JP3881124B2 - The liquid crystal display device - Google Patents

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JP3881124B2
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正行 引場
和彦 柳川
正宏 石井
啓一郎 芦沢
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株式会社日立製作所
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Description

【0001】 [0001]
【発明の属する技術分野】 BACKGROUND OF THE INVENTION
本発明は液晶表示装置に係り、特に、液晶を介して互いに対向配置される透明基板の間に介在されるスペーサを備える液晶表示装置に関する。 The present invention relates to a liquid crystal display device, and more particularly to a liquid crystal display device comprising a spacer interposed between the transparent substrates which are arranged to face each other via the liquid crystal.
【0002】 [0002]
【従来の技術】 BACKGROUND OF THE INVENTION
液晶を介して互いに対向配置される透明基板の間にスペーサを介在させることによって、液晶の層厚を一定とすることができ、表示むらの発生を防止することができる。 By through the liquid crystal is interposed a spacer between the transparent substrates which are opposed to each other, can be a thickness of the liquid crystal is constant, it is possible to prevent the occurrence of display unevenness.
【0003】 [0003]
このスペーサとしては、たとえばビーズ状のものがあり、一方の基板の液晶側の面に該スペーサを散在させた状態で他方の基板を対向配置させるようになっている。 As the spacer, for example there is one bead-like, so as to face each of the other substrate in a state of being interspersed the spacer on the surface of the liquid crystal side of one substrate.
【0004】 [0004]
しかし、このビーズ状のスペーサは、凹凸がある基板面に散在させることから、あるスペーサは凹部に他のスペーサは凸部に位置づけられてしまい、他方の基板を対向配置させても、それらの基板のギャップは所定どおりにならない場合がある。 However, this bead-like spacer, since the interspersing the substrate surface is uneven, even if some spacers another spacer recess will be positioned protrusion, is disposed opposite the other substrate, the substrates the gap may not become prescribed as expected.
【0005】 [0005]
これに対して、他のスペーサとして、一方の基板の液晶側の面に予め該基板の所定の個所に固定させて形成したものがある。 In contrast, as another spacer, there is formed by fixing a predetermined location of the pre-substrate liquid-crystal-side surface of one substrate.
【0006】 [0006]
この場合、凹凸がある基板面のうちたとえば凹部に該スペーサを形成することによって、他方の基板を対向配置させた際に、それらの基板のギャップは所定どおりに設定できるようになる。 In this case, by forming the spacer in the recess example of the substrate surface is uneven, the other substrate when made to face arrangement, the gap of these substrates will be able to set a predetermined expected.
【0007】 [0007]
【発明が解決しようとする課題】 [Problems that the Invention is to Solve
しかし、後者のスペーサは、それを形成した後に該スペーサを被って配向膜の材料膜を形成し、該スペーサによって突起部が発生している前記材料膜を配向処理をしなければならず、該配向膜にいわゆる配向乱れを生じさせてしまうことが確認された。 However, the latter spacer material film of the alignment film is formed to cover the spacer after forming it must be an alignment process the material film projections are generated by the spacer, the it was confirmed that would give rise to so-called alignment disturbance in the orientation film.
【0008】 [0008]
すなわち、配向処理は該材料膜面に沿って一定方向にローラを回転させて行い、この際に、該スペーサが形成されている突起部の背面に所定どおりの配向ができなくなってしまうからである。 That is, the alignment treatment is performed by rotating the roller in a predetermined direction along the material layer surface, when this is because it becomes impossible orientation of predetermined exactly on the back of the projections the spacer is formed .
【0009】 [0009]
スペーサは画素の集合である表示部内に形成されることから、この配向乱れは、他の部分と異なる表示状態を引き起こし、いわゆる表示むらの原因となってしまうことになる。 Spacer from being formed in the display portion is a set of pixels, the alignment disorder causes different display states and other parts, so that it becomes a cause of so-called display unevenness.
【0010】 [0010]
本発明は、このような事情に基づいてなされたもので、その目的は配向乱れによる表示むらのない液晶表示装置を提供することにある。 The present invention has been made in view of such circumstances, and its object is to provide a liquid crystal display device without display unevenness due to alignment disorder.
【0011】 [0011]
【課題を解決するための手段】 In order to solve the problems]
本願において開示される発明のうち、代表的なものの概要を簡単に説明すれば、以下のとおりである。 Among the inventions disclosed in this application will be briefly described typical ones are as follows.
【0012】 [0012]
すなわち、本発明による液晶表示装置は、基板の遮光領域内に固定されたスペーサを備え、該スペーサの近傍の遮光領域の幅が該遮光領域の延在方向の他の部分の幅よりも大きくなっていることを特徴とするものである。 That is, the liquid crystal display device according to the invention comprises a spacer that is fixed to the light shielding region of the substrate, the width of the light shielding region in the vicinity of the spacer is greater than the width of the other portions in the extending direction of the light shielding region and it is characterized in that is.
【0013】 [0013]
このように構成された液晶表示装置は、スペーサを遮光領域内に配置させるとともに、その周辺の遮光領域の幅が他の部分により大きくなっていることから、該スペーサに起因する配向乱れを該遮光領域によって完全に覆い隠すことができるようになる。 The liquid crystal display device having such a constitution, along with to place the spacers within the light-shielding region, since the width of the light shielding regions around the is increased by other portions, the light blocking alignment disorder due to the spacer it is possible to completely cover the region.
【0014】 [0014]
このことから、この配向乱れを透過する光を認識できなくなり、表示むらの発生を抑制することができるようになる。 Therefore, can not recognize the light transmitted through the alignment disturbance, it is possible to suppress the occurrence of display unevenness.
【0015】 [0015]
【発明の実施の形態】 DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
以下、本発明による液晶表示装置の実施例を図面を用いて説明する。 Hereinafter, an embodiment of a liquid crystal display device according to the present invention with reference to the drawings.
【0016】 [0016]
参考例1〕 [Reference Example 1]
図1は、いわゆる横電界方式と称される液晶表示装置の各画素のうちの一つの画素を示す平面図である。 Figure 1 is a plan view showing one pixel of each pixel of the called liquid crystal display device with a so-called lateral electric field type.
【0017】 [0017]
ここで、この参考例の液晶表示装置において、その液晶は正の誘電率異方性を有するものが用いられるようになっている。 Here, in the liquid crystal display device of this reference example, the liquid crystal is adapted to having a positive dielectric anisotropy is used.
【0018】 [0018]
各画素はマトリックス状に配置されて表示部を構成している。 Each pixel constitutes a display unit are arranged in a matrix. このため、図1に示す画素の構成はその左右および上下に隣接する画素の構成と同様となっている。 Therefore, the configuration of the pixel shown in FIG. 1 has a similar to the configuration of the pixels adjacent to the left and right and up and down.
【0019】 [0019]
まず、液晶を介して対向配置される透明基板のうち、一方の透明基板1の液晶側の面において図中x方向に延在する走査信号線(ゲート線)2がたとえばクロム層によって形成されている。 First, of the transparent substrate disposed to face each other through a liquid crystal, are formed by one extending direction x in the figure in the liquid-crystal-side surface of the transparent substrate 1 scanning signal line (gate line) 2, for example chromium layer there. このゲート線2は、図中に示すように、たとえば画素領域の下側に形成され、実質的に画素として機能する領域をできるだけ大きくとるようになっている。 The gate line 2, as shown in the figure, for example, is formed on the lower side of the pixel region, and substantially so as large as possible a region functioning as a pixel.
【0020】 [0020]
そして、このゲート線2は表示部外からゲート信号が供給されるようになっており、後述の薄膜トランジスタTFTを駆動させるようになっている。 Then, the gate line 2 is adapted to a gate signal supplied from the display outsiders, so as to drive the thin film transistor TFT described later.
【0021】 [0021]
また、画素領域のほぼ中央には図中x方向に延在する対向電圧信号線4がたとえばゲート線2と同じ材料によって形成されている。 Also formed of the same material as the counter voltage signal line 4 is for example a gate line 2 extending in the x direction in the drawing is approximately in the center of the pixel region.
【0022】 [0022]
対向電圧信号線4には対向電極4Aが一体的に形成され、この対向電極4Aは画素領域内で該対向電圧信号線4とともにほぼ'H'字状のパターンで形成されている。 The counter voltage signal line 4 counter electrodes 4A are formed integrally, the counter electrode 4A is formed in a pattern substantially 'H' shaped with the counter voltage signal line 4 in the pixel region.
【0023】 [0023]
この対向電極4Aは、後述する画素電極5に供給される映像信号に対して基準となる信号が該対向電圧信号線4を介して供給されるようになっており、該画素電極5との間に前記映像信号に対応した強度の電界を発生せしめるようになっている。 The counter electrode 4A is adapted to signal serving as a reference for the video signal supplied to the pixel electrode 5, which will be described later, is supplied through the counter voltage signal line 4, between the pixel electrode 5 so that the allowed to generate an electric field intensity corresponding to the video signal.
【0024】 [0024]
この電界は透明基板1面に対して平行な成分をもち、この成分からなる電界によって液晶の光透過率を制御するようになっている。 This field has a component parallel to the transparent substrate 1 side, and controls the light transmissivity of the liquid crystal by an electric field consisting of the components. この参考例で説明する液晶表示装置がいわゆる横電界方式と称される所以となっている。 The liquid crystal display device described in this reference example is a reason, so called horizontal electric field type.
【0025】 [0025]
なお、対向電圧信号線4には表示部外から基準信号が供給されるようになっている。 Incidentally, the reference signal from the display outsiders are supplied to the counter voltage signal line 4.
【0026】 [0026]
そして、このようにゲート線2および対向電圧信号線4が形成された透明基板1面には、該ゲート線2および対向電圧信号線4をも含んでたとえばシリコン窒化膜からなる絶縁膜(図示せず)が形成されている。 Then, thus the gate line 2 and the counter voltage signal line 4 transparent substrate 1 side which is formed in the insulating film (shown consisting also comprise for example a silicon nitride film the gate line 2 and the counter voltage signal line 4 It not) is formed.
【0027】 [0027]
この絶縁膜は、後述の薄膜トランジスタTFTの形成領域においてはそのゲート絶縁膜としての機能、後述の映像信号線(ドレイン線)3の形成領域においてはゲート線2および対向電圧信号線4に対する層間絶縁膜としての機能、後述の容量素子Caddの形成領域においてはその誘電体膜としての機能を有するようになっている。 The insulating film functions as a gate insulating film in a region below of the thin-film transistor TFT, the interlayer insulating film for the gate line 2 and the counter voltage signal line 4 is in a region of the video signal lines (drain lines) 3 below function as in the formation region of the capacitor Cadd later has to have a function as the dielectric film.
【0028】 [0028]
このような絶縁膜において、ゲート線2と重畳して薄膜トランジスタTFTが形成され、その部分にはたとえばアモルファスSiからなる半導体層6が形成されている。 In such an insulating film, it is formed a thin film transistor TFT so as to overlap with the gate line 2, on its part the semiconductor layer 6 made of, for example, amorphous Si is formed.
【0029】 [0029]
そして、半導体層6の上面にドレイン電極3Aおよびソース電極5Aが形成されることによって、前記ゲート線2の一部をゲート電極とするいわゆる逆スタガ構造の薄膜トランジスタが構成される。 And by the drain electrode 3A and the source electrode 5A is formed on the upper surface of the semiconductor layer 6, the thin film transistor is constituted of a so-called inverted staggered structure in which a portion of the gate line 2 and the gate electrode.
【0030】 [0030]
ここで、半導体層6上のドレイン電極3Aおよびソース電極5Aは、たとえばドレイン線3の形成時に画素電極5ともに同時に形成されるようになっている。 Here, the drain electrode 3A and the source electrode 5A on the semiconductor layer 6, and is formed a pixel electrode 5 together at the same time for example during the formation of the drain wire 3.
【0031】 [0031]
すなわち、図中y方向に延在するドレイン線3が形成され、このドレイン線3に一体的に形成されるドレイン電極3Aが半導体層6上に形成されている。 That, is formed a drain line 3 extending in the y direction in the drawing, the drain electrode 3A which is integrally formed on the drain line 3 is formed on the semiconductor layer 6.
