JP2002121355A - Polystyrene resin composition and its molded article - Google Patents

Polystyrene resin composition and its molded article

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JP2002121355A JP2000312242A JP2000312242A JP2002121355A JP 2002121355 A JP2002121355 A JP 2002121355A JP 2000312242 A JP2000312242 A JP 2000312242A JP 2000312242 A JP2000312242 A JP 2000312242A JP 2002121355 A JP2002121355 A JP 2002121355A
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a polystyrene resin composition which remarkably improves printability and adherence of a molded article such as a film or a sheet, made of a styrenic block copolymer or a styrenic graft copolymer, and a molded article made therefrom. SOLUTION: The styrenic resin composition consists of (1) a styrene polymer having a syndiotactic structure, (2) a styrene/diene or styrene/olefin block or graft copolymer, and if necessary, (3) a styrene polymer having an atactic structure, wherein the content of the styrene polymer having a syndiotactic structure is 3-40 wt.%. The molded article is made from the composition and has a total haze of 5% or lower.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、スチレン系樹脂組
成物及びその成形体に関し、さらに詳しくは各種包装用
フィルム,包装容器向けフィルム,シートあるいは容器
として好適なスチン系樹脂組成物及びその成形体に関す
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a styrenic resin composition and a molded article thereof, and more particularly, to a stin-based resin composition suitable as various packaging films, films, sheets or containers for packaging containers, and a molded article thereof. About.

【0002】[0002]

【従来の技術】SBS,SIS,SEBS等のスチレン
系ブロック共重合体やスチレン系グラフト共重合体は、
他樹脂の改質剤やそれを主成分とする成形体として種々
の用途に用いられている(特開平2000−18617
9号公報)。しかし、これらのスチレン系ブロック共重
合体やスチレン系グラフト共重合体を主成分とする、あ
るいは添加したフィルムやシートにおいて、二次加工時
の接着剤,インキの種類,乾燥条件などに制約が多く、
改良が望まれている。また、アタクチック構造のポリス
チレン(以下、aPSと略称することがある。)に結晶
性を有するシンジオタクチック構造のスチレン性重合体
(以下、SPSと略称することがある。)を配合するこ
とによって、耐溶剤性が向上したスチレン系重合体組成
物が得られることが知られている(例えば、特願平11
−69454号明細書,特願平11−69453号明細
書,特開平12−73992号公報,特開平11−27
9347号公報,特開平11−279348号公報,特
開平11−279349号公報,特開平8−92385
号公報,特開平8−92444号公報など)。しかしな
がら、このスチレン系重合体組成物は、耐溶剤性には優
れるものの、SPSの融点以上で混練及び成形(2回の
高温での熱履歴)されており、成形品中のオリゴマー含
量が増加し、その結果スチレンオリゴマー溶出量の低減
は認められていない。特に、SPSホモポリマーを用い
た場合には、この問題点は顕著である。この問題点に対
応するため、aPSと特定のSPSからなるドライブレ
ンド材を用いる成形方法が提案されている(特願平11
−284024号明細書)。この方法は、ドライブレン
ドでの成形及び低融点のSPSを用いることにより、成
形温度を低くすることができるため、成形品中のスチレ
ンオリゴマー含量の増加を抑制し、スチレンオリゴマー
溶出量の低減が期待される。上記のように、aPSの改
質については、様々な検討がなされてきたが、スチレン
系ブロック共重合体やスチレン系グラフト共重合体につ
いての検討はまだ充分とは言えなかった。
2. Description of the Related Art Styrene block copolymers such as SBS, SIS and SEBS and styrene graft copolymers are
It is used for various purposes as a modifier of another resin or a molded article containing the same as a main component (JP-A-2000-18617).
No. 9). However, in films and sheets containing or adding these styrene-based block copolymers or styrene-based graft copolymers as main components, there are many restrictions on the types of adhesives, inks, drying conditions, and the like during secondary processing. ,
Improvement is desired. In addition, a polystyrene having a syndiotactic structure (hereinafter, may be abbreviated as SPS) having crystallinity is mixed with polystyrene having an atactic structure (hereinafter sometimes abbreviated as aPS). It is known that a styrene-based polymer composition having improved solvent resistance can be obtained (see, for example, Japanese Patent Application No. Hei 11 (1999) -107).
-69454, Japanese Patent Application No. 11-69453, JP-A-12-79992, JP-A-11-27.
9347, JP-A-11-279348, JP-A-11-279349, JP-A-8-92385
JP-A-8-92444). However, this styrenic polymer composition has excellent solvent resistance, but is kneaded and molded at a temperature higher than the melting point of SPS (heat history at two high temperatures), and the oligomer content in the molded article increases. As a result, no reduction in the elution amount of the styrene oligomer was observed. This problem is particularly remarkable when an SPS homopolymer is used. In order to cope with this problem, a molding method using a dry blend material comprising aPS and a specific SPS has been proposed (Japanese Patent Application No. Hei 11 (1999) -107).
-284024). In this method, the molding temperature can be lowered by molding with dry blending and using SPS with a low melting point, so that an increase in the content of styrene oligomer in the molded article is suppressed and a reduction in the amount of styrene oligomer eluted is expected. Is done. As described above, various studies have been made on the modification of aPS, but studies on styrene-based block copolymers and styrene-based graft copolymers have not been sufficient.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記の従来
技術の問題点を解消し、スチレン系ブロック共重合体又
はスチレン系グラフト共重合体のフィルム,シート等の
成形品の印刷性及び接着性を著しく向上しうるスチレン
系樹脂組成物及びその成形体を提供することを目的とす
る。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention solves the above-mentioned problems of the prior art and provides printability and adhesion of a molded article such as a film or sheet of a styrene-based block copolymer or a styrene-based graft copolymer. It is an object of the present invention to provide a styrenic resin composition and a molded article thereof which can significantly improve the properties.

【0004】[0004]

【課題を解決するための手段】本発明者は、スチレン系
ブロック共重合体又はスチレン系グラフト共重合体にS
PSあるいはSPSとaPSを配合することによって上
記目的を達成しうることを見出した。本発明はこのよう
な知見に基づいて完成したものである。すなわち、本発
明は、シンジオタクチック構造のスチレン系重合体3
〜40重量%とスチレン−ジエン系あるいはスチレン
−オレフィン系のブロックあるいはグラフト共重合体9
7〜60重量%からなるスチレン系樹脂組成物並びに
シンジオタクチック構造のスチレン系重合体3〜40重
量%,スチレン−ジエン系あるいはスチレン−オレフ
ィン系のブロックあるいはグラフト共重合体87〜20
重量%及びアタクチック構造のスチレン系重合体10
〜40重量%からなるスチレン系樹脂組成物を提供する
とともに、これらのスチレン系樹脂組成物からなり、全
ヘイズが5%以下であることを特徴とする成形体を提供
するものである。
The inventor of the present invention has proposed that a styrene-based block copolymer or a styrene-based graft
It has been found that the above object can be achieved by blending PS or SPS with aPS. The present invention has been completed based on such findings. That is, the present invention provides a styrene-based polymer 3 having a syndiotactic structure.
Styrene-diene-based or styrene-olefin-based block or graft copolymer 9 to 40% by weight
A styrene-based resin composition comprising 7 to 60% by weight, a styrene-based polymer having a syndiotactic structure, 3 to 40% by weight, a styrene-diene-based or styrene-olefin-based block or graft copolymer 87 to 20%
% By weight and an atactic styrene polymer 10
The present invention provides a styrenic resin composition comprising the styrenic resin composition of up to 40% by weight, and a molded article comprising the styrenic resin composition and having a total haze of 5% or less.

