JP2002156498A - Radiation image conversion panel - Google Patents

Radiation image conversion panel

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JP2002156498A
JP2002156498A JP2000352105A JP2000352105A JP2002156498A JP 2002156498 A JP2002156498 A JP 2002156498A JP 2000352105 A JP2000352105 A JP 2000352105A JP 2000352105 A JP2000352105 A JP 2000352105A JP 2002156498 A JP2002156498 A JP 2002156498A
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JP
Japan
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radiation image
image conversion
conversion panel
phosphor layer
resin
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP2000352105A
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Japanese (ja)
Inventor
Hiroshi Ogawa
博 小川
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Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
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Publication date
Application filed by Fuji Photo Film Co Ltd filed Critical Fuji Photo Film Co Ltd
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Withdrawn legal-status Critical Current

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  • Conversion Of X-Rays Into Visible Images (AREA)
  • Radiography Using Non-Light Waves (AREA)
  • Luminescent Compositions (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To manufacture a radiation image conversion panel that makes it possible to increase the productivity of a phosphor layer where phosphors are scattered in a bonding agent, improve the durability of the panel and obtain the high picture quality of it. SOLUTION: In the radiation image conversion panel that has a phosphor layer 12 where stimulate phosphors are scattered in the bonding agent and a protective layer 13 on a support 11, the bonding agent in the phosphor layer 12 contains a resin cured by ultraviolet rays or an electron beam and the phosphor layer 12 is cured through the irradiation of it with ultraviolet rays or an electron beam.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、輝尽性蛍光体を利
用する放射線像変換方法に用いられる放射線像変換パネ
ルに関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a radiation image conversion panel used for a radiation image conversion method using a stimulable phosphor.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来の放射線写真法に代わる方法とし
て、たとえば特開昭55-12145号に記載されているような
輝尽性蛍光体を用いる放射線像変換方法が知られてい
る。この方法は、輝尽性蛍光体を含有する放射線像変換
パネル(蓄積性蛍光体シート)を利用するもので、被写
体を透過した、あるいは被検体から発せられた放射線を
パネルの輝尽性蛍光体に吸収させ、そののちに輝尽性蛍
光体を可視光線、赤外線などの電磁波(励起光)で時系
列的に励起することにより、輝尽性蛍光体中に蓄積され
ている放射線エネルギーを蛍光(輝尽発光光)として放
出させ、この蛍光を光電的に読み取って電気信号を得、
次いで得られた電気信号に基づいて被写体あるいは被検
体の放射線画像を可視像として再生するものである。読
取りを終えたパネルは、残存する画像の消去が行なわれ
た後、次の撮影のために備えられる。すなわち、放射線
像変換パネルは繰り返し使用される。
2. Description of the Related Art As an alternative to the conventional radiographic method, there is known a radiation image conversion method using a stimulable phosphor as described in, for example, JP-A-55-12145. This method uses a radiation image conversion panel (a stimulable phosphor sheet) containing a stimulable phosphor, and transmits radiation transmitted through a subject or emitted from a subject to the stimulable phosphor of the panel. And then stimulating the stimulable phosphor with electromagnetic waves (excitation light) such as visible light and infrared light in a time-series manner, so that the radiation energy accumulated in the stimulable phosphor is (Stimulated emission light), and the fluorescence is photoelectrically read to obtain an electric signal.
Then, a radiation image of the subject or the subject is reproduced as a visible image based on the obtained electric signal. The panel after reading is prepared for the next photographing after the remaining image is erased. That is, the radiation image conversion panel is used repeatedly.

【0003】この放射線像変換方法によれば、従来の放
射線写真フィルムと増感紙との組合せを用いる放射線写
真法による場合に比較して、はるかに少ない被曝線量で
情報量の豊富な放射線画像を得ることができるという利
点がある。さらに、従来の放射線写真法では一回の撮影
ごとに放射線写真フィルムを消費するのに対して、この
放射線像変換方法では放射線像変換パネルを繰返し使用
するので資源保護、経済効率の面からも有利である。
According to this radiographic image conversion method, a radiographic image with a large amount of information can be obtained with a much smaller exposure dose than the radiographic method using a combination of a conventional radiographic film and an intensifying screen. There is an advantage that it can be obtained. Furthermore, in contrast to the conventional radiographic method, which consumes radiographic film for each photographing operation, this radiographic image conversion method uses a radiographic image conversion panel repeatedly, which is advantageous in terms of resource conservation and economic efficiency. It is.

【0004】放射線像変換方法に用いられる放射線像変
換パネルは、蛍光体層が自己支持性である場合は別とし
て、基本的には、支持体とその表面に設けられた蛍光体
層とからなるものである。蛍光体層としては、蛍光体と
これを分散状態で含有支持する結合剤(バインダー)と
からなるもの、蒸着法や焼結法によって形成される結合
剤を含まず蛍光体の凝集体のみから構成されるもの、ま
た蛍光体の凝集体の間隙に高分子物質が含浸されている
もの等が知られている。これらの蛍光体層のうち、発光
量やノイズなど画質を比較的制御しやすく、機械的強度
を高めることが容易なことから、蛍光体を有機樹脂から
なる結合剤中に分散させた蛍光体層が最も多く使用され
ている。
A radiation image conversion panel used in a radiation image conversion method basically comprises a support and a phosphor layer provided on the surface thereof, except that the phosphor layer is self-supporting. Things. The phosphor layer is composed of a phosphor and a binder that contains and supports the phosphor in a dispersed state, and is composed of only an aggregate of the phosphor without a binder formed by an evaporation method or a sintering method. In addition, there are known those in which the gap between the phosphor aggregates is impregnated with a polymer substance. Among these phosphor layers, the phosphor layer in which the phosphor is dispersed in a binder made of an organic resin is relatively easy to control the image quality such as the light emission amount and noise, and it is easy to increase the mechanical strength. Is most often used.

【0005】放射線像変換パネルは上述のように繰り返
し使用されるものであるため、その繰返し使用により、
蛍光体層が吸湿や衝撃により劣化し、放射線像変換パネ
ルが形成する放射線画像の画質は徐々に低下する傾向に
ある。このようなパネルの画質低下を軽減するため、蛍
光体層上には通常、蛍光体層を物理的衝撃や化学的変質
から保護する保護層が設けられしている。また、蛍光体
層そのものについても機械的強度を高めることが行われ
ており、従来は、比較的軟質の樹脂を硬化剤で充分硬化
させて蛍光体層を作製するという方法がとられており、
硬化剤としてはイソシアネートやメラミン等が使用され
ていた。
[0005] Since the radiation image conversion panel is used repeatedly as described above, the repeated use thereof causes
The phosphor layer deteriorates due to moisture absorption or impact, and the image quality of the radiation image formed by the radiation image conversion panel tends to gradually decrease. In order to reduce such deterioration in image quality of the panel, a protective layer is usually provided on the phosphor layer to protect the phosphor layer from physical impact and chemical deterioration. Also, the mechanical strength of the phosphor layer itself has been increased, and conventionally, a method of producing a phosphor layer by sufficiently curing a relatively soft resin with a curing agent has been adopted.
Isocyanates, melamines, and the like have been used as curing agents.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】しかし、軟質の樹脂を
硬化剤で硬化する従来の方法は、硬化までに時間がかか
ったり、経時により硬化反応が進行して結合剤の物性が
変化したりするため、生産性や品質設計上に課題があっ
た。さらに、樹脂や硬化剤で蛍光体を分散するためには
多量の有機溶剤を使用しなければならず、製造環境面か
らもあまり好ましいとはいえない。
However, in the conventional method of curing a soft resin with a curing agent, it takes a long time to cure, or the curing reaction progresses with time, and the physical properties of the binder change. Therefore, there were problems in productivity and quality design. Further, a large amount of organic solvent must be used to disperse the phosphor with a resin or a curing agent, which is not very preferable from the viewpoint of a manufacturing environment.

【0007】一方、WO96/11479号にはX線増感スクリー
ンの結合剤として重合性樹脂が開示されており、シリコ
ーン系のアクリロアミドアミドシロキサン(acrylomide
amidosiloxane) が最も好ましい旨記載されているが、
シリコーン骨格を有する重合性樹脂は、硬化しても強度
が低く、また蛍光体層が塗工ではなく3本ロールによる
延伸で作製されているため蛍光体粒子が破壊されやす
く、また延伸では蛍光体層の塗膜厚を均一化させること
が困難であるため、良好な画質は期待できない。
On the other hand, WO 96/11479 discloses a polymerizable resin as a binder for an X-ray intensifying screen, and uses a silicone-based acrylamide siloxane.
amidosiloxane) is the most preferred,
The polymerizable resin having a silicone skeleton has low strength even when cured, and the phosphor particles are easily broken because the phosphor layer is formed by stretching with three rolls instead of coating. Since it is difficult to make the coating thickness of the layers uniform, good image quality cannot be expected.

【0008】本発明は、上記事情に鑑みなされたもので
あり、結合剤中に蛍光体を分散した蛍光体層を有する放
射線像変換パネルにおいて、蛍光体層の生産性を高く、
かつ耐久性の高い、良好な画質を得ることができる放射
線像変換パネルを提供することを目的とするものであ
る。
The present invention has been made in view of the above circumstances, and in a radiation image conversion panel having a phosphor layer in which a phosphor is dispersed in a binder, the productivity of the phosphor layer is high.
It is another object of the present invention to provide a radiation image conversion panel which has high durability and can obtain good image quality.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】本発明の放射線像変換パ
ネルは、結合剤中に輝尽性蛍光体を分散した蛍光体層を
有する放射線像変換パネルにおいて、前記結合剤が紫外
線または電子線硬化樹脂を含むものであって、前記蛍光
体層が紫外線または電子線の照射によって硬化されてい
ることを特徴とするものである。
According to the present invention, there is provided a radiation image conversion panel having a phosphor layer in which a stimulable phosphor is dispersed in a binder. It is characterized by containing a resin, wherein the phosphor layer is cured by irradiation of ultraviolet rays or electron beams.

【0010】前記結合剤は紫外線または電子線硬化樹脂
の他に、さらに、エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂、
グリシジルエーテルエポキシ樹脂からなる群より選択さ
れる少なくとも1種の樹脂を含むものであることが好ま
しい。これらの樹脂は、単独で用いてもよいし、適宜組
み合わせて用いてもよい。
[0010] In addition to the ultraviolet or electron beam curable resin, the binder may further include an epoxy resin, an alicyclic epoxy resin,
It is preferable that the resin contains at least one resin selected from the group consisting of glycidyl ether epoxy resins. These resins may be used alone or in combination as appropriate.

【0011】前記紫外線または電子線硬化樹脂は、ラジ
カル重合系樹脂またはカチオン重合系樹脂であることが
好ましく、前記ラジカル重合系樹脂は、無黄変ウレタン
系アクリレートまたはポリエステル系アクリレートであ
ることがより好ましく、前記カチオン重合系樹脂は、無
黄変ウレタン系ビニルエーテルまたはポリエステル系ビ
ニルエーテルであることがより好ましい。これらの樹脂
は、単独で用いてもよいし、適宜組み合わせて用いても
よい。
The ultraviolet or electron beam curable resin is preferably a radical polymerizable resin or a cationic polymerizable resin, and the radical polymerizable resin is more preferably a non-yellowing urethane acrylate or a polyester acrylate. The cationic polymerization resin is more preferably a non-yellowing urethane vinyl ether or a polyester vinyl ether. These resins may be used alone or in combination as appropriate.

【0012】前記紫外線または電子線硬化樹脂の重量平
均分子量は、2000〜20000 であることが好ましく、また
前記紫外線または電子線硬化樹脂の硬化後の破断伸度
(破断伸び)は 100%以上であることが好ましい。
The weight-average molecular weight of the ultraviolet or electron beam curable resin is preferably 2,000 to 20,000, and the elongation at break (elongation at break) of the ultraviolet or electron beam curable resin after curing is 100% or more. Is preferred.

【0013】前記蛍光体層の硬化後、該蛍光体層は圧縮
処理されていることが好ましい。圧縮処理は蛍光体層の
硬化後であれば、蛍光体層のみで行ってもよいし、支持
体と重ね合わせる時に行ってもよい。
After the phosphor layer is cured, the phosphor layer is preferably subjected to a compression treatment. The compression treatment may be performed only on the phosphor layer or after the curing of the phosphor layer, or may be performed when the phosphor layer is overlaid on the support.

【0014】前記蛍光体層の表面には、保護層が積層さ
れていることが好ましく、前記保護層は、前記紫外線ま
たは電子線硬化樹脂を含み、かつ前記保護層が前記紫外
線または電子線の照射によって硬化されたものであるこ
とが好ましい。
Preferably, a protective layer is laminated on the surface of the phosphor layer, wherein the protective layer contains the ultraviolet or electron beam curable resin, and the protective layer is irradiated with the ultraviolet or electron beam. Is preferably cured.

【0015】前記保護層と前記蛍光体層との間には、樹
脂フィルムが設けられていてもよいし、前記保護層が前
記蛍光体層上に直接設けられていてもよい。
[0015] A resin film may be provided between the protective layer and the phosphor layer, or the protective layer may be provided directly on the phosphor layer.

