KR20040030195A - Dielectric forming paste and glass powder for use in plasma display panel - Google Patents

Dielectric forming paste and glass powder for use in plasma display panel Download PDF

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KR20040030195A
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요시노리 니시가와
토루 신다쿠
히로유키 오시타
가쯔오 하다노
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니폰 덴키 가라스 가부시키가이샤
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Abstract

PURPOSE: A dielectric substance-forming glass powder and a dielectric substance-forming paste for plasma display panel are provided, to improve the transparency and voltage resistance of a dielectric layer by improving the smoothness and uniformity of a coating layer and by reducing the remaining bubbles of large diameter. CONSTITUTION: The glass powder has a size distribution of a maximum diameter (Dmax) of 15 micrometers or less, a 90% diameter (D90) of 7 micrometer or less, a 75% diameter (D75) of 4 micrometers or less, a 50% diameter of (D50) of 3 micrometers, and a 25% diameter (D25) of 2 micrometers, and a specific surface area of 1.0-4.0 m2/g. Preferably the glass powder comprises 50-75 wt% of PbO, 2-30 wt% of B2O3, 2-35 wt% of SiO2, and 0-20 wt% of ZnO + CaO; 30-55 wt% of PbO, 10-40 wt% of B2O3, 1-15 wt% of SiO2, 0-30 wt% of ZnO and 0-30 wt% of BaO + CaO + Bi2O3; 40-70 wt% of ZnO, 20-40 wt% of B2O3, 5-20 wt% of SiO2 and 2-30 wt% of Na2O + K2O + Li2O; or 25-45 wt% of ZnO, 15-40 wt% of Bi2O3, 10-30 wt% of B2O3, 0.5-8 wt% of SiO2 and 8-24 wt% of CaO + SrO + BaO. The dielectric substance forming paste comprises the glass powder; a thermoplastic resin; and a solvent.

Description

플라즈마 디스플레이 패널용 유전체 형성 페이스트 및 유리 분말 {DIELECTRIC FORMING PASTE AND GLASS POWDER FOR USE IN PLASMA DISPLAY PANEL}Dielectric Forming Paste and Glass Powder for Plasma Display Panel {DIELECTRIC FORMING PASTE AND GLASS POWDER FOR USE IN PLASMA DISPLAY PANEL}

본 발명은, 플라즈마 디스플레이 패널의 유전체층의 형성에 사용되는 유전체 형성 재료에 관한 것이다.The present invention relates to a dielectric forming material used for forming a dielectric layer of a plasma display panel.

플라즈마 디스플레이 패널은, 전면 유리판과 이 전면 유리판에 형성된 플라즈마 방전용 주사 전극을 가지고 있다. 주사 전극 상에는, 막두께가 30∼40㎛인 유전체층이 형성되어 있다. 이 유전체층에 대해서는 투명성이 우수하고 높은 내전압성을 갖는 특성이 요구된다. 이러한 특성은, 유전체층의 품위, 즉 표면 평활성 및 층내의 거품 상태에 크게 좌우된다.The plasma display panel has a front glass plate and a scan electrode for plasma discharge formed on the front glass plate. On the scan electrode, a dielectric layer having a film thickness of 30 to 40 mu m is formed. This dielectric layer is required to have excellent transparency and high voltage resistance. This property is highly dependent on the quality of the dielectric layer, that is, the surface smoothness and the foam state in the layer.

이와 같은 유전체층을 형성하는 방법으로서, 종래에는, 유리 분말 등의 분말 성분과 비이클(용제에 열가소성 수지 등을 용해시킨 것)을 혼합 반죽하여 제작한 페이스트 형태의 유전체 형성 재료(이하의 설명에서는, 이것을 「유전체 형성 페이스트」라 부른다)를 스크린 인쇄하여, 소성하는 방법이 주지되어 있다.As a method of forming such a dielectric layer, conventionally, a paste-type dielectric forming material produced by mixing and kneading a powder component such as glass powder and a vehicle (a solvent in which a thermoplastic resin is dissolved in a solvent) (in the following description, The method of screen-printing and baking a "dielectric-forming paste" is known.

그러나, 종래의 유전체 형성 페이스트는, 평활하고 균일한 막두께를 갖는 도포층이 형성되기 어렵고, 거품이 많이 잔존하며, 잔존하는 거품의 직경이 크다는등의 결점이 있기 때문에, 투명성이 높고, 내전압성이 높은 유전체층을 형성하기가 어렵다는 문제를 안고 있다. 이 때문에, 비이클의 점도나 그 혼합 비율을 조정함으로써, 유전체층의 품위를 높이려는 시도가 이루어지고 있는데, 이 방법으로는 재현성의 부족으로 인하여, 상기한 문제들을 근본적으로 해결할 수 없다.However, the conventional dielectric-forming paste has high defects because it is difficult to form a coating layer having a smooth and uniform film thickness, a large amount of bubbles remain, and a large diameter of the remaining bubbles. There is a problem that it is difficult to form this high dielectric layer. For this reason, attempts have been made to improve the quality of the dielectric layer by adjusting the viscosity of the vehicle and the mixing ratio thereof. However, due to the lack of reproducibility, the above problems cannot be solved fundamentally.

본 발명의 목적은, 투명성이 우수하고, 내전압성이 높은 유전체층을 형성할 수 있는 유전체 형성 페이스트를 제공하는데 있다.An object of the present invention is to provide a dielectric-forming paste capable of forming a dielectric layer having excellent transparency and high withstand voltage.

본 발명의 다른 목적은, 플라즈마 디스플레이 패널용 유전체의 형성에 적합한 유전체 형성 페이스트를 제공하는 것이다.Another object of the present invention is to provide a dielectric forming paste suitable for forming a dielectric for plasma display panel.

본 발명의 또 다른 목적은, 상기 유전체 형성 페이스트의 형성에 적합한 유리 분말을 제공하는데 있다.Another object of the present invention is to provide a glass powder suitable for forming the dielectric forming paste.

본 발명자들은 여러 가지로 실험을 거듭한 결과, 유전체 형성 페이스트에 포함되는 유리 분말의 입도 분포를 제어함으로써, 상기 목적을 달성할 수 있음을 발견하고, 본 발명을 제안한 것이다.The inventors have found that the above object can be achieved by controlling the particle size distribution of the glass powder contained in the dielectric-forming paste as a result of various experiments, and have proposed the present invention.

본 발명의 하나의 양태에 따르면, 유리 분말을 포함하는 플라즈마 디스플레이 패널용 유전체 형성 페이스트에 있어서, 상기 유리 분말은, 최대 입자경(DMAX)이 15㎛ 이하, 90% 입자경(D90)이 7㎛ 이하, 75% 입자경(D75)이 4㎛ 이하, 50% 입자경(D50)이 3㎛ 이하, 25% 입자경(D25)이 2㎛ 이하인 입도 분포를 가지며, 상기유리 분말의 비표면적이 1.0∼4.0㎡/g인 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널용 유전체 형성 페이스트를 얻을 수 있다.According to one aspect of the present invention, in the dielectric forming paste for plasma display panel comprising glass powder, the glass powder has a maximum particle size (D MAX ) of 15 μm or less and a 90% particle size (D 90 ) of 7 μm. 75% particle diameter (D 75 ) is 4 μm or less, 50% particle diameter (D 50 ) has a particle size distribution of 3 μm or less, 25% particle diameter (D 25 ) is 2 μm or less, and the specific surface area of the glass powder is 1.0 A dielectric-forming paste for plasma display panel can be obtained, which is -4.0 m 2 / g.

본 발명의 다른 양태에 따르면, 최대 입자경(DMAX)이 15㎛ 이하, 90% 입자경(D90)이 7㎛ 이하, 75% 입자경(D75)이 4㎛ 이하, 50% 입자경(D50)이 3㎛ 이하, 25% 입자경(D25)이 2㎛ 이하인 입도 분포를 가지며, 비표면적이 1.0∼4.0㎡/g인 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널용 유전체 형성 유리 분말을 얻을 수 있다.According to another aspect of the present invention, the maximum particle size (D MAX ) is 15 μm or less, 90% particle size (D 90 ) is 7 μm or less, 75% particle size (D 75 ) is 4 μm or less, 50% particle size (D 50 ) The dielectric-formed glass powder for plasma display panel can be obtained, which has a particle size distribution of 3 µm or less and 25% particle size D 25 of 2 µm or less, and having a specific surface area of 1.0 to 4.0 m 2 / g.

이하, 본 발명의 실시예에 따른 유전체 형성 페이스트에 대해 설명한다.Hereinafter, a dielectric forming paste according to an embodiment of the present invention will be described.

이 유전체 형성 페이스트는, 플라즈마 디스플레이 패널의 전면(前面) 유리판에 형성된 플라즈마 방전용 주사 전극상에 막두께가 30∼40㎛인 유전체층을 형성하는데 적합한 것으로서, 주성분으로 유리 분말을 포함하고 있다. 이 유리 분말은, 최대 입자경(DMAX)이 15㎛ 이하, 90% 입자경(D90)이 7㎛ 이하, 75% 입자경(D75)이 4㎛이하, 50% 입자경(D50)이 3㎛ 이하, 25% 입자경(D25)이 2㎛ 이하이며, 비표면적이 1.0∼4.0㎡/g이다. 유리 분말의 입도 분포를 이와 같이 제한하면, 유리 분말 입자간의 틈새가 대단히 작아지기 때문에, 소성후의 유전체층속에 포함되는 거품이 극단적으로 적어지며, 잔존하는 거품도 매우 작아지므로 광투과율이 76% 이상이 된다. 또한, 유전체층의 표면 평활성이 향상되는데, 이 효과는 일괄 코팅법이라 불리우는 방법으로 페이스트를 도포하는 경우에 특히 현저하게 나타난다.This dielectric forming paste is suitable for forming a dielectric layer having a film thickness of 30 to 40 µm on a plasma discharge scan electrode formed on a front glass plate of a plasma display panel, and contains glass powder as a main component. The glass powder has a maximum particle size (D MAX ) of 15 μm or less, 90% particle size (D 90 ) of 7 μm or less, 75% particle size (D 75 ) of 4 μm or less, and 50% particle size (D 50 ) of 3 μm. Hereinafter, the 25% particle size (D 25 ) is 2 μm or less, and the specific surface area is 1.0 to 4.0 m 2 / g. By limiting the particle size distribution of the glass powder in this way, the gap between the glass powder particles becomes extremely small, so that the bubbles contained in the dielectric layer after firing are extremely small, and the remaining bubbles are also very small, resulting in a light transmittance of 76% or more. . In addition, the surface smoothness of the dielectric layer is improved, and this effect is particularly remarkable when the paste is applied by a method called a batch coating method.

유리 분말의 최대 입자경(DMAX)을 15㎛ 이하, 바람직하게는 8∼10㎛로 선정한다. 최대 입자경(DMAX)이 15㎛를 초과하면 입자간의 간격이 지나치게 커져 많은 거품이 잔존하게 되고, 그 거품의 직경도 커지기 때문에, 충분한 투명성을 확보할 수 없게 된다. 또한, 유전체층의 표면 평활성이 저하되어, 내전압성이 저하된다. 유리 분말의 최대 입자경(DMAX)이 8㎛보다 작아지면 유리 분말의 수율이 낮아져 생산 효율이 악화되므로, 실제의 생산상에 문제가 있다.The maximum particle diameter (D MAX ) of the glass powder is selected to 15 µm or less, preferably 8 to 10 µm. If the maximum particle diameter (D MAX ) exceeds 15 µm, the spacing between the particles becomes too large and many bubbles remain, and the diameter of the bubbles also increases, so that sufficient transparency cannot be secured. In addition, the surface smoothness of the dielectric layer is lowered, and the voltage resistance is lowered. When the maximum particle diameter (D MAX ) of the glass powder is smaller than 8 µm, the yield of the glass powder is lowered and the production efficiency is deteriorated, which causes a problem in actual production.

또한, 유리 분말의 입도 분포는, 90% 입자경(D90)이 7㎛ 이하(바람직하게는, 3≤D90＜7㎛), 75% 입자경(D75)이 4㎛ 이하(바람직하게는, 2≤D75≤4㎛), 50% 입자경(D50)이 3㎛ 이하(바람직하게는, 1≤D50≤3㎛), 25% 입자경(D25)이 2㎛ 이하(바람직하게는, 0.5≤D25≤2㎛)이다. 각각의 입자경보다 큰 경우, 입자간의 간격이 커져, 거품 수가 많아지거나, 거품의 직경이 커져 투명성이 나빠진다. 또한, 유전체층의 표면 평활성이 저하되기 쉬워진다.In addition, the particle size distribution of the glass powder has a 90% particle size (D 90 ) of 7 μm or less (preferably, 3 ≦ D 90 <7 μm), and the 75% particle size (D 75 ) of 4 μm or less (preferably, 2 ≦ D 75 ≦ 4 μm), 50% particle size (D 50 ) is 3 μm or less (preferably 1 ≦ D 50 ≦ 3 μm), 25% particle size (D 25 ) is 2 μm or less (preferably, 0.5 ≦ D 25 ≦ 2 μm). When larger than each particle diameter, the space | interval between particle | grains becomes large, foaming number increases, or the diameter of foam becomes large, and transparency falls. Moreover, the surface smoothness of a dielectric layer will fall easily.

또한, 유리 분말로서는, 질량 백분율로 PbO 50∼75%(바람직하게는 60∼72%), B2O32∼30%(바람직하게는 2∼20%), SiO22∼35%(바람직하게는 5∼30%) 및 ZnO+CaO 0∼20%(바람직하게는 0∼10%)를 함유하는 유리나, 질량 백분율로 PbO 30∼55%(바람직하게는 40∼50%), B2O310∼40%(바람직하게는 15∼35%), SiO21∼15%(바람직하게는 2∼10%), ZnO 0∼30%(바람직하게는 10∼30%) 및 BaO+CaO+Bi2O30∼30%(바람직하게는3∼20%)를 함유하는 유리나, 질량 백분율로 ZnO 40∼70%(바람직하게는 40∼60%), B2O320∼40%(바람직하게는 20∼35%), SiO25∼20%(바람직하게는 5∼15%) 및 Na2O+K2O+Li2O 2∼30%(바람직하게는 2∼20%)를 함유하는 유리나, 질량 백분율로 ZnO 25∼45%(바람직하게는 30∼40%), Bi2O315∼40%(바람직하게는 20∼35%), B2O310∼30%(바람직하게는 15∼25%), SiO20.5∼8%(바람직하게는 1∼6%) 및 CaO+SrO+BaO 8∼24%(바람직하게는 10∼20%)를 함유하는 유리가, 500∼600℃의 소성에서 양호한 유동성을 나타내었고, 또한 투명성 및 절연 특성이 우수함과 동시에 안정적이기 때문에 적합하다.As the glass powder, PbO 50 to 75% (preferably 60 to 72%), B 2 O 3 2 to 30% (preferably 2 to 20%), SiO 2 2 to 35% (preferably in mass percentage) Preferably 5 to 30%) and 0 to 20% (preferably 0 to 10%) of ZnO + CaO, 30 to 55% PbO (preferably 40 to 50%), B 2 O 3 10-40% (preferably 15-35%), SiO 2 1-15% (preferably 2-10%), ZnO 0-30% (preferably 10-30%) and BaO + CaO + Glass containing Bi 2 O 3 0-30% (preferably 3-20%), ZnO 40-70% (preferably 40-60%), B 2 O 3 20-40% (preferably in mass percentage) 20 to 35%), 5 to 20% of SiO 2 (preferably 5 to 15%) and 2 to 30% of Na 2 O + K 2 O + Li 2 O (preferably 2 to 20%). ZnO 25 to 45% (preferably 30 to 40%), Bi 2 O 3 15 to 40% (preferably 20 to 35%), B 2 O 3 10 to 30% (preferably Is 15-25%), SiO 2 0.5-8% (preferably 1-6%) and CaO + SrO + BaO 8-24% (bar Preferably, glass containing 10 to 20%) is suitable because it exhibits good fluidity in firing at 500 to 600 ° C, is excellent in transparency and insulating properties and is stable.

상기 유리 분말은, 플라즈마 디스플레이 패널용 유전체를 형성하기 위한 재료로서 적합하며, 후술하는 바와 같이 페이스트화하여 사용된다. 또한, 페이스트화 뿐만 아니라, 그린 시트화하여 사용하는 것도 가능하다.The said glass powder is suitable as a material for forming the dielectric for plasma display panels, and it is used by pasting as mentioned later. Moreover, it is also possible to use not only paste form but also green sheet form.

상기 유리 분말을 주성분으로 포함하는 유전체 형성 페이스트는, 또한 열가소성 수지, 가소제 및 용제 등을 포함한다. 이 페이스트에서, 유리 분말은, 높은 내전압성을 갖는 유전체층을 형성하기 위한 성분으로, 그 함유량은 30∼90질량%, 특히 50∼70질량%의 범위에 있는 것이 바람직하다.The dielectric-forming paste containing the glass powder as a main component further includes a thermoplastic resin, a plasticizer, a solvent, and the like. In this paste, the glass powder is a component for forming a dielectric layer having high withstand voltage resistance, and the content thereof is preferably in the range of 30 to 90 mass%, particularly 50 to 70 mass%.

열가소성 수지는 유전체층이 건조된 후의 막강도를 높이고 유연성을 부여하는 성분으로, 그 함유량은 0∼30질량%, 특히 0.1∼30질량%, 더 나아가서는 1∼20질량%의 범위에 있는 것이 바람직하다. 열가소성 수지로는 폴리부틸메타아크릴레이트, 폴리비닐부티랄, 폴리메틸메타아크릴레이트, 폴리에틸메타아크릴레이트, 에틸셀룰로오스 등을 사용할 수 있으며, 이들을 단독으로 사용하거나 혹은 혼합하여 사용한다.The thermoplastic resin is a component that increases the film strength and gives flexibility after the dielectric layer is dried, and the content thereof is preferably in the range of 0 to 30% by mass, in particular 0.1 to 30% by mass, and more preferably 1 to 20% by mass. . As the thermoplastic resin, polybutyl methacrylate, polyvinyl butyral, polymethyl methacrylate, polyethyl methacrylate, ethyl cellulose and the like may be used, and these may be used alone or in combination.

가소제는, 유전체층의 건조 속도를 조절함과 동시에, 건조막에 유연성을 부여하는 성분으로, 그 함유량은 0∼50질량%, 특히, 5∼30질량%의 범위에 있는 것이 바람직하다. 가소제로서는 부틸벤질프탈레이트, 디옥틸프탈레이트, 디이소옥틸프탈레이트, 디카프릴프탈레이트, 디부틸프탈레이트 등을 사용할 수 있으며, 이들을 단독으로 사용하거나, 혹은 혼합하여 사용한다.A plasticizer is a component which controls the drying rate of a dielectric layer, and gives flexibility to a dry film, It is preferable that the content is in the range of 0-50 mass%, especially 5-30 mass%. As a plasticizer, butyl benzyl phthalate, dioctyl phthalate, diisooctyl phthalate, dicapryl phthalate, dibutyl phthalate, etc. can be used, These can be used individually or used in mixture.

용제는 재료를 페이스트화하기 위한 성분으로, 그 함유량은 5∼60질량%, 특히 20∼50질량%의 범위에 있는 것이 바람직하다. 용제로서는, 예를 들면 테르피네올, 디에틸렌글리콜모노부틸에테르아세테이트, 2,2,4-트리메틸-1,3-펜타디올모노이소부틸레이트 등을 단독으로 사용하거나 혹은 혼합하여 사용할 수 있다.A solvent is a component for pasting a material, and its content is 5-60 mass%, It is preferable to exist in the range of 20-50 mass% especially. As the solvent, for example, terpineol, diethylene glycol monobutyl ether acetate, 2,2,4-trimethyl-1,3-pentadiol monoisobutylate, or the like can be used alone or in combination.

또한, 상기 성분 이외에도, 예를 들면 페이스트의 유동성, 소결성 혹은 열팽창계수를 조정하기 위해 알루미나, 지르코니아 등의 세라믹 분말을 10질량%까지 첨가할 수 있다.In addition to the above components, ceramic powders such as alumina and zirconia can be added up to 10% by mass in order to adjust the fluidity, sinterability or thermal expansion coefficient of the paste, for example.

다음으로, 상술한 유전체 형성 페이스트를 제작하는 방법에 대해 설명한다.Next, the method of manufacturing the above dielectric forming paste will be described.

우선, 유리 분말, 열가소성 수지, 가소제, 용제 등을 준비한다. 그리고, 유리 분말은, 볼 밀이나 유체 에너지 밀 등을 이용하여 분쇄하고, 기류 분급 등에 의해 분급하여, 소정의 입도 분포를 가지도록 해두는 것이 중요하다. 이어서 각 성분을 소정의 비율로 혼합 반죽하여 페이스트 형태의 재료, 즉 유전체 형성 페이스트를 얻는다.First, a glass powder, a thermoplastic resin, a plasticizer, a solvent, etc. are prepared. And it is important to grind | pulverize a glass powder using a ball mill, a fluid energy mill, etc., classify by air flow classification, etc., and to have predetermined particle size distribution. Subsequently, each component is kneaded at a predetermined ratio to obtain a paste-like material, that is, a dielectric forming paste.

다음으로, 이 유전체 형성 페이스트를 이용하여 유전체층을 형성하는 방법에 대해 설명한다.Next, a method of forming a dielectric layer using this dielectric forming paste will be described.

우선, 플라즈마 디스플레이 패널에 이용되는 전면 유리판을 준비한다. 전면 유리판에는 미리 주사 전극이 형성되어 있다. 다음으로, 유전체 형성 페이스트를 스크린 인쇄법이나 일괄 코팅법 등을 이용하여 전면 유리판에 주사 전극의 위로부터 도포하여, 막두께가 30∼100㎛인 도포층을 형성한다. 이어서, 도포층을 80∼120℃정도의 온도에서 건조시킨다. 그런 다음, 도포층을 500∼600℃에서 5∼15분간 소성함으로써, 유전체층을 형성할 수 있다.First, the front glass plate used for a plasma display panel is prepared. The scanning electrode is previously formed in the front glass plate. Next, the dielectric-forming paste is applied onto the front glass plate from the scan electrode by screen printing, batch coating, or the like to form a coating layer having a film thickness of 30 to 100 µm. Next, the coating layer is dried at a temperature of about 80 to 120 ° C. Then, the dielectric layer can be formed by baking the coating layer at 500 to 600 ° C for 5 to 15 minutes.

이후, 본 발명의 몇 가지 실시예를 비교예와 함께 설명하겠다.Some embodiments of the invention will now be described with comparative examples.

표 1은 본 발명의 실시예(샘플 No. 1∼3) 및 비교예(샘플 No. 4∼7)를 나타내고 있다.Table 1 has shown the Example (sample No. 1-3) and the comparative example (sample No. 4-7) of this invention.

표 1의 각 샘플은, 질량%로 유리 분말 65%, 에틸셀룰로오스 5%, 및 테르피네올 30%를 혼합 반죽하여 페이스트화한 것이다.Each sample of Table 1 mixes and pastes 65% of glass powder, 5% of ethyl cellulose, and 30% of terpineol by mass%.

유리 분말은 다음과 같이 하여 제작하였다. 우선, 질량%로 PbO 65.0%, B2O35.0%, SiO225.0%, CaO 5.0%, 연화점 560℃인 유리가 되도록 원료를 조합하여 균일하게 혼합한 다음, 백금 도가니에 넣고 1300℃에서 2시간 동안 용융하여 성형하였다. 이어서, 이것을 유체 에너지 밀을 이용하여 분쇄하고, 기류 분급하여 최대 입자경(DMAX)이 9.3∼25.3㎛, 90% 입자경(D90)이 3.5∼7.8㎛, 75% 입자경(D75)이 2.6∼6.0㎛, 50% 입자경(D50)이 1.7∼3.7㎛, 25% 입자경(D25)이 1.0∼2.5㎛인 입도 분포를 가지며, 1.0∼3.0㎡/g의 비표면적을 가지는 유리 분말을 얻었다. 또한, 최대 입자경(DMAX), 90% 입자경(D90), 75% 입자경(D75), 50% 입자경(D50) 및 25% 입자경(D25)은, 닛키소 가부시키가이샤(日機裝株式會社)가 제작한 레이저 회절식 입도분포계 「마이크로트랙 SPA」를 이용하여 확인하였다.Glass powder was produced as follows. First, mix the raw materials uniformly so as to obtain a glass with a mass% of PbO 65.0%, B 2 O 3 5.0%, SiO 2 25.0%, CaO 5.0%, and a softening point of 560 ° C. Molded by melting for hours. Subsequently, this was pulverized using a fluid energy mill and classified by air flow to obtain a maximum particle diameter (D MAX ) of 9.3 to 25.3 μm, 90% particle diameter (D 90 ) of 3.5 to 7.8 μm, and 75% particle diameter (D 75 ) of 2.6 to A glass powder having a particle size distribution of 6.0 μm, 50% particle size (D 50 ) of 1.7 to 3.7 μm, and 25% particle size (D 25 ) of 1.0 to 2.5 μm, and having a specific surface area of 1.0 to 3.0 m 2 / g was obtained. In addition, the maximum particle diameter (D MAX ), 90% particle diameter (D 90 ), 75% particle diameter (D 75 ), 50% particle diameter (D 50 ) and 25% particle diameter (D 25 ) are Nikkiso Co., Ltd. It confirmed using the laser diffraction type particle size distribution system "microtrack SPA" which was manufactured by Toshiba Corporation.

다음으로, 1.7㎜의 두께를 갖는 소다라임 유리판의 표면에 각 샘플을 스크린 인쇄하여 건조시킨 후에, 570℃에서 10분간 소성함으로써 막두께가 30㎛인 유리막을 형성하였다. 이어서, 얻어진 유리막의 표면 조도(Ra), 거품의 상태 및 투과율에 대해 평가하였다. 그 결과를 표 1에 나타내었다.Next, after screen-printing and drying each sample on the surface of the soda-lime glass plate which has a thickness of 1.7 mm, it baked at 570 degreeC for 10 minutes, and formed the glass film with a film thickness of 30 micrometers. Next, the surface roughness Ra, the state of foam, and the transmittance | permeability of the obtained glass film were evaluated. The results are shown in Table 1.

표 1로부터 알 수 있듯이, 본 발명의 실시예인 No. 1∼3의 샘플은, 유리막의 표면 조도(Ra)가 0.30∼0.42㎛이고, 10㎛를 초과하는 거품은 없으며, 10㎛ 이하의거품은 0∼3개로 적었으며, 투과율은 81∼83%였다.As can be seen from Table 1, No. which is an embodiment of the present invention. In the samples 1 to 3, the surface roughness (Ra) of the glass film was 0.30 to 0.42 µm, no bubbles exceeded 10 µm, the number of bubbles smaller than 10 µm was 0-3 and the transmittance was 81 to 83%. .

이에 반해, 비교예인 샘플 No. 4∼7은, 표면 조도(Ra)가 0.92∼2.25㎛로 크고, 10㎛를 초과하는 거품이 4개 이상 존재하며, 투과율은 72∼75%로 낮았다.On the other hand, sample No. which is a comparative example. The surface roughness (Ra) of 4-7 was large as 0.92-2.25 micrometers, four or more bubbles exceeding 10 micrometers exist, and the transmittance | permeability was low as 72 to 75%.

이러한 사실은, 본 발명의 실시예인 No. 1∼3의 샘플을 이용하면, 내전압성이 높고, 투명성이 우수한 유전체층을 형성할 수 있음을 나타내는 것이다.This fact is based on No. which is an embodiment of the present invention. The use of the samples 1 to 3 indicates that a dielectric layer having high withstand voltage resistance and excellent transparency can be formed.

또한, 거품의 상태는 실체현미경을 이용하여 소성후의 샘플 1㎠ 범위에 존재하는 10㎛를 초과하는 거품의 수 및 10㎛ 이하인 거품의 수를 카운트하여 평가하였다. 유리막의 표면 조도는, 스타일러스식(觸針式) 표면조도계를 이용하여 측정하였다. 투과율은 분광광도계를 이용하여 측정하였다. 투과율은, 파장 550㎚에 있어서의 확산투과율을 측정하였다. 또한, 투과율 측정에 이용한 샘플은 거품 수의 측정에 사용한 것을 이용하였고, 시마즈세이사쿠쇼(島津製作所)에서 제작한 분광광도계 UV-3100을 이용하여 측정하였으며, 상기 투과율 값은 유리판을 포함한 값으로 나타내었다.In addition, the bubble state was evaluated by counting the number of bubbles exceeding 10 micrometers and the number of bubbles which are 10 micrometers or less using the stereomicroscope in the sample 1 cm <2> range after baking. The surface roughness of the glass film was measured using a stylus type surface roughness meter. The transmittance was measured using a spectrophotometer. The transmittance | permeability measured the diffusion transmittance in wavelength 550nm. In addition, the sample used for measuring the transmittance was used to measure the number of bubbles, measured using a spectrophotometer UV-3100 manufactured by Shimadzu Seisakusho, the transmittance value is represented by a value including a glass plate It was.

표 2는, 본 발명의 다른 실시예를 나타내고 있다.Table 2 shows another Example of this invention.

표 2의 각 샘플은, 표 1의 샘플과 동일한 방법을 이용하여 조제한 다음, 동일한 방법으로 평가하였다. 또한, 소성은, 표 2에 도시한 조건으로 수행하였다.Each sample of Table 2 was prepared using the same method as the sample of Table 1, and then evaluated by the same method. In addition, baking was performed on the conditions shown in Table 2.

그 결과, No. 8∼13의 샘플은, 유리막의 표면 조도(Ra)가 0.10∼0.35㎛이며, 10㎛를 초과하는 거품은 없고, 10㎛ 이하인 거품의 수는 1∼3개로 적으며, 투과율은 79∼86%였다.As a result, No. In the samples of 8 to 13, the surface roughness (Ra) of the glass film is 0.10 to 0.35 µm, no bubbles exceeding 10 µm, the number of bubbles having 10 µm or less is 1 to 3, and the transmittance is 79 to 86%. It was.

이상과 같이, 본 발명의 실시예에 따른 유전체 형성 페이스트로 형성한 도포층은, 소성하면 평활하고 균일한 막 두께를 가지며, 잔존하는 거품이 거의 없는 유리막이 된다. 따라서, 투명성이 높고, 전압에 대한 내성이 높은 유전체층을 형성할 수 있다.As described above, the coating layer formed of the dielectric forming paste according to the embodiment of the present invention, when fired, becomes a glass film having a smooth and uniform film thickness and almost no bubbles remaining. Therefore, a dielectric layer having high transparency and high resistance to voltage can be formed.

본 발명에 의한 유전체 형성 페이스트는, 플라즈마 디스플레이 패널의 전면 유리판에 형성된 플라즈마 방전용 주사 전극상에 유전체층을 형성하는데 적합하다.The dielectric forming paste according to the present invention is suitable for forming a dielectric layer on a plasma discharge scan electrode formed on a front glass plate of a plasma display panel.

Claims (6)

유리 분말을 포함하는 플라즈마 디스플레이 패널용 유전체 형성 페이스트에 있어서, 상기 유리 분말은, 최대 입자경(DMAX)이 15㎛ 이하, 90% 입자경(D90)이 7㎛이하, 75% 입자경(D75)이 4㎛ 이하, 50% 입자경(D50)이 3㎛ 이하, 25% 입자경(D25)이 2㎛ 이하인 입도 분포를 가지며, 상기 유리 분말의 비표면적이 1.0∼4.0㎡/g인 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널용 유전체 형성 페이스트.In the dielectric forming paste for plasma display panel containing glass powder, the glass powder has a maximum particle size (D MAX ) of 15 μm or less, 90% particle size (D 90 ) of 7 μm or less, and 75% particle size (D 75 ). It has a particle size distribution of 4 μm or less, 50% particle size (D 50 ) of 3 μm or less, 25% particle size (D 25 ) of 2 μm or less, and the specific surface area of the glass powder is 1.0 to 4.0 m 2 / g. A dielectric-forming paste for plasma display panels. 제 1항에 있어서, 유리 분말이 질량 백분율로 PbO 50∼75%, B2O32∼30%, SiO22∼35% 및 ZnO+CaO 0∼20%를 함유하는 유리로 이루어진 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널용 유전체 형성 페이스트.2. A glass powder according to claim 1, characterized in that the glass powder consists of a glass containing 50 to 75% PbO, 2 to 30% B 2 O 3 , 2 to 35% SiO 2 and 0 to 20% ZnO + CaO in mass percentage. A dielectric-forming paste for plasma display panels. 제 1항에 있어서, 유리 분말이 질량 백분율로 PbO 30∼55%, B2O310∼40%, SiO21∼15%, ZnO 0∼30% 및 BaO+CaO+Bi2O30∼30%를 함유하는 유리로 이루어진 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널용 유전체 형성 페이스트.The glass powder according to claim 1, wherein the glass powder is 30 to 55% PbO, 10 to 40% B 2 O 3 , SiO 2 1 to 15%, ZnO 0 to 30% and BaO + CaO + Bi 2 O 3 0 to A dielectric-forming paste for a plasma display panel, comprising 30% glass. 제 1항에 있어서, 유리 분말이 질량 백분율로 ZnO 40∼70%, B2O320∼40%, SiO25∼20% 및 Na2O+K2O+Li2O 2∼30%를 함유하는 유리로 이루어진 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널용 유전체 형성 페이스트.The method according to claim 1, wherein the glass powder comprises ZnO 40-70%, B 2 O 3 20-40%, SiO 2 5-20% and Na 2 O + K 2 O + Li 2 O 2-30% by mass percentage. A dielectric-forming paste for a plasma display panel, comprising a glass containing. 제 1항에 있어서, 유리 분말이 질량 백분율로 ZnO 25∼45%, Bi2O315∼40%, B2O310∼30%, SiO20.5∼8% 및 CaO+SrO+BaO 8∼24%를 함유하는 유리로 이루어진 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널용 유전체 형성 페이스트.The glass powder according to claim 1, wherein the glass powder is 25 to 45% ZnO, 15 to 40% Bi 2 O 3 , 10 to 30% B 2 O 3 , 0.5 to 8% SiO 2 and 8 to CaO + SrO + BaO 8. A dielectric-forming paste for plasma display panels, characterized by being made of glass containing 24%. 최대 입자경(DMAX)이 15㎛ 이하, 90% 입자경(D90)이 7㎛ 이하, 75% 입자경(D75)이 4㎛ 이하, 50% 입자경(D50)이 3㎛ 이하, 25% 입자경(D25)이 2㎛ 이하인 입도 분포를 가지며, 비표면적이 1.0∼4.0㎡/g인 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널용 유전체 형성 유리 분말.Maximum particle size (D MAX ) is 15 μm or less, 90% particle size (D 90 ) is 7 μm or less, 75% particle size (D 75 ) is 4 μm or less, 50% particle size (D 50 ) is 3 μm or less, 25% particle size (D 25 ) has a particle size distribution of 2 μm or less, and a specific surface area of 1.0 to 4.0 m 2 / g, wherein the dielectric-forming glass powder for a plasma display panel.
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