JP2002170749A - Method for manufacturing electronic component - Google Patents

Method for manufacturing electronic component

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JP2002170749A
JP2002170749A JP2000363397A JP2000363397A JP2002170749A JP 2002170749 A JP2002170749 A JP 2002170749A JP 2000363397 A JP2000363397 A JP 2000363397A JP 2000363397 A JP2000363397 A JP 2000363397A JP 2002170749 A JP2002170749 A JP 2002170749A
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Japan
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film
forming
works
sheet
dicing
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JP2000363397A
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Japanese (ja)
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Hiroshi Nakatani
宏 中谷
Isao Toyoshima
功 豊島
Shigeto Yamamoto
滋人 山本
Junichi Hashimoto
順一 橋本
Takenori Kojoba
武紀 小上馬
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Murata Manufacturing Co Ltd
Original Assignee
Murata Manufacturing Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for manufacturing an electronic component by which handling is made easy and breakage, cracking, adhesion of contamination, etc., hardly occur in a series of manufacturing steps from dicing to film formation of a substrate. SOLUTION: A dicing sheet is adhered to the rear surface of a ceramic substrate, and dicing grooves are formed on the front surface of the ceramic substrate and the ceramic substrate is divided into a plurality of works. Next, while dicing sheets are still adhered to one main surfaces of the works, film formation sheets are adhered to the other main surfaces of the works, and then the dicing sheets are peeled off, thereby shifting the works from the dicing sheets to the film formation sheets. Finally, while the film formation sheets are still adhered to the works, a thin film is formed on the main surface and side surface of the respective work by using the thin film formation method.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、表面に導電膜の形
成された電子部品の製造方法に関するもので、特にコン
デンサ、アクチュエータ、インダクタ等のチップ型電子
部品の製造方法に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing an electronic component having a conductive film formed on its surface, and more particularly to a method for manufacturing a chip-type electronic component such as a capacitor, an actuator, and an inductor.

【0002】[0002]

【従来の技術】積層型チップ電子部品は通常、セラミッ
クグリーンシートと内部電極を交互に積層して焼成させ
た親基板となるセラミック基板を複数のワークに分割し
た後、各ワークの表面に外部電極となる導電膜を形成す
るという工程を経て製造される。
2. Description of the Related Art In general, a multilayer chip electronic component is obtained by dividing a ceramic substrate, which is a parent substrate obtained by alternately laminating and firing ceramic green sheets and internal electrodes, into a plurality of works, and then applying external electrodes to the surface of each work. It is manufactured through a process of forming a conductive film that becomes

【0003】前記製造工程のなかでセラミック基板を複
数のワークに分割する工程では、作業の容易化を図るた
め、基板の裏面に粘着シートを貼付して、その状態で基
板の表面からダイシング溝を形成して短冊状やチップ状
の複数のワークに分割するという工法が用いられること
がある。この工法を用いれば、分割されたワークは粘着
シートに粘着された状態であるため、各ワークが分散す
る恐れがなく、作業効率の向上が図られるものである。
[0003] In the step of dividing the ceramic substrate into a plurality of works in the above manufacturing process, an adhesive sheet is attached to the back surface of the substrate to facilitate the work, and dicing grooves are formed from the surface of the substrate in that state. A method of forming and dividing into a plurality of strip-shaped or chip-shaped works may be used. By using this method, the divided works are in a state of being adhered to the pressure-sensitive adhesive sheet, so that there is no fear that the respective works are dispersed and the work efficiency is improved.

【0004】上記工法を用いて基板を複数のワークに分
割した場合、各ワークの表面に外部電極となる導電膜を
形成する工程では、ダイシングカットされた状態で粘着
シート上に粘着されているワークを粘着シートから取り
外して一旦トレーに移載後、ワークを金属製のマスクに
詰めて洗浄、乾燥、成膜等の工程が行われる。
[0004] When the substrate is divided into a plurality of works using the above-described method, in the step of forming a conductive film serving as an external electrode on the surface of each work, the work adhered to the adhesive sheet in a dicing cut state is used. Is removed from the adhesive sheet, and once transferred to a tray, the work is packed in a metal mask, and steps such as washing, drying, and film formation are performed.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら上記の方
法でワークに導電膜を形成する場合には、次のような問
題があった。すなわち、チップ型電子部品などのように
ワークが小型の場合には、トレーへの移載やマスク詰め
の際の取り扱いが非常に困難となるという問題がある。
また、ワークのトレーへの移載やマスク詰めの際に、ワ
ークにワレ、カケ、汚れ付着などが生じやすく、電子部
品の特性の劣化を招くことになる。マスク詰めの際のワ
レ、カケを防止するためにはワークの挿入寸法を大きく
する必要があるが、一方でワークの位置精度が出ないと
いう問題が生じる。同じく厚みが薄いワークでは、焼成
時のそりや薄さのため、マスクに入れて流動するとワ
レ、カケが発生しやすいという問題がある。
However, when a conductive film is formed on a work by the above-described method, there are the following problems. That is, when the work is small, such as a chip-type electronic component, there is a problem that it is extremely difficult to transfer the work to a tray or pack the mask.
In addition, when a work is transferred to a tray or packed with a mask, cracks, chips, stains, and the like are likely to be generated on the work, which causes deterioration of characteristics of the electronic component. In order to prevent cracking and chipping when filling the mask, it is necessary to increase the dimension of inserting the work, but on the other hand, there is a problem that the position accuracy of the work is not obtained. Similarly, in the case of a work having a small thickness, there is a problem that cracks and chips are easily generated when the work is put in a mask and flows due to warpage and thinness during firing.

【0006】そこで本発明は、ダイシングから成膜の一
連の製造工程において、取り扱いが容易でワレ、カケ、
汚れ付着などの生じにくい電子部品の製造方法を提供す
る。
Accordingly, the present invention provides easy handling, cracking, chipping,
Provided is a method for manufacturing an electronic component that is unlikely to cause stains or the like.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】本発明の電子部品の製造
方法は、セラミック基板の裏面をダイシング用シートに
粘着させる工程と、セラミック基板の表面からダイシン
グ溝を形成してセラミック基板を複数のワークに分割す
る工程と、複数のワークからダイシング用シートを剥離
する工程と、複数のワークの一方主面を成膜用シートに
固着させる工程と、複数のワークの一方主面を成膜用シ
ートに固着した状態で、各ワークの他方主面および側面
の少なくとも一部に、薄膜形成法を用いて薄膜を形成す
る工程とを備える。
A method of manufacturing an electronic component according to the present invention comprises the steps of: adhering the back surface of a ceramic substrate to a dicing sheet; and forming a dicing groove from the surface of the ceramic substrate to form a plurality of workpieces on the ceramic substrate. Dividing the dicing sheet from the plurality of works, fixing one main surface of the plurality of works to the film-forming sheet, and forming one main surface of the plurality of works into the film-forming sheet. Forming a thin film on at least a part of the other main surface and the side surface of each work in a fixed state by using a thin film forming method.

【0008】このように、セラミック基板を複数のワー
クに分割した後、ワークをダイシング用シートから成膜
用シートに移し替え、成膜用シートに粘着した状態で成
膜を行うため、成膜の際にワークをマスクに詰める必要
がない。したがって、ワークの取り扱いが容易になり、
ワークのワレ、カケ、汚れ付着などの発生を低減するこ
とができる。
As described above, after the ceramic substrate is divided into a plurality of works, the work is transferred from the dicing sheet to the film forming sheet, and the film is formed while being adhered to the film forming sheet. There is no need to pack the work in a mask. Therefore, handling of the work becomes easy,
It is possible to reduce the occurrence of cracks, chips, and stains on the work.

