録層のとくに好ましい媒質は、以下に述べるゾルゲル変
換系である。すなわち、塗布液の状態ではゾル状態であ
るが、塗布後乾燥し、経時する間にゲル状態となり、印
刷版に適用できる。本発明に好ましく適用できるゾルゲ
ル変換が可能な系は、多価元素から出ている結合基が酸
素原子を介して網目状構造を形成し、同時に多価金属は
未結合の水酸基やアルコキシ基も有していてこれらが混
在した樹脂状構造となっている高分子体であって、塗布
前のアルコキシ基や水酸基が多い段階ではゾル状態であ
り、塗布後、エステル結合化が進行するのに伴って網目
状の樹脂状構造が強固となり、ゲル状態になる。また、
樹脂組織の親水性度が変化する性質に加えて、水酸基の
一部が固体微粒子に結合することによって固体微粒子の
表面を修飾し、親水性度を変化させる働きをも併せ持っ
ている。ゾルゲル変換を行う水酸基やアルコキシ基を有
する化合物の多価結合元素は、アルミニウム、珪素、チ
タン及びジルコニウムなどであり、これらはいずれも本
発明に用いることができるが、以下はもっとも好ましく
用いることのできるシロキサン結合によるゾルゲル変換
系について説明する。アルミニウム、チタン及びジルコ
ニウムを用いるゾルゲル変換は、下記の説明の珪素をそ
れぞれの元素に置き換えて実施することができる。<Sol-Gel Conversion System Medium> A particularly preferable medium for the image recording layer of the present invention is a sol-gel conversion system described below. That is, the coating liquid is in a sol state, but is dried after being applied and becomes a gel state with the passage of time, and can be applied to a printing plate. The sol-gel conversion system preferably applicable to the present invention is a system in which a bonding group derived from a polyvalent element forms a network structure via an oxygen atom, and at the same time, the polyvalent metal has an unbonded hydroxyl group or an alkoxy group. It is a polymer that has a resin-like structure in which these are mixed, and is in a sol state at the stage where there are many alkoxy groups and hydroxyl groups before application, and as the ester bonding progresses after application, The network-like resinous structure becomes strong and becomes a gel state. Also,
In addition to the property of changing the degree of hydrophilicity of the resin tissue, the resin has a function of modifying the surface of the solid fine particles by binding a part of hydroxyl groups to the solid fine particles, thereby changing the degree of hydrophilicity. The polyvalent bonding element of the compound having a hydroxyl group or an alkoxy group that undergoes sol-gel conversion is aluminum, silicon, titanium, zirconium, or the like, and any of these can be used in the present invention, but the following are most preferably used. A sol-gel conversion system using a siloxane bond will be described. The sol-gel conversion using aluminum, titanium and zirconium can be performed by substituting silicon for each element described below.
【0132】以下に、ゾルゲル変換を利用する系につい
てさらに説明する。ゾルゲル変換によって形成される好
ましくはシロキサン結合およびシラノール基を有する樹
脂であり、本発明の平版印刷版用原版の画像記録層は、
少なくとも1個のシラノール基を有するシラン化合物を
含んだゾルの系であり、塗布後の経時の間に、シラノー
ル基の加水分解縮合が進んでシロキサン骨格の構造が形
成され、ゲル化が進行する。そのゾルゲル変換によって
形成される層は、親水性の程度が高く、したがって疎水
性化領域との識別性が大きくなるので、本発明の利点と
して挙げられる特長である。このゲル構造の媒質のなか
に後に述べる有機高分子など物理性向上、塗布性の改良
まどの目的の素材が添加されて構成された化合物記録層
が好ましく用いられる。ゲル構造を形成するシロキサン
樹脂は、下記一般式(I)で、また少なくとも1個のシ
ラノール基を有するシラン化合物は、下記一般式(II)
で示される。また、画像記録層に含まれる親水性から疎
水性に変化する物質系は、必ずしも一般式(II)のシラ
ン化合物単独である必要はなく、一般には、シラン化合
物が部分加水重合したオリゴマーからなっていてもよ
く、あるいは、シラン化合物とそのオリゴマーの混合組
成であってもよい。Hereinafter, a system utilizing the sol-gel conversion will be further described. It is preferably a resin having a siloxane bond and a silanol group formed by sol-gel conversion, the image recording layer of the lithographic printing plate precursor of the present invention,
This is a sol system containing a silane compound having at least one silanol group. During the elapse of time after application, hydrolysis and condensation of the silanol group proceeds, a siloxane skeleton structure is formed, and gelation proceeds. The layer formed by the sol-gel conversion has a high degree of hydrophilicity, and thus has a high degree of discrimination from the hydrophobized region, which is an advantage of the present invention. A compound recording layer formed by adding a material for the purpose of improving physical properties such as an organic polymer to be described later, improving coatability, or the like in the medium having the gel structure is preferably used. The siloxane resin forming a gel structure is represented by the following general formula (I), and the silane compound having at least one silanol group is represented by the following general formula (II)
Indicated by Further, the substance system that changes from hydrophilic to hydrophobic contained in the image recording layer does not necessarily need to be a silane compound of the general formula (II) alone, and generally comprises an oligomer obtained by partially hydrolyzing the silane compound. Or a mixed composition of a silane compound and its oligomer.
【0133】[0133]
【化7】 Embedded image
【0134】上記一般式(I)のシロキサン系樹脂は、
下記一般式(II)で示されるシラン化合物の少なくとも
1種を含有する分散液からゾル−ゲル変換によって形成
され、一般式(I)中のR01〜R03の少なくとも一つは
水酸基を表し、他は下記一般式(II)中の記号のR0及
びYから選ばれる有機残基を表わす。The siloxane resin represented by the general formula (I) is
It is formed by sol-gel conversion from a dispersion containing at least one silane compound represented by the following general formula (II), and at least one of R 01 to R 03 in the general formula (I) represents a hydroxyl group; Others represent organic residues selected from the symbols R 0 and Y in the following general formula (II).
【0135】一般式(II) (R0)nSi(Y)4-n 一般式(II)中、R0の、少なくとも一つは水酸基を表
し、その他は、炭化水素基又はヘテロ環基を表わす。Y
は水素原子、ハロゲン原子、−OR1、−OCOR2、又
は、−N(R3)(R4)を表す(R1、R2は、各々炭化
水素基を表し、R3、R4は同じでも異なってもよく、水
素原子又は炭化水素基を表す)。nは1、2又は3を表
わす。Formula (II) (R 0 ) n Si (Y) 4-n In formula (II), at least one of R 0 represents a hydroxyl group, and the other represents a hydrocarbon group or a heterocyclic group. Express. Y
Represents a hydrogen atom, a halogen atom, —OR 1 , —OCOR 2 , or —N (R 3 ) (R 4 ) (R 1 and R 2 each represent a hydrocarbon group, and R 3 and R 4 represent They may be the same or different and represent a hydrogen atom or a hydrocarbon group). n represents 1, 2 or 3.
【0136】好ましくは、一般式(II)中のR0は水酸
基であるが、水酸基以外としては、炭素数1〜12の置
換されてもよい直鎖状もしくは分岐状のアルキル基(例
えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペ
ンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニ
ル基、デシル基、ドデシル基等;これらの基に置換され
る基としては、ハロゲン原子(塩素原子、フッ素原子、
臭素原子)、ヒドロキシ基、チオール基、カルボキシ
基、スルホ基、シアノ基、エポキシ基、−OR′基
(R′は、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル
基、ヘプチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、
プロペニル基、ブテニル基、ヘキセニル基、オクテニル
基、2−ヒドロキシエチル基、3−クロロプロピル基、
2−シアノエチル基、N,N−ジメチルアミノエチル
基、2−ブロモエチル基、2−(2−メトキシエチル)
オキシエチル基、2−メトキシカルボニルエチル基、3
−カルボキシプロピル基、ベンジル基等を示す)、Preferably, R 0 in the general formula (II) is a hydroxyl group, but other than the hydroxyl group, a linear or branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms which may be substituted (for example, methyl Group, ethyl group, propyl group, butyl group, pentyl group, hexyl group, heptyl group, octyl group, nonyl group, decyl group, dodecyl group, etc .; As a group substituted by these groups, a halogen atom (chlorine atom, Fluorine atom,
Bromine atom, hydroxy group, thiol group, carboxy group, sulfo group, cyano group, epoxy group, -OR 'group (R' is methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, heptyl group, hexyl group, octyl Group, decyl group,
Propenyl group, butenyl group, hexenyl group, octenyl group, 2-hydroxyethyl group, 3-chloropropyl group,
2-cyanoethyl group, N, N-dimethylaminoethyl group, 2-bromoethyl group, 2- (2-methoxyethyl)
Oxyethyl group, 2-methoxycarbonylethyl group, 3
-Carboxypropyl group, benzyl group, etc.),
【0137】−OCOR″基(R″は、前記R′と同一
の内容を表わす)、−COOR″基、−COR″基、−
N(R''')( R''' )(R''' は、水素原子又は前記
R′と同一の内容を表わし、各々同じでも異なってもよ
い)、−NHCONHR″基、−NHCOOR″基、−
Si(R″)3 基、−CONHR''' 基、−NHCO
R″基、等が挙げられる。これらの置換基はアルキル基
中に複数置換されてもよい)、炭素数2〜12の置換さ
れてもよい直鎖状又は分岐状のアルケニル基(例えば、
ビニル基、プロペニル基、ブテニル基、ペンテニル基、
ヘキセニル基、オクテニル基、デセニル基、ドデセニル
基等、これらの基に置換される基としては、前記アルキ
ル基に置換される基と同一の内容のものが挙げられ
る)、炭素数7〜14の置換されてもよいアラルキル基
(例えば、ベンジル基、フェネチル基、3−フェニルプ
ロピル基、ナフチルメチル基、2−ナフチルエチル基
等;これらの基に置換される基としては、前記アルキル
基に置換される基と同一の内容のものが挙げられ、又複
数置換されてもよい)、A -OCOR "group (R" represents the same content as the above R '), a -COOR "group, a -COR" group,-
N (R ′ ″) (R ″ ′) (R ″ ″ represents the same content as a hydrogen atom or R ′ and may be the same or different), —NHCONHR ″ group, —NHCOOR ″ Group,-
Si (R ″) 3 group, —CONHR ″ ′ group, —NHCO
R "group and the like. These substituents may be substituted plurally in the alkyl group, and a linear or branched alkenyl group having 2 to 12 carbon atoms which may be substituted (for example,
Vinyl group, propenyl group, butenyl group, pentenyl group,
The group substituted by these groups, such as hexenyl group, octenyl group, decenyl group, dodecenyl group, and the like, include those having the same contents as the group substituted by the alkyl group.) Aralkyl groups which may be substituted (for example, benzyl group, phenethyl group, 3-phenylpropyl group, naphthylmethyl group, 2-naphthylethyl group, etc .; the group substituted by these groups is the above-mentioned alkyl group Groups having the same contents as the group, and may be substituted plurally),
【0138】炭素数5〜10の置換されてもよい脂環式
基(例えば、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、2
−シクロヘキシルエチル基、2−シクロペンチルエチル
基、ノルボニル基、アダマンチル基等、これらの基に置
換される基としては、前記アルキル基の置換基と同一の
内容のものが挙げられ、又複数置換されてもよい)、炭
素数6〜12の置換されてもよいアリール基(例えばフ
ェニル基、ナフチル基で、置換基としては前記アルキル
基に置換される基と同一の内容のものが挙げられ、又、
複数置換されてもよい)、又は、窒素原子、酸素原子、
イオウ原子から選ばれる少なくとも1種の原子を含有す
る縮環してもよいヘテロ環基(例えば該ヘテロ環として
は、ピラン環、フラン環、チオフェン環、モルホリン
環、ピロール環、チアゾール環、オキサゾール環、ピリ
ジン環、ピペリジン環、ピロリドン環、ベンゾチアゾー
ル環、ベンゾオキサゾール環、キノリン環、テトラヒド
ロフラン環等で、置換基を含有してもよい。置換基とし
ては、前記アルキル基中の置換基と同一の内容のものが
挙げられ、又複数置換されてもよい)を表わす。An optionally substituted alicyclic group having 5 to 10 carbon atoms (for example, cyclopentyl, cyclohexyl, 2
-Cyclohexylethyl group, 2-cyclopentylethyl group, norbornyl group, adamantyl group and the like, the group substituted with these groups include those having the same contents as the substituents of the alkyl group, and those substituted with a plurality of And a substituted or unsubstituted aryl group having 6 to 12 carbon atoms (e.g., a phenyl group or a naphthyl group, examples of the substituent include those having the same contents as the group substituted with the alkyl group.
Two or more may be substituted), or a nitrogen atom, an oxygen atom,
A condensable heterocyclic group containing at least one atom selected from sulfur atoms (for example, the heterocyclic ring includes a pyran ring, a furan ring, a thiophene ring, a morpholine ring, a pyrrole ring, a thiazole ring, an oxazole ring , A pyridine ring, a piperidine ring, a pyrrolidone ring, a benzothiazole ring, a benzoxazole ring, a quinoline ring, a tetrahydrofuran ring, etc., which may contain a substituent. The contents of which may be mentioned, and a plurality may be substituted).
【0139】好ましくはYは、ハロゲン原子(フッ素原
子、塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子を表わす)、−
OR1基、−OCOR2基又は−N(R3)(R4)基を表
わす。−OR1基において、R1は炭素数1〜10の置換
されてもよい脂肪族基(例えば、メチル基、エチル基、
プロピル基、ブトキシ基、ヘプチル基、ヘキシル基、ペ
ンチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、プロペニ
ル基、ブテニル基、ヘプテニル基、ヘキセニル基、オク
テニル基、デセニル基、2−ヒドロキシエチル基、2−
ヒドロキシプロピル基、2−メトキシエチル基、2−
(メトキシエチルオキソ)エチル基、2−(N,N−ジ
エチルアミノ)エチル基、2−メトキシプロピル基、2
−シアノエチル基、3−メチルオキサプロピル基、2−
クロロエチル基、シクロヘキシル基、シクロペンチル
基、シクロオクチル基、クロロシクロヘキシル基、メト
キシシクロヘキシル基、ベンジル基、フェネチル基、ジ
メトキシベンジル基、メチルベンジル基、ブロモベンジ
ル基等が挙げられる)を表わす。Preferably Y is a halogen atom (representing a fluorine, chlorine, bromine or iodine atom),-
Represents an OR 1 group, a —OCOR 2 group, or a —N (R 3 ) (R 4 ) group. In the —OR 1 group, R 1 represents an optionally substituted aliphatic group having 1 to 10 carbon atoms (eg, a methyl group, an ethyl group,
Propyl, butoxy, heptyl, hexyl, pentyl, octyl, nonyl, decyl, propenyl, butenyl, heptenyl, hexenyl, octenyl, decenyl, 2-hydroxyethyl, 2-hydroxyethyl
Hydroxypropyl group, 2-methoxyethyl group, 2-
(Methoxyethyloxo) ethyl group, 2- (N, N-diethylamino) ethyl group, 2-methoxypropyl group,
-Cyanoethyl group, 3-methyloxapropyl group, 2-
Chloroethyl, cyclohexyl, cyclopentyl, cyclooctyl, chlorocyclohexyl, methoxycyclohexyl, benzyl, phenethyl, dimethoxybenzyl, methylbenzyl, bromobenzyl, etc.).
