JP2002166552A - Liquid ejection head, liquid ejection recorder, and liquid ejection recording method in the recorder mounted in moving body - Google Patents

Liquid ejection head, liquid ejection recorder, and liquid ejection recording method in the recorder mounted in moving body

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JP2002166552A
JP2002166552A JP2000365106A JP2000365106A JP2002166552A JP 2002166552 A JP2002166552 A JP 2002166552A JP 2000365106 A JP2000365106 A JP 2000365106A JP 2000365106 A JP2000365106 A JP 2000365106A JP 2002166552 A JP2002166552 A JP 2002166552A
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JP
Japan
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liquid
recording
liquid discharge
head
liquid ejection
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Application number
JP2000365106A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Masahiko Kubota
雅彦 久保田
Hiroshi Higashiyama
拓 東山
Hiroyuki Tamaki
寛之 玉木
Atsuhiro Tsuchiya
敦裕 土屋
Takashi Nojima
隆司 野島
Osamu Sato
理 佐藤
Akiro Kato
秋朗 加藤
Koichi Kuno
宏一 久野
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Canon Inc
Original Assignee
Canon Inc
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a liquid ejection head and a liquid ejection recorder in which recording can be carried out stably even when the liquid ejection recorder is used in a moving body subjected to impact or vibration inadvertently and convenience of the recorder can be enhanced. SOLUTION: A pressure sensor 43 for detecting a vibration from the outside of a head as a pressure vibration is provided on an element substrate 1 constituting a liquid ejection head. When a liquid ejection recorder employing that head is mounted on a moving body, e.g. an automobile, a swing caused by an impact or vibration from the outside of the recorder is detected by the pressure sensor 43 and recording operation is interrupted instantaneously. Recording is resumed eventually from an image position following to the interrupting position by a trigger signal generated in the head.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、複写機、ファクシ
ミリ、ワープロ、ホストコンピュータなどの出力用端末
としてのプリンタ、ビデオプリンタなどに用いられる液
体吐出ヘッド、およびそのヘッドを搭載した液体吐出記
録装置に関し、特に、記録のためのエネルギーとして利
用される熱エネルギーを発生する電気熱変換素子が形成
された基体を有する液体吐出ヘッド、および記録装置に
関する。すなわち、本発明は、記録用の液体(インクな
ど)を飛翔液滴として吐出口(オリフィス)から吐出さ
せて被記録媒体に付着させることにより記録を行う液体
吐出記録装置に用いられる液体吐出ヘッドに関するもの
である。
[0001] 1. Field of the Invention [0002] The present invention relates to a liquid discharge head used in a printer as an output terminal of a copying machine, a facsimile, a word processor, a host computer or the like, a video printer, and a liquid discharge recording apparatus equipped with the head. More particularly, the present invention relates to a liquid ejection head having a base on which an electrothermal conversion element for generating thermal energy used as energy for recording is formed, and a recording apparatus. That is, the present invention relates to a liquid discharge head used in a liquid discharge recording apparatus that performs recording by discharging a recording liquid (such as ink) as a flying droplet from a discharge port (orifice) and attaching the recording liquid to a recording medium. Things.

【0002】また、本発明は、車両などの移動体に搭載
された無線機などが受信した情報など記録する車載用プ
リンタ装置、およびその装置における記録方法に関す
る。
[0002] The present invention also relates to an in-vehicle printer device that records information received by a wireless device mounted on a moving body such as a vehicle, and a recording method in the device.

【0003】[0003]

【従来の技術】液体吐出記録装置、特にインクジェット
式記録装置は、現代のビジネスオフィスやその他の事務
処理部門において広範囲に使用されている。
2. Description of the Related Art Liquid ejection recording apparatuses, particularly ink jet recording apparatuses, are widely used in modern business offices and other business processing departments.

【0004】このような記録装置に備わるヘッド(イン
クジェット記録ヘッドと言う)は、インクなどの記録液
を吐出する複数の微細な穴(オリフィス)、各オリフィ
スにそれぞれ連通する複数の液流路、および各液流路内
に位置付けられた吐出エネルギー発生素子を備えてい
る。この吐出エネルギー発生素子に記録情報に対応した
駆動信号を印加し、吐出エネルギー発生素子の位置する
液流路内の記録液に吐出エネルギーを付与することによ
って、記録液をオリフィスから飛翔液滴として吐出させ
て記録を行なうように構成されている。
A head provided in such a recording apparatus (referred to as an ink jet recording head) includes a plurality of fine holes (orifices) for discharging a recording liquid such as ink, a plurality of liquid flow paths respectively communicating with the respective orifices, and An ejection energy generating element is provided in each liquid flow path. By applying a drive signal corresponding to the recording information to the ejection energy generating element and applying ejection energy to the recording liquid in the liquid flow path where the ejection energy generating element is located, the recording liquid is ejected from the orifice as flying droplets. It is configured to perform recording.

【0005】この種のインクジェット記録ヘッドは例え
ば図11に示すように、高精度にオリフィスが形成され
たオリフィスプレート100と、そのオリフィスにそれ
ぞれ連通する複数の液流路溝を持つ天板101と、表面
に複数の吐出エネルギー発生素子102が形成されたS
i基板からなる素子基板103とから構成される。オリ
フィスプレート100のオリフィス104、天板101
の液流路溝、素子基板103上の吐出エネルギー発生素
子102がそれぞれ対応するように位置決めされ、ばね
などの付勢手段あるいは接着剤により接合され、素子基
板103の電気配線の端部に位置して本体装置から駆動
信号などの電気信号を受けるパッドを有する配線基板
(不図示)と共に、ベースプレート105上に固定され
る。
As shown in FIG. 11, for example, this type of ink jet recording head includes an orifice plate 100 having orifices formed with high precision, a top plate 101 having a plurality of liquid flow grooves communicating with the orifices, respectively. S having a plurality of ejection energy generating elements 102 formed on the surface
and an element substrate 103 made of an i-substrate. Orifice 104 of orifice plate 100, top plate 101
And the discharge energy generating elements 102 on the element substrate 103 are positioned so as to correspond to each other, are joined by an urging means such as a spring or an adhesive, and are located at the ends of the electric wiring of the element substrate 103. And is fixed on the base plate 105 together with a wiring board (not shown) having pads for receiving electric signals such as drive signals from the main body device.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】このようなインクジェ
ット記録装置は、使い勝手が良い、保守点検が比較的容
易、或いはメンテナンスフリーであるなどのユーザ要求
に答えられるように開発、研究が図られている。
Such an ink jet recording apparatus has been developed and studied to meet user demands such as good usability, relatively easy maintenance and inspection, and maintenance free. .

【0007】上述のような記録装置を自動車などの移動
体内で使用する場合には、エンジンによる振動や、凹凸
の路面を走行した場合の衝撃・振動や、自動車の発進・
停止時の加減速における慣性モーメントによる衝撃・振
動や、自動車が曲がる際の横方向の加速度(G)に起因
する、慣性モーメントによる衝撃・振動などが発生し、
前記記録装置では記録液の吐出方向や、紙送りに大きな
影響を与えることになる。
When the above-described recording apparatus is used in a moving body such as an automobile, vibrations caused by an engine, impacts and vibrations caused when the vehicle travels on an uneven road surface, and starting / moving of the automobile are considered.
Impact / vibration due to the inertia moment during acceleration / deceleration at the time of stop, and impact / vibration due to the inertia moment due to the lateral acceleration (G) when the car turns,
In the recording apparatus, the discharge direction of the recording liquid and the paper feed are greatly affected.

【0008】そこで本発明の目的は、衝撃や振動が不意
に発生する移動体中で液体吐出記録装置を使用する際に
も安定した記録を行うことができ、装置の利便性を向上
させることが可能な液体吐出ヘッド、液体吐出記録装
置、および液体吐出記録方法を提供することにある。
Accordingly, an object of the present invention is to perform stable recording even when using a liquid discharge recording apparatus in a moving body in which shock or vibration is suddenly generated, and to improve the convenience of the apparatus. An object of the present invention is to provide a liquid discharge head, a liquid discharge recording apparatus, and a liquid discharge recording method that are possible.

【0009】より詳細には、本発明の目的は、記録装置
がその外部から受ける衝撃や振動を液体吐出ヘッド内で
感知し、感知した情報に基づいて記録装置の記録動作を
制御することにより、安定した記録品位を保つことが可
能な液体吐出ヘッド、液体吐出記録装置、および液体吐
出記録方法を提供することにある。
More specifically, an object of the present invention is to sense a shock or vibration received from the outside of a printing apparatus in a liquid ejection head, and to control a printing operation of the printing apparatus based on the sensed information. An object of the present invention is to provide a liquid discharge head, a liquid discharge recording apparatus, and a liquid discharge recording method capable of maintaining stable recording quality.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明は、液体を吐出する複数の吐出口の各々に連
通する複数の液流路を構成するために互いに接合された
第1の基板および第2の基板内に、前記吐出口から液体
を吐出する吐出エネルギーを発生させるために前記各液
流路内に配された複数のエネルギー発生素子と、該エネ
ルギー発生素子の駆動条件を制御するための、機能が異
なる複数の素子あるいは電気回路とを備えた液体吐出ヘ
ッドにおいて、前記液体吐出ヘッドの外部からの振動を
圧力振動として検出する圧力センサと、該圧力センサで
検出した圧力振動を電気信号に変換する回路部と、前記
エネルギー発生素子のそれぞれの一端に電気的に接続さ
れ、且つ、記録する画像に対応する画像データに基づい
て前記エネルギー発生素子のそれぞれを駆動可能な駆動
回路と、前記画像データを、それに対応する前記吐出口
ごとの駆動回路のそれぞれに供給する画像データ供給装
置とが、前記第1の基板又は前記第2の基板に選択的に
設けられていることを特徴とする。
In order to achieve the above-mentioned object, the present invention provides a method of forming a plurality of liquid passages, each of which is connected to a corresponding one of a plurality of discharge ports for discharging a liquid. In the substrate and the second substrate, a plurality of energy generating elements arranged in each of the liquid flow paths for generating discharge energy for discharging liquid from the discharge ports, and a driving condition of the energy generating elements. In a liquid discharge head including a plurality of elements or electric circuits having different functions for controlling, a pressure sensor for detecting vibration from outside the liquid discharge head as pressure vibration, and a pressure vibration detected by the pressure sensor. To an electric signal, and electrically connected to one end of each of the energy generating elements and based on image data corresponding to an image to be recorded. A drive circuit that can drive each of the raw elements, and an image data supply device that supplies the image data to each of the drive circuits for each of the discharge ports corresponding to the drive circuit, wherein the first substrate or the second substrate Are selectively provided.

【0011】また、上記の液体吐出ヘッドが、前記エネ
ルギー発生素子に対面するように該素子から所定の距離
だけ隔てられ、前記吐出口側を自由端として、複数の前
記エネルギー発生素子のそれぞれに対応して複数設けら
れた可動部材をさらに有していてもよい。
The liquid discharge head is separated from the energy generating element by a predetermined distance so as to face the energy generating element, and the liquid discharge head corresponds to each of the plurality of energy generating elements with the discharge port side as a free end. Further, a plurality of movable members may be further provided.

【0012】さらに、本発明の液体吐出記録装置は、上
記の液体吐出ヘッドを用いて被記録媒体に記録を行う液
体吐出記録装置であって、前記回路部で変換された電気
信号に基づいて前記液体吐出ヘッドの記録動作を制御す
る制御手段を有している。
Further, a liquid discharge recording apparatus according to the present invention is a liquid discharge recording apparatus for performing recording on a recording medium using the above liquid discharge head, wherein the liquid discharge recording apparatus performs the recording on the basis of the electric signal converted by the circuit section. It has a control means for controlling the recording operation of the liquid ejection head.

