JP2002175960A - Production management method and apparatus - Google Patents

Production management method and apparatus

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JP2002175960A
JP2002175960A JP2000372064A JP2000372064A JP2002175960A JP 2002175960 A JP2002175960 A JP 2002175960A JP 2000372064 A JP2000372064 A JP 2000372064A JP 2000372064 A JP2000372064 A JP 2000372064A JP 2002175960 A JP2002175960 A JP 2002175960A
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JP
Japan
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wafer
container
processing
regeneration
reproduction target
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JP2000372064A
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Japanese (ja)
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Kazuhiro Kashiwagi
和博 柏木
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Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
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Publication date
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  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a production management method and apparatus which can perform regenerating operation while eliminating the need for shifting a wafer to be regenerated to a regenerating container. SOLUTION: The apparatus includes an inspection device for detecting a defect in a wafer for each container having a plurality of wafers capable of being individually identified accommodated therein, a regeneration-target-wafer designating means 2 for designating a wafer detected as a defective as a wafer to be regenerated, a regeneration-target-wafer information registration means 3 for inputting information on the regeneration-target wafer from the designation means 2, a storage means 4 for writing therein the target wafer information by the registration means 3, a regeneration-start instruction means 5 for instructing the start of regeneration of the target wafer, regeneration instruction means 6 for acquiring the target wafer information when receiving the instruction from the regeneration-start instruction means 5, and a processor 7 for receiving the regeneration target wafer information from the regeneration instruction means 6, identifying only the target wafer from the container and performing regenerating operation thereover.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、不良ウェーハにつ
いて再度処理を行うウェーハの再生処理工程を有する生
産管理方法及び装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a production management method and apparatus having a wafer regeneration process for reprocessing a defective wafer.

【0002】[0002]

【従来の技術】半導体製造プロセスでは、複数枚(例え
ば25枚)のウェーハを1ロットとして、この1ロット
単位で、予め登録されたプロセス手順に従って各種処理
や検査が行われる。ウェーハそれぞれには個別の識別子
(ID:identifier)が付されて専用の容器(カセッ
ト)内に収容されている。なお、1ロット25枚のウェ
ーハを収容するカセットそれぞれにも、他のカセットと
区別するための識別子が付されて管理されている。
2. Description of the Related Art In a semiconductor manufacturing process, a plurality of (for example, 25) wafers are taken as one lot, and various processes and inspections are performed in units of one lot in accordance with a process procedure registered in advance. Each wafer is provided with an individual identifier (ID) and is housed in a dedicated container (cassette). Note that each of the cassettes accommodating 25 wafers per lot is also managed with an identifier for distinguishing it from other cassettes.

【0003】ウェーハへの識別子の付し方としては、例
えば特開2000−216070号公報に示されるよう
に、図2に示すウェーハ11aのオリエンテーションフ
ラット15が形成された部分近傍に、このウェーハ11
aを特定するための識別子がマーキングされる。この識
別子は第1桁部14a、第2桁部14b、第3桁部14
cの3箇所の表示部分からなり、この表示部分に、例え
ばレーザー光を用いて点などをマーキングする。第1桁
部14aには最大4点までマーキング可能であり、第2
桁部14bには1点のみ、第3桁部14cには2点まで
マーキング可能となっている。そして、第1桁部14a
は1の位を示し、第2桁部14bは5の位を示し、第3
桁部14cは10の位を示す。これにより、例えば図2
に示すウェーハ11aは、第1桁部14aに1点のマー
キング、第2桁部14bに1点のマーキング、第3桁部
14cに1点のマーキングなので、1の位が1つ、5の
位が1つ、10の位が1つとなり、このウェーハ11a
の識別子は16となる。一方、図3に示すウェーハ11
bは、第1桁部14aに4点のマーキング、第2桁部1
4bに1点のマーキングなので、1の位が4つと、5の
位が1つとなり、このウェーハ11bの識別子は9とな
る。
As shown in, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2000-21070, an identifier is assigned to a wafer in the vicinity of a portion where an orientation flat 15 is formed on a wafer 11a shown in FIG.
An identifier for identifying a is marked. The identifier is composed of a first digit portion 14a, a second digit portion 14b, and a third digit portion 14
The display portion is composed of three display portions c, and points are marked on the display portion by using, for example, a laser beam. Up to four points can be marked on the first digit part 14a,
Only one point can be marked on the girder part 14b and up to two points can be marked on the third girder part 14c. And the first digit part 14a
Indicates the 1's place, the second digit portion 14b indicates the 5's place,
The digit part 14c indicates the tens place. Thereby, for example, FIG.
In the wafer 11a shown in FIG. 7, one point is marked on the first digit part 14a, one point is marked on the second digit part 14b, and one point is marked on the third digit part 14c. Becomes one and the place of ten becomes one, and this wafer 11a
Is 16. On the other hand, the wafer 11 shown in FIG.
b indicates four markings on the first digit part 14a and the second digit part 1
Since one point is marked on 4b, the ones digit is four and the fives digit is one, and the identifier of the wafer 11b is nine.

