JP2002180272A - Aluminum material having microporous anodic oxide film, and aluminum formed body and fin material - Google Patents

Aluminum material having microporous anodic oxide film, and aluminum formed body and fin material

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JP2002180272A
JP2002180272A JP2000379382A JP2000379382A JP2002180272A JP 2002180272 A JP2002180272 A JP 2002180272A JP 2000379382 A JP2000379382 A JP 2000379382A JP 2000379382 A JP2000379382 A JP 2000379382A JP 2002180272 A JP2002180272 A JP 2002180272A
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aluminum
anodic oxide
oxide film
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an aluminum material which can withstand forming and hardly causes peeling and in which a functional film can be uniformly provided to a part requiring the film in the case where the material is made into a formed article and also to provide a formed body using the material and also a fin material for a heat exchanger, etc. SOLUTION: The aluminum material has a metallic base material 1 composed of aluminum or aluminum alloy, and an undercoat layer 2 composed of a porous anodic oxide film of 5-30% porosity formed on the surface of the metallic base material 1.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001 】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、金属基材に対する
優れた密着性を有し、ガス放出性にも優れたアルミニウ
ム材及びアルミニウム成形体とフィン材に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an aluminum material having excellent adhesiveness to a metal substrate and excellent gas release, an aluminum molded product and a fin material.

【0002 】[0002]

【従来の技術】真空機器における真空チャンバーの表面
材として、従来からステンレス鋼製のものが広く用いら
れてきたものの、ステンレス鋼材は比重が大きく重量が
あること、熱伝導性が悪いこと、真空雰囲気において表
面からガス放出性が高いこと等の理由から、アルミニウ
ム材あるいはアルミニウム合金材を適用しようとする試
みがなされている。しかしながら、アルミニウム材はM
BE装置等でGaAsなどの半導体膜を形成する場合
等、腐食性のエッチングガスに曝されると腐食し易い問
題があり、この問題を解決するために硫酸電解液中で陽
極酸化皮膜(いわゆるアルマイト皮膜)を形成しておく
ことが提案されている。ところが、この種、通常の陽極
酸化皮膜は多孔質の膜であり、表面に無数の微細な孔を
有することから、この微細孔内に存在している成分がガ
スとなって真空中に放出されるので、陽極酸化皮膜を備
えたアルミニウム材で真空チャンバーを製造すると、ガ
ス放出性に問題を生じるおそれがある。
2. Description of the Related Art Although stainless steel materials have been widely used as surface materials of vacuum chambers in vacuum equipment, stainless steel materials have a large specific gravity, heavy weight, poor thermal conductivity, and a vacuum atmosphere. Attempts have been made to apply an aluminum material or an aluminum alloy material for reasons such as high gas release from the surface. However, aluminum material is M
When a semiconductor film such as GaAs is formed by a BE apparatus or the like, there is a problem that the film is easily corroded when exposed to a corrosive etching gas. It has been proposed to form a film. However, since this kind of ordinary anodic oxide film is a porous film and has a myriad of fine pores on the surface, the components present in these fine pores are released into a vacuum as gas. Therefore, when a vacuum chamber is manufactured from an aluminum material provided with an anodized film, there is a possibility that a problem may occur in gas release properties.

【0003 】ここで例えば陽極酸化皮膜においては無
孔質と多孔質のものが知られている。このうち、多孔質
の陽極酸化皮膜にあっては、アルミニウム板の表面部分
に形成される無孔質のバリア層の上に多孔質層が成長さ
れてなるもので、陽極酸化皮膜の表面を見た場合に、孔
のあいている面積を全面積で除算した値が空孔率として
知られ、通常の多孔質の陽極酸化皮膜においては空孔率
として60〜70%程度のものが広く用いられている。
また、この種の多孔質陽極酸化皮膜にあっては、多孔質
層の孔を塞ぐ目的で熱水蒸気にさらす封孔処理が施され
ている。このように熱水にさらすことで、多孔質層を部
分的に水和して多孔質層を膨潤させることで孔を塞ぐこ
とができるとされている。また、場合によっては熱水に
ニッケルやコバルトの酢酸塩やクロム酸塩を添加してこ
れら金属の水和物を孔中に析出させて封孔効果を助長す
ることもなされている。
[0003] For example, non-porous and porous anodic oxide films are known. Of these, a porous anodic oxide film is formed by growing a porous layer on a nonporous barrier layer formed on the surface of an aluminum plate. In such a case, the value obtained by dividing the area of the holes by the total area is known as the porosity, and about 60 to 70% of the porosity is widely used in a usual porous anodic oxide film. ing.
Further, this kind of porous anodic oxide film is subjected to a pore-sealing treatment of exposing it to hot steam for the purpose of closing the pores of the porous layer. It is said that the pores can be closed by exposing the porous layer to partial hydration and swelling the porous layer by exposing it to hot water in this way. In some cases, nickel or cobalt acetate or chromate is added to hot water to precipitate hydrates of these metals in pores to promote the sealing effect.

【0004 】しかしながら、これらの封孔処理によっ
て処理された多孔質陽極酸化皮膜にあっては封孔部分に
水分や他の成分イオンなどが残留した状態となっている
ので、多孔質陽極酸化皮膜を備えたアルミニウム板材を
各種構成部材あるいは真空機器壁面材などとして用いた
場合、これら構造部材の表面部分から、あるいは真空機
器の壁面から水分や各種水和物の成分ガスが放出される
場合があり、用途によっては放出ガスが問題となるおそ
れが考えられる。
[0004] However, in the porous anodic oxide film treated by the sealing treatment, moisture and other component ions remain in the sealed portion. When the provided aluminum plate material is used as various constituent members or vacuum equipment wall materials, component gases of moisture and various hydrates may be released from the surface portion of these structural members or from the wall surface of the vacuum equipment, Depending on the application, the outgassing may be a problem.

【0005 】[0005]

【発明が解決しようとする課題】そこで本発明らは、陽
極酸化皮膜を有するアルミニウム材のガス放出性を改善
する目的から、無孔質の陽極酸化皮膜を得る技術につい
て研究開発を進め、その成果を特開平5−25694
号、特開平8−283991号、特開平8−28399
0号、特開平9−184093号などにおいて特許出願
している。これらの特許において提案した技術により得
られる無孔質の陽極酸化皮膜を備えたアルミニウム材で
あるならば、熱伝導性に優れ、表面からのガス放出性が
低く、耐食性にも優れたアルミニウム材を提供できるよ
うになった。しかしながら本発明者らは、この無孔質の
陽極酸化皮膜を研究するうちに、無孔質ではなくとも、
多少の孔を有する状態の陽極酸化皮膜であれば、耐食性
に優れ、ガス放出性が低く、アルミニウムの素地に対す
る密着性にも優れたアルミニウム材を提供できることを
知見し、本願発明に到達した。
SUMMARY OF THE INVENTION The present inventors have conducted research and development on a technique for obtaining a nonporous anodic oxide film for the purpose of improving the gas release property of an aluminum material having an anodic oxide film. Is disclosed in JP-A-5-25694.
JP-A-8-283991, JP-A-8-28399
No. 0, Japanese Patent Application Laid-Open No. 9-184093, and the like. If it is an aluminum material with a nonporous anodic oxide film obtained by the technology proposed in these patents, an aluminum material with excellent thermal conductivity, low gas release from the surface, and excellent corrosion resistance Now available. However, the present inventors have studied this nonporous anodized film, and even if it is not nonporous,
The present inventors have found that an anodic oxide film having a few holes can provide an aluminum material having excellent corrosion resistance, low gas emission, and excellent adhesion to aluminum substrate, and arrived at the present invention.

【0006 】次に本発明者らは、この種無孔質の陽極
酸化皮膜を備えたアルミニウム材について、その応用研
究を進めているが、アルミニウム材の表面に更に他の種
類の被覆膜を形成した場合の被覆膜の密着性、更には、
フィン材等の成形体に成形加工した場合の成形性などの
種々の面について研究した結果、本願発明に到達した。
[0006] Next, the present inventors are conducting research on application of this kind of aluminum material having a nonporous anodic oxide film, and further apply another type of coating film on the surface of the aluminum material. The adhesion of the coating film when formed,
As a result of studying various aspects such as moldability when molding into a molded body such as a fin material, the present invention has been reached.

【0007 】更に本願発明者らは、アルミニウム材の
表面に下地層として陽極酸化皮膜を形成し、その上に光
触媒層などの機能性皮膜を形成したアルミニウム材の構
造について研究開発を進めているが、その研究成果とし
て本願発明に到達した。
Further, the inventors of the present application have been conducting research and development on the structure of an aluminum material in which an anodized film is formed as a base layer on the surface of the aluminum material and a functional film such as a photocatalytic layer is formed thereon. As a result of the research, the present invention was reached.

【0008 】次に、従来から一般的に多孔質の陽極酸
化皮膜にあっては、表面に凹凸部を有するので、陽極酸
化皮膜の表面に他の樹脂層や膜を積層した場合、他の樹
脂層や膜の底部側部分が陽極酸化皮膜表面の凹凸部分に
食い込む形で形成され、アンカー効果を発揮するので、
上に積層される樹脂層や皮膜の密着性は優れていると考
えられてきた。ところが、多孔質陽極酸化皮膜の表面部
分に存在する孔の径は数100Å程度と極めて小さいも
のと考えられるので、このような微細な凹凸部分にその
上の樹脂層や皮膜自体が食い込んでアンカー効果を発揮
するものとは考えられず、逆に多孔質陽極酸化皮膜にお
いては密着性は良好ではないものと本発明者らは考えて
いる。また、先の封孔処理を行ったとしても、多孔質層
の孔部には水分やイオンなどが残留しているので、陽極
酸化皮膜上に他の樹脂層や皮膜を積層し、積層過程で1
00℃以上に加熱する乾燥処理や焼付け処理などが施さ
れた場合、孔中の水分やイオンが揮発あるいは蒸散する
影響から、本発明者らは必ずしも多孔質陽極酸化皮膜上
の樹脂層や皮膜の密着性は良好ではないと考えている。
Next, conventionally, a porous anodic oxide film generally has irregularities on its surface. Therefore, when another resin layer or film is laminated on the surface of the anodic oxide film, another resin As the bottom side of the layer or film is formed in a way that bites into the irregularities on the surface of the anodic oxide film, it exerts an anchor effect,
It has been considered that the adhesiveness of the resin layer and the film laminated thereon is excellent. However, the diameter of the pores existing on the surface of the porous anodic oxide film is considered to be extremely small, about several hundreds of mm, so that the resin layer or the film itself penetrates into such fine irregularities and the anchor effect. The present inventors believe that the porous anodic oxide film does not have good adhesion. Even if the sealing process is performed, moisture and ions remain in the pores of the porous layer. Therefore, another resin layer or film is laminated on the anodic oxide film, and during the laminating process. 1
When a drying process or a baking process of heating to 00 ° C. or more is performed, the present inventors do not necessarily perform the process of forming the resin layer or the film on the porous anodic oxide film due to the effect of water or ions in the pores evaporating or evaporating. We believe that the adhesion is not good.

