JP2002108313A - Semiconductor display device and its driving method - Google Patents

Semiconductor display device and its driving method

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JP2002108313A JP2001209869A JP2001209869A JP2002108313A JP 2002108313 A JP2002108313 A JP 2002108313A JP 2001209869 A JP2001209869 A JP 2001209869A JP 2001209869 A JP2001209869 A JP 2001209869A JP 2002108313 A JP2002108313 A JP 2002108313A
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Shigeru Onotani
茂 小野谷
Noboru Inoue
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a semiconductor display device capable of displaying a sharp and highly precise picture whose flicker, longitudinal stripes, lateral stripes and oblique stripes are scarcely viewed by an observer. SOLUTION: A video signal which is inputted from the outside is written in RAMs which are provided in the frame frequency converting part of this semiconductor display device and the written video signal is read out in turn by two times. A period when the video signal written in the RAMs is read out one time is shorter than a period when the video signal is written in the RAMs. Then, the potential of display signals to be inputted to respective pixels is inverted on the basis of the potential (counter potential) of counter electrodes in consecutive respective two frame periods and the same videos are displayed on a pixel part in the consecutive two frame periods.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、液晶、EL(エレ
クトロルミネッセンス)等の表示媒体を用いた半導体表
示装置に好適な駆動方法及び、上記駆動方法を用いて表
示を行う半導体表示装置に関する。また前記半導体表示
装置を用いた電子機器に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a driving method suitable for a semiconductor display device using a display medium such as a liquid crystal or an EL (electroluminescence), and a semiconductor display device for performing display using the driving method. In addition, the present invention relates to an electronic device using the semiconductor display device.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、絶縁性基板上に半導体薄膜を用い
て形成された素子、例えば薄膜トランジスタ(TFT)
を作製する技術が急速に発達している。その理由は、半
導体表示装置(代表的には、アクティブマトリクス型液
晶表示装置)の需要が高まってきたことによる。
2. Description of the Related Art In recent years, an element formed by using a semiconductor thin film on an insulating substrate, for example, a thin film transistor (TFT)
The technology for making is rapidly developing. The reason is that demand for semiconductor display devices (typically, active matrix liquid crystal display devices) has been increasing.

【0003】アクティブマトリクス型液晶表示装置は、
マトリクス状に配置された数十〜数百万個もの画素にか
かる電荷を、トランジスタで構成された画素のスイッチ
ング素子(画素トランジスタ)により制御して、画像を
表示するものである。
An active matrix type liquid crystal display device is
An image is displayed by controlling charges applied to tens to millions of pixels arranged in a matrix by a switching element (pixel transistor) of a pixel including a transistor.

【0004】なお、本明細書中における画素とは、スイ
ッチング素子と、前記スイッチング素子に接続された画
素電極と、対向電極と、前記画素電極と対向電極の間に
設けられた受動素子(液晶、エレクトロルミネッセン
ス)とで主に構成されている。
[0004] In this specification, a pixel means a switching element, a pixel electrode connected to the switching element, a counter electrode, and a passive element (liquid crystal, liquid crystal, or the like) provided between the pixel electrode and the counter electrode. (Electroluminescence).

【0005】以下に図26を用いて、アクティブマトリ
クス型液晶表示装置が有する液晶パネルの表示動作の代
表的な例を簡単に説明する。図26(A)は、液晶パネ
ルの上面図であり、図26(B)は画素の配置を示した
図である。
A typical example of a display operation of a liquid crystal panel included in an active matrix type liquid crystal display device will be briefly described below with reference to FIG. FIG. 26A is a top view of a liquid crystal panel, and FIG. 26B is a diagram illustrating an arrangement of pixels.

【0006】ソース信号線駆動回路701とソース信号
線S1〜S6とが接続されている。またゲート信号線駆
動回路702とゲート信号線G1〜G4とが接続されて
いる。そしてソース信号線S1〜S6とゲート信号線G
1〜G4とで囲まれている部分に画素703が複数設け
られている。画素703には画素TFT704と画素電
極705とが設けられている。なおソース信号線とゲー
ト信号線の数はこの値に限定されない。
[0006] The source signal line driving circuit 701 is connected to the source signal lines S1 to S6. Further, the gate signal line driving circuit 702 and the gate signal lines G1 to G4 are connected. Then, the source signal lines S1 to S6 and the gate signal line G
A plurality of pixels 703 are provided in a portion surrounded by 1 to G4. The pixel 703 is provided with a pixel TFT 704 and a pixel electrode 705. Note that the number of source signal lines and gate signal lines is not limited to this value.

【0007】ソース信号線駆動回路701にはパネルの
外部に設けられたIC(図示せず)から映像信号が入力
されている。
A video signal is input to the source signal line driving circuit 701 from an IC (not shown) provided outside the panel.

【0008】ソース信号線駆動回路701に入力された
映像信号はサンプリングされて、表示信号としてソース
信号線S1に入力される。またゲート信号線駆動回路7
02からゲート信号線G1に入力される選択信号によっ
てゲート信号線G1が選択され、ゲート信号線G1にゲ
ート電極が接続された全ての画素TFT704がオンの
状態になる。そしてソース信号線S1に入力された表示
信号が、画素TFT704を介して画素(1、1)の画
素電極705に入力される。この入力された表示信号の
電位により液晶を駆動し、透過光量を制御して、画素
(1、1)に画像の一部(画素(1、1)に相当する画
像)が表示される。
The video signal input to the source signal line drive circuit 701 is sampled and input to the source signal line S1 as a display signal. Also, the gate signal line driving circuit 7
The gate signal line G1 is selected by a selection signal input to the gate signal line G1 from 02, and all the pixel TFTs 704 whose gate electrodes are connected to the gate signal line G1 are turned on. Then, the display signal input to the source signal line S1 is input to the pixel electrode 705 of the pixel (1, 1) via the pixel TFT 704. The liquid crystal is driven by the potential of the input display signal, the amount of transmitted light is controlled, and a part of an image (an image corresponding to the pixel (1, 1)) is displayed on the pixel (1, 1).

【0009】次に、画素(1、1)に画像が表示された
状態を保持容量(図示せず)等で保持したまま、次の瞬
間には、ソース信号線駆動回路701に入力された映像
信号がサンプリングされて、表示信号としてソース信号
線S2に入力される。なお保持容量とは、画素TFT7
04のゲート電極に入力された表示信号の電位を一定の
期間保持するための容量である。
Next, while the state in which an image is displayed on the pixel (1, 1) is held by a holding capacitor (not shown) or the like, at the next moment, the image input to the source signal line driving circuit 701 is displayed. The signal is sampled and input to the source signal line S2 as a display signal. Note that the storage capacitor is the pixel TFT 7
This is a capacitor for holding the potential of the display signal input to the gate electrode 04 for a certain period.

【0010】ゲート信号線G1は選択されたままであ
り、ゲート信号線G1とソース信号線S2とが交差して
いる部分の画素(1、2)の画素TFT704はオンの
状態である。そしてソース信号線S2に入力された表示
信号が、画素TFT704を介して画素(1、2)の画
素電極705に入力される。この入力された表示信号の
電位により液晶を駆動し、透過光量を制御して、画素
(1、1)と同様に、画素(1、2)に画像の一部(画
素(1、2)に相当する画像)が表示される。
The gate signal line G1 remains selected, and the pixel TFT 704 of the pixel (1, 2) at the portion where the gate signal line G1 intersects with the source signal line S2 is on. Then, the display signal input to the source signal line S2 is input to the pixel electrode 705 of the pixel (1, 2) via the pixel TFT 704. The liquid crystal is driven by the potential of the input display signal, and the amount of transmitted light is controlled so that the pixel (1, 2) has a part of the image (pixel (1, 2)) like the pixel (1, 1). Corresponding image) is displayed.

【0011】このような表示動作を順次行い、ゲート信
号線G1に接続されている全ての画素(1、1)(1、
2)(1、3)(1、4)(1、5)(1、6)に画像
の一部を次々と表示する。この間、ゲート信号線G1に
入力されている選択信号によって、ゲート信号線G1は
選択され続けている。
Such a display operation is sequentially performed, and all the pixels (1, 1) (1,...) Connected to the gate signal line G1.
2) Part of the image is sequentially displayed on (1, 3), (1, 4), (1, 5), (1, 6). During this time, the gate signal line G1 is continuously selected by the selection signal input to the gate signal line G1.

【0012】ゲート信号線G1に接続されている画素の
全てに表示信号が入力されると、ゲート信号線G1は選
択されなくなる。引き続いて、ゲート信号線G2に入力
される選択信号によって、ゲート信号線G2が選択され
る。そしてゲート信号線G2に接続されている全ての画
素(2、1)(2、2)(2、3)(2、4)(2、
5)(2、6)に画像の一部を次々と表示する。この
間、ゲート信号線G2は選択され続けている。
When the display signal is input to all the pixels connected to the gate signal line G1, the gate signal line G1 is not selected. Subsequently, the gate signal line G2 is selected by a selection signal input to the gate signal line G2. Then, all the pixels (2, 1) (2, 2) (2, 3) (2, 4) (2,
5) Part of the image is displayed one after another in (2, 6). During this time, the gate signal line G2 continues to be selected.

【0013】上述した動作を全てのゲート信号線におい
て順次繰り返すことにより、画素部706に一つの画像
を表示する。この一つの画像が表示される期間を1フレ
ーム期間と呼ぶ。画素部706に一つの画像が表示され
る期間と、垂直帰線期間とを合わせて1フレーム期間と
しても良い。そして全ての画素は、再び各画素の画素T
FTがオンの状態になるまで、画像が表示された状態を
保持容量(図示せず)等で保持している。
One image is displayed on the pixel portion 706 by sequentially repeating the above-described operation on all the gate signal lines. The period during which this one image is displayed is called one frame period. A period in which one image is displayed in the pixel portion 706 and a vertical blanking period may be combined into one frame period. And all the pixels are again the pixels T of each pixel.
Until the FT is turned on, the state in which the image is displayed is held by a storage capacitor (not shown) or the like.

【0014】[0014]

【発明が解決しようとする課題】通常スイッチング素子
としてTFT等を用いた液晶パネルでは、液晶の劣化を
防ぐために、各画素へ入力する信号の電位の極性を、対
向電極の電位(対向電位)を基準として反転(交流化駆
動)させる。交流化駆動の方法としては、フレーム反転
駆動、ソースライン反転駆動、ゲートライン反転駆動、
ドット反転駆動が挙げられる。以下に、各駆動方法につ
いて説明する。
Normally, in a liquid crystal panel using a TFT or the like as a switching element, in order to prevent deterioration of the liquid crystal, the polarity of the potential of a signal input to each pixel is set to the potential of a counter electrode (counter potential). Invert (AC drive) as a reference. As a method of AC drive, frame inversion drive, source line inversion drive, gate line inversion drive,
Dot inversion driving is exemplified. Hereinafter, each driving method will be described.

【0015】図27(A)にフレーム反転駆動において
各画素に入力される表示信号の極性のパターン(以下、
単に極性パターンと呼ぶ)を示す。なお、本明細書中の
極性パターンを示した図〔図27、図6、図7、図8、
図9〕では、対向電位を基準として、画素に入力される
表示信号の電位が正である場合は「+」で図示し、負で
ある場合は「−」で示している。また図27に示した極
性パターンは、図26(B)に示した画素の配置と対応
している。
FIG. 27A shows a polarity pattern of a display signal input to each pixel in the frame inversion driving (hereinafter, referred to as a pattern).
(Referred to simply as a polarity pattern). In addition, the figure which showed the polarity pattern in this specification [FIG. 27, FIG. 6, FIG. 7, FIG.
In FIG. 9], when the potential of the display signal input to the pixel is positive with respect to the opposing potential, it is indicated by “+”, and when it is negative, it is indicated by “−”. The polarity pattern shown in FIG. 27 corresponds to the pixel arrangement shown in FIG.

【0016】なお本明細書において、正の極性を有する
表示信号とは、対向電位よりも高い電位を有する表示信
号を意味する。また負の極性を有する表示信号とは、対
向電位よりも低い電位を有する表示信号を意味する。
In this specification, a display signal having a positive polarity means a display signal having a higher potential than the opposite potential. Further, a display signal having a negative polarity means a display signal having a potential lower than the opposite potential.

【0017】加えて走査方式には、1画面(1フレー
ム)において、奇数番目のゲート信号線と偶数番目のゲ
ート信号線とで2回(2フィールド)に分けて走査する
インターレス走査と、奇数番目と偶数番目のゲート信号
線を分け隔てなく順番に走査するノンインターレス走査
とがあるが、ここでは主にノンインターレス走査を用い
た例で説明する。
In addition, in the scanning method, in one screen (one frame), an odd-numbered gate signal line and an even-numbered gate signal line are divided into two scans (two fields), and interlaced scan is performed. There is a non-interlace scan in which the first and even-numbered gate signal lines are sequentially scanned without any separation. Here, an example using non-interless scan will be mainly described.

【0018】フレーム反転駆動の特徴は、任意の1フレ
ーム期間内で、全ての画素に同一の極性の表示信号が入
力され(極性パターン)、そして次の1フレーム期間
では、全ての画素に入力される表示信号の極性を反転さ
せて表示を行っている(極性パターン)点である。即
ち、極性パターンのみに注目すると2種類の極性パター
ン(極性パターンと極性パターン)が、1フレーム
期間ごとに繰り返し表示される駆動方法である。なお本
明細書において、表示信号が画素に入力されるとは、表
示信号が画素TFTを介して画素電極に入力されること
を意味する。
The feature of the frame inversion drive is that a display signal of the same polarity is input to all the pixels within an arbitrary one frame period (polarity pattern), and is input to all the pixels during the next one frame period. (Polarity pattern) where the display is performed with the polarity of the display signal being inverted. That is, when focusing only on the polarity pattern, this is a driving method in which two types of polarity patterns (a polarity pattern and a polarity pattern) are repeatedly displayed every frame period. In this specification, inputting a display signal to a pixel means that the display signal is input to a pixel electrode via a pixel TFT.

【0019】次にソースライン反転駆動について説明す
る。図27(B)にソースライン反転駆動における画素
の極性パターンを示す。
Next, source line inversion driving will be described. FIG. 27B shows a polarity pattern of a pixel in source line inversion driving.

【0020】図27(B)で示したように、ソースライ
ン反転駆動の特徴は、任意の1フレーム期間において、
同じソース信号線に接続されている全ての画素に同じ極
性の表示信号が入力されており、隣り合うソース信号線
に接続されている画素どうしで逆の極性の表示信号が入
力されていることである。なお本明細書において、ソー
ス信号線に接続されている画素とは、ソース信号線にそ
のソース領域又はドレイン領域が接続されている画素T
FTを有する画素のことを示している。
As shown in FIG. 27 (B), the feature of the source line inversion driving is that, in an arbitrary one frame period,
The display signal of the same polarity is input to all the pixels connected to the same source signal line, and the display signals of the opposite polarity are input to the pixels connected to the adjacent source signal lines. is there. Note that in this specification, a pixel connected to a source signal line refers to a pixel T whose source or drain region is connected to the source signal line.
It shows a pixel having FT.

【0021】そして次の1フレーム期間において、各ソ
ース信号線には、直前のフレーム期間において入力され
た表示信号とは逆の極性を有する表示信号が入力され
る。よって、任意の1フレーム期間における極性パター
ンが極性パターンだったとすると、次の1フレーム期
間における極性パターンは極性パターンとなる。
In the next one frame period, a display signal having a polarity opposite to that of the display signal input in the immediately preceding frame period is input to each source signal line. Therefore, if the polarity pattern in any one frame period is a polarity pattern, the polarity pattern in the next one frame period is a polarity pattern.

【0022】次に、ゲートライン反転駆動について説明
する。ゲートライン反転駆動における極性パターンを図
27(C)に示す。
Next, the gate line inversion driving will be described. FIG. 27C shows a polarity pattern in the gate line inversion driving.

【0023】図27(C)で示したように、ゲートライ
ン反転駆動の特徴は、任意の1フレーム期間において、
同じゲート信号線に接続されている全ての画素に同じ極
性の表示信号が入力されており、隣り合うゲート信号線
に接続されている画素どうしで逆の極性の表示信号が入
力されていることである。なお本明細書において、ゲー
ト信号線に接続されている画素とは、ゲート信号線にそ
のゲート電極が接続されている画素TFTを有する画素
のことを示している。
As shown in FIG. 27C, the feature of the gate line inversion drive is that in any one frame period,
Display signals of the same polarity are input to all pixels connected to the same gate signal line, and display signals of the opposite polarity are input to pixels connected to adjacent gate signal lines. is there. Note that in this specification, a pixel connected to a gate signal line refers to a pixel having a pixel TFT whose gate electrode is connected to the gate signal line.