【0013】上記の通りの発明では、液体吐出ヘッドの
外部からの振動を圧力振動として検出する圧力センサが
液体吐出ヘッドに設けられたことにより、そのヘッドの
外部からの衝撃や振動による揺れなどを圧力センサによ
り検出して、液体吐出ヘッドによる記録動作を即座に停
止させることができる。よって、衝撃や振動が不意に発
生する移動体中で液体吐出記録装置を使用する際にも、
記録画像の、安定した記録品位を保ちつつ、安定した記
録を行うことができ、液体吐出記録装置の利便性が向上
する。また、信号入力機構しての圧力センサと、振動信
号を再生する機能を有する回路部とを液体吐出ヘッド内
に持たせたことにより、非常に小型な液体吐出ヘッド、
そのヘッドを用いた液体吐出記録装置を作製することが
できる。さらに、このような液体吐出ヘッドにおいて、
エネルギー発生素子の駆動を制御するための複数の素子
あるいは電気回路を、そのヘッドを構成する第1の基板
と第2の基板とにその機能に応じて振り分けることによ
り、液体吐出ヘッドを小型化することができる。また、
機能が1つの基板に集中しなくなるので、基板の歩留ま
りが向上し、結果的にヘッドの製造コストを下げること
ができる。
In the invention described above, the pressure sensor for detecting the vibration from the outside of the liquid discharge head as pressure vibration is provided in the liquid discharge head, so that the head is prevented from shaking due to an external shock or vibration. The recording operation by the liquid ejection head can be immediately stopped by detecting with the pressure sensor. Therefore, even when using the liquid discharge recording apparatus in a moving body where shocks and vibrations occur unexpectedly,
Stable recording can be performed while maintaining stable recording quality of the recorded image, and the convenience of the liquid discharge recording apparatus is improved. Further, by providing a pressure sensor as a signal input mechanism and a circuit portion having a function of reproducing a vibration signal in the liquid discharge head, a very small liquid discharge head,
A liquid discharge recording apparatus using the head can be manufactured. Further, in such a liquid ejection head,
By distributing a plurality of elements or electric circuits for controlling the driving of the energy generating element to a first substrate and a second substrate constituting the head according to their functions, the liquid discharge head is downsized. be able to. Also,
Since the functions are not concentrated on one substrate, the yield of the substrate is improved, and as a result, the manufacturing cost of the head can be reduced.

【0014】さらに、本発明の液体吐出記録方法は、上
記の液体吐出ヘッドを用いた液体吐出記録装置を移動体
に設置し、設置された該液体吐出記録装置で記録を行う
ための記録方法であって、前記移動体から前記液体吐出
ヘッドに伝わる衝撃または振動を前記液体吐出ヘッドの
前記圧力センサにより検知し、前記回路部で変換された
電気信号に基づいて、前記液体吐出ヘッドの記録を停止
させ、再度、停止させた画像位置から前記液体吐出ヘッ
ドの記録を開始させることを特徴とする。
Further, a liquid ejection recording method of the present invention is a recording method for installing a liquid ejection recording apparatus using the above liquid ejection head on a moving body and performing recording with the installed liquid ejection recording apparatus. Then, the impact or vibration transmitted from the moving body to the liquid discharge head is detected by the pressure sensor of the liquid discharge head, and the recording of the liquid discharge head is stopped based on the electric signal converted by the circuit unit. Then, the recording of the liquid ejection head is started again from the stopped image position.

【0015】さらに、本発明の液体吐出記録方法は、液
体吐出ヘッドから液体を吐出して被記録媒体に画像を記
録する液体吐出記録装置を移動体に搭載し、搭載された
該液体吐出記録装置で記録を行うための記録方法であっ
て、前記移動体から前記液体吐出ヘッドに伝わる衝撃ま
たは振動を、前記液体吐出ヘッドに設けられた圧力セン
サにより検出する段階と、前記圧力センサで検出した圧
力振動を、前記液体吐出ヘッドに備えられた回路部によ
り電気信号に変換する段階と、前記電気信号に基づい
て、前記液体吐出ヘッドによる画像の記録を停止させる
段階と、前記液体吐出ヘッドによる記録を、停止させた
画像位置から再度開始させる段階とを有する。
Further, according to the liquid discharge recording method of the present invention, a liquid discharge recording apparatus which discharges liquid from a liquid discharge head to record an image on a recording medium is mounted on a moving body, and the mounted liquid discharge recording apparatus is mounted. Detecting a shock or vibration transmitted from the moving body to the liquid ejection head by a pressure sensor provided in the liquid ejection head, and a pressure detected by the pressure sensor. Converting the vibration into an electric signal by a circuit unit provided in the liquid ejection head, stopping the recording of an image by the liquid ejection head based on the electric signal, and recording by the liquid ejection head. Restarting from the stopped image position.

【0016】上記の通りの発明に係る液体吐出記録方法
では、移動体に搭載された液体吐出記録装置において、
移動体から前記液体吐出ヘッドに伝わる衝撃または振動
を、液体吐出ヘッドに備えられた圧力センサにより圧力
振動として検出し、検出された圧力振動から変換された
電気信号に基づいて液体吐出ヘッドの記録を停止させる
ことにより、記録装置に衝撃や振動が与えられた場合に
液体吐出ヘッドによる記録動作を即座に停止させること
ができる。そして、停止させた画像位置から記録を再度
開始させることで、液体吐出ヘッドへの衝撃や振動がほ
とんど無いとき、あるいは小さいときにのみ記録を行う
ことができ、記録画像の、安定した記録品位を保つこと
が可能となる。その結果、上述したのと同様に、衝撃や
振動が不意に発生する移動体中で液体吐出記録装置を使
用する際にも安定した記録を行うことができ、液体吐出
記録装置の利便性が向上する。
In the liquid ejection recording method according to the present invention as described above, the liquid ejection recording apparatus mounted on the moving body includes:
Impact or vibration transmitted from the moving body to the liquid discharge head is detected as pressure vibration by a pressure sensor provided in the liquid discharge head, and recording of the liquid discharge head is performed based on an electric signal converted from the detected pressure vibration. By stopping, the recording operation by the liquid ejection head can be immediately stopped when an impact or vibration is applied to the recording apparatus. By restarting the recording from the stopped image position, recording can be performed only when there is almost no impact or vibration to the liquid ejection head or only when it is small, and a stable recording quality of the recorded image can be obtained. It is possible to keep. As a result, as described above, stable recording can be performed even when the liquid ejection recording apparatus is used in a moving body in which shock or vibration occurs unexpectedly, and the convenience of the liquid ejection recording apparatus is improved. I do.

【0017】なお、本発明の説明で用いる「上流」「下
流」とは、液体の供給源から気泡発生領域(または可動
部材)を経て、吐出口へ向かう液体の流れ方向に関し
て、またはこの構成上の方向に関しての表現として用い
られる。
The terms "upstream" and "downstream" used in the description of the present invention refer to the flow direction of a liquid from a liquid supply source to a discharge port through a bubble generation region (or a movable member), or in terms of this configuration. Is used as an expression for the direction of.

【0018】[0018]

【発明の実施の形態】次に、本発明の実施の形態につい
て図面を参照して説明する。
Next, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.

【0019】図1は、本発明の一実施形態である液体吐
出ヘッドの液流路方向に沿った断面図である。
FIG. 1 is a sectional view taken along the direction of a liquid flow path of a liquid discharge head according to an embodiment of the present invention.

【0020】図1に示すように、この液体吐出ヘッド
は、液体に気泡を発生させるための熱エネルギーを与え
る複数個(図1では1つのみ示す)の発熱体2が並列に
設けられた素子基板1と、この素子基板1上に接合され
た天板3と、素子基板1および天板3の前端面に接合さ
れたオリフィスプレート4と、素子基板1と天板3とで
構成される液流路7内に設置された可動部材6と、液体
吐出ヘッドの外部からの振動を圧力振動として感知する
圧力センサ(不図示)とを有している。
As shown in FIG. 1, this liquid discharge head is provided with a plurality of (only one is shown in FIG. 1) heating elements 2 for providing thermal energy for generating bubbles in the liquid. A liquid composed of a substrate 1, a top plate 3 joined on the element substrate 1, an orifice plate 4 joined to the front ends of the element substrate 1 and the top plate 3, and a liquid composed of the element substrate 1 and the top plate 3. It has a movable member 6 installed in the flow path 7 and a pressure sensor (not shown) for sensing vibration from outside the liquid discharge head as pressure vibration.

【0021】素子基板1は、シリコンなどの基板上に絶
縁および蓄熱を目的としたシリコン酸化膜または窒化シ
リコン膜を成膜し、その上に、発熱体2を構成する電気
抵抗層、および配線をパターニングしたものである。こ
の配線から電気抵抗層に電圧を印加し、電気抵抗層に電
流を流すことで発熱体2が発熱する。
The element substrate 1 is formed by forming a silicon oxide film or a silicon nitride film for insulation and heat storage on a substrate such as silicon, and further forming an electric resistance layer and a wiring constituting the heating element 2 thereon. It is patterned. The heating element 2 generates heat by applying a voltage from the wiring to the electric resistance layer and passing a current through the electric resistance layer.

【0022】天板3は、各発熱体2に対応した複数の液
流路7、および各液流路7に液体を供給するための共通
液室8を構成するためのもので、天井部分から各発熱体
2の間に延びる流路側壁9が一体的に設けられている。
天板3はシリコン系の材料で構成され、液流路7および
共通液室9のパターンをエッチングで形成したり、シリ
コン基板上にCVD法などの公知の成膜方法により窒化
シリコン、酸化シリコンなど、流路側壁9となる材料を
堆積した後、液流路7の部分をエッチングして形成する
ことができる。
The top plate 3 is for constituting a plurality of liquid flow paths 7 corresponding to the respective heating elements 2 and a common liquid chamber 8 for supplying a liquid to each liquid flow path 7. A flow path side wall 9 extending between the heating elements 2 is provided integrally.
The top plate 3 is made of a silicon-based material, and the patterns of the liquid flow path 7 and the common liquid chamber 9 are formed by etching, or silicon nitride, silicon oxide, or the like is formed on a silicon substrate by a known film forming method such as a CVD method. After depositing a material for forming the flow path side wall 9, the liquid flow path 7 can be formed by etching.

【0023】オリフィスプレート4には、各液流路7に
対応してそれぞれが液流路7を介して共通液室8に連通
する複数の吐出口5が形成されている。オリフィスプレ
ート4もシリコン系の材料からなるものであり、例え
ば、吐出口5を形成したシリコン基板を10〜150μ
m程度の厚さに削ることにより形成される。なお、オリ
フィスプレート4は本発明には必ずしも必要な構成では
なく、オリフィスプレート4を設ける代わりに、天板3
に液流路7を形成する際に天板3の先端面にオリフィス
プレート4の厚さ相当の壁を残し、この部分に吐出口5
を形成することで、吐出口付きの天板とすることもでき
る。
The orifice plate 4 is formed with a plurality of discharge ports 5 corresponding to the respective liquid flow paths 7 and communicating with the common liquid chamber 8 via the liquid flow paths 7. The orifice plate 4 is also made of a silicon-based material.
It is formed by cutting to a thickness of about m. The orifice plate 4 is not always necessary for the present invention. Instead of providing the orifice plate 4, the top plate 3
When the liquid flow path 7 is formed, a wall corresponding to the thickness of the orifice plate 4 is left on the tip end surface of the top plate 3, and the discharge port 5
Is formed, a top plate with a discharge port can be obtained.

【0024】可動部材6は、液流路7を吐出口5に連通
した第1の液流路7aと、発熱体2を有する第2の液流
路7bとに分けるように、発熱体2に対面して配置され
た片持ち梁状の薄膜であり、窒化シリコンや酸化シリコ
ンなどのシリコン系の材料で形成される。
The movable member 6 is provided on the heating element 2 such that the liquid path 7 is divided into a first liquid path 7 a communicating with the discharge port 5 and a second liquid path 7 b having the heating element 2. It is a cantilever-shaped thin film arranged facing each other, and is formed of a silicon-based material such as silicon nitride or silicon oxide.