【0009 】本発明は前記の背景に基づき、成形に耐
えることができて剥離し難く、膜の密着性も良好で水分
やガス放出の可能性も少なく、成形品とした場合に必要
な部分に均一に光触媒層などの機能性皮膜を設けること
ができ、生産性に優れたアルミニウム材とそれを用いた
成形体および熱交換器用などに好適なフィン材の提供を
目的とする。
Based on the above background, the present invention provides a film which can withstand molding, is hardly peeled off, has good adhesion to a film, has a low possibility of releasing moisture and gas, and has a portion necessary for a molded product. It is an object of the present invention to provide an aluminum material which can uniformly provide a functional film such as a photocatalyst layer and has excellent productivity and a fin material suitable for a molded article and a heat exchanger using the same.

【0010 】[0010]

【課題を解決するための手段】本発明は前記課題を解決
するために、アルミニウム又はアルミニウム合金からな
る金属基材と、該金属基材の表面に形成された空孔率5
〜30%の微孔質陽極酸化皮膜からなる下地層とを具備
してなることを特徴とする。本発明は前記課題を解決す
るために、アルミニウム又はアルミニウム合金からなる
金属基材と、該金属基材の表面に形成された空孔率5〜
30%の微孔質陽極酸化皮膜からなる下地層とを具備し
てなるアルミニウム材を成形加工してなることを特徴と
する。本発明は前記課題を解決するために、アルミニウ
ム又はアルミニウム合金からなる金属基材と、該金属基
材の表面に形成された空孔率5〜30%の微孔質陽極酸
化皮膜からなる下地層とを具備してなるアルミニウム材
を成形加工してなることを特徴とする。金属基材上に形
成された空孔率5〜30%の微孔質陽極酸化皮膜は、ガ
ス放出性が低く、金属基材に対する密着性に優れ、耐食
性も良好であり、その上に他の機能性皮膜を形成した場
合の膜の密着性にも優れている。
In order to solve the above-mentioned problems, the present invention provides a metal base made of aluminum or an aluminum alloy and a porosity of 5 formed on the surface of the metal base.
-30% of a microporous anodized film. In order to solve the above problems, the present invention provides a metal substrate made of aluminum or an aluminum alloy, and a porosity of 5 to 5 formed on the surface of the metal substrate.
An aluminum material having a 30% microporous anodic oxide film and an underlayer is formed by molding. In order to solve the above-mentioned problems, the present invention provides a metal base made of aluminum or an aluminum alloy, and a base layer made of a microporous anodized film having a porosity of 5 to 30% formed on the surface of the metal base. And an aluminum material comprising: The microporous anodic oxide film having a porosity of 5 to 30% formed on the metal base material has low gas release properties, excellent adhesion to the metal base material, good corrosion resistance, and other components. Excellent adhesion of the film when a functional film is formed.

【0011 】本発明は、前記前記微孔質陽極酸化皮膜
上に機能性皮膜が形成されてなるものでも良い。更に本
発明は、前記機能性皮膜上に潤滑層が形成されてなるも
のでも良い。陽極酸化皮膜上に形成された機能性皮膜に
よりアルミニウム材、アルミニウム成形体、フィン材に
機能性皮膜の機能が付加される。陽極酸化皮膜上に潤滑
層が形成されているならば、塑性加工に耐えるアルミニ
ウム材を提供できる。
In the present invention, a functional film may be formed on the microporous anodic oxide film. Further, in the present invention, a lubricating layer may be formed on the functional film. The function of the functional film is added to the aluminum material, the aluminum molded body, and the fin material by the functional film formed on the anodic oxide film. If a lubricating layer is formed on the anodized film, an aluminum material that can withstand plastic working can be provided.

【0012 】[0012]

【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施の形態について説明するが、本発明は以下の実施形態
に限定されるものではない。図1は本発明に係るアルミ
ニウム材を光触媒プレコート成形材料に適用した第1実
施形態を示すもので、この第1実施形態の光触媒プレコ
ート成形材料Aは、アルミニウムあるいはアルミニウム
合金からなる板状の金属基材1とこの金属基材1の表面
部分に被覆形成された下地層2からなるアルミニウム材
Bと、前記下地層2の上に被覆された光触媒層(機能性
皮膜)3と、光触媒層3の上に被覆された潤滑層4とを
具備して板状に形成されている。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings, but the present invention is not limited to the following embodiments. FIG. 1 shows a first embodiment in which the aluminum material according to the present invention is applied to a photocatalyst precoat molding material. The photocatalyst precoat molding material A of the first embodiment is a plate-like metal substrate made of aluminum or an aluminum alloy. An aluminum material B consisting of a material 1 and an underlayer 2 formed on the surface of the metal substrate 1, a photocatalyst layer (functional film) 3 coated on the underlayer 2, and a photocatalyst layer 3 A lubricating layer 4 coated on the upper surface is provided to form a plate.

【0013 】前記金属基材1は、アルミニウムあるい
はアルミニウム合金からなり、JIS1000系等の純
アルミニウム系、JIS2000系等のAl-Cu系、
JIS3000系のAl-Mn系、JIS4000系の
Al-Si系、JIS5000系等のAl-Mg系、JI
S6000系等のAl-Mg-Si系、JIS7000系
等のAl-Zn-Mg系のいずれの系のものを用いても良
い。
The metal substrate 1 is made of aluminum or an aluminum alloy, and is made of pure aluminum based on JIS1000, Al-Cu based on JIS2000, etc.
JIS 3000-based Al-Mn-based, JIS 4000-based Al-Si-based, JIS 5000-based Al-Mg-based, JI
Any type of Al-Mg-Si type such as S6000 type and Al-Zn-Mg type such as JIS7000 type may be used.

【0014 】前記のJIS1000系等の純アルミニ
ウム系のもの、JIS2000系のもの、JIS300
0系のものは種々の部品などに用いられているので、こ
れらの用途に供する場合に本発明を適用できる。
Pure aluminum-based materials such as JIS1000-based, JIS2000-based, JIS300-based
Since the system 0 is used for various parts and the like, the present invention can be applied to these applications.

【0015 】JIS4000系のものは、建築パネル
などに用いられるので、これらの用途に供する場合に本
発明を適用することができる。JIS5000系のもの
は、内外装板、装飾部品、銘板等に広く使用されるの
で、これらの用途に供する場合に本発明を適用すること
ができる。JIS6000系のものは、建築、装飾品な
どに使用されるので、これらの用途に供する場合に本発
明の構造を適用することができる。JIS7000系の
ものはフィン材などに使用されるので、これらの用途に
供する場合に本発明を適用することができる。
[0015] Since the JIS 4000 type is used for building panels and the like, the present invention can be applied to these applications. The JIS 5000 type is widely used for interior / exterior boards, decorative parts, nameplates, etc., so that the present invention can be applied to these applications. Since the JIS 6000 series is used for construction, decorative articles, etc., the structure of the present invention can be applied to these uses. Since JIS 7000-based materials are used for fin materials and the like, the present invention can be applied to these applications.

【0016 】なお、前記の光触媒プレコート材料A
は、これらの用途の中でも、防カビ性が要求される熱交
換器用のフィン材、抗菌、抗カビ性が要求される台所用
アルミ製品である食品用の容器、レンジフード、換気扇
カバー、レンジフェンス、レンジカバー、レンジ下敷
き、あるいは防汚性が要求される各種パネル、BSアン
テナ等に特に有効に供することができる。従って、前記
金属基材1に以下に説明する下地層2を備えた状態で以
上例示した各種用途に対し、本発明のアルミニウム材B
を適用することができる。
The above-mentioned photocatalyst precoat material A
Among these applications, are fin materials for heat exchangers that require fungicide resistance, food containers that are kitchen aluminum products that require antibacterial and antifungal properties, range hoods, ventilation fan covers, range fences , A range cover, a range underlay, various panels that require antifouling properties, a BS antenna, and the like. Therefore, the aluminum base material B of the present invention can be used for the various uses exemplified above with the metal base 1 provided with the base layer 2 described below.
Can be applied.

【0017 】前記下地層2は前記金属基材1を陽極酸
化処理することで形成される。この陽極酸化処理(いわ
ゆるアルマイト処理)は、基材を構成するアルミニウム
あるいはアルミニウム合金を電解液に浸漬して陽極処理
を行なう陽極酸化処理によって陽極酸化皮膜を形成する
ものである。このような陽極酸化処理により、空孔率5
〜30%(5%を越えて、30%以下)の微孔質陽極酸
化皮膜(微孔質アルマイト皮膜)を形成することができ
る。ここで空孔率とは、陽極酸化皮膜表面の測定領域に
おいて孔の形成されている部分の面積を全測定面積で除
算した値、即ち、空孔率=(孔のあいている面積)/
(全測定面積)の関係式で示されるものである。微孔質
陽極酸化皮膜としての空孔率は前述の5〜30%の範囲
であるが、5〜10%程度の範囲がより好ましい。な
お、陽極酸化処理により空孔率5〜30%の微孔質陽極
酸化皮膜を製造する方法については後に説明する。
The underlayer 2 is formed by anodizing the metal substrate 1. In this anodizing treatment (so-called alumite treatment), an anodized film is formed by anodizing treatment in which aluminum or an aluminum alloy constituting a base material is immersed in an electrolytic solution to perform anodizing. With such an anodizing treatment, a porosity of 5
A microporous anodized film (microporous alumite film) of up to 30% (more than 5% and not more than 30%) can be formed. Here, the porosity is a value obtained by dividing the area of the portion where the holes are formed in the measurement region on the surface of the anodic oxide film by the total measurement area, that is, porosity = (area with holes) /
(Total measurement area). The porosity of the microporous anodized film is in the range of 5 to 30% described above, but is more preferably in the range of about 5 to 10%. A method for producing a microporous anodized film having a porosity of 5 to 30% by anodizing treatment will be described later.

