JP2002151627A - Semiconductor device and its manufacturing method and method for mounting - Google Patents

Semiconductor device and its manufacturing method and method for mounting

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JP2002151627A
JP2002151627A JP2000341495A JP2000341495A JP2002151627A JP 2002151627 A JP2002151627 A JP 2002151627A JP 2000341495 A JP2000341495 A JP 2000341495A JP 2000341495 A JP2000341495 A JP 2000341495A JP 2002151627 A JP2002151627 A JP 2002151627A
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JP
Japan
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electrode
chip
semiconductor chip
semiconductor device
electrodes
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JP2000341495A
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Japanese (ja)
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Tatsuyuki Taira
龍幸 平
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Hitachi Ltd
Renesas Semiconductor Package and Test Solutions Co Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
Hitachi Yonezawa Electronics Co Ltd
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Publication date
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    • H01L2924/1531Connection portion the connection portion being formed only on the surface of the substrate opposite to the die mounting surface
    • H01L2924/15311Connection portion the connection portion being formed only on the surface of the substrate opposite to the die mounting surface being a ball array, e.g. BGA

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  • Wire Bonding (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To markedly increase external connecting terminals, without increasing the package size. SOLUTION: An external electrode 17 provided in a CSP-type semiconductor device 1 has a bump 16 formed at an electrode 9 for the bump, and a connecting pin 10. The bump 16 is connected to a wiring pattern 5 via the electrode 9 for the bump and a through-hole 9a. The pin 10 is inserted into the hole 9a. One end is connected to a wiring pattern 7 via a conductive adhesive 11, such as solder paste or the like, and the other end is provided to protrude in a length from the electrode 9. Thus, electrodes for two pins are formed at the one external electrode 17.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体装置の多ピ
ン化技術に関し、特に、CSP(Chip Size
Package)などの半導体装置における多ピン化に
適用して有効な技術に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a technology for increasing the number of pins in a semiconductor device, and more particularly to a CSP (Chip Size).
The present invention relates to a technology effective when applied to increase the number of pins in a semiconductor device such as a package.

【0002】[0002]

【従来の技術】本発明者が検討したところによれば、表
面実装形半導体装置の1つとして、たとえば、BGA
(Ball Grid Array)がある。このBG
A形の半導体装置は、プリント配線基板上に搭載された
半導体チップの電極と該プリント配線基板に形成された
ボンディング用電極とをボンディングワイヤによってボ
ンディングした後、樹脂封止してパッケージを形成して
いる。
2. Description of the Related Art According to studies made by the present inventor, as one of surface-mount type semiconductor devices, for example, BGA
(Ball Grid Array). This BG
An A-type semiconductor device is formed by bonding a semiconductor chip electrode mounted on a printed wiring board and a bonding electrode formed on the printed wiring board with a bonding wire, and then sealing the resin to form a package. I have.

【0003】また、パッケージの裏面には、外部導出用
リードの代わりとして球形のはんだ、いわゆる、はんだ
ボールが形成されている。半導体装置の実装時には、は
んだボールを電子部品などを実装する実装配線基板に形
成された電極部に重合させ、リフローによりはんだボー
ルを溶融し、電気的に接続している。
In addition, a spherical solder, that is, a so-called solder ball is formed on the back surface of the package instead of the lead for leading out. At the time of mounting a semiconductor device, solder balls are superimposed on an electrode portion formed on a mounting wiring board on which electronic components and the like are mounted, and the solder balls are melted by reflow to be electrically connected.

【0004】なお、この種の半導体装置について詳しく
述べてある例としては、1993年5月31日、日経B
P社発行、香山 晋、成瀬 邦彦(監)、「VLSIパ
ッケージング技術(下)」P173〜P178があり、
この文献には、BGA形半導体装置の構成などが記載さ
れている。
[0004] As an example describing this type of semiconductor device in detail, see Nikkei B on May 31, 1993.
Published by Company P, Susumu Kayama, Kunihiko Naruse (monitoring), "VLSI Packaging Technology (2)" P173-P178,
This document describes the configuration of a BGA type semiconductor device and the like.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】ところが、上記のよう
な構成の半導体装置では、次のような問題点があること
が本発明者により見い出された。
However, the present inventor has found that the semiconductor device having the above configuration has the following problems.

【0006】近年、半導体装置は、小型化、ならびに多
機能化の市場ニーズに応えるために多ピン化される傾向
にあり、その対応として、はんだボールの小型化やファ
インピッチ化などが施されている。
In recent years, semiconductor devices have tended to be multi-pin in order to meet market needs for miniaturization and multi-functionality. In response to this trend, miniaturization of solder balls and fine pitch have been performed. I have.

【0007】しかし、これらによる対応にも限界があ
り、パッケージサイズを変更することなく、より多くの
はんだボールを配置し、半導体装置のピン数を増加させ
ることが困難となっている。
[0007] However, there is a limit to the measures taken, and it is difficult to arrange more solder balls and increase the number of pins of the semiconductor device without changing the package size.

【0008】本発明の目的は、パッケージサイズなどを
大きくすることなく、外部接続端子を大幅に増加させる
ことのできる半導体装置、その製造方法および実装方法
を提供することにある。
An object of the present invention is to provide a semiconductor device capable of greatly increasing the number of external connection terminals without increasing the package size and the like, and a method of manufacturing and mounting the same.

【0009】本発明の前記ならびにその他の目的と新規
な特徴は、本明細書の記述および添付図面から明らかに
なるであろう。
The above and other objects and novel features of the present invention will become apparent from the description of the present specification and the accompanying drawings.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】本願において開示される
発明のうち、代表的なものの概要を簡単に説明すれば、
以下のとおりである。
SUMMARY OF THE INVENTION Among the inventions disclosed in the present application, the outline of a representative one will be briefly described.
It is as follows.

【0011】すなわち、本発明の半導体装置は、プリン
ト配線基板の一方の面に半導体チップを搭載し、他方の
面に前記半導体チップに設けられたチップ電極と接続さ
れる複数の外部接続端子を設けた半導体装置であって、
そのプリント配線基板が、半導体チップが搭載される一
方の面に、該半導体チップのチップ電極とそれぞれ接続
される第1配線パターンが形成された第1配線層と、該
第1配線層の上方に絶縁層を介して、半導体チップのチ
ップ電極とそれぞれ接続される第2配線パターンが形成
された第2配線層と、任意の第1配線パターンが接続さ
れるスルーホールと、プリント配線基板の裏面に形成さ
れ、スルーホールに接続された電極部とからなり、外部
接続端子が、スルーホールに挿入され、一方の端面が第
2配線パターンに接続され、他方の端面が電極部から突
出し、外周面が絶縁された円柱状の外部端子ピンと、電
極部に形成されたバンプとよりなるものである。
That is, in the semiconductor device of the present invention, a semiconductor chip is mounted on one surface of a printed wiring board, and a plurality of external connection terminals connected to chip electrodes provided on the semiconductor chip are provided on the other surface. Semiconductor device,
The printed wiring board has, on one surface on which the semiconductor chip is mounted, a first wiring layer in which first wiring patterns respectively connected to chip electrodes of the semiconductor chip are formed, and a first wiring layer formed above the first wiring layer. A second wiring layer formed with a second wiring pattern connected to each of the chip electrodes of the semiconductor chip via an insulating layer; a through hole to which an arbitrary first wiring pattern is connected; The external connection terminal is inserted into the through hole, one end face is connected to the second wiring pattern, the other end face protrudes from the electrode part, and the outer peripheral face is formed. It comprises an insulated cylindrical external terminal pin and a bump formed on an electrode portion.

【0012】また、本発明の半導体装置は、プリント配
線基板の一方の面に半導体チップを搭載し、他方の面に
該半導体チップに設けられたチップ電極と電気的に接続
される複数の外部接続端子を設けた半導体装置であっ
て、そのプリント配線基板が、半導体チップが搭載され
る一方の面に、前記半導体チップのチップ電極とそれぞ
れ接続される第1配線パターンが形成された第1配線層
と、該第1配線層の上方に絶縁層を介して、半導体チッ
プのチップ電極とそれぞれ接続される第2配線パターン
が形成された第2配線層と、該第2配線層の上方に絶縁
層を介して、半導体チップのチップ電極とそれぞれ接続
される第3配線パターンが形成された第3配線層と、任
意の第1配線パターンがそれぞれ接続されたスルーホー
ルと、プリント配線基板の他方の面に形成され、スルー
ホールに接続された電極部とからなり、外部接続端子
が、一方の端面が第3配線パターンに接続され、他方の
端面が電極部から突出した円柱状の導電性ピンと、該導
電性ピンの外周面に形成された第1絶縁層と、該第1絶
縁層の外周面に形成され、第2配線パターンに接続され
る導電層と、該導電層の外周面に形成された第2絶縁層
とからなり、スルーホールに挿入された外部端子ピン
と、電極部に形成されたバンプとよりなるものである。
Further, in the semiconductor device of the present invention, a semiconductor chip is mounted on one surface of a printed wiring board, and a plurality of external connections electrically connected to chip electrodes provided on the semiconductor chip on the other surface. A semiconductor device provided with terminals, the printed wiring board having a first wiring pattern on one surface on which a semiconductor chip is mounted, the first wiring pattern being connected to a chip electrode of the semiconductor chip, respectively. A second wiring layer on which a second wiring pattern connected to a chip electrode of a semiconductor chip is formed above the first wiring layer via an insulating layer, and an insulating layer above the second wiring layer A third wiring layer on which a third wiring pattern connected to the chip electrode of the semiconductor chip is formed, a through hole to which an arbitrary first wiring pattern is connected, and printed wiring. An external connection terminal is formed on the other surface of the plate and has an electrode portion connected to the through hole. The external connection terminal has a cylindrical shape having one end surface connected to the third wiring pattern and the other end surface protruding from the electrode portion. A conductive pin, a first insulating layer formed on the outer peripheral surface of the conductive pin, a conductive layer formed on the outer peripheral surface of the first insulating layer and connected to the second wiring pattern, and an outer periphery of the conductive layer It comprises a second insulating layer formed on the surface, and comprises external terminal pins inserted into the through holes and bumps formed on the electrode portions.

【0013】さらに、本発明の半導体装置の製造方法
は、表面にチップ電極が形成された半導体チップを準備
する工程と、該半導体チップが搭載される一方の面に、
半導体チップのチップ電極に対応する複数のボンディン
グ電極、およびそのボンディング電極を介してチップ電
極とそれぞれ接続される第1、第2配線パターンが形成
され、他方の面に、スルーホールを介して第1配線パタ
ーンが接続される電極部が形成されたプリント配線基板
を準備する工程と、外周面が絶縁された円柱状の外部端
子ピンを準備する工程と、半導体チップをプリント配線
基板に接合する工程と、半導体チップのチップ電極とこ
れに対応するボンディング電極とを接続部材により接続
する工程と、半導体チップ、ならびにその近傍を封止樹
脂によって樹脂モールドし、封止部を形成する工程と、
スルーホールに外部端子ピンを挿入し、該外部端子ピン
の一方の端面と第2パターンとを接続し、他方の端面を
電極部から突出させる工程と、該電極部にバンプを形成
する工程と、電極部に形成されたバンプを外部端子ピン
とともに切削し、該バンプを平坦化して外部接続端子を
形成する工程とを有するものである。
Further, according to the method of manufacturing a semiconductor device of the present invention, there is provided a step of preparing a semiconductor chip having a chip electrode formed on a surface thereof;
A plurality of bonding electrodes corresponding to the chip electrodes of the semiconductor chip, and first and second wiring patterns respectively connected to the chip electrodes via the bonding electrodes are formed, and the first and second wiring patterns are formed on the other surface through the through holes. A step of preparing a printed wiring board having an electrode portion to which a wiring pattern is connected; a step of preparing a cylindrical external terminal pin having an insulated outer peripheral surface; and a step of joining a semiconductor chip to the printed wiring board. Connecting the chip electrode of the semiconductor chip and the corresponding bonding electrode with a connecting member by a connecting member, forming the semiconductor chip, and the vicinity thereof with a sealing resin with a sealing resin, and forming a sealing portion;
Inserting an external terminal pin into the through hole, connecting one end face of the external terminal pin to the second pattern, and projecting the other end face from the electrode portion, and forming a bump on the electrode portion; Cutting the bumps formed on the electrode portions together with the external terminal pins, and flattening the bumps to form external connection terminals.

【0014】また、本発明の半導体装置の製造方法は、
表面にチップ電極が形成された半導体チップを準備する
工程と、該半導体チップが搭載される一方の面に、半導
体チップのチップ電極に対応する複数のボンディング電
極、および該ボンディング電極を介してチップ電極とそ
れぞれ接続される第1〜第3配線パターンが形成され、
他方の面に、スルーホールを介して第1配線パターンが
接続される電極部が形成されたプリント配線基板を準備
する工程と、円柱状の導電性ピンと該導電性ピンの外周
面に形成された第1絶縁層と該第1絶縁層の外周面に形
成され、第2配線パターンに電気的に接続される導電層
と該導電層の外周面に形成された第2絶縁層とからなる
外部端子ピンを準備する工程と、半導体チップをプリン
ト配線基板に接合する工程と、半導体チップのチップ電
極とこれに対応するボンディング電極とを接続部材によ
り接続する工程と、半導体チップ、ならびにその近傍を
封止樹脂によって樹脂モールドし、封止部を形成する工
程と、外部端子ピンをスルーホールに挿入し、導電性ピ
ンの一方の端面と第3配線パターンとを接続し、導電層
と第2配線パターンとを接続する工程と、電極部にバン
プを形成する工程と、電極部に形成されたバンプを外部
端子ピンとともに切削し、バンプを平坦化して外部接続
端子を形成する工程とを有するものである。
Further, a method of manufacturing a semiconductor device according to the present invention
A step of preparing a semiconductor chip having a chip electrode formed on a surface; a plurality of bonding electrodes corresponding to the chip electrodes of the semiconductor chip on one surface on which the semiconductor chip is mounted; and a chip electrode provided via the bonding electrode. And first to third wiring patterns respectively connected to are formed,
A step of preparing a printed wiring board on which an electrode portion to which the first wiring pattern is connected via a through hole is formed on the other surface; and a step of forming a cylindrical conductive pin and an outer peripheral surface of the conductive pin. An external terminal comprising a first insulating layer, a conductive layer formed on the outer peripheral surface of the first insulating layer, and electrically connected to the second wiring pattern, and a second insulating layer formed on the outer peripheral surface of the conductive layer. A step of preparing pins, a step of joining a semiconductor chip to a printed wiring board, a step of connecting a chip electrode of the semiconductor chip and a corresponding bonding electrode with a connecting member, and sealing the semiconductor chip and its vicinity Forming a sealing portion by resin molding with a resin, inserting external terminal pins into the through holes, connecting one end surface of the conductive pins to the third wiring pattern, and forming a conductive layer and a second wiring pattern. And a step of forming a bump on the electrode portion, and a step of cutting the bump formed on the electrode portion together with an external terminal pin, flattening the bump and forming an external connection terminal. .

【0015】さらに、本発明の半導体装置の実装方法
は、プリント配線基板の表面に半導体チップが搭載さ
れ、プリント配線基板の裏面に外部端子ピンとバンプと
からなる外部接続端子が形成された半導体装置を準備す
る工程と、外部接続端子のうち、外部端子ピンが接続さ
れる第1ランドと、該第1ランドの周辺部に絶縁層を介
してバンプが接続される第2ランドとからなり、半導体
装置の外部接続用電極に対応した基板電極が形成された
実装配線基板を準備する工程と、外部接続端子または外
部接続端子に対応する実装配線基板の基板電極にフラッ
クスを塗布する工程と、バンプと基板電極とをリフロー
により接続する工程とを有するものである。
Further, the method of mounting a semiconductor device according to the present invention is directed to a semiconductor device having a semiconductor chip mounted on a surface of a printed wiring board and having external connection terminals formed of external terminal pins and bumps formed on the back surface of the printed wiring board. A semiconductor device comprising: a preparing step; a first land to which an external terminal pin is connected among external connection terminals; and a second land to which a bump is connected to a peripheral portion of the first land via an insulating layer. A step of preparing a mounting wiring board on which a board electrode corresponding to the external connection electrode is formed; a step of applying flux to the external connection terminal or a board electrode of the mounting wiring board corresponding to the external connection terminal; Connecting the electrodes by reflow.

【0016】[0016]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
に基づいて詳細に説明する。
Embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to the drawings.

【0017】(実施の形態1)図1は、本発明の実施の
形態1による半導体装置の断面図、図2は、本発明の実
施の形態1による半導体装置に設けられた接続用ピン、
ならびにその周辺部の説明図、図3〜図11は、図1の
半導体装置における製造工程の概略を示した説明図、図
12は、図1の半導体装置における製造工程のフローチ
ャート、図13は、図1の半導体装置が実装される実装
基板に形成されたランドの説明図である。
(Embodiment 1) FIG. 1 is a cross-sectional view of a semiconductor device according to Embodiment 1 of the present invention, and FIG. 2 is a diagram showing connection pins provided in the semiconductor device according to Embodiment 1 of the present invention.
FIGS. 3 to 11 are schematic diagrams illustrating the manufacturing process in the semiconductor device of FIG. 1, FIG. 12 is a flowchart of the manufacturing process in the semiconductor device of FIG. 1, and FIG. FIG. 2 is an explanatory diagram of lands formed on a mounting board on which the semiconductor device of FIG. 1 is mounted.

【0018】本実施の形態1において、半導体装置1
は、表面実装形の一種であるCSPからなる。この半導
体装置1には、図1に示すように、プリント配線基板2
が設けられている。
In the first embodiment, the semiconductor device 1
Consists of a CSP which is a kind of surface mount type. As shown in FIG. 1, a printed circuit board 2
Is provided.

【0019】プリント配線基板2は、いわゆる多層プリ
ント配線基板からなる。このプリント配線基板2には、
たとえば、ガラスクロス基材などからなる基板コア3が
設けられている。
The printed wiring board 2 is a so-called multilayer printed wiring board. This printed wiring board 2 includes
For example, a substrate core 3 made of a glass cloth substrate or the like is provided.

【0020】基板コア3の一方の面には、ボンディング
電極4、および配線パターン(第1配線パターン)5が
形成されている。ボンディング電極4は、基板コア3の
周辺部近傍に所定の間隔で形成されている。
A bonding electrode 4 and a wiring pattern (first wiring pattern) 5 are formed on one surface of the substrate core 3. The bonding electrodes 4 are formed at predetermined intervals near the periphery of the substrate core 3.

【0021】ボンディング電極4、ならびに配線パター
ン5が形成された基板コア3の表面には、絶縁層である
ソルダレジスト6が形成されている。このソルダレジス
ト6の表面には配線パターン(第2配線パターン)7が
形成されており、ボンディング電極4を除く、該配線パ
ターン7の上層にもソルダレジスト(絶縁層)8が形成
されている。
A solder resist 6, which is an insulating layer, is formed on the surface of the substrate core 3 on which the bonding electrodes 4 and the wiring patterns 5 are formed. A wiring pattern (second wiring pattern) 7 is formed on the surface of the solder resist 6, and a solder resist (insulating layer) 8 is also formed on the wiring pattern 7 except for the bonding electrode 4.

【0022】また、基板コア3の他方の面には、アレイ
状に等間隔で配置されたバンプ用電極(電極部)9が形
成されている。バンプ用電極9の中央部には、スルーホ
ール9aが形成されている。そして、ボンディング電極
4とバンプ用電極9とは、配線パターン5、ならびにス
ルーホール9aを介してそれぞれ電気的に接続されてい
る。
On the other surface of the substrate core 3, bump electrodes (electrode portions) 9 are formed at regular intervals in an array. A through hole 9 a is formed in the center of the bump electrode 9. The bonding electrode 4 and the bump electrode 9 are electrically connected to each other via the wiring pattern 5 and the through hole 9a.

【0023】さらに、バンプ用電極9の中央部に形成さ
れたスルーホール9aには、円柱状の接続用ピン(外部
端子ピン)10がそれぞれ挿入されている。この接続用
ピン10は、プリント配線基板2の厚さよりも長く、一
方の端部がはんだペーストなどの導電性接着材11を介
して配線パターン7に接続され、他方の端部がバンプ用
電極9からある長さだけ突出するように設けられてい
る。配線パターン5が接続されていないその他のボンデ
ィング電極4と接続用ピン10とは、配線パターン7を
介してそれぞれ電気的に接続されている。さらに、バン
プ用電極9を除く基板コア3の他方の面には、絶縁層と
してソルダレジストが形成されている。
Further, cylindrical connection pins (external terminal pins) 10 are inserted into through holes 9a formed in the center of the bump electrodes 9, respectively. The connection pin 10 is longer than the thickness of the printed wiring board 2, and one end is connected to the wiring pattern 7 via a conductive adhesive 11 such as a solder paste, and the other end is connected to the bump electrode 9. It is provided so as to protrude by a certain length. The other bonding electrodes 4 to which the wiring pattern 5 is not connected and the connection pins 10 are electrically connected via the wiring pattern 7, respectively. Further, on the other surface of the substrate core 3 except for the bump electrodes 9, a solder resist is formed as an insulating layer.

【0024】基板コア3の一方の面、すなわち、ボンデ
ィング電極4が形成された面の中央部には、半導体チッ
プ12が接着材13を介して接着されている。この半導
体チップ12の周辺部近傍には、複数のチップ電極12
aが等間隔で形成されている。
A semiconductor chip 12 is bonded to one surface of the substrate core 3, that is, the center of the surface on which the bonding electrodes 4 are formed, via an adhesive 13. A plurality of chip electrodes 12 are provided near the periphery of the semiconductor chip 12.
a are formed at equal intervals.

【0025】これらチップ電極12aとプリント配線基
板2のボンディング電極4とは、金ワイヤなどのボンデ
ィングワイヤ14によってそれぞれボンディングされ、
電気的に接続されている。
The chip electrodes 12a and the bonding electrodes 4 of the printed wiring board 2 are respectively bonded by bonding wires 14 such as gold wires.
It is electrically connected.

【0026】さらに、プリント配線基板2に搭載された
半導体チップ12、ボンディングワイヤ14、ボンディ
ング電極4の周辺部、およびそれら近傍は、封止樹脂
(封止部)15によって封止されている。
Further, the peripheral portions of the semiconductor chip 12, the bonding wires 14, and the bonding electrodes 4 mounted on the printed wiring board 2 and the vicinity thereof are sealed with a sealing resin (sealing portion) 15.

【0027】プリント配線基板2のバンプ用電極9に
は、球形のはんだからなるはんだバンプ(バンプ)16
がそれぞれ設けられており、これらはんだバンプ16
は、バンプ用電極9の中心部から突出した接続用ピン1
0を覆うように形成されている。
The bump electrodes 9 of the printed wiring board 2 have solder bumps (bumps) 16 made of spherical solder.
Are provided respectively, and these solder bumps 16 are provided.
Are the connection pins 1 protruding from the center of the bump electrode 9.
0 is formed.

【0028】そして、これら接続用ピン10、ならびに
はんだバンプ16によって外部電極(外部接続端子)1
7が構成されており、1つの外部電極17に2ピン分の
電極が設けられたことになる。
The external electrodes (external connection terminals) 1 are connected by the connection pins 10 and the solder bumps 16.
7, and one external electrode 17 is provided with electrodes for two pins.

【0029】また、接続用ピン10の構成、および接続
状態について説明する。
The configuration of the connection pins 10 and the connection state will be described.

【0030】接続用ピン10は、図2に示すように、た
とえば、鉄−ニッケル(Fe−Ni)合金などからなる
導電性のピン10aの外周面に絶縁層10bが形成され
た構成となっており、該ピン10aの両端面には絶縁層
10bが形成されていない。絶縁層10bは、ポリイミ
ドなどの絶縁性樹脂をコーティングしたものである。
As shown in FIG. 2, the connection pin 10 has a structure in which an insulating layer 10b is formed on the outer peripheral surface of a conductive pin 10a made of, for example, an iron-nickel (Fe-Ni) alloy. In addition, the insulating layer 10b is not formed on both end surfaces of the pin 10a. The insulating layer 10b is coated with an insulating resin such as polyimide.

【0031】次に、本実施の形態における半導体装置1
の製造方法、ならびに実装方法について、図3〜図11
の半導体装置1における製造工程の概略を示した説明
図、図12のフローチャートを用いて説明する。
Next, the semiconductor device 1 according to the present embodiment
FIGS. 3 to 11 show a manufacturing method and a mounting method of
Explanation will be made with reference to an explanatory diagram showing an outline of a manufacturing process of the semiconductor device 1 and a flowchart of FIG.

【0032】まず、半導体チップ12、該半導体チップ
12が搭載されるプリント配線基板2、ならびに接続用
ピン10を準備する。プリント配線基板2においては、
ボンディング電極4、配線パターン5,7、バンプ用電
極9、スルーホール9aなどがすでに形成されている。
また、プリント配線基板2のスルーホール9a内におい
て接続用ピン10の一方の端部が接触する配線パターン
7には、導電性接着材11が塗布されている。
First, a semiconductor chip 12, a printed wiring board 2 on which the semiconductor chip 12 is mounted, and connection pins 10 are prepared. In the printed wiring board 2,
Bonding electrodes 4, wiring patterns 5, 7, bump electrodes 9, through holes 9a, and the like have already been formed.
A conductive adhesive 11 is applied to the wiring pattern 7 in which one end of the connection pin 10 contacts in the through hole 9a of the printed wiring board 2.

【0033】そして、プリント配線基板2の中央部に接
着材13を塗布し、図3に示すように、半導体チップ1
2を接合する(ステップS101)。半導体チップ12
が接合されたプリント配線基板2は、ボンディング工程
において、図4に示すように、半導体チップ12のチッ
プ電極12aとプリント配線基板2のボンディング電極
4とがボンディングワイヤ14によりそれぞれボンディ
ングされ、電気的に接続される(ステップS102)。
Then, an adhesive 13 is applied to the center of the printed wiring board 2 and, as shown in FIG.
2 are joined (step S101). Semiconductor chip 12
In the bonding step, the chip electrode 12a of the semiconductor chip 12 and the bonding electrode 4 of the printed wiring board 2 are respectively bonded by bonding wires 14 in the bonding step, and the printed wiring board 2 to which The connection is made (step S102).

【0034】その後、これらプリント配線基板2のボン
ディング電極4周辺、ボンディングワイヤ14、および
半導体チップ12が、図5に示すように、封止樹脂15
によって封止され、パッケージが形成される。(ステッ
プS103)。
Thereafter, the periphery of the bonding electrodes 4 of the printed wiring board 2, the bonding wires 14, and the semiconductor chip 12 are connected to the sealing resin 15 as shown in FIG.
To form a package. (Step S103).

【0035】パッケージが形成された後、プリント配線
基板2に形成されたスルーホール9aには、図6に示す
ように、接続用ピン10がそれぞれ挿入される(ステッ
プS104)。
After the package is formed, the connection pins 10 are inserted into the through holes 9a formed in the printed wiring board 2 as shown in FIG. 6 (step S104).

【0036】接続用ピン10が挿入されたプリント配線
基板2は、図7に示すように、リフロー炉を通過させる
ことによって導電性接着材11を溶融し、接続用ピン1
0の一方の端面と配線パターン7とを接続する(ステッ
プS105)。
As shown in FIG. 7, the printed wiring board 2 into which the connection pins 10 have been inserted melts the conductive adhesive 11 by passing through the reflow furnace, and
0 is connected to the wiring pattern 7 (step S105).

【0037】その後、図8に示すように、プリント配線
基板2をはんだ槽HSに浸漬させる。このはんだ槽HS
には、プリント配線基板2のバンプ用電極9と同じ間隔
で配置された半球状のはんだ用穴Hが形成されている。
このはんだ用穴Hには溶融したはんだが貯められてお
り、浸漬時には、バンプ用電極9とはんだ用穴Hとが対
応するように載置される。
Thereafter, as shown in FIG. 8, the printed wiring board 2 is immersed in the solder bath HS. This solder bath HS
Are formed with hemispherical solder holes H arranged at the same intervals as the bump electrodes 9 of the printed wiring board 2.
Molten solder is stored in the solder hole H, and when immersed, the bump electrode 9 and the solder hole H are placed so as to correspond to each other.

【0038】そして、はんだ槽HSを冷却してはんだが
固まると、図9に示すように、該はんだ槽HSからプリ
ント配線基板2を引き剥がし、はんだバンプ16を形成
する(ステップS106)。
Then, when the solder bath HS is cooled and the solder hardens, the printed wiring board 2 is peeled off from the solder bath HS to form solder bumps 16 as shown in FIG. 9 (step S106).

【0039】次に、プリント配線基板2に形成されたは
んだバンプ16は、図10に示すように、ボールグライ
ンドなどによって、はんだバンプ16の約半分程度を接
続用ピン10とともに切削し、該はんだバンプ16の実
装面を平坦化し(ステップS107)、図1、図11に
示すような半導体装置1が完成となる(ステップS10
8)。
Next, as shown in FIG. 10, about half of the solder bumps 16 formed on the printed wiring board 2 are cut together with the connection pins 10 by ball grinding or the like. 16 is flattened (step S107), and the semiconductor device 1 as shown in FIGS. 1 and 11 is completed (step S10).
8).

【0040】よって、半導体装置1には、スルーホール
9aを介して配線パターン5と電気的に接続されるはん
だバンプ16と、配線パターン7と電気的に接続される
接続用ピン10とが設けられることになり、1つの外部
引き出し電極部において2ピン分の外部引き出し電極が
形成されることになる。
Therefore, the semiconductor device 1 is provided with the solder bumps 16 electrically connected to the wiring pattern 5 through the through holes 9a and the connection pins 10 electrically connected to the wiring pattern 7. In other words, an external lead electrode for two pins is formed in one external lead electrode portion.

【0041】また、この半導体装置1の実装技術につい
て説明する。
Next, a mounting technique of the semiconductor device 1 will be described.

【0042】半導体装置1が実装される実装配線基板J
には、半導体装置1の外部電極17が重合するランド
(基板電極)Lが形成されている。このランドLは、図
13に示すように、第1電極部(第1ランド)LD1、
第2電極部(第2ランド)LD2、および絶縁層Zから
構成されている。
The mounting wiring board J on which the semiconductor device 1 is mounted
Is formed with a land (substrate electrode) L on which the external electrode 17 of the semiconductor device 1 overlaps. As shown in FIG. 13, the land L includes a first electrode portion (first land) LD1,
A second electrode portion (second land) LD2 and an insulating layer Z are provided.

【0043】ランドLの中央部には、ピン10aが位置
する第1電極部LD1が形成されており、該第1電極部
LD1の周辺部には絶縁用の絶縁層Zが形成されてい
る。絶縁層Zは、たとえば、ソルダレジストなどであ
る。さらに、絶縁層Zの外周部には、はんだバンプ16
が位置する第2電極部LD2が形成されている。
A first electrode portion LD1 on which the pin 10a is located is formed at the center of the land L, and an insulating layer Z for insulation is formed around the first electrode portion LD1. The insulating layer Z is, for example, a solder resist. Furthermore, solder bumps 16 are formed on the outer peripheral portion of the insulating layer Z.
Are formed in the second electrode section LD2.

【0044】そして、半導体装置1を実装配線基板Jに
実装する際には、外部電極17、あるはランドLにフラ
ックスを塗布した後、半導体装置1の外部電極17を実
装配線基板JのランドLにそれぞれ重合させて搭載し、
リフローを行い、はんだバンプ16を溶融させて電気的
に接続する。
When the semiconductor device 1 is mounted on the mounting wiring board J, a flux is applied to the external electrodes 17 or the lands L, and then the external electrodes 17 of the semiconductor device 1 are connected to the lands L of the mounting wiring board J. And mounted on each,
By performing reflow, the solder bumps 16 are melted and electrically connected.

【0045】それにより、本実施の形態1によれば、1
つの外部電極17によって2ピン分の電極を設けること
ができるので、半導体装置1のパッケージを大きくする
ことなく、多ピン化の対応を可能とすることができる。
Thus, according to the first embodiment, 1
Since two external electrodes 17 can provide electrodes for two pins, the number of pins can be increased without increasing the size of the package of the semiconductor device 1.

【0046】(実施の形態2)図14は、本発明の実施
の形態2による半導体装置の断面図、図15は、本発明
の実施の形態2による半導体装置に設けられた接続用ピ
ン、ならびにその周辺部の説明図、図16は、図14の
半導体装置が実装される実装基板に形成されたランドの
説明図である。
(Second Embodiment) FIG. 14 is a cross-sectional view of a semiconductor device according to a second embodiment of the present invention, and FIG. 15 is a diagram showing connection pins provided in the semiconductor device according to the second embodiment of the present invention. FIG. 16 is an explanatory diagram of a peripheral portion thereof, and FIG. 16 is an explanatory diagram of a land formed on a mounting board on which the semiconductor device of FIG. 14 is mounted.

【0047】本実施の形態2において、半導体装置1a
は、プリント配線基板2a、および外部電極(外部接続
端子)17aの構成が前記実施の形態1と異なる点であ
り、それ以外は前記実施の形態1と同様の構成となって
いる。
In the second embodiment, the semiconductor device 1a
The third embodiment is different from the first embodiment in the configuration of the printed wiring board 2a and the external electrodes (external connection terminals) 17a, and is otherwise the same as the first embodiment.

【0048】プリント配線基板2aは、図14に示すよ
うに、3つの配線層から構成された多層配線基板となっ
ている。プリント配線基板2aには、たとえば、ガラス
クロス基材などからなる基板コア3が設けられている。
As shown in FIG. 14, the printed wiring board 2a is a multilayer wiring board composed of three wiring layers. The printed circuit board 2a is provided with a substrate core 3 made of, for example, a glass cloth base material.

【0049】この基板コア3の一方の面には、ボンディ
ング電極4、および配線パターン5が形成されている。
ボンディング電極4は、基板コア3の周辺部近傍に所定
の間隔で形成されている。
On one surface of the substrate core 3, a bonding electrode 4 and a wiring pattern 5 are formed.
The bonding electrodes 4 are formed at predetermined intervals near the periphery of the substrate core 3.

【0050】ボンディング電極4、ならびに配線パター
ン5が形成された基板コア3の表面には、絶縁層である
ソルダレジスト6が形成されている。このソルダレジス
ト6の表面には配線パターン7が形成されいる。
On the surface of the substrate core 3 on which the bonding electrodes 4 and the wiring patterns 5 are formed, a solder resist 6 as an insulating layer is formed. A wiring pattern 7 is formed on the surface of the solder resist 6.

【0051】また、配線パターン7の上層には、ソルダ
レジスト8を介して配線パターン(第3配線パターン)
7aが形成されている。そして、ボンディング電極4を
除く、該配線パターン7aの上層にもソルダレジスト
(絶縁層)8aが形成されている。
On the upper layer of the wiring pattern 7, a wiring pattern (third wiring pattern) is provided via a solder resist 8.
7a are formed. Except for the bonding electrode 4, a solder resist (insulating layer) 8a is also formed on the wiring pattern 7a.

【0052】また、基板コア3の他方の面には、アレイ
状に等間隔で配置されたバンプ用電極9が形成されてお
り、その中央部には、スルーホール9aが形成されてい
る。そして、ボンディング電極4とバンプ用電極9と
は、配線パターン5、ならびにスルーホール9aを介し
てそれぞれ電気的に接続されている。
On the other surface of the substrate core 3, bump electrodes 9 are formed at regular intervals in an array, and a through hole 9a is formed in the center. The bonding electrode 4 and the bump electrode 9 are electrically connected to each other via the wiring pattern 5 and the through hole 9a.

【0053】さらに、バンプ用電極9の中央部に形成さ
れたスルーホール9aには、円柱状の接続用ピン18が
それぞれ挿入されている。接続用ピン18は、一方の端
部がはんだペーストなどの導電性接着材11を介して配
線パターン7に接続される。
Further, cylindrical connection pins 18 are inserted into through holes 9a formed in the center of the bump electrodes 9, respectively. One end of the connection pin 18 is connected to the wiring pattern 7 via a conductive adhesive 11 such as a solder paste.

【0054】また、接続用ピン18の一方の端部近傍の
側面には配線パターン7aが接続されている。接続用ピ
ン18は、プリント配線基板2aの厚さよりも長く、他
方の端部がバンプ用電極9からある長さだけ突出するよ
うに設けられている。
A wiring pattern 7a is connected to a side surface near one end of the connection pin 18. The connection pin 18 is longer than the thickness of the printed wiring board 2a, and is provided such that the other end protrudes from the bump electrode 9 by a certain length.

【0055】配線パターン5が接続されていないボンデ
ィング電極4と接続用ピン18とは、配線パターン7を
介してそれぞれ電気的に接続されており、配線パターン
5,7が接続されていないボンディング電極4と接続用
ピン18とは、配線パターン7aを介してそれぞれ電気
的に接続されている。
The bonding electrode 4 to which the wiring pattern 5 is not connected and the connection pin 18 are electrically connected via the wiring pattern 7, respectively, and the bonding electrode 4 to which the wiring patterns 5 and 7 are not connected. And the connection pin 18 are electrically connected to each other via the wiring pattern 7a.

【0056】プリント配線基板2aのバンプ用電極9に
は、球形のはんだからなるはんだバンプ16がそれぞれ
設けられており、これらはんだバンプ16は、バンプ用
電極9の中心部から突出した接続用ピン18を覆うよう
に形成されている。
The bump electrodes 9 of the printed wiring board 2a are provided with solder bumps 16 made of spherical solder, respectively. These solder bumps 16 are connected to connection pins 18 projecting from the center of the bump electrodes 9. It is formed so that it may cover.

【0057】そして、これら接続用ピン18、ならびに
はんだバンプ16によって外部電極17aが構成されて
おり、1つの外部電極17aに3ピン分の電極が設けら
れたことになる。
The external electrodes 17a are constituted by the connection pins 18 and the solder bumps 16, so that one external electrode 17a is provided with electrodes for three pins.

【0058】また、接続用ピン18の構成、および接続
状態について説明する。
The configuration and connection state of the connection pins 18 will be described.

【0059】接続用ピン18は、図15に示すように、
鉄−ニッケル合金などからなる導電性のピン(導電性ピ
ン)18aの外周面に絶縁層(第1絶縁層)18bが形
成されている。
As shown in FIG. 15, the connection pins 18
An insulating layer (first insulating layer) 18b is formed on the outer peripheral surface of a conductive pin (conductive pin) 18a made of an iron-nickel alloy or the like.

【0060】この絶縁層18bの外周面には、導電性部
材がコーティングされた導電層18cが形成され、その
導電層18cの外周部には絶縁層(第2絶縁層)18d
が形成された構成となっている。
A conductive layer 18c coated with a conductive member is formed on the outer peripheral surface of the insulating layer 18b, and an insulating layer (second insulating layer) 18d is formed on the outer peripheral portion of the conductive layer 18c.
Is formed.

【0061】導電層18cは、たとえば、はんだめっき
などによって形成したものであり、絶縁層18b,18
dは、ポリイミドなどの絶縁性樹脂をコーティングした
ものである。ピン18aの両端面には絶縁層18b、1
8dが形成されておらず、ピン18aにおける一方の端
部近傍の外周面には絶縁層18dが形成されていない。
The conductive layer 18c is formed by, for example, solder plating or the like.
d is a coating of an insulating resin such as polyimide. The insulating layers 18b, 1
8d is not formed, and the insulating layer 18d is not formed on the outer peripheral surface near one end of the pin 18a.

【0062】次に、本実施の形態2における半導体装置
1aの製造方法について説明する。
Next, a method of manufacturing the semiconductor device 1a according to the second embodiment will be described.

【0063】まず、ボンディング電極4、配線パターン
5,7,7a、バンプ用電極9、スルーホール9aなど
がすでに形成され、該スルーホール9a内において接続
用ピン18の一方の端部が接触する配線パターン7に導
電性接着材11が塗布されたプリント配線基板2aの中
央部に接着材13を塗布し、半導体チップ12を接合す
る。
First, the bonding electrode 4, the wiring patterns 5, 7, 7a, the bump electrode 9, the through hole 9a, etc. are already formed, and the wiring to which one end of the connection pin 18 contacts in the through hole 9a. An adhesive 13 is applied to the central portion of the printed wiring board 2a in which the conductive adhesive 11 is applied to the pattern 7, and the semiconductor chip 12 is joined.

【0064】そして、半導体チップ12のチップ電極1
2aとプリント配線基板2aのボンディング電極4とが
ボンディングワイヤ14によりそれぞれボンディングさ
れ、電気的に接続される。
Then, the chip electrode 1 of the semiconductor chip 12
2a and the bonding electrode 4 of the printed wiring board 2a are respectively bonded by bonding wires 14, and are electrically connected.

【0065】その後、これらプリント配線基板2aのボ
ンディング電極4周辺、ボンディングワイヤ14、およ
び半導体チップ12が封止樹脂15によって封止され、
パッケージが形成される。
Thereafter, the periphery of the bonding electrodes 4 of the printed wiring board 2a, the bonding wires 14, and the semiconductor chip 12 are sealed with a sealing resin 15,
A package is formed.

【0066】パッケージが形成された後、プリント配線
基板2aに形成されたスルーホール9aに、接続用ピン
18を挿入する。接続用ピン18が挿入されたプリント
配線基板2aはリフロー炉を通過することによって導電
性接着材11を溶融し、接続用ピン18の一方の端面と
配線パターン7とを接続する(ステップS105)。
After the package is formed, the connecting pins 18 are inserted into the through holes 9a formed in the printed wiring board 2a. The printed wiring board 2a into which the connecting pins 18 have been inserted melts the conductive adhesive 11 by passing through the reflow furnace, and connects one end face of the connecting pins 18 to the wiring pattern 7 (step S105).

【0067】これにより、接続用ピン18の一方の端部
と配線パターン7とが電気的に接続されるとともに、該
接続用ピン18の一方の端部近傍における外周面と配線
パターン7aとが電気的に接続されることになる。
As a result, one end of the connection pin 18 and the wiring pattern 7 are electrically connected, and the outer peripheral surface near the one end of the connection pin 18 and the wiring pattern 7a are electrically connected. Will be connected.

【0068】その後、プリント配線基板2aをはんだ槽
HS(図8、図9)に浸漬させて、はんだバンプ16を
形成し、ボールグラインドなどによって、該はんだバン
プ16の約半分程度を接続用ピン18とともに切削し、
該はんだバンプ16の実装面を平坦化させることにり半
導体装置1aが完成となる。
Thereafter, the printed wiring board 2a is immersed in a solder bath HS (FIGS. 8 and 9) to form solder bumps 16, and about half of the solder bumps 16 are connected to connection pins 18 by ball grinding or the like. Cutting with
By flattening the mounting surface of the solder bump 16, the semiconductor device 1a is completed.

【0069】よって、半導体装置1aには、スルーホー
ル9aを介して配線パターン5と電気的に接続されるは
んだバンプ16、配線パターン7と電気的に接続される
ピン18a、ならびに配線パターン7aと電気的に接続
される導電層18cとが設けられることになり、1つの
外部電極17aにおいて3ピン分の外部引き出し電極が
形成されることになる。
Therefore, in the semiconductor device 1a, the solder bumps 16 electrically connected to the wiring pattern 5 via the through holes 9a, the pins 18a electrically connected to the wiring pattern 7, and the electrical connection between the wiring pattern 7a and the The conductive layer 18c to be electrically connected is provided, and external lead electrodes for three pins are formed in one external electrode 17a.

【0070】また、この半導体装置1aが実装される実
装配線基板JのランドLaについて説明する。
The land La of the mounting wiring board J on which the semiconductor device 1a is mounted will be described.

【0071】半導体装置1aが実装される実装配線基板
Jに形成されるランドLaは、図16に示すように、第
1電極部LD3、第2電極部LD4、第3電極部LD
5、および絶縁層Z1,Z2から構成されている。
As shown in FIG. 16, the land La formed on the mounting wiring board J on which the semiconductor device 1a is mounted has a first electrode portion LD3, a second electrode portion LD4, and a third electrode portion LD.
5 and insulating layers Z1 and Z2.

【0072】ランドLの中央部には、ピン18aが位置
する第1電極部LD3が形成されており、該第1電極部
LD3の周辺部には絶縁用の絶縁層Z1が形成されてい
る。絶縁層Z1の外周部には、導電層18cが位置する
第2電極部LD4が形成されており、第2電極部LD4
の外周部には絶縁層Z2が形成されている。
A first electrode portion LD3 where the pin 18a is located is formed at the center of the land L, and an insulating layer Z1 for insulation is formed around the first electrode portion LD3. A second electrode portion LD4 where the conductive layer 18c is located is formed on the outer peripheral portion of the insulating layer Z1, and the second electrode portion LD4
Is formed with an insulating layer Z2 at the outer peripheral portion.

【0073】これら絶縁層Z1,Z2は、たとえば、ソ
ルダレジストなどである。また、絶縁層Z2の外周部に
は、はんだバンプ16が位置する第2電極部LD5が形
成されている。
These insulating layers Z1 and Z2 are, for example, solder resists. Further, a second electrode portion LD5 where the solder bump 16 is located is formed on the outer peripheral portion of the insulating layer Z2.

【0074】そして、半導体装置1aを実装配線基板J
に実装する際には、外部電極17a、あるいはランドL
aにフラックスを塗布した後、外部電極17aを実装配
線基板JのランドLaにそれぞれ重合させて搭載し、リ
フローを行い、はんだバンプ16を溶融させて電気的に
接続する。
Then, the semiconductor device 1a is mounted on the mounting wiring board J.
When mounting on the external electrode 17a or the land L
After the flux is applied to a, the external electrodes 17a are superimposed and mounted on the lands La of the mounting wiring board J, respectively, reflowed, and the solder bumps 16 are melted and electrically connected.

【0075】それにより、本実施の形態2においては、
1つの外部電極17aによって3ピン分の電極を設ける
ことができるので、半導体装置1aのパッケージを大き
くすることなく、より多くの多ピン化に対応することが
できる。
As a result, in the second embodiment,
Since an electrode for three pins can be provided by one external electrode 17a, it is possible to cope with an increase in the number of pins without increasing the size of the package of the semiconductor device 1a.

【0076】以上、本発明者によってなされた発明を発
明の実施の形態に基づき具体的に説明したが、本発明は
前記実施の形態に限定されるものではなく、その要旨を
逸脱しない範囲で種々変更可能であることはいうまでも
ない。
Although the invention made by the inventor has been specifically described based on the embodiments of the present invention, the present invention is not limited to the above embodiments, and various modifications may be made without departing from the gist of the invention. Needless to say, it can be changed.

【0077】たとえば、前記実施の形態1,2では、1
つの外部電極において2ピン分の電極と、3ピン分の電
極とを設けた構成としたが、半導体装置のプリント配線
基板を4層以上の多層配線し、かつそれに対応するよう
に接続用ピンに絶縁層、ならびに導電層を形成し、1つ
の外部電極により4ピン以上の電極を設けるようにして
もよい。
For example, in the first and second embodiments, 1
Two external electrodes are provided with an electrode for two pins and an electrode for three pins. However, the printed wiring board of the semiconductor device is multi-layered with four or more layers, and the connection pins are correspondingly provided. An insulating layer and a conductive layer may be formed, and four or more pins may be provided by one external electrode.

【0078】[0078]

【発明の効果】本願によって開示される発明のうち、代
表的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、
以下のとおりである。
Advantageous effects obtained by typical ones of the inventions disclosed by the present application will be briefly described as follows.
It is as follows.

【0079】(1)本発明によれば、1つの外部接続端
子によって、2ピン分、あるいは3ピン分の電極を設け
ることができるので、半導体装置のパッケージサイズを
大きくすることなくピン数を大幅に増加させることがで
きる。
(1) According to the present invention, two or three pins of electrodes can be provided by one external connection terminal, so that the number of pins can be increased without increasing the package size of the semiconductor device. Can be increased.

【0080】(2)また、本発明では、上記(1)によ
り、低コストで高性能な半導体装置を実現することがで
きる。
(2) In the present invention, a low-cost and high-performance semiconductor device can be realized by the above (1).

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の実施の形態1による半導体装置の断面
図である。
FIG. 1 is a sectional view of a semiconductor device according to a first embodiment of the present invention;

【図2】本発明の実施の形態1による半導体装置に設け
られた接続用ピン、ならびにその周辺部の説明図であ
る。
FIG. 2 is an explanatory diagram of connection pins provided in the semiconductor device according to the first embodiment of the present invention and peripheral portions thereof;

【図3】図1の半導体装置における製造工程の概略を示
した説明図である。
FIG. 3 is an explanatory view schematically showing a manufacturing process in the semiconductor device of FIG. 1;

【図4】図3に続く半導体装置の製造工程の説明図であ
る。
FIG. 4 is an explanatory view of the semiconductor device manufacturing process following FIG. 3;

【図5】図4に続く半導体装置の製造工程の説明図であ
る。
FIG. 5 is an explanatory view of the semiconductor device manufacturing process following FIG. 4;

【図6】図5に続く半導体装置の製造工程の説明図であ
る。
FIG. 6 is an explanatory view of the manufacturing process of the semiconductor device, following FIG. 5;

【図7】図6に続く半導体装置の製造工程の説明図であ
る。
FIG. 7 is an explanatory view of the semiconductor device manufacturing process following FIG. 6;

【図8】図7に続く半導体装置の製造工程の説明図であ
る。
FIG. 8 is an explanatory view of the manufacturing process of the semiconductor device, following FIG. 7;

【図9】図8に続く半導体装置の製造工程の説明図であ
る。
FIG. 9 is an explanatory view of the semiconductor device manufacturing process following FIG. 8;

【図10】図9に続く半導体装置の製造工程の説明図で
ある。
FIG. 10 is an explanatory diagram of the semiconductor device manufacturing process following FIG. 9;

【図11】図10に続く半導体装置の製造工程の説明図
である。
FIG. 11 is an explanatory view of the semiconductor device manufacturing process following FIG. 10;

【図12】図1の半導体装置における製造工程のフロー
チャートである。
FIG. 12 is a flowchart of a manufacturing process in the semiconductor device of FIG. 1;

【図13】図1の半導体装置が実装される実装基板に形
成されたランドの説明図である。
FIG. 13 is an explanatory diagram of lands formed on a mounting board on which the semiconductor device of FIG. 1 is mounted.

【図14】本発明の実施の形態2による半導体装置の断
面図である。
FIG. 14 is a sectional view of a semiconductor device according to a second embodiment of the present invention;

【図15】本発明の実施の形態2による半導体装置に設
けられた接続用ピン、ならびにその周辺部の説明図であ
る。
FIG. 15 is an explanatory diagram of connection pins provided in a semiconductor device according to a second embodiment of the present invention and peripheral portions thereof.

【図16】図14の半導体装置が実装される実装基板に
形成されたランドの説明図である。
FIG. 16 is an explanatory diagram of lands formed on a mounting board on which the semiconductor device of FIG. 14 is mounted.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1,1a 半導体装置 2,2a プリント配線基板 3 基板コア 4 ボンディング電極 5 配線パターン(第1配線パターン) 6 ソルダレジスト 7 配線パターン(第2配線パターン) 7a 配線パターン(第3配線パターン) 8,8a ソルダレジスト(絶縁層) 9 バンプ用電極(電極部) 9a スルーホール 10 接続用ピン(外部端子ピン) 10a ピン 10b 絶縁層 11 導電性接着材 12 半導体チップ 12a チップ電極 13 接着材 14 ボンディングワイヤ 15 封止樹脂(封止部) 16 はんだバンプ(バンプ) 17 外部電極(外部接続端子) 17a 外部電極 18 接続用ピン 18a ピン(導電性ピン) 18b 絶縁層(第1絶縁層) 18c 導電層 18d 絶縁層(第2絶縁層) HS はんだ槽 H はんだ用穴 J 実装配線基板 L ランド(基板電極) La ランド LD1 第1電極部(第1ランド) LD3 第1電極部 LD2 第2電極部(第2ランド) LD4 第2電極部 LD5 第3電極部 Z,Z1,Z2 絶縁層 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1, 1a Semiconductor device 2, 2a Printed wiring board 3 Substrate core 4 Bonding electrode 5 Wiring pattern (first wiring pattern) 6 Solder resist 7 Wiring pattern (second wiring pattern) 7a Wiring pattern (third wiring pattern) 8, 8a Solder resist (insulating layer) 9 Bump electrode (electrode part) 9a Through hole 10 Connecting pin (external terminal pin) 10a Pin 10b Insulating layer 11 Conductive adhesive 12 Semiconductor chip 12a Chip electrode 13 Adhesive 14 Bonding wire 15 Seal Resin stopper (sealing part) 16 Solder bump (bump) 17 External electrode (external connection terminal) 17a External electrode 18 Connection pin 18a Pin (conductive pin) 18b Insulating layer (first insulating layer) 18c Conducting layer 18d Insulating layer (Second insulating layer) HS solder bath H solder hole J mounting wiring board Land (substrate electrode) La lands LD1 first electrode portion (first land) LD3 first electrode portion LD2 second electrode portion (second lands) LD4 second electrode portion LD5 third electrode portion Z, Z1, Z2 insulating layer

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 プリント配線基板の一方の面に半導体チ
ップを搭載し、他方の面に前記半導体チップに設けられ
たチップ電極と接続される複数の外部接続端子を設けた
半導体装置であって、 前記プリント配線基板が、 前記半導体チップが搭載される一方の面に、前記半導体
チップのチップ電極とそれぞれ接続される第1配線パタ
ーンが形成された第1配線層と、 前記第1配線層の上方に絶縁層を介して、前記半導体チ
ップのチップ電極とそれぞれ接続される第2配線パター
ンが形成された第2配線層と、 任意の前記第1配線パターンが接続されるスルーホール
と、 前記プリント配線基板の裏面に形成され、前記スルーホ
ールに接続された電極部とからなり、 前記外部接続端子が、 前記スルーホールに挿入され、一方の端面が前記第2配
線パターンに接合して電気的に接続され、他方の端面が
前記電極部から突出し、外周面が絶縁された円柱状の外
部端子ピンと、前記電極部に形成されたバンプとよりな
ることを特徴とする半導体装置。
1. A semiconductor device having a semiconductor chip mounted on one surface of a printed wiring board and a plurality of external connection terminals connected to chip electrodes provided on the semiconductor chip on the other surface, A first wiring layer in which a first wiring pattern connected to a chip electrode of the semiconductor chip is formed on one surface of the printed wiring board on which the semiconductor chip is mounted; A second wiring layer formed with a second wiring pattern connected to a chip electrode of the semiconductor chip via an insulating layer, a through-hole connected to an arbitrary first wiring pattern, An electrode portion formed on the back surface of the substrate and connected to the through hole, wherein the external connection terminal is inserted into the through hole, and one end surface is the second wiring The external terminal pins are joined to the turns and electrically connected to each other, the other end faces of the external terminal pins protrude from the electrode section, and the outer peripheral face is insulated. The external terminal pins are formed of bumps formed on the electrode sections. Semiconductor device.
【請求項2】 プリント配線基板の一方の面に半導体チ
ップを搭載し、他方の面に前記半導体チップに設けられ
たチップ電極と電気的に接続される複数の外部接続端子
を設けた半導体装置であって、 前記プリント配線基板が、 前記半導体チップが搭載される一方の面に、前記半導体
チップのチップ電極とそれぞれ接続される第1配線パタ
ーンが形成された第1配線層と、 前記第1配線層の上方に絶縁層を介して、前記半導体チ
ップのチップ電極とそれぞれ接続される第2配線パター
ンが形成された第2配線層と、 前記第2配線層の上方に絶縁層を介して、前記半導体チ
ップのチップ電極とそれぞれ接続される第3配線パター
ンが形成された第3配線層と、 任意の前記第1配線パターンがそれぞれ接続されたスル
ーホールと、 前記プリント配線基板の他方の面に形成され、前記スル
ーホールに接続された電極部とからなり、 前記外部接続端子が、 一方の端面が前記第3配線パターンに接続され、他方の
端面が前記電極部から突出した円柱状の導電性ピンと、
前記導電性ピンの外周面に形成された第1絶縁層と、前
記第1絶縁層の外周面に形成され、前記第2配線パター
ンに接続される導電層と、前記導電層の外周面に形成さ
れた第2絶縁層とからなり、前記スルーホールに挿入さ
れた外部端子ピンと、 前記電極部に形成されたバンプとよりなることを特徴と
する半導体装置。
2. A semiconductor device having a semiconductor chip mounted on one surface of a printed wiring board and a plurality of external connection terminals electrically connected to chip electrodes provided on the semiconductor chip on the other surface. A first wiring layer on the one surface of the printed wiring board on which the semiconductor chip is mounted, the first wiring layer having first wiring patterns respectively connected to chip electrodes of the semiconductor chip; A second wiring layer formed with a second wiring pattern connected to the chip electrode of the semiconductor chip via an insulating layer above the layer, and an insulating layer above the second wiring layer. A third wiring layer on which a third wiring pattern connected to each of the chip electrodes of the semiconductor chip is formed; a through hole to which each of the first wiring patterns is connected; An electrode portion formed on the other surface of the wire substrate and connected to the through hole, wherein the external connection terminal has one end surface connected to the third wiring pattern, and the other end surface connected to the electrode portion. A protruding cylindrical conductive pin,
A first insulating layer formed on the outer peripheral surface of the conductive pin, a conductive layer formed on the outer peripheral surface of the first insulating layer and connected to the second wiring pattern, and formed on the outer peripheral surface of the conductive layer; A semiconductor device comprising: an external terminal pin inserted into the through hole; and a bump formed on the electrode portion.
【請求項3】 表面にチップ電極が形成された半導体チ
ップを準備する工程と、 前記半導体チップが搭載される一方の面に、前記半導体
チップのチップ電極に対応する複数のボンディング電
極、および前記ボンディング電極を介して前記チップ電
極とそれぞれ接続される第1、第2配線パターンが形成
され、他方の面に、スルーホールを介して前記第1配線
パターンが接続される電極部が形成されたプリント配線
基板を準備する工程と、 外周面が絶縁された円柱状の外部端子ピンを準備する工
程と、 前記半導体チップを前記プリント配線基板に接合する工
程と、 前記半導体チップのチップ電極とこれに対応する前記ボ
ンディング電極とを接続部材により接続する工程と、 前記半導体チップ、ならびにその近傍を封止樹脂によっ
て樹脂モールドし、封止部を形成する工程と、 前記スルーホールに、前記外部端子ピンを挿入し、前記
外部端子ピンの一方の端面と前記第2パターンとを接続
し、他方の端面を前記電極部から突出させる工程と、 前記電極部にバンプを形成する工程と、 前記電極部に形成された前記バンプを前記外部端子ピン
とともに切削し、前記バンプを平坦化して外部接続端子
を形成する工程とを有することを特徴とする半導体装置
の製造方法。
A step of preparing a semiconductor chip having a chip electrode formed on a surface thereof; and a plurality of bonding electrodes corresponding to chip electrodes of the semiconductor chip on one surface on which the semiconductor chip is mounted. Printed wiring in which first and second wiring patterns respectively connected to the chip electrodes via electrodes are formed, and an electrode portion connected to the first wiring pattern via through holes is formed on the other surface. A step of preparing a substrate; a step of preparing a columnar external terminal pin having an insulated outer peripheral surface; a step of bonding the semiconductor chip to the printed wiring board; and a chip electrode of the semiconductor chip and a corresponding electrode. A step of connecting the bonding electrode with a connection member; Forming a sealing portion, inserting the external terminal pin into the through hole, connecting one end surface of the external terminal pin and the second pattern, and connecting the other end surface from the electrode portion. Protruding; forming a bump on the electrode portion; cutting the bump formed on the electrode portion together with the external terminal pin; flattening the bump to form an external connection terminal. A method for manufacturing a semiconductor device, comprising:
【請求項4】 表面にチップ電極が形成された半導体チ
ップを準備する工程と、 前記半導体チップが搭載される一方の面に、前記半導体
チップのチップ電極に対応する複数のボンディング電
極、および前記ボンディング電極を介して前記チップ電
極とそれぞれ接続される第1〜第3配線パターンが形成
され、他方の面に、スルーホールを介して前記第1配線
パターンが接続される電極部が形成されたプリント配線
基板を準備する工程と、 円柱状の導電性ピンと、前記導電性ピンの外周面に形成
された第1絶縁層と、前記第1絶縁層の外周面に形成さ
れ、前記第2配線パターンに電気的に接続される導電層
と、前記導電層の外周面に形成された第2絶縁層とから
なる外部端子ピンを準備する工程と、 前記半導体チップを前記プリント配線基板に接合する工
程と、 前記半導体チップのチップ電極とこれに対応する前記ボ
ンディング電極とを接続部材により接続する工程と、 前記半導体チップ、ならびにその近傍を封止樹脂によっ
て樹脂モールドし、封止部を形成する工程と、 前記外部端子ピンを前記スルーホールに挿入し、前記導
電性ピンの一方の端面と前記第3配線パターンとを接続
し、前記導電層と前記第2配線パターンとを接続する工
程と、 前記電極部にバンプを形成する工程と、 前記電極部に形成されたバンプを前記外部端子ピンとと
もに切削し、前記バンプを平坦化して外部接続端子を形
成する工程とを有することを特徴とする半導体装置の製
造方法。
4. A step of preparing a semiconductor chip having a chip electrode formed on a surface thereof; and a plurality of bonding electrodes corresponding to chip electrodes of the semiconductor chip on one surface on which the semiconductor chip is mounted. Printed wiring in which first to third wiring patterns respectively connected to the chip electrodes via electrodes are formed, and on the other surface, electrode portions to which the first wiring patterns are connected via through holes are formed. A step of preparing a substrate; a columnar conductive pin; a first insulating layer formed on an outer peripheral surface of the conductive pin; and an electric conductor formed on the outer peripheral surface of the first insulating layer and electrically connected to the second wiring pattern. Preparing external terminal pins comprising a conductive layer to be electrically connected and a second insulating layer formed on the outer peripheral surface of the conductive layer; and attaching the semiconductor chip to the printed wiring board. A bonding step; a step of connecting a chip electrode of the semiconductor chip and the corresponding bonding electrode with a connection member; and a step of resin-molding the semiconductor chip and its vicinity with a sealing resin to form a sealing portion. Inserting the external terminal pin into the through-hole, connecting one end face of the conductive pin to the third wiring pattern, and connecting the conductive layer to the second wiring pattern. Forming a bump on the electrode portion, and cutting the bump formed on the electrode portion together with the external terminal pin, and flattening the bump to form an external connection terminal. A method for manufacturing a semiconductor device.
【請求項5】 プリント配線基板の表面に半導体チップ
が搭載され、前記プリント配線基板の裏面に導電性ピン
とバンプとからなる外部接続端子が形成された半導体装
置を準備する工程と、 前記外部接続端子のうち、前記導電性ピンが接続される
第1ランドと、前記第1ランドの周辺部に絶縁層を介し
て前記バンプが接続される第2ランドとからなり、前記
半導体装置の外部接続用電極に対応した基板電極が形成
された実装配線基板を準備する工程と、 前記外部接続端子、または前記外部接続端子に対応する
前記実装配線基板の基板電極にフラックスを塗布する工
程と、 前記バンプと前記基板電極とをリフローにより接続する
工程とを有することを特徴とする半導体装置の実装方
法。
5. A step of preparing a semiconductor device in which a semiconductor chip is mounted on a front surface of a printed wiring board, and an external connection terminal including a conductive pin and a bump is formed on a back surface of the printed wiring board; A first land to which the conductive pin is connected, and a second land to which the bump is connected to a peripheral portion of the first land via an insulating layer, wherein an external connection electrode of the semiconductor device is provided. A step of preparing a mounting wiring board on which a substrate electrode corresponding to the above is formed; a step of applying a flux to the external connection terminal or a board electrode of the mounting wiring board corresponding to the external connection terminal; Connecting the substrate electrode and the substrate electrode by reflow.
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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DE10343255A1 (en) * 2003-09-17 2005-05-04 Infineon Technologies Ag BGA package interconnect and method of making the same
US7068059B2 (en) 2003-09-17 2006-06-27 Infineon Technologies Ag Arrangement for producing an electrical connection between a BGA package and a signal source, and method for producing such a connection
JP2010028601A (en) * 2008-07-23 2010-02-04 Nippon Dempa Kogyo Co Ltd Surface-mounted oscillator and electronic device with the oscillator packaged therein
CN111587486A (en) * 2018-12-19 2020-08-25 新电元工业株式会社 Semiconductor device and method for manufacturing semiconductor device

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE10343255A1 (en) * 2003-09-17 2005-05-04 Infineon Technologies Ag BGA package interconnect and method of making the same
US7068059B2 (en) 2003-09-17 2006-06-27 Infineon Technologies Ag Arrangement for producing an electrical connection between a BGA package and a signal source, and method for producing such a connection
DE10343255B4 (en) * 2003-09-17 2006-10-12 Infineon Technologies Ag Method for establishing electrical connections between a semiconductor chip in a BGA package and a printed circuit board
US7220666B2 (en) 2003-09-17 2007-05-22 Infineon Technologies Ag Interconnection element for BGA housings and method for producing the same
JP2010028601A (en) * 2008-07-23 2010-02-04 Nippon Dempa Kogyo Co Ltd Surface-mounted oscillator and electronic device with the oscillator packaged therein
CN111587486A (en) * 2018-12-19 2020-08-25 新电元工业株式会社 Semiconductor device and method for manufacturing semiconductor device

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