JP2002162475A - Fluorescent beam monitor and its manufacturing method, and charged particle accelerator provided with fluorescent beam monitor - Google Patents

Fluorescent beam monitor and its manufacturing method, and charged particle accelerator provided with fluorescent beam monitor

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JP2002162475A
JP2002162475A JP2000360501A JP2000360501A JP2002162475A JP 2002162475 A JP2002162475 A JP 2002162475A JP 2000360501 A JP2000360501 A JP 2000360501A JP 2000360501 A JP2000360501 A JP 2000360501A JP 2002162475 A JP2002162475 A JP 2002162475A
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fluorescent
beam monitor
axis
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fluorescent beam
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Tetsuya Nakanishi
哲也 中西
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Mitsubishi Electric Corp
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a beam monitor capable of preventing discharging by charged electrification of a fluorescent beam monitor, installed on a beam passing path of a charged particle accelerator, and measuring accurately the position, the size and the shape of the beam. SOLUTION: Many holes are formed on a conductive material, installed on a fluorescent screen in physically and chemically adhesive state, to measure the position and the shape of the beam, and the conductive material is grounded, to prevent discharge caused by the electrification.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】この発明は、素粒子物理研究
や産業用、医療用などの荷電粒子加速器における荷電粒
子ビームの位置や形状、寸法等のモニタリングを行う蛍
光ビームモニタに関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a fluorescent beam monitor for monitoring the position, shape, size, etc. of a charged particle beam in a charged particle accelerator for elementary particle physics research, industrial use, medical use, and the like.

【0002】[0002]

【従来の技術】物質に高速の荷電粒子を当てるとそこか
ら光を発することは古くから知られており、それを利用
した蛍光ビームモニタは荷電粒子加速装置で広く用いら
れている。図9は一般に用いられている蛍光ビームモニ
タ10aを備えた装置の断面図である。モニタ装置は光
を発する蛍光板10b、それを支える支持台30、支持
棒31、それ等を駆動する移動機構32、大気中でビー
ムを観測するためののぞき窓33で構成されていて一般
にこの装置全体もしくは蛍光ビームモニタ10a単独を
蛍光ビームモニタと称する場合が多い。100はビーム
でありその通過路を示す。
2. Description of the Related Art It has long been known that light is emitted from a material when it is exposed to high-speed charged particles, and a fluorescent beam monitor using the same is widely used in charged particle accelerators. FIG. 9 is a sectional view of an apparatus provided with a generally used fluorescent beam monitor 10a. The monitor device is composed of a fluorescent plate 10b that emits light, a support 30 supporting the light, a support rod 31, a moving mechanism 32 for driving them, and a viewing window 33 for observing a beam in the atmosphere. Alternatively, the fluorescent beam monitor 10a alone is often referred to as a fluorescent beam monitor. Reference numeral 100 denotes a beam, which indicates a passage therethrough.

【0003】次に動作について説明する。蛍光板10b
は一般にセラミックスが用いられている。高速荷電粒子
群即ちビームが蛍光板10bに当たると、当たった位置
から光が発生しのぞき窓33で観測される。光の強度は
ビーム強度に比例するため、観測された光を適当に処理
すればビーム断面の強度分布や形状などが分かる。ビー
ムのエネルギが高い場合には蛍光板10bから出る放射
線が強いため、のぞき窓33で直接観測することはでき
ないが、テレビカメラを設置して遠隔で観測可能であ
る。また、エネルギの高いビームの場合には蛍光板10
bの材質にセラミックスに代わりアルミニウムが使用さ
れることもある。ビームの観測が終了すればビーム通過
の邪魔にならないように移動機構32で蛍光ビームモニ
タ10aをビームの通過路100からはずす。
Next, the operation will be described. Fluorescent plate 10b
Is generally made of ceramics. When a group of high-speed charged particles, that is, a beam hits the fluorescent screen 10b, light is generated from the hit position and is observed through the viewing window 33. Since the light intensity is proportional to the beam intensity, the intensity distribution and shape of the beam cross section can be determined by appropriately processing the observed light. When the energy of the beam is high, the radiation emitted from the fluorescent screen 10b is strong, and cannot be directly observed through the viewing window 33, but can be remotely observed by installing a television camera. In the case of a high energy beam, the fluorescent plate 10
Aluminum may be used instead of ceramics for the material of b. After the beam observation is completed, the fluorescent beam monitor 10a is removed from the beam passage 100 by the moving mechanism 32 so as not to hinder the beam passage.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】従来の蛍光ビームモニ
タは以上のように構成されているので、ビームの形状や
ビーム断面径およびビームの最も強度の強い部分等の情
報を得ようとするとき、蛍光板10bに目盛を刻むこと
が必要である。蛍光板10bがアルミニウムの場合には
目盛を刻むことが可能であるが、セラミックス等の硬い
物質の場合にはそれができず、例えばペン等で目盛を書
くことは真空度を悪くするために避けられているので、
正確なビームの前記諸情報が得られないという問題点が
あった。またセラミックスのような絶縁物の場合には、
ビームがセラミックスを通過できないほどの低エネルギ
荷電粒子の場合は、セラミックス上に電荷が蓄積されて
放電を起こし、ビームの観測に支障を来すという問題点
があった。このような問題点を解決するために、例えば
特公平5−23718号公報では、蛍光板上に導電性の
支持部材と電気的に接続された導電性スケール部材を設
置して蛍光板モニタを構成するものが提案されている
が、この場合、蛍光板とスケール部材が必ずしも密着し
た構造とならない場合もあり、ビームのエネルギが低く
て蛍光板を通過できないような場合には、導電性のスケ
ール部材が蛍光板に密着していない個所において蛍光板
上に電荷が帯電し、放電等の影響でビームが蛍光板上で
流れているように見えることがあり、ビームの正確な位
置、形状、強度分布が観測できないという問題点があっ
た。従って低エネルギで入射した荷電粒子を高エネルギ
まで加速する粒子加速器に前記のような構造を有する蛍
光板モニタを使用する場合、ビームのエネルギが低い個
所に設置できず高エネルギ部位に設置せざるを得なかっ
た。そのため、粒子加速器のビーム制御を低エネルギ領
域から遂次調整してくというオーソドックスな調整作業
が適確に行うことができず手さぐり調整とならざるを得
なかった。
Since the conventional fluorescent beam monitor is configured as described above, it is necessary to obtain information on the beam shape, beam cross-sectional diameter, and the highest intensity portion of the beam. It is necessary to make a scale on the fluorescent plate 10b. When the fluorescent plate 10b is made of aluminum, it is possible to cut the scale. However, in the case of a hard material such as ceramics, the scale cannot be formed. For example, writing the scale with a pen or the like is avoided because the degree of vacuum is deteriorated. So
There was a problem that the above-mentioned various information of the beam could not be obtained accurately. In the case of insulators such as ceramics,
In the case of charged particles having such a low energy that the beam cannot pass through the ceramics, electric charge is accumulated on the ceramics to cause a discharge, which hinders the observation of the beam. In order to solve such a problem, for example, Japanese Patent Publication No. 5-23718 discloses a fluorescent screen monitor in which a conductive scale member electrically connected to a conductive support member is installed on a fluorescent screen. However, in this case, there is a case where the fluorescent plate and the scale member are not always in close contact with each other. In a case where the beam energy is too low to pass through the fluorescent plate, the conductive scale member is in close contact with the fluorescent plate. Charges may be charged on the phosphor plate in places where it has not been done, and the beam may appear to flow on the phosphor plate due to the effects of discharge, etc., and the exact position, shape, and intensity distribution of the beam cannot be observed. there were. Therefore, when the fluorescent screen monitor having the above-described structure is used in a particle accelerator for accelerating charged particles incident at low energy to high energy, it cannot be installed at a position where the beam energy is low and must be installed at a high energy site. Did not. For this reason, the orthodox adjustment work of successively adjusting the beam control of the particle accelerator from a low energy region cannot be performed accurately, and it has to be performed by hand gesture adjustment.