【0140】−OCOR2基において、R2は、R1と同
一の内容の脂肪族基又は炭素数6〜12の置換されても
よい芳香族基(芳香族基としては、前記R中のアリール
基で例示したと同様のものが挙げられる)を表わす。又
−N(R3)(R4)基において、R3、R4は、互いに同
じでも異なってもよく、各々、水素原子又は炭素数1〜
10の置換されてもよい脂肪族基(例えば、前記の−O
R1基のR1と同様の内容のものが挙げられる)を表わ
す。より好ましくは、R1とR2の炭素数の総和が16個
以内である。一般式(II)で示されるシラン化合物の具
体例としては、以下のものが挙げられるが、これに限定
されるものではない。In the —OCOR 2 group, R 2 is an aliphatic group having the same content as R 1 or an aromatic group having 6 to 12 carbon atoms which may be substituted (the aromatic group is an aryl group in the aforementioned R). And the same as those exemplified for the group). In the —N (R 3 ) (R 4 ) group, R 3 and R 4 may be the same or different from each other.
10 optionally substituted aliphatic groups (for example, -O
R 1 has the same contents as R 1 ). More preferably, the total number of carbon atoms of R 1 and R 2 is up to 16. Specific examples of the silane compound represented by the general formula (II) include the following, but are not limited thereto.
【0141】メチルトリクロルシラン、メチルトリブロ
ムシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエト
キシシラン、メチルトリイソプロポキシシラン、メチル
トリt−ブトキシシラン、エチルトリクロルシラン、エ
チルトリブロムシラン、エチルトリメトキシシラン、エ
チルトリエトキシシラン、エチルトリイソプロポキシシ
ラン、エチルトリt−ブトキシシラン、n−プロピルト
リクロルシラン、n−プロピルトリブロムシラン、n−
プロピルトリメトキシシラン、n−プロピルトリエトキ
シシラン、n−プロピルトリイソプロポキシシラン、n
−プロピルトリt−ブトキシシラン、n−ヘキシルトリ
クロルシラン、n−ヘキシルトリブロムシラン、n−へ
キシルトリメトキシシラン、n−へキシルトリエトキシ
シラン、n−へキシルトリイソプロポキシシラン、n−
へキシルトリt−ブトキシシラン、n−デシルトリクロ
ルシラン、n−デシルトリブロムシラン、n−デシルト
リメトキシシラン、n−デシルトリエトキシシラン、n
−デシルトリイソプロポキシシラン、n−デシルトリt
−ブトキシシラン、n−オクタデシルトリクロルシラ
ン、n−オクタデシルトリブロムシラン、n−オクタデ
シルトリメトキシシラン、n−オクタデシルトリエトキ
シシラン、n−オクタデシルトリイソプロポキシシラ
ン、n−オクタデシルトリt−ブトキシシラン、Methyltrichlorosilane, methyltribromosilane, methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, methyltriisopropoxysilane, methyltri-t-butoxysilane, ethyltrichlorosilane, ethyltribromosilane, ethyltrimethoxysilane, ethyltrimethoxysilane Ethoxysilane, ethyltriisopropoxysilane, ethyltri-t-butoxysilane, n-propyltrichlorosilane, n-propyltribromosilane, n-
Propyltrimethoxysilane, n-propyltriethoxysilane, n-propyltriisopropoxysilane, n
-Propyltri-t-butoxysilane, n-hexyltrichlorosilane, n-hexyltribromosilane, n-hexyltrimethoxysilane, n-hexyltriethoxysilane, n-hexyltriisopropoxysilane, n-
Hexyltri-t-butoxysilane, n-decyltrichlorosilane, n-decyltribromosilane, n-decyltrimethoxysilane, n-decyltriethoxysilane, n
-Decyltriisopropoxysilane, n-decyltri-t
-Butoxysilane, n-octadecyltrichlorosilane, n-octadecyltribromosilane, n-octadecyltrimethoxysilane, n-octadecyltriethoxysilane, n-octadecyltriisopropoxysilane, n-octadecyltri-t-butoxysilane,
【0142】フェニルトリクロルシラン、フェニルトリ
ブロムシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニル
トリエトキシシラン、フェニルトリイソプロポキシシラ
ン、フェニルトリt−ブトキシシラン、テトラクロルシ
ラン、テトラブロムシラン、テトラメトキシシラン、テ
トラエトキシシラン、テトライソプロポキシシラン、テ
トラブトキシシラン、ジメトキシジエトキシシラン、ジ
メチルジクロルシラン、ジメチルジブロムシラン、ジメ
チルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジ
フェニルジクロルシラン、ジフェニルジブロムシラン、
ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシ
ラン、フェニルメチルジクロルシラン、フェニルメチル
ジブロムシラン、フェニルメチルジメトキシシラン、フ
ェニルメチルジエトキシシラン、トリエトキシヒドロシ
ラン、トリブロムヒドロシラン、トリメトキシヒドロシ
ラン、イソプロポキシヒドロシラン、トリt−ブトキシ
ヒドロシラン、ビニルトリクロルシラン、ビニルトリブ
ロムシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエ
トキシシラン、ビニルトリイソプロポキシシラン、ビニ
ルトリt−ブトキシシラン、トリフルオロプロピルトリ
クロルシラン、トリフルオロプロピルトリブロムシラ
ン、トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、トリフ
ルオロプロピルトリエトキシシラン、Phenyltrichlorosilane, phenyltribromosilane, phenyltrimethoxysilane, phenyltriethoxysilane, phenyltriisopropoxysilane, phenyltri-t-butoxysilane, tetrachlorosilane, tetrabromosilane, tetramethoxysilane, tetraethoxysilane , Tetraisopropoxysilane, tetrabutoxysilane, dimethoxydiethoxysilane, dimethyldichlorosilane, dimethyldibromosilane, dimethyldimethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, diphenyldichlorosilane, diphenyldibromosilane,
Diphenyldimethoxysilane, diphenyldiethoxysilane, phenylmethyldichlorosilane, phenylmethyldibromosilane, phenylmethyldimethoxysilane, phenylmethyldiethoxysilane, triethoxyhydrosilane, tribromohydrosilane, trimethoxyhydrosilane, isopropoxyhydrosilane, tri-t -Butoxyhydrosilane, vinyltrichlorosilane, vinyltribromosilane, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, vinyltriisopropoxysilane, vinyltri-t-butoxysilane, trifluoropropyltrichlorosilane, trifluoropropyltribromosilane, trifluoro Propyltrimethoxysilane, trifluoropropyltriethoxysilane,
【0143】トリフルオロプロピルトリイソプロポキシ
シラン、トリフルオロプロピルトリt−ブトキシシラ
ン、γ−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラ
ン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラ
ン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ
−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ−グリ
シドキシプロピルトリイソプロポキシシラン、γ−グリ
シドキシプロピルトリt−ブトキシシラン、γ−メタア
クリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メタ
アクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−メ
タアクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メタ
アクリロキシプロピルトリイソプロポキシシラン、γ−
メタアクリロキシプロピルトリt−ブトキシシラン、γ
−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アミノ
プロピルメチルジエトキシシラン、γ−アミノプロピル
トリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシ
シラン、γ−アミノプロピルトリイソプロポキシシラ
ン、γ−アミノプロピルトリt−ブトキシシラン、γ−
メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メル
カプトプロピルメチルジエトキシシラン、γ−メルカプ
トプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピ
ルトリエトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリイ
ソプロポキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリt−
ブトキシシラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシ
ル)エチルトリメトキシシラン、β−(3,4−エポキ
シシクロヘキシル)エチルトリエトキシシラン等が挙げ
られる。Trifluoropropyltriisopropoxysilane, trifluoropropyltri-t-butoxysilane, γ-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, γ-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane , Γ
-Glycidoxypropyltriethoxysilane, γ-glycidoxypropyltriisopropoxysilane, γ-glycidoxypropyltri-t-butoxysilane, γ-methacryloxypropylmethyldimethoxysilane, γ-methacryloxypropylmethyldi Ethoxysilane, γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane, γ-methacryloxypropyltriisopropoxysilane, γ-
Methacryloxypropyltri-t-butoxysilane, γ
-Aminopropylmethyldimethoxysilane, γ-aminopropylmethyldiethoxysilane, γ-aminopropyltrimethoxysilane, γ-aminopropyltriethoxysilane, γ-aminopropyltriisopropoxysilane, γ-aminopropyltrit-butoxysilane , Γ-
Mercaptopropylmethyldimethoxysilane, γ-mercaptopropylmethyldiethoxysilane, γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, γ-mercaptopropyltriethoxysilane, γ-mercaptopropyltriisopropoxysilane, γ-mercaptopropyltri-t-
Butoxysilane, β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltriethoxysilane and the like.
【0144】本発明の画像記録層形成に用いる一般式
(II)で示されるシラン化合物とともに、Ti、Zn、
Sn、Zr、Al等のゾル−ゲル変換の際に樹脂に結合
して成膜可能な金属化合物を併用することができる。用
いられる金属化合物として、例えば、Ti(OR″)4
(R″はメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、
ペンチル基、ヘキシル基等)、TiCl4、Zn(O
R″)2、Zn(CH3COCHCOCH3)2、Sn(O
R″)4、Sn(CH3COCHCOCH3)4、Sn(O
COR″)4、SnCl4、Zr(OR″)4、Zr(C
H3COCHCOCH3)4、Al(OR″)3等が挙げら
れる。Along with the silane compound represented by the general formula (II) used for forming the image recording layer of the present invention, Ti, Zn,
Metal compounds capable of forming a film by binding to a resin during sol-gel conversion, such as Sn, Zr, and Al, can be used in combination. As the metal compound used, for example, Ti (OR ″) 4
(R ″ represents a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group,
Pentyl group, hexyl group, etc.), TiCl 4 , Zn (O
R ″) 2 , Zn (CH 3 COCHCOCH 3 ) 2 , Sn (O
R ″) 4 , Sn (CH 3 COCHCOCH 3 ) 4 , Sn (O
COR ″) 4 , SnCl 4 , Zr (OR ″) 4 , Zr (C
H 3 COCHCOCH 3 ) 4 , Al (OR ″) 3 and the like.
【0145】更に、一般式(II)で示されるシラン化合
物、更には併用する前記の金属化合物の加水分解及び重
縮合反応を促進するために、酸性触媒又は塩基性触媒を
併用することが好ましい。触媒は、酸あるいは塩基性化
合物をそのままか、あるいは水またはアルコールなどの
溶媒に溶解させた状態のもの(以下、それぞれ酸性触
媒、塩基性触媒という)を用いる。そのときの濃度につ
いては特に限定しないが、濃度が濃い場合は加水分解、
重縮合速度が速くなる傾向がある。但し、濃度の濃い塩
基性触媒を用いると、ゾル溶液中で沈殿物が生成する場
合があるため、塩基性触媒の濃度は1N(水溶液での濃
度換算)以下が望ましい。Further, in order to promote the hydrolysis and polycondensation reaction of the silane compound represented by the general formula (II) and the metal compound used in combination, it is preferable to use an acidic catalyst or a basic catalyst in combination. As the catalyst, an acid or basic compound used as it is or in a state of being dissolved in a solvent such as water or alcohol (hereinafter referred to as an acidic catalyst or a basic catalyst, respectively) is used. The concentration at that time is not particularly limited, but when the concentration is high, hydrolysis,
The polycondensation rate tends to increase. However, when a highly concentrated basic catalyst is used, a precipitate may be formed in the sol solution. Therefore, the concentration of the basic catalyst is preferably 1 N (concentration conversion in an aqueous solution) or less.
【0146】酸性触媒あるいは塩基性触媒の種類は特に
限定されないが、濃度の濃い触媒を用いる必要がある場
合には、焼結後に触媒結晶粒中にほとんど残留しないよ
うな元素から構成される触媒がよい。具体的には、酸性
触媒としては、塩酸などのハロゲン化水素、硝酸、硫
酸、亜硫酸、硫化水素、過塩素酸、過酸化水素、炭酸、
蟻酸や酢酸などのカルボン酸、そのRCOOHで表され
る構造式のRを他元素または置換基によって置換した置
換カルボン酸、ベンゼンスルホン酸などのスルホン酸な
ど、塩基性触媒としては、アンモニア水などのアンモニ
ア性塩基、エチルアミンやアニリンなどのアミン類など
が挙げられる。The type of the acidic catalyst or the basic catalyst is not particularly limited, but when it is necessary to use a catalyst having a high concentration, a catalyst composed of an element which hardly remains in the catalyst crystal grains after sintering is used. Good. Specifically, examples of the acidic catalyst include hydrogen halides such as hydrochloric acid, nitric acid, sulfuric acid, sulfurous acid, hydrogen sulfide, perchloric acid, hydrogen peroxide, carbonic acid,
Examples of basic catalysts include carboxylic acids such as formic acid and acetic acid, substituted carboxylic acids in which R of the structural formula represented by RCOOH is substituted with another element or a substituent, sulfonic acids such as benzenesulfonic acid, and the like. Examples include ammoniacal bases and amines such as ethylamine and aniline.
【0147】以上述べたように、ゾル−ゲル法によって
作成される画像記録層は、本発明の平版印刷版用原版に
とくに好ましい。上記のゾル−ゲル法のさらに詳細は、
作花済夫「ゾル−ゲル法の科学」(株)アグネ承風社
(刊)(1988年)、平島碩「最新ゾル−ゲル法によ
る機能性薄膜作成技術」総合技術センター(刊)(19
92年)等の成書等に詳細に記述されている。As described above, the image recording layer formed by the sol-gel method is particularly preferable for the lithographic printing plate precursor according to the invention. Further details of the above sol-gel method,
Saio Sakuhana, "Science of Sol-Gel Method", Agne Shofusha Co., Ltd. (published) (1988), Hirashima Tsuyoshi, "Functional Thin Film Fabrication Technology by Latest Sol-Gel Method," Integrated Technology Center (published) (19)
1992) and the like.
【0148】<親水性高分子化合物>本発明の平版印刷
版用原版の画像記録層に含有される高分子化合物として
は、画像記録層としての適度な強度と表面の親水性を付
与する目的の、水酸基を有する有機高分子化合物を用い
ることができる。具体的には、ポリビニルアルコール
(PVA),カルボキシ変性PVA等の変性PVA,澱
粉およびその誘導体、カルボキシメチルセルローズ、ヒ
ドロキシエチルセルローズのようなセルロース誘導体、
カゼイン、ゼラチン、ポリビニルピロリドン、酢酸ビニ
ル−クロトン酸共重合体、スチレン−マレイン酸共重合
体、ポリアクリル酸及びその塩、ポリアクリアミド、及
びアクリル酸、アクリアミドなど水溶性のアクリル系モ
ノマーを主な構成成分として含む水溶性アクリル系共重
合体等の水溶性樹脂が挙げられる。<Hydrophilic high molecular compound> The high molecular compound contained in the image recording layer of the lithographic printing plate precursor according to the present invention is intended for imparting appropriate strength as an image recording layer and surface hydrophilicity. And an organic polymer compound having a hydroxyl group. Specifically, polyvinyl alcohol (PVA), modified PVA such as carboxy-modified PVA, starch and derivatives thereof, cellulose derivatives such as carboxymethyl cellulose and hydroxyethyl cellulose,
Water-soluble acrylic monomers such as casein, gelatin, polyvinylpyrrolidone, vinyl acetate-crotonic acid copolymer, styrene-maleic acid copolymer, polyacrylic acid and its salts, polyacrylamide, and acrylic acid and acrylamide are mainly used. A water-soluble resin such as a water-soluble acrylic copolymer contained as a constituent component is exemplified.