【0005】[0005]

【発明の実施の形態】本発明のスチレン系樹脂組成物
は、前記のように、シンジオタクチック構造のスチレ
ン系重合体とスチレン−ジエン系あるいはスチレン−
オレフィン系のブロックあるいはグラフト共重合体を含
有するか、又はシンジオタクチック構造のスチレン系
重合体,スチレン−ジエン系あるいはスチレン−オレ
フィン系のブロックあるいはグラフト共重合体及びア
タクチック構造のスチレン系重合体を含有するものであ
る。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION As described above, the styrenic resin composition of the present invention comprises a styrenic polymer having a syndiotactic structure and a styrene-diene or styrene-based polymer.
It contains an olefin-based block or graft copolymer, or a styrene-based polymer having a syndiotactic structure, a styrene-diene-based or styrene-olefin-based block or graft copolymer, and a styrene-based polymer having an atactic structure. It contains.

【0006】成分のシンジオタクチック構造のスチレ
ン系重合体(SPS)におけるシンジオタクチック構造
とは、立体化学構造がシンジオタクチック構造、即ち炭
素−炭素結合から形成される主鎖に対して側鎖であるフ
ェニル基が交互に反対方向に位置する立体構造を有する
ものであり、そのタクティシティーは同位体炭素による
核磁気共鳴法(13C−NMR)により定量される。13
−NMR法により測定されるタクティシティーは、連続
する複数個の構成単位の存在割合、例えば2個の場合は
ダイアッド、3個の場合はトリアッド、5個の場合はペ
ンタッドによって示すことができるが、本発明に言うS
PSとは、通常はラセミダイアッドで75%以上、好ま
しくは85%以上、若しくはラセミペンタッドで30%
以上、好ましくは50%以上のシンジオタクティシティ
ーを有するポリスチレン,ポリ(アルキルスチレン),
ポリ(ハロゲン化スチレン),ポリ(ハロゲン化アルキ
ルスチレン),ポリ(アルコキシスチレン),ポリ(ビ
ニル安息香酸エステル),これらの水素化重合体及びこ
れらの混合物,あるいはこれらを主成分とする共重合体
を指称する。なお、ここでポリ(アルキルスチレン)と
しては、ポリ(メチルスチレン),ポリ(エチルスチレ
ン),ポリ(イソプロピルスチレン),ポリ(ターシャ
リーブチルスチレン),ポリ(フェニルスチレン),ポ
リ(ビニルナフタレン),ポリ(ビニルスチレン)など
があり、ポリ(ハロゲン化スチレン)としては、ポリ
(クロロスチレン),ポリ(ブロモスチレン),ポリ
(フルオロスチレン)などがある。また、ポリ(ハロゲ
ン化アルキルスチレン)としては、ポリ(クロロメチル
スチレン)など、またポリ(アルコキシスチレン)とし
ては、ポリ(メトキシスチレン),ポリ(エトキシスチ
レン)などがある。
The syndiotactic structure in the styrenic polymer (SPS) having a syndiotactic structure is a syndiotactic structure in which the stereochemical structure is a side chain with respect to a main chain formed from carbon-carbon bonds. Has a steric structure in which phenyl groups are alternately located in opposite directions, and its tacticity is quantified by nuclear magnetic resonance ( 13 C-NMR) using isotope carbon. 13 C
-Tacticity measured by the NMR method can be represented by an existing ratio of a plurality of continuous structural units, for example, a dyad for two, a triad for three, a pentad for five, S in the present invention
PS is usually 75% or more, preferably 85% or more in racemic diad, or 30% in racemic pentad
Polystyrene, poly (alkylstyrene) having a syndiotacticity of 50% or more, preferably 50% or more,
Poly (halogenated styrene), poly (halogenated alkylstyrene), poly (alkoxystyrene), poly (vinyl benzoate), hydrogenated polymers thereof and mixtures thereof, or copolymers containing these as main components Is referred to. Here, poly (alkylstyrene) includes poly (methylstyrene), poly (ethylstyrene), poly (isopropylstyrene), poly (tertiary butylstyrene), poly (phenylstyrene), poly (vinylnaphthalene), Examples include poly (vinyl styrene), and examples of poly (halogenated styrene) include poly (chlorostyrene), poly (bromostyrene), and poly (fluorostyrene). Examples of poly (halogenated alkylstyrene) include poly (chloromethylstyrene), and examples of poly (alkoxystyrene) include poly (methoxystyrene) and poly (ethoxystyrene).

【0007】なお、これらのうち特に好ましいスチレン
系重合体としては、ポリスチレン,ポリ(p−メチルス
チレン),ポリ(m−メチルスチレン),ポリ(エチル
スチレン),ポリ(ジビニルベンゼン),ポリ(p−タ
ーシャリーブチルスチレン),ポリ(p−クロロスチレ
ン),ポリ(m−クロロスチレン),ポリ(p−フルオ
ロスチレン),水素化ポリスチレン及びこれらの構造単
位を含む共重合体が挙げられる。
[0007] Of these, particularly preferred styrene polymers include polystyrene, poly (p-methylstyrene), poly (m-methylstyrene), poly (ethylstyrene), poly (divinylbenzene) and poly (p-methylstyrene). -Tert-butylstyrene), poly (p-chlorostyrene), poly (m-chlorostyrene), poly (p-fluorostyrene), hydrogenated polystyrene and copolymers containing these structural units.

【0008】このようなSPSは、例えば不活性炭化水
素溶媒中または溶媒の不存在下に、チタン化合物及び水
とトリアルキルアルミニウムの縮合生成物を触媒とし
て、スチレン系単量体(上記スチレン系重合体に対応す
る単量体)を重合することにより製造することができる
(特開昭62―187708号公報)。また、ポリ(ハ
ロゲン化アルキルスチレン)については特開平1−46
912号公報、これらの水素化重合体は特開平1−17
8505号公報記載の方法などにより得ることができ
る。
[0008] Such SPS can be prepared, for example, using a titanium compound and a condensation product of water and a trialkylaluminum as a catalyst in an inert hydrocarbon solvent or in the absence of a solvent. (A monomer corresponding to the union) can be produced (JP-A-62-187708). For poly (halogenated alkylstyrene), see JP-A-1-46.
No. 912, these hydrogenated polymers are disclosed in
It can be obtained by the method described in JP-A-8505.

【0009】更に、スチレン系共重合体におけるコモノ
マーとしては、上述の如きスチレン系重合体のモノマー
のほか、エチレン,プロピレン,ブテン,ヘキセン,オ
クテン等のオレフィンモノマー、ブタジエン,イソプレ
ン等のジエンモノマー、環状ジエンモノマーやメタクリ
ル酸メチル,無水マレイン酸,アクリロニトリル等の極
性ビニルモノマー等を挙げることができる。特に、スチ
レン繰返し単位が70〜97モル%,アルキルスチレン
繰返し単位が3〜30モル%からなるスチレン系重合体
が好ましく用いられる。
The comonomer in the styrenic copolymer includes, in addition to the above-mentioned styrenic polymer monomers, olefin monomers such as ethylene, propylene, butene, hexene and octene; diene monomers such as butadiene and isoprene; Examples include diene monomers and polar vinyl monomers such as methyl methacrylate, maleic anhydride, and acrylonitrile. In particular, a styrene-based polymer having 70 to 97 mol% of styrene repeating units and 3 to 30 mol% of alkylstyrene repeating units is preferably used.

