JP2002163996A - Manufacturing method of gyrotron device - Google Patents
Manufacturing method of gyrotron deviceInfo
- Publication number
- JP2002163996A JP2002163996A JP2000355158A JP2000355158A JP2002163996A JP 2002163996 A JP2002163996 A JP 2002163996A JP 2000355158 A JP2000355158 A JP 2000355158A JP 2000355158 A JP2000355158 A JP 2000355158A JP 2002163996 A JP2002163996 A JP 2002163996A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- gyrotron
- main body
- high frequency
- gyrotron device
- tube
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Microwave Tubes (AREA)
Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】この発明は、ミリ波のモード
変換器およびそれを備えるジャイロトロン装置の製造方
法に関する。[0001] 1. Field of the Invention [0002] The present invention relates to a millimeter-wave mode converter and a method for manufacturing a gyrotron device including the same.
【0002】[0002]
【従来の技術】核融合等においてプラズマを加熱する手
段として、例えばミリ波帯の電磁波を用いる方法が知ら
れている。なお、ミリ波帯の電磁波を発振させるための
発振源として、大電力ジャイロトロン装置が有望視され
ている。2. Description of the Related Art As means for heating plasma in nuclear fusion and the like, a method using, for example, an electromagnetic wave in a millimeter wave band is known. Note that a high-power gyrotron device is expected as an oscillation source for oscillating an electromagnetic wave in the millimeter wave band.
【0003】図3に示すように、ジャイロトロン装置1
00においては、ジャイロトロン管本体1に設けられて
いるマグネトロン型電子銃3で発生され、コレクタ5側
に向けて加速された中空の旋回電子ビーム2は、ビーム
トンネル6を通ってキャビティ7に入射される。As shown in FIG. 3, a gyrotron device 1
At 00, the hollow swirling electron beam 2 generated by the magnetron type electron gun 3 provided in the gyrotron tube main body 1 and accelerated toward the collector 5 enters the cavity 7 through the beam tunnel 6. Is done.
【0004】キャビティ7は、電子銃3で生成された電
子ビーム2と相互作用して準光学的なミリ波又はマイク
ロ波である電磁波8を生起させる空胴共振器であり、生
起された電磁波8は、モード変換器11の放射器9と反
射器10で平行ビーム状に変換され、出射ミラー12を
通じて、出力導波管13の出力窓14に向けて反射され
て、ジャイロトロン装置の外部に導出される。[0004] The cavity 7 is a cavity resonator that interacts with the electron beam 2 generated by the electron gun 3 to generate a quasi-optical millimeter-wave or microwave electromagnetic wave 8. Is converted into a parallel beam by the radiator 9 and the reflector 10 of the mode converter 11, reflected by the output mirror 12 toward the output window 14 of the output waveguide 13, and led out of the gyrotron device. Is done.
【0005】なお、用済後の電子ビームは、スイープコ
イル4により掃引され、コレクタ5に捕捉される。ま
た、ジャイロトロン管本体内で動作中に発生する不純物
ガスは、図示しないイオンポンプにより除去される。な
お、同図の符号15a、15bは、電磁石等の磁界発生
装置を表わしている。The used electron beam is swept by the sweep coil 4 and captured by the collector 5. Further, impurity gas generated during operation in the gyrotron tube main body is removed by an ion pump (not shown). Note that reference numerals 15a and 15b in the figure represent magnetic field generating devices such as electromagnets.
【0006】上述したジャイロトロン装置100を、長
パルス運転、または定常運転で動作させるのに先立っ
て、ジャイロトロン装置の動作中にジャイロトロン管本
体内に生じるアウトガスによる真空度の劣化や動作の不
安定になることを防止するために、動作パルス幅を、秒
オーダーから分オーダーへ、さらに時間オーダーへと、
徐々にパルス幅を伸ばしながら、少しずつアウトガスを
枯らしていく、いわゆるエージングと呼ばれる枯渇化運
転が必要である。Prior to operating the gyrotron device 100 in a long pulse operation or a steady operation, deterioration of the degree of vacuum and malfunction of the gyrotron tube due to outgas generated in the gyrotron tube main body during operation of the gyrotron device. In order to prevent it from becoming stable, the operation pulse width was changed from the order of seconds to the order of minutes, and further to the order of time.
It is necessary to perform a depletion operation called aging, in which the outgas is gradually depleted while gradually increasing the pulse width.