【0024】そして次の1フレーム期間において、各ゲ
ート信号線に接続された画素には、直前のフレーム期間
において入力された表示信号とは逆の極性を有する表示
信号が入力される。よって、任意の1フレーム期間にお
ける極性パターンが極性パターンだったとすると、次
の1フレーム期間における極性パターンは極性パターン
となる。
In the next one frame period, a display signal having a polarity opposite to that of the display signal input in the immediately preceding frame period is input to the pixels connected to each gate signal line. Therefore, if the polarity pattern in any one frame period is a polarity pattern, the polarity pattern in the next one frame period is a polarity pattern.

【0025】即ち、上記ソースライン反転駆動と同様
に、2種類の極性パターン(極性パターンと極性パタ
ーン)が、1フレーム期間ごとに繰り返し表示される
駆動方法である。
That is, similar to the above-described source line inversion driving, this is a driving method in which two types of polarity patterns (a polarity pattern and a polarity pattern) are repeatedly displayed every frame period.

【0026】次にドット反転駆動について説明する。ド
ット反転駆動における極性パターンを図27(D)に示
す。
Next, the dot inversion driving will be described. FIG. 27D shows a polarity pattern in the dot inversion drive.

【0027】図27(D)に示したように、ドット反転
駆動とは、画素に入力する表示信号の極性を隣接する全
ての画素どうしで反転させる方法である。そして任意の
1フレーム期間において、各画素に、直前の1フレーム
期間において入力された表示信号とは逆の極性を有する
表示信号が入力される。よって、任意の1フレーム期間
における極性パターンが極性パターンだったとする
と、次の1フレーム期間における極性パターンは極性パ
ターンとなる。つまり2種類の極性パターンが、1フ
レーム期間ごとに繰り返し表示される駆動方法である。
As shown in FIG. 27D, the dot inversion drive is a method of inverting the polarity of a display signal input to a pixel between all adjacent pixels. In one arbitrary frame period, a display signal having a polarity opposite to that of the display signal input in the immediately preceding one frame period is input to each pixel. Therefore, if the polarity pattern in any one frame period is a polarity pattern, the polarity pattern in the next one frame period is a polarity pattern. That is, this is a driving method in which two types of polarity patterns are repeatedly displayed every frame period.

【0028】上述した交流化駆動は、液晶の劣化を防ぐ
には有用な方法である。しかし上述した交流化駆動を用
いると、画面がちらついたり、縦縞、横縞または斜め縞
が視認されたりすることがあった。
The AC driving described above is a useful method for preventing the deterioration of the liquid crystal. However, when the above-described AC drive is used, the screen may flicker, or vertical stripes, horizontal stripes, or oblique stripes may be visually recognized.

【0029】これは各画素において同じ階調表示を行お
うとしても、入力される表示信号の極性が正の時の表示
と負の時の表示とで、画面の明るさが微妙に異なってし
まうためだと考えられる。この現象について、以下、フ
レーム反転駆動を例にとって詳しく説明する。
This means that even if the same gradation display is performed in each pixel, the brightness of the screen is slightly different between the display when the polarity of the input display signal is positive and the display when the polarity is negative. It is thought to be a reason. Hereinafter, this phenomenon will be described in detail by taking frame inversion driving as an example.

【0030】図26に示したアクティブマトリクス型液
晶表示装置をフレーム反転駆動させたときのタイミング
チャートを図28に示した。なお図28は、アクティブ
マトリクス型液晶表示装置がノーマリーブラックなら白
表示、ノーマリーホワイトなら黒表示させた場合のタイ
ミングチャートである。1つのゲート信号線に選択信号
が入力されている期間を1ライン期間、全てのゲート信
号線に選択信号が入力されて1つの画像が表示されるま
での期間を1フレーム期間とする。
FIG. 28 is a timing chart when the active matrix type liquid crystal display device shown in FIG. 26 is driven by frame inversion. FIG. 28 is a timing chart in the case where the active matrix type liquid crystal display device displays white when normally black, and displays black when normally white. A period during which the selection signal is input to one gate signal line is defined as one line period, and a period from when the selection signal is input to all gate signal lines until one image is displayed is defined as one frame period.

【0031】ソース信号線S1に表示信号が、ゲート信
号線G1に選択信号がそれぞれ入力されると、ソース信
号線S1とゲート信号線G1との交差している部分に設
けられた画素(1、1)に、正の極性の表示信号が入力
される。そして画素(1、1)において、入力された表
示信号によって画素電極に与えられた電位は、理想的に
は保持容量等によって1フレーム期間中保持され続け
る。
When a display signal is inputted to the source signal line S1 and a selection signal is inputted to the gate signal line G1, the pixels (1,...) Provided at the intersection of the source signal line S1 and the gate signal line G1 are provided. In 1), a display signal having a positive polarity is input. Then, in the pixel (1, 1), the potential given to the pixel electrode by the input display signal is ideally kept for one frame period by a storage capacitor or the like.

【0032】しかし実際には、1ライン期間が終了する
時、ゲート信号線G1の電位が画素TFTをオフさせる
電位にシフトすると、画素電極の電位もゲート信号線G
1の電位がシフトする方向にΔVだけ引き込まれること
がある。この現象をフィールドスルーと呼び、またΔV
を突き抜け電圧と呼ぶ。
However, in practice, when the potential of the gate signal line G1 shifts to a potential for turning off the pixel TFT at the end of one line period, the potential of the pixel electrode is also changed to the potential of the gate signal line G.
In some cases, the potential of 1 is pulled by ΔV in the direction in which the potential shifts. This phenomenon is called field through, and ΔV
Is called a penetration voltage.

【0033】突き抜け電圧ΔVは以下に示す式で与えら
れる。
The penetration voltage ΔV is given by the following equation.

【0034】[0034]

【式1】 ΔV=V×Cgd/(Cgd+Clc+Cs)Equation 1 ΔV = V × Cgd / (Cgd + Clc + Cs)

【0035】Vはゲート電極の電位の振幅、Cgdは画
素TFTのゲート電極とドレイン領域の間の容量、Cl
cは画素電極と対向電極の間の液晶の容量、Csは保持
容量の容量である。
V is the amplitude of the potential of the gate electrode; Cgd is the capacitance between the gate electrode and the drain region of the pixel TFT;
c is the capacity of the liquid crystal between the pixel electrode and the counter electrode, and Cs is the capacity of the storage capacitor.

【0036】図28に示すタイミングチャートにおい
て、画素(1,1)における実際の画素電極の電位を実
線で、フィールドスルーを考慮しない理想的な画素電極
の電位を点線で示す。第1フレーム期間において、正の
極性の表示信号が画素(1、1)に入力される。図28
に示した第1フレーム期間の場合、第1ライン期間が終
了すると同時にゲート信号線の電位が負の方向に変化
し、そして画素(1,1)の画素電極の電位も、実際は
突き貫け電圧の分だけ負の方向に変化する。なお、図2
8では、第1フレーム期間における突き貫け電圧をΔV
1として示す。
In the timing chart shown in FIG. 28, the actual potential of the pixel electrode in the pixel (1, 1) is shown by a solid line, and the ideal potential of the pixel electrode without considering the field-through is shown by a dotted line. In the first frame period, a display signal having a positive polarity is input to the pixel (1, 1). FIG.
In the case of the first frame period shown in FIG. 2, the potential of the gate signal line changes in the negative direction at the same time as the end of the first line period, and the potential of the pixel electrode of the pixel (1, 1) is actually It changes in the negative direction by the minute. Note that FIG.
8, the penetration voltage in the first frame period is ΔV
Shown as 1.

【0037】次に第2フレーム期間の第1ライン期間に
おいて、第1フレーム期間の第1ライン期間とは逆の極
性である負の極性の表示信号が、画素(1、1)に入力
される。そして第2フレーム期間における第1ライン期
間が終了する時、ゲート信号線G1の電位が負の方向に
変化する。そして同時に画素(1,1)の画素電極の電
位も、実際は突き貫け電圧の分だけ負の方向に変化す
る。なお、図28では、第2フレーム期間における突き
貫け電圧をΔV2として示す。
Next, in the first line period of the second frame period, a display signal having a negative polarity which is the opposite polarity to the first line period of the first frame period is input to the pixel (1, 1). . Then, when the first line period in the second frame period ends, the potential of the gate signal line G1 changes in the negative direction. At the same time, the potential of the pixel electrode of the pixel (1, 1) actually changes in the negative direction by the penetration voltage. In FIG. 28, the piercing voltage in the second frame period is shown as ΔV2.

【0038】図28において、第1フレーム期間の第1
ライン期間終了後における駆動電圧をV1、第2フレー
ム期間の第1ライン期間終了後における駆動電圧をV2
として示す。なお本明細書において駆動電圧とは、画素
電極の電位と対向電位との電位差を意味する。
Referring to FIG. 28, in the first frame period, the first
The drive voltage after the end of the line period is V1, and the drive voltage after the end of the first line period in the second frame period is V2.
As shown. Note that in this specification, a driving voltage means a potential difference between a potential of a pixel electrode and a counter potential.

【0039】駆動電圧V1と駆動電圧V2は、ΔV1+
ΔV2の電圧差を有することになる。このため第1フレ
ーム期間と第2フレーム期間とでは、画素(1,1)に
おける画面の明るさが異なる。
The drive voltage V1 and the drive voltage V2 are ΔV1 +
It will have a voltage difference of ΔV2. Therefore, the brightness of the screen at the pixel (1, 1) is different between the first frame period and the second frame period.

【0040】そこで駆動電圧V1と駆動電圧V2の値が
同じになるように、対向電位の値を低くする方法も考え
られる。
Therefore, a method of lowering the value of the opposing potential so that the values of the driving voltage V1 and the driving voltage V2 become the same can be considered.

【0041】しかし、画素TFTのゲート電極とドレイ
ン領域の間の容量Cgdは、正の極性を有する表示信号
を画素に入力したときと、負の極性を有する表示信号を
画素に入力したときとでは、その値が異なる。さらに画
素電極と対向電極の間の液晶の容量Clcも、画素に入
力される表示信号の電位によって変動する。そのため、
Cgdと、Clcの値が各フレーム期間によって異なる
ために、突き貫け電圧ΔVの値も各フレーム期間によっ
て異なる。よって、たとえ対向電位の値を変化させて
も、フレーム期間によって、画素(1,1)における駆
動電圧が異なってしまい、結果的に画面の明るさが異な
ってしまう。
However, the capacitance Cgd between the gate electrode and the drain region of the pixel TFT differs between when a display signal having a positive polarity is input to the pixel and when a display signal having a negative polarity is input to the pixel. , Their values are different. Further, the capacitance Clc of the liquid crystal between the pixel electrode and the counter electrode also varies depending on the potential of the display signal input to the pixel. for that reason,
Since the values of Cgd and Clc are different for each frame period, the values of the penetration voltage ΔV are also different for each frame period. Therefore, even if the value of the opposing potential is changed, the driving voltage in the pixel (1, 1) differs depending on the frame period, and as a result, the brightness of the screen changes.

【0042】そしてこれは画素(1,1)に限らず全て
の画素において起こりうる現象で、画素に入力される表
示信号の極性によって、画素の明るさが異なりうる。
This is a phenomenon that can occur not only in the pixel (1, 1) but also in all the pixels. The brightness of the pixel may vary depending on the polarity of the display signal input to the pixel.

【0043】よってフレーム反転駆動では、第1フレー
ム期間で表示された画像と第2フレーム期間で表示され
た画像の明るさが異なり、観察者にチラツキとして視認
されてしまう。特に、中間調表示において顕著にチラツ
キが確認された。
Therefore, in the frame inversion driving, the brightness of the image displayed in the first frame period and the brightness of the image displayed in the second frame period are different, and the image is visually recognized as a flicker by an observer. In particular, remarkable flicker was confirmed in the halftone display.

【0044】ソースライン反転駆動、ゲートライン反転
駆動、ドット反転駆動の場合も同様に、正の極性の表示
信号が入力された画素と、負の極性の表示信号が入力さ
れた画素とでは、表示の明るさが異なる。
Similarly, in the case of the source line inversion drive, the gate line inversion drive, and the dot inversion drive, the pixel to which the display signal of the positive polarity is input and the pixel to which the display signal of the negative polarity is input are displayed. Brightness is different.

【0045】そのため、ソースライン反転駆動では縦縞
が、ゲートライン反転駆動では横縞が画面に表示され
た。またドット反転駆動では、画面に表示される画像に
よって、縦縞、横縞または斜め縞が現れることがあっ
た。
Therefore, vertical stripes were displayed on the screen by the source line inversion drive, and horizontal stripes were displayed by the gate line inversion drive. In the dot inversion driving, vertical stripes, horizontal stripes, or oblique stripes may appear depending on an image displayed on a screen.

【0046】交流化駆動によって画面がちらついて見え
たり、縦縞、横縞または斜め縞が視認されたりするのを
防ぐためには、フレーム周波数を高くすることが有効だ
と考えられる。
It is considered effective to increase the frame frequency in order to prevent the screen from flickering or the vertical stripes, horizontal stripes, or oblique stripes from being visually recognized by the AC drive.

【0047】しかしフレーム周波数を高くするために
は、ICに入力される映像信号の周波数を高くする必要
があった。映像信号の周波数を上げると、映像信号を生
成している電子機器のスペックを高くする必要があり、
コストが高くなってしまう。また映像信号を生成してい
る電子機器の駆動周波数が映像信号の周波数に対応しき
れなくなり、映像信号を生成している電子機器に負担が
かかり、動作が不可能か、または信頼性の上で難が出て
くる可能性があった。
However, in order to increase the frame frequency, it was necessary to increase the frequency of the video signal input to the IC. When the frequency of the video signal is increased, it is necessary to increase the specifications of the electronic device that generates the video signal,
The cost increases. In addition, the driving frequency of the electronic device that generates the video signal cannot correspond to the frequency of the video signal, which places a burden on the electronic device that generates the video signal, and the operation becomes impossible or the reliability is reduced. Difficulty could come out.

【0048】そこで本発明は上述したことに鑑み、観察
者にチラツキや縦縞、横縞及び斜め縞が視認されにく
く、鮮明で高精細な画像の表示ができる半導体表示装置
の駆動方法、及び該駆動方法を用いた半導体表示装置を
提供することを目的とする。
In view of the above, the present invention is directed to a method of driving a semiconductor display device which makes it difficult for an observer to see flickers, vertical stripes, horizontal stripes and oblique stripes and can display a clear and high-definition image, and a method of driving the same. An object of the present invention is to provide a semiconductor display device using the same.

【0049】[0049]

【課題を解決するための手段】本発明では、外部から半
導体表示装置に入力される映像信号の規定のフレーム周
波数を、該半導体表示装置が有するフレームレート変換
部において高くする。なお、本明細書においてフレーム
レート変換部(frame-rate conversion)とは、入力さ
れた信号の周波数を変えて出力する回路を意味する。そ
して連続する2つの各フレーム期間において、各画素に
入力される表示信号の電位を対向電極の電位(対向電
位)を基準として反転させ、連続する2つのフレーム期
間において画素部に同じ映像を表示する。
According to the present invention, a specified frame frequency of a video signal input from the outside to a semiconductor display device is increased in a frame rate conversion section of the semiconductor display device. In this specification, a frame-rate conversion unit refers to a circuit that changes the frequency of an input signal and outputs the changed signal. In two successive frame periods, the potential of the display signal input to each pixel is inverted with reference to the potential of the counter electrode (counter potential), and the same image is displayed on the pixel portion in two successive frame periods. .

【0050】上記構成によって、観察者にチラツキや縦
縞、横縞及び斜め縞が視認されにくい、鮮明で高精細な
画像の表示を行うことができる。
According to the above configuration, it is possible to display a clear and high-definition image in which flickers, vertical stripes, horizontal stripes and oblique stripes are hardly visually recognized by an observer.