【0010】本発明において、SPSの分子量について
特に制限はないが、300℃、1.2kg荷重で測定し
たメルトフローインデックス(MI)が1〜60、好ま
しくは3〜60、さらに好ましくは10〜60のもので
ある。ここで、MIが1未満であると、組成物にする際
の分散性が不充分な場合がある。さらに、MIが60を
超えると力学物性が充分でない場合がある。また、SP
Sの融点(Tm)は255℃以下が好ましく、250℃
以下がさらに好ましい。融点が255℃を超えると、混
練、成形時の樹脂温度が高くなり、スチレン−ジエン系
あるいはスチレン−オレフィン系のブロックあるいはグ
ラフト共重合体の熱劣化により成形体にブツ,変色等の
問題が生ずる場合がある。さらに、SPSの結晶化温度
(Tc)は、200℃以下が好ましく、195℃以下が
さらに好ましい。結晶化温度が200℃を超えると、改
質対象樹脂中での分散が不充分になる場合がある。な
お、結晶化温度は、示差走査熱量計(DSC)で300
℃から50℃まで、5〜20℃/分の速度で降温したと
きに現れる結晶化のピーク温度を指す。
In the present invention, the molecular weight of SPS is not particularly limited, but the melt flow index (MI) measured at 300 ° C. under a load of 1.2 kg is 1 to 60, preferably 3 to 60, more preferably 10 to 60. belongs to. Here, if the MI is less than 1, the dispersibility in preparing the composition may be insufficient. Furthermore, when MI exceeds 60, the mechanical properties may not be sufficient. Also, SP
The melting point (Tm) of S is preferably 255 ° C. or less, and 250 ° C.
The following are more preferred. When the melting point exceeds 255 ° C., the resin temperature during kneading and molding becomes high, and the styrene-diene-based or styrene-olefin-based block or graft copolymer suffers from thermal deterioration, causing problems such as bumps and discoloration in the molded product. There are cases. Further, the crystallization temperature (Tc) of the SPS is preferably 200 ° C. or lower, more preferably 195 ° C. or lower. If the crystallization temperature exceeds 200 ° C., the dispersion in the resin to be modified may be insufficient. The crystallization temperature was determined by a differential scanning calorimeter (DSC) to be 300.
It refers to the peak temperature of crystallization that appears when the temperature is lowered from 5 ° C. to 50 ° C. at a rate of 5 to 20 ° C./min.

【0011】本発明の組成物において、SPSは3〜4
0重量%、好ましくは3〜30重量%、さらに好ましく
は5〜30重量%の範囲で使用される。この含有量が3
重量%未満では、二次加工性の改良効果が不充分であ
り、40重量%を超えると、成形体の靱性が不充分にな
る場合がある。
[0011] In the composition of the present invention, SPS is 3-4.
0% by weight, preferably 3 to 30% by weight, more preferably 5 to 30% by weight. This content is 3
If the amount is less than 40% by weight, the effect of improving the secondary workability is insufficient, and if it exceeds 40% by weight, the toughness of the molded article may be insufficient.

【0012】次に、成分のスチレン−ジエン系或いは
スチレン−オレフィン系ブロック共重合体は、例えば、
有機溶媒中、有機リチウム化合物を開始剤としてビニル
芳香族炭化水素及び共役ジエンを共重合させることによ
り得られる。ここで、ビニル芳香族炭化水素としては、
スチレン,o−メチルスチレン,p−メチルスチレン,
p−tert−ブチルスチレン,1,3−ブチルスチレ
ン,α−メチルスチレン,ビニルナフタレン,ビニルア
ントラセン,1,1−ジフエニルエチレンなどが挙げら
れるが、特に一般的なものとしてはスチレンが挙げられ
る。これらは単独で又は2種以上を組み合わせて使用し
てもよい。共役ジエンとしては、一対の共役二重結合を
有するジオレフィンであれば特に制限はなく、例えば、
1,3−ブタジエン、2−メチル−1,3−ブタジエン
(イソプレン)、2,3−ジメチル−1,3−ブタジエ
ン、1,3−ペンタジエン、1,3−ヘキサジエンなど
が挙げられ、これらは単独で又は2種類以上を組み合わ
せて使用することができる。また、スチレン−オレフィ
ン系のブロック共重合体としては、前記のスチレン−ジ
エン系ブロック共重合体の水添物が挙げられる。
Next, the styrene-diene-based or styrene-olefin-based block copolymer is, for example,
It is obtained by copolymerizing vinyl aromatic hydrocarbon and conjugated diene in an organic solvent using an organic lithium compound as an initiator. Here, as the vinyl aromatic hydrocarbon,
Styrene, o-methylstyrene, p-methylstyrene,
Examples thereof include p-tert-butylstyrene, 1,3-butylstyrene, α-methylstyrene, vinylnaphthalene, vinylanthracene, and 1,1-diphenylethylene, and styrene is particularly common. These may be used alone or in combination of two or more. The conjugated diene is not particularly limited as long as it is a diolefin having a pair of conjugated double bonds.
Examples thereof include 1,3-butadiene, 2-methyl-1,3-butadiene (isoprene), 2,3-dimethyl-1,3-butadiene, 1,3-pentadiene, and 1,3-hexadiene. Or two or more kinds can be used in combination. Examples of the styrene-olefin block copolymer include hydrogenated products of the styrene-diene block copolymer described above.

【0013】本発明に使用するブロック共重合体は、少
なくとも一つのビニル芳香族炭化水素ブロックと少なく
とも一つの共役ジエン又はその水添物ブロックを有し、
例えば、下記の一般式で示されるものが挙げられる。A
−B,A−(B−A)n ,A−(B−A)n −B又はB
−(A−B)n+1 で表される線状ブロック共重合体、
〔(A−B)k m+2 −X,〔(A−B)k −A〕m+2
−X,〔(B−A)k m+2 −X又は〔(B−A)k
B〕m+2 −Xで表されるラジアルブロック共重合体〔式
中、Aはビニル芳香族炭化水素重合体ブロックを示し、
Bは共役ジエン重合体又はその水添物ブロックを示し、
Xはカップリング剤の残基又は多官能有機リチウム化合
物等の開始剤残基を示し、n,k及びmは1〜5の整数
を示す。〕
[0013] The block copolymer used in the present invention is small.
At least one vinyl aromatic hydrocarbon block
Both have one conjugated diene or its hydrogenated block,
For example, those represented by the following general formula can be mentioned. A
-B, A- (BA)n, A- (BA)n-B or B
-(AB)n + 1A linear block copolymer represented by
[(AB)k]m + 2−X, [(AB)k-A]m + 2
−X, [(BA)k] m + 2-X or [(BA)k
B]m + 2-X, a radial block copolymer represented by the formula
Wherein A represents a vinyl aromatic hydrocarbon polymer block,
B represents a conjugated diene polymer or a hydrogenated block thereof,
X is a residue of a coupling agent or a polyfunctional organic lithium compound.
And n, k and m are integers of 1 to 5
Is shown. ]

【0014】これらのうち、例えば、スチレン−ブタジ
エンブロック共重合体(SBR),水素添加スチレン−
ブタジエンブロック共重合体(SEB),スチレン−ブ
タジエン−スチレンブロック共重合体(SBS),スチ
レン−ブタジエン−ブチレン−スチレンブロック共重合
体(SBBS),水素添加スチレン−ブタジエン−スチ
レンブロック共重合体(SEBS),スチレン−イソプ
レンブロック共重合体(SIR),水素添加スチレン−
イソプレンブロック共重合体(SEP),スチレン−イ
ソプレン−スチレンブロック共重合体(SIS),水素
添加スチレン−イソプレン−スチレンブロック共重合体
(SEPS),水素添加スチレン−ブタジエン−イソプ
レン−スチレンブロック共重合体(SEEPS)などが
好適である。
Among them, for example, styrene-butadiene block copolymer (SBR), hydrogenated styrene-
Butadiene block copolymer (SEB), styrene-butadiene-styrene block copolymer (SBS), styrene-butadiene-butylene-styrene block copolymer (SBBS), hydrogenated styrene-butadiene-styrene block copolymer (SEBS) ), Styrene-isoprene block copolymer (SIR), hydrogenated styrene
Isoprene block copolymer (SEP), styrene-isoprene-styrene block copolymer (SIS), hydrogenated styrene-isoprene-styrene block copolymer (SEPS), hydrogenated styrene-butadiene-isoprene-styrene block copolymer (SEEPS) and the like are preferable.