【0009】また、ダイシング用シートから成膜用シー
トに移し替えることで、ダイシング時に発生したダイシ
ング用シートに付着しているカット屑が成膜工程に持ち
込まれることもなく、付着物による成膜不良を防ぐこと
ができる。
Further, by transferring from the dicing sheet to the film-forming sheet, the cut debris generated during dicing and adhering to the dicing sheet is not carried into the film-forming process, and the film-forming defect due to the adhered substance is eliminated. Can be prevented.

【0010】また、本発明の電子部品の製造方法は、セ
ラミック基板の裏面をダイシング用シートに粘着させる
工程と、セラミック基板の表面からダイシング溝を形成
してセラミック基板を複数のワークに分割する工程と、
複数のワークをダイシング用シートに粘着した状態で、
複数のワークの一方主面を成膜用シートに固着させる工
程と、複数のワークからダイシング用シートを剥離する
工程と、複数のワークの一方主面を成膜用シートに固着
した状態で、各ワークの他方主面および側面の少なくと
も一部に、薄膜形成法を用いて薄膜を形成する工程とを
備える。
In the method of manufacturing an electronic component according to the present invention, a step of adhering the back surface of the ceramic substrate to a dicing sheet and a step of forming a dicing groove from the surface of the ceramic substrate to divide the ceramic substrate into a plurality of works. When,
With multiple workpieces adhered to the dicing sheet,
A step of fixing one main surface of the plurality of works to the film-forming sheet, a step of separating the dicing sheet from the plurality of works, and a step of fixing one main surface of the plurality of works to the film-forming sheet. Forming a thin film on at least a part of the other main surface and the side surface of the work by using a thin film forming method.

【0011】このように、ワークをダイシング用シート
に粘着した状態で、ワークを成膜用シートに固着させる
ため、移し替え作業が非常に容易となる。また、ワーク
のトレーへの移載の際にワークのワレ、カケ、汚れ付着
などの発生を低減することができる。
As described above, since the work is fixed to the film-forming sheet while the work is adhered to the dicing sheet, the transfer operation becomes very easy. In addition, it is possible to reduce the occurrence of cracks, chips, and stains on the work when the work is transferred to the tray.

【0012】さらに、セラミック基板を複数のワークに
分割する工程の後に、ダイシング用シートを引き伸ばし
てワーク同士の間隔を拡張させる工程を行っても良い。
Further, after the step of dividing the ceramic substrate into a plurality of works, a step of extending the dicing sheet to increase the distance between the works may be performed.

【0013】ダイシングによる材料のロスを最小限に抑
えるには、幅の狭いダイシングカッターを用いてワーク
を分割するのが望ましいが、この場合各ワークはワーク
同士の間隔が非常に狭い状態でダイシング用シートに粘
着されていることになる。したがって、この状態で成膜
用シートに移し替えて成膜を行った場合には、ワークの
間隔が狭く、ワークの側面まで十分薄膜が形成されない
恐れがある。そこで、このようにワークの分割後にダイ
シング用シートを引き伸ばしてワークの間隔を拡張させ
れば、ワークの側面まで十分に成膜でき、成膜精度の向
上が図られるものである。
In order to minimize the loss of material due to dicing, it is desirable to divide the work using a narrow dicing cutter. In this case, each work is used for dicing with a very narrow space between the works. This means that the sheet is adhered. Therefore, if the film is transferred to the film-forming sheet in this state and the film is formed, the interval between the works is narrow, and there is a possibility that a thin film may not be formed sufficiently to the side surface of the work. Therefore, if the dicing sheet is stretched after the work is divided to expand the interval between the works, a film can be sufficiently formed on the side surface of the work, and the film forming accuracy can be improved.

【0014】ダイシング用シートは、基材表面に粘着剤
の塗布されたシートであることが望ましく、特に、耐熱
性を有するものであることが望ましい。例えば、ポリイ
ミドからなる基材を用いた場合、高い精度が要求される
電子部品の形成の際には、ダイシング溝を基材に達する
位置まで形成する必要があるが、ポリイミドは熱硬化性
樹脂であり比較的高温の耐熱性を有するため、ダイシン
グの際の発熱によって基材が熱溶解してダイシングブレ
ードに付着することもなく、チッピングの発生を防ぐこ
とができる。
The dicing sheet is desirably a sheet having a base material surface coated with an adhesive, and particularly desirably a sheet having heat resistance. For example, when using a base material made of polyimide, when forming an electronic component that requires high precision, it is necessary to form a dicing groove up to a position reaching the base material, but polyimide is a thermosetting resin. Since it has heat resistance at a relatively high temperature, heat generation at the time of dicing does not cause the base material to melt and adhere to the dicing blade, thereby preventing chipping.

【0015】成膜用シートは、基材上に粘着剤の塗布さ
れたシートであることが望ましく、特に、耐熱性を有す
るものであることが望ましい。例えば、ポリイミドから
なる基材上にシリコン系粘着剤の塗布されたシートを用
いた場合、ポリイミドとシリコン系粘着剤はいずれも比
較的高温の耐熱性を有するため、成膜工程における温度
上昇により成膜用シートからアウトガスが発生するのを
できるだけ抑制することができる。
The film-forming sheet is desirably a sheet in which a pressure-sensitive adhesive is applied to a substrate, and particularly desirably has heat resistance. For example, when a sheet in which a silicone-based adhesive is applied on a substrate made of polyimide is used, both polyimide and the silicone-based adhesive have relatively high heat resistance, and are formed by a rise in temperature in a film forming process. Outgassing from the film sheet can be suppressed as much as possible.

【0016】さらに、複数のワークの一方主面を成膜用
シートに固着させる工程の前に、あらかじめ成膜用シー
トに熱処理を施す工程を行ってもよい。後に行う成膜工
程において粘着シートの温度が大きく上昇する場合、成
膜用シートの蒸発によりアウトガスが発生し、形成する
薄膜の結晶性や密度の低下、不純物の含有、変色などの
膜質の劣化を招く恐れがある。したがって、あらかじめ
成膜用シートに熱処理を行い粘着剤からアウトガスを発
生させておくことで、薄膜の膜質の劣化を防ぐことがで
きるものである。
Further, before the step of fixing one main surface of the plurality of works to the film-forming sheet, a step of heat-treating the film-forming sheet may be performed in advance. If the temperature of the pressure-sensitive adhesive sheet rises significantly in the subsequent film-forming process, outgassing occurs due to evaporation of the film-forming sheet, which leads to deterioration of the film quality such as reduced crystallinity and density of the formed thin film, inclusion of impurities, and discoloration. May be invited. Therefore, deterioration of the film quality of the thin film can be prevented by performing a heat treatment on the film-forming sheet in advance and generating outgas from the adhesive.

【0017】また、薄膜形成法を用いて薄膜を形成する
工程の前に、あらかじめ成膜用シートの粘着剤塗布面に
紫外線を照射する工程を行ってもよい。このように、紫
外線を照射することによって、ワーク表面の汚れを分解
除去するとともに、成膜用シートのワークが粘着してい
ない部分の粘着力を消失させ、その後の工程における成
膜用シートの取り扱いを容易にすることができるもので
ある。
Further, before the step of forming a thin film using the thin film forming method, a step of irradiating the pressure-sensitive adhesive-coated surface of the film-forming sheet with ultraviolet rays may be performed in advance. In this way, by irradiating the ultraviolet light, the dirt on the work surface is decomposed and removed, and at the same time, the adhesive strength of the portion of the film formation sheet where the work is not adhered is lost, and the handling of the film formation sheet in the subsequent process is performed. Can be facilitated.