【0051】また、本発明で特にフレーム反転を用いる
ことによって、隣接画素間にディスクリネーションと呼
ばれる現象縞が発生するのを抑え、表示画面全体の明る
さが低減されるのを防ぐことができる。ディスクリネー
ションとは、正の表示信号が入力された画素電極と負の
表示信号が入力された画素電極との間に電界が生じ、液
晶分子の配向が乱れる現象である。画素を高精細化する
と隣り合う画素の有する画素電極どうしの距離が短くな
ってくるため、画素電極間の電界が大きくなり、ディス
クリネーションによる見かけ上の開口率の低下が著しく
なる。そのため本発明で特にフレーム反転を用いること
は表示画面全体の明るさを低減させないという点で有効
である。
In particular, by using frame inversion in the present invention, it is possible to suppress the occurrence of a phenomenon stripe called disclination between adjacent pixels and to prevent the brightness of the entire display screen from being reduced. . Disclination is a phenomenon in which an electric field is generated between a pixel electrode to which a positive display signal is input and a pixel electrode to which a negative display signal is input, and the orientation of liquid crystal molecules is disturbed. When the definition of a pixel is increased, the distance between pixel electrodes of adjacent pixels is shortened. Therefore, the electric field between the pixel electrodes is increased, and the apparent aperture ratio is significantly reduced due to disclination. Therefore, the use of frame inversion in the present invention is particularly effective in that the brightness of the entire display screen is not reduced.

【0052】本発明の半導体表示装置におけるフレーム
変換部は、1つまたは複数のRAMを有している。そし
て外部から入力された映像信号を、該1つ、または複数
のRAMのいずれか1つに書き込み、書き込まれた映像
信号を順に2回ずつ読み出してゆく。上記構成によっ
て、映像信号のRAMへの書き込みと、RAMからの読
み出しとを同時に行うことができる。
The frame converter in the semiconductor display device of the present invention has one or a plurality of RAMs. Then, the video signal input from the outside is written into one of the one or the plurality of RAMs, and the written video signal is sequentially read twice each. With the above configuration, writing of the video signal to the RAM and reading from the RAM can be performed simultaneously.

【0053】また本発明で重要なのは、RAMに書き込
んだ映像信号を1回読み出す期間が、RAMに映像信号
を書き込む期間よりも短いことである。上記構成によっ
て、RAMから読み出された後の映像信号の周波数を、
RAMに書き込まれる前の映像信号の周波数より高くす
ることができる。
It is important in the present invention that the period during which the video signal written to the RAM is read once is shorter than the period during which the video signal is written to the RAM. With the above configuration, the frequency of the video signal read from the RAM is
It can be higher than the frequency of the video signal before it is written to the RAM.

【0054】そしてさらに本発明で重要なのは、RAM
から2回読み出された映像信号を用いて生成された2つ
の表示信号のうち、いずれか一方の表示信号の電位を、
対向電極の電位(対向電位)を基準として反転させ、極
性が反転している2つの表示信号を生成することであ
る。よって、連続する2つの各フレーム期間において、
各画素に入力される表示信号の電位は対向電極の電位
(対向電位)を基準として反転しているので、連続する
2つのフレーム期間において画素部に同じ映像が表示さ
れる。
Further important in the present invention is the RAM
Out of the two display signals generated using the video signal read twice from
The inversion is based on the potential of the counter electrode (counter potential) as a reference to generate two display signals whose polarity is inverted. Therefore, in each of two consecutive frame periods,
Since the potential of the display signal input to each pixel is inverted with reference to the potential of the counter electrode (counter potential), the same image is displayed on the pixel portion in two consecutive frame periods.

【0055】よって、ICに入力される映像信号の周波
数を高くすることなくフレーム周波数を高くすることが
できるため、映像信号を生成している電子機器に負担を
かけることなく、観察者にチラツキや縦縞、横縞及び斜
め縞が視認されにくい、鮮明で高精細な画像の表示を行
うことができる。
Therefore, since the frame frequency can be increased without increasing the frequency of the video signal input to the IC, it is possible to reduce the load on the electronic device that generates the video signal and to provide the viewer with flicker and flicker. It is possible to display a clear and high-definition image in which vertical stripes, horizontal stripes, and oblique stripes are hardly visually recognized.

【0056】また、本発明で特にフレーム反転を用いる
ことによって、隣接画素間にディスクリネーションと呼
ばれる現象縞が発生するのを抑え、表示画面全体の明る
さが低減されるのを防ぐことができる。
In particular, by using frame inversion in the present invention, it is possible to suppress the occurrence of a phenomenon stripe called disclination between adjacent pixels and to prevent the brightness of the entire display screen from being reduced. .

【0057】そして、各画素に入力される表示信号の電
位の時間的な平均が対向電位により近くなり、各フレー
ム期間において異なる表示信号を各画素に入力している
場合に比べて、液晶の劣化を防ぐのにより有効である。
Then, the temporal average of the potential of the display signal input to each pixel becomes closer to the opposite potential, and the deterioration of the liquid crystal is reduced as compared with the case where different display signals are input to each pixel in each frame period. It is more effective to prevent

【0058】本発明は、フレーム反転駆動、ソースライ
ン反転駆動、ゲートライン反転駆動、ドット反転駆動等
のあらゆる交流化駆動に用いることができる。
The present invention can be used for any AC drive such as frame inversion drive, source line inversion drive, gate line inversion drive, dot inversion drive, and the like.

【0059】なお本発明では、複数のRAMと、ソース
信号線駆動回路は、IC基板上に設けても、画素部が設
けられているアクティブマトリクス基板上に設けても良
い。またソース信号線駆動回路の一部をアクティブマト
リクス基板上に設け、残りをIC基板上に設け、FPC
等により接続していても良い。
In the present invention, the plurality of RAMs and the source signal line driving circuit may be provided on an IC substrate or on an active matrix substrate provided with a pixel portion. A part of the source signal line driver circuit is provided on an active matrix substrate, and the rest is provided on an IC substrate.
The connection may be made by the above method.

【0060】なお、本発明の半導体装置において、画素
に用いるトランジスタは単結晶シリコンを用いて形成さ
れたトランジスタであっても良いし、多結晶シリコンや
アモルファスシリコンを用いた薄膜トランジスタであっ
ても良い。また、有機半導体を用いたトランジスタであ
っても良い。
In the semiconductor device of the present invention, the transistor used for the pixel may be a transistor formed using single crystal silicon, or a thin film transistor using polycrystalline silicon or amorphous silicon. Further, a transistor using an organic semiconductor may be used.

【0061】以下に本発明の構成を示す。The structure of the present invention will be described below.

【0062】本発明によって、複数の画素TFTと、複
数の画素電極と、対向電極と、フレームレート変換部と
を有する半導体表示装置において、前記複数の画素TF
Tを介して前記複数の画素電極に表示信号が入力されて
おり、前記複数の画素電極に入力される全ての表示信号
は、各フレーム期間中、前記対向電極の電位を基準とし
て同じ極性を有しており、前記フレームレート変換部は
前記表示信号に同期して動作しており、隣接している任
意の2つのフレーム期間のうち、後に出現するフレーム
期間において前記複数の画素電極に入力される表示信号
は、先に出現するフレーム期間において前記複数の画素
電極に入力される表示信号の電位を前記対向電極の電位
を基準として反転させた信号であることを特徴とする半
導体表示装置が提供される。
According to the present invention, in a semiconductor display device having a plurality of pixel TFTs, a plurality of pixel electrodes, a counter electrode, and a frame rate conversion section, the plurality of pixels TF
Display signals are input to the plurality of pixel electrodes via T, and all display signals input to the plurality of pixel electrodes have the same polarity with respect to the potential of the counter electrode during each frame period. The frame rate conversion unit operates in synchronization with the display signal, and is input to the plurality of pixel electrodes in a frame period that appears later in any two adjacent frame periods. A semiconductor display device is provided, wherein the display signal is a signal obtained by inverting a potential of a display signal input to the plurality of pixel electrodes in a frame period which appears earlier with reference to a potential of the counter electrode. You.

【0063】本発明によって、複数の画素TFTと、複
数の画素電極と、対向電極と、複数のソース信号線と、
フレームレート変換部とを有する半導体表示装置におい
て、前記複数のソース信号線に入力される表示信号は、
前記複数の画素TFTを介して前記複数の画素電極に入
力され、各フレーム期間中、前記複数のソース信号線の
隣り合うソース信号線には、前記対向電極の電位を基準
として互いに逆の極性を有する表示信号が入力されてお
り、かつ前記複数のソース信号線のそれぞれに入力され
る表示信号は、前記対向電極の電位を基準として常に同
じ極性を有しており、前記フレームレート変換部は前記
表示信号に同期して動作しており、隣接している任意の
2つのフレーム期間のうち、後に出現するフレーム期間
において前記複数の画素電極に入力される表示信号は、
先に出現するフレーム期間において前記複数の画素電極
に入力される表示信号の電位を前記対向電極の電位を基
準として反転させた信号であることを特徴とする半導体
表示装置が提供される。
According to the present invention, a plurality of pixel TFTs, a plurality of pixel electrodes, a counter electrode, a plurality of source signal lines,
In a semiconductor display device having a frame rate conversion unit, a display signal input to the plurality of source signal lines is:
Input to the plurality of pixel electrodes via the plurality of pixel TFTs, and during each frame period, adjacent source signal lines of the plurality of source signal lines have opposite polarities with respect to the potential of the counter electrode. Display signals are input, and the display signals input to each of the plurality of source signal lines always have the same polarity with reference to the potential of the counter electrode, and the frame rate conversion unit A display signal operating in synchronization with a display signal and input to the plurality of pixel electrodes in a frame period appearing later of any two adjacent frame periods,
A semiconductor display device is provided which is a signal obtained by inverting a potential of a display signal input to the plurality of pixel electrodes in a previously appearing frame period with reference to a potential of the counter electrode.

【0064】本発明によって、複数の画素TFTと、複
数の画素電極と、対向電極と、複数のソース信号線と、
フレームレート変換部とを有する半導体表示装置におい
て、前記複数のソース信号線に入力される表示信号は、
前記複数の画素TFTを介して前記複数の画素電極に入
力され、各ライン期間中、前記複数のソース信号線の全
てに入力される表示信号は、前記対向電極の電位を基準
として常に同じ極性を有しており、隣接しているライン
期間において、前記複数のソース信号線に入力される表
示信号の極性は、前記対向電極の電位を基準として互い
に反転しており、前記フレームレート変換部は前記表示
信号に同期して動作しており、隣接している任意の2つ
のフレーム期間のうち、後に出現するフレーム期間にお
いて前記複数の画素電極に入力される表示信号は、先に
出現するフレーム期間において前記複数の画素電極に入
力される表示信号の電位を前記対向電極の電位を基準と
して反転させた信号であることを特徴とする半導体表示
装置が提供される。
According to the present invention, a plurality of pixel TFTs, a plurality of pixel electrodes, a counter electrode, a plurality of source signal lines,
In a semiconductor display device having a frame rate conversion unit, a display signal input to the plurality of source signal lines is:
Display signals that are input to the plurality of pixel electrodes via the plurality of pixel TFTs and input to all of the plurality of source signal lines during each line period always have the same polarity with reference to the potential of the counter electrode. In the adjacent line period, the polarities of the display signals input to the plurality of source signal lines are inverted with respect to the potential of the counter electrode, and the frame rate conversion unit The display signals that operate in synchronization with the display signal and are input to the plurality of pixel electrodes in a later appearing frame period of any two adjacent frame periods are different in the earlier appearing frame period. A semiconductor display device is provided which is a signal obtained by inverting a potential of a display signal input to the plurality of pixel electrodes with reference to a potential of the counter electrode.

【0065】本発明によって、複数の画素TFTと、複
数の画素電極と、対向電極と、複数のソース信号線と、
フレームレート変換部とを有する半導体表示装置におい
て、前記複数のソース信号線に入力される表示信号は、
前記複数の画素TFTを介して前記複数の画素電極に入
力され、各フレーム期間中、前記複数のソース信号線の
隣り合うソース信号線には、前記対向電極の電位を基準
として互いに逆の極性を有する表示信号が入力されてお
り、隣接しているライン期間において、前記複数のソー
ス信号線に入力される表示信号の極性は、前記対向電極
の電位を基準として互いに反転しており、前記フレーム
レート変換部は前記表示信号に同期して動作しており、
隣接している任意の2つのフレーム期間のうち、後に出
現するフレーム期間において前記複数の画素電極に入力
される表示信号は、先に出現するフレーム期間において
前記複数の画素電極に入力される表示信号の電位を前記
対向電極の電位を基準として反転させた信号であること
を特徴とする半導体表示装置が提供される。
According to the present invention, a plurality of pixel TFTs, a plurality of pixel electrodes, a counter electrode, a plurality of source signal lines,
In a semiconductor display device having a frame rate conversion unit, a display signal input to the plurality of source signal lines is:
Input to the plurality of pixel electrodes via the plurality of pixel TFTs, and during each frame period, adjacent source signal lines of the plurality of source signal lines have opposite polarities with respect to the potential of the counter electrode. Display signal is input, and in adjacent line periods, the polarities of the display signals input to the plurality of source signal lines are inverted with respect to the potential of the counter electrode, and the frame rate The converter operates in synchronization with the display signal,
A display signal input to the plurality of pixel electrodes in a later appearing frame period of any two adjacent frame periods is a display signal inputted to the plurality of pixel electrodes in a preceding appearing frame period. Is a signal obtained by inverting the potential of the semiconductor device with reference to the potential of the counter electrode.

【0066】本発明によって、複数の画素を有する画素
部と、ソース信号線駆動回路と、フレームレート変換部
とを有する半導体表示装置であって、前記複数の画素
は、画素TFTと、画素電極と、対向電極とをそれぞれ
有しており、前記フレームレート変換部は1つまたは複
数のRAMを有しており、前記1つのRAM、または前
記複数のRAMのいずれか1つに映像信号が書き込ま
れ、前記1つのRAM、または前記複数のRAMのいず
れか1つに書き込まれた映像信号は2回ずつ読み出さ
れ、前記1つのRAM、または前記複数のRAMのいず
れか1つから2回ずつ読み出された映像信号は共にソー
ス信号線駆動回路に入力され、前記ソース信号線駆動回
路によって2つの表示信号が生成され、前期2つの表示
信号は互いに極性が反転しており、前記生成された2つ
の表示信号は前記画素TFTを介して前記画素電極に入
力され、前記1つのRAM、または前記複数のRAMの
いずれか1つへの映像信号の書き込みと前記1つのRA
M、または前記複数のRAMのいずれか1つに映像信号
を書き込む期間は、前記書き込まれた映像信号が1回目
に読み出される期間及び2回目に読み出される期間より
も長いことを特徴とする半導体表示装置が提供される。
According to the present invention, there is provided a semiconductor display device including a pixel portion having a plurality of pixels, a source signal line driving circuit, and a frame rate conversion portion, wherein the plurality of pixels include a pixel TFT, a pixel electrode, , The counter electrode, and the frame rate conversion unit has one or a plurality of RAMs, and a video signal is written to any one of the one RAM or the plurality of RAMs. , The video signal written to any one of the one RAM or the plurality of RAMs is read twice, and the video signal is read twice from the one RAM or any one of the plurality of RAMs twice. The output video signals are both input to a source signal line driving circuit, and two display signals are generated by the source signal line driving circuit, and the two display signals have opposite polarities. The two generated display signals are input to the pixel electrode via the pixel TFT, and the video signal is written to the one RAM or one of the plurality of RAMs and the one RAM. RA
M or a period during which the video signal is written to any one of the plurality of RAMs is longer than a period during which the written video signal is read for the first time and a period during which the video signal is read for the second time. An apparatus is provided.