【0149】又、上記水酸基を有する有機高分子化合物
を架橋し、硬化させる耐水化剤としては、グリオキザー
ル、メラミンホルムアルデヒド樹脂、尿素ホルムアルデ
ヒド樹脂等のアミノプラストの初期縮合物、メチロール
化ポリアミド樹脂、ポリアミド・ポリアミン・エピクロ
ルヒドリン付加物、ポリアミドエピクロルヒドリン樹
脂、変性ポリアミドポリイミド樹脂等が挙げられる。そ
の他、更には、塩化アンモニウム、シランカップリング
剤の架橋触媒等が併用できる。Examples of the waterproofing agent for crosslinking and curing the above-mentioned organic polymer compound having a hydroxyl group include an initial condensate of aminoplasts such as glyoxal, melamine formaldehyde resin and urea formaldehyde resin, a methylolated polyamide resin, a polyamide. Examples thereof include a polyamine / epichlorohydrin adduct, a polyamide epichlorohydrin resin, and a modified polyamide polyimide resin. In addition, a crosslinking catalyst of ammonium chloride, a silane coupling agent, or the like can be used in combination.
【0150】<そのほかの画像記録層への添加成分> ・親水性ゾル状粒子 本発明の平版印刷版用原版の画像記録層は、前記光熱変
換剤系、疎水性化前駆体、親水性向上と皮膜性向上用の
水酸基を有する有機高分子化合物の他に、親水性のゾル
状粒子をさらに含有してもよい。<Other components to be added to the image recording layer>-Hydrophilic sol particles The image recording layer of the lithographic printing plate precursor according to the invention is composed of the photothermal conversion agent system, the hydrophobizing precursor, the hydrophilicity improving agent, and the like. In addition to the organic polymer compound having a hydroxyl group for improving film properties, hydrophilic sol-like particles may be further contained.
【0151】親水性ゾル状粒子としては、特に限定され
ないが、好ましくはシリカゾル、アルミナゾル、アルミ
ナ・シリカ複合ゾル、酸化チタン、酸化マグネシウム、
炭酸マグネシウム、アルギン酸カルシウムであり、これ
らは光熱変換性ではなくても親水性を助長したり、ゾル
ゲル膜の強化などに用いることができる。より好ましく
は、シリカゾル、アルミナゾル、アルミナ・シリカ複合
ゾル又はこれらの混合物である。The hydrophilic sol particles are not particularly limited, but are preferably silica sol, alumina sol, alumina / silica composite sol, titanium oxide, magnesium oxide,
Magnesium carbonate and calcium alginate, which are not light-to-heat conversion, can promote hydrophilicity and can be used for strengthening sol-gel films. More preferably, it is a silica sol, an alumina sol, an alumina / silica composite sol, or a mixture thereof.
【0152】シリカゾルは、表面に多くの水酸基を持
ち、内部はシロキサン結合(−Si−O−Si)を構成
している。粒子径1〜100nmのシリカ超微粒子が、
水もしくは、極性溶媒中に分散したであり、コロイダル
シリカとも称されているものである。具体的には、加賀
美敏郎、林瑛監修「高純度シリカの応用技術」第3巻、
(株)シーエムシー(1991年)に記載されている。The silica sol has many hydroxyl groups on the surface, and the inside of the silica sol forms a siloxane bond (—Si—O—Si). Ultrafine silica particles having a particle diameter of 1 to 100 nm,
It is dispersed in water or a polar solvent, and is also called colloidal silica. Specifically, Toshiro Kaga and Ei Hayashi supervised “Applied Technology of High Purity Silica” Volume 3,
Co., Ltd. (1991).
【0153】又アルミナゾルは、5〜200nmのコロ
イドの大きさをもつアルミナ水和物(ベーマイト系)
で、水中の陰イオン(例えば、フッ素イオン、塩素イオ
ン等のハロゲン原子イオン、酢酸イオン等のカルボン酸
アニオン等)を安定剤として分散されたものである。The alumina sol is an alumina hydrate (boehmite) having a colloidal size of 5 to 200 nm.
And an anion (for example, a halogen ion such as a fluorine ion or a chloride ion, or a carboxylate anion such as an acetate ion) in water is dispersed as a stabilizer.
【0154】上記親水性ゾル状粒子は、平均粒径が10
〜50nmのものが好ましいが、より好ましい平均粒径
は10〜40nmのものである。これら親水性ゾル状粒
子は、いずれも、市販品として容易に入手できる。The hydrophilic sol particles have an average particle diameter of 10
The average particle size is preferably from 10 to 40 nm, more preferably from 10 to 40 nm. All of these hydrophilic sol-like particles can be easily obtained as commercial products.
【0155】本発明で用いる、親水性ゾル状粒子(これ
らを総括して、単にシリカ粒子ということもある)の各
々の粒径が、前記範囲内において、画像記録層の膜強度
が充分に保持され、レーザー光等により露光して製版
し、印刷版として印刷すると、非画像部への印刷インク
の付着汚れを生じない極めて親水性に優れたものになる
という効果を発現する。また、親水性ゾル状粒子を画像
記録層に添加する場合、その添加量は、画像記録層の固
定物成分の5〜80重量%であり、好ましくは20〜6
0重量%である。When the particle diameter of the hydrophilic sol particles (collectively referred to simply as silica particles) used in the present invention is within the above range, the film strength of the image recording layer is sufficiently maintained. When a plate is made by exposing to light with a laser beam or the like and printed as a printing plate, an effect of extremely excellent hydrophilicity that does not cause adhesion of printing ink to a non-image portion is exhibited. When the hydrophilic sol particles are added to the image recording layer, the amount of the hydrophilic sol particles is 5 to 80% by weight, preferably 20 to 6% by weight of the fixed component of the image recording layer.
0% by weight.
【0156】・界面活性剤 本発明の平版印刷版用原板の画像形成層中には、印刷条
件に対する安定性を拡げるため、特開昭62−2517
40号公報や特開平3−208514号公報に記載され
ているような非イオン界面活性剤、特開昭59−121
044号公報、特開平4−13149号公報に記載され
ているような両性界面活性剤を添加することができる。
非イオン界面活性剤の具体例としては、ソルビタントリ
ステアレート、ソルビタンモノパルミテート、ソルビタ
ントリオレート、ステアリン酸モノグリセリド、ポリオ
キシエチレンノニルフェニルエーテル等が挙げられる。
両性界面活性剤の具体例としては、アルキルジ(アミノ
エチル)グリシン、アルキルポリアミノエチルグリシン
塩酸塩、2−アルキル−N−カルボキシエチル−N−ヒ
ドロキシエチルイミダゾリニウムベタインやN−テトラ
デシル−N,N−ベタイン型(例えば、商品名アモーゲ
ンK、第一工業(株)製)等が挙げられる。上記非イオ
ン界面活性剤及び両性界面活性剤の画像形成層全固形物
中に占める割合は、0.05〜15重量%が好ましく、
より好ましくは0.1〜5重量%である。Surfactant In the image forming layer of the lithographic printing plate precursor according to the invention, JP-A-62-2517 is used in order to enhance stability under printing conditions.
Non-ionic surfactants described in JP-A-59-121 and JP-A-3-208514.
Further, an amphoteric surfactant as described in JP-A-0444 and JP-A-4-13149 can be added.
Specific examples of the nonionic surfactant include sorbitan tristearate, sorbitan monopalmitate, sorbitan triolate, stearic acid monoglyceride, polyoxyethylene nonyl phenyl ether, and the like.
Specific examples of the amphoteric surfactant include alkyldi (aminoethyl) glycine, alkylpolyaminoethylglycine hydrochloride, 2-alkyl-N-carboxyethyl-N-hydroxyethylimidazolinium betaine and N-tetradecyl-N, N- Betaine type (for example, trade name Amogen K, manufactured by Daiichi Kogyo Co., Ltd.) and the like. The proportion of the nonionic surfactant and amphoteric surfactant in the total solids of the image forming layer is preferably 0.05 to 15% by weight,
More preferably, it is 0.1 to 5% by weight.
【0157】画像記録層には、場合によりさらに、上記
の界面活性剤の添加量の範囲内でフッ素系の界面活性剤
を用いることもできる。具体的にはパーフルオロアルキ
ル基を有する界面活性剤が好ましく、カルボン酸、スル
ホン酸、硫酸エステル及びリン酸エステルのいづれかを
有するアニオン型の界面活性剤、又は、脂肪族アミン、
第4級アンモニウム塩のようなカチオン型の界面活性
剤、又はベタイン型の両性界面活性剤、又は、ポリオキ
シ化合物の脂肪族エステル、ポリアルキレンオキシド縮
合型、ポリエチレンイミン縮合型のようなノニオン型界
面活性剤などが挙げられる。In the image recording layer, if necessary, a fluorine-based surfactant may be used within the range of the above-mentioned surfactant. Specifically, a surfactant having a perfluoroalkyl group is preferable, and a carboxylic acid, a sulfonic acid, an anionic surfactant having any of a sulfate ester and a phosphate ester, or an aliphatic amine,
Cationic surfactants such as quaternary ammonium salts, or betaine-type amphoteric surfactants, or nonionic surfactants such as aliphatic esters of polyoxy compounds, polyalkylene oxide condensate, and polyethyleneimine condensate Agents and the like.
【0158】・溶剤 画像記録層用の塗布液は、水溶媒で、更には塗液調整時
の沈殿抑制による均一液化のために水溶性溶媒を併用す
る。水溶性溶媒としては、アルコール類(メタノール、
エタノール、プロピルアルコール、エチレングリコー
ル、ジエチレングリコール、プロピレングリコール、ジ
プロピレングリコール、エチレングリコールモノメチル
エーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、
エチレングリコールモノエチルエーテル等)、エーテル
類(テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチル
エーテル、プロピレングリコールジメチルエーテル、テ
トラヒドロピラン等)、ケトン類(アセトン、メチルエ
チルケトン、アセチルアセトン等)、エステル類(酢酸
メチル、エチレングリコールモノメチルモノアセテート
等)、アミド類(ホルムアミド、N−メチルホルムアミ
ド、ピロリドン、N−メチルピロリドン等)等が挙げら
れ、1種あるいは2種以上を併用してもよい。これらの
溶媒は単独あるいは混合して使用される。塗布液を調製
する場合、溶媒中の上記画像形成層構成成分(添加剤を
含む全固形分)の濃度は、好ましくは1〜50重量%で
ある。Solvent The coating solution for the image recording layer is a water solvent, and a water-soluble solvent is used in combination for the purpose of uniform liquefaction by suppressing precipitation during preparation of the coating solution. As the water-soluble solvent, alcohols (methanol,
Ethanol, propyl alcohol, ethylene glycol, diethylene glycol, propylene glycol, dipropylene glycol, ethylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monomethyl ether,
Ethylene glycol monoethyl ether, etc.), ethers (tetrahydrofuran, ethylene glycol dimethyl ether, propylene glycol dimethyl ether, tetrahydropyran, etc.), ketones (acetone, methyl ethyl ketone, acetylacetone, etc.), esters (methyl acetate, ethylene glycol monomethyl monoacetate, etc.) And amides (formamide, N-methylformamide, pyrrolidone, N-methylpyrrolidone, etc.) and the like, and one type or two or more types may be used in combination. These solvents are used alone or as a mixture. When preparing a coating solution, the concentration of the above-mentioned components of the image forming layer (total solid content including additives) in the solvent is preferably 1 to 50% by weight.
【0159】〔塗布〕上記した各構成成分から選択され
た成分を混合し、調整された塗布液を、支持体上に、従
来公知の塗布方法のいずれかを用いて、塗布・乾燥し、
成膜する。塗布する方法としては、公知の種々の方法を
用いることができるが、例えば、バーコーター塗布、回
転塗布、スプレー塗布、カーテン塗布、ディップ塗布、
エアーナイフ塗布、ブレード塗布、ロール塗布等を挙げ
ることができる。本発明の平版印刷版用原板の画像形成
層中には、塗布性を良化するための界面活性剤、例えば
特開昭62−170950号公報に記載されているよう
なフッ素系界面活性剤を添加することができる。好まし
い添加量は、画像形成層全固形物分に対し、0.01〜
1重量%であり、更に好ましくは0.05〜0.5重量
%である。[Coating] The components selected from the above-mentioned components are mixed, and the prepared coating solution is coated and dried on the support by any of the conventionally known coating methods.
Form a film. As a method of applying, various known methods can be used. For example, bar coater coating, spin coating, spray coating, curtain coating, dip coating,
Examples include air knife application, blade application, roll application, and the like. In the image forming layer of the lithographic printing plate precursor according to the invention, a surfactant for improving coating properties, for example, a fluorine-based surfactant described in JP-A-62-170950 is used. Can be added. The preferred addition amount is 0.01 to 0.01% based on the total solid content of the image forming layer.
1% by weight, and more preferably 0.05 to 0.5% by weight.
【0160】塗布、乾燥後に得られる画像形成層塗布量
(固形分)は、用途によって異なるが、一般的な平版印
刷版用原板についていえば、0.5〜5.0g/m2が
好ましく、0.5〜2.0g/m2がより好ましい。The coating amount (solid content) of the image forming layer obtained after coating and drying varies depending on the application, but is generally 0.5 to 5.0 g / m 2 for a general lithographic printing plate precursor. 0.5-2.0 g / m < 2 > is more preferable.
【0161】本発明の平版印刷用原板の表面は、親水性
であるので、使用前の取り扱い中に環境の雰囲気の影響
によって疎水性化したり、温湿度の影響を受けたり、あ
るいは機械的な傷など又は汚れなどの影響を受けやす
い。通常、製版工程で版面に整面液(ガム液ともいう)
を塗布して保護作用を行うが、原板製作の際に、保護液
を塗布しておくと製造直後からこのような保護作用が得
られること、及び製版工程においてあらたに整面液を塗
布する手間が省けて作業性が向上することなどの利点が
あり、とくに親水性表面を有する本発明においては、こ
の効果が大きい。したがって、本発明の好ましい態様と
して、前記したように、画像記録層の上に、水溶性保護
層を設ける。表面保護層の内容は、整面液(ガム液)と
同じで、その詳細は、後に塗布の項に「整面液」として
説明する。Since the surface of the lithographic printing plate precursor of the present invention is hydrophilic, it becomes hydrophobic under the influence of the environment atmosphere during handling before use, is affected by temperature and humidity, or has mechanical scratches. Susceptible to contamination or dirt. Normally, surface smoothing solution (also called gum solution) is applied to the plate surface during the plate making process
Protective effect is obtained by applying a protective liquid during the production of an original plate, and this protective effect can be obtained immediately after the production, and the time required to apply a new surface conditioning liquid in the plate making process. However, there is an advantage that workability is improved by omitting the above, and this effect is particularly large in the present invention having a hydrophilic surface. Therefore, as a preferred embodiment of the present invention, as described above, a water-soluble protective layer is provided on the image recording layer. The content of the surface protective layer is the same as that of the surface-conditioning solution (gum solution), and the details will be described later in the application section as “surface-conditioning solution”.