【0018】セラミック基板は、交互に積層されたセラ
ミック層と電極層とから構成されているものを用いるこ
とができ、セラミック基板を複数のワークに分割する工
程では、該電極層の一部がワークの側面に露出するよう
にダイシング溝を形成することが望ましい。また、薄膜
形成法を用いて薄膜を形成する工程において形成する薄
膜は、導電性を有する薄膜であることが望ましい。
The ceramic substrate may be composed of a ceramic layer and an electrode layer alternately laminated. In the step of dividing the ceramic substrate into a plurality of works, a part of the electrode layer It is desirable to form a dicing groove so as to be exposed on the side surface of the substrate. Further, it is preferable that the thin film formed in the step of forming the thin film by using the thin film forming method be a thin film having conductivity.

【0019】本発明の電子部品の製造方法は、チップ型
電子部品のように小型で取り扱いが困難な電子部品の製
造に特に適しているものである。また、本発明によれば
ワークの側面にまで十分に成膜することが可能であるた
め、積層型チップ部品の内部電極層の一部が露出するよ
うにダイシング溝を形成してワークの側面に導電薄膜を
形成することで、内部電極と電気的導通のとれた外部電
極を容易に形成することができるようになるものであ
る。
The method of manufacturing an electronic component according to the present invention is particularly suitable for manufacturing a small and difficult-to-handle electronic component such as a chip-type electronic component. Further, according to the present invention, since it is possible to sufficiently form a film on the side surface of the work, a dicing groove is formed so that a part of the internal electrode layer of the multilayer chip component is exposed, and By forming a conductive thin film, an external electrode that is electrically connected to the internal electrode can be easily formed.

【0020】さらに、ワークの主面部分の薄膜の一部を
切断することによって、ワークの対向する側面に形成さ
れた薄膜間の導通を断ち、一対の外部電極を形成するこ
とができる。
Further, by cutting a part of the thin film on the main surface portion of the work, conduction between the thin films formed on the opposite side surfaces of the work can be cut off, and a pair of external electrodes can be formed.

【0021】[0021]

【発明の実施の形態】[第1実施例]本実施例では、本
発明を用いた積層圧電アクチュエータの製造方法を図1
〜7を用いて説明する。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS [First Embodiment] In this embodiment, a method of manufacturing a laminated piezoelectric actuator using the present invention will be described with reference to FIG.
This will be described with reference to FIGS.

【0022】まず、50mm四方、厚さ0.52mmの
セラミック多層基板1と粘着シート2を用意し、図1に
示すようにセラミック多層基板1の一方の主面を粘着シ
ート2に粘着させた。
First, a ceramic multilayer substrate 1 and a pressure-sensitive adhesive sheet 2 having a size of 50 mm square and a thickness of 0.52 mm were prepared, and one main surface of the ceramic multilayer substrate 1 was adhered to the pressure-sensitive adhesive sheet 2 as shown in FIG.

【0023】多層基板1は、圧電性を有するセラミック
層と内部電極層とが交互に積層されて形成されており、
セラミック層は厚さ0.06mmの上下外層と、厚さ
0.02mmの20層の内層とを有する。内部電極は、
後のダイシング工程によってワークの側面に一層おきに
露出する位置に形成されている。
The multilayer substrate 1 is formed by alternately stacking piezoelectric ceramic layers and internal electrode layers.
The ceramic layer has upper and lower outer layers having a thickness of 0.06 mm and 20 inner layers having a thickness of 0.02 mm. The internal electrodes are
It is formed at a position exposed every other side of the work by a later dicing process.

【0024】ダイシング用シート2は、ポリイミドから
なる基材上にシリコン系粘着剤が塗布されたものを用い
た。但し、ダイシング用シートは基板を粘着保持できる
ものであればよく、このように基材表面に粘着剤が塗布
された構成に限られるものではない。粘着の際、ダイシ
ング用シートの伸長状態を保つため、ドーナツ状の金属
リングの孔部をふさぐようにダイシング用シートを貼付
しておき、その上からセラミック多層基板を貼付しても
よい。
As the dicing sheet 2, a sheet obtained by applying a silicone-based adhesive on a substrate made of polyimide was used. However, the dicing sheet only needs to be capable of holding the substrate by adhesive, and is not limited to the configuration in which the adhesive is applied to the surface of the base material. In the case of sticking, in order to maintain the stretched state of the dicing sheet, the dicing sheet may be stuck so as to cover the hole of the donut-shaped metal ring, and the ceramic multilayer substrate may be stuck thereon.

【0025】続いて、図2に示すように、幅0.6mm
のダイシングブレードを用いて、セラミック多層基板1
のダイシング用シート2との接着面と反対側の面からダ
イシングし、複数のワーク3に分割した。各ワーク3
は、幅5.2mm、長さ50mmの短冊状で、ワーク3
の長手方向側面に内部電極7が一層おきに露出する状態
とした。図3にワークの拡大図を示す。
Subsequently, as shown in FIG.
Ceramic dicing board 1 using a dicing blade
Was diced from the surface opposite to the surface to be bonded to the dicing sheet 2 and divided into a plurality of works 3. Each work 3
Is a strip having a width of 5.2 mm and a length of 50 mm.
In this state, the internal electrodes 7 are exposed every other side in the longitudinal direction. FIG. 3 shows an enlarged view of the work.

【0026】アクチュエータ用のワークは特に高い形状
精度が要求されるため、ダイシング用シート2の基材表
面から数十μm以上内部に達するダイシング溝を形成す
る必要がある。ここで、本実施例で用いたポリイミド基
材は熱硬化性樹脂であり比較的高温の耐熱性を有するた
め、ダイシングの際の発熱により基材が熱溶解してダイ
シングブレードに付着することもなく、チッピングの発
生を防ぐことができる。また、ポリイミドは硬質の樹脂
であるため、ダイシングによって削れた屑がワークに付
着することも少なく、後の成膜工程における付着物によ
る成膜不良の発生を防ぐことができる。
Since a workpiece for an actuator is required to have particularly high shape accuracy, it is necessary to form a dicing groove extending from the surface of the substrate of the dicing sheet 2 to several tens μm or more inside. Here, since the polyimide substrate used in the present example is a thermosetting resin and has a relatively high temperature heat resistance, the substrate does not melt due to heat generated during dicing and does not adhere to the dicing blade. , The occurrence of chipping can be prevented. In addition, since polyimide is a hard resin, debris shaved by dicing rarely adheres to the work, and it is possible to prevent a film formation defect due to an adhered substance in a later film formation step.

【0027】また、基材の材料は、これに限らずエポキ
シ樹脂、テフロン(登録商標)、ベークライト等を用い
ることができるが、耐熱性、薄いシート状への加工の容
易さや硬さ等の点からポリイミドが最も好ましいと考え
られる。
The material of the base material is not limited thereto, and epoxy resin, Teflon (registered trademark), bakelite, or the like can be used. However, in terms of heat resistance, ease of processing into a thin sheet, hardness, and the like. Therefore, polyimide is considered to be most preferable.