【0018 】前記の下地層2は金属基材1と光触媒層
3との密着性の低下を防止するためのもので、基材1と
光触媒層3との間にこれらの層に対して密着性の悪い酸
化層などが存在するとこの酸化層を起点として光触媒層
3が塑性加工中に剥離するなどの問題を起こす。この点
において前述の微孔質陽極酸化皮膜皮膜の下地層2であ
るならば、基材1に対して良好な密着性を有することは
勿論、光触媒層3に対しても良好な密着性を発揮する。
ここで光触媒層3の下地として用いる皮膜が仮に有機膜
であると、光触媒層3が発揮させる有機物分解作用によ
って下地層を損傷させるので、下地層2は前述の無機質
層であって、金属基材1に対して密着性の良好なもの、
更には、光触媒層3と密着性の良好なものを用いること
が重要である。
The underlayer 2 is for preventing the adhesion between the metal substrate 1 and the photocatalyst layer 3 from being lowered, and the adhesion between the substrate 1 and the photocatalyst layer 3 for these layers is prevented. If there is an oxide layer or the like having a poor quality, problems such as peeling of the photocatalyst layer 3 from the oxide layer during plastic working are caused. In this respect, the underlayer 2 of the microporous anodic oxide film described above has good adhesion to the substrate 1 and also exhibits good adhesion to the photocatalyst layer 3. I do.
Here, if the film used as the underlayer of the photocatalyst layer 3 is an organic film, the underlayer is damaged by the organic substance decomposition action exerted by the photocatalyst layer 3. Good adhesion to 1,
Furthermore, it is important to use a material having good adhesion to the photocatalyst layer 3.

【0019 】前記光触媒層(機能性皮膜)3は、Ti
2(チタニア)、ZnO、SnO2、SrTiO3、W
3、Fe23の中から選択される光触媒性半導体材料
に、シリカ(SiO2が主体)、ジルコニア(ZrO2
主体)、過酸化チタンなどのバインダーを適宜混合して
なるものであって、これらの混合物を下地層2の上に塗
布し、乾燥、加熱して焼き付けるなどの手段により得る
ことができる。これらの混合物を塗布するには、ロール
コート、グラビアコートなどの常法を適用することがで
きる。
The photocatalytic layer (functional film) 3 is made of Ti
O 2 (titania), ZnO, SnO 2 , SrTiO 3 , W
A photocatalytic semiconductor material selected from O 3 and Fe 2 O 3 is appropriately mixed with a binder such as silica (mainly SiO 2 ), zirconia (mainly ZrO 2 ), or titanium peroxide. Then, the mixture can be obtained by applying such a mixture onto the underlayer 2, drying, heating and baking. To apply these mixtures, conventional methods such as roll coating and gravure coating can be applied.

【0020 】そして、光触媒層3の厚さは0.05〜1
0μmの範囲とされることが好ましい。光触媒層3の厚
さが0.05μmを下回るようであると、光触媒層3と
して十分な厚さを確保することができず、抗菌、抗カビ
性能等の浄化作用を得られにくくする。また、光触媒層
3の厚さを10μmを超えた厚さとすると抗菌、抗カビ
性能は有するが材料の無駄が多く、製造コストの面で不
利である。これらのなかでもTiO2は無害で化学的に
安定であり、紫外線により光励起を起こして確実に抗
菌、抗カビ作用を奏し、優れた浄化機能(作用)を奏す
る。
The thickness of the photocatalyst layer 3 is 0.05 to 1
It is preferable that the thickness be in the range of 0 μm. If the thickness of the photocatalyst layer 3 is less than 0.05 μm, it is not possible to secure a sufficient thickness as the photocatalyst layer 3 and it is difficult to obtain a purifying action such as antibacterial and antifungal performance. Further, if the thickness of the photocatalyst layer 3 is more than 10 μm, it has antibacterial and antifungal properties, but wastes a lot of material, which is disadvantageous in terms of manufacturing cost. Among these, TiO 2 is harmless and chemically stable, and is excited by light by ultraviolet rays to surely exhibit antibacterial and antifungal effects, and exhibit an excellent purification function (action).

【0021 】前記潤滑層4は、ポリエチレングリコー
ル系、ポリオキシエチレンラウリルエーテル系、ポリビ
ニルメチルエーテル系などのノニオン型高分子活性剤を
含む層である必要がある。ここで用いるノニオン型高分
子活性剤とは、例えば、ポリオキシエチレンアルキルエ
ーテル、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテ
ル、ポリオキシエチレンアルキル脂肪酸アミド、ポリオ
キシエチレン硬化ヒマシ油エーテル、ポリオキシエチレ
ン12−ヒドロキシステアリン酸エステル、ポリオキシ
エチレンアルキル脂肪酸エステル、ポリオキシエチレン
ロジンエステル、ポリオキシエチレングリセリンアルキ
ル脂肪酸モノまたはジエステル、ポリオキシエチレント
リメチロールプロパンアルキル脂肪酸モノまたはジエス
テル、ポリオキシエチレンペンタエリスリトールアルキ
ル脂肪酸モノまたはジエステル、ポリオキシエチレンポ
リオキシアルキレンエーテルの群の中から選ばれるもの
が好ましい。更に、これらの中でもエチレンオキサイド
の付加によりKarabinos法による曇数が15.0以上のも
のが好ましく、特に、融解点が約50〜60℃で、Kara
binos法による曇数が約16〜18のポリエチレンオキ
サイド鎖を有するノニオン型高分子活性剤が好ましい。
The lubricating layer 4 must be a layer containing a nonionic polymer activator such as polyethylene glycol, polyoxyethylene lauryl ether or polyvinyl methyl ether. The nonionic polymer activator used herein includes, for example, polyoxyethylene alkyl ether, polyoxyethylene alkyl phenyl ether, polyoxyethylene alkyl fatty acid amide, polyoxyethylene hydrogenated castor oil ether, polyoxyethylene 12-hydroxystearic acid Ester, polyoxyethylene alkyl fatty acid ester, polyoxyethylene rosin ester, polyoxyethylene glycerin alkyl fatty acid mono or diester, polyoxyethylene trimethylol propane alkyl fatty acid mono or diester, polyoxyethylene pentaerythritol alkyl fatty acid mono or diester, polyoxy Those selected from the group of ethylene polyoxyalkylene ethers are preferred. Further, among these, those having a haze number of 15.0 or more according to the Karabinos method due to the addition of ethylene oxide are preferred.
A nonionic polymer activator having a polyethylene oxide chain having a haze number of about 16 to 18 by the binos method is preferred.

【0022 】前述の融解点が約50〜60℃で、Karab
inos法による曇数が約16〜18のポリエチレンオキサ
イド鎖を有するノニオン型高分子活性剤が含有された潤
滑層4を最外層に有する構造であるならば、プレス加
工、特に、ドローレス加工に際して潤滑特性に優れ、金
型が損傷し難く、作業効率良くフィン材などの成形品を
加工することができる。なお、これらの条件を満たすノ
ニオン型潤滑層4を実用的に製造する方法の一例とし
て、特開平7−041696号公報に開示の製造方法を
適用することができる。
When the above melting point is about 50-60 ° C., Karab
If the outermost layer has a lubricating layer 4 containing a nonionic polymer activator having a polyethylene oxide chain having a haze number of about 16 to 18 according to the inos method, lubricating properties during press working, especially drawless working It is possible to process a molded article such as a fin material with high working efficiency with a low mold damage. As an example of a method for practically producing the nonionic lubricating layer 4 satisfying these conditions, the production method disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 7-041696 can be applied.

【0023 】前記ノニオン型高分子活性剤を水などの
溶媒に所定量溶解させ、この塗料溶液をロールコート、
グラビアコートなどの適宜な塗布手段で光触媒層3の上
に塗布し乾燥させることで図1に断面構造を示す潤滑層
4を備えた光触媒プレコート材料Aを得ることができ
る。この乾燥後の潤滑層4は厚さが0.02μm以上、
好ましくは0.02μm〜1.0μmの範囲であることが
好ましい。潤滑層4の厚さが0.02μmよりも薄い場
合は、塑性加工した場合の潤滑性が低下し、加工不良、
金型の焼付きなどを起こし易くなる。潤滑層4の厚さが
1.0μmよりも厚い場合は潤滑性には問題ないもの
の、潤滑剤が無駄になり易く、製造コストの面で不利と
なる。
A predetermined amount of the nonionic polymer activator is dissolved in a solvent such as water, and this coating solution is roll-coated,
The photocatalyst precoat material A provided with the lubricating layer 4 having a cross-sectional structure shown in FIG. 1 can be obtained by applying and drying the photocatalyst layer 3 by an appropriate application means such as a gravure coat. The lubricating layer 4 after drying has a thickness of 0.02 μm or more,
Preferably, it is in the range of 0.02 μm to 1.0 μm. If the thickness of the lubricating layer 4 is less than 0.02 μm, the lubricity in the case of plastic working decreases, resulting in poor processing.
It is easy to cause seizure of the mold. When the thickness of the lubricating layer 4 is greater than 1.0 μm, there is no problem in lubricity, but the lubricant is easily wasted, which is disadvantageous in terms of manufacturing cost.

【0024 】以上の構成の光触媒プレコート材料Aを
プレス加工、絞り加工、しごき加工等の塑性加工により
必要な形状に加工して種々の目的に使用することができ
る。この塑性加工の際に、光触媒プレコート材料Aの表
面に設けた潤滑層4の作用により、塑性加工する場合の
金型やダイスなどとの摩擦を少なくするので、成形不良
や金型への焼き付を生じることがない。そして、所望の
形状への成形後、必要に応じて潤滑層4を洗浄等の手段
で除去することで加工品を得ることができる。この潤滑
層4は成形品の状態で残留していても良いし、特に洗浄
等の手段で除去しても差し支えない。
The photocatalyst precoat material A having the above-described structure can be processed into a required shape by plastic working such as pressing, drawing, and ironing, and used for various purposes. In this plastic working, the lubricating layer 4 provided on the surface of the photocatalyst precoat material A reduces friction with a mold or a die during plastic working. Does not occur. Then, after molding into a desired shape, the processed product can be obtained by removing the lubricating layer 4 as necessary by means such as washing. The lubricating layer 4 may remain in the form of a molded product, or may be removed by means such as washing.