【0004】このように、それぞれ個別の識別子を持ち
他と区別された25枚のウェーハを収容したカセットが
処理装置内に搬入されると、カセット内からウェーハが
取り出されて各種処理が行われる。例えば、ウェーハ上
にレジスト膜を形成して、このレジスト膜に露光及び現
像処理を行うフォトリソグラフィー処理が行われる。そ
して、処理されたウェーハはカセット内に再び戻され、
処理済みのウェーハ25枚を全て収容するとカセットは
処理装置外に搬出される。そして、続けて他の処理、あ
るいは検査装置にて各種検査が行われる。
As described above, when a cassette containing 25 wafers having individual identifiers and containing 25 wafers is carried into the processing apparatus, the wafers are taken out of the cassette and various processes are performed. For example, a photolithography process is performed in which a resist film is formed on a wafer, and the resist film is exposed and developed. Then, the processed wafer is returned to the cassette again,
When all 25 processed wafers are stored, the cassette is carried out of the processing apparatus. Subsequently, various processings or various inspections are performed by the inspection apparatus.

【0005】ここで、検査装置における検査結果として
カセット内のウェーハに規格外れ(不良)が検出された
場合、そのウェーハについて再び処理をやり直す再生処
理を行う。例えば、フォトリソグラフィーにおける不良
は、レジスト膜に形成されたパターンのずれや線幅の不
良である。再生処理では、その不良となったレジスト膜
をウェーハから剥がして、再度フォトリソグラフィーを
行う。
[0005] Here, if an out-of-specification (defective) is detected for a wafer in the cassette as a result of the inspection performed by the inspection apparatus, a reproduction process for restarting the process for the wafer is performed. For example, a defect in photolithography is a deviation of a pattern formed on a resist film or a defect of a line width. In the regeneration process, the defective resist film is peeled off from the wafer, and photolithography is performed again.

【0006】再生処理には、カセット内の全ウェーハが
不良の場合における全ウェーハの再生処理と、カセット
内の一部のウェーハが不良の場合にその一部の不良ウェ
ーハのみについての再生処理とがある。全ウェーハの再
生処理については、もう1度そのままカセットごと処理
装置内に搬入して、先に行った処理と同様にカセット内
の全てのウェーハについて再生処理を行う。
[0006] The reclaim processing includes reclaim processing of all wafers when all wafers in the cassette are defective, and reclaim processing of only some defective wafers when some wafers in the cassette are defective. is there. As for the reprocessing of all the wafers, the entire cassette is again carried into the processing apparatus as it is, and the regenerating process is performed for all the wafers in the cassette in the same manner as the processing performed earlier.