【0032】 [0032]
ここで、ドレイン線3は、図中に示すように、たとえば画素領域の左側に形成され、実質的に画素として機能する領域をできるだけ大きくとるようになっている。 Here, the drain line 3, as shown in the figure, for example, is formed on the left side of the pixel region, and substantially so as large as possible a region functioning as a pixel.
【0033】 [0033]
また、ソース電極5Aは、ドレイン線3と同時に形成され、この際、画素電極5と一体的に形成されるようになっている。 The source electrode 5A, the drain lines 3 at the same time is formed, this time, and is integrally formed with the pixel electrode 5.
【0034】 [0034]
この画素電極5は、前述した対向電極4Aの間を走行するようにして図中y方向に延在するようにして形成されている。 The pixel electrode 5 is formed so as to extend in the drawing direction y so as to travel between the counter electrodes 4A described above. 換言すれば、画素電極5の両脇にほぼ等間隔に対向電極4Aが配置されるようになっており、該画素電極5と対向電極4Aとの間に電界を発生せしめるようになっている。 In other words, being adapted to the counter electrode 4A are arranged at substantially equal intervals on both sides of the pixel electrode 5, so that allowed to generate an electric field between the pixel electrode 5 and the counter electrode 4A.
【0035】 [0035]
ここで、図中からも明らかとなるように、画素電極5は、対向電圧信号線4を境にして屈曲されたたとえば逆'く'字状のパターンに構成され、これにともない、該画素電極5と対向する各対向電極4Aも画素電極5に対して平行に離間されるようにその幅が変化するように構成されている。 Here, as will become apparent from the figure, the pixel electrode 5 is configured to the counter voltage signal line 4 'Ku' such as reverse is bent in the boundary-shaped pattern, with the result, the pixel electrode It is configured to change the width as spaced parallel to 5 and the counter the counter electrodes 4A also pixel electrode 5.
【0036】 [0036]
すなわち、屈曲された画素電極5がその長手方向において、同図に示すように均一な幅を有している場合、その両脇に位置づけられる対向電極4Aは、そのドレイン線3側の辺においては該ドレイン線3と平行に、また、画素電極5側の辺においては該画素電極5と平行になって形成されている。 That is, at the bent pixel electrode 5 is the longitudinal direction, when it has a uniform width as shown in the figure, the counter electrode 4A positioned on both sides, at the sides of the drain line 3 side in parallel with the drain line 3, also formed in parallel with the pixel electrode 5 in the sides of the pixel electrode 5 side.
【0037】 [0037]
これにより、画素電極5と対向電極4Aとの間に発生する電界Eの方向は、対向電圧共通線4を境として、図中、その下側の画素領域においては該対向電圧共通線4に対して(−)θとなっており、上側の画素領域においては該対向電圧共通線4に対して(+)θとなっている。 Thus, the direction of the electric field E generated between the pixel electrode 5 and the counter electrode 4A, a boundary counter voltage common line 4, in the figure, with respect to the counter voltage common line 4 in the pixel area of ​​the lower Te (-) has a theta, and has a (+) theta relative counter voltage common line 4 in the upper pixel region.
【0038】 [0038]
このように、一画素の領域内(必ずしも一画素の領域内に限らず、他の画素との関係であってもよい)において、電界Eの方向を異ならしめているのは、一定の初期配向方向に対して液晶分子をそれぞれ逆方向へ回転させて光透過率を変化させることにある。 Thus, (not limited to necessarily area of ​​one pixel, a relationship may be with other pixels) a pixel in the region in, what made different in the direction of the electric field E is constant initial alignment direction in changing the light transmittance is rotated in the opposite directions of the liquid crystal molecules against.
【0039】 [0039]
このようにすることによって、液晶表示パネルの主視角方向に対して視点を斜めに傾けると輝度の逆転現象を引き起こすという液晶表示パネルの視角依存性による不都合を解消した構成となっている。 By doing so, has a configuration which overcomes the disadvantages due to the viewing angle dependence of the liquid crystal display panel that Tilting the viewpoint with respect to the main viewing direction of the liquid crystal display panel at an angle causing reversals luminance.
【0040】 [0040]
なお、この参考例では、液晶分子の初期配向方向はドレイン線3の延在方向とほぼ一致づけられており、後述する配向膜におけるラビング方向はドレイン線3に沿ってなされるようになっている。 In this reference example, the initial alignment direction of the liquid crystal molecules are associated substantially coincides with the extending direction of the drain lines 3, the rubbing direction in the later-described alignment film is adapted to be made along the drain lines 3 .
【0041】 [0041]
このため、上述した電界方向θは、該初期配向方向との関係で適切な値が設定されるようになっている。 Therefore, the electric field direction θ described above, so that the appropriate values ​​are set in relation to the initial orientation direction. 一般的には、このθは、電界Eのゲート線2に対する角度の絶対値が電界Eのドレイン線3に対する角度の絶対値より小さくなっている。 In general, this θ is the absolute value of the angle with respect to the gate line 2 of the electric field E is smaller than the absolute value of the angle with respect to the drain lines 3 of the electric field E.
【0042】 [0042]
そして、前記画素電極5において、その対向電圧信号線4に重畳する部分はその面積を大ならしめるように形成され、該対向電圧信号線4との間に容量素子Caddが形成されている。 Then, in the pixel electrode 5, the portion overlapping the counter voltage signal line 4 is formed so as to occupy become large and its area, capacitor Cadd is formed between the counter voltage signal line 4. この場合の誘電体膜は前述した絶縁膜となっている。 The dielectric film in this case has a dielectric film described above.
【0043】 [0043]
この容量素子Caddはたとえば画素電極5に供給される映像信号を比較的長く蓄積させるために形成されるようになっている。 The capacitor Cadd is configured to be formed in order to relatively long accumulating the video signal supplied to the pixel electrode 5, for example. すなわち、ゲート線2から走査信号が供給されることによって薄膜トランジスタTFTがオンし、ドレイン線3からの映像信号がこの薄膜トランジスタTFTを介して画素電極5に供給される。 That is, the thin film transistor TFT is turned on by a scanning signal from the gate line 2 is supplied, the video signal from the drain line 3 is supplied to the pixel electrode 5 through the thin film transistor TFT. その後、薄膜トランジスタTFTがオフした場合でも、画素電極5に供給された映像信号は該容量素子Caddによって蓄積されるようになっている。 Thereafter, even when the thin film transistor TFT is turned off, the video signal supplied to the pixel electrode 5 is configured to be stored by the capacitive element Cadd.
【0044】 [0044]
そして、このように形成された透明基板1の表面の全域には、たとえばシリコン窒化膜からなる保護膜(図示せず)が形成され、たとえば薄膜トランジスタTFTの液晶への直接の接触を回避できるようになっている。 Then, the entire area of ​​the thus formed transparent substrate 1 of the surface, for example, silicon nitride consists of film-protecting film (not shown) is formed, for example, it can be avoided a direct contact to the liquid crystal of the thin film transistor TFT going on.
【0045】 [0045]
さらに、この保護膜の上面には、液晶の初期配向方向を決定づける配向膜(図示せず)が形成されている。 Further, on the upper surface of the protective film, the alignment film determines the initial alignment direction of the liquid crystal (not shown) is formed. この配向膜は、たとえば合成樹脂膜を被服し、その表面に前述したようにドレイン線の延在方向に沿ったラビング処理がなされることによって形成されている。 This alignment film is formed by, for example to clothing synthetic resin film, rubbing along the extending direction of the drain line as described above on the surface is made.
【0046】 [0046]
このようにして表面加工がなされた透明基板はいわゆるTFT基板1Aと称され、その配向膜が形成された面に液晶を介在させていわゆるフィルタ基板1Bと称される透明基板を対向配置させることによって液晶表示パネルが完成されることになる。 Thus the transparent substrate surface processing is made is referred to as a so-called TFT substrate 1A, the alignment layer is interposed a liquid crystal is formed surface with the transparent substrate, it referred to as so-called filter substrate 1B by opposed so that the liquid crystal display panel is completed.
【0047】 [0047]
フィルタ基板1Bには、その液晶側の面に画素領域の輪郭を画するブラックマトリックス(その外輪郭を図1に示している)BM、このブラックマトリックスの開口部(画素領域の周辺を除く中央部に相当する)に形成されたカラーフィルタ、および液晶と接触するようして形成された配向膜等が形成されている。 Central portion on the filter substrate 1B, except that the black matrix demarcating the contour of the liquid crystal side surface in the pixel region (which shows the outer contour in FIG. 1) BM, the periphery of the opening (pixel region of the black matrix color filter formed corresponding), and an alignment film or the like formed by such contact with the liquid crystal is formed on.
【0048】 [0048]
ここで、フィルタ基板1B側の配向膜は、TFT基板1A側のそれと同様、たとえば合成樹脂膜を被服し、その表面に前述したようにドレイン線3の延在方向に沿ったラビング処理がなされることによって形成されている。 Here, the alignment layer of the filter substrate 1B side, similar to the TFT substrate 1A side, for example, synthetic resin film clothing and rubbed along the extending direction of the drain line 3 as described above on the surface is made It is formed by.
【0049】 [0049]
いわゆる横電界方式の液晶表示装置においては、液晶を介して配置されるそれぞれの配向膜における配向方向はいずれもほぼ同方向で、その方向は、本参考例の場合、ドレイン線3の延在方向にほぼ一致づけられている。 In the liquid crystal display device of the so-called lateral electric field method, in substantially the same direction both the alignment direction in each of the alignment film is disposed through the liquid crystal, the direction, in the present reference example, the extending direction of the drain lines 3 It is almost correlated match to.
【0050】 [0050]
さらに、液晶を介して互いに対向配置されるTFT基板1Aとフィルタ基板1Bとの間にはそれらの間のギャップを保持するため、スペーサ10が介在されている。 Furthermore, since between the TFT substrate 1A and the filter substrate 1B which are arranged to face each other via the liquid crystal to hold the gap between them, the spacer 10 is interposed. 上述したように、これにより液晶の層厚を均一なものとして表示むらの発生を防止せんがためである。 As described above, thereby in order does not prevent the occurrence of display unevenness the layer thickness of the liquid crystal as uniform.
【0051】 [0051]
この場合のスペーサ10は、たとえばフィルタ基板1B側に予め所定の個所に固定されて配置されたもので、本参考例の場合、ドレイン線3に重畳するようにして設けられている。 In this case the spacer 10, for example one that is arranged fixed in advance to a predetermined location on the filter substrate 1B side, the case of the present embodiment, is provided so as to overlap the drain lines 3.
【0052】 [0052]
図2は図1のII−II線における断面を示す図である。 Figure 2 is a view showing a cross section taken along a line II-II of Figure 1. フィルタ基板1B側の透明基板の液晶側の面にはブラックマトリックスBMが形成され、このブラックマトリックスBMの一部において突起体が形成されることによって、この突起体が前記スペーサ10として機能するようになっている。 The surface of the transparent substrate on the liquid crystal side of the filter substrate 1B side black matrix BM is formed by protrusions is formed in a portion of the black matrix BM, as the protrusion functions as the spacer 10 going on.
【0053】 [0053]
この突起体は、たとえば通常より厚めの遮光材料層を全面に形成し、周知のフォトリソグラフィ技術による選択エッチング方法で形成することができる。 The protrusions may, for example, is formed on the entire surface of the thick light-shielding material layers than usual, it can be formed by selective etching method according to well-known photolithography technique. その後、再びフォトリソグラフィ技術による選択エッチング方法で開口部を形成することによってブラックマトリックスBMを形成することができる。 Then, it is possible to form the black matrix BM by forming an opening again in selective etching method using a photolithography technique.
【0054】 [0054]
このブラックマトリックスBMは、図1に示すように、ゲート線2およびその近傍、ドレイン線3およびその近傍を被って形成され、その開口部は、画素電極5と対向電極4Aとの間の領域を露出し、画素電極5と対向電極4Aの端部を覆い隠すようにして形成されている。 The black matrix BM, as shown in FIG. 1, the gate line 2 and the vicinity thereof, is formed to cover the drain lines 3 and the vicinity thereof, the opening area between the pixel electrode 5 and the counter electrode 4A exposed, it is formed so as to cover the end portion of the pixel electrode 5 and the counter electrode 4A.