【0005】この発明は以上のような問題点を解決する
ためになされたものであり、蛍光板上で放電を防止し、
かつビームの径や形状および位置を正確に測定できる蛍
光ビームモニタを提供することにある。
[0005] The present invention has been made to solve the above problems, and prevents discharge on a fluorescent screen.
Another object of the present invention is to provide a fluorescent beam monitor capable of accurately measuring the diameter, shape and position of a beam.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】この発明に係る蛍光ビー
ムモニタは、蛍光板上に物理的、化学的に密着して設け
られた導電性物質に多数の穴が形成されると共に接地さ
れているものである。
SUMMARY OF THE INVENTION A fluorescent beam monitor according to the present invention has a conductive material provided in close physical and chemical contact with a fluorescent plate and has a large number of holes formed and grounded. It is.

【0007】また、穴のサイズがビーム径より小さいも
のである。
The size of the hole is smaller than the beam diameter.

【0008】また、穴が格子縞状に配置されているもの
である。また、格子縞状に配置された穴と穴との間をつ
なぐ導電性物質の幅が一定間隔で大きくしたものであ
る。
Further, the holes are arranged in a grid pattern. Further, the width of the conductive substance connecting between the holes arranged in a lattice pattern is increased at regular intervals.

【0009】また、蛍光ビームモニタの基準X軸、基準
Y軸の軸線上に形成された穴のサイズが他の穴のサイズ
より大きいものである。
The size of a hole formed on the reference X axis and the reference Y axis of the fluorescent beam monitor is larger than the sizes of the other holes.

【0010】また、基準X軸上に形成された穴のサイズ
が他の穴のサイズより大きいものである。
[0010] The size of the hole formed on the reference X axis is larger than the size of the other holes.

【0011】また、基準Y軸上に形成された穴のサイズ
が他の穴のサイズより大きいものである。
Further, the size of the hole formed on the reference Y axis is larger than the size of the other holes.

【0012】また、導電性物質の厚みは荷電粒子ビーム
が導電物質中に停止する距離より厚いものである。
The thickness of the conductive material is larger than the distance at which the charged particle beam stops in the conductive material.

【0013】また、基準X軸、基準Y軸の軸線上にはビ
ーム径より小さい幅を有する導電性物質が設けてあり、
この軸線以外の導電性物質が格子縞状に配置、形成され
ているものである。
A conductive substance having a width smaller than the beam diameter is provided on the reference X axis and the reference Y axis.
Conductive substances other than the axis are arranged and formed in a lattice pattern.

【0014】また、ビーム通過路にモニタが角度θで設
置されるとき、ビームに対して傾いている側の穴の間隔
を、傾いていない側の間隔よりも1/sinθ分大きく
したものである。
Further, when the monitor is installed at an angle θ in the beam passage, the interval between holes inclined on the side of the beam is made larger by 1 / sin θ than the interval on the side not inclined. .

【0015】また、この発明に係る蛍光ビームモニタ
は、導電性物質上に蛍光物質が物理的、化学的に密着し
て設けられ、多数の島状に配置、形成されるとともに導
電性物質が接地されているものである。
Further, in the fluorescent beam monitor according to the present invention, the fluorescent substance is provided in close contact with the conductive substance physically and chemically, arranged and formed in a number of islands, and the conductive substance is grounded. Is what is being done.

【0016】また、島のサイズがビーム径よりも小さい
ものである。
The size of the island is smaller than the beam diameter.

【0017】また、島が格子縞状に配置されているもの
である。
Further, the islands are arranged in a checkered pattern.

【0018】また、蛍光ビームモニタの基準X軸、基準
Y軸の軸線上に形成された島のサイズが、他の島のサイ
ズより大きいものである。
Further, the size of the island formed on the axis of the reference X axis and the reference Y axis of the fluorescent beam monitor is larger than the size of the other islands.

【0019】また、蛍光ビームモニタの基準X軸上に形
成された島のサイズが、他のサイズより大きいものであ
る。
Further, the size of the island formed on the reference X axis of the fluorescent beam monitor is larger than other sizes.

【0020】また、蛍光ビームモニタの基準Y軸上に形
成された島のサイズが、他の島のサイズより大きいもの
である。
The size of the island formed on the reference Y axis of the fluorescent beam monitor is larger than the size of other islands.

【0021】また、ビーム通過路にモニタが角度θで設
置されているとき、ビームに対して傾いている側の島の
間隔を、傾いていない側の間隔よりも1/sinθ分大
きくしたものである。
Further, when the monitor is installed at an angle θ in the beam passage, the interval between islands on the side inclined with respect to the beam is made larger by 1 / sin θ than the interval on the side not inclined with respect to the beam. is there.

【0022】また、蛍光物質がセラミックスであり、導
電性物質が銅、銀、金、アルミニウムあるいはそれぞれ
の合金とするものである。
Further, the fluorescent substance is ceramics and the conductive substance is copper, silver, gold, aluminum or an alloy thereof.

【0023】また、蛍光ビームモニタに支持駆動機構が
設けられ、ビーム通過路から出し入れ可能なものであ
る。
Further, a support driving mechanism is provided in the fluorescent beam monitor so that the fluorescent beam monitor can be moved in and out of the beam passage.

【0024】また、この発明に係る蛍光ビームモニタの
製造方法は、蛍光板に導電性物質がCVDによって蒸着
された後、多数の穴がエッチングによってパターニング
形成されたものである。
In the method of manufacturing a fluorescent beam monitor according to the present invention, a conductive material is deposited on a fluorescent plate by CVD, and then a number of holes are patterned by etching.

【0025】また、蛍光板に導電性物質がメッキされた
後、多数の穴がエッチングによってパターニング形成さ
れたものである。
Further, after a phosphor is plated with a conductive material, a large number of holes are formed by patterning by etching.

【0026】また、導電性物質上に蛍光物質がCVDに
よって蒸着された後、多数の島状にエッチングによって
パターニング形成されたものである。
Further, after a fluorescent substance is deposited on a conductive substance by CVD, the fluorescent substance is patterned and formed into a plurality of islands by etching.

【0027】また、本発明による蛍光ビームモニタを備
えた荷電粒子加速器である。
A charged particle accelerator having a fluorescent beam monitor according to the present invention.