【0025 】以上のように製造された光触媒プレコー
ト成形材料Aからなる成形品は、光触媒層3を表面部分
の全面に均一に有しているので、光触媒層3に紫外線等
のエネルギー光が照射されると、空気に触れている光触
媒層4の表面部分に電子が励起されてO2+あるいはOH
-が生成され、これらによって有機物を分解する作用を
得ることができ、光触媒によって成形品表面の抗菌、抗
カビ、浄化作用などの浄化機能(作用)を得ることがで
きる。
Since the molded article made of the photocatalyst precoat molding material A manufactured as described above has the photocatalyst layer 3 uniformly on the entire surface, the photocatalyst layer 3 is irradiated with energy light such as ultraviolet rays. Then, electrons are excited on the surface portion of the photocatalyst layer 4 which is in contact with air, and O 2+ or OH
-Can be generated, whereby the action of decomposing organic substances can be obtained, and the photocatalyst can obtain a purifying function (action) such as antibacterial, antifungal and purifying action on the surface of the molded article.

【0026 】ここで成形品が熱交換器用のフィン材で
あるならば、フィン材にカビを生じないようにできるの
で、抗菌性と防カビ性を発揮するフィン材を有する熱交
換器を提供することができる。なお、熱交換器用のフィ
ン材であれば、フィン材の表面に水滴が付着する状態で
使用されるので、成形後の表面部分に潤滑層4が残留し
ていても、潤滑層4は水滴によって徐々に除去されるの
で、潤滑層4を特に除去しなくとも良い。また、本実施
形態の構造を成形品として利用する場合、フィン材以外
に、レンジフード、容器など種々の成形品用途として広
く供することができる。その外、先に基材1の構成材料
として説明した種々の用途に本実施形態の光触媒プレコ
ート成形材料Aを広く適用できるのは勿論である。その
場合、いずれの用途に供しても抗菌、防カビ性能等の優
れた浄化機能(作用)を得ることができる。
Here, if the molded article is a fin material for a heat exchanger, mold can be prevented from being generated on the fin material, so that a heat exchanger having a fin material exhibiting antibacterial property and antifungal property is provided. be able to. In the case of a fin material for a heat exchanger, since the fin material is used in a state where water droplets adhere to the surface of the fin material, even if the lubricating layer 4 remains on the surface portion after molding, the lubricating layer 4 is formed by water droplets. Since the lubricant layer 4 is gradually removed, the lubricant layer 4 does not need to be particularly removed. When the structure of the present embodiment is used as a molded product, it can be widely used as various molded product applications such as a range hood and a container in addition to the fin material. In addition, it goes without saying that the photocatalyst precoat molding material A of the present embodiment can be widely applied to various uses described above as the constituent material of the base material 1. In this case, an excellent purification function (action) such as antibacterial and antifungal performance can be obtained regardless of the application.

【0027 】図2は本発明に係る光触媒プレコート成
形材料を用いて得られたフィン材を備えたエアコン用の
熱交換器の一例を示すもので、この例の熱交換器Bは、
フィン部材が多数積層された構成のフィン材(光触媒プ
レコート成形体)14に蛇行状態のチューブ13を配し
て構成されている。この構造の熱交換器Bはフィン材1
4が先に説明した光触媒プレコート成形材料Aを塑性加
工してなるものから構成されている。
FIG. 2 shows an example of a heat exchanger for an air conditioner provided with a fin material obtained by using the photocatalyst precoat molding material according to the present invention.
A meandering tube 13 is arranged on a fin material (photocatalyst pre-coated molded product) 14 having a configuration in which a large number of fin members are stacked. The heat exchanger B of this structure has a fin material 1
Reference numeral 4 is formed by plastically processing the photocatalyst precoat molding material A described above.

【0028 】このように熱交換器Bのフィン材14・・・
を光触媒プレコート材料Aから構成すると、光触媒プレ
コート材料Aの全表面に光触媒層3を均一に設けている
ので熱交換器Bのフィン材14・・・の全面で均一な抗
菌、抗カビ作用などの浄化機能(作用)を得ることがで
きる。即ち、成形前のアルミニウム板またはアルミニウ
ム合金板の全面に光触媒層3を予め全面塗布しておけば
フィン材14・・・の全面で浄化機能(作用)を確実に得
ることができる。
As described above, the fin members 14 of the heat exchanger B are used.
Is composed of the photocatalyst precoat material A, since the photocatalyst layer 3 is uniformly provided on the entire surface of the photocatalyst precoat material A, uniform antibacterial and antifungal effects are achieved over the entire surface of the fin material 14 of the heat exchanger B. A purifying function (action) can be obtained. That is, if the photocatalyst layer 3 is applied in advance to the entire surface of the aluminum plate or aluminum alloy plate before molding, the purification function (action) can be reliably obtained over the entire surface of the fin members 14.

【0029 】ところで本実施形態においては、機能性
皮膜に光触媒層3を適用した実施形態を例示したが、機
能性皮膜としては光触媒層の外に、種々のものを適用す
ることができる。例えば、更に耐食性を必要な用途であ
るならば、機能性皮膜の一例として光触媒層に代えて耐
食性皮膜(機能性皮膜)を形成しても良く、発色などが
必要な場合は光触媒層に代えて発色層(機能性皮膜)を
形成しても良く、耐摩耗性などが必要な用途では光触媒
層に代えて耐摩耗性に優れた皮膜(機能性皮膜)を形成
しても良く、導電性が必要な場合は導電膜(機能性皮
膜)を形成しても良く、種々の用途に応じて必要な機能
性皮膜を形成することで本発明のアルミニウム材Bを各
種用途に適用できる。
In this embodiment, the embodiment in which the photocatalyst layer 3 is applied to the functional film has been exemplified. However, various functional films can be applied in addition to the photocatalyst layer. For example, if the application requires further corrosion resistance, a corrosion-resistant film (functional film) may be formed instead of the photocatalyst layer as an example of the functional film. A color-forming layer (functional film) may be formed, and in applications requiring abrasion resistance, etc., a film (functional film) having excellent abrasion resistance may be formed in place of the photocatalytic layer. If necessary, a conductive film (functional film) may be formed, and the aluminum material B of the present invention can be applied to various uses by forming a necessary functional film according to various uses.

【0030 】次に、下地層2として用いる空孔率5〜
30%の微孔質陽極酸化皮膜を製造する方法について以
下に説明する。微孔質陽極酸化皮膜を製造するには、皮
膜が多孔質化する前の段階で電解を停止することで多孔
質皮膜が成長する前の段階の無孔質に近い状態の皮膜を
得ることにより行う方法が好ましい。ここで用いる電解
液として、硫酸、リン酸、クロム酸、シュウ酸の1種又
は2種以上の溶液を用いることができる。これらの電解
液を用いてアルミニウムまたはアルミニウム合金からな
る基材1を陽極酸化すると、電解の初期段階において、
無孔質のバリア層と称されている陽極酸化皮膜が成長
し、この無孔質の陽極酸化皮膜の成長が所定の段階まで
進むと、多孔質層が急激に成長して多孔質の陽極酸化皮
膜が生成される。ただし、本明細書において多孔質陽極
酸化皮膜と称するのは、無孔質の薄いバリア層の上に多
孔質層が成長したものを意味する。
Next, the porosity used as the underlayer 2 is 5 to 5.
A method for producing a 30% microporous anodized film will be described below. In order to produce a microporous anodized film, the electrolysis is stopped before the film becomes porous to obtain a film that is almost non-porous at the stage before the porous film grows. The preferred method is to do so. As the electrolytic solution used here, one or more solutions of sulfuric acid, phosphoric acid, chromic acid, and oxalic acid can be used. When the base material 1 made of aluminum or an aluminum alloy is anodized using these electrolytic solutions, in the initial stage of electrolysis,
An anodic oxide film called a non-porous barrier layer grows, and when the growth of the non-porous anodic oxide film proceeds to a predetermined stage, the porous layer rapidly grows to form a porous anodic oxide film. A film is formed. However, in this specification, a porous anodic oxide film means a porous layer grown on a nonporous thin barrier layer.

【0031 】ここで、この種の陽極酸化皮膜の成長モ
デルを図3を基に説明する。図3の横軸は陽極酸化皮膜
の厚さ、縦軸は空孔率を示すが、通常、多孔質陽極酸化
皮膜を製造すると、1000〜2000Å程度の膜厚の
無孔質膜が生成した後、膜厚がほとんど増加しないまま
急激な空孔率の上昇が起こり、空孔率が30%を越える
あたりから膜厚増加と空孔率増加の関係が比例関係に移
るようになるような成長曲線を示す。図3に示す成長曲
線は陽極酸化皮膜のモデル的な一例であるが、電解液の
濃度や種類、印加電圧、印加電流密度を多少異なる条件
としたとしても、ある膜厚の無孔質層が生成した後、空
孔率が急激に上昇し、その後、空孔率30%を越えるあ
たりから膜厚増加と空孔率増加の関係が比例関係に移る
ようになって多孔質陽極酸化皮膜が生成する傾向は同様
となる。
Here, a growth model of this kind of anodic oxide film will be described with reference to FIG. The horizontal axis in FIG. 3 indicates the thickness of the anodic oxide film, and the vertical axis indicates the porosity. Usually, when a porous anodic oxide film is manufactured, a nonporous film having a thickness of about 1000 to 2000 ° is formed. A growth curve in which the porosity sharply rises while the film thickness hardly increases, and the relationship between the film thickness increase and the porosity increase shifts to a proportional relationship when the porosity exceeds 30%. Is shown. The growth curve shown in FIG. 3 is a model example of the anodic oxide film. After the formation, the porosity sharply increases, and then, when the porosity exceeds 30%, the relationship between the increase in the film thickness and the increase in the porosity shifts to a proportional relationship, and the porous anodic oxide film is formed. The tendency to do so is similar.