【0162】〔支持体〕つぎに画像記録層を塗設する基
板について述べる。基板には、寸度的に安定な板状物が
用いられる。本発明に用いることができる基板として
は、紙、プラスチック(例えば、ポリエチレン、ポリプ
ロピレン、ポリスチレン等)がラミネートされた紙、金
属板(例えば、アルミニウム、亜鉛、銅、ニッケル、ス
テンレス鋼等)、プラスチックフィルム(例えば、二酢
酸セルロース、三酢酸セルロース、プロピオン酸セルロ
ース、酪酸セルロース、酢酸酪酸セルロース、硝酸セル
ロース、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン、
ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポ
リビニルアセタール等)、上記の金属がラミネート又は
蒸着された紙もしくはプラスチックフィルム等が含まれ
る。[Support] Next, the substrate on which the image recording layer is coated will be described. A dimensionally stable plate is used for the substrate. Examples of the substrate that can be used in the present invention include paper, paper laminated with plastic (eg, polyethylene, polypropylene, polystyrene, etc.), metal plate (eg, aluminum, zinc, copper, nickel, stainless steel, etc.), plastic film (For example, cellulose diacetate, cellulose triacetate, cellulose propionate, cellulose butyrate, cellulose acetate butyrate, cellulose nitrate, polyethylene terephthalate, polyethylene,
Polystyrene, polypropylene, polycarbonate, polyvinyl acetal, etc.), and paper or plastic film on which the above-mentioned metal is laminated or vapor-deposited.
【0163】好ましい基板は、ポリエステルフィルム、
アルミニウム、又は印刷版上で腐食しにくいSUS鋼板
であり、その中でも寸法安定性がよく、比較的安価であ
るアルミニウム板が好ましい。好適なアルミニウム板
は、純アルミニウム板およびアルミニウムを主成分と
し、微量の異元素を含む合金板であり、更にアルミニウ
ムがラミネートもしくは蒸着されたプラスチックフィル
ムでもよい。アルミニウム合金に含まれる異元素には、
ケイ素、鉄、マンガン、銅、マグネシウム、クロム、亜
鉛、ビスマス、ニッケル、チタンなどがある。合金中の
異元素の含有量は高々10重量%以下である。本発明に
おいて特に好適なアルミニウムは、純アルミニウムであ
るが、完全に純粋なアルミニウムは精錬技術上製造が困
難であるので、僅かに異元素を含有するものでもよい。
このように本発明に適用されるアルミニウム板は、その
組成が特定されるものではなく、従来より公知公用の素
材のアルミニウム板を適宜に利用することができる。本
発明で用いられる基板の厚みはおよそ0.05mm〜0.
6mm程度、好ましくは0.1mm〜0.4mm、特に好まし
くは0.15mm〜0.3mmである。Preferred substrates are polyester films,
Aluminum or a SUS steel plate that is hardly corroded on a printing plate, and among them, an aluminum plate that has good dimensional stability and is relatively inexpensive is preferable. Suitable aluminum plates are a pure aluminum plate and an alloy plate containing aluminum as a main component and containing a trace amount of a different element, and may be a plastic film on which aluminum is laminated or vapor-deposited. The foreign elements contained in the aluminum alloy include:
Silicon, iron, manganese, copper, magnesium, chromium, zinc, bismuth, nickel, titanium and the like. The content of the foreign element in the alloy is at most 10% by weight or less. Particularly preferred aluminum in the present invention is pure aluminum. However, completely pure aluminum is difficult to produce due to refining technology, and therefore may contain a slightly different element.
As described above, the composition of the aluminum plate applied to the present invention is not specified, and an aluminum plate of a conventionally known and used material can be appropriately used. The thickness of the substrate used in the present invention is approximately 0.05 mm to 0.1 mm.
It is about 6 mm, preferably 0.1 mm to 0.4 mm, particularly preferably 0.15 mm to 0.3 mm.
【0164】アルミニウム板を粗面化するに先立ち、所
望により、表面の圧延油を除去するための例えば界面活
性剤、有機溶剤またはアルカリ性水溶液などによる脱脂
処理が行われる。アルミニウム板の表面の粗面化処理
は、行っても行わなくてもよい。行う場合、種々の方法
があるが、例えば、機械的に粗面化する方法、電気化学
的に表面を溶解粗面化する方法および化学的に表面を選
択溶解させる方法により行われる。機械的方法として
は、ボール研磨法、ブラシ研磨法、ブラスト研磨法、バ
フ研磨法などの公知の方法を用いることができる。化学
的方法としては、特開昭54−31187号公報に記載
されているような鉱酸のアルミニウム塩の飽和水溶液に
浸漬する方法が適している。また、電気化学的な粗面化
法としては塩酸または硝酸などの酸を含む電解液中で交
流または直流により行う方法がある。また、特開昭54
−63902号に開示されているように混合酸を用いた
電解粗面化方法も利用することができる。このような粗
面化方法のうち、特に特開昭55−137993号公報
に記載されているような機械的粗面化と電気化学的粗面
化を組合せた粗面化方法が、感脂性画像の支持体への接
着力が強いので好ましい。Prior to roughening the aluminum plate, if necessary, a degreasing treatment with a surfactant, an organic solvent, an alkaline aqueous solution or the like is performed to remove rolling oil on the surface. The surface roughening treatment of the aluminum plate may or may not be performed. There are various methods for performing the method. For example, the method is performed by a method of mechanically roughening the surface, a method of electrochemically dissolving and roughening the surface, and a method of chemically selectively dissolving the surface. Known mechanical methods such as a ball polishing method, a brush polishing method, a blast polishing method, and a buff polishing method can be used as the mechanical method. As a chemical method, a method of immersing in a saturated aqueous solution of an aluminum salt of a mineral acid as described in JP-A-54-31187 is suitable. As an electrochemical surface roughening method, there is a method in which an alternating current or a direct current is used in an electrolytic solution containing an acid such as hydrochloric acid or nitric acid. Also, Japanese Patent Application Laid-Open
An electrolytic surface roughening method using a mixed acid as disclosed in US Pat. Among such surface-roughening methods, a surface-roughening method combining mechanical surface-roughening and electrochemical surface-roughening as described in JP-A-55-137993 is particularly preferred. Is preferred because of its strong adhesion to the support.
【0165】上記の如き方法による粗面化は、アルミニ
ウム板の表面の中心線表面粗さ(Ha)が0.3〜1.
0μmとなるような範囲で施されることが好ましい。粗
面化されたアルミニウム板は必要に応じて水酸化カリウ
ムや水酸化ナトリウムなどの水溶液を用いてアルカリエ
ッチング処理がされ、さらに中和処理された後、所望に
より表面の保水性や耐摩耗性を高めるために陽極酸化処
理が施される。The surface roughening by the above-mentioned method is performed when the center line surface roughness (Ha) of the surface of the aluminum plate is 0.3-1.
It is preferable that the coating be performed within a range of 0 μm. The roughened aluminum plate is subjected to an alkali etching treatment using an aqueous solution of potassium hydroxide or sodium hydroxide as necessary, and further subjected to a neutralization treatment. Anodizing is applied to increase the height.
【0166】アルミニウム板の陽極酸化処理に用いられ
る電解質としては、多孔質酸化皮膜を形成する種々の電
解質の使用が可能で、一般的には硫酸、塩酸、蓚酸、ク
ロム酸あるいはそれらの混酸が用いられる。それらの電
解質の濃度は電解質の種類によって適宜決められる。陽
極酸化の処理条件は、用いる電解質により種々変わるの
で一概に特定し得ないが、一般的には電解質の濃度が1
〜80重量%溶液、液温は5〜70℃、電流密度5〜6
0A/dm2、電圧1〜100V、電解時間10秒〜5分の
範囲であれば適当である。形成される酸化皮膜量は、
1.0〜5.0g/m2 、特に1.5〜4.0g/m2
であることが好ましい。陽極酸化皮膜の量は1.0g/m2
より少ないと耐刷性が不十分となる。As the electrolyte used for the anodic oxidation treatment of the aluminum plate, various electrolytes for forming a porous oxide film can be used. Generally, sulfuric acid, hydrochloric acid, oxalic acid, chromic acid or a mixed acid thereof is used. Can be The concentration of these electrolytes is appropriately determined depending on the type of the electrolyte. Anodizing treatment conditions vary depending on the electrolyte to be used, and thus cannot be specified unconditionally.
~ 80 wt% solution, liquid temperature 5 ~ 70 ° C, current density 5 ~ 6
0 A / dm 2 , a voltage of 1 to 100 V, and an electrolysis time of 10 seconds to 5 minutes are appropriate. The amount of oxide film formed is
1.0 to 5.0 g / m 2 , particularly 1.5 to 4.0 g / m 2
It is preferable that The amount of anodized film is 1.0 g / m 2
If the amount is smaller, the printing durability becomes insufficient.
【0167】これらの陽極酸化処理の内でも、とくに英
国特許第1,412,768号公報に記載されている硫
酸中で高電流密度で陽極酸化する方法及び米国特許第
3,511,661号公報に記載されている燐酸を電解
浴として陽極酸化する方法が好ましい。Among these anodic oxidation treatments, in particular, a method of anodizing at a high current density in sulfuric acid described in British Patent No. 1,412,768 and US Pat. No. 3,511,661. The method of anodizing using phosphoric acid as an electrolytic bath described in above is preferable.
【0168】上記の好ましくは粗面化され、更に陽極酸
化されたアルミニウム板は、必要に応じて親水化処理し
ても良く、その好ましい例としては米国特許第2,71
4,066号及び同第3,181,461号公報に開示
されているようなアルカリ金属シリケート、例えば珪酸
ナトリウム水溶液又は特公昭36−22063号公報に
開示されている弗化ジルコニウム酸カリウム及び米国特
許第4,153,461号公報に開示されているような
ポリビニルホスホン酸で処理する方法がある。親水性化
処理によって地汚れを防止できることが多い。The above preferably roughened and further anodized aluminum plate may be subjected to a hydrophilizing treatment, if necessary. A preferred example is US Pat.
Alkali metal silicates such as those disclosed in U.S. Pat. Nos. 4,066 and 3,181,461, such as aqueous sodium silicate or potassium fluorzirconate disclosed in JP-B-36-22063 and U.S. Pat. There is a method of treating with polyvinyl phosphonic acid as disclosed in Japanese Patent No. 4,153,461. Background dirt can often be prevented by the hydrophilic treatment.
【0169】アルミニウム板やSUS板は、感光層を塗
設する前に必要に応じて有機下塗層が設けられる。この
有機下塗層に用いられる有機化合物としては例えば、カ
ルボキシメチルセルロース、デキストリン、アラビアガ
ム、2−アミノエチルホスホン酸などのアミノ基を有す
るホスホン酸類、置換基を有してもよいフェニルホスホ
ン酸、ナフチルホスホン酸、アルキルホスホン酸、グリ
セロホスホン酸、メチレンジホスホン酸およびエチレン
ジホスホン酸などの有機ホスホン酸、置換基を有しても
よいフェニルリン酸、ナフチルリン酸、アルキルリン酸
およびグリセロリン酸などの有機リン酸エステル、置換
基を有してもよいフェニルホスフィン酸、ナフチルホス
フィン酸、アルキルホスフィン酸およびグリセロホスフ
ィン酸などの有機ホスフィン酸、グリシンやβ−アラニ
ンなどのアミノ酸類、およびトリエタノールアミンの塩
酸塩などのヒドロキシル基を有するアミンの塩酸塩など
から選ばれるが、二種以上混合して用いてもよい。The aluminum plate and the SUS plate may be provided with an organic undercoat layer if necessary before coating the photosensitive layer. Examples of the organic compound used in the organic undercoat layer include carboxymethyl cellulose, dextrin, gum arabic, phosphonic acids having an amino group such as 2-aminoethylphosphonic acid, phenylphosphonic acid which may have a substituent, and naphthyl. Organic phosphonic acids such as phosphonic acid, alkylphosphonic acid, glycerophosphonic acid, methylenediphosphonic acid and ethylenediphosphonic acid, and organic acids such as phenylphosphoric acid, naphthylphosphoric acid, alkylphosphoric acid and glycerophosphoric acid which may have a substituent. Phosphoric acid esters, organic phosphinic acids such as phenylphosphinic acid, naphthylphosphinic acid, alkylphosphinic acid and glycerophosphinic acid which may have a substituent, amino acids such as glycine and β-alanine, and hydrochloride of triethanolamine Such as hi Although selected from such as hydrochloric acid salt of an amine having a Rokishiru group, it may be used as a mixture of two or more thereof.
【0170】この有機下塗層は次のような方法で設ける
ことが出来る。即ち、水またはメタノール、エタノー
ル、メチルエチルケトンなどの有機溶剤もしくはそれら
の混合溶剤に上記の有機化合物を溶解させた溶液をアル
ミニウム板上に塗布、乾燥して設ける方法と、水または
メタノール、エタノール、メチルエチルケトンなどの有
機溶剤もしくはそれらの混合溶剤に上記の有機化合物を
溶解させた溶液に、アルミニウム板を浸漬して上記有機
化合物を吸着させ、しかる後、水などによって洗浄、乾
燥して有機下塗層を設ける方法である。前者の方法で
は、上記の有機化合物の0.005〜10重量%の濃度
の溶液を種々の方法で塗布できる。例えば、バーコータ
ー塗布、回転塗布、スプレー塗布、カーテン塗布などい
ずれの方法を用いてもよい。また、後者の方法では、溶
液の濃度は0.01〜20重量%、好ましくは0.05
〜5重量%であり、浸漬温度は20〜90℃、好ましく
は25〜50℃であり、浸漬時間は0.1秒〜20分、
好ましくは2秒〜1分である。これに用いる溶液は、ア
ンモニア、トリエチルアミン、水酸化カリウムなどの塩
基性物質や、塩酸、リン酸などの酸性物質によりpHを
調節し、pH1〜12の範囲で使用することもできる。
また、感光性平版印刷版の調子再現性改良のために黄色
染料を添加することもできる。有機下塗層の乾燥後の被
覆量は、2〜200mg/m2 が適当であり、好ましく
は5〜100mg/m2 である。上記の被覆量が2mg
/m2 より少ないと十分な耐刷性能が得られない。ま
た、200mg/m2 より大きくても同様である。The organic undercoat layer can be provided by the following method. That is, a method in which a solution obtained by dissolving the above organic compound in water or an organic solvent such as methanol, ethanol, or methyl ethyl ketone or a mixed solvent thereof is coated on an aluminum plate and dried, and a method in which water or methanol, ethanol, methyl ethyl ketone, or the like is used. An aluminum plate is immersed in a solution in which the above organic compound is dissolved in an organic solvent or a mixed solvent thereof to adsorb the organic compound, and thereafter, washed with water or the like and dried to form an organic undercoat layer. Is the way. In the former method, a solution of the above organic compound having a concentration of 0.005 to 10% by weight can be applied by various methods. For example, any method such as bar coater coating, spin coating, spray coating, and curtain coating may be used. In the latter method, the concentration of the solution is 0.01 to 20% by weight, preferably 0.05 to 20% by weight.
-5% by weight, the immersion temperature is 20-90 ° C., preferably 25-50 ° C., and the immersion time is 0.1 second-20 minutes,
Preferably it is 2 seconds to 1 minute. The pH of the solution used for this can be adjusted with a basic substance such as ammonia, triethylamine, potassium hydroxide or the like, or an acidic substance such as hydrochloric acid or phosphoric acid.