【0028】[0028]

【発明の実施の形態】実施の形態1.以下、この発明の
実施の形態1による蛍光ビームモニタ10を図1につい
て説明する。高速の荷電粒子が当たると蛍光を発する蛍
光物質、例えばセラミックス製の蛍光板1上に導電性物
質2が物理的、化学的に密着して設けてある。この場
合、蛍光板1と導電性物質2との境界面は隙間なく互い
に密着して接触していることが必要であり、例えばCV
D法による蒸着や、イオンプレーティング法によるメッ
キ等により、例えば導電性物質2である銅がセラミック
ス製の蛍光板1上に物理的、化学的に密着して設けられ
ている。そして、この導電性物質2は蛍光板1の全面を
覆うのではなく、多数の穴3がそれぞれがつながること
なく設けられており、穴3の底面では蛍光板1の面が露
出している。この多数の穴3は例えばエッチング等によ
りパターニングされて形成される。そしてまた、導電性
物質2は接地4が施してある。このような構造を有する
蛍光ビームモニタ10が荷電粒子ビームの通過路に設置
されビームが当たった場合、導電性物質2の部分は光ら
ず、穴3の部分だけが光る。通常ビームは、面内に拡が
ったある径をもっているので、ビームの拡がった個所に
相当する複数の穴が光ることになる。この光を観測、処
理することで荷電粒子加速器等における加速ビームの性
能を知ることができる。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Embodiment 1 Hereinafter, a fluorescent beam monitor 10 according to a first embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. A conductive substance 2 is provided in close physical and chemical contact with a fluorescent substance that emits fluorescence when hit by high-speed charged particles, for example, a fluorescent plate 1 made of ceramics. In this case, it is necessary that the boundary surface between the fluorescent plate 1 and the conductive substance 2 be in close contact with each other without any gap.
For example, copper as the conductive substance 2 is provided in close physical and chemical contact with the ceramic fluorescent plate 1 by vapor deposition by the D method, plating by an ion plating method, or the like. The conductive material 2 does not cover the entire surface of the fluorescent plate 1, but is provided with a large number of holes 3 without being connected to each other. The surface of the fluorescent plate 1 is exposed at the bottom surface of the hole 3. The large number of holes 3 are formed by patterning, for example, by etching or the like. Further, the conductive substance 2 is provided with a ground 4. When the fluorescent beam monitor 10 having such a structure is placed in the passage of the charged particle beam and hit by the beam, the portion of the conductive substance 2 does not emit light, and only the portion of the hole 3 emits light. Since the beam usually has a certain diameter spread in the plane, a plurality of holes corresponding to the spread portion of the beam will shine. By observing and processing this light, the performance of the accelerated beam in a charged particle accelerator or the like can be known.

【0029】導電性物質2と蛍光板1との境界が隙間な
く密着していることの重要性を述べる。荷電粒子ビーム
のエネルギが低くて蛍光板1を通過できないような場
合、蛍光板1上に電荷が帯電する。もし、導電性物質2
と蛍光板1との接触面に隙間が存在すると、蛍光板1上
に帯電した電荷の放電等の影響でビームが蛍光板1上で
流れているように観測されることがある。しかしなが
ら、この実施の形態1による蛍光ビームモニタ10は、
導電性物質2と蛍光板1とが隙間なく互いに密着してい
るので、帯電した電荷は導電性物質2を通ってアース4
に落ちるために上記のような従来技術で発生した現象は
生じない。またさらに、穴3に入ったビームによる帯電
が、他の穴に影響するようなこともない。ここで穴3の
大きさは、ビームの径よりも十分に小さくして設けてお
けば、ビーム径あるいはビームプロファイルを精度良く
測定できる。また、本実施の形態1の図1に示した穴3
は円形状のものを示したが矩形、正方形やその他の多角
形など、いずれの穴形状であってもよい。導電性物質2
の厚みは薄過ぎると、ビームが導電性物質2を通り抜け
て蛍光板1に達し、何らかの悪影響を与える可能性があ
るので、ビームが通過できない厚みとすれば問題ない。
この厚みはビームの種類(電子とか陽子など)、エネル
ギ、導電性物質によって異なるが、例えば100KeV
のエネルギの電子はアルミニウム中では約40μmで停
止する。
The importance of the fact that the boundary between the conductive material 2 and the fluorescent screen 1 is in close contact with no gap will be described. When the energy of the charged particle beam is too low to pass through the fluorescent screen 1, electric charges are charged on the fluorescent screen 1. If conductive substance 2
If there is a gap on the contact surface between the phosphor and the fluorescent plate 1, a beam may be observed as flowing on the fluorescent plate 1 due to the influence of the discharge of the electric charge charged on the fluorescent plate 1. However, the fluorescence beam monitor 10 according to the first embodiment is
Since the conductive substance 2 and the fluorescent screen 1 are in close contact with each other without any gap, the charged charges pass through the conductive substance 2 and are grounded.
Therefore, the phenomenon that occurs in the prior art as described above does not occur. Further, the charging by the beam entering the hole 3 does not affect other holes. If the size of the hole 3 is sufficiently smaller than the diameter of the beam, the beam diameter or the beam profile can be measured with high accuracy. Further, the hole 3 shown in FIG.
Has shown a circular shape, but may be any hole shape such as a rectangle, a square and other polygons. Conductive substance 2
If the thickness is too small, the beam may pass through the conductive material 2 and reach the fluorescent screen 1, possibly causing some adverse effect. Therefore, there is no problem if the thickness is too small to allow the beam to pass.
This thickness varies depending on the type of beam (electrons or protons), energy, and conductive material, for example, 100 KeV
Electrons of energy of stop at about 40 μm in aluminum.

【0030】実施の形態2.図2に実施の形態2の蛍光
ビームモニタを示す。蛍光板1上に導電性物質2の穴
3、格子縞状に配置、形成されている。このように規則
正しく穴3が配置して形成されていると、先に記述した
従来技術の問題点である蛍光板1上に目盛を刻む必要性
もなくて、ビームの径を直接的に計測可能である。また
穴3の形状は円形を示したが、矩形、正方形、その他多
角形等その形状は問わないことは云うまでもない。
Embodiment 2 FIG. FIG. 2 shows a fluorescent beam monitor according to the second embodiment. The holes 3 of the conductive material 2 are arranged and formed in a grid pattern on the fluorescent plate 1. If the holes 3 are formed regularly as described above, the diameter of the beam can be directly measured without the necessity of engraving a scale on the fluorescent screen 1, which is a problem of the prior art described above. is there. Although the shape of the hole 3 is circular, it goes without saying that the shape of the hole 3 may be any shape such as a rectangle, a square, or a polygon.

【0031】実施の形態3.図3に実施の形態3および
後述する実施の形態4の構造を有する蛍光ビームモニタ
を示す。まず、実施の形態3について説明する。図3か
ら判るように、蛍光ビームモニタ10のビーム通過の基
準位置を示す基準X軸8、基準Y軸9の軸線上に形成さ
れた導電性物質2に格子縞状に設けられた穴3a、3の
2種類を有し、穴3aは、他の穴3より大きくされてい
る。基準X軸8と基準Y軸9の交差する部位をビーム通
過路100の中心に一致するよう設置すれば、ビームの
位置のずれが容易に測定できる。つまり、相対的に大き
な穴3aからは大きな光が、小さな穴3からは小さな光
が発光されることによってビームの位置が判る。また穴
3、3aの形状は実施の形態1、2で述べたように円形
に限定されない。
Embodiment 3 FIG. 3 shows a fluorescent beam monitor having the structure of the third embodiment and a fourth embodiment described later. First, a third embodiment will be described. As can be seen from FIG. 3, holes 3a and 3 provided in the conductive substance 2 formed on the reference X-axis 8 and the reference Y-axis 9 indicating the reference position of the beam passage of the fluorescent beam monitor 10 in a grid pattern. The hole 3a is larger than the other holes 3. If the portion where the reference X axis 8 and the reference Y axis 9 intersect is set so as to coincide with the center of the beam passage 100, the displacement of the beam position can be easily measured. In other words, the position of the beam can be determined by emitting large light from the relatively large hole 3a and emitting small light from the small hole 3. The shape of the holes 3 and 3a is not limited to a circle as described in the first and second embodiments.