【0055】 [0055]
ブラックマトリックスの開口部は、それが大きければ画素の開口率をより向上させることができるが、不要電界(ドレイン線3と対向電極4Aとの間に生じる)および電界の乱れ(画素電極5と対向電極4Aの端部の近傍に生じる)を覆い隠すに足りる程度に最大限の大きさに設定されている。 Opening of the black matrix is ​​that it can improve the aperture ratio of greater if pixel (generated between the drain line 3 and the counter electrode 4A) required field and electric field disturbance (pixel electrode 5 and the counter It is set to the maximum size to a degree sufficient to cover the results in the vicinity of the end portion of the electrode 4A).
【0056】 [0056]
そして、ブラックマトリックスBMの開口部にはカラーフィルタ7が形成され、それらを被って平坦膜8が形成され、さらに、この平坦膜8を被うようにして配向膜9が形成されている。 Then, the opening portion of the black matrix BM color filter 7 is formed, suffer from these is formed flat film 8, further alignment film 9 is formed so as to cover the flat film 8.
【0057】 [0057]
この配向膜9は、上述したように、ドレイン線3の延在方向に沿ってラビング処理がなされたものであり、具体的には、図3に示すように、ローラ100を配向膜9に当接させた状態でドレイン線3の延在方向に移動させるようになっている。 The alignment film 9, as described above, which rubbing treatment is made along the extending direction of the drain lines 3, specifically, as shown in FIG. 3, those rollers 100 in the alignment film 9 It is adapted to move in the extending direction of the drain lines 3 in a state of being contact.
【0058】 [0058]
この場合、同図に示すように、スペーサ10が形成されている部分はその突起体によって、ローラ100が浮き上がり、該スペーサ10の背面側において充分な配向ができない(配向乱れ200の発生)という不都合が生じる。 In this case, as shown in the figure, the portion where the spacer 10 is formed by the protrusions, lifting the roller 100, a disadvantage that can not be sufficiently oriented in the back side of the spacer 10 (the occurrence of alignment disorder 200) It occurs.
【0059】 [0059]
しかし、この部分は、図1に示すように、予め形成されているブラックマトリックスの形成領域内において発生するようになっており、該配向乱れによる表示むらを憂うことがないという効果を奏するようになる。 However, this portion, as shown in FIG. 1, is adapted to generate in the formation region of the black matrix are formed in advance, as an effect that has never Ureu display irregularities due to the alignment disorder Become.
【0060】 [0060]
なお、この参考例では、スペーサ10に起因する配向乱れをブラックマトリックスBM内に位置づけられるように構成したが、特に、この部分においてブラックマトリックスBMがない状態であってもよいことはいうまでもない。 Incidentally, in this reference example has been configured to be positioned alignment disorder due to the spacer 10 within the black matrix BM, in particular, it is needless to say that may be the absence of the black matrix BM in this section .
【0061】 [0061]
ドレイン線3に重畳されたスペーサ10に起因する配向乱れは遮光領域となる該ドレイン線3によって覆い隠され同様の効果を奏するからである。 Alignment disorder due to a spacer 10 which is superposed on the drain line 3 is because the same effect is obscured by the drain line 3 as a light-shielding region.
【0062】 [0062]
また、対向電極4Aに接続される対向電圧信号線4をドレイン線3と平行に延在させて構成することもでき、このようにした場合に、該スペーサ10を対向電圧信号線4に重畳するように構成しても同様の効果を奏することはいうまでもない。 Further, the counter voltage signal line 4 connected to the counter electrode 4A was parallel to extend the drain lines 3 can also be configured in such a case, to overlap the spacer 10 to the counter voltage signal line 4 it goes without saying that the same effect be configured to. 対向電圧信号線4も該スペーサ10の遮光領域となるからである。 The counter voltage signal line 4 is also because the light shielding region of the spacer 10.
【0063】 [0063]
参考例2〕 [Reference Example 2]
図4は、本発明による液晶表示装置の他の参考例を示す平面図で、図1と対応した図となっている。 Figure 4 is a plan view showing another reference example of a liquid crystal display device according to the present invention, and corresponds to FIG.
【0064】 [0064]
同図において、ゲート線2、対向電圧信号線4、対向電極4A、ドレイン線3、画素電極5等のパターンは図1と同様となっている。 In the figure, the gate line 2, the counter voltage signal line 4, the counter electrode 4A, the drain wire 3, the pattern of such pixel electrode 5 has the same as FIG.
【0065】 [0065]
図1の場合と異なる構成は、まず、用いられる液晶は負の誘電率異方性を有するものとなっている。 If a different structure in FIG. 1, first, the liquid crystal used has become as having a negative dielectric anisotropy.
【0066】 [0066]
そして、TFT基板1Aおよびフィルタ基板1Bのそれぞの側の配向膜のラビング方向(初期配向方向)はゲート線2の延在方向に沿ってなされるようになっている。 Then, the rubbing direction (initial orientation direction) of the alignment film on the side of each that of TFT substrate 1A and the filter substrate 1B is designed to be made in the extending direction of the gate line 2.
【0067】 [0067]
さらに、基板に固定されるスペーサ10はゲート線2に重畳されるようにして配置されていることにある。 Further, the spacer 10 is fixed to the substrate in that it is arranged so as to be superimposed on the gate line 2.
【0068】 [0068]
スペーサ10に起因する配向膜の配向乱れはゲート線2に沿って生じることになり、この場合において、該配向乱れはゲート線2あるいはブラックマトリックスBMによる遮光領域によって覆い隠されることになる。 Alignment disorder of the alignment film due to the spacer 10 will be generated along the gate line 2, in this case, the orientation disturbance would be obscured by the light shielding region by the gate lines 2 or the black matrix BM.
【0069】 [0069]
参考例3〕 [Reference Example 3]
図5は、本発明による液晶表示装置の他の参考例を示す平面図で、図1と対応した図となっている。 Figure 5 is a plan view showing another reference example of a liquid crystal display device according to the present invention, and corresponds to FIG.
【0070】 [0070]
そして、この参考例の液晶表示装置において、その液晶は正の誘電率異方性を有するものが用いられるようになっている。 Then, in the liquid crystal display device of this reference example, the liquid crystal is adapted to having a positive dielectric anisotropy is used. また、配向膜のラビング方向によって決定づけられる液晶の初期配向方向はゲート線2に沿って形成されている。 Also, the initial alignment direction of the liquid crystal which is dictated by the rubbing direction of the alignment film is formed along the gate line 2.
【0071】 [0071]
図1の場合と比較して、まず、画素電極5と対向電極4Aのそれぞれのパターンが異なっている。 As compared with the case of FIG. 1, first, the different respective patterns of the pixel electrode 5 and the counter electrode 4A.
【0072】 [0072]
すなわち、画素電極5と対向電極4Aはそれぞれゲート線とほぼ平行に配置されるように構成されている。 That is, the pixel electrode 5 and the counter electrode 4A is configured to be substantially parallel to the respective gate lines.
【0073】 [0073]
具体的には、画素電極5は、薄膜トランジスタTFTのソース電極5Aから近接するドレイン線3に沿って延在され、その延在部から画素領域内に実質的に機能する画素電極5が延在されている。 Specifically, the pixel electrode 5, extends along the drain lines 3 adjacent the source electrode 5A of the thin-film transistor TFT, the pixel electrode 5 which substantially functions are extended in the extending portion from the pixel region ing.
【0074】 [0074]
この場合、対向電圧信号線4を境にして、その図中上側においては各画素電極5がそれぞれゲート線2に対して(−)θの角度を有して形成され、下側においては各画素電極がそれぞれゲート線2に対して(+)θの角度を有して形成されている。 In this case, the counter voltage signal line 4 as a boundary, the in the upper side in the drawing with respect to the gate line 2 each pixel electrode 5, respectively (-) is formed with an angle of theta, each pixel in the lower electrodes are formed at an angle with respect to the gate line 2 (+) theta respectively.
【0075】 [0075]
また、対向電極4Aは、前記ドレイン線3に隣接する他方のドレイン線(図示せず)に沿った対向電圧信号線4の延在部から画素領域内に延在されて形成されている。 The counter electrode 4A is formed extending in the pixel region from the extension of the counter voltage signal line 4 along the other of the drain line adjacent to the drain lines 3 (not shown).
【0076】 [0076]
この場合の対向電極4Aは前記画素電極5を間にかつ平行に位置づけるようにして延在されている。 The counter electrode 4A in this case is extended so as to locate in parallel and between the pixel electrode 5. 従って、このため、これら対向電極4Aのうち幾つかはその幅が変化した状態で形成されるようになっている。 Therefore, Therefore, some of these counter electrode 4A is configured to be formed with its width is changed.
【0077】 [0077]
このように構成された画素電極と対向電極との間で発生する電界Eは、対向電圧信号線4を境にして、図中その上側における方向と下側における方向とでは異なるようになっている。 Electric field E generated between the thus constructed pixel electrode and the counter electrode, and the counter voltage signal line 4 as a boundary, and is different in the direction in drawing direction and the lower side of its upper .
【0078】 [0078]
しかし、上下のいずれの場合においても、各電界Eのゲート線2に対する角度の絶対値がドレイン線3に対する角度の絶対値より大きくなっている。 However, in any case the upper and lower also the absolute value of the angle with respect to the gate line 2 of the electric field E becomes greater than the absolute value of the angle with respect to the drain lines 3.
【0079】 [0079]
すなわち、これにより、液晶の分子を一定の初期配向方向(ゲート線2に沿う方向)に対してそれぞれ逆方向に回転できるようにして、上述した液晶表示パネルの視角依存性による不都合を解消した構成となっている。 That is, the configuration thereby, so as to be rotated in opposite directions the molecules of the liquid crystal with respect to a fixed initial orientation direction (the direction along the gate line 2), and eliminate a disadvantage due to the viewing angle dependence of the liquid crystal display panel described above It has become.
【0080】 [0080]
すなわち、前記初期配向方向は、ゲート線2に沿った方向となっており、TFT基板1Aおよびフィルタ基板1Bのそれぞの側の配向膜のラビング方向はゲート線2の延在方向にほぼ一致づけられている。 That is, the initial orientation has a direction along the gate line 2, the rubbing direction of the alignment film on the side of each that of TFT substrate 1A and the filter substrate 1B is substantially equal pickled in the extending direction of the gate line 2 It is.
【0081】 [0081]
そして、基板に固定されるスペーサ10はゲート線2に重畳されるようにして配置されていることにある。 Then, the spacer 10 is fixed to the substrate in that it is arranged so as to be superimposed on the gate line 2.
【0082】 [0082]
スペーサ10に起因する配向膜の配向乱れはゲート線2に沿って生じることになり、この場合においても、該配向乱れはゲート線2あるいはブラックマトリックスBMによる遮光領域によって覆い隠されることになる。 Alignment disorder of the alignment film due to the spacer 10 will be generated along the gate line 2, in this case, the orientation disturbance would be obscured by the light shielding region by the gate lines 2 or the black matrix BM.
【0083】 [0083]
参考例4〕 [Reference Example 4]
図6は、本発明による液晶表示装置の他の参考例を示す平面図で、図5と対応した図となっている。 Figure 6 is a plan view showing another reference example of a liquid crystal display device according to the present invention and is a drawing corresponding to FIG. 5.
【0084】 [0084]
同図において、ゲート線2、対向電圧信号線4、対向電極4A、ドレイン線3、画素電極5等のパターンは図5と同様となっている。 In the figure, the gate line 2, the counter voltage signal line 4, the counter electrode 4A, the drain wire 3, the pattern of such pixel electrode 5 has the same as FIG.
【0085】 [0085]
図5の場合と異なる構成は、まず、用いられる液晶は負の誘電率異方性を有するものとなっている。 If a different structure in FIG. 5, first, the liquid crystal used has become as having a negative dielectric anisotropy.
【0086】 [0086]
そして、TFT基板1Aおよびフィルタ基板1Bのそれぞの側の配向膜のラビング方向(初期配向方向)はゲート線2とほぼ直交する方向に沿ってなされるようになっている。 Then, the rubbing direction (initial orientation direction) of the alignment film on the side of each that of TFT substrate 1A and the filter substrate 1B is designed to be made along a direction substantially perpendicular to the gate line 2.