【0007】カセット内の一部の不良ウェーハのみの再
生処理の場合では、先ず、その不良ウェーハを別のカセ
ットに移し替える。図4において、左側のカセットが、
既に処理及び検査工程を経て、良否入り交じった25枚
のウェーハ11が収容された本処理用カセット12(識
別子は例えばA1が付されている)とし、この中で例え
ば識別子3のウェーハ11cと、識別子22のウェーハ
11dの2枚が不良ウェーハ(つまり再生対象ウェー
ハ)であるとする。そして、この再生対象ウェーハ11
c、11dを、別途用意した再生処理用カセット13
に、ハンドリング治具などを用いて移し替える。
[0007] In the case of the regeneration processing of only a part of the defective wafers in the cassette, first, the defective wafers are transferred to another cassette. In FIG. 4, the left cassette is
A main processing cassette 12 (with an identifier of, for example, A1) accommodating 25 wafers 11 that have already passed through the processing and inspection processes, and the wafers 11c having an identifier of 3, for example, It is assumed that two wafers 11d having the identifier 22 are defective wafers (that is, wafers to be regenerated). Then, the wafer to be regenerated 11
c and 11d are separately prepared for the reproduction processing cassette 13.
Then, transfer using a handling jig or the like.

【0008】移し替えられた2枚の再生対象ウェーハ1
1c、11dを収容した再生処理用カセット13は、本
処理用カセット12とは別の識別子(例えばB1)が付
されて管理される。そして、再生処理用カセット13が
処理装置内に搬入されると、カセット13内から再生対
象ウェーハ11c、11dが取り出されて、予め登録し
てある再生処理用のプロセス手順に従い再生処理が行わ
れる。そして、再生処理済みのウェーハ11c、11d
がカセット13内に戻されると、カセット13は処理装
置外に搬出される。ここで、ウェーハ11c、11d
は、再生処理用カセット13から本処理用カセット12
に移し替えられ、再びこの本処理用カセット12を1つ
の処理単位として他の処理などが行われる。
The two transferred wafers 1 to be regenerated
The reproduction processing cassette 13 accommodating 1c and 11d is managed with an identifier (for example, B1) different from the processing processing cassette 12. Then, when the cassette 13 for reproduction processing is carried into the processing apparatus, the wafers 11c and 11d to be reproduced are taken out from the cassette 13, and the reproduction processing is performed in accordance with the pre-registered process procedure for reproduction processing. Then, the reclaimed wafers 11c and 11d
Is returned into the cassette 13, the cassette 13 is carried out of the processing apparatus. Here, the wafers 11c and 11d
Indicates that the reproduction processing cassette 13 has been
The other processing is performed again using the main processing cassette 12 as one processing unit.

【0009】[0009]

【発明が解決しようとする課題】以上述べたように、従
来では、カセット内の一部のウェーハについて再生処理
を行う場合、本処理用カセット12から再生対象ウェー
ハ11c、11dを再生処理用カセット13に移し替え
る作業、及び再生処理の済んだウェーハを再生処理用カ
セット13から本処理用カセット12に移し替えて戻す
作業を行わなければならない。従って、工数の増加を招
き、また移し替え作業の際に、ウェーハを落下させてし
まったり、正常なウェーハを再生処理用カセットに移し
替えてしまったり、また、再生処理用カセットは、各本
処理用カセットに対応して用意されるので、例えば識別
子A1の本処理用カセット12に対応する、識別子B1
の再生処理用カセット13から、他の識別子A2の本処
理用カセット内に戻してしまうといった作業ミスを起こ
すおそれもある。また、別途再生処理用のカセットを用
意(購入)したり、その再生処理用カセットにも識別子
を付して管理しなければならないなど手間がかかる。更
に、再生処理用カセットの置き場所も確保しなければな
らず、その分スペースをとってしまう。
As described above, in the prior art, when the reprocessing is performed on a part of the wafers in the cassette, the wafers 11c and 11d to be regenerated from the main processing cassette 12 are regenerated. And the operation of transferring the wafers subjected to the regeneration processing from the cassette 13 for the regeneration processing to the cassette 12 for the main processing and returning them. Therefore, the number of man-hours is increased, and in the transfer operation, the wafer is dropped, a normal wafer is transferred to a cassette for reprocessing, and the cassette for reprocessing is For example, the identifier B1 corresponding to the main processing cassette 12 having the identifier A1,
There is a possibility that an operation error may occur such as returning from the reproduction processing cassette 13 to the main processing cassette having another identifier A2. In addition, it is troublesome to separately prepare (purchase) a cassette for reproduction processing, or to attach and manage an identifier to the cassette for reproduction processing. Further, a place for placing the cassette for reproduction processing must be secured, which takes up space accordingly.