【0032】実施の形態4.次に、図3および図4によ
って実施の形態4を説明する。図4は蛍光ビームモニタ
10を実際に使用する場合の原理図である。蛍光ビーム
モニタ10は真空中にあり、カメラ7は一般に大気中に
設置される。駆動機構は図示省略しているが従来例に示
した図9と同様である。図4に示すようにビーム通過路
100に対してカメラ7を直角方向に設置する。このた
め蛍光ビームモニタ10はビーム通過路100に対して
θだけ傾いて設けられる。この場合、例えば穴3の間隔
が図3に示したようにdとするとカメラ7から見るとビ
ームの端は穴3の間隔dになく、ビームモニタ10上で
はd/sinθの位置に見える。図4の紙面と垂直方向
にはこのような問題は生じない。このため穴3の間隔は
図4の紙面と垂直方向の間隔をdとすると、ビーム通過
路100に対してθだけ傾けられた方向の穴3の間隔
は、図3に示すようにd/sinθの間隔で形成してお
けば上のような問題は解消できる。
Embodiment 4 FIG. Next, a fourth embodiment will be described with reference to FIGS. FIG. 4 is a principle diagram when the fluorescent beam monitor 10 is actually used. The fluorescent beam monitor 10 is in a vacuum, and the camera 7 is generally installed in the atmosphere. Although the drive mechanism is not shown, it is the same as that of the conventional example shown in FIG. As shown in FIG. 4, the camera 7 is installed at right angles to the beam passage 100. Therefore, the fluorescent beam monitor 10 is provided to be inclined by θ with respect to the beam passage 100. In this case, for example, assuming that the interval between the holes 3 is d as shown in FIG. 3, the end of the beam is not at the interval d between the holes 3 when viewed from the camera 7 and appears on the beam monitor 10 at the position of d / sin θ. Such a problem does not occur in the direction perpendicular to the paper surface of FIG. Therefore, assuming that the distance between the holes 3 is d in the direction perpendicular to the plane of the paper of FIG. 4, the distance between the holes 3 in the direction inclined by θ with respect to the beam passage 100 is d / sin θ as shown in FIG. The above problem can be solved by forming at intervals of.

【0033】実施の形態5.図5に実施の形態5を示
す。蛍光物質1には蛍光ビームモニタ10のビーム通過
の基準位置を示す基準X軸8、基準Y軸9の軸線上に導
電性物質2が幅2aを有して設けられてあり、この軸線
8、9以外の蛍光物質1上の導電性物質2には前記2a
の幅よりせまい幅を有する導電性物質2bによって囲ま
れた格子縞状の穴3bが配置、形成されていると共に、
接地4が施してある。このような構造の蛍光ビームモニ
タ10の基準X、Y軸の交差する部位をビーム通過路1
00の中心に一致するよう設置すれば、もしビーム中心
とモニタ10の中心とが一致している場合にはビーム中
心が蛍光を発光せずその位置のずれのないことが容易に
測定できる。尚、この実施の形態5の基準X軸8、基準
Y軸9の軸線上の導電性物質2aの幅は、ビーム径より
十分小さいことが必要である。またさらに図示省略した
が、格子縞状に配置された穴と穴との間をつなぐ導電性
物質の幅を一定間隔で大きく設けるようにすると、ビー
ムサイズ、形状がより容易に計測可能である。
Embodiment 5 FIG. FIG. 5 shows a fifth embodiment. The fluorescent substance 1 is provided with a conductive substance 2 having a width 2a on the reference X-axis 8 and the reference Y-axis 9 indicating the reference position of the beam passage of the fluorescent beam monitor 10. The conductive material 2 on the fluorescent material 1 other than 9
Lattice-shaped holes 3b surrounded by a conductive material 2b having a narrower width than the width of
Grounding 4 is provided. The crossing of the reference X and Y axes of the fluorescent beam monitor 10 having such a structure is defined as a beam passage 1
If the beam center is aligned with the center of the monitor 10, if the beam center is aligned with the center of the monitor 10, it can be easily measured that the beam center does not emit fluorescent light and there is no displacement. Note that the width of the conductive material 2a on the axis of the reference X axis 8 and the reference Y axis 9 in the fifth embodiment needs to be sufficiently smaller than the beam diameter. Although not shown in the figure, if the width of the conductive material connecting the holes arranged in a lattice pattern is set to be large at certain intervals, the beam size and shape can be measured more easily.

【0034】実施の形態6.図6に実施の形態6を示
す。導電性物質2の上には蛍光物質1aが物理的、化学
的に密着して設けてあると共に多数の島状に、例えばエ
ッチングによりパターニングされ配置、形成されてい
る。この場合導電性物質2と蛍光物質1aとの境界面は
隙間なく互いに接触していることが必要であり、例えば
CVD法による蒸着により導電性物質2である銅板上に
セラミック1aが物理的、化学的に密着して設けてあ
る。そして、導電性物質2には接地4が施してある。こ
こで島状の蛍光物質1a大きさはビームの径よりも十分
に小さくして設けてある。そして島状の蛍光物質1aの
配置は、図1で示した穴3の如く蛍光ビームモニタ10
の面内でランダムに配置して設けてもよく、また図6に
示すように規則正しく島が格子縞状に配置、形成されて
いるとビームの位置ずれが容易に測定できる。またさら
に図6では円形状の島1aを示したが、図7に示すよう
に矩形や正方形その他多角形であってもよい。また図
6、図7に示すように、蛍光ビームモニタ10のビーム
通過の基準位置を示す基準X軸8、基準Y軸9の軸線上
に形成された蛍光物質の島1bは他の島1aより大きく
されている。このようにすることによりビームの基準中
心位置からのずれが生じている場合、容易にその位置ず
れを観測できる。またさらに蛍光ビームモニタ10がビ
ーム通過路100に対してθ度傾いて設置されるとき、
傾けられた方向の島と島との間隔は、傾けられていない
方向の間隔に比べて1/sinθ分だけ大きくしておい
てもよい。また、蛍光ビームモニタには支持、駆動機構
が設けられることによって荷電粒子加速器ビーム通路上
でその秀れた性能を発揮する。この機構は従来と同様な
ので省略する。
Embodiment 6 FIG. FIG. 6 shows a sixth embodiment. The fluorescent substance 1a is provided on the conductive substance 2 in physical and chemical contact with each other, and is arranged and formed in a number of islands by patterning, for example, by etching. In this case, the boundary surface between the conductive material 2 and the fluorescent material 1a needs to be in contact with each other without any gap. For example, the ceramic 1a is physically and chemically formed on the copper plate as the conductive material 2 by vapor deposition by a CVD method. It is provided in close contact. The conductive material 2 is provided with a ground 4. Here, the size of the island-shaped fluorescent substance 1a is provided sufficiently smaller than the beam diameter. The arrangement of the island-shaped fluorescent substance 1a is determined by the fluorescent beam monitor 10 like the hole 3 shown in FIG.
May be provided at random in the plane, and if the islands are regularly arranged and formed in a grid pattern as shown in FIG. 6, the displacement of the beam can be easily measured. Further, although the circular island 1a is shown in FIG. 6, it may be rectangular, square or other polygon as shown in FIG. As shown in FIGS. 6 and 7, the fluorescent substance island 1b formed on the axis of the reference X axis 8 and the reference Y axis 9 indicating the reference position of the beam passage of the fluorescent beam monitor 10 is different from the other islands 1a. Has been enlarged. In this way, when a deviation of the beam from the reference center position occurs, the deviation can be easily observed. Further, when the fluorescent beam monitor 10 is installed at an angle of θ degrees with respect to the beam passage 100,
The distance between the islands in the tilted direction may be larger by 1 / sin θ than the distance in the non-tilted direction. In addition, the fluorescent beam monitor is provided with a supporting and driving mechanism, thereby exhibiting excellent performance on the beam path of the charged particle accelerator. This mechanism is the same as the conventional one, and will not be described.

【0035】以上説明したように、実施の形態1〜実施
の形態5に示した蛍光ビームモニタ10の構造は、蛍光
物質上に多数の穴を有する導電性物質を配置し、ビーム
は穴を通過して蛍光物質に当たり蛍光を発光する。一方
実施の形態6に示した構造では導電性物質上に多数の蛍
光物質を島状に配置し、ビームが直接この島に当たり蛍
光を発光するものであり、ビーム進路に対し前面に導電
性物質があるのと、蛍光物質があるかの差異はあるが、
放電防止、ビーム特性の正確な測定を行うという思想は
同一である。
As described above, in the structure of the fluorescent beam monitor 10 shown in the first to fifth embodiments, the conductive material having a large number of holes is arranged on the fluorescent material, and the beam passes through the holes. And hits the fluorescent substance to emit fluorescence. On the other hand, in the structure shown in Embodiment 6, a large number of fluorescent substances are arranged in an island shape on a conductive substance, and a beam directly hits this island to emit fluorescent light. There is a difference between whether there is a fluorescent substance,
The concept of preventing discharge and accurately measuring the beam characteristics is the same.

【0036】実施の形態7.図8にこの発明による蛍光
ビームモニタを使用した電子線やX線を殺菌等を目的に
照射する照射装置の概略構成図である。電子銃50で発
生した電子ビームは入射機器51を通して入射され、加
速空胴52で加速された後2台の偏向磁石53で曲げら
れ再び加速空胴52に戻ってくる。次に加速された後
は、エネルギが増加しているため、偏向磁石53では大
きな軌道を描いて戻ってくる。このように、加速される
度に軌道は大きく広がり、最後に偏向磁石53からはみ
出して取り出され照射機器54へ導かれる。図8では省
略しているが、ビーム通過路は全て真空ダクトで覆われ
ている。この加速原理はマイクロトロンとして有名であ
る。加速された電子ビームは照射機器54で任意の大き
さに広げられて、被照射体である医療器具や植物等に照
射される。それらはベルトコンベアで照射機器54の近
くに連続的に搬送されてくるが、図では省略している。
X線を照射する場合は、照射機器の中に金属板を設置
し、電子ビームを当てることでX線を発生させる。
Embodiment 7 FIG. 8 is a schematic configuration diagram of an irradiation apparatus that uses a fluorescent beam monitor according to the present invention to irradiate an electron beam or X-ray for the purpose of sterilization or the like. The electron beam generated by the electron gun 50 is incident through an incidence device 51, accelerated by an acceleration cavity 52, bent by two deflection magnets 53, and returned to the acceleration cavity 52 again. After the next acceleration, since the energy has increased, the deflection magnet 53 returns with a large trajectory. As described above, the trajectory greatly expands each time the vehicle is accelerated, and finally, the trajectory protrudes from the deflecting magnet 53 and is guided to the irradiation device 54. Although not shown in FIG. 8, the entire beam passage is covered with a vacuum duct. This acceleration principle is famous as a microtron. The accelerated electron beam is expanded to an arbitrary size by the irradiation device 54, and is irradiated to a target object such as a medical device or a plant. These are continuously conveyed by the belt conveyor near the irradiation device 54, but are omitted in the figure.
When irradiating X-rays, a metal plate is installed in an irradiation device, and X-rays are generated by applying an electron beam.

【0037】電子線やX線を医療器具や植物の殺菌目的
に照射する場合、大強度の電子ビームを必要とする。例
えば加速電流6mA以上でエネルギは5MeVである。
加速電流を6mAとするためには、電子銃50からの電
流は途中で損失することを考慮すると12mA程度以上
が必要である。このため、エネルギが増加したところで
ビームが少しでも真空ダクト等に当たると、熱で真空ダ
クト等が溶けることがある。それを避けるためには、入
射路のビーム軌道調整を正確に実施する必要がある。図
8において、この発明による蛍光ビームモニタ10は、
ビーム軌道を正確に調整するために設置されたものであ
り、加速空胴52の下流側の蛍光ビームモニタ10は最
初の通過ビーム位置を正確に測定するために設けられた
ものである。電子銃からのビームエネルギは50KeV
から100KeV程度であるために、この程度のエネル
ギでは蛍光ビームモニタに備えられた蛍光物質を通過で
きないので、この発明によるモニタが有効である。尚、
加速器としてはマイクロトロン型に限定するものではな
く、他の円形、選型加速器等にすべて応用可能である。
When irradiating an electron beam or X-ray for the purpose of sterilizing medical instruments or plants, a high-intensity electron beam is required. For example, the energy is 5 MeV at an acceleration current of 6 mA or more.
In order to make the acceleration current 6 mA, about 12 mA or more is necessary in consideration of the fact that the current from the electron gun 50 is lost on the way. Therefore, if even a small amount of the beam hits the vacuum duct or the like when the energy is increased, the vacuum duct or the like may be melted by heat. In order to avoid this, it is necessary to accurately adjust the beam trajectory of the incident path. In FIG. 8, a fluorescent beam monitor 10 according to the present invention
The fluorescent beam monitor 10 is provided for accurately adjusting the beam trajectory, and the fluorescent beam monitor 10 on the downstream side of the acceleration cavity 52 is provided for accurately measuring the position of the first passing beam. Beam energy from the electron gun is 50 KeV
Since the energy of about 10 to about 100 KeV cannot pass through the fluorescent substance provided in the fluorescent beam monitor at such an energy, the monitor according to the present invention is effective. still,
The accelerator is not limited to the microtron type, but can be applied to any other circular or selective accelerators.

【0038】このように、この発明の蛍光ビームモニタ
を使用した加速器では、電荷の帯電による放電の発生が
なく、またビームの位置が正確に測定できるので、低エ
ネルギ領域である例えば加速空胴の下流側に設置するこ
とが可能となり、モニタからのビーム性能情報により、
加速器のビーム調整が容易にかつ正確に行えため、大電
流の加速が可能となり、効率よく電子線やX線照射に用
いることができる。尚、この実施の形態では電子線やX
線の照射の例を示したが、これに限定されるものでな
く、広く荷電粒子加速器による産業用、研究用等の諸例
にも実施可能なことは云うまでもない。
As described above, in the accelerator using the fluorescent beam monitor according to the present invention, no discharge is generated due to the charging of the electric charge, and the position of the beam can be measured accurately. It can be installed on the downstream side, and the beam performance information from the monitor
Since the beam adjustment of the accelerator can be easily and accurately performed, a large current can be accelerated, and the accelerator can be efficiently used for electron beam or X-ray irradiation. In this embodiment, the electron beam or X
Although an example of irradiation with a line has been described, the present invention is not limited to this, and it is needless to say that the invention can be widely applied to various examples of industrial use, research use, and the like using a charged particle accelerator.