【0067】本発明によって、複数の画素を有する画素
部と、ソース信号線駆動回路と、フレームレート変換部
とを有する半導体表示装置であって、前記複数の画素
は、画素TFTと、画素電極と、対向電極とをそれぞれ
有しており、前記フレームレート変換部は1つまたは複
数のRAMを有しており、前記1つのRAM、または前
記複数のRAMのいずれか1つに映像信号が書き込ま
れ、前記1つのRAM、または前記複数のRAMのいず
れか1つに書き込まれた映像信号は2回ずつ読み出さ
れ、前記1つのRAM、または前記複数のRAMのいず
れか1つから2回ずつ読み出された映像信号は、共にD
/A変換回路においてアナログに変換されてからソース
信号線駆動回路に入力され、前記ソース信号線駆動回路
によって2つの表示信号が生成され、前期2つの表示信
号は互いに極性が反転しており、前記生成された2つの
表示信号は前記画素TFTを介して前記画素電極に入力
され、前記1つのRAM、または前記複数のRAMのい
ずれか1つに映像信号を書き込む期間は、前記書き込ま
れた映像信号が1回目に読み出される期間及び2回目に
読み出される期間よりも長いことを特徴とする半導体表
示装置が提供される。
According to the present invention, there is provided a semiconductor display device including a pixel portion having a plurality of pixels, a source signal line driving circuit, and a frame rate conversion portion, wherein the plurality of pixels include a pixel TFT, a pixel electrode, , The counter electrode, and the frame rate conversion unit has one or a plurality of RAMs, and a video signal is written to any one of the one RAM or the plurality of RAMs. , The video signal written to any one of the one RAM or the plurality of RAMs is read twice, and the video signal is read twice from the one RAM or any one of the plurality of RAMs twice. The output video signals are both D
The signal is converted into an analog signal by the / A conversion circuit and then input to the source signal line drive circuit. The two display signals are generated by the source signal line drive circuit. The two generated display signals are input to the pixel electrode via the pixel TFT, and the period during which the video signal is written to the one RAM or any one of the plurality of RAMs is the written video signal. Is longer than a period during which the first is read and a period during which the second is read.

【0068】本発明によって、複数の画素を有する画素
部と、ソース信号線駆動回路と、フレームレート変換部
とを有する半導体表示装置であって、前記複数の画素
は、画素TFTと、画素電極と、対向電極とをそれぞれ
有しており、前記フレームレート変換部は1つまたは複
数のRAMを有しており、前記1つのRAM、または前
記複数のRAMのいずれか1つに映像信号が書き込ま
れ、前記1つのRAM、または前記複数のRAMのいず
れか1つに書き込まれた映像信号は2回ずつ読み出さ
れ、前記1つのRAM、または前記複数のRAMのいず
れか1つから2回ずつ読み出された映像信号は共にソー
ス信号線駆動回路に入力され、前記ソース信号線駆動回
路によって2つの表示信号が生成され、前期2つの表示
信号は互いに極性が反転しており、前記生成された2つ
の表示信号は前記画素TFTを介して前記画素電極に入
力され、前記画素電極に入力される全ての表示信号は、
各フレーム期間中、前記対向電極の電位を基準として同
じ極性を有しており、前記1つのRAM、または前記複
数のRAMのいずれか1つに映像信号を書き込む期間
は、前記書き込まれた映像信号が1回目に読み出される
期間及び2回目に読み出される期間よりも長いことを特
徴とする半導体表示装置が提供される。
According to the present invention, there is provided a semiconductor display device including a pixel portion having a plurality of pixels, a source signal line driving circuit, and a frame rate conversion portion, wherein the plurality of pixels include a pixel TFT, a pixel electrode, , The counter electrode, and the frame rate conversion unit has one or a plurality of RAMs, and a video signal is written to any one of the one RAM or the plurality of RAMs. , The video signal written to any one of the one RAM or the plurality of RAMs is read twice, and the video signal is read twice from the one RAM or any one of the plurality of RAMs twice. The output video signals are both input to a source signal line driving circuit, and two display signals are generated by the source signal line driving circuit, and the two display signals have opposite polarities. And, two display signals the generated is input to the pixel electrode via the pixel TFT, all display signal input to the pixel electrode,
During each frame period, the video signal has the same polarity with reference to the potential of the counter electrode, and a period during which a video signal is written to the one RAM or any one of the plurality of RAMs is the written video signal. Is longer than a period during which the first is read and a period during which the second is read.

【0069】本発明によって、複数の画素を有する画素
部と、ソース信号線駆動回路と、フレームレート変換部
とを有する半導体表示装置であって、前記複数の画素
は、画素TFTと、画素電極と、対向電極とをそれぞれ
有しており、前記フレームレート変換部は1つまたは複
数のRAMを有しており、前記1つのRAM、または前
記複数のRAMのいずれか1つに映像信号が書き込ま
れ、前記1つのRAM、または前記複数のRAMのいず
れか1つに書き込まれた映像信号は2回ずつ読み出さ
れ、前記1つのRAM、または前記複数のRAMのいず
れか1つから2回ずつ読み出された映像信号は共にD/
A変換回路においてアナログに変換されてからソース信
号線駆動回路に入力され、前記ソース信号線駆動回路に
よって2つの表示信号が生成され、前期2つの表示信号
は互いに極性が反転しており、前記生成された2つの表
示信号は前記画素TFTを介して前記画素電極に入力さ
れ、前記画素電極に入力される全ての表示信号は、各フ
レーム期間中、前記対向電極の電位を基準として同じ極
性を有しており、前記1つのRAM、または前記複数の
RAMのいずれか1つに映像信号を書き込む期間は、前
記書き込まれた映像信号が1回目に読み出される期間及
び2回目に読み出される期間よりも長いことを特徴とす
る半導体表示装置が提供される。
According to the present invention, there is provided a semiconductor display device having a pixel portion having a plurality of pixels, a source signal line driving circuit, and a frame rate conversion portion, wherein the plurality of pixels are a pixel TFT, a pixel electrode, , The counter electrode, and the frame rate conversion unit has one or a plurality of RAMs, and a video signal is written to any one of the one RAM or the plurality of RAMs. , The video signal written to any one of the one RAM or the plurality of RAMs is read twice, and the video signal is read twice from the one RAM or any one of the plurality of RAMs twice. The output video signals are both D /
The analog signal is converted into an analog signal by the A conversion circuit, and then input to the source signal line driving circuit. The source signal line driving circuit generates two display signals, and the two display signals have opposite polarities. The two display signals thus input are input to the pixel electrode via the pixel TFT, and all display signals input to the pixel electrode have the same polarity with respect to the potential of the counter electrode during each frame period. The period during which the video signal is written to the one RAM or any one of the plurality of RAMs is longer than the period during which the written video signal is read for the first time and the period at which the video signal is read for the second time. A semiconductor display device is provided.

【0070】本発明によって、複数の画素を有する画素
部と、ソース信号線駆動回路と、複数のソース信号線
と、フレームレート変換部とを有する半導体表示装置で
あって、前記複数の画素は、画素TFTと、画素電極
と、対向電極とをそれぞれ有しており、前記フレームレ
ート変換部は1つまたは複数のRAMを有しており、前
記1つのRAM、または前記複数のRAMのいずれか1
つに映像信号が書き込まれ、前記1つのRAM、または
前記複数のRAMのいずれか1つに書き込まれた映像信
号は2回ずつ読み出され、前記1つのRAM、または前
記複数のRAMのいずれか1つから2回ずつ読み出され
た映像信号は共にソース信号線駆動回路に入力され、前
記ソース信号線駆動回路によって2つの表示信号が生成
され、前期2つの表示信号は互いに極性が反転してお
り、前記生成された2つの表示信号は前記複数のソース
信号線及び前記画素TFTを介して前記画素電極に入力
され、各フレーム期間中、前記複数のソース信号線の隣
り合うソース信号線には、前記対向電極の電位を基準と
して互いに逆の極性を有する表示信号が入力されてお
り、かつ前記複数のソース信号線のそれぞれに入力され
る表示信号は、前記対向電極の電位を基準として常に同
じ極性を有しており、前記1つのRAM、または前記複
数のRAMのいずれか1つに映像信号を書き込む期間
は、前記書き込まれた映像信号が1回目に読み出される
期間及び2回目に読み出される期間よりも長いことを特
徴とする半導体表示装置が提供される。
According to the present invention, there is provided a semiconductor display device including a pixel portion having a plurality of pixels, a source signal line driving circuit, a plurality of source signal lines, and a frame rate conversion section, wherein the plurality of pixels are: A pixel TFT, a pixel electrode, and a counter electrode; and the frame rate conversion unit has one or more RAMs, and one of the one RAM or the plurality of RAMs.
And the video signal written to the one RAM or any one of the plurality of RAMs is read out twice, and any one of the one RAM or the plurality of RAMs is read out. The video signals read out one by two times are input to a source signal line drive circuit, and two display signals are generated by the source signal line drive circuit. The two display signals are inverted in polarity from each other. The two display signals thus generated are input to the pixel electrodes via the plurality of source signal lines and the pixel TFT, and during each frame period, a source signal line adjacent to the plurality of source signal lines is Display signals having polarities opposite to each other with respect to the potential of the counter electrode are input, and the display signals input to each of the plurality of source signal lines are The video signal always has the same polarity with reference to the potential of the electrode, and during the period in which the video signal is written to the one RAM or any one of the plurality of RAMs, the written video signal is read out for the first time. A semiconductor display device is provided which is longer than a period and a period read for the second time.

【0071】本発明によって、複数の画素を有する画素
部と、ソース信号線駆動回路と、複数のソース信号線
と、フレームレート変換部とを有する半導体表示装置で
あって、前記複数の画素は、画素TFTと、画素電極
と、対向電極とをそれぞれ有しており、前記フレームレ
ート変換部は1つまたは複数のRAMを有しており、前
記1つのRAM、または前記複数のRAMのいずれか1
つに映像信号が書き込まれ、前記1つのRAM、または
前記複数のRAMのいずれか1つに書き込まれた映像信
号は2回ずつ読み出され、前記1つのRAM、または前
記複数のRAMのいずれか1つから2回ずつ読み出され
た映像信号は、共にD/A変換回路においてアナログに
変換されてからソース信号線駆動回路に入力され、前記
ソース信号線駆動回路によって2つの表示信号が生成さ
れ、前期2つの表示信号は互いに極性が反転しており、
前記生成された2つの表示信号は前記複数のソース信号
線及び前記画素TFTを介して前記画素電極に入力さ
れ、各フレーム期間中、前記複数のソース信号線の隣り
合うソース信号線には、前記対向電極の電位を基準とし
て互いに逆の極性を有する表示信号が入力されており、
かつ前記複数のソース信号線のそれぞれに入力される表
示信号は、前記対向電極の電位を基準として常に同じ極
性を有しており、前記1つのRAM、または前記複数の
RAMのいずれか1つに映像信号を書き込む期間は、前
記書き込まれた映像信号が1回目に読み出される期間及
び2回目に読み出される期間よりも長いことを特徴とす
る半導体表示装置が提供される。
According to the present invention, there is provided a semiconductor display device including a pixel portion having a plurality of pixels, a source signal line driving circuit, a plurality of source signal lines, and a frame rate conversion section, wherein the plurality of pixels are: A pixel TFT, a pixel electrode, and a counter electrode; and the frame rate conversion unit has one or more RAMs, and one of the one RAM or the plurality of RAMs.
And the video signal written to the one RAM or any one of the plurality of RAMs is read out twice, and any one of the one RAM or the plurality of RAMs is read out. The video signals read out one by two times are converted into analog signals by a D / A conversion circuit and then input to a source signal line driving circuit, where two display signals are generated by the source signal line driving circuit. , The two display signals have inverted polarities with each other,
The two generated display signals are input to the pixel electrode via the plurality of source signal lines and the pixel TFT, and during each frame period, the source signal lines adjacent to the plurality of source signal lines are Display signals having polarities opposite to each other with respect to the potential of the counter electrode are input,
The display signal input to each of the plurality of source signal lines always has the same polarity with reference to the potential of the counter electrode, and is applied to one of the one RAM or the plurality of RAMs. A period in which the video signal is written is longer than a period in which the written video signal is read for the first time and a period in which the video signal is read for the second time.

【0072】本発明によって、複数の画素を有する画素
部と、ソース信号線駆動回路と、複数のソース信号線
と、フレームレート変換部とを有する半導体表示装置で
あって、前記複数の画素は、画素TFTと、画素電極
と、対向電極とをそれぞれ有しており、前記フレームレ
ート変換部は1つまたは複数のRAMを有しており、前
記1つのRAM、または前記複数のRAMのいずれか1
つに映像信号が書き込まれ、前記1つのRAM、または
前記複数のRAMのいずれか1つに書き込まれた映像信
号は2回ずつ読み出され、前記1つのRAM、または前
記複数のRAMのいずれか1つから2回ずつ読み出され
た映像信号は共にソース信号線駆動回路に入力され、前
記ソース信号線駆動回路によって2つの表示信号が生成
され、前期2つの表示信号は互いに極性が反転してお
り、前記生成された2つの表示信号は前記画素TFTを
介して前記画素電極に入力され、各ライン期間中、前記
複数のソース信号線の全てに入力される表示信号は、前
記対向電極の電位を基準として常に同じ極性を有してお
り、隣接しているライン期間において、前記複数のソー
ス信号線に入力される表示信号の極性は、前記対向電極
の電位を基準として互いに反転しており、前記1つのR
AM、または前記複数のRAMのいずれか1つに映像信
号を書き込む期間は、前記書き込まれた映像信号が1回
目に読み出される期間及び2回目に読み出される期間よ
りも長いことを特徴とする半導体表示装置が提供され
る。
According to the present invention, there is provided a semiconductor display device having a pixel portion having a plurality of pixels, a source signal line driving circuit, a plurality of source signal lines, and a frame rate conversion section, wherein the plurality of pixels are: A pixel TFT, a pixel electrode, and a counter electrode; and the frame rate conversion unit has one or more RAMs, and one of the one RAM or the plurality of RAMs.
And the video signal written to the one RAM or any one of the plurality of RAMs is read out twice, and any one of the one RAM or the plurality of RAMs is read out. The video signals read out one by two times are input to a source signal line drive circuit, and two display signals are generated by the source signal line drive circuit. The two display signals are inverted in polarity from each other. The two display signals thus generated are input to the pixel electrodes via the pixel TFTs. During each line period, the display signals input to all of the plurality of source signal lines are equal to the potential of the counter electrode. Have the same polarity as a reference, and in the adjacent line periods, the polarity of the display signal input to the plurality of source signal lines is based on the potential of the counter electrode. It is inverted to have said one of R
A semiconductor display characterized in that a period during which a video signal is written to an AM or any one of the plurality of RAMs is longer than a period during which the written video signal is read for the first time and a period during which the video signal is read for the second time. An apparatus is provided.

【0073】本発明によって、複数の画素を有する画素
部と、ソース信号線駆動回路と、フレームレート変換部
とを有する半導体表示装置であって、前記複数の画素
は、画素TFTと、画素電極と、対向電極とをそれぞれ
有しており、前記フレームレート変換部は1つまたは複
数のRAMを有しており、前記1つのRAM、または前
記複数のRAMのいずれか1つに映像信号が書き込ま
れ、前記1つのRAM、または前記複数のRAMのいず
れか1つに書き込まれた映像信号は2回ずつ読み出さ
れ、前記1つのRAM、または前記複数のRAMのいず
れか1つから2回ずつ読み出された映像信号は、共にD
/A変換回路においてアナログに変換されてからソース
信号線駆動回路に入力され、前記ソース信号線駆動回路
によって2つの表示信号が生成され、前期2つの表示信
号は互いに極性が反転しており、前記生成された2つの
表示信号は前記画素TFTを介して前記画素電極に入力
され、各ライン期間中、前記複数のソース信号線の全て
に入力される表示信号は、前記対向電極の電位を基準と
して常に同じ極性を有しており、隣接しているライン期
間において、前記複数のソース信号線に入力される表示
信号の極性は、前記対向電極の電位を基準として互いに
反転しており、前記1つのRAM、または前記複数のR
AMのいずれか1つに映像信号を書き込む期間は、前記
書き込まれた映像信号が1回目に読み出される期間及び
2回目に読み出される期間よりも長いことを特徴とする
半導体表示装置が提供される。
According to the present invention, there is provided a semiconductor display device including a pixel portion having a plurality of pixels, a source signal line driving circuit, and a frame rate conversion portion, wherein the plurality of pixels include a pixel TFT, a pixel electrode, , The counter electrode, and the frame rate conversion unit has one or a plurality of RAMs, and a video signal is written to any one of the one RAM or the plurality of RAMs. , The video signal written to any one of the one RAM or the plurality of RAMs is read twice, and the video signal is read twice from the one RAM or any one of the plurality of RAMs twice. The output video signals are both D
The signal is converted into an analog signal by the / A conversion circuit and then input to the source signal line drive circuit. The two display signals are generated by the source signal line drive circuit. The two generated display signals are input to the pixel electrodes via the pixel TFTs. During each line period, the display signals input to all of the plurality of source signal lines are based on the potential of the counter electrode. Always have the same polarity, and in adjacent line periods, the polarities of the display signals input to the plurality of source signal lines are inverted with respect to the potential of the counter electrode, and the one RAM, or the plurality of Rs
A semiconductor display device is provided in which a period during which a video signal is written to any one of the AMs is longer than a period during which the written video signal is read for the first time and a period during which the video signal is read for the second time.