Further, a yellow dye can be added for improving the tone reproducibility of the photosensitive lithographic printing plate. The coating amount of the organic undercoat layer after drying is suitably from 2 to 200 mg / m 2 , and preferably from 5 to 100 mg / m 2 . The above coating amount is 2mg
/ M 2 , sufficient printing durability cannot be obtained. The same is true even if it is larger than 200 mg / m 2 .
【0171】[その他の層]支持体の裏面には、必要に
応じてバックコートが設けられる。かかるバックコート
としては特開平5−45885号公報に記載の有機高分
子化合物及び特開平6−35174号公報に記載の有機
又は無機金属化合物を加水分解及び重縮合させて得られ
る金属酸化物からなる被覆層が好ましく用いられる。こ
れらの被覆層のうち、Si(OCH3)4、Si(OC2H5)
4、Si(OC3H7)4、Si(OC4H9)4等のケイ素のア
ルコキシ化合物が安価で入手し易く、それから得られる
金属酸化物の被覆層が親水性に優れており特に好まし
い。[Other Layers] A back coat is provided on the back surface of the support, if necessary. Such a back coat comprises an organic polymer compound described in JP-A-5-45885 and a metal oxide obtained by hydrolyzing and polycondensing an organic or inorganic metal compound described in JP-A-6-35174. A coating layer is preferably used. Among these coating layers, Si (OCH 3 ) 4 and Si (OC 2 H 5 )
4 , Si (OC 3 H 7 ) 4 , silicon alkoxy compounds such as Si (OC 4 H 9 ) 4 are easily available at a low cost, and the metal oxide coating layer obtained therefrom is particularly preferable because of its excellent hydrophilicity. .
【0172】[製版方法]次に、この平版印刷版用原板
の製版方法について説明する。この平版印刷版用原板
は、例えば、熱記録ヘッド等により直接画像様に感熱記
録を施したり、波長760〜1200nmの赤外線を放
射する固体レーザー又は半導体レーザー、キセノン放電
灯などの高照度フラッシュ光や赤外線ランプ露光などの
光熱変換型の露光も用いることができる。[Plate making method] Next, a plate making method of the lithographic printing plate precursor will be described. The lithographic printing plate precursor is, for example, subjected to direct thermal image recording by a thermal recording head or the like, or a solid laser or semiconductor laser that emits infrared light having a wavelength of 760 to 1200 nm, a high-intensity flash light such as a xenon discharge lamp, or the like. Light-to-heat conversion type exposure such as infrared lamp exposure can also be used.
【0173】画像の書き込みは、面露光方式、走査方式
のいずれでもよい。前者の場合は、赤外線照射方式や、
キセノン放電灯の高照度の短時間光を原板上に照射して
光・熱変換によって熱を発生させる方式である。赤外線
灯などの面露光光源を使用する場合には、その照度によ
っても好ましい露光量は変化するが、通常は、印刷用画
像で変調する前の面露光強度が0.1〜10J/cm2 の範
囲であることが好ましく、0.1〜1J/cm2 の範囲であ
ることがより好ましい。支持体が透明である場合は、支
持体の裏側から支持体を通して露光することもできる。
その露光時間は、0.01〜1msec、好ましくは
0.01〜0.1msecの照射で上記の露光強度が得
られるように露光照度を選択するのが好ましい。照射時
間が長い場合には、熱エネルギーの生成速度と生成した
熱エネルギーの拡散速度の競争関係から露光強度を増加
させる必要が生じる。The writing of the image may be performed by either a surface exposure method or a scanning method. In the former case, an infrared irradiation method,
This is a method of irradiating a short time light of high illuminance of a xenon discharge lamp onto an original plate to generate heat by light-heat conversion. When a surface exposure light source such as an infrared lamp is used, the preferable exposure amount varies depending on the illuminance, but usually, the surface exposure intensity before being modulated with a print image is 0.1 to 10 J / cm 2 . It is preferably in the range, more preferably in the range of 0.1 to 1 J / cm 2 . When the support is transparent, exposure can be performed through the support from the back side of the support.
The exposure time is preferably selected such that the above-mentioned exposure intensity is obtained by irradiation of 0.01 to 1 msec, preferably 0.01 to 0.1 msec. When the irradiation time is long, it is necessary to increase the exposure intensity due to the competition between the heat energy generation rate and the generated heat energy diffusion rate.
【0174】後者の場合には、赤外線成分を多く含むレ
ーザー光源を使用して、レーザービームを画像で変調し
て原板上を走査する方式が行われる。レーザー光源の例
として、半導体レーザー、ヘリウムネオンレーザー、ヘ
リウムカドミウムレーザー、YAGレーザーを挙げるこ
とができる。レーザー出力が0.1〜300Wのレーザ
ーで照射をすることができる。また、パルスレーザーを
用いる場合には、ピーク出力が1000W、好ましくは
2000Wのレーザーを照射するのが好ましい。この場
合の露光量は、印刷用画像で変調する前の面露光強度が
0.1〜10J/cm2 の範囲であることが好ましく、0.
3〜1J/cm2 の範囲であることがより好ましい。支持体
が透明である場合は、支持体の裏側から支持体を通して
露光することもできる。In the latter case, a method is used in which a laser light source containing a large amount of infrared components is used to modulate a laser beam with an image and scan the original plate. Examples of the laser light source include a semiconductor laser, a helium neon laser, a helium cadmium laser, and a YAG laser. Irradiation can be performed with a laser having a laser output of 0.1 to 300 W. When a pulse laser is used, it is preferable to irradiate a laser having a peak output of 1000 W, preferably 2000 W. In this case, the exposure amount is preferably such that the surface exposure intensity before modulation with the printing image is in the range of 0.1 to 10 J / cm 2 .
More preferably, it is in the range of 3 to 1 J / cm 2 . When the support is transparent, exposure can be performed through the support from the back side of the support.
【0175】平版印刷版を製版する際、画像露光したの
ち、更に必要であれば非画像部を保護するために版面保
護剤(いわゆる、ガム液)を含んだ整面液を塗布する
「ガム引き」といわれる工程が行なわれる。ガム引き
は、平版印刷版の親水性表面が空気中の微量混入成分の
影響を受けて親水性が低下するのを防ぐため、非画像部
の親水性を高めるため、製版後印刷するまでの期間又は
印刷を中断してから再び開始するまでの間に平版印刷版
が劣化するのを防止するため、印刷機に取りつける場合
などのように平版印刷版を取り扱う時に指の油、インキ
などが付着して非画像がインキ受容性となって、汚れる
のを防止するため、更に、平版印刷版を取り扱う時に非
画像部及び画像部に傷が発生することを防止するため、
などの種々の目的をもって行われる。When making a lithographic printing plate, after image exposure, if necessary, a surface conditioning agent containing a plate surface protective agent (so-called gum solution) is applied to protect the non-image area. Is performed. Gum-pulling is a period of time before printing after plate making to prevent the hydrophilic surface of the lithographic printing plate from being reduced in hydrophilicity by the influence of trace components in the air and to increase the hydrophilicity of non-image areas. In order to prevent the lithographic printing plate from deteriorating between the time when printing is interrupted and the time when printing is restarted, oil or ink on the finger may adhere when handling the lithographic printing plate, such as when attaching it to a printing press. In order to prevent the non-image from becoming ink-receptive and to be stained, and to prevent the non-image portion and the image portion from being damaged when handling the lithographic printing plate,
It is performed for various purposes such as.
【0176】本発明に使用される皮膜形成性を有する水
溶性樹脂の好ましい具体例としては、例えばアラビアガ
ム、繊維素誘導体(例えば、カルボキシメチルセルロー
ズ、カルボキシエチルセルローズ、メチルセルローズ
等)及びその変性体、ポリビニルアルコール及びその誘
導体、ポリビニルピロリドン、ポリアクリルアミド及び
その共重合体、アクリル酸共重合体、ビニルメチルエー
テル/無水マレイン酸共重合体、酢酸ビニル/無水マレ
イン酸共重合体、スチレン/無水マレイン酸共重合体、
焙焼デキストリン、酸素分解デキストリン、酵素分解エ
ーテル化デキストリン等が挙げられる。Preferred examples of the water-soluble resin having a film-forming property used in the present invention include, for example, gum arabic, cellulose derivatives (eg, carboxymethylcellulose, carboxyethylcellulose, methylcellulose, etc.) and modified products thereof. , Polyvinyl alcohol and its derivatives, polyvinylpyrrolidone, polyacrylamide and its copolymer, acrylic acid copolymer, vinyl methyl ether / maleic anhydride copolymer, vinyl acetate / maleic anhydride copolymer, styrene / maleic anhydride Copolymer,
Roasted dextrin, oxygen-decomposed dextrin, enzymatically decomposed etherified dextrin and the like can be mentioned.
【0177】整面液中の保護剤中の上記水溶性樹脂の含
有量は、3〜25重量%が適当であり、好ましい範囲は
10〜25重量%である。なお、本発明においては上記
水溶性樹脂を2種以上混合使用しても良い。The content of the water-soluble resin in the protective agent in the surface conditioning liquid is suitably from 3 to 25% by weight, and a preferable range is from 10 to 25% by weight. In the present invention, two or more of the above water-soluble resins may be used in combination.
【0178】平版印刷版用版面保護剤には、そのほかに
種々の界面活性剤を添加してもよい。使用できる界面活
性剤としてはアニオン界面活性剤又はノニオン界面活性
剤が挙げられる。アニオン界面活性剤としては脂肪族ア
ルコール硫酸エステル塩類、脂酒石酸、リンゴ酸、乳
酸、レプリン酸、有機スルホン酸などがあり、鉱酸とし
ては硝酸、硫酸、燐酸等が有用である。鉱酸、有機酸又
は無機塩等の少なくとも1種もしくは2種以上併用して
もよい。Various surface active agents may be added to the surface protective agent for lithographic printing plates. Surfactants that can be used include anionic or nonionic surfactants. Examples of the anionic surfactant include aliphatic alcohol sulfates, tartaric acid, malic acid, lactic acid, repric acid, and organic sulfonic acid, and nitric acid, sulfuric acid, and phosphoric acid are useful as mineral acids. At least one kind of a mineral acid, an organic acid or an inorganic salt may be used in combination.
【0179】上記成分の他必要により湿潤剤としてグリ
セリン、エチレングリコール、トリエチレングリコール
等の低級多価アルコールも使用することができる。これ
ら湿潤剤の使用量は保護剤中に0.1〜5.0重量%が
適当であり、好ましい範囲は0.5〜3.0重量%であ
る。以上の他に本発明の平版印刷版用版面保護剤には、
防腐剤などを添加することができる。例えば安息香酸及
びその誘導体、フェノール、ホルマリン、デヒドロ酢酸
ナトリウム等を0.005〜2.0重量%の範囲で添加
できる。版面保護剤には消泡剤を添加することもでき
る。好ましい消泡剤には有機シリコーン化合物が含ま
れ、その添加量は0.0001〜0.1重量%の範囲が
好ましい。In addition to the above components, if necessary, lower polyhydric alcohols such as glycerin, ethylene glycol and triethylene glycol can be used as wetting agents. The use amount of these wetting agents is suitably 0.1 to 5.0% by weight in the protective agent, and the preferred range is 0.5 to 3.0% by weight. In addition to the above, the surface protective agent for a lithographic printing plate of the present invention includes:
Preservatives and the like can be added. For example, benzoic acid and its derivatives, phenol, formalin, sodium dehydroacetate and the like can be added in the range of 0.005 to 2.0% by weight. An antifoaming agent may be added to the plate surface protective agent. Preferred antifoaming agents include an organic silicone compound, and the amount added is preferably in the range of 0.0001 to 0.1% by weight.
【0180】版面保護剤には画像部の感脂性低下を防ぐ
ため有機溶剤を含有させることができる。好ましい有機
溶剤には水難溶性のものであり、沸点が約120℃〜約
250℃の石油留分、例えばジブチルフタレート、ジオ
クチルアジペートなどの凝固点が15℃以下で沸点が3
00℃以上の可塑剤が挙げられる。このような有機溶剤
は0.05〜5重量%の範囲で添加される。The plate surface protective agent may contain an organic solvent in order to prevent a decrease in the oil sensitivity of the image area. Preferred organic solvents are hardly water-soluble and have a boiling point of about 120 ° C. to about 250 ° C., such as dibutyl phthalate and dioctyl adipate.
A plasticizer at a temperature of 00 ° C. or higher is used. Such an organic solvent is added in the range of 0.05 to 5% by weight.
【0181】版面保護剤は均一溶液型、サスペンジョン
型、エマルジョン型のいずれの形態をもとることができ
るが、特に上記のような有機溶剤を含むエマルジョン型
において、すぐれた性能を発揮する。この場合、特開昭
55−105581号公報に記載されているように界面
活性剤を組合せて含有させることが好ましい。The plate surface protective agent can take any form of a uniform solution type, a suspension type, and an emulsion type. Particularly, the emulsion type containing an organic solvent as described above exhibits excellent performance. In this case, it is preferable to incorporate a surfactant in combination as described in JP-A-55-105581.
【0182】[0182]
【実施例】以下、実施例により、本発明を詳細に説明す
るが、本発明はこれらに限定されるものではない。The present invention will be described in detail with reference to the following examples, but the present invention is not limited to these examples.
【0183】(1)基板の作製 99.5重量%アルミニウムに、銅を0.01重量%、
チタンを0.03重量%、鉄を0.3重量%、ケイ素を
0.1重量%含有するJISA1050アルミニウム材
の厚み0.24mm圧延板を、400メッシュのパミスト
ン(共立窯業製)の20重量%水性懸濁液と、回転ナイ
ロンブラシ(6,10−ナイロン)とを用いてその表面
を砂目立てした後、よく水で洗浄した。これを15重量
%水酸化ナトリウム水溶液(アルミニウム4.5重量%
含有)に浸漬してアルミニウムの溶解量が5g/m2になる
ようにエッチングした後、流水で水洗した。更に、1重
量%硝酸で中和し、次に0.7重量%硝酸水溶液(アル
ミニウム0.5重量%含有)中で、陽極時電圧10.5
ボルト、陰極時電圧9.3ボルトの矩形波交番波形電圧
(電流比r=0.90、特公昭58−5796号公報実
施例に記載されている電流波形)を用いて160クロー
ン/dm2の陽極時電気量で電解粗面化処理を行った。水
洗後、35℃の10重量%水酸化ナトリウム水溶液中に
浸漬して、アルミニウム溶解量が1g/m2になるようにエ
ッチングした後、水洗した。次に、50℃、30重量%
の硫酸水溶液中に浸漬し、デスマットした後、水洗し
た。(1) Preparation of Substrate 0.01% by weight of copper to 99.5% by weight of aluminum
A 0.24 mm-thick rolled plate of JIS A1050 aluminum material containing 0.03% by weight of titanium, 0.3% by weight of iron, and 0.1% by weight of silicon was converted to 20% by weight of 400 mesh pumice stone (manufactured by Kyoritsu Ceramics). The surface was grained using an aqueous suspension and a rotating nylon brush (6,10-nylon), and then thoroughly washed with water. This was added to a 15% by weight aqueous sodium hydroxide solution (4.5% by weight of aluminum).
) And etched so that the amount of aluminum dissolved was 5 g / m 2 , followed by washing with running water. Further, the mixture was neutralized with 1% by weight of nitric acid, and then charged in an aqueous solution of 0.7% by weight of nitric acid (containing 0.5% by weight of aluminum) with an anode voltage of 10.5%.