【0015】また、成分のスチレン−ジエン系或いは
スチレン−オレフィン系のグラフト共重合体は、スチレ
ン系樹脂連続相にスチレン系樹脂を包含し、かつ、スチ
レン系樹脂がポリブタジエン等のゴム成分にグラフトし
たゴム状重合体からなる粒子が分散した構造を基本とし
た重合体である。
In the styrene-diene-based or styrene-olefin-based graft copolymer, a styrene-based resin is included in a styrene-based resin continuous phase, and the styrene-based resin is grafted onto a rubber component such as polybutadiene. It is a polymer based on a structure in which particles made of a rubbery polymer are dispersed.

【0016】本発明に用いる成分のスチレン−ジエン
系或いはスチレン−オレフィン系のブロック或いはグラ
フト共重合体におけるスチレン構造の含量については、
特に制限はないが、25モル%以上であるのが好まし
い。ここでスチレン構造が25モル%未満であると、S
PSとの分散性が悪化し、目的とする二次加工性の改質
効果が発揮できない場合がある。また、スチレン−ジエ
ン系或いはスチレン−オレフィン系のブロック或いはグ
ラフト共重合体の分子量については、特に制限はない
が、一般に、数平均分子量50,000〜500,00
0、好ましくは70,000〜300,000である。
ここで、数平均分子量が50,000未満であると、得
られた成形品の力学物性が充分でない。なお、数平均分
子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(G
PC)の測定により算出したものである。
The content of the styrene structure in the styrene-diene-based or styrene-olefin-based block or graft copolymer used in the present invention is as follows.
There is no particular limitation, but it is preferably at least 25 mol%. Here, when the styrene structure is less than 25 mol%, S
In some cases, the dispersibility with PS deteriorates, and the desired effect of improving the secondary workability cannot be exhibited. The molecular weight of the styrene-diene-based or styrene-olefin-based block or graft copolymer is not particularly limited, but generally, the number average molecular weight is 50,000 to 500,000.
0, preferably 70,000 to 300,000.
Here, if the number average molecular weight is less than 50,000, the mechanical properties of the obtained molded product are not sufficient. The number average molecular weight is determined by gel permeation chromatography (G
PC).

【0017】本発明のスチレン系樹脂組成物は、必要に
応じて、成分としてアタクチック構造を有するスチレ
ン系重合体(aPS)を40重量%以下の範囲で含有す
ることができる。ここで、aPSの配合量が40重量%
を超えると、靭性、熱加工特性が低下する。本発明に用
いaPSとは、工業的には塊状重合,溶液重合,懸濁重
合,乳化重合などの方法によるラジカル重合で得られる
スチレン系重合体である。このようなラジカル重合で得
られたポリスチレンは、通常アタクチック構造のもので
立体規則性を有していない。また、ここで言うアタクチ
ック構造のポリスチレンは、一種類以上の芳香族ビニル
化合物からなる重合体、あるいは一種類以上の芳香族ビ
ニル化合物と共重合可能な一種類以上の他のビニル単量
体の共重合体、これらの重合体の水素化重合体及びこれ
らの混合物であっても良く、aPS,HIPS,AS,
ABS等が含まれる。
The styrenic resin composition of the present invention may contain a styrene-based polymer (aPS) having an atactic structure as a component in an amount of up to 40% by weight, if necessary. Here, the compounding amount of aPS is 40% by weight.
If it exceeds 300, the toughness and the thermal processing characteristics will be reduced. The aPS used in the present invention is a styrene polymer industrially obtained by radical polymerization by a method such as bulk polymerization, solution polymerization, suspension polymerization, or emulsion polymerization. The polystyrene obtained by such radical polymerization usually has an atactic structure and does not have stereoregularity. In addition, polystyrene having an atactic structure referred to herein is a polymer composed of one or more aromatic vinyl compounds or a copolymer of one or more other vinyl monomers copolymerizable with one or more aromatic vinyl compounds. Polymers, hydrogenated polymers of these polymers and mixtures thereof may be used, such as aPS, HIPS, AS,
ABS and the like are included.

【0018】ここで芳香族ビニル化合物としては、スチ
レン,α―メチルスチレン,メチルスチレン,エチルス
チレン,イソプロピルスチレン,ターシャリーブチルス
チレン,フェニルスチレン,ビニルスチレン,クロロス
チレン,ブロモスチレン,フルオロスチレン,クロロメ
チルスチレン,メトキシスチレン,エトキシスチレン等
があり、これらは一種または2種以上で使用される。こ
れらのうち、好ましい芳香族ビニル化合物としては、ス
チレン,p−メチルスチレン,m−メチルスチレン,エ
チルスチレン,p−ターシャリーブチルスチレンが挙げ
られる。
Here, the aromatic vinyl compound includes styrene, α-methylstyrene, methylstyrene, ethylstyrene, isopropylstyrene, tertiary butylstyrene, phenylstyrene, vinylstyrene, chlorostyrene, bromostyrene, fluorostyrene, chloromethyl. There are styrene, methoxystyrene, ethoxystyrene and the like, and these are used alone or in combination of two or more. Among them, preferred aromatic vinyl compounds include styrene, p-methylstyrene, m-methylstyrene, ethylstyrene and p-tert-butylstyrene.

【0019】共重合可能な他のビニル単量体としては、
エチレン,プロピレン,ブタジエン,イソプレン等のビ
ニル化合物、アクリロニトリル,メタクリロニトリル等
のビニルシアン化合物、メチルアクリレート,エチルア
クリレート,プロピルアクリレート,ブチルアクリレー
ト,アミルアクリレート,ヘキシルアクリレート,オク
チルアクリレート,2−エチルヘキシルアクリレート,
シクロヘキシルアクリレート,ドデシルアクリレート,
オクタデシルアクリレート,フェニルアクリレート,ベ
ンジルアクリレート等のアクリル酸アルキルエステル、
メチルメタクリレート,エチルメタクリレート,ブチル
メタクリレート,アミルメタクリレート,ヘキシルメタ
クリレート,オクチルメタクリレート,2−エチルヘキ
シルメタクリレート,シクロヘキシルメタクリレート,
ドデシルメタクリレート,オクタデシルメタクリレー
ト,フェニルメタクリレート,ベンジルメタクリレート
等のメタクリル酸アルキルエステル、マレイミド,N−
メチルマレイミド,N−エチルマレイミド,N−ブチル
マレイミド,N−ラウリルマレイミド,N−シクロヘキ
シルマレイミド,N−フェニルマレイミド,N−(p−
ブロモフェニル)マレイミド等のマレイミド化合物など
がある。
Other copolymerizable vinyl monomers include:
Vinyl compounds such as ethylene, propylene, butadiene, isoprene, vinyl cyanide compounds such as acrylonitrile and methacrylonitrile, methyl acrylate, ethyl acrylate, propyl acrylate, butyl acrylate, amyl acrylate, hexyl acrylate, octyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate,
Cyclohexyl acrylate, dodecyl acrylate,
Alkyl acrylates such as octadecyl acrylate, phenyl acrylate, and benzyl acrylate;
Methyl methacrylate, ethyl methacrylate, butyl methacrylate, amyl methacrylate, hexyl methacrylate, octyl methacrylate, 2-ethylhexyl methacrylate, cyclohexyl methacrylate,
Alkyl methacrylates such as dodecyl methacrylate, octadecyl methacrylate, phenyl methacrylate, benzyl methacrylate, maleimide, N-
Methylmaleimide, N-ethylmaleimide, N-butylmaleimide, N-laurylmaleimide, N-cyclohexylmaleimide, N-phenylmaleimide, N- (p-
And maleimide compounds such as (bromophenyl) maleimide.

【0020】本発明のスチレン系樹脂組成物は、上記の
〜成分の他に、本発明の目的を阻害しない範囲で他
の熱可塑性樹脂,熱可塑性エラストマー,各種添加剤を
配合することができる。 (1−1) SPS以外の熱可塑性樹脂 本発明で用いてもよいSPS以外の熱可塑性樹脂として
は、直鎖状高密度ポリエチレン,直鎖状低密度ポリエチ
レン,高圧法低密度ポリエチレン,アイソタクチックポ
リプロピレン,シンジオタクチックポリプロピレン,ブ
ロックポリプロピレン,ランダムポリプロピレン,ポリ
ブテン,1,2−ポリブタジエン,ポリ4−メチルペン
テン,環状ポリオレフィン及びこれらの共重合体に代表
されるポリオレフィン系樹脂、アイソタクチックポリス
チレン,ポリカーボネート,ポリエチレンテレフタレー
ト,ポリブチレンテレフタレートをはじめとするポリエ
ステル系樹脂、ポリアミド6、ポリアミド6,6をはじ
めとするポリアミド系樹脂、ポリフェニレンエーテル、
PPS等公知のものから任意に選択して用いることがで
きる。これらの熱可塑性樹脂は一種のみを単独で又は二
種以上を組み合わせて用いることができる。
The styrenic resin composition of the present invention may contain other thermoplastic resins, thermoplastic elastomers and various additives in addition to the above-mentioned components (1) and (2), as long as the object of the present invention is not impaired. (1-1) Thermoplastic resin other than SPS Examples of the thermoplastic resin other than SPS that may be used in the present invention include linear high-density polyethylene, linear low-density polyethylene, high-pressure low-density polyethylene, and isotactic. Polyolefin resins represented by polypropylene, syndiotactic polypropylene, block polypropylene, random polypropylene, polybutene, 1,2-polybutadiene, poly4-methylpentene, cyclic polyolefins and copolymers thereof, isotactic polystyrene, polycarbonate, Polyester resins such as polyethylene terephthalate and polybutylene terephthalate, polyamide resins such as polyamide 6 and polyamide 6,6, polyphenylene ether,
Any known material such as PPS can be used. These thermoplastic resins can be used alone or in combination of two or more.

【0021】(1−2) 熱可塑性エラストマー 本発明で用いてもよい熱可塑性エラストマーの具体例と
しては、例えば、ブタジエン−アクリロニトリル−スチ
レン−コアシェルゴム(ABS),メチルメタクリレー
ト−ブタジエン−スチレン−コアシェルゴム(MB
S),メチルメタクリレート−ブチルアクリレート−ス
チレン−コアシェルゴム(MAS),オクチルアクリレ
ート−ブタジエン−スチレン−コアシェルゴム(MAB
S),アルキルアクリレート−ブタジエン−アクリロニ
トリル−スチレン−コアシェルゴム(AABS),ブタ
ジエン−スチレン−コアシェルゴム(SBR)等のコア
シェル型エラストマー、天然ゴム,ポリブタジエン,ポ
リイソプレン,ポリイソブチレン,ネオプレン,ポリス
ルフィドゴム,チオコールゴム,アクリルゴム,ウレタ
ンゴム,シリコーンゴム,エピクロロヒドリンゴム,エ
チレンプロピレンゴム(EPM),エチレンプロピレン
ジエンゴム(EPDM),直鎖状低密度ポリエチレン系
エラストマー等のオレフィン系ゴム、さらにはメチルメ
タクリレート−ブチルアクリレート−シロキサンをはじ
めとするシロキサン含有コアシェルゴム等のコアシェル
タイプの粒子状弾性体又はこれらを変性したゴム等が挙
げられる。これらは一種のみを単独で又は二種以上を組
み合わせて用いることができる。
(1-2) Thermoplastic Elastomer Specific examples of the thermoplastic elastomer that may be used in the present invention include, for example, butadiene-acrylonitrile-styrene-core-shell rubber (ABS), methyl methacrylate-butadiene-styrene-core-shell rubber. (MB
S), methyl methacrylate-butyl acrylate-styrene-core-shell rubber (MAS), octyl acrylate-butadiene-styrene-core-shell rubber (MAB)
S), core-shell type elastomers such as alkyl acrylate-butadiene-acrylonitrile-styrene-core-shell rubber (ABS), butadiene-styrene-core-shell rubber (SBR), natural rubber, polybutadiene, polyisoprene, polyisobutylene, neoprene, polysulfide rubber, thiocol rubber Olefin rubber such as acrylic rubber, urethane rubber, silicone rubber, epichlorohydrin rubber, ethylene propylene rubber (EPM), ethylene propylene diene rubber (EPDM), linear low density polyethylene elastomer, and methyl methacrylate-butyl Core-shell type particle-like elastic bodies such as siloxane-containing core-shell rubbers such as acrylate-siloxane, or rubbers obtained by modifying these. These can be used alone or in combination of two or more.

【0022】(1−3) 各種添加剤 (a)酸化防止剤 酸化防止剤としては、リン系,フェノール系,イオウ系
等公知のものから任意に選択して用いることができる。
なお、これらの酸化防止剤は一種のみを単独で又は二種
以上を組み合わせて用いることができる。さらには、2
−〔1−ヒドロキシ−3,5−ジ−t−ペンチルフェニ
ル)エチル〕−4,6−ジ−t−ペンチルフェニルアク
リレート、ペンタエリスリチル−テトラキス〔3−
(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフエニル)
プロピオネート〕なども好適に使用される。
(1-3) Various additives (a) Antioxidant The antioxidant can be arbitrarily selected from phosphorus, phenol, sulfur and other known ones.
In addition, these antioxidants can be used alone or in combination of two or more. Furthermore, 2
-[1-hydroxy-3,5-di-t-pentylphenyl) ethyl] -4,6-di-t-pentylphenyl acrylate, pentaerythrityl-tetrakis [3-
(3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl)
Propionate] is also preferably used.

【0023】(b)可塑剤 可塑剤としては、ポリエチレングリコール,ポリアミド
オリゴマー,エチレンビスステアロアマイド,フタル酸
エステル,ポリスチレンオリゴマー,ポリエチレンワッ
クス,シリコーンオイル等公知のものから任意に選択し
て用いることができる。なお、これらの可塑剤は一種の
みを単独で、又は二種以上を組み合わせて用いることが
できる。
(B) Plasticizer The plasticizer may be selected from known materials such as polyethylene glycol, polyamide oligomer, ethylene bisstearamide, phthalic acid ester, polystyrene oligomer, polyethylene wax and silicone oil. it can. These plasticizers can be used alone or in combination of two or more.

【0024】(c)紫外線吸収剤 紫外線吸収剤としては、特に制限はなく、公知のものを
使用することができ、例えば、2,2−ヒドロキシ−5
−メチルフエニルベンゾトリアゾール、2,2−ヒドロ
キシ−3−t−ブチル−5−メチルフエニル−5−クロ
ロベンゾトリアゾール、2,2−ヒドロキシ−3’,
5’−ジ−t−ブチルフエニル−5−クロロベンゾトリ
アゾール等のベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、2−
ヒドロキシ−4−メチルベンゾフェノン等のベンゾフェ
ノン系紫外線吸収剤、2,4−ジ−t−ブチルフエニル
−3,5−ジ−ブチル−4−ヒドロキシベンゾエート等
のヒドロキシベンゾエート系紫外線吸収剤、さらには酸
化チタン等の無機微粒子が挙げられる。これらのうちベ
ンゾトリアゾール系紫外線吸収剤が好ましい。これらは
一種のみを単独で又は二種以上を組み合わせて使用する
ことができる。これらの紫外線吸収剤は、樹脂成分10
0重量部に対して0.05〜2重量部の割合で添加する
ことができる。
(C) Ultraviolet absorber The ultraviolet absorber is not particularly limited, and a known one can be used. For example, 2,2-hydroxy-5
-Methylphenylbenzotriazole, 2,2-hydroxy-3-t-butyl-5-methylphenyl-5-chlorobenzotriazole, 2,2-hydroxy-3 ′,
Benzotriazole-based ultraviolet absorbers such as 5′-di-t-butylphenyl-5-chlorobenzotriazole;
Benzophenone UV absorbers such as hydroxy-4-methylbenzophenone, hydroxybenzoate UV absorbers such as 2,4-di-t-butylphenyl-3,5-dibutyl-4-hydroxybenzoate, and titanium oxide Inorganic fine particles. Of these, benzotriazole-based ultraviolet absorbers are preferred. These can be used alone or in combination of two or more. These ultraviolet absorbers are composed of the resin component 10
It can be added at a ratio of 0.05 to 2 parts by weight with respect to 0 parts by weight.

【0025】本発明のスチレン系樹脂組成物は、上記の
各成分を溶融混練することによって製造することができ
る。このときの溶融温度は、230〜280℃、好まし
くは240〜280℃である。ここで、230℃未満で
あると、組成物中でSPSとaPSの分散が低下し、二
次加工性の改良効果が充分でない場合がある。また、2
80℃を超えると、スチレン−ジエン系あるいはスチレ
ン−オレフィン系のブロック又はグラフト共重合体の分
解によりブツ、着色などの問題が生ずる場合がある。
The styrenic resin composition of the present invention can be produced by melt-kneading the above components. The melting temperature at this time is 230 to 280 ° C, preferably 240 to 280 ° C. Here, when the temperature is lower than 230 ° C., the dispersion of SPS and aPS in the composition is reduced, and the effect of improving the secondary workability may not be sufficient. Also, 2
If the temperature exceeds 80 ° C., problems such as bumps and coloring may occur due to decomposition of the styrene-diene-based or styrene-olefin-based block or graft copolymer.

【0026】本発明の成形体は、上記のようなスチレン
系樹脂組成物からなり、全ヘイズが5%以下のものであ
る。ここで、全ヘイズが5%を超えると、フィルム、シ
ートで透明性を要求される用途に適用できなくなる。本
発明の成形体は、様々な方法で製造することができ、例
えば、(a)構成成分をドライブレンドした後、溶融混
練して成形材料を調製した後、成形する方法,(b)S
PSと他成分を溶融混練してマスターバッチ材料を調製
した後、他成分とドライブレンドし、成形する方法,
(c)構成成分の材料をドライブレンドし、直接成形す
る方法などによって製造することができる。本発明のス
チレン系樹脂組成物を通常の熱可塑性樹脂と同様の加工
手段によって成形することができ、例えば、射出成形,
吹込成形,押出キャスト成形,インフレ成形,延伸成
形,熱成形などによって成形することができる。延伸成
形の場合、一軸延伸,二軸延伸のいずれでもよい。本発
明によれば、上記の方法により様々な成形体を製造する
ことができ、殊にキャストフィルム,インフレフィル
ム,延伸フィルム,シート及びその成形品は、印刷,接
着等の二次加工が必要であり、本発明のスチレン系樹脂
組成物が有用である。
The molded article of the present invention comprises the styrene resin composition as described above, and has a total haze of 5% or less. Here, when the total haze exceeds 5%, the film or sheet cannot be used for applications requiring transparency. The molded article of the present invention can be produced by various methods. For example, (a) a method of dry-blending the components, melt-kneading to prepare a molding material, and then molding (b) S
After melt-kneading PS and other components to prepare a masterbatch material, dry blending with other components and molding.
(C) It can be manufactured by a method of dry-blending the materials of the constituent components and directly molding. The styrenic resin composition of the present invention can be molded by the same processing means as ordinary thermoplastic resins. For example, injection molding,
It can be formed by blow molding, extrusion casting, inflation molding, stretch molding, thermoforming, or the like. In the case of stretch molding, either uniaxial stretching or biaxial stretching may be used. According to the present invention, various molded articles can be produced by the above method. In particular, cast films, inflation films, stretched films, sheets, and molded articles thereof require secondary processing such as printing and bonding. Yes, the styrenic resin composition of the present invention is useful.

【0027】[0027]

【実施例】次に、本発明を実施例によりさらに具体的に
説明するが、本発明はこれらによって何ら限定されるも
のではない。なお、下記の実施例及び比較例において使
用する試験方法及び原料は、下記のとおりである。 〔耐接着剤性〕大日本インキ化学工業(株)製ディック
ドライAS−102A(ポリエーテルウレタン系)を主
剤とし、ディックドライAS−102B(エポキシ系)
を用い、接着剤有効成分で5g/m2 塗布し、50℃で
乾燥した。接着剤塗布前後の成形品のヘイズ及び接着剤
塗布前後の収縮率(10cm□)を測定した。なお、ヘ
イズはJIS K7105法に準拠して測定した。 〔耐印刷性〕アルティマ507原色藍インキを塗布し、
印刷後、外観及びニチバン製セロテープ(18mm幅)
を評価した。 ○:しわ,収縮,印刷むら等がなく、セロテープでのイ
ンキ剥がれなし ×:しわ,収縮,印刷むらあり
EXAMPLES Next, the present invention will be described more specifically with reference to examples, but the present invention is not limited thereto. In addition, the test method and raw material used in the following Examples and Comparative Examples are as follows. [Adhesive Resistance] Dick Dry AS-102A (polyether urethane type) manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc. as the main ingredient, and Dick Dry AS-102B (epoxy type)
Was applied at 5 g / m 2 with an adhesive active ingredient, and dried at 50 ° C. The haze of the molded article before and after applying the adhesive and the shrinkage ratio (10 cm □) before and after applying the adhesive were measured. The haze was measured according to JIS K7105. [Print resistance] Apply ULTIMA 507 primary color indigo ink,
After printing, appearance and Nichiban cellophane tape (18mm width)
Was evaluated. :: No wrinkles, shrinkage, uneven printing, etc., no peeling of ink on cellophane tape ×: Wrinkles, shrinkage, uneven printing

【0028】〔原料〕 ・SPS1:出光石油化学(株)製シンジオタクチック
(スチレン−p−メチルスチレン)共重合体、p−メチ
ルスチレン15モル%、Tm=238℃、MI(300
℃、1.2kgf)=20、Tc=190℃ ・SPS2:出光石油化学(株)製シンジオタクチック
(スチレン−p−メチルスチレン)共重合体、p−メチ
ルスチレン7モル%、Tm=247℃MI(300℃、
1.2kgf)=4、Tc=180℃ ・SPS3:出光石油化学(株)製シンジオタクチック
(スチレン−p−メチルスチレン)共重合体、p−メチ
ルスチレン7モル%、Tm=244℃MI(300℃、
1.2kgf)=4、Tc=198℃ ・SPS4:出光石油化学(株)製シンジオタクチック
スチレン単独重合体、Tm=271℃、MI(300
℃、1.2kgf)=4、Tc=233℃ ・PS1:クラレ製SEBS(商品名セプトン810
4、スチレン含量60%) ・PS2:クラレ製SEPS(商品名セプトン210
4、スチレン含量65%) ・PS3:旭化成製SBS(商品名アサフレックス83
0) ・PS4:旭化成製SBS(商品名アサフレックス81
0) ・PS5:旭化成製SBS(商品名アサフレックス81
5) ・PS6:出光石油化学(株)製アタクチックポリスチ
レン(商品名HH32) ・酸化防止剤:ペンタエリスリチル−テトラキス〔3−
(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフエニル)
プロピオネート〕(チバスペシャリティー・ケミカル
製、商品名IRGANOX1010) ・紫外線吸収剤:2,2−ヒドロキシ−3−t−ブチル
−5−メチルフエニル−5−クロロベンゾトアゾール
[Raw Materials] SPS1: Syndiotactic (styrene-p-methylstyrene) copolymer manufactured by Idemitsu Petrochemical Co., Ltd., 15 mol% of p-methylstyrene, Tm = 238 ° C., MI (300)
° C, 1.2 kgf) = 20, Tc = 190 ° C SPS2: Syndiotactic (styrene-p-methylstyrene) copolymer manufactured by Idemitsu Petrochemical Co., Ltd., 7 mol% of p-methylstyrene, Tm = 247 ° C MI (300 ° C,
1.2 kgf) = 4, Tc = 180 ° C. SPS3: Syndiotactic (styrene-p-methylstyrene) copolymer manufactured by Idemitsu Petrochemical Co., Ltd., 7 mol% of p-methylstyrene, Tm = 244 ° C. MI ( 300 ° C,
1.2 kgf) = 4, Tc = 198 ° C. SPS4: Syndiotactic styrene homopolymer manufactured by Idemitsu Petrochemical Co., Ltd., Tm = 271 ° C., MI (300)
° C, 1.2 kgf) = 4, Tc = 233 ° C ・ PS1: SEBS manufactured by Kuraray (Septon 810)
4. Styrene content 60%) ・ PS2: KURARAY SEPS (Septon 210, trade name)
4. PS3: Asahi Kasei SBS (trade name: Asaflex 83)
0) ・ PS4: Asahi Kasei SBS (trade name: Asaflex 81)
0) ・ PS5: Asahi Kasei SBS (trade name: Asaflex 81)
5) PS6: Atactic polystyrene (trade name: HH32) manufactured by Idemitsu Petrochemical Co., Ltd. Antioxidant: pentaerythrityl-tetrakis [3-
(3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl)
Propionate] (manufactured by Ciba Specialty Chemical, trade name: IRGANOX1010) UV absorber: 2,2-hydroxy-3-t-butyl-5-methylphenyl-5-chlorobenzotoazole

【0029】実施例1 SPS1/PS1/酸化防止剤/紫外線吸収剤を20/
80/0.1/0.3の比率(重量)で配合した後、3
0mmφ二軸押出機で250℃で溶融混練し、ペレット
とした。得られたペレットを用い、30mmφ単軸押出
機にコートハンガーダイを取り付けたシート成形機で2
50℃で押出し、25℃のロールで冷却し、未延伸シー
トを作成した。引き続き、縦方向に90℃で2倍、横方
向に110℃で4.5倍に延伸し、50μ厚みの延伸フ
ィルムを得た。このフィルムの耐接着剤性及び耐印刷性
を評価し、結果を第1表に示す。
Example 1 SPS1 / PS1 / Antioxidant / UV absorber 20 /
After blending at a ratio (weight) of 80 / 0.1 / 0.3, 3
The mixture was melt-kneaded at 250 ° C. with a 0 mmφ twin-screw extruder to obtain pellets. Using the obtained pellets, a sheet forming machine with a coat hanger die attached to a 30 mmφ single screw extruder
The sheet was extruded at 50 ° C. and cooled with a roll at 25 ° C. to prepare an unstretched sheet. Subsequently, the film was stretched twice at 90 ° C. in the longitudinal direction and 4.5 times at 110 ° C. in the transverse direction to obtain a stretched film having a thickness of 50 μ. The adhesive resistance and print resistance of this film were evaluated, and the results are shown in Table 1.

【0030】実施例2〜6及び比較例1〜2 樹脂組成物の組成を第1表に示すように変えた以外は、
実施例1と同様にして延伸フィルムを作成し、その耐接
着剤性及び耐印刷性を評価し、結果を第1表に示す。
Examples 2-6 and Comparative Examples 1-2 Except that the composition of the resin composition was changed as shown in Table 1,
A stretched film was prepared in the same manner as in Example 1, and its adhesive resistance and print resistance were evaluated. The results are shown in Table 1.

【0031】実施例7 PS6/酸化防止剤/紫外線吸収剤を100/0.5/
1.5の比率(重量)で配合した後、30mmφ二軸押
出機で230℃で溶融混練し、ペレットとした。SPS
1/PS4/該ペレットを20/60/20の比率(重
量)で配合した後、50mmφ単軸(ダルメージタイプ
スクリュー)押出機に50mmφ、ギャップ1mmの円
環ダイを取り付け、押出量20kg/hrで250℃で
溶融押出し、ブロー比2.5、ドロー比13となるよう
に調整し、厚さ30μのインフレフィルムを得た。な
お、インフレ成形時は、エアーリングを用い、安定板に
は保温材を取り付けてバブルを安定化させた。得られた
フィルムの評価結果を第1表に示す。
Example 7 PS6 / antioxidant / ultraviolet absorber 100 / 0.5 /
After blending at a ratio (weight) of 1.5, the mixture was melt-kneaded at 230 ° C. with a 30 mmφ twin screw extruder to obtain pellets. SPS
After blending 1 / PS4 / the pellets in a ratio (weight) of 20/60/20, a 50 mmφ single screw (Dalmage type screw) extruder was fitted with an annular die having a diameter of 50 mmφ and a gap of 1 mm, and an output of 20 kg / hr At 250 ° C. to adjust the blow ratio to 2.5 and the draw ratio to 13, thereby obtaining an inflation film having a thickness of 30 μm. At the time of inflation molding, an air ring was used, and a heat insulator was attached to the stabilizer to stabilize the bubbles. Table 1 shows the evaluation results of the obtained films.

【0032】実施例8 SPS1/PS5/酸化防止剤/紫外線吸収剤を50/
50/0.2/0.5の比率(重量)で配合した後、3
0mmφ二軸押出機(JSW製LABOTEX)で23
0℃で溶融混練し、ペレットとした。該ペレット/PS
5を60/40の比率(重量)で配合した後、50mm
φ単軸(ダルメージタイプスクリュー)押出機にコート
ハンガーダイを取り付け、押出量40kg/hrで25
0℃で溶融押出し、25℃で冷却し、500μ厚みのシ
ートを作成した。得られたシートの評価結果を第1表に
示す。
Example 8 SPS1 / PS5 / Antioxidant / 50% UV absorber
After blending at a ratio (weight) of 50 / 0.2 / 0.5, 3
23mm with a 0mmφ twin screw extruder (LABOTEX manufactured by JSW)
The mixture was melt-kneaded at 0 ° C. to form pellets. The pellet / PS
5 in a ratio (weight) of 60/40, 50 mm
Attach a coat hanger die to a φ single-screw (Dalmage type screw) extruder.
It was melt-extruded at 0 ° C. and cooled at 25 ° C. to produce a 500 μ thick sheet. Table 1 shows the evaluation results of the obtained sheets.

【0033】比較例1 SPS1を用いなかったこと以外は、実施例1と同様に
して延伸フィルムを作成し、その耐接着剤性及び耐印刷
性の評価結果を第1表に示す。 実施例9 SPS1の代わりにSPS4を用いた以外は、実施例1
と同様にして延伸フィルムを作成し、その耐接着剤性及
び耐印刷性の評価結果を第1表に示す。なお別途、この
組成の材料を用い、押出温度を290℃にして延伸フィ
ルムを作成した。なお、このフィルムには、ゲル、ブツ
が散見された。
Comparative Example 1 A stretched film was prepared in the same manner as in Example 1 except that SPS1 was not used, and the evaluation results of the adhesive resistance and print resistance are shown in Table 1. Example 9 Example 1 was repeated except that SPS4 was used instead of SPS1.
A stretched film was prepared in the same manner as described above, and the evaluation results of the adhesive resistance and print resistance are shown in Table 1. Separately, a stretched film was prepared using the material having this composition at an extrusion temperature of 290 ° C. In addition, gels and lumps were scattered on the film.

【0034】[0034]

【表1】 [Table 1]

【0035】[0035]

【表2】 [Table 2]

【0036】[0036]

【発明の効果】本発明のスチレン系樹脂組成物は、印刷
性及び接着性が著しく優れたシート,フィルム等の成形
体の製造に有効であり、特に、キャストフィルム,イン
フレフィルム,延伸フィルム,シート又はその成形品な
ど、印刷、接着等の二次加工が必要な成形体の製造に有
用である。したがって、本発明は、OA機器部品,雑
貨,弱電部品,日用品,食品包装,ラミネート用フィル
ム,熱収縮フィルムに特に有用である。
The styrenic resin composition of the present invention is effective for producing molded articles such as sheets and films having remarkably excellent printability and adhesiveness, and is particularly useful for cast films, inflation films, stretched films and sheets. Or, it is useful for manufacturing a molded article such as a molded article that requires secondary processing such as printing and bonding. Therefore, the present invention is particularly useful for OA equipment parts, miscellaneous goods, light electric parts, daily necessities, food packaging, laminating films, and heat shrink films.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) C08L 25:00) C08L 25:00) Fターム(参考) 4F071 AA12 AA12X AA22 AA22X AA75 AA77 AA84 AA88 AH04 BA01 BB05 BB06 BB07 BB08 BB09 BC01 4J002 BC032 BC033 BC042 BC043 BC082 BC083 BC092 BC093 BC112 BC113 BC122 BC123 BN141 BP011 FD020 FD050 FD070 GG02 4J026 AA68 BA05 HA06 HB15 HB16 HC06 HD02 HD06 HD15 HD16 HE01 HE02 HE06 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification code FI Theme coat ゛ (Reference) C08L 25:00) C08L 25:00) F-term (Reference) 4F071 AA12 AA12X AA22 AA22X AA75 AA77 AA84 AA88 AH04 BA01 BB05 BB06 BB07 BB08 BB09 BC01 4J002 BC032 BC033 BC042 BC043 BC082 BC083 BC092 BC093 BC112 BC113 BC122 BC123 BN141 BP011 FD020 FD050 FD070 GG02 4J026 AA68 BA05 HA06 HB15 HB16 HC06 HD02 HD06 HD15 HD16 HE01

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 シンジオタクチック構造のスチレン系
重合体3〜40重量%とスチレン−ジエン系あるいは
スチレン−オレフィン系のブロックあるいはグラフト共
重合体97〜60重量%からなるスチレン系樹脂組成
物。
1. A styrene resin composition comprising 3 to 40% by weight of a styrene polymer having a syndiotactic structure and 97 to 60% by weight of a styrene-diene or styrene-olefin block or graft copolymer.
【請求項2】 シンジオタクチック構造のスチレン系
重合体3〜40重量%,スチレン−ジエン系あるいは
スチレン−オレフィン系のブロックあるいはグラフト共
重合体87〜20重量%及びアタクチック構造のスチ
レン系重合体10〜40重量%からなるスチレン系樹脂
組成物。
2 to 40% by weight of a styrene polymer having a syndiotactic structure, 87 to 20% by weight of a block or graft copolymer of a styrene-diene system or a styrene-olefin system, and 10 to a styrene polymer having an atactic structure. A styrenic resin composition consisting of about 40% by weight.
【請求項3】 シンジオタクチック構造のスチレン系重
合体の融点(Tm)が255℃以下、結晶化温度(T
c)が200℃以下、メルトインデックスが1〜60で
ある請求項1又は2記載のスチレン系樹脂組成物。
3. The styrene polymer having a syndiotactic structure has a melting point (Tm) of 255 ° C. or less and a crystallization temperature (Tm).
3. The styrenic resin composition according to claim 1, wherein c) is 200 ° C. or less and the melt index is 1 to 60.
【請求項4】 スチレン−ジエン系あるいはスチレン−
オレフィン系のブロック共重合体が式A−B,A−(B
−A)n ,A−(B−A)n −B又はB−(A−B)
n+1 で表される線状ブロック共重合体,〔(A−
B)k m+2 −X,〔(A−B)k −A〕m+2 −X,
〔(B−A)k m+2 −X又は〔(B−A)k −B〕
m+2 −Xで表されるラジアルブロック共重合体である請
求項1〜3のいずれか1項に記載のスチレン系樹脂組成
物。〔式中、Aはビニル芳香族炭化水素重合体ブロック
を示し、Bは共役ジエン重合体又はその水添物ブロック
を示し、Xはカップリング剤の残基又は多官能有機リチ
ウム化合物等の開始剤残基を示し、n,k及びmは1〜
5の整数を示す。〕
4. Styrene-diene or styrene-
The olefin block copolymer is represented by the formula AB, A- (B
-A) n , A- (BA) n -B or B- (AB)
linear block copolymer represented by n + 1 , [(A-
B) k ] m + 2 −X, [(AB) k −A] m + 2 −X,
[(BA) k ] m + 2 -X or [(BA) k -B]
The styrene resin composition according to any one of claims 1 to 3, which is a radial block copolymer represented by m + 2- X. Wherein A represents a vinyl aromatic hydrocarbon polymer block, B represents a conjugated diene polymer or a hydrogenated block thereof, and X represents a residue of a coupling agent or an initiator such as a polyfunctional organic lithium compound. Represents a residue, and n, k and m are 1 to
Indicates an integer of 5. ]
【請求項5】 スチレン−ジエン系あるいはスチレン−
オレフィン系のブロック共重合体がSBR,SBS,S
BBS,SI,SIS,SEBS,SEPSのうちの少
なくとも1種である請求項1〜4のいずれか1項に記載
のスチレン系樹脂組成物。
5. Styrene-diene or styrene-
The olefin block copolymer is SBR, SBS, S
The styrenic resin composition according to any one of claims 1 to 4, which is at least one of BBS, SI, SIS, SEBS, and SEPS.
【請求項6】 請求項1〜5のいずれか1項に記載のス
チレン系樹脂組成物からなり、全ヘイズが5%以下であ
ることを特徴とする成形体。
6. A molded article comprising the styrenic resin composition according to any one of claims 1 to 5, wherein the total haze is 5% or less.
【請求項7】 キャストフィルム,インフレフィルム,
延伸フィルム,シート又はその熱成形品である請求項6
記載の成形体。
7. A cast film, an inflation film,
7. A stretched film, sheet or thermoformed product thereof.
The molded article according to the above.
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