【0016】[0016]

【発明の効果】本発明の放射線像変換パネルは、結合剤
中に輝尽性蛍光体を分散した蛍光体層において、結合剤
を紫外線または電子線硬化樹脂を含むものであって、こ
の蛍光体層を紫外線または電子線の照射によって硬化し
たため、蛍光体層の生産性を高く、かつ耐久性の高い、
良好な画質を得ることができる放射線像変換パネルとす
ることができる。
The radiation image conversion panel of the present invention comprises a phosphor layer in which a stimulable phosphor is dispersed in a binder, the binder comprising an ultraviolet or electron beam curable resin. Since the layer was cured by irradiation of ultraviolet rays or electron beams, the productivity of the phosphor layer was high, and the durability was high.
A radiation image conversion panel capable of obtaining good image quality can be obtained.

【0017】すなわち、従来の軟質樹脂を硬化剤で硬化
させる方法では、硬化までに時間がかかったり、経時に
より硬化反応が進行して結合剤の物性が変化するといっ
た不都合が生じる場合があったが、本発明の蛍光体層
は、結合剤として紫外線または電子線硬化樹脂を用い、
蛍光体層に紫外線または電子線を照射して蛍光体層を硬
化するため、硬化時間が極めて短くかつ塗膜の経時安定
性も高いため、蛍光体層の生産性を向上させることがで
きる。さらに、有機溶剤の使用量を従来と比較して抑え
ることができるので製造環境の改善を推進することがで
きる。
That is, in the conventional method of curing a soft resin with a curing agent, there are cases where inconvenience occurs such that it takes a long time to cure or the curing reaction progresses with time to change the physical properties of the binder. The phosphor layer of the present invention uses an ultraviolet or electron beam curable resin as a binder,
Since the phosphor layer is cured by irradiating the phosphor layer with ultraviolet rays or electron beams, the curing time is extremely short and the stability of the coating over time is high, so that the productivity of the phosphor layer can be improved. Further, since the amount of the organic solvent used can be suppressed as compared with the conventional case, the improvement of the manufacturing environment can be promoted.

【0018】また、蛍光体層の結合剤として用いた紫外
線または電子線硬化樹脂は、シリコーン骨格を有する重
合性樹脂に比較して強度が格段に強いため、蛍光体層自
体の耐久性を向上させることが可能となり、良好な画質
を得ることが可能となる。
Further, the ultraviolet or electron beam curable resin used as a binder for the phosphor layer has a much higher strength than the polymerizable resin having a silicone skeleton, so that the durability of the phosphor layer itself is improved. It is possible to obtain good image quality.

【0019】なお、結合剤として紫外線または電子線硬
化樹脂の他に、エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂、グ
リシジルエーテルエポキシ樹脂からなる群より選択され
る少なくとも1種の樹脂を用いた場合には、輝尽性蛍光
体の黄変を防止することができるので、さらに高画質の
画像を得ることが可能な放射線像変換パネルとすること
ができる。
When at least one resin selected from the group consisting of an epoxy resin, an alicyclic epoxy resin, and a glycidyl ether epoxy resin is used as the binder in addition to the ultraviolet or electron beam curable resin, Since the yellowing of the stimulable phosphor can be prevented, a radiation image conversion panel capable of obtaining a higher quality image can be obtained.

【0020】また、紫外線または電子線硬化樹脂とし
て、ラジカル重合系樹脂またはカチオン重合系樹脂を用
いた場合、特に無黄変ウレタン系アクリレート、ポリエ
ステル系アクリレート、無黄変ウレタン系ビニルエーテ
ル、ポリエステル系ビニルエーテルを用いた場合や、重
量平均分子量が2000〜20000 の紫外線または電子線硬化
樹脂を用いた場合には、上記効果をより高めることがで
きる。
When a radical polymerizable resin or a cationic polymerizable resin is used as the ultraviolet or electron beam curable resin, particularly, non-yellowing urethane acrylate, polyester acrylate, non-yellowing urethane vinyl ether and polyester vinyl ether are used. When used, or when an ultraviolet or electron beam curable resin having a weight average molecular weight of 2,000 to 20,000 is used, the above effect can be further enhanced.

【0021】また、硬化後の破断伸度が 100%以上の紫
外線または電子線硬化樹脂を用いると、放射線像変換パ
ネルの搬送時の耐久性をより向上させることが可能とな
り、特にパネルの支持体が可撓性である場合、蛍光体層
と支持体との接着性を良好なものとすることができ、繰
り返し使用における蛍光体層の割れ等の問題が抑制する
ことができる。
The use of an ultraviolet or electron beam curable resin having an elongation at break of 100% or more after curing makes it possible to further improve the durability of the radiation image conversion panel at the time of transportation, and particularly to the support of the panel. Is flexible, the adhesion between the phosphor layer and the support can be improved, and problems such as cracking of the phosphor layer in repeated use can be suppressed.

【0022】また、蛍光体層の硬化後、この蛍光体層を
圧縮処理することにより、蛍光体粒子の破壊を抑制しな
がら、蛍光体層の塗膜厚を均一なものとすることがで
き、より良好な画質を期待することができる。
Further, after the phosphor layer is cured, the phosphor layer is subjected to a compression treatment, whereby the thickness of the phosphor layer can be made uniform while suppressing the destruction of the phosphor particles. Better image quality can be expected.

【0023】なお、蛍光体層の表面に保護層が積層され
ている場合には、蛍光体層が物理的衝撃や化学的変質を
直接受けることがないので、画質を長期に亘ってより良
好なものとすることが可能であり、さらに保護層を紫外
線または電子線硬化樹脂を含むものとし、かつこの保護
層を紫外線または電子線の照射によって硬化することに
より放射線像変換パネルの耐久性をさらに向上させるこ
とができる。
When a protective layer is laminated on the surface of the phosphor layer, the phosphor layer is not directly subjected to a physical impact or a chemical alteration, so that the image quality can be improved over a long period of time. The protective layer may further include an ultraviolet ray or an electron beam curable resin, and the durability of the radiation image storage panel may be further improved by curing the protective layer by irradiation with an ultraviolet ray or an electron beam. be able to.

【0024】なお、保護膜を蛍光体層上に直接設ける場
合には、発光性のよい放射線像変換パネルとすることが
できる。また、前記保護膜と前記蛍光体層との間に透明
フィルムが設けられている場合には、より耐久性の優れ
た放射線像変換パネルとすることができる。
When the protective film is provided directly on the phosphor layer, a radiation image conversion panel having good light emission can be obtained. Further, when a transparent film is provided between the protective film and the phosphor layer, a radiation image conversion panel having more excellent durability can be obtained.

【0025】[0025]

【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施の形態について説明する。なお、蛍光体層が自己支持
性がある場合には支持体は必要とされないが、本実施の
形態では放射線像変換パネルの一般的な構成である蛍光
体層と支持体と保護層を有する放射線像変換パネルを例
にとって説明する。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. In the case where the phosphor layer has self-supporting properties, a support is not required. However, in this embodiment, a radiation layer having a phosphor layer, a support, and a protective layer, which is a general configuration of a radiation image conversion panel, is used. The image conversion panel will be described as an example.

【0026】図1は本発明の第一の実施の形態を示す放
射線像変換パネルの一部断面図である。図1に示すよう
に、本発明の放射線像変換パネル10は、支持体11の上に
蛍光体層12が積層され、蛍光体層12の上にさらに保護層
13が積層されたものである。
FIG. 1 is a partial sectional view of a radiation image conversion panel showing a first embodiment of the present invention. As shown in FIG. 1, a radiation image conversion panel 10 of the present invention includes a support 11, a phosphor layer 12 laminated on a support 11, and a protective layer on the phosphor layer 12.
Reference numeral 13 denotes a laminated structure.

【0027】なお、図示はしていないが、放射線像変換
パネルの端部は、蛍光体層の吸湿や放射線像変換パネル
に強度を与えるため縁貼りがされていることが好まし
い。
Although not shown, it is preferable that an edge of the radiation image conversion panel is edged to absorb moisture of the phosphor layer and to give strength to the radiation image conversion panel.

【0028】まず、放射線像変換パネルの蛍光体層に用
いることができる輝尽性蛍光体について述べる。輝尽性
蛍光体は、先に述べたように放射線を照射した後、励起
光を照射すると輝尽発光を示す蛍光体であるが、実用的
な面からは波長が400〜900nmの範囲にある励起光によっ
て300〜500nmの波長範囲の輝尽発光を示す蛍光体である
ことが望ましい。本発明の放射線像変換パネルに用いら
れる輝尽性蛍光体の例としては、特公平7-84588号等に
記載されている。
First, the stimulable phosphor that can be used in the phosphor layer of the radiation image storage panel will be described. The stimulable phosphor is a phosphor that emits stimulable light when irradiated with radiation and then irradiated with excitation light as described above, but the wavelength is in the range of 400 to 900 nm from a practical viewpoint. It is desirable that the phosphor be a phosphor that shows stimulated emission in a wavelength range of 300 to 500 nm by the excitation light. Examples of the stimulable phosphor used in the radiation image storage panel of the present invention are described in JP-B-7-84588 and the like.

【0029】一般式 (M1-f・Mf I)X・bMIIIX3″:cA(I)
で表される輝尽性蛍光体が好ましい。輝尽発光輝度の点
から一般式(I)における Mとしては、Rb,Csおよ
び/またはCsを含有したNa、同Kが好ましく、特にRbお
よびCsから選ばれる少なくとも一種のアルカリ金属が好
ましい。MIII としてはY,La,Lu,Al,GaおよびInか
ら選ばれる少なくとも一種の三価金属が好ましい。X″
としては、F,ClおよびBrから選ばれる少なくとも一種
のハロゲンが好ましい。MIIIX3″の含有率を表すb値は
0≦b≦10-2の範囲から選ばれるのが好ましい。
General formula (M 1 -f · M f I ) X · bM III X3 ″: cA (I)
The stimulable phosphor represented by From the viewpoint of the stimulated emission luminance, M I in the general formula (I) is preferably Na and K containing Rb, Cs and / or Cs, and particularly preferably at least one alkali metal selected from Rb and Cs. M III is preferably at least one trivalent metal selected from Y, La, Lu, Al, Ga and In. X "
Is preferably at least one halogen selected from F, Cl and Br. The b value representing the content of M III X3 ″ is preferably selected from the range of 0 ≦ b ≦ 10 −2 .

【0030】一般式(I)において、賦活剤Aとしては
Eu,Tb,Ce,Tm,Dy,Ho,Gd,Sm,TlおよびNaから選ば
れる少なくとも一種の金属が好ましく、特にEu,Ce,S
m,TlおよびNaから選ばれる少なくとも一種の金属が好
ましい。また、賦活剤の量を表すC値は10-6<C<0.1
の範囲から選ばれるのが輝尽発光輝度の点から好まし
い。
In the general formula (I), the activator A is
At least one metal selected from the group consisting of Eu, Tb, Ce, Tm, Dy, Ho, Gd, Sm, Tl and Na is preferable, and especially Eu, Ce, S
At least one metal selected from m, Tl and Na is preferred. The C value representing the amount of the activator is 10 −6 <C <0.1.
It is preferable from the viewpoint of photostimulated light emission luminance.

【0031】また、さらに以下の輝尽性蛍光体も用いる
ことができる。米国特許第3,859,527号明細書に記載さ
れているSrS:Ce,Sm、SrS:Eu,Sm、ThO2:Er、およびLa2O2
S:Eu,Sm、
Further, the following stimulable phosphors can also be used. U.S. patents listed in the 3,859,527 Pat SrS: Ce, Sm, SrS: Eu, Sm, ThO 2: Er, and La 2 O 2
S: Eu, Sm,

【0032】特開昭55-12142号に記載されている ZnS:C
u,Pb、BaO・xAl2O3:Eu(ただし、0.8≦x≦10)、およ
び、MIIO・xSiO2 :A(ただし、MIIはMg,Ca,Sr,Zn,C
d、またはBaであり、AはCe,Tb,Eu,Tm,Pb,Tl,Bi
またはMnであり、xは0.5≦x≦2.5である)、
ZnS: C described in JP-A-55-12142
u, Pb, BaO.xAl 2 O 3 : Eu (0.8 ≦ x ≦ 10) and M II O.xSiO 2 : A (where M II is Mg, Ca, Sr, Zn, C
d or Ba, and A is Ce, Tb, Eu, Tm, Pb, Tl, Bi
Or Mn, and x is 0.5 ≦ x ≦ 2.5),

【0033】特開昭55-12143号に記載されている (Ba
1-X-y ,MgX ,Cay )FX:aEu2+(ただし、X はClおよびBrの
うちの少なくとも一種であり、xおよびyは、0<x+y
≦0.6、かつxy≠0であり、aは、10-6≦a≦5×10-2
ある)、
(Ba) described in JP-A-55-12143
1-Xy , Mg X , Ca y ) FX: aEu 2+ (where X is at least one of Cl and Br, and x and y are 0 <x + y
≦ 0.6 and xy ≠ 0, and a is 10 −6 ≦ a ≦ 5 × 10 −2 ),

【0034】特開昭55-12144号に記載されている LnOX:
xA(ただし、LnはLa,Y,Gd、およびLuのうちの少なく
とも一種、XはClおよびBrのうちの少なくとも一種、Aは
CeおよびTbのうちの少なくとも一種、そして、xは、0
<x<0.1である)、
LnOX described in JP-A-55-12144:
xA (where Ln is at least one of La, Y, Gd, and Lu, X is at least one of Cl and Br, and A is
At least one of Ce and Tb, and x is 0
<X <0.1),