【0025】この可動部材6は、液体の吐出動作によっ
て共通液室8から可動部材6を経て吐出口5側へ流れる
大きな流れの上流側に支点6aを持ち、この支点6aに
対して下流側に自由端6bを持つように、発熱体2に面
した位置に発熱体2を覆うような状態で発熱体2から所
定の距離を隔てて配されている。この発熱体2と可動部
材6との間が気泡発生領域10となる。
The movable member 6 has a fulcrum 6a on the upstream side of a large flow flowing from the common liquid chamber 8 through the movable member 6 to the discharge port 5 by the liquid discharging operation, and has a fulcrum downstream from the fulcrum 6a. The heating element 2 is disposed at a position facing the heating element 2 at a predetermined distance from the heating element 2 so as to cover the heating element 2 so as to have the free end 6b. A space between the heating element 2 and the movable member 6 is a bubble generation area 10.

【0026】上記構成に基づき、発熱体2を発熱させる
と、可動部材6と発熱体2との間の気泡発生領域10の
液体に熱が作用し、これにより発熱体2上に膜沸騰現象
に基づく気泡が発生し、成長する。この気泡の成長に伴
う圧力は可動部材6に優先的に作用し、可動部材6は図
1に破線で示されるように、支点6aを中心に吐出口5
側に大きく開くように変位する。可動部材6の変位もし
くは変位した状態によって、気泡の発生に基づく圧力の
伝搬や気泡自身の成長が吐出口5側に導かれ、吐出口5
から液体が吐出する。
When the heating element 2 is caused to generate heat based on the above structure, heat acts on the liquid in the bubble generation region 10 between the movable member 6 and the heating element 2, thereby causing a film boiling phenomenon on the heating element 2. Based bubbles are generated and grow. The pressure caused by the bubble growth acts on the movable member 6 preferentially, and as shown by the broken line in FIG.
Displace so that it opens greatly to the side. By the displacement or the displaced state of the movable member 6, the propagation of the pressure based on the generation of bubbles and the growth of the bubbles themselves are guided to the ejection port 5 side, and the
The liquid is discharged from.

【0027】つまり、気泡発生領域10上に、液流路7
内の液体の流れの上流側(共通液室8側)に支点6aを
持ち下流側(吐出口5側)に自由端6bを持つ可動部材
6を設けることによって、気泡の圧力伝搬方向が下流側
へ導かれ、気泡の圧力が直接的に効率よく吐出に寄与す
ることになる。そして、気泡の成長方向自体も圧力伝搬
方向と同様に下流方向に導かれ、上流より下流で大きく
成長する。このように、気泡の成長方向自体を可動部材
によって制御し、気泡の圧力伝搬方向を制御すること
で、吐出効率や吐出力または吐出速度などの根本的な吐
出特性を向上させることができる。
That is, the liquid flow path 7 is
By providing the movable member 6 having the fulcrum 6a on the upstream side (the common liquid chamber 8 side) and the free end 6b on the downstream side (the discharge port 5 side) of the flow of the liquid in the inside, the pressure propagation direction of the bubble is downstream. And the pressure of the bubbles directly and efficiently contributes to the ejection. Then, the growth direction of the bubble itself is guided in the downstream direction similarly to the pressure propagation direction, and the bubble grows larger downstream than upstream. As described above, by controlling the growth direction itself of the bubble by the movable member and controlling the pressure propagation direction of the bubble, fundamental discharge characteristics such as discharge efficiency, discharge force, or discharge speed can be improved.

【0028】一方、気泡が消泡工程に入ると、可動部材
6の弾性力との相乗効果で気泡は急速に消泡し、可動部
材6も最終的には図1に実線で示した初期位置に復帰す
る。このとき、気泡発生領域10での気泡の収縮体積を
補うため、また、吐出された液体の体積分を補うため
に、上流側すなわち共通液室8側から液体が流れ込み、
液流路7への液体の充填(リフィル)が行われるが、こ
の液体のリフィルは、可動部材6の復帰作用に伴って効
率よく合理的かつ安定して行われる。
On the other hand, when the bubble enters the defoaming step, the bubble rapidly disappears due to a synergistic effect with the elastic force of the movable member 6, and the movable member 6 is also finally moved to the initial position shown by the solid line in FIG. Return to. At this time, the liquid flows in from the upstream side, that is, the common liquid chamber 8 side, in order to supplement the contracted volume of the bubbles in the bubble generation region 10 and to supplement the volume of the discharged liquid,
The liquid flow path 7 is filled (refilled) with a liquid, and the liquid is refilled efficiently and rationally and stably with the return operation of the movable member 6.

【0029】また、本実施形態の液体吐出ヘッドは、発
熱体2を駆動したりその駆動を制御するための回路や素
子を有する。これら回路や素子は、その機能に応じて素
子基板1または天板3に分担して配置されている。ま
た、これらの回路や素子は、素子基板1および天板3が
シリコン材料で構成されていることから、半導体ウェハ
プロセス技術を用いて容易かつ微細に形成することがで
きる。
The liquid discharge head according to the present embodiment has circuits and elements for driving the heating element 2 and controlling the driving thereof. These circuits and elements are assigned to the element substrate 1 or the top plate 3 according to their functions. Further, these circuits and elements can be easily and finely formed by using the semiconductor wafer process technology since the element substrate 1 and the top plate 3 are made of a silicon material.

【0030】以下に、半導体ウェハプロセス技術を用い
て形成された素子基板1の構造について説明する。
The structure of the element substrate 1 formed by using the semiconductor wafer process technology will be described below.

【0031】図2は、図1に示す液体吐出ヘッドに用い
られる素子基板の断面図である。図2に示すように、本
実施形態の液体吐出ヘッドに用いられる素子基板1で
は、シリコン基板301の表面に、蓄熱層としての熱酸
化膜302、および蓄熱層を兼ねる層間膜303がこの
順番で積層されている。層間膜303としては、SiO
2膜またはSi34膜が用いられている。層間膜303
の表面に部分的に抵抗層304が形成され、抵抗層30
4の表面に部分的に配線305が形成されている。配線
305としては、Alまたは、Al−Si,Al−Cu
などのAl合金配線が用いられている。この配線30
5、抵抗層304および層間膜303の表面に、SiO
2膜またはSi34膜から成る保護膜306が形成され
ている。保護膜306の表面の、抵抗層304に対応す
る部分およびその周囲には、抵抗層304の発熱に伴う
化学的および物理的な衝撃から保護膜306を守るため
の耐キャビテーション膜307が形成されている。抵抗
層304表面の、配線305が形成されていない領域
は、抵抗層304の熱が作用する部分となる熱作用部3
08である。
FIG. 2 shows a liquid discharge head used in the liquid discharge head shown in FIG.
FIG. 2 is a cross-sectional view of an element substrate obtained. As shown in FIG.
In the element substrate 1 used for the liquid ejection head of the embodiment,
Represents a thermal acid as a heat storage layer on the surface of the silicon substrate 301.
The oxide film 302 and the interlayer film 303 also serving as a heat storage layer
They are stacked in order. As the interlayer film 303, SiO
TwoFilm or SiThreeNFourA membrane is used. Interlayer film 303
The resistance layer 304 is formed partially on the surface of the
The wiring 305 is partially formed on the surface of the wiring 4. wiring
As 305, Al or Al-Si, Al-Cu
Al alloy wiring is used. This wiring 30
5. The surface of the resistive layer 304 and the interlayer film 303 is coated with SiO
TwoFilm or SiThreeNFourA protective film 306 made of a film is formed.
ing. The surface of the protective film 306 corresponding to the resistance layer 304
And its surroundings are caused by the heat generated by the resistance layer 304.
To protect the protective film 306 from chemical and physical impact
The anti-cavitation film 307 is formed. resistance
A region where the wiring 305 is not formed on the surface of the layer 304
Is a heat acting portion 3 which is a portion where the heat of the resistance layer 304 acts
08.

【0032】この素子基板1上の膜は半導体の製造技術
によりシリコン基板301の表面に順に形成され、シリ
コン基板301に熱作用部308が備えられている。
The films on the element substrate 1 are sequentially formed on the surface of a silicon substrate 301 by a semiconductor manufacturing technique, and the silicon substrate 301 is provided with a heat acting portion 308.

【0033】図3は、図2に示す素子基板1の主要素子
を縦断するように素子基板1を切断した模式的断面図で
ある。
FIG. 3 is a schematic cross-sectional view of the element substrate 1 shown in FIG.

【0034】図3に示すように、P導電体であるシリコ
ン基板301の表層にはN型ウェル領域422およびP
型ウェル領域423が部分的に備えられている。そし
て、一般的なMosプロセスを用いてイオンプラテーシ
ョンなどの不純物導入および拡散によって、N型ウェル
領域422にP−Mos420が、P型ウェル領域42
3にN−Mos421が備えられている。P−Mos4
20は、N型ウェル領域422の表層に部分的にN型あ
るいはP型の不純物を導入してなるソース領域425お
よびドレイン領域426や、N型ウェル領域422の、
ソース領域425およびドレイン領域426を除く部分
の表面に厚さ数百Åのゲート絶縁膜428を介して堆積
されたゲート配線435などから構成されている。ま
た、N−Mos421は、P型ウェル領域423の表層
に部分的にN型あるいはP型の不純物を導入してなるソ
ース領域425およびドレイン領域426や、P型ウェ
ル領域423の、ソース領域425およびドレイン領域
426を除く部分の表面に厚さ数百Åのゲート絶縁膜4
28を介して堆積されたゲート配線435などから構成
されている。ゲート配線435は、CVD法により堆積
した厚さ4000Å〜5000Åのポリシリコンから成
るものである。これらのP−Mos420およびN−M
os421からC−Mosロジックが構成されている。
As shown in FIG. 3, an N-type well region 422 and a P-type
The mold well region 423 is partially provided. Then, the P-Mos 420 is added to the N-type well region 422 by introducing and diffusing impurities such as ion plating using a general Mos process.
3 is provided with an N-Mos421. P-Mos4
Reference numeral 20 denotes a source region 425 and a drain region 426 in which an N-type or P-type impurity is partially introduced into a surface layer of the N-type well region 422, and an N-type well region 422.
It is composed of a gate wiring 435 and the like deposited on the surface of the portion excluding the source region 425 and the drain region 426 via a gate insulating film 428 having a thickness of several hundreds of mm. The N-Mos 421 includes a source region 425 and a drain region 426 in which an N-type or P-type impurity is partially introduced into the surface layer of the P-type well region 423, and a source region 425 and a P-type well region 423. The gate insulating film 4 having a thickness of several hundred Å is formed on the surface except for the drain region 426.
The gate wiring 435 and the like are deposited via the gate wiring 435. The gate wiring 435 is made of polysilicon having a thickness of 4000 to 5000 nm deposited by the CVD method. These P-Mos420 and NM
The os421 forms a C-Mos logic.

【0035】P型ウェル領域423の、N−Mos42
1と異なる部分には、電気熱変換素子駆動用のN−Mo
sトランジスタ430が備えられている。N−Mosト
ランジスタ430も、不純物導入および拡散などの工程
によりP型ウェル領域423の表層に部分的に備えられ
たソース領域432およびドレイン領域431や、P型
ウェル領域423の、ソース領域432およびドレイン
領域431を除く部分の表面にゲート絶縁膜428を介
して堆積されたゲート配線433などから構成されてい
る。
The N-Mos 42 of the P-type well region 423
The portion different from 1 is an N-Mo for driving the electrothermal transducer.
An s transistor 430 is provided. The N-Mos transistor 430 also has a source region 432 and a drain region 431 partially provided in a surface layer of the P-type well region 423 by processes such as impurity introduction and diffusion, and a source region 432 and a drain of the P-type well region 423. The gate wiring 433 and the like are deposited on the surface of the portion excluding the region 431 via the gate insulating film 428.

