JP2002176138A - 半導体集積回路 - Google Patents

半導体集積回路

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JP2002176138A
JP2002176138A JP2000373624A JP2000373624A JP2002176138A JP 2002176138 A JP2002176138 A JP 2002176138A JP 2000373624 A JP2000373624 A JP 2000373624A JP 2000373624 A JP2000373624 A JP 2000373624A JP 2002176138 A JP2002176138 A JP 2002176138A
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voltage
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potential
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Yuji Ishioka
裕二 石岡
Masahiro Araki
雅宏 荒木
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Renesas Design Corp
Mitsubishi Electric Corp
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Renesas Design Corp
Mitsubishi Electric Corp
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 【解決手段】 USBインターフェイスを備え接続元機
器から信号供給および電圧供給を受ける接続先機器に設
けられた半導体集積回路において、前記接続元機器から
信号供給を受ける信号供給部1から内部回路へ信号を供
給するようにするとともに、前記接続元機器から供給さ
れる供給信号と供給電圧とがショート状態のとき信号供
給部1から内部回路への過電圧印加を抑制するトランス
ミッションゲートからなる制御要素4を設けた。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は、半導体集積回
路、特に、USBインタフェースを内蔵する半導体集積
回路に関するものである。
【0002】
【従来の技術】USBインタフェースにおいて、電源供
給用のVBUS電圧は接続元のパソコン(以下、PCと
いう)などから供給され、5v電位であることが規定さ
れている。また、データ信号供給用としてのD+,D−
信号は接続元機器(例えば、PC)と接続先機器(例え
ば、プリンタ)間のデータのやりとりをする信号である
が、0〜3.3v振幅であることが規定されている。
【0003】一方、半導体集積回路(以下、LSIとい
う)においては、特に昨今の微細プロセスの場合、トラ
ンジスタ(以下、Trという)の耐圧が5v未満(例え
ば、3.3v)の場合がある。その場合、D+,D−信
号はそのまま使用しているが、VBUS電圧については
抵抗分割などにより、電圧降下させて使用している。
【0004】デバイス間の接続はUSBケーブルを介し
て行われ、このUSBケーブルは一般的に電源供給用V
BUS線,GND線、および、D+,D−の2本の信号
線からなる合計4本のケーブル素線で構成されている。
ケーブル内の故障などにより、D+,D−信号線とVB
US線とがショートし、D+,D−端子を通して、直接
LSIにVBUS電位が印加された場合、直接5vが印
加されることにより、Trが破壊される。
【0005】また、図3に従来のUSBインタフェース
回路、図4に素子Aの断面図の例を示すが、一般的に信
号線と電源との間に寄生ダイオードが(信号線→電源方
向)形成される。USBインタフェースにおいて、LS
Iの電源が未投入の場合でも、USBケーブルを通して
D+,D−端子に電位が印加される場合がある。その
際、前述の寄生ダイオードを通して、LSI内に過電流