【0074】本発明によって、複数の画素を有する画素
部と、ソース信号線駆動回路と、複数のソース信号線
と、フレームレート変換部とを有する半導体表示装置で
あって、前記複数の画素は、画素TFTと、画素電極
と、対向電極とをそれぞれ有しており、前記フレームレ
ート変換部は1つまたは複数のRAMを有しており、前
記1つのRAM、または前記複数のRAMのいずれか1
つに映像信号が書き込まれ、前記1つのRAM、または
前記複数のRAMのいずれか1つに書き込まれた映像信
号は2回ずつ読み出され、前記1つのRAM、または前
記複数のRAMのいずれか1つから2回ずつ読み出され
た映像信号は共にソース信号線駆動回路に入力され、前
記ソース信号線駆動回路によって2つの表示信号が生成
され、前期2つの表示信号は互いに極性が反転してお
り、前記生成された2つの表示信号は前記画素TFTを
介して前記画素電極に入力され、各フレーム期間中、前
記複数のソース信号線の隣り合うソース信号線には、前
記対向電極の電位を基準として互いに逆の極性を有する
表示信号が入力されており、隣接しているライン期間に
おいて、前記複数のソース信号線に入力される表示信号
の極性は、前記対向電極の電位を基準として互いに反転
しており、前記1つのRAM、または前記複数のRAM
のいずれか1つに映像信号を書き込む期間は、前記書き
込まれた映像信号が1回目に読み出される期間及び2回
目に読み出される期間よりも長いことを特徴とする半導
体表示装置が提供される。
According to the present invention, there is provided a semiconductor display device including a pixel portion having a plurality of pixels, a source signal line driving circuit, a plurality of source signal lines, and a frame rate conversion section, wherein the plurality of pixels are: A pixel TFT, a pixel electrode, and a counter electrode; and the frame rate conversion unit has one or more RAMs, and one of the one RAM or the plurality of RAMs.
And the video signal written to the one RAM or any one of the plurality of RAMs is read out twice, and any one of the one RAM or the plurality of RAMs is read out. The video signals read out one by two times are input to a source signal line drive circuit, and two display signals are generated by the source signal line drive circuit. The two display signals are inverted in polarity from each other. The two generated display signals are input to the pixel electrode via the pixel TFT, and during each frame period, the potential of the counter electrode is applied to a source signal line adjacent to the plurality of source signal lines. Display signals having polarities opposite to each other are input as a reference, and the polarities of the display signals input to the plurality of source signal lines in the adjacent line periods are opposite to each other. Are mutually inverted relative to the electrode potential, the one RAM or the plurality of RAM,
The period in which the video signal is written to any one of the above is longer than the period in which the written video signal is read for the first time and the period in which the video signal is read for the second time.

【0075】本発明によって、複数の画素を有する画素
部と、ソース信号線駆動回路と、複数のソース信号線
と、フレームレート変換部とを有する半導体表示装置で
あって、前記複数の画素は、画素TFTと、画素電極
と、対向電極とをそれぞれ有しており、前記フレームレ
ート変換部は1つまたは複数のRAMを有しており、前
記1つのRAM、または前記複数のRAMのいずれか1
つに映像信号が書き込まれ、前記1つのRAM、または
前記複数のRAMのいずれか1つに書き込まれた映像信
号は2回ずつ読み出され、前記1つのRAM、または前
記複数のRAMのいずれか1つから2回ずつ読み出され
た映像信号は、共にD/A変換回路においてアナログに
変換されてからソース信号線駆動回路に入力され、前記
ソース信号線駆動回路によって2つの表示信号が生成さ
れ、前期2つの表示信号は互いに極性が反転しており、
前記生成された2つの表示信号は前記画素TFTを介し
て前記画素電極に入力され、各フレーム期間中、前記複
数のソース信号線の隣り合うソース信号線には、前記対
向電極の電位を基準として互いに逆の極性を有する表示
信号が入力されており、隣接しているライン期間におい
て、前記複数のソース信号線に入力される表示信号の極
性は、前記対向電極の電位を基準として互いに反転して
おり、前記1つのRAM、または前記複数のRAMのい
ずれか1つに映像信号を書き込む期間は、前記書き込ま
れた映像信号が1回目に読み出される期間及び2回目に
読み出される期間よりも長いことを特徴とする半導体表
示装置が提供される。
According to the present invention, there is provided a semiconductor display device having a pixel portion having a plurality of pixels, a source signal line driving circuit, a plurality of source signal lines, and a frame rate conversion section, wherein the plurality of pixels are: A pixel TFT, a pixel electrode, and a counter electrode; and the frame rate conversion unit has one or more RAMs, and one of the one RAM or the plurality of RAMs.
And the video signal written to the one RAM or any one of the plurality of RAMs is read out twice, and any one of the one RAM or the plurality of RAMs is read out. The video signals read out one by two times are converted into analog signals by a D / A conversion circuit and then input to a source signal line driving circuit, where two display signals are generated by the source signal line driving circuit. , The two display signals have inverted polarities with each other,
The two generated display signals are input to the pixel electrodes via the pixel TFTs, and during each frame period, the source signal lines adjacent to the plurality of source signal lines are set with reference to the potential of the counter electrode. Display signals having polarities opposite to each other are input, and in adjacent line periods, the polarities of the display signals input to the plurality of source signal lines are inverted with respect to the potential of the counter electrode. The period during which the video signal is written to the one RAM or any one of the plurality of RAMs is longer than the period during which the written video signal is read for the first time and the period during which the video signal is read for the second time. A semiconductor display device is provided.

【0076】本発明によって、複数の画素TFTと、複
数の画素電極と、対向電極と、フレームレート変換部と
を有する半導体表示装置の駆動方法において、前記複数
の画素TFTを介して前記複数の画素電極に表示信号が
入力されており、前記フレームレート変換部は前記表示
信号に同期して動作しており、隣接している任意の2つ
のフレーム期間のうち、後に出現するフレーム期間にお
いて前記複数の画素電極に入力される表示信号は、先に
出現するフレーム期間において前記複数の画素電極に入
力される表示信号の極性を前記対向電極の電位を基準と
して反転させた信号であることを特徴とする半導体表示
装置の駆動方法が提供される。
According to the present invention, in a method for driving a semiconductor display device having a plurality of pixel TFTs, a plurality of pixel electrodes, a counter electrode, and a frame rate conversion unit, the plurality of pixel TFTs are provided via the plurality of pixel TFTs. A display signal is input to the electrode, and the frame rate conversion unit is operating in synchronization with the display signal, and, in any two adjacent frame periods, the plurality of frames in a later appearing frame period. The display signal input to the pixel electrode is a signal obtained by inverting the polarity of the display signal input to the plurality of pixel electrodes with respect to the potential of the counter electrode during a frame period that appears earlier. A method for driving a semiconductor display device is provided.

【0077】本発明によって、複数の画素TFTと、複
数の画素電極と、対向電極と、フレームレート変換部と
を有する半導体表示装置の駆動方法において、前記複数
の画素TFTを介して前記複数の画素電極に表示信号が
入力されており、前記複数の画素電極に入力される全て
の表示信号は、各フレーム期間中、前記対向電極の電位
を基準として同じ極性を有しており、前記フレームレー
ト変換部は前記表示信号に同期して動作しており、隣接
している任意の2つのフレーム期間のうち、後に出現す
るフレーム期間において前記複数の画素電極に入力され
る表示信号は、先に出現するフレーム期間において前記
複数の画素電極に入力される表示信号の電位を前記対向
電極の電位を基準として反転させた信号であることを特
徴とする半導体表示装置の駆動方法が提供される。
According to the present invention, in a method for driving a semiconductor display device having a plurality of pixel TFTs, a plurality of pixel electrodes, a counter electrode, and a frame rate conversion unit, the plurality of pixel TFTs are provided via the plurality of pixel TFTs. A display signal is input to the electrode, and all display signals input to the plurality of pixel electrodes have the same polarity with respect to the potential of the counter electrode during each frame period, and the frame rate conversion is performed. The unit operates in synchronization with the display signal, and a display signal input to the plurality of pixel electrodes in a later appearing frame period of any two adjacent frame periods appears earlier. A semiconductor signal which is obtained by inverting a potential of a display signal input to the plurality of pixel electrodes in a frame period with reference to a potential of the counter electrode. The driving method of the device is provided.

【0078】本発明によって、複数の画素TFTと、複
数の画素電極と、対向電極と、複数のソース信号線と、
フレームレート変換部とを有する半導体表示装置の駆動
方法において、前記複数のソース信号線に入力される表
示信号は、前記複数の画素TFTを介して前記複数の画
素電極に入力され、各フレーム期間中、前記複数のソー
ス信号線の隣り合うソース信号線には、前記対向電極の
電位を基準として互いに逆の極性を有する表示信号が入
力されており、かつ前記複数のソース信号線のそれぞれ
に入力される表示信号は、前記対向電極の電位を基準と
して常に同じ極性を有しており、前記フレームレート変
換部は前記表示信号に同期して動作しており、隣接して
いる任意の2つのフレーム期間のうち、後に出現するフ
レーム期間において前記複数の画素電極に入力される表
示信号は、先に出現するフレーム期間において前記複数
の画素電極に入力される表示信号の電位を前記対向電極
の電位を基準として反転させた信号であることを特徴と
する半導体表示装置の駆動方法が提供される。
According to the present invention, a plurality of pixel TFTs, a plurality of pixel electrodes, a counter electrode, a plurality of source signal lines,
And a display signal input to the plurality of source signal lines is input to the plurality of pixel electrodes via the plurality of pixel TFTs, and the display signal is input to the plurality of pixel electrodes during each frame period. Display signals having polarities opposite to each other with respect to the potential of the counter electrode are input to source signal lines adjacent to the plurality of source signal lines, and input to each of the plurality of source signal lines. Display signal always has the same polarity with reference to the potential of the counter electrode, the frame rate conversion unit operates in synchronization with the display signal, and any two adjacent frame periods The display signal input to the plurality of pixel electrodes in a later appearing frame period is input to the plurality of pixel electrodes in the earlier appearing frame period. The driving method of a semiconductor display device, characterized in that the potential of the display signal is a signal obtained by inverting the potential of the counter electrode as a reference that is provided.

【0079】本発明によって、複数の画素TFTと、複
数の画素電極と、対向電極と、複数のソース信号線と、
フレームレート変換部とを有する半導体表示装置の駆動
方法において、前記複数のソース信号線に入力される表
示信号は、前記複数の画素TFTを介して前記複数の画
素電極に入力され、各ライン期間中、前記複数のソース
信号線の全てに入力される表示信号は、前記対向電極の
電位を基準として常に同じ極性を有しており、隣接して
いるライン期間において、前記複数のソース信号線に入
力される表示信号の極性は、前記対向電極の電位を基準
として互いに反転しており、前記フレームレート変換部
は前記表示信号に同期して動作しており、隣接している
任意の2つのフレーム期間のうち、後に出現するフレー
ム期間において前記複数の画素電極に入力される表示信
号は、先に出現するフレーム期間において前記複数の画
素電極に入力される表示信号の電位を前記対向電極の電
位を基準として反転させた信号であることを特徴とする
半導体表示装置の駆動方法が提供される。
According to the present invention, a plurality of pixel TFTs, a plurality of pixel electrodes, a counter electrode, a plurality of source signal lines,
In the method for driving a semiconductor display device having a frame rate conversion unit, a display signal input to the plurality of source signal lines is input to the plurality of pixel electrodes via the plurality of pixel TFTs, and during each line period, The display signal input to all of the plurality of source signal lines always has the same polarity with reference to the potential of the counter electrode, and is input to the plurality of source signal lines during an adjacent line period. The polarity of the display signal to be displayed is inverted with respect to the potential of the counter electrode, and the frame rate conversion unit operates in synchronization with the display signal, and is connected to any two adjacent frame periods. The display signal input to the plurality of pixel electrodes in the later appearing frame period is input to the plurality of pixel electrodes in the earlier appearing frame period. The driving method of a semiconductor display device which is a signal obtained by inverting the potential of the display signal based on the potential of the opposing electrode.

【0080】本発明によって、複数の画素TFTと、複
数の画素電極と、対向電極と、複数のソース信号線と、
フレームレート変換部とを有する半導体表示装置の駆動
方法において、前記複数のソース信号線に入力される表
示信号は、前記複数の画素TFTを介して前記複数の画
素電極に入力され、各フレーム期間中、前記複数のソー
ス信号線の隣り合うソース信号線には、前記対向電極の
電位を基準として互いに逆の極性を有する表示信号が入
力されており、隣接しているライン期間において、前記
複数のソース信号線に入力される表示信号の極性は、前
記対向電極の電位を基準として互いに反転しており、前
記フレームレート変換部は前記表示信号に同期して動作
しており、隣接している任意の2つのフレーム期間のう
ち、後に出現するフレーム期間において前記複数の画素
電極に入力される表示信号は、先に出現するフレーム期
間において前記複数の画素電極に入力される表示信号の
電位を前記対向電極の電位を基準として反転させた信号
であることを特徴とする半導体表示装置の駆動方法が提
供される。
According to the present invention, a plurality of pixel TFTs, a plurality of pixel electrodes, a counter electrode, a plurality of source signal lines,
And a display signal input to the plurality of source signal lines is input to the plurality of pixel electrodes via the plurality of pixel TFTs, and the display signal is input to the plurality of pixel electrodes during each frame period. A display signal having polarities opposite to each other with respect to the potential of the counter electrode is input to a source signal line adjacent to the plurality of source signal lines. The polarity of the display signal input to the signal line is inverted with respect to the potential of the counter electrode, the frame rate conversion unit operates in synchronization with the display signal, and any adjacent Of the two frame periods, the display signal input to the plurality of pixel electrodes in the later appearing frame period is the display signal inputted in the earlier appearing frame period. The driving method of a semiconductor display device, characterized in that the potential of the display signal input to the pixel electrode is a signal obtained by inverting the potential of the counter electrode as a reference is provided.

【0081】本発明は、前記RAMがSDRAMである
ことを特徴としていても良い。
The present invention may be characterized in that the RAM is an SDRAM.

【0082】本発明は、前記半導体表示装置を用いたコ
ンピュータ、ビデオカメラ及びDVDプレーヤーを含
む。
The present invention includes a computer, a video camera, and a DVD player using the semiconductor display device.

【0083】[0083]

【発明の実施の形態】以下に、本発明の半導体表示装置
が有するフレームレート変換部について、図1を用いて
説明する。なお本実施の形態ではRAMとしてSDRA
M(Synchronous Dynamic Random Access Memory)
を用いる構成を示す。しかし本発明はRAMに限定され
ず、高速のデータの書き込みや読み出しが可能であるな
らば、その他のDRAM(Dynamic Random Access M
emory)や、SRAM(StaticRandom Access Memor
y)も用いることが可能である。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS A frame rate conversion section of a semiconductor display device according to the present invention will be described below with reference to FIG. In this embodiment, SDRAM is used as RAM.
M (Synchronous Dynamic Random Access Memory)
Is shown. However, the present invention is not limited to a RAM, and other DRAMs (Dynamic Random Access Memory) can be used as long as high-speed data writing and reading can be performed.
emory) and SRAM (StaticRandom Access Memor)
y) can also be used.

【0084】フレームレート変換部100は、制御部1
01、フレーム周波数変換部102、アドレスジェネレ
ータ部106を有している。またフレーム周波数変換部
102は、第1のSDRAM(SDRAM1)103、
第2のSDRAM(SDRAM2)104、データフォ
ーマット部105を有している。また107はD/A変
換回路であり、フレームレート変換部100から出力さ
れる映像信号を、デジタルからアナログに変換する。
The frame rate conversion section 100 includes the control section 1
01, a frame frequency converter 102, and an address generator 106. The frame frequency conversion unit 102 includes a first SDRAM (SDRAM1) 103,
A second SDRAM (SDRAM2) 104 and a data format unit 105 are provided. A D / A conversion circuit 107 converts a video signal output from the frame rate conversion unit 100 from digital to analog.

【0085】なお本実施の形態ではフレーム周波数変換
部102がSDRAMを2つ(第1のSDRAM10
3、第2のSDRAM104)を有しているが、SDR
AMの数は2つに限定されず、いくつでも良い。本実施
の形態では説明を簡便にするためにSDRAMの数が2
つの場合について説明する。
In the present embodiment, frame frequency conversion section 102 uses two SDRAMs (first SDRAM 10
3, the second SDRAM 104), but the SDR
The number of AMs is not limited to two, but may be any number. In this embodiment, the number of SDRAMs is two for simplicity.
Two cases will be described.