【0010】本発明は上述の問題に鑑みてなされ、再生
対象ウェーハを再生処理用容器に移し替えることなく再
生処理を行える生産管理方法及び装置を提供することを
課題とする。
The present invention has been made in view of the above problems, and has as its object to provide a production management method and apparatus capable of performing a recycling process without transferring a wafer to be recycled to a recycling container.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】以上の課題を解決するに
あたり、本発明の生産管理方法は、個々に識別可能な複
数のウェーハを収容する容器ごとにウェーハの不良を検
出する検査工程と、不良と検出されたウェーハを再生対
象ウェーハとして、記憶手段に記憶させる工程と、容器
を処理装置内に搬入する工程と、処理装置において、記
憶手段に記憶された再生対象ウェーハ情報に基づいて、
容器内から再生対象ウェーハのみを選別して再生処理を
行う工程と、再生処理されたウェーハを容器内に戻す工
程と、容器を処理装置外に搬出する工程とを有する。
In order to solve the above-mentioned problems, a production control method according to the present invention comprises: an inspection step of detecting a wafer defect for each container accommodating a plurality of individually identifiable wafers; The step of storing the detected wafer as a wafer to be reproduced as a target wafer and storing the container in the processing device, and the step of loading the container into the processing device.In the processing device, based on the target wafer information stored in the storage device,
The method includes a step of selecting only a wafer to be regenerated from the container and performing a regenerating process, a step of returning the regenerated wafer to the container, and a step of unloading the container out of the processing apparatus.

【0012】また、本発明の生産管理装置は、個々に識
別可能な複数のウェーハを収容する容器ごとにウェーハ
の不良を検出する検査装置と、不良と検出されたウェー
ハを再生対象ウェーハとして指定する再生対象ウェーハ
指定手段と、この再生対象ウェーハ指定手段から、容器
ごとの再生対象ウェーハ情報を入力として受ける再生対
象ウェーハ情報登録手段と、この再生対象ウェーハ情報
登録手段により、容器ごとの再生対象ウェーハ情報が書
き込まれる記憶手段と、再生対象ウェーハの再生処理の
開始を指示する再生処理開始指示手段と、この再生処理
開始指示手段からの指示を受けると、記憶手段から容器
ごとの再生対象ウェーハ情報を取得する再生処理指示手
段と、この再生処理指示手段から、容器ごとの再生対象
ウェーハ情報を受け、容器から再生対象ウェーハのみを
選別して再生処理を行う処理装置とを有する。
Further, the production management device of the present invention specifies an inspection device for detecting a defect of a wafer for each container accommodating a plurality of individually identifiable wafers, and designates the detected wafer as a wafer to be regenerated. Reproduced wafer specifying means, Reproduced wafer information registering means for receiving as input reproduced wafer information for each container from the reproduced wafer specifying means, Reproduced wafer information for each container by the reproduced wafer information registering means Is written, a regeneration start instruction unit for instructing the start of the regeneration process of the regeneration target wafer, and when receiving an instruction from the regeneration start instruction unit, obtains the regeneration target wafer information for each container from the storage unit. From the regeneration processing instruction means, and information on the wafer to be reproduced for each container. , And a processing apparatus for performing reproduction processing with select only reproduced wafer from the container.