【0032 】図3に示す陽極酸化皮膜の成長モデルか
ら見ると、下地層2として用いる空孔率5〜30%の微
孔質の陽極酸化皮膜を得るためには、陽極酸化皮膜の成
長過程で空孔率が低い状態において電解処理を停止すれ
ば良いこととなる。なお、図3に示す成長モデルから見
ると、電解の初期段階では空孔率5%以下の無孔質層陽
極酸化皮膜も存在するので、先に説明した無孔質陽極酸
化皮膜の製造条件ではなく、以下に説明する多孔質陽極
酸化皮膜を製造する場合の陽極酸化処理の最初期段階に
おいて電解を停止することで無孔質陽極酸化皮膜を得る
ようにして下地層2としても良い。
Referring to the growth model of the anodic oxide film shown in FIG. 3, in order to obtain a microporous anodic oxide film having a porosity of 5 to 30% to be used as the underlayer 2, it is necessary to increase the anodic oxide film during the growth process. In other words, the electrolytic treatment may be stopped in a state where the porosity is low. According to the growth model shown in FIG. 3, since the non-porous layer anodic oxide film having a porosity of 5% or less also exists in the initial stage of electrolysis, the production conditions of the non-porous anodic oxide film described above are not satisfied. Instead, the electrolysis may be stopped at the initial stage of the anodic oxidation treatment when the porous anodic oxide film described below is manufactured, so that the non-porous anodic oxide film may be obtained as the base layer 2.

【0033 】下地層2として微孔質陽極酸化皮膜を得
るには、例えば膜厚10〜1500Åの範囲、例えば空
孔率30%以下になるような電解条件で電解処理を停止
すれば良い。これらの条件において微孔質陽極酸化皮膜
のより好ましい範囲としては、膜厚50〜1000Å、
空孔率10%である。ここで用いる電解液として、硫
酸、リン酸、クロム酸、シュウ酸の1種又は2種以上を
選択する場合、一般に、電解電圧(V)×(14〜1
6)の値を陽極酸化皮膜の膜厚(Å)が越えると、多孔
質化を開始することがわかっている。よって、この電圧
以下で膜厚をコントロールするならば、無孔質状態の陽
極酸化皮膜、あるいは、微孔質状態の陽極酸化皮膜を形
成できる。この関係から、微孔質陽極酸化皮膜を製造す
る場合に膜厚(Å)は、電解電圧(V)×25よりも小
さく設定することが好ましく、電解電圧(V)×18よ
りも小さく設定することがより好ましい。
In order to obtain a microporous anodic oxide film as the underlayer 2, the electrolytic treatment may be stopped under electrolytic conditions such that the film thickness is in the range of, for example, 10 to 1500 °, for example, the porosity is 30% or less. Under these conditions, a more preferable range of the microporous anodic oxide film is a film thickness of 50 to 1000 °,
The porosity is 10%. When one or more of sulfuric acid, phosphoric acid, chromic acid, and oxalic acid are selected as the electrolytic solution used here, generally, an electrolytic voltage (V) × (14 to 1)
It is known that when the thickness (Å) of the anodic oxide film exceeds the value of 6), porosity formation is started. Therefore, if the film thickness is controlled below this voltage, a nonporous anodic oxide film or a microporous anodic oxide film can be formed. From this relationship, when manufacturing the microporous anodized film, the film thickness (Å) is preferably set to be smaller than the electrolysis voltage (V) × 25, and is set to be smaller than the electrolysis voltage (V) × 18. Is more preferable.

【0034 】微孔質の陽極酸化皮膜の膜厚において1
0Å未満では耐食性が得られ難く、1500Åを越える
膜厚では多孔質化が進行しやすい、好適な範囲として
は、10〜1000Åである。空孔率においては5〜3
0%の範囲内でも5%を越えて20%以下とすることが
好ましく、空孔率5〜20%の陽極酸化皮膜では、空孔
率20%〜30%の陽極酸化皮膜に対して水分の放出を
より良く抑制でき、密着面積の低下を防止でき、皮膜破
壊を防止できやすくなるとの利点がある。このような観
点から微孔質陽極酸化皮膜の空孔率においては5〜10
%(5%を越えて10%以下)が好ましい。
The thickness of the microporous anodic oxide film is 1
If it is less than 0 °, it is difficult to obtain corrosion resistance, and if the film thickness exceeds 1500 °, porosity is likely to progress. The preferred range is 10 to 1000 °. 5 to 3 in porosity
Even within the range of 0%, it is preferable to be more than 5% and not more than 20%. In the case of an anodic oxide film having a porosity of 5 to 20%, the water content of the anodic oxide film having a porosity of 20% to 30% is lower. There is an advantage that release can be more effectively suppressed, a decrease in the contact area can be prevented, and film destruction can be easily prevented. From such a viewpoint, the porosity of the microporous anodized film is 5 to 10
% (More than 5% and 10% or less) is preferable.

【0035 】以上のような背景から、前記微孔質の陽
極酸化皮膜を製造する場合の電解浴中の電解質濃度は2
重量%からその電解質の飽和濃度の範囲で選ばれる。電
解浴の浴温は、5〜30℃の範囲で十分である。このよ
うな電解液中においてアルミニウム素材は、連続あるい
は断続的であっても陽極となるように電源に接続されて
陽極電解される。陰極には、不溶性の導電材料例えばカ
ーボン電極などが用いられる。電解電流は、直流電流な
どが用いられ、直流電解では直流密度0.5〜1.5A/
dm2程度、電解時間数秒〜10分程度で電解が行われ
る。
From the above background, the electrolyte concentration in the electrolytic bath when producing the microporous anodic oxide film is 2%.
It is selected from the range of weight% to the saturated concentration of the electrolyte. A bath temperature of the electrolytic bath of 5 to 30 ° C. is sufficient. In such an electrolytic solution, the aluminum material is connected to a power source and electrolyzed anodicly so as to be an anode even if it is continuous or intermittent. An insoluble conductive material such as a carbon electrode is used for the cathode. As the electrolytic current, a direct current or the like is used. In the direct current electrolysis, a direct current density of 0.5 to 1.5 A /
The electrolysis is performed in about dm 2 and the electrolysis time is several seconds to about 10 minutes.

【0036 】微孔質陽極酸化皮膜を製造する場合の印
加電圧は、直流電流では、電圧1Vに対して形成される
酸化皮膜厚さが約10Åとなる関係があることから、約
10〜20V、好ましくは約14〜18Vの範囲とされ
る。この電解によってアルミニウム素材表面に厚さ10
〜1500Å、好ましくは厚さ50〜1000Åの均一
な微孔質の陽極酸化皮膜が形成される。
The applied voltage for producing the microporous anodic oxide film is about 10 to 20 V since a thickness of the oxide film formed with respect to a voltage of 1 V is about 10 ° with respect to a direct current. It is preferably in the range of about 14-18V. By this electrolysis, a thickness of 10
A uniform microporous anodic oxide film having a thickness of ~ 1500 °, preferably 50-1000 °, is formed.

【0037 】図4は図3に示す空孔率を高くして多孔
質とした陽極酸化皮膜の断面構造のモデル図であり、図
5は図3に示す空孔率を10%程度として得られる無孔
質に近い微孔質の陽極酸化皮膜の断面構造のモデル図で
ある。図4に示す多孔質陽極酸化皮膜10は無孔質のバ
リア層10aとその上に成長形成された多孔質層10b
とからなり、図5に示す無孔質に近い微孔質の陽極酸化
皮膜11は孔が成長しないまま表面に多少の凹凸部が存
在している断面構造を示す。なお、微孔質の陽極酸化皮
膜11においても5〜30%の孔は存在するので、この
割合の孔を有することとなるが、図5では明確な形の孔
は記載を略している。
FIG. 4 is a model diagram of the cross-sectional structure of the porous anodic oxide film having a high porosity shown in FIG. 3, and FIG. 5 is obtained by setting the porosity shown in FIG. 3 to about 10%. It is a model figure of the cross-sectional structure of a microporous anodic oxide film near non-porous. The porous anodic oxide film 10 shown in FIG. 4 has a non-porous barrier layer 10a and a porous layer 10b grown thereon.
The microporous anodic oxide coating 11 shown in FIG. 5 has a cross-sectional structure in which some irregularities are present on the surface without growth of pores. Note that the microporous anodic oxide film 11 also has 5 to 30% of holes, so that the microporous anodic oxide film 11 has holes of this ratio. However, in FIG. 5, clear holes are not shown.

【0038 】図5に示す構造の微孔質陽極酸化皮膜1
1であるならば、ガス放出性について見ると、多孔質の
ものよりも格段に少なく、先に説明した本発明者らの特
許出願に係る無孔質の陽極酸化皮膜に近い低いガス放出
性を得ることができる。また、表面に積層される光触媒
層3などの機能性皮膜に対するアンカー効果を検討する
と、無孔質の陽極酸化皮膜と比較して表面に凹凸を有す
るので無孔質の陽極酸化皮膜よりはアンカー効果を有す
るので、光触媒層3の密着性にも優れる。勿論、先に説
明したようにガス放出性が低いので光触媒層3を塗布し
て焼付けする場合に水分やイオン分の揮発や蒸散も少な
いので焼付け後の剥離や剥がれにも強い効果を奏する。
Microporous anodic oxide film 1 having the structure shown in FIG.
If it is 1, when it comes to the gas release property, it is much less than the porous one, and has a low gas release property close to the non-porous anodic oxide film according to the patent application of the present inventors described above. Obtainable. Further, when examining the anchor effect on the functional film such as the photocatalytic layer 3 laminated on the surface, the anchor effect is higher than that of the nonporous anodic oxide film because the surface has irregularities as compared with the nonporous anodic oxide film. Therefore, the adhesion of the photocatalyst layer 3 is also excellent. Of course, as described above, when the photocatalyst layer 3 is applied and baked because of low gas release property, there is little volatilization and evaporation of water and ions, so that it has a strong effect on peeling and peeling after baking.

