JP2002128731A - フェノキシ化合物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 従来の煩雑なＰＣＢの測定法に替わる迅速且
つ簡便、低コストのＰＣＢの酵素免疫測定法に用いられ
る化合物の提供。 【解決手段】 一般式 【化１】 （式中、Ｒ¹は、塩素原子またはフェニル基、Ｒ²および
Ｒ³は、水素原子または塩素原子、Ｒ⁴は、アルキル基、
アリール基、水素原子またはスクシンイミジル基、ｍ
は、５ないし７の整数である。）で表されるフェノキシ
化合物は、ＢＳＡなどと結合させて、ＰＣＢを測定する
際の酵素免疫測定試薬として用いることができる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、一般式

【０００２】

【化２】

【０００３】（式中、Ｒ¹は、塩素原子またはフェニル
基、Ｒ²およびＲ³は、水素原子または塩素原子、Ｒ
⁴は、アルキル基、アリール基、水素原子またはスクシ
ンイミジル基、ｍは、５ないし７の整数である。）で表
されるフェノキシ化合物であり、ＰＣＢを酵素免疫測定
法で測定する際の試薬として使用できる。

【０００４】

【従来の技術】フェノキシ化合物は、新規な化合物であ
り、かつ、この化合物を測定するための試薬として有用
である、ということは全く知られていなかった。

【０００５】従来、ＰＣＢは、ガスクロマトグラフィー
とマススペクトロメトリーとを一体化した機器等を用い
て測定していたが、これらの測定機器は大変高価であ
り、また、サンプルが土や水の場合は、これら機器測定
前に濃縮操作を行わねばならず、煩雑であった。これら
の問題は酵素免疫測定法を採用することで解決すること
ができた。この方法は、迅速かつ簡便、低コストで高感
度測定ができる。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、酵素免疫測
定法でなしえなかったＰＣＢの測定に有用な試薬を提供
することが課題である。

【０００７】

【課題を解決するための手段】かかる課題を解決するた
め本発明者らは、新規な前記一般式（Ｉ）で表されるフ
ェノキシ化合物を見出した。本発明の前記一般式（Ｉ）
で表されるフェノキシ化合物は、ＰＣＢを酵素免疫測定
法により広汎に測定できる化合物である。

【０００８】以下、本発明を詳細に説明するにあたっ
て、「アルキル基」としては、炭素原子数１〜１２の直
鎖状、分枝鎖状または環状のアルキル基のいずれでもよ
く、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、１
−メチルエチル基、シクロプロピル基、ｎ−ブチル基、
２−メチルプロピル基、１−メチルプロピル基、１，１
−ジメチルエチル基、シクロブチル基、ｎ−ペンチル
基、３−メチルブチル基、シクロペンチル基、２，２−
ジメチルプロピル基、１−メチルシクロブチル基、シク
ロブチルメチル基、ｎ−ヘキシル基、４−メチルペンチ
ル基、シクロヘキシル基、１−メチルシクロペンチル
基、シクロペンチルメチル基、（１−メチルシクロブチ
ル）メチル基、ｎ−ヘプチル基、５−メチルヘキシル
基、４，４−ジメチルペンチル基、シクロヘプチル基、
シクロヘキシルメチル基、（１−メチルシクロペンチ
ル）メチル基、ｎ−オクチル基、６−メチルヘプチル
基、５，５−ジメチルヘキシル基、（１−メチルシクロ
ヘキシル）メチル基、ｎ−ノニル基、７−メチルオクチ
ル基、６，６−ジメチルヘプチル基、ｎ−デシル基、８
−メチルノニル基、７，７−ジメチルオクチル基、ｎ−
インデカシル基、９−メチルデシル基、８，８−ジメチ
ルノニル基、ｎ−ドデカシル基、１０−メチルウンデカ
シル基、９，９−ジメチルデカシル基等を挙げることで
きる。また、「低級アルキル基」としては、前記アルキ
ル基のうち、炭素原子数１〜６の直鎖状、分枝鎖状又は
環状のアルキル基を挙げることができる。

【０００９】「アリール基」としては、単環式または多
環式であり、さらに環上に１個以上の種々の置換基を有
していてもよい芳香族炭化水素基をいい、例えば、フェ
ニル、メチルフェニル、ジメチルフェニル、メトキシフ
ェニル、ジメトキシフェニル、ニトロフェニル、ジニト
ロフェニル、クロロフェニル、ジクロロフェニル、ブロ
モフェニル、ジブロモフェニル、ヨードフェニル、フル
オロフェニル、トリフルオロメチルフェニル、アミノフ
ェニル、ヒドロキシフェニル、メルカプトフェニル、α
−ナフチル、β−ナフチル基等を挙げることができる。

【００１０】本発明の前記一般式（Ｉ）で表されるフェ
ノキシ化合物は以下の式に従い製造することができる。

【００１１】

【化３】

【００１２】（式中、Ｒ¹は、塩素原子またはフェニル
基、Ｒ²およびＲ³は、水素原子または塩素原子、Ｒ
⁵は、アルキル基またはアリール基、ｍは、５ないし７
の整数である。Ｘは、ハロゲン原子である。） （第一工程）本工程は、前記一般式（IV）で表わされる
エステル誘導体を、一般式（II）で表される置換フェノ
ールと一般式（III）で表されるハロ脂肪酸エステルと
を塩基の存在下、反応させることにより製造する工程で
ある。

【００１３】前記一般式（II）で表される置換フェノー
ルとしては、たとえば、モノクロロフェノール、ジクロ
ロフェノール、トリクロロフェノール、フェニルフェノ
ール等を挙げることができる。また、一般式（III）で
表されるハロ脂肪酸エステルとしては、たとえば、６−
ブロモヘキサン酸エチル、６−ブロモヘキサン酸メチ
ル、６−ブロモヘキサン酸ｔ−ブチル、７−ブロモヘプ
タン酸エチル、７−ブロモヘプタン酸メチル、７−ブロ
モヘプタン酸ｔ−ブチル、８−ブロモオクタン酸エチ
ル、８−ブロモオクタン酸メチル、８−ブロモオクタン
酸ｔ−ブチル、６−クロロヘキサン酸エチル、６−クロ
ロヘキサン酸メチル、６−クロロヘキサン酸ｔ−ブチ
ル、７−クロロヘプタン酸エチル、７−クロロヘプタン
酸メチル、７−クロロヘプタン酸ｔ−ブチル８−クロロ
オクタン酸エチル、８−クロロオクタン酸メチル、８−
クロロオクタン酸ｔ−ブチルなどを使用することができ
る。

