JP2002170215A - Magnetic recording head gimbals assembly - Google Patents

Magnetic recording head gimbals assembly

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JP2002170215A
JP2002170215A JP2000364483A JP2000364483A JP2002170215A JP 2002170215 A JP2002170215 A JP 2002170215A JP 2000364483 A JP2000364483 A JP 2000364483A JP 2000364483 A JP2000364483 A JP 2000364483A JP 2002170215 A JP2002170215 A JP 2002170215A
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hga
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suspension
insulating film
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雅人 塩川
Koji Kajitani
浩司 梶谷
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  • Adjustment Of The Magnetic Head Position Track Following On Tapes (AREA)
  • Supporting Of Heads In Record-Carrier Devices (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a magnetic recording HGA having a structure capable of reducing parasitic capacitance as much as possible. SOLUTION: This magnetic recording HGA is provided with a magnetic head slider 131, a metallic suspension (composed of a metallic load beam 132 and a metallic gimbals 130 disposed thereon) for supporting the slider 131, and magnetic head lead patterns 134a and 134d formed through insulating films 140 and 141 on the suspension. The insulating films 140 and 141 disposed on the gimbals 130 only above a through-hole 138 formed by partially penetrating the gimbals 130 below the patterns 134a to 134d support the patterns 134a to 134d (the insulating films 140 and 141 intersect the patterns 134a to 134d only above the through-hole 138).

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、主として磁気ディ
スク装置や光磁気ディスク装置に適用されると共に、寄
生容量を小さくできる構造の磁気記録用ヘッドジンバル
アセンブリ(以下、HGAとする)に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a magnetic recording head gimbal assembly (hereinafter referred to as "HGA") mainly applied to a magnetic disk device or a magneto-optical disk device and having a structure capable of reducing parasitic capacitance.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、この種の磁気記録用HGAに関連
する周知技術としては、例えば特開平9−282624
号公報に開示されたHGA及びそれを具備したハードデ
ィスクドライブ装置が挙げられる。このHGAは、金属
製のサスペンション上に貫通穴を設けることによりサス
ペンション上の導体性のリードパターンとサスペンショ
ンとの間に生じる寄生容量を減少させるようにしたもの
で、図10に示される平面図を参照して具体的な構成を
説明すれば、金属製のロードビーム932上に金属製の
ジンバル(ここではフレクシャと呼ばれている)930
及び金属製のベースプレート933がレーザ溶接等によ
り接着されており、ジンバル930上には磁気ヘッド用
のスライダ931と、記録用配線の2本及び再生用配線
の2本から成る総計4本の記録・再生用(磁気ヘッド
用)のリードパターン934a〜934dと、これらの
各リードパターン934a〜934dにそれぞれ接続さ
れる4個の電極935a〜935dとが設けられてい
る。
2. Description of the Related Art Conventionally, as a well-known technique related to this type of HGA for magnetic recording, for example, Japanese Unexamined Patent Publication No. 9-282624
And a hard disk drive device including the same. In this HGA, a through-hole is provided on a metal suspension to reduce a parasitic capacitance generated between the conductive lead pattern on the suspension and the suspension. The specific configuration will be described with reference to the drawings. A metal gimbal (here, called a flexure) 930 is mounted on a metal load beam 932.
In addition, a metal base plate 933 is adhered by laser welding or the like, and a slider 931 for a magnetic head and a total of four recording / recording lines including two recording lines and two reproduction lines are provided on the gimbal 930. A read pattern (for a magnetic head) 934a to 934d and four electrodes 935a to 935d connected to the respective lead patterns 934a to 934d are provided.

【0003】このうち、ジンバル930における一端側
にはベースプレート933が取り付けられると共に、ベ
ースプレート933と反対側の他端側にはスライダ93
1が取り付けられている。リードパターン934a〜9
34dは、エッチングによりジンバル930上に絶縁層
を介して形成されており、それらの一端側にはそれぞれ
電極935a〜935dが接続されると共に、各電極9
35a〜935dと反対側の他端側はスライダ931を
通って磁気ヘッドに電気的に接続されるようになってい
る。ジンバル930上のリードパターン934a〜93
4dの真下には貫通穴938が複数個形成されており、
ジンバル930上のスライダ931とは反対側に形成さ
れた電極935a〜935dは、同極性のもの同士の組
み合わせによりフレキシブル回路基板(FPC/Fle
xible Printed Circuit)とリー
ドパターン934a〜934dとを半田付け等で電気的
に接続するために設けられている。
A base plate 933 is mounted on one end of the gimbal 930, and a slider 93 is mounted on the other end of the gimbal 930 opposite to the base plate 933.
1 is attached. Lead pattern 934a-9
34d are formed on the gimbal 930 via an insulating layer by etching, and electrodes 935a to 935d are connected to one end of each of them, respectively.
The other end opposite to 35a to 935d is electrically connected to a magnetic head through a slider 931. Lead patterns 934a to 934 on gimbal 930
A plurality of through holes 938 are formed directly below 4d,
The electrodes 935a to 935d formed on the gimbal 930 on the side opposite to the slider 931 are made of a flexible circuit board (FPC / Fle
It is provided for electrically connecting the X-ray printed circuit and the lead patterns 934a to 934d by soldering or the like.

【0004】図11は、このHGAを横方向から見た側
面図である。図11を参照すれば、ロードビーム932
上にジンバル930及びベースプレート933が取り付
けられた後、ジンバル930上にスライダ931及びこ
れと接続されるようにリードパターン934a〜934
dが配置されている様子が判る。
FIG. 11 is a side view of the HGA viewed from the lateral direction. Referring to FIG.
After the gimbal 930 and the base plate 933 are mounted thereon, the slider 931 and the lead patterns 934a to 934 are connected to the gimbal 930 so as to be connected thereto.
It can be seen that d is arranged.

【0005】このHGAでは、ジンバル930又はジン
バル930及びロードビーム932の両方に貫通穴93
8を設けたことを特徴とするものであるが、以下はこの
ような貫通穴938の技術的効果を説明する。
[0005] In this HGA, the gimbal 930 or both the gimbal 930 and the load beam 932 have through holes 93.
8 are provided, and the technical effects of such a through hole 938 will be described below.

【0006】図12は、図10に示すHGAのジンバル
930の貫通穴938付近を拡大して一部を破断して示
した斜視図である。ここでは、図10でジンバル930
上に4本設置されたものとして示したリードパターン9
34a〜934dがジンバル954上の貫通穴955近
傍でそれぞれ三層の配線パターン951a,952a,
953a、951b,952b,953b、951c,
952c,953c、951d,952d,953dか
ら成っていることを示している。
FIG. 12 is an enlarged perspective view of the vicinity of the through hole 938 of the gimbal 930 of the HGA shown in FIG. Here, in FIG.
Lead pattern 9 shown as four installed above
34a to 934d are three-layered wiring patterns 951a, 952a,
953a, 951b, 952b, 953b, 951c,
952c, 953c, 951d, 952d, and 953d.

【0007】ところで、図13は、従来の貫通穴が設け
られていないHGAの細部構造を一個のリードパターン
に沿った方向において示した側面断面図である。このH
GAでは、ロードビーム865上にジンバル864を設
け、更にジンバル864上に絶縁膜861,リードパタ
ーン862,絶縁膜863をこの順で積層して設けた様
子を示している。
FIG. 13 is a side sectional view showing a detailed structure of a conventional HGA having no through-hole in a direction along one lead pattern. This H
In the GA, a gimbal 864 is provided on the load beam 865, and an insulating film 861, a lead pattern 862, and an insulating film 863 are stacked on the gimbal 864 in this order.

【0008】これに対し、図14は、図12中における
HGAの細部構造を一個のリードパターンに沿った方向
において示した側面断面図である。このHGAでは、ロ
ードビーム965上に所定の間隔で部分的に貫通除去を
行うことで等間隔を隔てて形成されるジンバル964を
設ける構成とすることによりジンバル964の周囲で貫
通穴966が形成されるものとし、更にこれらのジンバ
ル964上に絶縁膜961,リードパターン962,絶
縁膜963をこの順で積層して設けた様子を示してい
る。
FIG. 14 is a side sectional view showing a detailed structure of the HGA in FIG. 12 in a direction along one lead pattern. In this HGA, a through-hole 966 is formed around the gimbal 964 by providing a gimbal 964 formed at equal intervals by partially removing the through-hole at a predetermined interval on the load beam 965. It is shown that an insulating film 961, a lead pattern 962, and an insulating film 963 are further provided on these gimbals 964 in this order.

【0009】これらのHGAを比較すれば、貫通穴の無
いHGAに比べて貫通穴966が設けられたHGAは、
貫通穴966が設けられている部分でリードパターン9
62の下面からリードパターン962に対向する金属板
までの距離が絶縁膜963の厚みから絶縁膜963の厚
さとジンバル966の厚さとを加えたものへと増大する
ため、リードパターン962とジンバル964又はロー
ドビーム965との間の寄生容量は、貫通穴の無いHG
Aのリードパターン862とジンバル864との間の寄
生容量よりも減少し、データ転送周波数における共振点
が一層高い周波数へシフトする。この結果、転送可能周
波数帯域幅が拡大されるという効果が得られる。
When these HGAs are compared, the HGA provided with the through-hole 966 is compared with the HGA without the through-hole,
The lead pattern 9 is formed at the portion where the through hole 966 is provided.
Since the distance from the lower surface of 62 to the metal plate facing the lead pattern 962 increases from the thickness of the insulating film 963 to the sum of the thickness of the insulating film 963 and the thickness of the gimbal 966, the lead pattern 962 and the gimbal 964 or The parasitic capacitance between the load beam 965 and the load beam
The parasitic capacitance between the lead pattern 862 of A and the gimbal 864 is reduced, and the resonance point at the data transfer frequency shifts to a higher frequency. As a result, the effect that the transferable frequency bandwidth is expanded is obtained.

【0010】又、特開平9−282624号公報に開示
されたHGA及びそれを具備したハードディスクドライ
ブ装置では、貫通穴を有するその他の構造を有するHG
Aについても開示されている。
Further, in the HGA disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 9-282624 and a hard disk drive having the HGA, an HGA having another structure having a through hole is provided.
A is also disclosed.