【0039 】以上の結果から鑑みて、皮膜のアンカー
効果とガス放出性について、無孔質陽極酸化皮膜と微孔
質陽極酸化皮膜と多孔質陽極酸化皮膜を比較すると、以
下のようになると考えられ、微孔質陽極酸化皮膜が両方
の特性を満足し得る優れたものとなる。 アンカー効果 ガス放出性 無孔質陽極酸化皮膜 × 〇 微孔質陽極酸化皮膜 △ 〇 多孔質陽極酸化皮膜 〇(×) ×
In view of the above results, it is considered that the non-porous anodic oxide film, the microporous anodic oxide film, and the porous anodic oxide film are as follows as to the anchor effect and the gas release property of the film. In addition, the microporous anodic oxide film is excellent in satisfying both characteristics. Anchor effect Outgassing Nonporous anodized film × 〇 Microporous anodized film △ 〇 Porous anodized film 〇 (×) ×

【0040 】[0040]

【実施例】JIS規定の純アルミニウム系の1N30、
1050、1200およびJIS3003系、3004
系のアルミニウム合金からなる厚さ100μm、200
μm、300μmのアルミニウム基板(基材)を複数用
意した。これら種々の基板を以下の種々の条件で陽極酸
化処理して陽極酸化皮膜を形成した。陽極酸化処理の条
件として、微孔質の陽極酸化皮膜を形成する場合には、
150g/l硫酸溶液、電流密度1.3A/dm2であ
り、無孔質の陽極酸化皮膜を形成する場合には、100
g/l硼酸溶液、電流密度3.0A/dm2とした。前記
の条件により微孔質の陽極酸化皮膜として、厚さ100
0Åのものを得ることができ、無孔質の陽極酸化皮膜と
して、厚さ800Åのものを得ることができた。
[Example] 1N30 of pure aluminum based on JIS,
1050, 1200 and JIS 3003, 3004
Thickness of 100 μm, 200
A plurality of μm and 300 μm aluminum substrates (base materials) were prepared. These various substrates were anodized under the following various conditions to form an anodized film. As a condition of the anodic oxidation treatment, when forming a microporous anodized film,
150 g / l sulfuric acid solution, current density 1.3 A / dm 2 , 100% for forming nonporous anodic oxide film
g / l boric acid solution and the current density was 3.0 A / dm 2 . Under the above conditions, a microporous anodic oxide film having a thickness of 100
A film having a thickness of 800 mm was obtained as a non-porous anodized film having a thickness of 0 mm.

【0041 】これらの膜厚は、試料を樹脂に埋設した
後、ミクロトームで切断し、断面をTEM観察して直接
膜厚を測定する方法による測定結果である。なお、得ら
れた無孔質の陽極酸化皮膜の空孔率を測定する方法は、
表面を10万倍に拡大可能な電子顕微鏡で観察し、任意
の20カ所の孔の面積率を測定し平均するものであり、
この方法による測定結果では空孔率2%の無孔質陽極酸
化皮膜であり、上述の微孔質陽極酸化皮膜では空孔率1
0%であった。次に、これら各種の基板上の陽極酸化皮
膜の上に厚さ0.5μmのTiO2層(光触媒層)を形成
し、続いてこのTiO2層上に厚さ0.15μmの潤滑層
を形成した。光触媒層はTiO2粉末50重量部に対し
てSiO2が主体のバインダーを50重量部混合し、こ
れをロールコータでアルミニウム基板の表面に塗布し、
150℃に加熱し、焼き付けることで形成した。
These film thicknesses are the measurement results obtained by embedding a sample in a resin, cutting the sample with a microtome, observing the cross section with a TEM, and directly measuring the film thickness. The method for measuring the porosity of the obtained nonporous anodic oxide film is as follows.
Observing the surface with an electron microscope that can be magnified 100,000 times, measuring and averaging the area ratio of arbitrary 20 holes,
According to the measurement results obtained by this method, a nonporous anodic oxide film having a porosity of 2% was obtained.
It was 0%. Next, a 0.5 μm-thick TiO 2 layer (photocatalytic layer) is formed on the anodic oxide film on these various substrates, and then a 0.15 μm-thick lubricating layer is formed on this TiO 2 layer. did. The photocatalyst layer was prepared by mixing 50 parts by weight of a binder mainly composed of SiO 2 with respect to 50 parts by weight of TiO 2 powder, and coating the mixture on the surface of an aluminum substrate with a roll coater.
It was formed by heating to 150 ° C. and baking.

【0042 】潤滑層は以下のように製造した。オート
クレーブに以下に示す原料及び触媒を仕込み、窒素ガス
を用いてオートクレーブ内の空気を窒素に置換する。そ
の後、オートクレーブの内部温度を120℃に上げ、規
定量のエチレンオキサイドをオートクレーブ内に吹き込
み、反応温度を120〜160℃に維持しつつ吹き込み
を完了させ、続けて同温度で1時間反応を完結させ、ノ
ニオン型高分子潤滑剤を得た。原化合物はロジンを用
い、仕込み量270g、モル数を0.1、触媒をKOH
とし、仕込み量を0.14、エチレンオキサイド吹き込
み量880g、モル数を20モル、収量を900gとし
た。
The lubricating layer was manufactured as follows. The following raw materials and catalyst are charged into an autoclave, and the air in the autoclave is replaced with nitrogen using nitrogen gas. Thereafter, the internal temperature of the autoclave is raised to 120 ° C., a specified amount of ethylene oxide is blown into the autoclave, the blowing is completed while maintaining the reaction temperature at 120 to 160 ° C., and then the reaction is completed at the same temperature for 1 hour. Thus, a nonionic polymer lubricant was obtained. The raw compound is rosin, the charge amount is 270 g, the number of moles is 0.1, and the catalyst is KOH.
The charged amount was 0.14, the ethylene oxide blowing amount was 880 g, the number of moles was 20 mol, and the yield was 900 g.

【0043 】得られたノニオン型潤滑剤はポリオキシ
エチレン(200)エステルである。このポリオキシエ
チレン(200)エステルを先の光触媒層上に厚さ0.
15μmになるように被覆したものを実施例1の試料と
した。更に、実施例1の試料と同等の積層構造である
が、潤滑層の厚さのみを0.02μmとしたものを実施
例2とした。なお、これらの実施例1、2は下地層とし
て無孔質(空孔率2%)の陽極酸化皮膜を用いた試料で
あり、実施例1の試料に対して微孔質の陽極酸化皮膜
(空孔率10%)を用いて他の各層は同等としたものを
実施例3の試料、実施例2の試料に対して微孔質の陽極
酸化皮膜を用いて他の各層は同等としたものを実施例4
の試料とした。
The obtained nonionic lubricant is a polyoxyethylene (200) ester. This polyoxyethylene (200) ester was coated on the photocatalyst layer to a thickness of 0.5 mm.
What was coated so as to have a thickness of 15 μm was used as a sample of Example 1. Further, Example 2 had a laminated structure equivalent to that of the sample of Example 1 except that only the thickness of the lubricating layer was 0.02 μm. Examples 1 and 2 are samples using a nonporous (2% porosity) anodic oxide film as a base layer, and the microporous anodic oxide film ( The porosity is 10%), and the other layers are made equal to each other by using a microporous anodic oxide film with respect to the sample of Example 3 and the sample of Example 2. Example 4
Sample.

【0044 】実施例1の試料に対し、アルミニウムあ
るいはアルミニウム合金の基板、下地層、光触媒層は同
じものを用い、最上の潤滑層のみを省略したものを比較
例1の試料とした。実施例1の試料に対し、下地層と潤
滑層を両方省略した構造(基板+光触媒層)を比較例2
とした。実施例1の試料に対し、基板と下地層と光触媒
層は同等として、潤滑層として厚さ0.01μmのもの
を用いた試料を比較例3とした。実施例1の試料に対
し、下地層を省略し、光触媒層と潤滑層は同等なものと
した試料を比較例4とした。
The sample of Example 1 was the same as the sample of Example 1 except that the same substrate, underlayer and photocatalyst layer of aluminum or aluminum alloy were used, and only the uppermost lubricating layer was omitted. Comparative Example 2 Compared to the sample of Example 1, a structure (substrate + photocatalytic layer) in which both the underlayer and the lubricating layer were omitted was used.
And Compared to the sample of Example 1, the substrate, the underlayer, and the photocatalytic layer were equivalent, and a sample using a lubricant layer having a thickness of 0.01 μm was used as Comparative Example 3. A sample in which the underlayer was omitted from the sample of Example 1 and the photocatalytic layer and the lubricating layer were equivalent was designated as Comparative Example 4.

【0045 】実施例1、2、3、4の試料と比較例
1、2、3の試料に対し、摩擦係数をバウデン摩擦試験
機で測定する潤滑性測定試験を行なった。その結果を後
に記載する表1に示す。後の表1において〇印は動摩擦
係数が0.15以下のもの、△印は動摩擦係数が0.16
〜0.25のもの、×印は動摩擦係数が0.26以上のも
のを示している。
The samples of Examples 1, 2, 3, and 4 and the samples of Comparative Examples 1, 2, and 3 were subjected to a lubricity measurement test in which the coefficient of friction was measured with a Bowden friction tester. The results are shown in Table 1 below. In Table 1 below, the symbol 〇 indicates that the dynamic friction coefficient was 0.15 or less, and the symbol △ indicates that the dynamic friction coefficient was 0.16.
の も の 0.25, and × mark indicates those having a dynamic friction coefficient of 0.26 or more.

【0046 】更に、これらの試料に対して試料を揮発
性プレス油(出光石油製商品名AF−2A)を用いて日
高精機社製フィンプレス機を用いて連続プレス加工し、
9.52φドローレスと9.52φドローを用い、プレス
回数を10000ショットとして熱交換器用のフィン材
を成形した場合に、成形品の不良と金型への焼付性につ
いて評価した。この結果を加工性Aとして表1に示す。
表1の加工性Aにおいて〇印のものは成型不良が5%以
下で金型への焼付けが生じないもの、△印のものは成型
不良が5〜15%で金型への焼付けが少々生じたもの、
×印の試料は成型不良が15%以上で金型への焼付けが
多く発生したものである。
Further, these samples were continuously pressed using a volatile press oil (trade name: AF-2A, manufactured by Idemitsu Oil Co., Ltd.) using a fin press machine manufactured by Hidaka Seiki Co., Ltd.
When a fin material for a heat exchanger was molded using a 9.52φ drawless and a 9.52φ draw with a press number of 10,000 shots, defective molded products and seizure to a mold were evaluated. The results are shown in Table 1 as workability A.
In the workability A of Table 1, a mark with a mark Δ indicates that the molding defect was 5% or less and the baking to the mold did not occur, and a mark with a mark Δ indicated that the molding defect was 5 to 15% and the baking to the mold slightly occurred. Things,
The samples marked with “x” are those in which molding failure is 15% or more and burning to a mold is large.