が流れ、LSIの故障の原因となる。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】この発明は、供給信号
と供給電圧とのショート状態においても半導体集積回路
の破壊を適切に阻止できるUSBインターフェイスを備
えた半導体集積回路を得ようとするものである。
【0007】
【課題を解決するための手段】第1の発明に係る半導体
集積回路では、USBインターフェイスを備え接続元機
器から信号供給および電圧供給を受ける接続先機器に設
けられた半導体集積回路において、前記接続元機器から
信号供給を受ける信号供給部から内部回路へ信号を供給
するようにするとともに、前記接続元機器から供給され
る供給信号と供給電圧とがショート状態のとき前記信号
供給部から内部回路への過電圧印加を抑制する制御要素
を設けたものである。
【0008】第2の発明に係る半導体集積回路では、前
記信号供給部から内部回路への過電圧印加を抑制する制
御要素としてトランスミッションゲートを設け、前記ト
ランスミッションゲートを構成するPchトランジスタ
のゲートに前記接続元機器から供給される供給信号と供
給電圧とのショート状態において前記信号供給部の電位
を供給して非導通状態とし、正常時に前記Pchトラン
ジスタを前記信号供給部からの信号供給により導通状態
として前記内部回路へ信号を供給するための信号線に前
記信号供給部から電位を供給するともに、前記トランス
ミッションゲートを構成するNchトランジスタのゲー
トに前記電圧供給部の電圧を低減した低減電圧供給部か
らの電位を供給し、そのソースに前記内部回路へ信号を
供給するための信号線の電位を供給するようにしたもの
である。
【0009】第3の発明に係る半導体集積回路では、U
SBインターフェイスを備え接続元機器から信号供給お
よび電圧供給を受ける接続先機器に設けられた半導体集
積回路において、前記接続元機器から信号供給を受ける
信号供給部から内部回路へ信号を供給するようにすると
ともに、前記内部回路を構成するPchトランジスタの
ウエルに前記電圧供給部の電圧を低減した低減電圧供給
部から電位を供給し、前記接続元機器から供給される供
給信号と供給電圧とがショート状態のときは前記Pch
トランジスタのウエルに信号供給部からの電位を供給す
るようにしたものである。
【0010】第4の発明に係る半導体集積回路では、前
記接続元機器から供給される供給信号と供給電圧とがシ
ョート状態のときに導通して前記信号供給部からウエル
電位を供給するウエル電位制御素子を設けたものであ
る。
【0011】
【発明の実施の形態】実施の形態1.この発明による実
施の形態1を図1について説明する。図1は実施の形態
1における構成を示す接続図である。図1(a)は全体
構成を示し、図1(b)は低減電圧供給部の構成を示し
ている。
【0012】図において、1はD+,D−端子からなる
信号供給部、2はVBUS端子からなる電圧供給部、3
は電圧供給部2からの電圧を低減し、LSIの内部回路
に供給する低減電圧供給部、4はトランスミッションゲ
ートからなる制御要素である。
【0013】信号供給部1および電圧供給部2は、US
Bケーブル(図示せず)のケーブル側コネクタに対応す
る接続先機器側コネクタにより構成されている。USB
ケーブルは電源供給用VBUS線,GND線、および、
D+,D−の2本の信号線からなる合計4本のケーブル
素線で構成される。信号供給部1はコネクタを介してU
SBケーブルのD+,D−信号線に接続され、電圧供給
部2はコネクタを介してUSBケーブルの電源供給用V
BUS線に接続される。
【0014】VBUS33端子からなる低減電圧供給部
3は、図1(b)に示すように、VBUS端子からなる
電圧供給部2の5v電圧を抵抗分圧により3.3vに低
減してLSIの内部回路に供給するものである。トラン
スミッションゲートからなる制御要素4は、Pchトラ
ンジスタ(以下、Pch_Trという)からなる素子K
と、Nchトランジスタ(以下、Nch_Trという)
からなる素子Lとによって構成されている。
【0015】過電圧印加の解決策として、5v電位がト
ランジスタに印加されるのを防止するための回路例を図
1に示す。USBケーブルの内部などにおけるVBUS
線とD+(D−)信号線とのショートの有無、およびL
