JP2002148395A - Radiation emission panel - Google Patents

Radiation emission panel

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JP2002148395A
JP2002148395A JP2000346079A JP2000346079A JP2002148395A JP 2002148395 A JP2002148395 A JP 2002148395A JP 2000346079 A JP2000346079 A JP 2000346079A JP 2000346079 A JP2000346079 A JP 2000346079A JP 2002148395 A JP2002148395 A JP 2002148395A
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JP
Japan
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layer
phosphor
radiation
group
ultraviolet
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JP2000346079A
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Japanese (ja)
Inventor
Hiroshi Ogawa
博 小川
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Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an edge bonded layer of a radiation emission panel being quick to harden and having high strength, moisture resistance and dirt resistance. SOLUTION: The radiation emission panel comprises a support layer 11, a phosphor layer 12 and a protective layer 13 stacked one on top of another in that order. The edge bonded layer 14 containing an ultraviolet- or electron- ray-cutting resin and a silicone macromonomer having a functional group capable of reacting with the resin is provided at the end of phosphor layer 12. The edge bonded layer 14 is irradiated with an ultraviolet ray or an electron ray to cure the layer 14.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、輝尽性蛍光体を利
用する放射線像変換方法に用いられる放射線像変換パネ
ルや、蛍光体によって透過放射線を可視光および/また
は紫外放射線に変換するためのX線写真用増感スクリー
ン等の放射線発光パネルに関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a radiation image conversion panel used in a radiation image conversion method using a stimulable phosphor, and a method for converting transmitted radiation into visible light and / or ultraviolet radiation by the phosphor. The present invention relates to a radiation emitting panel such as an intensifying screen for X-ray photography.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来の放射線写真法に代わる方法とし
て、たとえば特開昭55-12145号に記載されているような
輝尽性蛍光体を用いる放射線像変換方法が知られてい
る。この方法は、輝尽性蛍光体を含有する放射線像変換
パネル(蓄積性蛍光体シート)を利用するもので、被写
体を透過した、あるいは被検体から発せられた放射線を
パネルの輝尽性蛍光体に吸収させ、そののちに輝尽性蛍
光体を可視光線、赤外線などの電磁波(励起光)で時系
列的に励起することにより、輝尽性蛍光体中に蓄積され
ている放射線エネルギーを蛍光(輝尽発光光)として放
出させ、この蛍光を光電的に読み取って電気信号を得、
次いで得られた電気信号に基づいて被写体あるいは被検
体の放射線画像を可視像として再生するものである。読
取りを終えたパネルは、残存する画像の消去が行なわれ
た後、次の撮影のために備えられる。すなわち、放射線
像変換パネルは繰り返し使用される。
2. Description of the Related Art As an alternative to the conventional radiographic method, there is known a radiation image conversion method using a stimulable phosphor as described in, for example, JP-A-55-12145. This method uses a radiation image conversion panel (a stimulable phosphor sheet) containing a stimulable phosphor, and transmits radiation transmitted through a subject or emitted from a subject to the stimulable phosphor of the panel. And then stimulating the stimulable phosphor with electromagnetic waves (excitation light) such as visible light and infrared light in a time-series manner, so that the radiation energy accumulated in the stimulable phosphor is (Stimulated emission light), and the fluorescence is photoelectrically read to obtain an electric signal.
Then, a radiation image of the subject or the subject is reproduced as a visible image based on the obtained electric signal. The panel after reading is prepared for the next photographing after the remaining image is erased. That is, the radiation image conversion panel is used repeatedly.

【0003】この放射線像変換方法によれば、従来の放
射線写真フィルムと増感紙との組合せを用いる放射線写
真法による場合に比較して、はるかに少ない被曝線量で
情報量の豊富な放射線画像を得ることができるという利
点がある。さらに、従来の放射線写真法では一回の撮影
ごとに放射線写真フィルムを消費するのに対して、この
放射線像変換方法では放射線像変換パネルを繰返し使用
するので資源保護、経済効率の面からも有利である。
According to this radiographic image conversion method, a radiographic image with a large amount of information can be obtained with a much smaller exposure dose than the radiographic method using a combination of a conventional radiographic film and an intensifying screen. There is an advantage that it can be obtained. Furthermore, in contrast to the conventional radiographic method, which consumes radiographic film for each photographing operation, this radiographic image conversion method uses a radiographic image conversion panel repeatedly, which is advantageous in terms of resource conservation and economic efficiency. It is.

【0004】放射線像変換方法に用いられる放射線像変
換パネルは、基本構造として、支持体とその表面に設け
られた蛍光体層および保護層とからなるものである。蛍
光体層は、蛍光体とこれを分散状態で含有支持する結合
剤とからなる場合と、蒸着法や焼結法によって形成され
る結合剤を含まないで蛍光体の凝集体または結晶体から
構成されるものが知られている。また、蛍光体の凝集体
または結晶体の間隙に高分子物質が含浸されている蛍光
体層を有する放射線像変換パネルも知られている。これ
らいずれの蛍光体層でも、蛍光体はX線などの放射線を
吸収したのち励起光の照射を受けると発光を示す性質を
有するものであるから、被写体を透過したあるいは被検
体から発せられた放射線は、その放射線量に比例して瞬
時発光したり、放射蛍光体層に吸収され蓄積像として保
存される。蛍光体が輝尽性の場合にはこの蓄積像は、励
起光を照射することにより輝尽発光光として放出させる
ことができ、この光を光電素子で電気信号に変換するこ
とにより放射線エネルギーの蓄積像を画像化することが
可能となる。
The radiation image conversion panel used in the radiation image conversion method has, as a basic structure, a support and a phosphor layer and a protective layer provided on the surface of the support. The phosphor layer is composed of a phosphor and a binder containing and supporting the phosphor in a dispersed state, and an aggregate or a crystal of the phosphor without a binder formed by an evaporation method or a sintering method. Is known. There is also known a radiation image conversion panel having a phosphor layer in which a polymer substance is impregnated in a gap between phosphor aggregates or crystals. In any of these phosphor layers, the phosphor has the property of emitting light when irradiated with excitation light after absorbing radiation such as X-rays, so that radiation transmitted through the subject or emitted from the subject is used. Emits light instantaneously in proportion to the radiation dose or is absorbed by the emitting phosphor layer and stored as an accumulated image. When the phosphor is stimulable, this accumulated image can be emitted as stimulating light by irradiating with excitation light, and this light is converted into an electric signal by a photoelectric element to accumulate radiation energy. Images can be imaged.

【0005】蛍光体層の吸湿等による劣化を防ぐため、
あるいはパネルの機械的強度を高めるために、放射線像
変換パネルの各層の端部、すなわち放射線像変換パネル
稜部は、一般に熱硬化性の樹脂等で縁貼りして蛍光体層
を封止することが行われており、従来は、硬化剤として
イソシアネートやメラミンなどが使用されていた。ま
た、特開平5-119198号には、縁貼層に紫外線硬化(電子
線硬化)樹脂を使用することが記載されている。
In order to prevent the phosphor layer from being deteriorated due to moisture absorption or the like,
Alternatively, in order to increase the mechanical strength of the panel, the edge of each layer of the radiation image conversion panel, that is, the edge of the radiation image conversion panel is generally sealed with a thermosetting resin or the like to seal the phosphor layer. Conventionally, isocyanates, melamines, and the like have been used as curing agents. JP-A-5-119198 describes the use of an ultraviolet-curable (electron-beam-curable) resin for the edge application layer.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】しかし、従来知られて
いるような上記硬化剤や樹脂では、現在の繰返し使用に
要求されているような強度や防汚性を得ることは困難で
ある。また、硬化反応に時間がかかったり、経時により
硬化反応が進行してバインダーの物性が変化したりする
ために、生産性や品質設計上に課題があった。また、こ
れらの樹脂を塗工するためには多量の有機溶剤を使用し
なければならず、環境面からもあまり好ましいとはいえ
なかった。
However, it is difficult to obtain the strength and antifouling properties required for the current repetitive use with the above-mentioned curing agents and resins as conventionally known. In addition, there is a problem in productivity and quality design because the curing reaction takes time or the curing reaction progresses with time to change the physical properties of the binder. In addition, a large amount of an organic solvent has to be used to apply these resins, which is not so preferable from an environmental point of view.

【0007】本発明は、上記事情に鑑みなされたもので
あり、硬化反応時間が短く、物性が容易に制御でき、強
度や防湿性、防汚性が良好な縁貼層を有する、強度や耐
久性の向上した放射線発光パネルを提供することを目的
とするものである。
The present invention has been made in view of the above circumstances, has a short curing reaction time, can easily control physical properties, and has an edge adhesive layer having good strength, moisture resistance, and stain resistance. It is an object of the present invention to provide a radiation-emitting panel with improved performance.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】本発明の放射線発光パネ
ルは、支持体層と蛍光体層と保護層とをこの順に積層し
てなる放射線発光パネルにおいて、前記蛍光体層の端部
に、紫外線または電子線硬化樹脂と、該紫外線または電
子線硬化樹脂と反応可能な官能基を有するシリコーンマ
クロモノマーとを含む縁貼層が設けられ、該縁貼層が紫
外線または電子線の照射によって硬化されていることを
特徴とするものである。
According to the present invention, there is provided a radiation-emitting panel comprising a support layer, a phosphor layer, and a protective layer laminated in this order. Or an electron beam curable resin, and a border layer containing a silicone macromonomer having a functional group capable of reacting with the ultraviolet or electron beam curable resin is provided, and the border layer is cured by irradiation with ultraviolet rays or electron beams. It is characterized by having.

【0009】放射線発光パネルとは、輝尽性蛍光体を含
有する放射線像変換パネルの他、輝尽性でない蛍光体を
用いて透過放射線を可視光および/または紫外放射線に
変換するためのX線写真用増感スクリーンなども含む広
い概念である。
A radiation-emitting panel is a radiation image conversion panel containing a stimulable phosphor or an X-ray for converting transmitted radiation into visible light and / or ultraviolet radiation using a non-stimulable phosphor. This is a broad concept including intensifying screens for photographs.

【0010】前記蛍光体層の端部に縁貼層が設けられと
は、蛍光体層の端部が外気に露出しないように縁貼層が
設けられていることを意味し、蛍光体層の端部のみに縁
貼層が設けられている場合はもちろん、保護層と蛍光体
層と支持体の端部全体を包み込むように設けられている
場合なども含まれる。
[0010] The provision of the border layer at the end of the phosphor layer means that the border layer is provided so that the end of the phosphor layer is not exposed to the outside air. This includes not only the case where the edge sticking layer is provided only at the end but also the case where it is provided so as to cover the entire end of the protective layer, the phosphor layer and the support.

【0011】前記紫外線または電子線硬化樹脂と反応可
能な官能基は、前記シリコーンマクロモノマーの分子の
片末端にあることが好ましい。また、前記シリコーンマ
クロモノマーの官能基はメタクリロキシ基であることが
好ましい。前記シリコーンマクロモノマーの数平均分子
量は、5000から20000 であることが好ましく、10000か
ら15000であることがより好ましい。
Preferably, the functional group capable of reacting with the ultraviolet or electron beam curable resin is at one end of the molecule of the silicone macromonomer. Further, the functional group of the silicone macromonomer is preferably a methacryloxy group. The number average molecular weight of the silicone macromonomer is preferably from 5,000 to 20,000, more preferably from 10,000 to 15,000.

【0012】前記紫外線または電子線硬化樹脂が有する
硬化性官能基は、ビニル基またはアクリレート基である
ことが好ましい。
The curable functional group of the ultraviolet or electron beam curable resin is preferably a vinyl group or an acrylate group.

【0013】前記縁貼層の前記蛍光体層の端面における
厚みは、5μm以上1000μm以下であることが好ましく、
10μmから500μm であることがより好ましい。ここでい
う縁貼層の厚みとは、縁貼層の、蛍光体層の端面に接触
している部分における蛍光体層の端面に対して垂直方向
の厚みを意味し、この部分の厚みに幅がある場合には、
その一番薄い部分が5μm以上、一番厚い部分が1000μm
以下であることを意味する。
Preferably, the thickness of the border layer at the end face of the phosphor layer is 5 μm or more and 1000 μm or less,
More preferably, it is 10 μm to 500 μm. The thickness of the rim layer here means the thickness of the rim layer in a direction perpendicular to the end face of the phosphor layer at a portion in contact with the end face of the phosphor layer, and the width of the thickness of this part is If there is
The thinnest part is more than 5μm, the thickest part is 1000μm
It means the following.

【0014】[0014]

【発明の効果】本発明の放射線発光パネルは、蛍光体層
の端部に、紫外線または電子線硬化樹脂と、この紫外線
または電子線硬化樹脂と反応可能な官能基を有するシリ
コーンマクロモノマーとを含む縁貼層が設けられ、この
縁貼層が紫外線または電子線の照射によって硬化されて
いるため、強度や防湿性、防汚性が良好な縁貼層を有す
る、強度や耐久性の向上した放射線発光パネルを得るこ
とができる。
The radiation-emitting panel according to the present invention comprises, at the end of the phosphor layer, an ultraviolet or electron beam curable resin and a silicone macromonomer having a functional group capable of reacting with the ultraviolet or electron beam curable resin. An edge adhesive layer is provided, and since this edge adhesive layer is cured by irradiation with ultraviolet rays or electron beams, the radiation having improved strength and durability having an edge adhesive layer having good strength, moisture resistance, and stain resistance. A light-emitting panel can be obtained.

【0015】すなわち、従来の硬化剤からなる縁貼層の
場合には、硬化反応に時間がかかったり、経時により硬
化反応が進行するために製造工程において時間がかかる
といった生産性において課題があったが、本発明の縁貼
層は、紫外線または電子線硬化樹脂と、この紫外線また
は電子線硬化樹脂と反応可能な官能基を有するシリコー
ンマクロモノマーとを含み、これを紫外線または電子線
の照射によって硬化するので、硬化時間が短く、従って
生産性の向上を図ることができる。
That is, in the case of the conventional adhesive layer made of a curing agent, there is a problem in productivity such that the curing reaction takes a long time, and the curing reaction progresses with time, so that it takes time in the manufacturing process. However, the edge application layer of the present invention contains an ultraviolet or electron beam curable resin, and a silicone macromonomer having a functional group capable of reacting with the ultraviolet or electron beam curable resin, which is cured by irradiation with ultraviolet light or electron beam. Therefore, the curing time is short, and thus the productivity can be improved.

