JP2002151592A - 自動レイアウト方法及びその装置 - Google Patents

自動レイアウト方法及びその装置

Info

Publication number
JP2002151592A
JP2002151592A JP2000347073A JP2000347073A JP2002151592A JP 2002151592 A JP2002151592 A JP 2002151592A JP 2000347073 A JP2000347073 A JP 2000347073A JP 2000347073 A JP2000347073 A JP 2000347073A JP 2002151592 A JP2002151592 A JP 2002151592A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
via hole
wiring
net
layout
via holes
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2000347073A
Other languages
English (en)
Inventor
Hirotsugu Ishikawa
博嗣 石川
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Renesas Micro Systems Co Ltd
Original Assignee
Renesas Micro Systems Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Renesas Micro Systems Co Ltd filed Critical Renesas Micro Systems Co Ltd
Priority to JP2000347073A priority Critical patent/JP2002151592A/ja
Publication of JP2002151592A publication Critical patent/JP2002151592A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Design And Manufacture Of Integrated Circuits (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】チップ面積の増加によるコストの上昇を最低限
に抑えつつ、ビアホールのエレクトロマイグレーション
耐性を必要十分なだけ向上する。 【解決手段】指定ネットのセル配置を行うセル配置ステ
ップS1と、セル配置結果を検証する検証ステップS2
と、セル配置後に配線を行う配線ステップS3と、配置
配線後のレイアウトデータに対してビアホール毎に電流
値を検索するととともにこの検索結果に基づき配置が必
要となった多ビアホールを構成する単位ビアホールの並
列配置数を決めるビアホール配置数決定ステップS4
と、多ビアホールの配置に伴い修正が必要な配線を修正
する配線修正ステップS5と、配線修正結果を検証する
検証ステップS6と、指定ネットの動作率を計算する動
作率計算ステップS7とを有する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は自動レイアウト方法
及びその装置に関し、特に半導体集積回路(LSI)の
セルベース自動レイアウトにおけるビアホールの自動配
置を行う自動レイアウト方法及びその装置に関する。
【0002】
【従来の技術】近年の半導体集積回路は製造プロセスの
向上によって微細化及び高集積化が進み、配線の幅やピ
ッチが狭くなってきているため、各配線に流れる電流の
電流密度が増加する傾向にある。また、半導体素子の高
速化が進み、高周波で動作する半導体集積回路が増えて
きている。
【0003】このような高速で動作する半導体素子から
なる任意の機能を有する機能ブロック(論理回路等)に
電源を供給するために設けられた電源配線等は電流密度
が特に大きくなるため、エレクトロマイグレーションに
よって断線するおそれがある。従って、エレクトロマイ
グレーションによる断線を防止するため、半導体集積回
路の配線パターンを設計する際には各配線等に流れる電
流の電流密度を断線しない所定の規格値内に収める必要
がある。特に、複数の配線層間を接続するためのビアホ
ール(中継スルーホール)は、後述するように、実効的
な配線膜圧が平坦部の配線膜圧より小さくなっているた
め配線における弱点とあり、このビアホールに対してエ
レクトロマイグレーション耐性を向上することが重要な
要素の一つとなっている。
【0004】エレクトロマイグレーションとは、金属配
線に高密度の電流を長時間流すことによる、配線の金属
原子の移動現象のことである。配線の金属原子が移動す
ることにより、配線寿命が短くなる。
【0005】配線寿命と電流密度の関係式を以下に示
す。
【0006】出典:アイ・イー・イー・イー・トランサ
クションズ・オン・エレクトロン・デバイスズ(IEE
E Transaction on Electoro
nDevices)、第ED−4巻、第388−347
頁、1969年、J.R.ブラック「エレクトロマイグ
レーション、概説及び最近の成果」(J.R.Blac
k ”Electormigration A bri
ef surveyand some recent
results”) すなわち、経験的に配線寿命(エレクトロマイグレーシ
ョン耐性)は電流密度のn乗に反比例する。経験的には
n=2であり、従って、エレクトロマイグレーション耐
性は電流密度の2乗に反比例する。
【0007】信号配線のエレクトロマイグレーションの
概念を示す図9を参照すると、信号配線のエレクトロマ
イグレーションには、貫通電流ITによる直流成分のエ
レクトロマイグレーションと、配線の負荷容量CLを充
放電することによる充放電電流ICによる交流成分のエ
レクトロマイグレーションがある。直流成分のエレクト
ロマイグレーションは自動レイアウトではセル内で管理
すべき問題であるので、ここでは取り上げない。従っ
て、以下の説明では、交流成分のエレクトロマイグレー
ションについて取り上げる。
【0008】また、近年のプロセスで形成される一般的
なビアホールの構造を断面図で示す図10を参照する
と、この図に示すビアホールBは、第1層配線W1と第
2層配線W2との間の層間絶縁層Dに形成され、これら
配線層W1,W2を電気的に接続する。典型的な例で
は、ビアホールBの内面の配線膜圧t2は、平坦部の金
属配線W1,W2の膜厚t1の約20%であり、一方、
ビアホールBの周囲長は金属配線W1,W2の最小幅の
約4倍である。この結果、ビアホールBにおける電流密
度は金属配線W1,W2の約1.3倍となる。前記した
電流密度とエレクトロマイグレーション耐性との関係か
ら、ビアホールBのエレクトロマイグレーション耐性
は、平坦部の金属配線と比較して約0.6倍となってい
る。よって、ビアホールでの配線寿命劣化が著しいた
め、ビアホールにエレクトロマイグレーション対策を講
じる必要がある。
【0009】ビアホールにエレクトロマイグレーション
対策を講じた特許第2785861号公報記載の従来の
自動レイアウト方法は、負荷が重いネットに対してビア
ホールを複数個配置するものである。
【0010】従来の自動レイアウト方法をフローチャー
トで示す図11を参照すると、この従来の自動レイアウ
ト方法は、ネットリストファイルF11と、レイアウト
ライブラリF12と、レイアウトルールファイルF13
と、ネット情報ファイルF31とを備えており、ネット
情報ファイルF31は、ビアホールを複数個並列接続し
た多ビアホールを配置するネット情報を格納している。
【0011】自動レイアウト装置は、まず、レイアウト
ライブラリ及びレイアウトルールに基づいてセル配置を
行い(ステップS1)、セル配置を検証して(ステップ
S2)、検証の結果が了(OK)であれば、次に、ネッ
トリスト、レイアウトライブラリ、レイアウトルール、
及びネット情報に基づいて指定ネットの配線を行う(ス
テップP3)。そして、自動配線の際、ネット情報で指
定されたネットにおいて配線層の乗せ換えが生じるとビ
アホールを複数個並列接続した多ビアホールを配置す
る。つまり、複数個のビアホールから成る多ビアホール
を配置すべき指定ネットの配線を行う。その後、自動レ
イアウト装置は、ネットリスト、レイアウトライブラ
リ、及びレイアウトルールに基づいて通常ネット配線を
行う(指定ネット以外のネットの配線を行う:ステップ
P4)。そして、自動配線について検証する(ステップ
P5)。検証の結果がOKであれば、レイアウトデータ
としてファイルF14に格納する。
【0012】この従来の自動レイアウト方法は、負荷許
容値情報からエレクトロマイグレーション耐性の向上が
必要な負荷が重いネットを特定し、多ビアホールを配置
することで、一応の効果を奏している。
【0013】しかしながら、例えば、図3に示すクロッ
クツリーのネットのように分岐が多いネットでは、ネッ
トに含まれるビアホールを全て複数個にした場合、ネッ
トが配線されたグリッドに隣接するグリッドに他のネッ
トを配線することが実質的に不可能になる。
【0014】クロックツリーをレイアウト図で示す図3
を参照すると、この図に示すクロックツリーのネット4
1は、X方向15、Y方向9、すなわち、15×9=1
35個の配線格子(以下、格子)にレイアウトされた第
1層〜第3層の3つの配線層から成り、分岐点42,4
3,44,45,46,47,48を有する。これら分
岐点42,43,44,45,46,47,48を含み
15個のビアホールB1〜B15を有する。この図で
は、第2の配線層54に着目すると、この第2の配線層
54の空きグリッド数は、101個となる。
【0015】説明の便宜上、この従来の自動レイアウト
方法で、このネット41が負荷が重いネットとして指定
し、この指定ネットではエレクトロマイグレーション耐
性向上のために多ビアホールを構成する単位ビアホール
の複数配置数を4個とする。
【0016】従来の自動レイアウト方法により上記クロ
ックツリーのネット41をレイアウトした結果(レイア
ウトデータ)の一例を示す図12を参照すると、全ての
ビアホール、すなわち、末端部分のビアホールB14,
B15まで単位ビアホールを4個ずつ接続した多ビアホ
ールMB1〜MB15を配置してしまう。その結果、ク
ロックネット41に隣接する配線グリッドは他ネットで
使用できなくなるので、図13に示すように、空きグリ
ッド数は33個に減少してしまう。
【0017】なお、説明の便宜上、図3、図12及び図
13に示すレイアウト図では第2層を中心として表示
し、従って多ビアホールMB1〜MB15等、他の第1
層又は第3層と重畳している部分は第2層のみを示す。
【0018】実際のデザインでは、多少のずれがあるも
のの、クロックネットがデザインの全てのネットを占め
る割合は1割程度である。
【0019】近年、プロセスでは、チップの総配線長で
チップ面積がほぼ決定されるため、配線混雑度がチップ
面積に与える影響が大きい。
【0020】あるデザインでは、クロックネットの配線
長と総信号配線長の比はおよそ1:10であり、クロッ
クネットが占める面積とチップ面積の比もほぼ1:10
であると予測される。この比は、他の一般的なデザイン
でも同様であると考えられる。
【0021】上述した従来の自動レイアウト方法による
クロックネットのエレクトロマイグレーション耐性向上
の例では、クロックネットの占める面積とチップ面積の
比はおよそ3:12になり、チップ面積が約17%大き
くなってしまい、コストが増えてしまう。
【0022】また、空きグリッド数の減少により配線混
雑度が悪化する。
【0023】
【発明が解決しようとする課題】上述した従来の自動レ
イアウト方法は、クロックツリーのネットのように分岐
が多いネットをエレクトロマイグレーション耐性の向上
が必要な負荷が重いネットと指定し、このネットに含ま
れるビアホールを全て複数個並列接続した多ビアホール
にした場合、ネットが配線されたグリッドに隣接するグ
リッドに他のネットを配線することが実質的に不可能に
なるため、空きグリッド数が減少して配線混雑度が悪化
することにより、所要のチップ面積が大きくなりコスト
が増大するという欠点があった。
【0024】本発明の目的は、チップ面積の増加による
コストの上昇を最低限に抑えつつ、ビアホールのエレク
トロマイグレーション耐性を必要十分なだけ向上する自
動レイアウト方法及びその装置を提供することにある。
【0025】
【課題を解決するための手段】請求項1記載の発明の自
動レイアウト方法は、半導体集積回路(LSI)のセル
ベース自動レイアウトを行う場合に前記LSIのレイア
ウト対象回路を構成する信号線の充放電電流による複数
の配線層間接続用のビアホールのエレクトロマイグレー
ション耐性を向上させるため、前記充放電電流の電流値
が大きい前記ビアホールでは1個のビアホールである単
位ビアホールを複数個並列接続して成る多ビアホールを
配置する自動レイアウト方法において、前記単位ビアホ
ールの電流許容値と前記ビアホールに流れる電流値であ
るビアホール電流値とから前記多ビアホールの配置箇所
と前記単位ビアホールの並列接続数とを決定して前記多
ビアホールを配置することを特徴とするものである。
【0026】また、請求項2記載の発明は、請求項1記
載の自動レイアウト方法において、前記ビアホール電流
値を、前記レイアウト対象回路のネットリストとレイア
ウト対象回路の外部入力端子への入力信号のパターンか
ら論理シミュレーションにより計算したレイアウト対象
のネットの動作率と、前記ネットリストに基づき配置配
線したレイアウトデータから求めた前記ネットの前記ビ
アホールを含む電流経路であるセグメント毎の負荷容量
と、電源電圧とから求めることを特徴とするものであ
る。
【0027】請求項3記載の発明の自動レイアウト方法
は、半導体集積回路(LSI)のセルベース自動レイア
ウトを行う場合に前記LSIのレイアウト対象回路を構
成する信号線の充放電電流による複数の配線層間接続用
のビアホールのエレクトロマイグレーション耐性を向上
させるため、前記充放電電流の電流値が大きい前記ビア
ホールでは1個のビアホールである単位ビアホールを複
数個並列接続して成る多ビアホールを配置する自動レイ
アウト方法において、レイアウトルールとレイアウト情
報とネットリストとに基づき前記レイアウト対象回路を
構成するレイアウト対象のネットである指定ネットのセ
ル配置を行うセル配置ステップと、前記セル配置結果を
検証し、良の場合は次の配線ステップへ進み、否の場合
は再度配置ステップに戻る第1の検証ステップと、前記
セル配置後に前記レイアウトルールと前記レイアウト情
報と前記ネットリストとに基づき前記指定ネットの配線
を行う前記配線ステップと、前記指定ネットの配置配線
後の第1のレイアウトデータに対して前記ビアホール毎
に後述する動作率を用いて前記電流値を検索するととと
もにこの検索結果に基づき配置が必要となった前記多ビ
アホールを構成する前記単位ビアホールの並列配置数を
決めるビアホール配置数決定ステップと、前記多ビアホ
ールの配置に伴い修正が必要な配線を修正する配線修正
ステップと、配線修正結果を検証し良ならば配線配置完
了した第2のレイアウトデータを出力し、否ならば前記
配線修正ステップに戻る第2の検証ステップと、前記ビ
アホールを含むネットの前記動作率を計算する動作率計
算ステップとを有することを特徴とするものである。
【0028】また、請求項4記載の発明は、請求項3記
載の自動レイアウト方法において、前記ビアホール配置
数決定ステップが、前記指定ネットの配置配線後の前記
第1のレイアウトデータに対して前記指定ネットを図形
情報から前記ビアホールを含む電流経路毎のセグメント
に分割するセグメント分割処理ステップと、前記セグメ
ント毎に前記電流経路の負荷容量を算出する負荷容量算
出ステップと、前記指定ネットの動作率と前記負荷容量
とに基づき前記セグメントの各々のビアホールの電流値
を計算するビアホール電流値計算ステップと、許容値を
超えた電流値の前記ビアホールに対してのみ必要数の前
記単位ビアホールから成る前記多ビアホールを配置する
ビアホール配置ステップとを有することを特徴とするも
のである。
【0029】また、請求項5記載の発明は、請求項3記
載の自動レイアウト方法において、前記動作率計算ステ
ップが、前記レイアウト対象回路の外部入力端子への入
力信号のパターンと前記ネットリストを入力し、論理シ
ミュレーションにより前記指定ネットをドライブする論
理ゲートを動作させ、この論理ゲートの動作パタンの1
周期分のレベル変化数を1周期分のクロック数で除算し
た値を動作率として求めることを特徴とするものであ
る。
【0030】また、請求項6記載の発明は、請求項3記
載の自動レイアウト方法において、前記動作率計算ステ
ップが、前記レイアウト対象回路の外部入力端子の動作
率を前記指定ネットに伝播させて静的に動作率を求める
ことを特徴とするものである。
【0031】また、請求項7記載の発明は、請求項3記
載の自動レイアウト方法において、前記動作率計算ステ
ップが、前記レイアウト対象回路のクロックネットの動
作率を入力し、このクロックネットの動作率に一定の係
数を乗算して前記クロックネット以外のネットの動作率
を計算することを特徴とするものである。
【0032】請求項8記載の発明の自動レイアウト装置
は、半導体集積回路(LSI)のセルベース自動レイア
ウトを行う場合に前記LSIのレイアウト対象回路を構
成する信号線の充放電電流による複数の配線層間接続用
のビアホールのエレクトロマイグレーション耐性を向上
させるため、前記充放電電流の電流値が大きい前記ビア
ホールでは1個のビアホールである単位ビアホールを複
数個並列接続して成る多ビアホールを配置する自動レイ
アウト装置において、レイアウトルールとレイアウト情
報とネットリストとに基づき前記レイアウト対象回路を
構成するレイアウト対象のネットである指定ネットのセ
ル配置を行うセル配置手段と、前記セル配置結果を検証
する第1の検証手段と、前記セル配置後に前記レイアウ
トルールと前記レイアウト情報と前記ネットリストとに
基づき前記指定ネットの配線を行う配線手段と、配置配
線後の第1のレイアウトデータに対して前記ビアホール
毎に後述する動作率を用いて前記電流値を検索するとと
ともにこの検索結果に基づき配置が必要となった前記多
ビアホールを構成する前記単位ビアホールの並列配置数
を決めるビアホール配置数決定手段と、前記多ビアホー
ルの配置に伴い修正が必要な配線を修正する配線修正手
段と、配線修正結果を検証し良ならば配線配置完了した
第2のレイアウトデータを出力する第2の検証手段と、
前記ビアホールを含む前記指定ネットの前記動作率を計
算する動作率計算手段とを備えて構成されている。
【0033】また、請求項9記載の発明は、請求項8記
載の自動レイアウト装置において、前記ビアホール配置
数決定手段が、前記指定ネットを前記ビアホールを含む
電流経路毎のセグメントに分割するセグメント分割手段
と、前記セグメント毎に前記電流経路の負荷容量を算出
する負荷容量算出手段と、前記指定ネットの動作率と前
記負荷容量とに基づき前記セグメントの各々のビアホー
ルの電流値を計算するビアホール電流値計算手段と、許
容値を超えた電流値の前記ビアホールに対してのみ必要
数の前記単位ビアホールから成る前記多ビアホールを配
置するビアホール配置手段とを備えて構成されている。
【0034】
【発明の実施の形態】次に、本発明の実施の形態につい
て図面を参照して詳細に説明する。
【0035】本実施の形態の自動レイアウト方法は、半
導体集積回路(LSI)のセルベース自動レイアウトを
行う場合にこのLSIのレイアウト対象回路を構成する
信号線の充放電電流による複数の配線層間接続用のビア
ホールのエレクトロマイグレーション耐性を向上させる
ため、充放電電流の電流値が大きいビアホールでは1個
のビアホールである単位ビアホールを複数個並列接続し
て成る多ビアホールを配置する自動レイアウト方法にお
いて、上記単位ビアホールの電流許容値と上記ビアホー
ルに流れる電流値であるビアホール電流値とから上記多
ビアホールの配置箇所と上記単位ビアホールの並列接続
数とを決定して上記多ビアホールを配置することを特徴
とする。
【0036】これにより、多ビアホールの配置によるチ
ップ面積増加を最小限に抑制することができる。従っ
て、ビアホールのエレクトロマイグレーション耐性を向
上した品質の高いチップの設計ができ、かつチップ面積
増加によるコスト上昇を最小限に抑えることができると
いう効果が得られる。
【0037】次に、本発明の第1の実施の形態の自動レ
イアウト方法を実行する本実施の形態の自動レイアウト
装置をブロックで示す図1を参照すると、この図に示す
本実施の形態の自動レイアウト装置は、ネットリストを
格納したネットリストファイルF11と、レイアウト情
報を格納したレイアウトライブラリF12と、レイアウ
トルールを格納したレイアウトルールファイルF13
と、単位ビアホールの電流許容値情報を格納したビアホ
ール電流許容値ファイルF32と、設計対象回路へのプ
ライマリ入力に対するパターン情報を格納したパターン
ファイルF33と、各ネットの動作率(デューテイサイ
クル)情報を格納した動作率ファイルF34と、レイア
ウト完了ファイルF14と、レイアウトルールとレイア
ウト情報とネットリストとに基づきレイアウト対象回路
を構成するレイアウト対象ネットである指定ネットのセ
ル配置を行うセル配置手段1と、セル配置結果を検証す
る検証手段2と、セル配置後にレイアウトルールとレイ
アウト情報とネットリストとに基づき配線を行う配線手
段3と、配置配線後のレイアウトデータに対してビアホ
ール毎に電流値を検索するととともにこの検索結果に基
づき配置が必要となった多ビアホールを構成する単位ビ
アホールの並列配置数を決めるビアホール配置数決定手
段4と、多ビアホールの配置に伴い修正が必要な配線を
修正する配線修正手段5と、配線修正結果を検証し良な
らば配線配置完了データを出力しレイアウト完了ファイ
ルF14に格納する検証手段6と、レイアウトルールと
パターン情報を入力し論理シミュレーションで指定ネッ
トの動作率を計算し動作率ファイルF44に格納する動
作率計算手段7とを備える。
【0038】ビアホール配置数決定手段4は、指定ネッ
トをビアホール毎のセグメントに分割するセグメント分
割手段401と、セグメント毎にビアホールを含む電流
経路の負荷容量を算出する負荷容量算出手段402と、
指定ネットの動作率と負荷容量とに基づきセグメント毎
のビアホールの電流値を計算するビアホール電流値計算
手段403と、許容値を超えた電流値のビアホールに対
してのみ必要数の単位ビアホールを並列接続した多ビア
ホールを配置するビアホール配置手段404とを備え
る。
【0039】図1及び本実施の形態の自動レイアウト方
法をフローチャートで示す図2を参照して、本実施の形
態の動作について説明すると、まず、セル配置手段1
は、ネットリストファイルF11からのネットリスト、
レイアウトライブラリF12からのレイアウトライブラ
リ及びレイアウトルールファイルF13からのレイアウ
トルールに基づいて指定ネットのセル配置を行う(ステ
ップS1)。
【0040】検証手段2はセル配置を検証して(ステッ
プS2)、検証の結果が良(OK)であれば、配線手段
3に結果のセル配置データを出力する。検証の結果が否
(NG)であれば、再度ステップS1に戻りセル配置を
行う。
【0041】次に、配線手段3は、セル配置データに対
し、ネットリスト、レイアウトライブラリ、及びレイア
ウトルールに基づいて指定ネットの配線を行う(ステッ
プS3)。
【0042】次に、ビアホール配置数決定手段4は、指
定ネットの配置配線済レイアウトデータにおけるビアホ
ール毎に電流値を求め多ビアホールを構成する単位ビア
ホールの並列配置数を決定するビアホールの複数配置数
決定処理を行う(ステップS4)。
【0043】まず、セグメント分割手段401は、指定
ネットの配置配線後のレイアウトデータに対してこの指
定ネットを図形情報からビアホール毎のセグメントに分
割するセグメント分割処理(ステップS41)を行う。
【0044】ここで、セグメントとは、ネットの図形情
報をネットを流れる電流経路を1つのビアホールを含む
電流経路単位に分割したものである。
【0045】本実施の形態の自動レイアウト方法を適用
するレイアウト対象回路の一例をレイアウト図で示す図
3及び図3の回路を電流経路と負荷容量で表した等価回
路である図4を参照してセグメントについて説明する
と、この図に示す対象回路は従来技術の説明で用いたク
ロックツリーであり、この図に示すクロックツリーのネ
ット41は、X方向15、Y方向9、すなわち、15×
9=135個の配線格子(以下、格子)にレイアウトさ
れた第1配線層56,57と、第3配線層55と、第2
配線層54との3つの配線層と、第2配線層54に設け
た分岐点42,43,44,45,46,47,48
と、出力用のセル51の第1配線層である出力端子57
を有するセル51と、それぞれ第1配線層である入力端
子56を有する8個のセル52とを有する。なお、説明
の便宜上、この図では、後述のように、第2層を中心に
表示している。
【0046】第2配線層54は、分岐点42,43,4
5を有する第2配線層54Aと、分岐点46を有する第
2配線層54Bと、分岐点44,47を有する第2配線
層54Cと、分岐点48を有する第2配線層54Dとか
ら成る。
【0047】第3配線層55は、第2配線層54A,5
4B間、54A,54C間及び54B,54D間をそれ
ぞれ接続する。
【0048】これら第1配線層である入力端子56及び
出力端子57と第2配線層54との接続点及び第3配線
層55と第2配線層54との接続点である分岐点42,
43,44,45,46,47,48の各々は15個の
ビアホールB1〜B15の各々により接続されている。
すなわち、出力端子57と第2配線層54との接続点は
ビアホールB1により、分岐点42,43,44,4
5,46,47,48の各々はビアホールB2,B3,
B4,B5,B6,B7,B8の各々により、その他の
7箇所の接続点はビアホールB9〜B15によりそれぞ
れ接続される。この段階では、ビアホールB1〜B15
の各々は、全て1個のビアホール、すなわち、単位ビア
ホールとする。
【0049】ネット41に対してセグメント分割処理
(ステップS41)を行う場合、まずネット41を流れ
る電流経路を図形情報とネットリストとから求める。電
圧が0レベルから電源電圧レベルへと遷移する場合の電
流経路は、ネット41をドライブするセル51の出力端
子57から始まり、ビアホールB1を経由し、分岐点4
2、43、44、45、46、47、48、すなわち、
ビアホールB2〜B8を経由して分岐し、セル52の入
力端子56へと流れていく。
【0050】次に、負荷容量算出手段402は、配線後
の図形情報から後述する各セグメント61,62、・・
・の各々の負荷容量値を抽出し、ネットリストと図形情
報とから電流経路の分岐点を求める。図3に示すレイア
ウトは、図4に示すように、電流iが流れる電流経路と
容量cの負荷(寄生)容量で置き換えた等価回路で表す
ことができる。なお、この図では、冗長を避けるため、
分岐点42に接続する第2配線層54C,54Dの等価
回路を省略してある。
【0051】この例では、各セグメントは、セル51の
出力端子57(ビアホールB1)から分岐点42(ビア
ホールB2)までの電流経路がセグメント61、分岐点
42(ビアホールB2),43(ビアホールB3)間の
電流経路がセグメント62、分岐点43(ビアホールB
3),45(ビアホールB5)間の電流経路がセグメン
ト63、・・・、となる。
【0052】次に、図4のような電流経路と負荷容量の
情報とから分割された各セグメントの負荷容量値を求め
る(ステップS42)。
【0053】この例では、各セグメントの負荷容量値
は、セル51の出力端子57、すなわち、ビアホールB
1から分岐点42(ビアホールB2)までのセグメント
61の負荷容量c1、分岐点42,43間のセグメント
の負荷容量c2、分岐点43,45間の電流経路の負荷
容量c3、・・・となる。
【0054】一方、動作率計算手段7は、レイアウト対
象回路の外部入力端子への入力信号のパターンファイル
F33とネットリストファイルF11とから入力信号の
パターンとネットリストを入力し、論理シミュレーショ
ンにより指定ネットをドライブする論理ゲートを動作さ
せ、この論理ゲートの動作パタンの1周期分のレベル変
化数を1周期分のクロック数で除算した値を動作率とし
て求める(ステップS7)。ここで、動作率は、デュー
テイサイクルのことであり、一定期間(1周期)におけ
る電流が流れる期間の比率で表す。
【0055】例えば、0を電圧の0Vレベル、1を電源
電圧レベル、1周期を4クロックとすると、1周期の間
に0110と変化した論理ゲートの動作率は50%とな
る。
【0056】なお、以下の説明ではこの動作率にクロッ
ク周波数を乗算した動作周波数を動作率として用いる。
【0057】次に、ビアホール電流値計算手段403
は、ステップS7で求めた動作率(動作周波数)と、ス
テップS42で求めた負荷容量値と、電源電圧とから、
ビアホールB1〜B5,・・・Bj(jは整数)・・
・,B15の各々を流れる電流値であるビアホール電流
値ijを以下に示す方法で求める(ステップS43)。
【0058】公知の技術として、次式1のように、周波
数F(Hz)と電圧V(V)と負荷容量値C(F)の積
で電流値Iを簡易的に求める方法が知られている。
【0059】 I=F×V×C ・・・・・・・・・・・・・・・・・・・(1) ネット41の全容量をca、動作率をd、クロック周波
数f、電圧vとすると、ビアホールB1の電流値i1
は、次式で表される。
【0060】 i1=df×v×ca・・・・・・・・・・・・・・・・・(2) 次に、セグメント61の負荷容量をc1とすると、ビア
ホールB2の電流値i2は、次式で表される。
【0061】 i2=i1−df×v×c1・・・・・・・・・・・・・・(3) 分岐点42から分岐点43の方向に流れる電流i21
は、セグメント62以降に接続している全てのセル52
までの全てのセグメントの負荷容量と全てのセル52の
入力端子容量の合計をc62aとすると、電流i21
は、次式で表される。
【0062】 i21=df×v×c62a・・・・・・・・・・・・・・(4) 同様に、分岐点42から分岐点44の方向に流れる電流
i22は、セグメント63以降に接続している全てのセ
ル52までの全てのセグメントの負荷容量と全てのセル
52の入力端子容量の合計をc63aとすると、電流i
22は、次式で表される。
【0063】 i22=df×v×c63a・・・・・・・・・・・・・・(5) セグメント62の負荷容量をc62とすると、ビアホー
ルB3の電流値i3は、次式で表される。
【0064】 i3=i22−df×v×c62・・・・・・・・・・・・(6) 以下同様にして、ビアホールB4〜B15の電流値i4
〜i15を計算する。
【0065】例えば、周波数F=120MHz、電圧v
=5V、動作率d=0.5、ネット41の全容量ca=
100pFとすると、ビアホールB1の電流値i1は、
dF×V×ca=60×106×5×100×10-12
30mAとなる。
【0066】次に、ビアホール配置手段404は、ビア
ホール電流値に対してエレクトロマイグレーション耐性
を満足するよう単位ビアホールを並列接続した多ビアホ
ールを設定し、この多ビアホールの単位ビアホール並列
接続数であるビアホール並列数Nを求める。ビアホール
並列数Nは、ステップS43で求めたビアホール電流値
をビアホール電流許容値ファイルF32から求めたビア
ホール電流許容値で除算した商(小数は四捨五入)に1
を加算した数である。ビアホール並列数N>1の場合は
合計でN個となるように、単位ビアホールを複数配置し
て多ビアホールを生成する(ステップS44)。
【0067】例えば、上記の例で、ビアホール電流許容
値が10mAとすると、ビアホールB1の単位ビアホー
ル並列数N=R(30/10)+1=4となる(Rは小
数の四捨五入による丸めを表す)。
【0068】なお、N=1の場合は、既に1個の(単
位)ビアホールが存在するため、何もしないでよい。
【0069】次に、配線修正手段5は、ステップS44
で生成した多ビアホールの配置により、レイアウトルー
ルファイルF13により定義されているレイアウトルー
ルを違反する可能性があるため、配線を修正する(ステ
ップS5)。
【0070】次に、検証手段6は、検証を行い(ステッ
プS6)、良ならば、配置配線が完了したレイアウトを
出力し、レイアウト完了ファイル14に格納する。否な
らば、ステップS5に戻り、再度配線修正を行う。
【0071】説明の便宜上、図3の出力端子57接続用
のビアホールB1,分岐点42,43,44のビアホー
ルB2,B3,B4、及び第2配線層54Cと第2層配
線層55との接続点53DのビアホールB12の5箇所
のビアホールを流れるビアホール電流値が、ビアホール
電流許容値を超えているものとし、従って多ビアホール
の配置が必要であり、また、そのビアホール並列数N=
4であるものとする。
【0072】本実施の形態の自動レイアウト方法を図3
のクロックツリーに適用した結果のレイアウトの一例を
レイアウト図で示す図5を参照すると、上述の仮定によ
り、ビアホールB1,B2,B3,B4,及びB12の
5箇所のビアホールは、ビアホール電流値がビアホール
電流許容値を超えており、ビアホール並列数Nが4の多
ビアホールMB1,MB2,MB3,MB4及びMB5
を配置する。その他のビアホールB5〜B11,B12
〜B15はビアホール電流値がビアホール電流許容値以
内であるため、多ビアホールとする必要がなく、単位ビ
アホールのままで良い。
【0073】本実施の形態のレイアウト結果における空
きグリッド数の一例を従来と同様にレイアウト図で示す
図6を参照し、従来と同様に第2の配線層54に着目す
ると、この第2の配線層54の空きグリッド数は、全て
のビアホールB1〜B15が単位ビアホールである場合
は101個であったが、この図でX印で示した多ビアホ
ール隣接グリッドは他のネットに使用できないので使用
グリッドとして除外すると、空きグリッド数は75箇所
となる。一方、上述した従来の空きグリッド数は33箇
所であったので、本実施の形態では従来技術に対し空き
グリッド数が大幅に向上している。
【0074】なお、説明の便宜上、図3、図5及び図6
に示すレイアウト図では第2層を中心として表示し、従
ってビアホールB1〜B15や多ビアホールMB1〜M
B4,MB12等、他の第1層又は第3層と重畳してい
る部分は第2層のみを示す。
【0075】しかも、クロックネットのように、分岐が
多く、負荷容量が大きいネットの場合には、分岐により
単位ビアホールを複数並列配置する多ビアホールの数が
減る割合が大きいので、さらに大きな効果が期待でき
る。
【0076】すなわち、従来の技術で説明したように、
配線混雑度の悪化は、空きグリッド数の減少が原因であ
るため、空きグリッド数の減少を抑制することで、配線
混雑度の悪化によるチップ面積増加を抑制することがで
き、チップのコスト上昇を抑圧できるという効果が得ら
れる。
【0077】また、本実施の形態の自動レイアウト方法
では、論理シミュレーションにより指定ネットの動作率
を求めているため、従来のように回路シミュレーション
を用いた手法よりも処理時間が短くなる。
【0078】その理由は、論理シミュレーションでは単
純な論理演算と4則演算で動作率を計算するのに対し、
回路シミュレーションでは論理演算と4則演算よりはる
かに演算時間を要する積分手法を用いて電流値を計算す
るからである。
【0079】次に、本発明の第2の実施の形態を図2と
共通の構成要素には共通の参照文字/数字を付して同様
にフローチャートで示す図7を参照すると、この図に示
す本実施の形態の前述の第1の実施の形態との相違点
は、第1の実施の形態のパターンファイルF34の代わ
りに入力端子動作率ファイルF35を備え、ステップS
7の代わりに入力端子動作率ファイルF35から回路の
入力端子の動作率を指定ネットに伝播させて静的に動作
率を計算するステップS7Aを有することである。
【0080】第1の実施の形態では指定ネットの動作率
を求める方法として論理シミュレーションを用いたが、
本実施の形態では公知の技術であるレイアウト対象回路
の外部入力端子の動作率を指定ネットに伝播させて静的
に動作率を求める手法を用いる。その他の構成、動作に
ついては第1の実施の形態と同様である。
【0081】次に、本発明の第3の実施の形態を図2と
共通の構成要素には共通の参照文字/数字を付して同様
にフローチャートで示す図8を参照すると、この図に示
す本実施の形態の前述の第1の実施の形態との相違点
は、第1の実施の形態のパターンファイルF34の代わ
りにクロックネットの動作率を格納したクロック動作率
ファイルF36を備え、ステップS7の代わりにレイア
ウト対象回路のクロックネットの動作率を入力し、クロ
ックネットの動作率に一定の係数を乗算してクロックネ
ット以外のネットの動作率を計算するステップS7Bを
有することである。
【0082】本実施の形態では、ステップS7Bで、ネ
ットリストとクロック動作率を入力し、クロックネット
の動作率に一定の係数(例えば一律50%)をかけた値
を回路全体の動作率として求める。その他の構成、動作
については第1の実施の形態と同様である。
【0083】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の自動レイ
アウト方法及びその装置は、単位ビアホールの電流許容
値とビアホール電流値とから多ビアホールの配置箇所と
単位ビアホールの並列接続数とを決定して多ビアホール
を配置するため、ビアホールのエレクトロマイグレーシ
ョン耐性を必要十分なだけ向上するとともに、空きグリ
ッド数の減少を大幅に抑制することにより、配線混雑度
の悪化によるチップ面積増加を抑制することができ、チ
ップのコスト上昇を抑圧できるという効果がある。
【0084】また、単純な論理演算と4則演算を用いる
論理シミュレーションにより動作率を求めるため、積分
計算を必要とする回路シミュレーションを用いる従来手
法より処理時間を短縮できるという効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施の形態の自動レイアウト方
法を行う自動レイアウト装置を示すブロック図である。
【図2】本実施の形態の自動レイアウト方法における動
作の一例を示すフローチャートである。
【図3】本実施の形態の自動レイアウト方法を適用する
レイアウト対象回路の一例を示すレイアウト図である。
【図4】図3の回路を電流経路と負荷容量で表した説明
図である。
【図5】図3の回路に本実施の形態の自動レイアウト方
法を適用したレイアウトの一例を示すレイアウト図であ
る。
【図6】本実施の形態の自動レイアウト方法によるレイ
アウトにおける空きグリッド数の一例を示すレイアウト
図である。
【図7】本発明の第2の実施の形態の自動レイアウト方
法を示すフローチャートである。
【図8】本発明の第3の実施の形態の自動レイアウト方
法を示すフローチャートである。
【図9】信号配線のエレクトロマイグレーションを説明
する説明図である。
【図10】ビアホールの断面の一例を示す断面図であ
る。
【図11】従来の自動レイアウト方法の一例を示すフロ
ーチャートである。
【図12】従来の自動レイアウト方法を適用したレイア
ウトの一例を示すレイアウト図である。
【図13】従来の自動レイアウト方法によるレイアウト
における空きグリッド数の一例を示すレイアウト図であ
る。
【符号の説明】
1 セル配置手段 2,6 検証手段 3 配線手段 4 ビアホール配置数決定手段 5 配線修正手段 7 動作率計算手段 401 セグメント分割手段 402 負荷容量算出手段 403 ビアホール電流値計算手段 404 ビアホール配置手段 41 ネット 42,43,44,45,46,47,48 分岐点 51,52 セル 54 第2配線層 55 第3配線層 56 入力端子 57 出力端子 61,62 セグメント B1〜B15 ビアホール MB1〜MB15 多ビアホール F11 ネットリストファイル F12 レイアウトライブラリ F13 レイアウトルールファイル F14 レイアウト完了ファイル F31 ネット情報ファイル F32 ビアホール電流許容値ファイル F33 パターンファイル F34 動作率ファイル

Claims (9)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 半導体集積回路(LSI)のセルベース
    自動レイアウトを行う場合に前記LSIのレイアウト対
    象回路を構成する信号線の充放電電流による複数の配線
    層間接続用のビアホールのエレクトロマイグレーション
    耐性を向上させるため、前記充放電電流の電流値が大き
    い前記ビアホールでは1個のビアホールである単位ビア
    ホールを複数個並列接続して成る多ビアホールを配置す
    る自動レイアウト方法において、 前記単位ビアホールの電流許容値と前記ビアホールに流
    れる電流値であるビアホール電流値とから前記多ビアホ
    ールの配置箇所と前記単位ビアホールの並列接続数とを
    決定して前記多ビアホールを配置することを特徴とする
    自動レイアウト方法。
  2. 【請求項2】 前記ビアホール電流値を、前記レイアウ
    ト対象回路のネットリストとレイアウト対象回路の外部
    入力端子への入力信号のパターンから論理シミュレーシ
    ョンにより計算したレイアウト対象のネットの動作率
    と、前記ネットリストに基づき配置配線したレイアウト
    データから求めた前記ネットの前記ビアホールを含む電
    流経路であるセグメント毎の負荷容量と、電源電圧とか
    ら求めることを特徴とする請求項1記載の自動レイアウ
    ト方法。
  3. 【請求項3】 半導体集積回路(LSI)のセルベース
    自動レイアウトを行う場合に前記LSIのレイアウト対
    象回路を構成する信号線の充放電電流による複数の配線
    層間接続用のビアホールのエレクトロマイグレーション
    耐性を向上させるため、前記充放電電流の電流値が大き
    い前記ビアホールでは1個のビアホールである単位ビア
    ホールを複数個並列接続して成る多ビアホールを配置す
    る自動レイアウト方法において、 レイアウトルールとレイアウト情報とネットリストとに
    基づき前記レイアウト対象回路を構成するレイアウト対
    象のネットである指定ネットのセル配置を行うセル配置
    ステップと、 前記セル配置結果を検証し、良の場合は次の配線ステッ
    プへ進み、否の場合は再度配置ステップに戻る第1の検
    証ステップと、 前記セル配置後に前記レイアウトルールと前記レイアウ
    ト情報と前記ネットリストとに基づき前記指定ネットの
    配線を行う前記配線ステップと、 前記指定ネットの配置配線後の第1のレイアウトデータ
    に対して前記ビアホール毎に後述する動作率を用いて前
    記電流値を検索するととともにこの検索結果に基づき配
    置が必要となった前記多ビアホールを構成する前記単位
    ビアホールの並列配置数を決めるビアホール配置数決定
    ステップと、 前記多ビアホールの配置に伴い修正が必要な配線を修正
    する配線修正ステップと、 配線修正結果を検証し良ならば配線配置完了した第2の
    レイアウトデータを出力し、否ならば前記配線修正ステ
    ップに戻る第2の検証ステップと、 前記ビアホールを含むネットの前記動作率を計算する動
    作率計算ステップとを有することを特徴とする自動レイ
    アウト方法。
  4. 【請求項4】 前記ビアホール配置数決定ステップが、
    前記指定ネットの配置配線後の前記第1のレイアウトデ
    ータに対して前記指定ネットを図形情報から前記ビアホ
    ールを含む電流経路毎のセグメントに分割するセグメン
    ト分割処理ステップと、 前記セグメント毎に前記電流経路の負荷容量を算出する
    負荷容量算出ステップと、 前記指定ネットの動作率と前記負荷容量とに基づき前記
    セグメントの各々のビアホールの電流値を計算するビア
    ホール電流値計算ステップと、 許容値を超えた電流値の前記ビアホールに対してのみ必
    要数の前記単位ビアホールから成る前記多ビアホールを
    配置するビアホール配置ステップとを有することを特徴
    とする請求項3記載の自動レイアウト方法。
  5. 【請求項5】 前記動作率計算ステップが、前記レイア
    ウト対象回路の外部入力端子への入力信号のパターンと
    前記ネットリストを入力し、論理シミュレーションによ
    り前記指定ネットをドライブする論理ゲートを動作さ
    せ、この論理ゲートの動作パタンの1周期分のレベル変
    化数を1周期分のクロック数で除算した値を動作率とし
    て求めることを特徴とする請求項3記載の自動レイアウ
    ト方法。
  6. 【請求項6】 前記動作率計算ステップが、前記レイア
    ウト対象回路の外部入力端子の動作率を前記指定ネット
    に伝播させて静的に動作率を求めることを特徴とする請
    求項3記載の自動レイアウト方法。
  7. 【請求項7】 前記動作率計算ステップが、前記レイア
    ウト対象回路のクロックネットの動作率を入力し、この
    クロックネットの動作率に一定の係数を乗算して前記ク
    ロックネット以外のネットの動作率を計算することを特
    徴とする請求項3記載の自動レイアウト方法。
  8. 【請求項8】 半導体集積回路(LSI)のセルベース
    自動レイアウトを行う場合に前記LSIのレイアウト対
    象回路を構成する信号線の充放電電流による複数の配線
    層間接続用のビアホールのエレクトロマイグレーション
    耐性を向上させるため、前記充放電電流の電流値が大き
    い前記ビアホールでは1個のビアホールである単位ビア
    ホールを複数個並列接続して成る多ビアホールを配置す
    る自動レイアウト装置において、 レイアウトルールとレイアウト情報とネットリストとに
    基づき前記レイアウト対象回路を構成するレイアウト対
    象のネットである指定ネットのセル配置を行うセル配置
    手段と、 前記セル配置結果を検証する第1の検証手段と、 前記セル配置後に前記レイアウトルールと前記レイアウ
    ト情報と前記ネットリストとに基づき前記指定ネットの
    配線を行う配線手段と、 配置配線後の第1のレイアウトデータに対して前記ビア
    ホール毎に後述する動作率を用いて前記電流値を検索す
    るととともにこの検索結果に基づき配置が必要となった
    前記多ビアホールを構成する前記単位ビアホールの並列
    配置数を決めるビアホール配置数決定手段と、 前記多ビアホールの配置に伴い修正が必要な配線を修正
    する配線修正手段と、 配線修正結果を検証し良ならば配線配置完了した第2の
    レイアウトデータを出力する第2の検証手段と、 前記ビアホールを含む前記指定ネットの前記動作率を計
    算する動作率計算手段とを備えることを特徴とする自動
    レイアウト装置。
  9. 【請求項9】 前記ビアホール配置数決定手段が、前記
    指定ネットを前記ビアホールを含む電流経路毎のセグメ
    ントに分割するセグメント分割手段と、 前記セグメント毎に前記電流経路の負荷容量を算出する
    負荷容量算出手段と、 前記指定ネットの動作率と前記負荷容量とに基づき前記
    セグメントの各々のビアホールの電流値を計算するビア
    ホール電流値計算手段と、 許容値を超えた電流値の前記ビアホールに対してのみ必
    要数の前記単位ビアホールから成る前記多ビアホールを
    配置するビアホール配置手段とを備えることを特徴とす
    る請求項8記載の自動レイアウト装置。
JP2000347073A 2000-11-14 2000-11-14 自動レイアウト方法及びその装置 Pending JP2002151592A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000347073A JP2002151592A (ja) 2000-11-14 2000-11-14 自動レイアウト方法及びその装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000347073A JP2002151592A (ja) 2000-11-14 2000-11-14 自動レイアウト方法及びその装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2002151592A true JP2002151592A (ja) 2002-05-24

Family

ID=18820858

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2000347073A Pending JP2002151592A (ja) 2000-11-14 2000-11-14 自動レイアウト方法及びその装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2002151592A (ja)

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005183758A (ja) * 2003-12-22 2005-07-07 Nec Micro Systems Ltd 半導体集積装置のレイアウト設計方法及びコンピュータプログラム
US7272810B2 (en) 2004-01-21 2007-09-18 Kabushiki Kaisha Toshiba Semiconductor integrated circuit having multi-level interconnection, CAD method and CAD tool for designing the semiconductor integrated circuit
US7810051B2 (en) 2006-01-11 2010-10-05 Fujitsu Semiconductor Limited Layout method, CAD apparatus, computer-readable program and computer-readable storage medium
JP2012113510A (ja) * 2010-11-25 2012-06-14 Nec Corp 半導体集積回路の配線検証方法、配線検証装置、及び配線検証プログラム
US8866306B2 (en) 2013-01-02 2014-10-21 International Business Machines Corporation Signal path and method of manufacturing a multiple-patterned semiconductor device
US9021407B2 (en) 2013-01-02 2015-04-28 International Business Machines Corporation Signal path of a multiple-patterned semiconductor device
US9087879B2 (en) 2013-07-02 2015-07-21 International Business Machines Corporation Method of making semiconductor device with distinct multiple-patterned conductive tracks on a same level

Cited By (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005183758A (ja) * 2003-12-22 2005-07-07 Nec Micro Systems Ltd 半導体集積装置のレイアウト設計方法及びコンピュータプログラム
US7272810B2 (en) 2004-01-21 2007-09-18 Kabushiki Kaisha Toshiba Semiconductor integrated circuit having multi-level interconnection, CAD method and CAD tool for designing the semiconductor integrated circuit
US7810051B2 (en) 2006-01-11 2010-10-05 Fujitsu Semiconductor Limited Layout method, CAD apparatus, computer-readable program and computer-readable storage medium
JP2012113510A (ja) * 2010-11-25 2012-06-14 Nec Corp 半導体集積回路の配線検証方法、配線検証装置、及び配線検証プログラム
US8866306B2 (en) 2013-01-02 2014-10-21 International Business Machines Corporation Signal path and method of manufacturing a multiple-patterned semiconductor device
US9021407B2 (en) 2013-01-02 2015-04-28 International Business Machines Corporation Signal path of a multiple-patterned semiconductor device
US9082624B2 (en) 2013-01-02 2015-07-14 International Business Machines Corporation Signal path of a multiple-patterned semiconductor device
US9093451B2 (en) 2013-01-02 2015-07-28 International Business Machines Corporation Signal path and method of manufacturing a multiple-patterned semiconductor device
US9099462B2 (en) 2013-01-02 2015-08-04 International Business Machines Corporation Signal path and method of manufacturing a multiple-patterned semiconductor device
US9087879B2 (en) 2013-07-02 2015-07-21 International Business Machines Corporation Method of making semiconductor device with distinct multiple-patterned conductive tracks on a same level
US9099533B2 (en) 2013-07-02 2015-08-04 International Business Machines Corporation Semiconductor device with distinct multiple-patterned conductive tracks on a same level

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3461443B2 (ja) 半導体装置、半導体装置の設計方法、記録媒体および半導体装置の設計支援装置
US6038383A (en) Method and apparatus for determining signal line interconnect widths to ensure electromigration reliability
Cong et al. An enhanced multilevel routing system
JPS60130843A (ja) 接続路を設定する方法
US20070094630A1 (en) Power grid design in an integrated circuit
JP2005209776A (ja) 自動設計方法、自動設計装置、及び半導体集積回路
JP4368641B2 (ja) 電源パッドの数及び位置見積もり方法、チップサイズ見積もり方法及び設計装置
US11030383B2 (en) Integrated device and method of forming the same
JP2000349161A (ja) 電源配線設計方法、電源配線設計装置、及び、記録媒体
US7500212B2 (en) Method, apparatus and program for automatically routing semiconductor integrated circuit
JP2002151592A (ja) 自動レイアウト方法及びその装置
JP4037944B2 (ja) 配線経路決定方法および遅延推定方法
US6567966B2 (en) Interweaved integrated circuit interconnects
US6202196B1 (en) Method for optimizing routing mesh segment width
US20100262945A1 (en) Repeater driven routing methodology
Chen et al. A novel framework for multilevel full-chip gridless routing
Wang et al. IR-aware power net routing for multi-voltage mixed-signal design
US8336001B2 (en) Method for improving yield rate using redundant wire insertion
JP2970567B2 (ja) 配線電流密度低減システム
JP3554479B2 (ja) 自動配置配線方法及び自動配置配線装置
JP2008310527A (ja) 半導体集積回路のレイアウト設計装置及びレイアウト設計方法
US7823112B1 (en) Method, software and system for ensuring timing between clocked components in a circuit
Wu et al. A topology-based eco routing methodology for mask cost minimization
JP3548398B2 (ja) 概略経路決定方法および概略経路決定方式
CN113095034B (zh) 利用额外电力网格补偿压降的方法与电路系统

Legal Events

Date Code Title Description
A711 Notification of change in applicant

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711

Effective date: 20060307