JP2002169167A - Liquid crystal display, method for manufacturing the same and equipment applying image display - Google Patents

Liquid crystal display, method for manufacturing the same and equipment applying image display

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JP2002169167A
JP2002169167A JP2000369778A JP2000369778A JP2002169167A JP 2002169167 A JP2002169167 A JP 2002169167A JP 2000369778 A JP2000369778 A JP 2000369778A JP 2000369778 A JP2000369778 A JP 2000369778A JP 2002169167 A JP2002169167 A JP 2002169167A
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liquid crystal
resin
columnar
crystal display
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JP2000369778A
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Japanese (ja)
Inventor
Koji Inoue
Hideki Matsukawa
Yoshinori Yamamoto
Masanori Yoshida
浩治 井上
正典 吉田
義則 山本
秀樹 松川
Original Assignee
Matsushita Electric Ind Co Ltd
松下電器産業株式会社
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To improve the degree of contact of a columnar resin pattern to a substrate and to prevent short circuiting between upper and lower substrates. SOLUTION: A color filter pattern 5 is formed on a TFT array substrate 13, and a switching active element 4 is brought into contact with a pixel electrode disposed on the color filter pattern 5 through a contact hole 12. In this structure, a columnar resin pattern 17 for forming a panel gap is formed on the contact hole 12 by using resin having conductivity, the upper face of the columnar resin pattern 17 is covered with an insulating coating, and the pixel electrode is formed, in contact with the columnar resin pattern 17. As a result of this method, the pixel electrode can be formed after the columnar resin pattern 17 having conductivity is formed on the contact hole part, and this prevents peeling of the columnar resin pattern 17 and improves the adhesion degree to the substrate.

Description

【発明の詳細な説明】 DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】 [0001]

【発明の属する技術分野】この発明は、液晶表示装置およびその製造方法ならびに画像表示応用機器に関する。 TECHNICAL FIELD The present invention relates to a liquid crystal display device and a manufacturing method thereof and an image display application equipment.

【0002】 [0002]

【従来の技術】液晶表示装置は主要な表示デバイスとして、特に小型、軽量性が要求される用途を中心に幅広く使用されている。 Description of the Prior Art Liquid crystal display device as the primary display device, in particular small, widely used mainly in applications where light weight is required. 液晶表示装置は、図5に示すように、 The liquid crystal display device, as shown in FIG. 5,
画素電極を駆動するためのスイッチング能動素子4が形成されたアレイ基板11とカラーフィルタパターン5、 Array substrate 11 and the color filter pattern 5 switching active elements 4 for driving the pixel electrodes are formed,
ブラックマトリクス6が形成されたカラーフィルタ基板10との間に液晶8を封入してなる液晶表示装置である。 A liquid crystal display device formed by sealing a liquid crystal 8 between the color filter substrate 10 that the black matrix 6 is formed. 図5において、1,1'はガラス基板、2,2'は透明電極、3,3'は配向膜、7はスペーサ、9はシール剤である。 5, 1, 1 'denotes a glass substrate, 2, 2' transparent electrodes 3,3 'are oriented film, 7 spacer, 9 is a sealing agent.

【0003】 [0003]

【発明が解決しようとする課題】近年、大型モニタ、テレビ用途等、従来CRTが使用されていたデバイス分野への液晶の応用の試みがなされるに伴い、液晶表示装置には更なる性能向上が要求されている。 [0007] In recent years, large monitors, TV applications and the like, with the attempts of the prior CRT liquid crystal application to the device field that was used is made, the further improvement in performance in the liquid crystal display device are required. 特に、レントゲン写真表示等の医療用途、インターネット商取引への液晶パネルの応用展開に際し、高輝度、高精細、かつ、表示むらが皆無な高品位液晶パネルが要求されている。 In particular, radiographs display of medical applications, upon application and development of the liquid crystal panel to the Internet commerce, high brightness, high definition and, display unevenness is none high-definition liquid crystal panel has been required. しかしながら、従来の液晶パネルは、カラーフィルタに形成されたブラックマトリクスによる遮光のため高輝度と高精細の両立が困難であった。 However, the conventional liquid crystal panel, both high brightness and high definition for light shielding by the black matrix formed on the color filter is difficult. また、パネルギャップ制御に用いるビーズスペーサのカラーフィルタ膜への食い込みに起因する表示むらが見られ、上記用途に使用するには十分な性能とは言えなかった。 Moreover, observed display unevenness caused by the bite of the color filter film of bead spacers used in panel gap control, was not sufficient performance for use in the above applications.

【0004】このような背景の元、高輝度・高精細の両立を目的とし、画素電極を駆動するためのスイッチング能動素子が形成されたTFTアレイ基板上にカラーフィルタパターンを形成する試みが行なわれている。 [0004] The background of the original, the purpose of both high brightness and high definition, an attempt to form a color filter pattern is performed on the TFT array substrate of the switching active element is formed for driving the pixel electrodes ing. また、 Also,
パネルギャップ均一性向上を目的とし、画素電極を駆動するためのスイッチング能動素子が形成されたTFTアレイ基板、または、カラーフィルタ基板等の対向基板にあらかじめパネルギャップ形成のための柱状樹脂パターンを形成する試みが活発に行なわれている。 The panel gap uniformity improvement purposes, TFT array substrate switching active element for driving the pixel electrodes are formed, or to form a columnar resin pattern for pre-panel gap formed on the counter substrate such as a color filter substrate attempts have been actively carried out.

【0005】しかしながら、これらの2つの技術を組み合わせて形成したパネルにおいて、微細な表示むらが発生する事が判明した。 However, in these panels formed by combining two techniques, it has been found that fine display unevenness.

【0006】このような課題を解決するため、検討を加えた結果、表示むらは以下の現象に起因する事が判明した。 [0006] In order to solve such problems, as a result of adding the study, display unevenness was found to be caused by the following phenomenon.

【0007】それはITO膜上に形成された柱状樹脂パターンの剥がれによるギャップばらつきに起因する。 [0007] It is due to the gap variation caused by peeling of columnar resin pattern formed on the ITO film.

【0008】したがって、この発明の目的は、柱状樹脂パターンの基板への密着度を向上することであり、パネル貼り合わせ時の上下基板間ショートの防止ができ、スイッチング能動素子と画素電極の導通を確保することができる液晶表示装置およびその製造方法ならびに画像表示応用機器が提供できる。 It is therefore an object of this invention is to improve the degree of adhesion to the substrate of the columnar resin pattern can prevent the panel bonding at the upper and lower substrates to short-circuit between the conduction of the switching active element and a pixel electrode the liquid crystal display device and a manufacturing method thereof and an image display application equipment can be secured can be provided.

【0009】 [0009]

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するためにこの発明の請求項1記載の液晶表示装置は、画素電極を駆動するためのスイッチング能動素子が形成されるT Means for Solving the Problems] The liquid crystal display device according to claim 1 of the present invention to solve the above problems, T the switching active element for driving the pixel electrodes are formed
FTアレイ基板上に樹脂膜を形成し、前記樹脂膜に形成されるコンタクトホールを介し、前記スイッチング能動素子と、前記樹脂膜上に配置される画素電極とをコンタクトさせ、前記TFTアレイ基板とこれに対向する対向基板との間のパネルギャップに液晶を封止するTFTアレイ型液晶表示装置であって、前記コンタクトホールに、パネルギャップを形成するための柱状樹脂パターンを導電性を有する樹脂で形成するとともに、前記画素電極を前記柱状樹脂パターンに接するように形成する。 The resin film is formed FT array substrate, said via contact holes formed in the resin film, and the switching active element, to contact a pixel electrode disposed on the resin film, the TFT array substrate and this a TFT array type liquid crystal display device for sealing a liquid crystal panel gap between the counter substrate facing the, formed in the contact hole, a columnar resin pattern for forming a panel gap of a resin having conductivity as well as to form the pixel electrode in contact with the columnar resin pattern.

【0010】このように、コンタクトホールに、パネルギャップを形成するための柱状樹脂パターンを導電性を有する樹脂で形成するとともに、画素電極を柱状樹脂パターンに接するように形成するので、コンタクトホール部位上に導電性を有する柱状樹脂パターンを形成後、画素電極を形成することができ、柱状樹脂パターンの剥れを防止して基板への密着度を向上できるので、画素電極とスイッチング能動素子とのコンタクト不良が低減され、同時に基板表面段差が低減し、段差起因の液晶配向乱れ防止を達成する。 [0010] Thus, the contact hole, a columnar resin pattern for forming a panel gap and forming a resin having conductivity, so formed in contact with the pixel electrode in a columnar resin pattern, a contact hole sites on after forming columnar resin pattern having conductivity, it is possible to form the pixel electrode, it is possible to improve the degree of adhesion to the substrate to prevent peeling of columnar resin pattern, a contact between the pixel electrode and the switching active element failure is reduced, at the same time the substrate surface difference is reduced, to achieve a liquid crystal alignment disorder prevention step caused.

【0011】請求項2記載の液晶表示装置は、請求項1 [0011] The liquid crystal display device according to claim 2 wherein the claim 1
において、対向基板に対向電極が形成され、柱状樹脂パターンの上面を絶縁コートして前記対向電極と絶縁する。 In, a counter electrode formed on the counter substrate, is insulated from the counter electrode to the upper surface of the columnar resin pattern and insulating coating.

【0012】このように、対向基板に対向電極が形成され、柱状樹脂パターンの上面を絶縁コートして前記対向電極と絶縁するので、導電性を有する柱状樹脂パターン上面を導電性の無い樹脂膜で被覆することにより、パネル貼り合わせ時の上下基板間ショートを抑制できる。 [0012] Thus, a counter electrode formed on the counter substrate, since the upper surface of the columnar resin pattern insulates coated to insulate and the counter electrode, the columnar resin pattern upper surface having conductivity with a conductive no resin film by coating, it is possible to suppress the upper and lower substrates between short time bonding panels.

【0013】請求項3記載の液晶表示装置は、請求項2 [0013] The liquid crystal display apparatus according to the third aspect, claim 2
において、樹脂膜がカラーフィルタパターンであり、柱状樹脂パターンの上面をカラーフィルタパターンを形成する単色あるいは複数色の膜で被覆する。 In a resin film is a color filter pattern, covering the upper surface of the columnar resin pattern in a single color or multiple colors of film to form a color filter pattern. このように、 in this way,
柱状樹脂パターンの上面をカラーフィルタパターンを形成する単色あるいは複数色の膜で被覆するので、上下基板間ショートが抑制されて、より高い表示性能を発揮できる。 Since covering the upper surface of the columnar resin pattern in a single color or multiple colors of film to form a color filter pattern, between the upper and lower substrates short is suppressed, it can exhibit a higher display performance.

【0014】請求項4記載の液晶表示装置は、請求項3 [0014] The liquid crystal display device according to claim 4, wherein the claim 3
において、(カラーフィルタパターンを形成する樹脂の体積固有抵抗)の下限値が10 8 Ω・cmである。 In a lower limit 10 8 Ω · cm (volume resistivity of the resin to form a color filter pattern). このように、(カラーフィルタパターンを形成する樹脂の体積固有抵抗)の下限値が10 Thus, the lower limit of (volume resistivity of the resin to form a color filter pattern) 10 8 Ω・cmであるので、上下基板間ショートが抑制されて、より高い表示性能を発揮できる。 Because it is 8 Ω · cm, between the upper and lower substrates short is suppressed, it can exert a higher display performance.

【0015】請求項5記載の液晶表示装置は、請求項1 [0015] The liquid crystal display device of claim 5, claim 1
において、画素電極が柱状樹脂パターンの上面に重ならず、かつ、柱状樹脂パターンの側面に重なるように形成されている。 In the pixel electrode does not overlap the upper surface of the columnar resin pattern, and is formed so as to overlap the side surface of the columnar resin pattern. このように、画素電極が柱状樹脂パターンの上面に重ならず、かつ、柱状樹脂パターンの側面に重なるように形成されるので、上下基板間ショートが抑制され、スイッチング能動素子と画素電極との導通をとることができる。 Thus, without overlapping the pixel electrodes on the upper surface of the columnar resin pattern, and, since it is formed so as to overlap the side surface of the columnar resin pattern, between the upper and lower substrates short is suppressed, conduction between the switching active element and a pixel electrode it is possible to take.