【0035】特開昭55-12145号に記載されている(B
a1-X,M2+ X)FX:yA(ただし、M2+はMg,Ca,Sr,Zn、およ
びCdのうちの少なくとも一種、XはCl,BrおよびIのう
ちの少なくとも一種、AはEu,Tb,Ce,Tm,Dy,Pr,H
o,Nd,YbおよびErのうちの少なくとも一種、そしてx
は0≦x≦0.6、yは0≦y≦0.2である)、
It is described in JP-A-55-12145 (B
a 1-X , M 2+ X ) FX: yA (where M 2+ is at least one of Mg, Ca, Sr, Zn and Cd, X is at least one of Cl, Br and I, A Are Eu, Tb, Ce, Tm, Dy, Pr, H
at least one of o, Nd, Yb and Er, and x
Is 0 ≦ x ≦ 0.6, y is 0 ≦ y ≦ 0.2),

【0036】特開昭55-160078号に記載されているMIIFX
・xA:yLn(ただし、MIIはBa,Ca,Sr,Mg,ZnおよびCd
のうちの少なくとも一種、AはBeO,MgO,CaO,SrO,Ba
O,ZnO,Al2O3,Y2O3,La2O3,In2O3,SiO2,TiO2,ZrO
2,GeO2,SnO2,Nb2O5,Ta2O5およびThO2 のうちの少な
くとも一種、LnはEu,Tb,Ce,Tm,Dy,Pr,Ho,Nd,Y
b,Er,SmおよびGdのうちの少なくとも一種、XはCl,B
rおよびIのうちの少なくとも一種であり、xおよびyは
それぞれ 5×10-5≦x≦0.5、および0<y≦0.2である)
の組成式で表わされる蛍光体、
M II FX described in JP-A-55-160078
· XA: yLn (However, M II is Ba, Ca, Sr, Mg, Zn and Cd
A is BeO, MgO, CaO, SrO, Ba
O, ZnO, Al 2 O 3 , Y 2 O 3 , La 2 O 3 , In 2 O 3 , SiO 2 , TiO 2 , ZrO
2 , GeO 2 , SnO 2 , Nb 2 O 5 , at least one of Ta 2 O 5 and ThO 2 , Ln is Eu, Tb, Ce, Tm, Dy, Pr, Ho, Nd, Y
X is Cl, B at least one of b, Er, Sm and Gd
at least one of r and I, wherein x and y are respectively 5 × 10 −5 ≦ x ≦ 0.5 and 0 <y ≦ 0.2)
A phosphor represented by the composition formula:

【0037】特開昭56-116777号に記載されている(Ba
1-X,MII X)F2・aBaX2:yEu,zA(ただし、MIIはベリリウ
ム,マグネシウム,カルシウム,ストロンチウム,亜鉛
およびカドミウムのうちの少なくとも一種、Xは塩素,
臭素およびヨウ素のうちの少なくとも一種、Aはジルコ
ニウムおよびスカンジウムのうちの少なくとも一種であ
り、a、x、y、およびzはそれぞれ 0.5≦a≦1.25、
0≦x≦1、10-6≦y≦2×10-1、および0<z≦10-2
である)の組成式で表わされる蛍光体、
As described in JP-A-56-116777 (Ba
1-X , M II X ) F 2 · aBaX 2 : yEu, zA (where M II is at least one of beryllium, magnesium, calcium, strontium, zinc and cadmium, X is chlorine,
At least one of bromine and iodine, A is at least one of zirconium and scandium, and a, x, y, and z are each 0.5 ≦ a ≦ 1.25,
0 ≦ x ≦ 1, 10 −6 ≦ y ≦ 2 × 10 −1 , and 0 <z ≦ 10 −2
Is a phosphor represented by the composition formula:

【0038】特開昭57-23673号に記載されている(B
a1-X,MII X)F2・aBaX2:yEu,zB(ただし、M II はベリリウ
ム,マグネシウム,カルシウム,ストロンチウム,亜鉛
およびカドミウムのうちの少なくとも一種、Xは塩素,
臭素およびヨウ素のうちの少なくとも一種であり、a、
x、y、およびzはそれぞれ0.5≦a≦1.25、0≦x≦
1、10-6≦y≦2×10-1、および0<z≦10-2である)
の組成式で表わされる蛍光体、
As described in JP-A-57-23673 (B
a1-X, MII X) FTwo・ ABaXTwo: yEu, zB (where M IIIs Belliriu
, Magnesium, calcium, strontium, zinc
And at least one of cadmium and X is chlorine,
At least one of bromine and iodine, a,
x, y, and z are respectively 0.5 ≦ a ≦ 1.25, 0 ≦ x ≦
1, 10-6≦ y ≦ 2 × 10-1, And 0 <z ≦ 10-2Is)
A phosphor represented by a composition formula of

【0039】特開昭57-23675号に記載されている(B
a1-X,MII X)F2・aBaX2:yEu,zA(ただし、MIIはベリリウ
ム,マグネシウム,カルシウム,ストロンチウム,亜鉛
およびカドミウムのうちの少なくとも一種、Xは塩素,
臭素およびヨウ素のうちの少なくとも一種、Aは砒素お
よび硅素のうちの少なくとも一種であり、a、x、y、
およびzはそれぞれ0.5≦a≦1.25、0≦x≦1、10-6
≦y≦2×10-1、および0<z≦5×10-1である)の組成
式で表わされる蛍光体、
As described in JP-A-57-23675 (B
a 1-X , M II X ) F 2 aBaX 2 : yEu, zA (where M II is at least one of beryllium, magnesium, calcium, strontium, zinc and cadmium, X is chlorine,
A is at least one of bromine and iodine, A is at least one of arsenic and silicon, and a, x, y,
And z are respectively 0.5 ≦ a ≦ 1.25, 0 ≦ x ≦ 1, 10 −6
≦ y ≦ 2 × 10 −1 , and 0 <z ≦ 5 × 10 −1 ).

【0040】特開昭58-69281号に記載されている MIIIO
X:xCe(ただし、MIIIはPr,Nd,Pm,Sm,Eu,Tb,Dy,H
o,Er,Tm,YbおよびBiからなる群より選ばれる少なく
とも一種の三価金属であり、XはClおよびBrのうちのい
ずれか一方あるいはその両方であり、xは0<x<0.1
である)の組成式で表わされる蛍光体、
M III O described in JP-A-58-69281
X: xCe (where M III is Pr, Nd, Pm, Sm, Eu, Tb, Dy, H
at least one trivalent metal selected from the group consisting of o, Er, Tm, Yb and Bi, X is one or both of Cl and Br, and x is 0 <x <0.1
Is a phosphor represented by the composition formula:

【0041】特開昭58-206678号に記載されているBa1-X
MX/2X/2FX:yEu2+(ただし、MはLi,Na,K,Rbおよ
びCsからなる群より選ばれる少なくとも一種のアルカリ
金属を表わし;Lは、Sc,Y,La,Ce,Pr,Nd,Pm,S
m,Gd,Tb,Dy,Ho,Er,Tm,Yb,Lu,Al,Ga,Inおよ
びTlからなる群より選ばれる少なくとも一種の三価金属
を表わし;X は、Cl,BrおよびIからなる群より選ばれ
る少なくとも一種のハロゲンを表わし;そして、xは10
-2≦x≦0.5、yは0<y≦0.1である)の組成式で表わ
される蛍光体、
Ba 1-X described in JP-A-58-206678
M X / 2 L X / 2 FX: yEu 2+ (where M represents at least one alkali metal selected from the group consisting of Li, Na, K, Rb and Cs; L represents Sc, Y, La, Ce, Pr, Nd, Pm, S
represents at least one trivalent metal selected from the group consisting of m, Gd, Tb, Dy, Ho, Er, Tm, Yb, Lu, Al, Ga, In and Tl; X is Cl, Br and I Represents at least one halogen selected from the group; and x is 10
-2 ≦ x ≦ 0.5, and y is 0 <y ≦ 0.1).

【0042】特開昭59-27980号に記載のBaFX・xA:yEu2+
(ただし、Xは、Cl,BrおよびIからなる群より選ばれ
る少なくとも一種のハロゲンであり;Aはテトラフルオ
ロホウ酸化合物の焼成物であり;そして、xは10-6
x≦0.1、yは0<y≦0.1 である)の組成式で表わさ
れる蛍光体、
BaFX.xA: yEu 2+ described in JP-A-59-27980
(Where X is at least one halogen selected from the group consisting of Cl, Br and I; A is a calcined product of a tetrafluoroborate compound; and x is 10 −6
x ≦ 0.1, y is 0 <y ≦ 0.1) phosphor represented by the composition formula:

【0043】特開昭59-47289号に記載されているBaFX・x
A:yEu2+(ただし、Xは、Cl,BrおよびIからなる群よ
り選ばれる少なくとも一種のハロゲンであり;Aは、ヘキ
サフルオロケイ酸,ヘキサフルオロチタン酸およびヘキ
サフルオロジルコニウム酸の一価もしくは二価金属の塩
からなるヘキサフルオロ化合物群より選ばれる少なくと
も一種の化合物の焼成物であり;そして、xは10-6≦x
≦0.1、yは0<y≦0.1 である)の組成式で表わされ
る蛍光体、
BaFX.x described in JP-A-59-47289
A: yEu 2+ (where X is at least one halogen selected from the group consisting of Cl, Br and I; A is monovalent or hexafluorosilicic acid, hexafluorotitanic acid and hexafluorozirconic acid) X is a calcined product of at least one compound selected from the group of hexafluoro compounds consisting of salts of divalent metals; and x is 10 −6 ≦ x
≦ 0.1, y is 0 <y ≦ 0.1) phosphor represented by the composition formula:

【0044】特開昭59-56479号に記載されているBaFX・x
NaX′:aEu2+(ただし、XおよびX′は、それぞれCl、B
r、およびIのうちの少なくとも一種であり、xおよび
aはそれぞれ0<x≦2、および0<a≦0.2である)
の組成式で表わされる蛍光体、
BaFX.x described in JP-A-59-56479
NaX ′: aEu 2+ (where X and X ′ are Cl, B
r and at least one of I, wherein x and a are respectively 0 <x ≦ 2 and 0 <a ≦ 0.2)
A phosphor represented by the composition formula:

【0045】特開昭59-56480号に記載されているMIIFX
・xNaX′:yEu2+:zA(ただし、MIIは、Ba,SrおよびCaか
らなる群より選ばれる少なくとも一種のアルカリ土類金
属であり;X およびX′は、それぞれCl,BrおよびIか
らなる群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンであ
り;Aは、V,Cr,Mn,Fe,CoおよびNiより選ばれる少な
くとも一種の遷移金属であり;そして、xは0<x≦
2、yは0<y≦0.2、およびzは0<z≦10-2であ
る)の組成式で表わされる蛍光体、
M II FX described in JP-A-59-56480
XNaX ': yEu 2+ : zA (where M II is at least one alkaline earth metal selected from the group consisting of Ba, Sr and Ca; X and X' are each selected from Cl, Br and I A is at least one halogen selected from the group consisting of; A is at least one transition metal selected from V, Cr, Mn, Fe, Co and Ni; and x is 0 <x ≦
2, y is 0 <y ≦ 0.2, and z is 0 <z ≦ 10 −2 ), a phosphor represented by a composition formula:

【0046】特開昭59-75200号に記載されている MIIFX
・aMIX′・bM′IIX″2・cMIIIX3・xA:yEu2+(ただし、MII
はBa,SrおよびCaからなる群より選ばれる少なくとも一
種のアルカリ土類金属であり;MI はLi,Na,K,Rbお
よびCsからなる群より選ばれる少なくとも一種のアルカ
リ金属であり;M′IIはBeおよびMgからなる群より選ばれ
る少なくとも一種の二価金属であり;MIII はAl,Ga,In
およびTlからなる群より選ばれる少なくとも一種の三価
金属であり;Aは金属酸化物であり;XはCl,BrおよびI
からなる群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンであ
り;X′,X″および Xは、F,Cl,BrおよびIからなる
群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンであり;そし
て、aは0≦a≦2、bは0≦b≦10-2、cは0≦c≦
10-2、かつa+b+c≧10-6 であり;x は0<x≦0.5、y
は0<y≦0.2 である)の組成式で表わされる蛍光体、
M II FX described in JP-A-59-75200
・ AM I X ′ ・ bM ′ II X ″ 2・ cM III X 3・ xA: yEu 2+ (However, M II
Is at least one alkaline earth metal selected from the group consisting of Ba, Sr and Ca; M I is at least one alkali metal selected from the group consisting of Li, Na, K, Rb and Cs; II is at least one divalent metal selected from the group consisting of Be and Mg; M III is Al, Ga, In
Is at least one trivalent metal selected from the group consisting of and Tl; A is a metal oxide; X is Cl, Br and I
X ′, X ″ and X are at least one halogen selected from the group consisting of F, Cl, Br and I; and a is 0 ≦ a ≦ 2, b is 0 ≦ b ≦ 10 −2 , c is 0 ≦ c ≦
10 −2 and a + b + c ≧ 10 −6 ; x is 0 <x ≦ 0.5, y
Is 0 <y ≦ 0.2), a phosphor represented by a composition formula:

【0047】特開昭60-84381号に記載されている MII X
2・aMIIX′2:xEu2+(ただし、MIIはBa,Srおよび Caか
らなる群より選ばれる少なくとも一種のアルカリ土類金
属であり;XおよびX′はCl,BrおよびIからなる群より
選ばれる少なくとも一種のハロゲンであって、かつ X≠
X′であり;そしてaは0.1≦a≦10.0、xは0<x≦0.
2である)の組成式で表わされる輝尽性蛍光体、
M II X described in JP-A-60-84381
2 · aM II X ' 2 : xEu 2+ (where M II is at least one alkaline earth metal selected from the group consisting of Ba, Sr and Ca; X and X' are composed of Cl, Br and I At least one halogen selected from the group and X ≠
X '; and a is 0.1≤a≤10.0, x is 0 <x≤0.
2, a stimulable phosphor represented by the composition formula:

【0048】特開昭60-101173号に記載されているMIIFX
・aMI X′:xEu2+(ただし、MII Ba,SrおよびCaから
なる群より選ばれる少なくとも一種のアルカリ土類金属
であり;MI はRbおよびCsからなる群より選ばれる少な
くとも一種のアルカリ金属であり;XはCl,BrおよびIか
らなる群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンであ
り;X′はF,Cl,BrおよびIからなる群より選ばれる
少なくとも一種のハロゲンであり;そしてaおよびxは
それぞれ0≦a≦4.0および0<x≦0.2である)の組成
式で表わされる輝尽性蛍光体、
M II FX described in JP-A-60-101173
AM I X ': xEu 2+ (where M II is at least one kind of alkaline earth metal selected from the group consisting of Ba, Sr and Ca; M I is at least one kind selected from the group consisting of Rb and Cs) X is at least one halogen selected from the group consisting of Cl, Br and I; X 'is at least one halogen selected from the group consisting of F, Cl, Br and I; a and x are respectively 0 ≦ a ≦ 4.0 and 0 <x ≦ 0.2), a stimulable phosphor represented by a composition formula:

【0049】特開昭62-25189号に記載されているMI X:x
Bi( ただし、MI はRbおよびCsからなる群より選ばれる
少なくとも一種のアルカリ金属であり;X はCl,Brおよ
びIからなる群より選ばれる少なくとも一種のハロゲン
であり;そしてxは0<x≦0.2の範囲の数値である)の組
成式で表わされる輝尽性蛍光体、
[0049] have been described in JP-A-62-25189 M I X: x
Bi (however, M I is at least one alkali metal selected from the group consisting of Rb and Cs; X is at least one halogen selected from the group consisting of Cl, Br and I; and x is 0 <x A photostimulable phosphor represented by a composition formula of

【0050】特開平2-229882号に記載のLnOX:xCe(但
し、LnはLa,Y,GdおよびLuのうちの少なくとも一つ、
XはCl,BrおよびIのうちの少なくとも一つ、xは0<x
≦0.2であり、LnとXとの比率が原子比で0.500<X/Ln≦
0.998であり、かつ輝尽性励起スペクトルの極大波長λ
が550nm<λ<700nm)で表わされるセリウム賦活希土類
オキシハロゲン化物蛍光体、などをあげることができ
る。
LnOX: xCe described in JP-A-2-229882 (where Ln is at least one of La, Y, Gd and Lu;
X is at least one of Cl, Br and I, and x is 0 <x
≦ 0.2, and the ratio between Ln and X is 0.500 <X / Ln ≦
0.998, and the maximum wavelength λ of the stimulable excitation spectrum
Cerium-activated rare earth oxyhalide phosphor represented by 550 nm <λ <700 nm).

【0051】また、上記特開昭60-84381号に記載されて
いるMIIX2・aMIIX′2:xEu2+輝尽性蛍光体には、以下に
示すような添加物がMIIX2・aMIIX′2 1モル当り以下の割
合で含まれていてもよい。
[0051] Further, the JP 60-84381 No. M II X 2 · aM II X described in the '2: xEu 2+ stimulable phosphor, additives such as shown below M II X 2 · aM II X ′ 2 may be contained in the following ratio per 1 mol.

【0052】特開昭60−166379号に記載されているbM
IX″(ただし、MIはRbおよびCsからなる群より選ばれる
少なくとも一種のアルカリ金属であり、X″はF,Cl,B
rおよびIからなる群より選ばれる少なくとも一種のハ
ロゲンであり、そしてbは0<b≦10.0である);特開
昭60-221483号に記載されているbKX″・cMgX2 ・dM
III X′3(ただし、MIII はSc,Y,La,Gdおよび Luか
らなる群より選ばれる少なくとも一種の三価金属であ
り、X″、X およびX′はいずれもF,Cl,BrおよびIか
らなる群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンであ
り、そしてb、cおよびdはそれぞれ、0≦b≦2.0、
0≦c≦2.0、0≦d≦2.0であって、かつ2×10-5≦b+c
+dである);特開昭60-228592号に記載されている yB
(ただし、yは2×10-4≦y≦2×10-1である);特開昭60
-228593号に記載されている bA(ただし、AはSiO 2 およ
びP2O5からなる群より選ばれる少なくとも一種の酸化物
であり、そしてbは10-4 ≦b≦2×10-1 である);特開昭
61−120883号に記載されているbSiO(ただし、bは0<b
≦3×10-2 である);特開昭61−120885号に記載されて
いるbSnX″2 (ただし、X″はF,Cl,BrおよびIからな
る群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンであり、そ
してbは0<b≦10-3である);特開昭61-235486号に記
載されているbCsX″・cSnX2 (ただし、X″およびX はそ
れぞれF,Cl,BrおよびIからなる群より選ばれる少な
くとも一種のハロゲンであり、そしてbおよびcはそれ
ぞれ、0<b≦10.0 および10-6≦c≦2×10-2であ
る);および特開昭61-235487号に記載されているbCs
X″・yLn3+(ただし、X″はF,Cl,BrおよびIからなる
群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンであり、Lnは
Sc,Y,Ce,Pr,Nd,Sm,Gd,Tb,Dy,Ho,Er,Tm,Yb
およびLuからなる群より選ばれる少なくとも一種の希土
類元素であり、そしてbおよびyはそれぞれ、0<b≦
10.0および10 -6≦y≦1.8×10-1である)。
BM described in JP-A-60-166379
IX "(MIIs selected from the group consisting of Rb and Cs
X "is at least one alkali metal, and X" is F, Cl, B
at least one member selected from the group consisting of r and I
And b is 0 <b ≦ 10.0);
BKX ″ and cMgX described in Sho 60-221483Two・ DM
IIIX ′Three(However, MIIIIs Sc, Y, La, Gd and Lu
At least one trivalent metal selected from the group consisting of
X ”, X and X ′ are all F, Cl, Br and I
At least one halogen selected from the group consisting of
And b, c and d are each 0 ≦ b ≦ 2.0,
0 ≦ c ≦ 2.0, 0 ≦ d ≦ 2.0, and 2 × 10-Five≤b + c
+ d); yB described in JP-A-60-228592
(However, y is 2 × 10-Four≦ y ≦ 2 × 10-1JP-A-60
BA (where A is SiO TwoAnd
And PTwoOFiveAt least one oxide selected from the group consisting of
And b is 10-Four≦ b ≦ 2 × 10-1);
BSiO described in No. 61-120883 (where b is 0 <b
≦ 3 × 10-2Is described in JP-A-61-120885.
BSnX ″Two(However, X ″ is composed of F, Cl, Br and I.
At least one halogen selected from the group consisting of
And b is 0 <b ≦ 10-3Described in JP-A-61-235486.
BCsX ″ and cSnX listedTwo(However, X ″ and X are
A small number selected from the group consisting of F, Cl, Br and I, respectively.
At least a kind of halogen, and b and c are
0 <b ≦ 10.0 and 10 respectively-6≦ c ≦ 2 × 10-2In
BCs described in JP-A-61-235487
X ″ ・ yLn3+(However, X ″ consists of F, Cl, Br and I
Ln is at least one halogen selected from the group
Sc, Y, Ce, Pr, Nd, Sm, Gd, Tb, Dy, Ho, Er, Tm, Yb
At least one rare earth selected from the group consisting of
And b and y are each 0 <b ≦
10.0 and 10 -6≦ y ≦ 1.8 × 10-1Is).

【0053】上記の輝尽性蛍光体のうちで、二価ユーロ
ピウム賦活アルカリ土類金属ハロゲン化物系蛍光体およ
びセリウム賦活希土類オキシハロゲン化物蛍光体は高輝
度の輝尽発光を示すので特に好ましい。ただし、本発明
に用いられる輝尽性蛍光体は上述の蛍光体に限られるも
のではなく、放射線を照射したのちに励起光を照射した
場合に輝尽発光を示す蛍光体であればいかなるものであ
ってもよい。
Among the above stimulable phosphors, a divalent europium-activated alkaline earth metal halide-based phosphor and a cerium-activated rare earth oxyhalide phosphor are particularly preferable because they exhibit high-luminance stimulable emission. However, the stimulable phosphor used in the present invention is not limited to the above-described phosphors, and any phosphor can be used as long as it exhibits stimulable emission when irradiated with radiation and then irradiated with excitation light. There may be.

【0054】ただし、本発明に用いられる輝尽性蛍光体
は上述の蛍光体に限られるものではなく、放射線を照射
したのちに励起光を照射した場合に輝尽発光を示す蛍光
体であれば特に限定されるものではない。
However, the stimulable phosphor used in the present invention is not limited to the above-described phosphors, and any phosphor that emits stimulable light when irradiated with radiation and then with excitation light. There is no particular limitation.

【0055】蛍光体層の結合剤に使用される紫外線また
は電子線硬化樹脂としてはラジカル重合系樹脂やカチオ
ン重合系樹脂が好ましく、前者には、単官能アクリレー
ト、2官能アクリレート、3官能アクリレート、4〜6
官能アクリレート等のモノマーや、エポキシアクリレー
ト、カルボキシル変性エポキシアクリレート、ウレタン
アクリレート、ポリエステルアクリレート、共重合系ア
クリレート等のオリゴマーがあげられ、後者には、脂環
式エポキシ樹脂、グリシジルエーテルエポキシ樹脂、ビ
ニルエーテル樹脂、オキセタン化合物等のモノマーや、
脂環式エポキシ樹脂、グリシジルエーテルエポキシ樹
脂、ウレタンビニルエーテル、ポリエステルビニルエー
テル、オキセタン化合物等のオリゴマーがあげられる。
中でも、ラジカル重合系オリゴマーまたはカチオン重合
系オリゴマーを用いることが好ましい。
As the ultraviolet or electron beam curable resin used for the binder of the phosphor layer, a radical polymerizable resin or a cationic polymerizable resin is preferable. The former includes monofunctional acrylate, bifunctional acrylate, trifunctional acrylate, ~ 6
Monomers such as functional acrylates, and oligomers such as epoxy acrylate, carboxyl-modified epoxy acrylate, urethane acrylate, polyester acrylate, and copolymer acrylate, and the latter include alicyclic epoxy resins, glycidyl ether epoxy resins, vinyl ether resins, Monomers such as oxetane compounds,
Oligomers such as alicyclic epoxy resins, glycidyl ether epoxy resins, urethane vinyl ethers, polyester vinyl ethers, and oxetane compounds are exemplified.
Especially, it is preferable to use a radical polymerization type oligomer or a cation polymerization type oligomer.

【0056】ラジカル重合系オリゴマーとしては、無黄
変ウレタン系アクリレート、ポリエステル系アクリレー
トがより好ましい。ウレタン系アクリレートは、分子中
にウレタン構造とアクリロイル基を有する化合物で、無
黄変ウレタン系アクリレートは、ポリテトラメチレング
リコールやポリエステルジオールとウレタン構造を構成
するイソシアネートにヘキサメチレンジイソシアネート
等の無黄変ポリイソシアネートを使用したものである。
ポリエステル系アクリレートは、エチレングリコール、
1,6−ヘキサンジオール、トリメチロールプロパンと
アジピン酸等の多塩基酸との反応、またはカプロラクト
ンの開環反応等で得られるポリエステルポリオールとア
クリル酸の脱水化合物である。
As the radical polymerization type oligomer, non-yellowing urethane acrylate and polyester acrylate are more preferable. Urethane acrylate is a compound having a urethane structure and an acryloyl group in the molecule. Non-yellowing urethane acrylate is a non-yellowing polymer such as polytetramethylene glycol or polyesterdiol and isocyanate forming a urethane structure such as hexamethylene diisocyanate. It uses isocyanate.
Polyester acrylate is ethylene glycol,
It is a dehydration compound of acrylic acid and polyester polyol obtained by the reaction of 1,6-hexanediol or trimethylolpropane with a polybasic acid such as adipic acid, or the ring-opening reaction of caprolactone.

【0057】カチオン重合系オリゴマーとしては、無黄
変ウレタン系ビニルエーテル、ポリエステル系ビニルエ
ーテルがより好ましい。これらオリゴマーの重量平均分
子量は 2000〜20000程度であることが好ましい。
As the cationic polymerization type oligomer, non-yellowing urethane vinyl ether and polyester vinyl ether are more preferable. The weight average molecular weight of these oligomers is preferably about 2,000 to 20,000.

【0058】紫外線または電子線硬化樹脂の樹脂の硬化
後の破断伸度は、特に可撓性支持体を使用する場合には
100%以上であることが好ましく、200%以上であること
がより好ましく、さらには 300%以上であることが好ま
しい。破断伸度が 100%よりも小さい場合には、蛍光体
層の可撓性が不足するために蛍光体層と可撓性支持体と
の接着性が悪くなったり、放射線像変換パネルの搬送時
に蛍光体層に割れが発生しやすく耐久性が悪くなる。
The elongation at break after curing of the ultraviolet- or electron-beam-curable resin can be determined particularly when a flexible support is used.
It is preferably at least 100%, more preferably at least 200%, further preferably at least 300%. If the elongation at break is less than 100%, the flexibility of the phosphor layer is insufficient, so that the adhesion between the phosphor layer and the flexible support is deteriorated, or when the radiation image conversion panel is transported. Cracks are easily generated in the phosphor layer, and durability is deteriorated.

【0059】また、上記の紫外線または電子線硬化樹脂
以外のアクリレート系モノマー、ビニル化合物系モノマ
ー、アクリレート系オリゴマー、その他のカチオン重合
系モノマー、その他のカチオン重合系オリゴマーなどを
併用して用いてもよい。
Further, acrylate monomers, vinyl compound monomers, acrylate oligomers, other cationic polymerization monomers, other cationic polymerization oligomers, etc. other than the above-mentioned ultraviolet or electron beam curable resins may be used in combination. .

【0060】アクリレート系モノマーとは、1〜6ヶの
アクリレート基を有する分子量約1000以下の低分子化合
物で、アクリレート基以外の反応基(イソシアネート
基、エポキシ基、酸無水物基、カルボキシル基等)を有
していてもよい。また、分子中に硫黄の他、フッ素や臭
素等のハロゲン元素を含んでいてもよい。
The acrylate monomer is a low molecular weight compound having 1 to 6 acrylate groups and having a molecular weight of about 1000 or less, and a reactive group other than the acrylate group (isocyanate group, epoxy group, acid anhydride group, carboxyl group, etc.). May be provided. Further, the molecule may contain a halogen element such as fluorine or bromine in addition to sulfur.

【0061】これらの化合物としては、エチレンオキサ
イド、プロピレンオキサイド等のアルキレンオキサイド
またはε−カプロラクトンをアルコールに付加反応した
アクリレート、N−ビニルカプロラクタム、N−ビニル
カプロラクタム、N−ビニルホルムアミド、イミドアク
リレート、2−メタクリロイルオキシエチルイソシアネ
ート、プロピレンオキサイド等のアルキレンオキサイド
またはε−カプロラクトンを多価アルコールに付加反応
したポリ(メタ)アクリレート、トリシクロイデカンジ
メチロールジアクリレート、ジペンタエリスリトールペ
ンタ及びヘキサアクリレート、ジトリメチロールを好ま
しくあげることができる。
Examples of these compounds include acrylates obtained by addition reaction of alkylene oxides such as ethylene oxide and propylene oxide or ε-caprolactone to alcohol, N-vinylcaprolactam, N-vinylcaprolactam, N-vinylformamide, imide acrylate, Preferred examples include poly (meth) acrylate, tricycloidedecane dimethylol diacrylate, dipentaerythritol penta and hexaacrylate, and ditrimethylol obtained by adding an alkylene oxide such as methacryloyloxyethyl isocyanate and propylene oxide or ε-caprolactone to a polyhydric alcohol. be able to.

【0062】紫外線または電子線硬化樹脂の具体例とし
ては、アイエスピー・ジャパン(株)製:RAPI−CU
RE・シリーズ、旭電化工業(株)製:アデカオプトマー
KRM・シリーズ、荒川化学工業(株)製:ビームセット
・シリーズ、大阪有機化学工業(株)製:各種アクリレー
ト、共栄化学(株)製:ライトエステル、ライトアクリレ
ート、エポライト、エポキシエステル、ウレタンアクリ
レートの各シリーズ、サンノプコ(株)製:フォトマー・
シリーズ、JSR(株)製:デソライトSシリーズ、オプ
スターJL、JM・シリーズ、昭和高分子(株)製:リポ
キシSP・VRシリーズ、新中村化学工業(株)製:NK
エステル、NKオリゴ・シリーズ、第一工業製薬(株)
製:ニューフロンティア・シリーズ、ダイセル化学工業
(株)製:プラクセルG、サイクロマーP、エポリード
D、エポリードPB、ダイマック、PUEの各シリー
ズ、ダイセル・ユーシービー(株)製:Ebecryl、
Uvecryl、セロサイド、ダイマックス、Uvac
ure、EBの各シリーズ、ダイソー(株)製:ダイソー
ダップ、ダイソーイソダップの各シリーズ、大日本イン
キ化学工業(株)製:LUMICURE、ユニデックの各
シリーズ、東亞合成(株)製:アロニックスMシリーズ、
東洋紡績(株)製:バイロキュアー・シリーズ、ナガセ化
成(株)製:デナコールアクリレート、日本化薬(株)製:
KAYARAD・シリーズ、日本合成化学(株)製:紫
光、コーポニールの各シリーズ、日本シイベルヘグナー
(株)製:アクチレン/Actilane・シリーズ、日
本曹達(株)製:TEシリーズ、日本油脂(株)製:ブレン
マー・シリーズ、根上工業(株)製:アートレジンUN、
SHの各シリーズ、日立化成工業(株)製:ヒタロイド・
シリーズ、三井化学(株)製:オレスターRAシリーズ、
三菱レイヨン(株)製:ダイヤビーム・シリーズ、ユニオ
ン・カーバイド日本(株)製:CYRACURE UVR
・シリーズ、ビーエスエフジャパン(株)製:Larom
er、各種アクリレートの各シリーズ、Morton
International製:Uvithaneシリ
ーズ等があげられる。
Specific examples of the ultraviolet or electron beam curing resin include RAPI-CU manufactured by ASP Japan Co., Ltd.
RE series, manufactured by Asahi Denka Kogyo Co., Ltd .: Adeka Optomer KRM series, manufactured by Arakawa Chemical Industry Co., Ltd .: beam set series, manufactured by Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd .: various acrylates, manufactured by Kyoei Chemical Co., Ltd. : Light ester, light acrylate, epolite, epoxy ester, urethane acrylate series, manufactured by San Nopco Ltd .: Photomer
Series, manufactured by JSR Corporation: Desolite S series, Opstar JL, JM series, manufactured by Showa Kogyo Co., Ltd .: Lipoxy SP / VR series, manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd .: NK
Ester, NK Oligo Series, Daiichi Kogyo Pharmaceutical Co., Ltd.
Made: New Frontier Series, Daicel Chemical Industries
Co., Ltd .: each series of Placcel G, Cyclomer P, Eporide D, Eporide PB, Daimac, PUE, Daicel UCB Co., Ltd .: Ebecryl,
Uvecryl, celloside, dimax, Uvac
ure, EB series, Daiso Corporation: Daiso Dapp, Daiso Isodap series, Dainippon Ink & Chemicals, Ltd .: LUMICURE, UNIDEC series, Toagosei Co., Ltd .: Aronix M series ,
Toyobo Co., Ltd .: Virocure Series, Nagase Kasei Co., Ltd .: Denacol Acrylate, Nippon Kayaku Co., Ltd .:
KAYARAD series, manufactured by Nippon Synthetic Chemical Co., Ltd .: Shikko and Coponil series, Nippon SiberHegner
Ltd .: Actylene / Actilane Series, Nippon Soda Co., Ltd .: TE Series, Nippon Yushi Co., Ltd .: Blemmer Series, Negami Kogyo Co., Ltd .: Art Resin UN,
SH series, manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd .: Hitaloid
Series, manufactured by Mitsui Chemicals, Inc .: Orestar RA series,
Mitsubishi Rayon Co., Ltd .: Diamond Beam Series, Union Carbide Japan Co., Ltd .: CYRACURE UVR
・ Series, FS Japan Co., Ltd .: Larom
er, various acrylate series, Morton
International: Ubitane series and the like.

【0063】紫外線を照射して樹脂を硬化させる場合に
は、さらに、ラジカル系光重合開始剤、カチオン系光重
合開始剤、ラジカル系光重合促進剤、カチオン系光重合
促進剤等の光重合開始剤を併用させる。また、光重合開
始剤を用いた場合には、ベンゾキノン等の重合禁止剤が
併用されることもある。なお、電子線で硬化させる場合
には、光重合開始剤は不要である。
When the resin is cured by irradiating ultraviolet rays, a photopolymerization initiator such as a radical photopolymerization initiator, a cationic photopolymerization initiator, a radical photopolymerization accelerator, a cationic photopolymerization accelerator, or the like is further added. The agent is used in combination. When a photopolymerization initiator is used, a polymerization inhibitor such as benzoquinone may be used in combination. When curing with an electron beam, a photopolymerization initiator is unnecessary.

【0064】光重合開始剤としては、ベンゾフェノン、
オルソベンゾイル安息香酸メチル、イソプロピルチオキ
サントン、ジエチルチオキサントン、ベンジルジメチル
ケタール、α−ヒドロキシアルキルフェノン、α−アミ
ルアルキルフェノン、アシルフォスフィンオキサイド、
アルキルフェニルグリオキシレート、ジエトキシアセト
フェノン等を好ましく用いることができる。
As the photopolymerization initiator, benzophenone,
Methyl orthobenzoylbenzoate, isopropylthioxanthone, diethylthioxanthone, benzyldimethylketal, α-hydroxyalkylphenone, α-amylalkylphenone, acylphosphine oxide,
Alkyl phenyl glyoxylate, diethoxyacetophenone and the like can be preferably used.

【0065】具体的には、旭電化工業(株)製:アデカオ
プトマーSPシリーズ、三新化学工業(株)製:サンエイ
ドSIシリーズ、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ
(株)製:イルガキュア、ダロキュアの各シリーズ、日本
化薬(株)製:KAYACUREシリーズ、ビーエスエフ
ジャパン(株)製:Lucirinシリーズ等を好ましく
あげることができる。
Specifically, Adeka Optomer SP series manufactured by Asahi Denka Kogyo Co., Ltd., Sun Aid SI series manufactured by Sanshin Chemical Industry Co., Ltd., Ciba Specialty Chemicals
Preferable examples include Irgacure and Darocure series, KAYACURE series by Nippon Kayaku Co., Ltd., and Lucirin series by BSF Japan Co., Ltd.

【0066】輝尽性蛍光体の黄変を防止して高画質を得
るため、蛍光体層には上記紫外線または電子線硬化樹脂
の他に、エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂、またはグ
リシジルエーテルエポキシ樹脂を含有させることがより
好ましい。
In order to prevent yellowing of the stimulable phosphor and obtain high image quality, the phosphor layer may be formed of an epoxy resin, an alicyclic epoxy resin, or a glycidyl ether epoxy resin, in addition to the ultraviolet or electron beam curable resin. More preferably, a resin is contained.

【0067】具体的には、シェル石油化学(株)製:エピ
コート1001等のエピコートシリーズ、旭電化(株)
製:アデカレジンEP−4100等のEPシリーズ、新
日鐵化学(株)製:YSLV−120TE等のYSLVシ
リーズ、およびGK−4137等を好ましく用いること
ができる。
More specifically, Epicoat series such as Epicoat 1001, manufactured by Shell Petrochemical Co., Ltd., Asahi Denka Co., Ltd.
EP series such as Adeka Resin EP-4100, YSLV series such as YSLV-120TE manufactured by Nippon Steel Chemical Co., Ltd., and GK-4137 can be preferably used.

【0068】支持体としては、従来の放射線像変換パネ
ルの支持体として知られる公知の材料から任意に選ぶこ
とができる。支持体と蛍光体層の結合を強化するため、
あるいは放射線像変換パネルとしての感度もしくは画質
(鮮鋭度、粒状性)を向上させるために、蛍光体層が設
けられる側の支持体表面にゼラチンなどの高分子物質を
塗布して接着性付与層としたり、あるいは二酸化チタン
などの光反射性物質からなる光反射層、もしくはカーボ
ンブラックなどの光吸収性物質からなる光吸収層などを
設けることが知られているが、本発明において用いられ
る支持体についても、これらの各種の層を設けることが
でき、それらの構成は所望の放射線像変換パネルの目
的、用途などに応じて任意に選択することができる。さ
らに特開昭58-200200 号に記載されているように、得ら
れる画像の鮮鋭度を向上させる目的で、支持体の蛍光体
層側の表面(支持体の蛍光体層側の表面に接着性付与
層、光反射層または光吸収層などが設けられている場合
には、その表面を意味する)には微小凹凸が形成されて
いてもよい。
The support can be arbitrarily selected from known materials known as supports for conventional radiation image storage panels. To strengthen the bond between the support and the phosphor layer,
Alternatively, in order to improve the sensitivity or image quality (sharpness, granularity) of the radiation image conversion panel, a polymer substance such as gelatin is applied to the surface of the support on which the phosphor layer is provided to form an adhesion imparting layer. It is known to provide a light reflecting layer made of a light reflecting material such as titanium dioxide, or a light absorbing layer made of a light absorbing material such as carbon black. Also, these various layers can be provided, and the configuration thereof can be arbitrarily selected according to the desired purpose and use of the radiation image storage panel. Further, as described in JP-A-58-200200, in order to improve the sharpness of the obtained image, the surface of the support on the phosphor layer side (adhesiveness to the surface of the support on the phosphor layer side) When an application layer, a light reflection layer, a light absorption layer, or the like is provided, the surface thereof means fine irregularities.

【0069】次に、本発明の放射線像変換パネルを製造
する方法を説明する。蛍光体層は、次のような方法によ
り支持体上に形成することができる。まず、輝尽性蛍光
体と紫外線(電子線)硬化樹脂とを必要により溶剤に加
え、これを充分に混合して、紫外線(電子線)硬化樹脂
中に輝尽性蛍光体が均一に分散した塗布液、または紫外
線(電子線)硬化樹脂の溶液中に輝尽性蛍光体が均一に
分散した塗布液を調製する。塗布液における紫外線(電
子線)硬化樹脂と輝尽性蛍光体との混合比(紫外線(電
子線)硬化樹脂以外に、エポキシ樹脂等を加えた場合に
は、これらの樹脂と紫外線または電子線硬化樹脂(以
下、結合剤という)の合計と輝尽性蛍光体との混合比)
は、目的とする放射線像変換パネルの特性、蛍光体の種
類などによって異なるが、一般的には、1:1〜 1:100
(重量比)の範囲から選ばれ、1:8〜1:40(重量比)の
範囲から選ぶことが好ましい。
Next, a method of manufacturing the radiation image storage panel of the present invention will be described. The phosphor layer can be formed on the support by the following method. First, a stimulable phosphor and an ultraviolet (electron beam) curable resin are added to a solvent, if necessary, and the mixture is sufficiently mixed to uniformly disperse the stimulable phosphor in the ultraviolet (electron beam) curable resin. A coating solution in which a stimulable phosphor is uniformly dispersed in a coating solution or a solution of an ultraviolet (electron beam) curable resin is prepared. Mixing ratio of ultraviolet (electron beam) curable resin to stimulable phosphor in the coating liquid (when epoxy resin or the like is added in addition to ultraviolet (electron beam) curable resin, these resins are cured with ultraviolet or electron beam. Mixing ratio of the sum of resin (hereinafter referred to as binder) and stimulable phosphor
Varies depending on the characteristics of the target radiation image conversion panel, the type of phosphor, and the like, but generally ranges from 1: 1 to 1: 100.
(Weight ratio), preferably from 1: 8 to 1:40 (weight ratio).

【0070】次に、上記のようにして調製された蛍光体
と結合剤とを含有する塗布液を、支持体の表面に均一に
塗布することにより塗膜を形成し、溶剤を使用した場合
は溶剤を温風等で除去し、次いで紫外線または電子線を
照射して塗膜を乾燥・硬化する。この塗布操作は、通常
の塗布手段、たとえば、ドクターブレード、ロールコー
ター、ナイフコーター、エクストルージョンコーターな
どを用いることにより行なうことができる。
Next, the coating solution containing the phosphor and the binder prepared as described above is uniformly applied to the surface of the support to form a coating film. The solvent is removed with warm air or the like, and then the coating film is dried and cured by irradiating ultraviolet rays or electron beams. This coating operation can be performed by using ordinary coating means, for example, a doctor blade, a roll coater, a knife coater, an extrusion coater, or the like.

【0071】紫外線硬化樹脂の場合は、出力 50W/cm〜5
00W/cm程度の水銀ランプあるいはメタルハライドランプ
により、0.01〜10秒程度照射することにより硬化する。
電子線硬化樹脂の場合は、100kV〜1000kV程度の加速電
圧で 0.001〜1秒程度照射することにより硬化する。
In the case of an ultraviolet curable resin, the output is 50 W / cm to 5
Cured by irradiating with a mercury lamp or metal halide lamp of about 00 W / cm for about 0.01 to 10 seconds.
In the case of an electron beam curable resin, the resin is cured by irradiating with an acceleration voltage of about 100 kV to 1000 kV for about 0.001 to 1 second.

【0072】紫外線硬化樹脂、電子線硬化樹脂はどちら
を選択してもよいが、紫外線硬化樹脂を選択する場合
は、電子線硬化樹脂を選択した場合に比して硬化するた
めの照射時間が長くなるが、紫外線照射装置が小型で安
価でありため、新たな設備投資の負担が軽減される。
Either the ultraviolet curable resin or the electron beam curable resin may be selected, but when the ultraviolet curable resin is selected, the irradiation time for curing is longer than when the electron beam curable resin is selected. However, since the ultraviolet irradiation device is small and inexpensive, the burden of new capital investment is reduced.

【0073】紫外線照射装置としては、(株)アーデル
製:Σ−Line、アイグラフィックス(株)製:アイグ
ランデージ、アイキュアーの各シリーズ、岩崎電機(株)
製:アイUVキュアーシステム、ウシオ電機(株)製:ユ
ニキュアシステム・シリーズ、ケミテック(株)製:UV
C−シリーズ、(株)サンエイテック製:OPTICUR
E・シリーズ、東芝ライテック(株)製:トスキュア・シ
リーズなどを好ましく用いることができる。
Examples of the ultraviolet irradiation apparatus are A-Line Co., Ltd .: Σ-Line, Eye Graphics Co., Ltd .: Eye Grandage, Eye Cure series, Iwasaki Electric Co., Ltd.
Manufactured by: Eye UV Cure System, manufactured by Ushio Inc .: UniCure System Series, manufactured by Chemitec Corporation: UV
C-Series, manufactured by San-A-Tech, Inc .: OPTICUR
E series, manufactured by Toshiba Lighting & Technology Corp .: Toskure series and the like can be preferably used.

【0074】電子線照射装置としては、岩崎電機(株)
製:ELECTROCURTAIN、ウシオ電機(株)
製:Min−EB、住友重機械工業(株)製:WIPL、
東洋インキ製造(株)製:ライオキュア、日新ハイボルテ
ージ(株)製:EPS・シリーズなどを好ましく用いるこ
とができる。
As an electron beam irradiation device, Iwasaki Electric Co., Ltd.
Made by: ELECTROCURTAIN, USHIO INC.
Manufactured by Min-EB, manufactured by Sumitomo Heavy Industries, Ltd .: WIPL,
Lyocure manufactured by Toyo Ink Mfg. Co., Ltd., EPS series manufactured by Nissin High Voltage Co., Ltd. can be preferably used.

【0075】支持体上に塗膜を形成したのち塗膜を乾燥
して、支持体上への輝尽性蛍光体層の形成を完了する。
蛍光体層の層厚は、目的とする放射線像変換パネルの特
性、蛍光体の種類、結合剤と蛍光体との混合比などによ
って異なるが、一般的には20μm〜1mmとすることが好ま
しく、50〜500μmとすることがより好ましい。
After forming the coating on the support, the coating is dried to complete the formation of the stimulable phosphor layer on the support.
The layer thickness of the phosphor layer varies depending on the characteristics of the intended radiation image conversion panel, the type of phosphor, the mixing ratio of the binder and the phosphor, and is generally preferably 20 μm to 1 mm. More preferably, the thickness is 50 to 500 μm.

【0076】なお、輝尽性蛍光体層は、必ずしも上記の
ように支持体上に塗布液を直接塗布して形成する必要は
なく、たとえば、別に、ガラス板、金属板、プラスチッ
クシ−トなどのシ−ト上に塗布液を塗布し乾燥すること
により蛍光体層を形成したのち、これを、支持体上に圧
縮処理、たとえばカレンダーや熱プレス機で押圧するこ
とにより、あるいは接着剤を用いるなどして支持体と蛍
光体層とを接合してもよい。
The stimulable phosphor layer does not necessarily need to be formed by directly applying a coating solution on the support as described above. For example, a glass plate, a metal plate, a plastic sheet, etc. A phosphor layer is formed by applying a coating solution on the sheet and drying it, and then compressing it on a support, for example, by pressing a calender or a hot press, or using an adhesive. For example, the support and the phosphor layer may be joined.

【0077】保護膜は、従来公知の保護膜を使用するこ
とができるが、紫外線(電子線)硬化型の保護膜である
ことが好ましい。紫外線(電子線)硬化型の保護膜は、
紫外線(電子線)硬化型の樹脂と、オリゴマーまたはモ
ノマーと、必要により硬化触媒および、好ましくは分子
末端にビニル基を1つ以上有し数平均分子量が約5000か
ら20000 の反応性シリコーンとを含む保護膜形成材料塗
布液を、ドクターブレード、ディップコーター、スライ
ドコーター、エクストルージョンコーターなどの塗布手
段を用いて PETなどの透明支持体上に塗布・乾燥・硬化
した後、接着剤層を保護膜と反対側の PET表面に設けて
蛍光体表面にラミネートするか、蛍光体層表面に直接塗
布・乾燥・硬化することにより形成する。もちろん、こ
の保護膜の形成は同時重層塗布によって、蛍光体層の形
成と同時に行なってもよい。
As the protective film, a conventionally known protective film can be used, but it is preferably an ultraviolet (electron beam) curing type protective film. UV (electron beam) curing type protective film
It contains an ultraviolet (electron beam) curable resin, an oligomer or monomer, a curing catalyst if necessary, and a reactive silicone preferably having at least one vinyl group at the molecular terminal and having a number average molecular weight of about 5,000 to 20,000. The coating liquid for the protective film forming material is applied to a transparent support such as PET using a coating method such as a doctor blade, dip coater, slide coater, or extrusion coater, dried and cured. It is formed by providing it on the opposite PET surface and laminating it on the phosphor surface, or by directly applying, drying and curing it on the phosphor layer surface. Of course, this protective film may be formed simultaneously with the formation of the phosphor layer by simultaneous multi-layer coating.

【0078】紫外線(電子線)硬化型の保護膜の場合
は、塗工、溶剤乾燥後に紫外線または電子線を照射し硬
化させる必要があるが、この硬化に用いる紫外線照射装
置、電子線照射装置は蛍光体層を硬化させる装置と同じ
ものを用いることができる。また、この場合、蛍光体層
と保護膜との硬化手段(紫外線か電子線)は同じであっ
てもよいし、異なっていてもよい。
In the case of an ultraviolet ray (electron beam) curing type protective film, it is necessary to irradiate with ultraviolet rays or an electron beam after coating and drying the solvent, and then to cure the film. The same device as that for curing the phosphor layer can be used. In this case, the curing means (ultraviolet light or electron beam) for the phosphor layer and the protective film may be the same or different.

【0079】保護膜の形成に用いる紫外線(電子線)硬
化樹脂は、蛍光体層に使用されるものと同様のモノマ
ー、オリゴマー等が使用されるが、塗膜が薄いので破断
伸度は100 %以下でもよく、防傷性を高める観点からは
なるべく硬度が高いものが好ましく、鉛筆硬度でHB以
上のもの、好ましくはH以上のものであることが望まし
い。
As the ultraviolet (electron beam) curable resin used for forming the protective film, the same monomers and oligomers as those used for the phosphor layer are used, but since the coating film is thin, the elongation at break is 100%. From the viewpoint of enhancing the scratch resistance, the hardness is preferably as high as possible. The pencil hardness is preferably HB or more, more preferably H or more.

【0080】保護膜には、防汚性向上のため反応性シリ
コーン(ビニル基含有シリコーンマクロモノマー)を含
有させてもよい。反応性シリコーンとしては、たとえば
ジメチルポリシロキサン骨格を有し、紫外線硬化可能な
官能基(例、ビニル基、メタクリロキシ基)を少なくと
も一つ以上有するものであることが好ましく、両末端に
紫外線硬化可能な官能基を少なくとも1つ以上有するか
片末端に2つ以上有するものがより好ましく、さらには
片末端に紫外線硬化可能な官能基を2つ以上有するもの
が好ましい。
The protective film may contain a reactive silicone (vinyl group-containing silicone macromonomer) for improving antifouling properties. The reactive silicone preferably has, for example, a dimethylpolysiloxane skeleton and has at least one or more ultraviolet-curable functional groups (eg, vinyl group, methacryloxy group). Those having at least one functional group or two or more at one terminal are more preferable, and those having two or more ultraviolet-curable functional groups at one terminal are more preferable.

【0081】反応性シリコーンの数平均分子量は、 500
0〜20000の範囲にあることが好ましく、10000〜15000の
範囲にあることがより好ましい。反応性シリコーンは、
保護膜中に0.1〜20重量%の範囲内で含まれていること
が好ましく、特に0.5〜10重量%の範囲内で含まれてい
ることが好ましい。
The number average molecular weight of the reactive silicone is 500
It is preferably in the range of 0 to 20,000, more preferably in the range of 10,000 to 15,000. Reactive silicone is
It is preferably contained in the protective film in the range of 0.1 to 20% by weight, particularly preferably in the range of 0.5 to 10% by weight.

【0082】また、反応性シリコーンはパーフロロアル
キル基を含んでいてもよい。これらの反応性シリコーン
(シリコーンマクロモノマー)はチッソ(株)から商品
名:サイラプレン・FM−07シリーズとして市販され
ているので、これを用いてもよい。
The reactive silicone may contain a perfluoroalkyl group. These reactive silicones (silicone macromonomers) are commercially available from Chisso Corporation under the trade name: Syraprene FM-07 series, and may be used.

【0083】保護膜には、上記の他、保護膜のニジムラ
防止(画質劣化防止)、耐久性をより向上させるため、
さらに有機または無機の白色微粉末が含まれていてもよ
い。微粉末の平均粒径は0.1〜2μmの範囲で、特に、平
均粒径が0.3〜1.5μmの範囲にあるものが好ましい。こ
れら微粉末の添加量は、保護膜のバインダーに対して1
〜100重量%、特に有機微粉末の場合は5〜40重量%、無
機微粉末の場合は10〜100重量%の量で含まれることが
好ましい。また、保護膜には、必要に応じて着色剤、黄
変防止剤などが含有されていてもよい。
In addition to the above, in order to prevent the protective film from becoming uneven (preventing image quality deterioration) and improve the durability,
Further, organic or inorganic white fine powder may be contained. The average particle size of the fine powder is in the range of 0.1 to 2 μm, particularly preferably in the range of 0.3 to 1.5 μm. The addition amount of these fine powders is 1 to the binder of the protective film.
Preferably, it is contained in an amount of from 100 to 100% by weight, particularly 5 to 40% by weight in the case of an organic fine powder, and 10 to 100% by weight in the case of an inorganic fine powder. Further, the protective film may contain a coloring agent, a yellowing inhibitor and the like as needed.

【0084】なお、得られる画像の鮮鋭度を向上させる
ことを目的として、本発明の放射線像変換パネルを構成
する上記各層の少なくとも一つの層が励起光を吸収し、
輝尽発光光は吸収しないような着色剤によって着色され
ていてもよい(特公昭54-23400号参照)。
For the purpose of improving the sharpness of the obtained image, at least one of the layers constituting the radiation image conversion panel of the present invention absorbs excitation light,
The stimulated emission light may be colored by a colorant that does not absorb the light (see Japanese Patent Publication No. 54-23400).

【0085】[0085]

【実施例】(実施例1)下記のようにして、本発明の放
射線像変換パネルを製造した。まず、蛍光体層形成塗布
液として、蛍光体:BaFBr0.8I0.2:0.001Eu2+ 1000g、
ウレタン系アクリレートオリゴマーとしてアートレジン
UN-9200A(根上工業(株)製:破断伸度660%)35g、無
黄変タイプ光重合開始剤のイルガキュア184(チバ・ス
ペシャルティ・ケミカルズ(株)製)1.3g、ビスフェノー
ルA型エポキシ樹脂(シェル化学(株)製:エピコート10
01)50% MEK溶液30g、着色剤として群青(第一化成工
業(株):SM-1)0.02g、MEK 32gをディスパーにて3時間
分散し、粘度3.5Pa・s(20℃)の塗布液を調製した。
EXAMPLES Example 1 A radiation image storage panel of the present invention was manufactured as follows. First, as a phosphor layer forming coating solution, phosphor: BaFBr 0.8 I 0.2 : 0.001Eu 2+ 1000 g,
Art resin as urethane acrylate oligomer
35 g of UN-9200A (manufactured by Negami Industry Co., Ltd .: elongation at break 660%), 1.3 g of Irgacure 184 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.), a non-yellowing type photopolymerization initiator, bisphenol A type epoxy resin ( Shell Chemical Co., Ltd .: Epicoat 10
01) 30% of 50% MEK solution, 0.02 g of ultramarine as a colorant (Daiichi Kasei Kogyo Co., Ltd .: SM-1) and 32 g of MEK are dispersed by a disper for 3 hours and applied with a viscosity of 3.5 Pa · s (20 ° C). A liquid was prepared.

【0086】この塗布液をシリコーン系離型剤が塗布さ
れているポリエチレンテレフタレートシート(仮支持
体、厚み:180μm)上に乾燥厚が250μmになるようにエク
ストルージョン(ダイ)コーターで塗布、80℃で乾燥し
た後、アイグラフィック(株)製:空冷メタルハライドラ
ンプM08-L41にてランプ出力160W/cmで紫外線を30秒照射
して硬化したのち仮支持体から剥離した。
This coating solution was applied on a polyethylene terephthalate sheet (temporary support, thickness: 180 μm) coated with a silicone release agent by an extrusion (die) coater so as to have a dry thickness of 250 μm. After curing with an air-cooled metal halide lamp M08-L41 manufactured by Eye Graphic Co., Ltd. at a lamp output of 160 W / cm for 30 seconds, the film was peeled off from the temporary support.

【0087】次に、以下の反射下塗層付き支持体を作製
した。酸化ガドリニウム(Gd2O3)の微細粒子(全粒子
中の90重量%の粒子の粒子径が1〜5μmの範囲にあるも
の)350g、結合剤として軟質アクリル樹脂(大日本イ
ンキ化学工業(株):クリスコートP-1018GS(20%トルエン
溶液))1800g、可塑剤としてフタル酸エステル(大八化
学(株):#10)40g、導電剤として ZnOウィスカー(松下
アムテック(株):パナテトラA-1-1)120g、着色剤とし
て群青(第一化成工業(株):SM-1)2gをMEKに加え、デ
ィスパーを用いて分散、溶解して、下塗層用分散液(粘
度0.5Pa・s:20℃)を調整し、ポリエチレンテレフタレ
ートシート(東レ製ルミラーS-10 250μm;ヘイズ度(ty
pical)=20)、片側にカーボンブラック、シリカ、結合
剤からなる遮光層(約18μm) が設けられているもの)上
に、エクストルージョンコーターを用いて、遮光層とは
反対側に均一に塗布した後、塗膜を乾燥させて、層厚が
20μmの反射下塗層を形成した。
Next, the following support having a reflective undercoat layer was prepared. 350 g of gadolinium oxide (Gd 2 O 3 ) fine particles (90% by weight of all particles having a particle diameter in the range of 1 to 5 μm), and a soft acrylic resin as a binder (Dainippon Ink & Chemicals, Inc.) ): 1800 g of Chris Coat P-1018GS (20% toluene solution), 40 g of phthalic acid ester as plasticizer (Daichi Chemical Co., Ltd .: # 10), ZnO whisker as conductive agent (Matsushita Amtech Co., Ltd .: Panatetra A- 1-1) 120 g and 2 g of ultramarine (Daiichi Kasei Kogyo Co., Ltd .: SM-1) as a colorant are added to MEK, dispersed and dissolved using a disper, and a dispersion for an undercoat layer (viscosity 0.5 Pa. s: 20 ° C), and adjust the polyethylene terephthalate sheet (Lumilar S-10 250μm, manufactured by Toray; haze (ty)
pical) = 20), uniformly coated on the other side of the light-shielding layer using an extrusion coater on a light-shielding layer (about 18 μm) made of carbon black, silica, and a binder on one side After drying, the coating is dried and the layer thickness is
A 20 μm reflective undercoat layer was formed.

【0088】次に、蛍光体シートと反射下塗層付き支持
体を重ね合わせ、カレンダーロールを用い、圧力49MP
a、上側ロール温度75℃、下側ロール温度75℃、送り速
度1.0m/minで連続的に加熱圧縮を行った。この加熱圧縮
により、蛍光体シートは支持体に反射下塗層を介して完
全に融着し、蛍光体層(層厚:210μm)となった。
Next, the phosphor sheet and the support having a reflective undercoat layer were superposed on each other, and a calender roll was used.
a, Heat compression was continuously performed at an upper roll temperature of 75 ° C, a lower roll temperature of 75 ° C, and a feed rate of 1.0 m / min. By this heating and compression, the phosphor sheet was completely fused to the support via the reflective undercoat layer to form a phosphor layer (layer thickness: 210 μm).

【0089】次に、保護層を以下の手順で作製した。Next, a protective layer was formed by the following procedure.

【0090】アートレジンUN330(無黄変ウレタンアク
リレート、UV硬化樹脂、NV=100%)12g、有機フィラー
(メラミンホルムアルデヒド:(株)日本触媒、エポスタ
ーS6)28.4g、分散剤としてアルミカップリング剤(味
の素(株):プレンアクトAL-M)0.5g、MEK 228gの混合
液を3mmφのジルコニアボールを使用したボールミルで2
0時間分散混合した後、アートレジンUN330を108g、MEK
を252g加えて、さらに8時間分散した。その後、シリコ
ーンマクロモノマーFM-0725 1.4g、イルガキュアー184
(光硬化触媒)4.5g、MEK 439gを混合し保護層用塗布液
を調液した。
Art resin UN330 (non-yellowing urethane acrylate, UV curable resin, NV = 100%) 12 g, organic filler (melamine formaldehyde: Nippon Shokubai Co., Ltd., eposter S6) 28.4 g, aluminum coupling agent as dispersant ( Ajinomoto Co., Ltd .: Prenact AL-M) 0.5g and 228g of MEK were mixed in a ball mill using 3mmφ zirconia balls.
After dispersion mixing for 0 hour, 108 g of Art Resin UN330, MEK
Was added and dispersed for 8 hours. Then, 1.4 g of silicone macromonomer FM-0725, Irgacure 184
(Photocuring catalyst) 4.5 g of MEK and 439 g of MEK were mixed to prepare a coating solution for a protective layer.

【0091】この保護層塗布液を6μm厚PETフイルム
(東レ(株):ルミラー6-CF53)と、耐熱再剥離フイルム
(PANAC(株):CT50)を貼り合わせて裏打ちした6μmPET
フイルム上にバーコーターで塗布し、溶剤を 100℃で乾
燥後、アイグラフィック(株)製の空冷メタルハライドラ
ンプM08-L41にてランプ出力160W/cmで紫外線を10秒照射
して硬化し、厚さ2μmの保護層を設けた。
This protective layer coating solution was lined with a 6 μm-thick PET film (Toray Industries, Inc .: Lumirror 6-CF53) and a heat-resistant re-peelable film (PANAC, Inc .: CT50).
The film was coated on the film with a bar coater, and the solvent was dried at 100 ° C. A 2 μm protective layer was provided.

【0092】次に、保護層を設けた9μm厚PETフイルム
から、耐熱再剥離フイルムを剥離し、保護層と反対側
に、ポリエステル樹脂溶液(東洋紡績(株):バイロン30
SS)を塗布、乾燥して接着層(接着剤塗布重量2g/m2
を設けた。
Next, the heat-resistant re-peelable film was peeled off from the 9 μm-thick PET film provided with the protective layer, and a polyester resin solution (Toyobo Co., Ltd .: Byron 30) was provided on the side opposite to the protective layer.
SS) is applied and dried to form an adhesive layer (adhesive application weight 2 g / m 2 )
Was provided.

【0093】この保護層付き PETフイルムを、ラミネー
トロールを用いて、蛍光体層上に接着層を介して接着し
保護層を形成した。さらに、エンボス機で保護層にRa
0.4μmの粗さのエンボスを付けた。
The PET film with the protective layer was adhered to the phosphor layer via an adhesive layer using a laminating roll to form a protective layer. Furthermore, Ra is applied to the protective layer with an embossing machine.
A 0.4 μm roughness emboss was applied.

【0094】続いて、20μm厚のOPPフイルム(東レ
(株):トレファンYM-11#20)に、不飽和ポリエステル樹
脂溶液(東洋紡績(株):バイロン30SS)を塗布、乾燥し
て接着層(接着剤塗布重量9g/m2 )を設け、このOPPフ
イルムを、ラミネートロールを用いて、支持体の蛍光体
層が設けられている側とは反対側(遮光層側)に、接着層
を介して接着しBack保護層を形成した。
Subsequently, a 20 μm thick OPP film (Toray
Co., Ltd .: Trefan YM-11 # 20), apply an unsaturated polyester resin solution (Toyobo Co., Ltd .: Byron 30SS) and dry to form an adhesive layer (adhesive application weight 9 g / m 2 ). This OPP film was adhered to the opposite side (light-shielding layer side) of the support from the side on which the phosphor layer was provided using an adhesive layer using a laminating roll to form a back protective layer.

【0095】さらに、アートレジンUN330を10.5g、イル
ガキュアー184を0.4g、黄変防止剤としてエポキシ樹脂
(油化シェルエポキシ(株):エピコート#1001(固形))
0.6g、片末端メタクリロキシプロピル変性シリコーンF
M-0725を0.2g、MEK 10gに溶解させて塗布液を調整し、
この塗布液を、先に製造した保護層が付設された蛍光体
シートの各側面に塗布し、室温で乾燥後、紫外線を80W/
cmで30秒照射して、膜厚約25μmの側面硬化皮膜を形成
し、放射線像変換パネルを製造した。
Further, 10.5 g of Art Resin UN330, 0.4 g of Irgacure 184, and an epoxy resin as an anti-yellowing agent (Yuika Shell Epoxy Co., Ltd .: Epicoat # 1001 (solid))
0.6 g, methacryloxypropyl-modified silicone F at one end
Dissolve 0.2 g of M-0725 and 10 g of MEK to prepare a coating solution,
This coating solution was applied to each side of the phosphor sheet provided with the protective layer previously produced, and dried at room temperature.
Irradiation was performed at 30 cm for 30 seconds to form a side cured film having a thickness of about 25 μm, thereby producing a radiation image conversion panel.

【0096】(実施例2)実施例1で使用したアートレ
ジンUN-9200Aに換えてウレタンアクリレートオリゴマー
UA-4000(新中村化学(株)製:破断伸度350%)を同量使
用した以外は同様にして放射線像変換パネルを製造し
た。
(Example 2) A urethane acrylate oligomer was used in place of the art resin UN-9200A used in Example 1.
A radiation image conversion panel was manufactured in the same manner except that the same amount of UA-4000 (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd .: elongation at break: 350%) was used.

【0097】(実施例3)実施例1で使用した蛍光体層
用塗布液と保護層用塗布液をスリットを2つ有する重層
塗布用ダイを使用し、蛍光体層塗布液の上に保護層用塗
布液を同時に仮支持体に塗布し、溶剤を除去後、160W/c
m で紫外線を30秒照射して塗膜を乾燥、硬化し、保護層
付き蛍光体層を仮支持体から剥離した。硬化後の蛍光体
層厚は250μm、保護層厚は 2μmだった。このようにし
て、保護層付き蛍光体層を使用し、保護層を別途設けな
かった以外は実施例1と同様にして放射線像変換パネル
を製造した。
(Example 3) The coating solution for the phosphor layer and the coating solution for the protective layer used in Example 1 were coated on the phosphor layer coating solution using a multilayer coating die having two slits. Coating solution for the temporary support at the same time, after removing the solvent, 160W / c
The coating was dried and cured by irradiating ultraviolet rays for 30 seconds at m 2, and the phosphor layer with the protective layer was peeled off from the temporary support. The thickness of the phosphor layer after curing was 250 μm, and the thickness of the protective layer was 2 μm. Thus, a radiation image conversion panel was manufactured in the same manner as in Example 1 except that the phosphor layer with the protective layer was used and the protective layer was not separately provided.