【0087】 [0087]
さらに、基板に固定されるスペーサ10はドレイン線3に重畳されるようにして配置されていることにある。 Further, the spacer 10 is fixed to the substrate in that it is arranged so as to be superimposed on the drain line 3.
【0088】 [0088]
スペーサ10に起因する配向膜の配向乱れはドレイン線3に沿って生じることになり、この場合において、該配向乱れはドレイン線3あるいはブラックマトリックスBMによる遮光領域によって覆い隠されることになる。 Alignment disorder of the alignment film due to the spacer 10 will be generated along the drain lines 3, in this case, the orientation disturbance would be obscured by the light shielding region by the drain lines 3 or the black matrix BM.
【0089】 [0089]
参考例5〕 [Reference Example 5]
図7は、本発明による液晶表示装置の他の参考例を示す説明図である。 Figure 7 is an explanatory view showing another reference example of a liquid crystal display device according to the present invention.
【0090】 [0090]
同図(a)は、液晶表示装置の各画素の配列の状態を示しているものである。 FIG (a) is present the state of arrangement of each pixel of the liquid crystal display device. 図中、黒枠はブラックマトリックスBMを示し、その開口部は各画素を示している。 In the figure, the black frame shows a black matrix BM, its opening shows each pixel.
【0091】 [0091]
いわゆるデルタ配置と称されるもので、隣接するゲート線(図中x方向に延在する)に沿うそれぞれの画素群が1/2ピッチずれて配置されている。 So-called delta in arrangement shall be called, each pixel group along the adjacent gate line (extending in the x direction in the drawing) are shifted a half pitch. このような画素の配置はカラー表示における一画素に相当するR(赤)、G(緑)、B(青)の3画素が互いに近接して配置されることからカラー表示品質を良好なものとできることが知られている。 Such an arrangement of the pixels corresponds to one pixel in a color display R (red), G (green), and those of the color display quality favorable since B is 3 pixels (blue) are disposed close to each other it is known that you can.
【0092】 [0092]
このような場合において、基板に固定されるスペーサはゲート線に重畳されるように配置されるとともに、配向膜のラビング方向(初期配向方向)はゲート線に沿った方向となっている。 In such a case, a spacer which is fixed to the substrate while being arranged so as to be superimposed on the gate line, the rubbing direction of the alignment film (initial alignment direction) is in a direction along the gate line.
【0093】 [0093]
このように構成することによって、スペーサに起因する配向膜の配向乱れはブラックマトリックスの形成領域内に配置され、その開口部から露出することがないので、表示の品質を劣化させるようなことがなくなる。 By such a configuration, alignment disorder of the alignment film due to the spacers are disposed in the formation region of the black matrix, since there is no exposed from the opening, there is no such thing as degrading the quality of the display .
【0094】 [0094]
さらに詳細に説明すると、仮に、同図(b)の構成で、基板に固定されるスペーサをドレイン線に重畳して配置させるとともに、配向膜のラビング方向(初期配向方向)をゲート線に直交する方向とした場合に、スペーサ10に起因する配向膜の配向乱れは1/2ピッチずれた下段(あるいは上段)の画素領域(ブラックマトリックスの開口部内)にまで及んで形成され、表示の品質の劣化をもたらすことになってしまうからである。 In more detail, if, in the configuration of FIG. (B), the spacer being fixed to the substrate causes disposed to overlap with the drain line, perpendicular rubbing direction (initial orientation direction) to the gate line when a direction, alignment disorder of the alignment film due to the spacer 10 is formed to extend to the pixel area of ​​a half pitch shifted lower (or upper) (in the opening of the black matrix), display quality degradation of This is because it becomes to bring.
【0095】 [0095]
そして、この参考例に示す液晶表示装置において、横電界方式を採用する場合には、たとえば上述した参考例のうち図4および図5の画素構成とすることができるようになる。 Then, in the liquid crystal display device shown in Reference Example, when adopting the horizontal electric field method, for example, it is possible to the pixel configuration of the Figure 4 and Figure 5 of reference example described above.
【0096】 [0096]
図4および図5の場合、そのいずれも基板に固定されるスペーサ10はゲート線2に重畳されるように配置されるとともに、配向膜のラビング方向(初期配向方向)はゲート線2に沿った方向となっているからである。 For Figures 4 and 5, a spacer 10 fixed to the both substrates together is arranged so as to be superimposed on the gate line 2, the rubbing direction of the alignment film (initial alignment direction) along the gate line 2 This is because has a direction.
【0097】 [0097]
なお、この参考例に示す液晶表示装置においていわゆる縦電界方式を採用できることはいうまでもない。 Incidentally, it is needless to say that a so-called vertical electric field type liquid crystal display device shown in Reference Example.
【0098】 [0098]
すなわち、縦電界方式の液晶表示装置は、液晶を介して対向配置される各透明基板側の配向膜はそれぞれ互いに直交する方向にラビング処理がなされている。 That is, the liquid crystal display device of vertical electric field method is rubbed in a direction alignment layer orthogonal to each other of the transparent substrate disposed to face each other via the liquid crystal have been made.
【0099】 [0099]
このため、スペーサをTFT基板側に固定させる場合には、そのスペーサをゲート線に重畳する位置に配置させるとともに、該TFT基板側の配向膜のラビング処理の方向をゲート線に沿った方向とすればよい。 Therefore, when fixing the spacer to the TFT substrate side, with is positioned to superimpose the spacer to the gate lines, by a direction along the direction the gate line of the rubbing of the TFT substrate side alignment film Bayoi. また、スペーサをフィルタ基板側に固定させる場合には、そのスペーサをゲート線に重畳する位置に配置させるとともに、該フィルタ基板側の配向膜のラビング処理の方向をゲート線に沿った方向とすればよい。 Furthermore, when fixing the spacer to the filter substrate side, with is positioned to superimpose the spacer to the gate line, if the direction along the gate line direction of the rubbing treatment of the filter substrate side alignment film good.
【0100】 [0100]
参考例6〕 [Reference Example 6]
上述の参考例5と同様に、いわゆるデルタ配置の構成としては、隣接するドレイン線に沿うそれぞれの画素群が1/2ピッチずれているものも知られている。 In the same manner as in Reference Example 5 described above, as the structure of the so-called delta arrangement, are also known in which each of the pixel groups along the adjacent drain lines are shifted 1/2 pitch.
【0101】 [0101]
この場合、基板に固定されるスペーサはドレイン線に重畳されるように配置されるとともに、配向膜のラビング方向(初期配向方向)はドレイン線に沿った方向となっている。 In this case, the spacers are fixed to the substrate while being arranged so as to be superimposed on the drain line, the rubbing direction of the alignment film (initial alignment direction) is in a direction along the drain lines.
【0102】 [0102]
そして、この参考例に示す液晶表示装置において横電界方式を採用する場合には、たとえば上述した参考例のうち図1および図6の画素構成とすることができるようになる。 When in the horizontal electric field mode liquid crystal display device shown in this reference example, for example, it is possible to pixel structure A of FIG. 1 and FIG. 6 of the reference example described above.
【0103】 [0103]
図1および図6の場合、そのいずれも基板に固定されるスペーサ10はドレイン線3に重畳されるように配置されるとともに、配向膜のラビング方向(初期配向方向)はゲート線とほぼ直交する方向となっているからである。 For Figures 1 and 6, the spacers 10 fixed to the both substrates together is arranged so as to be superimposed on the drain line 3, the rubbing direction of the alignment film (initial orientation direction) is substantially perpendicular to the gate line This is because has a direction.
【0104】 [0104]
また、縦電界方式の液晶表示装置の場合、スペーサをTFT基板側に固定させる場合には、そのスペーサをドレイン線に重畳する位置に配置させるとともに、該TFT基板側の配向膜のラビング処理の方向をドレイン線に沿った方向とすればよい。 Further, in the case of a liquid crystal display device of vertical electric field method, in the case of fixing the spacer to the TFT substrate side, with it is positioned to superimpose the spacer to the drain line, the direction of rubbing of the TFT substrate side alignment film the may be a direction along the drain lines. また、スペーサをフィルタ基板側に固定させる場合には、そのスペーサをドレイン線に重畳する位置に配置させるとともに、該フィルタ基板側の配向膜のラビング処理の方向をドレイン線に沿った方向とすればよい。 Furthermore, when fixing the spacer to the filter substrate side, with is positioned to superimpose the spacer to the drain line, if the direction along the drain lines in the direction of rubbing of the filter substrate side alignment film good.
【0105】 [0105]
参考例7〕 [Reference Example 7]
上述した参考例6では、画素がデルタ配置された縦電界方式の液晶表示装置について説明したものである。 In Reference Example 6 described above, it is those described for the liquid crystal display device of vertical electric field method in which pixels are arranged in a delta pattern.
【0106】 [0106]
しかし、画素がデルタ配置されていない縦電界方式の液晶表示装置においても前述した参考例を適用することができる。 However, it is possible to apply a reference example in which the pixel is also described above in the liquid crystal display device of vertical electric field method unplaced delta.
【0107】 [0107]
上述したように縦電界方式の液晶表示装置は液晶を介して対向配置される各透明基板のそれぞれの配向膜のラビング方向は直交しており、一方の基板側の配向膜のラビング方向は任意に設定することができる。 Rubbing direction of each of the alignment films of the transparent substrate liquid crystal display device of vertical electric field type as described above which are oppositely arranged with the liquid crystal are perpendicular to the rubbing direction of the alignment film of one of the substrates is optionally it can be set.
【0108】 [0108]
このため、スペーサをTFT基板側に固定し、かつ、そのTFT基板側の配向膜のラビング方向をゲート線に沿って設定した場合、該スペーサはゲート線に重畳する位置に配置させるようにすればよい。 Thus, the spacer was fixed on the TFT substrate side, and, if you set along the rubbing direction of the TFT substrate side alignment film to the gate line, the spacer be caused to be disposed in a position that overlaps the gate line good. また、スペーサをフィルタ基板側に固定し、かつ、そのTFT基板側の配向膜のラビング方向をゲート線とほぼ直交する方向に沿って設定した場合、該スペーサはドレイン線に重畳する位置に配置させるようにすればよい。 Further, the spacer was fixed on the filter substrate side, and, when set along a direction substantially orthogonal to the rubbing direction of the TFT substrate side alignment film and the gate line, the spacer is arranged at a position that overlaps with the drain line It should be so.
【0109】 [0109]
さらに、スペーサをTFT基板側に固定し、かつ、そのTFT基板側の配向膜のラビング方向をゲート線に直交する方向に沿って設定した場合、該スペーサはドレイン線に重畳する位置に配置させるようにすればよい。 Further, a spacer is fixed to the TFT substrate side, and, when set along a direction perpendicular to the rubbing direction of the TFT substrate side alignment film to the gate line, the spacer is to be disposed at a position that overlaps with the drain line it may be set to. また、スペーサをフィルタ基板側に固定し、かつ、そのTFT基板側の配向膜のラビング方向をゲート線に沿って設定した場合、該スペーサはゲート線に重畳する位置に配置させるようにすればよい。 Further, the spacer was fixed on the filter substrate side, and, if you set along the rubbing direction of the TFT substrate side alignment film to the gate line, the spacer may be caused to be disposed in a position that overlaps the gate line .
【0110】 [0110]
〔実施例〕 EXAMPLES
図8は、本発明による液晶表示装置のうち横電界方式における実施例を示す図である。 Figure 8 is a diagram showing the real施例that put the IPS mode of the liquid crystal display device according to the present invention.
【0111】 [0111]
同図は、液晶表示装置の各ゲート線のうちの一つに沿って切断された断面図であり、TFT基板1Aに対向するフィルタ基板1Bの側に固定されたスペーサ10が備えられている。 The figure is one cross-sectional view taken along one of the gate lines of the liquid crystal display device, a spacer 10 secured to the side of the filter substrate 1B which faces the TFT substrate 1A is provided.