【0016】請求項6記載の液晶表示装置は、請求項1 The liquid crystal display device of claim 6, claim 1
において、(柱状樹脂パターンの底面の径、または対角長)−(柱状樹脂パターンの上面の径、または対角長) In, (diameter of the bottom surface of the columnar resin pattern or diagonal length) - (the diameter of the upper surface of the columnar resin pattern or diagonal length)
の下限値が5μmである。 The lower limit of a 5 [mu] m. このように、(柱状樹脂パターンの底面の径、または対角長)−(柱状樹脂パターンの上面の径、または対角長)の下限値が5μmであるので、スイッチング能動素子と画素電極との導通をとることができる。 Thus, (the diameter of the bottom surface of the columnar resin pattern or diagonal length,) - since the lower limit of (columnar diameter of the upper surface of the resin pattern or diagonal length,) is 5 [mu] m, the switching active element and a pixel electrode it is possible to take the conduction.

【0017】請求項7記載の液晶表示装置は、請求項1,2,3,4,5または6のいずれかにおいて、光配向により配向処理する。 The liquid crystal display device according to claim 7, wherein, in any one of claims 2, 3, 4, 5 or 6, to alignment treatment by photo-alignment. このように、光配向により配向処理する液晶表示装置に適用できる。 Thus, it can be applied to a liquid crystal display device for alignment treatment by photo-alignment.

【0018】請求項8記載の液晶表示装置の製造方法は、画素電極を駆動するためのスイッチング能動素子が形成されるTFTアレイ基板上に樹脂膜を形成し、前記樹脂膜に形成されるコンタクトホールに、前記TFTアレイ基板とこれに対向する対向基板との間にパネルギャップを形成するための柱状樹脂パターンを導電性を有する樹脂で形成した後、前記柱状樹脂パターンの上面を絶縁コートし、しかる後に前記樹脂膜上に画素電極を形成し、この画素電極と前記スイッチング能動素子を前記柱状樹脂パターンを介してコンタクトさせる。 [0018] The method according claim 8, contact holes switching active element for driving the pixel electrode a resin film is formed on the TFT array substrate which is formed, is formed on the resin film , after forming a resin having conductivity columnar resin pattern for forming a panel gap between the TFT array substrate and a counter substrate opposed thereto, and an insulating coat an upper surface of the columnar resin pattern, accordingly after the pixel electrode is formed on the resin film, thereby contact the with the pixel electrode and the switching active element through the columnar resin pattern.

【0019】このように、コンタクトホールに、パネルギャップを形成するための柱状樹脂パターンを導電性を有する樹脂で形成した後、柱状樹脂パターンの上面を絶縁コートし、しかる後に樹脂膜上に画素電極を形成し、 [0019] Thus, the contact holes, after the formation of a resin having conductivity columnar resin pattern for forming a panel gap, the upper surface of the columnar resin pattern insulated coating, the pixel electrodes on the resin film and thereafter to form,
この画素電極とスイッチング能動素子を柱状樹脂パターンを介してコンタクトさせるので、柱状樹脂パターンの剥れを防止して基板への密着度を向上できるので、画素電極とスイッチング能動素子とのコンタクト不良が低減され、同時に基板表面段差が低減し、段差起因の液晶配向乱れ防止も達成できる。 Since the the pixel electrode and the switching active element contacting through the columnar resin pattern, it is possible to improve the degree of adhesion to the substrate to prevent peeling of columnar resin pattern, contact failure reduction of the pixel electrode and the switching active element It is, at the same time the substrate surface difference is reduced, can also be achieved a liquid crystal alignment disorder prevention step caused. また、導電性を有する柱状樹脂パターン上面を導電性の無い樹脂膜で被覆することにより、パネル貼り合わせ時の上下基板間ショートを防止できる。 Further, by coating the columnar resin pattern upper surface having conductivity with a conductive without the resin film, thereby preventing the upper and lower substrates between short time bonding panels.

【0020】請求項9記載の液晶表示装置の製造方法は、画素電極を駆動するためのスイッチング能動素子が形成されるTFTアレイ基板上にカラーフィルタパターンを形成し、前記カラーフィルタパターン上に画素電極を形成するカラーフィルタオンTFTアレイ型液晶表示装置の製造方法であって、前記スイッチング能動素子と前記画素電極とのコンタクト部位に、前記TFTアレイ基板とこれに対向する対向基板との間にパネルギャップを形成するための柱状樹脂パターンを導電性を有する樹脂で形成する工程と、前記柱状樹脂パターンの上面に重なり、かつ側面に重ならないように絶縁性遮光性樹脂のマトリクスパターンを形成する工程と、前記マトリクスパターンを除く部分に着色レジスト液を供給することによりカラーフィルタ The manufacturing method of a liquid crystal display device according to claim 9, wherein the color filter pattern is formed on the TFT array substrate of the switching active element for driving the pixel electrodes are formed, the pixel electrode on the color filter pattern a method of manufacturing a color filter on TFT array type liquid crystal display device for forming the panel gap between the switching active element in the contact portion between the pixel electrode, and the TFT array substrate and a counter substrate opposed thereto a step of forming a columnar resin pattern for forming a resin having conductivity and forming a matrix pattern of the columnar overlap the upper surface of the resin pattern, and so as not to overlap the side surface insulating light shielding resin, a color filter by supplying a colored resist liquid in a portion other than the matrix pattern ターンを形成する工程と、前記カラーフィルタパターン上に画素電極を形成し、この画素電極と前記スイッチング能動素子を前記柱状樹脂パターンを介してコンタクトさせる工程とを含む。 Forming a turn, the pixel electrode is formed on the color filter pattern, and a step of contact with the pixel electrode of the switching active element through the columnar resin pattern.

【0021】このように、スイッチング能動素子のドレイン電極上にパネルギャップを制御するスペーサの役割を兼ね備えた導電性柱状樹脂パターンを形成することにより、スイッチング能動素子と画素電極の導通を確保することができる。 [0021] Thus, by forming a conductive columnar resin pattern that combines the roles of spacers for controlling the panel gap on the drain electrode of the switching active element, to ensure the continuity of the switching active element and a pixel electrode it can. さらに、隣接カラーフィルタパターン混色防止のためのマトリクスパターンを絶縁性遮光性樹脂膜で形成、かつ、この絶縁性遮光性樹脂膜パターン形状を導電性柱状樹脂パターンの上部に重なるように設計することにより、工程数の増加を伴うことなく、カラーフィルタパターンの混色防止、パネル貼り合わせ時の上下基板間ショートの防止、スイッチング能動素子の遮光保護を実現することができる。 Further, forming a matrix pattern for the adjacent color filter pattern color mixing preventing an insulative shielding resin film, and by designing so as to overlap the insulation shielding resin film pattern on top of the conductive columnar resin pattern , without increasing the number of processes can be realized preventing color mixture of the color filter pattern, preventing the panel bonding at the upper and lower substrates to short-circuit between the shielding protection switching active element. これにより、カラーフィルタオンTFTアレイ型液晶表示装置を高効率で製造することが可能である。 Thus, it is possible to produce a color filter on TFT array type liquid crystal display device with high efficiency.

【0022】請求項10記載の液晶表示装置の製造方法は、請求項9において、着色レジスト液の供給方法がシリンジによる滴下である。 The manufacturing method of a liquid crystal display device according to claim 10, in claim 9, the method of supplying the colored resist liquid is dropped by a syringe. このように、着色レジスト液の供給方法がシリンジによる滴下であるので、高効率でTFTアレイ基板上にカラーフィルタが形成できる。 Thus, the method of supplying the colored resist liquid is dropwise by syringe, the color filter may be formed on the TFT array substrate with a high efficiency.

【0023】請求項11記載の液晶表示装置の製造方法は、請求項9において、着色レジスト液の供給方法が液滴の射出である。 The manufacturing method of a liquid crystal display device according to claim 11, in claim 9, the method of supplying the colored resist liquid is ejection of a droplet. このように、着色レジスト液の供給方法が液滴の射出であるので、高効率でTFTアレイ基板上にカラーフィルタが形成できる。 Thus, the method of supplying the colored resist liquid since the injection of the droplets, the color filter may be formed on the TFT array substrate with a high efficiency. また着色レジスト液滴の射出には市販のプリンタヘッドが使用できる。 The commercial printer head on the exit of the colored resist liquid droplets can be used.

【0024】請求項12記載の液晶表示装置の製造方法は、請求項9において、(絶縁性遮光性樹脂パターンの膜厚)<(柱状樹脂パターンの膜厚み)である。 The manufacturing method of a liquid crystal display device according to claim 12, in claim 9, which is (the thickness of the insulating shielding resin pattern) <(film thickness of the columnar resin pattern). このように、(絶縁性遮光性樹脂パターンの膜厚)<(柱状樹脂パターンの膜厚み)であるので、スイッチング能動素子と画素電極とのコンタクトをとることが可能である。 Thus, it is possible to contact with (the thickness of the insulating shielding resin pattern) <are the (columnar film thickness of the resin pattern), the switching active element and a pixel electrode.

【0025】請求項13記載の液晶表示装置の製造方法は、請求項9において、絶縁性遮光性樹脂パターンがT The manufacturing method of a liquid crystal display device according to claim 13, in claim 9, insulating shielding resin pattern T
FTアレイ基板のスイッチング能動素子を被覆する。 Covering the switching active element FT array substrate. このように、絶縁性遮光性樹脂パターンがTFTアレイ基板のスイッチング能動素子を被覆するので、トランジスタの遮光保護が可能である。 Thus, since the insulating light shielding resin pattern covers the switching active element TFT array substrate, it is possible shielding protection transistor.

【0026】請求項14記載の液晶表示装置の製造方法は、請求項9において、(絶縁性遮光性樹脂パターンの体積固有抵抗)の下限値が10 8 Ω・cmである。 The manufacturing method of a liquid crystal display device according to claim 14, in claim 9, which is the lower limit is 10 8 Ω · cm (volume resistivity of the insulating light shielding resin pattern). このように、(絶縁性遮光性樹脂パターンの体積固有抵抗) Thus, (the volume resistivity of the insulating light-shielding resin pattern)
の下限値が10 8 Ω・cmであるので、電極間ショートが発生しない。 Since the lower limit of is 10 8 Ω · cm, a short circuit between electrodes does not occur.

【0027】請求項15記載の液晶表示装置の製造方法は、請求項9において、絶縁性遮光性樹脂パターンのO The manufacturing method of a liquid crystal display device according to claim 15, in claim 9, O insulative shielding resin pattern
D値が2.0以上である。 D value is 2.0 or more. このように、絶縁性遮光性樹脂パターンのOD値が2.0以上であるので、トランジスタの遮光保護が可能である。 Since the, OD value of the insulating light shielding resin pattern is 2.0 or more, it is possible shielding protection transistor. OD値は、オプティカルデンシティの略語、光学濃度とも呼称し、ブラックマトリクスなどの色の黒い部分の光の透過率を示す。 OD value is abbreviation of the optical-density, with the optical density is referred, showing transmittance of light of the color black part such as black matrix. 値が大きくなれば、光が透過しない。 The larger the value is, light is not transmitted.

【0028】請求項16記載の液晶表示装置の製造方法は、請求項9において、画素電極が柱状樹脂パターン上面に重ならず、かつ、柱状樹脂パターンの側面に重なるように形成される。 The manufacturing method of a liquid crystal display device of claim 16, in claim 9, the pixel electrodes do not overlap the columnar resin pattern top, and are formed so as to overlap the side surface of the columnar resin pattern. このように、画素電極が柱状樹脂パターン上面に重ならず、かつ、柱状樹脂パターンの側面に重なるように形成されるので、対向基板間ショートが発生しない。 Thus, the pixel electrodes do not overlap the columnar resin pattern top, and because it is formed so as to overlap the side surface of the columnar resin pattern, a short is not generated between the counter substrate.

【0029】請求項17記載の画像表示応用機器は、請求項1,2,3,4,5,6または7のいずれかに記載の液晶表示装置を有する。 The image display application equipment according to claim 17, having a liquid crystal display device according to claim 3, 4, 5, 6 or 7. このように、上記構成の液晶表示装置を有するので、高輝度、高精細、表示むらが皆無の高品位液晶パネルが求められる画像表示応用機器に最適である。 Thus, because it has a liquid crystal display device having the above structure, it is ideal for high brightness, high-definition image display application apparatus to which the display unevenness is required high grade liquid crystal panel none.