【００１４】本工程は、塩基の存在下に行うものであ
る。使用できる塩基としては、たとえば、ナトリウムメ
トキシド、ナトリウムエトキシド、ナトリウムｔ−ブト
キシド、カリウムｔ−ブトキシドなどのアルカリ金属ア
ルコキシド、ジエトキシマグネシウムなどのアルカリ土
類金属アルコキシド、水素化リチウム、水素化ナトリウ
ム、水素化カリウムなどのアルカリ金属水素化合物、水
素化カルシウムなどのアルカリ土類金属水素化物、炭酸
ナトリウム、炭酸カリウムなどのアルカリ金属炭酸塩等
を挙げることができる。

【００１５】反応は、不活性溶媒中で行うことが望まし
く、たとえばテトラヒドロフラン、ジオキサン、１，２
−ジメトキシエタン等のエーテル類、Ｎ，Ｎ−ジメチル
ホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メ
チルピロリドン等のアミド類を挙げることができる。反
応温度は、−２０〜４０℃で実施することができる。 （第二工程）本工程は、一般式（IV）で表わされる化合
物に対し、塩基性条件下、酸性条件下または中性条件下
において加水分解を行い、一般式（Ｖ）で表わされるカ
ルボン酸誘導体を製造する工程である。

【００１６】塩基性条件下で用いる試薬としては、水酸
化ナトリウム、水酸化カリウムなどのアルカリ金属水素
化合物、水酸化カルシウム、水酸化バリウムなどのアル
カリ土類金属水素化物、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム
などのアルカリ金属炭酸塩、ナトリウムメトキシド、ナ
トリウムエトキシド、ナトリウムｔ−ブトキシド、カリ
ウムｔ−ブトキシドなどのアルカリ金属アルコキシド、
トリエチルアミン、イミダゾール、アミジン、ＤＢＵ
（１，５−ジアザビシクロ［５，４，０］ウンデカ−５
−エン）、ＤＢＮ（１，５−ジアザビシクロ［４，３，
０］ノナ−５−エン）などの有機塩等を挙げることがで
きる。塩基性条件下で用いる溶媒としては、エタノー
ル、メタノール、エチレングリコール等のアルコール
類、水、ジメチルスルホキシド等を挙げることができ
る。

【００１７】また、酸性条件下で用いる試薬としては、
塩酸、臭化水素酸、硫酸、燐酸などの鉱酸、酢酸、ぎ
酸、トリフルオロ酢酸、ｐ−トルエンスルホン酸などの
有機酸、三臭化ホウ素、三塩化ホウ素などのルイス酸、
陽イオン交換樹脂等を挙げることができ、中性条件下で
用いる試薬としては、ヨウ化リチウム、臭化リチウム、
シアン化ナトリウム、チオール類のアルカリ塩等を挙げ
ることができる。酸性または中性条件下で用いる試薬と
しては、ピリジン、ルチジン、コリジン、ジメチルホル
ムアミド、ヘキサメチルホスホリックトリアミドなどの
アミド類、ジメチルスルホキシド、アルコール類、アセ
トン、水等を挙げることができる。反応温度は、２０℃
から加熱還流することにより実施できる。 （第三工程）本工程は、一般式（Ｖ）で表わされるカル
ボン酸誘導体に対し縮合剤の存在下、Ｎ−ヒドロキシス
クシンイミドと反応させ一般式（VI）で表わされるスク
シンイミジル誘導体を製造する工程である。

【００１８】この工程で使用する縮合剤としては、例え
ば、ジシクロヘキシルカルボジイミド、Ｎ−エチル−
Ｎ'−３−ジメチルアミノプロピルカルボジイミド塩酸
塩、ジイソプロピルカルボジイミド、ベンゾトリアゾリ
ル−Ｎ−ヒドロキシトリスジメチルアミノホスホニウム
ヘキサフルオロリン化物塩、ジフェニルホスホリルアジ
ド等を挙げることができる。反応は、不活性溶媒中で行
うことが望ましく、たとえばジクロロメタン、クロロホ
ルムなどのハロゲン化炭化水素、テトラヒドロフラン、
ジオキサン等のエーテル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムア
ミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロ
リドンなどのアミド類等を挙げることができる。反応温
度は、−１０〜４０℃で実施することができる。

【００１９】

【発明の実施の形態】以下、参考例及び実施例により本
発明をさらに詳細を説明をする。

【００２０】参考例１ ３，４，５−トリクロロフェノールの合成

【００２１】

【化４】

【００２２】０℃で、３，４，５−トリクロロアニリン
１．００ｇ（５．６ｍｍｏｌ）を無水エタノール１００
ｍｌに溶解し、４２％フルオロホウ素酸３．１６ｍｌ
（１５．１ｍｍｏｌ）、亜硝酸イソアミル０．９２ｇ
（７．８ｍｍｏｌ）を加え、３０分撹拌した。次いで、
この溶液を３００ｍｌのエーテルに注ぎ、析出した結晶
を集めた。得られた結晶に３００ｍｌの水を加え、硝酸
銅（ＩＩ）三水和物１００ｇ、酸化銅（Ｉ）１．２９ｇ
を加え室温で１８時間撹拌した。反応終了後、酢酸エチ
ルで抽出し、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウム
で乾燥後、溶媒を減圧下留去した。残留物をシリカゲル
クロマトグラフィ−（ヘキサン−酢酸エチル＝５：１）
で精製し、３，４，５−トリクロロフェノール３６０ｍ
ｇ（収率３３．７％）を得た。¹ Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃）： δ ５．２
２（ｂｓ，１Ｈ），６．９２（ｓ，２Ｈ） ｐｐｍ． 実施例１ ６−（３，４，５−トリクロロフェノキシ）ヘキサン酸
エチルの合成