【0112】 [0112]
そして、前記スペーサ10は、各基板のギャップを保持するスペーサ(第1スペーサ10Bと称す:図中領域Bに存在する)と、特に、各ゲート線の両端にそれぞれ重畳されて配置されるスペーサ(第2スペーサ10Aと称す:図中領域Aに存在する)からなっている。 Then, the spacer 10, the spacer for holding the gap of the substrates: spacers and (referred to as first spacer 10B present in the drawing area B), which is particularly arranged to be superimposed respectively on both ends of the gate lines ( It referred to as a second spacer 10A: consist present in the figure region a).
【0113】 [0113]
さらに、フィルタ基板1Bの液晶側の面には、TFT基板1A側の各ゲート線にそれぞれ重畳するようにしてそれぞれ導電層21が形成されている。 Furthermore, the liquid-crystal-side surface of the filter substrate 1B, respectively conductive layer 21 so as to overlap to each gate line of the TFT substrate 1A side.
【0114】 [0114]
この場合、これら各導電層21は、必然的に第2スペーサ10Aを被服する状態で形成されることになり、この第2スペーサ10Aの個所で対向配置されるゲート線2と電気的な接続がなされるようになる。 In this case, each of these conductive layers 21, inevitably the second spacers 10A will be formed in a garment to state an electrical connection with the gate line 2 disposed opposite at the point of the second spacer 10A so it is made.
【0115】 [0115]
このことから、ゲート線2は、それ本来の信号線とは別に迂回回路を備えることになり、たとえゲート線2に断線が発生したとしても、その断線は該迂回回路によって保護される効果を奏するようになる。 Therefore, the gate line 2, will be provided with a separate bypass circuit that the original signal lines, even if disconnection gate line 2 has occurred, the disconnection the effect that is protected by detour circuit so as to.
【0116】 [0116]
そして、上述した実施例は、ゲート線2の保護回路について説明したものであるが、ドレイン線3を保護する場合にもそのまま適用できることはいうまでもない。 Then, the above-mentioned embodiment, although those described for the protection circuit of the gate line 2, it is needless to say that the directly applicable in the case of protecting the drain lines 3. この場合、図中のゲート線2がドレイン線3に置き換えられることとなる。 In this case, a gate line 2 in the figure are replaced with the drain line 3.
【0117】 [0117]
なお、この実施例は、上述した各参考例のうち横電界方式の液晶表示装置の構成において適用してもよいことはいうまでもない。 In this embodiment, it may of course be applied in configuration of the liquid crystal display device of IPS mode among the reference example described above.
【0118】 [0118]
参考 [Reference Example 8]
図9は、本発明による液晶表示装置のうち縦電界方式のものの他の参考例を示す図である。 Figure 9 is a diagram showing another reference example of those vertical electric field type of liquid crystal display device according to the present invention.
【0119】 [0119]
同図は、液晶表示装置の各ゲート線2のうちの一つに沿って切断された断面図であり、TFT基板1Aに対向するフィルタ基板1Bの側に固定されたスペーサ10が備えられている。 The figure is a sectional view taken along one of the gate lines 2 of the liquid crystal display device, a spacer 10 secured to the side of the filter substrate 1B which faces the TFT substrate 1A is provided .
【0120】 [0120]
前記スペーサ10は、各基板のギャップを保持するスペーサ(第1スペーサと称す:図中領域Bに存在する)10Bと、特に、各基板をシールするシール材24の近傍に配置されたスペーサ(第3スペーサと称す:図中領域Aに存在する)10Aからなっている。 The spacer 10, the spacer for holding the gap of each substrate (referred to as first spacer: present in the region B in FIG.) 10B and, in particular, a spacer (first disposed in the vicinity of the sealing material 24 for sealing the substrates 3 referred to as spacer: present in the region a in the drawing) is made from 10A.
【0121】 [0121]
この第3スペーサ10Aは、その形成時において第1スペーサ10Bと同時に形成されるようになっている。 The third spacer 10A is adapted to be formed simultaneously with the first spacer 10B at the time of its formation.
【0122】 [0122]
そして、フィルタ基板1Bの液晶側の面には、前記各スペーサをも被って各画素に共通な共通電極(透明電極)22が形成されている。 Then, the liquid-crystal-side surface of the filter substrate 1B, the common common electrode to each pixel also covers each spacer (transparent electrode) 22 is formed.
【0123】 [0123]
また、前記各スペーサのうち第3スペーサ10Aと当接するTFT基板1A面に、該第3スペーサ10Aを被う共通電極22と電気的に接続される導電層23が形成されている。 Furthermore, the Third spacer 10A and the TFT substrate 1A surface abutting one of the spacers, the common electrode 22 electrically connected to the conductive layer 23 covering the third spacer 10A is formed.
【0124】 [0124]
この導電層23はTFT基板1A上でシール材24を超えて延在され、前記共通電極22に基準信号を供給するための端子に接続されるようになっている。 The conductive layer 23 are extended beyond the seal material 24 on the TFT substrate 1A, it is adapted to be connected to a terminal for supplying a reference signal to the common electrode 22.
【0125】 [0125]
したがって、TFT基板1A上の該端子に基準信号を供給した場合に、この基準信号は、第3スペーサ10Aの部分を介してフィルタ基板1B側の共通電極に供給されるようになる。 Therefore, when providing a reference signal to the terminal on the TFT substrate 1A, the reference signal will be supplied to the common electrode of the filter substrate 1B side via the portion of the third spacer 10A.
【0126】 [0126]
このように構成した液晶表示装置は、共通電極22をTFT基板1A面に引き出すための導電手段を特に設ける必要がなくなるという効果を奏するようになる。 The liquid crystal display device thus constructed, so there is an effect that it is not necessary to provide particularly a conducting means for extracting the common electrode 22 on the TFT substrate 1A plane. なお、この参考例は、上述した各参考例のうち縦電界方式の液晶表示装置の構成において適用してもよいことはいうまでもない。 In this reference example, it may of course be applied in configuration of the liquid crystal display device of vertical electric field type of the reference example described above.
【0127】 [0127]
参考 [Reference Example 9]
上述した各参考例では、TFT基板側にスペーサを固定させたもの、あるいはフィルタ基板側にスペーサを固定させたものを説明した。 In each Example described above, those obtained by fixing the spacers to the TFT substrate side, or have been described herein what was fixed spacers filter substrate.
【0128】 [0128]
しかし、薄膜トランジスタの特性劣化を特に防止する必要がある場合には、フィルタ基板側にスペーサを固定させることが好ましい。 However, if there is a particular need to prevent deterioration of characteristics of the thin film transistor, it is preferable to fix the spacer to the filter substrate.
【0129】 [0129]
TFT基板側にスペーサを固定させる場合、そのスペーサを形成するためのフォトリソグラフィ技術による選択エッチング工程の増加をもたらし、それに用いる薬剤等によって薄膜トランジスタの劣化をもたらすことになるからである。 When fixing the spacer to the TFT substrate side, it resulted in an increase in selective etching process using a photolithography technique to form the spacer, because will result the deterioration of the thin film transistor by an agent or the like used therefor.
【0130】 [0130]
また、TFT基板に対してスペーサを位置的に精度よく配置させる必要がある場合には、TFT基板側にスペーサを固定させることが好ましい。 Further, when it is necessary to positionally accurately position the spacer against the TFT substrate, it is preferable to fix the spacer to the TFT substrate side.
【0131】 [0131]
フィルタ基板側にスペーサを固定させる場合、そのフィルタ基板をTFT基板に対して対向配置させる際に位置づれが生じて、スペーサをTFT基板に対して位置的に精度よく配置させることができない場合があるからである。 When fixing the spacer to the filter substrate, the filter substrate positioned Families when causing disposed opposite occurs with respect to the TFT substrate, positionally in some cases it can not be arranged accurately with respect to the TFT substrate spacer it is from.
【0132】 [0132]
参考10 [Reference Example 10]
図10は、フィルタ基板1B側に固定して形成されるスペーサ10の詳細を示した断面図である。 Figure 10 is a cross-sectional view showing the details of the spacer 10 which is formed by fixing the filter substrate 1B side.
【0133】 [0133]
フィルタ基板1Bの液晶側の面には、ブラックマトリックスBM、カラーフィルタ7が形成され、それらの上面に表面を平坦にするため、熱硬化性の樹脂膜からなる平坦膜8が形成されている。 The liquid-crystal-side surface of the filter substrate 1B, a black matrix BM, color filter 7 is formed to flatten the surface thereof the upper surface, the flat film 8 made of a thermosetting resin film is formed.
【0134】 [0134]
そして、この平坦膜8の所定の個所にスペーサ10が形成されているが、このスペーサ10は、光硬化性の樹脂膜から構成されている。 Then, this spacer 10 to a predetermined point of the flat film 8 is formed, the spacer 10 is formed of a photocurable resin films.
【0135】 [0135]
光硬化性の樹脂膜によってスペーサ10を構成することによって、選択エッチングの工程を行う必要がなくなることから、製造工程の低減を図れるようになる。 By configuring the spacer 10 by light-curing resin film consists of eliminating the need to perform the steps of selective etching, so attained a reduction in manufacturing process. なお、この参考例は、上述した各例の構成においてそれぞれ適用してもよいことはいうまでもない。 In this reference example, it may of course be applied each in the configuration of the example described above.
【0136】 [0136]
また、必ずしもフィルタ基板1B側に限定する必要はなく、TFT基板1A側に形成する場合にも適用することができる。 Also, not necessarily limited to the filter substrate 1B side, it can be applied to a case of forming the TFT substrate 1A side.
【0137】 [0137]
参考例1 [Reference Example 1]
図11(a)は、表示部において、各画素の輪郭を画するブラックマトリックスBMに重畳するようにして配置されたスペーサ10を示した図である。 11 (a) shows, the display unit is a diagram showing a spacer 10 disposed so as to overlap the black matrix BM demarcating the contour of each pixel.
【0138】 [0138]
このようにして配置されるスペーサ10は表示部全体として均一に配置されているが、互いに隣接されたほぼ同数の画素に対して一つのスペーサ10が配置されるようになっている。 This way, the spacer 10 which is arranged are uniformly arranged as main display unit, so that one spacer 10 is positioned relative to approximately the same number of pixels that are adjacent to each other.
【0139】 [0139]
表示部におけるスペーサ10の数を減らし、これにともない該スペーサに起因する配向乱れを少なくしている。 Reduce the number of the spacers 10 in the display unit, and reducing the alignment disorder due to the spacer accordingly.
【0140】 [0140]
これにより、光漏れ(特に黒表示の場合)によるコントラストの防止が図れる効果を奏する。 Thus, an effect of preventing the contrast due to light leakage (especially black display) can be achieved.
【0141】 [0141]
参考例1 Reference Example 1 2]
図11(b)は、 参考例1 と同様に、示部におけるスペーサ10の数を減らしているとともに、その配置が均一でなく、ランダム(均一性なく)になっている点が参考例1 と異なっている。 FIG. 11 (b), in the same manner as in Reference Example 1 1, with which to reduce the number of the spacers 10 in the radical 113, the arrangement is not uniform, random point which is the (uniformity without) is Reference Example 1 It is different from 1.
【0142】 [0142]
人間の視覚の特性として、光漏れの部分が繰り返しパターンで発生している場合それを認識し易いことから、スペーサを均一性なく配置させることによって、その不都合を解消している。 The characteristics of human vision, since it is easy to recognize it when the portion of the light leakage occurs in a repeating pattern, by placement uniformity without a spacer, which eliminates the disadvantage.
【0143】 [0143]
参考例1 Reference Example 1 3]
図12は、本発明による液晶表示装置の他の参考例を示す説明図で、図2あるいは図10に対応した図となっている。 Figure 12 is an explanatory view showing another reference example of a liquid crystal display device according to the present invention and is a drawing corresponding to FIG. 2 or FIG. 10.
【0144】 [0144]
同図において、スペーサ10が固定された側の透明基板と対向する他の透明基板との間の該スペーサ10の当接部に接着剤30が介在されている。 In the drawing, the adhesive 30 is interposed abutment of the spacer 10 between the other transparent substrate spacer 10 faces the transparent substrate of a fixed side.
【0145】 [0145]
該スペーサ10の当接部は配向膜同士の接触部であり、これらは同材料であることから固着力が弱いという不都合が生じる。 Abutment of the spacer 10 is a contact portion of the alignment film between, they disadvantageously force secured since it is the same material is weak it occurs.