【0030】 [0030]

【発明の実施の形態】この発明の第1の実施の形態を図1および図2に基づいて説明する。 DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION be described with reference to the first embodiment of the present invention in FIGS. 図1はこの発明の第1の実施の形態の液晶表示装置の断面図である。 Figure 1 is a cross-sectional view of a liquid crystal display device of the first embodiment of the present invention.

【0031】図1に示すように、この液晶表示装置は、 As shown in FIG. 1, the liquid crystal display device,
画素電極を駆動するためのスイッチング能動素子4が形成され、カラーフィルタパターン(樹脂膜)5、ブラックマトリクス6を形成したカラーフィルタオンアレイ基板13と対向基板14を配向処理し、一定の密度で配置される柱状樹脂パターン17によりセルギャップを制御し、シール剤9により前記配向処理を施して2枚の基板を接着し、かつ、シール剤9により液晶8を封止した構造からなっている。 Switching active elements 4 for driving the pixel electrodes are formed, a color filter pattern (resin film) 5, a color filter on array substrate 13 and the counter substrate 14 formed with the black matrix 6 and the alignment treatment, arranged at a constant density controlling a cell gap by the columnar resin pattern 17 which is, by the sealant 9 is subjected to the alignment treatment to adhere the two substrates, and has a liquid crystal 8 from sealed structure by sealant 9.

【0032】また、カラーフィルタパターン5に形成されるコンタクトホール12を介し、スイッチング能動素子4と、カラーフィルタパターン5上に配置される画素電極(透明電極2)とをコンタクトさせる。 Further, through the contact hole 12 formed on the color filter pattern 5, a switching active element 4, the pixel electrode (transparent electrode 2) disposed on the color filter pattern 5 and is allowed to contact. コンタクトホール12には、TFTアレイ基板13とこれに対向する対向基板14との間のパネルギャップを形成するための柱状樹脂パターン17を導電性を有する樹脂で形成するとともに、柱状樹脂パターン17の上面を絶縁コートし、画素電極を柱状樹脂パターン17に接するように形成する。 In the contact holes 12, thereby forming a columnar resin pattern 17 for forming the panel gap between the counter substrate 14 opposed thereto and the TFT array substrate 13 with a resin having conductivity, the upper surface of the columnar resin pattern 17 insulated coated, it is formed in contact with the pixel electrode in a columnar resin pattern 17. この場合、柱状樹脂パターン17はコンタクトホール12上に形成され、上面にはカラーフィルタパターン5を形成する単色あるいは複数色の膜が形成されている。 In this case, the columnar resin pattern 17 is formed on the contact hole 12, a single color or plural colors of film to form a color filter pattern 5 is formed on the upper surface. 図中の2,2'は透明電極であり、一部が柱状樹脂パターン17の側面に重なるように形成されている。 2,2 'in the drawing is a transparent electrode, part of which is formed so as to overlap the side surface of the columnar resin pattern 17.
1,1'はガラス基板、3,3'は配向膜である。 1, 1 'is a glass substrate, 3, 3' is an orientation film.

【0033】また、(カラーフィルタパターンを形成する樹脂の体積固有抵抗)≧10 8 Ω・cmであり、(柱状樹脂パターンの底面の径、または対角長)−(柱状樹脂パターンの上面の径、または対角長)≧5μmである。 Further, a (volume of the resin to form a color filter pattern resistivity) ≧ 10 8 Ω · cm, ( diameter of the bottom surface of the columnar resin pattern or diagonal length) - (the diameter of the upper surface of the columnar resin pattern or a diagonal length) ≧ 5 [mu] m. 柱状樹脂パターン17の底面とはコンタクトホール12上の円錐台または角錐台の底面を示す。 The bottom surface of the columnar resin pattern 17 shows a truncated cone or truncated pyramidal bottom on the contact hole 12.

【0034】次に液晶表示装置の製造方法について説明する。 [0034] Next a method for manufacturing the liquid crystal display device. TFTアレイ基板13上にカラーフィルタパターン5を形成し、カラーフィルタパターン5に形成されたコンタクトホール12に、柱状樹脂パターン17を導電性を有する樹脂で形成した後、柱状樹脂パターン17の上面を絶縁コートし、しかる後にカラーフィルタパターン5上に画素電極2を形成し、この画素電極2とスイッチング能動素子4を柱状樹脂パターン17を介してコンタクトさせる。 To form a color filter pattern 5 on the TFT array substrate 13, the contact hole 12 formed on the color filter pattern 5, after forming a resin having conductivity columnar resin pattern 17, insulating the upper surface of the columnar resin pattern 17 coated, whereafter the pixel electrode 2 formed on the color filter pattern 5, thereby contact the pixel electrode 2 and the switching active element 4 through the columnar resin pattern 17.

【0035】ここで、(柱状樹脂パターン下底)−(上底)が5μm以上とする根拠を説明する。 [0035] Here, (columnar resin pattern under the bottom) - explain the basis for the (upper base) is 5μm or more. 図2(a)は柱状樹脂パターンの平面図、(b)はその断面図である。 2 (a) is a plan view of the columnar resin pattern, (b) is a sectional view thereof. (柱状樹脂パターン下底)−(上底)が5μm以下の場合、ITOパターン形成時の位置ずれにより、画素電極2が柱状樹脂パターン17の上面に重ならず、かつ、柱状樹脂パターン17の側面に重なるように形成することが、位置ずれに対応するマージン(幅)をもたせる必要から不可能であるため、5μm以上とした。 (Columnar resin pattern under the bottom) - If (the upper base) is 5μm or less, the positional deviation at the time of ITO patterning, the pixel electrode 2 do not overlap the upper surface of the columnar resin pattern 17, and the side surface of the columnar resin pattern 17 be formed to overlap it is because it is impossible from the need to have a margin (width) corresponding to the displacement, and a 5μm or more. すなわち、膜形成プロセス手順は、柱状樹脂パターン(導電性)17の形成し、カラーフィルタパターン(絶縁コート)の形成し、透明電極パターンを形成する。 That is, film formation process steps, the formed columnar resin pattern (conductive) 17, the formation of the color filter pattern (insulating coating), and to form a transparent electrode pattern. また、画素電極パターンの設計条件は、TFTとの導通を確保するため柱状樹脂パターン17の側面と接すること、パネル形成時の対向電極とのショートを防止するため、柱状樹脂パターン17上面をカバーするカラーフィルタパターン(絶縁コート)と重ならないこと。 Further, the design conditions of the pixel electrode pattern is in contact with the side surface of the columnar resin pattern 17 for ensuring the continuity of the TFT, in order to prevent short-circuiting between the counter electrode at the time of panel formation, covering columnar resin pattern 17 top the color filter pattern (an insulating coat) does not overlap it.

【0036】したがって、(柱状樹脂パターンの底面の径、または対角長)−(柱状樹脂パターンの上面の径、 [0036] Thus, (diameter of the bottom surface of the columnar resin pattern or diagonal length) - (the diameter of the upper surface of the columnar resin pattern,
または対角長)≧5μmの根拠は、ITOパターン形成時の位置精度は設計値に対し±1μm(ITOパタニング精度の限界)。 Or evidence of diagonal length) ≧ 5 [mu] m is, ITO pattern positional accuracy of the formation at the time of ± 1 [mu] m to the design value (the limit of ITO patterning accuracy). 設計パターンに対し、±2μmの位置合わせマージンが必要、よって柱状樹脂パターン17の下底−上底の差が5μm無ければITOパターン設計が不可能である。 To design pattern requires alignment margin of ± 2 [mu] m, thus the lower base of the columnar resin pattern 17 - a difference of the upper base is unable ITO pattern design Without 5 [mu] m.

【0037】この発明の第2の実施の形態を図3および図4に基づいて説明する。 [0037] will be described with reference to the second embodiment of the present invention in FIGS. 図3はこの発明の第2の実施の形態による液晶表示装置の一例の構造を示す断面図である、この実施の形態の液晶表示装置はTFTアレイ基板上にカラーフィルタパターン5、ブラックマトリクス6を形成するカラーフィルタオンアレイ基板13と対向基板14を配向処理し、一定の密度で配置した柱状樹脂パターン17によりセルギャップを制御し、シール剤9 Figure 3 is a sectional view showing an example of a structure of a liquid crystal display device according to a second embodiment of the present invention, a color filter pattern 5 on the liquid crystal display device is a TFT array substrate of this embodiment, a black matrix 6 a color filter on array substrate 13 and the counter substrate 14 to form alignment treatment, to control the cell gap by the columnar resin pattern 17 arranged at a constant density, the sealant 9
により前記配向処理を施して2枚の基板を接着し、かつ、シール剤9により液晶8を封止する構造からなっている。 The is subjected to alignment treatment to adhere the two substrates, and has a structure for sealing the liquid crystal 8 with sealant 9 by. パターン17はドレイン電極12上に形成され、 Pattern 17 is formed on the drain electrode 12,
上面にはブラックマトリクスパターン6が形成される。 The upper surface the black matrix pattern 6 is formed.
図中2,2'は透明電極であり、柱状樹脂パターン17 Figure 2, 2 'is a transparent electrode, the columnar resin pattern 17
側面に重なるように形成される。 It is formed so as to overlap the side surface.

【0038】図4はこの発明の第2の実施の形態に基づく液晶表示装置の製造方法を示す工程図である。 [0038] FIG. 4 is a process diagram showing a manufacturing method of a liquid crystal display device according to a second embodiment of the present invention. まず、 First of all,
TFT基板15のドレイン電極上に導電性柱状樹脂パターン17を形成(図4(a))。 Forming a conductive columnar resin pattern 17 on the drain electrode of the TFT substrate 15 (Figure 4 (a)). 引き続いて、ブラックマトリクスパターン6を形成する、この際、パターン6 Subsequently, to form a black matrix pattern 6, this time, the pattern 6
の一部が柱状樹脂パターン17上面に重なるようにする(図4(b))。 Some of to overlap the columnar resin pattern 17 top (Figure 4 (b)). さらに、シリンジ18等の手法により、ブラックマトリクス6に囲まれた凹部に着色レジスト液16を供給し、カラーフィルタパターン5を形成する(図4(c))。 Furthermore, by a technique such as a syringe 18, and supplies the color resist liquid 16 into the recess surrounded by the black matrix 6, to form a color filter pattern 5 (FIG. 4 (c)). しかる後に、透明電極パターン(画素電極)2を、柱状樹脂パターン17の上面に重ならず、かつ、柱状樹脂パターン17の側面に重なるように形成する(図4(d))ことによりカラーフィルタオンアレイ基板を得る。 Thereafter, the transparent electrode pattern (pixel electrode) 2, do not overlap the upper surface of the columnar resin pattern 17, and formed so as to overlap the side surface of the columnar resin pattern 17 (FIG. 4 (d)) color filter on by obtaining an array substrate.

【0039】近年、液晶パネルのコスト削減を目的として、マトリクスパターンにより囲まれた凹部内に、微細な内径を持つシリンジにより着色レジスト液を滴下する手法、あるいは前記凹部内に着色レジスト液の微細液滴を射出する手法によりカラーフィルタを形成する取り組みが注目を集めている。 [0039] In recent years, for the purpose of cost reduction of the liquid crystal panel, surrounded by the recess by a matrix pattern, method dropping a colored resist solution by a syringe having a fine inner diameter, or fine liquid coloring resist solution in the recess efforts to form a color filter has attracted attention by a method which ejects a drop.

【0040】しかしながら、上記手法でカラーフィルタオンTFTアレイ液晶パネルを形成する際、スイッチング能動素子と画素電極の導通をとるためのコンタクトホールの形成が困難であるという課題があった。 [0040] However, when forming a color filter on TFT array liquid crystal panel in the above method has a problem that formation of a contact hole for making conduction of the switching active element and the pixel electrode is difficult.