【００２３】

【化５】

【００２４】アルゴン気流下、３，４，５−トリクロロ
フェノール５０ｍｇ（０．２５３ｍｍｏｌ）の無水ジメ
チルホルムアミド溶液（５ｍｌ）に６０％油性水素化ナ
トリウム１１．０ｍｇ（０．２７６ｍｍｏｌ）を加え、
室温で１５分間撹拌した。続いて６−ブロモヘキサン酸
エチル５１ｍｇ （０．２３ｍｍｏｌ）を加え、室温で
１８時間撹拌した。反応終了後、１０％クエン酸水溶液
で弱酸性とした後、酢酸エチルで抽出し、飽和炭酸水素
ナトリウム水溶液、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸
ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧下留去した。残留物を
シリカゲルクロマトグラフィ−（ヘキサン−酢酸エチル
＝２０：１）で精製し、６−（３，４，５−トリクロロ
フェノキシ）ヘキサン酸エチル２７mg（収率３１．０
％）を得た。¹ Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃）： δ １．２
６（ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ，３Ｈ），１．４４〜１．５３
（ｍ，２Ｈ），１．６２〜１．７４（ｍ，２Ｈ），１．
７７５〜１．８４（ｍ，２Ｈ），２．３３（ｔ，Ｊ＝
７．３Ｈｚ，２Ｈ），３．９２（ｔ，Ｊ＝６．４Ｈｚ，
２Ｈ），４．１ ３（ｑ，Ｊ＝７．１Ｈｚ，２Ｈ），
６．９３（ｓ，２Ｈ）ｐｐｍ． ＩＲ（ｌｉｑｕｉｄ ｆｉｌｍ）：２９４４，１７３
８，１５８８，１４４０，１２９２，１２５０、１１４
４ ｃｍ^-1 Ｍａｓｓ（ｍ／ｚ，％）：３４２（Ｍ⁺＋４，５），３
４０（Ｍ⁺＋２，１６），３３８（Ｍ⁺，１６），２００
（７），１９８（２２），１９６（２４），１４３（１
００），１１５（３１），９７（５９），６９（５
７）． 実施例２ ６−（３，４，５−トリクロロフェノキシ）ヘキサン酸
の合成

【００２５】

【化６】

【００２６】６−（３，４，５−トリクロロフェノキ
シ）ヘキサン酸エチル３７４ｍｇを酢酸３ｍｌに溶解
し、濃塩酸１ｍｌを加え、２．５時間加熱環流した。反
応終了後、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で中和し、酢
酸エチルで抽出し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒
を減圧下留去した。酢酸エチル−ヘキサンから再結晶し
標記化合物１６２ｍｇ（収率４６．８％）を得た。¹ Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃）： δ １．４
７〜１．５６（ｍ，２Ｈ），１．６７〜１．７６（ｍ，
２Ｈ），１．７６〜１．８５（ｍ，２Ｈ），２．４０
（ｔ，Ｊ＝７．４Ｈｚ，２Ｈ），３．９２（ｔ，Ｊ＝
６．３Ｈｚ，２Ｈ），６．９３（ｓ，２Ｈ） ｐｐｍ． ｍｐ：８７．０〜８８．０℃ ＩＲ（ＫＢｒ）：３０８５，２９５０，１７１２，１５
８５，１５５５，１４４０，１２５４，１１４５ｃｍ^-1 Ｍａｓｓ（ｍ／ｚ，％）：３１４（Ｍ⁺＋４，１０），
３１２（Ｍ⁺＋２，３２）， ３１０（Ｍ⁺，３３），２
００（３０），１９８（９７），１９６（１００），１
１５（８６），９７（５９），６９（６１）． 実施例３ Ｎ−スクシンイミジル−６−（３，４，５−トリクロロ
フェノキシ）ヘキサノエートの合成

【００２７】

【化７】

【００２８】６−（３，４，５−トリクロロフェノキ
シ）ヘキサン酸１００ｍｇ（０．３２ｍｍｏｌ）の無水
ジクロロメタン溶液（１０ｍｌ）にＮ−ヒドロキシスク
シンイミド４１ｍｇ（０．３５ｍｍｏｌ）塩酸１−エチ
ル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミ
ド６８ｍｇ（０．３５ｍｍｏｌ）を加え、室温で２２時
間撹拌した。反応終了後、１０％クエン酸水溶液を加
え、酢酸エチルで抽出し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶
液、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾
燥後、溶媒を減圧下留去した。エーテル−ヘキサンから
再結晶しＮ−スクシンイミジル−６−（３，４，５−ト
リクロロフェノキシ）ヘキサノエート１１１ｍｇ（収率
８４．４％）を得た。¹ Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃）： δ １．５
５〜１．６３（ｍ，２Ｈ），１．７８〜１．８７（ｍ，
４Ｈ），２．６５（ｔ，Ｊ＝７．３Ｈｚ，２Ｈ），２．
８４（ｂｓ，４Ｈ）， ３．９３（ｔ，Ｊ＝６．２Ｈ
ｚ，２Ｈ），６．９４（ｓ，２Ｈ） ｐｐｍ． ｍｐ：８８．０〜８９．０℃ ＩＲ（ＫＢｒ）：２９４７，１８１１，１７８７，１７
４９，１５８３，１５５５，１２１３，１０７９ｃｍ^-1 Ｍａｓｓ（ｍ／ｚ，％）：４１１（Ｍ⁺＋４，１３），
４０９（Ｍ⁺＋２，３９）， ４０７（Ｍ⁺，４０），２
９７（９），２８５（２７），２９３（２７），２００
（９），１９８（２７），１９６（２８），９７（１０
０），６９（９０）． 実施例４ ６−（３，４−ジクロロフェノキシ）ヘキサン酸エチル
の合成

【００２９】

【化８】

【００３０】アルゴン気流下、３，４−ジクロロフェノ
ール５００ｍｇ（３．０７ｍｍｏｌ）の無水ジメチルホ
ルムアミド溶液（１０ｍｌ）に炭酸カリウム４５５ｍｇ
（３．３ｍｍｏｌ）、６−ブロモヘキサン酸エチル３８
２μｌ（２．１５ｍｍｏｌ）を加え、室温で１９時間撹
拌した。反応終了後、飽和塩化アンモニウム水溶液で弱
酸性とした後、酢酸エチルで抽出し、飽和食塩水で洗浄
し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧下留去し
た。残留物をシリカゲルクロマトグラフィ−（ヘキサン
−酢酸エチル＝２０：１）で精製し、６−（３，４−ジ
クロロフェノキシ）ヘキサン酸エチル５８６mg（収率８
９．３％）を得た。¹ Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃）： δ １．２
６（ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ，３Ｈ），１．４４〜１．５４
（ｍ，２Ｈ），１．６５〜１．７４（ｍ，２Ｈ），１．
７５〜１．８３（ｍ，２Ｈ），２．３３（ｔ，Ｊ＝７．
３Ｈｚ，２Ｈ），３．９２（ｔ，Ｊ＝６．４Ｈｚ，２
Ｈ），４．１３（ｑ，Ｊ＝７．１Ｈｚ，２Ｈ），６．７
４（ｄｄ，Ｊ＝８．８ａｎｄ２．９Ｈｚ，１Ｈ），６．
９７（ｄ，Ｊ＝２．９Ｈｚ，１Ｈ），７．３０（ｄ，Ｊ
＝８．８Ｈｚ，１Ｈ） ｐｐｍ． ＩＲ（ｌｉｑｕｉｄ ｆｉｌｍ）：２９４８，１７３
８，１５９６，１４７２，１２３２，１１６４ ｃｍ^-1 Ｍａｓｓ（ｍ／ｚ，％）：３０６（Ｍ⁺＋２，１５），
３０４（Ｍ⁺，２３），１６４（２９），１６２（４
６），１４３（１００），１１５（２９），９７（５
６），６９（４９）． 実施例５ ６−（３，４−ジクロロフェノキシ）ヘキサン酸の合成

【００３１】

【化９】

【００３２】６−（３，４−ジクロロフェノキシ）ヘキ
サン酸エチル２１３６ｍｇ（７．０ｍｍｏｌ）を酢酸３
ｍｌに溶解し、濃塩酸２ｍｌを加え、５時間加熱環流し
た。反応終了後、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で中和
し、析出した結晶を濾取し、精製水、ヘキサンにて洗浄
後減圧下乾燥し、６−（３,４−ジメチルフェノキシ）
ヘキサン酸１８０７mg（収率９３．２ ％）を得た。¹ Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃）： δ １．４
８〜１．５７（ｍ，２Ｈ），１．６７〜１．７６（ｍ，
２Ｈ），１．７６〜１．８４（ｍ，２Ｈ），２．４０
（ｔ，Ｊ＝７．４Ｈｚ，２Ｈ），３．９３（ｔ，Ｊ＝
６．３Ｈｚ，２Ｈ），６．７４（ｄｄ，Ｊ＝８．９ａｎ
ｄ２．９Ｈｚ，１Ｈ），６．９７（ｄ，Ｊ＝２．９Ｈ
ｚ，１Ｈ），７．３０（ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ，１Ｈ）
ｐｐｍ． ｍｐ：１２８．０〜１２９．０℃ ＩＲ（ＫＢｒ）：３１００，２９５２，１７１６，１５
９４，１４７２，１２８４，１２５２，１１２４，１０
５０ ｃｍ^-1 Ｍａｓｓ（ｍ／ｚ，％）：２７８（Ｍ⁺＋２，１６），
２７６（Ｍ⁺，２４），１６４（６４），１６２（１０
０），１１５（６１），９７（４９），６９（５０）． 実施例６ Ｎ−スクシンイミジル−６−（３，４−ジクロロフェノ
キシ）ヘキサノエートの合成

【００３３】

【化１０】

【００３４】６−（３，４−ジクロロフェノキシ）ヘキ
サン酸８００ｍｇ（２．８９ｍｍｏｌ）の無水ジクロロ
メタン溶液（１０ｍｌ）にＮ−ヒドロキシスクシンイミ
ド３６５ｍｇ（３．１７ｍｍｏｌ）塩酸１−エチル−３
−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド６０
８ｍｇ（３．１７ｍｍｏｌ）を加え、室温で２４時間撹
拌した。反応終了後、１０％クエン酸水溶液を加え、酢
酸エチルで抽出し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽
和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、
溶媒を減圧下留去した。エーテル−ヘキサンから再結晶
しＮ−スクシンイミジル−６−（３，４−ジクロロフェ
ノキシ）ヘキサノエート１０４８ｍｇ（収率９７．０
％）を得た。¹ Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃）： δ １．５
７〜１．６４（ｍ，２Ｈ），１．７８〜１．８７（ｍ，
４Ｈ），２．６５（ｔ，Ｊ＝７．３Ｈｚ，２Ｈ），２．
８５（ｂｓ，４Ｈ），３．９４（ｔ，Ｊ＝６．３Ｈｚ，
２Ｈ），６．７４（ｄｄ，Ｊ＝８．８ａｎｄ２．９Ｈ
ｚ，１Ｈ），６．９８（ｄ，Ｊ＝２．９Ｈｚ，１Ｈ），
７．３０（ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，１Ｈ）ｐｐｍ． ｍｐ：９６．０〜９６．５℃ ＩＲ（ＫＢｒ）：２９４０，１８１０，１７４０，１６
０２，１４８６，１２３８，１２１２，１０８４ ｃｍ
^-1 Ｍａｓｓ（ｍ／ｚ，％）：３７５（Ｍ⁺＋２，３７），
３７３（Ｍ⁺，５６），２６１（２１），２５９（３
３），１６４（４０），１６２（６２），９７（１０
０），６９（８４）． 実施例７ ６−（３，５−ジクロロフェノキシ）ヘキサン酸エチル
の合成

【００３５】

【化１１】

【００３６】アルゴン気流下、３，５−ジクロロフェノ
ール５００ｍｇ（３．０７ｍｍｏｌ）の無水ジメチルホ
ルムアミド溶液（１０ｍｌ）に炭酸カリウム４５５ｍｇ
（３．３ｍｍｏｌ）、６−ブロモヘキサン酸エチル３８
２μｌ（２．１５ｍｍｏｌ）を加え、室温で２１時間撹
拌した。反応終了後、飽和塩化アンモニウム水溶液で弱
酸性とした後、酢酸エチルで抽出し、飽和食塩水で洗浄
し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧下留去し
た。残留物をシリカゲルクロマトグラフィ−（ヘキサン
−酢酸エチル＝２０：１）で精製し、６−（３，５−ジ
クロロフェノキシ）ヘキサン酸エチル５９１mg（収率９
０．１％）を得た。¹ Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃）： δ １．２
６（ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ，３Ｈ），１．４３〜１．５３
（ｍ，２Ｈ），１．６５〜１．７５（ｍ，２Ｈ），１．
７５〜１．８３（ｍ，２Ｈ），２．３３（ｔ，Ｊ＝７．
４Ｈｚ，２Ｈ），３．９２（ｔ，Ｊ＝６．４Ｈｚ，２
Ｈ），４．１３（ｑ，Ｊ＝７．１Ｈｚ，２Ｈ），６．７
７（ｄ，Ｊ＝１．８Ｈｚ，２Ｈ），６．９３（ｔ，Ｊ＝
１．８Ｈｚ，１Ｈ）ｐｐｍ． ＩＲ（ｌｉｑｕｉｄ ｆｉｌｍ）：２９４８，１７３
６，１５９０，１５７２，１４４８，１２６２，１０３
４ ｃｍ^-1 Ｍａｓｓ（ｍ／ｚ，％）：３０６（Ｍ⁺＋２，１０），
３０４（Ｍ⁺，１６），１６４（１６），１６２（２
３），１４３（１００），１１５（３２），９７（６
５），６９（６６）． 実施例８ ６−（３，５−ジクロロフェノキシ）ヘキサン酸の合成

【００３７】

【化１２】

【００３８】６−（３，５−ジクロロフェノキシ）ヘキ
サン酸エチル２１３６ｍｇ（７．０ｍｍｏｌ）を酢酸３
ｍｌに溶解し、濃塩酸２ｍｌを加え、５時間加熱環流し
た。反応終了後、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で中和
し、析出した結晶を濾取し、精製水、ヘキサンにて洗浄
後減圧下乾燥し、６−（３,５−ジメチルフェノキシ）
ヘキサン酸１９３３mg（収率９９．６ ％）を得た。¹ Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃）： δ １．４
７〜１．５６（ｍ，２Ｈ），１．６７〜１．７６（ｍ，
２Ｈ），１．７６〜１．８４（ｍ，２Ｈ），２．４０
（ｔ，Ｊ＝７．４Ｈｚ，２Ｈ），３．９３（ｔ，Ｊ＝
６．３Ｈｚ，２Ｈ），６．７８（ｄ，Ｊ＝１．８Ｈｚ，
２Ｈ），６．９４（ｔ，Ｊ＝１．８Ｈｚ，１Ｈ）ｐｐ
ｍ． ｍｐ：５７．０〜５８．５℃ ＩＲ（ＫＢｒ）：３０９６，２９６０，１７０４，１５
８８，１４６８，１２６０，１２０４，１０９０，１０
４６ ｃｍ^-1 Ｍａｓｓ（ｍ／ｚ，％）：２７８（Ｍ⁺＋２，１４），
２７６（Ｍ⁺，２２），１６４（４８），１６２（７
６），１４３（１００），１１５（７９），９７（９
２），６９（８９）． 実施例９ Ｎ−スクシンイミジル−６−（３，５−ジクロロフェノ
キシ）ヘキサノエートの合成

【００３９】

【化１３】

【００４０】６−（３，５−ジクロロフェノキシ）ヘキ
サン酸８００ｍｇ（２．８９ｍｍｏｌ）の無水ジクロロ
メタン溶液（１０ｍｌ）にＮ−ヒドロキシスクシンイミ
ド３６５ｍｇ（３．１７ｍｍｏｌ）塩酸１−エチル−３
−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド６０
８ｍｇ（３．１７ｍｍｏｌ）を加え、室温で２４時間撹
拌した。反応終了後、１０％クエン酸水溶液を加え、酢
酸エチルで抽出し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽
和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、
溶媒を減圧下留去した。エーテル−ヘキサンから再結晶
しＮ−スクシンイミジル−６−（３，５−ジクロロフェ
ノキシ）ヘキサノエート９１１ｍｇ（収率８４．４％）
を得た。¹ Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃）： δ １．５
５〜１．６４（ｍ，２Ｈ），１．７７〜１．８７（ｍ，
４Ｈ），２．６５（ｔ，Ｊ＝７．３Ｈｚ，２Ｈ），２．
８５（ｂｓ，４Ｈ）３．９４（ｔ，Ｊ＝６．３Ｈｚ，２
Ｈ），６．７８（ｄ，Ｊ＝１．８Ｈｚ，２Ｈ），６．９
４（ｔ，Ｊ＝１．８Ｈｚ，１Ｈ）ｐｐｍ． ＩＲ（ｌｉｑｕｉｄ ｆｉｌｍ）：２９５２，１８１
４，１７８４，１７４６，１５９０，１４４８，１３７
４，１２１２，１０７０ ｃｍ^-1 Ｍａｓｓ（ｍ／ｚ，％）：３７５（Ｍ⁺＋２，３１），
３７３（Ｍ⁺，４５），２６１（３６），２５９（５
５），９７（１００），６９（９８）． 実施例１０ ６−（４−フェニルフェノキシ）ヘキサン酸エチルの合
成

【００４１】

【化１４】

【００４２】４−フェニルフェノ−ル８５１ｍｇ（５．
０ｍｍｏｌ）の無水ジメチルホルムアミド溶液（１０ｍ
ｌ）に炭酸カリウム１３８０ｍｇ（１０．０ｍｍｏ
ｌ）、６−ブロモヘキサン酸エチル１１７１ｍｇ
（５．２５ｍｍｏｌ）を加え、室温で３日間撹拌した。
反応終了後、１０％クエン酸水溶液で弱酸性とした後、
酢酸エチルで抽出し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、
飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥
後、溶媒を減圧下留去した。エ−テル−ヘキサンから再
結晶し６−（４−フェニルフェノキシ）ヘキサン酸エチ
ル１．０６ｇ（収率６８．１％）を得た。¹ Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃）： δ １．２
６（ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ，３Ｈ），１．４８〜１．５７
（ｍ，２Ｈ），１．６８〜１．７６（ｍ，２Ｈ），１．
７９〜１．８７（ｍ，２Ｈ），２．３５（ｔ，Ｊ＝７．
５Ｈｚ，２Ｈ），４．００（ｔ，Ｊ＝６．４Ｈｚ，２
Ｈ），４．１４（q，Ｊ＝７．１Ｈｚ，２Ｈ），６．９
６（ｄ ｗｉｔｈ ｆｉｎｅ ｃｏｕｐｌｉｎｇ，Ｊ＝
８．８Ｈｚ，２Ｈ），７．３０（ｔ ｗｉｔｈ ｆｉｎ
ｅ ｃｏｕｐｌｉｎｇ，Ｊ＝７．４Ｈｚ，１Ｈ），７．
４２（ｔ ｗｉｔｈ ｆｉｎｅ ｃｏｕｐｌｉｎｇ，Ｊ
＝７．７Ｈｚ，２Ｈ），７．５１（ｄ ｗｉｔｈ ｆｉ
ｎｅ ｃｏｕｐｌｉｎｇ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，２Ｈ），
７．５５（ｄ ｗｉｔｈ ｆｉｎｅ ｃｏｕｐｌｉｎ
ｇ，Ｊ＝８．２Ｈｚ，２Ｈ） ｐｐｍ． ｍｐ：５３．５〜５４．０℃ ＩＲ（ＫＢｒ）：２９４４，１７４０，１６０２，１４
８０，１２５２， １１８０，１０３８ｃｍ^-1 Ｍａｓｓ（ｍ／ｚ，％）：３１２（Ｍ＋，７５），１７
０（１００），１４３（７０），１１５（２５），９７
（２２），６９（１９）． 実施例１１ ６−（４−フェニルフェノキシ）ヘキサン酸の合成

【００４３】

【化１５】

【００４４】６−（４−フェニルフェノキシ）ヘキサン
酸エチル６３０ｍｇ（２．０ｍｍｏｌ）をエタノ−ル４
０ｍｌに溶解し、４Ｎ水酸化ナトリウム水溶液０．８ｍ
ｌ（３．２ｍｍｏｌ）を加え室温で２２時間撹拌した。
反応終了後、溶媒を減圧下留去し、１Ｎ塩酸水溶液にて
酸性とした後、クロロホルム、メタノ−ルの混合溶媒で
抽出し、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾
燥後、溶媒を減圧下留去した。酢酸エチル−エ−テル−
ヘキサンから再結晶し６−（４−フェニルフェノキシ）
ヘキサン酸４８９ｍｇ（収率８５．４％）を得た。¹ Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃）： δ １．５
２−１．６１（ｍ，２Ｈ），１．７０〜１．７９（ｍ，
２Ｈ），１．８０〜１．８８（ｍ，２Ｈ），２．４２
（ｔ，Ｊ＝７．４Ｈｚ，２Ｈ），４．０１（ｔ，Ｊ＝
６．４Ｈｚ，２Ｈ），６．９６（ｄ ｗｉｔｈ ｆｉｎ
ｅ ｃｏｕｐｌｉｎｇ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，２Ｈ），７．
３０（ｔ ｗｉｔｈ ｆｉｎｅ ｃｏｕｐｌｉｎｇ，Ｊ
＝７．３Ｈｚ，１Ｈ），７．４１（ｔ ｗｉｔｈ ｆｉ
ｎｅ ｃｏｕｐｌｉｎｇ，Ｊ＝７．６Ｈｚ，２Ｈ），
７．５１（ｄ ｗｉｔｈ ｆｉｎｅ ｃｏｕｐｌｉｎ
ｇ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，２Ｈ），７．５５（ｄ ｗｉｔｈ
ｆｉｎｅ ｃｏｕｐｌｉｎｇ，Ｊ＝７．１Ｈｚ，２
Ｈ） ｐｐｍ． ｍｐ：１１８．０〜１１８．５℃ ＩＲ（ＫＢｒ）：３０４０，２９４４，１７０２，１６
１６，１４９４，１２９２，１２５０，１２０４，１０
５２ ｃｍ^-1 Ｍａｓｓ（ｍ／ｚ，％）：２８４（Ｍ⁺，７４），１７
０（１００）． 実施例１２ Ｎ−スクシンイミジル−６−（４−フェノキシ）ヘキサ
ノエートの合成

【００４５】

【化１６】

【００４６】６−（４−フェニルフェノキシ）ヘキサン
酸４８９ｍｇ（１．７２ｍｍｏｌ）の無水ジクロロメタ
ン溶液（１５ｍｌ）にＮ−ヒドロキシスクシンイミド２
１８ｍｇ（１．８９ｍｍｏｌ）塩酸１−エチル−３−
（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド３６２
ｍｇ（１．８９ｍｍｏｌ）を加え、室温で２日間撹拌し
た。反応終了後、１Ｎ塩酸水溶液を加え、クロロホルム
で抽出し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水
で順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減
圧下留去した。残留物をシリカゲルクロマトグラフィ−
（ヘキサン−酢酸エチル＝３：１）で精製し、酢酸エチ
ル−ヘキサンから再結晶しＮ−スクシンイミジル−６−
（４−フェノキシ）ヘキサノエート４７７ｍｇ（収率７
２．６％）を得た。¹ Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃）： δ １．５
８〜１．６７（ｍ，２Ｈ），１．８１〜１．９０（ｍ，
４Ｈ），２．６７（ｔ，Ｊ＝７．４Ｈｚ，２Ｈ），２．
８４（ｂｓ，４Ｈ），４．０２（ｔ，Ｊ＝６．３Ｈｚ，
２Ｈ），６．９６（ｄ ｗｉｔｈ ｆｉｎｅ ｃｏｕｐ
ｌｉｎｇ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，２Ｈ），７．３０（ｔ ｗ
ｉｔｈ ｆｉｎｅ ｃｏｕｐｌｉｎｇ，Ｊ＝７．４Ｈ
ｚ，１Ｈ），７．４１（ｔ ｗｉｔｈ ｆｉｎｅ ｃｏ
ｕｐｌｉｎｇ，Ｊ＝７．６Ｈｚ，２Ｈ），７．５１（ｄ
ｗｉｔｈ ｆｉｎｅ ｃｏｕｐｌｉｎｇ，Ｊ＝９．０
Ｈｚ，２Ｈ），７．５５（ｄ ｗｉｔｈ ｆｉｎｅ ｃ
ｏｕｐｌｉｎｇ，Ｊ＝７．１Ｈｚ，２Ｈ） ｐｐｍ． ｍｐ：１１２．０〜１１３．０℃ ＩＲ（ＫＢｒ）：２９４８，１８１４，１７８２，１７
３０，１６１２，１４８８，１３８６，１２５２，１２
０２，１０６６ ｃｍ^-1 Ｍａｓｓ（ｍ／ｚ，％）：３８１（Ｍ⁺，４５），１７
０（１００）． 参考例２ ウシ血清アルブミン（ＢＳＡ）結合３，４，５−トリク
ロロフェノール（ＴＣＰ−ＢＳＡ）の合成 ウシ血清アルブミン ５．０ｍｇを ０．１Ｍのリン酸緩
衝液（ｐＨ７．５）９００μｌに溶解し、Ｎ−スクシン
イミジル−６−（３，４，５−トリクロロフェノキシ）
ヘキサノエート １．１ｍｇの無水ジメチルホルムアミ
ド溶液 １００μｌを加え、室温で５時間撹拌した。そ
の後反応液を ＰＢＳ中で透析し脱塩して、標記ＴＣＰ
−ＢＳＡを得た。

【００４７】参考例３ ウシ血清アルブミン（ＢＳＡ）結合ビフェニル（ＢＰ−
ＢＳＡ）の合成 ＢＳＡ ５．０ｍｇを ０．１Ｍのリン酸緩衝液（ｐＨ
７．５）９００μｌに溶解し、Ｎ−スクシンイミジル−
６−（４−フェニルフェノキシ）ヘキサノエート１．０
ｍｇの無水ジメチルホルムアミド溶液 １００μｌを加
え、室温で終夜撹拌した。その後反応液を ＰＢＳ中で
透析し脱塩して、標記 ＢＰ−ＢＳＡを得た。

【００４８】参考例４ ウシ血清アルブミン結合ハプテン抗原感作粒子の作成 カルボキシル化フェライト粒子（日本ペイント社製）を
０．１Ｍリン酸緩衝液（ｐＨ５．０）にて ３回洗浄
し、同緩衝液 １ｍｌにて懸濁後、５〜２０μｇ／ｍｌ
に調整した参考例３で作成した ＢＰ−ＢＳＡ溶液 １ｍ
ｌを添加し ２５℃ ２時間、ローテーターにて回転反応
させた。粒子洗浄後、０．０５Ｍメス緩衝液（ｐＨ５．
５）１ｍｌに懸濁し、８０ｍｇ／ｍｌの塩酸 １−エチ
ル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミ
ド（ナカライタスク社製）水溶液を ５０μｌ添加し
て、ローテーターで ２５℃ ３０分回転反応させた。粒
子を洗浄後、ポストコート緩衝液を ２ｍｌ添加しロー
テーターで ３７℃一晩回転反応させた。粒子を洗浄
後、粒子濃度を １．５％に合わせて ＢＰ−ＢＳＡ感作
粒子を得た。

【００４９】また、前記 ＢＰ−ＢＳＡの代えてウシ血
清アルブミン結合 ＰＣＢ＃７７（ＰＣＢ＃７７−ＢＳ
Ａ；ＫＲＩ社製）を用いて ＰＣＢ＃７７−ＢＳＡ感作
粒子を得た。

【００５０】参考例５ アルカリフォスファターゼ標識抗ＰＣＢ＃７７抗体の作
成 抗ＰＣＢ＃７７モノクローナル抗体（ＰＣＢ７７Ｂ抗
体；ＫＲＩ社製）を用い、マレイミド法にてアルカリフ
ォスファターゼ（ＡＬＰ；オリエンタル社製）を結合し
ＡＬＰ標識抗ＰＣＢ＃７７抗体を得た。

【００５１】参考例６ ＰＣＢ＃７７（３，３’，４，４’−テトラクロロビフ
ェニル）の測定 ＰＣＢ＃７７の測定は、全自動化学発光免疫測定システ
ム（ルミパルスｆ；富士レビオ社製）を用いた １ステ
ップ競合法にて行った。参考例４で作成した ＢＰ−Ｂ
ＳＡ感作粒子または ＰＣＢ＃７７−ＢＳＡ感作粒子液
各 １５０μｌにＰＣＢ＃７７の標準抗原液 ９０μｌと
ＡＬＰ標識抗ＰＣＢ＃７７抗体液 ５０μｌを加え、３
７℃ ２０分間免疫反応を行い、洗浄後基質（ＡＭＰＰ
Ｄ）液 ２００μｌを加えて ３７℃ ５分間酵素反応を
行い、その後発光量を測定した。

【００５２】前記標準抗原液は、ＰＣＢ＃７７（ジーエ
ルサイエンス社製）を １０％ジメチルスルホキシド溶
液に溶解して作成した。ＰＣＢ＃７７は ０〜１００ｎ
ｇ／ｍｌの濃度に調整し、標準抗原０濃度のカウント値
を １００％とした時の各標準抗原液の応答（Ｂ／Ｂ０
（％））で標準曲線を求めた。その結果を図１に示す。
感作粒子について、ＰＣＢ＃７７−ＢＳＡ感作粒子と
ＢＰ−ＢＳＡ感作粒子とを比較したところ、ＢＰ−ＢＳ
Ａ感作粒子を用いた方の感度が高かった。その結果を表
１に示す。

【００５３】

【表１】

【００５４】また、ＢＰ−ＢＳＡ感作粒子を用いた Ｐ
ＣＢ＃７７測定系に対する ＰＣＢ＃１２６と ＰＣＢ＃
１６９の交叉反応性を確認したところ、ＰＣＢ＃１２６
と１６．３％の交叉反応性が認められたが、ＰＣＢ＃１
６９との交叉反応性は認められなかった。

【００５５】

【表２】

【００５６】参考例７ ウシ血清アルブミン結合ハプテン抗原感作粒子の作成 カルボキシル化フェライト粒子（日本ペイント社製）を
０．１Ｍリン酸緩衝液（ｐＨ５．０）にて３回洗浄
し、同緩衝液 １ｍｌにて懸濁後、５〜２０μｇ／ｍｌ
に調整した参考例２で作成した ＴＣＰ−ＢＳＡ溶液 １
ｍｌを添加し ２５℃ ２時間、ローテーターにて回転反
応させた。粒子洗浄後、０．０５Ｍメス緩衝液（ｐＨ
５．５）１ｍｌに懸濁し、８０ｍｇ／ｍｌの塩酸 １−
エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジ
イミド（ナカライタスク社製）水溶液を ５０μｌ添加
して、ローテーターで ２５℃ ３０分回転反応させた。
粒子を洗浄後、ポストコート緩衝液を ２ｍｌ添加しロ
ーテーターで ３７℃一晩回転反応させた。粒子を洗浄
後、粒子濃度を １．５％に合わせて ＴＣＰ−ＢＳＡ感
作粒子を得た。

【００５７】また、前記 ＴＣＰ−ＢＳＡに代えてウシ
血清アルブミン結合 ＰＣＢ＃１２６（ＰＣＢ＃１２６
−ＢＳＡ；ＫＲＩ社製）を用いて ＰＣＢ＃１２６−Ｂ
ＳＡ感作粒子を得た。

【００５８】参考例８ アルカリフォスファターゼ標識抗ＰＣＢ＃１２６抗体の
作成 抗ＰＣＢ＃１２６モノクローナル抗体（ＰＣＢ７７Ａ抗
体；ＫＲＩ社製）を用い、マレイミド法にてアルカリフ
ォスファターゼ（ＡＬＰ；オリエンタル社製）を結合し
ＡＬＰ標識抗ＰＣＢ＃１２６抗体を得た。

【００５９】参考例９ ＰＣＢ＃１２６（３，３’，４，４’，５−ペンタクロ
ロビフェニル）の測定 ＰＣＢ＃１２６の測定は、全自動化学発光免疫測定シス
テム（ルミパルスｆ；富士レビオ社製）を用いた １ス
テップ競合法にて行った。参考例７で作成したＴＣＰ−
ＢＳＡ感作粒子または ＰＣＢ＃１２６−ＢＳＡ感作粒
子液各 １５０μｌに標準抗原 ９０μｌと酵素標識抗体
液 ５０μｌを加え、３７℃ ２０分間免疫反応を行い、
洗浄後基質液 ２００μｌを加えて ３７℃ ５分間酵素
反応を行い、その後発光量を測定した。

【００６０】前記標準抗原液は、ＰＣＢ＃１２６（ジー
エルサイエンス社製）を １０％ジメチルスルホキシド
溶液に溶解して作成した。ＰＣＢ＃１２６は０〜１０ｎ
ｇ／ｍｌの濃度に調整し、標準抗原０濃度のカウント値
を １００％とした時の各標準抗原液の応答（Ｂ／Ｂ０
（％））で標準曲線を求めた。その結果を図２に示す。
感作粒子について、ＴＣＰ−ＢＳＡ感作粒子と ＰＣＢ
＃１２６−ＢＳＡ感作粒子とを比較したところ、ＴＣＰ
−ＢＳＡ感作粒子を用いた方の感度が高かった。その結
果を表１に示す。

【００６１】また、ＴＣＰ−ＢＳＡ感作粒子を用いた
ＰＣＢ＃１２６測定系に対する ＰＣＢ＃７７と ＰＣＢ
＃１６９の交叉反応性を確認したところ、ＰＣＢ＃７７
と７．１％の交叉反応性が認められたが、ＰＣＢ＃１６
９とはほとんど交叉反応性は認められなかった。

【００６２】参考例１０ ウシ血清アルブミン結合ハプテン抗原感作粒子の作成 参考例２の ＴＣＰ−ＢＳＡに代えて ＰＣＢ＃１６９−
ＢＳＡ（ＫＲＩ社製）を用いて ＰＣＢ＃１６９−ＢＳ
Ａ感作粒子を得た。 参考例１１ アルカリフォスファターゼ標識体抗ＰＣＢ
＃１６９抗体の作成 抗ＰＣＢ＃１６９モノクローナル抗体（ＰＣＢ１６９Ｅ
抗体；ＫＲＩ社製）を用い、マレイミド法にてアルカリ
フォスファターゼ（ＡＬＰ；オリエンタル社製）を結合
し ＡＬＰ標識抗ＰＣＢ＃１６９抗体を得た。

【００６３】参考例１２ ＰＣＢ＃１６９（３，３’，４，４’，５，５’−ヘキ
サクロロビフェニル）の測定 ＰＣＢ＃１６９の測定は、全自動化学発光免疫測定シス
テム（ルミパルスｆ；富士レビオ社製）を用いた １ス
テップ競合法にて行った。参考例７で作成したすなわち
ＴＣＰ−ＢＳＡ感作粒子または参考例１０で作成した
ＰＣＢ＃１６９−ＢＳＡ感作粒子液各 １５０μｌに標
準抗原 ９０μｌと酵素標識抗体液 ５０μｌを加え、３
７℃ ２０分間免疫反応を行い、洗浄後基質液 ２００μ
ｌを加えて ３７℃ ５分間酵素反応を行い、その後発光
量を測定した。

【００６４】前記標準抗原液は、ＰＣＢ＃１６９（ジー
エルサイエンス社製）を １０％ジメチルスルホキシド
溶液に溶解して作成した。ＰＣＢ＃１６９は ０〜１０
ｎｇ／ｍｌの濃度に調整し、標準抗原０濃度のカウント
値を １００％とした時の各標準抗原液の応答（Ｂ／Ｂ
０（％））で標準曲線を求めた。その結果を図３に示
す。感作粒子について、ＴＣＰ−ＢＳＡ感作粒子と Ｐ
ＣＢ＃１６９−ＢＳＡ感作粒子とを比較したところ、Ｔ
ＣＰ−ＢＳＡ感作粒子を用いた方の感度が高かった。そ
の結果を表１に示す。

【００６５】また、ＴＣＰ−ＢＳＡ感作粒子を用いた
ＰＣＢ＃１６９測定系に対する ＰＣＢ＃７７と ＰＣＢ
＃１２６の交叉反応性を確認したところ、ＰＣＢ＃７７
と６．３％、ＰＣＢ＃１２６とは１００％の交叉反応性
が認められた。

【００６６】

【発明の効果】本発明の一般式（Ｉ）で表されるフェノ
キシ化合物は、ＰＣＢを測定するための試薬として有用
である。本発明の一般式（Ｉ）で表されるフェノキシ化
合物は、例えばＢＳＡと結合させて、酵素免疫測定法に
よるＰＣＢの測定に用いることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】ＰＣＢ＃７７を測定したときの標準曲線を示
す。

【図２】ＰＣＢ＃１２６を測定したときの標準曲線を示
す。

【図３】ＰＣＢ＃１６９を測定したときの標準曲線を示
す。

Claims (16)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 一般式 【化１】 で表されるフェノキシ化合物（式中、Ｒ¹は、塩素原子
   またはフェニル基、Ｒ²およびＲ³は、水素原子または塩
   素原子、Ｒ⁴は、アルキル基、アリール基、水素原子ま
   たはスクシンイミジル基、ｍは、５ないし７の整数であ
   る。）。
2. 【請求項２】 Ｒ⁴が水素原子である請求項１に記載の
   化合物。
3. 【請求項３】 Ｒ⁴がアルキル基である請求項１に記載
   の化合物。
4. 【請求項４】 アルキル基が低級アルキル基である請求
   項３に記載の化合物。
5. 【請求項５】 Ｒ⁴がスクシンイミジル基である請求項
   １に記載の化合物。
6. 【請求項６】 ｍが５である請求項１に記載の化合物。
7. 【請求項７】 Ｒ¹、Ｒ²およびＲ³が塩素原子である請
   求項１に記載の化合物。
8. 【請求項８】 Ｒ¹がフェニル基であり、Ｒ²およびＲ³
   が水素原子である請求項１に記載の化合物。
9. 【請求項９】 Ｒ¹、Ｒ²およびＲ³が塩素原子、Ｒ⁴が水
   素原子であり、ｍが５である請求項１に記載の化合物。
10. 【請求項１０】 Ｒ¹、Ｒ²およびＲ³が塩素原子、Ｒ⁴が
    アルキル基であり、ｍが５である請求項１に記載の化合
    物。
11. 【請求項１１】 アルキル基が低級アルキル基である請
    求項１０に記載の化合物。
12. 【請求項１２】 Ｒ¹、Ｒ²およびＲ³が塩素原子、Ｒ⁴が
    スクシンイミジル基であり、ｍが５である請求項１に記
    載の化合物。
13. 【請求項１３】 Ｒ¹がフェニル基、Ｒ²およびＲ³が水
    素原子、Ｒ⁴が水素原子、ｍが５である請求項１に記載
    の化合物。
14. 【請求項１４】 Ｒ¹がフェニル基、Ｒ²およびＲ³が水
    素原子、Ｒ⁴がアルキル基、ｍが５である請求項１に記
    載の化合物。
15. 【請求項１５】 アルキル基が低級アルキル基である請
    求項１４の化合物。
16. 【請求項１６】 Ｒ¹がフェニル基、Ｒ²およびＲ³が水
    素原子、Ｒ⁴がスクシンイミジル基、ｍが５である請求
    項１に記載の化合物。