【0146】 [0146]
それ故、該接着剤としてたとえばSiカップリング剤を用いることにより、各透明基板の間のギャップの保持の信頼性を確保することができるようになる。 Therefore, by using, for example, Si coupling agent as adhesive, it is possible to ensure the reliability of holding the gap between the transparent substrates.
【0147】 [0147]
次に、このような構成からなる液晶表示装置の製造方法の一例を図13を用いて説明する。 Next, an example of a method of manufacturing the liquid crystal display device having such a configuration will be described with reference to FIG. 13.
【0148】 [0148]
工程1. Step 1.
一方の基板にスペーサ10を形成し、そのスペーサ10をも被って配向膜が形成されたものを用意する(同図(a))。 The spacer 10 is formed on one substrate, it is prepared as the alignment film is formed to cover also the spacer 10 (FIG. (A)).
【0149】 [0149]
工程2. Step 2.
接着剤が満たされた容器に、前記基板を近接させ、そのスペーサ10の頂部に該接着剤30の表面を接触させる(同図(b))。 A container the adhesive has been met, the substrate is brought close to, contacting the surface of the adhesive 30 on top of the spacer 10 (FIG. (B)).
【0150】 [0150]
工程3. Step 3.
これにより、スペーサ10の頂部に接着剤30が塗布されるようになる(同図(c))。 Thus, the adhesive 30 on top of the spacer 10 is to be applied (Fig. (C)).
【0151】 [0151]
工程4. Step 4.
上記基板を他の基板と対向配置させる(同図(d))。 The substrate is another substrate disposed facing (figure (d)).
【0152】 [0152]
工程5. Step 5.
熱処理を加えることにより、接着剤30を硬化させる。 By heat treatment to cure the adhesive 30. これにより、スペーサ10は各基板のそれぞれに固着された状態となる(同図(e))。 Accordingly, the spacer 10 is in a state of being fixed to each of the substrate (FIG. (E)).
【0153】 [0153]
また、上述した構成からなる液晶表示装置の製造方法の他の例を図14を用いて説明する。 Further, another example of a method of manufacturing a liquid crystal display device having the structure described above will be explained with reference to FIG. 14.
【0154】 [0154]
工程1. Step 1.
一方の基板にスペーサ10を形成し、そのスペーサ10をも被って配向膜が形成されたものを用意する(同図(a))。 The spacer 10 is formed on one substrate, it is prepared as the alignment film is formed to cover also the spacer 10 (FIG. (A)).
【0155】 [0155]
工程2. Step 2.
接着剤30が満たされた容器でローラ31を備える装置を用意し、該ローラ31の回転によってその表面に付着する接着剤を前記スペーサの頂部に塗布させる(同図(b))。 With adhesive 30 is filled containers provided with rollers 31 device available, it is coated with an adhesive that adheres to the surface by the rotation of the roller 31 on top of the spacer (figure (b)).
【0156】 [0156]
工程3. Step 3.
これにより、スペーサ10の頂部に接着剤30が塗布されるようになる(同図(c))。 Thus, the adhesive 30 on top of the spacer 10 is to be applied (Fig. (C)).
【0157】 [0157]
工程4. Step 4.
上記基板を他の基板と対向配置させる(同図(d))。 The substrate is another substrate disposed facing (figure (d)).
【0158】 [0158]
工程5. Step 5.
熱処理を加えることにより、接着剤30を硬化させる。 By heat treatment to cure the adhesive 30. これにより、スペーサ10は各基板のそれぞれに固着された状態となる(同図(e))。 Accordingly, the spacer 10 is in a state of being fixed to each of the substrate (FIG. (E)).
【0159】 [0159]
なお、この例は、上述した各例の液晶表示装置の構成において適用してもよいことはいうまでもない。 The example of this is may of course be applied in configuration of the liquid crystal display device of each embodiment described above.
【0160】 [0160]
参考例1 Reference Example 1 4]
図15は、本発明による液晶表示装置の他の参考例を示す説明図である。 Figure 15 is an explanatory view showing another reference example of a liquid crystal display device according to the present invention.
【0161】 [0161]
同図は、スペーサ10が固定された基板に対向する他の基板側に、該スペーサの頂部が嵌め込まれる凹陥部40を備えている。 This figure, in addition to the substrate side opposite the substrate where the spacer 10 is fixed, and a recessed portion 40 in which the top portion of the spacer is fitted.
【0162】 [0162]
そして、この凹陥部40はたとえばTFT基板1Aの側の保護膜41に形成されており、その表面に対して底面側において面積の大きないわゆる逆テーパ状となっている。 Then, the recess 40, for example is formed on the protective film 41 on the side of the TFT substrate 1A, and has a large so-called reverse tapered shape of the area at the bottom side to its surface.
【0163】 [0163]
このように構成した場合、スペーサ10は、その頂部が該凹陥部40に食い込んで配置され、TFT基板1Aに対して接着された状態と同様になる。 In such a configuration, the spacer 10, its top is located bite into the recessed portion 40, becomes similar to a state of being adhered to the TFT substrate 1A.
【0164】 [0164]
また、図16は、同様の趣旨で構成された他の参考例であり、前記凹陥部40と同様の機能を有する手段を一対の信号線(配線)42の間の溝で構成したものである。 Further, FIG. 16 shows another reference example, which is composed of similar import, is obtained by a means having the same function as the recess 40 in the groove between the pair of signal lines (lines) 42 .
【0165】 [0165]
そして、この場合、各信号線の互いに対向する辺部が逆テーパ状となっている。 In this case, the side portions facing each other of the signal lines is in the inversely tapered. なお、この実施例では、前記凹陥部においてスペーサ10の頂部が食い込むようにして構成されているが、必ずしも、このような構成に限定されることはなく、たとえば比較的ゆとりのある状態でスペーサ10が嵌め込まれるように構成してもよい。 Incidentally, in this embodiment, is constructed as the top of the spacer 10 bite in the recess, it is not always limited to such a configuration, the spacer 10 in the presence for example of relatively clear it may be configured to be fitted.
【0166】 [0166]
このようにした場合、各基板の離間する方向に対してはその移動を規制できない(しかし、この機能はシール材が担当する)が、各基板の水平方向の移動を規制できるようになるからである。 In such a case, because can not regulate its movement relative to a direction separating each substrate (however, this function sealant is responsible) may be able to restrict the horizontal movement of the substrate is there.
【0167】 [0167]
また、この場合、スペーサ10と前記凹陥部とで、各基板を対向配置させる際の位置決め手段として用いることもできるようになる。 In this case, in the spacer 10 and the recessed portion, so it is also possible to use the substrate as a positioning means at the time of oppositely disposed.
【0168】 [0168]
参考例1 Reference Example 1 5]
図17は、本発明による液晶表示装置の他の参考例を示す説明図である。 Figure 17 is an explanatory view showing another reference example of a liquid crystal display device according to the present invention.
【0169】 [0169]
同図は、ゲート線2あるいはドレイン線3等の信号線に重畳されて形成されたスペーサ10を示し、該信号線に沿って形成されたブラックマトリックスBMは、該スペーサ10の近傍にてその幅が該スペーサの近傍で幅広になって形成されている。 The figure shows a spacer 10 which is formed is superimposed on the signal lines such as gate lines 2 or the drain line 3, the black matrix BM which is formed along the signal line has a width in the vicinity of the spacer 10 There has been formed becomes wider in the vicinity of the spacer.
【0170】 [0170]
換言すれば、スペーサ10を被うブラックマトリックスBMは、該スペーサ10の近傍において該スペーサを中心とする径をもつ輪郭を有するパターンとなっている。 In other words, the black matrix BM covering the spacer 10 has a pattern having a contour with a diameter centered on the spacer in the vicinity of the spacer 10.
【0171】 [0171]
この場合、この参考例では、配向膜のラビング方向は信号線に沿った方向となっており、該ラビング処理によるスペーサ10に起因する配向乱れはブラックマトリックス10それ自身によって覆い隠されるのが通常であるが、該配向乱れの発生する領域が大きくなってしまう場合があることから、これを事前に解消せんとするものである。 In this case, in this reference example, the rubbing direction of the alignment film has a direction along the signal line, the orientation disturbance due to the spacer 10 by the rubbing treatment is covered by the black matrix 10 itself in the normal the case, since there may occur an area of ​​the orientation disturbance becomes large, is to solve cents this beforehand.
【0172】 [0172]
なお、この参考例では、配向膜のラビング方向は信号線に沿って形成されたものとしたものであるが、ブラックマトリックスBMを幅広に形成してスペーサ10に起因する配向乱れを覆い隠すという趣旨から、該配向膜のラビング方向は信号線に対して角度を有する方向であっても適用できることはもちろんである。 Incidentally, the effect that in this reference example, the rubbing direction of the alignment film is one in which was assumed formed along the signal line, a black matrix BM and wider form obscuring alignment disorder due to the spacer 10 from the rubbing direction of the alignment film it can of course be applied also in a direction having an angle with respect to the signal line.
【0173】 [0173]
参考例1 Reference Example 1 6]
図18は本発明による液晶表示装置の他の参考例を示す説明図で、図17に対応したものとなっている。 Figure 18 is a diagram showing another reference example of a liquid crystal display device according to the present invention, and those corresponding to FIG. 17.
【0174】 [0174]
同図は、まず、図17の場合と異なり、配向膜のラビング方向が図中に示すように、信号線に対して角度(θ)を有するようになっている。 The figure, first, unlike the case of FIG. 17, the rubbing direction of the alignment film is as shown in the figure, so that an angle (theta) to the signal line.
【0175】 [0175]
この場合、スペーサに起因する配向膜の配向乱れは、信号線に対して角度θの方向に延在して発生するようになる。 In this case, alignment disorder of the alignment film caused by the spacer will be generated to extend in the direction of an angle θ with respect to the signal line.
【0176】 [0176]
このため、ブラックマトリックスBMは、特に、該配向乱れが発生している側にて、その延在方向の他の部分の幅よりも大きく形成されている。 Therefore, the black matrix BM is particularly on the side where the alignment disturbance is occurring, and is larger than the width of the other parts of the extending direction.
【0177】 [0177]
換言すれば、スペーサ10を被うブラックマトリックスBMは、該スペーサ10の近傍において該スペーサを中心とする径をもつ輪郭を有するが、この径は配向乱れが発生する方向において特に大きく形成されている。 In other words, the black matrix BM covering the spacer 10 has the contour with a diameter centered on the spacer in the vicinity of the spacer 10, the diameter is particularly larger in the direction in which alignment disorder occurs .
【0178】 [0178]
そして、このことから、配向膜のラビング方向であってスペーサ10に起因する配向乱れが生じていない方向は、特にブラックマトリックスBMによって覆い隠す必要に乏しいことから、図19に示すように、幅広の部分をブラックマトリックスの一辺側のみに形成するようにしてもよいことはいうまでもない。 From this fact, the direction of alignment disturbance does not occur due to the spacer 10 by a rubbing direction of the alignment film, especially since the need poor obscure by the black matrix BM, as shown in FIG. 19, wide it goes without saying that may be formed only on one side of the black matrix portion.
【0179】 [0179]
参考例1 [Reference Example 1 7]
図20は本発明による液晶表示装置の他の参考例を示す説明図である。 Figure 20 is an explanatory view showing another reference example of a liquid crystal display device according to the present invention.
【0180】 [0180]
同図は、ゲート線2あるいはドレイン線3等の信号線に重畳されて形成されたスペーサ10を示し、該スペーサ10の近傍における該信号線の両脇に遮光金属層50が形成された構成となっている。 The figure shows a spacer 10 which is formed is superimposed on the signal lines such as gate lines 2 or the drain lines 3, configuration and the light-shielding metal layers 50 on both sides of the signal line in the vicinity of the spacer 10 is formed going on.
【0181】 [0181]
この参考例では、該遮光金属層50は信号線に分離されて形成され、それらの間の隙間はブラックマトリックスBMによって遮光されるようになっている。 In this reference example, the light shield metal layer 50 is formed separately to the signal line, the gap between them is adapted to be blocked by the black matrix BM.