【0086】Hsync信号と、Vsync信号と、C
LK信号が制御部101に入力される。Hsync信号
と、Vsync信号と、CLK信号によって制御部10
1から、アドレスジェネレータ部の駆動を制御するアド
レスジェネレータ制御信号(address generator contro
ll signal)と、第1のSDRAM103と第2のSD
RAM104の駆動を制御するSDRAM制御信号(RA
M CLK1, RAM CLK2)が出力される。
The Hsync signal, the Vsync signal, and C
The LK signal is input to the control unit 101. The control unit 10 is controlled by the Hsync signal, the Vsync signal, and the CLK signal.
1 to an address generator control signal (address generator control signal) for controlling the driving of the address generator section.
ll signal), the first SDRAM 103 and the second SD
An SDRAM control signal (RA
M CLK1 and RAM CLK2) are output.

【0087】アドレスジェネレータ部106は、制御部
101から入力されたアドレスジェネレータ制御信号に
よって駆動し、第1のSDRAM103と第2のSDR
AM104のメモリアドレスの番地を指定するカウンタ
値を決定する。例えばカウンタ値が0だと第1のSDR
AM103と第2のSDRAM104のメモリアドレス
の0番地が指定され、カウンタ値が1だと1番地が、カ
ウンタ値が2だと2番地が、カウンタ値がqだとq番地
がそれぞれ指定される。
The address generator 106 is driven by the address generator control signal input from the controller 101, and is driven by the first SDRAM 103 and the second SDRAM.
A counter value specifying the address of the memory address of the AM 104 is determined. For example, if the counter value is 0, the first SDR
The address 0 of the memory address of the AM 103 and the second SDRAM 104 is designated, the address 1 is designated if the counter value is 1, the address 2 is designated if the counter value is 2, and the q address is designated if the counter value is q.

【0088】カウンタ値の情報は第1カウンタ信号(ad
dress count signal 1)、第2カウンタ信号(address
count signal 2)として、アドレスジェネレータ部10
6から第1のSDRAM103と第2のSDRAM10
4にそれぞれ入力される。なお、第1カウンタ信号が有
するカウンタ値を第1カウンタ値、第2カウンタ信号が
有するカウンタ値を第2カウンタ値と呼ぶ。
The information of the counter value is the first counter signal (ad
dress count signal 1), second counter signal (address
As the count signal 2), the address generator 10
6 to the first SDRAM 103 and the second SDRAM 10
4 respectively. The counter value of the first counter signal is called a first counter value, and the counter value of the second counter signal is called a second counter value.

【0089】データフォーマット部105には、外部か
らデジタルの映像信号(Video Signal)が入力される。
またデータフォーマット部105は交流電源(AC Con
t)に接続されている。
A digital video signal (Video Signal) is externally input to the data format unit 105.
The data format unit 105 is connected to an AC power supply (AC Con
t) is connected.

【0090】データフォーマット部105に入力された
デジタルの映像信号は、第1または第2のSDRAM1
03、104の、第1または第2カウンタ信号によって
指定された番地に順に書き込まれる。デジタルの映像信
号は、複数のSDRAMに同時に書き込まれるのではな
く、常に1つのSDRAMだけに書き込まれる。
The digital video signal input to the data format unit 105 is the first or second SDRAM 1
03 and 104 are sequentially written to addresses designated by the first or second counter signal. A digital video signal is not always written to a plurality of SDRAMs at the same time, but is always written to only one SDRAM.

【0091】データフォーマット部105において入力
されたデジタルの映像信号のビット数を増加させてか
ら、第1のSDRAM103または第2のSDRAM1
04に書き込むようにしても良い。
After increasing the number of bits of the digital video signal input in the data format section 105, the first SDRAM 103 or the second SDRAM 1
04 may be written.

【0092】次に書き込まれた映像信号は、第1または
第2のSDRAM103、104の第1または第2カウ
ンタ信号によって指定された番地から順に読み出され
る。デジタルの映像信号は、複数のSDRAMから同時
に読み出されるのではなく、常に1つのSDRAMだけ
から読み出される。
Next, the written video signal is read out sequentially from the address specified by the first or second counter signal of the first or second SDRAM 103, 104. The digital video signal is not read from a plurality of SDRAMs at the same time, but is always read from only one SDRAM.

【0093】なお映像信号の読み出しは2回行われる。
そして1つのSDRAMへの映像信号の書き込みと、他
の1つのSDRAMからの映像信号の読み出しは並行し
て行われる。
Note that the reading of the video signal is performed twice.
Then, the writing of the video signal to one SDRAM and the reading of the video signal from another SDRAM are performed in parallel.

【0094】図2を用いて、図1におけるフレーム周波
数変換部102の動作を具体的に説明する。図2(A)
において、第1のSDRAM103に映像信号が書き込
まれており、同時に第2のSDRAM104に書き込ま
れた映像信号が2回読み出されている。図2(B)にお
いて、第1のSDRAM103に書き込まれた映像信号
が2回読み出されており、同時に第2のSDRAM10
4に映像信号が書き込まれている。
The operation of the frame frequency converter 102 shown in FIG. 1 will be specifically described with reference to FIG. FIG. 2 (A)
In the example, the video signal is written to the first SDRAM 103, and the video signal written to the second SDRAM 104 is read twice at the same time. In FIG. 2B, the video signal written in the first SDRAM 103 is read twice, and at the same time, the second SDRAM 10
4 is written with a video signal.

【0095】なお、本実施の形態では、1画像分に相当
する映像信号しか書き込むことができないSDRAMを
用いた例について示しているが、本発明はこれに限定さ
れない。1画像分以上に相当する映像信号を書き込むこ
とが可能なRAMを用いるに構成にしても良い。2画像
分以上に相当する映像信号を書き込むことが可能なRA
Mを用いれば、本発明において用いるRAMは1つでも
良い。逆に1画像分以下に相当する映像信号しか書き込
むことができないRAMを用いる場合、複数のRAMを
用いることで1画像分に相当する映像信号を書き込むよ
うにしても良い。
Although the present embodiment shows an example using an SDRAM to which only a video signal corresponding to one image can be written, the present invention is not limited to this. A configuration may be employed in which a RAM capable of writing a video signal corresponding to one image or more is used. RA capable of writing video signals equivalent to two or more images
If M is used, only one RAM may be used in the present invention. Conversely, when using a RAM to which only a video signal corresponding to one image or less can be written, a video signal corresponding to one image may be written by using a plurality of RAMs.

【0096】図3に、第1のSDRAM103と第2の
SDRAM104における、映像信号の書き込みと読み
出しのタイミングを示す。書き込み期間pにおいて第1
のSDRAM103に映像信号が書き込まれる。そして
書き込み期間pにおいて第1のSDRAM103に書き
込まれた映像信号が、次に出現する第1読み出し期間p
と第2読み出し期間pにおいて2回読み出される。
FIG. 3 shows the timing of writing and reading of a video signal in the first SDRAM 103 and the second SDRAM 104. In the writing period p, the first
The video signal is written to the SDRAM 103. Then, the video signal written in the first SDRAM 103 in the writing period p is used in the next first reading period p.
Is read twice in the second read period p.

【0097】また書き込み期間(p−1)において第2
のSDRAM104に映像信号が書き込まれる。そして
書き込み期間(p−1)において第2のSDRAM10
4に書き込まれた映像信号は、次に出現する第1読み出
し期間(p−1)と第2読み出し期間(p−1)におい
て2回読み出される。
In the writing period (p-1), the second
The video signal is written to the SDRAM 104 of the. Then, in the writing period (p-1), the second SDRAM 10
The video signal written in No. 4 is read twice in the first readout period (p-1) and the second readout period (p-1) which appear next.

【0098】そして書き込み期間pと、第1及び第2読
み出し期間(p−1)は同時に出現している。つまり、
第1のSDRAM103に映像信号が書き込まれるのと
並行して、第2のSDRAM104から映像信号が2回
読み出されている。
The writing period p and the first and second reading periods (p-1) appear at the same time. That is,
The video signal is read twice from the second SDRAM 104 in parallel with the video signal being written to the first SDRAM 103.

【0099】また書き込み期間(p+1)と、第1及び
第2読み出し期間pは同時に出現している。つまり、第
2のSDRAM104に映像信号が書き込まれるのと並
行して、第1のSDRAM103から映像信号が2回読
み出されている。
The write period (p + 1) and the first and second read periods p appear at the same time. That is, the video signal is read from the first SDRAM 103 twice in parallel with the writing of the video signal to the second SDRAM 104.

【0100】第1及び第2読み出し期間pが終了する
と、書き込み期間(p+2)が出現し、再び第1のSD
RAM103に映像信号が書き込まれる。それと並行し
て、第1及び第2読み出し期間(p+1)が出現し、第
2のSDRAM104から映像信号が2回読み出され
る。
When the first and second read periods p end, a write period (p + 2) appears, and again the first SD
The video signal is written to the RAM 103. In parallel, the first and second readout periods (p + 1) appear, and the video signal is read out twice from the second SDRAM 104.

【0101】読み出された映像信号はデータフォーマッ
ト部105に入力される。そしてデータフォーマット部
105において、2回読み出された映像信号のうちどち
らか一方の映像信号が、アナログに変換された際に液晶
の対向電極の電位を基準として極性が反転するように、
データ処理される。そして、データ処理された映像信号
とデータ処理されなかった映像信号との2つの映像信号
が、データフォーマット部105から処理済の映像信号
(Processed video signal)として出力される。
[0101] The read video signal is input to the data format unit 105. Then, in the data format unit 105, when one of the video signals read twice is converted to analog, the polarity is inverted with reference to the potential of the counter electrode of the liquid crystal,
Data is processed. Then, the two video signals, that is, the video signal subjected to the data processing and the video signal not subjected to the data processing, are output from the data format unit 105 as a processed video signal (Processed video signal).

【0102】データフォーマット部105から出力され
た2つの映像信号は、D/A変換回路107に入力さ
れ、アナログに変換される。なお、D/A変換回路10
7には高低2つの電源電圧がコンスタントに与えられて
おり、D/A変換回路107から、対向電極の電位を基
準として極性の反転した2つのアナログの映像信号が出
力される。アナログに変換された2つの映像信号は、順
にソース信号線駆動回路に入力される。
[0102] The two video signals output from the data format unit 105 are input to the D / A conversion circuit 107 and are converted into analog signals. The D / A conversion circuit 10
7, two high and low power supply voltages are constantly applied, and two analog video signals whose polarities are inverted with respect to the potential of the counter electrode are output from the D / A conversion circuit 107. The two video signals converted to analog are sequentially input to the source signal line driving circuit.

【0103】なお、データフォーマット部105におい
て、映像信号をシリアル−パラレル変換して、分割駆動
の分割数分だけ分割してから、D/A変換回路107に
入力しても良い。
Note that the video signal may be serial-parallel converted by the data format unit 105 and divided by the number of divisions of the division driving before input to the D / A conversion circuit 107.

【0104】分割駆動とは、画像表示スピードを遅くす
ることなくソース信号線駆動回路の駆動周波数を抑える
ための駆動方法である。具体的には、ソース信号線をm
個のグループに分割し、1ライン期間中に、同時にm本
のソース信号線に表示信号を入力する駆動方法である。
The division driving is a driving method for suppressing the driving frequency of the source signal line driving circuit without lowering the image display speed. Specifically, the source signal line is set to m
This is a driving method in which display signals are divided into groups and display signals are simultaneously input to m source signal lines during one line period.

【0105】図4に、本発明の駆動方法が用いられるア
クティブマトリクス型液晶表示装置の画素部の構成を示
す。図4(A)は、画素部の回路図であり、図4(B)
は画素の配置を示した図である。
FIG. 4 shows a configuration of a pixel portion of an active matrix liquid crystal display device using the driving method of the present invention. FIG. 4A is a circuit diagram of a pixel portion, and FIG.
FIG. 3 is a diagram showing an arrangement of pixels.

【0106】110は画素部を示している。ソース信号
線駆動回路に接続されたソース信号線S1〜Sxと、ゲ
ート信号線駆動回路に接続されたゲート信号線G1〜G
yとが画素部110に設けられている。そして画素部1
10において、ソース信号線S1〜Sxとゲート信号線
G1〜Gyとで囲まれている部分に画素111が設けら
れている。そして画素111には画素TFT112と画
素電極113とが設けられている。
Reference numeral 110 denotes a pixel portion. Source signal lines S1 to Sx connected to the source signal line drive circuit, and gate signal lines G1 to G connected to the gate signal line drive circuit
y are provided in the pixel portion 110. And the pixel unit 1
In 10, a pixel 111 is provided in a portion surrounded by source signal lines S1 to Sx and gate signal lines G1 to Gy. The pixel 111 is provided with a pixel TFT 112 and a pixel electrode 113.

【0107】ゲート信号線駆動回路からゲート信号線G
1〜Gyに選択信号が入力され、前記選択信号によって
前記画素TFT112のスイッチングが制御されてい
る。なお本明細書においてTFTのスイッチングを制御
するというのは、TFTをオンの状態にするかオフの状
態にするかを選択することを意味する。
The gate signal line G is supplied from the gate signal line driving circuit.
A selection signal is input to 1 to Gy, and the switching of the pixel TFT 112 is controlled by the selection signal. Note that controlling the switching of the TFT in this specification means selecting whether to turn the TFT on or off.

【0108】ゲート信号線駆動回路からゲート信号線G
1に入力される選択信号によってゲート信号線G1が選
択され、ゲート信号線G1とソース信号線S1とが交差
している部分の画素(1、1)、(1、2)、…、
(1、x)の画素TFT112をオンの状態にする。
From the gate signal line drive circuit to the gate signal line G
1, the gate signal line G1 is selected by the selection signal, and the pixels (1, 1), (1, 2),... At the intersection of the gate signal line G1 and the source signal line S1.
The (1, x) pixel TFT 112 is turned on.

【0109】ソース信号線駆動回路に入力された極性の
反転した2つのアナログの映像信号は、ソース信号線駆
動回路内のシフトレジスタ等からのサンプリング信号に
従って順にサンプリングされ、それぞれ表示信号として
ソース信号線S1〜Sxに入力される。
The two analog video signals having inverted polarities input to the source signal line driving circuit are sampled in order according to sampling signals from a shift register or the like in the source signal line driving circuit, and are respectively displayed as display signals on the source signal line. Input to S1 to Sx.

【0110】そしてソース信号線S1〜Sxに入力され
た表示信号が、画素TFT112を介して画素(1、
1)、(1、2)、…、(1、x)の画素電極113に
入力される。この入力された表示信号の電位により液晶
を駆動し、透過光量を制御して、画素(1、1)、
(1、2)、…、(1、x)に画像の一部(画素(1、
1)、(1、2)、…、(1、x)に相当する画像)が
表示される。
The display signals input to the source signal lines S1 to Sx are applied to the pixels (1,
1), (1, 2),..., (1, x). The liquid crystal is driven by the potential of the input display signal, the amount of transmitted light is controlled, and the pixels (1, 1),
(1, 2),..., (1, x) are part of the image (pixels (1,
1), (1, 2),..., (1, x).

【0111】ゲート信号線G1に接続されている画素の
全てに表示信号が入力されると、ゲート信号線G1は選
択されなくなる。引き続いて、画素(1、1)、(1、
2)、…、(1、x)に画像が表示された状態を保持容
量(図示せず)等で保持したまま、ゲート信号線G2に
入力される選択信号によって、ゲート信号線G2が選択
される。なお保持容量とは、画素TFT112のゲート
電極に入力された表示信号の電位を一定の期間保持する
ための容量である。そしてゲート信号線G2に接続され
ている全ての画素(2、1)(2、2)、…、(2、
x)に、同様に画像の一部を次々と表示する。この間、
ゲート信号線G2は選択され続けている。
When a display signal is input to all the pixels connected to the gate signal line G1, the gate signal line G1 is not selected. Subsequently, pixels (1, 1), (1,
2) The gate signal line G2 is selected by the selection signal input to the gate signal line G2 while the state in which the image is displayed in (1, x) is held by a storage capacitor (not shown) or the like. You. Note that the storage capacitor is a capacitor for holding the potential of the display signal input to the gate electrode of the pixel TFT 112 for a certain period. Then, all the pixels (2, 1) (2, 2),..., (2,
In x), parts of the image are similarly displayed one after another. During this time,
The gate signal line G2 continues to be selected.

【0112】上述した動作を全てのゲート信号線におい
て順次繰り返すことにより、画素部110に一つの画像
を表示する。この一つの画像が表示される期間を1フレ
ーム期間と呼ぶ。画素部110に一つの画像が表示され
る期間と、垂直帰線期間とを合わせて1フレーム期間と
しても良い。そして全ての画素は、再び各画素の画素T
FTがオンの状態になるまで、画像が表示された状態を
保持容量(図示せず)等で保持している。
The above operation is sequentially repeated for all the gate signal lines, whereby one image is displayed on the pixel portion 110. The period during which this one image is displayed is called one frame period. A period in which one image is displayed in the pixel portion 110 and a vertical blanking period may be combined into one frame period. And all the pixels are again the pixels T of each pixel.
Until the FT is turned on, the state in which the image is displayed is held by a storage capacitor (not shown) or the like.

【0113】なお2つの映像信号はその極性が反転して
おり、サンプリングされて各ソース信号線に入力された
表示信号もその極性が反転している。図4に示したアク
ティブマトリクス型液晶表示装置において、ゲート信号
線とソース信号線に入力される選択信号と表示信号のタ
イミングチャートを図5に示す。
The polarities of the two video signals are inverted, and the polarities of the sampled display signals input to the respective source signal lines are also inverted. FIG. 5 shows a timing chart of a selection signal and a display signal input to the gate signal line and the source signal line in the active matrix liquid crystal display device shown in FIG.

【0114】ライン期間は、1つのゲート信号線が選択
されている期間を示しており、全てのライン期間(L1
〜Ly)が出現するまでの期間が1フレーム期間に相当
する。または全てのライン期間(L1〜Ly)と垂直帰
線期間とを合わせて1フレーム期間としても良い。本発
明のアクティブマトリクス型液晶表示装置の場合、同じ
画像を表示する前半のフレーム期間(previous frame)
と、後半のフレーム期間(following frame)とを有し
ている。
The line period indicates a period in which one gate signal line is selected, and all the line periods (L1
To Ly) corresponds to one frame period. Alternatively, all the line periods (L1 to Ly) and the vertical retrace period may be combined into one frame period. In the case of the active matrix type liquid crystal display device of the present invention, the former frame period (previous frame) for displaying the same image
And a latter-half frame period (following frame).

【0115】前半のフレーム期間は、第1読み出し期間
においてSDRAMから読み出された映像信号に基づい
て画像が表示されている。そして後半のフレーム期間
は、第2読み出し期間においてSDRAMから読み出さ
れた映像信号に基づいて画像が表示されている。したが
って、前半のフレーム期間と後半のフレーム期間とで
は、表示される画像は同じだが、各ソース信号線に入力
される表示信号の極性が反転している。
In the first half frame period, an image is displayed based on the video signal read from the SDRAM in the first read period. Then, in the latter frame period, an image is displayed based on the video signal read from the SDRAM in the second read period. Therefore, the displayed image is the same between the first and second frame periods, but the polarity of the display signal input to each source signal line is inverted.

【0116】図6に、フレーム反転駆動を行ったとき
の、各画素の画素電極に入力される表示信号の極性を示
す。図6において、第1、第3、第5のフレーム期間が
前半のフレーム期間に相当し、第2、第4のフレーム期
間が後半のフレーム期間に相当する。
FIG. 6 shows the polarity of the display signal input to the pixel electrode of each pixel when the frame inversion drive is performed. In FIG. 6, the first, third, and fifth frame periods correspond to the first frame period, and the second and fourth frame periods correspond to the second frame period.

【0117】全てのフレーム期間において、全ての画素
の画素電極に入力される表示信号の極性は同じである。
そして前半のフレーム期間と、後半のフレーム期間とで
は、各画素に入力される表示信号の極性が反転してい
る。
In all the frame periods, the polarities of the display signals input to the pixel electrodes of all the pixels are the same.
The polarity of the display signal input to each pixel is inverted between the first frame period and the second frame period.

【0118】第1のフレーム期間と第2のフレーム期間
とでは、表示される画像は同じである。また第3のフレ
ーム期間と第4のフレーム期間とでは、表示される画像
が同じである。なお第6のフレーム期間については図示
しなかったが、第5のフレーム期間と第6のフレーム期
間とでは、表示される画像は同じである。
The displayed image is the same between the first frame period and the second frame period. The displayed image is the same between the third frame period and the fourth frame period. Although the sixth frame period is not shown, the displayed image is the same in the fifth frame period and the sixth frame period.

【0119】次に図7に、ソースライン反転駆動を行っ
たときの、各画素の画素電極に入力される表示信号の極
性を示す。図7において、第1、第3、第5のフレーム
期間が前半のフレーム期間に相当し、第2、第4のフレ
ーム期間が後半のフレーム期間に相当する。
Next, FIG. 7 shows the polarity of the display signal input to the pixel electrode of each pixel when the source line inversion drive is performed. In FIG. 7, the first, third, and fifth frame periods correspond to the first frame period, and the second and fourth frame periods correspond to the second frame period.

【0120】全てのフレーム期間において、各ソース信
号線に接続されている画素の画素電極に入力される表示
信号の極性は、全て同じである。また隣り合うソース信
号線に接続されている画素の画素電極に入力される表示
信号の極性は、反転している。そして前半のフレーム期
間と、後半のフレーム期間とでは、各画素に入力される
表示信号の極性が反転している。
In all the frame periods, the polarities of the display signals input to the pixel electrodes of the pixels connected to each source signal line are all the same. The polarity of the display signal input to the pixel electrode of the pixel connected to the adjacent source signal line is inverted. The polarity of the display signal input to each pixel is inverted between the first half frame period and the second half frame period.

【0121】第1のフレーム期間と第2のフレーム期間
とでは、表示される画像は同じである。また第3のフレ
ーム期間と第4のフレーム期間とでは、表示される画像
が同じである。なお第6のフレーム期間については図示
しなかったが、第5のフレーム期間と第6のフレーム期
間とでは、表示される画像は同じである。
The displayed image is the same in the first frame period and the second frame period. The displayed image is the same between the third frame period and the fourth frame period. Although the sixth frame period is not shown, the displayed image is the same in the fifth frame period and the sixth frame period.

【0122】次に図8に、ゲートライン反転駆動を行っ
たときの、各画素の画素電極に入力される表示信号の極
性を示す。図8において、第1、第3、第5のフレーム
期間が前半のフレーム期間に相当し、第2、第4のフレ
ーム期間が後半のフレーム期間に相当する。
Next, FIG. 8 shows the polarity of the display signal input to the pixel electrode of each pixel when the gate line inversion drive is performed. In FIG. 8, the first, third, and fifth frame periods correspond to the first frame period, and the second and fourth frame periods correspond to the second frame period.

【0123】全てのフレーム期間において、各ゲート信
号線に接続されている画素の画素電極に入力される表示
信号の極性は、全て同じである。また隣り合うゲート信
号線に接続されている画素の画素電極に入力される表示
信号の極性は、反転している。そして前半のフレーム期
間と、後半のフレーム期間とでは、各画素に入力される
表示信号の極性が反転している。
In all the frame periods, the polarities of the display signals input to the pixel electrodes of the pixels connected to each gate signal line are all the same. The polarity of the display signal input to the pixel electrode of the pixel connected to the adjacent gate signal line is inverted. The polarity of the display signal input to each pixel is inverted between the first half frame period and the second half frame period.

【0124】第1のフレーム期間と第2のフレーム期間
とでは、表示される画像は同じである。また第3のフレ
ーム期間と第4のフレーム期間とでは、表示される画像
が同じである。なお第6のフレーム期間については図示
しなかったが、第5のフレーム期間と第6のフレーム期
間とでは、表示される画像は同じである。
The displayed image is the same between the first frame period and the second frame period. The displayed image is the same between the third frame period and the fourth frame period. Although the sixth frame period is not shown, the displayed image is the same in the fifth frame period and the sixth frame period.

【0125】次に図9に、ドット反転駆動を行ったとき
の、各画素の画素電極に入力される表示信号の極性を示
す。図9において、第1、第3、第5のフレーム期間が
前半のフレーム期間に相当し、第2、第4のフレーム期
間が後半のフレーム期間に相当する。
Next, FIG. 9 shows the polarity of the display signal input to the pixel electrode of each pixel when the dot inversion drive is performed. In FIG. 9, the first, third, and fifth frame periods correspond to the first frame period, and the second and fourth frame periods correspond to the second frame period.

【0126】全てのフレーム期間において、隣り合う画
素の画素電極に入力される表示信号の極性は、全て反転
している。そして前半のフレーム期間と、後半のフレー
ム期間とでは、各画素に入力される表示信号の極性が反
転している。
In all the frame periods, the polarities of the display signals input to the pixel electrodes of the adjacent pixels are all inverted. The polarity of the display signal input to each pixel is inverted between the first half frame period and the second half frame period.

【0127】第1のフレーム期間と第2のフレーム期間
とでは、表示される画像は同じである。また第3のフレ
ーム期間と第4のフレーム期間とでは、表示される画像
が同じである。なお第6のフレーム期間については図示
しなかったが、第5のフレーム期間と第6のフレーム期
間とでは、表示される画像は同じである。
The displayed image is the same in the first frame period and the second frame period. The displayed image is the same between the third frame period and the fourth frame period. Although the sixth frame period is not shown, the displayed image is the same in the fifth frame period and the sixth frame period.

【0128】本発明は上記構成によって、SDRAMか
ら読み出された後の映像信号の周波数を、SDRAMに
書き込まれる前の映像信号の周波数より高くすることが
できる。よって、外部から入力される映像信号の周波数
を高くすることなく、アクティブマトリクス型液晶表示
装置の内部においてフレーム周波数を高くすることがで
きるため、映像信号を生成している電子機器に負担をか
けることなく、観察者にチラツキや縦縞、横縞及び斜め
縞が視認されにくい、鮮明で高精細な画像の表示を行う
ことができる。
According to the present invention, the frequency of the video signal read from the SDRAM can be made higher than the frequency of the video signal before being written to the SDRAM by the above configuration. Therefore, the frame frequency can be increased inside the active matrix type liquid crystal display device without increasing the frequency of the video signal input from the outside, so that a burden is imposed on the electronic device that generates the video signal. In addition, it is possible to display a clear and high-definition image in which a flicker, vertical stripes, horizontal stripes, and oblique stripes are hardly visually recognized by an observer.

【0129】そしてさらに本発明で重要なのは、SDR
AMから2回読み出された映像信号のうち、いずれか一
方の映像信号の電位を、対向電極の電位(対向電位)を
基準として反転させソース信号線駆動回路に入力するこ
とである。よって、連続する2つの各フレーム期間にお
いて、各画素に入力される表示信号の電位は対向電極の
電位(対向電位)を基準として反転しており、画素部に
同じ映像が表示される。上記構成により、各画素に入力
される表示信号の電位の時間的な平均が対向電位により
近くなり、各フレーム期間において異なる表示信号を各
画素に入力している場合に比べて、液晶の劣化を防ぐの
により有効であり、観察者にチラツキや縦縞、横縞及び
斜め縞が視認されにくい。
Further important in the present invention is SDR
In other words, the potential of one of the video signals read out twice from the AM is inverted with reference to the potential of the counter electrode (counter potential) and input to the source signal line drive circuit. Therefore, in two consecutive frame periods, the potential of the display signal input to each pixel is inverted with reference to the potential of the counter electrode (counter potential), and the same image is displayed in the pixel portion. With the above structure, the temporal average of the potential of the display signal input to each pixel becomes closer to the opposite potential, and the deterioration of the liquid crystal is reduced as compared with the case where different display signals are input to each pixel in each frame period. It is more effective to prevent such a phenomenon, and it is difficult for an observer to visually recognize flickers, vertical stripes, horizontal stripes and oblique stripes.

【0130】また、本発明で特にフレーム反転を用いる
ことによって、隣接画素間にディスクリネーションと呼
ばれる現象縞が発生するのを抑え、表示画面全体の明る
さが低減されるのを防ぐことができる。
Further, by using frame inversion in the present invention, it is possible to suppress the occurrence of a phenomenon stripe called disclination between adjacent pixels and to prevent the brightness of the entire display screen from being reduced. .

【0131】なお上述した駆動方法は、ノンインターレ
ス走査を用いた例で説明しているが、本発明の走査方式
はこれに限定されない。走査方式はインターレス走査で
あっても良い。
Although the above-described driving method has been described using an example using non-interlace scanning, the scanning method of the present invention is not limited to this. The scanning method may be interlace scanning.

【0132】また、本実施の形態では、D/A変換回路
に高低2つの電源電圧をコンスタントに与えることで、
D/A変換回路から極性の反転した2つのアナログの映
像信号が出力されるようにし、そのいずれか一方をアナ
ログスイッチ等により選択している。しかし、映像信号
の極性を反転する方法は、これに限定されず、公知の方
法を用いることができる。例えば、D/A変換回路に入
力する前に、互いに反転した極性を、2つのデジタルの
映像信号に情報として含ませるようにしても良い。ま
た、D/A変換回路に与える電源電圧の高さを制御する
ことで、D/A変換回路から連続して出力される2つの
アナログの映像信号の極性を、互いに反転させるように
しても良い。
Also, in this embodiment, two high and low power supply voltages are constantly given to the D / A conversion circuit,
Two analog video signals with inverted polarities are output from the D / A conversion circuit, and one of them is selected by an analog switch or the like. However, the method of inverting the polarity of the video signal is not limited to this, and a known method can be used. For example, before input to the D / A conversion circuit, the inverted polarities may be included as information in two digital video signals. Also, by controlling the height of the power supply voltage applied to the D / A conversion circuit, the polarities of two analog video signals continuously output from the D / A conversion circuit may be inverted. .

【0133】[0133]

【実施例】以下に、本発明の実施例について説明する。Embodiments of the present invention will be described below.

【0134】(実施例1)本実施例では、図1の第1の
SDRAM103と第2のSDRAM104における映
像信号の書き込みと読み出しのタイミングについて、図
3とは異なる例について説明する。
(Embodiment 1) In this embodiment, an example different from that of FIG. 3 will be described with respect to the timing of writing and reading of the video signal in the first SDRAM 103 and the second SDRAM 104 of FIG.

【0135】本実施例では、第1及び第2の読み出し期
間が、書き込み期間よりも短い。そして第1及び第2の
読み出し期間が終了した後、次の書き込み期間が開始さ
れる前に、映像信号の書き込みも読み出しも行わないブ
ランク期間を設けている。
In this embodiment, the first and second read periods are shorter than the write period. Then, after the first and second reading periods are completed, before the next writing period is started, a blank period in which neither writing nor reading of a video signal is performed is provided.

【0136】図10に、第1のSDRAM103と第2
のSDRAM104における、映像信号の書き込みと読
み出しのタイミングを示す。書き込み期間pにおいて第
1のSDRAM103に映像信号が書き込まれる。そし
て書き込み期間pにおいて第1のSDRAM103に書
き込まれた映像信号が、第1読み出し期間pと第2読み
出し期間pにおいて2回読み出される。
FIG. 10 shows the first SDRAM 103 and the second
2 shows the timing of writing and reading of a video signal in the SDRAM 104 of FIG. A video signal is written to the first SDRAM 103 in the writing period p. Then, the video signal written to the first SDRAM 103 in the writing period p is read twice in the first reading period p and the second reading period p.

【0137】また書き込み期間(p−1)において第2
のSDRAM104に映像信号が書き込まれる。そして
書き込み期間(p−1)において第2のSDRAM10
4に書き込まれた映像信号は、第1読み出し期間(p−
1)と第2読み出し期間(p−1)において2回読み出
される。
In the writing period (p-1), the second
The video signal is written to the SDRAM 104 of the. Then, in the writing period (p-1), the second SDRAM 10
4 is written in the first readout period (p−
1) and two times during the second read period (p-1).

【0138】そして書き込み期間pと、第1及び第2読
み出し期間(p−1)は同時に出現している。つまり、
第1のSDRAM103に映像信号が書き込まれるのと
並行して、第2のSDRAM104から映像信号が2回
読み出されている。
The writing period p and the first and second reading periods (p-1) appear at the same time. That is,
The video signal is read twice from the second SDRAM 104 in parallel with the video signal being written to the first SDRAM 103.