【0013】すなわち、本発明の生産管理方法または生
産管理装置では、処理装置に、各容器ごとについてどれ
が再生対象ウェーハであるかを認識させ、容器内からは
その再生対象ウェーハのみを抜き取って再生処理を行
う。
That is, according to the production management method or the production management apparatus of the present invention, the processing apparatus is made to recognize which wafer is to be reclaimed for each container, and only the wafer to be reclaimed is extracted from the container and regenerated. Perform processing.

【0014】[0014]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て図面を参照して説明する。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0015】図1は、本実施の形態による生産管理装置
1の構成を示すブロック図である。再生対象ウェーハ指
定手段2は、例えばキーボードなどの入力手段であり、
これは信号線L1を介して再生対象ウェーハ情報登録手
段3に接続している。再生対象ウェーハ情報登録手段3
は、例えばコンピュータのプロセッサ(処理機構)であ
る。再生対象ウェーハ情報登録手段3は信号線L2を介
して、例えば磁気ディスクなどの記憶手段4と接続して
いる。
FIG. 1 is a block diagram showing a configuration of a production management device 1 according to the present embodiment. The reproduction target wafer specifying means 2 is an input means such as a keyboard, for example.
This is connected to the reproduction target wafer information registration means 3 via the signal line L1. Reproduction target wafer information registration means 3
Is, for example, a processor (processing mechanism) of a computer. The reproduction target wafer information registration unit 3 is connected to a storage unit 4 such as a magnetic disk via a signal line L2.

【0016】処理装置7は、例えばウェーハ上にレジス
ト膜を形成して、このレジスト膜に露光及び現像処理を
行うフォトリソグラフィー処理を行う装置であり、再生
処理指示手段6と信号線L5を介して接続される再生対
象ウェーハ情報受信手段7aを備えている。再生処理指
示手段6は、例えばプロセッサなどの処理機構であり、
記憶手段4と信号線L4で接続されている。再生処理指
示手段6は信号線L3を介して再生処理開始指示手段5
と接続している。再生処理開始指示手段5は、例えばキ
ーボードなどの入力手段である。なお、以上の構成に加
えて、生産管理装置1は、図示しない検査装置も有して
いる。
The processing device 7 is a device for performing a photolithography process for forming a resist film on a wafer and exposing and developing the resist film, for example, via a reproduction process instructing means 6 and a signal line L5. It is provided with a reproduction target wafer information receiving means 7a to be connected. The reproduction processing instruction means 6 is a processing mechanism such as a processor, for example.
It is connected to the storage means 4 by a signal line L4. The reproduction processing instructing means 6 is connected to the reproduction processing start instructing means 5 via the signal line L3.
Is connected to The reproduction processing start instructing means 5 is an input means such as a keyboard. Note that, in addition to the above configuration, the production management device 1 also has an inspection device (not shown).

【0017】本実施の形態においても、それぞれに個別
の識別子(例えば上述したような点状のマーキング)が
付された複数枚のウェーハを1ロットとして、この1ロ
ット単位で、予め登録されたプロセス手順に従って各種
処理や検査が行われる。例えば、図4に示す、1ロット
25枚のウェーハ11を収容した本処理用カセット12
は、処理装置7内に搬入され、ウェーハ11を1枚ず
つ、あるいは複数枚まとめてカセット12内から抜き取
って処理(フォトリソグラフィー)を行う。そして、全
てのウェーハ11の処理が完了してカセット12内に戻
されると、カセット12は処理装置7から搬出される。
そして、この後の、検査装置による検査工程で、カセッ
ト12内のウェーハ11の一部が不良であるとされた場
合には、その不良ウェーハ(再生対象ウェーハ)の再生
処理を行う。
Also in the present embodiment, a plurality of wafers each having an individual identifier (for example, a dot-like marking as described above) are treated as one lot, and a process registered in advance in units of one lot is considered. Various processes and inspections are performed according to the procedure. For example, as shown in FIG. 4, a main processing cassette 12 containing 25 wafers 11 in one lot.
Is carried into the processing apparatus 7 and the processing (photolithography) is performed by extracting the wafers 11 one by one or a plurality of wafers at a time from the cassette 12. Then, when the processing of all the wafers 11 is completed and returned to the cassette 12, the cassette 12 is carried out of the processing device 7.
Then, when a part of the wafer 11 in the cassette 12 is determined to be defective in the inspection process by the inspection device, the defective wafer (reproduction target wafer) is regenerated.