【0016】また、紫外線または電子線硬化樹脂と、さ
らにこの樹脂と反応可能な官能基を有するシリコーンマ
クロモノマーとを含んでいるため、従来の紫外線または
電子線硬化樹脂のみからなる縁貼層に比較して、格段に
強度を向上させることができ、現在の繰返し使用に充分
対応可能な強度と防汚性の向上した放射線発光パネルを
得ることが可能である。
Further, since it contains an ultraviolet or electron beam curable resin and a silicone macromonomer having a functional group capable of reacting with this resin, it can be compared with a conventional edge adhesive layer consisting of only an ultraviolet or electron beam curable resin. As a result, it is possible to remarkably improve the strength, and it is possible to obtain a radiation-emitting panel that has sufficient strength and antifouling property that can sufficiently cope with the current repeated use.

【0017】なお、紫外線または電子線硬化樹脂と反応
可能な官能基が、シリコーンマクロモノマー分子の片末
端にある場合や、シリコーンマクロモノマーの官能基が
メタクリロキシ基である場合、あるいは紫外線または電
子線硬化樹脂が有する硬化性官能基がビニル基またはア
クリレート基であるには、縁貼層の硬化時間をより短
く、また縁貼層の強度や防汚性をより向上させることが
できる。
When a functional group capable of reacting with an ultraviolet or electron beam curable resin is present at one end of a silicone macromonomer molecule, when a silicone macromonomer is a methacryloxy group, or when an ultraviolet or electron beam curable resin is used. When the curable functional group of the resin is a vinyl group or an acrylate group, the curing time of the border patch layer can be shortened, and the strength and stain resistance of the border patch layer can be further improved.

【0018】また、従来の紫外線または電子線硬化樹脂
からなる縁貼層の場合には、樹脂を塗工するために多量
の有機溶剤を使用しなければならなかったが、本発明の
縁貼層は、シリコーンマクロモノマーを含んでいるた
め、有機溶剤を使用しなくても支障なく塗工することが
可能となり、また、使用する場合であってもその使用量
を減らすことができる。
Further, in the case of the conventional adhesive layer made of ultraviolet or electron beam curable resin, a large amount of organic solvent had to be used for coating the resin. Since it contains a silicone macromonomer, it can be applied without any trouble without using an organic solvent, and even when it is used, its usage can be reduced.

【0019】さらに、シリコーンマクロモノマーは防汚
性が高いため、これを含有する縁貼層は高い防汚性を獲
得することが可能となり、シリコーンマクロモノマーの
数平均分子量が5000から20000 である場合には、さらに
防汚性を向上させることができる。
Further, since the silicone macromonomer has a high antifouling property, the edge adhesive layer containing the silicone macromonomer can obtain a high antifouling property, and when the number average molecular weight of the silicone macromonomer is 5,000 to 20,000, In addition, the antifouling property can be further improved.

【0020】前記縁貼層の前記蛍光体層の端面における
厚みが、5μm以上1000μm以下である場合には、蛍光体
層の吸湿を効果的に防止しながら、生産性の高い放射線
発光パネルとすることができる。
When the thickness of the border layer at the end face of the phosphor layer is 5 μm or more and 1000 μm or less, a radiation-emitting panel having high productivity is obtained while effectively preventing the phosphor layer from absorbing moisture. be able to.

【0021】なお、本発明は輝尽性でない蛍光体を用い
て透過放射線を可視光および/または紫外放射線に変換
するためのパネル、例えばX線写真用増感スクリーン等
の蛍光体層の強度や耐久性向上にも有用であるが、輝尽
性蛍光体を用いた放射線像変換パネルにおいて極めて有
用である。
The present invention relates to a panel for converting transmitted radiation into visible light and / or ultraviolet radiation using a phosphor which is not stimulable, for example, the strength of a phosphor layer such as an intensifying screen for X-ray photography. Although useful for improving the durability, it is extremely useful for a radiation image conversion panel using a stimulable phosphor.

【0022】[0022]

【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施の形態について説明する。図1は本発明の第一の実施
の形態を示す放射線発光パネルの断面図、図2は本発明
の第二の実施の形態を示す放射線発光パネルの断面図、
図3は本発明の第三の実施の形態を示す放射線発光パネ
ルの断面図である。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is a cross-sectional view of a radiation-emitting panel showing a first embodiment of the present invention, FIG. 2 is a cross-sectional view of a radiation-emitting panel showing a second embodiment of the present invention,
FIG. 3 is a sectional view of a radiation-emitting panel according to a third embodiment of the present invention.

【0023】図1に示すように、本発明の第一の実施の
形態を示す放射線発光パネル10は、支持体11の上に蛍光
体層12が積層され、蛍光体層12の上にさらに保護層13が
積層されており、蛍光体層12の端部が縁貼層14により封
止されているものである。このように縁貼層14は、蛍光
体層12を封止するものであれば、図1に示すように支持
体11、蛍光体層12、保護層13の全体を包み込んで蛍光体
層12を封止するものであってもよい。
As shown in FIG. 1, a radiation-emitting panel 10 according to the first embodiment of the present invention has a phosphor layer 12 laminated on a support 11 and further protected on the phosphor layer 12. The layer 13 is laminated, and the end of the phosphor layer 12 is sealed by the edge sticking layer 14. As described above, if the edge sticking layer 14 seals the phosphor layer 12, as shown in FIG. 1, the support 11, the phosphor layer 12, and the protective layer 13 are entirely wrapped around the phosphor layer 12 to form the phosphor layer 12. It may be sealed.

【0024】また、図2に示すように、蛍光体層22が支
持体21よりも小さい状態の放射線発光パネル20である場
合には、縁貼層24が支持体21の縁部分に載って蛍光体層
22を封止するものであってもよい。但し、この場合、蛍
光体層22の側面部分が露出していると、わずかな露出部
分から吸湿が起こるため、保護層23の側面部分まで縁貼
層24を設けることが必要であり、図2に示すように、保
護層23の上面部分まで封止することがより好ましい。
As shown in FIG. 2, when the phosphor layer 22 is a radiation-emitting panel 20 in a state smaller than the support 21, the edge sticking layer 24 is placed on the edge of the support 21 and the fluorescent layer 22 is placed on the edge of the support 21. Body layer
22 may be sealed. However, in this case, if the side surface portion of the phosphor layer 22 is exposed, moisture is absorbed from a slightly exposed portion. Therefore, it is necessary to provide the edge adhesive layer 24 to the side surface portion of the protective layer 23. It is more preferable to seal up to the upper surface portion of the protective layer 23 as shown in FIG.

【0025】また、図3に示すように、蛍光体層32が支
持体31よりも小さく、保護層33よりも小さい放射線発光
パネル30の場合には、蛍光体層32が露出しないように例
えば、図に示すように蛍光体層32にキャップをするよう
に縁貼層34を設けることが好ましい。
As shown in FIG. 3, in the case of a radiation-emitting panel 30 in which the phosphor layer 32 is smaller than the support 31 and smaller than the protective layer 33, for example, the phosphor layer 32 is not exposed so that the phosphor layer 32 is not exposed. As shown in the figure, it is preferable to provide an edge sticking layer 34 so as to cap the phosphor layer 32.

【0026】縁貼層の蛍光体層の端面における厚みと
は、縁貼層の、蛍光体層の端面に接触している部分にお
ける蛍光体層の端面に対して垂直方向の厚みを意味し、
図1ではd1、図2ではd2、図3ではd3である。この縁貼
層の厚みは5〜1000μmが好ましく、10〜500μmであるこ
とがより好ましい。5μmよりも薄い場合には、蛍光体層
に対する防湿や強度の面から充分な効果が得られず、10
00μm よりも厚い場合には生産性の向上が期待できな
い。
The thickness of the border layer at the end face of the phosphor layer means a thickness of a portion of the border layer in contact with the end face of the phosphor layer in a direction perpendicular to the end face of the phosphor layer,
1 is d1, FIG. 2 is d2, and FIG. 3 is d3. The thickness of the border layer is preferably from 5 to 1000 μm, more preferably from 10 to 500 μm. If the thickness is less than 5 μm, sufficient effects cannot be obtained in terms of moisture proof and strength for the phosphor layer,
When the thickness is larger than 00 μm, improvement in productivity cannot be expected.

【0027】次に本発明の放射線発光パネルの各層につ
いて、蛍光体層、支持体、保護層、縁貼層の順にさらに
詳細に説明する。まず、本発明の放射線発光パネルの蛍
光体層の蛍光体が輝尽性蛍光体である場合について述べ
る。輝尽性蛍光体は、先に述べたように放射線を照射し
た後、励起光を照射すると輝尽発光を示す蛍光体である
が、実用的な面からは波長が400〜900nmの範囲にある励
起光によって300〜500nmの波長範囲の輝尽発光を示す蛍
光体であることが望ましい。本発明の放射線像変換パネ
ルに用いられる輝尽性蛍光体の例としては、特公平7-84
588号等に記載されている。
Next, each layer of the radiation-emitting panel of the present invention will be described in more detail in the order of the phosphor layer, the support, the protective layer, and the border layer. First, the case where the phosphor of the phosphor layer of the radiation-emitting panel of the present invention is a stimulable phosphor will be described. The stimulable phosphor is a phosphor that emits stimulable light when irradiated with radiation and then irradiated with excitation light as described above, but the wavelength is in the range of 400 to 900 nm from a practical viewpoint. It is desirable that the phosphor be a phosphor that shows stimulated emission in a wavelength range of 300 to 500 nm by the excitation light. Examples of the stimulable phosphor used in the radiation image storage panel of the present invention include JP-B-7-84.
No. 588, etc.

【0028】一般式 (M1-f・Mf I)X・bMIIIX3″:cA(I)
で表される輝尽性蛍光体が好ましい。輝尽発光輝度の点
から一般式(I)における Mとしては、Rb,Csおよ
び/またはCsを含有したNa、同Kが好ましく、特にRbお
よびCsから選ばれる少なくとも一種のアルカリ金属が好
ましい。MIII としてはY,La,Lu,Al,GaおよびInか
ら選ばれる少なくとも一種の三価金属が好ましい。X″
としては、F,ClおよびBrから選ばれる少なくとも一種
のハロゲンが好ましい。MIIIX3″の含有率を表すb値は
0≦b≦10-2の範囲から選ばれるのが好ましい。
General formula (M 1 -f · M f I ) X · bM III X3 ″: cA (I)
The stimulable phosphor represented by From the viewpoint of the stimulated emission luminance, M I in the general formula (I) is preferably Na and K containing Rb, Cs and / or Cs, and particularly preferably at least one alkali metal selected from Rb and Cs. M III is preferably at least one trivalent metal selected from Y, La, Lu, Al, Ga and In. X "
Is preferably at least one halogen selected from F, Cl and Br. The b value representing the content of M III X3 ″ is preferably selected from the range of 0 ≦ b ≦ 10 −2 .

【0029】一般式(I)において、賦活剤Aとしては
Eu,Tb,Ce,Tm,Dy,Ho,Gd,Sm,TlおよびNaから選ば
れる少なくとも一種の金属が好ましく、特にEu,Ce,S
m,TlおよびNaから選ばれる少なくとも一種の金属が好
ましい。また、賦活剤の量を表すC値は10-6<C<0.1
の範囲から選ばれるのが輝尽発光輝度の点から好まし
い。
In the general formula (I), the activator A is
At least one metal selected from the group consisting of Eu, Tb, Ce, Tm, Dy, Ho, Gd, Sm, Tl and Na is preferable, and especially Eu, Ce, S
At least one metal selected from m, Tl and Na is preferred. The C value representing the amount of the activator is 10 −6 <C <0.1.
It is preferable from the viewpoint of photostimulated light emission luminance.

【0030】また、さらに以下の輝尽性蛍光体も用いる
ことができる。米国特許第3,859,527号明細書に記載さ
れているSrS:Ce,Sm、SrS:Eu,Sm、ThO2:Er、およびLa2O2
S:Eu,Sm、
Further, the following stimulable phosphors can also be used. U.S. patents listed in the 3,859,527 Pat SrS: Ce, Sm, SrS: Eu, Sm, ThO 2: Er, and La 2 O 2
S: Eu, Sm,

【0031】特開昭55-12142号に記載されている ZnS:C
u,Pb、BaO・xAl2O3:Eu(ただし、0.8≦x≦10)、およ
び、MIIO・xSiO2 :A(ただし、MIIはMg,Ca,Sr,Zn,C
d、またはBaであり、AはCe,Tb,Eu,Tm,Pb,Tl,Bi
またはMnであり、xは0.5≦x≦2.5である)、
ZnS: C described in JP-A-55-12142
u, Pb, BaO.xAl 2 O 3 : Eu (0.8 ≦ x ≦ 10) and M II O.xSiO 2 : A (where M II is Mg, Ca, Sr, Zn, C
d or Ba, and A is Ce, Tb, Eu, Tm, Pb, Tl, Bi
Or Mn, and x is 0.5 ≦ x ≦ 2.5),

【0032】特開昭55-12143号に記載されている (Ba
1-X-y ,MgX ,Cay )FX:aEu2+(ただし、X はClおよびBrの
うちの少なくとも一種であり、xおよびyは、0<x+y
≦0.6、かつxy≠0であり、aは、10-6≦a≦5×10-2
ある)、
(Ba) described in JP-A-55-12143
1-Xy , Mg X , Ca y ) FX: aEu 2+ (where X is at least one of Cl and Br, and x and y are 0 <x + y
≦ 0.6 and xy ≠ 0, and a is 10 −6 ≦ a ≦ 5 × 10 −2 ),

【0033】特開昭55-12144号に記載されている LnOX:
xA(ただし、LnはLa,Y,Gd、およびLuのうちの少なく
とも一種、XはClおよびBrのうちの少なくとも一種、Aは
CeおよびTbのうちの少なくとも一種、そして、xは、0
<x<0.1である)、
LnOX described in JP-A-55-12144:
xA (where Ln is at least one of La, Y, Gd, and Lu, X is at least one of Cl and Br, and A is
At least one of Ce and Tb, and x is 0
<X <0.1),