Volts and a cathodic voltage of 9.3 volts, using a rectangular wave alternating waveform voltage (current ratio r = 0.90, current waveform described in Examples of Japanese Patent Publication No. 58-5796) of 160 clones / dm 2 . The electrolytic surface roughening treatment was performed with the quantity of electricity at the anode. After washing with water, it was immersed in a 10% by weight aqueous solution of sodium hydroxide at 35 ° C., etched so that the amount of aluminum dissolved was 1 g / m 2 , and then washed with water. Next, at 50 ° C., 30% by weight
Immersed in an aqueous sulfuric acid solution, desmutted, and washed with water.
【0184】さらに、35℃の硫酸20重量%水溶液
(アルミニウム0.8重量%含有)中で直流電流を用い
て、多孔性陽極酸化皮膜形成処理を行った。即ち電流密
度13A/dm2で電解を行い、電解時間の調節により陽極
酸化皮膜重量2.7g/m2とした。この支持体を水洗後、
70℃のケイ酸ナトリウムの3重量%水溶液に30秒間
浸漬処理し、水洗乾燥した。以上のようにして得られた
アルミニウム支持体は、マクベスRD920反射濃度計
で測定した反射濃度は0.30で、中心線平均粗さは
0.58μmであった。Further, a porous anodic oxide film forming treatment was carried out in a 20% by weight aqueous sulfuric acid solution (containing 0.8% by weight of aluminum) at 35 ° C. using a direct current. That is, electrolysis was performed at a current density of 13 A / dm 2 , and the anodic oxide film weight was adjusted to 2.7 g / m 2 by adjusting the electrolysis time. After washing this support with water,
It was immersed in a 3% by weight aqueous solution of sodium silicate at 70 ° C. for 30 seconds, washed with water and dried. The aluminum support obtained as described above had a reflection density measured by a Macbeth RD920 reflection densitometer of 0.30 and a center line average roughness of 0.58 μm.
【0185】(2)疎水性化前駆体の作製 下記7種の本発明例の疎水性化前駆体と3種の本発明以
外のの疎水性化前駆体を作製した。 <前駆体A:ヘテロ凝集表面層の複合粒子1>スチレン
70g、トリメトキシシリルプロピルメタクリレート3
0g、水200g、界面活性剤XL−102F(ライオ
ン(株)製)(4.7%水溶液)10gを三ッ口フラス
コに入れ、窒素を導入しながら、80℃に昇温した。そ
の後約30分攪拌後、K2 S2 O8 を1g添加し80℃
で6時間乳化重合を行い、粒径約0.1μmの樹脂粒子
を得た。さらに、この樹脂粒子分散液中にスノーテック
スC(日産化学(株)製)30g添加し、樹脂粒子表面
にシリカゾル微粒子をヘテロ凝集させた、コアが樹脂で
シェルがシリカ層の粒径0.15μmのヘテロ凝集親水
性表面層をもつ複合粒子1コアシェル粒子1を作成し
た。(2) Preparation of Hydrophobizing Precursor The following seven kinds of hydrophobizing precursors of the present invention and three kinds of non-present hydrophobizing precursors were prepared. <Precursor A: Composite particle 1 of hetero-aggregated surface layer> 70 g of styrene, trimethoxysilylpropyl methacrylate 3
0 g, 200 g of water, and 10 g of a surfactant XL-102F (manufactured by Lion Corporation) (4.7% aqueous solution) were placed in a three-necked flask, and heated to 80 ° C. while introducing nitrogen. Thereafter, after stirring for about 30 minutes, 1 g of K 2 S 2 O 8 was added, and 80 ° C.
For 6 hours to obtain resin particles having a particle size of about 0.1 μm. Further, 30 g of Snowtex C (manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.) was added to the resin particle dispersion to hetero-aggregate silica sol fine particles on the surface of the resin particles. The core was a resin, and the shell was 0.15 μm in diameter of a silica layer. A composite particle 1 having a hetero-aggregated hydrophilic surface layer was prepared.
【0186】<前駆体B:ヘテロ凝集表面層の複合粒子
2>スチレン60g、ジビニルベンゼン10g、トリメ
トキシシリルプロピルメタクリレート30g、水200
g、界面活性剤XL−102F(ライオン(株)製)
(4.7%水溶液)10gを三ッ口フラスコに入れ、窒
素を導入しながら、80℃に昇温する。その後約30分
攪拌後、K2 S2 O8 を1g添加し80℃で6時間乳化
重合をおこない、粒径約0.2μmの樹脂粒子を得た。
さらに、この樹脂粒子分散液中にスノーテックスC(日
産化学(株)製)30g添加し、樹脂粒子表面にシリカ
ゾル微粒子をヘテロ凝集させた、コアが樹脂でシェルが
シリカ層の粒径0.25μmのヘテロ凝集親水性表面層
の複合粒子2を作成した。<Precursor B: Composite particles 2 of hetero-aggregated surface layer> 60 g of styrene, 10 g of divinylbenzene, 30 g of trimethoxysilylpropyl methacrylate, 200 g of water
g, surfactant XL-102F (manufactured by Lion Corporation)
10 g of a (4.7% aqueous solution) is placed in a three-necked flask, and the temperature is raised to 80 ° C. while introducing nitrogen. Thereafter, after stirring for about 30 minutes, 1 g of K 2 S 2 O 8 was added, and emulsion polymerization was carried out at 80 ° C. for 6 hours to obtain resin particles having a particle size of about 0.2 μm.
Further, 30 g of Snowtex C (manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.) was added to the resin particle dispersion to hetero-aggregate silica sol fine particles on the surface of the resin particles. The core was a resin, and the shell was 0.25 μm in diameter of a silica layer. The composite particle 2 of the hetero-aggregated hydrophilic surface layer was prepared.
【0187】<前駆体C:ヘテロ凝集表面層の複合粒子
3>スチレン70g、トリメトキシシリルプロピルメタ
クリレート30g、水200g、界面活性剤XL−10
2F(ライオン(株)製)(4.7%水溶液)10gを
三ッ口フラスコに入れ、窒素を導入しながら、80℃に
昇温した。その後約30分攪拌後、K2 S2 O8 を1g
添加し80℃で6時間乳化重合をおこない、粒径約0.
1μmの樹脂粒子を得た。さらに、この樹脂粒子分散液
中にアルミナゾル(日産化学(株)製)30g添加し、
樹脂粒子表面にアルミナゾル微粒子をヘテロ凝集させ、
コアが樹脂でシェルがアルミナの粒径0.15μmのヘ
テロ凝集親水性表面層の複合粒子3を作成した。<Precursor C: Composite Particle 3 of Hetero-aggregated Surface Layer> 70 g of styrene, 30 g of trimethoxysilylpropyl methacrylate, 200 g of water, surfactant XL-10
10 g of 2F (manufactured by Lion Corporation) (4.7% aqueous solution) was placed in a three-necked flask, and heated to 80 ° C. while introducing nitrogen. After stirring for about 30 minutes, 1 g of K 2 S 2 O 8 was added.
Add emulsion polymerization at 80 ° C. for 6 hours.
1 μm resin particles were obtained. Further, 30 g of alumina sol (manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.) was added to the resin particle dispersion,
Hetero-aggregation of alumina sol fine particles on the resin particle surface,
A composite particle 3 having a hetero-aggregated hydrophilic surface layer having a core of resin and a shell of alumina having a particle size of 0.15 μm was prepared.
【0188】<前駆体D:表面ヘテロ相の複合粒子1>
スチレン70g、トリメトキシシリルプロピルメタクリ
レート30g、水200g、界面活性剤XL−102F
(ライオン(株)製)(4.7%水溶液)10gを三ッ
口フラスコに入れ、窒素を導入しながら、80℃に昇温
した。その後約30分攪拌後、K2 S2 O8 を1g添加
し80℃で6時間乳化重合を行い、粒径約0.1μmの
樹脂粒子を得た。さらに、この樹脂粒子分散液中にテト
ラエトキシシラン(信越化学(株)製)30g添加し、
室温でゾルゲル反応を行い樹脂粒子表面をシリカにより
コーティングした、コアが樹脂でシェルがシリカ層の粒
径0.15μmの親水性ゲル表面層の複合粒子1を作製
した。<Precursor D: Composite Particle 1 of Surface Heterophase>
70 g of styrene, 30 g of trimethoxysilylpropyl methacrylate, 200 g of water, surfactant XL-102F
10 g of a 4.7% aqueous solution (manufactured by Lion Corporation) was placed in a three-necked flask, and heated to 80 ° C. while introducing nitrogen. Thereafter, after stirring for about 30 minutes, 1 g of K 2 S 2 O 8 was added and emulsion polymerization was carried out at 80 ° C. for 6 hours to obtain resin particles having a particle size of about 0.1 μm. Further, 30 g of tetraethoxysilane (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) was added to the resin particle dispersion,
A sol-gel reaction was carried out at room temperature to prepare a composite particle 1 of a hydrophilic gel surface layer having a resin layer having a core and a silica layer having a particle diameter of 0.15 μm, wherein the resin particle surface was coated with silica.
【0189】<前駆体E:表面ヘテロ相の複合粒子2>
スチレン60g、ジビニルベンゼ10g、ヒドロキシエ
チルメタクリレート30g、水200g、界面活性剤X
L−102F(ライオン(株)製)(4.7%水溶液)
10gを三ッ口フラスコに入れ、窒素を導入しながら、
80℃に昇温した。その後約30分攪拌後、K2 S2 O
8 を1g添加し乳化重合をおこない、粒径約0.2μm
の樹脂粒子を得た。さらに、この樹脂粒子分散液中にテ
トラエトキシシラン(信越化学(株)製)30g添加
し、室温でゾルゲル反応を行い樹脂粒子表面をシリカに
よりコーティングした、コアが樹脂でシェルがシリカ層
の粒径0.25μmの親水性ゲル表面層の複合粒子2を
作製した。<Precursor E: Composite Particle 2 of Surface Heterophase>
60 g of styrene, 10 g of divinylbenze, 30 g of hydroxyethyl methacrylate, 200 g of water, surfactant X
L-102F (manufactured by Lion Corporation) (4.7% aqueous solution)
Put 10 g in a three-necked flask and introduce nitrogen,
The temperature was raised to 80 ° C. Then, after stirring for about 30 minutes, K 2 S 2 O
8 was subjected to the addition by emulsion polymerization 1g, particle size of about 0.2μm
Resin particles were obtained. Further, 30 g of tetraethoxysilane (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) was added to the resin particle dispersion, and a sol-gel reaction was carried out at room temperature to coat the resin particle surface with silica. Composite particles 2 having a hydrophilic gel surface layer of 0.25 μm were prepared.
【0190】<前駆体F:コアシェル粒子1>スチレン
80g、ジビニルベンゼン10g、マクロモノマーAA
−6(分散剤、東亞合成(株)製)10g、MEK40
0gを三ッ口フラスコに入れ、窒素を導入しながら、7
5℃に昇温した。その後約30分攪拌後、アゾイソブチ
ロニトリルを2g添加し6時間、75℃で分散重合を行
い粒径0.2μmの樹脂粒子を得た。さらに、この樹脂
粒子分散液を窒素を導入しながら、75℃に昇温し、約
30分攪拌後、アクリルアミド35g、メチレンビスア
クリルアミド4g、アゾイソブチロニトリル1gを10
0gのMEKに溶解し、約2時間かけて滴下し、その後
3時間シード分散重合することによって粒径0.3μm
のコアがスチレン架橋し、シェルがアクリルアミドのコ
アシェル粒子6を作成した。<Precursor F: core-shell particles 1> 80 g of styrene, 10 g of divinylbenzene, macromonomer AA
-6 (dispersing agent, manufactured by Toagosei Co., Ltd.) 10 g, MEK40
0 g is placed in a three-necked flask, and nitrogen is introduced.
The temperature was raised to 5 ° C. Thereafter, after stirring for about 30 minutes, 2 g of azoisobutyronitrile was added, and dispersion polymerization was performed at 75 ° C. for 6 hours to obtain resin particles having a particle size of 0.2 μm. Further, the resin particle dispersion was heated to 75 ° C. while introducing nitrogen, stirred for about 30 minutes, and then 35 g of acrylamide, 4 g of methylenebisacrylamide, and 1 g of azoisobutyronitrile were added in 10 g.
0 g of MEK, added dropwise over about 2 hours, and then subjected to seed dispersion polymerization for 3 hours.
Was crosslinked with styrene to form core-shell particles 6 having an acrylamide shell.
【0191】<前駆体G:コアシェル粒子2>スチレン
80g、ジビニルベンゼン10g、マクロモノマーAA
−6(分散剤、東亞合成(株)製)10g、MEK40
0gを三ッ口フラスコに入れ、窒素を導入しながら、7
5℃に昇温した。その後約30分攪拌後、アゾイソブチ
ロニトリルを2g添加し6時間、75℃で分散重合を行
い粒径0.2μmの樹脂粒子を得た。さらに、この樹脂
粒子分散液を窒素を導入しながら、75℃に昇温し、約
30分攪拌後、アクリル酸35g、エチレングリコール
ジアクリレート4g、アゾイソブチロニトリル1gを1
00gのMEKに溶解し、約2時間かけて滴下し、その
後3時間シード分散重合することによって粒径0.3μ
mのコアがスチレン架橋し、シェルがアクリルアミドの
コアシェル粒子7を作成した。水酸化ナトリウムを用い
pHを10以上にすることにより、アクリル酸のカルボ
キシル基をナトリウム塩に変換したコアシェル粒子を作
成した。<Precursor G: core-shell particles 2> 80 g of styrene, 10 g of divinylbenzene, macromonomer AA
-6 (dispersing agent, manufactured by Toagosei Co., Ltd.) 10 g, MEK40
0 g is placed in a three-necked flask, and nitrogen is introduced.
The temperature was raised to 5 ° C. Thereafter, after stirring for about 30 minutes, 2 g of azoisobutyronitrile was added, and dispersion polymerization was performed at 75 ° C. for 6 hours to obtain resin particles having a particle size of 0.2 μm. Further, the resin particle dispersion was heated to 75 ° C. while introducing nitrogen, stirred for about 30 minutes, and then 35 g of acrylic acid, 4 g of ethylene glycol diacrylate, and 1 g of azoisobutyronitrile were added to 1 g of the resin particle dispersion.
Dissolved in 00 g of MEK, added dropwise over about 2 hours, and then subjected to seed dispersion polymerization for 3 hours to obtain a particle size of 0.3 μm.
m was crosslinked with styrene to form core-shell particles 7 having an acrylamide shell. By adjusting the pH to 10 or more using sodium hydroxide, core-shell particles in which the carboxyl group of acrylic acid was converted to a sodium salt were prepared.