【0098】(比較例1)実施例1で使用した蛍光体層
用塗布液として以下を使用し、120℃ で溶剤を乾燥させ
て蛍光体層を得た以外は実施例1と同様にして放射線像
変換パネルを製造した。
(Comparative Example 1) Radiation was performed in the same manner as in Example 1 except that the following was used as the coating solution for the phosphor layer used in Example 1 and the solvent was dried at 120 ° C to obtain the phosphor layer. An image conversion panel was manufactured.

【0099】蛍光体:BaFBr0.85I0.15:Eu2+(粒子サイ
ズ3μmφ/7μmφ=5/5)1000g、結合剤としてポリウレ
タン樹脂(大日本インキ化学(株)製:パンデクスT-5205
の精製品の15%MEK溶液)236.6g、架橋剤としてポリイ
ソシアネート(日本ポリウレタン工業(株):コロネート
HX(固形分100%))4.5g、黄変防止剤としてエポキシ樹脂
(油化シエルエポキシ(株)製:EP1001の50%MEK溶液)2
0g、着色剤として群青(第一化成工業(株):SM-1)0.0
2gを、MEKに加え、ディスパーで分散し、粘度が3.5Pa・
s(20℃)の塗布液を調製した。これをシリコン系離型
剤が塗布されているポリエチレンテレフタレート(仮支
持体:厚み180μm)上に塗布し、120℃で乾燥した後、
仮支持体から剥離して蛍光体シート(厚み250μm)を形
成した。
Fluorescent substance: BaFBr 0.85 I 0.15 : 1000 g of Eu 2+ (particle size: 3 μmφ / 7 μmφ = 5/5), polyurethane resin (manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc .: Pandex T-5205)
236.6 g of a 15% MEK solution of purified water of the product), polyisocyanate as a crosslinking agent (Nippon Polyurethane Industry Co., Ltd .: Coronate)
HX (100% solids)) 4.5 g, epoxy resin (Yuika Shell Epoxy Co., Ltd .: 50% MEK solution of EP1001) as a yellowing inhibitor 2
0 g, ultramarine as a colorant (Daiichi Kasei Kogyo Co., Ltd .: SM-1) 0.0
Add 2g to MEK, disperse by disperser, viscosity 3.5Pa ・
s (20 ° C.) was prepared. This is applied on polyethylene terephthalate (temporary support: thickness 180 μm) coated with a silicone release agent, dried at 120 ° C.,
The phosphor sheet (250 μm in thickness) was peeled off from the temporary support.

【0100】(評価実験)次に、上記で得られた放射線
像変換パネルを、画質及び搬送耐久性について下記のよ
うに評価した。
(Evaluation Experiment) Next, the radiation image conversion panel obtained above was evaluated for image quality and transport durability as follows.

【0101】1.画質 放射線像変換パネルに、管電圧80kVpのX線を照射した
のち、He-Neレ−ザ−光(632.8nm )で走査して蛍光体
を励起し、蛍光体層から放射される輝尽発光を受光して
電気信号に変換し、これを画像再生装置によって画像と
して再生して表示装置上に画像を得た。得られた蛍光体
層から輝尽発光光量測定し、また、得られた画像の変調
伝達関数(MTF)(空間周波数:2サイクル/mm)により
鮮鋭度を、また0.1mRの線量における粒状性(RM)を測
定した。
1. Image quality After irradiating the radiation image conversion panel with X-rays at a tube voltage of 80 kVp, it is scanned with He-Ne laser light (632.8 nm) to excite the phosphor and stimulated emission emitted from the phosphor layer And converted into an electric signal, which was reproduced as an image by an image reproducing device to obtain an image on a display device. The amount of stimulated emission was measured from the obtained phosphor layer, the sharpness was determined by the modulation transfer function (MTF) (spatial frequency: 2 cycles / mm) of the obtained image, and the granularity at a dose of 0.1 mR ( RM).

【0102】2.搬送耐久性 放射線像変換パネルを 100mm×250mm の大きさに切断
し、得られた試験片を、図2に示す試験用の搬送装置内
にて搬送させた。まず、搬入口21から試験片を挿入し、
ガイド板22及びニップロール(直径25mm)23の間を移動
させ、搬送用ベルト24により、ゴムロール(直径40mm)
25に沿って内側に曲げ、次いで外側に曲げた後、さらに
ガイド板及びニップロール間を移動させた。この搬送操
作を繰り返し行ない、試験片の蛍光体層の損傷(亀裂)
を観察した。
2. Transport Durability The radiation image conversion panel was cut into a size of 100 mm × 250 mm, and the obtained test piece was transported in a transport device for testing shown in FIG. First, insert the test piece from the loading port 21,
It is moved between the guide plate 22 and the nip roll (diameter 25 mm) 23, and is transported by the conveyor belt 24 so that the rubber roll (diameter 40 mm) is used.
After bending inward along 25 and then bending outward, it was further moved between the guide plate and the nip roll. By repeating this transport operation, the phosphor layer of the test piece is damaged (cracked)
Was observed.

【0103】結果を表1に示す。なお発行量は比較例1
を100とした相対値により示した。
Table 1 shows the results. Note that the issue volume is Comparative Example 1.
Is shown as a relative value when 100 is taken.

【表1】 上記の実験結果から明らかなように、本発明の放射線像
変換パネルは走行耐久性に優れ、さらに発光量、鮮鋭
度、粒状性においても比較例より優れていた。また、同
時重層にて保護層を同時に塗布、乾燥・硬化させた放射
線像変換パネル(比較例3)は、搬送耐久性については
比較例と同等ではあるが、発光量、鮮鋭度、粒状性にお
いて比較例よりも特に優れていた。
[Table 1] As is clear from the above experimental results, the radiation image conversion panel of the present invention was excellent in running durability, and was also superior in emission amount, sharpness, and granularity as compared with the comparative example. Further, the radiation image conversion panel (Comparative Example 3), in which the protective layer was simultaneously coated, dried and cured in the simultaneous multilayer, has the same transport durability as the Comparative Example, but has the same light emission amount, sharpness, and granularity. It was particularly better than the comparative example.

【0104】以上のように、本発明の放射線像変換パネ
ルは、蛍光体層中の結合剤を、紫外線または電子線硬化
樹脂を含むものとし、かつこの蛍光体層を紫外線または
電子線の照射によって硬化したため、蛍光体層の生産性
を高く、かつ耐久性の高い、良好な画質を得ることがで
きる放射線像変換パネルとすることができた。
As described above, in the radiation image conversion panel of the present invention, the binder in the phosphor layer contains an ultraviolet ray or an electron beam curable resin, and this phosphor layer is cured by irradiation of an ultraviolet ray or an electron beam. As a result, a radiation image conversion panel having high phosphor layer productivity, high durability, and good image quality could be obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の第一の実施の形態を示す放射線像変換
パネルの一部断面図
FIG. 1 is a partial cross-sectional view of a radiation image conversion panel according to a first embodiment of the present invention.

【図2】放射線像変換パネルの試験用搬送装置FIG. 2 is a transport device for testing a radiation image conversion panel.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10 放射線像変換パネル 11 支持体 12 蛍光体層 13 保護層 10 Radiation image conversion panel 11 Support 12 Phosphor layer 13 Protective layer

Claims (13)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 結合剤中に輝尽性蛍光体を分散した蛍光
体層を有する放射線像変換パネルにおいて、前記結合剤
が紫外線または電子線硬化樹脂を含むものであって、前
記蛍光体層が紫外線または電子線の照射によって硬化さ
れていることを特徴とする放射線像変換パネル。
1. A radiation image conversion panel having a phosphor layer in which a stimulable phosphor is dispersed in a binder, wherein the binder contains an ultraviolet or electron beam curable resin, and the phosphor layer is A radiation image conversion panel, which is cured by irradiation of ultraviolet rays or electron beams.
【請求項2】 前記結合剤がさらに、エポキシ樹脂、脂
環式エポキシ樹脂、グリシジルエーテルエポキシ樹脂か
らなる群より選択される少なくとも1種の樹脂を含むも
のであることを特徴とする請求項1記載の放射線像変換
パネル。
2. The radiation according to claim 1, wherein the binder further comprises at least one resin selected from the group consisting of an epoxy resin, an alicyclic epoxy resin, and a glycidyl ether epoxy resin. Image conversion panel.
【請求項3】 前記紫外線または電子線硬化樹脂が、ラ
ジカル重合系樹脂であることを特徴とする請求項1また
は2記載の放射線像変換パネル。
3. The radiation image conversion panel according to claim 1, wherein the ultraviolet or electron beam curable resin is a radical polymerizable resin.
【請求項4】 前記ラジカル重合系樹脂が無黄変ウレタ
ン系アクリレートまたはポリエステル系アクリレートで
あることを特徴とする請求項3記載の放射線像変換パネ
ル。
4. The radiation image storage panel according to claim 3, wherein the radical polymerization resin is a non-yellowing urethane acrylate or a polyester acrylate.
【請求項5】 前記紫外線または電子線硬化樹脂が、カ
チオン重合系樹脂であることを特徴とする請求項1また
は2記載の放射線像変換パネル。
5. The radiation image conversion panel according to claim 1, wherein the ultraviolet or electron beam curable resin is a cationic polymerization resin.
【請求項6】 前記カチオン重合系樹脂が無黄変ウレタ
ン系ビニルエーテルまたはポリエステル系ビニルエーテ
ルであることを特徴とする請求項5記載の放射線像変換
パネル。
6. The radiation image storage panel according to claim 5, wherein the cationic polymerization resin is non-yellowing urethane vinyl ether or polyester vinyl ether.
【請求項7】 前記紫外線または電子線硬化樹脂の重量
平均分子量が2000〜20000 であることを特徴とする請求
項1から6いずれか1項記載の放射線像変換パネル。
7. The radiation image conversion panel according to claim 1, wherein the ultraviolet or electron beam curable resin has a weight average molecular weight of 2,000 to 20,000.
【請求項8】 前記紫外線または電子線硬化樹脂の硬化
後の破断伸度が 100%以上であることを特徴とする請求
項1から7いずれか1項記載の放射線像変換パネル。
8. The radiation image conversion panel according to claim 1, wherein a breaking elongation after curing of the ultraviolet ray or electron beam curing resin is 100% or more.
【請求項9】 前記蛍光体層の硬化後、該蛍光体層が圧
縮処理されていることを特徴とする請求項1から8いず
れか1項記載の放射線像変換パネル。
9. The radiation image conversion panel according to claim 1, wherein the phosphor layer has been subjected to a compression treatment after the curing of the phosphor layer.
【請求項10】 前記蛍光体層の表面に保護層が積層さ
れていることを特徴とする請求項1から9いずれか1項
記載の放射線像変換パネル。
10. The radiation image conversion panel according to claim 1, wherein a protective layer is laminated on a surface of the phosphor layer.
【請求項11】 前記保護層が前記紫外線または電子線
硬化樹脂を含み、前記保護層が前記紫外線または電子線
の照射によって硬化されたものであることを特徴とする
請求項10記載の放射線像変換パネル。
11. The radiation image converter according to claim 10, wherein the protective layer contains the ultraviolet or electron beam curable resin, and the protective layer is cured by irradiation with the ultraviolet or electron beam. panel.
【請求項12】 前記保護層と前記蛍光体層との間に樹
脂フィルムが設けられていることを特徴とする請求項1
0または11記載の放射線像変換パネル。
12. A resin film is provided between the protective layer and the phosphor layer.
12. The radiation image conversion panel according to 0 or 11.
【請求項13】 前記保護層が前記蛍光体層上に直接設
けられていることを特徴とする請求項10または11記
載の放射線像変換パネル。
13. The radiation image conversion panel according to claim 10, wherein the protective layer is provided directly on the phosphor layer.
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1715022A4 (en) * 2004-01-29 2009-04-15 Univ Keio Metal oxide phosphor microparticle and process for producing the same; utilizing the same, dispersion liquid, fluorescence conversion membrane, method of separating metal oxide phosphor microparticle, fluorescent liquid, fluorescent paste, phosphor and process for producing the same; and fluorescenc
WO2011087101A1 (en) * 2010-01-15 2011-07-21 株式会社ブリヂストン Photocurable resin composition and light-emitting element sealant
WO2013005794A1 (en) * 2011-07-05 2013-01-10 デクセリアルズ株式会社 Composition for forming fluorescent sheet

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1715022A4 (en) * 2004-01-29 2009-04-15 Univ Keio Metal oxide phosphor microparticle and process for producing the same; utilizing the same, dispersion liquid, fluorescence conversion membrane, method of separating metal oxide phosphor microparticle, fluorescent liquid, fluorescent paste, phosphor and process for producing the same; and fluorescenc
US7883641B2 (en) 2004-01-29 2011-02-08 Keio University Metal oxide phosphor microparticle and process for producing the same; utilizing the same, dispersion liquid, fluorescence conversion membrane, method of separating metal oxide phosphor microparticle, fluorescent liquid, fluorescent paste, phosphor and process for producing the same; and fluorescence converter
WO2011087101A1 (en) * 2010-01-15 2011-07-21 株式会社ブリヂストン Photocurable resin composition and light-emitting element sealant
JP2011144276A (en) * 2010-01-15 2011-07-28 Bridgestone Corp Photocurable resin composition and sealing material for light emitting element
WO2013005794A1 (en) * 2011-07-05 2013-01-10 デクセリアルズ株式会社 Composition for forming fluorescent sheet

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