【0034】特開昭55-12145号に記載されている(B
a1-X,M2+ X)FX:yA(ただし、M2+はMg,Ca,Sr,Zn、およ
びCdのうちの少なくとも一種、XはCl,BrおよびIのう
ちの少なくとも一種、AはEu,Tb,Ce,Tm,Dy,Pr,H
o,Nd,YbおよびErのうちの少なくとも一種、そしてx
は0≦x≦0.6、yは0≦y≦0.2である)、
It is described in JP-A-55-12145 (B
a 1-X , M 2+ X ) FX: yA (where M 2+ is at least one of Mg, Ca, Sr, Zn and Cd, X is at least one of Cl, Br and I, A Are Eu, Tb, Ce, Tm, Dy, Pr, H
at least one of o, Nd, Yb and Er, and x
Is 0 ≦ x ≦ 0.6, y is 0 ≦ y ≦ 0.2),

【0035】特開昭55-160078号に記載されているMIIFX
・xA:yLn(ただし、MIIはBa,Ca,Sr,Mg,ZnおよびCd
のうちの少なくとも一種、AはBeO,MgO,CaO,SrO,Ba
O,ZnO,Al2O3,Y2O3,La2O3,In2O3,SiO2,TiO2,ZrO
2,GeO2,SnO2,Nb2O5,Ta2O5およびThO2 のうちの少な
くとも一種、LnはEu,Tb,Ce,Tm,Dy,Pr,Ho,Nd,Y
b,Er,SmおよびGdのうちの少なくとも一種、XはCl,B
rおよびIのうちの少なくとも一種であり、xおよびyは
それぞれ 5×10-5≦x≦0.5、および0<y≦0.2である)
の組成式で表わされる蛍光体、
M II FX described in JP-A-55-160078
· XA: yLn (However, M II is Ba, Ca, Sr, Mg, Zn and Cd
A is BeO, MgO, CaO, SrO, Ba
O, ZnO, Al 2 O 3 , Y 2 O 3 , La 2 O 3 , In 2 O 3 , SiO 2 , TiO 2 , ZrO
2 , GeO 2 , SnO 2 , Nb 2 O 5 , at least one of Ta 2 O 5 and ThO 2 , Ln is Eu, Tb, Ce, Tm, Dy, Pr, Ho, Nd, Y
X is Cl, B at least one of b, Er, Sm and Gd
at least one of r and I, wherein x and y are respectively 5 × 10 −5 ≦ x ≦ 0.5 and 0 <y ≦ 0.2)
A phosphor represented by the composition formula:

【0036】特開昭56-116777号に記載されている(Ba
1-X,MII X)F2・aBaX2:yEu,zA(ただし、MIIはベリリウ
ム,マグネシウム,カルシウム,ストロンチウム,亜鉛
およびカドミウムのうちの少なくとも一種、Xは塩素,
臭素およびヨウ素のうちの少なくとも一種、Aはジルコ
ニウムおよびスカンジウムのうちの少なくとも一種であ
り、a、x、y、およびzはそれぞれ 0.5≦a≦1.25、
0≦x≦1、10-6≦y≦2×10-1、および0<z≦10-2
である)の組成式で表わされる蛍光体、
JP-A-56-116777 describes (Ba
1-X , M II X ) F 2 · aBaX 2 : yEu, zA (where M II is at least one of beryllium, magnesium, calcium, strontium, zinc and cadmium, X is chlorine,
At least one of bromine and iodine, A is at least one of zirconium and scandium, and a, x, y, and z are each 0.5 ≦ a ≦ 1.25,
0 ≦ x ≦ 1, 10 −6 ≦ y ≦ 2 × 10 −1 , and 0 <z ≦ 10 −2
Is a phosphor represented by the composition formula:

【0037】特開昭57-23673号に記載されている(B
a1-X,MII X)F2・aBaX2:yEu,zB(ただし、M II はベリリウ
ム,マグネシウム,カルシウム,ストロンチウム,亜鉛
およびカドミウムのうちの少なくとも一種、Xは塩素,
臭素およびヨウ素のうちの少なくとも一種であり、a、
x、y、およびzはそれぞれ0.5≦a≦1.25、0≦x≦
1、10-6≦y≦2×10-1、および0<z≦10-2である)
の組成式で表わされる蛍光体、
It is described in JP-A-57-23673 (B
a1-X, MII X) FTwo・ ABaXTwo: yEu, zB (where M IIIs Belliriu
, Magnesium, calcium, strontium, zinc
And at least one of cadmium and X is chlorine,
At least one of bromine and iodine, a,
x, y, and z are respectively 0.5 ≦ a ≦ 1.25, 0 ≦ x ≦
1, 10-6≦ y ≦ 2 × 10-1, And 0 <z ≦ 10-2Is)
A phosphor represented by a composition formula of

【0038】特開昭57-23675号に記載されている(B
a1-X,MII X)F2・aBaX2:yEu,zA(ただし、MIIはベリリウ
ム,マグネシウム,カルシウム,ストロンチウム,亜鉛
およびカドミウムのうちの少なくとも一種、Xは塩素,
臭素およびヨウ素のうちの少なくとも一種、Aは砒素お
よび硅素のうちの少なくとも一種であり、a、x、y、
およびzはそれぞれ0.5≦a≦1.25、0≦x≦1、10-6
≦y≦2×10-1、および0<z≦5×10-1である)の組成
式で表わされる蛍光体、
As described in JP-A-57-23675 (B
a 1-X , M II X ) F 2 aBaX 2 : yEu, zA (where M II is at least one of beryllium, magnesium, calcium, strontium, zinc and cadmium, X is chlorine,
A is at least one of bromine and iodine, A is at least one of arsenic and silicon, and a, x, y,
And z are respectively 0.5 ≦ a ≦ 1.25, 0 ≦ x ≦ 1, 10 −6
≦ y ≦ 2 × 10 −1 , and 0 <z ≦ 5 × 10 −1 ).

【0039】特開昭58-69281号に記載されている MIIIO
X:xCe(ただし、MIIIはPr,Nd,Pm,Sm,Eu,Tb,Dy,H
o,Er,Tm,YbおよびBiからなる群より選ばれる少なく
とも一種の三価金属であり、XはClおよびBrのうちのい
ずれか一方あるいはその両方であり、xは0<x<0.1
である)の組成式で表わされる蛍光体、
M III O described in JP-A-58-69281
X: xCe (where M III is Pr, Nd, Pm, Sm, Eu, Tb, Dy, H
at least one trivalent metal selected from the group consisting of o, Er, Tm, Yb and Bi, X is one or both of Cl and Br, and x is 0 <x <0.1
Is a phosphor represented by the composition formula:

【0040】特開昭58-206678号に記載されているBa1-X
MX/2X/2FX:yEu2+(ただし、MはLi,Na,K,Rbおよ
びCsからなる群より選ばれる少なくとも一種のアルカリ
金属を表わし;Lは、Sc,Y,La,Ce,Pr,Nd,Pm,S
m,Gd,Tb,Dy,Ho,Er,Tm,Yb,Lu,Al,Ga,Inおよ
びTlからなる群より選ばれる少なくとも一種の三価金属
を表わし;X は、Cl,BrおよびIからなる群より選ばれ
る少なくとも一種のハロゲンを表わし;そして、xは10
-2≦x≦0.5、yは0<y≦0.1である)の組成式で表わ
される蛍光体、
Ba 1-X described in JP-A-58-206678
M X / 2 L X / 2 FX: yEu 2+ (where M represents at least one alkali metal selected from the group consisting of Li, Na, K, Rb and Cs; L represents Sc, Y, La, Ce, Pr, Nd, Pm, S
represents at least one trivalent metal selected from the group consisting of m, Gd, Tb, Dy, Ho, Er, Tm, Yb, Lu, Al, Ga, In and Tl; X is Cl, Br and I Represents at least one halogen selected from the group; and x is 10
-2 ≦ x ≦ 0.5, and y is 0 <y ≦ 0.1).

【0041】特開昭59-27980号に記載のBaFX・xA:yEu2+
(ただし、Xは、Cl,BrおよびIからなる群より選ばれ
る少なくとも一種のハロゲンであり;Aはテトラフルオ
ロホウ酸化合物の焼成物であり;そして、xは10-6
x≦0.1、yは0<y≦0.1 である)の組成式で表わさ
れる蛍光体、
BaFX.xA: yEu 2+ described in JP-A-59-27980
(Where X is at least one halogen selected from the group consisting of Cl, Br and I; A is a calcined product of a tetrafluoroborate compound; and x is 10 −6
x ≦ 0.1, y is 0 <y ≦ 0.1) phosphor represented by the composition formula:

【0042】特開昭59-47289号に記載されているBaFX・x
A:yEu2+(ただし、Xは、Cl,BrおよびIからなる群よ
り選ばれる少なくとも一種のハロゲンであり;Aは、ヘキ
サフルオロケイ酸,ヘキサフルオロチタン酸およびヘキ
サフルオロジルコニウム酸の一価もしくは二価金属の塩
からなるヘキサフルオロ化合物群より選ばれる少なくと
も一種の化合物の焼成物であり;そして、xは10-6≦x
≦0.1、yは0<y≦0.1 である)の組成式で表わされ
る蛍光体、
BaFX · x described in JP-A-59-47289
A: yEu 2+ (where X is at least one halogen selected from the group consisting of Cl, Br and I; A is monovalent or hexafluorosilicic acid, hexafluorotitanic acid and hexafluorozirconic acid) X is a calcined product of at least one compound selected from the group of hexafluoro compounds consisting of salts of divalent metals; and x is 10 −6 ≦ x
≦ 0.1, y is 0 <y ≦ 0.1) phosphor represented by the composition formula:

【0043】特開昭59-56479号に記載されているBaFX・x
NaX′:aEu2+(ただし、XおよびX′は、それぞれCl、B
r、およびIのうちの少なくとも一種であり、xおよび
aはそれぞれ0<x≦2、および0<a≦0.2である)
の組成式で表わされる蛍光体、
BaFX · x described in JP-A-59-56479
NaX ′: aEu 2+ (where X and X ′ are Cl, B
r and at least one of I, wherein x and a are respectively 0 <x ≦ 2 and 0 <a ≦ 0.2)
A phosphor represented by the composition formula:

【0044】特開昭59-56480号に記載されているMIIFX
・xNaX′:yEu2+:zA(ただし、MIIは、Ba,SrおよびCaか
らなる群より選ばれる少なくとも一種のアルカリ土類金
属であり;X およびX′は、それぞれCl,BrおよびIか
らなる群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンであ
り;Aは、V,Cr,Mn,Fe,CoおよびNiより選ばれる少な
くとも一種の遷移金属であり;そして、xは0<x≦
2、yは0<y≦0.2、およびzは0<z≦10-2であ
る)の組成式で表わされる蛍光体、
M II FX described in JP-A-59-56480
XNaX ': yEu 2+ : zA (where M II is at least one alkaline earth metal selected from the group consisting of Ba, Sr and Ca; X and X' are each selected from Cl, Br and I A is at least one halogen selected from the group consisting of; A is at least one transition metal selected from V, Cr, Mn, Fe, Co and Ni; and x is 0 <x ≦
2, y is 0 <y ≦ 0.2, and z is 0 <z ≦ 10 −2 ), a phosphor represented by a composition formula:

【0045】特開昭59-75200号に記載されている MIIFX
・aMIX′・bM′IIX″2・cMIIIX3・xA:yEu2+(ただし、MII
はBa,SrおよびCaからなる群より選ばれる少なくとも一
種のアルカリ土類金属であり;MI はLi,Na,K,Rbお
よびCsからなる群より選ばれる少なくとも一種のアルカ
リ金属であり;M′IIはBeおよびMgからなる群より選ばれ
る少なくとも一種の二価金属であり;MIII はAl,Ga,In
およびTlからなる群より選ばれる少なくとも一種の三価
金属であり;Aは金属酸化物であり;XはCl,BrおよびI
からなる群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンであ
り;X′,X″および Xは、F,Cl,BrおよびIからなる
群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンであり;そし
て、aは0≦a≦2、bは0≦b≦10-2、cは0≦c≦
10-2、かつa+b+c≧10-6 であり;x は0<x≦0.5、y
は0<y≦0.2 である)の組成式で表わされる蛍光体、
M II FX described in JP-A-59-75200
・ AM I X ′ ・ bM ′ II X ″ 2・ cM III X 3・ xA: yEu 2+ (However, M II
Is at least one alkaline earth metal selected from the group consisting of Ba, Sr and Ca; M I is at least one alkali metal selected from the group consisting of Li, Na, K, Rb and Cs; II is at least one divalent metal selected from the group consisting of Be and Mg; M III is Al, Ga, In
Is at least one trivalent metal selected from the group consisting of and Tl; A is a metal oxide; X is Cl, Br and I
X ′, X ″ and X are at least one halogen selected from the group consisting of F, Cl, Br and I; and a is 0 ≦ a ≦ 2, b is 0 ≦ b ≦ 10 −2 , c is 0 ≦ c ≦
10 −2 and a + b + c ≧ 10 −6 ; x is 0 <x ≦ 0.5, y
Is 0 <y ≦ 0.2), a phosphor represented by a composition formula:

【0046】特開昭60-84381号に記載されている MII X
2・aMIIX′2:xEu2+(ただし、MIIはBa,Srおよび Caか
らなる群より選ばれる少なくとも一種のアルカリ土類金
属であり;XおよびX′はCl,BrおよびIからなる群より
選ばれる少なくとも一種のハロゲンであって、かつ X≠
X′であり;そしてaは0.1≦a≦10.0、xは0<x≦0.
2である)の組成式で表わされる輝尽性蛍光体、
M II X described in JP-A-60-84381
2 · aM II X ' 2 : xEu 2+ (where M II is at least one alkaline earth metal selected from the group consisting of Ba, Sr and Ca; X and X' are composed of Cl, Br and I At least one halogen selected from the group and X ≠
X '; and a is 0.1≤a≤10.0, x is 0 <x≤0.
2, a stimulable phosphor represented by the composition formula:

【0047】特開昭60-101173号に記載されているMIIFX
・aMI X′:xEu2+(ただし、MII Ba,SrおよびCaから
なる群より選ばれる少なくとも一種のアルカリ土類金属
であり;MI はRbおよびCsからなる群より選ばれる少な
くとも一種のアルカリ金属であり;XはCl,BrおよびIか
らなる群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンであ
り;X′はF,Cl,BrおよびIからなる群より選ばれる
少なくとも一種のハロゲンであり;そしてaおよびxは
それぞれ0≦a≦4.0および0<x≦0.2である)の組成
式で表わされる輝尽性蛍光体、
M II FX described in JP-A-60-101173
AM I X ': xEu 2+ (where M II is at least one kind of alkaline earth metal selected from the group consisting of Ba, Sr and Ca; M I is at least one kind selected from the group consisting of Rb and Cs) X is at least one halogen selected from the group consisting of Cl, Br and I; X 'is at least one halogen selected from the group consisting of F, Cl, Br and I; a and x are respectively 0 ≦ a ≦ 4.0 and 0 <x ≦ 0.2), a stimulable phosphor represented by a composition formula:

【0048】特開昭62-25189号に記載されているMI X:x
Bi( ただし、MI はRbおよびCsからなる群より選ばれる
少なくとも一種のアルカリ金属であり;X はCl,Brおよ
びIからなる群より選ばれる少なくとも一種のハロゲン
であり;そしてxは0<x≦0.2の範囲の数値である)の組
成式で表わされる輝尽性蛍光体、
M I X: x described in JP-A-62-25189
Bi (however, M I is at least one alkali metal selected from the group consisting of Rb and Cs; X is at least one halogen selected from the group consisting of Cl, Br and I; and x is 0 <x A photostimulable phosphor represented by a composition formula of

【0049】特開平2-229882号に記載のLnOX:xCe(但
し、LnはLa,Y,GdおよびLuのうちの少なくとも一つ、
XはCl,BrおよびIのうちの少なくとも一つ、xは0<x
≦0.2であり、LnとXとの比率が原子比で0.500<X/Ln≦
0.998であり、かつ輝尽性励起スペクトルの極大波長λ
が550nm<λ<700nm)で表わされるセリウム賦活希土類
オキシハロゲン化物蛍光体、などをあげることができ
る。
LnOX: xCe described in JP-A-2-229882 (where Ln is at least one of La, Y, Gd and Lu;
X is at least one of Cl, Br and I, and x is 0 <x
≦ 0.2, and the ratio between Ln and X is 0.500 <X / Ln ≦
0.998, and the maximum wavelength λ of the stimulable excitation spectrum
Cerium-activated rare earth oxyhalide phosphor represented by 550 nm <λ <700 nm).

【0050】また、上記特開昭60-84381号に記載されて
いるMIIX2・aMIIX′2:xEu2+輝尽性蛍光体には、以下に
示すような添加物がMIIX2・aMIIX′2 1モル当り以下の割
合で含まれていてもよい。
[0050] Further, the JP 60-84381 No. M II X 2 · aM II X described in the '2: xEu 2+ stimulable phosphor, additives such as shown below M II X 2 · aM II X ′ 2 may be contained in the following ratio per 1 mol.

【0051】特開昭60−166379号に記載されているbM
IX″(ただし、MIはRbおよびCsからなる群より選ばれる
少なくとも一種のアルカリ金属であり、X″はF,Cl,B
rおよびIからなる群より選ばれる少なくとも一種のハ
ロゲンであり、そしてbは0<b≦10.0である);特開
昭60-221483号に記載されているbKX″・cMgX2 ・dM
III X′3(ただし、MIII はSc,Y,La,Gdおよび Luか
らなる群より選ばれる少なくとも一種の三価金属であ
り、X″、X およびX′はいずれもF,Cl,BrおよびIか
らなる群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンであ
り、そしてb、cおよびdはそれぞれ、0≦b≦2.0、
0≦c≦2.0、0≦d≦2.0であって、かつ2×10-5≦b+c
+dである);特開昭60-228592号に記載されている yB
(ただし、yは2×10-4≦y≦2×10-1である);特開昭60
-228593号に記載されている bA(ただし、AはSiO 2 およ
びP2O5からなる群より選ばれる少なくとも一種の酸化物
であり、そしてbは10-4 ≦b≦2×10-1 である);特開昭
61−120883号に記載されているbSiO(ただし、bは0<b
≦3×10-2 である);特開昭61−120885号に記載されて
いるbSnX″2 (ただし、X″はF,Cl,BrおよびIからな
る群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンであり、そ
してbは0<b≦10-3である);特開昭61-235486号に記
載されているbCsX″・cSnX2 (ただし、X″およびX はそ
れぞれF,Cl,BrおよびIからなる群より選ばれる少な
くとも一種のハロゲンであり、そしてbおよびcはそれ
ぞれ、0<b≦10.0 および10-6≦c≦2×10-2であ
る);および特開昭61-235487号に記載されているbCs
X″・yLn3+(ただし、X″はF,Cl,BrおよびIからなる
群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンであり、Lnは
Sc,Y,Ce,Pr,Nd,Sm,Gd,Tb,Dy,Ho,Er,Tm,Yb
およびLuからなる群より選ばれる少なくとも一種の希土
類元素であり、そしてbおよびyはそれぞれ、0<b≦
10.0および10 -6≦y≦1.8×10-1である)。
BM described in JP-A-60-166379
IX "(MIIs selected from the group consisting of Rb and Cs
X "is at least one alkali metal, and X" is F, Cl, B
at least one member selected from the group consisting of r and I
And b is 0 <b ≦ 10.0);
BKX ″ and cMgX described in Sho 60-221483Two・ DM
IIIX ′Three(However, MIIIIs Sc, Y, La, Gd and Lu
At least one trivalent metal selected from the group consisting of
X ”, X and X ′ are all F, Cl, Br and I
At least one halogen selected from the group consisting of
And b, c and d are each 0 ≦ b ≦ 2.0,
0 ≦ c ≦ 2.0, 0 ≦ d ≦ 2.0, and 2 × 10-Five≤b + c
+ d); yB described in JP-A-60-228592
(However, y is 2 × 10-Four≦ y ≦ 2 × 10-1JP-A-60
BA (where A is SiO TwoAnd
And PTwoOFiveAt least one oxide selected from the group consisting of
And b is 10-Four≦ b ≦ 2 × 10-1);
BSiO described in No. 61-120883 (where b is 0 <b
≦ 3 × 10-2Is described in JP-A-61-120885.
BSnX ″Two(However, X ″ is composed of F, Cl, Br and I.
At least one halogen selected from the group consisting of
And b is 0 <b ≦ 10-3Described in JP-A-61-235486.
BCsX ″ and cSnX listedTwo(However, X ″ and X are
A small number selected from the group consisting of F, Cl, Br and I, respectively.
At least a kind of halogen, and b and c are
0 <b ≦ 10.0 and 10 respectively-6≦ c ≦ 2 × 10-2In
BCs described in JP-A-61-235487
X ″ ・ yLn3+(However, X ″ consists of F, Cl, Br and I
Ln is at least one halogen selected from the group
Sc, Y, Ce, Pr, Nd, Sm, Gd, Tb, Dy, Ho, Er, Tm, Yb
At least one rare earth selected from the group consisting of
And b and y are each 0 <b ≦
10.0 and 10 -6≦ y ≦ 1.8 × 10-1Is).

【0052】上記の輝尽性蛍光体のうちで、二価ユーロ
ピウム賦活アルカリ土類金属ハロゲン化物系蛍光体およ
びセリウム賦活希土類オキシハロゲン化物蛍光体は高輝
度の輝尽発光を示すので特に好ましい。ただし、本発明
に用いられる輝尽性蛍光体は上述の蛍光体に限られるも
のではなく、放射線を照射したのちに励起光を照射した
場合に輝尽発光を示す蛍光体であればいかなるものであ
ってもよい。
Among the above-described stimulable phosphors, a divalent europium-activated alkaline earth metal halide-based phosphor and a cerium-activated rare earth oxyhalide phosphor are particularly preferable because they exhibit high-luminance stimulable light emission. However, the stimulable phosphor used in the present invention is not limited to the above-described phosphors, and any phosphor can be used as long as it exhibits stimulable emission when irradiated with radiation and then irradiated with excitation light. There may be.

【0053】ただし、本発明に用いられる輝尽性蛍光体
は上述の蛍光体に限られるものではなく、放射線を照射
したのちに励起光を照射した場合に輝尽発光を示す蛍光
体であれば特に限定されるものではない。
However, the stimulable phosphor used in the present invention is not limited to the above-mentioned phosphors, and any stimulable phosphor that emits stimulable light when irradiated with radiation and then with excitation light. There is no particular limitation.

【0054】また、本発明の放射線発光パネルが、輝尽
性ではない蛍光体を用いて透過性放射線を可視光および
/または紫外放射線に変換するためのパネル、たとえば
放射線増感スクリーンの場合、これに使用される蛍光体
としては、タングステン酸塩系蛍光体(CaWO4 、MgW
O4 、CaWO4 :Pbなど)、テルビウム賦活希土類酸硫化物
系蛍光体(Y2O2S:Tb、Gd2O2S:Tb、La2O2S:Tb、(Y,Gd)2O
2S:Tb、(Y,Gd)O2 S:Tb,Tmなど)、テルビウム賦活希土
類リン酸塩系蛍光体(YPO4 :Tb、GdPO4 :Tb、LaPO4 :Tb
など)、テルビウム賦活希土類オキシハロゲン化物系蛍
光体(LaOBr:Tb、LaOBr:Tb,Tm、LaOCl:Tb、LaOCl:Tb,T
m、LaOCl:Tb,Tm、LaOBr:Tb、GdOBr:Tb、GdOCl:Tbな
ど)、ツリウム賦活希土類オキシハロゲン化物系蛍光体
(LaOBr:Tm、LaOCl:Tmなど)、硫酸バリウム系蛍光体
(BaSO4 :Pb、BaSO4 :Eu2+、(Ba,Sr)SO4 :Eu2+など)、
2価のユーロピウム賦活アルカリ土類金属リン酸塩系蛍
光体(Ba3 (PO4)2:Eu2+、Ba3(PO4)2 :Eu2+など)、2価の
ユーロピウム賦活アルカリ土類金属フッ化ハロゲン化物
系蛍光体(BaFCl:EU2+、BaFBr:Eu2+,BaFCl:EU2+,Tb、Ba
FBr:Eu2+,Tb、BaF2 ・BaCl2 ・KCl:Eu2+、(Ba・Mg)F2・BaCl
2・KCl:Eu 2+など)、ヨウ化物系蛍光体(CsI:Na、CsI:T
l、NaI、KI:Tlなど)、硫化物系蛍光体(ZnS:Ag、(Zn,C
d)S:Ag、(Zn,Cd)S:Cu、(Zn,Cd)S:Cu,Alなど)、リン酸
ハフニウム系蛍光体(HfP2O7 :Cuなど)、タンタル酸塩
系蛍光体(YTaO4 、YTaO4 :Tm、YTaO4 :Nb、(Y,Sr)TaO
4-x :Nb、LuTaO4、LuTaO4 :Nb、(Lu,Sr)TaO4-x :Nb、Gd
TaO4 :Tm、Gd2O3・Ta2O5・B2O3:Tbなど)を好ましくあげ
ることができる。但し本発明に用いられる蛍光体はこれ
らに限定されるものではなく、放射線の照射によって可
視または近紫外領域の発光を示す蛍光体であれば使用す
ることができる。
The radiation-emitting panel of the present invention is
Transmissive radiation with visible light and
And / or panels for converting to ultraviolet radiation, for example
The phosphor used for radiographic intensifying screens
As a tungstate-based phosphor (CaWOFour, MgW
OFour, CaWOFour: Pb), terbium-activated rare earth oxysulfide
Phosphor (YTwoOTwoS: Tb, GdTwoOTwoS: Tb, LaTwoOTwoS: Tb, (Y, Gd)TwoO
TwoS: Tb, (Y, Gd) OTwoS: Tb, Tm etc.), Terbium activated rare earth
Phosphate phosphors (YPOFour: Tb, GdPOFour: Tb, LaPOFour: Tb
Terbium-activated rare earth oxyhalide-based fireflies
Optical body (LaOBr: Tb, LaOBr: Tb, Tm, LaOCl: Tb, LaOCl: Tb, T
m, LaOCl: Tb, Tm, LaOBr: Tb, GdOBr: Tb, GdOCl: Tb
Thulium-activated rare earth oxyhalide phosphor
(LaOBr: Tm, LaOCl: Tm, etc.), barium sulfate based phosphor
(BaSOFour: Pb 、 BaSOFour:EU2+, (Ba, Sr) SOFour:EU2+Such),
Bivalent europium activated alkaline earth metal phosphate-based fireflies
Light body (BaThree(POFour)Two:EU2+, BaThree(POFour)Two:EU2+Etc.)
Europium activated alkaline earth metal fluoride halides
Phosphor (BaFCl: EU2+, BaFBr: Eu2+, BaFCl: EU2+, Tb, Ba
FBr: Eu2+, Tb, BaFTwo・ BaClTwo・ KCl: Eu2+, (Ba ・ Mg) FTwo・ BaCl
Two・ KCl: Eu 2+Etc.), iodide-based phosphors (CsI: Na, CsI: T
l, NaI, KI: Tl), sulfide-based phosphors (ZnS: Ag, (Zn, C
d) S: Ag, (Zn, Cd) S: Cu, (Zn, Cd) S: Cu, Al, etc.), phosphoric acid
Hafnium-based phosphor (HfPTwoO7: Cu etc.), tantalate
Based phosphor (YTaOFour, YTaOFour: Tm, YTaOFour: Nb 、 (Y, Sr) TaO
4-x: Nb, LuTaOFour, LuTaOFour: Nb 、 (Lu, Sr) TaO4-x: Nb, Gd
TaOFour: Tm, GdTwoOThree・ TaTwoOFive・ BTwoOThree: Tb)
Can be However, the phosphor used in the present invention is
It is not limited to these, but can be
Use any phosphor that emits light in the visible or near ultraviolet region.
Can be

【0055】蛍光体層に用いられる結合剤としては、常
温で弾力を持ち、加熱されると流動性を持つようになる
熱可塑性エラストマーが好適に用いられる。熱可塑性エ
ラストマーとしては、ポリスチレン、ポリオレフィン、
ポリウレタン、ポリエステル、ポリアミド、ポリブタジ
エン、エチレン酢酸ビニル、ポリ塩化ビニル、天然ゴ
ム、フッ素ゴム、ポリイソプレン、塩素化ポリエチレ
ン、スチレン−ブタジエンゴム、シリコンゴムなどを好
ましくあげることができる。
As the binder used for the phosphor layer, a thermoplastic elastomer which has elasticity at room temperature and becomes fluid when heated is suitably used. As the thermoplastic elastomer, polystyrene, polyolefin,
Preferred examples include polyurethane, polyester, polyamide, polybutadiene, ethylene vinyl acetate, polyvinyl chloride, natural rubber, fluorine rubber, polyisoprene, chlorinated polyethylene, styrene-butadiene rubber, and silicone rubber.