【0011】図15は、従来の貫通穴976を有する他
のHGAの細部構造を一個のリードパターン972に沿
った方向において示した側面断面図である。このHGA
では、所定の間隔で部分的に貫通除去を行うことで等間
隔を隔てて形成されるロードビーム975上にロードビ
ーム975の間隔よりも大きな間隔となるように部分的
に貫通除去を行うことでジンバル974を等間隔を隔て
て設ける構成とすることによりロードビーム975及び
ジンバル974の周囲で貫通穴976が形成されるもの
とし、更にこれらのジンバル974上に絶縁膜971,
リードパターン972,絶縁膜973をこの順で積層し
て設けた様子を示している。こうした構造とすれば、図
14に示す構造ではリードパターン962とロードビー
ム965との間に生じていた寄生容量がロードビーム9
75が除去された部分に関して無くなるため、HGA全
体の寄生容量を減少することができる。
FIG. 15 is a side sectional view showing a detailed structure of another HGA having a conventional through-hole 976 in a direction along one lead pattern 972. This HGA
Then, by partially removing the penetration at a predetermined interval, the penetration is partially removed on the load beam 975 formed at equal intervals so as to have an interval larger than the interval of the load beam 975. By providing the gimbals 974 at equal intervals, a through-hole 976 is formed around the load beam 975 and the gimbal 974, and further, an insulating film 971 is provided on these gimbals 974.
This shows a state in which a lead pattern 972 and an insulating film 973 are provided by being stacked in this order. With such a structure, the parasitic capacitance generated between the lead pattern 962 and the load beam 965 in the structure shown in FIG.
Since the portion 75 is eliminated from the removed portion, the parasitic capacitance of the entire HGA can be reduced.

【0012】図16は、従来の貫通穴986を有する別
のHGAの細部構造を一個のリードパターン982に沿
った方向において示した側面断面図である。このHGA
では、ロードビーム985上に等間隔を有する凸部間に
段差を成して凹部が一体的に形成された凸凹状体から成
るジンバル984が設けられる構成とすることによりジ
ンバル984の凹部の周囲で空隙部986が形成される
ものとし、更にこれらのジンバル984の凸部上に絶縁
膜981,リードパターン982,絶縁膜983をこの
順で積層して設けた様子を示している。このようなジン
バル984の形状を工夫してジンバル984自体で空隙
部986を確保した構造とすれば、空隙部986におい
てリードパターン982とジンバル984の凹部との距
離が従来のHGAの場合に比べて拡大し、且つ凹部にお
いて生じた空間は比誘電率が絶縁層(絶縁膜981,9
83)より小さいので、HGA全体の寄生容量を減少す
ることができる。
FIG. 16 is a side sectional view showing a detailed structure of another HGA having a conventional through hole 986 in a direction along one lead pattern 982. This HGA
In this configuration, a gimbal 984 composed of a convex-concave body having a step formed between equally-spaced convex portions on the load beam 985 and a concave portion formed integrally is provided, so that the gimbal 984 has a concave portion around the concave portion. It is assumed that a void 986 is formed, and further, an insulating film 981, a lead pattern 982, and an insulating film 983 are stacked and provided in this order on the projections of these gimbals 984. If the gimbal 984 has a structure in which the gap 986 is secured by devising the shape of the gimbal 984, the distance between the lead pattern 982 and the concave portion of the gimbal 984 in the gap 986 is smaller than that of the conventional HGA. The space which is enlarged and formed in the concave portion has a relative dielectric constant of an insulating layer (insulating films 981, 9).
83) Since it is smaller, the parasitic capacitance of the entire HGA can be reduced.

【0013】尚、その他のHGAに関連する周知技術と
しては、例えば特開平5−36049号公報に開示され
た浮上式磁気ヘッド・アッセンンブリ等が挙げられる。
As another known technique related to the HGA, there is, for example, a floating magnetic head assembly disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 5-36049.

【0014】[0014]

【発明が解決しようとする課題】上述した貫通穴を有す
るHGAの場合、例えば図14に示した断面構造のもの
であれば、貫通穴966を設けた後も依然としてジンバ
ル964が存在する部分においてリードパターン962
とジンバル964との間に改良前の寄生容量がそのまま
存在するという問題がある。そこで、ここで四角形状に
形成されたジンバル964の横断面方向の長さを縮小す
れば寄生容量を減少することができるが、長さを縮小す
ればジンバル964の剛性維持が困難となるため、長さ
を大きく縮小させることはできない。従って、この断面
構造のHGAの場合には寄生容量の減少量に限界があ
る。
In the case of the above-described HGA having the through hole, for example, if the HGA has the cross-sectional structure shown in FIG. 14, the lead is provided in the portion where the gimbal 964 still exists after the through hole 966 is provided. Pattern 962
There is a problem that the parasitic capacitance before the improvement exists between the gimbal 964 and the gimbal 964. Therefore, the parasitic capacitance can be reduced by reducing the length of the gimbal 964 formed in a rectangular shape in the cross-sectional direction, but it is difficult to maintain the rigidity of the gimbal 964 by reducing the length. The length cannot be significantly reduced. Therefore, in the case of the HGA having this cross-sectional structure, there is a limit to the amount of reduction in the parasitic capacitance.

【0015】一方、近年の磁気ディスク装置等に適用さ
れる記録・再生信号のデータ転送速度は一層高速化が要
求されており、このデータ転送レートの上限は様々な要
因によって定まるが、サスペンションに関して留意すれ
ば、データ転送レートの上限は、サスペンション上のリ
ードパターン及びヘッドから成る記録回路又は再生回路
の共振周波数で決まる。仮にデータ転送レートが共振周
波数にまで上昇したとした場合、このときにサスペンシ
ョン上の記録回路又は再生回路には過大な電流が流れ
る。再生回路に過大な電流が流れると、再生ヘッドのM
R素子が破壊されて再生動作が不可能となるし、記録回
路に過大な電流が流れると隣接する再生回路に誘導電流
が発生し、この誘導電流によってMR素子が破壊されて
しまうので、データ転送レートを増加させるためには、
共振周波数を増大させることが必要となっている。
On the other hand, the data transfer rate of recording / reproducing signals applied to recent magnetic disk devices and the like is required to be further increased, and the upper limit of the data transfer rate is determined by various factors. Then, the upper limit of the data transfer rate is determined by the read pattern on the suspension and the resonance frequency of the recording circuit or the reproducing circuit composed of the head. If the data transfer rate increases to the resonance frequency, an excessive current flows through the recording circuit or the reproducing circuit on the suspension at this time. When an excessive current flows through the reproducing circuit, the reproducing head M
If the R element is destroyed, the reproducing operation becomes impossible. If an excessive current flows through the recording circuit, an induced current is generated in an adjacent reproducing circuit, and the MR element is destroyed by the induced current. To increase the rate,
It is necessary to increase the resonance frequency.

【0016】共振周波数f0 は、f0 =1/{2π(L
C)1/2 }なる関係の数1式により与えられる。ここ
で、Lは記録回路又は再生回路のリードパターン及びヘ
ッドまでを含む回路部分のインダクタンスであり、Cは
同じ回路部分の静電容量を示している。静電容量Cは、
リードパターンとジンバル又はロードビームとの間に生
じる寄生容量(厳密にはリードパターン及びグランドの
容量である)が支配的であるので、サスペンションの寄
生容量を低減することが磁気ディスク装置等のデータ転
送レートを高める上での大きな課題の一つとなってい
る。
The resonance frequency f 0 is f 0 = 1 / {2π (L
C) It is given by equation (1) having a relationship of 1/2 1/2 . Here, L is the inductance of the circuit portion including the read pattern of the recording circuit or the reproduction circuit and the head, and C is the capacitance of the same circuit portion. The capacitance C is
Since the parasitic capacitance (strictly speaking, the capacitance of the lead pattern and the ground) generated between the lead pattern and the gimbal or the load beam is dominant, it is necessary to reduce the parasitic capacitance of the suspension to transfer data such as a magnetic disk device. This is one of the major challenges in raising rates.

【0017】本発明は、このような問題点を解決すべく
なされたもので、その技術的課題は、寄生容量をできる
だけ小さくできる構造の磁気記録用HGAを提供するこ
とにある。
The present invention has been made in order to solve such problems, and a technical problem thereof is to provide a magnetic recording HGA having a structure capable of minimizing parasitic capacitance as much as possible.

【0018】[0018]

【課題を解決するための手段】本発明によれば、磁気ヘ
ッド用のスライダと、スライダを支持する金属製のサス
ペンションと、サスペンション上に絶縁体を介して支持
された磁気ヘッド用のリードパターンとを有する磁気記
録用HGAにおいて、サスペンションは等間隔で部分的
に除去されており、絶縁体はサスペンションの除去部分
の上方位置のみでリードパターンを支持する磁気記録用
HGAが得られる。
According to the present invention, a slider for a magnetic head, a metal suspension supporting the slider, and a lead pattern for the magnetic head supported on the suspension via an insulator are provided. In the magnetic recording HGA having the above, the suspension is partially removed at equal intervals, and the magnetic recording HGA in which the insulator supports the lead pattern only at the position above the removed portion of the suspension is obtained.

【0019】又、本発明によれば、上記磁気記録用HG
Aにおいて、サスペンションの除去部分は、貫通して設
けられた磁気記録用HGAが得られる。
Further, according to the present invention, the HG for magnetic recording
In A, the HGA for magnetic recording provided through the portion where the suspension is removed is obtained.

【0020】更に、本発明によれば、上記磁気記録用H
GAにおいて、サスペンションは、金属製のロードビー
ム上に金属製のジンバルを配置して成り、ジンバルは、
等間隔で部分的に貫通除去されて貫通穴を形成してお
り、絶縁体は、ジンバルの貫通穴上方の位置のみでリー
ドパターンを支持する磁気記録用HGAが得られる。
Further, according to the present invention, the magnetic recording H
In GA, the suspension consists of a metal gimbal placed on a metal load beam.
A through hole is formed by being partially penetrated and removed at equal intervals, and a magnetic recording HGA that supports a lead pattern only at a position above the through hole of the gimbal can be obtained as an insulator.