【0041】この実施の形態のように、スイッチング能動素子4のドレイン電極12上にパネルギャップを制御するスペーサの役割を兼ね備えた導電性柱状樹脂パターン17を形成することにより、コンタクトホールを形成しなくてもスイッチング能動素子4と画素電極2の導通を確保することができる。 [0041] As in this embodiment, by forming a conductive columnar resin pattern 17 combines the role of a spacer for controlling the panel gap on the drain electrode 12 of the switching active element 4, without forming a contact hole even it is possible to secure conduction of the switching active element 4 and the pixel electrode 2. さらに、隣接カラーフィルタパターン混色防止のためのマトリクスパターン6を絶縁性遮光性樹脂膜で形成、かつ、この絶縁性遮光性樹脂膜パターン形状を導電性柱状樹脂パターン17の上部に重なるように設計することにより、工程数の増加を伴うことなく、カラーフィルタパターンの混色防止、パネル貼り合わせ時の上下基板間ショートの防止、スイッチング能動素子4の遮光保護を実現することができる。 Furthermore, it forms a matrix pattern 6 for adjacent color filter pattern color mixing preventing an insulative shielding resin film, and is designed to overlap the insulation shielding resin film pattern on top of the conductive columnar resin pattern 17 it makes without increasing the number of processes can be realized preventing color mixture of the color filter pattern, preventing the panel bonding at the upper and lower substrates to short-circuit between the shielding protection switching active element 4. これにより、カラーフィルタオンTFTアレイ型液晶表示装置を高効率で製造することが可能である。 Thus, it is possible to produce a color filter on TFT array type liquid crystal display device with high efficiency.

【0042】 [0042]

【実施例】この発明の実施例1について説明する。 EXAMPLES be described first embodiment of the present invention. TF TF
Tアレイ基板上に、パネルギャップ形成のための導電性柱状樹脂(NN700、JSR(株)製に導電性銀フィラーを添加)パターンを、コンタクトホール部位に形成する。 The T array substrate, a conductive columnar resin (NN700, JSR (Co.) adding a conductive silver filler manufactured) pattern for the panel gap formation, formed in the contact hole portion. この際、(柱状樹脂パターン底面の対角長)− At this time, (the diagonal length of the columnar resin pattern bottom) -
(柱状樹脂パターン上面の対角長)=5μmになるようにパターンを設計する。 Designing the pattern to be (columnar diagonal length of the resin pattern top) = 5 [mu] m. 次に、黒色感光性樹脂(CK− Then, the black photosensitive resin (CK-
S699B、富士フィルムオーリン(株)製、体積固有抵抗1.0 ×10 14 Ω・cm)を用いブラックマトリクスを形成する。 S699B, Fuji Film Olin Co., to form a black matrix using a volume resistivity 1.0 × 10 14 Ω · cm) . 次に、カラーレジスト(CM7000、富士フィルムオーリン(株)製、体積固有抵抗1.0 ×10 14 Ω Next, a color resist (CM7000, Fuji Film Olin Co., volume resistivity 1.0 × 10 14 Ω
・cm)をスピンコート法で塗布し、露光、現像する事により、カラーフィルタパターンを形成、この際、カラーフィルタの青パターンが柱状樹脂パターン上面に重なるように設計する。 · Cm) was applied by spin coating, exposed and developed, forming a color filter pattern, this time, the blue color filter pattern is designed to overlap the columnar resin pattern top. さらに、画素ITO電極パターンを前記柱状樹脂パターン上面に重ならないように蒸着により形成する。 Further, formed by vapor deposition so as not to overlap the pixel ITO electrode pattern on the columnar resin pattern top. 前記基板に、さらに配向膜パターンを形成、ラビングによる配向処理を施した後、同様に配向処理を施した対向基板とをシール樹脂を介し張り合わせ、 Said substrate further form an alignment film pattern, after having been subjected to alignment treatment by rubbing, bonded through a sealing resin and a counter substrate subjected to orientation treatment in the same manner,
空セルを形成する。 To form an empty cell. 空セルに真空注入法により液晶注入後、封口を行ない液晶パネルを作製する。 After the liquid crystal injection by a vacuum injection method to the empty cell, to produce a liquid crystal panel performs sealing. この液晶パネルの表示品を目視評価する。 The display quality of the liquid crystal panel to visually evaluated. 輝点、むらのない良好な表示品位である。 Bright spots, is a good display quality without unevenness.

【0043】この発明の実施例2について説明する。 The described second embodiment of the present invention. T
FTアレイ基板上に、パネルギャップ形成のための導電性柱状樹脂(NN700、JSR(株)製に導電性銀フィラーを添加)パターンを、コンタクトホール部位に形成する。 The FT array substrate, a conductive columnar resin (NN700, JSR (Co.) adding a conductive silver filler manufactured) pattern for the panel gap formation, formed in the contact hole portion. この際、(柱状樹脂パターン底面の対角長)− At this time, (the diagonal length of the columnar resin pattern bottom) -
(柱状樹脂パターン上面の対角長)=5μmになるようにパターンを設計する。 Designing the pattern to be (columnar diagonal length of the resin pattern top) = 5 [mu] m. 次に、黒色感光性樹脂(CFP Then, the black photosensitive resin (CFP
R−708S、東京応化(株)製、体積固有抵抗1.0 × R-708S, Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd., volume resistivity 1.0 ×
10 8 Ω・cm)を用いブラックマトリクスを形成する。 10 8 Ω · cm) to form a black matrix used.
この際、ブラックマトリクスパターンが柱状樹脂パターン上面に重なるように設計する。 In this case, the black matrix pattern is designed to overlap the columnar resin pattern top. カラーレジスト(CM Color resist (CM
7000、富士フィルムオーリン(株)製、体積固有抵抗1.0 ×10 14 Ω・cm)をスピンコート法で塗布し、露光、現像する事により、カラーフィルタパターンを形成、さらに、画素ITO電極パターンを前記柱状樹脂パターン上面に重ならないように蒸着により形成する。 7000, Fuji Film Olin Co., volume resistivity 1.0 × 10 14 Ω · cm) was applied by spin coating, exposed and developed, forming a color filter pattern, further, the pixel ITO electrode pattern formed by vapor deposition so as not to overlap the columnar resin pattern top. 前記基板に、さらに配向膜パターンを形成、ラビングによる配向処理を施して後、同様に配向処理を施した対向基板とをシール樹脂を介し張り合わせ、空セルを形成する。 It said substrate further form an alignment film pattern, later subjected to an alignment treatment by rubbing, bonded through a sealing resin and a counter substrate subjected to orientation treatment in the same manner, to form an empty cell. 空セルに真空注入法により液晶注入後、封口を行ない液晶パネルを作製する。 After the liquid crystal injection by a vacuum injection method to the empty cell, to produce a liquid crystal panel performs sealing. この液晶パネルの表示性能を目視評価する。 The display performance of the liquid crystal panel to visually evaluated. 輝点、むらのない良好な表示品位である。 Bright spots, is a good display quality without unevenness.

【0044】この発明の実施例3について説明する。 [0044] will be described a third embodiment of the present invention. T
FTアレイ基板上に、パネルギャップ形成のための導電性柱状樹脂(NN700、JSR(株)製に導電性銀フィラーを添加)パターンを、ドレイン電極上に5μmの膜厚で形成する。 The FT array substrate, a conductive columnar resin (NN700, JSR (Co.) adding a conductive silver filler manufactured) pattern for panel gap formed, and a film thickness of 5μm on the drain electrode. 次に、黒色感光性樹脂(CK−S69 Then, the black photosensitive resin (CK-S69
9B、富士フィルムオーリン(株)製、体積固有抵抗1. 9B, Fuji Film Olin Co., Ltd., volume resistivity 1.
0 ×10 14 Ω・cm)を用い厚さ1.0μm、OD3.0 0 × 10 14 Ω · cm) thickness 1.0μm using, OD3.0
のブラックマトリクスを形成する。 To form a black matrix. この際、ブラックマトリクスパターンを、先に形成される柱状樹脂パターンの上面に重なり、かつ柱状樹脂パターンの側面にかからないようにパターン設計する。 In this case, the black matrix pattern, overlaps the upper surface of the columnar resin pattern formed above and pattern designed so as not to the side of the columnar resin pattern. 次に、前記ブラックマトリクスで囲まれた凹部にカラーレジスト(CM700 Next, a color resist in a recess surrounded by the black matrix (CM700
0、富士フィルムオーリン(株)製、体積固有抵抗1.0 0, Fuji Film Olin Co., Ltd., volume resistivity 1.0
×10 14 Ω・cm)をシリンジで滴下し、厚さ1μmのカラーフィルタパターンを形成する。 × a 10 14 Ω · cm) was added dropwise via syringe, to form a color filter pattern having a thickness of 1 [mu] m. さらに、画素ITO Furthermore, the pixel ITO
電極パターンを前記柱状樹脂パターン上面に重ならないように、かつ側面に重なるように蒸着により形成する。 So as not to overlap the electrode pattern on the columnar resin pattern top, and is formed by vapor deposition so as to overlap the side surface.
前記基板に、さらに配向膜パターンを形成、ラビングによる配向処理を施して後、同様に配向処理を施した対向基板とをシール樹脂を介し張り合わせ、空セルを形成する。 It said substrate further form an alignment film pattern, later subjected to an alignment treatment by rubbing, bonded through a sealing resin and a counter substrate subjected to orientation treatment in the same manner, to form an empty cell. 空セルに真空注入法により液晶注入後、封口を行ない液晶パネルを作製する。 After the liquid crystal injection by a vacuum injection method to the empty cell, to produce a liquid crystal panel performs sealing. この液晶パネルの表示品位を目視評価する。 The display quality of the liquid crystal panel to visually evaluated. 良好な表示品位である。 It is a good display quality.

【0045】この発明の実施例4について説明する。 [0045] will be described a fourth embodiment of the present invention. T
FTアレイ基板上に、パネルギャップ形成のための導電性柱状樹脂(NN700、JSR(株)製に導電性銀フィラーを添加)パターンを、ドレイン電極上に5.3μ 5.3μ in FT array substrate, a conductive columnar resin (NN700, JSR (Co.) adding a conductive silver filler manufactured) pattern for panel gap formed, on the drain electrode
mの膜厚で形成する。 It is formed in a thickness of m. 次に、黒色感光性樹脂(CK−S Then, the black photosensitive resin (CK-S
699B、富士フィルムオーリン(株)製、体積固有抵抗1.0 ×10 14 Ω・cm)を用い厚さ0.7μm、OD 699B, Fuji Film Olin Co., volume resistivity 1.0 × 10 14 Ω · cm) thickness 0.7μm using, OD
2.0のブラックマトリクスを形成する。 To form a 2.0 of a black matrix. この際、ブラックマトリクスパターンを、先に形成する柱状樹脂パターンの上面に重なり、かつ柱状樹脂パターンの側面にかからないようにパターン設計する。 In this case, the black matrix pattern, overlaps the upper surface of the columnar resin pattern formed above and pattern designed so as not to the side of the columnar resin pattern. 次に、前記ブラックマトリクスで囲まれた凹部にカラーレジスト(CM70 Next, a color resist in a recess surrounded by the black matrix (CM70
00、富士フィルムオーリン(株)製、体積固有抵抗1. 00, Fuji Film Olin Co., Ltd., volume resistivity 1.
0 ×10 14 Ω・cm)をシリンジで滴下し、厚さ1μmのカラーフィルタパターンを形成する。 0 × 10 14 Ω · cm) was added dropwise via syringe, to form a color filter pattern having a thickness of 1 [mu] m. さらに、画素IT In addition, the pixel IT
O電極パターンを前記柱状樹脂パターン上面に重ならないように、かつ側面に重なるように蒸着により形成する。 The O electrode pattern so as not to overlap in the columnar resin pattern top, and is formed by vapor deposition so as to overlap the side surface. 前記基板に、さらに配向膜パターンを形成、ラビングによる配向処理を施して後、同様に配向処理を施した対向基板とをシール樹脂を介し張り合わせ、空セルを形成する。 It said substrate further form an alignment film pattern, later subjected to an alignment treatment by rubbing, bonded through a sealing resin and a counter substrate subjected to orientation treatment in the same manner, to form an empty cell. 空セルに真空注入法により液晶注入後、封口を行ない液晶パネルを作製する。 After the liquid crystal injection by a vacuum injection method to the empty cell, to produce a liquid crystal panel performs sealing. この液晶パネルの表示品位を目視評価する。 The display quality of the liquid crystal panel to visually evaluated. 良好な表示品位ができる。 It is a good display quality.