【0056】上記の熱可塑性エラストマーは、軟化温度
または融点が 30℃〜300℃であるものが一般的に用いら
れるが、30℃〜200℃ のものを用いることが好ましく、
30℃〜150℃のものを用いることがより好ましい。
As the above thermoplastic elastomer, those having a softening temperature or a melting point of 30 ° C. to 300 ° C. are generally used, and those having a softening temperature or 30 ° C. to 200 ° C. are preferably used.
It is more preferable to use one having a temperature of 30 ° C to 150 ° C.

【0057】また、紫外線または電子線硬化型の樹脂を
使用して紫外線または電子線で乾燥・硬化することもで
きる。紫外線または電子線硬化の樹脂としては、後述す
る縁貼層に使用する樹脂を用いることができるが、この
場合、縁貼層と同じ樹脂を用いてもよいし、異なる樹脂
を用いてもよい。
Further, it is also possible to use an ultraviolet or electron beam curable resin to dry and cure with ultraviolet or electron beams. As the ultraviolet-curable or electron-beam-curable resin, the resin used for the border layer described later can be used. In this case, the same resin as the border layer or a different resin may be used.

【0058】上記結合剤を蛍光体、溶剤とともに充分に
混合して結合剤溶液中に輝尽性蛍光体が均一に分散した
塗布液を調製する。
The above binder is sufficiently mixed with the phosphor and the solvent to prepare a coating solution in which the stimulable phosphor is uniformly dispersed in the binder solution.

【0059】溶剤としては、メタノール、エタノール、
n−プロパノール、n−ブタノール、ジアセトンアルコ
ールなどの低級アルコール;アセトン、メチルエチルケ
トン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、な
どのケトン;酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチルなど
の低級脂肪酸と低級アルコールとのエステル;エチレン
グリコールモノプロピルエーテル、などのエーテル;ト
ルエン、キシレン、シクロヘキサン、などの炭化水素;
および、それらの混合物をあげることができる。
As the solvent, methanol, ethanol,
lower alcohols such as n-propanol, n-butanol and diacetone alcohol; ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone and cyclohexanone; esters of lower fatty acids such as methyl acetate, ethyl acetate and butyl acetate with lower alcohols; ethylene Ethers such as glycol monopropyl ether; hydrocarbons such as toluene, xylene and cyclohexane;
And mixtures thereof.

【0060】塗布液における結合剤と輝尽性蛍光体との
混合比は、目的とする放射線像変換パネルの特性、蛍光
体の種類などによって異なるが、一般には結合剤と蛍光
体との混合比は、1:1〜1:100(重量比)の範囲から選ば
れ、 1:8〜1:40(重量比)の範囲から選ぶのがより好ま
しい。
The mixing ratio between the binder and the stimulable phosphor in the coating solution varies depending on the desired characteristics of the radiation image conversion panel, the kind of the phosphor, and the like. Is selected from the range of 1: 1 to 1: 100 (weight ratio), more preferably from the range of 1: 8 to 1:40 (weight ratio).

【0061】なお、蛍光体層は、発光量やノイズなど画
質を比較的制御しやすく、機械的強度を高めることが容
易なことから、蛍光体を結合剤中に分散させた蛍光体層
が最も多く使用されているが、結合剤を含まないで輝尽
性蛍光体の凝集体のみから構成されるもの、あるいは輝
尽性蛍光体の凝集体の間隙に高分子物質が含浸されてい
る蛍光体層などであってもよい。
It is to be noted that the phosphor layer in which the phosphor is dispersed in the binder is most preferable because the image quality such as the amount of light emission and noise is relatively easy to control and the mechanical strength is easy to increase. A phosphor that is often used, but is composed only of aggregates of stimulable phosphor without a binder, or a phosphor in which polymer substances are impregnated in the gaps between aggregates of stimulable phosphor. It may be a layer or the like.

【0062】以下、ここでは、蛍光体層が輝尽性蛍光体
とこれを分散状態で含有支持する結合剤とからなる場合
を例にとり、放射線像変換パネルを製造する方法につい
て順を追って説明する。
Hereinafter, a method of manufacturing a radiation image conversion panel will be described step by step, taking as an example a case where the phosphor layer is composed of a stimulable phosphor and a binder containing and supporting the stimulable phosphor in a dispersed state. .

【0063】蛍光体層は、次のような公知の方法により
支持体上に形成することができる。まず、輝尽性蛍光体
と結合剤とを溶剤に加え、これを充分に混合して、結合
剤溶液中に輝尽性蛍光体が均一に分散した塗布液を調製
する。次に、支持体の表面にこの塗布液を均一に塗布す
ることにより塗膜を形成する。この塗布操作は、通常の
塗布手段、たとえば、ドクターブレード、ロールコータ
ー、ナイフコーターなどを用いることにより行なうこと
ができる。
The phosphor layer can be formed on a support by the following known method. First, a stimulable phosphor and a binder are added to a solvent and mixed well to prepare a coating solution in which the stimulable phosphor is uniformly dispersed in a binder solution. Next, a coating film is formed by uniformly applying the coating solution on the surface of the support. This coating operation can be performed by using ordinary coating means, for example, a doctor blade, a roll coater, a knife coater, or the like.

【0064】支持体としては、従来の放射線像変換パネ
ルの支持体として公知の材料から任意に選ぶことができ
る。また、支持体と蛍光体層の結合を強化するため、あ
るいは放射線像変換パネルとしての感度もしくは画質
(鮮鋭度、粒状性)を向上させるために、蛍光体層が設
けられる側の支持体表面にゼラチンなどの高分子物質を
塗布して接着性付与層としたり、あるいは二酸化チタン
などの光反射性物質からなる光反射層、もしくはカーボ
ンブラックなどの光吸収性物質からなる光吸収層などを
設けることが知られているが、本発明において用いられ
る支持体についても、これらの各種の層を設けることが
できる。それらの構成は所望の放射線像変換パネルの目
的、用途などに応じて任意に選択することができる。
The support can be arbitrarily selected from materials known as supports for conventional radiation image storage panels. Further, in order to strengthen the bond between the support and the phosphor layer or to improve the sensitivity or image quality (sharpness, granularity) of the radiation image conversion panel, the surface of the support on which the phosphor layer is provided is provided. Applying a polymer substance such as gelatin to provide an adhesion-imparting layer, or providing a light-reflective layer composed of a light-reflective substance such as titanium dioxide or a light-absorbing layer composed of a light-absorbing substance such as carbon black. However, the support used in the present invention may be provided with these various layers. These configurations can be arbitrarily selected according to the purpose, use, and the like of a desired radiation image conversion panel.

【0065】さらに特開昭58-200200号 に記載されてい
るように、得られる画像の鮮鋭度を向上させる目的で、
支持体の蛍光体層側の表面(支持体の蛍光体層側の表面
に接着性付与層、光反射層または光吸収層などが設けら
れている場合には、その表面を意味する)に微小凹凸が
形成されていてもよい。
Further, as described in JP-A-58-200200, for the purpose of improving the sharpness of the obtained image,
The surface of the support on the side of the phosphor layer (when the surface of the support on the side of the phosphor layer is provided with an adhesiveness-imparting layer, a light-reflecting layer or a light-absorbing layer, means the surface) Irregularities may be formed.

【0066】上記のようにして支持体上に塗膜を形成し
たのち塗膜を乾燥して、支持体上への輝尽性蛍光体層の
形成を完了する。蛍光体層の層厚は、目的とする放射線
像変換パネルの特性、蛍光体の種類、結合剤と蛍光体と
の混合比などによって異なり、20μm〜1mm程度とする
のが一般的であるが、50μm〜500μmとすることがより
好ましい。
After forming a coating on the support as described above, the coating is dried to complete the formation of the stimulable phosphor layer on the support. The thickness of the phosphor layer depends on the characteristics of the intended radiation image conversion panel, the type of phosphor, the mixing ratio between the binder and the phosphor, and is generally about 20 μm to 1 mm. It is more preferable that the thickness be 50 μm to 500 μm.

【0067】なお、輝尽性蛍光体層は、必ずしも上記の
ように支持体上に塗布液を直接塗布して形成する必要は
なく、たとえば、別に、ガラス板、金属板、プラスチッ
クシ−トなどのシ−ト上に塗布液を塗布し乾燥すること
により蛍光体層を形成したのち、これを、支持体上に押
圧するか、あるいは接着剤を用いるなどして支持体と蛍
光体層とを接合してもよい。
The stimulable phosphor layer does not necessarily need to be formed by directly applying a coating solution on a support as described above. For example, a glass plate, a metal plate, a plastic sheet, or the like may be separately provided. After forming a phosphor layer by applying a coating solution on the sheet and drying, the support is pressed against the support or an adhesive is used to separate the support and the phosphor layer. You may join.

【0068】放射線発光パネルにおいては、支持体に接
する側とは反対側の蛍光体層の表面に、蛍光体層を物理
的および化学的に保護するための透明な保護膜が設けら
れているのが一般的である。
In the radiation-emitting panel, a transparent protective film for physically and chemically protecting the phosphor layer is provided on the surface of the phosphor layer opposite to the side in contact with the support. Is common.

【0069】透明保護膜は、たとえば、酢酸セルロー
ス、ニトロセルロースなどのセルロース誘導体;あるい
はポリメチルメタクリレート、ポリビニルブチラール、
ポリビニルホルマール、ポリカーボネート、ポリ酢酸ビ
ニル、塩化ビニル・酢酸ビニルコポリマーなどの合成高
分子物質のような透明な高分子物質を適当な溶媒に溶解
して調製した溶液を、蛍光体層の表面に塗布する方法に
より形成することができる。また、ポリエチレンテレフ
タレート、ポリエチレンナフタレート、ポリエチレン、
ポリプロピレン、ポリ塩化ビニリデン、ポリアミドなど
からなるプラスチックシート、および透明なガラス板な
どの保護膜形成用シートを別に形成して、蛍光体層の表
面に適当な接着剤を用いて接着するなどの方法によって
も形成することができる。
The transparent protective film is made of, for example, cellulose derivatives such as cellulose acetate and nitrocellulose; or polymethyl methacrylate, polyvinyl butyral,
A solution prepared by dissolving a transparent polymer such as a synthetic polymer such as polyvinyl formal, polycarbonate, polyvinyl acetate, and vinyl chloride / vinyl acetate copolymer in a suitable solvent is applied to the surface of the phosphor layer. It can be formed by a method. In addition, polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polyethylene,
By forming a plastic sheet made of polypropylene, polyvinylidene chloride, polyamide, etc., and a protective film forming sheet such as a transparent glass plate separately, and bonding them to the surface of the phosphor layer using an appropriate adhesive. Can also be formed.

【0070】より好ましくは、保護膜は、膜形成性樹脂
と末端に水酸基またはアミノ基を1つ以上有し数平均分
子量が 約5000から20000の反応性シリコーンと、水酸基
またはアミノ基と反応する架橋剤とを含む保護膜形成塗
布液を、ドクターブレード、ディップコーター、スライ
ドコーター、エクストルージョンコーターなどの塗布手
段を用いて PETなどの透明支持体上に塗布・乾燥・硬化
した後、接着剤層を保護膜と反対側の PET表面に設けて
蛍光体表面にラミネートするか、蛍光体層表面に直接塗
布・乾燥・硬化することにより形成する。もちろん、こ
の保護膜の形成は同時重層塗布によって、蛍光体層の形
成と同時に行なってもよい。
More preferably, the protective film is formed of a film-forming resin, a reactive silicone having at least one hydroxyl group or amino group at a terminal and having a number average molecular weight of about 5,000 to 20,000, and a cross-linking reaction with a hydroxyl group or an amino group. After coating, drying and curing a coating solution for forming a protective film containing a coating agent on a transparent support such as PET using a coating means such as a doctor blade, dip coater, slide coater or extrusion coater, the adhesive layer is formed. It is formed on the PET surface on the opposite side of the protective film and laminated on the phosphor surface, or by directly applying, drying and curing on the phosphor layer surface. Of course, this protective film may be formed simultaneously with the formation of the phosphor layer by simultaneous multi-layer coating.

【0071】保護膜の形成に用いる膜形成性樹脂として
は、膜形成性樹脂として一般的に知られているポリウレ
タン樹脂、ポリアクリル樹脂、セルロース誘導体、ポリ
メチルメタクリレート、ポリエステル樹脂およびエポキ
シ樹脂等を好ましくあげることができ、特に有機溶媒可
溶性のフッ素樹脂を好ましく用いることができる。
As the film-forming resin used for forming the protective film, polyurethane resins, polyacryl resins, cellulose derivatives, polymethyl methacrylate, polyester resins, epoxy resins, etc., which are generally known as film-forming resins, are preferred. In particular, an organic solvent-soluble fluororesin can be preferably used.

【0072】フッ素系樹脂は、フッ素を含むオレフィン
(フルオロオレフィン)の重合体もしくはフッ素を含む
オレフィンを共重合体成分として含む共重合体で、たと
えばポリテトラフルオルエチレン、ポリクロルトリフル
オルエチレン、ポリフッ化ビニル、ポリフッ化ビニリデ
ン、テトラフルオルエチレン−ヘキサフルオロプロピレ
ン共重合体およびフルオロオレフィン−ビニルエーテル
共重合体などを好ましくあげることができる。また、紫
外線または電子線硬化型樹脂を使用して紫外線または電
子線で乾燥・硬化させて保護膜を形成することもでき
る。保護膜の膜厚は、用いる物質により異なるが約0.1
〜20μmであることが好ましい。
The fluorine-based resin is a polymer of a fluorine-containing olefin (fluoroolefin) or a copolymer containing a fluorine-containing olefin as a copolymer component. Examples thereof include polytetrafluoroethylene, polychlorotrifluoroethylene, and polyfluoroethylene. Preferable examples include vinyl chloride, polyvinylidene fluoride, tetrafluoroethylene-hexafluoropropylene copolymer and fluoroolefin-vinyl ether copolymer. Alternatively, the protective film can be formed by drying and curing with an ultraviolet ray or an electron beam using an ultraviolet ray or an electron beam curable resin. The thickness of the protective film depends on the substance used, but is about 0.1
Preferably it is ~ 20 μm.

【0073】さらに、得られる画像の鮮鋭度を向上させ
る目的で、上記の少なくともいずれかの層に励起光を吸
収し、輝尽発光光は吸収しないような着色層を加えても
よい(特公昭59-23400号参照)。また、得られる画像の
鮮鋭度を向上させることを目的として、本発明の放射線
像変換パネルを構成する上記各層の少なくとも一つの層
が励起光を吸収し、輝尽発光光は吸収しないような着色
剤によって着色されていてもよい(特公昭54-23400号参
照)。
Further, for the purpose of improving the sharpness of the obtained image, a coloring layer which absorbs excitation light but does not absorb stimulated emission light may be added to at least one of the above-mentioned layers. No. 59-23400). Further, for the purpose of improving the sharpness of the obtained image, at least one of the layers constituting the radiation image conversion panel of the present invention absorbs excitation light and does not absorb stimulated emission light. It may be colored by an agent (see Japanese Patent Publication No. 54-23400).

【0074】次に、縁貼層について説明する。縁貼層
は、紫外線または電子線硬化樹脂と、この紫外線または
電子線硬化樹脂と反応可能な官能基を有するシリコーン
マクロモノマーを含み、さらに必要に応じて着色剤、黄
変防止剤などが含有されていてもよい。
Next, the border layer will be described. The edge application layer contains an ultraviolet ray or electron beam curable resin, and a silicone macromonomer having a functional group capable of reacting with the ultraviolet ray or electron beam curable resin, and further contains a colorant, a yellowing inhibitor, and the like as necessary. May be.

【0075】紫外線または電子線硬化性樹脂としては、
アクリレート系モノマー、ビニル化合物系モノマー、ア
クリレート系オリゴマー、カチオン重合系モノマー、カ
チオン重合系オリゴマーなどを好ましく用いることがで
きる。
As the ultraviolet or electron beam curable resin,
Acrylate monomers, vinyl compound monomers, acrylate oligomers, cationic polymerization monomers, cationic polymerization oligomers, and the like can be preferably used.

【0076】紫外線を照射して硬化させる場合には、こ
れらの樹脂とさらに、ラジカル系光重合開始剤、カチオ
ン系光重合開始剤、ラジカル系光重合促進剤、カチオン
系光重合促進剤等の光重合開始剤を併用させる。また、
光重合開始剤を用いた場合には、ベンゾキノン等の重合
禁止剤が併用されることもある。なお、電子線の照射に
より硬化させる場合には光重合開始剤は不要である。
In the case of curing by irradiating ultraviolet rays, these resins and a photo-polymerization initiator such as a radical photo-polymerization initiator, a cationic photo-polymerization initiator, a radical-type photo-polymerization accelerator, and a cationic photo-polymerization accelerator are used. A polymerization initiator is used in combination. Also,
When a photopolymerization initiator is used, a polymerization inhibitor such as benzoquinone may be used in combination. In the case of curing by irradiation with an electron beam, a photopolymerization initiator is unnecessary.

【0077】アクリレート系モノマーとは、1〜6ヶの
アクリレート基を有する分子量約1000以下の低分子化合
物で、アクリレート基以外の反応基(イソシアネート
基、エポキシ基、酸無水物基、カルボキシル基等)を有
していてもよい。また、分子中に硫黄の他、フッ素や臭
素等のハロゲン元素を含んでいても良い。
The acrylate monomer is a low molecular weight compound having 1 to 6 acrylate groups and having a molecular weight of about 1,000 or less, and a reactive group other than the acrylate group (isocyanate group, epoxy group, acid anhydride group, carboxyl group, etc.). May be provided. Further, the molecule may contain a halogen element such as fluorine and bromine in addition to sulfur.

【0078】具体的には、エチレンオキサイド、プロピ
レンオキサイド等のアルキレンオキサイドまたはε−カ
プロラクトンをアルコールに付加反応したアクリレー
ト、N−ビニルカプロラクタム、N−ビニルカプロラク
タム、N−ビニルホルムアミド、イミドアクリレート、
2−メタクリロイルオキシエチルイソシアネート、プロ
ピレンオキサイド等のアルキレンオキサイドまたはε−
カプロラクトンを多価アルコールに付加反応したポリ
(メタ)アクリレート、トリシクロイデカンジメチロー
ルジアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ及び
ヘキサアクリレート、ジトリメチロールなどを好ましく
あげることができる。
Specifically, acrylates obtained by adding an alkylene oxide such as ethylene oxide or propylene oxide or ε-caprolactone to an alcohol, N-vinylcaprolactam, N-vinylcaprolactam, N-vinylformamide, imide acrylate,
Alkylene oxide such as 2-methacryloyloxyethyl isocyanate, propylene oxide or ε-
Preferable examples include poly (meth) acrylate obtained by addition reaction of caprolactone with polyhydric alcohol, tricycloidecanedimethylol diacrylate, dipentaerythritol penta and hexaacrylate, and ditrimethylol.

【0079】これらのモノマー、オリゴマーの硬化性官
能基はビニル基またはアクリレート基であることがより
好ましく、カチオン重合系ではエポキシ基、ビニルエー
テル基またはオキセタン基であることがより好ましい。
The curable functional group of these monomers and oligomers is more preferably a vinyl group or an acrylate group, and in a cationic polymerization system, more preferably an epoxy group, a vinyl ether group or an oxetane group.

【0080】紫外線または電子線硬化樹脂の具体例とし
ては、アイエスピー・ジャパン(株)製:RAPI−CU
RE・シリーズ、旭電化工業(株)製:アデカオプトマー
KRM・シリーズ、荒川化学工業(株)製:ビームセット
・シリーズ、大阪有機化学工業(株)製:各種アクリレー
ト、共栄化学(株)製:ライトエステル、ライトアクリレ
ート、エポライト、エポキシエステル、ウレタンアクリ
レートの各シリーズ、サンノプコ(株)製:フォトマー・
シリーズ、JSR(株)製:デソライトSシリーズ、オプ
スターJL、JM・シリーズ、昭和高分子(株)製:リポ
キシSP・VRシリーズ、新中村化学工業(株)製:NK
エステル、NKオリゴ・シリーズ、第一工業製薬(株)
製:ニューフロンティア・シリーズ、ダイセル化学工業
(株)製:プラクセルG、サイクロマーP、エポリード
D、エポリードPB、ダイマック、PUEの各シリー
ズ、ダイセル・ユーシービー(株)製:Ebecryl、
Uvecryl、セロサイド、ダイマックス、Uvac
ure、EBの各シリーズ、ダイソー(株)製:ダイソー
ダップ、ダイソーイソダップの各シリーズ、大日本イン
キ化学工業(株)製:LUMICURE、ユニデックの各
シリーズ、東亞合成(株)製:アロニックスMシリーズ、
東洋紡績(株)製:バイロキュアー・シリーズ、ナガセ化
成(株)製:デナコールアクリレート、日本化薬(株)製:
KAYARAD・シリーズ、日本合成化学(株)製:紫
光、コーポニールの各シリーズ、日本シイベルヘグナー
(株)製:アクチレン/Actilane・シリーズ、日
本曹達(株)製:TEシリーズ、日本油脂(株)製:ブレン
マー・シリーズ、根上工業(株)製:アートレジンUN、
SHの各シリーズ、日立化成工業(株)製:ヒタロイド・
シリーズ、三井化学(株)製:オレスターRAシリーズ、
三菱レイヨン(株)製:ダイヤビーム・シリーズ、ユニオ
ン・カーバイド日本(株)製:CYRACURE UVR
・シリーズ、ビーエスエフジャパン(株)製:Larom
er、各種アクリレートの各シリーズ、Morton
International製:Uvithaneシリ
ーズ等があげられる。
Specific examples of the ultraviolet or electron beam curable resin include RAPI-CU manufactured by ASP Japan Co., Ltd.
RE series, manufactured by Asahi Denka Kogyo Co., Ltd .: Adeka Optomer KRM series, manufactured by Arakawa Chemical Industry Co., Ltd .: beam set series, manufactured by Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd .: various acrylates, manufactured by Kyoei Chemical Co., Ltd. : Light ester, light acrylate, epolite, epoxy ester, urethane acrylate series, manufactured by San Nopco Ltd .: Photomer
Series, manufactured by JSR Corporation: Desolite S series, Opstar JL, JM series, manufactured by Showa Kogyo Co., Ltd .: Lipoxy SP / VR series, manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd .: NK
Ester, NK Oligo Series, Daiichi Kogyo Pharmaceutical Co., Ltd.
Made: New Frontier Series, Daicel Chemical Industries
Co., Ltd .: each series of Placcel G, Cyclomer P, Eporide D, Eporide PB, Daimac, PUE, Daicel UCB Co., Ltd .: Ebecryl,
Uvecryl, celloside, dimax, Uvac
ure, EB series, Daiso Corporation: Daiso Dapp, Daiso Isodap series, Dainippon Ink & Chemicals, Ltd .: LUMICURE, UNIDEC series, Toagosei Co., Ltd .: Aronix M series ,
Toyobo Co., Ltd .: Virocure Series, Nagase Kasei Co., Ltd .: Denacol Acrylate, Nippon Kayaku Co., Ltd .:
KAYARAD series, manufactured by Nippon Synthetic Chemical Co., Ltd .: Shikko and Coponil series, Nippon SiberHegner
Ltd .: Actylene / Actilane Series, Nippon Soda Co., Ltd .: TE Series, Nippon Yushi Co., Ltd .: Blemmer Series, Negami Kogyo Co., Ltd .: Art Resin UN,
SH series, manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd .: Hitaloid
Series, manufactured by Mitsui Chemicals, Inc .: Orestar RA series,
Mitsubishi Rayon Co., Ltd .: Diamond Beam Series, Union Carbide Japan Co., Ltd .: CYRACURE UVR
・ Series, FS Japan Co., Ltd .: Larom
er, various acrylate series, Morton
International: Ubitane series and the like.

【0081】光重合開始剤としては、ベンゾフェノン、
オルソベンゾイル安息香酸メチル、イソプロピルチオキ
サントン、ジエチルチオキサントン、ベンジルジメチル
ケタール、α−ヒドロキシアルキルフェノン、α−アミ
ルアルキルフェノン、アシルフォスフィンオキサイド、
アルキルフェニルグリオキシレート、ジエトキシアセト
フェノンなどを好ましくあげることができる。
As the photopolymerization initiator, benzophenone,
Methyl orthobenzoylbenzoate, isopropylthioxanthone, diethylthioxanthone, benzyldimethylketal, α-hydroxyalkylphenone, α-amylalkylphenone, acylphosphine oxide,
Alkylphenyl glyoxylate, diethoxyacetophenone and the like can be preferably mentioned.

【0082】具体的には、旭電化工業(株)製:アデカオ
プトマーSPシリーズ、三新化学工業(株)製:サンエイ
ドSIシリーズ、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ
(株)製:イルガキュア、ダロキュアの各シリーズ、日本
化薬(株)製:KAYACUREシリーズ、ビーエスエフ
ジャパン(株)製:Lucirinシリーズ等があげられ
る。上記の紫外線または電子線硬化性樹脂は、縁貼層中
に 40〜100重量%の範囲で含まれていることが好まし
く、60〜100重量% の範囲内で含まれていることがより
好ましい。
More specifically, Adeka Optomer SP series manufactured by Asahi Denka Kogyo KK, Sun Aid SI series manufactured by Sanshin Kagaku Kogyo KK, Ciba Specialty Chemicals
Inc .: Irgacure and Darocur series, Nippon Kayaku Co., Ltd .: KAYACURE series, VSF Japan Ltd .: Lucirin series, and the like. The ultraviolet or electron beam curable resin is preferably contained in the edge adhesive layer in the range of 40 to 100% by weight, more preferably in the range of 60 to 100% by weight.

【0083】上記の紫外線または電子線硬化樹脂と反応
可能な官能基を有するシリコーンマクロモノマーとして
は、たとえばジメチルポリシロキサン骨格を有するもの
があげられ、少なくとも一つ以上の紫外線硬化可能な官
能基(例えば、ビニル基、メタクリロキシ基)を有する
ものが好ましい。シリコーンマクロモノマーの数平均分
子量(Mn)は、5000〜20000 の範囲にあることが好まし
く、10000〜15000の範囲にあるものがより好ましい。
Examples of the silicone macromonomer having a functional group capable of reacting with the ultraviolet or electron beam curable resin include those having a dimethylpolysiloxane skeleton, and at least one or more ultraviolet curable functional groups (for example, , A vinyl group and a methacryloxy group). The number average molecular weight (Mn) of the silicone macromonomer is preferably in the range of 5,000 to 20,000, more preferably in the range of 10,000 to 15,000.

【0084】シリコーンマクロモノマーは末端に紫外線
硬化可能な官能基を少なくとも1つ以上有し、好ましく
は片末端に紫外線硬化可能な官能基を1つ以上有するも
のが望ましい。また、シリコーンマクロモノマーはパー
フルオロアルキル基を含むものであってもよい。
The silicone macromonomer has at least one UV-curable functional group at the terminal, and preferably has at least one UV-curable functional group at one terminal. Further, the silicone macromonomer may include a perfluoroalkyl group.

【0085】シリコーンマクロモノマーはチッソ(株)か
ら商品名:サイラプレン・FM−07シリーズとして市
販されているので、これを用いてもよく、たとえば、F
M−07シリーズ(メタクリロキシプロピル変性シリコ
ーン)
The silicone macromonomer is commercially available from Chisso Corporation under the trade name: Syraprene FM-07 series, and may be used.
M-07 series (methacryloxypropyl-modified silicone)

【化1】 などを好ましく用いることができる。(化学式中のmは
Mnが 5000〜20000になるような数を表す。) 上記のシリコーンマクロモノマーは、縁貼層中に 0.1〜
20重量%の範囲で含まれていることが好ましく、0.5〜1
0重量% の範囲内で含まれていることがより好ましい。
Embedded image And the like can be preferably used. (M in the chemical formula is
Represents a number such that Mn is between 5000 and 20000. ) The above silicone macromonomer is 0.1 ~
It is preferably contained in the range of 20% by weight,
More preferably, it is contained within the range of 0% by weight.

【0086】縁貼層は、紫外線または電子線硬化樹脂と
シリコーンマクロモノマーとを含む縁貼層形成塗布液
を、ノズル、スクリーン、ディップコーター、などの塗
布手段を用いて蛍光体層側面に塗布し、溶剤を含む場合
には溶剤を除去後、紫外線または電子線を照射して乾燥
・硬化することにより形成する。この縁貼層の形成や硬
化は保護層の形成と同時に行なってもよい。
The border layer is coated with a border layer-forming coating solution containing an ultraviolet or electron beam curable resin and a silicone macromonomer on the side surface of the phosphor layer using a coating means such as a nozzle, a screen, a dip coater, or the like. When a solvent is contained, the layer is formed by removing the solvent, irradiating ultraviolet rays or an electron beam, and drying and curing. The formation and curing of the rim layer may be performed simultaneously with the formation of the protective layer.

【0087】紫外線硬化樹脂の場合は、出力 50W/cm〜5
00W/cm程度の水銀ランプあるいはメタルハライドランプ
により、0.01〜10秒程度照射することにより硬化する。
電子線硬化樹脂の場合は、100kV〜1000kV程度の加速電
圧で 0.001〜1秒程度照射することにより硬化する。
In the case of an ultraviolet curable resin, the output is 50 W / cm to 5
Cured by irradiating with a mercury lamp or metal halide lamp of about 00 W / cm for about 0.01 to 10 seconds.
In the case of an electron beam curable resin, the resin is cured by irradiating with an acceleration voltage of about 100 kV to 1000 kV for about 0.001 to 1 second.

【0088】紫外線硬化樹脂、電子線硬化樹脂はどちら
を選択してもよいが、紫外線硬化樹脂を選択する場合
は、電子線硬化樹脂を選択した場合に比して硬化するた
めの照射時間が長くなるが、紫外線照射装置が小型で安
価でありため、新たな設備投資の負担が軽減される。
Either the ultraviolet curable resin or the electron beam curable resin may be selected. However, when the ultraviolet curable resin is selected, the irradiation time for curing is longer than when the electron beam curable resin is selected. However, since the ultraviolet irradiation device is small and inexpensive, the burden of new capital investment is reduced.

【0089】紫外線照射装置としては、(株)アーデル
製:Σ−Line、アイグラフィックス(株)製:アイグ
ランデージ、アイキュアーの各シリーズ、岩崎電機(株)
製:アイUVキュアーシステム、ウシオ電機(株)製:ユ
ニキュアシステム・シリーズ、ケミテック(株)製:UV
C−シリーズ、(株)サンエイテック製:OPTICUR
E・シリーズ、東芝ライテック(株)製:トスキュア・シ
リーズなどを好ましく用いることができる。
Examples of the ultraviolet irradiation apparatus are: A-Line Co., Ltd .: Σ-Line, Eye Graphics Co., Ltd .: Eye Grandage, Eye Cure series, Iwasaki Electric Co., Ltd.
Manufactured by: Eye UV Cure System, manufactured by Ushio Inc .: UniCure System Series, manufactured by Chemitec Corporation: UV
C-Series, manufactured by San-A-Tech, Inc .: OPTICUR
E series, manufactured by Toshiba Lighting & Technology Corp .: Toskure series and the like can be preferably used.

【0090】電子線照射装置としては、岩崎電機(株)
製:ELECTROCURTAIN、ウシオ電機(株)
製:Min−EB、住友重機械工業(株)製:WIPL、
東洋インキ製造(株)製:ライオキュア、日新ハイボルテ
ージ(株)製:EPS・シリーズなどを好ましく用いるこ
とができる。
As an electron beam irradiation apparatus, Iwasaki Electric Co., Ltd.
Made by: ELECTROCURTAIN, USHIO INC.
Manufactured by Min-EB, manufactured by Sumitomo Heavy Industries, Ltd .: WIPL,
Lyocure manufactured by Toyo Ink Mfg. Co., Ltd., EPS series manufactured by Nissin High Voltage Co., Ltd. can be preferably used.

【0091】[0091]

【実施例】(実施例1)下記のようにして、本発明の放
射線像変換パネルを製造した。まず、蛍光体層形成塗布
液として、蛍光体:BaFBr0.8I0.2:0.001Eu2+ 1000g、
ポリウレタン樹脂(大日本インキ化学工業(株)製:パン
デックスT5265H)13%MEK溶液 246g、ビスフェノール
A型エポキシ樹脂(シェル化学(株)製:エピコート100
1)50%MEK溶液 30g、ポリイソシアネート(日本ポリ
ウレタン(株)製:コロネートHX)3g、着色剤(群青;
第一化成工業(株):SM-1)0.02g、MEK 52gをディスパ
ーにて3時間分散し、粘度3.5Pa・s(25℃)の塗布液を
調製した。
EXAMPLES Example 1 A radiation image storage panel of the present invention was manufactured as follows. First, as a phosphor layer forming coating solution, phosphor: BaFBr 0.8 I 0.2 : 0.001Eu 2+ 1000 g,
246 g of a 13% MEK solution of a polyurethane resin (manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc .: Pandex T5265H), a bisphenol A type epoxy resin (manufactured by Shell Chemical Co., Ltd .: Epicoat 100)
1) 30 g of a 50% MEK solution, 3 g of a polyisocyanate (manufactured by Nippon Polyurethane Co., Ltd .: Coronate HX), a colorant (ultramarine;
0.02 g of Daiichi Kasei Kogyo Co., Ltd .: SM-1) and 52 g of MEK were dispersed with a disper for 3 hours to prepare a coating solution having a viscosity of 3.5 Pa · s (25 ° C.).

【0092】この塗布液をシリコーン系離型剤が塗布さ
れているポリエチレンテレフタレートシート(仮支持
体、厚み:180μm)上に乾燥厚が250μmになるようにエ
クストルージョンコーターで塗布し、乾燥した後仮支持
体から剥離した。
This coating solution was applied on a polyethylene terephthalate sheet (temporary support, thickness: 180 μm) coated with a silicone release agent by an extrusion coater to a dry thickness of 250 μm, dried, and then temporarily dried. Peeled from the support.

【0093】次に、以下の反射下塗層付き支持体を作製
した。酸化ガドリニウム(Gd2O3)の微細粒子(全粒子
中の90重量%の粒子の粒子径が1〜5μmの範囲にあるも
の)350g、結合剤(軟質アクリル樹脂;大日本インキ
化学工業(株):クリスコートP-1018GS(20%トルエン溶
液))1800g、可塑剤(フタル酸エステル;大八化学
(株)、#10)40g、導電剤としてZnOウィスカー(松下ア
ムテック(株):パナテトラA-1-1)120g、着色剤として
群青(第一化成工業(株):SM-1)2gをMEKに加え、デ
ィスパーを用いて分散、溶解して、下塗層用分散液(粘
度0.5Pa・s:20℃)を調整し、これをポリエチレンテレフ
タレートシート(東レ製ルミラーs-10 250μm;ヘイズ
度(typical)=20、片側にカーボンブラック、シリカ、
結合剤からなる遮光層(約18μm)が設けられているも
の)上に、エクストルージョンコーターを用いて、遮光
層とは反対側に均一に塗布した後、塗膜を乾燥させて、
層厚が20μmの反射下塗層を形成した。
Next, the following support having a reflective undercoat layer was prepared. 350 g of gadolinium oxide (Gd 2 O 3 ) fine particles (90% by weight of all particles having a particle size in the range of 1 to 5 μm) and a binder (soft acrylic resin; Dainippon Ink and Chemicals, Inc.) ): Chris Coat P-1018GS (20% toluene solution)) 1800g, plasticizer (phthalate ester; Daihachi Chemical)
# 10) 40 g, ZnO whisker (Matsushita Amtech Co., Ltd .: Panatetra A-1-1) 120 g as a conductive agent, and 2 g of ultramarine (Daiichi Kasei Kogyo Co., Ltd .: SM-1) as a colorant in MEK. In addition, a dispersion liquid for the undercoat layer (viscosity 0.5 Pa · s: 20 ° C.) was prepared by dispersing and dissolving using a disper, and this was used as a polyethylene terephthalate sheet (Lumirror s-10 manufactured by Toray Co., Ltd. 250 μm; typical) = 20, carbon black, silica on one side,
On the light-shielding layer (about 18 μm) provided with a binder), using an extrusion coater, apply evenly on the opposite side to the light-shielding layer, then dry the coating,
A reflective undercoat layer having a thickness of 20 μm was formed.

【0094】次に、蛍光体シートと反射下塗層付き支持
体を重ね合わせ、カレンダーロールを用い、圧力49MP
a、上側ロール温度75℃、下側ロール温度75℃、送り速
度1.0m/min で連続的に加熱圧縮を行った。この加熱圧
縮により、蛍光体シートは支持体に反射下塗層を介して
完全に融着し、蛍光体層(層厚:210μm)となった。
Next, the phosphor sheet and the support having a reflective undercoat layer were superposed on each other, and a calender roll was used.
a, Heat compression was continuously performed at an upper roll temperature of 75 ° C, a lower roll temperature of 75 ° C, and a feed rate of 1.0 m / min. By this heating and compression, the phosphor sheet was completely fused to the support via the reflective undercoat layer to form a phosphor layer (layer thickness: 210 μm).

【0095】次に、保護層を以下の手順で作製した。フ
ッ素系共重合体樹脂溶液(旭硝子(株)製:ルミフロンLF
504X (30%キシレン溶液))40g、有機フィラーとしてメ
ラミン−ホルムアルデヒド((株)日本触媒:エポスター
S6)28.4g、分散剤としてアルミカップリング剤(味の
素(株):プレンアクトAL-M)0.5g、MEK 200gの混合液
を3mmφのジルコニアボールを使用したボールミルで20
時間分散混合した後、ルミフロンLF504X(30%キシレン
溶液)360gを追加し、さらに8時間分散した。その後、
末端水酸基反応性シリコーンオリゴマー(チッソ(株):
サイラプレ−ンFM-DA26)1.4g、架橋剤としてポリイソ
シアネート(住友バイエルウレタン(株):スミジュール
N3300(固形分100%))22.2g、触媒としてジブチルチンジ
ラウレート(共同薬品(株):KS1260)1.4mg、MEK 800gを
追加混合し、保護層用塗布液を調整した。
Next, a protective layer was formed by the following procedure. Fluorine-based copolymer resin solution (Lumiflon LF, manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.)
504X (30% xylene solution) 40g, melamine-formaldehyde as organic filler (Nippon Shokubai Co., Ltd .: poster
S6) A mixture of 28.4 g, a dispersant of 0.5 g of an aluminum coupling agent (Ajinomoto Co., Inc .: Plenact AL-M) and 200 g of MEK was subjected to a ball mill using a zirconia ball of 3 mmφ by a ball mill.
After time-dispersion mixing, 360 g of Lumiflon LF504X (30% xylene solution) was added, and the mixture was further dispersed for 8 hours. afterwards,
Hydroxyl group reactive silicone oligomer (Chisso Corporation:
1.4 g of polyaisocyanate (Sumitomo Bayer Urethane Co., Ltd .: Sumidur)
N3300 (solid content: 100%)) of 22.2 g, dibutyltin dilaurate (Kyodo Yakuhin Co., Ltd .: KS1260) of 1.4 mg and MEK of 800 g were additionally mixed as a catalyst to prepare a coating solution for a protective layer.

【0096】この保護層用塗布液を 6μm厚PETフイルム
(東レ(株):ルミラー 6-CF53)と、耐熱再剥離フイルム
(PANAC(株):CT50)を貼り合わせて裏打ちしたもの
の、6μm PETフイルム上にバーコーターで塗布した後、
120℃で20分間熱処理して乾燥するとともに熱硬化させ
て厚さ2μmの保護膜を設けた。
This protective layer coating solution was lined with a 6 μm-thick PET film (Toray Industries, Inc .: Lumirror 6-CF53) and a heat-resistant removable film (PANAC, Inc .: CT50). After applying with a bar coater,
Heat treatment was performed at 120 ° C. for 20 minutes, followed by drying and thermosetting to provide a protective film having a thickness of 2 μm.

【0097】次に、保護膜を設けた 6μm厚PETフイルム
から耐熱再剥離フイルムを剥離し、保護膜と反対側に、
ポリエステル樹脂溶液(東洋紡績(株):バイロン30SS)
を塗布、乾燥して接着層(接着剤塗布重量2g/m2)を設
けた。
Next, the heat-resistant re-peelable film was peeled off from the 6 μm-thick PET film provided with the protective film.
Polyester resin solution (Toyobo Co., Ltd .: Byron 30SS)
Was applied and dried to form an adhesive layer (adhesive application weight 2 g / m 2 ).

【0098】この保護膜付き PETフイルムを、ラミネー
トロールを用いて、蛍光体層上に接着層を介して接着し
保護層を形成した。さらに、エンボス機で保護層にRa0.
4μmの粗さのエンボスを付けた。
[0098] This PET film with a protective film was bonded to the phosphor layer via an adhesive layer using a laminating roll to form a protective layer. Furthermore, Ra0.
A 4 μm roughness emboss was applied.

【0099】続いて、20μm厚のOPPフイルム(東レ
(株)、トレファンYM-11#20)に、不飽和ポリエステル樹
脂溶液(東洋紡績(株):バイロン30SS)を塗布、乾燥し
て接着層(接着剤塗布重量9g/m2 )を設け、このOPPフ
イルムを、ラミネートロールを用いて、支持体の蛍光体
層が設けられている側とは反対側(遮光層側)に、接着層
を介して接着しBack保護層を形成した。
Subsequently, a 20 μm thick OPP film (Toray Industries, Inc.)
Co., Ltd., Trefan YM-11 # 20), apply an unsaturated polyester resin solution (Toyobo Co., Ltd .: Byron 30SS) and dry to form an adhesive layer (adhesive application weight 9 g / m 2 ). This OPP film was adhered to the opposite side (light-shielding layer side) of the support from the side on which the phosphor layer was provided using an adhesive layer using a laminating roll to form a back protective layer.

【0100】さらに、ポリエステル系ウレタンアクリレ
ート(根上工業(株):アートレジンUN-330)70g、光重
合開始剤(長瀬産業(株):イルガキュア184)3g、黄変
防止剤としてエポキシ樹脂(油化シェルエポキシ(株):
エピコート#1001(固形))0.6g、防汚剤として末端メタ
クリロキシ基反応性シリコーンオリゴマー(チッソ
(株)、サイラプレンFM-0725、Mn≒1万)0.2gをMEK 5g
に溶解させて塗布液を調整した。先に製造した保護層が
付設された蛍光体層端面部の保護層をコロナ放電処理
後、この塗布液を端面部を覆うようにシリンジで塗布し
た後、アイグラフィック(株)製の空冷メタルハライドラ
ンプM08-L41 を用いて、ランプ出力80W/cmの紫外線を30
秒照射して硬化し、膜厚約25μmの縁貼層を形成した。
Further, 70 g of a polyester-based urethane acrylate (Negami Industry Co., Ltd .: Art Resin UN-330), 3 g of a photopolymerization initiator (Nagase Sangyo Co., Ltd .: Irgacure 184), and an epoxy resin (oil oil) as a yellowing inhibitor Shell Epoxy Co., Ltd .:
0.6 g of Epicoat # 1001 (solid), a silicone oligomer having a terminal methacryloxy group reactive (Chisso
Co., Ltd., Cyraprene FM-0725, Mn 10,000) 0.2g of MEK 5g
To prepare a coating solution. After the corona discharge treatment of the protective layer at the end face of the phosphor layer provided with the protective layer prepared above, the coating solution was applied with a syringe so as to cover the end face, and then an air-cooled metal halide lamp manufactured by Eye Graphic Co., Ltd. Using M08-L41, UV light with 80W / cm
The coating was cured by irradiating for 2 seconds to form an edge adhesive layer having a thickness of about 25 μm.

【0101】以上のようにして、蛍光体層の端面が保護
された縁貼層付き放射線像変換パネルを製造した。
As described above, a radiation image conversion panel with an edge sticking layer in which the end face of the phosphor layer was protected was manufactured.

【0102】(実施例2)実施例1の縁貼りで使用した
アートレジンUN-330に換えて、新中村化学工業(株)製の
ウレタンアクリレートUA122Pを使用した以外は同様にし
て、蛍光体層の端面が保護された縁貼層付き放射線像変
換パネルを製造した。
Example 2 A phosphor layer was prepared in the same manner as in Example 1 except that urethane acrylate UA122P manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd. was used in place of the art resin UN-330 used for edge bonding. A radiation image conversion panel with an edge-adhering layer having a protected end face was manufactured.

【0103】(実施例3)実施例1の縁貼りで使用した
アートレジンUN-330に換えて、ダイセルユーシービー
(株)の直鎖アクリルオリゴマーEB745 を使用した以外は
同様にして、蛍光体層の端面が保護された縁貼層付き放
射線像変換パネルを製造した。
(Example 3) In place of the art resin UN-330 used for the edge application in Example 1, Daicel UCB was used.
A radiation image conversion panel with an edge sticking layer in which the end faces of the phosphor layer were protected was produced in the same manner except that the linear acrylic oligomer EB745 of Co., Ltd. was used.

【0104】(実施例4)実施例1の縁貼りで使用した
アートレジンUN-330に換えて、ダイセルユーシービー
(株)のエポキシアクリレートEB3701を使用した以外は同
様にして、蛍光体層の端面が保護された縁貼層付き放射
線像変換パネルを製造した。
(Example 4) In place of the art resin UN-330 used for the edge application in Example 1, Daicel UCB was used.
A radiation image conversion panel with an edge sticking layer in which the end face of the phosphor layer was protected was produced in the same manner except that Epoxy Acrylate EB3701 manufactured by KK was used.

【0105】(比較例1)実施例1で使用した縁貼液の
防汚剤(末端メタクリロキシ基反応性シリコーンオリゴ
マー)を使用しなかった以外は同様にして、蛍光体層の
端面が保護された縁貼層付き放射線像変換パネルを製造
した。
(Comparative Example 1) The edge face of the phosphor layer was protected in the same manner as in Example 1 except that the antifouling agent (methacryloxy group-reactive silicone oligomer at the terminal) of the edge patch was not used. A radiation image conversion panel with an edge sticking layer was manufactured.

【0106】(比較例2)実施例1の縁貼層に換えて以
下の縁貼層を設けた以外は同様にして蛍光体層の端面が
保護された縁貼層付き放射線像変換パネルを製造した。
(Comparative Example 2) A radiation image conversion panel with an edge-attached layer in which the end faces of the phosphor layers were protected was manufactured in the same manner except that the following edge-attached layer was provided instead of the edge-attached layer of Example 1. did.

【0107】シリコーン系ポリマー(ポリジメチルシロ
キサン単位を有するポリウレタン;大日精化(株)、ダイ
アロマーSP-3023(15%メチルエチルケトン/トルエン溶
液))70g、架橋剤としてポリイソシアネート(大日精
化(株):クロスネートD-70(50%溶液))3g、黄変防止剤
としてエポキシ樹脂(油化シェルエポキシ(株):エピコ
ート#1001(固形))0.6g、滑り剤としてアルコール変性
シリコーン(信越化学(株):X-22-2809(66%キシレン含
有ペースト))0.2gを溶剤MEK 15gに溶解させて塗布液
を調整した。この塗布液を、先に製造した保護層が付設
された蛍光体シートの各側面に塗布し、室温で充分に乾
燥して、膜厚約25μmの側面硬化皮膜を形成した。
70 g of a silicone polymer (polyurethane having a polydimethylsiloxane unit; Dainichisei Chemical Co., Ltd., dialomer SP-3023 (15% methyl ethyl ketone / toluene solution)) 70 g, and a polyisocyanate (Dainichi Seika Co., Ltd.) as a crosslinking agent: 3 g of Closnate D-70 (50% solution), 0.6 g of an epoxy resin (Yuika Shell Epoxy Co., Ltd .: Epicoat # 1001 (solid)) as a yellowing inhibitor, and an alcohol-modified silicone (Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) as a slipping agent ): X-22-2809 (66% xylene-containing paste)) 0.2 g was dissolved in 15 g of solvent MEK to prepare a coating solution. This coating solution was applied to each side surface of the phosphor sheet provided with the protective layer prepared above, and dried sufficiently at room temperature to form a side cured film having a thickness of about 25 μm.

【0108】(評価実験)上記で得られた放射線像変換
パネルを、落下強度および汚れ落ちについて下記のよう
に評価した。
(Evaluation Experiment) The radiation image conversion panel obtained above was evaluated for drop strength and stain removal as follows.

【0109】1.落下強度 355mm角の放射線像変換パネルを20mmφSUS棒に直角に当
たるように、80cmの高さから垂直に落下させた後に縁貼
層の剥がれの有無を目視でチェックし、以下の4段階で
評価した。 A:無し B:僅かにあり C:明確にあり D:著しくあり
1. The radiation image conversion panel having a drop strength of 355 mm square was vertically dropped from a height of 80 cm so as to hit a 20 mm φ SUS rod at a right angle, and then visually inspected for peeling of an edge adhesive layer, and evaluated according to the following four grades. A: None B: Slightly present C: Clearly present D: Remarkably present

【0110】2.マジック汚れ落ち 縁貼層上に黒マジックインキでマークを付け、乾燥後テ
ィシュペーパーで拭き取り、マジックインキの残存程度
を目視でチェックし、以下の4段階で評価した。 A:無し B:僅かにあり C:明確にあり D:著しくあり
[0110] 2. Magic stain removal Marking was performed on the edge application layer with black magic ink, dried, wiped off with a tissue paper, and visually checked for the remaining amount of the magic ink, and evaluated according to the following four grades. A: None B: Slightly present C: Clearly present D: Remarkably present

【0111】3.摺動試験 放射線像変換パネルの縁貼層を5cm×15cm の長方形に切
断し、不織布(出光石油化学(株)製:ストラテック)を
3cm×4cmに切断し 0.98Nの加重をかけて、縁貼層に直角
に20万回往復摺動させた。摺動後、縁貼層の剥がれの有
無を目視でチェックし、以下の4段階で評価した。 A:無し B:僅かにあり C:明確にあり D:著しくあり
3. Sliding test The edge layer of the radiation image conversion panel was cut into a rectangle of 5 cm x 15 cm, and a nonwoven fabric (manufactured by Idemitsu Petrochemical Co., Ltd .: Stratec) was cut.
The sheet was cut into 3 cm × 4 cm, and a load of 0.98 N was applied. After sliding, the presence or absence of peeling of the edge application layer was visually checked, and evaluated by the following four grades. A: None B: Slightly present C: Clearly present D: Remarkably present

【0112】さらに、摺動後、縁貼層上に黒マジックイ
ンキでマークを付け、乾燥後ティシュペーパーで拭き取
り、マジックインキの残存程度を目視でチェックし、以
下の4段階で評価した。 A:無し B:僅かにあり C:明確にあり D:著しくあり 結果を表1に示す。
Further, after sliding, a mark was applied on the edge application layer with black magic ink, and after drying, the mark was wiped off with a tissue paper. The remaining amount of the magic ink was visually checked, and evaluated according to the following four grades. A: None B: Slightly present C: Clearly present D: Remarkably present The results are shown in Table 1.

【0113】[0113]

【表1】 以上の実験結果から明らかなように、本発明の放射線像
変換パネルの縁貼層は強度が高く、また摺動後において
も防汚性が高かった。一方、シリコーンマクロモノマー
を用いなかった比較例1では、強度はあっても防汚性が
充分ではなく、紫外線または電子線硬化樹脂を用いなか
った比較例2では、強度において本発明の縁貼層に比べ
て劣り、また摺動後の防汚性も充分ではなかった。
[Table 1] As is evident from the above experimental results, the edge adhesive layer of the radiation image storage panel of the present invention had high strength, and had high antifouling properties even after sliding. On the other hand, in Comparative Example 1 in which no silicone macromonomer was used, the antifouling property was not sufficient even though the strength was high, and in Comparative Example 2 in which no ultraviolet or electron beam curing resin was used, the strength of the edge adhesive layer of the present invention was low. And the antifouling property after sliding was not sufficient.

【0114】なお、ここでは輝尽性蛍光体を用いた放射
線像変換パネルによる実施例を示したが、本発明による
縁貼層は輝尽性でない蛍光体を用いて透過放射線を可視
光および/または紫外放射線に変換するためのパネル、
たとえばX線写真用増感スクリーンなど、繰り返して使
用されるパネルの側面の強度や防汚性の向上にも極めて
有用である。
Although the embodiment using a radiation image conversion panel using a stimulable phosphor has been described here, the bordering layer according to the present invention uses a non-stimulable phosphor to transmit transmitted radiation and / or visible light. Or panels for converting to ultraviolet radiation,
For example, it is extremely useful for improving the strength and antifouling property of the side face of a panel used repeatedly, such as an intensifying screen for X-ray photography.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の第一の実施の形態を示す放射線発光パ
ネルの断面図
FIG. 1 is a sectional view of a radiation-emitting panel according to a first embodiment of the present invention.

【図2】本発明の第二の実施の形態を示す放射線発光パ
ネルの断面図
FIG. 2 is a sectional view of a radiation-emitting panel according to a second embodiment of the present invention.

【図3】本発明の第三の実施の形態を示す放射線発光パ
ネルの断面図
FIG. 3 is a sectional view of a radiation-emitting panel according to a third embodiment of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10 放射線発光パネル 11 支持体層 12 蛍光体層 13 保護層 14 縁貼層 10 Radiation-emitting panel 11 Support layer 12 Phosphor layer 13 Protective layer 14 Edge application layer

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 支持体層と蛍光体層と保護層とをこの順
に積層してなる放射線発光パネルにおいて、前記蛍光体
層の端部に、紫外線または電子線硬化樹脂と、該紫外線
または電子線硬化樹脂と反応可能な官能基を有するシリ
コーンマクロモノマーとを含む縁貼層が設けられ、該縁
貼層が紫外線または電子線の照射によって硬化されてい
ることを特徴とする放射線発光パネル。
1. A radiation-emitting panel in which a support layer, a phosphor layer and a protective layer are laminated in this order, an ultraviolet ray or an electron beam curing resin, and an ultraviolet ray or an electron beam at an end of the phosphor layer. A radiation-emitting panel, comprising: a border layer containing a cured resin and a silicone macromonomer having a functional group capable of reacting; and the border layer is cured by irradiation with ultraviolet rays or electron beams.
【請求項2】 前記シリコーンマクロモノマー分子の片
末端に前記官能基を有することを特徴とする請求項1記
載の放射線発光パネル。
2. The radiation-emitting panel according to claim 1, wherein the functional group is provided at one end of the silicone macromonomer molecule.
【請求項3】 前記シリコーンマクロモノマーの官能基
がメタクリロキシ基であることを特徴とする請求項1ま
たは2記載の放射線発光パネル。
3. The radiation-emitting panel according to claim 1, wherein the functional group of the silicone macromonomer is a methacryloxy group.
【請求項4】 前記シリコーンマクロモノマーの数平均
分子量が5000から20000 であることを特徴とする請求項
1、2または3記載の放射線発光パネル。
4. The radiation-emitting panel according to claim 1, wherein the number average molecular weight of the silicone macromonomer is 5,000 to 20,000.
【請求項5】 前記紫外線または電子線硬化樹脂が有す
る硬化性官能基がビニル基またはアクリレート基である
ことを特徴とする請求項1から4いずれか1項記載の放
射線発光パネル。
5. The radiation-emitting panel according to claim 1, wherein the curable functional group of the ultraviolet or electron beam curable resin is a vinyl group or an acrylate group.
【請求項6】 前記縁貼層の前記蛍光体層の端面におけ
る厚みが5μm以上1000μm以下であることを特徴とする
請求項1から5いずれか1項記載の放射線発光パネル。
6. The radiation-emitting panel according to claim 1, wherein a thickness of the edge sticking layer at an end face of the phosphor layer is 5 μm or more and 1000 μm or less.
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