【0018】本実施の形態では、以下のようにして再生
処理を行う。
In this embodiment, the reproduction process is performed as follows.

【0019】先ず、作業者は、不良と検出されたウェー
ハを再生対象ウェーハとして指定する作業を行う。これ
は、再生対象ウェーハ指定手段(キーボード)2から、
再生対象ウェーハ情報登録手段(プロセッサ)3に、例
えば、識別子A1のカセット12においては、識別子が
3と22のウェーハが再生対象ウェーハであるという各
カセットごとの再生対象ウェーハ情報を信号線L1を介
して入力する。この入力を受けて再生対象ウェーハ情報
登録手段3は、各カセットごとの再生対象ウェーハ情報
を記憶手段(磁気ディスク)4に、信号線L2を介して
書き込んでデータベース構造として記憶させる。
First, an operator performs an operation of designating a wafer detected as defective as a wafer to be regenerated. This is from the reproduction target wafer designating means (keyboard) 2
To the reproduction target wafer information registration means (processor) 3, for example, in the cassette 12 with the identifier A1, the reproduction target wafer information for each cassette that the wafers with the identifiers 3 and 22 are the reproduction target wafers is transmitted via the signal line L1. Enter In response to this input, the reproduction target wafer information registration means 3 writes the reproduction target wafer information for each cassette in the storage means (magnetic disk) 4 via the signal line L2 and stores it as a database structure.

【0020】そして、識別子A1のカセット12が処理
装置7内に搬入されると、作業者は、再生処理開始指示
手段(キーボード)5によって信号線L3を介して再生
処理手段(プロセッサ)6に再生処理の開始を指示す
る。この再生処理開始指示を受けると、再生処理手段6
は、記憶手段4から、識別子A1のカセット12におけ
る再生対象ウェーハ情報を信号線L4を介して読み出
す。そして、この読み出した情報を処理装置7の再生対
象ウェーハ情報受信手段7aへと信号線L5を介して伝
送する。これを受けて、処理装置7は、識別子A1のカ
セット12における再生対象ウェーハは識別子3と22
のウェーハであるということを認識する。
Then, when the cassette 12 having the identifier A1 is carried into the processing device 7, the operator reproduces the data by the reproduction processing start instruction means (keyboard) 5 to the reproduction processing means (processor) 6 via the signal line L3. Instructs the start of processing. Upon receiving the reproduction processing start instruction, the reproduction processing means 6
Reads the information of the wafer to be reproduced in the cassette 12 with the identifier A1 from the storage means 4 via the signal line L4. Then, the read information is transmitted to the reproduction target wafer information receiving means 7a of the processing device 7 via the signal line L5. In response to this, the processing device 7 determines that the wafers to be reproduced in the cassette 12 with the identifier A1 are the identifiers 3 and 22.
Recognize that this is a wafer.

【0021】これにより、処理装置7においては、カセ
ット12内から識別子3と22の再生対象ウェーハ2枚
のみが選別されて抜き取られ再生処理が行われる。再生
処理が終了すると、識別子3と22のウェーハはカセッ
ト12内に戻され、カセット12は処理装置7から搬出
される。
As a result, in the processing apparatus 7, only two wafers to be regenerated with the identifiers 3 and 22 are selected from the cassette 12, extracted, and regenerated. When the regeneration process is completed, the wafers with identifiers 3 and 22 are returned to the cassette 12, and the cassette 12 is unloaded from the processing device 7.