【0036】本実施形態では、電気熱変換素子駆動用の
トランジスタとしてN−Mosトランジスタ430を用
いたが、複数の電気熱変換素子を個別に駆動できる能力
を持ち、かつ、上述したような微細な構造を得ることが
できるトランジスタであれば、このトランジスタに限ら
れない。
In this embodiment, the N-Mos transistor 430 is used as a transistor for driving the electrothermal transducer. However, the transistor has the ability to individually drive a plurality of electrothermal transducers and has the fine The transistor is not limited to this transistor as long as it can obtain a structure.

【0037】P−Mos420とN−Mos421との
間や、N−Mos421とN−Mosトランジスタ43
0との間などの各素子間には、5000Å〜10000
Åの厚さのフィールド酸化により酸化膜分離領域424
が形成されており、その酸化膜分離領域424によって
各素子が分離されている。酸化膜分離領域424の、熱
作用部308に対応する部分は、シリコン基板301の
表面側から見て一層目の蓄熱層434としての役割を果
たす。
Between the P-Mos 420 and the N-Mos 421 and between the N-Mos 421 and the N-Mos transistor 43
5,000 to 10,000 between each element such as between 0 and
An oxide film isolation region 424 is formed by field oxidation having a thickness of Å.
Are formed, and each element is separated by the oxide film separation region 424. The portion of the oxide film isolation region 424 corresponding to the heat acting portion 308 plays a role as a first heat storage layer 434 when viewed from the surface side of the silicon substrate 301.

【0038】P−Mos420、N−Mos421およ
びN−Mosトランジスタ430の各素子の表面には、
厚さ約7000ÅのPSG膜またはBPSG膜などから
成る層間絶縁膜436がCVD法により形成されてい
る。熱処理により層間絶縁膜436を平坦化した後に、
層間絶縁膜436およびゲート絶縁膜428を貫通する
コンタクトホールを介して第1の配線層となるAl電極
437により配線が行われている。層間絶縁膜436お
よびAl電極437の表面には、厚さ10000Å〜1
5000ÅのSiO2膜から成る層間絶縁膜438がプ
ラズマCVD法により形成されている。層間絶縁膜43
8の表面の、熱作用部308およびN−Mosトランジ
スタ430に対応する部分には、厚さ約1000ÅのT
aN0.8,he x膜から成る抵抗層304がDCスパッタ法
により形成されている。抵抗層304は、層間絶縁膜4
38に形成されたスルーホールを介してドレイン領域4
31の近傍のAl電極437と電気的に接続されてい
る。抵抗層304の表面には、各電気熱変換素子への配
線となる第2の配線層としての、Alの配線305が形
成されている。
P-Mos 420, N-Mos 421 and
And the surface of each element of the N-Mos transistor 430,
From a PSG or BPSG film with a thickness of about 7000mm
Is formed by a CVD method.
You. After the interlayer insulating film 436 is planarized by heat treatment,
Penetrating through the interlayer insulating film 436 and the gate insulating film 428
Al electrode serving as first wiring layer via contact hole
The wiring is performed by 437. The interlayer insulating film 436
And the surface of the Al electrode 437 has a thickness of
5000Å of SiOTwoThe interlayer insulating film 438 made of a film
It is formed by a plasma CVD method. Interlayer insulating film 43
8, the thermal action section 308 and the N-Mos transistor
The portion corresponding to the star 430 has a T
aN0.8, he xThe resistive layer 304 made of a film is formed by DC sputtering.
Is formed. The resistance layer 304 is formed of the interlayer insulating film 4
Through the through hole formed in the drain region 4
31 and is electrically connected to the Al electrode 437 near
You. The surface of the resistive layer 304 is
The Al wiring 305 as a second wiring layer serving as a wire is shaped.
Has been established.

【0039】配線305、抵抗層304および層間絶縁
膜438の表面の保護膜306は、プラズマCVD法に
より形成された厚さ10000ÅのSi34膜から成る
ものである。保護膜306の表面に形成された耐キャビ
テーション膜307は、厚さ約2500ÅのTaなどの
膜から成るものである。
The wire 305, the protective film 306 on the surface of the resistive layer 304 and the interlayer insulating film 438 is made of the Si 3 N 4 film having a thickness of 10000Å formed by a plasma CVD method. The anti-cavitation film 307 formed on the surface of the protective film 306 is made of a film such as Ta having a thickness of about 2500 °.

【0040】次に、図1のように素子基板1に可動部材
6及び流路側壁9を設けた場合の、可動部材及び流路側
壁の形成工程の一例について、図4及び図5を参照して
説明する。なお、図4及び図5は、可動部材及び流路側
壁が形成される素子基板の液流路方向と直交する方向に
沿った断面を示している。
Next, with reference to FIGS. 4 and 5, an example of a step of forming the movable member and the flow path side wall when the element substrate 1 is provided with the movable member 6 and the flow path side wall 9 as shown in FIG. Will be explained. 4 and 5 show cross sections along a direction orthogonal to the liquid flow direction of the element substrate on which the movable member and the flow path side wall are formed.

【0041】まず、図4(a)では、素子基板1の発熱
体2側の面全体に、発熱体2との電気的な接続を行うた
めの接続用パッド部分を保護するための第1の保護層と
して、不図示のTiW膜をスパッタリング法によって厚
さ約5000Å形成する。この素子基板1の発熱体2側
の面に、間隙形成部材71を形成するためのAl膜をス
パッタリング法によって厚さ約4μm形成する。形成さ
れたAl膜を、周知のフォトリソグラフィプロセスを用
いてパターニングし、図1に示した発熱体2と可動部材
6との間の気泡発生領域10に対応する位置に、素子基
板1と可動部材6との間の間隙を形成するための、Al
膜からなる間隙形成部材71を複数形成する。それぞれ
の間隙形成部材71は、後述する図5(b)の工程にお
いて、可動部材6を形成するための材料膜であるSiN
膜72がエッチングされる領域まで延在されている。
First, in FIG. 4A, a first pad for protecting a connection pad portion for making an electrical connection with the heating element 2 is provided on the entire surface of the element substrate 1 on the heating element 2 side. As a protective layer, a TiW film (not shown) is formed to a thickness of about 5000 ° by a sputtering method. An Al film for forming the gap forming member 71 is formed to a thickness of about 4 μm on the surface of the element substrate 1 on the side of the heating element 2 by a sputtering method. The formed Al film is patterned by using a well-known photolithography process, and the element substrate 1 and the movable member are positioned at positions corresponding to the bubble generation region 10 between the heating element 2 and the movable member 6 shown in FIG. 6 to form a gap between
A plurality of gap forming members 71 made of a film are formed. Each of the gap forming members 71 is made of SiN which is a material film for forming the movable member 6 in a step of FIG.
The film 72 extends to the region to be etched.

【0042】間隙形成部材71は、後述するようにドラ
イエッチングにより液流路7および可動部材6を形成す
る際のエッチングストップ層として機能する。これは、
素子基板1におけるパッド保護層としてのTiW層や、
耐キャビテーション膜としてのTa膜、および抵抗体上
の保護層としてのSiN膜が、液流路7を形成するため
に使用するエッチングガスによりエッチングされてしま
うからであり、これらの層や膜のエッチングが間隙形成
部材71により防止される。そのため、ドライエッチン
グにより液流路7を形成する際に素子基板1の発熱体2
側の面や、素子基板1上のTiW層が露出しないよう
に、それぞれの間隙形成部材71における液流路7の流
路方向と直行する方向の幅は、後述する図5(b)の工
程で形成される液流路7の幅よりも広くなっている。
The gap forming member 71 functions as an etching stop layer when the liquid flow path 7 and the movable member 6 are formed by dry etching as described later. this is,
A TiW layer as a pad protection layer on the element substrate 1,
This is because the Ta film as the anti-cavitation film and the SiN film as the protective layer on the resistor are etched by the etching gas used to form the liquid flow path 7, and these layers and films are etched. Is prevented by the gap forming member 71. Therefore, when the liquid flow path 7 is formed by dry etching, the heating element 2 of the element substrate 1 is formed.
The width of each gap forming member 71 in the direction perpendicular to the flow direction of the liquid flow path 7 is adjusted so that the TiW layer on the element substrate 1 and the TiW layer on the element substrate 1 are not exposed. Is wider than the width of the liquid flow path 7 formed by.

【0043】さらに、ドライエッチング時には、CF4
ガスの分解によりイオン種およびラジカルが発生し、素
子基板1の発熱体2や機能素子にダメージを与えること
があるが、Alからなる間隙形成部材71は、これらイ
オン種やラジカルを受け止めて素子基板1の発熱体2や
機能素子を保護するものとなっている。
Further, at the time of dry etching, CF 4
Decomposition of the gas generates ionic species and radicals, which may damage the heating element 2 and the functional elements of the element substrate 1. The gap forming member 71 made of Al receives the ionic species and radicals, and This protects the heating element 2 and the functional element.

【0044】次に、図4(b)では、間隙形成部材71
の表面、および素子基板1の間隙形成部材71側の面上
に、プラズマCVD法を用いて、可動部材6を形成する
ための材料膜である厚さ約4.5μmのSiN膜72
を、間隙形成部材71を被覆するように形成する。
Next, in FIG. 4B, the gap forming member 71
A SiN film 72 having a thickness of about 4.5 μm, which is a material film for forming the movable member 6 by a plasma CVD method on the surface of
Is formed so as to cover the gap forming member 71.

【0045】次に、図4(c)では、SiN膜72の表
面に、スパッタリング法によりAl膜を厚さ約6100
Å形成した後、形成されたAl膜を、周知のフォトリソ
グラフィプロセスを用いてパターニングし、SiN膜7
2表面の、可動部材6に対応する部分、すなわちSiN
膜72表面の可動部材形成領域に第2の保護層としての
Al膜73を残す。Al膜73は、ドライエッチングに
より液流路7を形成する際の保護層(エッチングストッ
プ層)となる。
Next, in FIG. 4C, an Al film having a thickness of about 6100 was formed on the surface of the SiN film 72 by a sputtering method.
After the formation, the formed Al film is patterned using a well-known photolithography process to form an SiN film 7.
2, a portion corresponding to the movable member 6, ie, SiN
The Al film 73 as a second protective layer is left in the movable member forming region on the surface of the film 72. The Al film 73 becomes a protective layer (etching stop layer) when the liquid flow path 7 is formed by dry etching.

【0046】次に、図5(a)では、SiN膜72およ
びAl膜73の表面に、流路側壁9を形成するためのS
iN膜74を、マイクロ波CVD法を用いて厚さ約50
μm形成する。ここで、マイクロ波CVD法によるSi
N膜74の成膜に使用するガスとしては、モノシラン
(SiH4)、窒素(N2)およびアルゴン(Ar)を用
いた。そのガスの組み合わせとしては、上記以外にも、
ジシラン(Si26)やアンモニア(NH3)などとの
組み合わせや、混合ガスを用いてもよい。また、周波数
が2.45[GHz]のマイクロ波のパワーを1.5[k
W]とし、ガス流量としてはモノシランを100[scc
m]、窒素を100[sccm]、アルゴンを40[sccm]
でそれぞれのガスを供給して、圧力が5[mTorr]の高
真空下でSiN膜74を形成した。また、ガスのそれ以
外の成分比でのマイクロ波プラズマCVD法や、RF電
源を使用したCVD法などでSiN膜74を形成しても
よい。
Next, in FIG. 5A, the SN film for forming the channel side wall 9 is formed on the surface of the SiN film 72 and the Al film 73.
The iN film 74 is formed to a thickness of about 50 using a microwave CVD method.
μm is formed. Here, Si by microwave CVD is used.
As a gas used for forming the N film 74, monosilane (SiH 4 ), nitrogen (N 2 ), and argon (Ar) were used. In addition to the above,
A combination with disilane (Si 2 H 6 ) or ammonia (NH 3 ) or a mixed gas may be used. Further, the power of the microwave having a frequency of 2.45 [GHz] is set to 1.5 [k].
W] and the gas flow rate is 100 [scc
m], nitrogen 100 sccm, and argon 40 sccm
Then, the respective gases were supplied to form the SiN film 74 under a high vacuum at a pressure of 5 [mTorr]. Alternatively, the SiN film 74 may be formed by a microwave plasma CVD method using a component ratio other than that of the gas, a CVD method using an RF power supply, or the like.