【0028】次いで、ダイシング用シート2にワーク3
が粘着されている状態で洗浄した後、加熱して乾燥させ
た。この際、ダイシング用シート2は耐熱性を有するポ
リイミド樹脂で形成されているため、より高温の乾燥が
可能となり処理時間の短縮を図ることができる。したが
って、乾燥時にワーク表面に埃が付着する可能性が低
く、後の成膜工程における付着物による成膜不良の発生
を防ぐことができる。
Next, the work 3 is placed on the dicing sheet 2.
After being washed in a state where is adhered, it was dried by heating. At this time, since the dicing sheet 2 is formed of a polyimide resin having heat resistance, it can be dried at a higher temperature and the processing time can be reduced. Therefore, the possibility that dust adheres to the work surface during drying is low, and it is possible to prevent the occurrence of film formation failure due to the adhered matter in the subsequent film formation process.

【0029】次に、図4に示すように、ワーク3の一方
主面がダイシング用シート2に粘着されている状態で、
ワーク3の他方主面に成膜用シート10を貼付した。続
いて、ワーク3からダイシング用シート2を剥離するこ
とによって、ワーク3をダイシング用シート2から成膜
用シート10に非常に簡易に移し替えることができた。
Next, as shown in FIG. 4, in a state where one main surface of the work 3 is adhered to the dicing sheet 2,
A film-forming sheet 10 was attached to the other main surface of the work 3. Subsequently, by peeling the dicing sheet 2 from the work 3, the work 3 could be transferred from the dicing sheet 2 to the film-forming sheet 10 very easily.

【0030】成膜用シート10はポリイミドからなる基
材上にシリコン系粘着剤が塗布されたものを用いた。こ
れらの材料は、比較的高温までの耐熱性を有するため、
後の成膜工程における温度上昇によっても、変形や変質
を起しにくいためである。また、成膜用シート10の材
料は、これに限らず基材はテフロン、PPS等の耐熱性
基材を、粘着剤はアクリル系等の耐熱性粘着剤を同様に
用いることができる。但し、成膜用シートはワークを固
着保持できるものであればよく、このように基材表面に
粘着剤が塗布された構成に限られるものではない。ま
た、粘着剤をワーク側に塗布しておいてから成膜用シー
トを粘着させてもよい。
The film-forming sheet 10 used was a polyimide base material coated with a silicone-based adhesive. Because these materials have heat resistance up to relatively high temperatures,
This is because deformation and alteration are unlikely to occur even when the temperature rises in a later film forming step. The material of the film-forming sheet 10 is not limited to this, and a heat-resistant base material such as Teflon or PPS can be used for the base material, and a heat-resistant adhesive material such as acrylic can be used for the adhesive. However, the film-forming sheet may be any as long as it can fix and hold the work, and is not limited to the configuration in which the adhesive is applied to the surface of the base material. Alternatively, the film-forming sheet may be adhered after the adhesive is applied to the work side.

【0031】次いで、成膜用シート10にワーク3が粘
着されている状態で、成膜用シート10の粘着剤塗布面
側から紫外線を照射し、ワーク3表面の汚れを分解除去
して洗浄するとともに、成膜用シート10のワーク3が
粘着していない部分の粘着力を消失させた。本発明で用
いるシリコン系やアクリル系の粘着剤は、紫外線の照射
によって粘着力が消失するものであり、洗浄効果を高め
るためには、発熱やオゾン発生の可能な低波長の紫外線
を照射するのが望ましいと考えられる。本実施例では、
100Wの低圧水銀ランプを用いた紫外線照射機を使用
し、大気中で150℃に加熱しながら10分間の照射を
行った。
Next, in a state where the work 3 is adhered to the film-forming sheet 10, ultraviolet light is irradiated from the side of the pressure-sensitive adhesive applied side of the film-forming sheet 10, and the surface of the work 3 is decomposed and removed for cleaning. At the same time, the adhesive strength of the portion of the film-forming sheet 10 where the work 3 was not adhered was eliminated. The silicone-based or acrylic-based adhesive used in the present invention loses its adhesive strength by being irradiated with ultraviolet rays, and in order to enhance the cleaning effect, it is necessary to irradiate with ultraviolet rays of a low wavelength capable of generating heat and generating ozone. Is considered desirable. In this embodiment,
Irradiation was performed for 10 minutes while heating to 150 ° C. in the air using an ultraviolet irradiator using a low-pressure mercury lamp of 100 W.

【0032】続いて、成膜用シート10にワーク3が粘
着されている状態で成膜を行った。本実施例では蒸着に
よりワークの主面および長手方向の側面に(Cr/Ni
/Au)の積層構造を有する電極膜を形成した。成膜装
置の簡略図を図5に示す。成膜装置は、蒸着源6とその
上方500mmの位置に配置されたサンプル固定板4を
備え、固定板4は水平方向に固定された中心軸5を中心
に回転可能なように取付けられている。このサンプル固
定板4に、ワーク3が粘着された成膜用シート10をワ
ーク3の長手方向が中心軸5と平行になるように固定し
た。
Subsequently, a film was formed in a state where the work 3 was adhered to the film forming sheet 10. In this embodiment, (Cr / Ni
/ Au) to form an electrode film having a laminated structure. FIG. 5 is a simplified diagram of a film forming apparatus. The film forming apparatus includes a vapor deposition source 6 and a sample fixing plate 4 arranged at a position 500 mm above the evaporation source 6, and the fixing plate 4 is attached so as to be rotatable about a central axis 5 fixed in a horizontal direction. . The film forming sheet 10 to which the work 3 was adhered was fixed to the sample fixing plate 4 such that the longitudinal direction of the work 3 was parallel to the central axis 5.

【0033】電極膜の膜厚は、Cr/Ni/Au=0.
2/0.4/0.2μmとし、圧力2×10-3Pa、成
膜レート0.5〜1.0nm/s、基板加熱温度100
℃の条件下で、サンプル固定板4を回転させながら成膜
を行った。本実施例では、成膜の際の発熱により基板の
温度は150℃程度にまで上昇するが、高温の耐性を有
する成膜用シートを使用しているため、成膜用シートの
変形や変質を防ぐことができる。また、サンプル固定板
を回転させることによりワークの主面に対して斜め方向
からも成膜原子を入射させることができるため、図6に
示すようにダイシング溝の断面、すなわちワークの長手
方向の側面にも成膜を行うことができた。このようにし
て形成された電極膜は、ワークの長手方向側面に露出し
た内部電極7と接続されている。
The thickness of the electrode film is Cr / Ni / Au = 0.
2 / 0.4 / 0.2 μm, pressure 2 × 10 −3 Pa, deposition rate 0.5 to 1.0 nm / s, substrate heating temperature 100
Film formation was performed while rotating the sample fixing plate 4 under the condition of ° C. In this embodiment, the temperature of the substrate rises to about 150 ° C. due to heat generation during film formation. However, since a film formation sheet having a high temperature resistance is used, deformation and deterioration of the film formation sheet are prevented. Can be prevented. In addition, since the film-forming atoms can be made incident on the main surface of the work obliquely by rotating the sample fixing plate, the cross section of the dicing groove as shown in FIG. A film could also be formed. The electrode film thus formed is connected to the internal electrode 7 exposed on the side surface in the longitudinal direction of the work.