【0022】すなわち、本実施の形態では、従来のよう
に再生対象ウェーハを別途用意した再生対象用カセット
に移し替える必要はなく、良否入り交じった本処理用カ
セット12をそのまま処理装置7に搬入して、処理装置
7に再生対象ウェーハを認識させているので、カセット
12からは再生対象ウェーハのみが抜き取られて再生処
理が行われる。従って、再生対象ウェーハを再生処理用
カセットに移し替える際、及び再生処理用カセットから
本処理用カセットに戻す際の時間を削減、及び作業ミス
をなくすことができる。また、再生処理用カセットを準
備(購入)する必要、及び再生処理用カセットに別途識
別子を付して管理する必要もなくなるので手間を軽減で
きる。更に、再生処理用カセットの置き場所のために別
途スペースを割り当てる必要がない。
That is, in the present embodiment, there is no need to transfer the wafer to be reproduced to a separately prepared cassette for reproduction as in the prior art. Thus, since the processing apparatus 7 is made to recognize the wafer to be reproduced, only the wafer to be reproduced is extracted from the cassette 12 and the reproduction processing is performed. Therefore, it is possible to reduce the time required to transfer the wafer to be reclaimed to the cassette for regeneration processing and to return the wafer from the cassette for regeneration processing to the cassette for regular processing, and to eliminate operational errors. Further, since it is not necessary to prepare (purchase) the cassette for reproduction processing and to separately manage the cassette for reproduction processing by attaching an identifier, the labor can be reduced. Furthermore, there is no need to allocate a separate space for the place for placing the cassette for reproduction processing.

【0023】以上、本発明の実施の形態について説明し
たが、勿論、本発明はこれに限定されることなく、本発
明の技術的思想に基づいて種々の変形が可能である。
Although the embodiment of the present invention has been described above, the present invention is, of course, not limited to this, and various modifications can be made based on the technical idea of the present invention.

【0024】本発明は、フォトリソグラフィー処理に限
らず他の処理にも適用できる。更には、半導体装置の製
造に限らず、例えば液晶表示装置の製造における生産管
理としても適用できる。
The present invention can be applied not only to the photolithography process but also to other processes. Further, the present invention can be applied not only to the manufacture of semiconductor devices but also to, for example, production management in the manufacture of liquid crystal display devices.

【0025】また、各ウェーハに付する識別子として
は、点に限らず数字やバーコードなどを付してもよい。
また、各ウェーハに識別子を付さずに、カセット内のど
の位置に収容するかによって、各ウェーハを個別に認識
できるようにしてもよい。
Further, the identifier assigned to each wafer is not limited to a point, but may be a number, a bar code, or the like.
Alternatively, each wafer may be individually recognized depending on the position in the cassette in which the wafer is stored without giving an identifier to each wafer.

【0026】[0026]

【発明の効果】本発明の請求項1による生産管理方法ま
たは請求項3による生産管理装置によれば、ウェーハの
再生処理の際の手間と時間を大幅に軽減でき、また、作
業ミスを防いで信頼性を高めることができる。
According to the production management method according to the first aspect of the present invention or the production management apparatus according to the third aspect, it is possible to greatly reduce the labor and time required for the wafer reprocessing process, and to prevent operation errors. Reliability can be improved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の実施の形態による生産管理装置の構成
を示すブロック図である。
FIG. 1 is a block diagram showing a configuration of a production management device according to an embodiment of the present invention.

【図2】識別子16のウェーハの平面図である。FIG. 2 is a plan view of a wafer having an identifier 16;

【図3】識別子9のウェーハの平面図である。FIG. 3 is a plan view of a wafer with an identifier 9;

【図4】本処理用カセット及び再生処理用カセットの斜
視図である。
FIG. 4 is a perspective view of a main processing cassette and a reproduction processing cassette.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1……生産管理装置、2……再生対象ウェーハ指定手
段、3……再生対象ウェーハ情報登録手段、4……記憶
手段、5……再生処理開始指示手段、6……再生処理指
示手段、7……処理装置、7a……再生対象ウェーハ情
報受信手段。
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Production management apparatus, 2 ... Reproduction target wafer designating means, 3 ... Reproduction target wafer information registration means, 4 ... Storage means, 5 ... Reproduction processing start instruction means, 6 ... Reproduction processing instruction means, 7 ... Processing device, 7a... Reproduction target wafer information receiving means.

