JP2715189B2 - Radiation image conversion panel - Google Patents

Radiation image conversion panel

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JP2715189B2
JP2715189B2 JP10460291A JP10460291A JP2715189B2 JP 2715189 B2 JP2715189 B2 JP 2715189B2 JP 10460291 A JP10460291 A JP 10460291A JP 10460291 A JP10460291 A JP 10460291A JP 2715189 B2 JP2715189 B2 JP 2715189B2
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  • Conversion Of X-Rays Into Visible Images (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、輝尽性蛍光体を利用す
る放射線像変換方法に用いられる放射線像変換パネルに
関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a radiation image conversion panel used in a radiation image conversion method using a stimulable phosphor.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来の放射線写真法に代わる方法とし
て、たとえば特開昭55−12145号公報に記載され
ているような輝尽性蛍光体を用いる放射線像変換方法が
知られている。この方法は、輝尽性蛍光体を含有する放
射線像変換パネル(蓄積性蛍光体シート)を利用するも
ので、被写体を透過した、あるいは被検体から発せられ
た放射線を該パネルの輝尽性蛍光体に吸収させ、そのの
ちに輝尽性蛍光体を可視光線、赤外線などの電磁波(励
起光)で時系列的に励起することにより、該輝尽性蛍光
体中に蓄積されている放射線エネルギーを蛍光(輝尽発
光光)として放出させ、この蛍光を光電的に読み取って
電気信号を得、次いで得られた電気信号に基づいて被写
体あるいは被検体の放射線画像を可視像として再生する
ものである。読み取りを終えた該パネルは、残存する画
像の消去が行なわれた後、次の撮影のために備えられ
る。すなわち、放射線像変換パネルは繰り返し使用され
る。
2. Description of the Related Art As an alternative to the conventional radiographic method, there has been known a radiation image conversion method using a stimulable phosphor as described in, for example, JP-A-55-12145. This method uses a radiation image conversion panel (a stimulable phosphor sheet) containing a stimulable phosphor, and transmits radiation transmitted through a subject or emitted from a subject to the stimulable phosphor of the panel. By absorbing the stimulable phosphor with electromagnetic waves (excitation light) such as visible light and infrared light in a time series manner, the radiation energy stored in the stimulable phosphor is absorbed by the body. The fluorescent light is emitted (stimulated emission light), the fluorescent light is read photoelectrically to obtain an electric signal, and a radiation image of a subject or a subject is reproduced as a visible image based on the obtained electric signal. . After the reading of the panel is completed, after the remaining image is deleted, the panel is prepared for the next photographing. That is, the radiation image conversion panel is used repeatedly.

【0003】この放射線像変換方法によれば、従来の放
射線写真フィルムと増感紙との組合せを用いる放射線写
真法による場合に比較して、はるかに少ない被曝線量で
情報量の豊富な放射線画像を得ることができるという利
点がある。さらに、従来の放射線写真法では一回の撮影
ごとに放射線写真フィルムを消費するのに対して、この
放射線像変換方法では放射線像変換パネルをくり返し使
用するので資源保護、経済効率の面からも有利である。
According to this radiographic image conversion method, a radiographic image with a large amount of information can be obtained with a much smaller exposure dose than the radiographic method using a combination of a conventional radiographic film and an intensifying screen. There is an advantage that it can be obtained. Furthermore, in contrast to the conventional radiographic method, which consumes radiographic film for each photographing, the radiographic image conversion method uses the radiographic image conversion panel repeatedly, which is advantageous in terms of resource conservation and economic efficiency. It is.

【0004】放射線像変換方法に用いられる放射線像変
換パネルは、基本構造として、支持体とその表面に設け
られた輝尽性蛍光体層とからなるものである。ただし、
蛍光体層が自己支持性である場合には必ずしも支持体を
必要としない。輝尽性蛍光体層は、通常は輝尽性蛍光体
とこれを分散状態で含有支持する結合剤とからなる。た
だし、輝尽性蛍光体層としては、蒸着法や焼結法によっ
て形成される結合剤を含まないで輝尽性蛍光体の凝集体
のみから構成されるものが知られている。また、輝尽性
蛍光体の凝集体の間隙に高分子物質が含浸されている輝
尽性蛍光体層を有する放射線像変換パネルも知られてい
る。これらのいずれの蛍光体層でも、輝尽性蛍光体はX
線などの放射線を吸収したのち励起光の照射を受けると
輝尽発光を示す性質を有するものであるから、被写体を
透過したあるいは被検体から発せられた放射線は、その
放射線量に比例して放射線像変換パネルの輝尽性蛍光体
層に吸収され、パネルには被写体あるいは被検体の放射
線像が放射線エネルギーの蓄積像として形成される。こ
の蓄積像は、上記励起光を照射することにより輝尽発光
光として放出させることができ、この輝尽発光光を光電
的に読み取って電気信号に変換することにより放射線エ
ネルギーの蓄積像を画像化することが可能となる。
The radiation image conversion panel used in the radiation image conversion method has, as a basic structure, a support and a stimulable phosphor layer provided on the surface of the support. However,
When the phosphor layer is self-supporting, a support is not necessarily required. The stimulable phosphor layer usually comprises a stimulable phosphor and a binder containing and supporting the stimulable phosphor in a dispersed state. However, as the stimulable phosphor layer, a layer composed of only an aggregate of the stimulable phosphor without a binder formed by a vapor deposition method or a sintering method is known. Further, there is known a radiation image conversion panel having a stimulable phosphor layer in which a polymer substance is impregnated in a gap between stimulable phosphor aggregates. In any of these phosphor layers, the stimulable phosphor is X
When irradiated with excitation light after absorbing radiation such as radiation, it has the property of stimulating luminescence, so radiation transmitted through a subject or emitted from a subject is proportional to the amount of radiation. Absorbed by the stimulable phosphor layer of the image conversion panel, a radiation image of the subject or the subject is formed on the panel as an accumulated image of radiation energy. This accumulated image can be emitted as stimulated emission light by irradiating the excitation light, and the accumulated image of radiation energy is imaged by photoelectrically reading the stimulated emission light and converting it into an electric signal. It is possible to do.

【0005】輝尽性蛍光体層の表面(支持体に面してい
ない側の表面)には通常、保護膜が設けられていて、蛍
光体層を化学的な変質あるいは物理的な衝撃から保護し
ている。保護膜には、セルロース誘導体やポリメチルメ
タクリレートなどのような透明な有機高分子物質を適当
な溶媒に溶解して調製した溶液を蛍光体層の上に塗布す
ることで形成されたもの、あるいはポリエチレンテレフ
タレートなどの有機高分子フィルムや透明なガラス板な
どの保護膜形成用シートを別に形成して蛍光体層の表面
に適当な接着剤を用いて設けたもの、あるいは無機化合
物を蒸着などによって蛍光体層上に成膜したものなどが
知られている。
[0005] A protective film is usually provided on the surface of the stimulable phosphor layer (the surface not facing the support) to protect the phosphor layer from chemical alteration or physical impact. doing. The protective film is formed by applying a solution prepared by dissolving a transparent organic polymer substance such as a cellulose derivative or polymethyl methacrylate in an appropriate solvent onto the phosphor layer, or polyethylene. An organic polymer film such as terephthalate or a sheet for forming a protective film such as a transparent glass plate is separately formed and provided on the surface of the phosphor layer using an appropriate adhesive, or an inorganic compound is deposited on the phosphor by vapor deposition or the like. Those formed on a layer are known.

【0006】これらのうち、塗布によって形成した保護
膜は、一般に蛍光体層との接着強度が強く、また比較的
簡単な工程で製造できるという利点を持っている。
[0006] Among them, the protective film formed by coating has advantages in that it generally has strong adhesive strength to the phosphor layer and can be manufactured by a relatively simple process.

【0007】ところで、放射線像変換方法の実施におい
て、放射線像変換パネルは、放射線の照射(放射線像の
記録)・励起光の照射(記録された放射線像の読出し)
・消去光の照射(残存する放射線像の消去)というサイ
クルで繰り返し使用される。そして放射線像変換パネル
の各ステップへの移行はベルト、ローラーなどの搬送手
段により行なわれ、一サイクル終了後パネルは通常積層
して保存される。ところが、上記のような、塗布によっ
て形成された保護膜を有する放射線像変換パネルを、こ
のように繰返し使用していると、たとえば保護膜表面に
擦り傷が発生するなどの理由により、当該放射線像変換
パネルが形成する放射線画像の画質が徐々に低下する傾
向がある。放射線像変換パネルも従来の放射線写真法と
同様に、高感度であってかつ画質(鮮鋭度、粒状性な
ど)の良好な画像を与えるものであることが望まれるか
ら、上記のような擦り傷の発生を防止することは重要な
課題である。
[0007] In the practice of the radiation image conversion method, the radiation image conversion panel includes radiation irradiation (recording of a radiation image) and irradiation of excitation light (reading of a recorded radiation image).
It is used repeatedly in the cycle of irradiating erasing light (erasing the remaining radiation image). The transition of the radiation image conversion panel to each step is performed by a conveying means such as a belt or a roller. After one cycle, the panels are usually stacked and stored. However, when the radiation image conversion panel having the protective film formed by coating as described above is repeatedly used in this way, the radiation image conversion panel is not used because, for example, abrasion occurs on the protective film surface. The quality of the radiation image formed by the panel tends to gradually decrease. Since it is desired that the radiation image conversion panel also provides an image having high sensitivity and good image quality (sharpness, granularity, etc.), similarly to the conventional radiographic method, it is desired that the above-mentioned scratches Preventing occurrence is an important issue.

【0008】上記の繰返し使用による放射線像変換パネ
ルの感度低下を防ぐことのできる塗布膜としては、既に
本出願人により出願された「輝尽性蛍光体からなる蛍光
体層と保護膜とを有する放射線像変換パネルにおいて、
前記保護膜が有機溶媒可溶性のフッ素系樹脂を含む塗布
膜により形成された膜であることを特徴とする放射線像
変換パネル」(特開平2−193100号公報)が知ら
れている。
As a coating film capable of preventing the sensitivity of the radiation image conversion panel from lowering due to the above-mentioned repetition, a coating film which has already been filed by the present applicant includes a phosphor layer composed of a stimulable phosphor and a protective film. In the radiation image conversion panel,
A radiation image conversion panel, wherein the protective film is a film formed of a coating film containing an organic solvent-soluble fluorine-based resin, has been known (JP-A-2-193100).

【0009】[0009]

【発明が解決しようとする課題】上述のように、放射線
像変換パネルの保護膜は、当該パネルの繰り返し使用に
より、その保護膜表面が繰り返し他の物体表面と接触
し、その結果、保護膜表面に擦り傷が発生しがちであ
り、この擦り傷は、最終的に得られる放射線像の劣化あ
るいは、放射線像に関する画像情報の質の低下をもたら
すため、保護膜の防傷性の向上が望まれる。
As described above, the protective film of the radiation image storage panel repeatedly comes into contact with the surface of another object due to the repeated use of the panel. Scratches tend to occur, and these scratches cause the deterioration of the finally obtained radiation image or the quality of image information related to the radiation image. Therefore, it is desired to improve the scratch resistance of the protective film.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】本発明は、輝尽性蛍光体
からなる蛍光体層と保護膜とを有する放射線像変換パネ
ルの保護膜を、膜形成性樹脂と、ポリシロキサン骨格含
有オリゴマーもしくはパーフルオロアルキル基含有オリ
ゴマーのいずれか一方、あるいは両方を含む塗布膜から
形成することにより、保護膜の防傷性を高め、これによ
って、上記課題の解決を図るものである。
According to the present invention, a protective film of a radiation image conversion panel having a phosphor layer composed of a stimulable phosphor and a protective film is formed by using a film-forming resin and a polysiloxane skeleton-containing oligomer or oligomer. By forming the protective film from a coating film containing either or both of the perfluoroalkyl group-containing oligomers, the protective film has improved scratch resistance, thereby solving the above-mentioned problem.

【0011】本発明における好ましい態様を、以下に列
記する。 (1)膜形成性樹脂が有機溶媒可溶性のフッ素系樹脂を
含む樹脂組成物である。ここでフッ素系樹脂とは、フッ
素を含むオレフィン(フルオロオレフィン)の重合体又
はフッ素を含むオレフィンを共重合体成分として含む共
重合体をいう。フッ素系樹脂を含む保護膜は、架橋され
ていてもよい。
Preferred embodiments of the present invention are listed below. (1) The film-forming resin is a resin composition containing a fluorine-based resin soluble in an organic solvent. Here, the fluorine-based resin refers to a polymer of an olefin containing fluorine (fluoroolefin) or a copolymer containing an olefin containing fluorine as a copolymer component. The protective film containing a fluororesin may be crosslinked.

【0012】(2)保護膜が膜形成性樹脂とポリシロキ
サン骨格含有オリゴマーとからなるものであって、該ポ
リシロキサン骨格含有オリゴマーが保護膜中に0.01
〜10重量%含まれている放射線像変換パネル。 (3)保護膜が膜形成性樹脂とポリシロキサン骨格含有
オリゴマーとからなるものであって、該ポリシロキサン
骨格含有オリゴマーが保護膜中に0.1〜重量%含ま
れている放射線像変換パネル。 (4)保護膜が膜形成性樹脂と少なくとも一つの官能基
を含むポリシロキサン骨格含有オリゴマーとからなるも
のである放射線像変換パネル。 (5)保護膜が膜形成性樹脂と少なくとも一つの水酸基
を含むポリシロキサン骨格含有オリゴマーとからなるも
のである放射線像変換パネル。 (6)保護膜が膜形成性樹脂とパーフルオロアルキル基
含有オリゴマーとからなるものであって、該パーフルオ
ロアルキル基含有オリゴマーが保護膜中に0.01〜1
0重量%含まれている放射線像変換パネル。 (7)保護膜が膜形成性樹脂とパーフルオロアルキル基
含有オリゴマーとからなるものであって、該パーフルオ
ロアルキル基含有オリゴマーが保護膜中に0.1〜
量%含まれている放射線像変換パネル。 (8)保護膜が膜形成性樹脂とパーフルオロアルキル基
含有オリゴマーとからなるものであって、該パーフルオ
ロアルキル基含有オリゴマーが分子鎖中に少なくとも一
つの官能基を有するものである放射線像変換パネル。 (9)保護膜が膜形成性樹脂とパーフルオロアルキル基
含有オリゴマーとからなるものであって、該パーフルオ
ロアルキル基含有オリゴマーが分子鎖中に水酸基(−O
H)を有するものである放射線像変換パネル。 (10)保護膜中に、パーフルオロオレフィン樹脂粉末
もしくはシリコーン樹脂粉末が、保護膜重量当り0.5
〜30重量%の量で含まれている放射線像変換パネル。 (11)保護膜中に、平均粒径が0.1〜10μmの範
囲にあるパーフルオロオレフィン樹脂粉末もしくはシリ
コーン樹脂粉末が含まれている放射線像変換パネル。 (12)フッ素系樹脂が、フルオロオレフィンを共重合
体成分として含む共重合体、ポリテトラフルオロエチレ
ンおよびポリテトラフルオロエチレン変成体からなる群
より選ばれる少なくとも一つのフッ素系樹脂である放射
線像変換パネル。 (13)フッ素系樹脂がフルオロオレフィンとビニルエ
ーテルとの共重合体、ポリテトラフルオロエチレンおよ
びポリテトラフルオロエチレン変成体からなる群より選
ばれる少なくとも一つのフッ素系樹脂である放射線像変
換パネル。 (14)上記フッ素系樹脂がフルオロオレフィンとビニ
ルエーテルとの共重合体およびポリテトラフルオロエチ
レン変成体からなる群より選ばれる少なくとも一つのフ
ッ素系樹脂である放射線像変換パネル。 (15)上記フッ素系樹脂がフルオロオレフィンとビニ
ルエーテルとの共重合体である放射線像変換パネル。 (16)上記フッ素系樹脂がポリテトラフルオロエチレ
ンもしくはその変成体である放射線像変換パネル。 (17)フッ素系樹脂成分か保護膜中に30重量%以上
含まれている放射線像変換パネル。 (18)フッ素系樹脂成分が保護膜中に50重量%以上
含まれている放射線像変換パネル。 (19)フッ素系樹脂成分が保護膜中に70重量%以上
含まれている放射線像変換パネル。 (20)フッ素系樹脂が保護膜中で架橋されている放射
線像変換パネル。
(2) The protective film comprises a film-forming resin and a polysiloxane skeleton-containing oligomer, and the polysiloxane skeleton-containing oligomer is contained in the protective film in an amount of 0.01%.
A radiation image conversion panel containing from 10 to 10% by weight. (3) A radiation image conversion panel wherein the protective film comprises a film-forming resin and a polysiloxane skeleton-containing oligomer, and the polysiloxane skeleton-containing oligomer is contained in the protective film in an amount of 0.1 to 3 % by weight. . (4) A radiation image conversion panel wherein the protective film comprises a film-forming resin and a polysiloxane skeleton-containing oligomer containing at least one functional group. (5) A radiation image conversion panel wherein the protective film comprises a film-forming resin and a polysiloxane skeleton-containing oligomer containing at least one hydroxyl group. (6) The protective film comprises a film-forming resin and a perfluoroalkyl group-containing oligomer, and the perfluoroalkyl group-containing oligomer is contained in the protective film in an amount of 0.01 to 1%.
A radiation image conversion panel containing 0% by weight. (7) A radiation image in which the protective film is composed of a film-forming resin and a perfluoroalkyl group-containing oligomer, and the perfluoroalkyl group-containing oligomer is contained in the protective film in an amount of 0.1 to 3 % by weight. Conversion panel. (8) A radiation image converter in which the protective film comprises a film-forming resin and a perfluoroalkyl group-containing oligomer, and the perfluoroalkyl group-containing oligomer has at least one functional group in a molecular chain. panel. (9) The protective film comprises a film-forming resin and a perfluoroalkyl group-containing oligomer, and the perfluoroalkyl group-containing oligomer has a hydroxyl group (-O
H) a radiation image conversion panel. (10) Perfluoroolefin resin powder or silicone resin powder in the protective film is 0.5
A radiation image conversion panel contained in an amount of up to 30% by weight. (11) A radiation image conversion panel in which a protective film contains a perfluoroolefin resin powder or a silicone resin powder having an average particle size in a range of 0.1 to 10 μm. (12) The radiation image conversion panel, wherein the fluorine-based resin is at least one fluorine-based resin selected from the group consisting of a copolymer containing a fluoroolefin as a copolymer component, polytetrafluoroethylene and a modified polytetrafluoroethylene. . (13) A radiation image conversion panel wherein the fluorine-based resin is at least one fluorine-based resin selected from the group consisting of a copolymer of fluoroolefin and vinyl ether, polytetrafluoroethylene and a modified polytetrafluoroethylene. (14) A radiation image conversion panel wherein the fluorine-based resin is at least one fluorine-based resin selected from the group consisting of a copolymer of fluoroolefin and vinyl ether and a modified polytetrafluoroethylene. (15) A radiation image conversion panel wherein the fluororesin is a copolymer of fluoroolefin and vinyl ether. (16) A radiation image conversion panel in which the fluorine-based resin is polytetrafluoroethylene or a modified product thereof. (17) A radiation image conversion panel containing 30% by weight or more of a fluorine resin component or a protective film. (18) A radiation image conversion panel in which a fluorine resin component is contained in a protective film in an amount of 50% by weight or more. (19) A radiation image conversion panel in which a fluorine resin component is contained in a protective film in an amount of 70% by weight or more. (20) A radiation image conversion panel in which a fluorine-based resin is crosslinked in a protective film.

【0013】本発明の放射線像変換パネルについて、以
下に詳細に述べる。
The radiation image conversion panel of the present invention will be described in detail below.

【0014】まず、本発明の放射線像変換パネルの蛍光
体層を構成する輝尽性蛍光体について述べる。輝尽性蛍
光体は、先に述べたように放射線を照射した後、励起光
を照射すると輝尽発光を示す蛍光体であるが、実用的な
面からは波長が400〜900nmの範囲にある励起光
によって300〜500nmの波長範囲の輝尽発光を示
す蛍光体であることが望ましい。本発明の放射線像変換
パネルに用いられる輝尽性蛍光体の例としては、
First, the stimulable phosphor constituting the phosphor layer of the radiation image storage panel of the present invention will be described. The stimulable phosphor is a phosphor that emits stimulable light when irradiated with radiation and then with excitation light as described above, but has a wavelength in the range of 400 to 900 nm from a practical viewpoint. It is desirable that the phosphor emits stimulated emission in the wavelength range of 300 to 500 nm by the excitation light. Examples of the stimulable phosphor used in the radiation image conversion panel of the present invention,

【0015】米国特許第3,859,527号明細書記
載のSrS:Ce,Sm、SrS:Eu,Sm、ThO
2 :Er、およびLa22 S:Eu,Sm、特開昭5
5−12142号公報記載のZnS:Cu,Pb、Ba
O・xAl23 :Eu(ただし、0.8≦x≦1
0)、及びMIIO・xSiO2 :A(ただし、MIIはM
g、Ca、Sr、Zn、CdまたはBaであり、AはC
e、Tb、Eu、Tm、Pb、Tl、Bi、またはMn
であり、xは、0.5≦x≦2.5である)、
SrS: Ce, Sm, SrS: Eu, Sm, ThO described in US Pat. No. 3,859,527.
2 : Er, and La 2 O 2 S: Eu, Sm;
No. 5-12142, ZnS: Cu, Pb, Ba
O.xAl 2 O 3 : Eu (where 0.8 ≦ x ≦ 1
0) and M II O.xSiO 2 : A (where M II is M
g, Ca, Sr, Zn, Cd or Ba, and A is C
e, Tb, Eu, Tm, Pb, Tl, Bi, or Mn
And x is 0.5 ≦ x ≦ 2.5),

【0016】特開昭55−12143号公報に記載の
(Ba1-x-y,Mgx ,Cay )FX:aEu2+(ただ
し、XはClおよびBrのうちの少なくとも一つであ
り、xおよびyは、0<x+y≦0.6かつxy≠0で
あり、aは10-6≦a≦5×10-2である)、
(Ba 1 -xy , Mg x , Ca y ) FX: aEu 2+ described in JP -A- 55-12143 (where X is at least one of Cl and Br, x and y is 0 <x + y ≦ 0.6 and xy ≠ 0, and a is 10 −6 ≦ a ≦ 5 × 10 −2 ),

【0017】特開昭55−12144号公報記載のLn
OX:xA(ただし、LnはLa、Y、Gd、およびL
uのうちの少なくとも一つ、XはClおよびBrのうち
の少なくとも一つ、AはCeおよびTbのうちの少なく
とも一つ、そして、xは、0<x<0.1である)、
Ln described in JP-A-55-12144
OX: xA (where Ln is La, Y, Gd, and L
at least one of u, X is at least one of Cl and Br, A is at least one of Ce and Tb, and x is 0 <x <0.1),

【0018】特開昭55−12145号公報に記載の
(Ba1-x ,M2+ x )FX:yA(ただし、M2+はM
g、Ca、Sr、Zn、およびCdのうちの少なくとも
一つ、XはCl、BrおよびIのうちの少なくとも一
つ、AはEu、Tb、Ce、Tm、Dy、Pr、Ho、
Nd、Yb、およびErのうちの少なくとも一つ、そし
てxは、0≦x≦0.6、yは、0≦y≦0.2であ
る)、
(Ba 1-x , M 2+ x ) FX: yA described in JP-A-55-12145 (where M 2+ is M
g, at least one of Ca, Sr, Zn and Cd, X is at least one of Cl, Br and I, A is Eu, Tb, Ce, Tm, Dy, Pr, Ho,
At least one of Nd, Yb, and Er, and x is 0 ≦ x ≦ 0.6, and y is 0 ≦ y ≦ 0.2),

【0019】特開昭55−160078号公報に記載の
IIFX・xA:yLn[ただし、MIIはBa、Ca、
Sr、Mg、Zn、およびCdのうちの少なくとも一
種、AはBeO、MgO、CaO、SrO、BaO、Z
nO、Al23 、Y23 、La23 、In2
3 、SiO2 、TiO2 、ZrO2 、GeO2 、SnO
2、Nb25 、Ta25 、およびThO2 のうちの
少なくとも一種、Lnは、Eu、Tb、Ce、Tm、D
y、Pr、Ho、Nd、Yb、Er、Sm、およびGd
のうちの少なくとも一種、XはCl、Br、およびIの
うちの少なくとも一種であり、xおよびyはそれぞれ5
×10-5≦x≦0.5および0<y≦0.2である]の
組成式で表わされる蛍光体、
M II FX · xA: yLn described in JP-A-55-160078 [where M II is Ba, Ca,
At least one of Sr, Mg, Zn, and Cd, A is BeO, MgO, CaO, SrO, BaO, Z
nO, Al 2 O 3 , Y 2 O 3 , La 2 O 3 , In 2 O
3 , SiO 2 , TiO 2 , ZrO 2 , GeO 2 , SnO
2 , Nb 2 O 5 , Ta 2 O 5 , and at least one of ThO 2 , Ln is Eu, Tb, Ce, Tm, D
y, Pr, Ho, Nd, Yb, Er, Sm, and Gd
X is at least one of Cl, Br, and I, and x and y are each 5
× 10 −5 ≦ x ≦ 0.5 and 0 <y ≦ 0.2].

【0020】特開昭56−116777号公報に記載の
(Ba1-x ,MII x )F2 ・aBaX2 :yEu,zA
[ただし、MIIはベリリウム、マグネシウム、カルシウ
ム、ストロンチウム、亜鉛、およびカドミウムのうちの
少なくとも一種、Xは塩素、臭素、および沃素のうちの
少なくとも一種、Aはジルコニウムおよびスカンジウム
のうちの少なくとも一種であり、a、x、y、およびz
はそれぞれ0.5≦a≦1.25、0≦x≦1、10-6
≦y≦2×10-1、および0<z≦10-2である]の組
成式で表わされる蛍光体、
(Ba 1 -x , M II x ) F 2 .aBaX 2 : yEu, zA described in JP-A-56-116777
[Where M II is at least one of beryllium, magnesium, calcium, strontium, zinc and cadmium, X is at least one of chlorine, bromine and iodine, A is at least one of zirconium and scandium] , A, x, y, and z
Are respectively 0.5 ≦ a ≦ 1.25, 0 ≦ x ≦ 1, 10 −6
≦ y ≦ 2 × 10 −1 , and 0 <z ≦ 10 −2 ].

【0021】特開昭57−23673号公報記載の(B
1-x ,MII x )F2 ・aBaX2:yEu,zB[た
だし、MIIはベリリウム、マグネシウム、カルシウム、
ストロンチウム、亜鉛およびカドミウムのうちの少なく
とも一種、Xは塩素、臭素、および沃素のうちの少なく
とも一種であり、a、x、y、およびzは、それぞれ
0.5≦a≦1.25、0≦x≦1、10-6≦y≦2×
10-1、および0<z≦2×10-1である]の組成式で
表わされる蛍光体、
(B) described in JP-A-57-23673.
a 1-x, M II x ) F 2 · aBaX 2: yEu, zB [ However, M II is beryllium, magnesium, calcium,
At least one of strontium, zinc and cadmium, X is at least one of chlorine, bromine and iodine, and a, x, y and z are respectively 0.5 ≦ a ≦ 1.25, 0 ≦ x ≦ 1, 10 −6 ≦ y ≦ 2 ×
10 -1 and 0 <z ≦ 2 × 10 -1 ],

【0022】特開昭57−23675号公報記載の(B
1-x ,MII x )F2 ・aBaX2:yEu,zA[た
だし、MIIはベリリウム、マグネシウム、カルシウム、
ストロンチウム、亜鉛およびカドミウムのうちの少なく
とも一種、Xは塩素、臭素、および沃素のうちの少なく
とも一種、Aはヒ素およびケイ素のうちの少なくとも一
種であり、a、x、y、およびzはそれぞれ0.5≦a
≦1.25、0≦x≦1、10-6≦y≦2×10-1、お
よび0<z≦5×10-1である]の組成式で表わされる
蛍光体、
(B) described in JP-A-57-23675
a 1-x, M II x ) F 2 · aBaX 2: yEu, zA [ However, M II is beryllium, magnesium, calcium,
X is at least one of chlorine, bromine and iodine, A is at least one of arsenic and silicon, and a, x, y and z are each at least one of strontium, zinc and cadmium. 5 ≦ a
≦ 1.25, 0 ≦ x ≦ 1, 10 −6 ≦ y ≦ 2 × 10 −1 , and 0 <z ≦ 5 × 10 −1 ].

【0023】特開昭58−69281号公報に記載のM
III OX:xCe[ただし、MIIIはPr、Nd、P
m、Sm、Eu、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Y
b、およびBiからなる群より選ばれる少なくとも一種
の三価金属であり、XはClおよびBrのうちのいずれ
か一方あるいはその両方であり、xは0<x<0.1で
ある]の組成式で表わされる蛍光体、
M described in JP-A-58-69281
III OX: xCe [where M III is Pr, Nd, P
m, Sm, Eu, Tb, Dy, Ho, Er, Tm, Y
b, and at least one trivalent metal selected from the group consisting of Bi, X is one or both of Cl and Br, and x is 0 <x <0.1]. A phosphor represented by the formula:

【0024】特開昭58−206678号公報記載のB
1-xx/2x/2 FX:yEu2+[ただし、MはL
i、Na、K、RbおよびCsからなる群より選ばれる
少なくとも一種のアルカリ金属を表わし;Lは、Sc、
Y、La、Ce、Pr、Nd、Pm、Sm、Gd、T
b、Dy、Ho、Er、Tm、Yb、Lu、Al、G
a、In、およびTlからなる群より選ばれる少なくと
も一種の三価金属を表わし;Xは、Cl、Br、および
Iからなる群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンを
表わし;そして、xは10-2≦x≦0.5、yは0<y
≦0.1である]の組成式で表わされる蛍光体、
B described in JP-A-58-206678
a 1-x M x / 2 L x / 2 FX: yEu 2+ [where M is L
L represents at least one alkali metal selected from the group consisting of i, Na, K, Rb and Cs;
Y, La, Ce, Pr, Nd, Pm, Sm, Gd, T
b, Dy, Ho, Er, Tm, Yb, Lu, Al, G
X represents at least one trivalent metal selected from the group consisting of a, In, and Tl; X represents at least one halogen selected from the group consisting of Cl, Br, and I; and x represents 10 -2. ≦ x ≦ 0.5, y is 0 <y
≦ 0.1], a phosphor represented by a composition formula:

【0025】特開昭59−27980号公報に記載のB
aFX・xA:yEu2+[ただし、Xは、Cl、Br、
およびIからなる群より選ばれる少なくとも一種のハロ
ゲンであり;Aはテトラフルオロホウ酸化合物の焼成物
であり;そして、xは10-6≦x≦0.1、yは0<y
≦0.1である]の組成式で表わされる蛍光体、
B described in JP-A-59-27980
aFX · xA: yEu 2+ [where X is Cl, Br,
A is at least one halogen selected from the group consisting of and I; A is a calcined product of a tetrafluoroborate compound; and x is 10 −6 ≦ x ≦ 0.1, and y is 0 <y
≦ 0.1], a phosphor represented by a composition formula:

【0026】特開昭59−47289号公報に記載のB
aFX・xA:yEu2+[ただし、Xは、Cl、Br、
およびIからなる群より選ばれる少なくとも一種のハロ
ゲンであり;Aは、ヘキサフルオロケイ酸、ヘキサフル
オロチタン酸およびヘキサフルオロジルコニウム酸の一
価もしくは二価金属の塩からなるヘキサフルオロ化合物
群より選ばれる少なくとも一種の化合物の焼成物であ
り;そして、xは10-6≦x≦0.1、yは0<y≦
0.1である]の組成式で表わされる蛍光体、
B described in JP-A-59-47289
aFX · xA: yEu 2+ [where X is Cl, Br,
And A is selected from the group consisting of hexafluorosilicic acid, hexafluorotitanic acid and a salt of a monovalent or divalent metal of hexafluorozirconic acid. X is a calcined product of at least one compound; and x is 10 −6 ≦ x ≦ 0.1, and y is 0 <y ≦
0.1], a phosphor represented by a composition formula:

【0027】特開昭59−56479号公報に記載のB
aFX・xNaX':aEu2+[ただし、XおよびX’
は、それぞれCl、Br、およびIのうちの少なくとも
一種であり、xおよびaはそれぞれ0<x≦2、および
0<a≦0.2である]の組成式で表わされる蛍光体、
B described in JP-A-59-56479
aFX.xNaX ': aEu 2+ [where X and X'
Is at least one of Cl, Br, and I, and x and a are respectively 0 <x ≦ 2 and 0 <a ≦ 0.2].

【0028】特開昭59−56480号公報に記載のM
IIFX・xNaX':yEu2+:zA[ただし、MIIは、
Ba、Sr、およびCaからなる群より選ばれる少なく
とも一種のアルカリ土類金属であり;XおよびX’は、
それぞれCl、Br、およびIからなる群より選ばれる
少なくとも一種のハロゲンであり;Aは、V、Cr、M
n、Fe、Co、およびNiより選ばれる少なくとも一
種の遷移金属であり;そして、xは0<x≦2、yは0
<y≦0.2、およびzは0<z≦10-2である]の組
成式で表わされる蛍光体、
M described in JP-A-59-56480
II FX.xNaX ': yEu 2+ : zA [where M II is
X and X 'are at least one alkaline earth metal selected from the group consisting of Ba, Sr, and Ca;
A is at least one halogen selected from the group consisting of Cl, Br and I; A is V, Cr, M
x is at least one transition metal selected from n, Fe, Co, and Ni; and x is 0 <x ≦ 2, and y is 0
<Y ≦ 0.2 and z is 0 <z ≦ 10 −2 ], a phosphor represented by a composition formula:

【0029】特開昭59−75200号公報記載のMII
FX・aMI X’・bM’IIX”2・cMIII X"'3
xA:yEu2+[ただし、MIIはBa、Sr、およびC
aからなる群より選ばれる少なくとも一種のアルカリ土
類金属であり;MI はLi、Na、K、Rb、およびC
sからなる群より選ばれる少なくとも一種のアルカリ金
属であり;M’IIはBeおよびMgからなる群より選ば
れる少なくとも一種の二価金属であり;MIII はAl、
Ga、In、およびTlからなる群より選ばれる少なく
とも一種の三価金属であり;Aは金属酸化物であり;X
はCl、Br、およびIからなる群より選ばれる少なく
とも一種のハロゲンであり;X’、X”およびX"'は、
F、Cl、Br、およびIからなる群より選ばれる少な
くとも一種のハロゲンであり;そして、aは0≦a≦
2、bは0≦b≦10-2、cは0≦c≦10-2、かつa
+b+c≧10-6であり;xは0<x≦0.5、yは0
<y≦0.2である]の組成式で表わされる蛍光体、
M II described in JP-A-59-75200
FX ・ aM I X ′ ・ bM ′ II X ″ 2・ cM III X ″ ′ 3
xA: yEu 2+ [where M II is Ba, Sr, and C
is at least one alkaline earth metal selected from the group consisting of a; M I is Li, Na, K, Rb, and C
M ′ II is at least one divalent metal selected from the group consisting of Be and Mg; M III is Al,
X is at least one trivalent metal selected from the group consisting of Ga, In, and Tl; A is a metal oxide;
Is at least one halogen selected from the group consisting of Cl, Br, and I; X ′, X ″ and X ″ ″ are
Is at least one halogen selected from the group consisting of F, Cl, Br, and I; and a is 0 ≦ a ≦
2, b is 0 ≦ b ≦ 10 −2 , c is 0 ≦ c ≦ 10 −2 , and a
+ B + c ≧ 10 −6 ; x is 0 <x ≦ 0.5, y is 0
<Y ≦ 0.2], a phosphor represented by a composition formula:

【0030】特開昭60−84381号公報記載のMII
2・aMIIX’2 :xEu2+[ただし、MIIはBa、
SrおよびCaからなる群より選ばれる少なくとも一種
のアルカリ土類金属であり;XおよびX’はCl、Br
およびIからなる群より選ばれる少なくとも一種のハロ
ゲンで、かつX≠X’であり;そしてaは0.1≦a≦
10.0、xは0<x≦0.2である]の組成式で表わ
される輝尽性蛍光体、
M II described in JP-A-60-84381
X 2 · aM II X ′ 2 : xEu 2+ [where M II is Ba,
At least one alkaline earth metal selected from the group consisting of Sr and Ca; X and X 'are Cl, Br
At least one halogen selected from the group consisting of and I, and X ≠ X ′; and a is 0.1 ≦ a ≦
10.0, x is 0 <x ≦ 0.2], a stimulable phosphor represented by a composition formula:

【0031】特開昭60−101173号公報記載のM
IIFX・aMI X’:xEu2+[ただし、MIIはBa、
SrおよびCaからなる群より選ばれる少なくとも一種
のアルカリ土類金属であり;MI はRbおよびCsから
なる群より選ばれる少なくとも一種のアルカリ金属であ
り;XはCl、BrおよびIからなる群より選ばれる少
なくとも一種のハロゲンであり;X’はF、Cl、Br
およびIからなる群より選ばれる少なくとも一種のハロ
ゲンであり;そして、aおよびxは、それぞれ0≦a≦
4.0および0<x≦0.2である]の組成式で表わさ
れる輝尽性蛍光体、
M described in JP-A-60-101173
II FX · aM I X ': xEu 2+ [ However, M II is Ba,
M I is at least one alkali metal selected from the group consisting of Rb and Cs; M is at least one alkaline earth metal selected from the group consisting of Sr and Ca; X is from the group consisting of Cl, Br and I X 'is at least one halogen selected; X' is F, Cl, Br
And at least one halogen selected from the group consisting of I and I; and a and x are each 0 ≦ a ≦
4.0 and 0 <x ≦ 0.2], a stimulable phosphor represented by a composition formula:

【0032】特開昭62−25189号公報に記載のM
I X:xBi[ただし、MI はRbおよびCsからなる
群より選ばれる少なくとも一種のアルカリ金属であり;
XはCl、BrおよびIからなる群より選ばれる少なく
とも一種のハロゲンであり;そしてxは0<x≦0.2
の範囲の数値である]の組成式で表わされる輝尽性蛍光
体、
M described in JP-A-62-25189
I X: xBi [However, M I is at least one alkali metal selected from the group consisting of Rb and Cs;
X is at least one halogen selected from the group consisting of Cl, Br and I; and x is 0 <x ≦ 0.2
A stimulable phosphor represented by the composition formula:

【0033】特開平2−229882号公報に記載のL
nOX:xCe(但し、LnはLa、Y、Gd、および
Luのうちの少なくとも一つ、XはCl、BrおよびI
のうちの少なくとも一つ、xは0<x≦0.2であり、
LnとXとの比率が原子比で0.500<X/Ln≦
0.998であり、かつ輝尽性励起スペクトルの極大波
長λが550nm<λ<700nm)で表わされるセリ
ウム賦活希土類オキシハロゲン化物蛍光体、などを挙げ
ることができる。
L described in JP-A-2-229882
nOX: xCe (where Ln is at least one of La, Y, Gd and Lu, X is Cl, Br and I
At least one of x is 0 <x ≦ 0.2,
The ratio of Ln to X is 0.500 <X / Ln ≦
And cerium-activated rare earth oxyhalide phosphors having a maximum wavelength λ of 0.998 and a stimulable excitation spectrum having a maximum wavelength λ of 550 nm <λ <700 nm.

【0034】なお、前記特開昭60−84381号公報
に記載のMII2 ・aMIIX’2 :xEu2+輝尽性蛍光
体には、以下に示すような添加物がMII2 ・aM
IIX’21モル当り以下の割合で含まれていてもよい。
特開昭60−166379号公報に記載のbMI X”
(ただし、MI はRbおよびCsからなる群より選ばれ
る少なくとも一種のアルカリ金属であり、X”はF、C
l、BrおよびIからなる群より選ばれる少なくとも一
種のハロゲンであり、そしてbは0<b≦10.0であ
る);特開昭60−221483号公報に記載のbK
X”・cMgX"'2 ・dMIII X""3 (ただし、MIII
はSc、Y、La、Gd及びLuからなる群より選ばれ
る少なくとも一種の三価金属であり、X”、X"'および
X""はいずれもF、Cl、BrおよびIからなる群より
選ばれる少なくとも一種のハロゲンであり、そしてb、
cおよびdはそれぞれ、0≦b≦2.0、0≦c≦2.
0、0≦d≦2.0であって、かつ2×10-5≦b+c
+dである);特開昭60−228592号公報に記載
のyB(ただし、yは2×10-4≦y≦2×10-1であ
る);特開昭60−228593号公報に記載のbA
(ただし、AはSiO2 およびP25 からなる群より
選ばれる少なくとも一種の酸化物であり、そしてbは1
-4≦b≦2×10-1である);特開昭61−1208
83号公報に記載のbSiO(ただし、bは0<b≦3
×10-2である);特開昭61−120885号公報に
記載のbSnX”2 (ただし、X”はF、Cl、Brお
よびIからなる群より選ばれる少なくとも一種のハロゲ
ンであり、そしてbは0<b≦10-3である);特開昭
61−235486号公報に記載のbCsX”・cSn
X"'2 (ただし、X”およびX"'はそれぞれF、Cl、
BrおよびIからなる群より選ばれる少なくとも一種の
ハロゲンであり、そしてbおよびcは、それぞれ、0<
b≦10.0および10-6≦c≦2×10-2である);
および特開昭61−235487号公報に記載されてい
るbCsX”・yLn3+(ただし、X”はF、Cl、B
rおよびIからなる群より選ばれる少なくとも一種のハ
ロゲンであり、LnはSc、Y、Ce、Pr、Nd、S
m、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Ybおよび
Luからなる群より選ばれる少なくとも一種の希土類元
素であり、そしてbおよびyはそれぞれ、0<b≦1
0.0および10-6≦y≦1.8×10-1である)。
The M II X 2 · aM II X ′ 2 : xEu 2+ stimulable phosphor described in JP-A-60-84381 described above contains the following additives M II X 2・ aM
II X ′ 2 may be contained in the following ratio per 1 mol.
BM I X described in JP 60-166379 discloses "
(Where M I is at least one alkali metal selected from the group consisting of Rb and Cs, and X ″ is F, C
at least one halogen selected from the group consisting of l, Br and I, and b is 0 <b ≦ 10.0); bK described in JP-A-60-221483
X "· cMgX"'2 · dM III X "" 3 ( where, M III
Is at least one trivalent metal selected from the group consisting of Sc, Y, La, Gd and Lu, and X ″, X ″ ′ and X ″ ″ are each selected from the group consisting of F, Cl, Br and I At least one halogen, and b,
c and d are respectively 0 ≦ b ≦ 2.0, 0 ≦ c ≦ 2.
0, 0 ≦ d ≦ 2.0 and 2 × 10 −5 ≦ b + c
+ D); yB described in JP-A-60-228592 (provided that y is 2 × 10 −4 ≦ y ≦ 2 × 10 −1 ); and yB described in JP-A-60-228593. bA
(Where A is at least one oxide selected from the group consisting of SiO 2 and P 2 O 5 , and b is 1
0 at -4 ≦ b ≦ 2 × 10 -1 is); JP 61-1208
No. 83, where b is 0 <b ≦ 3
× 10 -2 ); bSnX ″ 2 described in JP-A-61-120885, wherein X ″ is at least one halogen selected from the group consisting of F, Cl, Br and I; Is 0 <b ≦ 10 −3 ); bCsX ″ · cSn described in JP-A-61-235486.
X "' 2 (where X" and X "' are each F, Cl,
At least one halogen selected from the group consisting of Br and I, and b and c are each 0 <
b ≦ 10.0 and 10 −6 ≦ c ≦ 2 × 10 −2 );
And bCsX ".yLn3 + (where X" is F, Cl, B
rn is at least one halogen selected from the group consisting of r and I, and Ln is Sc, Y, Ce, Pr, Nd, S
m, Gd, Tb, Dy, Ho, Er, Tm, Yb, and at least one rare earth element selected from the group consisting of Lu, and b and y are each 0 <b ≦ 1.
0.0 and 10 −6 ≦ y ≦ 1.8 × 10 −1 ).

【0035】上記の輝尽性蛍光体のうちで、二価ユーロ
ピウム賦活アルカリ土類金属ハロゲン化物系蛍光体およ
びセリウム賦活希土類オキシハロゲン化物蛍光体は高輝
度の輝尽発光を示すので特に好ましい。ただし、本発明
に用いられる輝尽性蛍光体は上述の蛍光体に限られるも
のではなく、放射線を照射したのちに励起光を照射した
場合に輝尽発光を示す蛍光体であればいかなるものであ
ってもよい。
Of the above-described stimulable phosphors, a divalent europium-activated alkaline earth metal halide-based phosphor and a cerium-activated rare earth oxyhalide phosphor are particularly preferable because they exhibit high-luminance stimulable emission. However, the stimulable phosphor used in the present invention is not limited to the above-described phosphors, and any phosphor can be used as long as it exhibits stimulable emission when irradiated with radiation and then irradiated with excitation light. There may be.

【0036】本発明の放射線像変換パネルの輝尽性蛍光
体層は、輝尽性蛍光体とこれを分散状態で含有支持する
結合剤とからなるのものばかりでなく、結合剤を含まな
いで輝尽性蛍光体の凝集体のみから構成されるもの、あ
るいは輝尽性蛍光体の凝集体の間隙に高分子物質が含浸
されている蛍光体層などでもよい。
The stimulable phosphor layer of the radiation image storage panel of the present invention is not only composed of a stimulable phosphor and a binder containing the stimulable phosphor in a dispersed state but also containing no stimulable phosphor. It may be composed of only a stimulable phosphor aggregate or a phosphor layer in which a polymer substance is impregnated in a gap between the stimulable phosphor aggregates.

【0037】次に、蛍光体層が輝尽性蛍光体とこれを分
散状態で含有支持する結合剤とからなる場合を例にと
り、本発明の放射線像変換パネルを製造する方法を説明
する。
Next, the method for producing the radiation image storage panel of the present invention will be described by taking, as an example, the case where the phosphor layer comprises a stimulable phosphor and a binder containing and supporting the stimulable phosphor in a dispersed state.

【0038】蛍光体層は、次のような公知の方法により
支持体上に形成することができる。まず、輝尽性蛍光体
と結合剤とを溶剤に加え、これを充分に混合して、結合
剤溶液中に輝尽性蛍光体が均一に分散した塗布液を調製
する。塗布液における結合剤と輝尽性蛍光体との混合比
は、目的とする放射線像変換パネルの特性、蛍光体の種
類などによって異なるが、一般には結合剤と蛍光体との
混合比は、1:1乃至1:100(重量比)の範囲から
選ばれ、そして特に1:8乃至1:40(重量比)の範
囲から選ぶのが好ましい。上記のようにして調製された
蛍光体と結合剤とを含有する塗布液を、次に、支持体の
表面に均一に塗布することにより塗膜を形成する。この
塗布操作は、通常の塗布手段、たとえば、ドクターブレ
ード、ロールコーター、ナイフコーターなどを用いるこ
とにより行なうことができる。
The phosphor layer can be formed on a support by the following known method. First, a stimulable phosphor and a binder are added to a solvent and mixed well to prepare a coating solution in which the stimulable phosphor is uniformly dispersed in a binder solution. The mixing ratio between the binder and the stimulable phosphor in the coating solution varies depending on the characteristics of the intended radiation image conversion panel, the type of the phosphor, and the like. Generally, the mixing ratio between the binder and the phosphor is 1%. It is selected from the range of 1: 1 to 1: 100 (weight ratio), and particularly preferably selected from the range of 1: 8 to 1:40 (weight ratio). The coating solution containing the phosphor and the binder prepared as described above is then uniformly applied to the surface of the support to form a coating film. This coating operation can be performed by using ordinary coating means, for example, a doctor blade, a roll coater, a knife coater, or the like.

【0039】支持体としては、従来の放射線像変換パネ
ルの支持体として公知の材料から任意に選ぶことができ
る。公知の放射線像変換パネルにおいて、支持体と蛍光
体層の結合を強化するため、あるいは放射線像変換パネ
ルとしての感度もしくは画質(鮮鋭度、粒状性)を向上
させるために、蛍光体層が設けられる側の支持体表面に
ゼラチンなどの高分子物質を塗布して接着性付与層とし
たり、あるいは二酸化チタンなどの光反射性物質からな
る光反射層、もしくはカーボンブラックなどの光吸収性
物質からなる光吸収層などを設けることが知られてい
る。本発明において用いられる支持体についても、これ
らの各種の層を設けることができ、それらの構成は所望
の放射線像変換パネルの目的、用途などに応じて任意に
選択することができる。さらに特開昭58−20020
0号公報に記載されているように、得られる画像の鮮鋭
度を向上させる目的で、支持体の蛍光体層側の表面(支
持体の蛍光体層側の表面に接着性付与層、光反射層また
は光吸収層などが設けられている場合には、その表面を
意味する)には微小凹凸が形成されていてもよい。上記
のようにして支持体上に塗膜を形成したのち塗膜を乾燥
して、支持体上への輝尽性蛍光体層の形成を完了する。
蛍光体層の層厚は、目的とする放射線像変換パネルの特
性、蛍光体の種類、結合剤と蛍光体との混合比などによ
って異なるが、通常は20μm乃至1mmとする。ただ
し、この層厚は50乃至500μmとするのが好まし
い。なお、輝尽性蛍光体層は、必ずしも上記のように支
持体上に塗布液を直接塗布して形成する必要はなく、た
とえば、別に、ガラス板、金属板、プラスチックシ−ト
などのシ−ト上に塗布液を塗布し乾燥することにより蛍
光体層を形成したのち、これを、支持体上に押圧する
か、あるいは接着剤を用いるなどして支持体と蛍光体層
とを接合してもよい。
The support can be arbitrarily selected from materials known as supports for conventional radiation image conversion panels. In a known radiation image conversion panel, a phosphor layer is provided to enhance the bond between the support and the phosphor layer or to improve the sensitivity or image quality (sharpness, granularity) of the radiation image conversion panel. A polymer material such as gelatin is applied to the surface of the support on the side to form an adhesion-imparting layer, or a light-reflective layer made of a light-reflective material such as titanium dioxide, or a light-absorbent material such as carbon black It is known to provide an absorption layer or the like. The support used in the present invention can also be provided with these various layers, and the configuration thereof can be arbitrarily selected depending on the desired purpose and application of the radiation image storage panel. Further, JP-A-58-20020
As described in JP-A No. 0, the surface of the support on the side of the phosphor layer (the surface of the support on the side of the phosphor layer, the adhesion-imparting layer, In the case where a layer or a light absorbing layer is provided, the surface thereof means fine irregularities. After forming a coating on the support as described above, the coating is dried to complete the formation of the stimulable phosphor layer on the support.
The thickness of the phosphor layer varies depending on the desired characteristics of the radiation image conversion panel, the type of phosphor, the mixing ratio of the binder and the phosphor, and the like, but is usually 20 μm to 1 mm. However, this layer thickness is preferably 50 to 500 μm. The stimulable phosphor layer does not necessarily need to be formed by directly applying a coating solution on the support as described above. For example, a separate sheet such as a glass plate, a metal plate, or a plastic sheet may be used. After the phosphor layer is formed by applying a coating solution on the substrate and drying, the phosphor layer is pressed onto the support, or the support and the phosphor layer are joined by using an adhesive or the like. Is also good.

【0040】次に、本発明の放射線像変換パネルに特徴
的な要件である、膜形成性樹脂と、ポリシロキサン骨格
含有オリゴマーもしくはパーフルオロアルキル基含有オ
リゴマーとから形成される保護膜について述べる。
Next, a protective film formed from a film-forming resin and an oligomer containing a polysiloxane skeleton or an oligomer containing a perfluoroalkyl group, which is a characteristic feature of the radiation image storage panel of the present invention, will be described.

【0041】本発明の放射線像変換パネルの保護膜は、
膜形成性樹脂とポリシロキサン骨格含有オリゴマーもし
くはパーフルオロアルキル基含有オリゴマーを含む保護
膜形成材料塗布液を、ドクターブレードなどの塗布手段
を用いて蛍光体層表面に均一に塗布し、これを乾燥する
ことにより形成する。もちろん、この保護膜の形成は同
時重層塗布によって、蛍光体層の形成と同時に行なって
もよい。ポリシロキサン骨格含有オリゴマーとパーフル
オロアルキル基含有オリゴマーとは同時に含まれていて
もよい。
The protective film of the radiation image storage panel of the present invention is
A protective film-forming material coating solution containing a film-forming resin and a polysiloxane skeleton-containing oligomer or a perfluoroalkyl group-containing oligomer is uniformly applied to the surface of the phosphor layer using an application means such as a doctor blade, and dried. It forms by doing. Of course, this protective film may be formed simultaneously with the formation of the phosphor layer by simultaneous multi-layer coating. The polysiloxane skeleton-containing oligomer and the perfluoroalkyl group-containing oligomer may be simultaneously contained.

【0042】保護膜の形成に用いる膜形成性樹脂の例と
しては、公知の保護膜形成用樹脂である、ポリウレタン
樹脂、ポリアクリル樹脂、セルロース誘導体、ポリメチ
ルメタクリレート、ポリエステル樹脂、およびエポキシ
樹脂を挙げることができる。ただし、膜形成性樹脂とし
て好ましいのは有機溶媒可溶性のフッ素樹脂である。フ
ッ素系樹脂は、フッ素を含むオレフィン(フルオロオレ
フィン)の重合体もしくはフッ素を含むオレフィンを共
重合体成分として含む共重合体で、たとえばポリテトラ
フルオルエチレン、ポリクロルトリフルオルエチレン、
ポリフッ化ビニル、ポリフッ化ビニリデン、テトラフル
オルエチレン−ヘキサフルオロプロピレン共重合体およ
びフルオロオレフィン−ビニルエーテル共重合体などを
例として挙げることができる。
Examples of the film-forming resin used for forming the protective film include polyurethane resins, polyacrylic resins, cellulose derivatives, polymethyl methacrylate, polyester resins, and epoxy resins, which are known resins for forming protective films. be able to. However, preferred as the film-forming resin is an organic solvent-soluble fluororesin. The fluorine-based resin is a polymer of an olefin containing fluorine (fluoroolefin) or a copolymer containing an olefin containing fluorine as a copolymer component, such as polytetrafluoroethylene, polychlorotrifluoroethylene,
Examples thereof include polyvinyl fluoride, polyvinylidene fluoride, tetrafluoroethylene-hexafluoropropylene copolymer, and fluoroolefin-vinyl ether copolymer.

【0043】フッ素系樹脂は、一般に有機溶媒に不溶で
あるが、フルオロオレフィンを共重合体成分として含む
共重合体は、共重合する他の(フルオロオレフィン以外
の)構成単位によっては有機溶媒可溶性となるため、該
樹脂を適当な溶媒に溶解して調製した溶液を蛍光体層上
に塗布し、乾燥することで容易に保護膜を成膜すること
ができる。このような共重合体の例としてはフルオロオ
レフィン−ビニルエーテル共重合体を挙げることができ
る。また、ポリテトラフルオロエチレンおよびその変成
体も、パーフルオロ溶媒のような適当なフッ素系有機溶
媒に対して可溶性であるので、上記フルオロオレフィン
を共重合体成分として含む共重合体と同様に、塗布によ
って保護膜を成膜することができる。
Fluorine-based resins are generally insoluble in organic solvents, but copolymers containing fluoroolefins as copolymer components may be soluble in organic solvents depending on the other structural units (other than fluoroolefins) to be copolymerized. Therefore, a solution prepared by dissolving the resin in an appropriate solvent is applied to the phosphor layer and dried, whereby a protective film can be easily formed. Examples of such a copolymer include a fluoroolefin-vinyl ether copolymer. In addition, polytetrafluoroethylene and its modified product are also soluble in a suitable fluorinated organic solvent such as a perfluoro solvent, and therefore, like the copolymer containing the above-mentioned fluoroolefin as a copolymer component, the coating is performed. Thus, a protective film can be formed.

【0044】本発明の放射線像変換パネルの保護膜に
は、架橋剤、硬膜剤、黄変防止剤などが含有されていて
もよい。また、樹脂の強度が増し、保護膜としての耐久
性が増大するので、本発明にてフッ素系樹脂を用いる場
合は架橋されていることが好ましい。
The protective film of the radiation image storage panel of the present invention may contain a crosslinking agent, a hardening agent, an anti-yellowing agent and the like. Further, since the strength of the resin is increased and the durability as a protective film is increased, when a fluorine-based resin is used in the present invention, it is preferably crosslinked.

【0045】本発明において保護膜に含有させるポリシ
ロキサン骨格含有オリゴマーは、たとえばジメチルポリ
シロキサン骨格を有するものであり、少なくとも一つの
官能基(例、水酸基)を有するものであることが望まし
く、また分子量(重量平均)500〜100000の範
囲にあることが好ましい。特に、分子量は1000〜1
00000の範囲にあることが好ましく、さらに300
0〜10000の範囲にあることが好ましい。また、パ
ーフロロアルキル基(例、テトラフロオロエチレン基)
含有オリゴマーは、分子中に少なくとも一つの官能基
(例えば、水酸基:−OH)を含むものであることが望
ましく、分子量(重量平均)500〜100000の範
囲にあることが好ましい。特に、分子量は1000〜1
00000の範囲にあることが好ましく、さらに100
00〜100000の範囲にあることが好ましい。オリ
ゴマーに官能基が含まれているものを用いれば、保護膜
形成時にオリゴマーと保護膜形成樹脂との間で架橋反応
が発生し、オリゴマーが膜形成性樹脂の分子構造に取り
入れられるため、放射線像変換パネルの長期の繰り返し
使用、あるいは保護膜表面のクリーニングなどの操作に
よっても、オリゴマーが保護膜から取り去られることが
なく、オリゴマーの添加効果が長期間にわたり有効とな
るため、官能基を有するオリゴマーの使用が好ましい。
なお、上記のオリゴマーは、保護膜中に0.01〜10
重量%の範囲内の量で含まれていることが好ましく、特
に0.1〜重量%の範囲内の量で含まれていることが
好ましい。また、保護膜中には、パーフルオロオレフィ
ン樹脂粉末もしくはシリコーン樹脂粉末が含まれていて
もよい。パーフルオロオレフィン樹脂粉末もしくはシリ
コーン樹脂粉末としては、平均粒径が0.1〜10μm
の範囲にあるものが好ましく、特に、平均粒径が0.3
〜5μmの範囲にあるものが好ましい。そして、これら
のパーフルオロオレフィン樹脂粉末もしくはシリコーン
樹脂粉末は、保護膜中に保護膜重量当り0.5〜30重
量%の量で含まれているこどが好ましく、特に2〜20
重量%の量で、さらに5〜15重量%の量で含まれてい
るのが好ましい。
In the present invention, the polysiloxane skeleton-containing oligomer contained in the protective film has, for example, a dimethylpolysiloxane skeleton, preferably has at least one functional group (eg, hydroxyl group), and has a molecular weight of (Weight average) It is preferably in the range of 500 to 100,000. In particular, the molecular weight is 1000-1
00000, more preferably 300
It is preferably in the range of 0 to 10,000. Also, a perfluoroalkyl group (eg, a tetrafluoroethylene group)
The contained oligomer desirably contains at least one functional group (for example, hydroxyl group: -OH) in the molecule, and preferably has a molecular weight (weight average) of 500 to 100,000. In particular, the molecular weight is 1000-1
00000, preferably 100
It is preferably in the range of 00 to 100,000. If an oligomer containing a functional group is used, a crosslinking reaction occurs between the oligomer and the protective film-forming resin during the formation of the protective film, and the oligomer is incorporated into the molecular structure of the film-forming resin. Even if the conversion panel is used repeatedly for a long period of time or the operation of cleaning the surface of the protective film, the oligomer is not removed from the protective film, and the effect of adding the oligomer is effective for a long time. Use is preferred.
Note that the above oligomer is contained in the protective film in an amount of 0.01 to 10%.
It is preferably contained in an amount within the range of 0.1% by weight, particularly preferably in an amount of 0.1 to 3 % by weight. Further, the protective film may contain a perfluoroolefin resin powder or a silicone resin powder. As a perfluoroolefin resin powder or a silicone resin powder, the average particle size is 0.1 to 10 μm
Are preferable, and in particular, the average particle diameter is 0.3
Those having a range of from 5 to 5 μm are preferred. The perfluoroolefin resin powder or the silicone resin powder is preferably contained in the protective film in an amount of 0.5 to 30% by weight based on the weight of the protective film, and more preferably 2 to 20% by weight.
It is preferably present in an amount of 5% by weight, more preferably in an amount of 5 to 15% by weight.

【0046】なお、得られる画像の鮮鋭度を向上させる
ことを目的として、本発明の放射線像変換パネルを構成
する上記各層の少なくとも一つの層が励起光を吸収し、
輝尽発光光は吸収しないような着色剤によって着色され
ていてもよい(特公昭54−23400号公報参照)。
For the purpose of improving the sharpness of the obtained image, at least one of the layers constituting the radiation image conversion panel of the present invention absorbs excitation light,
The stimulated emission light may be colored by a colorant that does not absorb the light (see Japanese Patent Publication No. 54-23400).

【0047】[0047]

【実施例】【Example】

【0048】[実施例1]下記のようにして、本発明の
放射線像変換パネルを製造した。
Example 1 A radiation image storage panel of the present invention was manufactured as follows.

【0049】蛍光体層形成材料として、蛍光体:BaFBr
0.8I0.2:0.001Eu2+600g、ポリウレタン樹脂(住友
バイエルウレタン(株)製デスモラック4125)15.8
g、ビスフェノールA型エポキシ樹脂2.0gをメチル
エチルケトン−トルエン(1:1)混合溶媒に添加し、
プロペラミキサーによって分散し、粘度25〜30PS
の塗布液を調製した。この塗布液をドクターブレードを
用いて下塗り付ポリエチレンテレフタレートフィルム上
に塗布した後、100℃で15分間乾燥させて、蛍光体
層を形成した。
As a phosphor layer forming material, a phosphor: BaFBr
0.8 I 0.2 : 0.001 Eu 2+ 600 g, polyurethane resin (Desmolac 4125 manufactured by Sumitomo Bayer Urethane Co., Ltd.) 15.8
g, bisphenol A type epoxy resin 2.0 g was added to a mixed solvent of methyl ethyl ketone-toluene (1: 1),
Dispersed by propeller mixer, viscosity 25-30PS
Was prepared. This coating solution was applied on an undercoated polyethylene terephthalate film using a doctor blade, and then dried at 100 ° C. for 15 minutes to form a phosphor layer.

【0050】次に、保護膜形成材料として、フッ素系樹
脂:フルオロオレフィン−ビニルエーテル共重合体(旭
硝子(株)製ルミフロンLF100)70g、架橋剤:
イソシアネート(住友バイエルウレタン(株)製デスモ
ジュールZ4370)25g、ビスフェノールA型エポ
キシ樹脂5g、およびアルコール変性シリコーンオリゴ
マー(ジメチルポリシロキサン骨格を有し、両末端に水
酸基(カルビノール基)を有するもの、信越化学工業
(株)製、X−22−2809)0.5gをトルエンー
イソプロピルアルコール(1:1)混合溶媒に添加し、
塗布液を作った。この塗布液を上記のようにして予め形
成しておいた蛍光体層上にドクタープレートを用いて塗
布し、次に120℃で30分間熱処理して熱硬化させる
とともに乾燥し、厚さ10μmの保護膜を設けた。
Next, as a protective film forming material, 70 g of a fluororesin: fluoroolefin-vinyl ether copolymer (Lumiflon LF100 manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.), a crosslinking agent:
25 g of isocyanate (Desmodur Z4370 manufactured by Sumitomo Bayer Urethane Co., Ltd.), 5 g of bisphenol A type epoxy resin, and alcohol-modified silicone oligomer (having a dimethylpolysiloxane skeleton and having hydroxyl groups (carbinol groups) at both ends, Shin-Etsu) 0.5 g of Chemical Industry Co., Ltd., X-22-2809) was added to a mixed solvent of toluene-isopropyl alcohol (1: 1),
A coating solution was prepared. This coating solution is applied on the phosphor layer formed in advance as described above using a doctor plate, and then heat-treated at 120 ° C. for 30 minutes to be thermally cured and dried, and a protective layer having a thickness of 10 μm is formed. A membrane was provided.

【0051】[0051]

【実施例2】実施例1において、アルコール変性シリコ
ーンオリゴマーの代りにポリヒドキシ・パーフルオロ
アルキル基含有オリゴマー(大日本インキ化学工業
(株)製、DEFENSA・MCF−323)を用いた
以外は、同様の操作を行ない、本発明に従う放射線像変
換パネルを製造した。
In Example 2 Example 1, Porihido b carboxymethyl-perfluoroalkyl group containing oligomer in place of alcohol-modified silicone oligomer (Dainippon Ink and Chemicals, DEFENSA-MCF-323) except using the The same operation was performed to produce a radiation image storage panel according to the present invention.

【0052】[比較例1]実施例1において、アルコー
ル変性シリコーンオリゴマーを用いなかった以外は、同
様の操作を行ない、公知技術に属する放射線像変換パネ
ルを製造した。
Comparative Example 1 The same operation as in Example 1 was carried out except that no alcohol-modified silicone oligomer was used, to produce a radiation image conversion panel belonging to the known art.

【0053】[0053]

【比較例2】実施例1において、保護膜を、フルオロオ
レフィン−ビニルエーテル共重合体を(フッ素樹脂:旭
硝子(株)製ルミフロンLF504X)50gとイソシ
アネート(架橋剤:三井東圧化学(株)製オレスターN
P−38−70S 9gどをメチルエチルケトンに溶
解させて得た塗布液より形成させた以外は同様の操作を
行ない、公知技術に属する放射線像変換パネルを製造し
た。
Comparative Example 2 In Example 1, 50 g of a fluoroolefin-vinyl ether copolymer (fluororesin: Lumiflon LF504X manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.) and isocyanate (crosslinking agent: Oleide manufactured by Mitsui Toatsu Chemicals, Inc.) Star N
P-38-70S ) The same operation was performed except that 9 g of the coating solution was dissolved in methyl ethyl ketone to produce a radiation image conversion panel belonging to a known technique.

【0054】[評価実験] 1。摩擦係数 実施例1、2および比較例1、2で得た放射線像変換パ
ネルのそれぞれの保護膜表面の摩擦係数を下記の方法に
より測定した。まず、放射線像変換パネルを2cmx2
cmの正方形に切断し、測定試料を作成した。次に、別
に用意したポリエチレンテレフタレートシートの上に、
測定試料を、保護層側を下にして置き、この試料の上に
試料の重量も含めて100gとなるように荷重をかけ
た。次に、この荷重がかけられている試料を、引張速度
4cm/分にてシートに沿って引っ張り、テンシロン
(UTM−11−20:東洋ボールドウイン(株)製)
を用いて、温度25℃、湿度60%の条件で、速度4c
m/分の運動状態にある試料の引張力F(g)を測定し
た。この引張力Fと上記の荷重(100g)とから、放
射線像変換パネル試料の保護層表面の摩擦係数を引張力
/荷重の値により算出した。その結果を第1表に示す。
[Evaluation Experiment] Coefficient of friction The coefficient of friction of the protective film surface of each of the radiation image storage panels obtained in Examples 1 and 2 and Comparative Examples 1 and 2 was measured by the following method. First, the radiation image conversion panel is 2cmx2
The sample was cut into a square of cm to prepare a measurement sample. Next, on a polyethylene terephthalate sheet prepared separately,
The measurement sample was placed with the protective layer side down, and a load was applied on the sample so as to be 100 g including the weight of the sample. Next, the sample to which the load is applied is pulled along the sheet at a tensile speed of 4 cm / min, and Tensilon (UTM-11-20: manufactured by Toyo Baldwin Co., Ltd.)
At a temperature of 25 ° C. and a humidity of 60% at a speed of 4 c.
The tensile force F (g) of the sample in the m / min motion state was measured. From this tensile force F and the above-mentioned load (100 g), the coefficient of friction of the protective layer surface of the radiation image conversion panel sample was calculated by the value of tensile force / load. Table 1 shows the results.

【0055】2。防傷性 実施例1、2および比較例1、2で得た放射線像変換パ
ネルのそれぞれの保護膜表面の防傷性を下記の方法によ
り測定した。まず、放射線像変換パネルを25.2cm
x30.3cmの長方形に切断し、測定試料を作成し
た。次に、放射線像変換パネルの支持体として使用した
ものと同一の材料からなるポリエチレンテレフタレート
基材シートを用意し、このシート上に、測定試料を、保
護層側を下にして置いた。この状態で、試料を10cm
の行程で1000回繰り返し往復し、支持体と基材シー
トとを擦ったのち、試料の保護層表面を目視で観察し、
評価した。評価は下記の三段階の基準により行なった。 A:擦り傷の発生は殆どなし。 B:擦り傷が多少発生したが、実用上において問題のな
い程度。 C:擦り傷の発生が非常に多い。
2. Scratch resistance The scratch resistance of the protective film surface of each of the radiation image conversion panels obtained in Examples 1 and 2 and Comparative Examples 1 and 2 was measured by the following method. First, the radiation image conversion panel is 25.2 cm
The sample was cut into a rectangle of x30.3 cm to prepare a measurement sample. Next, a polyethylene terephthalate base sheet made of the same material as that used as the support of the radiation image storage panel was prepared, and the measurement sample was placed on this sheet with the protective layer side down. In this state, the sample is
After reciprocating 1000 times repeatedly in the process of rubbing the support and the substrate sheet, visually observe the surface of the protective layer of the sample,
evaluated. The evaluation was performed based on the following three levels. A: Almost no scratches occurred. B: Scratches were slightly generated, but no problem in practical use. C: The occurrence of scratches is extremely large.

【0056】 第1表 試料 摩擦係数 防傷性 実施例1 0.32 A 実施例2 0.47 A 比較例1 0.80 C 比較例2 0.85 C Table 1 Sample Friction coefficient Scratch resistance Example 1 0.32 A Example 2 0.47 A Comparative Example 1 0.80 C Comparative Example 2 0.85 C

【0057】以上の実験結果より、本発明に従う放射線
像変換パネルの保護膜表面が、摩擦係数が低く、かつ高
い防傷性を示すことが明らかである。
From the above experimental results, it is clear that the surface of the protective film of the radiation image storage panel according to the present invention has a low coefficient of friction and high flaw resistance.

Claims (2)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 輝尽性蛍光体からなる蛍光体層と保護膜
とを有する放射線像変換パネルにおいて、前記保護膜
が、膜形成性樹脂と、ポリシロキサン骨格含有オリゴマ
ーもしくはパーフルオロアルキル基含有オリゴマーとか
ら形成されたものであることを特徴とする放射線像変換
パネル。
1. A radiation image conversion panel having a phosphor layer comprising a stimulable phosphor and a protective film, wherein the protective film comprises a film-forming resin, a polysiloxane skeleton-containing oligomer or a perfluoroalkyl group-containing oligomer. And a radiation image conversion panel formed from:
【請求項2】 前記膜形成性樹脂が、有機溶媒可溶性の
フッ素系樹脂を含む樹脂組成物である請求項1に記載の
放射線像変換パネル。
2. The radiation image conversion panel according to claim 1, wherein the film-forming resin is a resin composition containing a fluorine-based resin soluble in an organic solvent.
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