【0047 】次に前述の試料に対してプレス油を用い
ることなく連続プレス加工し、成形品の不良と金型への
焼付性について評価した。この結果を加工性Bとして表
1に示す。表1の加工性Bにおいて〇印のものは成型不
良が5%以下で金型への焼付けが生じないもの、△印の
ものは成型不良が5〜15%で金型への焼付けが少々生
じたもの、×印の試料は成型不良が15%以上で金型へ
の焼付けが多く発生したものである。
Next, the above-mentioned sample was subjected to continuous press working without using press oil, and the defect of the molded product and the seizure to a mold were evaluated. The results are shown in Table 1 as workability B. In the workability B of Table 1, a mark with a mark Δ indicates that the molding failure was 5% or less and the baking to the mold did not occur, and a mark with a mark Δ indicated that the molding failure was 5 to 15% and a little baking to the mold occurred. In addition, the samples marked with “x” have a molding defect of 15% or more and a lot of baking to the mold.

【0048 】 「表1」 試料種別 潤滑性 プレス加工性A プレス加工性B 実施例1(無孔質皮膜) 〇 〇 〇 実施例2(無孔質皮膜) 〇 〇 〇 実施例3(微孔質皮膜) 〇 〇 〇 実施例4(微孔質皮膜) 〇 〇 〇 比較例1 × 〇 × 比較例2 × × × 比較例3 △ 〇 △ 比較例4 〇 〇 △[Table 1] Sample type Lubricity Press workability A Press workability B Example 1 (non-porous film) 〇 〇 2 Example 2 (non-porous film) 〇 〇 3 Example 3 (microporous Film) 〇 〇 〇 Example 4 (microporous film) 〇 〇 例 Comparative Example 1 × 〇 × Comparative Example 2 × × × Comparative Example 3 △ 〇 △ Comparative Example 4 〇 〇 △

【0049 】表1に示す結果から、比較例1〜4の試
料は潤滑性と加工性Aと加工性Bのいずれかにおいて問
題を有するが、実施例1、2、3、4の試料は潤滑性と
プレス加工性Aとプレス加工性Bのいずれにも合格する
ことが判明した。このことから、実施例1、2、3、4
の試料の構造であれば、塑性加工に耐える光触媒層をア
ルミニウム基板またはアルミニウム合金基板上に有し、
塑性加工を行なう品物に対して均一な光触媒層を付与で
きることが明らかになった。
From the results shown in Table 1, the samples of Comparative Examples 1 to 4 have problems in lubricity and any of workability A and workability B, but the samples of Examples 1, 2, 3, and 4 have lubricity. It was found that both the press workability A and the press workability B passed. From this, Examples 1, 2, 3, 4
If the structure of the sample of, having a photocatalytic layer that can withstand plastic processing on an aluminum substrate or an aluminum alloy substrate,
It has been clarified that a uniform photocatalyst layer can be provided to an article subjected to plastic working.

【0050 】次に実施例1で用いた下地層を形成した
前記複数の基板に対し、石原産業製の光触媒塗料ST−
K03(商品名)を塗布量として0.15g/m2(膜厚
0.09μm)、0.30g/m2(膜厚0.18μm)、
0.60g/m2(膜厚0.36μm)の割合で塗布し、
250℃で30秒間焼付け乾燥させて各試料を作成し、
それぞれの接触角(°)を初期値として測定した。接触
角の測定には、協和界面科学株式会社製の接触角計CA
-Dを用いた。続いてこれらの試料を昭和シェル製の揮
発油RF−190(商品名)に2分間浸漬した後に乾燥
し、乾燥後に残留油分が存在する状態で接触角を測定し
た。
Next, a photocatalyst paint ST- made by Ishihara Sangyo Co., Ltd. was applied to the plurality of substrates on which the underlayer used in Example 1 was formed.
K03 (trade name) with a coating amount of 0.15 g / m 2 (0.09 μm film thickness), 0.30 g / m 2 (0.18 μm film thickness),
0.60 g / m 2 (0.36 μm thick)
Each sample was prepared by baking and drying at 250 ° C. for 30 seconds,
Each contact angle (°) was measured as an initial value. Contact angle meter CA manufactured by Kyowa Interface Science Co., Ltd.
-D was used. Subsequently, these samples were immersed in volatile oil RF-190 (trade name) manufactured by Showa Shell for 2 minutes and then dried, and the contact angle was measured in a state where the residual oil was present after drying.

【0051 】次に、乾燥後の基板にブラックライトラ
ンプ(BBLランプ)を用いて約1mW/cm2の紫外線を照
射し、0.5時間経過後、1時間経過後、3時間経過
後、6時間経過後、10時間経過後、24時間経過後、
48時間経過後のそれぞれの接触角を測定した。以上の
結果を以下の表2に示す。表2において初期とは揮発油
浸漬前の接触角を示し、油汚染後は揮発油に浸漬後の接
触角を示す。
Next, the dried substrate was irradiated with ultraviolet rays of about 1 mW / cm 2 using a black light lamp (BBL lamp), and after 0.5 hour, 1 hour, 3 hours, After 10 hours, after 24 hours,
After 48 hours, the respective contact angles were measured. The above results are shown in Table 2 below. In Table 2, “initial” indicates the contact angle before immersion in the volatile oil, and “oil contamination” indicates the contact angle after immersion in the volatile oil.

【0052 】 「表2」 油汚染 BBLランプ紫外線照射量約1mW/cm2照射時 試料 初期値 後 0.5 1 3 6 10 24 48 1 0.15g 22 82 83 87 75 46 19 25 6 2 0.30g 22 84 81 88 50 20 5 6 5 3 0.60g 25 84 83 86 35 11 10 5 5[Table 2] Oil contamination BBL lamp Irradiation amount of ultraviolet rays about 1 mW / cm 2 Sample irradiation After initial value 0.5 1 3 6 10 24 48 1 0.15 g 22 82 83 87 75 46 19 25 6 2 0.30 g 22 84 81 88 50 20 5 65 3 0.60 g 25 84 83 86 35 11 10 10 5 5

【0053】表2に示す結果から、光触媒層の厚さが厚
い方(試料1の膜厚は0.09μm、試料2の膜厚は0.
18μm、試料3の膜厚は0.36μm)が残留油分を
分解して接触角を小さくする能力が向上していることが
明らかである。以上のことから、0.09μm〜0.36
μmの厚さの光触媒層を備えた本発明構造であるなら
ば、油汚染乾燥後の残留油分が存在する状態であって
も、比較的短時間、紫外線を照射することで接触角を大
幅に小さくできることが明らかであり、油汚染後の接触
角を小さくできたことから、光触媒層が有機物の残留油
分を分解したことが明らかであり、光触媒機能が生じる
ことを確認できた。また、このことから、各光触媒層が
抗菌、抗カビ等の浄化機能(作用)を奏し得るものと推
定できる。
From the results shown in Table 2, the thicker photocatalyst layer (the thickness of the sample 1 was 0.09 μm and the thickness of the sample 2 was 0.1 μm).
18 μm, and the film thickness of Sample 3 is 0.36 μm), it is clear that the ability to decompose residual oil and reduce the contact angle is improved. From the above, 0.09 μm to 0.36
If the structure of the present invention is provided with a photocatalyst layer having a thickness of μm, the contact angle can be significantly increased by irradiating ultraviolet rays for a relatively short time even in a state where residual oil content after oil contamination and drying exists. It was clear that the contact angle after oil contamination could be reduced, and it was clear that the photocatalyst layer decomposed the residual oil of the organic matter, confirming that the photocatalytic function was generated. From this, it can be estimated that each photocatalyst layer can exhibit a purifying function (action) such as antibacterial and antifungal.

【0054】[0054]

【発明の効果】以上説明したように本発明方法によれ
ば、アルミニウムまたはアルミニウム合金の金属基材
に、微孔質の陽極酸化皮膜の下地層を備えているので、
その上に形成される光触媒層などの機能性皮膜をアルミ
ニウムまたはアルミニウム合金の基材上に良好な密着性
でもって設けることができる。また、光触媒層などの機
能性皮膜の上に潤滑層を設けることでプレス加工や押出
加工などの塑性加工に耐える構造とすることができるの
で、塑性加工の前に基材全面に下地層を介して光触媒層
などの機能性皮膜を設けておけば、塑性加工後の全面に
均一に光触媒層などの機能性皮膜を設けたアルミニウム
成形材料からなる成形品を得ることができる。更に、陽
極酸化皮膜の下地層を有するので、その上に積層される
皮膜の密着性も良好で、光触媒層などの機能性皮膜形成
時に揮散または蒸散する水分やイオンの影響を無くする
ことができ、機能性皮膜の剥離や剥がれを防止できる。
As described above, according to the method of the present invention, since the base material of the microporous anodic oxide film is provided on the metal substrate of aluminum or aluminum alloy,
A functional film such as a photocatalyst layer formed thereon can be provided on an aluminum or aluminum alloy substrate with good adhesion. In addition, by providing a lubricating layer on a functional film such as a photocatalyst layer, a structure that can withstand plastic working such as press working or extrusion working can be used. If a functional film such as a photocatalyst layer is provided, a molded article made of an aluminum molding material having a functional film such as a photocatalyst layer provided uniformly over the entire surface after plastic working can be obtained. In addition, since it has a base layer of an anodic oxide film, the adhesion of the film laminated thereon is good, and the influence of moisture and ions that evaporate or evaporate when forming a functional film such as a photocatalytic layer can be eliminated. In addition, peeling and peeling of the functional film can be prevented.

【0055 】以上の構成のアルミニウム材を用いてエ
アコン用熱交換器などのフィン材を構成するならば、フ
ィン材の全面において機能性皮膜を有する熱交換器用フ
ィン材を得ることができる。
When a fin material such as a heat exchanger for an air conditioner is formed by using the aluminum material having the above-described structure, a fin material for a heat exchanger having a functional coating on the entire surface of the fin material can be obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 図1は本発明に係る光触媒プレコート成形材
料の第1実施形態の構造を示す断面図。
FIG. 1 is a sectional view showing the structure of a photocatalyst precoat molding material according to a first embodiment of the present invention.

【図2】 図2は本発明に係る光触媒プレコート成形材
料から構成されたフィン材を備えた熱交換器の一例を示
す正面図。
FIG. 2 is a front view showing an example of a heat exchanger provided with a fin material composed of a photocatalyst precoat molding material according to the present invention.

【図3】 図3は陽極酸化皮膜を形成する場合の膜厚と
空孔率の関係を示すモデル図である。
FIG. 3 is a model diagram showing a relationship between a film thickness and a porosity when an anodic oxide film is formed.