【0034】本実施例では、蒸着法を用いて成膜を行っ
たが、この方法に限らずイオンプレーティング法やスパ
ッタリング法、PVD法等他の薄膜形成法を用いて成膜
を行うことができる。また、本実施例のような電極膜に
限らず、SiO2、Al23、TiN等の保護膜や、Z
nO等の機能膜等も同様の方法を用いて形成可能であ
る。
In this embodiment, the film is formed by using the vapor deposition method. However, the film is not limited to this method, but may be formed by using other thin film forming methods such as an ion plating method, a sputtering method, and a PVD method. it can. Further, the present invention is not limited to the electrode film as in the present embodiment, but may be a protective film such as SiO 2 , Al 2 O 3 ,
A functional film such as nO can be formed using the same method.

【0035】最後に、図7に示すように主面と長手方向
の側面に電極膜の形成されたワークの主面部分の電極膜
の一部を切断することによって、対向する長手方向の側
面に形成された電極膜同士の電気的導通を断つ。以上の
工程を経て、内部電極7とそれに電気的導通のとれた外
部電極8を有する積層圧電アクチュエータ9が完成す
る。
Finally, as shown in FIG. 7, by cutting a part of the electrode film on the main surface portion of the work on which the electrode film is formed on the main surface and the longitudinal side surface, the opposing longitudinal side surface is cut. The electrical continuity between the formed electrode films is cut off. Through the above steps, a laminated piezoelectric actuator 9 having the internal electrode 7 and the external electrode 8 electrically connected to the internal electrode 7 is completed.

【0036】以上のように、本実施例ではセラミック基
板を複数のワークに分割した後、ワークをダイシング用
シートから成膜用シートに移し替えた後、ワークを成膜
用シートに粘着させた状態で成膜を行ったため、ワーク
をトレーへ移載する工程やワークをマスクに詰める工程
が必要なく、ワークの取り扱いが容易で、ワークのワ
レ、カケ、汚れ付着、および外部電極のワレ、カケなど
を防ぐことができた。
As described above, in this embodiment, after the ceramic substrate is divided into a plurality of works, the work is transferred from the dicing sheet to the film-forming sheet, and the work is adhered to the film-forming sheet. Since there is no need to transfer the work to the tray or pack the work in a mask, it is easy to handle the work, and cracks, chips and dirt on the work, cracks and chips on the external electrode, etc. Could be prevented.

【0037】また、積層圧電アクチュエータの電気信号
の入出力は通常ワークの主面部分に位置する外部電極か
ら行うが、本実施例の積層圧電アクチュエータは特にエ
ッジ部分における外部電極のカケが低減されていること
から、ワークの主面部分に位置する外部電極と側面部分
に位置する外部電極との間の電気的導通が良好で信頼性
の高い積層圧電アクチュエータを形成することができ
た。
Although the input and output of electric signals of the laminated piezoelectric actuator are normally performed from external electrodes located on the main surface of the work, the laminated piezoelectric actuator of the present embodiment has a reduced external electrode chipping particularly at the edge portion. Therefore, a highly reliable laminated piezoelectric actuator with good electrical conduction between the external electrodes located on the main surface portion of the work and the external electrodes located on the side surface portions could be formed.

【0038】[第2実施例]本発明の第2実施例は、あ
らかじめ成膜用シート10に熱処理を施しておく点が特
徴である。例えば、完成した積層圧電アクチュエータ素
子にワイヤボンディングを用いて接続を行う場合、素子
の外部電極はCr/Ni/Au=0.2/0.8/1.
0μm程度の厚みが必要になる。成膜レートが一定のま
ま膜厚を厚くすると成膜時間が長くなるため、結果とし
て成膜の際の発熱による基板温度の上昇が大きくなると
いう問題が生じる。しかし、基板温度が過度に上昇した
場合は、耐熱性を有するポリイミド基材やシリコン系粘
着材等からなる成膜用シートを使用した場合であって
も、アウトガスの発生を防ぐことは難しい。そこで本実
施例では、成膜前にあらかじめ成膜用シートに熱処理を
施しておくことで、形成される薄膜の特性劣化を防ぐも
のである。
[Second Embodiment] A second embodiment of the present invention is characterized in that a heat treatment is applied to the film-forming sheet 10 in advance. For example, when connection is made to a completed laminated piezoelectric actuator element by using wire bonding, the external electrodes of the element are Cr / Ni / Au = 0.2 / 0.8 / 1.
A thickness of about 0 μm is required. If the film thickness is increased while the film formation rate is kept constant, the film formation time becomes longer. As a result, there is a problem that the temperature rise of the substrate due to heat generation during the film formation becomes large. However, when the substrate temperature rises excessively, it is difficult to prevent outgassing even when a film-forming sheet made of a heat-resistant polyimide base material or a silicon-based adhesive is used. Therefore, in this embodiment, the heat treatment is performed on the film-forming sheet in advance before the film formation, thereby preventing the characteristic deterioration of the formed thin film.

【0039】本実施例では、あらかじめ成膜用シートに
熱処理を施しておく点と、形成する導電膜の厚みが厚い
点を除いては、第1実施例と同一の工程で積層圧電アク
チュエータを形成した。成膜用シートの熱処理は真空オ
ーブン中で150〜280℃の間の種々の温度で行い、
成膜は蒸着法を用いて、圧力2×10-3Pa、成膜レー
ト0.5〜1.0nm/s、基板加熱温度100℃の条
件下でCr/Ni/Au=0.2/0.8/1.0μm
の電極膜を形成した。この際、基板の温度は180℃程
度にまで上昇した。
In this embodiment, a laminated piezoelectric actuator is formed in the same process as in the first embodiment, except that a heat treatment is performed on a film-forming sheet in advance and that a conductive film to be formed is thick. did. Heat treatment of the film forming sheet is performed in a vacuum oven at various temperatures between 150 and 280 ° C.
The film was formed using a vapor deposition method under the conditions of a pressure of 2 × 10 −3 Pa, a film formation rate of 0.5 to 1.0 nm / s, and a substrate heating temperature of 100 ° C., with Cr / Ni / Au = 0.2 / 0. 0.8 / 1.0 μm
Was formed. At this time, the temperature of the substrate rose to about 180 ° C.

【0040】成膜用シートの熱処理の温度と、形成され
た電極膜の膜質および成膜用シートの粘着力の関係を表
1に示す。
Table 1 shows the relationship between the heat treatment temperature of the film-forming sheet, the film quality of the formed electrode film, and the adhesive strength of the film-forming sheet.

【0041】[0041]

【表1】 [Table 1]

【0042】表1の成膜用シートの粘着力の欄におい
て、◎は成膜用シートにワークが強力に粘着している状
態、○は粘着力が若干低下するもののワークは成膜用シ
ートに十分粘着している状態、△は粘着力が低下してワ
ークを十分に保持することができない状態、×は粘着力
が消失した状態を示す。
In the column of the adhesive strength of the film-forming sheet in Table 1, ◎ indicates that the work is strongly adhered to the film-forming sheet, and ○ indicates that the work is slightly adhered to the film-forming sheet although the adhesive strength is slightly reduced. A state where the adhesive is sufficiently adhered, a state where the adhesive force is reduced and the work cannot be sufficiently held, and a case where the adhesive force is lost are shown.