SI電源のオン/オフにより回路の振る舞いが変わる。
D+(D−)端子と内部回路との間に素子Kおよび素子
Lで構成されたトランスミッションゲートを設け、VB
US線とD+(D−)信号線がショートした場合、素子
Kをオフすることにより、内部へ5vが伝わるのを防止
する。
【0016】以下にVBUS線とD+(D−)信号線と
のショート時と正常時の回路動作について説明する。 〔1〕VBUS線とD+(D−)信号線とはショート、
LSI電源オフ(0v)時 VBUS33は、外部からのVBUS信号(5v)を抵
抗分割により、3.3vに低下させた信号、また、素子
E、F(ダイオード)はLSI電源とVBUSの一方し
か電源投入されていない場合に、LSI電源とVBUS
33間で電流が流れるのを防ぐためにある。
【0017】まず、素子G(Pch_Tr)に着目する
と、ゲート電圧はVBUS33電圧が素子F(ダイオー
ド)のスレッショルド電圧(以下、Vthという)分、
降下した電位になっている。それに対しソース電圧はD
+(D−)端子電圧になるので、VBUS線とD+(D
−)信号線とのショート時は5vになる。つまり、素子
Gのゲート−ソース間電圧は、次の通りとなる。 (VBUS電圧−素子FのVth)−5v ここで、VBUS33電圧は3.3vであり、素子Fの
Vthを無視してもゲート−ソース間電圧は−1.7V
以下である。通常Pch_TrのVthは−1.0v以
上であり、素子Gは、ON状態になる。
【0018】次に、素子J(Nch_Tr)に着目する
と、そのゲート電圧,ソース電圧およびゲート−ソース
間電圧は次の通りとなる。 ゲート電圧:LSI電源オフのため、0v ソース電圧:0v ゲート−ソース間電圧:0v これにより、ゲート−ソース間電圧が0vのため、素子
JはOFF状態になる。素子GがON、素子JがOFF
のため、信号線(イ)の電位はD+(D−)端子電位、
すなわち5vになる。
【0019】次に、素子K(Pch_Tr)に着目する
と、そのゲート電圧,ソース電圧およびゲート−ソース
間電圧は次の通りとなる。 ゲート電圧:信号線(イ)(5v) ソース電圧:D+(D−)端子電位(5v) ゲート−ソース間電圧:0v ゲート−ソース間電圧が0vのため、素子KはOFF状
態になる。
【0020】次に、素子L(Nch_Tr)に着目する
と、そのゲート電圧,ソース電圧およびゲート−ソース
間電圧は次の通りとなる。 ゲート電圧:VBUS33電圧(3.3v) ソース電圧:信号線(ロ) ゲート−ソース間電圧:3.3v−信号線(ロ)の電位 素子Lは、ゲート−ソース間電圧がVth以上、すなわ
ち信号線(ロ)の電位が、(3.3v−素子のVth)
以下のときにON状態になる。つまり、内部へ入る信号
線(ロ)の電位は、(3.3v−素子のVth)にな
る。
【0021】以上より、IC内部に伝わる電位は3.3
v以下であり、5v印加防止回路においても、3.3v
以上の電位差がかかるTrはなく、Tr耐圧が5v未満
であっても、Tr破壊等の問題は生じない。
【0022】〔2〕VBUS線とD+(D−)信号線と
はショート、LSI電源オン(3.3v)時 まず、素子G(Pch_Tr)に着目すると、ゲート電
圧はVBU33電圧が素子F(ダイオード)のスレッシ
ョルド電圧(以下、Vthという)分、降下した電位に
なっている。それに対しソース電圧はD+(D−)端子
電圧になるので、VBUS線とD+(D−)信号線との
ショート時は5vになる。つまり、素子Gのゲート−ソ
ース間電圧は、次の通りとなる。 (VBUS33電圧−素子FのVth)−5v ここで、VBUS33電圧は3.3vであり、素子Fの
Vthを無視してもゲート−ソース間電圧は−1.7v
以下である。通常Pch_TrのVthは−1.0v以
上であり、素子Gは、ON状態になる。
【0023】次に、素子H(Nch_Tr)に着目する
と、そのゲート電圧,ソース電圧およびゲート−ソース
間電圧は次の通りとなる。 ゲート電圧:VBUS33電圧(3.3v) ソース電圧:0v ゲート−ソース間電圧:3.3v ゲート−ソース間電圧が3.3vのため、素子HはON
状態になる。
【0024】次に、素子J(Nch_Tr)に着目する
と、そのゲート電圧,ソース電圧およびゲート−ソース