【0007】アウトガスには、電子ビームがコレクタ5
の表面をたたく、あるいは加熱することにより発生する
アウトガスと、発振した高周波が、管本体の内壁表面や
部品表面をたたく、もしくは加熱することにより発生す
るアウトガスがある。なお、通常動作条件によるエージ
ングにおいては、初期には、電子ビームによるアウトガ
スが支配的であるが、動作パルス幅が長パルス幅になる
に従い、高周波によるアウトガスが支配的になる。[0007] For outgassing, an electron beam is applied to the collector 5.
There is an outgas generated by hitting or heating the surface of the tube, and an outgas generated by hitting or heating the inner wall surface or the component surface of the oscillating high frequency with the oscillated high frequency. In aging under normal operating conditions, outgassing due to the electron beam is dominant initially, but outgassing due to high frequency becomes dominant as the operating pulse width becomes longer.
【0008】[0008]
【発明が解決しようとする課題】ジャイロトロン装置の
動作パルス幅は、秒オーダーから分オーダーへ、さらに
時間オーダーへと長パルス幅化しているため、エージン
グに必要な時間が極めて長くなっており、定常運転まで
に係る費用が嵩む問題がある。The operating pulse width of the gyrotron device has been increased from the order of seconds to the order of minutes, and further to the order of time, so that the time required for aging is extremely long. There is a problem that the cost for the steady operation increases.
【0009】ジャイロトロン装置を製造する際のアウト
ガス低減対策としては、真空排気時に、電気炉等でジャ
イロトロン管本体を加熱して、管本体の内壁表面や部品
表面からガスを放出させて、そのガスを真空ポンプで排
気するベーキングがあるが、動作パルス幅は、今日、時
間オーダーと長パルス幅化しているため、ベーキングを
行ったとしても、アウトガスを低減することは困難であ
る。なお、封止切りした後のジャイロトロン管本体内の
アウトガスをイオンポンプに吸収させる従来のエージン
グ方法では、徐々にアウトガスを放出させつつイオンポ
ンプに吸収させなければならないため、このエージング
にかかる時間は数ヶ月にも及ぶことがあり、ジャイロト
ロン装置内部から出るアウトガスを、管本体の排気管を
封止切りする前に極力低減することが求められている。As a measure to reduce outgas when manufacturing a gyrotron device, a gyrotron tube main body is heated by an electric furnace or the like at the time of evacuation to release gas from the inner wall surface or the component surface of the tube main body. Although there is baking in which gas is exhausted by a vacuum pump, the operating pulse width has been increased to a time order and a long pulse width today. Therefore, even if baking is performed, it is difficult to reduce outgassing. In the conventional aging method in which the outgas in the gyrotron tube main body after the sealing is cut off is absorbed by the ion pump, the outgas must be gradually absorbed and absorbed by the ion pump. It may take several months, and there is a demand for reducing outgas from the inside of the gyrotron device as much as possible before cutting off the exhaust pipe of the pipe body.
【0010】この発明の目的は、エージング時間が短縮
可能で、長パルス幅の動作パルスを安定に得ることので
きるジャイロトロン装置を製造することにある。An object of the present invention is to manufacture a gyrotron device capable of shortening the aging time and stably obtaining an operation pulse having a long pulse width.
【0011】[0011]
【課題を解決するための手段】この発明は、ジャイロト
ロン装置の製造方法において、ジャイロトロン管本体外
部から内部に高周波を入力しながら真空排気することに
より、ジャイロトロン装置の動作時に管内壁表面および
管内部品表面から発生するアウトガスを予め比較的短時
間に低減することを特徴とするジャイロトロン装置の製
造方法である。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention provides a method for manufacturing a gyrotron device, which comprises evacuating a gyrotron tube body while inputting a high-frequency wave from the outside to the inside of the gyrotron device so that the inner surface of the tube and the gyrotron device can be operated. A method for manufacturing a gyrotron device, characterized in that outgas generated from a surface of a pipe part is reduced in a relatively short time in advance.
【0012】[0012]
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して、この発明
の実施の形態を詳細に説明する。Embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to the drawings.
【0013】[実施例1]以下、この発明の一実施例
を、図1を参照して説明する。図1は、この発明の第1
の実施例の構成図である。なお、ジャイロトロン装置自
体の構成は、従来の技術の項で説明したと同様であるか
ら、詳細な説明を省略する。[Embodiment 1] An embodiment of the present invention will be described below with reference to FIG. FIG. 1 shows a first embodiment of the present invention.
