JP2002156187A - Continuous baking furnace for baking unsintered material of ceramic electronic component and manufacturing method for ceramic electronic component - Google Patents

Continuous baking furnace for baking unsintered material of ceramic electronic component and manufacturing method for ceramic electronic component

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JP2002156187A
JP2002156187A JP2001067999A JP2001067999A JP2002156187A JP 2002156187 A JP2002156187 A JP 2002156187A JP 2001067999 A JP2001067999 A JP 2001067999A JP 2001067999 A JP2001067999 A JP 2001067999A JP 2002156187 A JP2002156187 A JP 2002156187A
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JP
Japan
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electronic component
ceramic electronic
green body
continuous firing
firing furnace
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Pending
Application number
JP2001067999A
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Japanese (ja)
Inventor
Kenichi Yamada
健一 山田
Takao Hosokawa
孝夫 細川
Toshinori Kawahara
俊典 河原
Toshiki Nishiyama
俊樹 西山
Yasunobu Yoneda
康信 米田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Murata Manufacturing Co Ltd
Original Assignee
Murata Manufacturing Co Ltd
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To supply atmospheric gas to an unsintered material of a ceramic electronic component more sufficiently and more uniformly when the unsintered material is baked in a continuous baking furnace. SOLUTION: Baffles 18 are so disposed as to be moved from the upstream and downstream sides in the direction of carriage in a carrying course 12, holding setters 14 accommodating the unsintered materials of the ceramic electronic components between them, or baffles 21 are provided fixedly in the vicinity of gas introduction ports 16 introducing the atmospheric gas. Thereby the atmospheric gas is directed forcibly in the direction of the setters 14 whereon the unsintered materials to be baked are disposed.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】この発明は、セラミック電子
部品未焼結体を焼成するために用いられる連続焼成炉、
およびそれを用いて実施されるセラミック電子部品の製
造方法に関するもので、特に、セラミック電子部品を製
造するにあたって実施される焼成工程において、被焼成
物としてのセラミック電子部品未焼結体への雰囲気ガス
の供給の均一化を図るための改良に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a continuous firing furnace used for firing an unsintered ceramic electronic component,
And a method of manufacturing a ceramic electronic component using the same, and particularly, in a firing step performed when manufacturing a ceramic electronic component, an atmosphere gas to a ceramic electronic component green body as an object to be fired. The present invention relates to an improvement for achieving a uniform supply of the gas.

【0002】[0002]

【従来の技術】図6には、この発明にとって興味ある従
来の連続焼成炉1が示されている。図6において、
(1)は、連続焼成炉1の一部を示す平面図であり、
(2)は、連続焼成炉1の断面図である。なお、図6
(1)では、連続焼成炉1は、その上面壁が除去された
状態で示されている。
FIG. 6 shows a conventional continuous firing furnace 1 which is of interest to the present invention. In FIG.
(1) is a plan view showing a part of the continuous firing furnace 1,
(2) is a sectional view of the continuous firing furnace 1. FIG.
In (1), the continuous firing furnace 1 is shown with its upper wall removed.

【0003】連続焼成炉1は、トンネル炉等とも呼ばれ
るもので、焼成されるべきセラミック電子部品未焼結体
(図示せず。)が搬送される搬送経路2を炉内に形成し
ている。搬送経路2に沿って、複数の搬送台板3が連な
った状態で配置され、これら搬送台板3は、焼成工程
中、搬送経路2に沿って移動される。
[0003] The continuous firing furnace 1 is also called a tunnel furnace or the like, and has a transfer path 2 through which a ceramic electronic component green body (not shown) to be fired is transferred. A plurality of transport base plates 3 are arranged in a row along the transport path 2, and these transport base plates 3 are moved along the transport path 2 during the firing process.

【0004】各搬送台板3上には、多段に積み重ねられ
た、たとえばアルミナからなる複数のセッター4が配置
される。セッター4は、互いの間に空間5を形成してい
る。焼成されるべきセラミック電子部品未焼結体は、各
セッター4上に置かれる。隣り合うセッター4間の空間
5は、セラミック電子部品未焼結体に向かって雰囲気ガ
スが供給されることを可能にする。
[0004] A plurality of setters 4 made of, for example, alumina are stacked on each transport base plate 3. The setters 4 form a space 5 between each other. The ceramic electronic component green body to be fired is placed on each setter 4. The space 5 between the adjacent setters 4 enables an ambient gas to be supplied toward the ceramic electronic component green body.

【0005】連続焼成炉1には、また、炉内に雰囲気ガ
スを導入するためのガス導入口6が設けられている。複
数のガス導入口6は、セッター4を挟んで互いに対向
し、かつ搬送経路2に沿って分布するように、連続焼成
炉1の側面壁8上に位置される。ガス導入口6から導入
された雰囲気ガスは、矢印7で示すように、炉内全体に
拡散される。
[0005] The continuous firing furnace 1 is also provided with a gas inlet 6 for introducing atmospheric gas into the furnace. The plurality of gas inlets 6 are located on the side wall 8 of the continuous firing furnace 1 so as to face each other across the setter 4 and to be distributed along the transport path 2. The atmospheric gas introduced from the gas inlet 6 is diffused throughout the furnace as indicated by the arrow 7.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】上述したように、ガス
導入口6から炉内に導入された雰囲気ガスは、積み重ね
られたセッター4間の空間5内に供給される前に、それ
以外の炉内の空間に拡散してしまうため、セッター4上
の被焼成物としてのセラミック電子部品未焼結体に対す
る供給が不十分かつ不均一となることがある。
As described above, the atmospheric gas introduced into the furnace through the gas inlet 6 is supplied to the other furnaces before being supplied into the space 5 between the stacked setters 4. In some cases, the supply to the unsintered ceramic electronic component as an object to be fired on the setter 4 may be insufficient and uneven.

【0007】そのため、セラミック電子部品未焼結体が
置かれるセッター4の積み重ね方向での位置または各々
のセッター4内でのセラミック電子部品未焼結体の位置
によって、セラミック電子部品未焼結体に対する脱バイ
ンダまたは焼結の度合いが不均一となり、完成品として
のセラミック電子部品の特性にばらつきが生じることが
ある。
[0007] Therefore, depending on the position in the stacking direction of the setters 4 where the ceramic electronic component green bodies are placed or the position of the ceramic electronic component green bodies in each setter 4, the ceramic electronic component green bodies are not used. The degree of binder removal or sintering becomes non-uniform, and the characteristics of the ceramic electronic component as a finished product may vary.

【0008】そこで、この発明の目的は、被焼成物とし
てのセラミック電子部品未焼結体への雰囲気ガスの供給
の均一性が高めることができる、セラミック電子部品未
焼結体の焼成のための連続焼成炉、およびこれを用いて
実施されるセラミック電子部品の製造方法を提供しよう
とすることである。
Accordingly, an object of the present invention is to provide a method for firing a ceramic electronic component unsintered body, which can improve the uniformity of supply of the atmospheric gas to the ceramic electronic component unsintered body as an object to be fired. An object of the present invention is to provide a continuous firing furnace and a method of manufacturing a ceramic electronic component using the same.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】この発明は、焼成される
べきセラミック電子部品未焼結体が搬送される搬送経路
が炉内に形成され、かつ、セラミック電子部品未焼結体
を雰囲気焼成するために、炉内に雰囲気ガスを導入する
ためのガス導入口が設けられた、セラミック電子部品未
焼結体の焼成のための連続焼成炉にまず向けられるもの
であって、上述した技術的課題を解決するため、雰囲気
ガスを、焼成されるべきセラミック電子部品未焼結体に
向けるための邪魔板が設けられていることを特徴として
いる。
SUMMARY OF THE INVENTION According to the present invention, a conveying path for conveying a green ceramic electronic component to be fired is formed in a furnace, and the green ceramic electronic component is fired in an atmosphere. Therefore, the present invention is directed to a continuous firing furnace for firing an unsintered ceramic electronic component, which is provided with a gas inlet for introducing an atmospheric gas into the furnace. In order to solve the above problem, a baffle plate for directing the atmosphere gas to the ceramic electronic component green body to be fired is provided.

【0010】この発明に係る連続焼成炉は、好ましく
は、搬送経路に沿って延びる側面壁を備え、ガス導入口
は、この側面壁上に位置される。
[0010] The continuous firing furnace according to the present invention preferably has a side wall extending along the transport path, and the gas inlet is located on this side wall.

【0011】上述の場合、邪魔板は、搬送経路でのセラ
ミック電子部品未焼結体の搬送方向における上流側およ
び下流側からセラミック電子部品未焼結体を挟むように
配置され、かつセラミック電子部品未焼結体とともに移
動するように設けられるものを含んでいても、あるい
は、ガス導入口の近傍に固定的に設けられるものを含ん
でいてもよい。
In the above case, the baffle plate is disposed so as to sandwich the ceramic electronic component green body from the upstream side and the downstream side in the transport direction of the ceramic electronic component green body in the transport path, and the ceramic electronic component green body. It may include one provided so as to move with the green body, or one fixedly provided in the vicinity of the gas inlet.

【0012】また、邪魔板は、雰囲気ガスの一部の通過
を許容し、それによって、炉内の雰囲気をより均一にす
るように作用するスリットが設けられるものを含んでい
てもよい。
[0012] The baffle may include a slit provided to allow a part of the atmospheric gas to pass therethrough and thereby to make the atmosphere in the furnace more uniform.

【0013】また、この発明は、搬送経路上に、互いの
間に空間を形成するように多段に積み重ねられた複数の
セッターが配置され、各セッター上に、焼成されるべき
セラミック電子部品未焼結体が置かれた、連続焼成炉に
対して、特に有利に適用される。
According to the present invention, a plurality of setters stacked in multiple stages are arranged on a transport path so as to form a space between each other, and on each setter, a ceramic electronic component to be fired is unfired. It is particularly advantageously applied to a continuous firing furnace in which the compact is placed.

【0014】この発明は、また、セラミック電子部品未
焼結体を用意する工程と、セラミック電子部品未焼結体
を焼成する工程とを備える、セラミック電子部品の製造
方法にも向けられ、上述したような連続焼成炉を用い
て、セラミック電子部品未焼結体を焼成する工程を実施
することを特徴としている。
The present invention is also directed to a method of manufacturing a ceramic electronic component, comprising a step of preparing a ceramic electronic component green body and a step of firing the ceramic electronic component green body. The step of firing the ceramic electronic component green body is performed using such a continuous firing furnace.

【0015】[0015]

【発明の実施の形態】この発明を実施するにあたって、
焼成することによって、目的とするセラミック電子部品
となるセラミック電子部品未焼結体が用意される。この
セラミック電子部品未焼結体を焼成するため、以下に説
明するような連続焼成炉が用いられる。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS In practicing the present invention,
By firing, an unsintered ceramic electronic component that is to be the target ceramic electronic component is prepared. In order to fire this ceramic electronic component green body, a continuous firing furnace as described below is used.

【0016】図1は、この発明の第1の実施形態による
連続焼成炉11を示すもので、図1(1)および(2)
は、それぞれ、前述した図6(1)および(2)に対応
している。
FIG. 1 shows a continuous firing furnace 11 according to a first embodiment of the present invention, and FIGS. 1 (1) and (2).
Respectively correspond to FIGS. 6A and 6B described above.

【0017】連続焼成炉11は、焼成されるべきセラミ
ック電子部品未焼結体(図示せず。)が搬送される搬送
経路12を炉内に形成していて、この搬送経路12に沿
って、複数の搬送台板13が連なった状態で配置されて
いる。搬送台板13は、焼成中において、搬送経路12
に沿って移動される。
The continuous firing furnace 11 has a transfer path 12 through which a ceramic electronic component green body (not shown) to be fired is transferred, and is formed along the transfer path 12. The plurality of transport base plates 13 are arranged in a continuous state. During the firing, the transport base plate 13 moves the transport path 12
Is moved along.

【0018】搬送台板13の各々上には、たとえばアル
ミナからなる、多段に積み重ねられた複数のセッター1
4が配置される。各セッター14は、多段に積み重ねら
れたとき、互いの間に空間15を形成するように設置さ
れる。被焼成物としてのセラミック電子部品未焼結体
は、各セッター14上に置かれる。
A plurality of multi-stage setters 1 made of, for example, alumina are provided on each of the transport base plates 13.
4 are arranged. Each setter 14 is installed so as to form a space 15 between each other when stacked in multiple stages. The unsintered ceramic electronic component as an object to be fired is placed on each setter 14.

【0019】また、連続焼成炉11には、炉内に雰囲気
ガスを導入するためのガス導入口16が設けられる。複
数のガス導入口16は、セッター14を挟んで互いに対
向するとともに、搬送経路12に沿って分布するよう
に、連続焼成炉11の側面壁17上に位置される。
Further, the continuous firing furnace 11 is provided with a gas inlet 16 for introducing an atmospheric gas into the furnace. The plurality of gas inlets 16 are located on the side wall 17 of the continuous firing furnace 11 so as to face each other across the setter 14 and to be distributed along the transport path 12.

【0020】なお、以上の構成については、図6に示し
た従来の連続焼成炉1の場合と実質的に同様である。
The above configuration is substantially the same as that of the conventional continuous firing furnace 1 shown in FIG.

【0021】この実施形態における特徴的構成として、
搬送経路12でのセラミック電子部品未焼結体の搬送方
向における上流側および下流側からセッター14すなわ
ちセラミック電子部品未焼結体を挟むように、邪魔板1
8が配置されている。邪魔板18は、搬送台板13上に
取り付けられ、それによって、セッター14すなわちセ
ラミック電子部品未焼結体とともに移動するように設け
られる。
As a characteristic configuration in this embodiment,
The setter 14, that is, the ceramic electronic component green body is sandwiched from the upstream and downstream sides in the transport direction of the ceramic electronic component green body in the transport path 12.
8 are arranged. The baffle plate 18 is mounted on the carrier base plate 13 and is thereby provided so as to move with the setter 14, that is, the ceramic electronic component green body.

【0022】邪魔板18は、矢印19で示すように、ガ
ス導入口16から噴出された雰囲気ガスを、セッター1
4上に置かれた被焼成物としてのセラミック電子部品未
焼結体に向けるように作用している。
The baffle plate 18, as indicated by an arrow 19, sends the atmospheric gas ejected from the gas inlet 16 to the setter 1.
4 so as to be directed to the unsintered ceramic electronic component as an object to be fired placed on 4.

【0023】このように、邪魔板18を設けることによ
って、ガス導入口16から導入された雰囲気ガスが、セ
ッター14間の空間15に供給される前に、それ以外の
炉内空間に拡散してしまうことが抑制されるので、セッ
ター14間の空間15内に位置する被焼成物としてのセ
ラミック電子部品未焼結体に向かって雰囲気ガスが強制
的に送り込まれることができ、その結果、焼成中におい
て、セラミック電子部品未焼結体に対して雰囲気ガスを
十分かつ均一に作用させることができる。これは、特
に、セッター14が搬送経路12を間欠的に連続移動
し、その停止時にガス導入口16に相対するものにおい
てより有効である。
As described above, by providing the baffle plate 18, the atmospheric gas introduced from the gas inlet 16 diffuses into the other furnace space before being supplied to the space 15 between the setters 14. Therefore, the ambient gas can be forcibly fed toward the ceramic electronic component green body as the object to be fired, which is located in the space 15 between the setters 14, and as a result, during firing, In this case, the atmospheric gas can sufficiently and uniformly act on the green body of the ceramic electronic component. This is particularly effective in the case where the setter 14 intermittently and continuously moves on the transport path 12 and faces the gas inlet 16 when the setter 14 stops.

【0024】図2は、この発明の第2の実施形態を説明
するための邪魔板18aの側面図である。
FIG. 2 is a side view of a baffle plate 18a for explaining a second embodiment of the present invention.

【0025】図2に示した邪魔板18aには、複数のス
リット20が設けられている。これらスリット20は、
必要に応じて設けられるものであって、雰囲気ガスの一
部の通過を許容し、それによって、炉内の雰囲気をより
均一にするように作用するものである。
A plurality of slits 20 are provided on the baffle plate 18a shown in FIG. These slits 20
It is provided as necessary and allows a part of the atmospheric gas to pass therethrough, thereby acting to make the atmosphere in the furnace more uniform.

【0026】このようにスリット20が設けられた邪魔
板18aは、図1に示した連続焼成炉11において、邪
魔板18の代わりに設けられるものであるが、すべての
邪魔板18と置き換えるようにしてもよく、あるいは、
炉内の雰囲気の均一化のために最も効果的な配置および
数を考慮しながら、邪魔板18の一部と置き換えるよう
にしてもよい。
The baffle plate 18a provided with the slits 20 is provided in place of the baffle plate 18 in the continuous firing furnace 11 shown in FIG. Or
A part of the baffle plate 18 may be replaced while considering the most effective arrangement and number for uniformizing the atmosphere in the furnace.

【0027】図3は、この発明の第3の実施形態による
連続焼成炉11aを示すもので、図3(1)および
(2)は、それぞれ、前述した図1(1)および(2)
に対応している。なお、図3において、図1に示す要素
に相当する要素には同様の参照符号を付し、重複する説
明は省略する。
FIG. 3 shows a continuous firing furnace 11a according to a third embodiment of the present invention. FIGS. 3 (1) and (2) show the above-described FIGS. 1 (1) and (2), respectively.
It corresponds to. In FIG. 3, elements corresponding to the elements shown in FIG. 1 are denoted by the same reference numerals, and redundant description will be omitted.

【0028】図3に示した連続焼成炉11aは、邪魔板
として、搬送経路12でのセラミック電子部品未焼結体
の搬送方向における上流側および下流側からセッター1
4すなわちセラミック電子部品未焼結体を挟むように配
置され、かつ、搬送台板13上に取り付けられ、それに
よって、セッター14すなわちセラミック電子部品未焼
結体とともに移動するように設けられる邪魔板18だけ
でなく、ガス導入口16の近傍に固定的に設けられる邪
魔板21をも備えることを特徴としている。
In the continuous firing furnace 11a shown in FIG. 3, the setter 1 is used as a baffle plate from the upstream side and the downstream side in the transport direction of the ceramic electronic component green body in the transport path 12.
4, which is arranged so as to sandwich the ceramic electronic component green body and is mounted on the carrier base plate 13, whereby the setter 14, that is, a baffle plate 18 provided to move together with the ceramic electronic component green body In addition, a baffle plate 21 fixedly provided near the gas inlet 16 is provided.

【0029】後者の邪魔板21は、実線で示した矢印2
2で示すように、ガス導入口16から噴出された雰囲気
ガスを、セッター14上に置かれた被焼成物としてのセ
ラミック電子部品未焼結体に向けるように作用してい
る。
The latter baffle plate 21 is indicated by an arrow 2 shown by a solid line.
As shown by 2, the atmosphere gas blown from the gas inlet 16 acts so as to be directed to the ceramic electronic component green body as the object to be fired placed on the setter 14.

【0030】なお、邪魔板21は、邪魔板18の移動を
妨げないように、その寸法および位置が選ばれる。
The size and position of the baffle plate 21 are selected so as not to hinder the movement of the baffle plate 18.

【0031】また、邪魔板21は、この実施形態では、
破線で示す矢印23で示すように、雰囲気ガスの一部の
通過を許容し、それによって、炉内の雰囲気をより均一
にするように作用するスリット24を形成している。
In this embodiment, the baffle plate 21 is
As indicated by the dashed arrow 23, a slit 24 is formed that allows the passage of a portion of the ambient gas, thereby acting to make the atmosphere in the furnace more uniform.

【0032】なお、図3(1)では、矢印23で示すよ
うに、スリット24を通過して流れた雰囲気ガスが、邪
魔板18に当たって、その向きを変えるように図示され
ているが、邪魔板18に当たる雰囲気ガスは、それだけ
でなく、ガス導入口16から吹き出された雰囲気ガス
が、スリット24を通過することなく、直接、邪魔板1
8に当たることもある。
In FIG. 3A, the atmosphere gas flowing through the slit 24 strikes the baffle plate 18 and changes its direction, as shown by the arrow 23. In addition, the atmospheric gas that strikes 18 is not limited to this, and the atmospheric gas blown out from the gas inlet 16 directly passes through the baffle plate 1 without passing through the slit 24.
It may hit 8.

【0033】このように、邪魔板18だけでなく、邪魔
板21をも設けることによって、ガス導入口16から導
入された雰囲気ガスの向きを制御することがより容易に
なり、したがって、焼成中において、セラミック電子部
品未焼結体に対して雰囲気ガスをより十分かつより均一
に作用させることが可能になる。また、この実施形態の
場合には、セッター14が搬送経路12を間欠的に連続
移動し、その停止時にガス導入口16に相対するものに
おいて、上述の効果が一層顕著に発揮されることにな
る。
As described above, by providing not only the baffle plate 18 but also the baffle plate 21, it becomes easier to control the direction of the atmosphere gas introduced from the gas inlet 16 and, therefore, during firing. In addition, the atmosphere gas can more sufficiently and uniformly act on the green body of the ceramic electronic component. Further, in the case of this embodiment, the above-described effect is more remarkably exhibited in the case where the setter 14 intermittently moves along the transport path 12 and faces the gas inlet 16 when the setter 14 stops. .

【0034】また、この実施形態によれば、邪魔板21
にスリット24が設けられているので、雰囲気ガスの一
部がスリット24を通過して炉内に拡散し、そのため、
炉内雰囲気の均一化に寄与させることができるととも
に、邪魔板18に当たる雰囲気ガスの流れをより多くす
ることができる。
According to this embodiment, the baffle plate 21
Is provided with a slit 24, so that a part of the atmospheric gas passes through the slit 24 and diffuses into the furnace.
This can contribute to the uniformization of the atmosphere in the furnace, and can further increase the flow of the atmosphere gas hitting the baffle plate 18.

【0035】図4は、この発明の第4の実施形態による
連続焼成炉11bを示すもので、図4(1)および
(2)は、それぞれ、前述した図3(1)および(2)
に対応している。なお、図4において、図3に示す要素
に相当する要素には同様の参照符号を付し、重複する説
明は省略する。
FIG. 4 shows a continuous firing furnace 11b according to a fourth embodiment of the present invention. FIGS. 4 (1) and (2) show the above-mentioned FIGS. 3 (1) and (2), respectively.
It corresponds to. In FIG. 4, elements corresponding to the elements shown in FIG. 3 are denoted by the same reference numerals, and redundant description will be omitted.

【0036】図4に示した連続焼成炉11bは、邪魔板
として、ガス導入口16の近傍に固定的に設けられる邪
魔板21のみを備えることを特徴としている。
The continuous sintering furnace 11b shown in FIG. 4 is characterized in that only a baffle plate 21 fixedly provided near the gas inlet 16 is provided as a baffle plate.

【0037】この実施形態によっても、邪魔板21を設
けることによって、ガス導入口16から導入された雰囲
気ガスが、セッター14間の空間15に供給される前
に、それ以外の炉内空間に拡散してしまうことが、矢印
22で示すように抑制されるので、セッター14間の空
間15内に位置する被焼成物としてのセラミック電子部
品未焼結体に向かって雰囲気ガスが強制的に送り込まれ
ることができ、その結果、焼成中において、セラミック
電子部品未焼結体に対して雰囲気ガスを十分かつ均一に
作用させることができる。
Also in this embodiment, by providing the baffle plate 21, the ambient gas introduced from the gas inlet 16 diffuses into the other furnace space before being supplied to the space 15 between the setters 14. This is suppressed as indicated by the arrow 22, so that the atmospheric gas is forcibly fed toward the ceramic electronic component green body as the object to be fired located in the space 15 between the setters 14. As a result, the atmosphere gas can sufficiently and uniformly act on the ceramic electronic component green body during firing.

【0038】また、この実施形態においても、邪魔板2
1にスリット24が設けられているので、雰囲気ガスの
一部が、矢印23で示すように、スリット24を通過し
て炉内に拡散し、そのため、炉内雰囲気の均一化に寄与
させることができる。
Also in this embodiment, the baffle plate 2
1 is provided with a slit 24, a part of the atmosphere gas passes through the slit 24 and diffuses into the furnace as shown by an arrow 23, and therefore, it is possible to contribute to uniformity of the furnace atmosphere. it can.

【0039】図5は、この発明の第5の実施形態を説明
するためのもので、(1)は、邪魔板25をガス導入口
26とともに示す平面図であり、(2)は、邪魔板25
を示す側面図である。
FIGS. 5A and 5B are views for explaining a fifth embodiment of the present invention. FIG. 5A is a plan view showing a baffle plate 25 together with a gas introduction port 26, and FIG. 25
FIG.

【0040】図5に示す邪魔板25は、屈曲部27を有
する形状を有していて、ガス導入口26から延びるよう
に取り付けられている。また、邪魔板25には、屈曲部
27を跨るようにスリット28が設けられている。
The baffle plate 25 shown in FIG. 5 has a shape having a bent portion 27 and is attached so as to extend from the gas inlet 26. Further, the baffle plate 25 is provided with a slit 28 so as to straddle the bent portion 27.

【0041】この邪魔板25は、たとえば、図3に示し
た連続焼成炉11aまたは図4に示した連続焼成炉11
bにおいて、邪魔板21の代わりに設けられるものであ
るが、すべての邪魔板21と置き換えるようにしてもよ
く、あるいは、邪魔板21の一部と置き換えるようにし
てもよい。
The baffle plate 25 may be, for example, the continuous firing furnace 11a shown in FIG. 3 or the continuous firing furnace 11 shown in FIG.
In b, the baffle plate 21 is provided instead of the baffle plate 21, but may be replaced with all the baffle plates 21 or may be replaced with a part of the baffle plate 21.

【0042】この発明において、ガス導入口からの雰囲
気ガスを被焼成物としてのセラミック電子部品未焼結体
に向けるための邪魔板を設けることが特徴であるが、こ
のような邪魔板にとって、適切な形状、大きさおよび位
置等については、連続焼成炉の形状や大きさ、搬送経路
上での被焼成物としてのセラミック電子部品未焼結体の
搬送形態や積載態様等によって異なってくる。
The present invention is characterized in that a baffle plate is provided for directing the atmospheric gas from the gas inlet to the unsintered ceramic electronic component as an object to be fired. The shape, size, position, etc. of the continuous firing furnace vary depending on the shape and size of the continuous firing furnace, the transport mode and the loading mode of the ceramic electronic component green body as the object to be fired on the transport path.

【0043】上述した実施形態による効果を確認するた
め実施した実験例について説明する。
An experimental example performed to confirm the effects of the above embodiment will be described.

【0044】3.2mm×1.6mm×1.6mmの寸
法を有する積層セラミックコンデンサを得るための焼成
を、図1に示した連続焼成炉11、図4に示した連続焼
成炉11bおよび図6に示した連続焼成炉1を用いてそ
れぞれ実施し、得られた積層セラミックコンデンサの容
量ばらつきを評価した。その結果が、以下の表1に示さ
れている。
In order to obtain a multilayer ceramic capacitor having a size of 3.2 mm × 1.6 mm × 1.6 mm, firing is performed by the continuous firing furnace 11 shown in FIG. 1, the continuous firing furnace 11b shown in FIG. Were carried out using the continuous firing furnace 1 shown in Table 2 above, and the capacity variation of the obtained multilayer ceramic capacitor was evaluated. The results are shown in Table 1 below.

【0045】[0045]

【表1】 [Table 1]

【0046】表1において、試料1〜4は、図6に示し
た従来の連続焼成炉1を用いて焼成して得られた試料で
あり、試料5〜8は、この発明の実施形態による図4に
示した連続焼成炉11bを用いて焼成して得られた試料
であり、試料9〜12は、この発明の実施形態による図
1に示した連続焼成炉11を用いて焼成して得られた試
料である。
In Table 1, Samples 1 to 4 are samples obtained by firing using the conventional continuous firing furnace 1 shown in FIG. 6, and Samples 5 to 8 are diagrams according to the embodiment of the present invention. 4 are samples obtained by firing using the continuous firing furnace 11b shown in FIG. 4, and samples 9 to 12 are obtained by firing using the continuous firing furnace 11 shown in FIG. 1 according to the embodiment of the present invention. Sample.

【0047】表1において、「セッター面積」は、用い
たセッター4または14の平面寸法の相対値を示すもの
で、「2S」は「S」の2倍の面積を有していることを
示している。
In Table 1, "setter area" indicates the relative value of the plane dimension of the setter 4 or 14 used, and "2S" indicates that the area is twice as large as "S". ing.

【0048】また、「導入ガス量」は、ガス導入口6ま
たは16から導入される雰囲気ガスの導入量の相対値を
示すもので、「2L」は「L」の2倍であることを示し
ている。
The "introduced gas amount" indicates a relative value of the introduced amount of the atmospheric gas introduced from the gas inlet 6 or 16, and "2L" indicates that it is twice "L". ing.

【0049】また、この実験例において、連続焼成炉
1、11および11bでの最高温度を1240℃とし、
被焼成物が28時間かけて連続焼成炉1、11または1
1b内において移動するようにし、また、導入ガスとし
て、N2 +H2 +H2 Oを用いた。
In this experimental example, the maximum temperature in the continuous firing furnaces 1, 11 and 11b was set to 1240 ° C.
The object to be fired is a continuous firing furnace 1, 11 or 1 for 28 hours.
1b, and N 2 + H 2 + H 2 O was used as an introduced gas.

【0050】表1における「容量ばらつき」を参照すれ
ばわかるように、まず、試料1では、容量ばらつきの目
標値である3%以内を満足していない。この試料1に対
して、導入ガス量を2倍とした試料3であっても、容量
ばらつきはほとんど改善されていない。このことから、
ガス導入口6から導入された雰囲気ガスは、積み重ねら
れたセッター4間に十分に供給されておらず、被焼成物
としての積層セラミックコンデンサ未焼結体近傍でのガ
ス置換効率が悪いことがわかる。そして、試料2および
4のように、セッター面積を2倍にしたとき、容量ばら
つきは大幅に大きくなってしまう。
As can be seen from the "capacitance variation" in Table 1, Sample 1 does not satisfy the target value of the capacitance variation of 3% or less. Even in the case of the sample 3 in which the amount of the introduced gas is twice as large as that of the sample 1, the variation in capacity is hardly improved. From this,
Atmosphere gas introduced from the gas inlet 6 is not sufficiently supplied between the stacked setters 4, and it is understood that the gas replacement efficiency in the vicinity of the unsintered multilayer ceramic capacitor as an object to be fired is poor. . When the setter area is doubled as in Samples 2 and 4, the variation in capacitance is greatly increased.

【0051】これらに対して、試料5〜8および9〜1
2によれば、セッター面積および導入ガス量の条件に関
わらず、容量ばらつきの目標値である3%以内をすべて
満足している。このことから、被焼成物である積層セラ
ミックコンデンサ未焼結体に対する雰囲気ガスの供給お
よび積層セラミックコンデンサ未焼結体近傍でのガス置
換が、十分に、効率的にかつ均一に行なわれていること
がわかる。
On the other hand, Samples 5 to 8 and 9 to 1
According to No. 2, regardless of the conditions of the setter area and the amount of introduced gas, all satisfy the target value of the capacity variation of 3% or less. This indicates that the supply of the atmospheric gas to the unsintered multilayer ceramic capacitor as the object to be fired and the gas replacement in the vicinity of the unsintered multilayer ceramic capacitor are sufficiently, efficiently and uniformly performed. I understand.

【0052】[0052]

【発明の効果】以上のように、この発明によれば、連続
焼成炉において、セラミック電子部品未焼結体を雰囲気
焼成するためにガス導入口から炉内に導入された雰囲気
ガスを、邪魔板によって、焼成されるべきセラミック電
子部品未焼結体に向けるようにしているので、雰囲気ガ
スがセラミック電子部品未焼結体に供給される前に、そ
れ以外の炉内空間に拡散してしまうことが防止され、そ
の結果、セラミック電子部品未焼結体に対する雰囲気ガ
スの供給が十分に行なわれ、かつ雰囲気ガスの供給の均
一化を図ることができる。したがって、焼成によって得
られたセラミック電子部品の特性ばらつきを生じにくく
することができる。
As described above, according to the present invention, in the continuous firing furnace, the atmosphere gas introduced into the furnace from the gas inlet for firing the green body of the ceramic electronic component in the atmosphere is prevented by the baffle plate. Is intended to be directed to the ceramic electronic component green body to be fired, so that the ambient gas diffuses into the other furnace space before being supplied to the ceramic electronic component green body. As a result, the supply of the atmosphere gas to the ceramic electronic component green body is sufficiently performed, and the supply of the atmosphere gas can be made uniform. Therefore, it is possible to make it difficult for the characteristics of the ceramic electronic component obtained by firing to vary.

【0053】この発明に係る連続焼成炉において、ガス
導入口が搬送経路に沿って延びる側面壁上に位置される
とき、邪魔板が、搬送経路でのセラミック電子部品未焼
結体の搬送方向における上流側および下流側からセラミ
ック電子部品未焼結体を挟むように配置され、かつセラ
ミック電子部品未焼結体とともに移動するように設けら
れたり、あるいは、ガス導入口の近傍に固定的に設けら
れたりすることによって、上述のような雰囲気ガスの十
分な供給および供給の均一化を可能にする効果をより確
実に達成することができる。
In the continuous firing furnace according to the present invention, when the gas inlet is located on the side wall extending along the transfer path, the baffle plate is moved in the transfer direction of the ceramic electronic component green body in the transfer path. It is arranged so as to sandwich the ceramic electronic component green body from the upstream side and the downstream side, and is provided so as to move together with the ceramic electronic component green body, or is fixedly provided in the vicinity of the gas inlet. By doing so, it is possible to more reliably achieve the above-described effect of enabling sufficient supply of the atmospheric gas and uniform supply.

【0054】さらに、邪魔板として、上述のような搬送
経路でのセラミック電子部品未焼結体の搬送方向におけ
る上流側および下流側からセラミック電子部品未焼結体
を挟むように配置されるものと、ガス導入口の近傍に固
定的に設けられるものとの双方を備えていると、ガス導
入口から導入された雰囲気ガスの向きを制御することが
より容易になり、したがって、焼成中において、セラミ
ック電子部品未焼結体に対して雰囲気ガスをより十分か
つより均一に作用させることが可能になる。
Further, the baffle plate is arranged so as to sandwich the ceramic electronic component green body from the upstream side and the downstream side in the transport direction of the ceramic electronic component green body in the above-described transport path. If both are fixedly provided in the vicinity of the gas inlet, it is easier to control the direction of the atmospheric gas introduced from the gas inlet, and therefore, during firing, the ceramic The atmosphere gas can more sufficiently and uniformly act on the electronic component green body.

【0055】この発明において、邪魔板に、雰囲気ガス
の一部の通過を許容するスリットが設けられていると、
雰囲気ガスの一部がスリットを通して通過することによ
り、炉内の雰囲気の均一化に寄与させることができる。
In the present invention, if the baffle plate is provided with a slit that allows a part of the atmospheric gas to pass,
When a part of the atmosphere gas passes through the slit, the atmosphere in the furnace can be made uniform.

【0056】また、連続焼成炉の搬送経路上に、互いの
間に空間を形成するように多段に積み重ねられた複数の
セッターが配置され、各セッター上に、焼成されるべき
セラミック電子部品未焼結体が置かれる場合には、セッ
ター間の空間に雰囲気ガスを十分に供給することが困難
になるため、この発明の特徴的構成である邪魔板の効果
が一層顕著に発揮されることができる。
Further, a plurality of setters stacked in multiple stages so as to form a space between each other are arranged on the transfer path of the continuous firing furnace, and the ceramic electronic parts to be fired are placed on each setter. When the union is placed, it becomes difficult to sufficiently supply the atmosphere gas to the space between the setters, so that the effect of the baffle plate, which is a characteristic configuration of the present invention, can be more remarkably exhibited. .

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】この発明の第1の実施形態による連続焼成炉1
1を示すもので、(1)は、連続焼成炉11の一部を示
す平面図であり、(2)は、連続焼成炉11の断面図で
ある。
FIG. 1 is a continuous firing furnace 1 according to a first embodiment of the present invention.
1 is a plan view showing a part of the continuous firing furnace 11, and FIG. 2B is a sectional view of the continuous firing furnace 11.

【図2】この発明の第2の実施形態を説明するための邪
魔板18aを示す側面図である。
FIG. 2 is a side view showing a baffle plate 18a for explaining a second embodiment of the present invention.

【図3】この発明の第3の実施形態による連続焼成炉1
1aを示すもので、(1)は、連続焼成炉11aの一部
を示す平面図であり、(2)は、連続焼成炉11aの断
面図である。
FIG. 3 is a continuous firing furnace 1 according to a third embodiment of the present invention.
1A is a plan view showing a part of a continuous firing furnace 11a, and FIG. 2B is a cross-sectional view of the continuous firing furnace 11a.

【図4】この発明の第4の実施形態による連続焼成炉1
1bを示すもので、(1)は、連続焼成炉11bの一部
を示す平面図であり、(2)は、連続焼成炉11bの断
面図である。
FIG. 4 is a continuous firing furnace 1 according to a fourth embodiment of the present invention.
1B is a plan view showing a part of the continuous firing furnace 11b, and FIG. 2B is a sectional view of the continuous firing furnace 11b.

【図5】この発明の第5の実施形態を説明するためのも
ので、(1)は、邪魔板25をガス導入口26とともに
示す平面図であり、(2)は、邪魔板25の側面図であ
る。
5A and 5B are views for explaining a fifth embodiment of the present invention, wherein FIG. 5A is a plan view showing a baffle plate 25 together with a gas introduction port 26, and FIG. 5B is a side view of the baffle plate 25; FIG.

【図6】この発明にとって興味ある従来の連続焼成炉1
を示すもので、(1)は、連続焼成炉1の一部を示す平
面図であり、(2)は、連続焼成炉1の断面図である。
FIG. 6 shows a conventional continuous firing furnace 1 of interest to the present invention.
(1) is a plan view showing a part of the continuous firing furnace 1, and (2) is a sectional view of the continuous firing furnace 1.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

11,11a,11b 連続焼成炉 12 搬送経路 14 セッター 15 空間 16,26 ガス導入口 17 側面壁 18,18a,21,25 邪魔板 19,22,23 雰囲気ガスの流れを示す矢印 20,24 スリット 11, 11a, 11b Continuous firing furnace 12 Transport path 14 Setter 15 Space 16, 26 Gas inlet 17 Side wall 18, 18a, 21, 25 Baffle plate 19, 22, 23 Arrow indicating the flow of atmospheric gas 20, 24 Slit

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 河原 俊典 京都府長岡京市天神二丁目26番10号 株式 会社村田製作所内 (72)発明者 西山 俊樹 京都府長岡京市天神二丁目26番10号 株式 会社村田製作所内 (72)発明者 米田 康信 京都府長岡京市天神二丁目26番10号 株式 会社村田製作所内 Fターム(参考) 4K050 AA04 BA16 CC08 4K063 AA06 AA15 BA04  ──────────────────────────────────────────────────の Continued on the front page (72) Inventor Toshinori Kawahara 2-26-10, Tenjin, Nagaokakyo-shi, Kyoto Inside Murata Manufacturing Co., Ltd. (72) Toshiki Nishiyama 2-26-10 Tenjin, Nagaokakyo-shi, Kyoto Stock Company In Murata Manufacturing (72) Inventor Yasunobu Yoneda 2-26-10 Tenjin, Nagaokakyo-shi, Kyoto F-term in Murata Manufacturing Co., Ltd. 4K050 AA04 BA16 CC08 4K063 AA06 AA15 BA04

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 焼成されるべきセラミック電子部品未焼
結体が搬送される搬送経路が炉内に形成され、かつ、セ
ラミック電子部品未焼結体を雰囲気焼成するために、前
記炉内に雰囲気ガスを導入するためのガス導入口が設け
られた、セラミック電子部品未焼結体の焼成のための連
続焼成炉であって、 前記雰囲気ガスを、焼成されるべきセラミック電子部品
未焼結体に向けるための邪魔板が設けられていることを
特徴とする、連続焼成炉。
A transfer path through which a ceramic electronic component green body to be fired is transferred is formed in a furnace, and an atmosphere is provided in the furnace to fire the ceramic electronic component green body in an atmosphere. A continuous firing furnace for firing a ceramic electronic component green body provided with a gas inlet for introducing a gas, wherein the atmosphere gas is converted into a ceramic electronic component green body to be fired. A continuous firing furnace, wherein a baffle for directing is provided.
【請求項2】 前記搬送経路に沿って延びる側面壁を備
え、前記ガス導入口は、前記側面壁上に位置される、請
求項1に記載の連続焼成炉。
2. The continuous firing furnace according to claim 1, further comprising a side wall extending along the transport path, wherein the gas inlet is located on the side wall.
【請求項3】 前記邪魔板は、前記搬送経路でのセラミ
ック電子部品未焼結体の搬送方向における上流側および
下流側からセラミック電子部品未焼結体を挟むように配
置され、かつセラミック電子部品未焼結体とともに移動
するように設けられるものを含む、請求項2に記載の連
続焼成炉。
3. The ceramic electronic component, wherein the baffle plate is disposed so as to sandwich the ceramic electronic component green body from an upstream side and a downstream side in a transport direction of the ceramic electronic component green body in the transport path. 3. The continuous firing furnace according to claim 2, including one provided to move with the green body.
【請求項4】 前記邪魔板は、前記ガス導入口の近傍に
固定的に設けられるものを含む、請求項2または3に記
載の連続焼成炉。
4. The continuous firing furnace according to claim 2, wherein the baffle plate includes one fixedly provided near the gas inlet.
【請求項5】 前記邪魔板は、前記雰囲気ガスの一部の
通過を許容し、それによって、前記炉内の雰囲気をより
均一にするように作用するスリットが設けられているも
のを含む、請求項1ないし4のいずれかに記載の連続焼
成炉。
5. The baffle, including those provided with slits that allow a portion of the ambient gas to pass through, thereby providing a more uniform atmosphere in the furnace. Item 5. A continuous firing furnace according to any one of Items 1 to 4.
【請求項6】 前記搬送経路上には、互いの間に空間を
形成するように多段に積み重ねられた複数のセッターが
配置され、各前記セッター上に、焼成されるべきセラミ
ック電子部品未焼結体が置かれる、請求項1ないし5の
いずれかに記載の連続焼成炉。
6. A plurality of setters, which are stacked in multiple stages so as to form a space between each other, are arranged on the transport path, and a ceramic electronic component to be fired is placed on each setter. 6. The continuous firing furnace according to claim 1, wherein the body is placed.
【請求項7】 セラミック電子部品未焼結体を用意する
工程と、前記セラミック電子部品未焼結体を焼成する工
程とを備える、セラミック電子部品の製造方法であっ
て、 請求項1ないし6のいずれかに記載の連続焼成炉を用い
て、前記焼成する工程を実施することを特徴とする、セ
ラミック電子部品の製造方法。
7. A method for manufacturing a ceramic electronic component, comprising: a step of preparing a ceramic electronic component green body; and a step of firing the ceramic electronic component green body. A method for manufacturing a ceramic electronic component, comprising performing the firing step using the continuous firing furnace according to any one of the above.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
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