間電圧は次の通りとなる。 ゲート電圧:LSI電源オンのため、3.3v ソース電圧:0v ゲート−ソース間電圧:3.3v ゲート−ソース間電圧が3.3vのため、素子EはON
状態になる。ここで、素子G,H,JともにON状態の
ため、貫通電流が流れるが、素子G,Hに対し素子Jの
ON抵抗を十分大きくした場合、抵抗分圧により信号線
(ハ)の電位すなわち素子Hのソース電位は、D+(D
−)電位に近づき、ゲート−ソース間電圧がVthより
小さくなるため、素子HはOFF状態になる。つまり、
素子JのON抵抗を十分大きくすることにより、素子G
がON、素子HがOFFになり、信号線(イ)の電位は
D+(D−)端子電位、すなわち5vになる。
【0025】次に、素子K(Pch_Tr)に着目する
と、そのゲート電圧,ソース電圧およびゲート−ソース
間電圧は次の通りとなる。 ゲート電圧:信号線(イ)(5v) ソース電圧:D+(−D)端子電位(5v) ゲート−ソース電圧:0v ゲート−ソース電圧が0vのため、素子KはOFF状態
になる。
【0026】次に、素子L(Nch_Tr)に着目する
と、そのゲート電圧,ソース電圧およびゲート−ソース
間電圧は次の通りとなる。 ゲート電圧:VBUS33(3.3v) ソース電圧:信号線(ロ) ゲート−ソース間電圧:3.3v−信号線(ロ)の電位 素子Lは、ゲート−ソース間電圧がVth以上、すなわ
ち信号線(ロ)の電位が、(3.3v−素子のVth)
以下のときにON状態になる。つまり、内部へ入る信号
線(ロ)の電位は、(3.3v−素子のVth)にな
る。
【0027】以上より、IC内部に伝わる電位は3.3
v以下であり、5v印加防止回路においても、3.3v
以上の電位差がかかるTrはなく、Tr耐圧が5v未満
であっても、Tr破壊等の問題は生じない。
【0028】〔3〕正常時 まず、素子G(Pch_Tr)に着目すると、ゲート電
圧はLSI電源(3.3v)が素子EまたはF(ダイオ
ード)のスレッショルド電圧(Vth)分、降下した電
位になっている。それに対しソース電圧はD+(D−)
端子電圧になるので、3.3v〜0vの範囲で変動す
る。つまり、素子Gのゲート−ソース間電圧は、次の通
りとなる。 (3.3v−素子EまたはFのVth)−(3.3v〜
0v) D+(−D)電圧が最大の3.3vのとき、素子Gのゲ
ート−ソース間電圧は最小で素子EまたはFのVthに
なるので、素子サイズを調整して素子E,FのVthを
素子GのVthより大きくすることにより、素子GはO
FF状態になる。素子GがOFFのため、信号線(イ)
の電位は、GND(0v)になる。
【0029】次に、素子K(Pch_Tr)に着目する
と、そのゲート電圧およびソース電圧は次の通りとな
る。 ゲート電圧:信号線(イ)(0v) ソース電圧:D+(D−)端子電位(O〜3.3v) D+(D−)端子電位が素子KのVth以上のときに、
素子KはON状態になる。
【0030】次に素子L(Nch_Tr)に着目する
と、そのゲート電圧およびソース電圧は次の通りとな
る。 ゲート電圧:VBUS33電圧(3.3v) ソース電圧:D+(D−)端子電位 素子Lは、D+(D−)の電位が、(3.3v−素子L
のVth)以下のときにON状態になる。つまり、D+
(D−)の電位によらず、素子Fまたは素子Gのどちら
かがONしているため、信号線(ロ)の電位はD+(D
−)と同電位になる。
【0031】以上により、正常時はIC内部(信号線
ロ)にD+(D−)の電位をそのまま伝えることができ
る。
【0032】この実施の形態1では、D+(D−)端子
と内部回路との間にトランスミッションゲートを設け、
VBUS線とD+(D−)信号線とがショートした場
合、Pch_Tr側をオフすることにより、内部へ5v
電圧が伝わるのを防止するためのコントロール回路を実
現している。
【0033】この発明による実施の形態1によれば、U
SBインターフェイスを備え接続元機器から信号供給お
よび電圧供給を受ける接続先機器に設けられた半導体集
積回路において、前記接続元機器から信号供給を受ける
信号供給部1から内部回路へ信号を供給するようにする
とともに、前記接続元機器から供給される供給信号と供
給電圧とがショート状態のとき前記信号供給部1から内
部回路への過電圧印加を抑制する制御要素を設けたもの