【0192】<前駆体H:マイクロカプセル粒子1>酢
酸エチル19.0部(以下すべて重量部)、イソプロピ
ルビフェニルを5.9部、グリセロールラウレート5部
およびリン酸トリクレジル2.5部を加熱して均一に混
合した。カプセル壁材(同時の疎水性化前駆体でもあ
る)として、キシリレンジイソシアナート/トリメチロ
ールプロパン付加物(75%酢酸エチル溶液 タケネー
トD110N:武田薬品社の商品名)7.6部をこの溶
液に更に添加し、均一に攪拌した。別途、10重量%ド
デシルスルホン酸ナトリウム水溶液2.0部を加えた6
重量%ゼラチン(MGP−9066:ニッピゼラチン工
業社の商品名)水溶液64部を用意し、ホモジナイザー
にて乳化分散した。<Precursor H: Microcapsule Particles 1> 19.0 parts (all parts by weight) of ethyl acetate, 5.9 parts of isopropyl biphenyl, 5 parts of glycerol laurate and 2.5 parts of tricresyl phosphate were heated. And evenly mixed. 7.6 parts of a xylylene diisocyanate / trimethylolpropane adduct (75% ethyl acetate solution Takenate D110N: trade name of Takeda Pharmaceutical Co.) as a capsule wall material (also a precursor of hydrophobization) is added to this solution. Further, it was added and stirred uniformly. Separately, 2.0 parts of a 10% by weight aqueous solution of sodium dodecyl sulfonate was added.
64 parts by weight of an aqueous solution of gelatin (MGP-9066: trade name of Nippi Gelatin Industries Co., Ltd.) was prepared and emulsified and dispersed by a homogenizer.
【0193】得られた乳化液に水20部を加え均一化し
た後、攪拌しながら40℃に昇温し、3時間カプセル化
反応を行わせた。この後35℃に液温を下げ、イオン交
換樹脂アンバーライトIRA68(オルガノ社製)6.
5部、アンバーライトIRC50(オルガノ社製)13
部を加え更に一時間攪拌する。この後イオン交換樹脂を
ろ過して目的のカプセル液を得た。カプセルの平均粒径
は0.64μmであった。マイクロカプセル粒子1とし
た。After 20 parts of water was added to the obtained emulsion to homogenize it, the temperature was raised to 40 ° C. with stirring, and an encapsulation reaction was carried out for 3 hours. Thereafter, the temperature of the solution was lowered to 35 ° C., and the ion-exchange resin Amberlite IRA68 (manufactured by Organo) was used.
5 parts, Amberlite IRC50 (Organo) 13
And stirred for an additional hour. Thereafter, the ion exchange resin was filtered to obtain a desired capsule liquid. The average particle size of the capsule was 0.64 μm. Microcapsule particles 1 were obtained.
【0194】<前駆体I:ヘテロ凝集表面層の反応性複
合粒子1>グリシジルメタクリレート2.0g、メチル
メタクリレート13.0g、ポリオキシエチレンフェノ
ール水溶液(濃度9.8×10-3mol/リットル)2
00mlを加え、250rpmでかき混ぜながら、系内
を窒素ガスで置換する。この液を25℃にした後、セリ
ウム(IV)アンモニウム塩水溶液(濃度0.984×1
0-3mol/リットル)10ml添加する。この際硝酸
アンモニウム水溶液(濃度58.8×10-3mol/リ
ットル)を加え、pH1.3〜1.4に調整する。その
後8時間これを攪拌した。このようにして得られた液の
固形分濃度は9.5%であり、平均粒径は0.4μmで
あった。さらに、この樹脂粒子分散液中にスノーテック
スC(日産化学(株)製)30g添加し、樹脂粒子表面
にシリカゾル微粒子をヘテロ凝集させた、コアが樹脂で
シェルがシリカ層の粒径0.5μmのヘテロ凝集親水性
表面層をもつ疎水性化前駆体I(反応性複合粒子1)を
作成した。<Precursor I: Reactive composite particles 1 of hetero-aggregated surface layer> 2.0 g of glycidyl methacrylate, 13.0 g of methyl methacrylate, aqueous solution of polyoxyethylene phenol (concentration: 9.8 × 10 −3 mol / l) 2
After adding 00 ml and stirring at 250 rpm, the inside of the system is replaced with nitrogen gas. After the temperature of the solution was raised to 25 ° C., an aqueous cerium (IV) ammonium salt solution (concentration: 0.984 × 1
0 -3 mol / l). At this time, an aqueous solution of ammonium nitrate (concentration: 58.8 × 10 −3 mol / l) is added to adjust the pH to 1.3 to 1.4. It was then stirred for 8 hours. The solid content of the liquid thus obtained was 9.5%, and the average particle size was 0.4 μm. Further, 30 g of Snowtex C (manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.) was added to the resin particle dispersion to hetero-aggregate silica sol fine particles on the surface of the resin particles. The core was a resin, and the shell was 0.5 μm in particle diameter of a silica layer. The hydrophobized precursor I (reactive composite particle 1) having the hetero-aggregated hydrophilic surface layer was prepared.
【0195】<前駆体J:ヘテロ凝集表面層の反応性複
合粒子2>アリルメタクリレート7.5g、スチレン
7.5gを同様にして重合させた。このようにして得ら
れた液の固形分濃度は9.5%であり、平均粒径は0.
4μmであった。さらに、この樹脂粒子分散液中にスノ
ーテックスC(日産化学(株)製)30g添加し、樹脂
粒子表面にシリカゾル微粒子をヘテロ凝集させた、コア
が樹脂でシェルがシリカ層の粒径0.45μmのヘテロ
凝集親水性表面層をもつ疎水性化前駆体J(反応性複合
粒子2)を作成した。<Precursor J: Reactive Composite Particles 2 of Hetero-aggregated Surface Layer> 7.5 g of allyl methacrylate and 7.5 g of styrene were polymerized in the same manner. The solid content of the liquid thus obtained was 9.5%, and the average particle size was 0.1%.
It was 4 μm. Further, 30 g of Snowtex C (manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.) was added to the resin particle dispersion to hetero-aggregate silica sol fine particles on the surface of the resin particles. The core was a resin, and the shell was 0.45 μm in particle diameter of a silica layer. To prepare a hydrophobized precursor J (reactive composite particles 2) having a hetero-aggregated hydrophilic surface layer.
【0196】<前駆体K:反応性マイクロカプセル粒子
1>油相成分として、キシレンジイソシアネート40
g、トリメチロールプロパンジアクリレート10g、ア
リルメタクリレートとブチルメタクリレートの共重合体
(モル比7/3)10g、パイオニンA41C(竹本油
脂製)0.1gを酢酸エチル60gに溶解した。水相成
分として、PVA205(クラレ製)の4%水溶液を1
20g作製した。油相成分および水相成分をホモジナイ
ザーを用いて10000rpmで乳化した。その後、水を4
0g添加し、室温で30分、さらに40℃で3時間攪拌
した。このようにして得られたマイクロカプセル液の固
形分濃度は20%であり、平均粒径は0.5μmであっ
た。さらに、この樹脂粒子分散液中にスノーテックスC
(日産化学(株)製)30g添加し、樹脂粒子表面にシ
リカゾル微粒子をヘテロ凝集させた、コアが樹脂でシェ
ルがシリカ層の粒径0.6μmのヘテロ凝集親水性表面
層をもつ疎水性化前駆体K(反応性マイクロカプセル粒
子1)を作成した。<Precursor K: Reactive Microcapsule Particle 1> Xylene diisocyanate 40 was used as an oil phase component.
g, 10 g of trimethylolpropane diacrylate, 10 g of a copolymer of allyl methacrylate and butyl methacrylate (7/3 molar ratio), and 0.1 g of Pionin A41C (manufactured by Takemoto Yushi) were dissolved in 60 g of ethyl acetate. As an aqueous phase component, 1% of a 4% aqueous solution of PVA205 (manufactured by Kuraray) was used.
20 g were produced. The oil phase component and the aqueous phase component were emulsified at 10,000 rpm using a homogenizer. Then add 4 water
0 g was added, and the mixture was stirred at room temperature for 30 minutes and further at 40 ° C. for 3 hours. The microcapsule solution thus obtained had a solid content of 20% and an average particle size of 0.5 μm. Further, Snowtex C is contained in the resin particle dispersion.
Addition of 30 g (manufactured by Nissan Chemical Co., Ltd.) to hetero-aggregate silica sol fine particles on the surface of resin particles. Hydrophobization with a hetero-aggregated hydrophilic surface layer having a core of resin and a shell of silica layer having a particle diameter of 0.6 μm. Precursor K (reactive microcapsule particles 1) was prepared.
【0197】<比較例1用疎水性樹脂分散物1>スチレ
ン80g、ジビニルベンゼン10g、マクロモノマーA
A−6(分散剤、東亞合成(株)製)10g、MEK4
00gを三ッ口フラスコに入れ、窒素を導入しながら、
75℃に昇温した。その後約30分攪拌後、アゾイソブ
チロニトリルを2g添加し6時間、75℃で分散重合を
行い平均粒径0.2μmの樹脂粒子を得た。<Hydrophobic resin dispersion 1 for Comparative Example 1> 80 g of styrene, 10 g of divinylbenzene, macromonomer A
A-6 (dispersant, manufactured by Toagosei Co., Ltd.) 10 g, MEK4
00g in a three-necked flask, while introducing nitrogen,
The temperature was raised to 75 ° C. After stirring for about 30 minutes, 2 g of azoisobutyronitrile was added, and dispersion polymerization was performed at 75 ° C. for 6 hours to obtain resin particles having an average particle diameter of 0.2 μm.
【0198】<比較例2用親水性樹脂分散物1>ポリビ
ニルピロリドンの分散重合粒子分散物(平均粒径0.2
μm)を使用した。<Hydrophilic Resin Dispersion 1 for Comparative Example 2> A dispersion of dispersed polymer particles of polyvinylpyrrolidone (average particle size 0.2
μm) was used.
【0199】(3)光熱変換剤の作製 表1に示す表面親水性化処理を施した酸化鉄、酸化銅、
酸化マンガン、金属鉄、チタンブラック及びカーボンブ
ラック微粒子を光熱変換性の固体粒子として使用した。
表面親水性化の方法は、光熱変換剤の項で前記した方法
にしたがった。カーボンブラックも前記したように水蒸
気処理によって表面に水酸基を付加させたのち、テトラ
エトキシシランで表面シリカ皮膜を形成させた。また、
チタンブラックは、粒子自体が親水性である。さらに、
親水性IR染料として例示化合物(1)を使用した。(3) Preparation of photothermal conversion agent Iron oxide, copper oxide,
Manganese oxide, metallic iron, titanium black and carbon black fine particles were used as photothermal conversion solid particles.
The method for making the surface hydrophilic was in accordance with the method described above for the photothermal conversion agent. After adding hydroxyl groups to the surface of the carbon black by steam treatment as described above, a surface silica film was formed with tetraethoxysilane. Also,
In titanium black, the particles themselves are hydrophilic. further,
The exemplary compound (1) was used as a hydrophilic IR dye.
【0200】<比較例3、4用光熱変換剤の作製及び比
較例5>比較例3用には、前記したカーボンブラック微
粒子を表面親水性化処理しないものを用いた。また、比
較例4用には、疎水性の赤外吸収染料である下記化学式
のビスインドレニン構造の色素を分散添加して使用し
た。そのほかに比較例5には、光熱変換剤を添加せずに
塗布液を調製した。<Preparation of Photothermal Conversion Agents for Comparative Examples 3 and 4 and Comparative Example 5> For Comparative Example 3, the above-mentioned carbon black fine particles which were not subjected to a surface hydrophilic treatment were used. For Comparative Example 4, a pigment having a bisindolenine structure represented by the following chemical formula, which is a hydrophobic infrared absorbing dye, was dispersed and used. In Comparative Example 5, a coating solution was prepared without adding a photothermal conversion agent.
【0201】[0201]
【化8】 Embedded image
【0202】(4)画像記録層の塗設 <テトラメトキシシラン分散液の調製>ゾルゲル変換性
の成分としてテトラメトキシシランを含んだ下記の処方
(A)の分散液(ゾルゲル液(A)と呼ぶ)を調製し
た。調製方法としては、シリコンテトラメトキシド、エ
タノール、純水、硝酸の順に混合してゆき、室温で1時
間攪拌してゾルゲル液(A)を作成した。ゾルゲル液
(A)処方 シリコンテトラメトキシド 18.37g エタノール(95%) 32.56g 純水 32.56g 硝酸 0.02g(4) Coating of Image Recording Layer <Preparation of Tetramethoxysilane Dispersion> A dispersion of the following formulation (A) containing tetramethoxysilane as a sol-gel converting component (referred to as sol-gel liquid (A)) ) Was prepared. As a preparation method, silicon tetramethoxide, ethanol, pure water, and nitric acid were mixed in this order, and stirred at room temperature for 1 hour to prepare a sol-gel liquid (A). Sol-gel liquid (A) formulation Silicon tetramethoxide 18.37 g Ethanol (95%) 32.56 g Pure water 32.56 g Nitric acid 0.02 g
【0203】<画像記録層用塗布液の調製> 実施例1〜17用及び比較例1〜5用の塗布液 画像記録層用塗布液として上記のゾルゲル液(A)と表
1に記載のように光熱変換剤及び疎水性化前駆体の種類
を変えて含有させた実施例1〜17と比較例1〜5の合
計22種類の分散液を調製した。調製は、各成分を下記
処方のように含んだ混合物にガラスビーズ10gを添加
してペイントシェーカーで10分間攪拌して分散液とし
た。 画像記録層用塗布液処方 光熱変換剤(表1参照) 2.17g 疎水性化前駆体(表1参照) 2.17g ゾルゲル液(A) 3.34g PVA117(10%水溶液) 3.50g コロイダルシリカR503(20%水溶液) 6.0g 純水 7.49g<Preparation of Coating Solution for Image Recording Layer> Coating Solution for Examples 1 to 17 and Comparative Examples 1 to 5 The above sol-gel solution (A) was used as a coating solution for the image recording layer, as shown in Table 1. A total of 22 types of dispersion liquids of Examples 1 to 17 and Comparative Examples 1 to 5 were prepared by changing the types of the photothermal conversion agent and the hydrophobizing precursor. For the preparation, 10 g of glass beads were added to a mixture containing each component as shown below, and the mixture was stirred with a paint shaker for 10 minutes to obtain a dispersion. Formulation of coating solution for image recording layer Photothermal conversion agent (see Table 1) 2.17 g Hydrophobizing precursor (see Table 1) 2.17 g Sol-gel solution (A) 3.34 g PVA117 (10% aqueous solution) 3.50 g Colloidal silica R503 (20% aqueous solution) 6.0 g Pure water 7.49 g
【0204】<塗布>画像記録層用塗布液をバー#14
用いてバーコートによって前記したアルミニウム基板上
に乾燥厚み2.0μmになるように塗布したのち、空気
オーブンに入れて100°Cで10分間乾燥して画像記
録層を形成させた。<Coating> The coating solution for the image recording layer was applied to bar # 14.
The resultant was coated on the aluminum substrate by a bar coater so as to have a dry thickness of 2.0 μm, and then dried in an air oven at 100 ° C. for 10 minutes to form an image recording layer.
【0205】(5)印刷版の作成 <印刷版の作成及び印刷>得られた各平版印刷用原版を
波長830nmの半導体レーザー光を照射した。以下に
具体的なレーザー照射条件を下記に示す。 レーザー出力:350mW ビーム半径:12.5μm 走査速度:1.7m/sec 出力:700mJ/cm2 (5) Preparation of printing plate <Preparation and printing of printing plate> Each of the obtained lithographic printing original plates was irradiated with a semiconductor laser beam having a wavelength of 830 nm. Specific laser irradiation conditions are shown below. Laser output: 350 mW Beam radius: 12.5 μm Scanning speed: 1.7 m / sec Output: 700 mJ / cm 2
【0206】又、レーザー露光した原板に何ら後処理す
ることなく印刷機にかけ印刷を行った。印刷枚数100
00枚及び20000枚のときに印刷汚れの程度を黙視
検査した。使用した印刷機は、ハイデルベルグSOR−
Mであり、湿し水には、水にEU−3(富士写真フイル
ム(株)製)を1vol%、IPAを10vol%添加
した水溶液を用い、インキには、GEOS(N)墨を用
いた。The original plate exposed to laser was printed on a printing machine without any post-processing. 100 printed sheets
At the time of 00 sheets and 20000 sheets, the degree of print smear was inspected silently. The printing press used was Heidelberg SOR-
M was used as the dampening solution, and an aqueous solution obtained by adding 1 vol% of EU-3 (manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) and 10 vol% of IPA to the water was used, and GEOS (N) black was used as the ink. .