【0182】 [0182]
そして、この場合も、配向膜のラビング方向は信号線に沿った方向となっており、該ラビング処理によるスペーサ10に起因する配向乱れは信号線あるいはブラックマトリックスBM自身によって覆い隠されるのが通常であるが、該配向乱れの発生する領域が大きくなってしまう場合があることから、これを事前に解消せんとするものである。 Also in this case, the rubbing direction of the alignment film has a direction along the signal line, the orientation disturbance due to the spacer 10 by the rubbing that is covered by a signal line or a black matrix BM itself usually the case, since there may occur an area of ​​the orientation disturbance becomes large, is to solve cents this beforehand.
【0183】 [0183]
なお、前記遮光金属膜50は、信号線と同層であってもよく、また、異層であってもよい。 Incidentally, the light shielding metal film 50 may be a same layer as the signal line, or may be a different layer.
【0184】 [0184]
遮光金属膜50を信号線と同層で形成する場合、該信号線と一体化して形成することもできる。 When forming the light-shielding metal film 50 by a signal line and the same layer, it may be formed integrally with the signal line.
【0185】 [0185]
そして、遮光金属膜50を信号線と異層で形成する場合、該信号線の材料と異なる材料で形成することができる。 Then, the case of forming a light-shielding metal film 50 by a signal line and different layers can be formed of a material different signal lines of the material. たとえば該信号線がドレイン線である場合にゲート線あるいは対向電圧信号線と同一の材料で形成することができる。 For example it can be formed of the same material as the gate line or the counter voltage signal line when the signal line is a drain line.
【0186】 [0186]
また、配向膜のラビング方向は信号線に沿って形成されたものとしたものであるが、実質的に信号線を幅広に形成してスペーサに起因する配向乱れを覆い隠すという趣旨から、該配向膜のラビング方向は信号線に対して角度を有する方向であっても適用できることはもちろんである。 Also, the effect that although the rubbing direction of the alignment film is obtained by the one formed along the signal line, substantially the signal line and is formed wider cover the alignment disorder due to the spacer, the orientation the rubbing direction of the film is, of course, be applied in a direction having an angle with respect to the signal line.
【0187】 [0187]
参考例1 [Reference Example 1 8]
図21は、上記参考例と同趣旨の基に形成される遮光金属膜50で、信号線に対して一方の側にのみ形成されたものとなっている。 Figure 21 is a light-shielding metal film 50 formed under the above Reference Example and the same concept, has become one formed only on one side of the signal line.
【0188】 [0188]
スペーサ10に起因する配向膜に生じる配向乱れの方向に合わせて遮光金属膜50を配置し、該方向と逆の方向には該遮光金属膜50を配置させないようになっている。 In accordance with the direction of orientation disorder that occurs in the alignment film due to the spacer 10 is disposed a light-shielding metal film 50, in the direction of the direction and opposite so as not to place a light shielding metal film 50.
【0189】 [0189]
同図に示した参考例の場合、たとえば、配向膜のラビング処理が信号線とほぼ直交した図中左の方向となっている場合に有効となる。 For reference example shown in the figure, for example, it becomes effective when the rubbing process of the alignment film is in the direction of drawing in the left which is substantially perpendicular to the signal line.
【0190】 [0190]
この場合、 参考例1 と比較すると、画素の開口率を狭める度合いを小さくできるという効果を奏する。 In this case, as compared with Reference Example 1 7, an effect that can be reduced the degree of narrowing the aperture ratio of the pixel.
【0191】 [0191]
参考19 [Reference Example 19]
図22は、 参考例1 と同様に、信号線の両脇に遮光金属膜50をそれぞれ配置した構成となっているが、一方の遮光金属膜50に対して他方の遮光金属膜50は信号線の延在方向に沿って長く形成されたものとなっている。 Figure 22 is the same manner as in Reference Example 1 7 has a configuration in which a light-shielding metal film 50 on both sides of the signal lines respectively arranged, other light shielding metal film 50 for one of the light-shielding metal film 50 is the signal It has become one formed long along the extending direction of the line.
【0192】 [0192]
スペーサ10に起因する配向膜の配向乱れの方向に応じて各遮光金属膜50を配置させ、これにより、信号線および各遮光金属膜50(ブラックマトリックスBMも含む)とで構成される遮光領域に、該スペーサ10の近傍にて該スペーサ10を中心とする径を有する輪郭をもたせ、該径を前記ラビング処理の方向のうち配向膜の配向乱れが発生している方向にて大きくさせている。 Depending on the direction of the alignment disorder of the alignment film due to the spacer 10 is arranged the light-shielding metal film 50, thereby, the light-blocking region formed out signal line and the light blocking metal film 50 (including a black matrix BM) , remembering contour with a diameter centered on the spacer 10 in the vicinity of the spacer 10, alignment disorder of the orientation film of the direction of the rubbing treatment 該径 is allowed to increase in a direction that is occurring.
【0193】 [0193]
参考例2 [Reference Example 2 0]
上述した参考例における遮光金属膜50は、遮光の機能のみをもたせるものとして構成したものである。 The light-shielding metal film 50 in the reference example described above, which is constituted as to have only the function of shielding.
【0194】 [0194]
しかし、この遮光金属膜50は画素内に存在する電極にその機能をもたせるようにしてもよいことはいうまでもない。 However, the light-shielding metal film 50 may of course be so imparted its function electrode present in the pixel.
【0195】 [0195]
図23は、このような場合の一参考例を示すもので、図1に示した画素構成において、ドレイン線2の両脇に位置づけられる共通電極4Aに前記遮光金属膜の機能を兼ね備えさせたものとして構成している。 Figure 23 shows an Example of such a case, in the pixel structure shown in FIG. 1, that is both a function of the light shielding metal film to the common electrode 4A positioned on both sides of the drain line 2 It is configured as.
【0196】 [0196]
換言すれば、ゲート線2に重畳させてスペーサ10を配置させることなく、共通電極4Aを隣接させて形成されたドレイン線3に重畳させてスペーサ10を配置させることによって、得意遮光金属膜50を形成させることなく、スペーサに起因する配向膜の配向乱れによる不都合を信頼性よく回避できることになる。 In other words, without placing a spacer 10 is superposed on the gate line 2, by placing a spacer 10 is superposed on the drain line 3 which is formed adjacent the common electrode 4A, a good light-shielding metal film 50 without forming, so that the inconvenience due to alignment disorder of the alignment film caused by the spacer can be avoided reliably.
【0197】 [0197]
この場合においても、初期配向方向は特に限定されることはない。 In this case, the initial alignment direction are not specifically limited.
【0198】 [0198]
参考例2 Reference Example 2 1]
図24は、本発明による液晶表示装置の他の参考例を示す説明図である。 Figure 24 is an explanatory view showing another reference example of a liquid crystal display device according to the present invention. 同図(a)は平面図で、同図(b)は同図(a)のb−b線における断面図である。 FIG (a) is a plan view, FIG. (B) is a cross-sectional view taken along line b-b in FIG. (A).
【0199】 [0199]
同図において、液晶を介して互いに対向配置されるTFT基板1Aとフィルタ基板1Bとがあり、これら各基板は該液晶を封入するシール材24によって互いに固定されるとともに、該シール材24の形成された部分において所定のギャップが確保されるようになっている。 In the figure, there is a TFT substrate 1A and the filter substrate 1B which are arranged to face each other via the liquid crystal, each of these substrates is fixed to one another by a sealant 24 to enclose the liquid crystal, formed of the sealing material 24 predetermined gap is adapted to be secured in the part.
【0200】 [0200]
そして、液晶の封入領域すなわちシール材24によって囲まれた領域が表示領域となり、この表示領域内には、この表示領域の各基板のギャップを確保するためのスペーサ10が散在して配置されている。 The area surrounded by the sealed area or seal member 24 of the liquid crystal becomes a display area, on the display area, the spacer 10 for ensuring a gap of the substrates of the display region is disposed scattered .
【0201】 [0201]
このスペーサ10は、上述した参考例で示したように、一方の基板側に固定されて形成されたもので、この参考例では、該基板と平行な面での断面積が等しく形成されている。 The spacer 10, as shown in Reference Example described above, those formed is fixed to one of the substrates, in this reference example, the cross-sectional area in a plane parallel to the substrate is formed equal to .
【0202】 [0202]
そして、このスペーサ10は、前記表示領域をその周辺部(シール材24の近傍)とその周辺部を除く中央部とに区分けした場合、周辺部における個数が中央部における個数よりも少なくなっている。 Then, the spacer 10, if dividing the display area in the periphery portion (the vicinity of the sealing member 24) and a central portion excluding the peripheral portion, the number of peripheral portion is smaller than the number in the central portion .
【0203】 [0203]
すなわち、これらスペーサ10は表示領域の周辺部における単位当たりの密度が該周辺部を除く中央部における密度より小さく配置されている。 That is, these spacers 10 are density per unit in the peripheral portion of the display region is arranged smaller than the density in the central portion excluding the peripheral portion.
【0204】 [0204]
ここで、対象とする液晶表示パネルの大型化にともない、前記密度はたとえば1cm 2あるいは1mm 2の面積内に存在するスペーサ10の密度として想定することが妥当となる。 Here, with the increase in size of the liquid crystal display panel of interest, the density becomes reasonable to assume as a density of the spacers 10 existing in example 1 cm 2 or in the area of 1 mm 2.
【0205】 [0205]
このように構成された液晶表示装置は、表示領域の中央部に配置されるスペーサ群の基板に対する支持力を周辺部に配置されるスペーサ群の基板に対する支持力を強くしていることに他ならない。 The liquid crystal display device having such a constitution, nothing more than have strong supporting force with respect to the substrate of the spacer group arranged a supporting force to the peripheral portion with respect to the substrate of the spacer group arranged in a central portion of the display area .
【0206】 [0206]
近年における液晶表示装置はその液晶表示パネルが大型化してきており、シール材24から遠く位置づけられる表示領域の中央部はその周辺部よりもスペーサの基板に対する支持力を大きくしなければ、各基板のギャップをその全域にわたって均一に保持できなくなる不都合を回避せんとするものである。 And a liquid crystal display device is the liquid-crystal display panel has increased in size in recent years, the central portion of the distant position is the display area from the sealing member 24 is to be increased supporting force for the substrate of the spacer than its peripheral portion, of the substrate it is intended to avoid St. uniformly holding can not become inconvenient over its entire gap.
【0207】 [0207]
基板に固定されて形成されるスペーサ10は、該基板の全面に形成された該スペーサ10の材料層に、たとえばフォトリソグラフィ技術を用いた選択エッチング(図10に示した構成はフォトリソグラフィ技術だけで形成できる)によって所望のパターンに、しかも、所定の位置に配置できることから、上述した構成のスペーサ10を容易に形成することができる。 Spacer 10 formed is fixed to the substrate, the material layer of the spacer 10 which is formed on the entire surface of the substrate, for example the configuration shown in selective etching (Fig. 10 using a photolithography technique only photolithography in a desired pattern by forming it), moreover, since it can be placed in position, it is possible to easily form the spacer 10 having the above structure.
【0208】 [0208]
また、この場合、液晶が封入された領域の周辺部におけるスペーサ10の密度と該周辺部を除く中央部におけるスペーサ10の密度は、周辺部と中央部との境界で段差的に変化するのではなく、周辺部から中央部にかけて滑らかに変化するように配置させるようにしてもよい。 In this case, the density of the spacers 10 in the central portion excluding the density and the peripheral portion of the spacer 10 at the periphery of the liquid crystal is enclosed region, than change step manner at the boundary between the peripheral portion and the central portion no, it is also possible to be arranged from the peripheral portion to smoothly change to the center portion.
【0209】 [0209]
このようにした場合、対向する基板のギャップに急俊が部分が生じるのを回避できる効果を奏する。 In such a case, steep gap of the opposing substrate an effect of avoiding a portion from occurring.
【0210】 [0210]
なお、上述した参考例は、たとえば、図中x方向における中央部と周辺部においてスペーサ10の密度を異ならしめるようにし、図中y方向における中央部と周辺部においてスペーサ10の密度を同じように構成してもよいことはいうまでもない。 Incidentally, reference example described above, for example, so as to occupy different density of the spacers 10 at the central portion and the peripheral portion in the direction x in the figure, just as the density of the spacers 10 at the central portion and the peripheral portion in the figure the y-direction it goes without saying that may be configured.