【0047】そして、SiN膜74の表面全体にAl膜
を形成した後に、形成されたAl膜を、フォトリソグラ
フィなどの周知の方法を用いてパターニングして、Si
N膜74の表面の、液流路7に対応する部分を除く部分
にAl膜75を形成する。前述したように、それぞれの
間隙形成部材71における液流路7の流路方向と直行す
る方向の幅は、次の図5(b)の工程で形成される液流
路7の幅よりも広くなっているので、Al膜75の側部
が間隙形成部材71の側部の上方に配置されている。
After an Al film is formed on the entire surface of the SiN film 74, the formed Al film is patterned by using a well-known method such as photolithography.
An Al film 75 is formed on the surface of the N film 74 except for a portion corresponding to the liquid flow path 7. As described above, the width of each of the gap forming members 71 in the direction orthogonal to the flow direction of the liquid flow path 7 is wider than the width of the liquid flow path 7 formed in the next step of FIG. Therefore, the side of the Al film 75 is disposed above the side of the gap forming member 71.

【0048】次に、図5(b)では、誘電結合プラズマ
を使ったエッチング装置を用いてSiN膜74およびS
iN膜72をパターニングして流路側壁9および可動部
材6を同時に形成する。そのエッチング装置では、CF
4とO2の混合ガスを用いて、Al膜73,75および間
隙形成部材71をエッチングストップ層すなわちマスク
として、SiN膜74がトレンチ構造となるようにSi
N膜74およびSiN膜72のエッチングを行う。この
SiN膜72をパターニングする工程では、図1に示し
たように可動部材6の支持固定部が素子基板1に直接固
定されるようにSiN膜72の不要な部分を除去する。
可動部材6の支持固定部と素子基板1との密着部の構成
材料には、パッド保護層の構成材料であるTiW、およ
び素子基板1の耐キャビテーション膜の構成材料である
Taが含まれる。
Next, in FIG. 5B, the SiN film 74 and the S
The iN film 72 is patterned to simultaneously form the channel side wall 9 and the movable member 6. In the etching apparatus, CF
Using a mixed gas of 4 and O 2 , using the Al films 73 and 75 and the gap forming member 71 as an etching stop layer or mask, the SiN film 74 has a trench structure.
The N film 74 and the SiN film 72 are etched. In the step of patterning the SiN film 72, unnecessary portions of the SiN film 72 are removed so that the supporting and fixing portion of the movable member 6 is directly fixed to the element substrate 1 as shown in FIG.
The constituent material of the contact portion between the supporting and fixing part of the movable member 6 and the element substrate 1 includes TiW which is a constituent material of the pad protection layer and Ta which is a constituent material of the anti-cavitation film of the element substrate 1.

【0049】その後、他方の素子基板3である天板側に
は、電気的な接続用パッドが形成された表面上に、金バ
ンプなどを形成し、凸電極部を形成する。
After that, on the top plate side, which is the other element substrate 3, gold bumps and the like are formed on the surface on which the electrical connection pads are formed, thereby forming a convex electrode portion.

【0050】そして、図示しないが、天板側の凸電極
と、素子基板1側の凹電極間で、金属の共晶を利用した
接合を行った。この際、両側の金属種は、同種金属を採
用した方が接合時の温度・圧力を低減でき、かつ、接合
強度を高めることができる。
Then, although not shown, bonding using a metal eutectic was performed between the convex electrode on the top plate side and the concave electrode on the element substrate 1 side. At this time, when the same kind of metal is used as the metal species on both sides, the temperature and pressure at the time of joining can be reduced and the joining strength can be increased.

【0051】次に、エキシマレーザを用いて、フェイス
全面に設置したコンタクトマスクを介して、オリフィス
5を形成した。
Next, the orifice 5 was formed using an excimer laser through a contact mask provided on the entire face.

【0052】最後に、図5(c)では、酢酸、りん酸お
よび硝酸の混酸を用いてAl膜73および75を加温エ
ッチングすることで、Al膜73および75や、Al膜
からなる間隙形成部材71を溶出して除去し、素子基板
1上に可動部材6および流路側壁9を作り込む。その
後、過酸化水素を用いて、素子基板1に形成したパッド
保護層としてのTiW膜の、気泡発生領域10およびパ
ッドに対応する部分を除去する。素子基板1と流路側壁
9との密着部にも、パッド保護層の構成材料であるTi
W、および素子基板1の耐キャビテーション膜の構成材
料であるTaが含まれている。以上のようにして、図1
に示した液体吐出ヘッドを作製した。
Finally, in FIG. 5C, the Al films 73 and 75 are heated and etched using a mixed acid of acetic acid, phosphoric acid and nitric acid to form the Al films 73 and 75 and the gaps formed of the Al film. The member 71 is eluted and removed, and the movable member 6 and the channel side wall 9 are formed on the element substrate 1. Thereafter, portions of the TiW film as a pad protection layer formed on the element substrate 1 corresponding to the bubble generation region 10 and the pad are removed using hydrogen peroxide. Ti, which is a constituent material of the pad protection layer, is also provided on the contact portion between the element substrate 1 and the channel side wall 9.
W and Ta which is a constituent material of the anti-cavitation film of the element substrate 1 are included. As described above, FIG.
Was manufactured.

【0053】図6は、圧力センサで検出した振動信号を
演算して、発熱体への印加エネルギーを制御する素子基
板1および素子基板3の回路構成の一例を示している。
FIG. 6 shows an example of a circuit configuration of the element substrate 1 and the element substrate 3 for calculating the vibration signal detected by the pressure sensor and controlling the energy applied to the heating element.

【0054】図6(a)では、素子基板1には、一列に
配列された発熱体2と、ドライバとして機能するパワー
トランジスタ41と、パワートランジスタ41の駆動を
制御するためのAND回路39と、パワートランジスタ
41の駆動タイミングを制御するための駆動タイミング
制御ロジック回路38と、シフトレジスタおよびラッチ
回路で構成される画像データ転送回路(画像データ供給
装置)42とが形成されている。被記録媒体に記録すべ
き画像に対応する画像データに基づいて発熱体2を駆動
可能な駆動回路が、パワートランジスタ41、AND回
路39、および駆動タイミング制御ロジック回路38な
どから構成されている。
In FIG. 6A, on the element substrate 1, heating elements 2 arranged in a line, a power transistor 41 functioning as a driver, an AND circuit 39 for controlling the driving of the power transistor 41, A drive timing control logic circuit 38 for controlling the drive timing of the power transistor 41 and an image data transfer circuit (image data supply device) 42 including a shift register and a latch circuit are formed. A drive circuit capable of driving the heating element 2 based on image data corresponding to an image to be recorded on a recording medium includes a power transistor 41, an AND circuit 39, a drive timing control logic circuit 38, and the like.

【0055】駆動タイミング制御ロジック回路38は、
装置の電源容量を少なくする目的で、全ての発熱体2を
同時に通電するのではなく、発熱体2を分割駆動して時
間をずらして通電するためのものであり、この駆動タイ
ミング制御ロジック回路38を駆動するイネーブル信号
は、外部コンタクトパッドであるイネーブル信号入力端
子45k〜45nから入力される。
The drive timing control logic circuit 38
For the purpose of reducing the power supply capacity of the device, the heating timing is not supplied to all the heating elements 2 at the same time, but is supplied to the heating elements 2 in a divided drive so as to supply the power with a time lag. Are input from enable signal input terminals 45k to 45n which are external contact pads.

【0056】また、素子基板31に設けられる外部コン
タクトパッドとしては、イネーブル信号入力端子45k
〜45nの他に、発熱体2の駆動電源の入力端子45
a、パワートランジスタ41の接地端子45b、発熱体
2を駆動するエネルギーを制御するために必要な信号用
の入力端子45c〜45e、ロジック回路の駆動電源端
子45f、接地端子45g、画像データ転送回路42の
シフトレジスタに入力されるシリアルデータの入力端子
45iおよびこれに同期するシリアルクロック信号の入
力端子45h、ラッチ回路に入力されるラッチクロック
信号の入力端子45jがある。
The external contact pads provided on the element substrate 31 include an enable signal input terminal 45 k
To 45n, the input terminal 45 of the driving power source of the heating element 2
a, a ground terminal 45b of the power transistor 41, input terminals 45c to 45e for signals required to control energy for driving the heating element 2, a drive power supply terminal 45f of a logic circuit, a ground terminal 45g, and an image data transfer circuit 42 And a serial clock signal input terminal 45h synchronized with the input terminal 45h, and a latch clock signal input terminal 45j input to the latch circuit.

【0057】一方、図6(b)に示すように、天板であ
る素子基板3には、素子基板1に設けられた、外部から
の振動を感知する圧力センサ43を駆動するためのセン
サ駆動回路47と、圧力センサ43からの出力をモニタ
し、その結果に応じて発熱体2への印加エネルギーを制
御する(ON/OFF)ための駆動信号制御回路46
と、センサ43で検出された出力値データをヘッド情報
として記憶し、そのデータを駆動信号制御回路46に出
力するメモリ49とが形成されている。よって、駆動信
号制御回路46が、圧力センサ43で検出された圧力振
動から変換された電気信号に基づいて液体吐出ヘッドの
記録動作を制御する制御手段となっている。
On the other hand, as shown in FIG. 6B, a sensor drive for driving a pressure sensor 43 provided on the element substrate 1 and sensing external vibration is provided on the element substrate 3 as a top plate. A circuit 47 and a drive signal control circuit 46 for monitoring the output from the pressure sensor 43 and controlling (ON / OFF) the energy applied to the heating element 2 according to the result.
And a memory 49 that stores output value data detected by the sensor 43 as head information and outputs the data to the drive signal control circuit 46. Therefore, the drive signal control circuit 46 serves as control means for controlling the recording operation of the liquid ejection head based on the electric signal converted from the pressure vibration detected by the pressure sensor 43.

【0058】また、接続用コンタクトパッドとして、素
子基板1および天板3には、センサ43とセンサ駆動回
路47とを接続する端子44g,44h,48g,48
h、外部から発熱体2を駆動するエネルギーを制御する
ために必要な信号用の入力端子45c〜45eと駆動信
号制御回路46とを接続する端子44b〜44d,48
b〜48d、駆動信号制御回路46の出力をAND回路
39の一方の入力端子に入力させるための端子48aな
どが設けられている。
As connection contact pads, terminals 44 g, 44 h, 48 g, 48 for connecting the sensor 43 and the sensor drive circuit 47 are provided on the element substrate 1 and the top plate 3.
h, terminals 44b-44d, 48 for connecting input terminals 45c-45e for signals necessary for controlling the energy for driving the heating element 2 from the outside and the drive signal control circuit 46;
b to 48d, and a terminal 48a for inputting the output of the drive signal control circuit 46 to one input terminal of the AND circuit 39 are provided.