【図4】 図4は多孔質の陽極酸化皮膜の断面構造を示
すモデル図である。
FIG. 4 is a model diagram showing a cross-sectional structure of a porous anodic oxide film.

【図5】 図5は微孔質の陽極酸化皮膜の断面構造を示
すモデル図である。
FIG. 5 is a model diagram showing a cross-sectional structure of a microporous anodic oxide film.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

A・・・光触媒プレコート成形材料、1・・・金属基材、2・・
・下地層(微孔質陽極酸化皮膜)、3・・・光触媒層(機能
性皮膜)、4・・・潤滑層、10・・・多孔質陽極酸化皮膜、
10a・・・バリア層、10b・・・多孔質層、11・・・微孔
質陽極酸化皮膜、B・・・熱交換器、14・・・フィン材(光
触媒プレコート成形体)。
A: photocatalyst precoat molding material, 1: metal substrate, 2 ...
・ Underlayer (microporous anodized film), 3 ・ ・ ・ Photocatalytic layer (functional film), 4 ・ ・ ・ Lubricating layer, 10 ・ ・ ・ Porous anodized film,
10a: barrier layer, 10b: porous layer, 11: microporous anodized film, B: heat exchanger, 14: fin material (photocatalyst pre-coated molded product).

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) B32B 15/04 B32B 15/04 Z 15/20 15/20 C25D 11/04 302 C25D 11/04 302 11/18 312 11/18 312 F28F 1/12 F28F 1/12 G Fターム(参考) 4F100 AA17B AA20 AA21 AB10A AB31A AJ11 AK54 AR00D AS00C BA02 BA03 BA04 BA10A BA10C BA10D DJ10B EJ12B EJ61 GB51 JK06 JK16D JL01 JL08 JM02B YY00B 4G069 AA01 AA03 AA08 BA01A BA01B BA02B BA04B BA48A CD10 DA05 EA11 EB12X EB12Y EB15Y ED04 FA02 FA03 FB23 FB42 4K044 AA06 BA12 BA21 BB03 BB04 BB13 BC05 CA17 CA22 CA53 CA64 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat ゛ (Reference) B32B 15/04 B32B 15/04 Z 15/20 15/20 C25D 11/04 302 C25D 11/04 302 11 / 18 312 11/18 312 F28F 1/12 F28F 1/12 G F-term (reference) 4F100 AA17B AA20 AA21 AB10A AB31A AJ11 AK54 AR00D AS00C BA02 BA03 BA04 BA10A BA10C BA10D DJ10B EJ12B EJ61 GB51 JK01 JK08AJJA08A BA01A BA01B BA02B BA04B BA48A CD10 DA05 EA11 EB12X EB12Y EB15Y ED04 FA02 FA03 FB23 FB42 4K044 AA06 BA12 BA21 BB03 BB04 BB13 BC05 CA17 CA22 CA53 CA64

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 アルミニウム又はアルミニウム合金から
なる金属基材と、該金属基材の表面に形成された空孔率
5〜30%の微孔質陽極酸化皮膜からなる下地層とを具
備してなることを特徴とするアルミニウム材。
1. A metal substrate comprising aluminum or an aluminum alloy, and an underlayer comprising a microporous anodic oxide film having a porosity of 5 to 30% formed on the surface of the metal substrate. An aluminum material, characterized in that:
【請求項2】 前記微孔質陽極酸化皮膜上に機能性皮膜
が形成されてなることを特徴とするアルミニウム材。
2. An aluminum material, comprising a functional film formed on the microporous anodic oxide film.
【請求項3】 前記機能性皮膜上に潤滑層が形成されて
なることを特徴とするアルミニウム材。
3. An aluminum material comprising a lubricating layer formed on the functional film.
【請求項4】 アルミニウム又はアルミニウム合金から
なる金属基材と、該金属基材の表面に形成された空孔率
5〜30%の微孔質陽極酸化皮膜からなる下地層とを具
備してなるアルミニウム材を成形加工してなることを特
徴とするアルミニウム成形体。
4. A metal substrate comprising aluminum or an aluminum alloy, and a base layer comprising a microporous anodized film having a porosity of 5 to 30% formed on the surface of the metal substrate. An aluminum molded product obtained by molding an aluminum material.
【請求項5】 前記微孔質陽極酸化皮膜上に機能性皮膜
が形成されてなることを特徴とするアルミニウム成形
体。
5. An aluminum molded body, comprising a functional film formed on the microporous anodic oxide film.
【請求項6】 アルミニウム又はアルミニウム合金から
なる金属基材と、該金属基材の表面に形成された空孔率
5〜30%の微孔質陽極酸化皮膜からなる下地層とを具
備してなるアルミニウム材を成形加工してなることを特
徴とするフィン材。
6. A metal substrate comprising aluminum or an aluminum alloy, and an underlayer comprising a microporous anodized film having a porosity of 5 to 30% formed on the surface of the metal substrate. A fin material obtained by molding an aluminum material.
【請求項7】 前記微孔質陽極酸化皮膜上に機能性皮膜
が形成されてなることを特徴とするフィン材。
7. A fin material comprising a functional film formed on the microporous anodic oxide film.
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Cited By (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003003296A (en) * 2001-06-25 2003-01-08 Mitsubishi Alum Co Ltd Surface treated aluminum material and aluminum formed body
KR20040051024A (en) * 2002-12-11 2004-06-18 엘지전자 주식회사 Surface treatment structure of heat exchanger pin
JP2005103504A (en) * 2003-10-02 2005-04-21 Denka Himaku Kogyo Kk Magnesium metallic material having photocatalytically active surface and its manufacturing method
JP2005103505A (en) * 2003-10-02 2005-04-21 Denka Himaku Kogyo Kk Method for manufacturing magnesium metallic material having photocatalytically active surface
JP2005334827A (en) * 2004-05-28 2005-12-08 Mitsui Mining & Smelting Co Ltd Composite element
JP2006184822A (en) * 2004-12-28 2006-07-13 Shin Etsu Chem Co Ltd Pellicle for photolithography and pellicle frame
WO2006134737A1 (en) * 2005-06-17 2006-12-21 Tohoku University Metal oxide film, laminate, metal member and process for producing the same
JP2007237090A (en) * 2006-03-09 2007-09-20 Alumite Shokubai Kenkyusho:Kk Catalytic body using anodized aluminum film
EP1914330A1 (en) * 2005-06-17 2008-04-23 Tohoku University Protective film structure of metal member, metal component employing protective film structure, and equipment for producing semiconductor or flat-plate display employing protective film structure
JP2011252192A (en) * 2010-06-01 2011-12-15 Mitsubishi Electric Corp Method for treating aluminum anodized film and heat exchanging device
JP2012135723A (en) * 2010-12-27 2012-07-19 Raydent Kogyo Kk Antibacterial/mildewproof coating-applied metal product
WO2013035343A1 (en) * 2011-09-07 2013-03-14 株式会社Nbcメッシュテック Anti-virus aluminum member and method for producing same
JP2013251515A (en) * 2012-06-04 2013-12-12 Mitsubishi Alum Co Ltd Printed board
WO2016206182A1 (en) * 2015-06-23 2016-12-29 东莞劲胜精密组件股份有限公司 Die-cast aluminium alloy piece, and processing method and mobile terminal therefor

Cited By (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4522615B2 (en) * 2001-06-25 2010-08-11 三菱アルミニウム株式会社 Surface-treated aluminum material and aluminum molded body
JP2003003296A (en) * 2001-06-25 2003-01-08 Mitsubishi Alum Co Ltd Surface treated aluminum material and aluminum formed body
KR20040051024A (en) * 2002-12-11 2004-06-18 엘지전자 주식회사 Surface treatment structure of heat exchanger pin
JP2005103504A (en) * 2003-10-02 2005-04-21 Denka Himaku Kogyo Kk Magnesium metallic material having photocatalytically active surface and its manufacturing method
JP2005103505A (en) * 2003-10-02 2005-04-21 Denka Himaku Kogyo Kk Method for manufacturing magnesium metallic material having photocatalytically active surface
JP2005334827A (en) * 2004-05-28 2005-12-08 Mitsui Mining & Smelting Co Ltd Composite element
JP4524142B2 (en) * 2004-05-28 2010-08-11 三井金属鉱業株式会社 Composite element
JP2006184822A (en) * 2004-12-28 2006-07-13 Shin Etsu Chem Co Ltd Pellicle for photolithography and pellicle frame
EP1914330A1 (en) * 2005-06-17 2008-04-23 Tohoku University Protective film structure of metal member, metal component employing protective film structure, and equipment for producing semiconductor or flat-plate display employing protective film structure
EP1914330A4 (en) * 2005-06-17 2010-03-03 Univ Tohoku Protective film structure of metal member, metal component employing protective film structure, and equipment for producing semiconductor or flat-plate display employing protective film structure
WO2006134737A1 (en) * 2005-06-17 2006-12-21 Tohoku University Metal oxide film, laminate, metal member and process for producing the same
US8124240B2 (en) 2005-06-17 2012-02-28 Tohoku University Protective film structure of metal member, metal component employing protective film structure, and equipment for producing semiconductor or flat-plate display employing protective film structure
US8206833B2 (en) 2005-06-17 2012-06-26 Tohoku University Metal oxide film, laminate, metal member and process for producing the same
US9476137B2 (en) 2005-06-17 2016-10-25 Tohoku University Metal oxide film, laminate, metal member and process for producing the same
JP2007237090A (en) * 2006-03-09 2007-09-20 Alumite Shokubai Kenkyusho:Kk Catalytic body using anodized aluminum film
JP2011252192A (en) * 2010-06-01 2011-12-15 Mitsubishi Electric Corp Method for treating aluminum anodized film and heat exchanging device
JP2012135723A (en) * 2010-12-27 2012-07-19 Raydent Kogyo Kk Antibacterial/mildewproof coating-applied metal product
WO2013035343A1 (en) * 2011-09-07 2013-03-14 株式会社Nbcメッシュテック Anti-virus aluminum member and method for producing same
JP2013251515A (en) * 2012-06-04 2013-12-12 Mitsubishi Alum Co Ltd Printed board
WO2016206182A1 (en) * 2015-06-23 2016-12-29 东莞劲胜精密组件股份有限公司 Die-cast aluminium alloy piece, and processing method and mobile terminal therefor

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