【0211】 [0211]
また、上述した参考例は、明細書の他の参考例と合わせて実施できるが、このようにしなくてもよいことはいうまでもない。 Further, reference example described above, can be carried out in conjunction with other reference examples of the specification, such may of course be not to.
【0212】 [0212]
参考例2 Reference Example 2 2]
また、 参考例2 と同様の趣旨で、図25に示すように、表示領域内の各スペーサ10は均等に散在されているが、該表示領域の中央部におけるスペーサ10の基板と平行な面での断面積が周辺部におけるスペーサ10の前記面での断面積より大きくなるように構成してもよい。 For the same purpose as in Reference Example 2 1, as shown in FIG. 25, although the spacer 10 in the display area is scattered evenly, parallel to the substrate surface of the spacer 10 in the central portion of the display region may be configured to cross-sectional area is greater than the cross-sectional area at said surface of the spacer 10 in the peripheral portion of the at.
【0213】 [0213]
この場合にも、基板面の全域に形成したスペーサ10の材料層にたとえばフォトリソグラフィ技術を用いた選択エッチング方法を行うことにより各スペーサを容易に形成することができる。 In this case also, it is possible to easily form each spacer by performing selective etching method using a material layer, for example photolithography spacers 10 formed over the entire substrate surface.
【0214】 [0214]
さらに、表示領域の中央部のスペーサの材料強度を周辺部のスペーサの材料強度よりも大きくしても同様の効果を得ることができるようになる。 Furthermore, it is possible to be larger than the material strength of the spacer in the peripheral portion of the material strength of the spacer in the central portion of the display area to obtain the same effect.
【0215】 [0215]
参考例2 Reference Example 2 3]
上述した各スペーサは、表示領域内で任意の個所に容易に配置できることは上述したとおりである。 Each spacer described above, it can be easily placed in any location in the display area is as described above.
【0216】 [0216]
そして、この参考例では、カラー用液晶表示装置において、緑色(G)フィルタが形成されている画素を画する遮光領域以外の他の遮光領域に該スペーサを配置させるようにしたものである。 And, in this reference example, a liquid crystal display device for color, is obtained so as to place the spacer on the other shielding area other than the light shielding region demarcating pixels green (G) filter is formed.
【0217】 [0217]
換言すれば、該スペーサは、赤色(R)フィルタが形成されている画素を画する遮光領域あるいは青色(B)フィルタが形成されている画素を画する遮光領域に重畳されるように配置させるようにしたものである。 In other words, the spacer is to be arranged to overlap the light-shielding area demarcating the pixel light shielding region or the blue (B) filter demarcating pixels red (R) filter is formed is formed it is obtained by the.
【0218】 [0218]
緑色(G)は他の色と比較して最も光透過率が高く、人間の視覚に敏感であることに鑑み、この色を透過する画素の近傍(遮光領域内)に配置させるスペーサによって光漏れを感知させるのを防止する趣旨である。 Green (G), most light transmittance higher than that of other colors, the human visual view to being sensitive, light leakage by a spacer to be arranged in the vicinity (within light shielding region) of the pixels transmitted through the color it is intended to prevent the to sense.
【0219】 [0219]
【発明の効果】 【Effect of the invention】
以上説明したことから本発明による液晶表示装置によれば、配向乱れによる表示むらのないものを得ることができるようになる。 According to the liquid crystal display device according to the present invention from the above description, it is possible to obtain the one without display unevenness due to alignment disorder.
【図面の簡単な説明】 BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS
【図1】 本発明による液晶表示装置の画素の一参考例を示す平面図である。 Is a plan view showing an Example of a pixel of a liquid crystal display device according to the invention; FIG.
【図2】 本発明による液晶表示装置に用いられるスペーサの断面を示す図である。 It is a view showing a cross section of spacer used in a liquid crystal display device according to the invention, FIG.
【図3】 本発明による液晶表示装置に用いられるスペーサによる不都合を示す説明図である。 3 is an explanatory diagram showing a disadvantage by the spacer for use in a liquid crystal display device according to the present invention.
【図4】 本発明による液晶表示装置の画素の他の参考例を示す平面図である。 Is a plan view showing another reference example of a pixel of the liquid crystal display device according to the invention; FIG.
【図5】 本発明による液晶表示装置の画素の他の参考例を示す平面図である。 Is a plan view showing another reference example of a pixel of the liquid crystal display device according to the present invention; FIG.
【図6】 本発明による液晶表示装置の画素の他の参考例を示す平面図である。 Is a plan view showing another reference example of a pixel of the liquid crystal display device according to the present invention; FIG.
【図7】 本発明による液晶表示装置の画素の他の参考例を示す平面図である。 Is a plan view showing another reference example of a pixel of the liquid crystal display device according to the present invention; FIG.
【図8】 本発明による液晶表示装置の画素の実施例を示す断面図である。 Is a cross-sectional view showing the actual施例of pixels of the liquid crystal display device according to the present invention; FIG.
【図9】 本発明による液晶表示装置の画素の他の参考例を示す断面図である。 It is a sectional view showing another reference example of a pixel of the liquid crystal display device according to the present invention; FIG.
【図10】 本発明による液晶表示装置に用いられるスペーサの他の参考例を示す断面図である。 It is a sectional view showing another reference example of a spacer used in a liquid crystal display device according to the invention; FIG.
【図11】 本発明による液晶表示装置に用いられるスペーサの配置の参考例を示す平面図である。 It is a plan view showing a reference example of the arrangement of a spacer used in a liquid crystal display device according to [11] the present invention.
【図12】 本発明による液晶表示装置に用いられるスペーサの他の参考例を示す断面図である。 It is a sectional view showing another reference example of a spacer used in a liquid crystal display device according to the present invention; FIG.
【図13】 図12に示すスペーサの製造方法の一例を示す工程図である。 13 is a process diagram showing an example of a method of manufacturing the spacer shown in FIG. 12.
【図14】 図12に示すスペーサの製造方法の他の例を示す工程図である。 14 is a process diagram showing another example of a method of manufacturing a spacer shown in FIG. 12.
【図15】 本発明による液晶表示装置に用いられるスペーサの他の参考例を示す断面図である。 It is a sectional view showing another reference example of a spacer used in a liquid crystal display device according to the present invention; FIG.
【図16】 本発明による液晶表示装置に用いられるスペーサの他の参考例を示す断面図である。 It is a sectional view showing another reference example of a spacer used in a liquid crystal display device according to [16] the present invention.
【図17】 本発明による液晶表示装置のスペーサの近傍における他の参考例を示す平面図である。 Is a plan view showing another reference example in the vicinity of a spacer of a liquid crystal display device according to Figure 17 the present invention.
【図18】 本発明による液晶表示装置のスペーサの近傍における他の参考例を示す平面図である。 Is a plan view showing another reference example in the vicinity of a spacer of a liquid crystal display device according to Figure 18 the present invention.
【図19】 本発明による液晶表示装置のスペーサの近傍における他の参考例を示す平面図である。 Is a plan view showing another reference example in the vicinity of a spacer of a liquid crystal display device according to Figure 19 the present invention.
【図20】 本発明による液晶表示装置のスペーサの近傍における他の参考例を示す平面図である。 Is a plan view showing another reference example in the vicinity of a spacer of a liquid crystal display device according to Figure 20 the present invention.
【図21】 本発明による液晶表示装置のスペーサの近傍における他の参考例を示す平面図である。 Is a plan view showing another reference example in the vicinity of a spacer of a liquid crystal display device according to Figure 21 the present invention.
【図22】 本発明による液晶表示装置のスペーサの近傍における他の参考例を示す平面図である。 Is a plan view showing another reference example in the vicinity of a spacer of a liquid crystal display device according to Figure 22 the present invention.
【図23】 本発明による液晶表示装置のスペーサの近傍における他の参考例を示す平面図である。 Is a plan view showing another reference example in the vicinity of a spacer of a liquid crystal display device according to Figure 23 the present invention.
【図24】 本発明による液晶表示装置のスペーサの配置状態の一参考例を示す平面図である。 Is a plan view showing an Example of arrangement of the spacers of the liquid crystal display device according to [24] the present invention.
【図25】 本発明による液晶表示装置のスペーサの配置状態の一参考例を示す平面図である。 Is a plan view showing an Example of arrangement of the spacers of the liquid crystal display device according to [25] the present invention.
【符号の説明】 DESCRIPTION OF SYMBOLS
1……透明基板、1A……TFT基板、2……ゲート線、3……ドレイン線、3A……ドレイン電極、4……対向電圧信号線、4A……対向電極、5……画素電極、5A……ソース電極、6……半導体層、7……カラーフィルタ、9……配向膜、10……スペーサ、TFT……薄膜トランジスタ、BM……ブラックマトリックス。 1 ...... transparent substrate, 1A ...... TFT substrate, 2 ...... gate line, 3 ...... drain lines, 3A ...... drain electrode, 4 ...... counter voltage signal line, 4A ...... counter electrode, 5 ...... pixel electrode, 5A ...... source electrode, 6 ...... semiconductor layer, 7 ...... color filter, 9 ...... orientation film, 10 ...... spacers, TFT ...... TFT, BM ...... black matrix.

Claims (2)

  1. 横電界方式の液晶表示装置において、 In the liquid crystal display device of IPS mode,
    液晶を介して互いに対向配置されるTFT基板とフィルタ基板と、 The TFT substrate and the filter substrate facing each other via the liquid crystal,
    TFT基板の液晶側の面に形成されたゲート線とドレイン線と、 A gate line and a drain line formed on a liquid-crystal-side surface of the TFT substrate,
    フィルタ基板に形成された第1及び第2のスペーサを有し、 Having first and second spacers formed on the filter substrate,
    前記第1のスペーサは前記ゲート線上に、及び前記第2のスペーサは前記ゲート線の両端に重畳されて配置され、 It said first spacers on the gate lines, and the second spacers are arranged superimposed on both ends of the gate lines,
    前記フィルタ基板には前記ゲート線に重畳し、且つ前記第1のスペーサを被覆する配向膜を有し、 Wherein the filter substrate is superimposed on the gate line, and has an orientation film covering the first spacer,
    前記フィルタ基板には前記ゲート線に重畳し、且つ前記第1及び第2のスペーサを被覆する導電層を有し、 Wherein the filter substrate is superimposed on the gate line, and having a conductive layer covering the first and second spacers,
    前記導電層は、前第2のスペーサの位置で前記ゲート線と電気的に接続することを特徴とする液晶表示装置。 The conductive layer, before Symbol liquid crystal display device characterized by connecting a second of said at gate lines and electrically at the location of the spacer.
  2. 横電界方式の液晶表示装置において、 In the liquid crystal display device of IPS mode,
    液晶を介して互いに対向配置されるTFT基板とフィルタ基板と、 The TFT substrate and the filter substrate facing each other via the liquid crystal,
    TFT基板の液晶側の面に形成されたゲート線とドレイン線と、 A gate line and a drain line formed on a liquid-crystal-side surface of the TFT substrate,
    フィルタ基板に形成された第1及び第2のスペーサを有し、 Having first and second spacers formed on the filter substrate,
    前記第1のスペーサは前記ゲート線上に、及び前記第2のスペーサは前記ドレイン線の両端に重畳されて配置され、 It said first spacers on the gate lines, and the second spacers are arranged superimposed on both ends of the drain lines,
    前記フィルタ基板には前記ドレイン線に重畳し、且つ前記第1のスペーサを被覆する配向膜を有し、 Wherein the filter substrate is superimposed on the drain line, and has an orientation film covering the first spacer,
    前記フィルタ基板には前記ドレイン線に重畳し、且つ前記第1及び第2のスペーサを被覆する導電層を有し、 Wherein the filter substrate is superimposed on the drain line, and has a conductive layer covering the first and second spacers,
    前記導電層は、前第2のスペーサの位置で前記ドレイン線と電気的に接続することを特徴とする液晶表示装置。 The conductive layer, before Symbol liquid crystal display device, characterized by connecting said to drain line electrically at the location of the second spacer.
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