【0021】加えて、本発明によれば、上記磁気記録用
HGAにおいて、ロードビームは、ジンバルの間隔以下
の等間隔で部分的に貫通除去されて貫通穴を形成してお
り、絶縁体は、ロードビームの貫通穴に繋がるジンバル
の貫通穴上方の位置のみでリードパターンを支持する磁
気記録用HGAが得られる。
In addition, according to the present invention, in the above-mentioned HGA for magnetic recording, the load beam is partially penetrated and removed at equal intervals equal to or less than the gimbal interval to form a through hole. An HGA for magnetic recording that supports the lead pattern only at a position above the through hole of the gimbal connected to the through hole of the load beam is obtained.

【0022】一方、本発明によれば、磁気ヘッド用のス
ライダと、スライダを支持する金属製のサスペンション
と、サスペンション上に絶縁体を介して支持された磁気
ヘッド用のリードパターンとを有する磁気記録用HGA
において、サスペンションは、等間隔を有する凸部間に
段差を成して凹部が一体的に形成された凸凹状体から成
り、絶縁体は、サスペンションの凹部の上方位置のみで
リードパターンを支持する磁気記録用HGAが得られ
る。
On the other hand, according to the present invention, there is provided a magnetic recording comprising a slider for a magnetic head, a metal suspension supporting the slider, and a lead pattern for the magnetic head supported on the suspension via an insulator. HGA for
, The suspension comprises a convex-concave body in which a concave portion is integrally formed by forming a step between convex portions having equal intervals, and the insulator is a magnetic member for supporting the lead pattern only at a position above the concave portion of the suspension. An HGA for recording is obtained.

【0023】他方、本発明によれば、上記磁気記録用H
GAにおいて、サスペンションは、金属製のロードビー
ム上に金属製のジンバルを配置して成り、ジンバルは、
等間隔を有する凸部間に段差を成して凹部が一体的に形
成された凸凹状体から成り、絶縁体は、ジンバルの凹部
の上方位置のみでリードパターンを支持する磁気記録用
HGAが得られる。
On the other hand, according to the present invention, the magnetic recording H
In GA, the suspension consists of a metal gimbal placed on a metal load beam.
An HGA for magnetic recording, which supports a lead pattern only at a position above the recess of the gimbal, is obtained by forming an uneven body in which a recess is integrally formed by forming a step between projections having equal intervals. Can be

【0024】[0024]

【発明の実施の形態】以下に実施例を挙げ、本発明の磁
気記録用HGAについて、図面を参照して詳細に説明す
る。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to the accompanying drawings.

【0025】図1は、本発明の一実施例に係る磁気記録
用HGAの基本構成を示した平面図である。このHGA
の場合も、基本構成上は図10に示した従来のものと同
様に金属製のロードビーム132上にサスペンションを
成す金属製のジンバル130及び金属製のベースプレー
ト133がレーザ溶接等により接着されており、ジンバ
ル130上には磁気ヘッド用のスライダ131と、記録
用配線の2本及び再生用配線の2本から成る総計4本の
記録・再生用(磁気ヘッド用)のリードパターン134
a〜134dと、これらの各リードパターン134a〜
134dにそれぞれ接続される4個の電極135a〜1
35dとが設けられた点は共通しているが、ここではリ
ードパターン134a〜134dの下方に位置するジン
バル130が部分的に貫通除去されると共に、ジンバル
130の除去部分により形成される貫通穴138の上方
においてのみジンバル130上に配置される絶縁膜14
0,141がリードパターン134a〜134dを支持
しており、これにより絶縁膜140,141が貫通穴1
38上でのみリードパターン134a〜134dと交差
する構造となっている。
FIG. 1 is a plan view showing the basic configuration of an HGA for magnetic recording according to one embodiment of the present invention. This HGA
In the case of, the metal gimbal 130 and the metal base plate 133 forming the suspension are bonded on the metal load beam 132 by laser welding or the like in the basic configuration, similarly to the conventional one shown in FIG. On the gimbal 130, a slider 131 for the magnetic head and a total of four read / write (for the magnetic head) read / write patterns 134 composed of two recording wires and two reproducing wires.
a to 134d and their respective lead patterns 134a to 134d.
134d connected to four electrodes 135a-1
35d is common, but here, the gimbal 130 located below the lead patterns 134a to 134d is partially penetrated and removed, and the through hole 138 formed by the removed portion of the gimbal 130 is provided. Film 14 placed on gimbal 130 only above
0, 141 support the lead patterns 134a to 134d, so that the insulating films 140, 141
Only on the surface 38, the structure intersects with the lead patterns 134a to 134d.

【0026】又、このHGAの場合にも、図10に示し
た従来のものと同様な基本構造を有している。即ち、ジ
ンバル130における一端側にはベースプレート133
が取り付けられると共に、ベースプレート133と反対
側の他端側にはスライダ131が取り付けられている。
リードパターン134a〜134dは、エッチングによ
りジンバル130上に絶縁膜140,141を介して形
成されており、それらの一端側にはそれぞれ電極135
a〜135dが接続されると共に、各電極135a〜1
35dと反対側の他端側はスライダ131を通って磁気
ヘッドに電気的に接続されるようになっている。ジンバ
ル130上のリードパターン134a〜134dの真下
には貫通穴138が複数個形成されており、ジンバル1
30上のスライダ131とは反対側に形成された電極1
35a〜135dは、同極性のもの同士の組み合わせに
よりフレキシブル回路基板(FPC/Flexible
Printed Circuit)とリードパターン1
34a〜134dとを半田付け等で電気的に接続するた
めに設けられている。
The HGA also has the same basic structure as the conventional one shown in FIG. That is, the base plate 133 is provided at one end of the gimbal 130.
Is mounted, and a slider 131 is mounted on the other end side opposite to the base plate 133.
The lead patterns 134a to 134d are formed on the gimbal 130 via the insulating films 140 and 141 by etching.
a to 135d are connected, and each of the electrodes 135a to 135d
The other end opposite to 35d is electrically connected to the magnetic head through the slider 131. Immediately below the lead patterns 134a to 134d on the gimbal 130, a plurality of through holes 138 are formed.
Electrode 1 formed on the side opposite to slider 131 on 30
35a to 135d are flexible circuit boards (FPC / Flexible) formed by a combination of those having the same polarity.
Printed Circuit) and Lead Pattern 1
34a to 134d are provided for electrical connection by soldering or the like.

【0027】因みに、ここでの絶縁膜140は、貫通穴
138の一つ置きに貫通穴138上で橋渡しされて各リ
ードパターン134a〜134dを支持するようになっ
ているが、絶縁膜140の全てを貫通穴138毎に貫通
穴138上に橋渡しする構成(以下、この構成を構成1
と呼ぶ)に変更しても良い。何れにしても、図1に示す
HGAの構成、或いは構成1において、絶縁膜140と
貫通穴138とが重なる面積は任意にすることができ
る。これにより、図1に示すHGAの場合、各リードパ
ターン134a〜134dの延在方向(図1中の上下方
向)で貫通穴138の長さよりも絶縁膜140の長さの
方が小さくなっているが、ここでの貫通穴138の長さ
と絶縁膜140の長さを同一となるように構成しても良
い。即ち、本発明のHGAとしての重要な構成は、絶縁
膜140と各リードパターン134a〜134dとが貫
通穴138の真上においてのみ交差することであり、こ
うした要件を満たせば、後述するように構成を幾分変更
しても寄生容量を低減できるという効果は殆ど変わらな
い。
Incidentally, the insulating film 140 here is bridged every other through-hole 138 on the through-hole 138 to support each of the lead patterns 134a to 134d. Is bridged on the through hole 138 for each through hole 138 (hereinafter, this structure is referred to as Configuration 1
). In any case, the area where the insulating film 140 and the through hole 138 overlap with each other in the configuration of the HGA shown in FIG. As a result, in the case of the HGA shown in FIG. 1, the length of the insulating film 140 is smaller than the length of the through hole 138 in the extending direction (the vertical direction in FIG. 1) of each of the lead patterns 134a to 134d. However, the length of the through-hole 138 and the length of the insulating film 140 may be the same. That is, an important configuration of the HGA of the present invention is that the insulating film 140 and each of the lead patterns 134a to 134d intersect only directly above the through-hole 138. Is slightly changed, the effect of reducing the parasitic capacitance hardly changes.

【0028】又、図1に示すHGAにおいて、絶縁膜1
41は電極135a〜135d付近に設けられている
が、これらの電極135a〜135d付近においても絶
縁膜141を介して各リードパターン134a〜134
d又は各電極135a〜135dが貫通穴138の真上
においてのみ交差するように、絶縁膜141,各リード
パターン134a〜134d,各電極135a〜135
d,及び貫通穴138の相互の位置を定めることが重要
になる。特に、電極135a〜135dの面積は、各リ
ードパターン134a〜134dの全体面積に匹敵する
程大きいので、仮に電極135a〜135dが寄生容量
を持てばHGA(サスペンション)全体の寄生容量が大
幅に増大してしまう。そこで、電極135a〜135d
の裏面においては、ジンバル130を部分的に除去し、
除去部分により貫通穴138を形成して電極135a〜
135d付近で寄生容量が生じないようにする必要があ
る。
In the HGA shown in FIG.
41 is provided in the vicinity of the electrodes 135a to 135d, but also in the vicinity of these electrodes 135a to 135d, via the insulating film 141, the respective lead patterns 134a to 134d.
The insulating film 141, the lead patterns 134a to 134d, and the electrodes 135a to 135d such that the electrodes d or 135a to 135d intersect only directly above the through holes 138.
It is important to determine the mutual positions of d and the through hole 138. In particular, since the areas of the electrodes 135a to 135d are large enough to be equal to the entire area of each of the lead patterns 134a to 134d, if the electrodes 135a to 135d have a parasitic capacitance, the parasitic capacitance of the entire HGA (suspension) will greatly increase. Would. Therefore, the electrodes 135a to 135d
On the back side of the gimbal 130 is partially removed,
The through holes 138 are formed by the removed portions to form the electrodes 135a to 135a.
It is necessary to prevent the occurrence of parasitic capacitance near 135d.

【0029】図2は、図1に示すHGAのジンバル13
0の貫通穴138付近を拡大して一部を破断して示した
斜視図である。ここでは、図1でジンバル130上に4
本設置されたものとして示したリードパターン134a
〜134dがジンバル154上の貫通穴155近傍でそ
れぞれ絶縁膜153上で支持される二層の積層されたリ
ードパターン152a及び絶縁膜151a,リードパタ
ーン152b及び絶縁膜151b,リードパターン15
2c及び絶縁膜151c,リードパターン152d及び
絶縁膜151dの配線から成っていることを示してい
る。即ち、ここではジンバル154上に梯子状に加工配
設された絶縁膜153上にリードパターン152a〜1
52dと絶縁膜151a〜151dとを順次積層して成
る配線を配設する際、貫通穴155上に橋渡しされてい
る絶縁膜153の各リードパターン152a〜152d
の延在方向における長さw2を貫通穴155の各リード
パターン152a〜152dの延在方向における長さw
1と同一か、或いは長さw1よりも小さくすることによ
り、各リードパターン152a〜152dを含む4本の
配線を貫通穴155の真上でのみ絶縁膜153と交差す
るように配設する様子を示している。尚、図2中では図
1に示したロードビーム130を略図し、ロードビーム
132はジンバル154の下側(即ち、ジンバル154
から見て絶縁膜153と反対側)に取り付けられるもの
とする。
FIG. 2 shows the gimbal 13 of the HGA shown in FIG.
It is the perspective view which expanded and showed the vicinity of 0 through-hole 138, and was partly broken and shown. Here, in FIG.
Lead pattern 134a shown as being permanently installed
To 134d are supported on the insulating film 153 in the vicinity of the through holes 155 on the gimbal 154, respectively, and the two-layered lead pattern 152a and the insulating film 151a, the lead pattern 152b, the insulating film 151b, and the lead pattern 15 are stacked.
2C, the wiring of the insulating film 151c, the lead pattern 152d, and the wiring of the insulating film 151d. That is, here, the lead patterns 152a to 152a are formed on the insulating film 153 which is processed and arranged in a ladder shape on the gimbal 154.
When arranging a wiring formed by sequentially laminating 52d and insulating films 151a to 151d, each lead pattern 152a to 152d of the insulating film 153 bridged over the through hole 155 is provided.
In the extending direction of the lead patterns 152a to 152d of the through holes 155.
1 or smaller than the length w1, four wires including the respective lead patterns 152a to 152d are arranged so as to intersect the insulating film 153 only directly above the through hole 155. Is shown. 2, the load beam 130 shown in FIG. 1 is schematically shown, and the load beam 132 is located below the gimbal 154 (that is, the gimbal 154).
(The side opposite to the insulating film 153 when viewed from above).

【0030】要するに、図2に示すHGAでは、絶縁膜
153がジンバル154の貫通穴155の真上において
のみ四本の各リードパターン152a〜152dと交差
すること、ジンバル154とリードパターン152a〜
152dとの間は絶縁膜153の厚み分だけ距離が設け
られ、且つこの距離がジンバル154上の何れの位置に
おいても維持されていること、の二点が構造的な特徴と
なっている。
In short, in the HGA shown in FIG. 2, the insulating film 153 intersects with each of the four lead patterns 152a to 152d only above the through hole 155 of the gimbal 154, and the gimbal 154 and the lead pattern 152a to 152d.
There is a structural feature in that a distance is provided between the gimbal 154 and the gimbal 154 at a distance corresponding to the thickness of the insulating film 153, and this distance is maintained at any position on the gimbal 154.

【0031】図3は、図2中におけるHGAの細部構造
を一個のリードパターン162を含むジンバル164と
垂直な方向において示した側面断面図である。このHG
Aでは、ロードビーム165上に所定の間隔で部分的に
貫通除去を行うことで等間隔を隔てて形成されるジンバ
ル164を設けると共に、ジンバル164の間隔よりも
大きな間隔となるように部分的に貫通除去を行うことで
等間隔を隔てて形成される絶縁膜163をジンバル16
4の間隔の上方に位置されるように設ける構成とするこ
とによりジンバル164の周囲による貫通穴166と絶
縁膜163の周囲とでHGA全体の空間が拡大して形成
されるものとし、更にこれらの絶縁膜163上にリード
パターン162,絶縁膜161をこの順で積層して設け
た様子を示している。尚、ここでのジンバル164同士
の間隔は図2に示した長さw1に対応し、絶縁膜163
の幅は図2に示した長さw2に対応するものである。
FIG. 3 is a side sectional view showing the detailed structure of the HGA in FIG. 2 in a direction perpendicular to the gimbal 164 including one lead pattern 162. This HG
In A, the gimbal 164 formed at equal intervals by partially penetrating and removing the load beam 165 at a predetermined interval is provided, and the gimbal 164 is partially spaced so as to be larger than the gimbal 164 interval. By performing the penetration removal, the insulating films 163 formed at regular intervals are separated by the gimbal 16.
4 so that the entire space of the HGA is formed to be enlarged by the through hole 166 formed around the gimbal 164 and the periphery of the insulating film 163. This shows a state in which a lead pattern 162 and an insulating film 161 are stacked on the insulating film 163 in this order. Here, the interval between the gimbals 164 corresponds to the length w1 shown in FIG.
Corresponds to the length w2 shown in FIG.

【0032】要するに、図3に示すHGAは、図14に
示したHGAの貫通穴966に対応する貫通穴166を
得る他、絶縁膜963に対応する絶縁膜163を部分的
に貫通除去することによってHGA全体の空間範囲を拡
大させた形態としたものであり、ここでのリードパター
ン162とジンバル164との間の寄生容量は、リード
パターン162とジンバル164との間において絶縁膜
163が除去された構造となっている分、図14に示し
たHGAのリードパターン963とジンバル964との
間の寄生容量に比べて減少する。
In short, in the HGA shown in FIG. 3, a through hole 166 corresponding to the through hole 966 of the HGA shown in FIG. 14 is obtained, and the insulating film 163 corresponding to the insulating film 963 is partially penetrated and removed. This is a form in which the spatial range of the entire HGA is enlarged, and the parasitic capacitance between the lead pattern 162 and the gimbal 164 is such that the insulating film 163 is removed between the lead pattern 162 and the gimbal 164. Due to the structure, the parasitic capacitance is reduced as compared with the parasitic capacitance between the HGA lead pattern 963 and the gimbal 964 shown in FIG.

【0033】図3に示すHGAにおいて、ロードビーム
165及びジンバル164は、何れもSUS304T等
のステンレス鋼板を用いて成るもので、ロードビーム1
65の場合には厚さ50〜100(μm)、ジンバル1
64の場合には厚さ約25(μm)とする場合を例示で
きる。又、絶縁膜161,163の材料はポリミドとす
る場合を例示できるが、特に絶縁膜163の材料は誘電
率の小さなものを用いることが望ましい。
In the HGA shown in FIG. 3, the load beam 165 and the gimbal 164 are both made of stainless steel plate such as SUS304T.
In the case of 65, the thickness is 50-100 (μm), and the gimbal 1
In the case of 64, a case where the thickness is about 25 (μm) can be exemplified. Further, a case where the material of the insulating films 161 and 163 is a polyimide can be exemplified, but it is particularly preferable to use a material of the insulating film 163 having a small dielectric constant.

【0034】このようなHGAを作製する場合、例えば
ロードビーム165とジンバル164とを複数点におけ
るスポット溶接により固着して後、絶縁膜163をエッ
チングにより梯子状に整形してから薄膜プロセスにより
絶縁膜161及びリードパターン162から成る配線を
積層形成し、これらの各段階で製作された構成部分を接
着剤で貼り合わせることにより、図3に示されるような
構成とする。
When manufacturing such an HGA, for example, the load beam 165 and the gimbal 164 are fixed by spot welding at a plurality of points, the insulating film 163 is shaped into a ladder shape by etching, and then the insulating film is formed by a thin film process. Wirings comprising a lead pattern 161 and a lead pattern 162 are formed by lamination, and the components manufactured at these steps are bonded together with an adhesive to obtain a configuration as shown in FIG.

【0035】但し、こうした構成で絶縁膜163がリー
ドパターン162や絶縁膜161から受ける荷重を支持
するのに十分な機械的強度が得られなかったり、或いは
絶縁膜161及びリードパターン162から成る配線が
自身の重量により撓むことにより配線とロードビーム1
65とが平行に保たれないような場合には、絶縁膜16
3の幅(長さw2)を増大させて図4に示されるような
構成とする。
However, in such a configuration, the insulating film 163 does not have sufficient mechanical strength to support the load received from the lead pattern 162 or the insulating film 161, or the wiring composed of the insulating film 161 and the lead pattern 162 cannot be used. Wiring and load beam 1 by bending due to own weight
65 is not kept parallel, the insulating film 16
The width (length w2) of No. 3 is increased to obtain a configuration as shown in FIG.

【0036】即ち、図4に示すHGAでは、ロードビー
ム196上に所定の間隔で部分的に貫通除去を行うこと
で等間隔を隔てて形成されるジンバル194を設けるこ
とでジンバル194側面の周囲で貫通穴196が形成さ
れるものとすると共に、これらのジンバル194同士の
間隔と等しい幅を有してジンバル194の幅分の間隔を
隔てて形成される絶縁膜193をジンバル194の間隔
の上方に位置されるように設ける構成とすることにより
ジンバル194の周囲による貫通穴196と絶縁膜19
3の周囲とでHGA全体の空間が拡大して形成されるも
のとし、更にこれらの絶縁膜193上にリードパターン
192,絶縁膜191をこの順で積層して設けた様子を
示している。即ち、ここでは絶縁膜193の幅をジンバ
ル194同士の間隔一杯まで広げることにより、絶縁膜
191及びリードパターン192による配線を容易に支
持できるようにしている。
In other words, in the HGA shown in FIG. 4, the gimbal 194 formed at equal intervals is provided on the load beam 196 by partially penetrating and removing the load beam 196 at a predetermined interval. It is assumed that a through hole 196 is formed, and an insulating film 193 having a width equal to the interval between the gimbals 194 and formed with an interval corresponding to the width of the gimbal 194 is formed above the interval between the gimbals 194. With the configuration provided so as to be positioned, the through hole 196 formed around the gimbal 194 and the insulating film 19 are formed.
3 shows that the entire space of the HGA is formed so as to be enlarged, and that a lead pattern 192 and an insulating film 191 are further laminated on the insulating film 193 in this order. That is, here, the width of the insulating film 193 is increased to the full gap between the gimbals 194, so that the wiring by the insulating film 191 and the lead pattern 192 can be easily supported.

【0037】図5は、本発明の他の実施例に係る磁気記
録用HGAの細部構造を一個のリードパターンを含むジ
ンバルと垂直な方向において示した側面断面図である。
このHGAでは、所定の間隔で部分的に貫通除去を行う
ことで等間隔を隔てて形成されるロードビーム175上
にロードビーム175の間隔よりも大きな間隔となるよ
うに部分的に貫通除去を行うことでジンバル174を等
間隔を隔てて設ける構成とすると共に、ジンバル174
の間隔よりも大きな間隔となるように部分的に貫通除去
を行うことで等間隔を隔てて形成される絶縁膜173を
ジンバル174の間隔の上方に位置されるように設ける
構成とすることによりロードビーム175及びジンバル
174の周囲による貫通穴176と絶縁膜173の周囲
とでHGA全体の空間が拡大して形成されるものとし、
更にこれらの絶縁膜173上にリードパターン172,
絶縁膜171をこの順で積層して設けた様子を示してい
る。即ち、このHGAの場合、一実施例の場合とは異な
り図15に示したHGAの場合のようにロードビーム1
75に対しても部分的に貫通除去して貫通穴176の形
成に供するようにしている。
FIG. 5 is a side sectional view showing a detailed structure of an HGA for magnetic recording according to another embodiment of the present invention in a direction perpendicular to a gimbal including one lead pattern.
In this HGA, by partially removing the through holes at predetermined intervals, the through holes are partially removed on the load beams 175 formed at equal intervals so as to have an interval larger than the interval between the load beams 175. Thus, the gimbal 174 is provided at equal intervals, and the gimbal 174 is provided.
The insulating film 173 formed at an equal interval by partially removing the through hole so as to have an interval larger than the interval of the gimbal 174 is provided so as to be located above the interval of the gimbal 174. It is assumed that the entire space of the HGA is enlarged and formed by the through hole 176 formed around the beam 175 and the gimbal 174 and around the insulating film 173.
Further, on these insulating films 173, lead patterns 172,
This figure shows a state in which the insulating films 171 are stacked in this order. That is, in the case of this HGA, unlike the case of the embodiment, the load beam 1 is different from that of the HGA shown in FIG.
75 is also partially penetrated to be used for forming the through hole 176.

【0038】このHGAにおいて、絶縁膜173,リー
ドパターン172,絶縁膜171,及びジンバル174
は一実施例に示したHGAの場合と同一な構成で良く、
それらが満たすべき条件や作製方法も一実施例の場合と
同様であるが、このHGAの場合にはジンバル174及
びロードビーム175の周囲の貫通穴176と絶縁膜1
73の周囲とにより形成されるHGA全体の空間が拡大
されているため、一実施例に示したHGAの場合や図1
5に示したHGAの場合よりも一層全体の寄生容量が減
少し、これによって共振周波数が増大する効果が得られ
る。
In this HGA, the insulating film 173, the lead pattern 172, the insulating film 171, and the gimbal 174
May have the same configuration as that of the HGA shown in one embodiment,
The conditions and manufacturing method to be satisfied are the same as those in the embodiment, but in the case of this HGA, the through holes 176 around the gimbal 174 and the load beam 175 and the insulating film 1
Since the entire space of the HGA formed by the periphery of the HGA 73 is enlarged, the case of the HGA shown in the embodiment and FIG.
5 has the effect of further reducing the overall parasitic capacitance as compared with the case of the HGA shown in FIG. 5, thereby increasing the resonance frequency.

【0039】図6は、本発明の別の実施例に係る磁気記
録用HGAの細部構造を一個のリードパターンを含むジ
ンバルと垂直な方向において示した側面断面図である。
このHGAでは、ロードビーム185上に等間隔を有す
る凸部間に段差を成して凹部が一体的に形成された凸凹
状体から成るジンバル184が設けられる構成とすると
共に、ジンバル184の凸部(或いは凹部)の間隔より
も大きな間隔となるように部分的に貫通除去を行うこと
で等間隔を隔てて形成される絶縁膜183をジンバル1
84の凹部の上方に位置されるように設ける構成とする
ことによりジンバル184の凹部の周囲による空隙部1
86と絶縁膜183の周囲とでHGA全体の空間が拡大
して形成されるものとし、更にこれらのジンバル184
の凸部上にリードパターン182,絶縁膜181をこの
順で積層して設けた様子を示している。即ち、このHG
Aの場合、一実施例及び他の実施例の場合とは異なり図
16に示したHGAの場合のようにジンバル184自体
の形状を工夫して部分的に除去して凹部の周囲に空隙部
186を形成している。
FIG. 6 is a side sectional view showing a detailed structure of a magnetic recording HGA according to another embodiment of the present invention in a direction perpendicular to a gimbal including one lead pattern.
The HGA has a configuration in which a gimbal 184 composed of a convex-concave body in which a concave portion is integrally formed by forming a step between convex portions having equal intervals on the load beam 185 and a convex portion of the gimbal 184 is provided. The insulating films 183 formed at equal intervals by partially removing the through-holes so as to have an interval larger than the interval of the (or concave) gimbal 1
The gap 1 is provided so as to be located above the concave portion of the gimbal 184.
86 and the periphery of the insulating film 183, the entire space of the HGA is formed to be enlarged.
A lead pattern 182 and an insulating film 181 are stacked and provided in this order on the convex portion of FIG. That is, this HG
In the case of A, unlike the case of one embodiment and the other embodiments, as in the case of the HGA shown in FIG. 16, the shape of the gimbal 184 itself is devised and partially removed to form a gap 186 around the recess. Is formed.

【0040】このHGAの場合、絶縁膜183,リード
パターン182,及び絶縁膜181は一実施例に示した
HGAの場合と同一な構成で良く、それらが満たすべき
条件や作製方法も一実施例の場合と同様であるが、この
HGAの場合にはジンバル184の凸部を図3に示すH
GAにおけるジンバル164の配置と同様の位置に設け
ることで貫通穴166の代わりにジンバル184の凹部
の周囲による空隙部186が配置される構成としてお
り、このジンバル184の凹部の周囲による空隙部18
6と絶縁膜183の周囲とにより形成されるHGA全体
の空間が拡大されるため、図16に示したHGAの場合
よりもリードパターン182とジンバル184との間の
距離を離すことができ、これによってリードパターン1
82とジンバル184との間の寄生容量を一層減少させ
ることができる。
In the case of this HGA, the insulating film 183, the lead pattern 182, and the insulating film 181 may have the same configuration as in the case of the HGA shown in one embodiment, and the conditions to be satisfied by them and the manufacturing method of the one embodiment are the same. As in the case of the HGA, the convex portion of the gimbal 184 is formed as shown in FIG.
By providing the gimbal 164 at the same position as the arrangement of the gimbal 164, a gap 186 formed around the concave portion of the gimbal 184 is arranged instead of the through hole 166, and the gap 18 formed around the concave portion of the gimbal 184 is formed.
Since the entire space formed by the HGA 6 and the periphery of the insulating film 183 is enlarged, the distance between the lead pattern 182 and the gimbal 184 can be increased as compared with the case of the HGA shown in FIG. By lead pattern 1
The parasitic capacitance between 82 and gimbal 184 can be further reduced.

【0041】ところで、特開平9−282624号公報
の段落[0004]〜[0008]には、一般に金属製
のサスペンションを用いたHGAの場合、導電性のリー
ドパターンとジンバルとの間に寄生容量を生じることが
述べられている。これは共振現象の主因の一つである
が、以下は、上述した各実施例に係るHGAの技術的背
景であって、図14に示したHGAのサスペンション上
の回路(配線)における共振周波数を近似的な等価回路
を使って求める場合を説明する。
Incidentally, in paragraphs [0004] to [0008] of Japanese Patent Application Laid-Open No. 9-282624, generally, in the case of an HGA using a metal suspension, a parasitic capacitance is formed between a conductive lead pattern and a gimbal. Is stated to occur. This is one of the main causes of the resonance phenomenon. The following is the technical background of the HGA according to each of the above-described embodiments, and the resonance frequency of the circuit (wiring) on the suspension of the HGA shown in FIG. The case of obtaining using an approximate equivalent circuit will be described.

【0042】図7は、従来のHGAの一部と記録又は再
生ヘッドとを含む近似的な等価回路を示したものであ
る。この等価回路は、特開平9−282624号公報の
段落[0005]〜[0007]において共振現象を説
明するために用いられているものであるが、ここではサ
スペンション上のリードパターンと記録又は再生ヘッド
とを含んでおり、リードパターンのインダクタンスがL
L1,LL2、記録又は再生ヘッドのインダクタンスが
LH、記録又は再生ヘッドの抵抗値がRHとして示され
ている。又、図7中の端子1,2はサスペンション上の
電極であり、図10中における電極935a,935b
又は電極935c,935dを示している。
FIG. 7 shows an approximate equivalent circuit including a part of a conventional HGA and a recording or reproducing head. This equivalent circuit is used to explain the resonance phenomenon in paragraphs [0005] to [0007] of Japanese Patent Application Laid-Open No. 9-282624. Here, the lead pattern on the suspension and the recording or reproducing head are described. And the inductance of the lead pattern is L
L1 and LL2, the inductance of the recording or reproducing head is shown as LH, and the resistance of the recording or reproducing head is shown as RH. Terminals 1 and 2 in FIG. 7 are electrodes on the suspension, and electrodes 935a and 935b in FIG.
Or, electrodes 935c and 935d are shown.

【0043】ここでは、リードパターンが持つ抵抗値、
リードパターンの相互間の静電容量、記録又は再生ヘッ
ドの内部の容量成分は微小なために省略されているが、
端子1からインダクタンスLL1、インダクタンスL
H、抵抗値RH、インダクタンスLL2、寄生容量CG
を経てアース電位(ジンバル又はロードビーム)に至る
回路の共振周波数f0 を計算すると、上述した数1式の
場合と同様にf0 =1/{2π(L・C)1/2 }なる関
係となる。但し、ここではL=LL1+LL2+LH,
容量C=寄生容量CG である。この等価回路の場合、共
振周波数f0 のみを留意すれば、記録又は再生ヘッドを
含む回路に過大な電流が流れるという問題が発生する
が、寄生容量CG が減少されれば共振周波数f0 を増大
でき、記録・再生周波数幅を拡大できる。
Here, the resistance value of the lead pattern,
The capacitance between the lead patterns, the capacitance component inside the recording or reproducing head is omitted because it is minute,
Inductance LL1, inductance L from terminal 1
H, resistance RH, inductance LL2, parasitic capacitance C G
When the resonance frequency f 0 of the circuit reaching the ground potential (gimbal or load beam) via the above equation is calculated, the relationship f 0 = 1 / {2π (LC) 1/2 } is obtained in the same manner as in the case of the above-mentioned equation (1). Becomes Here, L = LL1 + LL2 + LH,
A capacitance C = parasitic capacitance C G. In the case of this equivalent circuit, if attention is paid only to the resonance frequency f 0 , a problem occurs in which an excessive current flows in a circuit including a recording or reproducing head. However, if the parasitic capacitance CG is reduced, the resonance frequency f 0 is reduced. The recording / reproducing frequency width can be increased.

【0044】次に、サスペンション上の配線の等価回路
を図8とした場合について説明する。図8では、端子1
と端子2とから延びるリードパターンの両方にアース電
位に対する静電容量C′を付加した点が図7の場合の
等価回路と異なるが、その共振周波数f0 は実質上近似
的に図7の場合の等価回路と同様に数1式で表現され
る。但し、図8の等価回路の場合は、数1式の付帯条件
が容量C=CG ・f(片側配線のキャパシタンス)であ
り、L=LL1+LL2+LHである。
Next, the case where the equivalent circuit of the wiring on the suspension is shown in FIG. 8 will be described. In FIG. 8, terminal 1
A point obtained by adding the capacitance C G 'for both the ground potential lead patterns extending from the terminal 2 which is differs from the equivalent circuit in the case of FIG. 7, the resonance frequency f 0 of substantially approximately 7 It is expressed by Equation 1 as in the equivalent circuit in the case. However, in the case of the equivalent circuit of FIG. 8, the incidental condition of Expression 1 is a capacitance C = CG · f (capacitance of one-sided wiring), and L = LL1 + LL2 + LH.

【0045】そこで、数1式においてL=130(n
H)、R=16(Ω)とし(これら定数はインダクティ
ブの記録ヘッドを含む回路の等価回路に相当する)た場
合、寄生容量CG [pF]と共振周波数f0 [MHz]
との関係は図9に示されるようになる。図9からは、寄
生容量CG を減少させられれば共振周波数f0 を高めら
れる(増加できる)ことが判る。
Therefore, in equation (1), L = 130 (n
H), R = 16 (Ω) (these constants correspond to equivalent circuits of a circuit including an inductive recording head), and the parasitic capacitance C G [pF] and the resonance frequency f 0 [MHz]
Is as shown in FIG. FIG. 9 shows that the resonance frequency f 0 can be increased (increased) if the parasitic capacitance CG is reduced.

【0046】次に、従来のHGAや一実施例のHGAに
おける寄生容量CG を計算する場合を説明する。一般に
静電容量Cは、対向電極の面積S、電極間絶縁体の比誘
電率ε、電極間距離dに対してほぼεS/dと等しいも
のとみなすことができる。従来の図14に示されるHG
Aでは、ジンバル964に貫通穴966を設けることに
より対向電極の面積Sを減少させ、寄生容量CG の減少
を試みているが、図3に示す一実施例のHGAでは、対
向電極の面積Sの減少に加え、比誘電率εについても考
慮し、寄生容量CG を一層減少させることを試みてい
る。図14のHGAの場合、リードパターン962とジ
ンバル964との間の絶縁膜963の材料はポリミドで
あり、その比誘電率は3.3である。これに対し、その
絶縁膜963を部分的に貫通除去した構成の図3に示す
一実施例のHGAでは、リードパターン162とジンバ
ル164との間の比誘電率は空気の値ε=1となるの
で、リードパターン162とジンバル164と間の寄生
容量CG は、図14のHGAの場合と比べて1/3.3
に低下する。
Next, the case of calculating the parasitic capacitance C G of HGA conventional HGA and an embodiment. Generally, the capacitance C can be considered to be substantially equal to εS / d with respect to the area S of the counter electrode, the relative permittivity ε of the insulator between electrodes, and the distance d between the electrodes. Conventional HG shown in FIG.
In A, to reduce the area S of the opposite electrodes by the gimbal 964 is provided a through hole 966, but attempts to decrease the parasitic capacitance C G, the HGA of an embodiment shown in FIG. 3, the area of the counter electrode S in addition to the reduction, even considering the dielectric constant epsilon, which attempted to further reduce the parasitic capacitance C G. In the case of the HGA of FIG. 14, the material of the insulating film 963 between the lead pattern 962 and the gimbal 964 is polyimide, and its relative permittivity is 3.3. On the other hand, in the HGA of one embodiment shown in FIG. 3 in which the insulating film 963 is partially penetrated and removed, the relative dielectric constant between the lead pattern 162 and the gimbal 164 is the air value ε = 1. since the parasitic capacitance between the lead patterns 162 and the gimbal 164 C G is 1 / 3.3 as compared with the case of the HGA in FIG. 14
To decline.

【0047】図14に示すHGAにおいて、リードパタ
ーン962対ジンバル964の単位面積当たりの静電容
量をC1、リードパターン962対ロードビーム965
の単位面積当たりの静電容量をC2とし、絶縁膜963
をポリミド製とした場合、その誘電率ε1をε1=3.
3×8.854E−12、空気中の誘電率ε0をε0=
8.854E−12、絶縁膜963の厚さをx1(μ
m)、ジンバル964の厚さをx2(μm)とすると、
x=x1+x2なる関係が成立した場合に静電容量C
1、C2は、それぞれC1=ε1/x1、C2=1/
{x/ε1−x2/(ε1)-1−(ε0)-1}なる関係
で与えられる。
In the HGA shown in FIG. 14, the capacitance per unit area of the lead pattern 962 to the gimbal 964 is C1, and the lead pattern 962 to the load beam 965 is C1.
The capacitance per unit area of the insulating film 963
Is made of polyimide, the dielectric constant ε1 of ε1 = 3.
3 × 8.854E-12, permittivity ε0 in air is expressed as ε0 =
8.854E-12, the thickness of the insulating film 963 is x1 (μ
m), and the thickness of the gimbal 964 is x2 (μm),
When the relationship x = x1 + x2 holds, the capacitance C
1, C2 are respectively C1 = ε1 / x1, C2 = 1 /
{X / ε1-x2 / (ε1) −1 − (ε0) −1 }.

【0048】ここで、二種類の誘電体が対向金属板間に
電極板と平行に層状に分布する場合の対向電極間の静電
容量は、例えば参考文献として電気学会編、「電気磁気
学」、オーム社刊、第94頁目の式(5.48)に示さ
れている。
Here, the capacitance between the opposing electrodes when the two kinds of dielectrics are distributed between the opposing metal plates in a layered manner in parallel with the electrode plate is described in, for example, "Electromagnetics", edited by The Institute of Electrical Engineers of Japan. , Ohm Publishing Co., Ltd., page 94, equation (5.48).

【0049】図14に示すHGAの場合、各構成部分の
厚みを特開平9−282624号公報の段落[002
6]に示された値をそのまま用いれば、x1=5(μ
m)、x2=25(μm)であるとき、C1=5.8
(F)、C2=0.33(μF)となる。ジンバル96
4と貫通穴966との面積比は、特開平9−28262
4号公報における[実施例]の見当によりジンバル96
4の面積1に対して貫通穴966の面積を2とできる。
リードパターン962全体における単位面積当たりの寄
生容量C0は、静電容量C1、C2の占有面積に関する
加重平均からC0=(C1+2C2)/3=2.2(μ
F)となる。
In the case of the HGA shown in FIG. 14, the thickness of each component is adjusted according to paragraph [002] of JP-A-9-282624.
6], x1 = 5 (μ
m), when x2 = 25 (μm), C1 = 5.8
(F), C2 = 0.33 (μF). Gimbal 96
4 and the area ratio of the through-hole 966 are described in JP-A-9-28262.
Gimbal 96 according to [Example] in Japanese Patent Publication No. 4
The area of the through hole 966 can be set to 2 with respect to the area 1 of 4.
The parasitic capacitance C0 per unit area of the entire lead pattern 962 is obtained from the weighted average of the occupied areas of the capacitances C1 and C2 as C0 = (C1 + 2C2) /3=2.2 (μ)
F).

【0050】これに対し、図3に示すHGAの場合、図
14に示す絶縁膜963を部分的に貫通除去しているの
で、リードパターン162方向におけるリードパターン
162対ジンバル164の単位面積当たりの静電容量を
C1′、リードパターン162対ロードビーム165の
うちの対向金属板間が絶縁膜163及び空気から成る部
分の単位面積当たりの静電容量をC2′、リードパター
ン162対ロードビーム165の単位面積当たりの静電
容量のうちの対向金属板間が空気だけから成る部分の単
位面積当たりの静電容量をC3′とすると、x=x1+
x2なる関係が成立した場合に静電容量C1′、C
2′、C3′は、それぞれC1′=ε0/x1、C2′
=1/{x/ε1−x2/(ε1)-1−(ε0)-1}、
C3′=ε0/xなる関係で与えられる。
On the other hand, in the case of the HGA shown in FIG. 3, since the insulating film 963 shown in FIG. 14 is partially penetrated and removed, the static electricity per unit area of the lead pattern 162 and the gimbal 164 in the direction of the lead pattern 162 is obtained. The capacitance per unit area is C2 ', the capacitance per unit area of a portion of the lead pattern 162 and the load beam 165 between the facing metal plate and the insulating film 163 and air is C2', and the unit of the lead pattern 162 and the load beam 165 is C1 '. Assuming that the capacitance per unit area of the portion of the capacitance per area between the opposed metal plates consisting only of air is C3 ', x = x1 +
x2, the capacitances C1 ', C1
2 ′ and C3 ′ are respectively C1 ′ = ε0 / x1, C2 ′
= 1 / {x / ε1-x2 / (ε1) −1 − (ε0) −1 },
C3 '= ε0 / x.

【0051】これらの関係式に図14のHGAの場合の
容量計算時と同様に絶縁膜163をポリミド製としたと
きの誘電率ε1=3.3×8.854E−12、空気中
の誘電率ε0=8.854E−12、絶縁膜163の厚
さx1=5(μm)、ジンバル164の厚さx2=25
(μm)を代入すると、C1′=1.8(μF)、C
2′=0.33(μF)、C3′=0.30(μF)と
なる。
In these relational expressions, the dielectric constant ε1 = 3.3 × 8.854E-12 when the insulating film 163 is made of polyimide and the dielectric constant in the air as in the case of the capacitance calculation in the case of the HGA in FIG. ε0 = 8.854E-12, thickness x1 of insulating film 163 = 5 (μm), thickness x2 of gimbal 164 = 25
(Μm), C1 ′ = 1.8 (μF), C1 ′ = 1.8 (μF)
2 ′ = 0.33 (μF) and C3 ′ = 0.30 (μF).

【0052】このように、図3のHGAにおいては、ジ
ンバル164の厚さが絶縁膜163の厚さの5倍と大き
いので、誘電率ε0,ε1の静電容量C2′、C3′へ
の影響は小さく、静電容量C2′がほぼ静電容量C3′
と等しくなる。従って、絶縁膜163の面積がHGA
(サスペンション)全体の寄生容量CG へ及ぼす影響は
小さい。
As described above, in the HGA of FIG. 3, since the thickness of the gimbal 164 is five times as large as the thickness of the insulating film 163, the influence of the dielectric constants ε0 and ε1 on the capacitances C2 ′ and C3 ′. Is small, and the capacitance C2 'is almost equal to the capacitance C3'.
Becomes equal to Therefore, the area of the insulating film 163 is HGA
(Suspension) impact on the whole of the parasitic capacitance C G is small.

【0053】即ち、仮に、図3に示したHGAにおける
横方向に関する絶縁膜163の分布(占有面積)が、仮
に図4に示した状態のように大きくても絶縁膜163が
リードパターン162とジンバル164との間に配置さ
れない限りはHGA全体の寄生容量CG は殆ど変化しな
いことがわかる。静電容量C1′、C2′、C3′を形
成する面積の比を例えば2:1:3とすると、図3に示
すHGAのリードパターン162に生じる単位面積当た
りの寄生容量C0′は平均してC0′=(2C1′+C
2′+3C3′)/6=0.79(μF)となる。
That is, even if the distribution (occupied area) of the insulating film 163 in the horizontal direction in the HGA shown in FIG. 3 is large as in the state shown in FIG. 4, the insulating film 163 is not connected to the lead pattern 162 and the gimbal. parasitic capacity of the whole HGA unless disposed between the 164 C G it can be seen that hardly changes. If the ratio of the areas forming the capacitances C1 ', C2', C3 'is, for example, 2: 1: 3, the parasitic capacitance C0' per unit area generated in the HGA lead pattern 162 shown in FIG. C0 '= (2C1' + C
2 ′ + 3C3 ′) / 6 = 0.79 (μF).

【0054】又、図3での絶縁膜163の占有面積を一
層大きくし、静電容量C1′、C2′、C3′を形成す
る面積の比を例えば1:2:0とした場合は図4に示さ
れる構成のHGAとなる。図4のHGAの場合、リード
パターン192に生じる単位面積当たりの寄生容量C
0″は平均してC0″=(1C1′+2C2′)/3=
0.81(μF)となる。これは図3に示すHGAの静
電容量C0′と殆ど変わらない。即ち、仮に図3で絶縁
膜163によってリードパターン162とそれに付随し
た絶縁膜161を支持することが困難なために絶縁膜1
63間の図3中で示される横方向の幅を増大させて図4
に示すHGAの構造へ変更しても、その構造の変化によ
る寄生容量CG の増大幅は微小で済むことが判る。
When the area occupied by the insulating film 163 in FIG. 3 is further increased and the ratio of the areas forming the capacitances C1 ', C2', C3 'is, for example, 1: 2: 0, FIG. The HGA has the configuration shown in FIG. In the case of the HGA of FIG. 4, the parasitic capacitance C per unit area generated in the lead pattern 192
0 ″ is on average C0 ″ = (1C1 ′ + 2C2 ′) / 3 =
0.81 (μF). This is almost the same as the capacitance C0 'of the HGA shown in FIG. That is, if it is difficult to support the lead pattern 162 and the accompanying insulating film 161 by the insulating film 163 in FIG.
4 by increasing the lateral width shown in FIG.
Changing the structure of the HGA shown in, increasing the width of the parasitic capacitance C G due to the change of the structure it is found that requires only very small.

【0055】最後に、図7や図8に示した等価回路にお
ける寄生容量CG の減少による共振周波数の改善効果に
ついて説明する。上述した内容、即ち、図3のHGAに
おけるリードパターン162の単位面積当たりに生じる
寄生容量C0′=0.79(μF)は、図14のHGA
におけるリードパターン962の単位面積当たりに生じ
る寄生容量C0=2.2(μF)の0.37倍に低減さ
れるので、数1式を用いて算出すれば、図3のHGAに
おける共振周波数は、図14のHGAにおける共振周波
数の約1.7倍に増加することが判る。
[0055] Finally, described improvement effect of the resonance frequency due to a reduction in parasitic capacitance C G in the equivalent circuit shown in FIGS. 7 and 8. The contents described above, that is, the parasitic capacitance C0 ′ = 0.79 (μF) generated per unit area of the lead pattern 162 in the HGA of FIG.
Is reduced to 0.37 times of the parasitic capacitance C0 = 2.2 (μF) generated per unit area of the lead pattern 962 in the above, and if calculated using Expression 1, the resonance frequency in the HGA of FIG. It can be seen that the resonance frequency in the HGA of FIG. 14 is increased to about 1.7 times.

【0056】更に、図9を参照すれば、例えば各実施例
のHGAのように絶縁膜163,193,173,18
3に空隙を持たせない図14に示すようなHGAの場合
の寄生容量値、即ち、単位面積当たり寄生容量とリード
パターン面積との積を、C=20(pF)であるとした
とき、HGA上の構成を図14に示されるような構造か
ら図3に示されるような構造へ変更すれば、寄生容量C
G は7.4(pF)に減少し、その結果として図9での
共振周波数は約100(MHz)から約170(MH
z)へ改善される。厳密に言えば、図7や図8に示した
等価回路の伝達関数は、HGA(サスペンション)上の
配線の現実の伝達回路と完全に同一というわけではない
が、これらの等価回路は共振周波数の近似的な改善幅を
見積もる手段として有効である。
Further, referring to FIG. 9, for example, like the HGA of each embodiment, the insulating films 163, 193, 173, 18
Assuming that the parasitic capacitance value in the case of the HGA as shown in FIG. 14 in which no gap is provided in C.3, that is, the product of the parasitic capacitance per unit area and the lead pattern area is C = 20 (pF), the HGA If the above configuration is changed from the structure shown in FIG. 14 to the structure shown in FIG.
G is reduced to 7.4 (pF), so that the resonance frequency in FIG. 9 is from about 100 (MHz) to about 170 (MH).
z). Strictly speaking, the transfer functions of the equivalent circuits shown in FIGS. 7 and 8 are not completely the same as the actual transfer circuit of the wiring on the HGA (suspension), but these equivalent circuits have the resonance frequency. This is effective as a means for estimating an approximate improvement range.

【0057】以上に述べた絶縁膜を部分的に除去するこ
との効果は、図5に示すHGA、即ち、図15に示され
るHGAにおける絶縁膜973のうちのジンバル974
と接する部分を含めて貫通除去することで図5に示され
るようにジンバル174と接しない絶縁膜175とした
構成のものや、或いは図6に示すHGA、即ち、図16
に示されるHGAにおける絶縁膜983のうちのジンバ
ル984の凸部と接する部分を含めて貫通除去すること
で図16に示されるようにジンバル184の凸部と接し
ない絶縁膜183とした構成のものにおいても同様に現
れる。
The effect of partially removing the insulating film described above is due to the gimbal 974 of the insulating film 973 in the HGA shown in FIG. 5, that is, the HGA shown in FIG.
The insulating film 175 which does not contact the gimbal 174 as shown in FIG. 5 by penetrating and removing the portion including the portion in contact with the HGA shown in FIG.
As shown in FIG. 16, the insulating film 983 in the HGA shown in FIG. 16 is removed by penetrating and including a portion in contact with the convex portion of the gimbal 984, thereby forming an insulating film 183 not in contact with the convex portion of the gimbal 184. Also appears in.

【0058】[0058]

【発明の効果】以上に述べた通り、本発明の磁気記録用
HGAによれば、サスペンション上のリードパターンと
ジンバルとの間の絶縁膜を部分的に貫通除去してHGA
全体の空間形成を拡大し得る構造としているため、HG
A(サスペンション)全体の寄生容量が減少して共振周
波数が増加するようになり、結果として磁気ディスク装
置や光磁気ディスク装置における記録・再生のデータ転
送周波数の上限は増加し、ヘッド・ディスク媒体間の記
録再生のデータ転送速度を向上させることが可能にな
る。
As described above, according to the HGA for magnetic recording of the present invention, the insulating film between the gimbal and the lead pattern on the suspension is partially penetrated and removed.
Because the structure can expand the entire space, HG
The parasitic capacitance of the entire A (suspension) is reduced and the resonance frequency is increased. As a result, the upper limit of the data transfer frequency for recording / reproduction in a magnetic disk device or a magneto-optical disk device is increased. It is possible to improve the data transfer speed of recording / reproducing.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の一実施例に係る磁気記録用HGAの基
本構成を示した平面図である。
FIG. 1 is a plan view showing a basic configuration of a magnetic recording HGA according to an embodiment of the present invention.

