JP2002145638A - Glass composition and glass forming material - Google Patents

Glass composition and glass forming material

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JP2002145638A JP2000336310A JP2000336310A JP2002145638A JP 2002145638 A JP2002145638 A JP 2002145638A JP 2000336310 A JP2000336310 A JP 2000336310A JP 2000336310 A JP2000336310 A JP 2000336310A JP 2002145638 A JP2002145638 A JP 2002145638A
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glass
glass composition
composition
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softening point
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Masahiro Yokoe
正宏 横江
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Noritake Co Ltd
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    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a glass composition of a softening point burning type for suitably producing a glass molded body requiring high transparency such as a glass dielectric layer formed on a glass substrate of a plasma display panel. SOLUTION: This glass composition contains plural kinds of oxides as the main components. The content of the main oxide components using PbO, B2O3 and SiO2 as essential components is >=95 wt.% of the whole in the composition. The main oxide components consist of 40 to 60% PbO, 25 to 40% B2O3, 1 to 10% SiO2, 0 to 15% BaO and at least one kind of oxide selected from the groups consisting of CaO, MgO and SrO by 0 to 10%.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】 本発明はガラス組成物(ガ
ラス質の組成物をいう。以下同じ。)に関する。特に、
ディスプレイパネル(特にプラズマディスプレイパネ
ル)の製造に好適に使用されるガラス組成物、当該ガラ
ス組成物をガラス形成に関わる主成分として含むペース
トその他のガラス形成材料、及び、当該ガラス組成物か
ら形成されたガラス成形体に関する。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to a glass composition (refers to a vitreous composition; the same applies hereinafter). In particular,
A glass composition suitably used for manufacturing a display panel (particularly a plasma display panel), a paste or other glass-forming material containing the glass composition as a main component related to glass formation, and a glass composition formed from the glass composition It relates to a glass molding.

【0002】[0002]

【従来の技術】 従来、プラズマディスプレイパネル
(PDP)中の誘電体等を製造するのにいわゆる軟化点
焼成タイプのガラス組成物が使用されている。例えば、
かかるタイプのガラス組成物から所定のペーストを調製
し、当該ペーストを所定の形状・サイズとなるように一
般的なPDPの前面ガラス基板(映像が映し出されるP
DPの表面側のガラス基板をいう。)の片面に塗布す
る。次いで、当該ガラス組成物に関するガラス軟化点近
傍の温度条件で焼成処理を行う。このことによって、当
該ガラス基板やその内側に形成されている内部表示電極
(透明電極)等の物性に悪影響を及ぼさないような比較
的低い温度条件下で、かかる軟化点焼成タイプガラス組
成物から成る誘電体の層を当該PDPガラス基板上に安
定的且つ効率よく形成することができる。このことに関
し、例えば特開2000−226229号公報や特開2
000−228152号公報には、上記PDPの前面ガ
ラス基板上の誘電体層を形成するのに好適に用いられる
軟化点焼成タイプガラス組成物が開示されている。
2. Description of the Related Art Conventionally, a glass composition of a so-called softening point firing type has been used for producing a dielectric or the like in a plasma display panel (PDP). For example,
A predetermined paste is prepared from this type of glass composition, and the paste is formed into a general PDP front glass substrate (P on which an image is projected) so as to have a predetermined shape and size.
It refers to the glass substrate on the front side of the DP. ) On one side. Next, a baking treatment is performed under a temperature condition near the glass softening point of the glass composition. As a result, the softening point firing type glass composition is formed under a relatively low temperature condition that does not adversely affect the physical properties of the glass substrate and the internal display electrodes (transparent electrodes) formed inside the glass substrate. A dielectric layer can be stably and efficiently formed on the PDP glass substrate. Regarding this, for example, JP-A-2000-226229 and JP-A-2
Japanese Patent Application Publication No. 000-228152 discloses a softening point firing type glass composition suitably used for forming a dielectric layer on a front glass substrate of the PDP.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】 ところで、上記PD
Pやその他のディスプレイパネルに形成される誘電体層
では、効率よく光を透過させ得るように高い透明性が求
められている。しかしながら、上述した従来の軟化点焼
成タイプガラス組成物は焼成過程において内部気泡を比
較的多量に含有し易く、結果、当該ガラス組成物から形
成されたガラス成形体(上記誘電体層等)の透明性は、
十分なものではなかった。
[Problems to be Solved by the Invention] By the way, the PD
P and other dielectric layers formed on display panels are required to have high transparency so that light can be transmitted efficiently. However, the above-mentioned conventional softening point firing type glass composition tends to contain a relatively large amount of internal bubbles during the firing process, and as a result, the glass molded article (such as the dielectric layer) formed from the glass composition is transparent. Sex is
It was not enough.

【0004】そこで、本発明は、上記PDPにおける誘
電体層の形成その他の用途に用いられる従来の軟化点焼
成タイプガラス組成物に関する問題点を解決すべく創出
されたものであり、その目的とするところは、従来の軟
化点焼成タイプガラス組成物と同様に取り扱えるガラス
組成物であって、それから製造されるガラス成形体(例
えば上記誘電体層)に高い透明性を付与し得るガラス組
成物を提供することである。また、本発明の他の目的
は、当該ガラス組成物を含有するガラス形成材料および
当該ガラス組成物から形成される透明性の高いガラス成
形体を提供することである。
Accordingly, the present invention has been created to solve the problems associated with the conventional softening point firing type glass composition used for forming a dielectric layer in the above PDP and other uses. However, there is provided a glass composition which can be handled in the same manner as a conventional softening point firing type glass composition, and which can impart high transparency to a glass molded article (for example, the dielectric layer) produced therefrom. It is to be. Further, another object of the present invention is to provide a glass forming material containing the glass composition and a highly transparent glass molded body formed from the glass composition.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】 本発明によって提供さ
れるガラス組成物は、複数種の酸化物を主要構成要素と
するガラス組成物であり、PbO、B23及びSiO2
を必須構成要素とする主酸化物成分を有する。而して、
かかる主酸化物成分の含有率が組成物全体の重量の95
%以上であり、その主酸化物成分は以下の重量割合:P
bO40〜60%、B2325〜40%、SiO21〜
10%、BaO0〜15%、CaO、MgO及びSrO
からなる群から選択される少なくとも1種の酸化物0〜
10%の各酸化物から構成される。
Means for Solving the Problems The glass composition provided by the present invention is a glass composition containing a plurality of oxides as main components, and includes PbO, B 2 O 3 and SiO 2.
Is a main oxide component. Thus,
The content of the main oxide component is 95% by weight of the whole composition.
%, And the main oxide component has the following weight ratio: P
bO 40 to 60%, B 2 O 3 25 to 40%, SiO 2 1
10%, BaO0-15%, CaO, MgO and SrO
At least one oxide selected from the group consisting of
Consist of 10% of each oxide.

【0006】かかる構成の本発明のガラス組成物は、当
該ガラス組成物のガラス軟化点近傍の温度で焼成した場
合にも内部気泡の少ないガラス成形体を形成する。従っ
て、本発明のガラス組成物によると、従来の軟化点焼成
タイプガラス組成物と同様の製造プロセス(焼成条件
等)に基づいて、より透明性に優れるPDP誘電体層そ
の他のガラス成形体を製造することができる。なお、本
明細書において「透明性」とは、光が吸収や散乱を受け
ずに透過できる程度を表すガラス物質の性質をいう。ま
た、「透過率(%)」とは、所定の厚みのガラス物質
(成形体)に入射された光のうちの当該厚み方向に透過
した光の割合をいう。
[0006] The glass composition of the present invention having such a constitution forms a glass molded body with few internal bubbles even when fired at a temperature near the glass softening point of the glass composition. Therefore, according to the glass composition of the present invention, a PDP dielectric layer and other glass moldings having more excellent transparency are manufactured based on the same manufacturing process (firing conditions and the like) as the conventional softening point firing type glass composition. can do. In this specification, “transparency” refers to a property of a glass substance that indicates a degree to which light can pass without being absorbed or scattered. Further, “transmittance (%)” refers to a ratio of light transmitted in the thickness direction of light incident on a glass material (molded article) having a predetermined thickness.

【0007】本発明のガラス組成物として好ましいもの
は、B23とBaOを合わせた重量割合が主酸化物成分
全体の30〜50%であることを特徴とする。かかる構
成の本発明のガラス組成物によると、当該ガラス組成物
から形成されるガラス成形体に、より高い透明性を付与
することができる。また、本発明のガラス組成物として
特に好ましいものは、CaO、MgO及びSrOからな
る群から選択される少なくとも1種の酸化物の重量割合
が主酸化物成分全体の2〜10%であることを特徴とす
る。かかる比率でこれら酸化物を含むことにより、ガラ
ス組成物それ自体の耐水性をさらに向上させることがで
きる。
The preferred glass composition of the present invention is characterized in that the total weight ratio of B 2 O 3 and BaO is 30 to 50% of the total main oxide component. According to the glass composition of the present invention having such a configuration, it is possible to impart higher transparency to a glass molded body formed from the glass composition. Particularly preferred as the glass composition of the present invention is that the weight ratio of at least one oxide selected from the group consisting of CaO, MgO and SrO is 2 to 10% of the entire main oxide component. Features. By including these oxides in such a ratio, the water resistance of the glass composition itself can be further improved.

【0008】また、本発明のガラス組成物として特に好
ましいものは、平均粒径が1.5〜3μm(より好まし
くは2〜3μm)の粉末状に形成されていることを特徴
とする。かかる比較的大きめの粒径範囲の粉状ガラス組
成物によると、分散性の良いペーストその他のガラス形
成材料を調製することができるとともに、比較的高密度
で所定の形状(例えば上記PDPの誘電体層)に塗布又
は集積することができる。このとき、本構成のガラス組
成物は、粒径が比較的大きい粉状に形成されている結
果、内部気泡発生の要因ともなり得る粒子間の空隙の単
位容積当りの数量を低減化することができる。このた
め、本構成のガラス組成物によると、透明性が高く且つ
高密度に形成された上記PDPの誘電体層その他のガラ
ス成形体を好適に製造することができる。
A particularly preferred glass composition of the present invention is characterized in that the glass composition is formed into a powder having an average particle size of 1.5 to 3 μm (more preferably, 2 to 3 μm). According to the powdery glass composition having such a relatively large particle size range, a paste and other glass-forming materials having good dispersibility can be prepared, and a relatively high density and a predetermined shape (for example, the dielectric material of the PDP) can be prepared. Layer). At this time, as a result of the glass composition having the present configuration being formed into a powder having a relatively large particle diameter, the number of voids between particles that can be a factor of internal bubble generation can be reduced per unit volume. it can. For this reason, according to the glass composition of this structure, it is possible to suitably manufacture the above-described PDP dielectric layer and other glass molded bodies formed with high transparency and high density.

【0009】また、本発明によって、上記各構成の本発
明のガラス組成物をガラス形成に関わる主成分として含
有するペーストその他のガラス形成材料が提供される。
本発明のガラス形成材料によると、従来の軟化点焼成タ
イプのガラス組成物を含むガラス形成材料と同様の取扱
い・処理を行って、より透明性の高いガラス成形体を形
成することができる。また、本発明によると、上記本発
明のガラス組成物から形成されたガラス成形体(典型的
には焼成体)が提供される。本発明のガラス成形体で
は、高い透明性が実現されている。
According to the present invention, there are provided pastes and other glass-forming materials containing the glass composition of the present invention having the above constitution as a main component involved in glass formation.
According to the glass forming material of the present invention, the same handling and processing as the glass forming material containing the conventional softening point firing type glass composition can be performed to form a more transparent glass molded body. Further, according to the present invention, there is provided a glass molded article (typically, a fired article) formed from the glass composition of the present invention. In the glass molded body of the present invention, high transparency is realized.

【0010】[0010]

【発明の実施の形態】 以下、本発明に関する好適な実
施形態について説明する。なお、以下の百分率表示
(%)は、いずれも重量%である。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, a preferred embodiment according to the present invention will be described. The percentages (%) below are all percentages by weight.

【0011】先ず、本発明のガラス組成物の構成要素に
関して説明する。本発明のガラス組成物を構成する主成
分である上記主酸化物成分は、PbO、B及びS
iO を必須構成要素とする。これらの他、任意的構成
要素としてBaO、CaO、MgO及びSrOのうちの
少なくとも一つの酸化物を含有し得る。従って、本発明
のガラス組成物に含まれる主酸化物成分は、必須構成要
素であるPbO、B及びSiOの3種類の酸化
物のみから構成されたものであってもよい。
First, the components of the glass composition of the present invention
I will explain about it. Main constituents of the glass composition of the present invention
The main oxide component is PbO, B2O3And S
iO 2Is a required component. Other than these, optional configuration
BaO, CaO, MgO and SrO as elements
It may contain at least one oxide. Therefore, the present invention
The main oxide component contained in the glass composition of
Elementary PbO, B2O3And SiO2Three types of oxidation
It may be composed of only objects.

【0012】PbOは、ガラスの軟化点を下げる成分で
ある。かかるPbOが本発明のガラス組成物の主酸化物
成分全体の40%より少なすぎると軟化点が上昇してし
まい、従来の軟化点焼成タイプガラス組成物(特に上記
PDPの誘電体層形成用)と同様に扱えなくなる。さら
には熱膨張率が低下して上記PDPのガラス基板(典型
的にはソーダライムシリカガラス製)との熱膨張差が大
きくなるため、かかるガラス基板上に誘電体を形成する
用途に不適となる。他方、PbOが主酸化物成分全体の
60%より多すぎると、軟化点が過度に下がってしま
い、従来のPDP誘電体層形成用途の軟化点焼成タイプ
ガラス組成物と同様に扱えなくなる。さらに熱膨張率が
上昇して上記PDPガラス基板との熱膨張差が大きくな
るため、当該ガラス基板上に誘電体を形成する用途に不
適となる。従って、PbOの重量割合はガラス組成物の
主酸化物成分全体の40〜60%が適当であり、かかる
重量割合が50〜60%であるものが上記ソーダライム
シリカガラス製のPDPガラス基板上に透明な誘電体層
を形成する用途に特に好ましい。
PbO is a component that lowers the softening point of glass. If the content of PbO is less than 40% of the entire main oxide component of the glass composition of the present invention, the softening point will increase, and the conventional softening point firing type glass composition (especially for forming the dielectric layer of the PDP) Can not be handled in the same way as Further, the coefficient of thermal expansion is reduced and the difference in thermal expansion between the PDP and the glass substrate (typically made of soda lime silica glass) is increased, which makes the PDP unsuitable for use in forming a dielectric on such a glass substrate. . On the other hand, if the content of PbO is more than 60% of the entire main oxide component, the softening point is excessively lowered, so that it cannot be handled similarly to the conventional softening point firing type glass composition for forming a PDP dielectric layer. Further, since the coefficient of thermal expansion increases and the difference in thermal expansion from the PDP glass substrate increases, it becomes unsuitable for forming a dielectric on the glass substrate. Therefore, it is appropriate that the weight ratio of PbO is 40 to 60% of the total main oxide component of the glass composition, and the weight ratio of 50 to 60% is on the soda lime silica glass PDP glass substrate. It is particularly preferable for the purpose of forming a transparent dielectric layer.

【0013】B23は、上記PbOと同様にガラスの軟
化点を下げる成分であり、且つ、本発明のガラス組成物
から形成されるガラス成形体の透過率を向上させ得る酸
化物である。従って、かかるB23の含有比率が大きい
ことが本発明の特徴の一つである。而して、B23が主
酸化物成分全体の25%より少なすぎると従来の軟化点
焼成タイプガラス組成物と比較して透過率の向上を図る
ことが困難となる。他方、B23が主酸化物成分全体の
40%より多すぎると、耐水性が低下して取り扱い上好
ましくない。さらに熱膨張率が低下して上記PDPのガ
ラス基板との熱膨張差が大きくなるため、当該ガラス基
板上に誘電体を形成する用途に不適となる。従って、B
23の重量割合はガラス組成物の主酸化物成分全体の2
5〜40%が適当であり、かかる重量割合が30〜40
%(特に35〜40%)であるものがより高い透明性を
有するガラス成形体を形成するのに好ましい。
B 2 O 3 is a component that lowers the softening point of glass, similarly to the above-mentioned PbO, and is an oxide that can improve the transmittance of a glass molded article formed from the glass composition of the present invention. . Therefore, one of the features of the present invention is that the content ratio of B 2 O 3 is large. If the content of B 2 O 3 is less than 25% of the total main oxide component, it becomes difficult to improve the transmittance as compared with the conventional softening point firing type glass composition. On the other hand, if the content of B 2 O 3 is more than 40% of the entire main oxide component, the water resistance is lowered, which is not preferable in handling. Further, since the coefficient of thermal expansion is reduced and the difference in thermal expansion between the PDP and the glass substrate is increased, the PDP is not suitable for forming a dielectric on the glass substrate. Therefore, B
The weight ratio of 2 O 3 is 2 % of the entire main oxide component of the glass composition.
5 to 40% is appropriate, and the weight ratio is 30 to 40%.
% (Especially 35 to 40%) is preferable for forming a glass molded body having higher transparency.

【0014】SiO2は、ガラス安定性に寄与する酸化
物である。かかるSiO2がガラス組成物の主酸化物成
分全体の1%より少なすぎると、焼成時のガラス状態が
安定しない。他方、SiO2が主酸化物成分全体の10
%より多すぎると軟化点が上昇してしまい、従来のPD
P誘電体層形成用途の軟化点焼成タイプガラス組成物と
同様に扱えなくなる。さらに熱膨張率が上昇して上記P
DPのガラス基板との熱膨張差が大きくなるため、当該
ガラス基板上に誘電体を形成する用途に不適となる。従
って、SiO2の重量割合がガラス組成物成分全体の1
%〜10%であるものが適当であり、かかる重量割合が
1%〜3%であるものが上記PDPガラス基板上に透明
な誘電体層を形成する用途に特に好ましい。
[0014] SiO 2 is an oxide that contributes to glass stability. If the content of SiO 2 is less than 1% of the entire main oxide component of the glass composition, the glass state during firing will not be stable. On the other hand, SiO 2 is 10% of the total main oxide component.
%, The softening point increases, and the conventional PD
It cannot be handled in the same way as the softening point firing type glass composition for forming the P dielectric layer. Further, the coefficient of thermal expansion rises and the above P
Since the difference in thermal expansion between the DP and the glass substrate becomes large, the DP becomes unsuitable for forming a dielectric on the glass substrate. Therefore, the weight ratio of SiO 2 is 1% of the entire glass composition component.
% Is suitable, and such a weight ratio of 1% to 3% is particularly preferable for the purpose of forming a transparent dielectric layer on the PDP glass substrate.

【0015】BaOは、上記B23と同様にガラス成形
体の透過率を向上させ得る酸化物である。従って、かか
るBaOを主酸化物成分全体の15%まで加えることに
よって、透過率の向上をよりいっそう図ることができ
る。他方、BaOが主酸化物成分全体の15%より多す
ぎると、熱膨張率が上昇して上記材質のPDPガラス基
板との熱膨張差が大きくなるため、当該ガラス基板上に
誘電体を形成する用途に不適となる。従って、BaOの
重量割合はガラス組成物の主酸化物成分全体の0〜15
%が適当であり、かかる重量割合が3〜15%(特に5
〜10%)であるものがより高い透明性を有するガラス
成形体を形成するのに好ましい。特に、B23との相乗
効果にも注目すべきであり、B23とBaOを合わせた
重量割合が主酸化物成分全体の30〜50%であるもの
が、高い透明性を有するガラス成形体を形成するのに特
に好ましい。また、ガラス組成物の耐水性とガラス成形
体の透明性とを高いレベルに両立させるとの観点から
は、B23とBaOを合わせた重量割合が主酸化物成分
全体の35〜45%であるものが特に好ましい。
BaO is an oxide capable of improving the transmittance of a glass molded body, similar to B 2 O 3 . Therefore, the transmittance can be further improved by adding BaO to 15% of the entire main oxide component. On the other hand, if the content of BaO is more than 15% of the entire main oxide component, the coefficient of thermal expansion increases, and the difference in thermal expansion from the PDP glass substrate of the above-described material increases, so that a dielectric is formed on the glass substrate. It is not suitable for use. Therefore, the weight ratio of BaO is 0 to 15 of the total main oxide component of the glass composition.
% Is appropriate, and such a weight ratio is 3 to 15% (particularly 5%).
-10%) is preferable for forming a glass molded body having higher transparency. In particular, it should also be noted a synergistic effect between the B 2 O 3, a weight ratio of the combined B 2 O 3 and BaO is 30 to 50% of the entire main oxide component has a high transparency It is particularly preferred for forming glass moldings. In addition, from the viewpoint of achieving a high level of both the water resistance of the glass composition and the transparency of the glass molded body, the weight ratio of B 2 O 3 and BaO is 35 to 45% of the total main oxide component. Is particularly preferred.

【0016】CaO、MgO及びSrOは、いずれも本
発明のガラス組成物の主酸化物成分に含め得る任意的構
成要素である。これら酸化物の一種又は二種以上を適当
量配合することによって、本発明のガラス組成物の耐水
性を向上させることができる。なお、これら酸化物の含
有率は主酸化物成分全体の10%以下が適当である。か
かる含有率が10%よりも多すぎると、焼成後のガラス
成形体の透明性を低下させ得るため好ましくない。上述
のとおり、本発明のガラス組成物では、焼成後のガラス
成形体の透明性を高めるためにB23やBaOを含める
が、特にこれらの含有率(重量割合)が主酸化物成分全
体の30〜50%である場合、上記3種の酸化物の含有
率を主酸化物成分全体の2〜10%とすることが好適で
ある。このことによって、焼成後のガラス成形体に高レ
ベルの透明性を付与することとガラス組成物自体に高レ
ベルの耐水性を与えることとを両立させることができ
る。特にCaOの配合が効果的である。
[0016] CaO, MgO and SrO are all optional components that can be included in the main oxide component of the glass composition of the present invention. By mixing one or more of these oxides in an appropriate amount, the water resistance of the glass composition of the present invention can be improved. The content of these oxides is suitably not more than 10% of the entire main oxide component. If the content is more than 10%, the transparency of the fired glass molded body can be reduced, which is not preferable. As described above, in the glass composition of the present invention, B 2 O 3 and BaO are included in order to increase the transparency of the fired glass molded body. When the content is 30 to 50%, the content of the above three oxides is preferably set to 2 to 10% of the entire main oxide component. Thus, it is possible to achieve both a high level of transparency and a high level of water resistance of the glass composition itself after firing. Particularly, the mixing of CaO is effective.

【0017】本発明のガラス組成物は上記構成の主酸化
物成分のみから成るものでもよく、或いは本発明の目的
を達成し得る限り、微量副成分(ガラス組成物全体の5
%以下)として主酸化物成分に含まれる酸化物以外の酸
化物やハロゲン化物等を配合したものでもよい。例え
ば、ガラス軟化点、透明性、ガラス安定性等を適宜調整
するため、Al23、Bi23、ZnO、La23、T
iO2、SnO2、ZrO 2等を組成物全体の5%以下と
なるように適宜含ませてもよい。
The glass composition of the present invention has a main oxidation composition as described above.
May consist solely of a substance component, or the object of the present invention.
As long as it is possible to achieve a small amount of minor components (5% of the entire glass composition)
% Or less) and acids other than oxides contained in the main oxide component
Or a compound containing a halide or a halide. example
If necessary, adjust the glass softening point, transparency, glass stability, etc.
AlTwoOThree, BiTwoOThree, ZnO, LaTwoOThree, T
iOTwo, SnOTwo, ZrO TwoEtc. to 5% or less of the whole composition
May be included as appropriate.

【0018】本発明のガラス組成物は、上述した従来の
軟化点焼成タイプのガラス組成物と同様のガラス軟化点
(典型的には500℃〜600℃)および平均熱膨張係
数(平均線膨張係数:典型的には60×10-7/℃〜8
0×10-7/℃)を有する。このため、例えば上記PD
Pのガラス基板(典型的にはソーダライムシリカガラス
製)上に透明な誘電体層を形成するような場合には、従
来の軟化点焼成タイプガラス組成物と同様に取り扱いあ
るいは処理することができる。また、本発明のガラス組
成物は、比較的低い温度で焼成し得るとともに、形成さ
れたガラス成形体において高い透明性を実現することが
できる。従って、上記PDPの誘電体層を形成する用途
に限定されず、例えば、種々のシリカガラス製品の表面
の装飾用途にも本発明のガラス組成物を適用することが
できる。
The glass composition of the present invention has the same glass softening point (typically 500 ° C. to 600 ° C.) and average thermal expansion coefficient (average linear expansion coefficient) as the above-mentioned conventional softening point firing type glass composition. : Typically 60 × 10 −7 / ° C. to 8
0 × 10 −7 / ° C.). For this reason, for example, the PD
When a transparent dielectric layer is formed on a P glass substrate (typically made of soda lime silica glass), it can be handled or treated in the same manner as a conventional softening point firing type glass composition. . In addition, the glass composition of the present invention can be fired at a relatively low temperature and can realize high transparency in the formed glass molded body. Therefore, the glass composition of the present invention is not limited to the use for forming the dielectric layer of the PDP, but may be applied to, for example, various silica glass products for surface decoration.

【0019】また、本発明のガラス組成物の製造方法に
関しては特に制限はなく、従来のガラス組成物を製造す
るのと同様の方法が用いられる。典型的には、上記ガラ
ス組成物を構成する各酸化物を得るための化合物及び必
要に応じてそれら以外の添加物を適当量混和して調製し
た原材料を適当な高温(典型的には900℃〜1300
℃)条件下で加熱・溶解させる方法が用いられる。次い
で、この溶融物を冷却処理(好ましくは急冷処理)して
ガラス状態とする。こうして得られたガラス質の組成物
は、種々の方法で所望する形態に成形することができ
る。例えば、ボールミルで粉砕したり、適宜篩いがけす
ることによって、所望する平均粒径(典型的には0.5
μm〜10μm)のガラス組成物が得られる。なお、ミ
ルがけ等によって粉状の本発明のガラス組成物を調製す
る場合、その平均粒径を1〜5μm、好ましくは1.5
〜3μm、より好ましくは2〜3μmとすることが上記
PDPの誘電体層その他のガラス成形体を高透明性且つ
高密度(高強度)に形成するのに好適である。かかる比
較的大きめの粒径範囲の粉状ガラス組成物は、分散性の
良いペーストその他のガラス形成材料を調製するのに好
適である。また、比較的高密度で所定の形状(例えば上
記PDPの誘電体層の形状)に塗布又は集積することが
できる。また、粒子間の空隙の単位容積当りの数量を低
減化することができる。かかる空隙の低減は、ガラス組
成物を焼成した際のガラス質内における内部気泡数の低
減化に寄与する。すなわち、製造するガラス成形体の透
過率向上に寄与する。
The method for producing the glass composition of the present invention is not particularly limited, and the same method as used for producing a conventional glass composition is used. Typically, a raw material prepared by mixing an appropriate amount of a compound for obtaining each oxide constituting the above-mentioned glass composition and, if necessary, other additives is mixed at a suitable high temperature (typically 900 ° C.). ~ 1300
(° C.) is used. Next, the melt is cooled (preferably quenched) to obtain a glassy state. The vitreous composition thus obtained can be formed into a desired form by various methods. For example, by pulverizing with a ball mill or appropriately sieving, the desired average particle size (typically 0.5
μm to 10 μm). When the powdery glass composition of the present invention is prepared by milling or the like, the average particle size is 1 to 5 μm, preferably 1.5 μm.
It is suitable for forming the dielectric layer of the PDP and other glass molded bodies with high transparency and high density (high strength) to 3 to 3 μm, more preferably 2 to 3 μm. Such a powdered glass composition having a relatively large particle size range is suitable for preparing pastes and other glass-forming materials having good dispersibility. Further, it can be applied or integrated at a relatively high density in a predetermined shape (for example, the shape of the dielectric layer of the PDP). Further, the number of voids per particle per unit volume can be reduced. Such a reduction in voids contributes to a reduction in the number of internal bubbles in the glass when the glass composition is fired. That is, it contributes to improving the transmittance of the glass molded body to be manufactured.

【0020】次に、本発明のガラス組成物を含むガラス
形成材料について説明する。かかるガラス形成材料の一
典型例としては、当該ガラス組成物を水、熱可塑性樹
脂、可塑剤、有機溶剤等と混合して成るペーストが挙げ
られる。例えば、上記PDPの前面ガラス基板上に本発
明のガラス組成物から成る誘電体層を形成するためのペ
ーストは、本発明のガラス組成物(典型的には上記平均
粒径の粉末状ガラス組成物)と、有機ビヒクル(熱可塑
性樹脂等)と、溶剤とを混合することによって調製され
る。ここで使用される有機ビヒクルは、従来からこの種
のペースト調製に利用されている種々のタイプのもので
よい。エチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース
等のセルロース系樹脂、ポリブチルメタクリレート、ポ
リメチルメタクリレート、ポリエチルメタクリレート等
のアクリル系樹脂、ポリビニルブチラール等が好適であ
る。また、溶剤は、本発明のガラス組成物及びビヒクル
を分散させ得るものであれば特に限定されない。ブチル
セロソルブアセテート、ブチルカルビトールアセテート
等のエステル系溶剤、ブチルカルビトール等のエーテル
系溶剤等が好ましい。ターピネオール、ブチルカルビト
ールアセテート等が特に好適である。而して、典型的に
は、本発明のガラス組成物の含有率が30〜90%とな
り、上記有機ビヒクル及び溶剤の含有率が10〜70%
となるように、これらを通常の手法に基づいて混練す
る。このことによって、本発明のガラス形成材料たるペ
ーストを調製することができる。
Next, a glass forming material containing the glass composition of the present invention will be described. A typical example of such a glass-forming material is a paste obtained by mixing the glass composition with water, a thermoplastic resin, a plasticizer, an organic solvent, and the like. For example, the paste for forming a dielectric layer comprising the glass composition of the present invention on the front glass substrate of the PDP is a glass composition of the present invention (typically, a powdery glass composition having the above average particle size). ), An organic vehicle (such as a thermoplastic resin), and a solvent. The organic vehicle used here may be of various types conventionally used for the preparation of this type of paste. Cellulose resins such as ethyl cellulose and hydroxyethyl cellulose, acrylic resins such as polybutyl methacrylate, polymethyl methacrylate, and polyethyl methacrylate, and polyvinyl butyral are preferable. The solvent is not particularly limited as long as it can disperse the glass composition and the vehicle of the present invention. Ester solvents such as butyl cellosolve acetate and butyl carbitol acetate, and ether solvents such as butyl carbitol are preferred. Terpineol, butyl carbitol acetate and the like are particularly preferred. Thus, typically, the content of the glass composition of the present invention is 30 to 90%, and the content of the organic vehicle and the solvent is 10 to 70%.
These are kneaded based on a usual method so that Thereby, the paste as the glass forming material of the present invention can be prepared.

【0021】次に、本発明に係るペーストを用いて、上
記PDPのガラス基板上に誘電体層を形成する場合の好
適例について説明する。上述のようにして調製された本
発明のガラス組成物を含むペーストを、ドクターブレー
ド法、ロールコート法、スクリーン印刷法等の手段によ
って上記PDP前面ガラス基板上に塗布する。次いで、
加熱炉中で、軟化点近傍の温度(典型的には500〜6
00℃)で所定時間焼成する。このことによって、PD
Pの前面ガラス基板上に薄く緻密で透明な誘電体層を形
成することができる。
Next, a preferred example in the case of forming a dielectric layer on the glass substrate of the above PDP using the paste according to the present invention will be described. The paste containing the glass composition of the present invention prepared as described above is applied on the PDP front glass substrate by means such as a doctor blade method, a roll coating method, and a screen printing method. Then
In a heating furnace, a temperature near the softening point (typically 500-6
(00 ° C.) for a predetermined time. This allows PD
A thin, dense and transparent dielectric layer can be formed on the front glass substrate of P.

【0022】また、本発明のガラス組成物を含むガラス
形成材料の他の一つの典型例として、当該ガラス組成物
と熱可塑性樹脂等とを混合して成るグリーンシートが挙
げられる。例えば、PDP等のディスプレイパネルの基
板(典型的にはシリカガラス基板)上に本発明のガラス
組成物から成る誘電体を形成するために使用するグリー
ンシートは、本発明のガラス組成物(典型的には上記平
均粒径の粉末状ガラス組成物)と、熱可塑性樹脂とを混
合することによって調製される。ここで使用される熱可
塑性樹脂としては、グリーンシートに強度、柔軟性及び
/又は接着性を付与するために従来利用されている種々
のタイプのものでよい。エチルセルロース、ポリビニル
ブチラール、ポリメチルメタクリレート等が好適であ
る。また、これらの樹脂の他、可塑剤(例えばブチルベ
ンジルフタレート、ジブチルフタレート)等を微量添加
してもよい。而して、典型的には、本発明のガラス組成
物70〜85%と上記熱可塑性樹脂(必要に応じて可塑
剤等を含む)15〜30%とを通常の手法に基づいて混
合し、次いで、トルエンやアルコール系溶剤を加えてス
ラリーを調製する。そして、得られたスラリーをドクタ
ーブレード法等によってPET等から成る樹脂フィルム
上にシート成形する。その後、かかる成形物を乾燥させ
ることによって、含有する溶剤等が除去されたグリーン
シートを得ることができる。
Another typical example of a glass-forming material containing the glass composition of the present invention is a green sheet obtained by mixing the glass composition with a thermoplastic resin or the like. For example, a green sheet used to form a dielectric comprising the glass composition of the present invention on a substrate (typically, a silica glass substrate) of a display panel such as a PDP includes the glass composition of the present invention (typically a silica glass substrate). Is prepared by mixing a powdery glass composition having the above average particle size) with a thermoplastic resin. The thermoplastic resin used here may be of various types conventionally used to impart strength, flexibility and / or adhesiveness to the green sheet. Ethyl cellulose, polyvinyl butyral, polymethyl methacrylate and the like are preferred. In addition to these resins, a small amount of a plasticizer (for example, butylbenzyl phthalate, dibutyl phthalate) or the like may be added. Thus, typically, 70 to 85% of the glass composition of the present invention and 15 to 30% of the above-mentioned thermoplastic resin (including a plasticizer or the like as necessary) are mixed based on an ordinary method, Next, a slurry is prepared by adding toluene or an alcohol-based solvent. Then, the obtained slurry is formed into a sheet on a resin film made of PET or the like by a doctor blade method or the like. Thereafter, by drying the molded product, a green sheet from which the contained solvent and the like have been removed can be obtained.

【0023】次に、本発明に係るグリーンシートを用い
てPDPのガラス基板上に誘電体層を形成する場合の好
適例について説明する。上述のようにして調製されたグ
リーンシート(本発明のガラス組成物を含む)を、典型
的には100〜200℃の温度条件下、100〜500
kPaの熱圧着を施すことによって接着する。次いで、
加熱炉内で、軟化点近傍の温度(典型的には500〜6
00℃)で所定時間焼成する。このことによって、PD
Pのガラス基板上に所望する性状の誘電体層を形成する
ことができる。
Next, a preferred example in which a dielectric layer is formed on a glass substrate of a PDP using the green sheet according to the present invention will be described. The green sheet (including the glass composition of the present invention) prepared as described above is typically subjected to a temperature of 100 to 200 ° C. for 100 to 500 ° C.
Adhesion is performed by applying thermocompression bonding of kPa. Then
In a heating furnace, a temperature near the softening point (typically 500 to 6)
(00 ° C.) for a predetermined time. This allows PD
A dielectric layer of desired properties can be formed on the P glass substrate.

【0024】上述のとおり、本発明のガラス組成物には
透明性向上に寄与するB23やBaOが多量に含まれて
いる結果、当該ガラス組成物(即ちそれを含むガラス形
成材料)を焼成して得た上記誘電体層その他のガラス成
形体において高い透明性を実現することができる。従っ
て、本発明に係るガラス成形体は、従来の軟化点焼成タ
イプガラス組成物(PbO−B23−SiO2系、Pb
O−B23−SiO2−Al23系等)から形成された
ガラス成形体よりも可視光領域(典型的には波長400
〜750nm)における光透過率が向上している。特に
限定しないが、本発明のガラス成形体として好ましいも
のは、当該ガラス成形体(例えばPDPのガラス基板上
に形成された誘電体)の厚みが38μmのときの波長6
50nmにおける分光透過率(直線透過率)が77%以
上であることを特徴とする。かかる分光透過率が80%
以上であるものが本発明のガラス成形体(上記誘電体
等)として特に好ましい。他方、本発明のガラス成形体
として好ましい他のものは、当該ガラス成形体(上記誘
電体等)の厚みが38μmのときの波長450nmにお
ける分光透過率(直線透過率)が75%以上であること
を特徴とする。かかる分光透過率が85%以上であるも
のが本発明のガラス成形体(上記誘電体等)として特に
好ましい。
As described above, the glass composition of the present invention contains a large amount of B 2 O 3 or BaO which contributes to the improvement of transparency. As a result, the glass composition (ie, a glass-forming material containing the same) is produced. High transparency can be realized in the dielectric layer and other glass molded bodies obtained by firing. Therefore, the glass molded body according to the present invention is made of a conventional softening point firing type glass composition (PbO—B 2 O 3 —SiO 2 system, Pb
A visible light region (typically, a wavelength of 400) is more than a glass molded body formed from OB 2 O 3 —SiO 2 —Al 2 O 3 system or the like.
(At 750 nm). Although not particularly limited, a preferable glass molded article of the present invention has a wavelength of 6 μm when the thickness of the glass molded article (for example, a dielectric formed on a glass substrate of PDP) is 38 μm.
The spectral transmittance (linear transmittance) at 50 nm is 77% or more. 80% of such spectral transmittance
Those described above are particularly preferable as the glass molded article of the present invention (such as the above dielectric). On the other hand, another preferable glass molded article of the present invention has a spectral transmittance (linear transmittance) at a wavelength of 450 nm of 75% or more when the thickness of the glass molded article (such as the dielectric) is 38 μm. It is characterized by. Those having a spectral transmittance of 85% or more are particularly preferred as the glass molded article (such as the above dielectric) of the present invention.

【0025】[0025]

【実施例】 本発明を以下の実施例によりさらに詳細に
説明する。本発明はこれらの実施例に限定されるもので
はない。
EXAMPLES The present invention will be described in more detail with reference to the following examples. The present invention is not limited to these examples.

【0026】表1に示す3つの組成の本発明に係るガラ
ス組成物(実施例1〜3)及び比較例として従来の軟化
点焼成タイプのガラス組成物(比較例1)を調製した。
すなわち、表1に示す組成(重量%)の組成物をそれぞ
れ得るために、先ず、PbO、H3BO3、BaCO3
SiO2、CaCO3、炭酸水酸化Mg、SrCO3、A
23等から適宜選択した各原料を所定の酸化物含有量
となるように秤量し、ミキサーで混合した。得られた調
合物を白金るつぼにいれて電気炉で適当な高温条件下
(900〜1200℃が好適範囲:ここでは1200
℃)で溶解した。次いで、炉内より取り出した溶融物を
低温部材に接触させる(ここではステンレス板上に流し
出す)ことによって急冷し、所定形状(ここでは板状)
のガラスとした。その後、得られた板状ガラスをボール
ミル等で粉砕し、平均粒径が約1.5μmの粉状の本発
明のガラス組成物及び従来のガラス組成物をそれぞれ調
製した(実施例1〜3、比較例1)。
Glass compositions according to the present invention having three compositions shown in Table 1 (Examples 1 to 3) and a conventional softening point firing type glass composition (Comparative Example 1) were prepared as comparative examples.
That is, in order to obtain the compositions having the compositions (% by weight) shown in Table 1, first, PbO, H 3 BO 3 , BaCO 3 ,
SiO 2 , CaCO 3 , Mg carbonate hydroxide, SrCO 3 , A
Raw materials appropriately selected from l 2 O 3 and the like were weighed so as to have a predetermined oxide content, and mixed with a mixer. The obtained mixture is placed in a platinum crucible and placed in an electric furnace under appropriate high temperature conditions (900 to 1200 ° C. is a preferable range: 1200 in this case).
° C). Next, the molten material taken out of the furnace is quenched by bringing it into contact with a low-temperature member (here, it is poured onto a stainless steel plate) to have a predetermined shape (here, a plate shape).
Glass. Thereafter, the obtained sheet glass was pulverized by a ball mill or the like to prepare a powdery glass composition of the present invention and a conventional glass composition having an average particle diameter of about 1.5 μm, respectively (Examples 1 to 3, Comparative example 1).

【0027】[0027]

【表1】 [Table 1]

【0028】次に、上記得られた4種類のガラス組成物
(実施例1〜3、比較例1)をそれぞれ使用して、計4
種類のペースト(ガラス形成材料)を調製した。すなわ
ち、上記得られたガラス組成物70重量部と、有機ビヒ
クルとしてエチルセルロースを5%含むターピネオール
溶剤30重量部とを攪拌機(3本ロールミル等が好まし
い)を用いてよく混和(混練)し、目的のペーストを調
製した。以下、上記実施例1、2、3および比較例1の
ガラス組成物から調製されたペーストをそれぞれ実施例
4、5、6および比較例2とする。
Next, using each of the four types of glass compositions obtained above (Examples 1 to 3 and Comparative Example 1), a total of 4
Various pastes (glass forming materials) were prepared. That is, 70 parts by weight of the obtained glass composition and 30 parts by weight of a terpineol solvent containing 5% of ethyl cellulose as an organic vehicle are thoroughly mixed (kneaded) using a stirrer (preferably a three-roll mill or the like). A paste was prepared. Hereinafter, pastes prepared from the glass compositions of Examples 1, 2, 3 and Comparative Example 1 are referred to as Examples 4, 5, 6 and Comparative Example 2, respectively.

【0029】次に、上記のようにして得られたペースト
を厚さ約1mmの透明シリカガラス板上に塗布した。そ
の後、かかるガラス基板を電気炉に入れ、軟化点付近の
温度(ここでは550℃)で焼成し、ガラス膜(ガラス
成形体)を形成した。このようにして、実施例4、5、
6および比較例2に係るペーストから、厚さが10、2
0、30、40μmのガラス膜を上記ガラス板上にそれ
ぞれ形成した。
Next, the paste obtained as described above was applied on a transparent silica glass plate having a thickness of about 1 mm. Thereafter, the glass substrate was placed in an electric furnace and fired at a temperature near the softening point (here, 550 ° C.) to form a glass film (glass molded body). Thus, Examples 4, 5,
6 and the paste according to Comparative Example 2, the thickness was 10, 2
Glass films of 0, 30, and 40 μm were formed on the glass plates, respectively.

【0030】次に、上記得られた各ガラス膜の光の透過
率(直線透過率及び積分球透過率)を測定した。なお、
ここで直線透過率とは、各ガラス成形体の一方の面(表
面)に垂直方向から光を入射させて、そのガラス成形体
の当該一方の面に平行な他方の面(裏面)から垂直方向
に射出される光のみの光量を測定して算出される透過率
のことである。他方、積分球透過率とは、積分球を用い
ることにより、上記光量のみならず、ガラス成形体内及
びその表面で屈折及び/又は散乱して射出方向が変化し
た光も測定して算出される透過率のことである。本実施
例において直線透過率(%)は、(株)日立製作所製の
測定装置(型式:U3000)等を用いて測定した。ま
た、積分球透過率(%)は、(株)島津製作所製の測定
装置(型式:UV−3100)等を用いて測定した。こ
れら測定系によって測定されたデータから算出された波
長550nmにおける透過率(%)を表2に示す。
Next, the light transmittance (linear transmittance and integrating sphere transmittance) of each of the obtained glass films was measured. In addition,
Here, the linear transmittance refers to a direction in which light is incident on one surface (front surface) of each glass molded body from a vertical direction, and the light is transmitted from the other surface (rear surface) of the glass molded body parallel to the one surface. Is a transmittance calculated by measuring the light amount of only the light emitted to the light source. On the other hand, the integrating sphere transmittance is a transmittance calculated by using an integrating sphere to measure not only the above light amount but also light whose refraction and / or scattering on the glass molded body and its surface has changed the emission direction. It is the rate. In this example, the linear transmittance (%) was measured using a measuring device (model: U3000) manufactured by Hitachi, Ltd. In addition, the integrating sphere transmittance (%) was measured using a measuring device (model: UV-3100) manufactured by Shimadzu Corporation. Table 2 shows the transmittance (%) at a wavelength of 550 nm calculated from the data measured by these measurement systems.

【0031】[0031]

【表2】 [Table 2]

【0032】表2に示すように、実施例4〜6のペース
トから製造されたガラス膜は、従来(比較例1)のペー
ストから製造されたガラス膜よりも透過率が高かった。
また、実施例4のペーストから製造されたガラス膜(膜
厚:38μm)について、可視光域の波長(350〜7
50nm)と直線透過率(%)との関係(即ち透過率の
波長依存性)を測定した。その結果を図1に示す。本図
において横軸が波長(nm)であり、縦軸が直線透過率
(%)である。図1から明らかなように、本ガラス膜
(膜厚:38μm)では、例えば波長650nmにおけ
る直線透過率が75%以上(この実施例では77%以
上)であり、波長450nmおよび550nmにおける
直線透過率もそれぞれ75%以上であった。また、それ
以外の波長でも軒並高い透過率、即ち全可視光域で70
%を上回る透過率(この実施例では全可視光域で72%
以上)を示した。以上の結果から、本実施例に係るガラ
ス組成物から形成されるガラス成形体は、従来の軟化点
焼成タイプのガラス組成物から形成されるガラス成形体
よりも高い透明性を有するものであることが裏付けられ
た。また、顕微鏡によるガラス面の観察から、実施例4
〜6のペーストから製造されたガラス膜では、従来(比
較例1)のペーストから製造されたガラス膜よりもガラ
ス内部に残留する気泡の数が少ないこと、ならびに気泡
の大きさも比較的小さいことが確認された。
As shown in Table 2, the glass films manufactured from the pastes of Examples 4 to 6 had higher transmittance than the glass films manufactured from the conventional (Comparative Example 1) paste.
The glass film (thickness: 38 μm) manufactured from the paste of Example 4 has a wavelength in the visible light range (350 to 7).
The relationship between the linear transmittance (%) and the linear transmittance (%) (ie, the wavelength dependence of the transmittance) was measured. The result is shown in FIG. In this figure, the horizontal axis is the wavelength (nm), and the vertical axis is the linear transmittance (%). As is clear from FIG. 1, in the present glass film (thickness: 38 μm), for example, the linear transmittance at a wavelength of 650 nm is 75% or more (77% or more in this embodiment), and the linear transmittance at a wavelength of 450 nm and 550 nm. Were 75% or more, respectively. At other wavelengths, the transmittance is generally high, that is, 70% in the entire visible light range.
% (72% in the entire visible light range in this example)
Above). From the above results, the glass molded article formed from the glass composition according to the present example has higher transparency than the glass molded article formed from the conventional softening point firing type glass composition. Was supported. From observation of the glass surface with a microscope, it was found that Example 4
In the glass films manufactured from the pastes Nos. 6 to 6, the number of bubbles remaining inside the glass and the size of the bubbles are relatively small as compared with the glass film manufactured from the paste of the related art (Comparative Example 1). confirmed.

【0033】次に、使用する粉状ガラス組成物の平均粒
径と、得られたガラス成形体(ここではシリカガラス板
上に形成されたガラス膜)の透過率との関係を明らかに
した。すなわち、上記実施例3の組成のガラス組成物を
調製する際に、ミルがけの程度を異ならせ更には適当な
篩いがけを加えることによって、平均粒径が1.3μ
m、1.5μm、1.8μm、2.0μmおよび2.5
μmのガラス組成物をそれぞれ調製した。
Next, the relationship between the average particle size of the powdery glass composition to be used and the transmittance of the obtained glass molded body (here, a glass film formed on a silica glass plate) was clarified. That is, when preparing the glass composition having the composition of Example 3 above, the average particle size was 1.3 μm by varying the degree of milling and further adding appropriate sieving.
m, 1.5 μm, 1.8 μm, 2.0 μm and 2.5
Each μm glass composition was prepared.

【0034】次に、得られた各ガラス組成物に上記と同
様の重量比且つ成分の有機ビヒクルを添加・混練するこ
とによって、ペーストを調製した。以下、平均粒径が
1.3μm、1.5μm、1.8μm、2.0μmおよ
び2.5μmである各ガラス組成物から調製されたペー
ストをそれぞれ実施例7、8、9、10および11とす
る。次いで、得られた各ペーストを厚さ約1mmの透明
シリカガラス板上に塗布した。その後、かかるガラス基
板を電気炉に入れ、軟化点付近の温度(ここでは550
℃)で焼成し、膜厚が概ね50μmのガラス膜(ガラス
成形体)を形成した。而して、上記得られた各ガラス膜
の波長550nmにおける透過率(直線透過率)を上記
測定系を用いて求めた。結果を表3に示す。
Next, a paste was prepared by adding and kneading an organic vehicle having the same weight ratio and components as described above to each of the obtained glass compositions. Hereinafter, pastes prepared from the respective glass compositions having average particle diameters of 1.3 μm, 1.5 μm, 1.8 μm, 2.0 μm and 2.5 μm were prepared in Examples 7, 8, 9, 10 and 11, respectively. I do. Next, each of the obtained pastes was applied on a transparent silica glass plate having a thickness of about 1 mm. Thereafter, the glass substrate is placed in an electric furnace, and is heated to a temperature near the softening point (here, 550).
C.) to form a glass film (glass molded body) having a thickness of about 50 μm. Thus, the transmittance (linear transmittance) at a wavelength of 550 nm of each of the obtained glass films was determined using the above-described measurement system. Table 3 shows the results.

【0035】[0035]

【表3】 [Table 3]

【0036】表3に示すように、ここで使用したガラス
組成物の平均粒径が大きくなるほど、それから形成され
たガラス成形体(ガラス膜)の上記波長での透過率が高
くなった。詳細なデータは示していないが、平均粒径が
0.5〜1.0μmのガラス組成物を使用した場合と比
較して、かかる透過率の上昇は、使用するガラス組成物
の平均粒径が1.5〜3.0μmの場合に特に顕著であ
った。また、顕微鏡によるガラス面の観察から、粒径の
大きいペーストから製造されたガラス膜ほどガラス内部
に残留する気泡の数が少ないことが確認された。
As shown in Table 3, the larger the average particle size of the glass composition used here, the higher the transmittance at the above wavelength of the glass molded body (glass film) formed therefrom. Although detailed data is not shown, compared with the case where a glass composition having an average particle size of 0.5 to 1.0 μm is used, such an increase in transmittance is caused by an increase in the average particle size of the glass composition used. This was particularly noticeable in the case of 1.5 to 3.0 μm. In addition, observation of the glass surface with a microscope confirmed that the number of bubbles remaining inside the glass was smaller as the glass film was manufactured from a paste having a larger particle size.

【0037】[0037]

【発明の効果】 本発明のガラス組成物及び該ガラス組
成物を含むペーストその他のガラス形成材料によると、
従来の軟化点焼成タイプのガラス組成物を用いる場合と
同様の製造プロセス(焼成条件等)に基づいて、従来の
ものよりも高い透明性を実現したガラス成形体(例えば
上記PDPのガラス基板上の誘電体層)を製造すること
ができる。
According to the glass composition of the present invention and a paste or other glass-forming material containing the glass composition,
Based on the same manufacturing process (firing conditions and the like) as when a conventional softening point firing type glass composition is used, a glass molded body (for example, on the above-mentioned PDP glass substrate) that realizes higher transparency than the conventional glass composition Dielectric layer).

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 一実施例に係るガラス膜についての、可視光
域の波長毎の直線透過率を示すグラフである。
FIG. 1 is a graph showing a linear transmittance of a glass film according to one example for each wavelength in a visible light region.

フロントページの続き Fターム(参考) 4G062 AA08 AA09 AA15 BB04 DA03 DB01 DC04 DC05 DD01 DE01 DF05 DF06 EA01 EA10 EB01 EC01 ED01 ED02 ED03 EE01 EE02 EE03 EF01 EF02 EF03 EG01 EG02 EG03 EG04 FA01 FA10 FB01 FC01 FD01 FE01 FF01 FG01 FH01 FJ01 FK01 FL01 GA01 GA10 GB01 GC01 GD01 GE01 HH01 HH03 HH05 HH07 HH09 HH11 HH13 HH15 HH17 HH20 JJ01 JJ03 JJ05 JJ07 JJ10 KK01 KK03 KK05 KK07 KK10 MM07 MM12 NN26 NN32 PP13 PP14 PP16 5C027 AA05 AA06 5C040 FA01 GD07 KA07 KA09 KB03 KB09 KB19 KB28 MA03 MA23Continued on the front page F-term (reference) 4G062 AA08 AA09 AA15 BB04 DA03 DB01 DC04 DC05 DD01 DE01 DF05 DF06 EA01 EA10 EB01 EC01 ED01 ED02 ED03 EE01 EE02 EE03 EF01 EF02 EF03 EG01 EG01 F01 FG01 F01 EF01 EF01 EF01 FG01 FL01 GA01 GA10 GB01 GC01 GD01 GE01 HH01 HH03 HH05 HH07 HH09 HH11 HH13 HH15 HH17 HH20 JJ01 JJ03 JJ05 JJ07 JJ10 KK01 KK03 KK05 KK07 KK10 MM07 MM12 NN26 NN32 PP13 PP07 PP05 A07 KB07 A07KB07 A07

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 複数種の酸化物を主要構成要素とするガ
ラス組成物であって、PbO、B23及びSiO2を必
須構成要素とする主酸化物成分の含有率が組成物全体の
重量の95%以上であり、その主酸化物成分は以下の重
量割合: PbO 40〜60%; B23 25〜40%; SiO2 1〜10%; BaO 0〜15%; CaO、MgO及びSrOからなる群から選択される少
なくとも1種の酸化物 0〜10%; の各酸化物から構成される、ガラス組成物。
1. A glass composition comprising a plurality of oxides as main constituents, wherein the content of a main oxide component comprising PbO, B 2 O 3 and SiO 2 as essential constituents is the total composition. and the weight of 95% or more, the principal oxide component following weight proportions: PbO 40~60%; B 2 O 3 25~40%; SiO 2 1~10%; BaO 0~15%; CaO, MgO And at least one oxide selected from the group consisting of SrO and 0-10%.
【請求項2】 B23とBaOを合わせた重量割合が主
酸化物成分全体の30〜50%である、請求項1に記載
のガラス組成物。
2. The glass composition according to claim 1, wherein the total weight ratio of B 2 O 3 and BaO is 30 to 50% of the entire main oxide component.
【請求項3】 CaO、MgO及びSrOからなる群か
ら選択される少なくとも1種の酸化物の重量割合が主酸
化物成分全体の2〜10%である、請求項1または2に
記載のガラス組成物。
3. The glass composition according to claim 1, wherein the weight ratio of at least one oxide selected from the group consisting of CaO, MgO and SrO is 2 to 10% of the entire main oxide component. object.
【請求項4】 平均粒径が1.5〜3μmの粉末状に形
成されている請求項1〜3のいずれかに記載のガラス組
成物。
4. The glass composition according to claim 1, which is formed into a powder having an average particle size of 1.5 to 3 μm.
【請求項5】 請求項1〜4のいずれかに記載のガラス
組成物をガラス形成に関わる主成分として含有するガラ
ス形成材料。
5. A glass-forming material comprising the glass composition according to claim 1 as a main component involved in glass formation.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100495488B1 (en) * 2002-12-07 2005-06-16 엘지마이크론 주식회사 Rear plate for plasma display panel

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