It is a lineblock diagram of an Example of a. Note that the configuration of the gyrotron device itself is the same as that described in the section of the related art, and a detailed description thereof will be omitted.
【0014】図1に示すように、製造中のジャイロトロ
ン装置の管本体1のエージングにおいては、別に用意し
た高周波発生装置21により発生された高周波を、エー
ジング対象であるジャイロトロン管本体1の出力窓14
からこのジャイロトロン管本体内へ入力し、出射ミラー
12、反射器10および放射器9等の高周波経路の構成
部材に照射しながら、電子銃3側に設けた真空ポンプ2
2で真空排気をする。なお、同図の符号17はイオンポ
ンプを表わしているが、この排気工程では動作させな
い。なおまた、高周波発生装置21は、既にエージング
が終了した定常運転可能な別のジャイロトロン装置であ
ってもよい。As shown in FIG. 1, during aging of the tube main body 1 of the gyrotron device being manufactured, a high frequency generated by a separately prepared high frequency generator 21 is output to the gyrotron tube main body 1 to be aged. Window 14
The vacuum pump 2 provided on the electron gun 3 side while irradiating the components of the high frequency path such as the exit mirror 12, the reflector 10, and the radiator 9 from the gyrotron tube body
Evacuate in step 2. Reference numeral 17 in the figure denotes an ion pump, which is not operated in this exhaust step. In addition, the high frequency generator 21 may be another gyrotron device that has been subjected to aging and is capable of steady operation.
【0015】エージング対象であるジャイロトロン管本
体1の出力窓14からこの管本体内に入力された高周波
は、出力窓14、出射ミラー12や反射器10、あるい
は放射器9等に代表されるジャイロトロン管内部品の表
面や内壁表面をたたき、もしくは加熱することにより、
ジャイロトロン装置の動作中に発生するアウトガスの元
となる不純物ガスを放出させる。The high frequency input into the tube main body from the output window 14 of the gyrotron tube main body 1 to be aged is output from the output window 14, the exit mirror 12, the reflector 10, or the gyro 9 represented by the radiator 9. By hitting or heating the surface of the inner part of the tron tube or the inner wall surface,
An impurity gas, which is a source of outgas generated during operation of the gyrotron device, is released.
【0016】なお、ジャイロトロン管本体内に出力窓1
4から入力された高周波は、エージング対象であるジャ
イロトロン管本体の動作時の高周波出力の主ビーム経路
の部品に対して集中的に壁表面をたたきもしくは加熱し
てガスを放出させることができる。An output window 1 is provided in the gyrotron tube main body.
The high frequency input from 4 can intensively strike or heat the wall surface of the component of the main beam path of the high frequency output during operation of the gyrotron tube main body to be aged, thereby releasing gas.
【0017】この不純物ガスを、真空ポンプ22で排気
することにより、動作時に発生するアウトガスを管本体
の封止切り前に低減させることができる。By evacuating the impurity gas by the vacuum pump 22, outgas generated during operation can be reduced before the pipe body is cut off.
【0018】なお、高周波発生装置21からエージング
対象のジャイロトロン管本体1に入力する高周波電力の
周波数(または周波数帯)は、この管本体を装着したジ
ャイロトロン装置の動作周波数(または周波数帯)と同
じでもよいし、あるいは、異なっていてもよいが、出力
窓14の周波数特性と整合する周波数(または周波数
帯)であることが望ましい。The frequency (or frequency band) of the high-frequency power input from the high-frequency generator 21 to the gyrotron tube main body 1 to be aged depends on the operating frequency (or frequency band) of the gyrotron device to which the tube main body is mounted. The frequency may be the same or different, but is preferably a frequency (or frequency band) that matches the frequency characteristics of the output window 14.
