JP2002141235A - Electronic component and its manufacturing method - Google Patents

Electronic component and its manufacturing method

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JP2002141235A
JP2002141235A JP2000331719A JP2000331719A JP2002141235A JP 2002141235 A JP2002141235 A JP 2002141235A JP 2000331719 A JP2000331719 A JP 2000331719A JP 2000331719 A JP2000331719 A JP 2000331719A JP 2002141235 A JP2002141235 A JP 2002141235A
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JP
Japan
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resin layer
insulating resin
electronic component
forming
internal conductor
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JP2000331719A
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Inventor
Yukio Ono
幸夫 大野
Mitsuhiro Takayama
光広 高山
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Taiyo Yuden Co Ltd
Original Assignee
Taiyo Yuden Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To readily provide an electronic component that is used in a frequency band of an nH choke coil and is available for a large current, and that is small in size and has the required characteristics. SOLUTION: This method for manufacturing an electronic component includes a step of forming a first insulation resin layer 2 on a support substrate 1, a step of uniformly forming a metal film 3 over the first insulation resin layer 2, a step of forming a photoresist film 4 by which a groove is patterned, on the metal film 3, a step of forming an inner conductor 5 on the metal film 3 in the groove of the photoresist film 4, a step of removing the photoresist film 4, a step of removing the exposed metal film 3 by etching, a step to integrally forming a second insulation resin layer 6 on the insulation resin layer 2, while covering the inner conductor 5, and a step of removing the support substrate 1 from the first insulation resin layer 2.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、電子部品とその製
造方法に関し、特に導体の抵抗が低く、しかも小型で高
密度の導体を形成した電子部品と、そのような導体を容
易に形成することができる電子部品の製造方法に関す
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an electronic component and a method of manufacturing the same, and more particularly, to an electronic component having a small conductor and a high-density conductor having low resistance, and to easily form such a conductor. And a method for manufacturing an electronic component.

【0002】[0002]

【従来の技術】高周波帯域において大電流を通電する電
子部品として、nHチョークコイルがある。このnHチ
ョークコイルは、高周波帯域において使用され、大電流
が通電されることから、誘電損失が小さく、且つ耐電流
の高いことが要請される。電子機器の小型化に伴い、こ
のような電子部品にも小型化の要請が高まっている。従
来において、このような電子部品は、巻線技術により作
られていたが、巻線技術による製造では、長さ1mm、
直径0.5mm以下の電子部品を得ることが困難であ
る。
2. Description of the Related Art There is an nH choke coil as an electronic component for supplying a large current in a high frequency band. Since the nH choke coil is used in a high frequency band and is supplied with a large current, it is required to have a small dielectric loss and a high withstand current. With the miniaturization of electronic devices, there is an increasing demand for miniaturization of such electronic components. Conventionally, such an electronic component is manufactured by a winding technique.
It is difficult to obtain an electronic component having a diameter of 0.5 mm or less.

【0003】また、巻線技術を用いた製造手段の他に、
スクリーン印刷等によりコイルを構成する導体を厚膜導
体パターンとして形成する手段もある。しかし、厚膜印
刷技術により形成される導体パターンは、細密な導体パ
ターンとして形成することができない。また、基板を使
用するため、基板の容積だけ大型になり、小型化するに
は不利である。従って、やはりコイル部品の小型化に限
界がある。
[0003] In addition to manufacturing means using winding technology,
There is also a means for forming the conductor constituting the coil as a thick film conductor pattern by screen printing or the like. However, a conductor pattern formed by the thick film printing technique cannot be formed as a fine conductor pattern. In addition, since a substrate is used, the size of the substrate is increased by the volume of the substrate, which is disadvantageous for miniaturization. Therefore, there is still a limit in reducing the size of the coil component.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとしている課題】前記したように、
従来のような巻線技術を使用した電子部品の製造方法や
厚膜印刷技術を使用した電子部品の製造方法では、nH
チョークコイルのような周波帯域において使用され、大
電流が通電される電子部品について、小形で必要な特性
を備えたものを製造することが困難である。
As described above, as described above,
In a conventional method for manufacturing an electronic component using a winding technology or a method for manufacturing an electronic component using a thick film printing technology, nH
It is difficult to manufacture electronic components that are used in a frequency band such as a choke coil and are supplied with a large current and that are small and have required characteristics.

【0005】本発明は、このような従来における電子部
品とその製造方法における課題に鑑み、nHチョークコ
イルのような周波帯域において使用され、大電流が通電
される電子部品であって、小形で必要な特性を備えたも
のを容易に得ることを目的とする。
The present invention has been made in view of the above-mentioned problems in conventional electronic components and methods of manufacturing the same, and is an electronic component that is used in a frequency band such as an nH choke coil and through which a large current flows, and is small in size. It is an object of the present invention to easily obtain a product having various characteristics.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】前記の目的を達成するた
め、本発明では、内部導体5を樹脂に埋設した形態の固
体の小形電子部品を提供するものであり、そのため、内
部導体5を2層の絶縁樹脂層2、6の間に挟み、これら
絶縁樹脂層2、6を一体化することで、樹脂絶縁体の中
に内部導体5を埋め込むようにしたものである。さら
に、このような電子部品を製造するため、支持基板1を
使用し、その上に第一の絶縁樹脂層2、内部導体5及び
第二の絶縁樹脂層6を順次ビルトアップして形成し、最
後に支持基板1を除去してしまうものである。
In order to achieve the above-mentioned object, the present invention provides a solid small electronic component in which the internal conductor 5 is embedded in a resin. The internal conductors 5 are embedded in a resin insulator by sandwiching the insulating resin layers 2 and 6 between the insulating resin layers 2 and 6. Further, in order to manufacture such an electronic component, a support substrate 1 is used, and a first insulating resin layer 2, an internal conductor 5, and a second insulating resin layer 6 are sequentially built up thereon, and formed. Finally, the support substrate 1 is removed.

【0007】すなわち、本発明による電子部品は、内部
導体5が一体となった第一の絶縁樹脂層2と第二の絶縁
樹脂層6とで挟まれ、それらの中に埋め込まれているこ
とを特徴とするものである。第一と第二の絶縁樹脂層
2、6に埋め込まれた内部導体5は、例えばコイル状で
ある。
That is, the electronic component according to the present invention is characterized in that the internal conductor 5 is sandwiched between the integrated first and second insulating resin layers 2 and 6 and embedded therein. It is a feature. The internal conductor 5 embedded in the first and second insulating resin layers 2 and 6 has, for example, a coil shape.

【0008】このような電子部品では、内部導体5が一
体となった第一の絶縁樹脂層2と第二の絶縁樹脂層6と
で挟まれ、それらの中に埋め込まれており、内部導体5
の固定のために基板を使用していないので、小形の電子
部品が得られる。さらに、誘電率が比較的低い絶縁樹脂
層2、6に埋め込まれていることにより、高周波帯域に
おいて大電流を通電しても、誘電損失が小さく、所要の
特性を得ることができる。
In such an electronic component, the internal conductor 5 is sandwiched between the integrated first and second insulating resin layers 2 and 6 and embedded therein, and
Since no substrate is used for fixing the electronic component, a small electronic component can be obtained. Furthermore, since it is embedded in the insulating resin layers 2 and 6 having a relatively low dielectric constant, even if a large current flows in a high frequency band, the dielectric loss is small, and required characteristics can be obtained.

【0009】このような電子部品を製造する方法は、支
持基板1の上に第一の絶縁樹脂層2を形成する工程と、
この絶縁樹脂層2の上に内部導体5を形成する工程と、
この内部導体5を覆うように前記絶縁樹脂層2の上に一
体に第二の絶縁樹脂層6を形成する工程と、前記第一の
絶縁樹脂層2から支持基板1を除去する工程とを有す
る。
A method for manufacturing such an electronic component includes a step of forming a first insulating resin layer 2 on a support substrate 1,
Forming an internal conductor 5 on the insulating resin layer 2;
A step of integrally forming a second insulating resin layer 6 on the insulating resin layer 2 so as to cover the internal conductor 5; and a step of removing the support substrate 1 from the first insulating resin layer 2. .

【0010】支持基板1を使用し、その上で第一の絶縁
樹脂層2、内部導体5及び第二の絶縁樹脂層6を順次ビ
ルドアップして形成することにより、それらを容易に、
且つ精度良く形成できる。しかし、最終的に支持基板1
が除去されるため、小形化の障害とはならない。
The first insulating resin layer 2, the internal conductor 5, and the second insulating resin layer 6 are formed on the supporting substrate 1 in order, so that they can be easily formed.
In addition, it can be formed with high accuracy. However, finally, the support substrate 1
Is not obstructed by miniaturization.

【0011】この電子部品の製造方法において、内部導
体5は、セミアディティブ法により形成することが好ま
しい。すなわち、内部導体5を形成する工程が、第一の
絶縁樹脂層2の上に一様に金属膜3を形成する工程と、
この金属膜3の上にホトレジスト膜4を塗布し、さらに
このホトレジスト膜4を所望のパターンで感光させ、感
光部分を除去することにより、ホトレジスト膜4に溝を
パターニングする工程と、このホトレジスト膜4の溝部
分の金属膜3の上に内部導体4を形成する工程と、ホト
レジスト膜4を除去する工程と、露出した金属膜3をエ
ッチングにより除去する工程とを有する
In this method of manufacturing an electronic component, the inner conductor 5 is preferably formed by a semi-additive method. That is, the step of forming the internal conductor 5 includes a step of uniformly forming the metal film 3 on the first insulating resin layer 2,
A step of applying a photoresist film 4 on the metal film 3, exposing the photoresist film 4 in a desired pattern, and removing the exposed portions to pattern grooves in the photoresist film 4; Forming the internal conductor 4 on the metal film 3 in the groove portion, removing the photoresist film 4, and removing the exposed metal film 3 by etching.

【0012】このような方法で内部導体5を形成するこ
とにより、幅に対して高さが比較的高い内部導体5を形
成することが可能である。さらには、幅よりも高さが高
い内部導体5を形成することも可能である。これによ
り、平面投影面積が小さな内部導体5であっても、或る
程度の断面積を確保できるため、大電流を流す必要があ
る電子部品に好適である。
By forming the inner conductor 5 by such a method, it is possible to form the inner conductor 5 whose height is relatively high with respect to the width. Further, it is possible to form the inner conductor 5 having a height higher than the width. Thereby, even if the inner conductor 5 has a small planar projected area, a certain cross-sectional area can be secured, and thus it is suitable for an electronic component that needs to flow a large current.

【0013】[0013]

【発明の実施の形態】次に、図面を参照しながら、本発
明の実施の形態について、具体的且つ詳細に説明する。
図1は、本発明の一実施形態による電子部品の製造工程
を示す概念図である。
Embodiments of the present invention will now be described specifically and in detail with reference to the drawings.
FIG. 1 is a conceptual diagram showing a manufacturing process of an electronic component according to one embodiment of the present invention.

【0014】まず、図1(A)に示すように、支持基板
1を用意する。この支持基板1は、アルミナ等のセラミ
ックス板、ソーダガラス等のガラス板、ステンレス等の
金属板、ポリエチレンテレフタレートシート等の樹脂シ
ートを用いる。特に、表面の平滑性が良好なガラス板が
最適である。
First, as shown in FIG. 1A, a support substrate 1 is prepared. As the support substrate 1, a ceramic plate such as alumina, a glass plate such as soda glass, a metal plate such as stainless steel, and a resin sheet such as a polyethylene terephthalate sheet are used. In particular, a glass plate having a good surface smoothness is optimal.

【0015】次に、図1(B)に示すように、この基板
1の一表面上に、エポキシ樹脂等の樹脂材料を塗布し、
これを硬化させて、第一の絶縁樹脂層2を形成する。次
に、図1(C)に示すように、前記の絶縁樹脂層2の上
に真空成膜、化学メッキ或いは化学的気相成長法(CV
D法)により、一様に銅等の金属膜3を形成する。この
金属膜3は、後述する内部導体5の下地となるものであ
る。
Next, as shown in FIG. 1B, a resin material such as an epoxy resin is applied on one surface of the substrate 1,
This is cured to form the first insulating resin layer 2. Next, as shown in FIG. 1 (C), vacuum film formation, chemical plating or chemical vapor deposition (CV) is performed on the insulating resin layer 2.
D method), the metal film 3 of copper or the like is uniformly formed. The metal film 3 serves as a base for an internal conductor 5 described later.

【0016】次に、この下地となる金属膜3の上にホト
レジストを塗布し、一様なホトレジスト膜4を形成す
る。このホトレジスト膜4の上に所要のパターンを有す
る図示してないマスクを載せ、このマスクの上から平行
光を照射し、マスクのパターン部分のみを露光する。マ
スクを取り除いた後、ホトレジスト膜4の露光した部分
を洗浄し、除去することにより、図1(D)に示すよう
に、ホトレジスト膜4に溝がパターニングされる。この
パターニングされた溝は、深さと幅の比、つまりアスペ
クト比が0.5以上である。当初のホトレジスト膜4を
厚めに形成し、前述のように、平行光によりマスクを等
して露光し、露光部分を洗浄し、除去することにより、
ホトレジスト膜4にアスペクト比の高い矩形溝を容易に
パターニングできる利点がある。
Next, a photoresist is applied on the metal film 3 serving as a base to form a uniform photoresist film 4. A mask (not shown) having a required pattern is placed on the photoresist film 4, and parallel light is irradiated from above the mask to expose only the pattern portion of the mask. After removing the mask, the exposed portions of the photoresist film 4 are washed and removed, so that grooves are patterned in the photoresist film 4 as shown in FIG. This patterned groove has a depth-to-width ratio, that is, an aspect ratio of 0.5 or more. The initial photoresist film 4 is formed thicker, and is exposed by using a parallel light with a mask or the like as described above, and the exposed portion is washed and removed.
There is an advantage that a rectangular groove having a high aspect ratio can be easily patterned in the photoresist film 4.

【0017】電解メッキやCVD法により、このパター
ニングされたホトレジスト膜4の上から金属膜3の上に
銅等の金属を成長させ、図1(E)に示すように内部導
体5を形成する。前述したように、ホトレジスト膜4は
矩形溝状にパターニングされているため、金属膜3の上
に十分な厚さの金属を堆積させることにより、ホトレジ
スト膜4の矩形溝の形状に従った矩形断面を有するアス
ペクト比の高い内部導体5を容易に形成することができ
る。
A metal such as copper is grown on the patterned photoresist film 4 and on the metal film 3 by electrolytic plating or CVD to form an internal conductor 5 as shown in FIG. 1 (E). As described above, since the photoresist film 4 is patterned in the shape of a rectangular groove, a metal having a sufficient thickness is deposited on the metal film 3 to form a rectangular cross section according to the shape of the rectangular groove of the photoresist film 4. The internal conductor 5 having a high aspect ratio and having the above aspect ratio can be easily formed.

【0018】コイル導体4を形成した後、図1(F)に
示すように、ホトレジスト膜4を除去すると、内部導体
5とその下地の金属膜3のみが基板1の上の残る。次
に、内部導体5と金属膜3とをエッチング液に浸漬し、
金属膜3の厚さ分だけエッチングすると、図1(G)に
示すように、金属膜3が除去され、基板1の上に内部導
体5のみが残る。この内部導体5の高さ/幅、つまりア
スペクト比は、0.5以上とする。
After the coil conductor 4 is formed, as shown in FIG. 1 (F), when the photoresist film 4 is removed, only the internal conductor 5 and the underlying metal film 3 remain on the substrate 1. Next, the internal conductor 5 and the metal film 3 are immersed in an etching solution,
When etching is performed by the thickness of the metal film 3, the metal film 3 is removed, and only the internal conductor 5 remains on the substrate 1 as shown in FIG. The height / width of the internal conductor 5, that is, the aspect ratio is set to 0.5 or more.

【0019】次に、図1(H)に示すように、前記の内
部導体5を覆うように、第一の絶縁樹脂層2の表面上に
流動性を有するエポキシ樹脂等の絶縁樹脂材料を塗布
し、これを硬化させて、第一の絶縁樹脂層2と一体に第
二の絶縁樹脂層6を形成する。これにより、内部導体5
は、一体となった第一の絶縁樹脂層2と第二の絶縁樹脂
層6との間に埋め込まれ、外部から絶縁される。
Next, as shown in FIG. 1H, an insulating resin material such as epoxy resin having fluidity is applied on the surface of the first insulating resin layer 2 so as to cover the internal conductor 5. Then, this is cured to form the second insulating resin layer 6 integrally with the first insulating resin layer 2. Thereby, the inner conductor 5
Is embedded between the integrated first insulating resin layer 2 and second insulating resin layer 6 and is insulated from the outside.

【0020】次に、図1(I)に示すように、支持基板
1を第一の絶縁樹脂層2から除去する。例えば、セラミ
ック製、ガラス製或いは樹脂製の支持基板1は、第一の
絶縁樹脂層2から剥がし、アルミニウム等の金属製の支
持基板1は酸等の薬剤で溶解するか、或いは研磨する等
して除去する。
Next, as shown in FIG. 1I, the support substrate 1 is removed from the first insulating resin layer 2. For example, the support substrate 1 made of ceramic, glass or resin is peeled off from the first insulating resin layer 2, and the support substrate 1 made of metal such as aluminum is dissolved or polished with a chemical such as acid. To remove.

【0021】このような電子部品は、最初から1つずつ
個別に作られることは無く、通常は複数個分のものが一
体として同時に作られる。このため、前述のようにして
支持基板1を除去した後、図1(J)に示すように、個
々の電子部品の間の第一の絶縁樹脂層2と第二の絶縁樹
脂層6とを切断し、個々の電子部品に分離する。これに
より、電子部品が完成する。なお、図1では図示の便宜
上、電子部品を2個分作った例を示しているが、実際は
支持基板1上に縦横に多数個分の電子部品を作り、最後
に縦横に切断して個々の電子部品に分割する。
Such electronic parts are not individually manufactured one by one from the beginning, but usually a plurality of electronic parts are manufactured simultaneously as one. Therefore, after the support substrate 1 is removed as described above, as shown in FIG. 1J, the first insulating resin layer 2 and the second insulating resin layer 6 between the individual electronic components are separated. Cut and separate into individual electronic components. Thus, the electronic component is completed. Although FIG. 1 shows an example in which two electronic components are formed for convenience of illustration, actually, a large number of electronic components are formed vertically and horizontally on the support substrate 1 and finally cut vertically and horizontally to obtain individual electronic components. Divide into electronic components.

【0022】このような電子部品は、内部導体5が第一
の絶縁樹脂層2と第二の絶縁樹脂層6とが一体となった
絶縁樹脂の中に埋め込まれた状態となる。内部導体5
は、高さのある矩形断面を有するものであり、幅が狭い
内部導体5であっても、所要の断面積を確保することが
でき、低抵抗の内部導体5が得られる。また、内部導体
5を囲む第一の絶縁樹脂層2と第二の絶縁樹脂層6と
は、低誘電率であり、誘電損失tanδが小さくなるた
め、高周波帯域等でのコイル部品としての特性の向上が
図れる。
In such an electronic component, the internal conductor 5 is embedded in the insulating resin in which the first insulating resin layer 2 and the second insulating resin layer 6 are integrated. Inner conductor 5
Has a rectangular cross section with a height. Even if the inner conductor 5 has a small width, a required cross-sectional area can be secured, and a low-resistance inner conductor 5 can be obtained. Further, the first insulating resin layer 2 and the second insulating resin layer 6 surrounding the internal conductor 5 have a low dielectric constant and a small dielectric loss tan δ, so that the characteristics as a coil component in a high frequency band or the like are reduced. Improvement can be achieved.

【0023】図2は、内部導体5を囲む第一の絶縁樹脂
層2と第二の絶縁樹脂層6の両側に誘電体層7、7を配
置した例である。また、図3は、内部導体5を囲む第一
の絶縁樹脂層2と第二の絶縁樹脂層6のうち、片側の第
一の絶縁樹脂層2側に誘電体層7を配置した例である。
この場合において、第一の絶縁樹脂層2側ではなく、第
二の絶縁樹脂層6側に誘電体層7を配置してもよい。
FIG. 2 shows an example in which dielectric layers 7, 7 are arranged on both sides of a first insulating resin layer 2 and a second insulating resin layer 6 surrounding an internal conductor 5. FIG. 3 shows an example in which a dielectric layer 7 is arranged on one of the first insulating resin layer 2 and the second insulating resin layer 6 surrounding the internal conductor 5. .
In this case, the dielectric layer 7 may be arranged on the second insulating resin layer 6 side instead of the first insulating resin layer 2 side.

【0024】図3は、内部導体5を囲む第一の絶縁樹脂
層2と第二の絶縁樹脂層6の両側に磁性体層8、8を配
置した例である。また、図3は、内部導体5を囲む第一
の絶縁樹脂層2と第二の絶縁樹脂層6のうち、片側の第
一の絶縁樹脂層2側に磁性体層8を配置した例である。
この場合において、第一の絶縁樹脂層2側ではなく、第
二の絶縁樹脂層6側に磁性体層8を配置してもよい。こ
のように、電子部品の所要の特性を得るため、第一の絶
縁樹脂層2と第二の絶縁樹脂層6の両側または片側に誘
電体や磁性体を配置することができる。
FIG. 3 shows an example in which magnetic layers 8, 8 are arranged on both sides of a first insulating resin layer 2 and a second insulating resin layer 6 surrounding an internal conductor 5. FIG. 3 shows an example in which the magnetic layer 8 is arranged on one side of the first insulating resin layer 2 of the first insulating resin layer 2 and the second insulating resin layer 6 surrounding the internal conductor 5. .
In this case, the magnetic layer 8 may be arranged on the second insulating resin layer 6 side instead of the first insulating resin layer 2 side. Thus, in order to obtain the required characteristics of the electronic component, a dielectric or a magnetic material can be arranged on both sides or one side of the first insulating resin layer 2 and the second insulating resin layer 6.

【0025】[0025]

【発明の効果】以上説明した通り、本発明によれば、基
板を用いずに、絶縁樹脂の内部に内部導体5を埋め込ん
で固定していることにより、電子部品の小型化を図るこ
とができる。しかも、誘電率の小さな樹脂の中に内部導
体5を埋め込んでいるため、特に高周波帯域において良
好な特性を有する電子部品を得ることができる。
As described above, according to the present invention, the size of the electronic component can be reduced by embedding and fixing the internal conductor 5 inside the insulating resin without using the substrate. . In addition, since the internal conductor 5 is embedded in the resin having a small dielectric constant, an electronic component having good characteristics particularly in a high frequency band can be obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の一実施形態による電子部品の製造工程
における半完成から完成に至る同電子部品の縦断側面図
である。
FIG. 1 is a longitudinal sectional side view of an electronic component from semi-finished to completed in a manufacturing process of the electronic component according to an embodiment of the present invention.

【図2】本発明の他の実施形態による電子部品を示す縦
断側面図である。
FIG. 2 is a vertical sectional side view showing an electronic component according to another embodiment of the present invention.

【図3】本発明の他の実施形態による電子部品を示す縦
断側面図である。
FIG. 3 is a longitudinal sectional side view showing an electronic component according to another embodiment of the present invention.

【図4】本発明の他の実施形態による電子部品を示す縦
断側面図である。
FIG. 4 is a vertical sectional side view showing an electronic component according to another embodiment of the present invention.

【図5】本発明の他の実施形態による電子部品を示す縦
断側面図である。
FIG. 5 is a longitudinal sectional side view showing an electronic component according to another embodiment of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 支持基板 2 金属膜 3 ホトレジスト膜 4 第一の絶縁樹脂層 5 内部導体 6 第二の絶縁樹脂層 Reference Signs List 1 support substrate 2 metal film 3 photoresist film 4 first insulating resin layer 5 internal conductor 6 second insulating resin layer

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 樹脂絶縁体に埋設された内部導体(5)
を有する電子部品において、内部導体(5)が一体とな
った第一の絶縁樹脂層(2)と第二の絶縁樹脂層(6)
とで挟まれ、それらの中に埋め込まれていることを特徴
とする電子部品。
An internal conductor embedded in a resin insulator.
The first insulating resin layer (2) and the second insulating resin layer (6) in which the internal conductor (5) is integrated.
And electronic components characterized by being embedded in them.
【請求項2】 前記内部導体(5)は、幅よりも高さが
高いことを特徴とする請求項1記載の電子部品。
2. The electronic component according to claim 1, wherein the inner conductor has a height higher than a width.
【請求項3】 樹脂絶縁体に埋め込まれた内部導体
(5)がコイル状であることを特徴とする請求項1また
は2に記載の電子部品。
3. The electronic component according to claim 1, wherein the internal conductor embedded in the resin insulator has a coil shape.
【請求項4】 樹脂絶縁体に埋め込まれた内部導体
(5)を有する電子部品を製造する方法において、支持
基板(1)の上に第一の絶縁樹脂層(2)を形成する工
程と、この絶縁樹脂層(2)の上に内部導体(5)を形
成する工程と、この内部導体(5)を覆うように前記絶
縁樹脂層(2)の上に一体に第二の絶縁樹脂層(6)を
形成する工程と、前記第一の絶縁樹脂層(2)から支持
基板(1)を除去する工程とを有することを特徴とする
電子部品の製造方法。
4. A method for manufacturing an electronic component having an internal conductor (5) embedded in a resin insulator, comprising: forming a first insulating resin layer (2) on a support substrate (1); Forming an internal conductor (5) on the insulating resin layer (2); and forming a second insulating resin layer (2) on the insulating resin layer (2) so as to cover the internal conductor (5). 6) A method of manufacturing an electronic component, comprising: forming a substrate; and removing the support substrate (1) from the first insulating resin layer (2).
【請求項5】 内部導体(5)を形成する工程が、第一
の絶縁樹脂層(2)の上に一様に金属膜(3)を形成す
る工程と、この金属膜(3)の上にホトレジスト膜
(4)を塗布し、さらにこのホトレジスト膜(4)を所
望のパターンで感光させ、感光部分を除去することによ
り、ホトレジスト膜(4)に溝をパターニングする工程
と、このホトレジスト膜(3)の溝部分の金属膜(2)
の上に内部導体(4)を形成する工程と、ホトレジスト
膜(3)を除去する工程と、露出した金属膜(2)をエ
ッチングにより除去する工程とを有することを特徴とす
る請求項4に記載の電子部品の製造方法。
5. The step of forming the internal conductor (5) includes a step of forming a metal film (3) uniformly on the first insulating resin layer (2) and a step of forming the metal film (3) on the first insulating resin layer (2). Coating a photoresist film (4) on the photoresist film (4), exposing the photoresist film (4) to a desired pattern, and removing the exposed portion to pattern a groove in the photoresist film (4); Metal film (2) in groove part of 3)
5. The method according to claim 4, further comprising the steps of: forming an internal conductor (4) on the substrate, removing the photoresist film (3), and removing the exposed metal film (2) by etching. A method for producing the electronic component described in the above.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007053254A (en) * 2005-08-18 2007-03-01 Tdk Corp Electronic components and manufacturing method thereof
US8050045B2 (en) 2005-08-18 2011-11-01 Tdk Corporation Electronic component and method of manufacturing the same

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