【0207】(6)印刷原板の評価と評価方法 出来上がった印刷用原板の評価は、つぎのように行っ
た。 <印刷汚れの評価方法>1万枚の印刷を行ったときの印
刷紙面の印刷汚れを黙視によって検査し、印刷汚れを認
めない場合を○、認められる場合を×と表示した。印刷
汚れのないものは、さらに1万枚の印刷を行い、印刷紙
面の印刷汚れが引き続き生じていない場合を◎と表示し
た。結果は表1に併せて示した。(6) Evaluation of printing original plate and evaluation method The finished printing original plate was evaluated as follows. <Evaluation method of print stain> The print stain on the printed paper surface after printing 10,000 sheets was inspected by visual inspection. In the case where there was no print stain, 10,000 sheets were further printed, and the case where the print stain on the printing paper surface was not continuously generated was indicated by ◎. The results are shown in Table 1.
【0208】[0208]
【表1】 [Table 1]
【0209】(注) 以下表1に関する注記事項。 1.TiO x (x=1.0〜1.1)は、市販のチタンブラック。親
水性。 2.印刷品質は、印刷汚れがなくても、印刷されない場
合も×とした。 3.前駆体A〜Hは、下記の通り(本文中記載のとお
り)。 前駆体A:ヘテロ凝集表面層の複合粒子1 前駆体B:ヘテロ凝集表面層の複合粒子2 前駆体C:ヘテロ凝集表面層の複合粒子3 前駆体D:表面ヘテロ相の複合粒子1 前駆体E:表面ヘテロ相の複合粒子2 前駆体F:コアシェル粒子1 前駆体G:コアシェル粒子2 前駆体H:マイクロカプセル粒子1 前駆体I:ヘテロ凝集表面層の反応性複合粒子1 前駆体J:ヘテロ凝集表面層の反応性複合粒子2 前駆体K:反応性マイクロカプセル粒子1(Note) Notes on Table 1 below. 1. TiO x (x = 1.0 to 1.1) is commercially available titanium black. Hydrophilic. 2. The print quality was evaluated as “x” even when there was no print smear and no print was made. 3. The precursors A to H are as described below (as described in the text). Precursor A: Composite particle 1 of hetero-aggregated surface layer Precursor B: Composite particle 2 of hetero-aggregated surface layer Precursor C: Composite particle 3 of hetero-aggregated surface layer Precursor D: Composite particle 1 of surface hetero-phase Precursor E : Composite particle 2 of surface hetero phase Precursor F: Core-shell particle 1 Precursor G: Core-shell particle 2 Precursor H: Microcapsule particle 1 Precursor I: Reactive composite particle 1 of hetero-aggregated surface layer Precursor J: Hetero-aggregation Surface layer reactive composite particles 2 Precursor K: reactive microcapsule particles 1
【0210】(7)結果 表1に示すように、実施例1〜11の本発明例のヘテロ
凝集、ヘテロゲル相形成、親水性シェル樹脂層又はマイ
クロカプセル壁材を親水性表面層とした複合組成の疎水
性化前駆体粒子を添加した試料は、いずれも1万枚以上
の印刷を行っても印刷汚れがなく、とくに表面が親水性
相で芯部が疎水性相のコアシェル型樹脂粒子を用いた実
施例4及び5は、2万枚の印刷を行っても印刷汚れがな
く、優れた耐刷性を有することが示された。一方、ポリ
スチレン粒子を表面親水性化処理することなく用いた比
較例1では、非画像部に印刷汚れが発生した。また、親
水性粒子であるポリビニルピロリドン粒子を用いた比較
例2では、画像部にインキが付着せず、印刷されなかっ
た(表1の評価欄の×は印刷されないための×であ
る)。酸化鉄、金属鉄、カーボンブラック、チタンブラ
ック、酸化マンガン、酸化銅、親水性色素などと光熱変
換剤の材料は異なってもそれ自体が親水性又は表面親水
性化処理を施した各種の光熱変換剤をそれぞれ用いた実
施例12〜17の本発明例の試料は、いずれも1万枚以
上の印刷を行っても印刷汚れがなく、優れた耐刷性を有
することが示された。一方、カーボンブラック微粒子又
は疎水性赤外吸収色素を表面親水性化処理することなく
用いた比較例3及び4では、非画像部に印刷汚れが発生
した。また、光熱変換剤を用いない比較例5では、画像
部にインキが付着せず、印刷されなかった(表1の評価
欄の×は印刷されないための×である)。(7) Results As shown in Table 1, the composite compositions of Examples 1 to 11 of the present invention in which the hetero-aggregation, heterogel phase formation, and hydrophilic shell resin layer or microcapsule wall material were used as the hydrophilic surface layer The samples to which the hydrophobized precursor particles were added did not have print stains even after printing 10,000 sheets or more, and especially core-shell type resin particles having a hydrophilic phase on the surface and a hydrophobic core on the core. Examples 4 and 5 showed no printing stains even after printing 20,000 sheets, indicating that they had excellent printing durability. On the other hand, in Comparative Example 1 in which the polystyrene particles were used without performing the surface hydrophilicity treatment, printing stains occurred in the non-image area. In Comparative Example 2 using polyvinylpyrrolidone particles, which are hydrophilic particles, no ink was attached to the image area, and no printing was performed (X in the evaluation column of Table 1 is X for no printing). Various light-to-heat conversions in which the material of the light-to-heat conversion agent is different from that of iron oxide, metallic iron, carbon black, titanium black, manganese oxide, copper oxide, hydrophilic dye, etc. Each of the samples of Examples 12 to 17 of the present invention using each of the agents showed no printing stains even after printing 10,000 sheets or more, and exhibited excellent printing durability. On the other hand, in Comparative Examples 3 and 4 in which the carbon black fine particles or the hydrophobic infrared-absorbing dye was used without performing the surface hydrophilicity treatment, printing stains occurred in the non-image area. In Comparative Example 5 in which no light-to-heat conversion agent was used, no ink was attached to the image area, and no printing was performed (x in the evaluation column of Table 1 is x for not printing).
【0211】[0211]
【発明の効果】それ自体親水性または表面が親水性の光
熱変換剤と表面が親水性の疎水性化前駆体を親水性媒質
中に分散した画像記録層を有する印刷用原板は、画像領
域と非画像領域の識別能が高く、耐刷性にすぐれていて
印刷汚れも生じにくい優れた印刷性能を有している。ま
た、本発明によれば、特に赤外線を放射する固体レーザ
ー又は半導体レーザー等を用いて記録することにより、
ディジタルデータから直接製版可能な平版印刷版用原版
を提供することができる。According to the present invention, a printing plate having an image recording layer in which a photothermal conversion agent having a hydrophilic property or a hydrophilic surface and a hydrophobizing precursor having a hydrophilic surface are dispersed in a hydrophilic medium has an image area. The non-image area has high discrimination ability, has excellent printing durability, and has excellent printing performance in which printing smear is hardly generated. According to the present invention, in particular, by recording using a solid-state laser or semiconductor laser that emits infrared rays,
It is possible to provide a lithographic printing plate precursor that can be directly made from digital data.
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 東 俊作 静岡県富士宮市大中里200番地 富士写真 フイルム株式会社内 (72)発明者 星 聡 静岡県榛原郡吉田町川尻4000番地 富士写 真フイルム株式会社内 Fターム(参考) 2H025 AA12 AB03 AC08 AD01 AD03 BH03 CB33 CC20 DA02 FA10 2H096 AA07 AA08 BA16 BA20 CA20 EA02 EA04 2H114 AA04 AA23 AA24 AA27 BA01 BA10 DA05 DA15 DA22 DA25 DA28 DA74 EA01 EA03 EA04 EA10 FA15 FA16 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing on the front page (72) Inventor Shunsaku Higashi 200 Nakanakazato, Fujinomiya City, Shizuoka Prefecture Inside Fuji Photo Film Co., Ltd. F term (reference) 2H025 AA12 AB03 AC08 AD01 AD03 BH03 CB33 CC20 DA02 FA10 2H096 AA07 AA08 BA16 BA20 CA20 EA02 EA04 2H114 AA04 AA23 AA24 AA27 BA01 BA10 DA05 DA15 DA22 DA25 DA28 DA74 EA01 EA03 FA04
Claims (6)
なる層が、表面が親水性の疎水性化前駆体とそれ自体又
は少なくとも表面が親水性の光熱変換剤を含有すること
を特徴とする平版印刷用原板。1. A layer comprising a hydrophilic medium provided on a support, characterized in that the layer comprises a hydrophobizing precursor having a hydrophilic surface and a photothermal conversion agent itself or at least a surface having a hydrophilic property. Lithographic printing plate.
換性であることを特徴とする請求項1に記載の平版印刷
用原板。2. The lithographic printing plate according to claim 1, wherein the layer made of a hydrophilic medium has a sol-gel conversion property.
に疎水性物質を内包し、かつ表面親水性の表層部を有す
る複合構成の粒子分散物であることを特徴とする請求項
1又は2に記載の平版印刷用原板。3. The hydrophobizing precursor having a hydrophilic surface is a composite particle dispersion having a hydrophobic substance in the core and a surface layer having a hydrophilic surface. Item 3. An original plate for lithographic printing according to item 1 or 2.
属化合物、顔料及び炭素単体から選択される固体の微粒
子あるいは親水性媒質に溶存可能の親水性染料であるこ
とを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の平
版印刷用原板。4. The method according to claim 1, wherein the photothermal conversion agent is a solid fine particle selected from a metal, a metal compound, a pigment and a simple carbon having a hydrophilic surface, or a hydrophilic dye soluble in a hydrophilic medium. Item 4. The lithographic printing plate according to any one of items 1 to 3.
とする請求項1〜4のいずれか1項に記載の平版印刷用
原板。5. The lithographic printing plate according to claim 1, wherein a water-soluble protective layer is provided on the surface.
刷用原板に光熱変換性の可視光又は赤外線光を像様に照
射したのち、照射面にインキを接触させて画像面がイン
キを受け入れた印刷版面を形成させて印刷を行うことを
特徴とする平版印刷方法。6. After irradiating the lithographic printing plate according to any one of claims 1 to 5 imagewise with visible light or infrared light having photothermal conversion property, the irradiated surface is brought into contact with ink to form an image. A lithographic printing method characterized in that printing is performed by forming a printing plate surface that has accepted the above.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000141481A JP4070390B2 (en) | 1999-06-04 | 2000-05-15 | Planographic printing plate and planographic printing method |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15869799 | 1999-06-04 | ||
JP11-158697 | 1999-06-04 | ||
JP2000141481A JP4070390B2 (en) | 1999-06-04 | 2000-05-15 | Planographic printing plate and planographic printing method |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2001047755A true JP2001047755A (en) | 2001-02-20 |
JP4070390B2 JP4070390B2 (en) | 2008-04-02 |
Family
ID=26485729
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2000141481A Expired - Fee Related JP4070390B2 (en) | 1999-06-04 | 2000-05-15 | Planographic printing plate and planographic printing method |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4070390B2 (en) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002283751A (en) * | 2001-03-22 | 2002-10-03 | Mitsubishi Chemicals Corp | Photosensitive planographic printing plate |
EP1338435A2 (en) | 2002-02-25 | 2003-08-27 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Lithographic printing plate precursor |
US6949327B2 (en) | 2003-07-09 | 2005-09-27 | Kodak Polychrome Graphics Llc | On-press developable lithographic printing plate |
JP2006516758A (en) * | 2003-01-27 | 2006-07-06 | コダック ポリクロウム グラフィクス リミティド ライアビリティ カンパニー | Imageable element containing silicate coated polymer particles |
JP2008527060A (en) * | 2004-12-31 | 2008-07-24 | ソシエテ ド テクノロジー ミシュラン | Functionalized polyvinyl aromatic nanoparticles |
-
2000
- 2000-05-15 JP JP2000141481A patent/JP4070390B2/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002283751A (en) * | 2001-03-22 | 2002-10-03 | Mitsubishi Chemicals Corp | Photosensitive planographic printing plate |
EP1338435A2 (en) | 2002-02-25 | 2003-08-27 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Lithographic printing plate precursor |
JP2006516758A (en) * | 2003-01-27 | 2006-07-06 | コダック ポリクロウム グラフィクス リミティド ライアビリティ カンパニー | Imageable element containing silicate coated polymer particles |
US6949327B2 (en) | 2003-07-09 | 2005-09-27 | Kodak Polychrome Graphics Llc | On-press developable lithographic printing plate |
JP2008527060A (en) * | 2004-12-31 | 2008-07-24 | ソシエテ ド テクノロジー ミシュラン | Functionalized polyvinyl aromatic nanoparticles |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP4070390B2 (en) | 2008-04-02 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US6686125B2 (en) | Lithographic printing plate precursor | |
US6653042B1 (en) | Lithographic printing plate precursor, method for producing the same, and method of lithographic printing | |
JP2000335131A (en) | Lithographic printing master plate | |
JP2002079772A (en) | Original film for lithographic printing plate, method of making lithographic printing plate using the same and method of printing | |
JP2003118258A (en) | Lithographic printing original plate | |
JP4162365B2 (en) | Master for lithographic printing plate | |
JP4070390B2 (en) | Planographic printing plate and planographic printing method | |
JP4307786B2 (en) | Preparation method of lithographic printing plate | |
JP2001315452A (en) | Lithographic printing original film | |
JP4105338B2 (en) | Planographic printing plate and planographic printing method | |
JP2001281852A (en) | Original plate for planographic printing | |
JP2004276455A (en) | Thermosensitive lithographic printing plate | |
JP2004341500A (en) | Method for forming image and image exposure apparatus | |
JP2001213062A (en) | Lithographic printing original plate | |
JP4067261B2 (en) | On-press development type lithographic printing plate | |
JP3976137B2 (en) | Planographic printing plate precursor and plate making / printing method | |
JP3767183B2 (en) | Planographic printing plate and method for making a planographic printing plate | |
JP2001239766A (en) | Original plate for lithographic printing and method for lithographic printing | |
JP2000355178A (en) | Original plate for lithographic printing | |
JP2001315453A (en) | Lithographic printing original film | |
JP2002120467A (en) | Original plate for lithographic printing plate | |
JP3797542B2 (en) | Heat sensitive planographic printing plate | |
JP2002331768A (en) | Original plate for lithographic printing plate and printing method | |
JP2003034087A (en) | Lithographic printing plate original plate | |
JP2001205951A (en) | Original plate for lithographic printing plate |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20050825 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20060324 |
|
A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712 Effective date: 20061124 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20070907 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20070926 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20071115 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20071122 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20071126 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20071126 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20071219 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20080115 |
|
R150 | Certificate of patent (=grant) or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110125 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110125 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120125 Year of fee payment: 4 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |