JP2002158105A - Magnet and its manufacturing method - Google Patents

Magnet and its manufacturing method

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JP2002158105A
JP2002158105A JP2000349617A JP2000349617A JP2002158105A JP 2002158105 A JP2002158105 A JP 2002158105A JP 2000349617 A JP2000349617 A JP 2000349617A JP 2000349617 A JP2000349617 A JP 2000349617A JP 2002158105 A JP2002158105 A JP 2002158105A
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    • H01F41/00Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties
    • H01F41/02Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties for manufacturing cores, coils, or magnets
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    • H01F41/026Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties for manufacturing cores, coils, or magnets for manufacturing permanent magnets protecting methods against environmental influences, e.g. oxygen, by surface treatment

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a magnet which can reduce dispersion in bonding strength, realize large bonding strength and realize effective bonding operation by effectively eliminating setting defect of adhesive which is inactive to a nickel plating film. SOLUTION: A magnet (2) has an R-TM-B rare earth magnet body (4) comprising R (R is one or more kinds of rare earth elements including Y), TM (TM is an Fe-base transition element) and B, a protection film (6) comprising a nickel plating film formed in a surface of the magnet body, and a 0.1 μm or less-thick phosphoric acid film (8) formed through phosphoric acid treatment by using treatment liquid containing no fluoride in a surface of the protection film.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、磁石およびその製
造方法に関する。
The present invention relates to a magnet and a method for manufacturing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】Nd−Fe−B系磁石は、磁気特性が高
いこと、主要材料であるFeが豊富で安価であること、
希土類であるNdがSmに比べて資源的に有利で安価な
こと、供給が不安定で高価なCoを使用しないこと、な
どの理由から、近年では、Sm−Co系磁石に代わり希
土類磁石の主流となっている。
2. Description of the Related Art Nd-Fe-B magnets have high magnetic properties, are rich in Fe, which is a main material, and are inexpensive.
In recent years, rare-earth magnets have become the mainstream in place of Sm-Co-based magnets because Nd, which is a rare earth, is resource-efficient and inexpensive compared to Sm, and supply is unstable and does not use expensive Co. It has become.

【0003】Nd−Fe−B系磁石は、このままで使用
すると一般の鉄鋼材質と比較して非常に腐食し易いとい
う欠点を有していることから、さまざまな表面処理が施
されてきた。
[0003] Nd-Fe-B-based magnets have been subjected to various surface treatments because they have the drawback that if they are used as they are, they are much more likely to corrode than ordinary steel materials.

【0004】Nd−Fe−B系磁石の防錆処理は、安価
で耐食性に優れるニッケルメッキが広く採用されてい
る。そして、磁石表面のニッケルメッキ上に接着剤を介
して他の部材を固定して使用される。この種の接着剤に
は、エポキシ系接着剤や嫌気性アクリル系接着剤を使用
することが多く、特に嫌気性アクリル系接着剤は作業性
が良く、硬化温度が低いため熱減磁が少ないことから、
好んで選定されることが多い。
[0004] Nickel plating, which is inexpensive and has excellent corrosion resistance, is widely used for the rust prevention treatment of Nd-Fe-B magnets. Then, another member is fixed on the nickel plating on the magnet surface via an adhesive to be used. Epoxy adhesives and anaerobic acrylic adhesives are often used for this type of adhesive, especially anaerobic acrylic adhesives have good workability and low curing temperature, so there is little thermal demagnetization. From
It is often chosen in preference.

【0005】しかしながら、嫌気性アクリル系接着剤
は、鉄や銅に対しては活性が高く、その結果、迅速に反
応するのに対し、被着体がニッケルである場合、反応性
が乏しいという欠点がある。ニッケルを代表とする反応
不活性な被着体を接着する場合、接着面に活性剤(プラ
イマー)処理を施すが、小物形状の場合は作業性が著し
く低下して嫌気性アクリル系接着剤の長所を生かせない
のみならず、接着工程におけるコストアップの要因とな
っていた。
[0005] However, the anaerobic acrylic adhesive has a high activity with respect to iron and copper, and as a result, reacts quickly, whereas when the adherend is nickel, the reactivity is poor. There is. When bonding a reaction-inactive adherend represented by nickel, the surface to be bonded is treated with an activator (primer). However, in the case of a small object, the workability is significantly reduced and the advantage of an anaerobic acrylic adhesive is obtained. Not only can not be used, but also increases the cost in the bonding process.

【0006】ところで、鉄鋼やアルミニウムの塗装下地
処理として、リン酸亜鉛処理が広く採用されている。鉄
鋼やアルミニウムにリン酸亜鉛処理を施した場合、その
表面にリン酸塩の結晶が被膜として析出して塗装被膜の
密着性が向上することが知られている。
By the way, zinc phosphate treatment is widely used as a base treatment for painting steel or aluminum. It is known that when zinc phosphate treatment is applied to steel or aluminum, phosphate crystals precipitate as a film on the surface thereof, and the adhesion of the coating film is improved.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、こうし
た鉄鋼やアルミニウムの塗装下地処理に用いられている
技術を、そのままニッケルメッキに適用した場合、ニッ
ケルの耐食性が優れているため処理溶液中で十分に反応
せず、リン酸塩の結晶が表面に析出しなかった。
However, when the technology used for the undercoat treatment of steel or aluminum is applied to nickel plating as it is, the corrosion resistance of nickel is excellent, so that the reaction in the treatment solution is sufficient. No phosphate crystals were deposited on the surface.

【0008】なお、特開平6−318512号公報で
は、Nd−Fe−B系磁石本体表面に形成されたニッケ
ルメッキ膜の表面を、フッ化物を含む酸を用いて予め活
性化させた後、さらにフッ化物を含むリン酸亜鉛溶液で
処理して、前記ニッケルメッキ膜表面に膜厚0.1〜1
0μmのリン酸亜鉛被膜を形成し、このようなリン酸亜
鉛被膜の効果により、ニッケルメッキ膜表面の接着性を
改善する方法が開示してある。ここでは、フッ化物がニ
ッケルメッキ表面を強制的に溶解し、活性化させるた
め、ニッケルメッキ上にリン酸亜鉛の結晶が被膜として
形成されており、接着強度が改善されている。
In Japanese Patent Application Laid-Open No. 6-318512, after the surface of the nickel plating film formed on the surface of the Nd—Fe—B magnet body is activated in advance using an acid containing a fluoride, it is further activated. Treating with a zinc phosphate solution containing a fluoride, the surface of the nickel plating film has a thickness of 0.1 to 1
A method is disclosed in which a zinc phosphate coating of 0 μm is formed, and the adhesion of the nickel plating film surface is improved by the effect of the zinc phosphate coating. Here, since the fluoride forcibly dissolves and activates the nickel-plated surface, zinc phosphate crystals are formed as a film on the nickel plating, and the adhesive strength is improved.

【0009】しかしながら、上記公報記載の方法による
と、フッ化物を含む酸による前処理(活性化処理)の状
態により接着強度が大きく変化することがあり、また、
リン酸亜鉛被膜の膜厚制御が困難という欠点もあり、生
産レベルで安定した接着強度を得ることが困難であっ
た。このため、生産レベルで安定した接着強度が得ら
れ、接着作業の効率化を実現できる技術の開発が望まれ
ていた。
[0009] However, according to the method described in the above publication, the adhesive strength may greatly change depending on the state of pretreatment (activation treatment) with an acid containing fluoride.
There is also a disadvantage that it is difficult to control the thickness of the zinc phosphate coating, and it has been difficult to obtain a stable adhesive strength at a production level. For this reason, there has been a demand for the development of a technology capable of obtaining a stable bonding strength at a production level and realizing an efficient bonding operation.

【0010】本発明の目的は、ニッケルメッキ膜に対し
て反応不活性な接着剤の硬化不良を効果的に解消し、接
着強度のバラツキが小さく、大きな接着強度を得ること
ができ、その結果、接着作業の効率化を実現できる磁石
を提供することである。また本発明は、このような磁石
を効率よく製造できる磁石の製造方法を提供することも
目的とする。
[0010] An object of the present invention is to effectively eliminate poor curing of an adhesive that is inactive to a nickel plating film, to reduce variation in adhesive strength, and to obtain large adhesive strength. An object of the present invention is to provide a magnet capable of realizing an efficient bonding operation. Another object of the present invention is to provide a method for manufacturing a magnet that can efficiently manufacture such a magnet.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】本発明者等は、磁石本体
表面に形成されたニッケルメッキ膜の表面を、特定組成
の処理液を用いてリン酸塩処理を行うことにより、前記
ニッケルメッキ膜表面に形成されるリン酸塩被膜の厚み
制御が容易となり、その結果、ニッケルメッキ膜表面の
接着性改善を生産レベルで安定して行うことができ、接
着作業の効率化を実現できることを見出し、本発明を完
成させるに至った。
Means for Solving the Problems The present inventors performed a phosphate treatment on a surface of a nickel plating film formed on the surface of a magnet main body using a treatment liquid having a specific composition, thereby obtaining the nickel plating film. The thickness of the phosphate film formed on the surface is easily controlled, and as a result, it is possible to stably improve the adhesion of the nickel plating film surface at the production level, and realize that the efficiency of the bonding operation can be improved. The present invention has been completed.

【0012】磁石の製造方法 すなわち、本発明に係る磁石の製造方法は、希土類元素
を含む磁石本体の表面に、電気メッキを行い、ニッケル
メッキ膜からなる保護膜を形成する工程と、前記保護膜
の表面に、フッ化物を含まない処理液を用いてリン酸塩
処理を行い、リン酸塩被膜を形成する工程とを有する。
The method for manufacturing a magnet, that is, the method for manufacturing a magnet according to the present invention comprises the steps of: electroplating a surface of a magnet main body containing a rare earth element to form a protective film made of a nickel plating film; Performing a phosphate treatment on the surface of the substrate with a treatment solution containing no fluoride to form a phosphate film.

【0013】好ましくは、前記処理液のpHが、4以下
である。
[0013] Preferably, the pH of the treatment liquid is 4 or less.

【0014】好ましくは、前記リン酸塩処理の処理温度
が、20〜50℃である。
[0014] Preferably, the treatment temperature of the phosphating treatment is 20 to 50 ° C.

【0015】好ましくは、前記処理液には、硝酸イオン
が2〜30g/lの割合で含有してある。
Preferably, the treatment liquid contains nitrate ions at a ratio of 2 to 30 g / l.

【0016】好ましくは、前記保護膜を形成する前に、
前記磁石本体の表面に、アルカリ溶液を用いて脱脂処理
を行い、酸による化学エッチングを施し、前記磁石本体
の表面を清浄化する第1前処理工程を有する。
Preferably, before forming the protective film,
The method further includes a first pretreatment step of performing a degreasing treatment on the surface of the magnet main body using an alkaline solution, performing chemical etching with an acid, and cleaning the surface of the magnet main body.

【0017】好ましくは、前記リン酸塩被膜を形成する
前に、前記保護膜の表面に、アルカリ溶液を用いて脱脂
処理を行い、洗浄する第2前処理工程を有する。
Preferably, before forming the phosphate film, the method further comprises a second pretreatment step of performing a degreasing treatment on the surface of the protective film using an alkaline solution and washing the surface.

【0018】アルカリの一例としてのNaOHは、安価
で、入手しやすく、しかも脱脂効果が高いため、これを
主成分とするアルカリ溶液を用いることが好ましい。
As an example of alkali, NaOH is inexpensive, easily available, and has a high degreasing effect. Therefore, it is preferable to use an alkaline solution containing NaOH as a main component.

【0019】好ましくは、前記リン酸塩被膜を形成した
後に、磁石本体をアルコール浸漬して風乾する。
Preferably, after forming the phosphate coating, the magnet body is dipped in alcohol and air-dried.

【0020】磁石 本発明に係る磁石は、希土類元素を含む磁石本体と、前
記磁石本体の表面に形成されたニッケルメッキ膜からな
る保護膜と、前記保護膜の表面に形成された0.1μm
未満の厚みを持つリン酸塩被膜とを有する。
Magnet The magnet according to the present invention comprises a magnet main body containing a rare earth element, a protection film made of a nickel plating film formed on the surface of the magnet main body, and a 0.1 μm film formed on the surface of the protection film.
A phosphate coating having a thickness of less than.

【0021】好ましくは、前記リン酸塩被膜が、フッ化
物を含まない処理液を用いてリン酸塩処理して形成され
る。
Preferably, the phosphate film is formed by phosphate treatment using a treatment solution containing no fluoride.

【0022】好ましくは、前記磁石本体と保護膜との間
に形成された、銅を主成分とする下地層をさらに有す
る。
Preferably, there is further provided an underlayer mainly composed of copper, formed between the magnet main body and the protective film.

【0023】共通事項 前記リン酸塩としては、リン酸錫、リン酸鉄、リン酸マ
ンガン、リン酸亜鉛、リン酸亜鉛カルシウムなどが例示
される。
Common Items Examples of the phosphate include tin phosphate, iron phosphate, manganese phosphate, zinc phosphate, calcium zinc phosphate and the like.

【0024】前記磁石本体としては、本発明では希土類
元素を含んでいれば特に限定されないが、R(ただし、
RはYを含む希土類元素の一種以上)、TM(ただし、
TMはFeを主成分とする遷移元素)およびBを含むR
−TM−B系希土類磁石である場合に、特に効果が大き
い。R−TM−B系希土類磁石の代表例が、Nd−Fe
−B系希土類磁石である。
The magnet body is not particularly limited as long as it contains a rare earth element in the present invention.
R is at least one kind of rare earth element including Y), TM (however,
TM is a transition element mainly composed of Fe) and R containing B
The effect is particularly large in the case of a TM-B-based rare earth magnet. A typical example of the R-TM-B-based rare earth magnet is Nd-Fe
-B-based rare earth magnet.

【0025】[0025]

【作用】本発明に係る磁石では、ニッケルメッキ膜から
なる保護膜の表面にリン酸塩被膜を0.1μm未満と極
めて薄く形成することにより、前記リン酸塩被膜にかか
る内部応力を小さくできる。このため、この極薄のリン
酸塩被膜の上に、たとえば嫌気性アクリル系接着剤など
の各種接着剤を接着しても、前記リン酸塩被膜が破壊さ
れるおそれは極めて少ない。一方、リン酸塩被膜の厚み
が0.1μm未満であっても、破壊されずに、均一に被
膜が形成され、安定した接着強度を得ることが期待でき
る。すなわち、本発明では、リン酸塩被膜の厚みを極め
て薄く形成することにより、当該リン酸塩被膜の内部応
力による破壊を防止して厚みの均一化を確保し、その結
果、ニッケルメッキ膜に対して反応不活性な各種接着剤
(たとえば嫌気性アクリル系接着剤)の硬化阻害を効果
的に抑制でき、接着作業の効率化を実現できる。
In the magnet according to the present invention, the internal stress applied to the phosphate coating can be reduced by forming the phosphate coating as extremely thin as less than 0.1 μm on the surface of the protective film made of the nickel plating film. For this reason, even if various adhesives, such as an anaerobic acrylic adhesive, are adhered on this ultra-thin phosphate film, the possibility that the phosphate film is broken is extremely low. On the other hand, even if the thickness of the phosphate film is less than 0.1 μm, it can be expected that the film is formed uniformly without being destroyed and stable adhesive strength is obtained. That is, in the present invention, by forming the thickness of the phosphate coating extremely thin, it is possible to prevent the phosphate coating from being broken by internal stress and to ensure uniform thickness, and as a result, the nickel plating film Thus, it is possible to effectively suppress the inhibition of curing of various reaction-inactive adhesives (for example, an anaerobic acrylic adhesive), thereby realizing an efficient bonding operation.

【0026】本発明に係る磁石の製造方法では、希土類
元素を含む磁石本体の表面に形成されたニッケルメッキ
膜からなる保護膜の表面にリン酸塩被膜を形成するに際
し、フッ化物を含まない処理液を用いてリン酸塩処理を
行う。このため、リン酸塩被膜の膜厚制御が容易とな
り、厚みが0.1μm未満のリン酸塩被膜を生産レベル
で安定して形成することができる。
In the method of manufacturing a magnet according to the present invention, when a phosphate film is formed on the surface of a protective film made of a nickel plating film formed on the surface of a magnet main body containing a rare earth element, a fluoride-free treatment is performed. Phosphate treatment is performed using the solution. Therefore, it is easy to control the thickness of the phosphate film, and a phosphate film having a thickness of less than 0.1 μm can be stably formed at a production level.

【0027】本発明に係る磁石の具体的な用途は、特に
限定されないが、各種産業用回転機器、民生用回転機
器、光ピックアップ装置などが例示される。
The specific application of the magnet according to the present invention is not particularly limited, and examples thereof include various types of industrial rotary equipment, consumer rotary equipment, and optical pickup devices.

【0028】産業用回転機器としては、自動車やオート
バイなどに使用される各種モータ;工作機械の駆動系な
どが例示される。民生用回転機器としては、VTR、C
D、MD、DVD、カセットステレオなどに使用される
各種モータ;OA機器(コンピュータ、プリンタ、複写
機など)のモータなどが例示される。
Examples of the industrial rotary equipment include various motors used for automobiles and motorcycles; drive systems for machine tools. For consumer rotary equipment, VTR, C
Various motors used for D, MD, DVD, cassette stereo, etc .; motors of OA equipment (computers, printers, copiers, etc.) are exemplified.

【0029】光ピックアップ装置は、記録媒体である光
ディスクに情報を記録再生するためのものであり、一般
に、対物レンズを光ディスクのトラッキング方向やフォ
ーカス方向に移動させる対物レンズ駆動装置と、取り付
け台上に光源や受光部などが設けられ、対物レンズを介
して、光ディスクにレーザ光を投射し、その反射光を検
出する光学系ブロックと、から構成される。本発明の磁
石を光ピックアップ装置に用いる場合、当該磁石は、対
物レンズ駆動装置の構成部材である磁気回路に用いられ
る。
The optical pickup device is for recording / reproducing information on / from an optical disk as a recording medium. Generally, the optical pickup device has an objective lens driving device for moving an objective lens in a tracking direction or a focusing direction of the optical disk, and a mounting table. An optical system block that is provided with a light source, a light receiving unit, and the like, projects laser light onto an optical disk via an objective lens, and detects reflected light thereof. When the magnet of the present invention is used in an optical pickup device, the magnet is used in a magnetic circuit that is a component of the objective lens driving device.

【0030】[0030]

【発明の実施の形態】以下、本発明を、図面に示す実施
形態に基づき詳細に説明する。図1は本発明の一実施形
態に係る永久磁石を示す概略断面図、図2は実施例1、
比較例1および比較例5のそれぞれの永久磁石サンプル
について、硬化時間と接着強度との関係を示すグラフで
ある。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, the present invention will be described in detail based on an embodiment shown in the drawings. FIG. 1 is a schematic sectional view showing a permanent magnet according to an embodiment of the present invention, and FIG.
9 is a graph showing a relationship between a curing time and an adhesive strength for each of the permanent magnet samples of Comparative Example 1 and Comparative Example 5.

【0031】永久磁石 図1に示すように、本実施形態に係る永久磁石2は、磁
石本体4の表面に保護膜6が形成してある。保護膜6の
表面には、リン酸塩被膜8が形成してある。
As shown in the permanent magnet Figure 1, the permanent magnet 2 according to the present embodiment, the protective film 6 on the surface of the magnet body 4 is formed. On the surface of the protective film 6, a phosphate film 8 is formed.

【0032】磁石本体 磁石本体4は、本実施形態では、R(ただし、RはYを
含む希土類元素の一種以上)、TM(ただし、TMはF
eを主成分とする遷移元素)およびBを含むR−TM−
B系希土類磁石である。
The magnet body magnet body 4, in this embodiment, R (wherein, R is one or more rare earth elements including Y), TM (although, TM is F
R-TM- containing a transition element whose main component is e) and B
It is a B-based rare earth magnet.

【0033】R、TMおよびBの含有量は、5.5原子
%≦R≦30原子%、42原子%≦TM≦90原子%、
2原子%≦B≦28原子%、であることが好ましい。
The contents of R, TM and B are 5.5 atomic% ≦ R ≦ 30 atomic%, 42 atomic% ≦ TM ≦ 90 atomic%,
It is preferable that 2 atomic% ≦ B ≦ 28 atomic%.

【0034】希土類元素Rとしては、Nd,Pr,H
o,Tbのうち少なくとも1種、あるいはさらに、L
a,Sm,Ce,Gd,Er,Eu,Pm,Tm,Y
b,Yのうち1種以上を含むものが好ましい。
As the rare earth element R, Nd, Pr, H
at least one of o and Tb, or L
a, Sm, Ce, Gd, Er, Eu, Pm, Tm, Y
Those containing at least one of b and Y are preferred.

【0035】なお、Rとして2種以上の元素を用いる場
合、原料としてミッシュメタル等の混合物を用いること
もできる。
When two or more elements are used as R, a mixture such as misch metal can be used as a raw material.

【0036】Rの含有量は、5.5〜30原子%である
ことが好ましい。Rの含有量が少なすぎると、磁石の結
晶構造がα−鉄と同一構造の立方晶組織となるため、高
い保磁力(iHc)が得られず、多すぎると、Rリッチ
な非磁性相が多くなり、残留磁束密度(Br)が低下す
る。
The R content is preferably 5.5 to 30 atomic%. When the content of R is too small, the crystal structure of the magnet becomes a cubic structure having the same structure as that of α-iron, so that a high coercive force (iHc) cannot be obtained. And the residual magnetic flux density (Br) decreases.

【0037】TMの含有量は42〜90原子%であるこ
とが好ましい。TMの含有量が少なすぎると、Brが低
下し、多すぎると、iHcが低下する。なお、Feの一
部をCoで置換することにより、磁気特性を損うことな
く温度特性を改善することができる。この場合、Co置
換量がFeの50%を超えると磁気特性が劣化するた
め、Co置換量は50%以下とすることが好ましい。
The content of TM is preferably from 42 to 90 atomic%. If the content of TM is too small, Br decreases, and if it is too large, iHc decreases. By substituting a part of Fe with Co, the temperature characteristics can be improved without impairing the magnetic characteristics. In this case, if the amount of Co substitution exceeds 50% of Fe, the magnetic properties deteriorate, so the amount of Co substitution is preferably set to 50% or less.

【0038】Bの含有量は、2〜28原子%であること
が好ましい。Bの含有量が少なすぎると、磁石の結晶構
造が菱面体組織となるためiHcが不十分であり、多す
ぎると、Bリッチな非磁性相が多くなるため、Brが低
下する。
The B content is preferably from 2 to 28 atomic%. If the B content is too small, the crystal structure of the magnet becomes a rhombohedral structure, resulting in insufficient iHc. If the B content is too large, the B-rich nonmagnetic phase increases, and the Br decreases.

【0039】また、R、TMおよびBの他、不可避的不
純物として、Ni,Si,Al,Cu,Ca等が全体の
3原子%以下含有されていてもよい。
Further, in addition to R, TM, and B, Ni, Si, Al, Cu, Ca and the like may be contained as unavoidable impurities at 3 atomic% or less of the whole.

【0040】さらに、Bの一部を、C,P,S,Cuの
うちの1種以上で置換することにより、生産性の向上お
よび低コスト化が実現できる。この場合、置換量は全体
の4原子%以下であることが好ましい。また、保磁力の
向上、生産性の向上、低コスト化のために、Al,T
i,V,Cr,Mn,Bi,Nb,Ta,Mo,W,S
b,Ge,Sn,Zr,Ni,Si,Hf等の1種以上
を添加してもよい。この場合、添加量は総計で10原子
%以下とすることが好ましい。
Further, by replacing a part of B with one or more of C, P, S, and Cu, it is possible to improve productivity and reduce costs. In this case, the substitution amount is preferably at most 4 atomic%. In order to improve coercive force, improve productivity, and reduce costs, Al, T
i, V, Cr, Mn, Bi, Nb, Ta, Mo, W, S
One or more of b, Ge, Sn, Zr, Ni, Si, Hf and the like may be added. In this case, it is preferable that the total amount be 10 atomic% or less.

【0041】本実施形態における磁石本体4は、実質的
に正方晶系の結晶構造の主相を有する。この主相の粒径
は、1〜100μm程度であることが好ましい。そし
て、通常、体積比で1〜50%の非磁性相を含むもので
ある。
The magnet main body 4 in this embodiment has a main phase having a substantially tetragonal crystal structure. The particle size of the main phase is preferably about 1 to 100 μm. And it usually contains 1 to 50% of a non-magnetic phase by volume ratio.

【0042】保護膜 保護膜6は、電気メッキ法により形成されたメッキ膜で
構成される。メッキ膜はニッケルを主成分として含有す
ることが好ましい。ニッケルを主成分とすることによ
り、保護膜6の強度を高め、優れた防錆効果を発揮でき
る。
Protective Film The protective film 6 is composed of a plating film formed by an electroplating method. The plating film preferably contains nickel as a main component. By using nickel as a main component, the strength of the protective film 6 can be increased and an excellent rust prevention effect can be exhibited.

【0043】保護膜6としては、磁石本体4の寸法・形
状に応じてラックメッキ、またはバレルメッキが適宜選
択される。電気メッキ法により形成されたニッケルメッ
キ膜からなる保護膜6は、優れた耐食性を得るために無
欠陥である必要があることから、保護膜6の厚みT1
は、好ましくは10〜30μm、より好ましくは10〜
20μm程度である。
As the protective film 6, rack plating or barrel plating is appropriately selected according to the size and shape of the magnet main body 4. The protective film 6 made of a nickel plating film formed by the electroplating method needs to be defect-free in order to obtain excellent corrosion resistance.
Is preferably 10 to 30 μm, more preferably 10 to 30 μm.
It is about 20 μm.

【0044】なお、保護膜6を構成するニッケルメッキ
膜の種類により、接着性が大幅に変化することはない。
しかしながら、磁石本体4と保護膜6との界面にかかる
応力の集中を低減させて、接着強度をより高めるために
は、磁石本体4と保護膜6との間に下地層(図示省略)
をさらに有することが好ましい。下地層は、Cuを主成
分として含有することが好ましい。このような下地層を
設けた場合に、接着後の磁石体に荷重がかかったとき
に、Cuが柔らかいために磁石体との界面の一カ所に応
力が集中することを抑制する働きがあり、接着強度が向
上する。下地層の厚みは、特に限定されないが、好まし
くは5〜10μm程度である。
The adhesiveness does not change significantly depending on the type of the nickel plating film constituting the protective film 6.
However, in order to reduce the concentration of stress applied to the interface between the magnet main body 4 and the protective film 6 and further increase the adhesive strength, a base layer (not shown) is provided between the magnet main body 4 and the protective film 6.
It is preferable to further have The underlayer preferably contains Cu as a main component. In the case where such an underlayer is provided, when a load is applied to the magnet body after bonding, it has a function of suppressing concentration of stress at one portion of the interface with the magnet body because Cu is soft, The bonding strength is improved. The thickness of the underlayer is not particularly limited, but is preferably about 5 to 10 μm.

【0045】リン酸塩被膜 リン酸塩被膜8は、リン酸塩処理により形成される。リ
ン酸塩被膜8の厚みT2は、本実施形態では、0.1μ
m未満、好ましくは0.01μm以下である。リン酸塩
が厚く積層すると、リン酸塩被膜8にかかる内部応力が
大きくなり、接着試験を行うと、リン酸塩被膜8が簡単
に破壊される。また、接着剤の硬化条件によってはリン
酸塩の結晶水が蒸発し、リン酸塩被膜8にクラックが生
じることがある。被膜8の厚みT2を0.1μm未満と
することにより、リン酸塩被膜8が結晶構造として顕微
鏡で観察できないレベルとなり、厚膜で生じていた不具
合が払拭される。
Phosphate Coating The phosphate coating 8 is formed by a phosphate treatment. In this embodiment, the thickness T2 of the phosphate coating 8 is 0.1 μm.
m, preferably 0.01 μm or less. When the phosphate is laminated thickly, the internal stress applied to the phosphate coating 8 increases, and when the adhesion test is performed, the phosphate coating 8 is easily broken. Further, depending on the curing conditions of the adhesive, the water of crystallization of the phosphate evaporates, and cracks may occur in the phosphate coating 8. By setting the thickness T2 of the coating 8 to less than 0.1 μm, the phosphate coating 8 has a crystal structure at a level that cannot be observed with a microscope, and the problem caused by the thick coating is eliminated.

【0046】なお、リン酸塩被膜8が及ぼす接着強度向
上効果、特に嫌気性アクリル系接着剤に対する硬化性の
向上は、保護膜6の表面にリン酸塩被膜8が存在すれば
発現するため、リン酸塩被膜8の厚みT2の下限は、
0.001μm程度、好ましくは0.005μm程度で
ある。
The effect of improving the adhesive strength exerted by the phosphate film 8, particularly, the curability of the anaerobic acrylic adhesive, is improved when the phosphate film 8 is present on the surface of the protective film 6. The lower limit of the thickness T2 of the phosphate coating 8 is:
It is about 0.001 μm, preferably about 0.005 μm.

【0047】永久磁石の製造方法 次に、本実施形態に係る永久磁石2の製造方法の一例を
説明する。
The manufacturing method of a permanent magnet Next, an example of a manufacturing method of a permanent magnet 2 according to the present embodiment.

【0048】(1)まず、磁石本体を製造する。磁石本
体4の製造には、粉末冶金法を用いることが好ましい。
粉末冶金法による磁石本体4の製造は、以下のようにし
て行われる。
(1) First, a magnet main body is manufactured. It is preferable to use a powder metallurgy method for manufacturing the magnet main body 4.
The manufacture of the magnet main body 4 by the powder metallurgy method is performed as follows.

【0049】まず、所望の組成の合金を、鋳造法やスト
リップキャスト法などの各種合金製造プロセスを用いて
作製する。次いで、得られた合金を、ジョークラッシャ
ー、ブラウンミル、スタンプミルなどの粗粉砕機を用い
て10〜100μm程度の粒径に粗粉砕した後、ジェッ
トミル、アトライターなどの微粉砕機により0.5〜5
μm程度の粒径に微粉砕する。次いで、得られた粉末
を、好ましくは磁場中にて成型する。成型時の磁場強度
は、好ましくは600kA/m以上である。成型圧力
は、好ましくは0.5〜5ton/cm程度であ
る。次いで、得られた成型体を、1000〜1200℃
で0.5〜10時間、焼結し、急冷する。焼結時の雰囲
気は、Arガス等の不活性ガスであることが好ましい。
この後、好ましくは不活性ガス雰囲気中で500〜90
0℃にて1〜5時間、熱処理(時効処理)を行う。
First, an alloy having a desired composition is manufactured by using various alloy manufacturing processes such as a casting method and a strip casting method. Next, the obtained alloy is roughly pulverized to a particle size of about 10 to 100 μm using a coarse pulverizer such as a jaw crusher, a brown mill, a stamp mill, and the like. 5-5
Finely pulverize to a particle size of about μm. Next, the obtained powder is molded preferably in a magnetic field. The magnetic field strength during molding is preferably at least 600 kA / m. The molding pressure is preferably about 0.5 to 5 ton / cm 2 . Next, the obtained molded body is subjected to 1000 to 1200 ° C.
And quenched for 0.5 to 10 hours. The atmosphere during sintering is preferably an inert gas such as Ar gas.
After that, it is preferably 500 to 90 in an inert gas atmosphere.
Heat treatment (aging treatment) is performed at 0 ° C. for 1 to 5 hours.

【0050】製造された磁石本体4は、たとえばRがN
dである場合に、特に磁気特性に優れるが、C軸と垂直
な方向に負の膨張係数を有することが知られている。
The manufactured magnet main body 4 has, for example, R = N
In the case of d, it is known that it has particularly excellent magnetic properties, but has a negative expansion coefficient in a direction perpendicular to the C axis.

【0051】(2)次に、得られた磁石本体4の表面を
脱脂処理した後、酸による化学エッチングを施し、前記
磁石本体4の表面を清浄化する(第1前処理)。この第
1前処理は、本発明では任意の処理であるが、脱脂処理
を行うことにより磁石本体4の表面の汚れを除去でき、
確実に保護膜6を形成できるメリットがある。なお、脱
脂処理前に、磁石本体4の表面のバリなどを取り除くた
め、バレル研磨を行ってもよい。
(2) Next, the surface of the magnet body 4 obtained is degreased, and then chemically etched with an acid to clean the surface of the magnet body 4 (first pretreatment). This first pretreatment is an optional treatment in the present invention, but by performing a degreasing treatment, the surface of the magnet main body 4 can be stained,
There is a merit that the protective film 6 can be reliably formed. Before the degreasing treatment, barrel polishing may be performed to remove burrs and the like on the surface of the magnet main body 4.

【0052】脱脂処理で用いる脱脂液は、通常の鉄鋼用
に使用されているものであれば特に限定されない。一般
にNaOHを主成分として、その他添加剤は特定するも
のでない。
The degreasing solution used in the degreasing treatment is not particularly limited as long as it is used for ordinary steel. Generally, NaOH is a main component, and other additives are not specified.

【0053】化学エッチングで使用する酸としては、硝
酸を用いることが好ましい。一般の鋼材にメッキ処理を
施す場合、塩酸、硫酸等の非酸化性の酸が用いられるこ
とが多い。しかし、本実施形態での磁石本体4のよう
に、磁石本体が希土類元素を含む場合には、これらの酸
を用いて処理を行うと、酸により発生する水素が磁石本
体の表面に吸蔵され、吸蔵部位が脆化して多量の粉状未
溶解物が発生する。この粉状未溶解物は、表面処理後の
面粗れ、欠陥および密着不良を引き起こすため、上述し
た非酸化性の酸を化学エッチング処理液に含有させない
ことが好ましい。したがって、水素の発生が少ない酸化
性の酸である硝酸を用いることが好ましく、さらにアル
ドン酸またはその塩が同時に含有されているのが表面に
目視で確認不可なレベルの凹凸が形成され、塗膜の密着
力が向上するのでより一層好ましい。なお、このような
密着性の向上は、アルドン酸またはその塩によって選択
的に実現し、他の有機酸、例えばクエン酸、酒石酸等で
は実現しない。
It is preferable to use nitric acid as the acid used in the chemical etching. When plating a general steel material, a non-oxidizing acid such as hydrochloric acid or sulfuric acid is often used. However, when the magnet body contains a rare earth element, such as the magnet body 4 in the present embodiment, when the treatment is performed using these acids, hydrogen generated by the acids is occluded on the surface of the magnet body, The storage site becomes brittle and a large amount of undissolved powder is generated. Since this powdery undissolved substance causes surface roughness, defects and poor adhesion after the surface treatment, it is preferable that the above-mentioned non-oxidizing acid is not contained in the chemical etching treatment solution. Therefore, it is preferable to use nitric acid, which is an oxidizing acid that generates less hydrogen.Also, aldonic acid or a salt thereof is simultaneously contained. Is more preferable because the adhesion of the film is improved. In addition, such an improvement in adhesiveness is selectively realized by aldonic acid or a salt thereof, and is not realized by another organic acid such as citric acid or tartaric acid.

【0054】このような前処理による磁石本体4の表面
の溶解量は、表面から平均厚みで5μm以上、好ましく
は10〜15μmとするのが好適である。溶解量が少な
すぎると、磁石本体の表面の加工による変質層や酸化層
を完全に除去できないために、後述する保護膜6が正常
に磁石本体4の表面に形成されず、耐食性を悪化させて
しまう。
The amount of dissolution of the surface of the magnet body 4 by such pretreatment is preferably 5 μm or more, preferably 10 to 15 μm in average thickness from the surface. If the amount of dissolution is too small, the deteriorated layer and the oxidized layer due to the processing of the surface of the magnet main body cannot be completely removed, so that a protective film 6 described later is not normally formed on the surface of the magnet main body 4 and deteriorates the corrosion resistance. I will.

【0055】前処理に用いられる処理液の硝酸濃度は、
好ましくは1規定以下、特に好ましくは0.5規定以下
である。硝酸濃度が高すぎると、磁石本体4の溶解速度
が極めて速く、溶解量の制御が困難となり、特にバレル
処理のような大量処理ではバラツキが大きくなり、製品
の寸法精度が維持できない。また、硝酸濃度が低すぎる
と、溶解量の不足となる。このため、硝酸濃度は1規定
以下、特に0.5〜0.05規定以下とするのが望まし
い。また、処理終了時のFeの溶解量は、1〜10g/
l程度とする。
The nitric acid concentration of the processing solution used for the pretreatment is as follows:
It is preferably at most 1 normal, particularly preferably at most 0.5 normal. If the nitric acid concentration is too high, the dissolution rate of the magnet main body 4 is extremely high, and it is difficult to control the dissolution amount. In particular, in large-scale processing such as barrel processing, the dispersion becomes large, and the dimensional accuracy of the product cannot be maintained. On the other hand, if the nitric acid concentration is too low, the dissolved amount will be insufficient. For this reason, the nitric acid concentration is desirably 1 normal or less, particularly preferably 0.5 to 0.05 normal or less. The amount of Fe dissolved at the end of the treatment is 1 to 10 g /
about l.

【0056】前処理を行った磁石本体4の表面から少量
の未溶解物、残留酸成分を完全に除去するため、超音波
を使用した洗浄を実施することが好ましい。この超音波
洗浄は、磁石本体4の表面に錆を発生させる塩素イオン
が極めて少ないイオン交換水の中で行うのが好ましい。
また、前記超音波洗浄の前後、および前記前処理の各過
程で必要に応じて同様な水洗を行ってもよい。
In order to completely remove a small amount of undissolved substances and residual acid components from the surface of the pretreated magnet body 4, it is preferable to carry out cleaning using ultrasonic waves. This ultrasonic cleaning is preferably performed in ion-exchanged water in which the chlorine ions that generate rust on the surface of the magnet main body 4 are extremely small.
Further, similar water washing may be performed before and after the ultrasonic cleaning and in each step of the pretreatment as needed.

【0057】(3)次に、前処理が施された磁石本体4
の表面に、電気メッキ法により保護膜6を形成する。電
気メッキ法を用いて保護膜6を形成することで、高性能
耐食膜である保護膜6を低コストで形成できる。Niの
電気メッキに用いるメッキ浴としては、塩化ニッケルを
含有しないワット浴(すなわち、硫酸ニッケルおよびほ
う酸を主成分とする)、スルファミン酸浴、ほうフッ化
浴、臭化ニッケル浴などが挙げられる。ただし、この場
合、陽極の溶解が少なくなるため、ニッケルイオンを浴
に補充することが好ましい。ニッケルイオンは、硫酸ニ
ッケルあるいは臭化ニッケルの溶液として補充するのが
好ましい。
(3) Next, the pretreated magnet body 4
A protective film 6 is formed on the surface of the substrate by electroplating. By forming the protective film 6 using the electroplating method, the protective film 6 that is a high-performance corrosion-resistant film can be formed at low cost. Examples of the plating bath used for the electroplating of Ni include a Watt bath containing no nickel chloride (that is, containing nickel sulfate and boric acid as main components), a sulfamic acid bath, a borofluoride bath, and a nickel bromide bath. However, in this case, it is preferable to replenish the bath with nickel ions because the dissolution of the anode is reduced. The nickel ions are preferably replenished as a solution of nickel sulfate or nickel bromide.

【0058】なお、前処理後の磁石本体4の表面に保護
膜6を形成する前に、たとえばCuを主成分として含有
する下地層(図示省略)を形成する場合には、磁石本体
4の表面に対してCuの置換析出を防止するため、pH
7〜10の弱アルカリ浴中で処理することが好ましい。
Cuを主成分として含有する下地層を形成する場合にお
いて、上述したニッケルメッキ浴は、上述した例示に限
定されるものでなく、塩化ニッケルを含有した浴でニッ
ケルメッキ膜からなる保護膜6を形成しても耐食性を損
なうものではない。すなわちこの場合、塩化ニッケルを
含有する浴を用いて保護膜6を形成してもよい。
In addition, before forming the protective film 6 on the surface of the magnet body 4 after the pretreatment, for example, when forming an underlayer containing Cu as a main component (not shown), the surface of the magnet body 4 may be formed. PH to prevent the substitutional precipitation of Cu
The treatment is preferably performed in a weak alkaline bath of 7 to 10.
In the case of forming the underlayer containing Cu as a main component, the above-mentioned nickel plating bath is not limited to the above-described example, and the protective film 6 made of a nickel plating film is formed in a bath containing nickel chloride. Even this does not impair the corrosion resistance. That is, in this case, the protective film 6 may be formed using a bath containing nickel chloride.

【0059】(4)次に、保護膜6の表面を脱脂処理し
た後、純水で十分に表面を清浄化する(第2前処理)。
この第2前処理も本発明では任意の処理であるが、脱脂
処理を行うことにより保護膜6の表面に付着した汚れ
(光沢剤などの有機物)を除去でき、確実にリン酸塩被
膜8を形成できるメリットがある。
(4) Next, after the surface of the protective film 6 is degreased, the surface is sufficiently cleaned with pure water (second pretreatment).
This second pretreatment is also optional in the present invention, but by performing a degreasing treatment, dirt (organic substances such as a brightener) adhered to the surface of the protective film 6 can be removed, and the phosphate film 8 can be reliably formed. There is a merit that can be formed.

【0060】脱脂処理で用いる脱脂液は、有機物を除去
できるものであれば特に限定されないが、アルカリ溶液
を使用することが最も効果が高く好ましい。アルカリ溶
液は、NaOHを主成分とした、通常の鉄鋼用に使用さ
れているものであればよく、その他添加剤は特定するも
のでない。
The degreasing solution used in the degreasing treatment is not particularly limited as long as it can remove organic substances, but the use of an alkaline solution is the most effective and preferable. The alkaline solution only needs to be used for ordinary iron and steel containing NaOH as a main component, and other additives are not specified.

【0061】(5)次に、保護膜6の表面にリン酸塩処
理を行い、リン酸塩被膜8を形成する。具体的には、所
定の濃度および温度に調整されたリン酸塩浴に、保護膜
6が形成された磁石本体4を浸漬し、保護膜6の表面に
リン酸塩被膜8を形成する。
(5) Next, a phosphate treatment is performed on the surface of the protective film 6 to form a phosphate coating 8. Specifically, the magnet main body 4 on which the protective film 6 is formed is immersed in a phosphate bath adjusted to a predetermined concentration and temperature, and a phosphate film 8 is formed on the surface of the protective film 6.

【0062】リン酸塩処理に用いる処理液としては、リ
ン酸錫処理液、リン酸鉄処理液、リン酸マンガン処理
液、リン酸亜鉛処理液、リン酸亜鉛カルシウム処理液な
どが例示される。これらの処理溶液のいずれかを使用す
れば、ニッケルメッキ膜からなる保護膜6に接着効果が
付与される。これらの中の一例としてのリン酸亜鉛処理
液の成分としては、特に限定されないが、亜鉛イオン、
リン酸イオン、硝酸イオンなどが例示される。これら各
イオンの好ましい濃度は、亜鉛イオン:0.4〜3.0
g/l、特に0.5〜2.0g/l、リン酸イオン:5
〜40g/l、特に7〜30g/l、硝酸イオン:2〜
30g/l、特に2〜10g/l、である。
Examples of the treatment liquid used for the phosphate treatment include a tin phosphate treatment liquid, an iron phosphate treatment liquid, a manganese phosphate treatment liquid, a zinc phosphate treatment liquid, and a zinc calcium phosphate treatment liquid. If any of these treatment solutions is used, an adhesion effect is imparted to the protective film 6 made of a nickel plating film. The components of the zinc phosphate treatment liquid as an example of these are not particularly limited, and include zinc ions,
Examples thereof include a phosphate ion and a nitrate ion. The preferred concentration of each of these ions is zinc ion: 0.4 to 3.0.
g / l, especially 0.5 to 2.0 g / l, phosphate ion: 5
-40 g / l, especially 7-30 g / l, nitrate ion: 2
30 g / l, especially 2 to 10 g / l.

【0063】亜鉛イオン濃度が低すぎると、保護膜6の
表面に均一なリン酸塩被膜8を形成できない傾向があ
る。一方、亜鉛イオン濃度が高すぎると、リン酸塩被膜
8の厚みT2が厚くなりすぎ、接着強度が不十分となる
傾向がある。
When the zinc ion concentration is too low, there is a tendency that a uniform phosphate film 8 cannot be formed on the surface of the protective film 6. On the other hand, if the zinc ion concentration is too high, the thickness T2 of the phosphate coating 8 tends to be too large, and the adhesive strength tends to be insufficient.

【0064】リン酸イオン濃度が低すぎると、均一なリ
ン酸塩被膜8を形成できない傾向がある。一方、リン酸
イオン濃度が高すぎると、リン酸塩被膜8の形成効果の
向上が期待できない。
If the phosphate ion concentration is too low, there is a tendency that a uniform phosphate coating 8 cannot be formed. On the other hand, if the phosphate ion concentration is too high, improvement in the effect of forming the phosphate coating 8 cannot be expected.

【0065】硝酸イオンは、ニッケルメッキ膜からなる
保護膜6上へのリン酸塩被膜8の形成促進剤として添加
される。硝酸イオン濃度が低すぎると、ほとんどニッケ
ルメッキ膜からなる保護膜6の溶解が起こらないため、
保護膜6の表面にリン酸塩被膜8を形成できない傾向が
ある。一方、硝酸イオン濃度が高すぎると、それ以上の
被膜形成効果が期待できないのみならず、ニッケルの不
動態化を促進し、リン酸塩被膜8の形成を阻害する傾向
がある。
The nitrate ion is added as an accelerator for forming the phosphate film 8 on the protective film 6 made of a nickel plating film. If the nitrate ion concentration is too low, the protective film 6 composed of a nickel plating film hardly dissolves.
There is a tendency that the phosphate film 8 cannot be formed on the surface of the protective film 6. On the other hand, if the nitrate ion concentration is too high, not only the further effect of forming a film cannot be expected, but also the passivation of nickel is promoted and the formation of the phosphate film 8 tends to be inhibited.

【0066】その他のリン酸塩処理溶液、即ちリン酸マ
ンガン、リン酸鉄、リン酸亜鉛カルシウム等において
も、リン酸亜鉛と同じ要領で処理を行うことが可能であ
る。
It is possible to treat other phosphating solutions, that is, manganese phosphate, iron phosphate, calcium zinc phosphate, etc., in the same manner as zinc phosphate.

【0067】また、アルミニウムのリン酸亜鉛処理の場
合、被膜形成促進剤としてペルオキシドおよびフッ化物
が使用されているが、Ni表面を粗し過ぎて接着強度を
低下させることがある。このため、反応が比較的緩やか
に進行する硝酸イオンを用いるのが好ましい。
In the case of treating aluminum with zinc phosphate, peroxides and fluorides are used as film-forming accelerators. However, the surface of the Ni may be excessively roughened to lower the adhesive strength. Therefore, it is preferable to use nitrate ions in which the reaction proceeds relatively slowly.

【0068】処理液のpHは、4以下であることが好ま
しい。処理液のpHが高すぎると、処理液中にリン酸亜
鉛が溶解できず、リン酸塩の形態が変化し、スラッジ化
して溶液中に沈殿するため、ニッケルメッキ膜からなる
保護膜6の表面にリン酸塩被膜が形成されない傾向があ
るからである。なお、処理液のpHが低すぎると、リン
酸塩被膜8の形成を妨げ、ニッケルメッキ膜からなる保
護膜6を侵し耐湿性を損なうおそれがあるので、その下
限は好ましくは2である。
The pH of the treatment liquid is preferably 4 or less. If the pH of the processing solution is too high, zinc phosphate cannot be dissolved in the processing solution, the form of the phosphate changes, sludges and precipitates in the solution, and thus the surface of the protective film 6 made of a nickel plating film. This is because there is a tendency that no phosphate film is formed. If the pH of the treatment liquid is too low, the formation of the phosphate coating 8 is hindered, and the protection film 6 made of a nickel plating film may be damaged, thereby impairing the moisture resistance. Therefore, the lower limit thereof is preferably 2.

【0069】上記範囲の浴組成における処理温度は、通
常の鉄鋼で行われる条件でも得られる接着性に何ら問題
を生じないので特に限定されない。しかしながら、処理
温度が低すぎると、処理液中での反応が乏しく処理性が
低下する傾向がある。一方、処理温度が高すぎると、シ
ミなどが発生して美観を損なうおそれがあるので、処理
温度は、好ましくは20〜50℃、より好ましくは30
〜50℃である。
The treatment temperature in the above range of bath composition is not particularly limited, since there is no problem in the adhesiveness obtained even under the conditions used for ordinary steel. However, if the processing temperature is too low, the reaction in the processing solution tends to be poor and the processability tends to decrease. On the other hand, if the processing temperature is too high, spots and the like may occur and the appearance may be impaired, so the processing temperature is preferably 20 to 50 ° C, more preferably 30 to
5050 ° C.

【0070】上記範囲の浴組成における処理時間は、好
ましくは3〜30分、より好ましくは5〜15分であ
る。処理時間が短すぎると、保護膜6の表面に処理液が
十分に接触せず、反応不十分となり均一なリン酸塩被膜
8を形成できない傾向がある。一方、処理時間が長すぎ
ると、リン酸塩被膜8の厚みT2が0.1μm以上とな
り、接着強度が低下する傾向がある。すなわち処理時間
を特定範囲にすることで、0.1μm未満の厚みを持つ
リン酸塩被膜8を生産レベルで安定的に成膜できる。
The treatment time in the bath composition in the above range is preferably 3 to 30 minutes, more preferably 5 to 15 minutes. If the treatment time is too short, the treatment liquid does not sufficiently contact the surface of the protective film 6, and the reaction becomes insufficient, and there is a tendency that a uniform phosphate film 8 cannot be formed. On the other hand, if the treatment time is too long, the thickness T2 of the phosphate coating 8 becomes 0.1 μm or more, and the adhesive strength tends to decrease. That is, by setting the treatment time to a specific range, the phosphate film 8 having a thickness of less than 0.1 μm can be stably formed at the production level.

【0071】(6)次に、純水で洗浄を行い、乾燥す
る。このとき、通常は80〜150℃で乾燥を行い表面
の水分を除去するが、工程簡略化のためアルコール浸漬
して風乾することも好ましい。保護膜6の表面に形成さ
れたリン酸塩被膜8は、顕微鏡で観察できないレベルの
被膜であるため、水分がある程度除去されていれば、厚
膜のような乾燥時の水分蒸発(結晶水含む)による被膜
クラック等がほとんど生じない。
(6) Next, the substrate is washed with pure water and dried. At this time, drying is usually performed at 80 to 150 ° C. to remove moisture on the surface, but it is also preferable to immerse in alcohol and air-dry to simplify the process. Since the phosphate film 8 formed on the surface of the protective film 6 is a film at a level that cannot be observed with a microscope, if a certain amount of water is removed, the water evaporates during drying such as a thick film (including crystal water). ) Hardly causes cracks or the like.

【0072】(7)以上の工程を経ることにより、図1
に示す本実施形態に係る永久磁石2が製造される。
(7) Through the above steps, FIG.
The permanent magnet 2 according to the embodiment shown in FIG.

【0073】以上、本発明の実施形態について説明して
きたが、本発明はこうした実施形態に何等限定されるも
のではなく、本発明の要旨を逸脱しな範囲内において種
々なる態様で実施し得ることは勿論である。
Although the embodiments of the present invention have been described above, the present invention is not limited to these embodiments, and can be implemented in various modes without departing from the gist of the present invention. Of course.

【0074】[0074]

【実施例】以下、本発明を、さらに詳細な実施例に基づ
き説明するが、本発明はこれら実施例に限定されない。
EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be described based on more detailed examples, but the present invention is not limited to these examples.

【0075】実施例1 粉末冶金法によって作成した、14.7Nd―79.2
Fe―6.1B(数字は原子比)の組成からなる鋳塊
を、粗粉砕し、さらに不活性ガスによるジェットミル粉
砕で平均粒径が約3.5μmの微粉末を得た。得られた
微粉末を、磁場成型し、焼結、熱処理を経て焼結体を得
た。得られた焼結体を、10mm×20mm×厚さ5m
mの大きさに切り出し加工し、さらにバレル研磨処理に
より面取りを行って、永久磁石本体を得た。
Example 1 14.7Nd-79.2 prepared by powder metallurgy
An ingot having a composition of Fe-6.1B (the number is an atomic ratio) was roughly pulverized, and further subjected to jet mill pulverization with an inert gas to obtain a fine powder having an average particle size of about 3.5 μm. The obtained fine powder was subjected to magnetic field molding, sintering, and heat treatment to obtain a sintered body. The obtained sintered body is 10 mm × 20 mm × 5 m thick
m, and chamfered by barrel polishing to obtain a permanent magnet main body.

【0076】次いで、この永久磁石本体のサンプルを、
アルカリ性脱脂液で洗浄後、エッチングの工程を経て、
電気ニッケルメッキを行い、永久磁石本体の表面に、電
気ニッケルメッキ膜からなる保護膜を形成した。電気ニ
ッケルメッキ膜からなる保護膜の膜厚は15μmであっ
た。
Next, a sample of this permanent magnet body was
After washing with alkaline degreasing solution, through the etching process,
An electric nickel plating was performed to form a protective film made of an electric nickel plated film on the surface of the permanent magnet main body. The thickness of the protective film made of the electro-nickel plating film was 15 μm.

【0077】次いで、保護膜が形成された永久磁石本体
を、アルカリ溶液(メルテックス(株)製、エンドック
スQ−576S)で脱脂した後、純水洗浄を行った。
Next, the permanent magnet body on which the protective film was formed was degreased with an alkaline solution (manufactured by Meltex Co., Ltd., Endox Q-576S) and then washed with pure water.

【0078】次いで、下記に示す組成のフッ化物を含ま
ない処理液を用いてリン酸塩(リン酸亜鉛)処理を行っ
た。 亜鉛イオン : 1.0g/l、 リン酸イオン :15.0g/l、 硝酸イオン : 3.2g/l、 処理温度 :50℃、 浸漬時間 :5分。
Next, a phosphate (zinc phosphate) treatment was performed using a fluoride-free treatment solution having the following composition. Zinc ion: 1.0 g / l, phosphate ion: 15.0 g / l, nitrate ion: 3.2 g / l, treatment temperature: 50 ° C., immersion time: 5 minutes.

【0079】浸漬後、純水で洗浄を行い100℃、10
分の条件で乾燥を行い、永久磁石サンプルを得た。リン
酸亜鉛被膜の膜厚を、SEM(Scanning Electron Micr
oscope)で観察したところ、0.1μm未満であった。
After immersion, washing with pure water is performed,
Drying was performed under the conditions of minutes to obtain a permanent magnet sample. The thickness of the zinc phosphate coating was adjusted by SEM (Scanning Electron Micr).
(microscope), it was less than 0.1 μm.

【0080】実施例2 リン酸塩処理における処理液への浸漬時間を30分とし
た以外は、実施例1と同様にして、永久磁石サンプルを
得た。リン酸亜鉛被膜の膜厚を、SEMで観察したとこ
ろ、実施例1と同様に0.1μm未満であった。
Example 2 A permanent magnet sample was obtained in the same manner as in Example 1 except that the immersion time in the treatment solution in the phosphate treatment was changed to 30 minutes. When the thickness of the zinc phosphate coating was observed by SEM, it was less than 0.1 μm as in Example 1.

【0081】実施例3 下記に示す処理液を用いてリン酸塩(リン酸マンガン)
処理を行った以外は、実施例1と同様にして、永久磁石
サンプルを得た。リン酸マンガン被膜の膜厚を、SEM
で観察したところ、実施例1と同様に0.1μm未満で
あった。
Example 3 Phosphate (manganese phosphate) was prepared by using the following treatment solutions.
A permanent magnet sample was obtained in the same manner as in Example 1 except that the treatment was performed. Determine the thickness of the manganese phosphate coating by SEM
As a result, it was less than 0.1 μm as in Example 1.

【0082】 マンガンイオン: 1.2g/l、 鉄イオン : 0.3g/l、 リン酸イオン :16.0g/l、 硝酸イオン : 4.0g/l。Manganese ion: 1.2 g / l, iron ion: 0.3 g / l, phosphate ion: 16.0 g / l, nitrate ion: 4.0 g / l.

【0083】実施例4 下記に示す処理液を用いてリン酸塩(リン酸亜鉛カルシ
ウム)処理を行った以外は、実施例1と同様にして、永
久磁石サンプルを得た。リン酸亜鉛カルシウム被膜の膜
厚を、SEMで観察したところ、実施例1と同様に0.
1μm未満であった。
Example 4 A permanent magnet sample was obtained in the same manner as in Example 1 except that a phosphate (zinc calcium phosphate) treatment was performed using the treatment solution shown below. When the film thickness of the zinc calcium phosphate film was observed with a SEM, it was found that the film thickness was 0.1 mm as in Example 1.
It was less than 1 μm.

【0084】 亜鉛イオン : 1.0g/l、 カルシウムイオン: 0.3g/l、 リン酸イオン :14.0g/l、 硝酸イオン : 3.0g/l。Zinc ion: 1.0 g / l, calcium ion: 0.3 g / l, phosphate ion: 14.0 g / l, nitrate ion: 3.0 g / l.

【0085】比較例1 リン酸亜鉛処理を行わなかった以外は、実施例1と同様
にして、永久磁石サンプルを得た。
Comparative Example 1 A permanent magnet sample was obtained in the same manner as in Example 1 except that the zinc phosphate treatment was not performed.

【0086】比較例2 フッ化物を含む酸(日本マグダーミッド(株)製、メテ
ックスアシッドソルトM−629、120g/l)から
なる処理液を用いてリン酸亜鉛処理を行った以外は、実
施例1と同様にして、永久磁石サンプルを得た。リン酸
亜鉛被膜の膜厚を、電子顕微鏡を用いて断面観察を行っ
て算出したところ、3μmであった。
Comparative Example 2 Example 1 was repeated except that a zinc phosphate treatment was carried out using a treatment solution composed of an acid containing fluoride (Metex Acid Salt M-629, 120 g / l, manufactured by Nippon Magdermid Co., Ltd.). In the same manner as in the above, a permanent magnet sample was obtained. The thickness of the zinc phosphate film was 3 μm when calculated by observing a cross section using an electron microscope.

【0087】比較例3 下記に示す処理液を用いてリン酸亜鉛処理を行った以外
は、実施例1と同様にして、永久磁石サンプルを得た。
リン酸亜鉛被膜の膜厚を、比較例2と同様にして算出し
たところ、8μmであった。
Comparative Example 3 A permanent magnet sample was obtained in the same manner as in Example 1 except that zinc phosphate treatment was performed using the treatment liquids described below.
When the film thickness of the zinc phosphate film was calculated in the same manner as in Comparative Example 2, it was 8 μm.

【0088】 亜鉛イオン : 1.0g/l、 リン酸イオン :15.0g/l、 硝酸イオン : 3.2g/l、 珪フッ化水素酸: 2.0g/l。Zinc ion: 1.0 g / l, phosphate ion: 15.0 g / l, nitrate ion: 3.2 g / l, hydrosilicofluoric acid: 2.0 g / l.

【0089】比較例4 下記に示す処理液を用いてリン酸亜鉛処理を行った以外
は、実施例1と同様にして、永久磁石サンプルを得た。
リン酸亜鉛被膜の膜厚を、比較例2と同様にして算出し
たところ、12μmであった。
Comparative Example 4 A permanent magnet sample was obtained in the same manner as in Example 1 except that zinc phosphate treatment was performed using the treatment liquid shown below.
When the thickness of the zinc phosphate coating was calculated in the same manner as in Comparative Example 2, it was 12 μm.

【0090】 亜鉛イオン : 1.0g/l、 リン酸イオン :15.0g/l、 硝酸イオン : 3.2g/l、 珪フッ化水素酸: 5.0g/l。Zinc ion: 1.0 g / l, phosphate ion: 15.0 g / l, nitrate ion: 3.2 g / l, hydrosilicofluoric acid: 5.0 g / l.

【0091】比較例5 ニッケルメッキ膜からなる保護膜をアルカリ脱脂した
後、20g/lの無水クロム酸溶液に40℃、10分浸
漬することにより、保護膜の表面にクロメート被膜を形
成した以外は、実施例1と同様にして、永久磁石サンプ
ルを得た。クロメート被膜の膜厚を、比較例2と同様に
して算出したところ、0.8μmであった。
Comparative Example 5 A protective film formed of a nickel plating film was alkali-degreased, and then immersed in a 20 g / l chromic anhydride solution at 40 ° C. for 10 minutes to form a chromate film on the surface of the protective film. In the same manner as in Example 1, a permanent magnet sample was obtained. When the thickness of the chromate film was calculated in the same manner as in Comparative Example 2, it was 0.8 μm.

【0092】評価方法 リン酸亜鉛被膜と接着強度との比較を行うために、以下
の試験を行った。実施例1〜4および比較例1〜5によ
り得られた、それぞれの永久磁石サンプルのリン酸亜鉛
被膜の表面に、嫌気性アクリル系接着剤(ロックタイト
638UV)を0.008〜0.010g程度塗布し、
表面が洗浄された鉄板に圧着した後、100℃に昇温し
た乾燥機に30分投入後、圧縮せん断試験を行った。サ
ンプル数を各10個とし、その平均値を接着強度とし
た。圧縮せん断試験は室温で5mm/分の速度で行っ
た。結果を表1に示す。
Evaluation method The following test was conducted to compare the zinc phosphate coating with the adhesive strength. About 0.008 to 0.010 g of an anaerobic acrylic adhesive (Loctite 638UV) is applied to the surface of the zinc phosphate coating of each permanent magnet sample obtained in Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 to 5. And
After compression bonding to the iron plate whose surface was washed, it was put into a dryer heated to 100 ° C. for 30 minutes, and then subjected to a compression shear test. The number of samples was 10 each, and the average value was taken as the adhesive strength. The compression-shear test was performed at room temperature at a speed of 5 mm / min. Table 1 shows the results.

【0093】硬化時間と接着強度との比較を行うため
に、以下のような試験を行った。実施例1および比較例
1、5により得られた、それぞれの永久磁石サンプルの
リン酸亜鉛被膜の表面に、嫌気性アクリル系接着剤(ロ
ックタイト638UV)を0.002〜0.003g程
度塗布し、表面が洗浄された鉄板に圧着した後、予め1
00℃に昇温した乾燥機に、3分、5分、10分、15
分投入し、取り出し後1分以内に、圧縮せん断試験を行
った。なお、この試験では、サンプル形状を10mm×
5mm×厚さ5mmとし、ハンドプレスで強度測定を行
った。結果を表2および図2に示す。
In order to compare the curing time with the adhesive strength, the following test was conducted. About 0.002 to 0.003 g of an anaerobic acrylic adhesive (Loctite 638UV) was applied to the surface of the zinc phosphate coating of each permanent magnet sample obtained in Example 1 and Comparative Examples 1 and 5, After crimping on a steel plate whose surface has been cleaned,
3 minutes, 5 minutes, 10 minutes, 15 minutes
A compression shear test was carried out within 1 minute after charging. In this test, the sample shape was 10 mm ×
The strength was measured by a hand press with a 5 mm × 5 mm thickness. The results are shown in Table 2 and FIG.

【0094】[0094]

【表1】 [Table 1]

【0095】[0095]

【表2】 [Table 2]

【0096】考察 表1に示すように、リン酸亜鉛被膜の膜厚が0.1μm
未満である実施例1〜4の磁石サンプルでは、比較例1
〜5の磁石サンプルと比較して、接着強度が格段に優れ
てており、しかもそのバラツキが少ないことも確認でき
た。
Consideration As shown in Table 1, the thickness of the zinc phosphate coating was 0.1 μm
In the magnet samples of Examples 1 to 4 which are less than
As compared with the magnet samples of Nos. 5 to 5, the adhesive strength was remarkably excellent, and it was also confirmed that the variation was small.

【0097】表2および図2に示すように、実施例1の
磁石サンプルでは、比較例1および5の磁石サンプルと
比較して、極めて短時間で所定の接着強度が得られるこ
とが確認できた。
As shown in Table 2 and FIG. 2, it was confirmed that the magnet sample of Example 1 can achieve a predetermined adhesive strength in a very short time as compared with the magnet samples of Comparative Examples 1 and 5. .

【0098】[0098]

【発明の効果】以上説明してきたように、本発明によれ
ば、ニッケルメッキ膜に対して反応不活性な接着剤の硬
化不良を効果的に解消し、接着強度のバラツキが小さ
く、大きな接着強度を得ることができ、その結果、接着
作業の効率化を実現できる磁石を提供できる。また本発
明によれば、このような磁石を効率よく製造できる磁石
の製造方法を提供できる。
As described above, according to the present invention, poor curing of an adhesive which is inactive to a nickel plating film can be effectively eliminated, the dispersion of the adhesive strength is small, and the large adhesive strength is achieved. Can be obtained, and as a result, it is possible to provide a magnet capable of realizing an efficient bonding operation. Further, according to the present invention, it is possible to provide a method for manufacturing a magnet capable of efficiently manufacturing such a magnet.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 図1は本発明の一実施形態に係る永久磁石を
示す概略断面図である。
FIG. 1 is a schematic sectional view showing a permanent magnet according to one embodiment of the present invention.

【図2】 図2は実施例1、比較例1および比較例5の
それぞれの永久磁石サンプルについて、硬化時間と接着
強度との関係を示すグラフである。
FIG. 2 is a graph showing the relationship between the curing time and the adhesive strength for each of the permanent magnet samples of Example 1, Comparative Example 1, and Comparative Example 5.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

2… 永久磁石 4… 磁石本体 6… ニッケルメッキ膜からなる保護膜 8… リン酸塩被膜 2 ... permanent magnet 4 ... magnet body 6 ... protective film made of nickel plating film 8 ... phosphate film

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) C23C 22/22 C23C 28/00 C 5E062 28/00 C25D 7/00 K C25D 7/00 H01F 41/02 G H01F 41/02 C22C 38/00 303D // C22C 38/00 303 H01F 1/04 H Fターム(参考) 4K018 AA27 FA24 KA45 KA58 4K024 AA03 AA09 AB02 BA02 BB14 BC07 CB12 DA04 DA07 GA04 4K026 AA02 AA12 BA03 BB10 CA13 CA23 DA16 EA08 EB05 4K044 AA02 AB08 BA06 BA17 BB03 BC02 BC05 CA04 CA16 CA18 5E040 AA04 BC01 BC08 BD01 CA01 HB00 HB14 NN05 NN17 5E062 CC03 CD04 CE04 CF01 CG07──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat ゛ (Reference) C23C 22/22 C23C 28/00 C 5E062 28/00 C25D 7/00 K C25D 7/00 H01F 41/02 G H01F 41/02 C22C 38/00 303D // C22C 38/00 303 H01F 1/04 HF term (reference) 4K018 AA27 FA24 KA45 KA58 4K024 AA03 AA09 AB02 BA02 BB14 BC07 CB12 DA04 DA07 GA04 4K026 AA02 AA12 BA03 BB10 CA13 DA16 EA08 EB05 4K044 AA02 AB08 BA06 BA17 BB03 BC02 BC05 CA04 CA16 CA18 5E040 AA04 BC01 BC08 BD01 CA01 HB00 HB14 NN05 NN17 5E062 CC03 CD04 CE04 CF01 CG07

Claims (10)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 希土類元素を含む磁石本体と、 前記磁石本体の表面に形成されたニッケルメッキ膜から
なる保護膜と、 前記保護膜の表面に形成された0.1μm未満の厚みを
持つリン酸塩被膜とを有する磁石。
1. A magnet body containing a rare earth element, a protection film formed of a nickel plating film formed on a surface of the magnet body, and phosphoric acid having a thickness of less than 0.1 μm formed on a surface of the protection film. A magnet having a salt coating.
【請求項2】 前記リン酸塩被膜が、フッ化物を含まな
い処理液を用いてリン酸塩処理して形成してあることを
特徴とする請求項1に記載の磁石。
2. The magnet according to claim 1, wherein the phosphate film is formed by a phosphate treatment using a treatment solution containing no fluoride.
【請求項3】 前記磁石本体と前記保護膜との間に形成
された、銅を主成分とする下地層をさらに有する請求項
1または2に記載の磁石。
3. The magnet according to claim 1, further comprising an underlayer mainly composed of copper, formed between the magnet main body and the protective film.
【請求項4】 前記磁石本体が、R(ただし、RはYを
含む希土類元素の一種以上)、TM(ただし、TMはF
eを主成分とする遷移元素)およびBを含むR−TM−
B系希土類磁石である請求項1〜3のいずれかに記載の
磁石。
4. The magnet body is composed of R (where R is one or more rare earth elements including Y), TM (where TM is F
R-TM- containing a transition element whose main component is e) and B
The magnet according to any one of claims 1 to 3, which is a B-based rare earth magnet.
【請求項5】 希土類元素を含む磁石本体の表面に、電
気メッキを行い、ニッケルメッキ膜からなる保護膜を形
成する工程と、 前記保護膜の表面に、フッ化物を含まない処理液を用い
てリン酸塩処理を行い、リン酸塩被膜を形成する工程と
を有する磁石の製造方法。
5. A step of performing electroplating on a surface of a magnet main body containing a rare earth element to form a protective film made of a nickel plating film, and using a processing solution containing no fluoride on the surface of the protective film. Performing a phosphate treatment to form a phosphate coating.
【請求項6】 前記リン酸塩処理が、リン酸錫処理、リ
ン酸鉄処理、リン酸マンガン処理、リン酸亜鉛処理およ
びリン酸亜鉛カルシウム処理、のいずれかである請求項
5に記載の磁石の製造方法。
6. The magnet according to claim 5, wherein the phosphate treatment is any one of tin phosphate treatment, iron phosphate treatment, manganese phosphate treatment, zinc phosphate treatment, and zinc calcium phosphate treatment. Manufacturing method.
【請求項7】 前記処理液のpHが4以下であり、前記
リン酸塩処理の処理温度が20〜50℃であることを特
徴とする請求項5に記載の磁石の製造方法。
7. The method according to claim 5, wherein the pH of the treatment liquid is 4 or less, and the treatment temperature of the phosphate treatment is 20 to 50 ° C.
【請求項8】 前記処理液には、硝酸イオンが2〜30
g/lの割合で含有してあることを特徴とする請求項5
に記載の磁石の製造方法。
8. The treatment liquid contains 2 to 30 nitrate ions.
6. The composition according to claim 5, wherein the content is g / l.
3. The method for producing a magnet according to item 1.
【請求項9】 前記保護膜を形成する前に、前記磁石本
体の表面に、アルカリ溶液を用いて脱脂処理を行い、酸
による化学エッチングを施し、前記磁石本体の表面を清
浄化する第1前処理工程を有する請求項5に記載の磁石
の製造方法。
9. Prior to forming the protective film, the surface of the magnet main body is subjected to a degreasing treatment using an alkali solution, and is subjected to chemical etching with an acid to clean the surface of the magnet main body. The method for manufacturing a magnet according to claim 5, further comprising a processing step.
【請求項10】 前記リン酸塩被膜を形成する前に、前
記保護膜の表面に、アルカリ溶液を用いて脱脂処理を行
い、洗浄する第2前処理工程を有する請求項5に記載の
磁石の製造方法。
10. The magnet according to claim 5, further comprising a second pretreatment step of performing a degreasing treatment using an alkali solution on the surface of the protective film before forming the phosphate film and cleaning the surface. Production method.
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