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 個々に識別可能な複数のウェーハを収容
する容器ごとに前記ウェーハの不良を検出する検査工程
と、 不良と検出されたウェーハを再生対象ウェーハとして、
記憶手段に記憶させる工程と、 前記容器を処理装置内に搬入する工程と、 前記処理装置において、前記記憶に基づいて、前記容器
内から前記再生対象ウェーハのみを選別して再生処理を
行う工程と、 前記再生処理されたウェーハを前記容器内に戻す工程
と、 前記容器を前記処理装置外に搬出する工程とを有するこ
とを特徴とする生産管理方法。
An inspection step of detecting a defect of the wafer for each of the containers accommodating a plurality of individually identifiable wafers;
A step of storing in a storage means, a step of carrying the container into a processing apparatus, and a step of, in the processing apparatus, selecting only the wafer to be regenerated from within the container and performing a regeneration process based on the storage. A production management method, comprising: returning the reprocessed wafer into the container; and carrying out the container out of the processing apparatus.
【請求項2】 前記処理装置で行われる処理は、前記ウ
ェーハ上にレジスト膜を形成して、このレジスト膜に露
光及び現像処理を行うフォトリソグラフィー処理である
ことを特徴とする請求項1に記載の生産管理方法。
2. The process performed by the processing apparatus is a photolithography process in which a resist film is formed on the wafer, and the resist film is exposed and developed. Production management method.
【請求項3】 個々に識別可能な複数のウェーハを収容
する容器ごとに前記ウェーハの不良を検出する検査装置
と、 不良と検出されたウェーハを再生対象ウェーハとして指
定する再生対象ウェーハ指定手段と、 前記再生対象ウェーハ指定手段から、前記容器ごとの再
生対象ウェーハ情報を入力として受ける再生対象ウェー
ハ情報登録手段と、 前記再生対象ウェーハ情報登録手段により、前記容器ご
との前記再生対象ウェーハ情報が書き込まれる記憶手段
と、 前記再生対象ウェーハの再生処理の開始を指示する再生
処理開始指示手段と、 前記再生処理開始指示手段からの指示を受けると、前記
記憶手段から前記容器ごとの前記再生対象ウェーハ情報
を取得する再生処理指示手段と、 前記再生処理指示手段から、前記容器ごとの前記再生対
象ウェーハ情報を受け、前記容器から前記再生対象ウェ
ーハのみを選別して再生処理を行う処理装置とを有する
ことを特徴とする生産管理装置。
3. An inspection apparatus for detecting a defect of the wafer for each container accommodating a plurality of individually identifiable wafers, a reproduction target wafer specifying means for specifying the defective wafer as a reproduction target wafer, A reproduction target wafer information registering unit that receives as input the reproduction target wafer information for each container from the reproduction target wafer designation unit; and a storage in which the reproduction target wafer information for each container is written by the reproduction target wafer information registration unit. Means, regeneration processing start instruction means for instructing the start of the reproduction processing of the reproduction target wafer, and receiving the instruction from the reproduction processing start instruction means, obtains the reproduction target wafer information for each container from the storage means. From the regeneration processing instruction means, and the reproduction target cue for each container. A production management device, comprising: a processing device that receives wafer information, selects only the wafer to be regenerated from the container, and performs a regenerating process.
【請求項4】 前記処理装置は、前記ウェーハ上にレジ
スト膜を形成して、このレジスト膜に露光及び現像処理
を行うフォトリソグラフィー処理を行う装置であること
を特徴とする請求項3に記載の生産管理装置。
4. The apparatus according to claim 3, wherein the processing apparatus is an apparatus that performs a photolithography process of forming a resist film on the wafer and performing exposure and development processes on the resist film. Production control equipment.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2018056286A (en) * 2016-09-28 2018-04-05 株式会社Sumco Manufacturing method of semiconductor wafer

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