【0046】この発明の実施例5について説明する。 [0046] will be described a fifth embodiment of the present invention. T
FTアレイ基板上に、パネルギャップ形成のための導電性柱状樹脂(NN700、JSR(株)製に導電性銀フィラーを添加)パターンを、ドレイン電極上に5.0μ 5.0μ in FT array substrate, a conductive columnar resin (NN700, JSR (Co.) adding a conductive silver filler manufactured) pattern for panel gap formed, on the drain electrode
mの膜厚で形成する。 It is formed in a thickness of m. 次に、黒色感光性樹脂(CFPR Then, the black photosensitive resin (CFPR
−708S、東京応化(株)製、体積固有抵抗1.0 ×10 -708S, Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd., volume resistivity 1.0 × 10
8 Ω・cm)を用い厚さ1.0μm、OD3.0のブラックマトリクスを形成する。 8 Ω · cm) thickness 1.0μm using, to form a black matrix OD3.0. この際、ブラックマトリクスパターンを、先に形成する柱状樹脂パターンの上面に重なり、かつ柱状樹脂パターンの側面にかからないようにパターン設計する。 In this case, the black matrix pattern, overlaps the upper surface of the columnar resin pattern formed above and pattern designed so as not to the side of the columnar resin pattern. 次に、前記ブラックマトリクスで囲まれた凹部にカラーレジスト(CM7000、富士フィルムオーリン(株)製、体積固有抵抗1.0 ×10 14 Ω・ Next, a color resist (CM7000 in a recess surrounded by the black matrix, Fuji Film Olin Co., volume resistivity 1.0 × 10 14 Ω ·
cm)をシリンジで滴下し、厚さ1.0μmのカラーフィルタパターンを形成する。 The cm) was added dropwise via syringe, to form a color filter pattern having a thickness of 1.0 .mu.m. さらに、画素ITO電極パターンを前記柱状樹脂パターン上面に重ならないように、かつ側面に重なるように蒸着により形成する。 Furthermore, so as not to overlap the pixel ITO electrode pattern on the columnar resin pattern top, and is formed by vapor deposition so as to overlap the side surface. 前記基板に、さらに配向膜パターンを形成、ラビングによる配向処理を施して後、同様に配向処理を施す対向基板とをシール樹脂を介し張り合わせ、空セルを形成する。 It said substrate further form an alignment film pattern, later subjected to an alignment treatment by rubbing, bonded through a sealing resin and a counter substrate subjected to orientation treatment in the same manner, to form an empty cell. 空セルに真空注入法により液晶注入後、封口を行ない液晶パネルを作製する。 After the liquid crystal injection by a vacuum injection method to the empty cell, to produce a liquid crystal panel performs sealing. この液晶パネルの表示品位を目視評価する。 The display quality of the liquid crystal panel to visually evaluated. 良好な表示品位である。 It is a good display quality.

【0047】この発明の実施例6について説明する。 [0047] will be described a sixth embodiment of the present invention. T
FTアレイ基板上に、パネルギャップ形成のための導電性柱状樹脂(NN700、JSR(株)製に導電性銀フィラーを添加)パターンを、ドレイン電極上に5μmの膜厚で形成する。 The FT array substrate, a conductive columnar resin (NN700, JSR (Co.) adding a conductive silver filler manufactured) pattern for panel gap formed, and a film thickness of 5μm on the drain electrode. 次に、黒色感光性樹脂(CK−S69 Then, the black photosensitive resin (CK-S69
9B、富士フィルムオーリン(株)製、体積固有抵抗1. 9B, Fuji Film Olin Co., Ltd., volume resistivity 1.
0 ×10 14 Ω・cm)を用い厚さ1.0μm、OD3.0 0 × 10 14 Ω · cm) thickness 1.0μm using, OD3.0
のブラックマトリクスを形成する。 To form a black matrix. この際、ブラックマトリクスパターンを、先に形成する柱状樹脂パターンの上面に重なり、かつ柱状樹脂パターンの側面にかからないようにパターン設計する。 In this case, the black matrix pattern, overlaps the upper surface of the columnar resin pattern formed above and pattern designed so as not to the side of the columnar resin pattern. 次に、前記ブラックマトリクスで囲まれた凹部にカラーレジスト(CM7000、 Next, a color resist (CM7000 in a recess surrounded by the black matrix,
富士フィルムオーリン(株)製、体積固有抵抗1.0 ×10 Fuji Film Olin Co., volume resistivity 1.0 × 10
14 Ω・cm)を市販のプリンタヘッドを利用し射出し、 The 14 Ω · cm) using a commercial printer head by injection,
厚さ1μmのカラーフィルタパターンを形成する。 To form a color filter pattern having a thickness of 1 [mu] m. さらに、画素ITO電極パターンを前記柱状樹脂パターン上面に重ならないように、かつ側面に重なるように蒸着により形成する。 Furthermore, so as not to overlap the pixel ITO electrode pattern on the columnar resin pattern top, and is formed by vapor deposition so as to overlap the side surface. 前記基板に、さらに配向膜パターンを形成、ラビングによる配向処理を施して後、同様に配向処理を施す対向基板とをシール樹脂を介し張り合わせ、空セルを形成する。 It said substrate further form an alignment film pattern, later subjected to an alignment treatment by rubbing, bonded through a sealing resin and a counter substrate subjected to orientation treatment in the same manner, to form an empty cell. 空セルに真空注入法により液晶注入後、封口を行ない液晶パネルを作製する。 After the liquid crystal injection by a vacuum injection method to the empty cell, to produce a liquid crystal panel performs sealing. 作製した液晶パネルの表示品位を目視評価する。 The display quality of the liquid crystal panel manufactured visually evaluated. 良好な表示品位である。 It is a good display quality.

【0048】比較例1について説明する。 [0048] Comparative Example 1 will be described. TFTアレイ基板上に、パネルギャップ形成のための導電性柱状樹脂(NN700、JSR(株)製に導電性銀フィラーを添加)パターンを、コンタクトホール部位に形成する。 The TFT array substrate, a conductive columnar resin (NN700, JSR (Co.) adding a conductive silver filler manufactured) pattern for the panel gap formation, formed in the contact hole portion. この際、(柱状樹脂パターン底面の対角長)−(柱状樹脂パターン上面の対角長)=5μmになるようにパターンを設計する。 At this time, (the diagonal length of the columnar resin pattern bottom) - designing the pattern to be (columnar diagonal length of the resin pattern top) = 5 [mu] m. 次に、黒色感光性樹脂(CK−S171 Then, the black photosensitive resin (CK-S171
C、富士フィルムオーリン(株)製、体積固有抵抗1.0 C, Fuji Film Olin Co., volume resistivity 1.0
×10 7 Ω・cm)を用いブラックマトリクスを形成する。 × 10 7 Ω · cm) to form a black matrix used. この際、ブラックマトリクスパターンが柱状樹脂パターン上面に重なるように設計する。 In this case, the black matrix pattern is designed to overlap the columnar resin pattern top. カラーレジスト(CM7000、富士フィルムオーリン(株)製、体積固有抵抗1.0 ×10 14 Ω・cm)をスピンコート法で塗布し、露光、現像する事により、カラーフィルタパターンを形成、さらに、画素ITO電極パターンを前記柱状樹脂パターン上面に重ならないように蒸着により形成する。 Color resist (CM7000, Fuji Film Olin Co., volume resistivity 1.0 × 10 14 Ω · cm) was applied by spin coating, exposed and developed, forming a color filter pattern, further, the pixel ITO electrodes the pattern is formed by evaporation so as not to overlap with the columnar resin pattern top. 前記基板に、さらに配向膜パターンを形成、ラビングによる配向処理を施して後、同様に配向処理を施す対向基板とをシール樹脂を介し張り合わせ、空セルを形成する。 It said substrate further form an alignment film pattern, later subjected to an alignment treatment by rubbing, bonded through a sealing resin and a counter substrate subjected to orientation treatment in the same manner, to form an empty cell. 空セルに真空注入法により液晶注入後、封口を行ない液晶パネルを作製する。 After the liquid crystal injection by a vacuum injection method to the empty cell, to produce a liquid crystal panel performs sealing. この液晶パネルの表示性能を目視評価する。 The display performance of the liquid crystal panel to visually evaluated. 上下基板間ショートに起因する光漏れが発生し、表示むらが見られる。 Light leakage due to between the upper and lower substrates short occurs, display unevenness can be seen.

【0049】比較例2について説明する。 [0049] Comparative Example 2 will be described. TFTアレイ基板上に、パネルギャップ形成のための導電性柱状樹脂(NN700、JSR(株)製に導電性銀フィラーを添加)パターンを、コンタクトホール部位に形成する。 The TFT array substrate, a conductive columnar resin (NN700, JSR (Co.) adding a conductive silver filler manufactured) pattern for the panel gap formation, formed in the contact hole portion. この際、(柱状樹脂パターン底面の対角長)−(柱状樹脂パターン上面の対角長)=4μmになるようにパターンを設計する。 At this time, (the diagonal length of the columnar resin pattern bottom) - designing the pattern to be (columnar diagonal length of the resin pattern top) = 4 [mu] m. 次に、黒色感光性樹脂(CK−S699 Then, the black photosensitive resin (CK-S699
B、富士フィルムオーリン(株)製、体積固有抵抗1.0 B, Fuji Film Olin Co., volume resistivity 1.0
×10 14 Ω・cm)を用いブラックマトリクスを形成する。 × 10 14 Ω · cm) to form a black matrix used. 次に、カラーレジスト(CM7000、富士フィルムオーリン(株)製、体積固有抵抗1.0 ×10 14 Ω・c Next, a color resist (CM7000, Fuji Film Olin Co., volume resistivity 1.0 × 10 14 Ω · c
m)をスピンコート法で塗布し、露光、現像する事により、カラーフィルタパターンを形成、この際、カラーフィルタの青パターンが柱状樹脂パターン上面に重なるように設計する。 The m) was applied by spin coating, exposed and developed, forming a color filter pattern, this time, the blue color filter pattern is designed to overlap the columnar resin pattern top. さらに、画素ITO電極パターンを前記柱状樹脂パターン上面に重ならないように蒸着により形成する。 Further, formed by vapor deposition so as not to overlap the pixel ITO electrode pattern on the columnar resin pattern top. 前記基板に、さらに配向膜パターンを形成、ラビングによる配向処理を施して後、同様に配向処理を施す対向基板とをシール樹脂を介し張り合わせ、空セルを形成する。 It said substrate further form an alignment film pattern, later subjected to an alignment treatment by rubbing, bonded through a sealing resin and a counter substrate subjected to orientation treatment in the same manner, to form an empty cell. 空セルに真空注入法により液晶注入後、封口を行ない液晶パネルを作製する。 After the liquid crystal injection by a vacuum injection method to the empty cell, to produce a liquid crystal panel performs sealing. この液晶パネルの表示性能を目視評価する。 The display performance of the liquid crystal panel to visually evaluated. 画素電極コンタクト不良による輝点が多数発生確認できる。 Bright point by the pixel electrode contact failure number generator can be confirmed.