【図2】図1に示すHGAに備えられるジンバルの貫通
穴付近を拡大して一部を破断して示した斜視図である。
FIG. 2 is an enlarged perspective view of a portion near a through hole of a gimbal provided in the HGA shown in FIG.

【図3】図2中におけるHGAの細部構造を一個のリー
ドパターンを含むジンバルと垂直な方向において示した
側面断面図である。
FIG. 3 is a side sectional view showing a detailed structure of the HGA in FIG. 2 in a direction perpendicular to a gimbal including one lead pattern.

【図4】図3に示すHGAの細部構造を一部変更した場
合の側面断面図である。
FIG. 4 is a side sectional view in a case where the detailed structure of the HGA shown in FIG. 3 is partially changed.

【図5】本発明の他の実施例に係る磁気記録用HGAの
細部構造を一個のリードパターンを含むジンバルと垂直
な方向において示した側面断面図である。
FIG. 5 is a side sectional view showing a detailed structure of an HGA for magnetic recording according to another embodiment of the present invention in a direction perpendicular to a gimbal including one lead pattern.

【図6】本発明の別の実施例に係る磁気記録用HGAの
細部構造を一個のリードパターンを含むジンバルと垂直
な方向において示した側面断面図である。
FIG. 6 is a side sectional view showing a detailed structure of an HGA for magnetic recording according to another embodiment of the present invention in a direction perpendicular to a gimbal including one lead pattern.

【図7】従来のHGAの一部と記録又は再生ヘッドとを
含む近似的な等価回路を示したものである。
FIG. 7 shows an approximate equivalent circuit including a part of a conventional HGA and a recording or reproducing head.

【図8】図7に示す等価回路においてアース電位に対す
る容量を付加した場合の等価回路を示したものである。
8 shows an equivalent circuit in a case where a capacitance with respect to a ground potential is added to the equivalent circuit shown in FIG. 7;

【図9】図8に示す等価回路における寄生容量と共振周
波数との関係を示したものである。
FIG. 9 illustrates a relationship between a parasitic capacitance and a resonance frequency in the equivalent circuit illustrated in FIG. 8;

【図10】従来の磁気記録用HGAの基本構成を示した
平面図である。
FIG. 10 is a plan view showing a basic configuration of a conventional HGA for magnetic recording.

【図11】図10に示すHGAを横方向から見た側面図
である。
11 is a side view of the HGA shown in FIG. 10 as viewed from a lateral direction.

【図12】図12は、図10に示すHGAのジンバルの
貫通穴付近を拡大して一部を破断して示した斜視図であ
る。
FIG. 12 is an enlarged perspective view of the vicinity of a through hole of the gimbal of the HGA shown in FIG.

【図13】従来の貫通穴が設けられていないHGAの細
部構造を一個のリードパターンに沿った方向において示
した側面断面図である。
FIG. 13 is a side cross-sectional view showing a detailed structure of a conventional HGA without a through-hole in a direction along one lead pattern.

【図14】図12中におけるHGAの細部構造を一個の
リードパターンに沿った方向において示した側面断面図
である。
14 is a side sectional view showing a detailed structure of the HGA in FIG. 12 in a direction along one lead pattern.

【図15】従来の貫通穴を有する他のHGAの細部構造
を一個のリードパターンに沿った方向において示した側
面断面図である。
FIG. 15 is a side sectional view showing a detailed structure of another conventional HGA having a through hole in a direction along one lead pattern.

【図16】従来の貫通穴を有する別のHGAの細部構造
を一個のリードパターンに沿った方向において示した側
面断面図である。
FIG. 16 is a side sectional view showing a detailed structure of another conventional HGA having a through hole in a direction along one lead pattern.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

130,154,164,174,184,194,8
64,954,964,974,984 ジンバル 131,931 スライダ 132,165,175,185,195,865,9
32,965,975,985 ロードビーム 133,933 ベースプレート 134a〜134d,152a〜152d,162,1
72,182,192,862,934a〜934d,
952a〜952d,962,972,982リードパ
ターン 135a〜135d,935a〜935d 電極 138,155,166,176,196,938,9
55,966,976貫通穴 140,141,151a〜151d,153,16
1,163,171,173,181,183,19
1,193,861,863,951a〜951d,9
53a〜953d,961,963,971,973,
981,983 絶縁膜 186,986 空隙部
130,154,164,174,184,194,8
64,954,964,974,984 Gimbals 131,931 Sliders 132,165,175,185,195,865,9
32,965,975,985 Load beam 133,933 Base plate 134a-134d, 152a-152d, 162,1
72,182,192,862,934a-934d,
952a to 952d, 962, 972, 982 Lead pattern 135a to 135d, 935a to 935d Electrode 138, 155, 166, 176, 196, 938, 9
55,966,976 through holes 140,141,151a-151d, 153,16
1,163,171,173,181,183,19
1,193,861,863,951a-951d, 9
53a to 953d, 961, 963, 971, 973
981,983 insulating film 186,986 void

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 磁気ヘッド用のスライダと、前記スライ
ダを支持する金属製のサスペンションと、前記サスペン
ション上に絶縁体を介して支持された磁気ヘッド用のリ
ードパターンとを有する磁気記録用ヘッドジンバルアセ
ンブリにおいて、前記サスペンションは等間隔で部分的
に除去されており、前記絶縁体は前記サスペンションの
除去部分の上方位置のみで前記リードパターンを支持す
ることを特徴とする磁気記録用ヘッドジンバルアセンブ
リ。
1. A head gimbal assembly for magnetic recording, comprising a slider for a magnetic head, a metal suspension supporting the slider, and a lead pattern for the magnetic head supported on the suspension via an insulator. 3. The head gimbal assembly for magnetic recording according to claim 1, wherein the suspension is partially removed at equal intervals, and the insulator supports the lead pattern only at a position above a removed portion of the suspension.
【請求項2】 請求項1記載の磁気記録用ヘッドジンバ
ルアセンブリにおいて、前記サスペンションの除去部分
は、貫通して設けられたことを特徴とする磁気記録用ヘ
ッドジンバルアセンブリ。
2. The head gimbal assembly for magnetic recording according to claim 1, wherein the removed portion of the suspension is provided so as to penetrate therethrough.
【請求項3】 請求項2記載の磁気記録用ヘッドジンバ
ルアセンブリにおいて、前記サスペンションは、金属製
のロードビーム上に金属製のジンバルを配置して成り、
前記ジンバルは、等間隔で部分的に貫通除去されて貫通
穴を形成しており、前記絶縁体は、前記ジンバルの前記
貫通穴上方の位置のみで前記リードパターンを支持する
ことを特徴とする磁気記録用ヘッドジンバルアセンブ
リ。
3. The head gimbal assembly for magnetic recording according to claim 2, wherein the suspension comprises a metal gimbal disposed on a metal load beam.
The gimbal is partially penetrated and removed at equal intervals to form a through hole, and the insulator supports the lead pattern only at a position above the through hole of the gimbal. Head gimbal assembly for recording.
【請求項4】 請求項3記載の磁気記録用ヘッドジンバ
ルアセンブリにおいて、前記ロードビームは、前記ジン
バルの間隔以下の等間隔で部分的に貫通除去されて貫通
穴を形成しており、前記絶縁体は、前記ロードビームの
前記貫通穴に繋がる前記ジンバルの前記貫通穴上方の位
置のみで前記リードパターンを支持することを特徴とす
る磁気記録用ヘッドジンバルアセンブリ。
4. The magnetic recording head gimbal assembly according to claim 3, wherein the load beam is partially removed at an equal interval equal to or less than an interval of the gimbal to form a through hole, and the insulator is provided. A head gimbal assembly for magnetic recording, wherein the lead pattern is supported only at a position above the through hole of the gimbal connected to the through hole of the load beam.
【請求項5】 磁気ヘッド用のスライダと、前記スライ
ダを支持する金属製のサスペンションと、前記サスペン
ション上に絶縁体を介して支持された磁気ヘッド用のリ
ードパターンとを有する磁気記録用ヘッドジンバルアセ
ンブリにおいて、前記サスペンションは、等間隔を有す
る凸部間に段差を成して凹部が一体的に形成された凸凹
状体から成り、前記絶縁体は、前記サスペンションの前
記凹部の上方位置のみで前記リードパターンを支持する
ことを特徴とする磁気記録用ヘッドジンバルアセンブ
リ。
5. A magnetic recording head gimbal assembly having a slider for a magnetic head, a metal suspension supporting the slider, and a lead pattern for the magnetic head supported on the suspension via an insulator. Wherein the suspension comprises a concave-convex body in which a concave portion is integrally formed by forming a step between convex portions having equal intervals, and the insulator is provided with the lead only at a position above the concave portion of the suspension. A head gimbal assembly for magnetic recording, which supports a pattern.
【請求項6】 請求項5記載の磁気記録用ヘッドジンバ
ルアセンブリにおいて、前記サスペンションは、金属製
のロードビーム上に金属製のジンバルを配置して成り、
前記ジンバルは、等間隔を有する凸部間に段差を成して
凹部が一体的に形成された凸凹状体から成り、前記絶縁
体は、前記ジンバルの前記凹部の上方位置のみで前記リ
ードパターンを支持することを特徴とする磁気記録用ヘ
ッドジンバルアセンブリ。
6. The head gimbal assembly for magnetic recording according to claim 5, wherein the suspension is configured by disposing a metal gimbal on a metal load beam.
The gimbal is formed of a convex-concave body in which a concave portion is integrally formed by forming a step between convex portions having equal intervals, and the insulator forms the lead pattern only at a position above the concave portion of the gimbal. A head gimbal assembly for magnetic recording characterized by supporting.
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