【0043】表1に示されるように、150℃以下で熱
処理を行った成膜用シートを用いた場合には、電極膜に
変色が生じたが、180℃で熱処理を行った場合には、
電極膜の一部に変色がみられたものの、それ以上の温度
で熱処理を行った場合には変色はみられなかった。すな
わち、熱処理を180℃以上で行った場合に、成膜の際
のアウトガス抑制の効果がみられるもので、あらかじめ
180℃以上で熱処理を行うことで、アウトガスの原因
となる低分子成分や含有溶剤を粘着剤から蒸発除去する
ことができ、形成される電極膜の特性を保つことができ
るものと考えられる。
As shown in Table 1, when the film-forming sheet heat-treated at 150 ° C. or lower was used, the electrode film was discolored.
Although discoloration was observed in a part of the electrode film, no discoloration was observed when heat treatment was performed at a higher temperature. That is, when the heat treatment is performed at 180 ° C. or more, the effect of suppressing outgas during film formation is observed. By performing the heat treatment at 180 ° C. or more in advance, the low molecular components and the solvent containing the outgas are caused. Can be removed from the adhesive by evaporation, and the characteristics of the formed electrode film can be maintained.

【0044】次に、表1の成膜用シートの粘着力の欄よ
り、熱処理温度の上昇に伴って、成膜用シートの粘着力
が低下していることがわかる。このことは、成膜用シー
トからワークを取り外した際の、ワークに付着している
粘着剤の量からも確認できる。このように、熱処理温度
の上昇に伴い粘着力が低下しているのは、熱処理によっ
て低分子成分が蒸発除去されたためであると考えられ
る。
Next, from the column of adhesive strength of the film-forming sheet in Table 1, it can be seen that the adhesive strength of the film-forming sheet decreases as the heat treatment temperature increases. This can be confirmed from the amount of the adhesive adhered to the work when the work is removed from the film-forming sheet. As described above, it is considered that the reason why the adhesive strength decreases with the increase in the heat treatment temperature is that the low molecular components are evaporated and removed by the heat treatment.

【0045】以上の結果より、熱処理温度が低ければ成
膜時のアウトガスの発生によって電極膜の膜質が劣化す
るという問題が生じ、熱処理温度が高ければ低分子成分
の除去によって粘着力が低下するという問題が生じる。
本実施例では、電極膜の膜質の劣化が少なく、かつ、ワ
ークを保持できるだけの十分な粘着力を有しする熱処理
の条件として、200〜220℃の温度範囲で熱処理を
施すのが最も適当だと考えられる。
From the above results, if the heat treatment temperature is low, there arises a problem that the quality of the electrode film is deteriorated due to the generation of outgas during film formation, and if the heat treatment temperature is high, the adhesive force is reduced by removing low molecular components. Problems arise.
In this embodiment, it is most appropriate to perform the heat treatment in a temperature range of 200 to 220 ° C. as a condition of the heat treatment that causes little deterioration of the film quality of the electrode film and has sufficient adhesive force to hold the work. it is conceivable that.

【0046】なお、本実施例では成膜用シートの熱処理
を真空オーブン中で行ったが、大気中でも同様の効果が
あると考えられる。また、熱処理時の成膜用シートは、
ロール状、シート状等の形状による違いはなく、セパレ
ータの有無にも影響を受けない。また、熱処理に最適な
温度は、成膜用シートの材料によって異なるものと考え
られる。
In this embodiment, the heat treatment of the film-forming sheet is performed in a vacuum oven, but it is considered that the same effect can be obtained in the air. The sheet for film formation during heat treatment is
There is no difference depending on the shape such as a roll shape and a sheet shape, and there is no influence by the presence or absence of the separator. Further, it is considered that the optimum temperature for the heat treatment differs depending on the material of the film-forming sheet.

【0047】[第3実施例]本発明の第3実施例は、セ
ラミック基板を複数のワークに分割する工程において、
幅の狭いダイシングカッターを用い、さらにワークの分
割工程の後にダイシング用シートを引き伸ばしてワーク
の間隔を拡張させる工程を行った点が特徴である。その
他の工程については、実施例1の場合と同様であるので
説明を省略する。
[Third Embodiment] A third embodiment of the present invention relates to a process of dividing a ceramic substrate into a plurality of works.
It is characterized in that a dicing cutter having a small width is used, and further, after the work dividing step, a dicing sheet is stretched to extend a work interval. The other steps are the same as in the case of the first embodiment, and a description thereof will be omitted.

【0048】すなわち、本実施例では、幅0.05mm
のダイシングカッターを用いてセラミック基板を複数の
ワーク13に分割した後、ダイシング用シート12にワ
ーク13が粘着されている状態でエキスパンダーを用い
てダイシング用シート12を引き伸ばし、ワーク13同
士の間隔を拡張させた。
That is, in this embodiment, the width is 0.05 mm.
After the ceramic substrate is divided into a plurality of works 13 using a dicing cutter, the dicing sheet 12 is stretched using an expander in a state where the work 13 is adhered to the dicing sheet 12, and the interval between the works 13 is expanded. I let it.

【0049】ダイシングにより分割された各ワーク間の
間隔は、ダイシングカッターの幅(0.05mm)程度
と非常に狭いが(図8)、このようにダイシング用シー
トをワーク同士の間隔が0.6mmになるまで引き伸ば
した(図9)。この状態で、ワーク3の他方主面に成膜
用シート20を粘着させた後、ワーク13からダイシン
グ用シート12を剥離すると、ワーク13が広い間隔を
空けて配列された成膜用シート20が得られた。
The distance between the works divided by dicing is very narrow, about the width of a dicing cutter (0.05 mm) (FIG. 8). (Fig. 9). In this state, after the film forming sheet 20 is adhered to the other main surface of the work 3 and the dicing sheet 12 is peeled off from the work 13, the film forming sheet 20 in which the works 13 are arranged at wide intervals is formed. Obtained.

【0050】この状態で第1実施例と同様の方法でサン
プル固定板を回転させながら成膜を行った。本実施例で
は、ワークの間隔が広く配列されているため、ワークの
長手方向側面にさらに十分に成膜を行うことができた。
In this state, a film was formed by rotating the sample fixing plate in the same manner as in the first embodiment. In the present example, the workpieces were arranged widely, so that the film could be more sufficiently formed on the side surfaces in the longitudinal direction of the workpiece.

【0051】広いワーク間隔を得るためには、幅の広い
ダイシングカッターを用いて基板を分割する必要があ
り、材料のロスが大きいという問題が生じる。そこで、
本実施例のように基板を分割後にダイシング用を引き伸
ばす工程を行えば、幅の狭いダイシングカッターで基板
を分割することができ、材料のロスを低減できコストの
削減を図ることができた。
In order to obtain a wide work interval, it is necessary to divide the substrate using a wide dicing cutter, which causes a problem that the material loss is large. Therefore,
By performing the process of stretching for dicing after dividing the substrate as in the present embodiment, the substrate can be divided by a narrow dicing cutter, thereby reducing material loss and cost.

【0052】なお、ダイシング用シートを引き伸ばす方
法は、エキスパンダーを用いる場合に限られず、ダイシ
ング用シートを引き伸ばせるのであればどうような方法
を用いてもよい。さらに、ダイシング用シートを引き伸
ばすかわりに、ワークを成膜用シートに移し替えた後に
成膜用シートを引き伸ばして、ワークの間隔を広げても
よい。
The method of stretching the dicing sheet is not limited to using an expander, but any method may be used as long as the dicing sheet can be stretched. Further, instead of stretching the dicing sheet, the work may be transferred to a film-forming sheet, and then the film-forming sheet may be stretched to increase the interval between the works.