【0050】比較例3について説明する。 [0050] Comparative Example 3 will be described. TFTアレイ基板上に、パネルギャップ形成のための導電性柱状樹脂(NN700、JSR(株)製に導電性銀フィラーを添加)パターンを、コンタクトホール部位に形成する。 The TFT array substrate, a conductive columnar resin (NN700, JSR (Co.) adding a conductive silver filler manufactured) pattern for the panel gap formation, formed in the contact hole portion. この際、(柱状樹脂パターン底面の対角長)−(柱状樹脂パターン上面の対角長)=5μmになるようにパターンを設計する。 At this time, (the diagonal length of the columnar resin pattern bottom) - designing the pattern to be (columnar diagonal length of the resin pattern top) = 5 [mu] m. 次に、黒色感光性樹脂(CK−S699 Then, the black photosensitive resin (CK-S699
B、富士フィルムオーリン(株)製、体積固有抵抗1.0 B, Fuji Film Olin Co., volume resistivity 1.0
×10 14 Ω・cm)を用いブラックマトリクスを形成する。 × 10 14 Ω · cm) to form a black matrix used. 次に、カラーレジスト(CM7000、富士フィルムオーリン(株)製、体積固有抵抗1.0 ×10 14 Ω・c Next, a color resist (CM7000, Fuji Film Olin Co., volume resistivity 1.0 × 10 14 Ω · c
m)をスピンコート法で塗布し、露光、現像する事により、カラーフィルタパターンを形成、この際、ブラックマトリクスおよびカラーフィルタパターンが柱状樹脂パターン上面に重ならないように設計する。 The m) was applied by spin coating, exposed and developed, forming a color filter pattern, this time, a black matrix and a color filter pattern is designed so as not to overlap the columnar resin pattern top. さらに、画素ITO電極パターンを前記柱状樹脂パターン上面に重ならないように蒸着により形成する。 Further, formed by vapor deposition so as not to overlap the pixel ITO electrode pattern on the columnar resin pattern top. 前記基板に、さらに配向膜パターンを形成、ラビングによる配向処理を施して後、同様に配向処理を施す対向基板とをシール樹脂を介し張り合わせ、空セルを形成する。 It said substrate further form an alignment film pattern, later subjected to an alignment treatment by rubbing, bonded through a sealing resin and a counter substrate subjected to orientation treatment in the same manner, to form an empty cell. 空セルに真空注入法により液晶注入後、封口を行ない液晶パネルを作製する。 After the liquid crystal injection by a vacuum injection method to the empty cell, to produce a liquid crystal panel performs sealing. この液晶パネルの表示性能を目視評価する。 The display performance of the liquid crystal panel to visually evaluated. 上下基板間ショートに起因する光漏れが多数発生確認できる。 Light leakage due to the upper and lower substrates to short-circuit between a large number generation can be confirmed.

【0051】比較例4について説明する。 [0051] Comparative Example 4 will be described. TFTアレイ基板上に、パネルギャップ形成のための導電性柱状樹脂(NN700、JSR(株)製に導電性銀フィラーを添加)パターンを、ドレイン電極上に2μmの膜厚で形成する。 The TFT array substrate, a conductive columnar resin (NN700, JSR (Co.) adding a conductive silver filler manufactured) pattern for the panel gap formation, is formed in a thickness of 2μm on the drain electrode. 次に、黒色感光性樹脂(CK−S699B、富士フィルムオーリン(株)製、体積固有抵抗1.0 ×10 14 Ω Then, the black photosensitive resin (CK-S699B, Fuji Film Olin Co., volume resistivity 1.0 × 10 14 Ω
・cm)を用い厚さ3.0μm、OD<4.0のブラックマトリクスを形成する。 · Cm) thickness 3.0μm using, to form a black matrix of OD <4.0. この際、ブラックマトリクスパターンを、先に形成した柱状樹脂パターンの上面に重なり、かつ柱状樹脂パターンの側面にかからないようにパターン設計する。 In this case, the black matrix pattern, overlaps the upper surface of the columnar resin pattern previously formed, and pattern design so as not to the side of the columnar resin pattern. 次に、前記ブラックマトリクスで囲まれた凹部にカラーレジスト(CM7000、富士フィルムオーリン(株)製、体積固有抵抗1.0 ×10 14 Ω・c Then, the black color in a recess surrounded by a matrix resist (CM7000, Fuji Film Olin Co., volume resistivity 1.0 × 10 14 Ω · c
m)をシリンジで滴下し、厚さ1μmのカラーフィルタパターンを形成する。 The m) was added dropwise via syringe, to form a color filter pattern having a thickness of 1 [mu] m. さらに、画素ITO電極パターンを前記柱状樹脂パターン上面に重ならないように、かつ側面に重なるように蒸着により形成する。 Furthermore, so as not to overlap the pixel ITO electrode pattern on the columnar resin pattern top, and is formed by vapor deposition so as to overlap the side surface. 前記基板に、 To the substrate,
さらに配向膜パターンを形成、ラビングによる配向処理を施して後、同様に配向処理を施す対向基板とをシール樹脂を介し張り合わせ、空セルを形成する。 Further forming an orientation film pattern, later subjected to an alignment treatment by rubbing, bonded through a sealing resin and a counter substrate subjected to orientation treatment in the same manner, to form an empty cell. 空セルに真空注入法により液晶注入後、封口を行ない液晶パネルを作製する。 After the liquid crystal injection by a vacuum injection method to the empty cell, to produce a liquid crystal panel performs sealing. 作製した液晶パネルは柱状樹脂パターン側面に付着する着色レジスト残膜のため、ドレイン電極と画素電極の導通が取れず点灯しない。 LCD panel manufactured because of coloring resist remaining film which adheres to the columnar resin pattern side, not light without 0.00 conduction of the drain electrode and the pixel electrode.

【0052】比較例5について説明する。 [0052] Comparative Example 5 will be described. TFTアレイ基板上に、パネルギャップ形成のための導電性柱状樹脂(NN700、JSR(株)製に導電性銀フィラーを添加)パターンを、ドレイン電極上に5.4μmの膜厚で形成する。 The TFT array substrate, a conductive columnar resin (added NN700, JSR (Co., Ltd.) in conductive silver filler) pattern for the panel gap formation, is formed on the drain electrode with a film thickness of 5.4 [mu] m. 次に、黒色感光性樹脂(CK−S699B、 Then, the black photosensitive resin (CK-S699B,
富士フィルムオーリン(株)製、体積固有抵抗1.0 ×10 Fuji Film Olin Co., volume resistivity 1.0 × 10
14 Ω・cm)を用い厚さ0.6μm、OD1.8のブラックマトリクスを形成する。 14 Ω · cm) thickness 0.6μm using, to form a black matrix OD1.8. この際、ブラックマトリクスパターンを、先に形成した柱状樹脂パターンの上面に重なり、かつ柱状樹脂パターンの側面にかからないようにパターン設計する。 In this case, the black matrix pattern, overlaps the upper surface of the columnar resin pattern previously formed, and pattern design so as not to the side of the columnar resin pattern. 次に、前記ブラックマトリクスで囲まれた凹部にカラーレジスト(CM7000、富士フィルムオーリン(株)製、体積固有抵抗1.0 ×10 14 Ω・ Next, a color resist (CM7000 in a recess surrounded by the black matrix, Fuji Film Olin Co., volume resistivity 1.0 × 10 14 Ω ·
cm)をシリンジで滴下し、厚さ1μmのカラーフィルタパターンを形成する。 The cm) was added dropwise via syringe, to form a color filter pattern having a thickness of 1 [mu] m. さらに、画素ITO電極パターンを前記柱状樹脂パターン上面に重ならないように、かつ側面に重なるように蒸着により形成する。 Furthermore, so as not to overlap the pixel ITO electrode pattern on the columnar resin pattern top, and is formed by vapor deposition so as to overlap the side surface. 前記基板に、さらに配向膜パターンを形成、ラビングによる配向処理を施して後、同様に配向処理を施す対向基板とをシール樹脂を介し張り合わせ、空セルを形成する。 It said substrate further form an alignment film pattern, later subjected to an alignment treatment by rubbing, bonded through a sealing resin and a counter substrate subjected to orientation treatment in the same manner, to form an empty cell. 空セルに真空注入法により液晶注入後、封口を行ない液晶パネルを作製する。 After the liquid crystal injection by a vacuum injection method to the empty cell, to produce a liquid crystal panel performs sealing. この液晶パネルの表示品位を目視評価する。 The display quality of the liquid crystal panel to visually evaluated. オフ表示時の光漏れが生じ、コントラスト特性の低下が見られる。 Light leakage in the OFF display occurs, reduction in contrast characteristics is observed.

【0053】比較例6について説明する。 [0053] For Comparative Example 6 will be described. TFTアレイ基板上に、パネルギャップ形成のための導電性柱状樹脂(NN700、JSR(株)製に導電性銀フィラーを添加)パターンを、ドレイン電極上に5.0μmの膜厚で形成する。 The TFT array substrate, a conductive columnar resin (added NN700, JSR (Co., Ltd.) in conductive silver filler) pattern for the panel gap formation, is formed on the drain electrode with a film thickness of 5.0 .mu.m. 次に、黒色感光性樹脂(CK−S171C、 Then, the black photosensitive resin (CK-S171C,
富士フィルムオーリン(株)製、体積固有抵抗1.0 ×10 Fuji Film Olin Co., volume resistivity 1.0 × 10
7 Ω・cm)を用い厚さ1.0μm、OD3.0のブラックマトリクスを形成する。 7 Ω · cm) thickness 1.0μm using, to form a black matrix OD3.0. この際、ブラックマトリクスパターンを、先に形成する柱状樹脂パターンの上面に重なり、かつ柱状樹脂パターンの側面にかからないようにパターン設計する。 In this case, the black matrix pattern, overlaps the upper surface of the columnar resin pattern formed above and pattern designed so as not to the side of the columnar resin pattern. 次に、前記ブラックマトリクスで囲まれた凹部にカラーレジスト(CM7000、富士フィルムオーリン(株)製、体積固有抵抗1.0 ×10 14 Ω・ Next, a color resist (CM7000 in a recess surrounded by the black matrix, Fuji Film Olin Co., volume resistivity 1.0 × 10 14 Ω ·
cm)をシリンジをで滴下し、厚さ1.0μmのカラーフィルタパターンを形成する。 The cm) was added dropwise exiting the syringe, to form a color filter pattern having a thickness of 1.0 .mu.m. さらに、画素ITO電極パターンを前記柱状樹脂パターン上面に重ならないように、かつ側面に重なるように蒸着により形成する。 Furthermore, so as not to overlap the pixel ITO electrode pattern on the columnar resin pattern top, and is formed by vapor deposition so as to overlap the side surface. 前記基板に、さらに配向膜パターンを形成、ラビングによる配向処理を施して後、同様に配向処理を施す対向基板とをシール樹脂を介し張り合わせ、空セルを形成する。 It said substrate further form an alignment film pattern, later subjected to an alignment treatment by rubbing, bonded through a sealing resin and a counter substrate subjected to orientation treatment in the same manner, to form an empty cell. 空セルに真空注入法により液晶注入後、封口を行ない液晶パネルを作製する。 After the liquid crystal injection by a vacuum injection method to the empty cell, to produce a liquid crystal panel performs sealing. この液晶パネルの表示品位を目視評価する。 The display quality of the liquid crystal panel to visually evaluated. 電極間ショートが生じ、良好な表示品位を示すことができない。 The inter-electrode short circuit occurs, it is impossible to show a good display quality.

【0054】なお、液晶ディスプレイ方式がTN方式、 [0054] The liquid crystal display system is TN system,
IPS方式の液晶表示装置に適用できる。 It can be applied to a liquid crystal display device of the IPS system. また、光配向(ラビングレス;機械的手段で配向しない)により配向処理してもよい。 Further, the optical alignment; may be oriented treated with (rubbingless not oriented by mechanical means).

【0055】また、柱状樹脂パターンのスペーサの数(単位面積当たり)が多過ぎると、低温気泡が発生する不具合があり、少な過ぎると温度変化によるギャップ変化が、表示性能に不具合がある。 [0055] Further, when the number of the spacers columnar resin pattern (per unit area) is too large, there is a problem that the low-temperature bubbles are generated, too small gap change due to a temperature change, there is a problem in display performance. そのため、柱状樹脂パターンのスペーサの数は、液晶材料やスペーサの材質や、液晶パネルの構成等の条件で最適値があり、実験や構造シミュレーションで最適値を見出すことを設計的に行うようにしている。 Therefore, the number of the spacers columnar resin pattern material and the liquid crystal material and the spacer, there is an optimum value in terms of the configuration of a liquid crystal panel, as designed to perform to find the optimum value experimentally or structural simulation there.

【0056】また、上記構成の液晶表示装置を用いて画像表示応用機器を構成することができる。 [0056] Further, it is possible to configure the image display application equipment using the liquid crystal display device configured as described above.

【0057】 [0057]

【発明の効果】この発明の請求項1記載の液晶表示装置によれば、コンタクトホールに、パネルギャップを形成するための柱状樹脂パターンを導電性を有する樹脂で形成するとともに、柱状樹脂パターンの上面を絶縁コートし、画素電極を柱状樹脂パターンに接するように形成したので、コンタクトホール部位上に導電性を有する柱状樹脂パターンを形成後、画素電極を形成することができ、柱状樹脂パターンの剥れを防止できる。 According to the liquid crystal display device according to claim 1, wherein the [Effects of the Invention The present invention, in the contact hole, a columnar resin pattern for forming a panel gap and forming a resin having conductivity, the upper surface of the columnar resin pattern insulated coated, since formed in contact with the pixel electrode in a columnar resin pattern, after forming columnar resin pattern having conductivity on the contact hole portion, it is possible to form the pixel electrode, peeling of columnar resin pattern It can be prevented. 基板への密着度向上、画素電極とスイッチング能動素子とのコンタクト不良が低減され、同時に基板表面段差が低減し、段差起因の液晶配向乱れ防止も達成できる。 Degree of adhesion improvement to the substrate, the contact failure is reduced between the pixel electrode and the switching active element, at the same time the substrate surface difference is reduced, it can also be achieved a liquid crystal alignment disorder prevention step caused. これにより、 As a result,
むらの無い、高い表示品位の実現が可能となった。 No irregularity has made it possible to realize a high display quality.

【0058】請求項2では、対向基板に対向電極が形成され、柱状樹脂パターンの上面を絶縁コートして前記対向電極と絶縁したので、導電性を有する柱状樹脂パターン上面を導電性の無い樹脂膜で被覆することにより、パネル貼り合わせ時の上下基板間ショートを防止する。 [0058] In claim 2, a counter electrode formed on the counter substrate, since the upper surface of the columnar resin pattern and insulating coated insulated from the counter electrode, the columnar resin pattern top conductive no resin film having conductivity in by coating, to prevent the upper and lower substrates between short time bonding panels.

【0059】請求項3では、柱状樹脂パターンの上面をカラーフィルタパターンを形成する単色あるいは複数色の膜で被覆するので、上下基板間ショートのない高い表示性能を発揮できる。 [0059] According to claim 3, since covering the upper surface of the columnar resin pattern in a single color or multiple colors of film to form a color filter pattern can exhibit high display performance without shorting between the upper and lower substrates.

【0060】請求項4では、(カラーフィルタパターンを形成する樹脂の体積固有抵抗)の下限値が10 8 Ω・ [0060] According to claim 4, the lower limit is 10 8 Omega (volume resistivity of the resin to form a color filter pattern)
cmであるので、上下基板間ショートのない高い表示性能を発揮する。 Because it is cm, it exhibits a high display performance with no short between the upper and lower substrates.

【0061】請求項5では、画素電極が柱状樹脂パターンの上面に重ならず、かつ、柱状樹脂パターンの側面に重なるように形成されるので、上下基板間ショートなくスイッチング能動素子と画素電極との導通をとることができる。 [0061] According to claim 5, do not overlap the upper surface of the columnar resin pattern pixel electrode, and, since it is formed so as to overlap the side surface of the columnar resin pattern, the upper and lower substrates between short without switching the active elements and pixel electrodes it is possible to take the conduction.

【0062】請求項6では、(柱状樹脂パターンの底面の径、または対角長)−(柱状樹脂パターンの上面の径、または対角長)の下限値が5μmであるので、スイッチング能動素子と画素電極との導通をとることができる。 [0062] According to claim 6, (diameter of the bottom surface of the columnar resin pattern or diagonal length) - since it is 5μm lower limit of (diameter of the upper surface of the columnar resin pattern or diagonal length,), a switching active element It may take the conduction between the pixel electrode.

【0063】請求項7では、光配向により配向処理する液晶表示装置に適用できる。 [0063] According to claim 7, it can be applied to a liquid crystal display device for alignment treatment by photo-alignment.

【0064】この発明の請求項8記載の液晶表示装置の製造方法によれば、コンタクトホールに、パネルギャップを形成するための柱状樹脂パターンを導電性を有する樹脂で形成して後、柱状樹脂パターンの上面を絶縁コートし、しかる後に樹脂膜上に画素電極を形成し、この画素電極とスイッチング能動素子を柱状樹脂パターンを介してコンタクトさせるので、柱状樹脂パターンの剥れを防止できる。 [0064] According to the manufacturing method of the liquid crystal display device according to claim 8, wherein the present invention, after the contact hole, to form a columnar resin pattern for forming a panel gap of a resin having conductivity, columnar resin pattern of the upper surface and the insulating coating, thereafter the forming a pixel electrode on the resin film, so to contact with the pixel electrode and the switching active element through the columnar resin pattern, it is possible to prevent the peeling of columnar resin pattern. 基板への密着度向上、画素電極とスイッチング能動素子とのコンタクト不良が低減され、同時に基板表面段差が低減し、段差起因の液晶配向乱れ防止も達成できる。 Degree of adhesion improvement to the substrate, the contact failure is reduced between the pixel electrode and the switching active element, at the same time the substrate surface difference is reduced, it can also be achieved a liquid crystal alignment disorder prevention step caused. また、導電性を有する柱状樹脂パターン上面を導電性の無い樹脂膜で被覆することにより、パネル貼り合わせ時の上下基板間ショートも防止できる。 Further, by coating the columnar resin pattern upper surface having conductivity with a conductive no resin film, the upper and lower substrates between short time bonding the panel can be prevented.

【0065】この発明の請求項9記載の液晶表示装置の製造方法によれば、スイッチング能動素子のドレイン電極上にパネルギャップを制御するスペーサの役割を兼ね備える導電性柱状樹脂パターンを形成することにより、 [0065] By forming the claims according to the method of manufacturing the liquid crystal display device of claim 9, wherein the conductive columnar resin pattern having both the roles of spacers for controlling the panel gap on the drain electrode of the switching active element of the present invention,
スイッチング能動素子と画素電極の導通を確保することができる。 It is possible to ensure the continuity of the switching active element and a pixel electrode. さらに、隣接カラーフィルタパターン混色防止のためのマトリクスパターンを絶縁性遮光性樹脂膜で形成、かつ、この絶縁性遮光性樹脂膜パターン形状を導電性柱状樹脂パターンの上部に重なるように設計することにより、工程数の増加を伴うことなく、カラーフィルタパターンの混色防止、パネル貼り合わせ時の上下基板間ショートの防止、スイッチング能動素子の遮光保護を実現することができる。 Further, forming a matrix pattern for the adjacent color filter pattern color mixing preventing an insulative shielding resin film, and by designing so as to overlap the insulation shielding resin film pattern on top of the conductive columnar resin pattern , without increasing the number of processes can be realized preventing color mixture of the color filter pattern, preventing the panel bonding at the upper and lower substrates to short-circuit between the shielding protection switching active element. これにより、カラーフィルタオンTFTアレイ型液晶表示装置を高効率で製造することが可能である。 Thus, it is possible to produce a color filter on TFT array type liquid crystal display device with high efficiency.

【0066】請求項10では、着色レジスト液の供給方法がシリンジによる滴下であるので、高効率でTFTアレイ基板上にカラーフィルタが形成できる。 [0066] In claim 10, the method of supplying the colored resist liquid is dropwise by syringe, the color filter may be formed on the TFT array substrate with a high efficiency.

【0067】請求項11では、着色レジスト液の供給方法が液滴の射出であるので、高効率でTFTアレイ基板上にカラーフィルタが形成できる。 [0067] In claim 11, the method of supplying the colored resist liquid is ejection of a droplet, the color filter may be formed on the TFT array substrate with a high efficiency. 着色レジスト液滴の射出には市販のプリンタヘッドか使用できる。 The injection of the colored resist droplets may be used either a commercially available printer head.

【0068】請求項12では、(絶縁性遮光性樹脂パターンの膜厚)<(柱状樹脂パターンの膜厚み)であるので、スイッチング能動素子と画素電極とのコンタクトをとることが可能である。 [0068] According to claim 12, it is possible to contact with (the thickness of the insulating shielding resin pattern) <are the (columnar film thickness of the resin pattern), the switching active element and a pixel electrode.

【0069】請求項13では、絶縁性遮光性樹脂パターンがTFTアレイ基板のスイッチング能動素子を被覆するので、トランジスタの遮光保護が可能である。 [0069] In claim 13, the insulating shielding resin pattern covers the switching active element TFT array substrate, it is possible shielding protection transistor.

【0070】請求項14では、(絶縁性遮光性樹脂パターンの体積固有抵抗)の下限値が10 8 Ω・cmであるので、電極間ショートが抑制される。 [0070] According to claim 14, since the lower limit of (volume resistivity of the insulating light shielding resin pattern) is 10 8 Ω · cm, a short circuit between electrodes can be suppressed.

【0071】請求項15では、絶縁性遮光性樹脂パターンのOD値が2.0以上であるので、トランジスタの遮光保護が可能である。 [0071] In claim 15, the OD value of the insulating light shielding resin pattern is 2.0 or more, it is possible shielding protection transistor. OD値は、オプティカルデンシティの略語、光学濃度とも呼称し、ブラックマトリクスなどの色の黒い部分の光の透過率を示す。 OD value is abbreviation of the optical-density, with the optical density is referred, showing transmittance of light of the color black part such as black matrix. 値が大きくなれば、光が透過しない。 The larger the value is, light is not transmitted.

【0072】請求項16では、画素電極が柱状樹脂パターン上面に重ならず、かつ、柱状樹脂パターンの側面に重なるように形成されるので、対向基板間ショートが発生しない。 [0072] In claim 16, the pixel electrodes do not overlap the columnar resin pattern top, and because it is formed so as to overlap the side surface of the columnar resin pattern, a short is not generated between the counter substrate.

【0073】この発明の請求項17記載の画像表示応用機器によれば、上記構成の液晶表示装置を有するので、 [0073] According to the image display application device of claim 17, wherein the present invention, because it has a liquid crystal display device having the above structure,
高輝度、高精細、表示むらが皆無の高品位液晶パネルが求められる画像表示応用機器に最適である。 High brightness, high definition, high-quality liquid crystal panel none display unevenness is optimal to the image display application equipment required.

【図面の簡単な説明】 BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS

【図1】この発明の第1の実施の形態の液晶表示装置の断面図 FIG. 1 is a cross-sectional view of a liquid crystal display device of the first embodiment of the present invention

【図2】(a)は柱状樹脂パターンの平面図、(b)はその断面図 2 (a) is a plan view of the columnar resin pattern, (b) is a sectional view

【図3】この発明の第2の実施の形態による液晶表示装置の一例の構成を示す断面図 3 is a cross-sectional view showing an example of the configuration of a liquid crystal display device according to a second embodiment of the present invention

【図4】この発明の第2の実施の形態に基づく液晶表示装置の製造方法を示す工程図 [4] a process diagram showing a manufacturing method of a liquid crystal display device according to a second embodiment of the present invention

【図5】従来例の液晶表示装置の断面図 FIG. 5 is a cross-sectional view of a conventional liquid crystal display device

【符号の説明】 DESCRIPTION OF SYMBOLS

1,1' ガラス基板 2,2' 透明電極 3,3' 配向膜 4 スイッチング能動素子 5 カラーフィルタパターン 6 ブラックマトリクス 8 液晶 9 シール剤 12 コンタクトホール 13 カラーフィルタオンアレイ基板 14 対向基板 17 柱状樹脂パターン 1,1 'glass substrates 2' transparent electrodes 3, 3 'orientation film 4 switching active element 5 color filter pattern 6 black matrix 8 liquid crystal 9 sealant 12 contact hole 13 a color filter on array substrate 14 counter substrate 17 columnar resin pattern