【0019】また、外部に設けた高周波発生装置21か
ら高周波を入力して、脱ガスを行う際に、電気炉等によ
る加熱ベーキングも同時に行うこともでき、それにより
一層良好な脱ガス効果が得られる。When a high frequency is input from a high frequency generator 21 provided outside and degassing is performed, heating and baking using an electric furnace or the like can be performed at the same time, thereby obtaining a better degassing effect. Can be
【0020】[実施例2]次に、この発明の第2の実施
例を、図2を参照して説明する。図2に示すように、製
造中のジャイロトロン管本体1のエージングにおいて
は、別に用意した高周波発生装置23により発生された
高周波電力を、エージング対象であるジャイロトロン装
置1の出力ミラー12または反射器10の近傍もしくは
管本体の内のコレクタ5側の所定の位置に設けた1個ま
たは複数個の高周波入力ポート16から、ジャイロトロ
ン管本体内へ入力しながら、電子銃3側に設けた真空ポ
ンプ22で真空排気をする。[Embodiment 2] Next, a second embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. As shown in FIG. 2, during aging of the gyrotron tube main body 1 during manufacture, the high-frequency power generated by the separately prepared high-frequency generator 23 is output to the output mirror 12 or the reflector of the gyrotron device 1 to be aged. A vacuum pump provided on the electron gun 3 side while inputting into the gyrotron tube main body from one or a plurality of high frequency input ports 16 provided at a predetermined position near the collector 5 in the tube main body near the 10. Evacuation is performed at 22.
【0021】なお、管本体1の出力窓14は、この窓を
通して入力高周波が外部に不所望に出てしまわないよう
に、出力導波管13の開口端を導電体製の蓋13aで密
閉しておく。なおまた、ここで使用する高周波発生装置
23は、通常入手可能な比較的簡易で安価な高周波発生
装置でよい。The output window 14 of the tube main body 1 is sealed at the open end of the output waveguide 13 with a conductive lid 13a so that an input high frequency wave does not undesirably leak outside through this window. Keep it. In addition, the high frequency generator 23 used here may be a relatively simple and inexpensive high frequency generator which is usually available.
【0022】なおまた、1個または複数個の各高周波入
力ポート16は、そこから管本体内に導入させる高周波
発生装置23の周波数(または周波数帯)に整合した真
空気密窓を備えており、アウトガス・エージングの終了
後、例えば導電体製の蓋でそれぞれ密閉するか、あるい
は予め封止切り可能な入力ポート構造にしておいてエー
ジング終了後に封止切りすることは言うまでもない。Each of the one or more high frequency input ports 16 is provided with a vacuum hermetic window which matches the frequency (or frequency band) of the high frequency generator 23 to be introduced into the tube main body from there. It goes without saying that, after the aging is completed, each is sealed with a lid made of, for example, a conductor, or the input port structure is preliminarily sealed and cut, and the sealing is cut after the aging is completed.
【0023】こうして、エージング対象であるジャイロ
トロン管本体1の出力窓14、あるいは高周波入力ポー
ト16から管本体内に入力された高周波により、ジャイ
ロトロン管内部品の表面をたたき、あるいは加熱するこ
とにより、ジャイロトロン装置の動作中に発生するアウ
トガスの元となる不純物ガスを予め十分に放出させるこ
とができる。In this manner, the surface of the gyrotron tube component is hit or heated by the high frequency input into the tube main body from the output window 14 or the high frequency input port 16 of the gyrotron tube main body 1 to be aged. An impurity gas that is a source of outgas generated during operation of the gyrotron device can be sufficiently released in advance.
【0024】しかも、管本体の排気管を封止切りする前
に管内の不純物ガスを真空ポンプ22で排気するので、
ジャイロトロン装置の動作時に発生する可能性のあるア
ウトガスを予め十分に低減させておくことができる。Further, since the impurity gas in the pipe is exhausted by the vacuum pump 22 before the exhaust pipe of the pipe main body is sealed off,
Outgas that may be generated during operation of the gyrotron device can be sufficiently reduced in advance.
【0025】なお、高周波発生装置からエージング対象
のジャイロトロン管本体に導入する高周波の周波数(ま
たは周波数帯)は、上述のように、ジャイロトロン装置
の動作時の周波数(または周波数帯)と同じである必要
は必ずしも無く、より安価な高周波発生装置を用いるこ
とが可能である。また、入力ポートの数、位置および向
きを最適化することにより、絶縁セラミック等を含めた
不純物ガスを発生しやすい又はガス吸着性の高い部品に
対し、集中的にガスを放出させることができる。The frequency (or frequency band) of the high-frequency wave introduced from the high-frequency generator to the gyrotron tube main body to be aged is the same as the frequency (or frequency band) during operation of the gyrotron device, as described above. It is not always necessary, and a cheaper high-frequency generator can be used. In addition, by optimizing the number, position, and direction of the input ports, it is possible to intensively discharge gas to components that easily generate impurity gas or have high gas adsorption, including insulating ceramics and the like.