【0039】[0039]

【発明の効果】この発明は以上述べたように構成されて
いるので、以下に示すような効果を奏する。
Since the present invention is configured as described above, it has the following effects.

【0040】蛍光板に多数の穴を有する導電性物質が物
理的、化学的に密着して設けられ接地されているので、
ビームの位置、形状が正確に測定できると共に蛍光板表
面で停止したビームは帯電することなくアースに導かれ
るので秀れたビームのモニタリングが行える。
Since a conductive substance having a large number of holes is provided in the fluorescent plate in close physical and chemical contact and is grounded,
The position and shape of the beam can be accurately measured, and the beam stopped on the surface of the fluorescent plate is guided to the ground without being charged, so that excellent beam monitoring can be performed.

【0041】また、多数の穴がビーム径より小さいの
で、ビームの位置、形状がより正確に測定可能である。
Further, since many holes are smaller than the beam diameter, the position and shape of the beam can be measured more accurately.

【0042】さらに、穴が格子縞状に配置されているの
で、ビームの径を直接的に計測可能である。
Further, since the holes are arranged in a lattice pattern, the beam diameter can be directly measured.

【0043】また、基準X軸、基準Y軸上に形成された
穴のサイズが、他の穴のサイズより大きいので、あるい
は、基準X軸上の穴のみ、または基準Y軸上のみの穴サ
イズが、基準位置に対するビームの位置ずれを容易に測
定できる。
The size of the hole formed on the reference X axis and the reference Y axis is larger than the size of the other holes, or the size of the hole only on the reference X axis or the size of the hole only on the reference Y axis. However, the displacement of the beam with respect to the reference position can be easily measured.

【0044】さらに、導電性物質の厚みが、ビームがそ
の中で停止する距離より厚くしているので、ビームが導
電性物質を通り抜けて蛍光物質に当たり発光に寄与する
ことが完全になくなり、ビームモニタリングが正確に行
える。
Further, since the thickness of the conductive material is greater than the distance at which the beam stops therein, the beam does not pass through the conductive material and hit the fluorescent material to contribute to light emission. Can be performed accurately.

【0045】また基準X軸あるいは基準Y軸またはその
双方の軸線上にはビーム径より小さい幅を有する導電性
物質が設けてあるので、基準位置に対するビームの位置
ずれが容易に測定できる。
In addition, since a conductive material having a width smaller than the beam diameter is provided on the reference X axis, the reference Y axis, or both, the displacement of the beam with respect to the reference position can be easily measured.

【0046】さらに、モニタがビーム通過路と角度θで
設置されているとき、傾いている側の穴の間隔を、傾い
ていない側の穴の間隔よりも1/sinθ分大きくして
あるので、ビーム径が正確に測定できる。
Further, when the monitor is installed at an angle θ with respect to the beam passage, the interval between the holes on the inclined side is larger than the interval between the holes on the non-inclined side by 1 / sin θ. The beam diameter can be measured accurately.

【0047】さらにまた、導電性物質に多数の穴を有す
る蛍光物質が物理的、化学的に密着して設けられるとと
もに多数の島状に配置、形成され、導電性物質が接地さ
れているので、ビームの位置、形状が正確に測定でき、
ビームの帯電を防止できる。またビームに面した導電性
物質の量が多いため帯電防止の効果が大きい特徴があ
る。
Further, a fluorescent substance having a large number of holes in a conductive substance is physically and chemically provided in close contact with each other and arranged and formed in a large number of islands, and the conductive substance is grounded. Beam position and shape can be measured accurately,
Beam charging can be prevented. In addition, since the amount of the conductive substance facing the beam is large, the effect of preventing static charge is great.

【0048】また、島のサイズがビーム径よりも小さい
ので、ビームの位置、形状がより正確に測定できる。
Since the size of the island is smaller than the beam diameter, the position and shape of the beam can be measured more accurately.

【0049】さらに、島が格子縞状に配置、形成されて
いるので、ビームの径を直接的に計測できる。
Further, since the islands are arranged and formed in a grid pattern, the beam diameter can be directly measured.

【0050】また、基準X軸、基準Y軸の双方あるいは
基準X軸のみ、または基準Y軸上に形成された島のサイ
ズが、他の島のサイズより大きいので、基準位置に対す
るビームの位置ずれを容易に測定できる。
Further, since the size of an island formed on both the reference X axis and the reference Y axis, only the reference X axis, or on the reference Y axis is larger than the size of the other islands, the beam is shifted from the reference position. Can be easily measured.

【0051】さらに、モニタがビーム通過路と角度θで
設置されているとき、傾いている側の島の間隔を、傾い
ていない側の島の間隔よりも1/sinθ分大きくして
あるので、ビーム径が正確に測定できる。
Further, when the monitor is installed at an angle θ with respect to the beam passage, the interval between the islands on the inclined side is made larger by 1 / sin θ than the interval between the islands on the non-inclined side. The beam diameter can be measured accurately.

【0052】また、導電性物質が銅、金、銀、アルミニ
ウムまたはそれぞれの合金であるので、導電率が高く、
より効果的に放電防止でき、さらに蛍光物質がセラミッ
クスであるので適確な蛍光を発光する。
Since the conductive substance is copper, gold, silver, aluminum or an alloy thereof, the conductivity is high.
Discharge can be prevented more effectively, and proper fluorescent light is emitted because the fluorescent substance is ceramic.

【0053】さらに、ビームモニタには支持駆動機構を
備えているので、通常の加速器運転中にビーム通路をさ
えぎることはない。
Further, since the beam monitor is provided with the support driving mechanism, the beam path is not blocked during the normal operation of the accelerator.

【0054】また、蛍光板上にに導電性物質がCVDに
よって蒸着またはメッキされているので、物理的、化学
的に密着し、かつエッチングによってパターニングされ
形成されているので、精度の高い蛍光ビームモニタが製
造できる。
Also, since a conductive substance is deposited or plated on the fluorescent plate by CVD, it is physically and chemically adhered, and is formed by patterning by etching. Can be manufactured.

【0055】さらに、導電性物質上に蛍光物質がCVD
によって蒸着、エッチングによりパターニングされてい
るので上記と同様の効果を奏する。
Further, a fluorescent substance is formed on the conductive substance by CVD.
Thus, the same effect as described above can be obtained.

【0056】また、蛍光物質と導電性物質が物理的、化
学的に密着しかつパターニングによる多数の穴や島形状
を有する蛍光ビームモニタを備えた荷電粒子加速器であ
るので、電荷の放電等によるビームの誤計測がなくな
り、かつビームの位置、形状が正確に測定でき、その結
果、加速器の運転、調整が極めて容易になり、とりわけ
入射路のビーム軌道調整が確実に行え、従来の如く手さ
ぐりによる加速器運転調整ではなく、低エネルギ領域か
ら遂次機器の調整を行うことが可能な秀れた荷電粒子加
速器を提供できる。
Further, since the fluorescent substance and the conductive substance are physically and chemically closely contacted with each other and have a fluorescent beam monitor having a large number of holes or islands formed by patterning, the charged particle accelerator is used to discharge the beam due to electric discharge or the like. Erroneous measurement, and the position and shape of the beam can be measured accurately. As a result, the operation and adjustment of the accelerator become extremely easy. It is possible to provide an excellent charged particle accelerator capable of adjusting successive devices from a low energy region instead of an operation adjustment.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 この発明の実施の形態1を示す蛍光ビームモ
ニタである。
FIG. 1 is a fluorescence beam monitor according to a first embodiment of the present invention.

【図2】 この発明の実施の形態2を示す蛍光ビームモ
ニタである。
FIG. 2 is a fluorescence beam monitor according to a second embodiment of the present invention.

【図3】 この発明の実施の形態3、4を示す蛍光ビー
ムモニタである。
FIG. 3 is a fluorescent beam monitor showing Embodiments 3 and 4 of the present invention.

【図4】 この発明の実施の形態4を示す原理図であ
る。
FIG. 4 is a principle diagram showing a fourth embodiment of the present invention.

【図5】 この発明の実施の形態5を示す蛍光ビームモ
ニタである。
FIG. 5 is a fluorescence beam monitor according to a fifth embodiment of the present invention.

【図6】 この発明の実施の形態6を示す蛍光ビームモ
ニタである。
FIG. 6 is a fluorescence beam monitor according to a sixth embodiment of the present invention.

【図7】 この発明の実施の形態6を示す蛍光ビームモ
ニタである。
FIG. 7 is a fluorescence beam monitor according to a sixth embodiment of the present invention.

【図8】 この発明の実施の形態7を示す荷電粒子加速
器の概略構成図である。
FIG. 8 is a schematic configuration diagram of a charged particle accelerator according to a seventh embodiment of the present invention.

【図9】 従来の蛍光ビームモニタ装置の断面図であ
る。
FIG. 9 is a cross-sectional view of a conventional fluorescent beam monitoring device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1,1a,1b 蛍光物質、2 導電性物質、2a,2
b 導電性物質の幅、3,3a,3b 穴、4 接地、
6 蛍光、7 カメラ、8 基準X軸、9 基準Y軸、
10 蛍光ビームモニタ、500 マイクロトロン。
1,1a, 1b fluorescent material, 2 conductive material, 2a, 2
b width of conductive material, 3, 3a, 3b hole, 4 ground,
6 fluorescence, 7 camera, 8 reference X axis, 9 reference Y axis,
10 Fluorescence beam monitor, 500 microtron.