であって、前記信号供給部1から内部回路への過電圧印
加を抑制する制御要素としてトランスミッションゲート
4を設け、前記トランスミッションゲート4を構成する
Pchトランジスタからなる素子Kのゲートに前記接続
元機器から供給される供給信号と供給電圧とのショート
状態において前記信号供給部1の電位を供給して非導通
状態とし、正常時に前記Pchトランジスタからなる素
子Kを前記信号供給部1からの信号供給により導通状態
として前記内部回路へ信号を供給するための信号線
(ロ)に前記信号供給部1から電位を供給するともに、
前記トランスミッションゲート4を構成するNchトラ
ンジスタからなる素子Lのゲートに前記電圧供給部1の
電圧を低減した低減電圧供給部3からの電位を供給し、
そのソースに前記内部回路へ信号を供給するための信号
線(ロ)の電位を供給するようにしたので、信号供給部
1から内部回路への過電圧印加を抑制するトランスミッ
ションゲート4からなる制御要素により、供給信号と供
給電圧とのショート状態においても半導体集積回路の破
壊を適切に阻止できるUSBインターフェイスを備えた
半導体集積回路が得られる。
【0034】実施の形態2.この発明による実施の形態
2を図2について説明する。図2は実施の形態2におけ
るウエル電位生成回路の構成を示す接続図である。図2
に示すもの以外の全体構成は図1に示す実施の形態1の
ものと同様である。図において、1はD+,D−端子か
らなる信号供給部、3はVBUS33端子からなる低減
電圧供給部、5はウエル電位供給部である。
【0035】過電流流通の解決策について、以下に説明
する。図4に示すように、最終出力段のPch_Trに
おいて、ウエル(N−)とD+(D−)電位(P+)間
にダイオードが形成される。従来はPch_Trのウエ
ル電位はLSI電源から供給していた。このため、LS
I電源が未投入でD+(D−)端子にダイオードのVt
h以上の正電位が印加された場合、ダイオードに過電流
が流れ、LSIの故障の原因となる。そこで、ウエル電
位をVBUS33電圧(3.3v)またはD+(D−)
端子から供給するようにしたのが図2に示した回路であ
る。
【0036】通常時は、ウエル電位供給部5を介してV
BUS33電圧(3.3v)が供給されるが、VBUS
線とD+(D−)信号線とがショートした場合、D+
(D−)端子に5vが印加されるため、ウエル電位がV
BUS33電圧(3.3v)では、ダイオードが順バイ
アスになり電流が流れてしまう。そのため、VBUS線
とD+(D−)信号線がショートしたときのみ、ウエル
電位をD+(D−)端子から供給するようにした。
【0037】以下にVBUS線とD+(D−)信号線と
のショート時とオープン時(通常時)の回路動作につい
て説明する。 〔1〕VBUS線とD+(D−)信号線はショート時 D+(D−)信号線にはVBUS線とショートしている
ため、5vが印加される。素子N(Pch_Tr)に着
目すると、そのゲート電圧,ソース電圧およびゲート−
ソース間電圧は次の通りとなる。 ゲート電圧:VBUS33電圧(3.3v) ソース電圧:D+(D−)端子=5.0v ゲート−ソース間電圧:3.3v−5.0v=−1.7
v これにより、素子NはON状態になる。
【0038】また、素子Mに着目すると、そのゲート電
圧,ソース電圧およびゲート−ソース間電圧は次の通り
となる。 ゲート電圧:D+(D−)端子=5.0v ソース電圧:VBUS33電圧(3.3v) ゲート−ソース間電圧:5.0v−3.3v=1.7v これにより、素子MはOFF状態になる。
【0039】素子NがON、素子MがOFFのため、ウ
エル電位はD+(D−)電位(5v)になる。そのた
め、ウエル(N−)と、D+(D−)電位(P+)間の
ダイオードは逆バイアスになり、電流は流れない。
【0040】〔2〕VBUS線とD+(D−)信号線が
オープン時(正常時) D+(D−)端子には、0〜3.3vが印加される。素
子N(Pch_Tr)に着目すると、そのゲート電圧お
よびソース電圧は次の通りとなる。 ゲート電圧:VBUS33電圧(3.3v) ソース電圧:D+(D−)端子=0〜3.3v これにより、ゲート−ソース間電圧は0v以上になるた
め、素子NはOFF状態になる。
【0041】一方、素子Mに着目すると、そのゲート電
圧およびソース電圧は次の通りとなる。 ゲート電圧:D+(D−)端子=0〜3.3v ソース電圧:VBUS33(3.3v) となり、D+(D−)端子電位が3.3v−(素子Mの
Vth)以下のときは素子JはON状態になり、ウエル
電位はVBUS33電圧(3.3v)になる。また、D
+(D−)端子電位が3.3v−(素子MのVth)以
上のときは素子JはOFF状態になり、素子M,Nとも
OFFになるが、ウエル(N−)とD+(D−)電位
(P+)間のダイオードを通して、D+(D−)端子電
位−(ダイオードのVth)の電位が供給される。
【0042】以上より、通常時にもウエルに十分な電位
が供給され、正常動作が可能になる。
【0043】この実施の形態2では、出力段のPch_
Trのウエル電位をVBUS線とD+(D−)信号線と
がショート時とオープン時(正常時)とで切替える回路
を実現している。
【0044】この発明による実施の形態2によれば、U
SBインターフェイスを備え接続元機器から信号供給お
よび電圧供給を受ける接続先機器に設けられた半導体集
積回路において、前記接続元機器から信号供給を受ける
信号供給部1から内部回路へ信号を供給するようにする
とともに、前記内部回路を構成するPchトランジスタ
のウエルに前記電圧供給部2の電圧を低減した低減電圧
供給部3から電位を供給し、前記接続元機器から供給さ
れる供給信号と供給電圧とがショート状態のときは前記
Pchトランジスタのウエルに信号供給部1からの電位
を供給するようにしたものであって、前記接続元機器か
ら供給される供給信号と供給電圧とがショート状態のと
きに導通して前記信号供給部1からウエル電位を供給す
る素子Nからなるウエル電位制御素子を設けたので、供
給信号と供給電圧とのショート状態においてもウエル電
位を確保し半導体集積回路の破壊を適切に阻止できるU
SBインターフェイスを備えた半導体集積回路が得られ
る。
【0045】
【発明の効果】第1の発明によれば、USBインターフ
ェイスを備え接続元機器から信号供給および電圧供給を
受ける接続先機器に設けられた半導体集積回路におい
て、前記接続元機器から信号供給を受ける信号供給部か
ら内部回路へ信号を供給するようにするとともに、前記
接続元機器から供給される供給信号と供給電圧とがショ
ート状態のとき前記信号供給部から内部回路への過電圧
印加を抑制する制御要素を設けたので、供給信号と供給
電圧とのショート状態においても半導体集積回路の破壊
を適切に阻止できるUSBインターフェイスを備えた半
導体集積回路を得ることができる。
【0046】第2の発明によれば、前記信号供給部から
内部回路への過電圧印加を抑制する制御要素としてトラ
ンスミッションゲートを設け、前記トランスミッション
ゲートを構成するPchトランジスタのゲートに前記接
続元機器から供給される供給信号と供給電圧とのショー
ト状態において前記信号供給部の電位を供給して非導通
状態とし、正常時に前記Pchトランジスタを前記信号
供給部からの信号供給により導通状態として前記内部回
路へ信号を供給するための信号線に前記信号供給部から
電位を供給するともに、前記トランスミッションゲート
を構成するNchトランジスタのゲートに前記電圧供給
部の電圧を低減した低減電圧供給部からの電位を供給
し、そのソースに前記内部回路へ信号を供給するための
信号線の電位を供給するようにしたので、供給信号と供
給電圧とのショート状態においてもトランスミッション
ゲートからなる制御要素により半導体集積回路の破壊を
適切に阻止できるUSBインターフェイスを備えた半導
体集積回路を得ることができる。
【0047】第3の発明によれば、USBインターフェ
イスを備え接続元機器から信号供給および電圧供給を受
ける接続先機器に設けられた半導体集積回路において、
前記接続元機器から信号供給を受ける信号供給部から内
部回路へ信号を供給するようにするとともに、前記内部
回路を構成するPchトランジスタのウエルに前記電圧
供給部の電圧を低減した低減電圧供給部から電位を供給
し、前記接続元機器から供給される供給信号と供給電圧
とがショート状態のときは前記Pchトランジスタのウ
エルに信号供給部からの電位を供給するようにしたの
で、供給信号と供給電圧とのショート状態においてもウ