【0026】なお、高周波発生装置からジャイロトロン
管本体に高周波を入力して、脱ガスを行う際に、電気炉
等による加熱ベーキングも同時に行うことで、より高い
脱ガス効果が得られる。When degassing is performed by inputting high frequency waves from the high frequency generator to the gyrotron tube main body, heating and baking with an electric furnace or the like are performed at the same time, whereby a higher degassing effect can be obtained.
【0027】さらにまた、上述の第1の実施例と第2の
実施例とを同時に行なうことも可能であり、それによっ
てより一層高い脱ガス効果が得られる。Furthermore, it is also possible to simultaneously carry out the first embodiment and the second embodiment described above, whereby a higher degassing effect can be obtained.
【0028】[0028]
【発明の効果】以上説明したように、この発明によれ
ば、長パルス幅の動作パルスを出力可能なジャイロトロ
ン装置の製造時に、定常動作中に発生するアウトガスが
発生する要因となる不純物ガスを短時間で効率よく脱ガ
スできるので、動作時の管内壁表面や管内部品表面から
のアウトガスを予め十分に低減しておくことができ、し
かもジャイロトロン装置でのエージングに求められる期
間を大幅に短縮できる。As described above, according to the present invention, when manufacturing a gyrotron device capable of outputting an operation pulse having a long pulse width, an impurity gas which is a factor of generating outgas during steady operation is removed. Efficient degassing in a short period of time allows for sufficient reduction of outgassing from the pipe inner wall surface and pipe component surfaces during operation, and significantly reduces the time required for aging in gyrotron devices. it can.
【図1】この発明の第1の実施例を示す概略図。FIG. 1 is a schematic diagram showing a first embodiment of the present invention.
【図2】この発明の第2の実施例を示す概略図。FIG. 2 is a schematic view showing a second embodiment of the present invention.
【図3】この発明の実施例が適用されるジャイロトロン
装置を示す概略図。FIG. 3 is a schematic diagram showing a gyrotron device to which an embodiment of the present invention is applied.
1 ・・・ジャイロトロン装置、 9 ・・・放射器、 10 ・・・反射器、 12 ・・・出力ミラー、 13 ・・・出力導波管、 14 ・・・出力窓、 16 ・・・入力ポート、 21 ・・・高周波発生装置(定常運転可能なジャイロ
トロン装置)、 23 ・・・高周波発生装置(簡易な高周波発生源)、 22 ・・・真空ポンプ。DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Gyrotron apparatus, 9 ... Radiator, 10 ... Reflector, 12 ... Output mirror, 13 ... Output waveguide, 14 ... Output window, 16 ... Input Port 21 21 High frequency generator (gyrotron device capable of steady operation) 23 High frequency generator (simple high frequency source) 22 Vacuum pump
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 坂本 慶司 茨城県那珂郡那珂町大字向山801番地の1 日本原子力研究所那珂研究所内 (72)発明者 満仲 義加 栃木県大田原市下石上字東山1385番の1 株式会社東芝那須電子管工場内 (72)発明者 假家 強 栃木県大田原市下石上字東山1385番の1 株式会社東芝那須電子管工場内 Fターム(参考) 5C029 RR04 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing from the front page (72) Keiji Sakamoto 801-1, Mukoyama, Naka-machi, Naka-machi, Naka-gun, Ibaraki Pref. No. 1 Toshiba Nasu Electronic Tube Factory (72) Inventor Tsuyoshi Kariya 1385-1 Higashiyama, Shimoishikami, Otawara-shi, Tochigi Prefecture F-term (reference) 5C029 RR04
Claims (4)
波を入力しながら真空排気をすることにより、前記ジャ
イロトロン装置の動作時に管内壁表面および管内部品表
面から発生するアウトガスを低減することを特徴とする
ジャイロトロン装置の製造方法。1. A method of manufacturing a gyrotron device, comprising: evacuating a gyrotron tube body while applying high-frequency waves from outside the gyrotron tube body to the inside of the gyrotron device so that the gyrotron device operates. A method for manufacturing a gyrotron device, characterized by reducing outgas generated from a component surface.
器を備えたものであることを特徴とする請求項1記載の
ジャイロトロン装置の製造方法。2. The method for manufacturing a gyrotron device according to claim 1, wherein said gyrotron tube main body includes a mode converter.
が前記高周波入力用のポートを兼ねることを特徴とする
請求項1記載のジャイロトロン装置の製造方法。3. The method for manufacturing a gyrotron device according to claim 1, wherein a high-frequency output window of said gyrotron tube body also functions as said high-frequency input port.