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl. 7識別記号 FI テーマコート゛(参考) G09F 9/30 338 G09F 9/30 349B 349 349C G02F 1/136 500 (72)発明者 井上 浩治 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 (72)発明者 山本 義則 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 Fターム(参考) 2H089 LA09 MA01X MA06X NA25 PA03 QA12 QA14 QA15 TA02 TA09 TA12 TA13 2H091 FA02Y FA34Y FB02 GA02 GA03 GA06 GA08 GA09 GA13 LA12 LA16 2H092 GA36 HA04 JA24 JA46 KA24 KB21 NA04 NA16 NA18 NA29 PA03 PA04 PA08 PA09 5C094 AA03 AA05 AA08 AA10 AA25 AA42 AA43 AA47 AA48 AA55 BA03 BA43 CA19 CA24 DA13 DB04 EA04 EA05 EA07 EA10 EB02 EC03 ED03 ED15 FA01 FA02 FB12 FB15 GB10 JA05 ────────────────────────────────────────────────── ─── of the front page continued (51) Int.Cl. 7 identification mark FI theme Court Bu (reference) G09F 9/30 338 G09F 9/30 349B 349 349C G02F 1/136 500 (72) inventor Inoue Koji Osaka Prefecture Kadoma City Oaza Kadoma 1006 address Matsushita Electric industrial Co., Ltd. in the (72) inventor Yamamoto, Yoshinori Osaka Prefecture Kadoma Oaza Kadoma 1006 address Matsushita Electric industrial Co., Ltd. in the F-term (reference) 2H089 LA09 MA01X MA06X NA25 PA03 QA12 QA14 QA15 TA02 TA09 TA12 TA13 2H091 FA02Y FA34Y FB02 GA02 GA03 GA06 GA08 GA09 GA13 LA12 LA16 2H092 GA36 HA04 JA24 JA46 KA24 KB21 NA04 NA16 NA18 NA29 PA03 PA04 PA08 PA09 5C094 AA03 AA05 AA08 AA10 AA25 AA42 AA43 AA47 AA48 AA55 BA03 BA43 CA19 CA24 DA13 DB04 EA04 EA05 EA07 EA10 EB02 EC03 ED03 ED15 FA01 FA02 FB12 FB15 GB10 JA05

Claims (17)

    【特許請求の範囲】 [The claims]
  1. 【請求項1】 画素電極を駆動するためのスイッチング能動素子が形成されるTFTアレイ基板上に樹脂膜を形成し、前記樹脂膜に形成されるコンタクトホールを介し、前記スイッチング能動素子と、前記樹脂膜上に配置される画素電極とをコンタクトさせ、前記TFTアレイ基板とこれに対向する対向基板との間のパネルギャップに液晶を封止するTFTアレイ型液晶表示装置であって、前記コンタクトホールに、パネルギャップを形成するための柱状樹脂パターンを導電性を有する樹脂で形成するとともに、前記画素電極を前記柱状樹脂パターンに接するように形成することを特徴とする液晶表示装置。 1. A resin film is formed on the TFT array substrate of the switching active element for driving the pixel electrodes are formed, through a contact hole formed in the resin film, and the switching active element, said resin a pixel electrode disposed on the membrane were brought into contact with each other, a TFT array type liquid crystal display device for sealing a liquid crystal panel gap between the TFT array substrate and a counter substrate opposed thereto, said contact hole , to form a columnar resin pattern for forming a panel gap of a resin having conductivity, a liquid crystal display device characterized by forming the pixel electrode in contact with the columnar resin pattern.
  2. 【請求項2】 対向基板に対向電極が形成され、柱状樹脂パターンの上面を絶縁コートして前記対向電極と絶縁する請求項1記載の液晶表示装置。 Wherein the counter electrode on the counter substrate is formed, a liquid crystal display device according to claim 1, wherein the upper surface of the columnar resin pattern insulates coated to insulate and the counter electrode.
  3. 【請求項3】 樹脂膜がカラーフィルタパターンであり、柱状樹脂パターンの上面をカラーフィルタパターンを形成する単色あるいは複数色の膜で被覆する請求項2 3. a resin film is a color filter pattern, claim 2 coated with a single color or multiple colors of film forming the upper surface of the color filter pattern of the columnar resin pattern
    記載の液晶表示装置。 The liquid crystal display device according.
  4. 【請求項4】 カラーフィルタパターンを形成する樹脂の体積固有抵抗の下限値が10 8 Ω・cmである請求項3記載の液晶表示装置。 4. A liquid crystal display device according to claim 3, wherein the lower limit of the volume resistivity of the resin to form a color filter pattern is 10 8 Ω · cm.
  5. 【請求項5】 画素電極が柱状樹脂パターンの上面に重ならず、かつ、柱状樹脂パターンの側面に重なるように形成されている請求項1記載の液晶表示装置。 5. A pixel electrode does not overlap the upper surface of the columnar resin pattern, and a liquid crystal display device according to claim 1, wherein are formed so as to overlap the side surface of the columnar resin pattern.
  6. 【請求項6】 (柱状樹脂パターンの底面の径、または対角長)−(柱状樹脂パターンの上面の径、または対角長)の下限値が5μmである請求項1記載の液晶表示装置。 6. (diameter of the bottom surface of the columnar resin pattern or diagonal length,) - liquid crystal display device according to claim 1, wherein the lower limit is 5μm of (columnar diameter of the upper surface of the resin pattern or diagonal length).
  7. 【請求項7】 光配向により配向処理する請求項1から請求項5のいずれかに記載の液晶表示装置。 7. A liquid crystal display device according to any one of claims 1 to 5 to alignment treatment by photo-alignment.
  8. 【請求項8】 画素電極を駆動するためのスイッチング能動素子が形成されるTFTアレイ基板上に樹脂膜を形成し、前記樹脂膜に形成されるコンタクトホールに、前記TFTアレイ基板とこれに対向する対向基板との間にパネルギャップを形成するための柱状樹脂パターンを導電性を有する樹脂で形成して後、前記柱状樹脂パターンの上面を絶縁コートし、しかる後に前記樹脂膜上に画素電極を形成し、この画素電極と前記スイッチング能動素子とを前記柱状樹脂パターンを介してコンタクトさせることを特徴とする液晶表示装置の製造方法。 8. The resin film is formed on the TFT array substrate of the switching active element for driving the pixel electrodes are formed, a contact hole formed in the resin film, opposite thereto and the TFT array substrate after the columnar resin pattern for forming a panel gap between the counter substrate formed of a resin having conductivity, and the upper surface of the insulating coating of the columnar resin pattern, forming a pixel electrode on the resin film and thereafter and, a method of manufacturing a liquid crystal display device for causing the the pixel electrode and the switching active element contacting through the columnar resin pattern.
  9. 【請求項9】 画素電極を駆動するためのスイッチング能動素子が形成されるTFTアレイ基板上にカラーフィルタパターンを形成し、前記カラーフィルタパターン上に画素電極を形成するカラーフィルタオンTFTアレイ型液晶表示装置の製造方法であって、前記スイッチング能動素子と前記画素電極とのコンタクト部位に、前記T 9. The color filter pattern formed on the TFT array substrate of the switching active element for driving the pixel electrodes are formed, a color filter on TFT array type liquid crystal display for forming a pixel electrode on the color filter pattern a method of manufacturing a device, the contact portion between the pixel electrode and the switching active element, the T
    FTアレイ基板とこれに対向する対向基板との間にパネルギャップを形成するための柱状樹脂パターンを導電性を有する樹脂で形成する工程と、前記柱状樹脂パターンの上面に重なり、かつ側面に重ならないように絶縁性遮光性樹脂のマトリクスパターンを形成する工程と、前記マトリクスパターンを除く部分に着色レジスト液を供給することによりカラーフィルタパターンを形成する工程と、前記カラーフィルタパターン上に画素電極を形成し、この画素電極と前記スイッチング能動素子を前記柱状樹脂パターンを介してコンタクトさせる工程とを含む液晶表示装置の製造方法。 A step of forming a columnar resin pattern for forming a panel gap between the FT array substrate and a counter substrate opposed thereto with a resin having conductivity, overlapping the upper surface of the columnar resin pattern, and does not overlap the side surface forming a step of forming a matrix pattern of the insulating light shielding resin, and forming a color filter pattern by supplying a colored resist liquid to the portion except for the matrix pattern, a pixel electrode on the color filter pattern as and, a method of manufacturing a liquid crystal display device comprising a step of the the pixel electrode of the switching active element contacting through the columnar resin pattern.
  10. 【請求項10】 着色レジスト液の供給方法がシリンジによる滴下であることを特徴とする請求項9記載の液晶表示装置の製造方法。 10. A method for manufacturing a liquid crystal display device according to claim 9, wherein the method of supplying the colored resist liquid is dropped by a syringe.
  11. 【請求項11】 着色レジスト液の供給方法が液滴の射出であることを特徴とする請求項9記載の液晶表示装置の製造方法。 11. The method for manufacturing a liquid crystal display device according to claim 9, wherein the method of supplying the colored resist liquid is ejection of a droplet.
  12. 【請求項12】 (絶縁性遮光性樹脂パターンの膜厚) 12. (film thickness of the insulating light-shielding resin pattern)
    <(柱状樹脂パターンの膜厚み)であることを特徴とする請求項9記載の液晶表示装置の製造方法。 <Method of manufacturing a liquid crystal display device according to claim 9, characterized in that the (columnar film thickness of the resin pattern).
  13. 【請求項13】 絶縁性遮光性樹脂パターンがTFTアレイ基板のスイッチング能動素子を被覆することを特徴とする請求項9記載の液晶表示装置の製造方法。 13. The method for manufacturing a liquid crystal display device according to claim 9, wherein the insulating light shielding resin pattern is characterized by coating the switching active element TFT array substrate.
  14. 【請求項14】 絶縁性遮光性樹脂パターンの体積固有抵抗の下限値が10 14. The lower limit of the volume resistivity of the insulating light shielding resin pattern 10 8 Ω・cmであることを特徴とする請求項9記載の液晶表示装置の製造方法。 Method of manufacturing a liquid crystal display device according to claim 9, characterized in that the 8 Ω · cm.
  15. 【請求項15】 絶縁性遮光性樹脂パターンのOD値の下限値が2.0であることを特徴とする請求項9記載の液晶表示装置の製造方法。 15. The method for manufacturing a liquid crystal display device according to claim 9, wherein the lower limit of the OD value of the insulating light shielding resin pattern is 2.0.
  16. 【請求項16】 画素電極が柱状樹脂パターン上面に重ならず、かつ、柱状樹脂パターンの側面に重なるように形成されることを特徴とする請求項9記載の液晶表示装置の製造方法。 16. The pixel electrode does not overlap the columnar resin pattern top and manufacturing method of a liquid crystal display device according to claim 9, characterized in that it is formed so as to overlap the side surface of the columnar resin pattern.
  17. 【請求項17】 請求項1から請求項7のいずれかに記載の液晶表示装置を有する画像表示応用機器。 17. The image display application device having a liquid crystal display device as claimed in any one of claims 7.
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Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100652352B1 (en) 2004-05-10 2006-12-01 엘지.필립스 엘시디 주식회사 Organic Electro luminescence Device and fabrication method thereof
KR100678858B1 (en) 2004-10-12 2007-02-05 엘지.필립스 엘시디 주식회사 Organic Electro Luminescence Device and the fabrication method thereof
JP2009181089A (en) * 2008-02-01 2009-08-13 Dainippon Printing Co Ltd Color filter
US8899175B2 (en) 2002-03-23 2014-12-02 Lg Display Co., Ltd. Apparatus and method for dispensing liquid crystal material
US9285614B2 (en) 2003-04-24 2016-03-15 Lg Display Co., Ltd. Liquid crystal dispensing system and method of dispensing liquid crystal material using same
USRE46146E1 (en) 2002-02-20 2016-09-13 Lg Display Co., Ltd Liquid crystal display device and method of manufacturing the same
KR101819601B1 (en) * 2011-09-20 2018-01-18 엘지디스플레이 주식회사 Liquid crystal display device

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
USRE46146E1 (en) 2002-02-20 2016-09-13 Lg Display Co., Ltd Liquid crystal display device and method of manufacturing the same
US8899175B2 (en) 2002-03-23 2014-12-02 Lg Display Co., Ltd. Apparatus and method for dispensing liquid crystal material
US9285614B2 (en) 2003-04-24 2016-03-15 Lg Display Co., Ltd. Liquid crystal dispensing system and method of dispensing liquid crystal material using same
KR100652352B1 (en) 2004-05-10 2006-12-01 엘지.필립스 엘시디 주식회사 Organic Electro luminescence Device and fabrication method thereof
KR100678858B1 (en) 2004-10-12 2007-02-05 엘지.필립스 엘시디 주식회사 Organic Electro Luminescence Device and the fabrication method thereof
JP2009181089A (en) * 2008-02-01 2009-08-13 Dainippon Printing Co Ltd Color filter
KR101819601B1 (en) * 2011-09-20 2018-01-18 엘지디스플레이 주식회사 Liquid crystal display device

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