エル電位を確保し半導体集積回路の破壊を適切に阻止で
きるUSBインターフェイスを備えた半導体集積回路を
得ることができる。
【0048】第4の発明によれば、前記接続元機器から
供給される供給信号と供給電圧とがショート状態のとき
に導通して前記信号供給部からウエル電位を供給するウ
エル電位制御素子を設けたので、供給信号と供給電圧と
のショート状態においてもウエル電位制御素子によりウ
エル電位を確保し半導体集積回路の破壊を適切に阻止で
きるUSBインターフェイスを備えた半導体集積回路を
得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 この発明による実施の形態1における回路構
成を示す接続図である。
【図2】 この発明による実施の形態2における回路構
成を示す接続図である。
【図3】 従来技術における回路構成を示す接続図であ
る。
【図4】 一般的な素子の構成を示す断面図である。
【符号の説明】 1 D+,D−端子からなる信号供給部、2 VBUS
端子からなる電圧供給部、3 低減電圧供給部、4はト
ランスミッションゲートからなる制御要素、5ウエル電
位供給部。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 荒木 雅宏 兵庫県伊丹市中央三丁目1番17号 三菱電 機システムエル・エス・アイ・デザイン株 式会社内 Fターム(参考) 5F038 BB05 BH04 BH11 EZ20

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 USBインターフェイスを備え接続元機
    器から信号供給および電圧供給を受ける接続先機器に設
    けられた半導体集積回路において、前記接続元機器から
    信号供給を受ける信号供給部から内部回路へ信号を供給
    するようにするとともに、前記接続元機器から供給され
    る供給信号と供給電圧とがショート状態のとき前記信号
    供給部から内部回路への過電圧印加を抑制する制御要素
    を設けたことを特徴とする半導体集積回路。
  2. 【請求項2】 前記信号供給部から内部回路への過電圧
    印加を抑制する制御要素としてトランスミッションゲー
    トを設け、前記トランスミッションゲートを構成するP
    chトランジスタのゲートに前記接続元機器から供給さ
    れる供給信号と供給電圧とのショート状態において前記
    信号供給部の電位を供給して非導通状態とし、正常時に
    前記Pchトランジスタを前記信号供給部からの信号供
    給により導通状態として前記内部回路へ信号を供給する
    ための信号線に前記信号供給部から電位を供給するとも
    に、前記トランスミッションゲートを構成するNchト
    ランジスタのゲートに前記電圧供給部の電圧を低減した
    低減電圧供給部からの電位を供給し、そのソースに前記
    内部回路へ信号を供給するための信号線の電位を供給す
    るようにしたことを特徴とする請求項1に記載の半導体
    集積回路。
  3. 【請求項3】 USBインターフェイスを備え接続元機
    器から信号供給および電圧供給を受ける接続先機器に設
    けられた半導体集積回路において、前記接続元機器から
    信号供給を受ける信号供給部から内部回路へ信号を供給
    するようにするとともに、前記内部回路を構成するPc
    hトランジスタのウエルに前記電圧供給部の電圧を低減
    した低減電圧供給部から電位を供給し、前記接続元機器
    から供給される供給信号と供給電圧とがショート状態の
    ときは前記Pchトランジスタのウエルに信号供給部か
    らの電位を供給するようにしたことを特徴とする半導体
    集積回路。
  4. 【請求項4】 前記接続元機器から供給される供給信号
    と供給電圧とがショート状態のときに導通して前記信号
    供給部からウエル電位を供給するウエル電位制御素子を
    設けたことを特徴とする請求項3に記載の半導体集積回
    路。
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