窓とは別に、1個または複数個の高周波入力用のポート
を備え、前記管本体の外部から前記1個または複数個の
高周波入力用ポートを介して前記管本体内に高周波を入
れることを特徴とする請求項1記載のジャイロトロン装
置の製造方法。4. The gyrotron tube main body further comprises one or more high frequency input ports separately from the high frequency output window, and the one or more high frequency input ports from outside the tube main body. 2. The method for manufacturing a gyrotron device according to claim 1, wherein a high frequency is introduced into the tube main body through a tube.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000355158A JP4617420B2 (en) | 2000-11-22 | 2000-11-22 | Method for manufacturing gyrotron device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000355158A JP4617420B2 (en) | 2000-11-22 | 2000-11-22 | Method for manufacturing gyrotron device |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2002163996A true JP2002163996A (en) | 2002-06-07 |
JP4617420B2 JP4617420B2 (en) | 2011-01-26 |
Family
ID=18827622
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2000355158A Expired - Fee Related JP4617420B2 (en) | 2000-11-22 | 2000-11-22 | Method for manufacturing gyrotron device |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4617420B2 (en) |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS54159860A (en) * | 1978-06-08 | 1979-12-18 | Nec Corp | Ageing method of microwave tube |
JPS6031057U (en) * | 1983-08-10 | 1985-03-02 | 日本電気株式会社 | microwave tube |
JPH0419944A (en) * | 1990-05-14 | 1992-01-23 | Mitsubishi Electric Corp | Millmeter wave generator |
JPH04192240A (en) * | 1990-11-27 | 1992-07-10 | Japan Atom Energy Res Inst | Gyrotron device |
JP2000311618A (en) * | 1999-04-27 | 2000-11-07 | Toshiba Corp | Gyrotron device |
-
2000
- 2000-11-22 JP JP2000355158A patent/JP4617420B2/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS54159860A (en) * | 1978-06-08 | 1979-12-18 | Nec Corp | Ageing method of microwave tube |
JPS6031057U (en) * | 1983-08-10 | 1985-03-02 | 日本電気株式会社 | microwave tube |
JPH0419944A (en) * | 1990-05-14 | 1992-01-23 | Mitsubishi Electric Corp | Millmeter wave generator |
JPH04192240A (en) * | 1990-11-27 | 1992-07-10 | Japan Atom Energy Res Inst | Gyrotron device |
JP2000311618A (en) * | 1999-04-27 | 2000-11-07 | Toshiba Corp | Gyrotron device |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP4617420B2 (en) | 2011-01-26 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR100573210B1 (en) | Microwave plasma process device, plasma ignition method, plasma forming method, and plasma process method | |
KR930005945B1 (en) | Plasma processing apparatus | |
KR100291152B1 (en) | Plasma generating apparatus | |
US5838108A (en) | Method and apparatus for starting difficult to start electrodeless lamps using a field emission source | |
JP2002163996A (en) | Manufacturing method of gyrotron device | |
US9130504B2 (en) | HF resonator and particle accelerator with HF resonator | |
Leggieri et al. | Thales th1507 140 ghz 1 mw cw gyrotron for w7-x stellarator | |
JPH09320477A (en) | Magnetron | |
JP2000331998A (en) | Plasma processing device | |
JP2807674B2 (en) | Processing apparatus and cleaning method for processing apparatus | |
JP2003234074A (en) | Vacuum window for high-frequency and gyrotron device | |
JP2595128B2 (en) | Microwave plasma processing equipment | |
JPH1013102A (en) | High-frequency transmissive window structure body and producing method therefor | |
JP3028834B2 (en) | High frequency transmission window structure and method of manufacturing the same | |
JP2010192353A (en) | Electron tube | |
JPH0582037A (en) | Coaxial magnetron | |
JPH08171859A (en) | High vacuum exhausting method | |
RU2054734C1 (en) | Electron vacuum device for generation electromagnetic oscillations | |
JPH04332435A (en) | Gyrotron device | |
JPH11177301A (en) | Airtight high frequency window | |
JPS6348380B2 (en) | ||
JP2002216706A (en) | Manufacturing method of bulb | |
JP2001210278A (en) | Electrodeless light source device | |
JP2804157B2 (en) | Gyrotron device | |
JPH01115035A (en) | Ecr ion source |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712 Effective date: 20060228 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20060303 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20071120 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20071120 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20100811 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20100817 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20100910 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131105 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |