JP2002131917A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2002131917A5
JP2002131917A5 JP2001169802A JP2001169802A JP2002131917A5 JP 2002131917 A5 JP2002131917 A5 JP 2002131917A5 JP 2001169802 A JP2001169802 A JP 2001169802A JP 2001169802 A JP2001169802 A JP 2001169802A JP 2002131917 A5 JP2002131917 A5 JP 2002131917A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
general formula
positive photoresist
photoresist composition
linear
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2001169802A
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Other versions
JP2002131917A (ja
JP4181760B2 (ja
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority to JP2001169802A priority Critical patent/JP4181760B2/ja
Priority claimed from JP2001169802A external-priority patent/JP4181760B2/ja
Publication of JP2002131917A publication Critical patent/JP2002131917A/ja
Publication of JP2002131917A5 publication Critical patent/JP2002131917A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4181760B2 publication Critical patent/JP4181760B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

JP2001169802A 2000-06-09 2001-06-05 ポジ型フォトレジスト組成物 Expired - Fee Related JP4181760B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001169802A JP4181760B2 (ja) 2000-06-09 2001-06-05 ポジ型フォトレジスト組成物

Applications Claiming Priority (15)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000174037 2000-06-09
JP2000-174037 2000-06-09
JP2000-186431 2000-06-21
JP2000186431 2000-06-21
JP2000206812 2000-07-07
JP2000-206812 2000-07-07
JP2000-206890 2000-07-07
JP2000206890 2000-07-07
JP2000-211414 2000-07-12
JP2000211414 2000-07-12
JP2000215441 2000-07-17
JP2000-215441 2000-07-17
JP2000248658 2000-08-18
JP2000-248658 2000-08-18
JP2001169802A JP4181760B2 (ja) 2000-06-09 2001-06-05 ポジ型フォトレジスト組成物

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2002131917A JP2002131917A (ja) 2002-05-09
JP2002131917A5 true JP2002131917A5 (ko) 2006-01-19
JP4181760B2 JP4181760B2 (ja) 2008-11-19

Family

ID=27573703

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2001169802A Expired - Fee Related JP4181760B2 (ja) 2000-06-09 2001-06-05 ポジ型フォトレジスト組成物

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4181760B2 (ko)

Families Citing this family (31)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3444844B2 (ja) * 2000-07-17 2003-09-08 富士写真フイルム株式会社 ポジ型フォトレジスト組成物
US6808860B2 (en) 2000-04-17 2004-10-26 Fuji Photo Film Co., Ltd. Positive photoresist composition
JP4418634B2 (ja) * 2003-02-04 2010-02-17 富士フイルム株式会社 化合物、該化合物を含有するポジ型レジスト組成物及び該ポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法
JP4612999B2 (ja) * 2003-10-08 2011-01-12 富士フイルム株式会社 ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法
JP4524199B2 (ja) * 2004-02-16 2010-08-11 富士フイルム株式会社 液浸プロセス用化学増幅型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法
JP2007101715A (ja) * 2005-09-30 2007-04-19 Fujifilm Corp パターン形成方法及びそれに用いるレジスト組成物
JP5276821B2 (ja) * 2007-10-01 2013-08-28 東京応化工業株式会社 レジスト組成物およびレジストパターン形成方法
JP5691585B2 (ja) 2010-02-16 2015-04-01 住友化学株式会社 レジスト組成物
JP4621806B2 (ja) * 2010-04-22 2011-01-26 富士フイルム株式会社 ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法
JP4621807B2 (ja) * 2010-04-22 2011-01-26 富士フイルム株式会社 ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法
KR101841000B1 (ko) 2010-07-28 2018-03-22 스미또모 가가꾸 가부시키가이샤 포토레지스트 조성물
JP6195692B2 (ja) 2010-08-30 2017-09-13 住友化学株式会社 レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法並びに新規化合物及び樹脂
JP5829940B2 (ja) 2011-02-25 2015-12-09 住友化学株式会社 レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
JP5829939B2 (ja) 2011-02-25 2015-12-09 住友化学株式会社 レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
JP5947051B2 (ja) 2011-02-25 2016-07-06 住友化学株式会社 レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
JP6034026B2 (ja) 2011-02-25 2016-11-30 住友化学株式会社 レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
JP6034025B2 (ja) 2011-02-25 2016-11-30 住友化学株式会社 レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
JP5898521B2 (ja) 2011-02-25 2016-04-06 住友化学株式会社 レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
JP5829941B2 (ja) 2011-02-25 2015-12-09 住友化学株式会社 レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
JP5898520B2 (ja) 2011-02-25 2016-04-06 住友化学株式会社 レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
JP5947053B2 (ja) 2011-02-25 2016-07-06 住友化学株式会社 レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
JP5981196B2 (ja) * 2011-04-07 2016-08-31 住友化学株式会社 レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
JP6013797B2 (ja) 2011-07-19 2016-10-25 住友化学株式会社 レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
JP6189020B2 (ja) 2011-07-19 2017-08-30 住友化学株式会社 レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
JP6013799B2 (ja) 2011-07-19 2016-10-25 住友化学株式会社 レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
JP5886696B2 (ja) 2011-07-19 2016-03-16 住友化学株式会社 レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
JP6130631B2 (ja) * 2011-07-19 2017-05-17 住友化学株式会社 レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
JP5912912B2 (ja) 2011-07-19 2016-04-27 住友化学株式会社 レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
JP6236284B2 (ja) 2013-10-25 2017-11-22 東京応化工業株式会社 レジストパターン形成方法及びレジスト組成物
JP6316598B2 (ja) * 2014-01-16 2018-04-25 東京応化工業株式会社 レジスト組成物、及びレジストパターン形成方法
TWI732111B (zh) * 2017-03-28 2021-07-01 日商住友電木股份有限公司 感光性組成物、彩色濾光片及由其衍生之微透鏡

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2002131917A5 (ko)
JP2002296779A5 (ko)
JP2004004834A5 (ko)
JP2001330947A5 (ko)
JP2008268931A5 (ko)
JP2010164958A5 (ko)
JP2002268223A5 (ko)
JP2003107710A5 (ko)
JP2000214588A5 (ko)
JP2000267287A5 (ko)
JP2003114522A5 (ko)
JP2002268224A5 (ko)
JP2006039281A (ja) ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法
JP2000098613A5 (ko)
JP2004101642A5 (ko)
JP2001290272A5 (ko)
JP2002202608A5 (ko)
JP2001318464A5 (ko)
JP2000010287A5 (ko)
JP2000187327A5 (ko)
JP2001142212A5 (ko)
JP2001100402A5 (ko)
JP2020193151A5 (ko)
JP2003177538A5 (ko)
JP2002169287A5 (ko)