【0053】[第4実施例]本発明の第4実施例は、セ
ラミック基板を複数のワークに分割する工程の後、一旦
ワークからダイシング用シートを剥離して整列させた
後、ワークを成膜用シートに固着させるという順序で工
程を行った点が特徴である。その他の工程については、
実施例1の場合と同様であるので説明を省略する。
[Fourth Embodiment] In a fourth embodiment of the present invention, after a step of dividing a ceramic substrate into a plurality of works, a dicing sheet is once separated from the works and aligned, and then the works are formed into a film. The feature is that the steps are performed in the order of fixing to the sheet. For other steps,
The description is omitted because it is the same as in the first embodiment.

【0054】すなわち、本実施例では、セラミック基板
を複数のワークに分割した後、一旦ワークからダイシン
グ用シートを剥離して、ワークを整列させた。この際、
ワーク同士の間隔をダイシング用シートに粘着されてい
た時よりも広くなるように並べ、その状態で成膜用シー
トに固着させた。
That is, in this embodiment, after the ceramic substrate is divided into a plurality of works, the dicing sheet is once peeled off from the works to align the works. On this occasion,
The distance between the works was arranged so as to be wider than when the work was adhered to the dicing sheet, and the work was fixed to the film forming sheet in that state.

【0055】このように本実施例では、成膜用シート上
にワークの間隔が広く配列されているため、実施例3と
同様、ワークの長手方向側面にさらに十分に成膜を行う
ことができた。
As described above, in this embodiment, since the workpieces are widely arranged on the film-forming sheet, the film can be more sufficiently formed on the side surfaces in the longitudinal direction of the workpiece as in the third embodiment. Was.

【0056】上記実施例では、積層圧電アクチュエータ
を製造する場合を例にとって説明したが、本発明は積層
コンデンサ、積層インダクタ等その他のチップ型積層部
品の製造にも適用可能である。さらに本発明は、チップ
型積層部品の製造に限られず、あらゆるチップ型電子部
品の製造に適用することができるものである。
In the above embodiment, the case where a multilayer piezoelectric actuator is manufactured has been described as an example. However, the present invention can be applied to the manufacture of other chip-type multilayer components such as a multilayer capacitor and a multilayer inductor. Furthermore, the present invention is not limited to the manufacture of chip-type laminated components, but can be applied to the manufacture of any chip-type electronic components.

【0057】[0057]

【発明の効果】このように、本発明ではセラミック基板
を複数のワークに分割した後、ワークをダイシング用シ
ートから成膜用シートに移し替えてから、成膜用シート
に粘着させた状態で成膜を行うため、ワークをトレーへ
移載する工程やワークをマスクに詰める工程が必要な
い。したがって、ワークの取り扱いが容易になり、ワー
クのワレ、カケ、汚れ付着などを防ぐことができた。
As described above, according to the present invention, after the ceramic substrate is divided into a plurality of works, the work is transferred from the dicing sheet to the film-forming sheet, and then formed in a state of being adhered to the film-forming sheet. Since the film is formed, there is no need for a step of transferring a work to a tray or a step of packing the work in a mask. Therefore, handling of the work was facilitated, and cracking, chipping, and adhesion of the work could be prevented.

【0058】また、セラミック基板を複数のワークに分
割する工程の後に、さらにダイシング用シートを引き伸
ばしてワーク同士の間隔を拡張させる工程を行うと、幅
の狭いダイシングカッターでダイシングを行った場合で
あっても、ワークの側面まで十分に成膜でき、ダイシン
グによる材料ロスの低減を図ることができた。
Further, after the step of dividing the ceramic substrate into a plurality of works, if a step of extending the dicing sheet to extend the interval between the works is performed, the dicing may be performed with a narrow dicing cutter. However, it was possible to sufficiently form a film on the side surface of the work, and to reduce material loss due to dicing.

【0059】さらに、セラミック基板の裏面に成膜用シ
ートを貼付する工程の前に、あらかじめ成膜用シートに
熱処理を施す工程を行い、粘着剤からアウトガスを発生
させておいたため、後に行う成膜工程において成膜用シ
ートの温度が大きく上昇する場合であっても、形成する
薄膜の結晶性や密度の低下、不純物の含有、変色などの
膜質の劣化を防ぐことができた。
Further, prior to the step of attaching the film-forming sheet to the back surface of the ceramic substrate, a step of subjecting the film-forming sheet to a heat treatment was performed in advance, and outgassing was generated from the adhesive. Even in the case where the temperature of the film-forming sheet greatly increases in the process, deterioration of the film quality such as decrease in crystallinity and density of the formed thin film, inclusion of impurities, and discoloration could be prevented.

【0060】また、ワークを成膜用シートに移し替える
工程の後に、さらに成膜用シートの粘着剤塗布面に紫外
線を照射する工程を行ったため、ワーク表面の汚れを分
解除去するとともに、成膜用シートのワークが粘着して
いない部分の粘着力を消失させ、その後の工程における
成膜用シートの取り扱いを容易にすることができた。
In addition, after the step of transferring the work to the film-forming sheet, a step of irradiating the pressure-sensitive adhesive applied surface of the film-forming sheet with ultraviolet rays is performed. Thus, the adhesive strength of the portion of the sheet for which the work was not adhered was eliminated, and the handling of the film-forming sheet in the subsequent steps could be facilitated.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の第1実施例における電子部品の製造方
法の一工程を示す図である。
FIG. 1 is a view showing one step of a method for manufacturing an electronic component according to a first embodiment of the present invention.

【図2】本発明の第1実施例における電子部品の製造方
法の一工程を示す図である。
FIG. 2 is a view showing one step of a method of manufacturing an electronic component according to the first embodiment of the present invention.

【図3】図2に示される工程におけるワークを拡大して
示す図である。
FIG. 3 is an enlarged view showing a work in a process shown in FIG. 2;

【図4】本発明の第1実施例における電子部品の製造方
法の一工程を示す図である。
FIG. 4 is a view showing one step of a method for manufacturing an electronic component according to the first embodiment of the present invention.

【図5】本発明の第1実施例における電子部品の製造方
法の成膜工程を示す図である。
FIG. 5 is a view illustrating a film forming step of the method for manufacturing an electronic component according to the first embodiment of the present invention.

【図6】図5の工程を示す断面図である。FIG. 6 is a sectional view showing the step of FIG. 5;

【図7】本発明の第1実施例において製造された電子部
品を示す図である。
FIG. 7 is a view showing an electronic component manufactured in the first embodiment of the present invention.

【図8】本発明の第3実施例における電子部品の製造方
法の成膜工程を示す図である。
FIG. 8 is a view illustrating a film forming step of a method of manufacturing an electronic component according to a third embodiment of the present invention.

【図9】図8の工程を示す断面図である。FIG. 9 is a sectional view showing the step of FIG. 8;

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 セラミック基板 2 ダイシング用シート 3 ワーク 4 サンプル固定板 5 中心軸 6 蒸発源 8 内部電極 9 外部電極 10 成膜用シート DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Ceramic substrate 2 Dicing sheet 3 Work 4 Sample fixing plate 5 Center axis 6 Evaporation source 8 Internal electrode 9 External electrode 10 Film forming sheet

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 橋本 順一 京都府長岡京市天神二丁目26番10号 株式 会社村田製作所内 (72)発明者 小上馬 武紀 京都府長岡京市天神二丁目26番10号 株式 会社村田製作所内 Fターム(参考) 5E001 AB03 AH03 AH04 AH06 AJ03 5E082 AA01 AB03 BC39 FF05 FG06 FG26 GG10 GG11 GG21 GG25 JJ03 JJ21 LL01 MM13 MM21 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing on the front page (72) Inventor Junichi Hashimoto 2-26-10 Tenjin, Nagaokakyo-shi, Kyoto Inside Murata Manufacturing Co., Ltd. F-term in Murata Manufacturing Co., Ltd. (reference) 5E001 AB03 AH03 AH04 AH06 AJ03 5E082 AA01 AB03 BC39 FF05 FG06 FG26 GG10 GG11 GG21 GG25 JJ03 JJ21 LL01 MM13 MM21

Claims (11)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】セラミック基板の裏面をダイシング用シー
トに粘着させる工程と、 セラミック基板の表面からダイシング溝を形成してセラ
ミック基板を複数のワークに分割する工程と、 複数のワークからダイシング用シートを剥離する工程
と、 複数のワークの一方主面を成膜用シートに固着させる工
程と、 複数のワークの一方主面を成膜用シートに固着した状態
で、各ワークの他方主面および側面の少なくとも一部
に、薄膜形成法を用いて薄膜を形成する工程とを備える
ことを特徴とする電子部品の製造方法。
A step of adhering the back surface of the ceramic substrate to the dicing sheet; a step of forming a dicing groove from the surface of the ceramic substrate to divide the ceramic substrate into a plurality of works; A step of peeling, a step of fixing one main surface of the plurality of works to the film-forming sheet, and a step of fixing the other main surface and side surfaces of each work in a state where the one main surface of the plurality of works is fixed to the film-forming sheet. Forming a thin film using a thin film forming method at least in part.
【請求項2】セラミック基板の裏面をダイシング用シー
トに粘着させる工程と、 セラミック基板の表面からダイシング溝を形成してセラ
ミック基板を複数のワークに分割する工程と、 複数のワークをダイシング用シートに粘着した状態で、
複数のワークの一方主面を成膜用シートに固着させる工
程と、 複数のワークからダイシング用シートを剥離する工程
と、 複数のワークの一方主面を成膜用シートに固着した状態
で、各ワークの他方主面および側面の少なくとも一部
に、薄膜形成法を用いて薄膜を形成する工程とを備える
ことを特徴とする電子部品の製造方法。
A step of forming a dicing groove from the surface of the ceramic substrate to divide the ceramic substrate into a plurality of workpieces; a step of forming a dicing groove from the surface of the ceramic substrate; With sticky,
A step of fixing one main surface of the plurality of works to the film-forming sheet, a step of peeling the dicing sheet from the plurality of works, and a step of fixing one main surface of the plurality of works to the film-forming sheet. Forming a thin film on at least a part of the other main surface and the side surface of the work by using a thin film forming method.
【請求項3】前記セラミック基板を複数のワークに分割
する工程の後に、さらにダイシング用シートを引き伸ば
して、ワーク同士の間隔を拡張させる工程を備えること
を特徴とする請求項2に記載の電子部品の製造方法。
3. The electronic component according to claim 2, further comprising, after the step of dividing the ceramic substrate into a plurality of works, a step of further extending a dicing sheet to increase a distance between the works. Manufacturing method.
【請求項4】セラミック基板の裏面をダイシング用シー
トに粘着させる工程において用いるダイシング用シート
は、基材とその表面に塗布された粘着剤とからなるもの
であることを特徴とする請求項1ないし請求項3のいず
れかに記載の電子部品の製造方法。
4. The dicing sheet used in the step of adhering the back surface of the ceramic substrate to the dicing sheet comprises a base material and an adhesive applied to the surface thereof. A method for manufacturing an electronic component according to claim 3.
【請求項5】前記複数のワークの一方主面を成膜用シー
トに固着させる工程において用いる成膜用シートは、基
材とその表面に塗布された粘着剤とからなるものである
ことを特徴とする請求項1ないし請求項4のいずれかに
記載の電子部品の製造方法。
5. The film-forming sheet used in the step of fixing one main surface of the plurality of works to the film-forming sheet comprises a base material and an adhesive applied to the surface thereof. The method for manufacturing an electronic component according to claim 1, wherein
【請求項6】前記複数のワークの一方主面を成膜用シー
トに固着させる工程において用いる成膜用シートは、耐
熱性を有するものであることを特徴とする請求項1ない
し請求項5のいずれかに記載の電子部品の製造方法。
6. The film-forming sheet used in the step of fixing one main surface of the plurality of works to the film-forming sheet has heat resistance. A method for manufacturing the electronic component according to any one of the above.
【請求項7】前記複数のワークの一方主面を成膜用シー
トに固着させる工程の前に、あらかじめ成膜用シートに
熱処理を施す工程を備えることを特徴とする請求項5ま
たは請求項6のいずれかに記載の電子部品の製造方法。
7. The method according to claim 5, further comprising a step of performing a heat treatment on the film-forming sheet in advance before the step of fixing one main surface of the plurality of works to the film-forming sheet. The method for manufacturing an electronic component according to any one of the above.
【請求項8】前記薄膜形成法を用いて薄膜を形成する工
程の前に、あらかじめ成膜用シートの粘着剤塗布面に紫
外線を照射する工程を備えることを特徴とする請求項5
ないし請求項7のいずれかに記載の電子部品の製造方
法。
8. The method according to claim 5, further comprising, before the step of forming a thin film using the thin film forming method, a step of irradiating an ultraviolet ray to a surface of the film-forming sheet on which the adhesive is applied.
A method for manufacturing an electronic component according to claim 7.
【請求項9】前記セラミック基板を複数のワークに分割
する工程では、交互に積層されたセラミック層と電極層
とから構成されたセラミック基板を用い、前記電極層の
一部がワークの側面に露出するようにダイシング溝を形
成することを特徴とする請求項1ないし請求項8のいず
れかに記載の電子部品の製造方法。
9. A step of dividing the ceramic substrate into a plurality of works, using a ceramic substrate composed of alternately laminated ceramic layers and electrode layers, and partially exposing the electrode layers to the side surfaces of the work. 9. The method for manufacturing an electronic component according to claim 1, wherein a dicing groove is formed so as to perform the dicing.
【請求項10】前記薄膜形成法を用いて薄膜を形成する
工程において形成する薄膜は、導電性を有する薄膜であ
ることを特徴とする請求項1ないし請求項9のいずれか
に記載の電子部品の製造方法。
10. The electronic component according to claim 1, wherein the thin film formed in the step of forming a thin film by using the thin film forming method is a thin film having conductivity. Manufacturing method.
【請求項11】前記薄膜形成法を用いて薄膜を形成する
工程の後に、ワークの主面部分の薄膜の一部を切断する
ことによって、ワークの対向する側面に形成された薄膜
間の導通を断つ工程を備えることを特徴とする請求項1
0に記載の電子部品の製造方法。
11. After the step of forming a thin film by using the thin film forming method, by cutting a part of the thin film on a main surface portion of the work, conduction between the thin films formed on opposite side surfaces of the work is achieved. 2. The method according to claim 1, further comprising a cutting step.
0. The method for manufacturing an electronic component according to item 0.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2004128084A (en) * 2002-09-30 2004-04-22 Mitsubishi Materials Corp Flake type thermistor and its manufacturing method
JP2005259892A (en) * 2004-03-10 2005-09-22 Koa Corp Manufacturing method of chip component
JP2011176123A (en) * 2010-02-24 2011-09-08 Tdk Corp Method for forming of electrode in multilayer electronic component
JP2018178055A (en) * 2017-04-21 2018-11-15 ニッタ株式会社 Temperature-sensitive adhesive, and processing method of work piece

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