【0059】なお、図6に示した例では、圧力センサ4
3を素子基板1に設けているが、これに代えて図6
(b)のセンサ210のように素子基板3に設けてあっ
てもよい。いずれにしても圧力センサの位置は、感知さ
れる振動を電気信号に変換するのに有効であって、各素
子を接続する配線が効率よく形成できる場所であれば特
に限定されない。
In the example shown in FIG. 6, the pressure sensor 4
3 is provided on the element substrate 1, but instead of this, FIG.
It may be provided on the element substrate 3 like the sensor 210 of (b). In any case, the position of the pressure sensor is effective for converting the sensed vibration into an electric signal, and is not particularly limited as long as the wiring for connecting each element can be efficiently formed.

【0060】以上の構成において、まず、前記圧力セン
サの断面を概略的に示したのが、図7である。このセン
サは、シリコンベースのダイヤフラム202を用い、そ
の一部に拡散法によってピエゾ抵抗(シリコンひずみゲ
ージ)200を作り込み、そのセンサ周辺に演算増幅部
(例えばPNPトランジスタ201)を構成する電気回
路を集積化したものである。回路機能としては、出力の
増幅度調整、温度特性(零点、感度)の補償、零点の調
整などの機能が備えられており、それらの調整をとるた
めに不図示の薄膜抵抗を個々にレーザトリミングする機
能を付加してもよい。
FIG. 7 schematically shows a cross section of the pressure sensor in the above configuration. This sensor uses a silicon-based diaphragm 202, in which a piezoresistor (silicon strain gauge) 200 is formed in a part by a diffusion method, and an electric circuit constituting an operational amplifier (for example, a PNP transistor 201) is formed around the sensor. It is integrated. The circuit functions include functions such as output amplification adjustment, temperature characteristic (zero point, sensitivity) compensation, and zero point adjustment. In order to take these adjustments, thin-film resistors (not shown) are individually laser-trimmed. Function may be added.

【0061】図8は、素子基板3内にシリコンひずみゲ
ージ200を使った圧力センサの概略構成図である。こ
こで、採用したシリコンひずみゲージは、その外部から
の振動を感知する目的に用いられる。この圧力センサで
は、シリコンの高いピエゾ抵抗効果を利用し、高感度に
圧力振動を検知することができる。この圧力センサから
検出された圧力振動波による歪みを回路部で電気信号に
変換し、形成した電気信号を、素子基板(天板)3内に
設置した駆動信号制御回路46(図6(b)参照)に入
力したり、素子基板1内に設置した画像データ転送回路
42(図6(a)参照)に入力することも可能である。
そして、この電気信号をトリガー信号として、駆動信号
制御回路46を介して発熱体2の印加エネルギーの(O
N/OFF)制御をしたり、画像データ転送回路42内
でのトリガー信号位置を検出させて画像データの停止位
置を記憶させることも可能である。
FIG. 8 is a schematic configuration diagram of a pressure sensor using a silicon strain gauge 200 in the element substrate 3. Here, the adopted silicon strain gauge is used for the purpose of sensing vibration from the outside. In this pressure sensor, pressure oscillation can be detected with high sensitivity using the high piezoresistance effect of silicon. The circuit unit converts the distortion caused by the pressure vibration wave detected by the pressure sensor into an electric signal, and converts the formed electric signal into a drive signal control circuit 46 (FIG. 6B) installed in the element substrate (top plate) 3. ) Or to the image data transfer circuit 42 (see FIG. 6A) installed in the element substrate 1.
Then, using this electric signal as a trigger signal, (O) of the energy applied to the heating element 2 via the drive signal control circuit 46
(N / OFF) control, and the stop position of the image data can be stored by detecting the position of the trigger signal in the image data transfer circuit 42.

【0062】以上の構成において、まず、シリコンベー
スのダイヤフラム202の歪みを電気抵抗の変化に変換
する素子であるストレインゲージを作り込んだ構造を図
8に示している。図8に示されているように、2本のス
トレインゲージが、ポリシリコンの細い抵抗線から構成
され、それらがダイヤフラム内に形成されている。そし
て、この抵抗線の両端にはリード電極が形成されてい
る。
FIG. 8 shows a structure in which a strain gauge, which is an element for converting the strain of the silicon-based diaphragm 202 into a change in electric resistance, is firstly constructed. As shown in FIG. 8, two strain gauges are formed of thin polysilicon resistance wires, which are formed in the diaphragm. Then, lead electrodes are formed at both ends of the resistance wire.

【0063】ここで、このストレインゲージの基本原理
は下記に説明する通りである。まず、1本の棒抵抗の長
さをL[m],断面積をS[m2]とすると、抵抗率ρ[Ω・
m]から、全抵抗値R[Ω]は、R=ρL/Sとなる。こ
こで、抵抗体が被測定物の変形に伴って引っ張られたと
き、抵抗線は伸びる。すると、L=L+ΔLと長くな
り、抵抗が増加する。このとき、断面積もS=S−ΔS
と小さくなり、また抵抗率ρもρ’に変化する。抵抗の
増加分ΔRと長さの増加分ΔLとの関係を求めると次の
ようになる。
Here, the basic principle of this strain gauge is as described below. First, assuming that the length of one bar resistance is L [m] and the cross-sectional area is S [m 2 ], the resistivity ρ [Ω ·
m], the total resistance value R [Ω] is R = ρL / S. Here, when the resistor is pulled along with the deformation of the object to be measured, the resistance wire extends. Then, L = L + ΔL becomes longer, and the resistance increases. At this time, the sectional area is also S = S−ΔS
And the resistivity ρ also changes to ρ ′. The relationship between the increase ΔR in the resistance and the increase ΔL in the length is as follows.

【0064】 R+ΔR=ρ’×(L+ΔL)/(S−ΔS) ≒ρ×L/S+{ρ’/(S−ΔS)}×ΔL 従って、 ΔR/R=(ρ’/ρ)×{S/(S−ΔS)}×(ΔL/L) =Kg×(ΔL/L) ここでは、抵抗率の変化と断面積の影響を一定の係数K
gで表している。この、歪みに対する抵抗の変化の係数
Kgが、ゲージファクターと呼ばれている。
R + ΔR = ρ ′ × (L + ΔL) / (S−ΔS) ≒ ρ × L / S + {ρ ′ / (S−ΔS)} × ΔL Therefore, ΔR / R = (ρ ′ / ρ) × {S / (S−ΔS)} × (ΔL / L) = Kg × (ΔL / L) Here, a constant coefficient K
It is represented by g. The coefficient Kg of the change in resistance with respect to strain is called a gauge factor.

【0065】図9は、前記歪みファクターを用いて、抵
抗変化率を電圧に変換するブリッジ回路を示している。
図9に示したように、各抵抗をR,R1,R2[Ω]と
し、入力電圧をE1[V]とすると、出力電圧E0[V]
は、次式のようになる。
FIG. 9 shows a bridge circuit for converting a resistance change rate into a voltage using the distortion factor.
As shown in FIG. 9, when each resistor is R, R1, R2 [Ω] and the input voltage is E1 [V], the output voltage E0 [V] is obtained.
Is as follows:

【0066】E0=(R1×R−R2×R)/[(R1
+R)×(R2+R)]×E1 ここで、R1とR2は、同種の抵抗配線を採用している
ので、R1=R2=rとなり、歪みにより、R1=r+
Δr、R2=r−Δrに変化する。よって、 E0=[R×2Δr/[(R+r)2−Δr2]]×E1 いま、歪み量は微小な歪みであり、抵抗変化率は、初期
抵抗に比べて無視できる量であるから、 E0=[R×2Δr/(R+r)2]×E1 ここで、R≒rと近似すると、 E0=(1/2)×(Δr/r)×E1 となって、小さな変化においては、出力電圧が抵抗変化
分:Δrに比例することになり、歪み(Δr/r)に比
例した電圧が得られる。
E0 = (R1 × R−R2 × R) / [(R1
+ R) × (R2 + R)] × E1 Since R1 and R2 use the same kind of resistance wiring, R1 = R2 = r, and R1 = r +
Δr, R2 = r−Δr. Therefore, E0 = [R × 2Δr / [(R + r) 2 −Δr 2 ]] × E1 Since the amount of distortion is very small and the rate of change in resistance is negligible compared to the initial resistance, E0 = [R × 2Δr / (R + r) 2 ] × E1 Here, when approximating R ≒ r, E0 = (1 /) × (Δr / r) × E1. The resistance change is proportional to Δr, and a voltage proportional to the strain (Δr / r) is obtained.

【0067】例えば初期抵抗値10[Ω]のポリシリコン
抵抗配線を用いて、このゲージファクターが約100と
し、歪み量が50[μm]とすると、抵抗値の変化分Δr
は、 Δr=10[Ω]×50×10-6×100=50[mΩ] となり、入力電圧E1=10[V]を印加すれば、出力電
圧E0=25[mV]となる。
For example, using a polysilicon resistance wire having an initial resistance value of 10 [Ω] and this gauge factor being about 100 and the amount of distortion being 50 [μm], the resistance change Δr
Is Δr = 10 [Ω] × 50 × 10 −6 × 100 = 50 [mΩ]. When an input voltage E1 = 10 [V] is applied, the output voltage E0 = 25 [mV].

【0068】このように、出力電圧E0を検出すること
で、ダイヤフラム200の歪み量を測定することができ
る。特に、外部からの振動変化によるダイヤフラムの歪
み量に応じて、発熱体2への印加エネルギーを加えるか
どうかの判断を高速に、且つ、精度良く行うことができ
る。
As described above, the amount of distortion of the diaphragm 200 can be measured by detecting the output voltage E0. In particular, it is possible to quickly and accurately determine whether or not to apply the energy applied to the heating element 2 in accordance with the amount of distortion of the diaphragm due to a change in vibration from the outside.

【0069】以上で説明したように、本実施形態の液体
吐出ヘッドでは、そのヘッドの外部からの振動を圧力振
動として検出する圧力センサ43が設けられたことによ
り、ヘッドの外部からの衝撃や振動による揺れなどが圧
力センサ43により検出されて、液体吐出ヘッドによる
記録動作が即座に停止させられる。よって、衝撃や振動
が不意に発生する自動車などの移動体中で液体吐出記録
装置を使用する際にも、記録画像の、安定した記録品位
を保ちつつ、安定した記録を行うことができ、液体吐出
記録装置の利便性が向上する。また、信号入力機構して
の圧力センサ43と、そのセンサからの振動信号を再生
する機能を有する回路部とを液体吐出ヘッド内に持たせ
たことにより、非常に小型な液体吐出ヘッド、そのヘッ
ドを用いた液体吐出記録装置を作製することができる。
As described above, the liquid discharge head according to the present embodiment is provided with the pressure sensor 43 for detecting vibration from outside the head as pressure vibration. Is detected by the pressure sensor 43, and the recording operation by the liquid ejection head is immediately stopped. Therefore, even when using the liquid discharge recording apparatus in a moving body such as an automobile in which shocks and vibrations occur unexpectedly, it is possible to perform stable recording while maintaining stable recording quality of a recorded image. The convenience of the ejection recording apparatus is improved. Further, since the pressure sensor 43 serving as a signal input mechanism and a circuit portion having a function of reproducing a vibration signal from the sensor are provided in the liquid discharge head, a very small liquid discharge head, A liquid discharge recording apparatus using the method can be manufactured.

【0070】さらに、このような液体吐出ヘッドにおい
て、エネルギー発生素子の駆動を制御するための複数の
素子あるいは電気回路を、そのヘッドを構成する素子基
板1と天板3とにその機能に応じて振り分けたことによ
り、液体吐出ヘッドを小型化することができる。また、
機能が1つの基板に集中しなくなるので、基板の歩留ま
りが向上し、結果的にヘッドの製造コストを下げること
ができる。
Further, in such a liquid discharge head, a plurality of elements or electric circuits for controlling the driving of the energy generating element are provided on the element substrate 1 and the top plate 3 constituting the head according to the function. Due to the distribution, the size of the liquid discharge head can be reduced. Also,
Since the functions are not concentrated on one substrate, the yield of the substrate is improved, and as a result, the manufacturing cost of the head can be reduced.