Claims (23)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 荷電粒子ビームの通過路に設置され、前
記ビームの照射により発光する蛍光物質によって形成さ
れた蛍光板と、前記蛍光板上に物理的、化学的に密着し
て設けられた導電性物質とを備え、前記導電性物質には
多数の穴が形成されていると共に接地されていることを
特徴とする蛍光ビームモニタ。
1. A fluorescent plate which is provided in a passage of a charged particle beam and is formed of a fluorescent material which emits light by irradiating the beam, and a conductive material which is provided in close physical and chemical contact with the fluorescent plate. Wherein the conductive material has a number of holes formed therein and is grounded.
【請求項2】 穴のサイズがビーム径よりも小さいこと
を特徴とする請求項1に記載の蛍光ビームモニタ。
2. The fluorescent beam monitor according to claim 1, wherein the size of the hole is smaller than the beam diameter.
【請求項3】 穴が格子縞状に配置されていることを特
徴とする請求項2に記載の蛍光ビームモニタ。
3. The fluorescent beam monitor according to claim 2, wherein the holes are arranged in a grid pattern.
【請求項4】 格子縞状に配置された穴と穴との間をつ
なぐ導電性物質の幅を一定間隔で大きくしたことを特徴
とする請求項3に記載の蛍光ビームモニタ。
4. The fluorescent beam monitor according to claim 3, wherein the width of the conductive material connecting between the holes arranged in a lattice pattern is increased at regular intervals.
【請求項5】 蛍光ビームモニタのビーム通過の基準位
置を示す基準X軸、基準Y軸の軸線上に形成された穴の
サイズが他の穴のサイズより大きいことを特徴とする請
求項3に記載の蛍光ビームモニタ。
5. The method according to claim 3, wherein the size of the hole formed on the axis of the reference X axis and the reference Y axis indicating the reference position of the beam passage of the fluorescent beam monitor is larger than the size of the other holes. The fluorescent beam monitor as described.
【請求項6】 蛍光ビームモニタの基準X軸の軸線上に
形成された穴のサイズが他の穴のサイズより大きいこと
を特徴とする請求項3に記載の蛍光ビームモニタ。
6. The fluorescent beam monitor according to claim 3, wherein the size of the hole formed on the axis of the reference X axis of the fluorescent beam monitor is larger than the size of the other holes.
【請求項7】 蛍光ビームモニタの基準Y軸の軸線上に
形成された穴のサイズが他の穴のサイズより大きいこと
を特徴とする請求項3に記載の蛍光ビームモニタ。
7. The fluorescent beam monitor according to claim 3, wherein the size of the hole formed on the axis of the reference Y axis of the fluorescent beam monitor is larger than the size of the other holes.
【請求項8】 導電性物質の厚みは、荷電粒子ビームが
導電物質中に停止する距離より厚いことを特徴とする請
求項1〜7に記載の蛍光ビームモニタ。
8. The fluorescent beam monitor according to claim 1, wherein a thickness of the conductive material is larger than a distance at which the charged particle beam stops in the conductive material.
【請求項9】 蛍光ビームモニタのビーム通過の基準位
置を示す基準X軸あるいは基準Y軸またはその双方の軸
線上にはビーム径より小さい幅を有する導電性物質が設
けてあり、この軸線上以外の導電性物質が格子縞状に配
置、形成されていることを特徴とする請求項2に記載の
蛍光ビームモニタ。
9. A conductive material having a width smaller than the beam diameter is provided on the reference X axis and / or the reference Y axis indicating the reference position of the passage of the beam of the fluorescent beam monitor. 3. The fluorescent beam monitor according to claim 2, wherein the conductive substances are arranged and formed in a grid pattern.
【請求項10】 蛍光ビームモニタが荷電粒子ビーム通
過路と角度θをもって設置されるとき、荷電粒子ビーム
に対して傾いている側の穴の間隔を、傾いていない側の
間隔よりも1/sinθ分大きくしたことを特徴とする
請求項1〜9に記載の蛍光ビームモニタ。
10. When the fluorescent beam monitor is installed at an angle θ with respect to the passage of the charged particle beam, the interval between holes on the side inclined with respect to the charged particle beam is 1 / sin θ more than the interval on the side not inclined. The fluorescent beam monitor according to claim 1, wherein the size of the fluorescent beam monitor is increased.
【請求項11】 荷電粒子ビームの通過路に設置され、
前記ビームの照射により発光する蛍光物質と、導電性物
質とで構成される蛍光ビームモニタにおいて、前記導電
性物質上には前記蛍光物質が物理的、化学的に密着して
設けられていると共に多数の島状に配置、形成されてお
り、前記導電性物質が接地されていることを特徴とする
蛍光ビームモニタ。
11. A charged particle beam installed in a passage of the beam,
In a fluorescent beam monitor composed of a fluorescent substance that emits light by irradiation with the beam and a conductive substance, the fluorescent substance is physically and chemically closely attached to the conductive substance, and a large number of the fluorescent substances are provided. A fluorescent beam monitor, wherein the conductive substance is grounded.
【請求項12】 蛍光物質で形成された島のサイズがビ
ーム径よりも小さいことを特徴とする請求項11に記載
の蛍光ビームモニタ。
12. The fluorescent beam monitor according to claim 11, wherein the size of the island formed of the fluorescent substance is smaller than the beam diameter.
【請求項13】 島が格子縞状に配置、形成されている
ことを特徴とする請求項12に記載の蛍光ビームモニ
タ。
13. The fluorescent beam monitor according to claim 12, wherein the islands are arranged and formed in a grid pattern.
【請求項14】 蛍光ビームモニタのビーム通過の基準
位置を示す基準X軸、基準Y軸の軸線上に形成された島
のサイズが、他の島のサイズより大きいことを特徴とす
る請求項13に記載の蛍光ビームモニタ。
14. The size of an island formed on the reference X-axis and the reference Y-axis indicating the reference position of the beam passage of the fluorescent beam monitor is larger than the size of the other islands. The fluorescent beam monitor according to 1.
【請求項15】 蛍光ビームモニタの基準X軸の軸線上
に形成された島のサイズが、他のサイズより大きいこと
を特徴とする請求項13に記載の蛍光ビームモニタ。
15. The fluorescent beam monitor according to claim 13, wherein the size of the island formed on the axis of the reference X axis of the fluorescent beam monitor is larger than another size.
【請求項16】 蛍光ビームモニタの基準Y軸の軸線上
に形成された島のサイズが、他の島のサイズより大きい
ことを特徴とする請求項13に記載の蛍光ビームモニ
タ。
16. The fluorescent beam monitor according to claim 13, wherein the size of the island formed on the axis of the reference Y axis of the fluorescent beam monitor is larger than the size of the other islands.
【請求項17】 蛍光ビームモニタが荷電粒子ビーム通
過路と角度θをもって設置されているとき、荷電粒子ビ
ームに対して傾いている側の島配置の間隔を傾いていな
い側の間隔よりも1/sinθ分大きくしたことを特徴
とする請求項11〜16に記載の蛍光ビームモニタ。
17. When the fluorescent beam monitor is installed at an angle θ with respect to the charged particle beam passage, the interval of the island arrangement on the side inclined with respect to the charged particle beam is smaller than the interval on the non-inclined side by 1 /. 17. The fluorescent beam monitor according to claim 11, wherein the width is increased by sin [theta].
【請求項18】 蛍光物質がセラミックスであり、導電
性物質が銅、銀、金、アルミニウムあるいはそれぞれの
合金とすることを特徴とする請求項1〜10、または1
1〜17に記載の蛍光ビームモニタ。
18. The method according to claim 1, wherein the fluorescent substance is ceramic and the conductive substance is copper, silver, gold, aluminum or an alloy thereof.
18. The fluorescent beam monitor according to any one of 1 to 17.
【請求項19】 蛍光ビームモニタには支持駆動機構が
設けられ、ビーム通過路から出し入れ可能なことを特徴
とする請求項1〜18に記載の蛍光ビームモニタ。
19. The fluorescent beam monitor according to claim 1, wherein a support driving mechanism is provided in the fluorescent beam monitor, and the fluorescent beam monitor can be moved in and out of a beam passage.
【請求項20】 蛍光板に導電性物質がCVDによって
蒸着された後、多数の穴がエッチングによってパターニ
ングされ形成されていることを特徴とする請求項1〜1
0、18に記載の蛍光ビームモニタの製造方法。
20. The method according to claim 1, wherein a plurality of holes are formed by patterning by etching after a conductive material is deposited on the phosphor plate by CVD.
19. The method for manufacturing a fluorescent beam monitor according to 0 or 18.
【請求項21】 蛍光板に導電性物質がメッキされた
後、多数の穴がエッチングによってパターニングされ形
成されていることを特徴とする請求項1〜10、18に
記載の蛍光ビームモニタの製造方法。
21. The method for manufacturing a fluorescent beam monitor according to claim 1, wherein a large number of holes are formed by patterning by etching after a conductive material is plated on the fluorescent plate.
【請求項22】 導電性物質上の蛍光物質がCVDによ
って蒸着された後、多数の島状にエッチングによってパ
ターニングされ形成されていることを特徴とする請求項
11〜18に記載の蛍光ビームモニタの製造方法。
22. The fluorescent beam monitor according to claim 11, wherein the fluorescent material on the conductive material is formed by CVD and then patterned by etching into a plurality of islands. Production method.
【請求項23】 請求項1〜10、18、19または請
求項11〜19に記載の蛍光ビームモニタを備えたこと
を特徴とする荷電粒子加速器。
23. A charged particle accelerator comprising the fluorescent beam monitor according to claim 1 to 10, 18, 19, or 19.
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Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008027614A (en) * 2006-07-18 2008-02-07 Fujitsu Ltd Incident angle monitor element of charged particle
JP2009502263A (en) * 2005-07-27 2009-01-29 イヨン ベアム アプリカスィヨン エッス.アー. Dosimetry equipment for measurement of radiotherapy equipment
JP2009186349A (en) * 2008-02-07 2009-08-20 Natl Inst Of Radiological Sciences Beam monitor sensor and beam monitor with the same
JP2011050585A (en) * 2009-09-02 2011-03-17 Toshiba Corp Particle beam irradiation apparatus and particle beam irradiation method
JP2011149731A (en) * 2010-01-19 2011-08-04 Toshiba Corp Manufacturing method of plastic scintillator member and radiation detector
US9237416B2 (en) 2007-02-23 2016-01-12 Locator IP, L.P. Interactive advisory system for prioritizing content
CN111569278A (en) * 2020-05-22 2020-08-25 山东大学 Method and system for monitoring use environment of medical linear accelerator in real time

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009502263A (en) * 2005-07-27 2009-01-29 イヨン ベアム アプリカスィヨン エッス.アー. Dosimetry equipment for measurement of radiotherapy equipment
JP2008027614A (en) * 2006-07-18 2008-02-07 Fujitsu Ltd Incident angle monitor element of charged particle
US9237416B2 (en) 2007-02-23 2016-01-12 Locator IP, L.P. Interactive advisory system for prioritizing content
JP2009186349A (en) * 2008-02-07 2009-08-20 Natl Inst Of Radiological Sciences Beam monitor sensor and beam monitor with the same
JP2011050585A (en) * 2009-09-02 2011-03-17 Toshiba Corp Particle beam irradiation apparatus and particle beam irradiation method
US8334509B2 (en) 2009-09-02 2012-12-18 Kabushiki Kaisha Toshiba Particle beam irradiation apparatus and particle beam irradiation method
JP2011149731A (en) * 2010-01-19 2011-08-04 Toshiba Corp Manufacturing method of plastic scintillator member and radiation detector
CN111569278A (en) * 2020-05-22 2020-08-25 山东大学 Method and system for monitoring use environment of medical linear accelerator in real time

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