【0071】具体的には、移動体に搭載された液体吐出
記録装置において、移動体から液体吐出ヘッドに伝わる
衝撃または振動を圧力センサ43により圧力振動として
検知し、検知された圧力振動から変換された電気信号に
基づいて液体吐出ヘッドの記録を停止させ、そして、停
止させた画像位置から記録を再度開始させる。これによ
り、液体吐出ヘッドへの衝撃や振動がほとんど無いと
き、あるいは小さいときにのみ記録を行うことができ、
記録画像の、安定した記録品位を保つことが可能とな
る。その結果、上述したのと同様に、衝撃や振動が不意
に発生する移動体中で液体吐出記録装置を使用する際に
も安定した記録を行うことができ、液体吐出記録装置の
利便性が向上する。
Specifically, in a liquid discharge recording apparatus mounted on a moving body, an impact or vibration transmitted from the moving body to the liquid discharge head is detected as pressure vibration by a pressure sensor 43, and converted from the detected pressure vibration. The recording of the liquid ejection head is stopped based on the electric signal thus generated, and the recording is restarted from the stopped image position. Thereby, recording can be performed only when there is almost no shock or vibration to the liquid ejection head, or when it is small,
It is possible to maintain stable recording quality of the recorded image. As a result, as described above, stable recording can be performed even when the liquid ejection recording apparatus is used in a moving body in which shock or vibration occurs unexpectedly, and the convenience of the liquid ejection recording apparatus is improved. I do.

【0072】(その他の実施の形態)図10は、上述し
たインクジェット記録ヘッドを装着して適用することの
できる液体吐出記録装置の一例であるインクジェット記
録装置を示す斜視図である。図10に示されるインクジ
ェット記録装置600に搭載されたヘッドカートリッジ
601は、上述した圧力センサを有する液体吐出ヘッド
と、その液体吐出ヘッドに供給される液体を保持する液
体容器とを有するものである。ヘッドカートリッジ60
1は、図10に示すように、駆動モータ602の正逆回
転に連動して駆動力伝達ギヤ603および604を介し
て回転するリードスクリュー605の螺旋溝606に対
して係合するキャリッジ607上に搭載されている。駆
動モータ602の動力によってヘッドカートリッジ60
1がキャリッジ607ともとにガイド608に沿って矢
印aおよびbの方向に往復移動される。インクジェット
記録装置600には、ヘッドカートリッジ601から吐
出されたインクなどの液体を受ける被記録媒体としての
プリント用紙Pを搬送する被記録媒体搬送手段(不図
示)が備えられている。その被記録媒体搬送手段によっ
てプラテン609上を搬送されるプリント用紙Pの紙押
さえ板610は、キャリッジ607の移動方向にわたっ
てプリント用紙Pをプラテン609に対して押圧する。
(Other Embodiments) FIG. 10 is a perspective view showing an ink jet recording apparatus which is an example of a liquid discharge recording apparatus to which the above-mentioned ink jet recording head is mounted. The head cartridge 601 mounted on the ink jet recording apparatus 600 shown in FIG. 10 has a liquid ejection head having the above-described pressure sensor and a liquid container for holding the liquid supplied to the liquid ejection head. Head cartridge 60
As shown in FIG. 10, a carriage 607 is engaged with a spiral groove 606 of a lead screw 605 which rotates via driving force transmission gears 603 and 604 in conjunction with forward and reverse rotation of a driving motor 602. It is installed. The head cartridge 60 is driven by the power of the drive motor 602.
1 is reciprocated with the carriage 607 along the guide 608 in the directions of arrows a and b. The inkjet recording apparatus 600 includes a recording medium transport unit (not shown) that transports a printing paper P as a recording medium that receives a liquid such as ink discharged from the head cartridge 601. The paper pressing plate 610 of the print paper P conveyed on the platen 609 by the recording medium conveying means presses the print paper P against the platen 609 in the moving direction of the carriage 607.

【0073】リードスクリュー605の一端の近傍に
は、フォトカプラ611および612が配設されてい
る。フォトカプラ611および612は、キャリッジ6
07のレバー607aの、フォトカプラ611および6
12の領域での存在を確認して駆動モータ602の回転
方向の切り換えなどを行うためのホームポジション検知
手段である。プラテン609の一端の近傍には、ヘッド
カートリッジ601の吐出口のある前面を覆うキャップ
部材614を支持する支持部材613が備えられてい
る。また、ヘッドカートリッジ601から空吐出などさ
れてキャップ部材614の内部に溜まったインクを吸引
するインク吸引手段615が備えられている。このイン
ク吸引手段615によりキャップ部材614の開口部を
介してヘッドカートリッジ601の吸引回復が行われ
る。
In the vicinity of one end of the lead screw 605, photocouplers 611 and 612 are provided. The photocouplers 611 and 612 are
07, the photocouplers 611 and 6
This is a home position detecting means for confirming the presence in the area No. 12 and switching the rotation direction of the drive motor 602. In the vicinity of one end of the platen 609, a support member 613 that supports a cap member 614 that covers the front surface of the head cartridge 601 having the discharge port is provided. In addition, an ink suction unit 615 that sucks ink that has been idly discharged from the head cartridge 601 and accumulated inside the cap member 614 is provided. The ink suction unit 615 performs suction recovery of the head cartridge 601 through the opening of the cap member 614.

【0074】インクジェット記録装置600には本体支
持体619が備えられている。この本体支持体619に
は移動部材618が、前後方向、すなわちキャリッジ6
07の移動方向に対して直角な方向に移動可能に支持さ
れている。移動部材618には、クリーニングブレード
617が取り付けられている。クリーニングブレード6
17はこの形態に限らず、他の形態の公知のクリーニン
グブレードであってもよい。さらに、インク吸引手段6
15による吸引回復操作にあたって吸引を開始するため
のレバー620が備えられており、レバー620は、キ
ャリッジ607と係合するカム621の移動に伴って移
動し、駆動モータ602からの駆動力がクラッチ切り換
えなどの公知の伝達手段で移動制御される。ヘッドカー
トリッジ601に設けられた発熱体に信号を付与した
り、前述した各機構の駆動制御を司ったりするインクジ
ェット記録制御部は記録装置本体側に設けられており、
図10では示されていない。
The ink jet recording apparatus 600 is provided with a main body support 619. The moving member 618 is attached to the main body support 619 in the front-rear direction,
It is supported so as to be movable in a direction perpendicular to the direction of movement 07. The cleaning blade 617 is attached to the moving member 618. Cleaning blade 6
Reference numeral 17 is not limited to this form, and may be another form of a known cleaning blade. Further, the ink suction means 6
15 is provided with a lever 620 for starting suction in the suction recovery operation by the lever 15. The lever 620 moves with the movement of the cam 621 engaging with the carriage 607, and the driving force from the driving motor 602 switches the clutch. The movement is controlled by a known transmission means such as the like. An ink jet recording control unit for giving a signal to a heating element provided in the head cartridge 601 and controlling the driving of each mechanism described above is provided on the recording apparatus main body side.
It is not shown in FIG.

【0075】上述した構成を有するインクジェット記録
装置600では、前記の被記録媒体搬送手段によりプラ
テン609上を搬送されるプリント用紙Pに対して、ヘ
ッドカートリッジ601がプリント用紙Pの全幅にわた
って往復移動しながら記録を行う。
In the ink jet recording apparatus 600 having the above configuration, the head cartridge 601 reciprocates over the entire width of the print paper P with respect to the print paper P conveyed on the platen 609 by the recording medium conveyance means. Make a record.

【0076】このような記録装置を不図示の移動体(自
動車など)に搭載した場合、記録装置の外部からの衝撃
や振動による揺れなどを、圧力センサを作り込んだ本発
明の液体吐出ヘッドにて感知し、即座に記録動作を停止
させることができた。
When such a recording apparatus is mounted on a moving body (not shown) (not shown), vibrations due to external shocks and vibrations of the recording apparatus are applied to the liquid discharge head of the present invention incorporating a pressure sensor. And the recording operation could be stopped immediately.

【0077】さらに、再度、記録を行う際には、液体吐
出ヘッド内に派生させた電気信号(トリガー信号)が、
作用した画像位置を、液体吐出ヘッド内に搭載したメモ
リで記憶させられており、記録を停止させた次に画像位
置から記録を開始させることができた。
Further, when printing is performed again, an electric signal (trigger signal) derived in the liquid discharge head is generated by
The image position at which the operation was performed was stored in a memory mounted in the liquid ejection head, and the recording was started from the image position after the recording was stopped.

【0078】[0078]

【発明の効果】以上説明したように本発明の液体吐出ヘ
ッドによれば、液体吐出ヘッドの外部からの振動を圧力
振動として検出する圧力センサが液体吐出ヘッドに備え
られたことにより、液体吐出ヘッドによる記録動作を即
座に停止させることができるので、衝撃や振動が不意に
発生する移動体中でも安定した記録品位を保つことがで
き、液体吐出記録装置の利便性が向上するという効果が
ある。また、信号入力機構しての圧力センサと、振動信
号を再生する機能を有する回路部とを液体吐出ヘッド内
に持たせたことにより、非常に小型な液体吐出ヘッド、
そのヘッドを用いた液体吐出記録装置を作製することが
できるという効果がある。さらに、このような液体吐出
ヘッドにおいて、エネルギー発生素子の駆動を制御する
ための複数の素子あるいは電気回路を、そのヘッドを構
成する第1の基板と第2の基板とにその機能に応じて振
り分けているので、液体吐出ヘッドを小型化することが
できる。また、機能が1つの基板に集中しなくなるの
で、基板の歩留まりが向上し、結果的にヘッドの製造コ
ストを下げることができる。
As described above, according to the liquid discharge head of the present invention, the liquid discharge head is provided with the pressure sensor for detecting vibration from outside the liquid discharge head as pressure vibration. , The recording operation can be stopped immediately, so that a stable recording quality can be maintained even in a moving body in which shock or vibration is suddenly generated, and there is an effect that the convenience of the liquid discharge recording apparatus is improved. Further, by providing a pressure sensor as a signal input mechanism and a circuit portion having a function of reproducing a vibration signal in the liquid discharge head, a very small liquid discharge head,
There is an effect that a liquid discharge recording apparatus using the head can be manufactured. Further, in such a liquid discharge head, a plurality of elements or electric circuits for controlling the driving of the energy generating element are allocated to a first substrate and a second substrate constituting the head according to the function. Therefore, the size of the liquid discharge head can be reduced. In addition, since the function is not concentrated on one substrate, the yield of the substrate is improved, and as a result, the manufacturing cost of the head can be reduced.

【0079】また、本発明の液体吐出記録方法によれ
ば、移動体に搭載された液体吐出記録装置において、移
動体からの衝撃または振動を、液体吐出ヘッドに備えら
れた圧力センサで圧力振動として検出した際に記録を停
止させ、再度、停止させた画像位置から記録を開始させ
るので、記録画像の、安定した記録品位を保って記録を
行うことができ、液体吐出記録装置の利便性が向上する
という効果がある。
According to the liquid discharge recording method of the present invention, in a liquid discharge recording apparatus mounted on a moving body, the impact or vibration from the moving body is converted into pressure vibration by a pressure sensor provided in the liquid discharging head. Since the recording is stopped when detected and the recording is started again from the stopped image position, it is possible to perform recording while maintaining a stable recording quality of the recorded image, and the convenience of the liquid ejection recording apparatus is improved. There is an effect of doing.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の一実施形態である液体吐出ヘッド構造
を説明するための、液流路方向に沿った断面図である。
FIG. 1 is a cross-sectional view along a liquid flow direction for explaining a liquid discharge head structure according to an embodiment of the present invention.

【図2】図1に示した液体吐出ヘッドに用いられる素子
基板の断面図である。
FIG. 2 is a cross-sectional view of an element substrate used in the liquid discharge head shown in FIG.

【図3】図2に示した素子基板の主要素子を縦断するよ
うに素子基板を切断した模式的断面図である。
FIG. 3 is a schematic cross-sectional view of the element substrate shown in FIG.

【図4】図3に示した素子基板上に可動部材及び流路側
壁を形成する方法を説明するための図である。
FIG. 4 is a view for explaining a method of forming a movable member and a channel side wall on the element substrate shown in FIG. 3;

【図5】図3に示した素子基板上に可動部材及び流路側
壁を形成する方法を説明するための図である。
FIG. 5 is a view for explaining a method for forming a movable member and a flow path side wall on the element substrate shown in FIG. 3;

【図6】図1に示した液体吐出ヘッドの回路構成を説明
するための図であり、同図(a)は素子基板の平面図、
同図(b)は天板の平面図である。
6A and 6B are diagrams for explaining a circuit configuration of the liquid discharge head shown in FIG. 1, wherein FIG. 6A is a plan view of an element substrate,
FIG. 2B is a plan view of the top plate.

【図7】本発明の液体吐出ヘッドに備わるセンサの構成
例を示す断面図である。
FIG. 7 is a cross-sectional view illustrating a configuration example of a sensor provided in the liquid ejection head of the present invention.

【図8】図7に示したシリコン歪みゲージを使った音声
入力センサを素子基板内に形成したときの概略構成図で
ある。
8 is a schematic configuration diagram when a voice input sensor using the silicon strain gauge shown in FIG. 7 is formed in an element substrate.

【図9】センサであるストレインゲージの抵抗変化率を
電圧に変換するためのブリッジ回路を示す図である。
FIG. 9 is a diagram showing a bridge circuit for converting a resistance change rate of a strain gauge as a sensor into a voltage.

【図10】本発明の液体吐出ヘッドを備えた液体吐出記
録装置の一例を示す概略斜視図である。
FIG. 10 is a schematic perspective view showing an example of a liquid discharge recording apparatus provided with the liquid discharge head of the present invention.

【図11】従来のインクジェット記録ヘッドを一部切り
欠いて見た斜視図である。
FIG. 11 is a perspective view of a conventional inkjet recording head with a part cut away.

【符号の説明】 1 素子基板 2 発熱体 3 天板 4 オリフィスプレート 5 吐出口 6 可動部材 6a 支点 6b 自由端 7 液流路 8 共通液室 9 流路側壁 10 気泡発生領域 38 駆動タイミング制御ロジック回路 39 AND回路 41 パワートランジスタ 42 画像データ転送回路 43 圧力センサ 44a〜44h、45a〜45n 端子 46 駆動信号制御回路 48a〜48d、48g、48h 端子 47 センサ駆動回路 49 メモリ 71 間隙形成部材 72、74 SiN膜 73、75 Al膜 200 ピエゾ抵抗(ひずみゲージ抵抗) 201 電気回路部(PNPトランジスタ) 202 ダイヤフラム 210 センサ 301 シリコン基板 302 熱酸化膜 303 層間膜 304 抵抗層 305 配線 306 保護層 307 耐キャビテーション膜 308 熱作用部 R1、R2 ストレインゲージ[Description of Signs] 1 element substrate 2 heating element 3 top plate 4 orifice plate 5 discharge port 6 movable member 6a fulcrum 6b free end 7 liquid flow path 8 common liquid chamber 9 flow path side wall 10 bubble generation area 38 drive timing control logic circuit 39 AND circuit 41 Power transistor 42 Image data transfer circuit 43 Pressure sensor 44a to 44h, 45a to 45n Terminal 46 Drive signal control circuit 48a to 48d, 48g, 48h Terminal 47 Sensor drive circuit 49 Memory 71 Gap forming member 72, 74 SiN film 73, 75 Al film 200 Piezoresistance (strain gauge resistance) 201 Electric circuit unit (PNP transistor) 202 Diaphragm 210 Sensor 301 Silicon substrate 302 Thermal oxide film 303 Interlayer film 304 Resistance layer 305 Wiring 306 Protective layer 307 Anti-cavitation film 308 Heat action part R1, R2 Strain gauge

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 玉木 寛之 東京都大田区下丸子3丁目30番2号 キヤ ノン株式会社内 (72)発明者 土屋 敦裕 東京都大田区下丸子3丁目30番2号 キヤ ノン株式会社内 (72)発明者 野島 隆司 東京都大田区下丸子3丁目30番2号 キヤ ノン株式会社内 (72)発明者 佐藤 理 東京都大田区下丸子3丁目30番2号 キヤ ノン株式会社内 (72)発明者 加藤 秋朗 東京都大田区下丸子3丁目30番2号 キヤ ノン株式会社内 (72)発明者 久野 宏一 東京都大田区下丸子3丁目30番2号 キヤ ノン株式会社内 Fターム(参考) 2C056 EA24 EB03 EB29 EB34 EC03 EC28 EC67 FA10 HA05 HA16 HA17 KD06 2C057 AF93 AG12 AG83 AK07 AL03 AL40 AM03 AM30 AM40 AN01 AP02 AP23 AP32 AP33 AP52 AP53 AQ02 BA03 BA13 2C061 AQ05 HV01 HV39 HV44  ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing on the front page (72) Inventor Hiroyuki Tamaki 3-30-2 Shimomaruko, Ota-ku, Tokyo Inside Canon Inc. (72) Inventor Atsuhiro Tsuchiya 3-30-2 Shimomaruko, Ota-ku, Tokyo Canon Inside (72) Inventor Takashi Nojima 3-30-2 Shimomaruko, Ota-ku, Tokyo Canon Inc. (72) Inventor Osamu 3-30-2 Shimomaruko, Ota-ku, Tokyo Canon Inc. ( 72) Inventor Akihiro Kato 3-30-2 Shimomaruko, Ota-ku, Tokyo Inside Canon Inc. (72) Inventor Koichi Kuno 3-30-2 Shimomaruko 3-chome, Ota-ku, Tokyo F-term (reference) 2C056 EA24 EB03 EB29 EB34 EC03 EC28 EC67 FA10 HA05 HA16 HA17 KD06 2C057 AF93 AG12 AG83 AK07 AL03 AL40 AM03 AM30 AM40 AN01 AP02 AP23 AP32 AP33 AP52 AP53 AQ02 B A03 BA13 2C061 AQ05 HV01 HV39 HV44

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 液体を吐出する複数の吐出口の各々に連
通する複数の液流路を構成するために互いに接合された
第1の基板および第2の基板内に、前記吐出口から液体
を吐出する吐出エネルギーを発生させるために前記各液
流路内に配された複数のエネルギー発生素子と、該エネ
ルギー発生素子の駆動条件を制御するための、機能が異
なる複数の素子あるいは電気回路とを備えた液体吐出ヘ
ッドにおいて、 前記液体吐出ヘッドの外部からの振動を圧力振動として
検出する圧力センサと、該圧力センサで検出した圧力振
動を電気信号に変換する回路部と、前記エネルギー発生
素子のそれぞれの一端に電気的に接続され、且つ、記録
する画像に対応する画像データに基づいて前記エネルギ
ー発生素子のそれぞれを駆動可能な駆動回路と、前記画
像データを、それに対応する前記吐出口ごとの駆動回路
のそれぞれに供給する画像データ供給装置とが、前記第
1の基板又は前記第2の基板に選択的に設けられている
ことを特徴とする液体吐出ヘッド。
1. A liquid is supplied from a discharge port into a first substrate and a second substrate that are joined to each other to form a plurality of liquid flow paths that communicate with each of a plurality of discharge ports that discharge the liquid. A plurality of energy generating elements arranged in each of the liquid flow paths for generating discharge energy to be discharged, and a plurality of elements or electric circuits having different functions for controlling driving conditions of the energy generating elements. A liquid discharge head comprising: a pressure sensor that detects vibration from outside the liquid discharge head as pressure vibration; a circuit unit that converts the pressure vibration detected by the pressure sensor into an electric signal; and each of the energy generating element. A drive circuit that is electrically connected to one end of the device and that can drive each of the energy generating elements based on image data corresponding to an image to be recorded; and And an image data supply device for supplying the data to each of the drive circuits for each of the discharge ports corresponding thereto is selectively provided on the first substrate or the second substrate. Liquid ejection head.
【請求項2】 前記エネルギー発生素子に対面するよう
に該素子から所定の距離だけ隔てられ、前記吐出口側を
自由端として、複数の前記エネルギー発生素子のそれぞ
れに対応して複数設けられた可動部材をさらに有する請
求項1に記載の液体吐出ヘッド。
2. A plurality of movable elements, each of which is provided at a predetermined distance from the energy generating element so as to face the energy generating element and has a discharge port side as a free end corresponding to each of the plurality of energy generating elements. The liquid discharge head according to claim 1, further comprising a member.
【請求項3】 請求項1または2に記載の液体吐出ヘッ
ドを用いて被記録媒体に記録を行う液体吐出記録装置で
あって、前記回路部で変換された電気信号に基づいて前
記液体吐出ヘッドの記録動作を制御する制御手段を有す
ることを特徴とする液体吐出記録装置。
3. A liquid discharge recording apparatus that performs recording on a recording medium using the liquid discharge head according to claim 1 or 2, wherein the liquid discharge head is based on an electric signal converted by the circuit unit. And a control unit for controlling the recording operation of the liquid ejection recording apparatus.
【請求項4】 請求項1に記載の液体吐出ヘッドを用い
た液体吐出記録装置を移動体に設置し、設置された該液
体吐出記録装置で被記録媒体に記録を行うための記録方
法であって、 前記移動体から前記液体吐出ヘッドに伝わる衝撃または
振動を前記液体吐出ヘッドの前記圧力センサにより検知
し、前記回路部で変換された電気信号に基づいて、前記
液体吐出ヘッドの記録を停止させ、再度、停止させた画
像位置から前記液体吐出ヘッドの記録を開始させること
を特徴とする液体吐出記録方法。
4. A recording method for installing a liquid ejection recording apparatus using the liquid ejection head according to claim 1 on a moving body, and performing recording on a recording medium with the installed liquid ejection recording apparatus. Detecting a shock or vibration transmitted from the moving body to the liquid discharge head by the pressure sensor of the liquid discharge head, and stopping the recording of the liquid discharge head based on the electric signal converted by the circuit unit. And recording the liquid discharge head from the stopped image position again.
【請求項5】 液体吐出ヘッドから液体を吐出して被記
録媒体に画像を記録する液体吐出記録装置を移動体に搭
載し、搭載された該液体吐出記録装置で記録を行うため
の記録方法であって、 前記移動体から前記液体吐出ヘッドに伝わる衝撃または
振動を、前記液体吐出ヘッドに設けられた圧力センサに
より検出する段階と、 前記圧力センサで検出した圧力振動を、前記液体吐出ヘ
ッドに備えられた回路部により電気信号に変換する段階
と、 前記電気信号に基づいて、前記液体吐出ヘッドによる画
像の記録を停止させる段階と、 前記液体吐出ヘッドによる記録を、停止させた画像位置
から再度開始させる段階とを有する液体吐出記録方法。
5. A recording method for mounting a liquid ejection recording apparatus for ejecting liquid from a liquid ejection head to record an image on a recording medium on a moving body and performing recording with the mounted liquid ejection recording apparatus. Detecting a shock or vibration transmitted from the moving body to the liquid discharge head by a pressure sensor provided in the liquid discharge head; and providing the liquid discharge head with pressure vibration detected by the pressure sensor. Converting the signal to an electric signal by the circuit unit, stopping the recording of the image by the liquid discharge head based on the electric signal, and restarting the recording by the liquid discharge head from the stopped image position. And a liquid discharging recording method.
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