【0139】また書き込み期間(p+1)と、第1及び
第2読み出し期間pは同時に出現している。つまり、第
2のSDRAM104に映像信号が書き込まれるのと並
行して、第1のSDRAM103から映像信号が2回読
み出されている。
Further, the writing period (p + 1) and the first and second reading periods p appear at the same time. That is, the video signal is read from the first SDRAM 103 twice in parallel with the writing of the video signal to the second SDRAM 104.

【0140】そして第1及び第2読み出し期間pが終了
すると、ブランク期間が出現する。ブランク期間は映像
信号の書き込みも読み出しも行わない期間である。ブラ
ンク期間が終了すると、書き込み期間(p+2)が出現
し、再び第1のSDRAM103に映像信号が書き込ま
れる。それと並行して、第1及び第2読み出し期間(p
+1)が出現し、第2のSDRAM104から映像信号
が2回読み出される。
When the first and second readout periods p end, a blank period appears. The blank period is a period during which neither writing nor reading of a video signal is performed. When the blank period ends, a write period (p + 2) appears, and the video signal is written to the first SDRAM 103 again. At the same time, the first and second readout periods (p
+1) appears, and the video signal is read twice from the second SDRAM 104.

【0141】ブランク期間の長さは、書き込み期間か
ら、第1及び第2の読み出し期間を差し引いた長さより
も長いことが必要である。ブランク期間は画像がちらつ
かない程度であれば、いくつ設けても良い。ブランク期
間を設けることで、2つ以上のSDRAMに映像信号が
書きこまれることがなく、また2つ以上のSDRAMか
ら映像信号が読み出されることがない。
The length of the blank period needs to be longer than the length obtained by subtracting the first and second read periods from the write period. Any number of blank periods may be provided as long as the image does not flicker. By providing a blank period, a video signal is not written to two or more SDRAMs, and a video signal is not read from two or more SDRAMs.

【0142】なおブランク期間は、書き込み期間と第1
読み出し期間との間に設けても良いし、第2読み出し期
間と書き込み期間の間に設けても良い。また第1読み出
し期間と第2読み出し期間の間に設けても良い。
The blank period is the same as the write period and the first period.
It may be provided between the reading period or between the second reading period and the writing period. Further, it may be provided between the first reading period and the second reading period.

【0143】2回読み出された映像信号はデータフォー
マット部105に入力される。
The video signal read twice is input to the data format unit 105.

【0144】(実施例2)本実施例では、図1の第1の
SDRAM103と第2のSDRAM104における映
像信号の書き込みと読み出しのタイミングについて、図
3、図10とは異なる例について説明する。
(Embodiment 2) In this embodiment, the timings of writing and reading video signals in the first SDRAM 103 and the second SDRAM 104 of FIG. 1 will be described, which are different from those shown in FIGS.

【0145】本実施例では、第1及び第2の読み出し期
間が、書き込み期間よりも長い。そして書き込み期間が
終了した後、次の第1の読み出し期間が開始される前
に、映像信号の書き込みも読み出しも行わないブランク
期間を設けている。
In this embodiment, the first and second read periods are longer than the write period. Then, after the writing period ends, before the next first reading period starts, a blank period in which neither writing nor reading of the video signal is performed is provided.

【0146】図11に、第1のSDRAM103と第2
のSDRAM104における、映像信号の書き込みと読
み出しのタイミングを示す。書き込み期間pにおいて第
1のSDRAM103に映像信号が書き込まれる。書き
こみ期間pが終了するとブランク期間が出現する。ブラ
ンク期間は映像信号の書き込みも読み出しも行わない期
間である。
FIG. 11 shows the first SDRAM 103 and the second
2 shows the timing of writing and reading of a video signal in the SDRAM 104 of FIG. A video signal is written to the first SDRAM 103 in the writing period p. When the writing period p ends, a blank period appears. The blank period is a period during which neither writing nor reading of a video signal is performed.

【0147】ブランク期間終了後、書き込み期間pにお
いて第1のSDRAM103に書き込まれた映像信号
が、第1読み出し期間pと第2読み出し期間pにおいて
2回読み出される。
After the blank period ends, the video signal written to the first SDRAM 103 in the writing period p is read twice in the first reading period p and the second reading period p.

【0148】また書き込み期間(p−1)において第2
のSDRAM104に映像信号が書き込まれる。書きこ
み期間(p−1)が終了するとブランク期間が出現す
る。ブランク期間終了後、書き込み期間(p−1)にお
いて第2のSDRAM104に書き込まれた映像信号
は、第1読み出し期間(p−1)と第2読み出し期間
(p−1)において2回読み出される。
In the writing period (p-1), the second
The video signal is written to the SDRAM 104 of the. When the writing period (p-1) ends, a blank period appears. After the blanking period, the video signal written to the second SDRAM 104 in the writing period (p-1) is read twice in the first reading period (p-1) and the second reading period (p-1).

【0149】そして書き込み期間pと、第1及び第2読
み出し期間(p−1)は同時に出現している。つまり、
第1のSDRAM103に映像信号が書き込まれるのと
並行して、第2のSDRAM104から映像信号が2回
読み出されている。
The writing period p and the first and second reading periods (p-1) appear at the same time. That is,
The video signal is read twice from the second SDRAM 104 in parallel with the video signal being written to the first SDRAM 103.

【0150】また書き込み期間(p+1)と、第1及び
第2読み出し期間pは同時に出現している。つまり、第
2のSDRAM104に映像信号が書き込まれるのと並
行して、第1のSDRAM103から映像信号が2回読
み出されている。
Further, the writing period (p + 1) and the first and second reading periods p appear at the same time. That is, the video signal is read from the first SDRAM 103 twice in parallel with the writing of the video signal to the second SDRAM 104.

【0151】そして第1及び第2読み出し期間pが終了
すると、書き込み期間(p+2)が出現し、再び第1の
SDRAM103に映像信号が書き込まれる。それと並
行して、第1及び第2読み出し期間(p+1)が出現
し、第2のSDRAM104から映像信号が2回読み出
される。
When the first and second reading periods p end, a writing period (p + 2) appears, and a video signal is written into the first SDRAM 103 again. In parallel, the first and second readout periods (p + 1) appear, and the video signal is read out twice from the second SDRAM 104.

【0152】ブランク期間の長さは、第1の読み出し期
間と第2の読み出し期間を足した長さから、書き込み期
間を差し引いた長さよりも長いことが必要である。ブラ
ンク期間は画像がちらつかない程度であれば、いくつ設
けても良い。ブランク期間を設けることで、2つ以上の
SDRAMに映像信号が書きこまれることがなく、また
2つ以上のSDRAMから映像信号が読み出されること
がない。
It is necessary that the length of the blank period is longer than the length obtained by subtracting the write period from the sum of the first read period and the second read period. Any number of blank periods may be provided as long as the image does not flicker. By providing a blank period, a video signal is not written to two or more SDRAMs, and a video signal is not read from two or more SDRAMs.

【0153】なおブランク期間は、書き込み期間と第1
読み出し期間との間に設けても良いし、第2読み出し期
間と書き込み期間の間に設けても良い。また第1読み出
し期間と第2読み出し期間の間に設けても良い。
The blank period is the same as the write period and the first period.
It may be provided between the reading period or between the second reading period and the writing period. Further, it may be provided between the first reading period and the second reading period.

【0154】2回読み出された映像信号はデータフォー
マット部105に入力される。
The video signal read twice is input to the data format unit 105.

【0155】なお本実施例は、実施例1と自由に組み合
わせることが可能である。
This embodiment can be freely combined with Embodiment 1.

【0156】(実施例3)本実施例では、本発明の半導
体表示装置が有するフレームレート変換部の、図1とは
異なる例について、図12を用いて説明する。
(Embodiment 3) In this embodiment, an example of a frame rate conversion section included in the semiconductor display device of the present invention, which is different from FIG. 1, will be described with reference to FIG.

【0157】本実施例において、フレームレート変換部
はSDRAMを3つ有している。
In this embodiment, the frame rate converter has three SDRAMs.

【0158】フレームレート変換部200は、制御部2
01、フレーム周波数変換部202、アドレスジェネレ
ータ部206を有している。またフレーム周波数変換部
202は、第1のSDRAM(SDRAM1)203、
第2のSDRAM(SDRAM2)204、第3のSD
RAM(SDRAM3)207、データフォーマット部
205を有している。また208はD/A変換回路であ
り、フレームレート変換部200から出力される映像信
号をデジタルからアナログに変換する。
The frame rate conversion section 200 includes the control section 2
01, a frame frequency conversion unit 202, and an address generator unit 206. The frame frequency conversion unit 202 includes a first SDRAM (SDRAM1) 203,
Second SDRAM (SDRAM2) 204, Third SD
A RAM (SDRAM 3) 207 and a data format unit 205 are provided. A D / A conversion circuit 208 converts a video signal output from the frame rate conversion unit 200 from digital to analog.

【0159】なお本実施例ではフレーム周波数変換部2
02がSDRAMを3つ(第1のSDRAM203、第
2のSDRAM204、第3のSDRAM207)を有
しているが、SDRAMの数は3つに限定されない。
In this embodiment, the frame frequency converter 2
02 has three SDRAMs (the first SDRAM 203, the second SDRAM 204, and the third SDRAM 207), but the number of SDRAMs is not limited to three.

【0160】Hsync信号と、Vsync信号と、C
LK信号が制御部201に入力される。Hsync信号
と、Vsync信号と、CLK信号によって制御部20
1から、アドレスジェネレータ部の駆動を制御するアド
レスジェネレータ制御信号(address generator contro
ll signal)と、第1のSDRAM203と第2のSD
RAM204と第3のSDRAM207の駆動を制御す
るSDRAM制御信号(RAM CLK1, RAM CLK2, RAM CLK
3)が出力される。
The Hsync signal, the Vsync signal, and C
The LK signal is input to the control unit 201. The control unit 20 is controlled by the Hsync signal, the Vsync signal, and the CLK signal.
1 to an address generator control signal (address generator control signal) for controlling the driving of the address generator section.
ll signal), the first SDRAM 203 and the second SD
SDRAM control signals (RAM CLK1, RAM CLK2, RAM CLK) for controlling the driving of the RAM 204 and the third SDRAM 207.
3) is output.

【0161】アドレスジェネレータ部206は、制御部
201から入力されたアドレスジェネレータ制御信号に
よって駆動し、第1のSDRAM203と第2のSDR
AM204と第3のSDRAM207のメモリアドレス
の番地を指定するカウンタ値を決定する。例えばカウン
タ値が0だと第1のSDRAM203と第2のSDRA
M204と第3のSDRAM207のメモリアドレスは
0番地が指定され、カウンタ値が1だと1番地が、カウ
ンタ値が2だと2番地が、カウンタ値がqだとq番地が
それぞれ指定される。カウンタ値の情報は第1カウンタ
信号(addresscount signal 1)、第2カウンタ信号(a
ddress count signal 2)、第3カウンタ信号(address
count signal 3)として、アドレスジェネレータ部2
06から第1のSDRAM203と第2のSDRAM2
04と第3のSDRAM207にそれぞれ入力される。
The address generator unit 206 is driven by an address generator control signal input from the control unit 201, and is driven by the first SDRAM 203 and the second SDRAM.
A counter value for specifying the address of the memory address of the AM 204 and the third SDRAM 207 is determined. For example, if the counter value is 0, the first SDRAM 203 and the second SDRA
The memory address of the M204 and the third SDRAM 207 is specified as address 0, the address 1 is specified when the counter value is 1, the address 2 when the counter value is 2, and the address q when the counter value is q. The information on the counter value includes a first counter signal (addresscount signal 1) and a second counter signal (a
ddress count signal 2), third counter signal (address
address signal 2 as count signal 3)
06 to the first SDRAM 203 and the second SDRAM 2
04 and the third SDRAM 207.

【0162】なお、第1カウンタ信号が有するカウンタ
値を第1カウンタ値、第2カウンタ信号が有するカウン
タ値を第2カウンタ値、第3カウンタ信号が有するカウ
ンタ値を第3カウンタ値と呼ぶ。
The counter value of the first counter signal is called the first counter value, the counter value of the second counter signal is called the second counter value, and the counter value of the third counter signal is called the third counter value.

【0163】データフォーマット部205には、デジタ
ルの映像信号(Video Signal)が入力される。またデー
タフォーマット部205は交流電源(AC Cont)に接続
されている。
A digital video signal (Video Signal) is input to the data format section 205. The data format unit 205 is connected to an AC power supply (AC Cont).

【0164】データフォーマット部205に入力された
デジタルの映像信号は、第1のSDRAM203、第2
のSDRAM204または第3のSDRAM207の指
定された番地に順に書き込まれる。デジタルの映像信号
は、複数のSDRAMに同時に書き込まれるのではな
く、常に1つのSDRAMだけに書き込まれる。
The digital video signal input to the data format unit 205 is transmitted to the first SDRAM 203,
Are sequentially written to designated addresses of the SDRAM 204 or the third SDRAM 207. A digital video signal is not always written to a plurality of SDRAMs at the same time, but is always written to only one SDRAM.

【0165】またデータフォーマット部205におい
て、入力されたデジタルの映像信号のビット数を増加さ
せてから、第1のSDRAM203、第2のSDRAM
204または第3のSDRAM207に書き込むように
しても良い。
In the data format unit 205, after increasing the number of bits of the input digital video signal, the first SDRAM 203 and the second SDRAM
The data may be written to the second SDRAM 204 or the third SDRAM 207.

【0166】次に書き込まれた映像信号は、第1のSD
RAM203、第2のSDRAM204または第3のS
DRAM207の指定された番地から順に読み出され
る。デジタルの映像信号は、複数のSDRAMから同時
に読み出されるのではなく、常に1つのSDRAMだけ
から読み出される。
The video signal written next is the first SD
RAM 203, second SDRAM 204 or third S
The data is sequentially read from the designated address of the DRAM 207. The digital video signal is not read from a plurality of SDRAMs at the same time, but is always read from only one SDRAM.

【0167】なお映像信号の読み出しは2回行われる。
そして1つのSDRAMへの映像信号の書き込みと、他
の1つのSDRAMからの映像信号の読み出しは並行し
て行われる。
The reading of the video signal is performed twice.
Then, the writing of the video signal to one SDRAM and the reading of the video signal from another SDRAM are performed in parallel.

【0168】図13に、第1のSDRAM203と第2
のSDRAM204と第3のSDRAM207におけ
る、映像信号の書き込みと読み出しのタイミングを示
す。
FIG. 13 shows the first SDRAM 203 and the second SDRAM 203.
The timing of writing and reading of video signals in the SDRAM 204 and the third SDRAM 207 are shown.

【0169】書き込み期間pにおいて第1のSDRAM
203に映像信号が書き込まれる。そして書き込み期間
pにおいて第1のSDRAM203に書き込まれた映像
信号が、第1読み出し期間pと第2読み出し期間pにお
いて2回読み出される。
In the writing period p, the first SDRAM
A video signal is written to 203. Then, the video signal written to the first SDRAM 203 in the writing period p is read twice in the first reading period p and the second reading period p.

【0170】また書き込み期間(p−1)において第2
のSDRAM204に映像信号が書き込まれる。そして
書き込み期間(p−1)において第2のSDRAM20
4に書き込まれた映像信号は、第1読み出し期間(p−
1)と第2読み出し期間(p−1)において2回読み出
される。
In the writing period (p-1), the second
The video signal is written into the SDRAM 204. Then, in the writing period (p-1), the second SDRAM 20
4 is written in the first readout period (p−
1) and two times during the second read period (p-1).

【0171】また書き込み期間(p+1)において第3
のSDRAM207に映像信号が書き込まれる。そして
書き込み期間(p+1)において第3のSDRAM20
7に書き込まれた映像信号は、第1読み出し期間(p+
1)と第2読み出し期間(p+1)において2回読み出
される。
In the writing period (p + 1), the third
The video signal is written to the SDRAM 207 of the. Then, in the writing period (p + 1), the third SDRAM 20
The video signal written in the first readout period (p +
1) and the second read period (p + 1) is read twice.

【0172】そして書き込み期間pと、第1及び第2読
み出し期間(p−1)は同時に出現している。つまり、
第1のSDRAM203に映像信号が書き込まれるのと
並行して、第2のSDRAM204から映像信号が2回
読み出されている。
The writing period p and the first and second reading periods (p-1) appear simultaneously. That is,
The video signal is read twice from the second SDRAM 204 in parallel with the video signal being written to the first SDRAM 203.

【0173】また書き込み期間(p+1)と、第1及び
第2読み出し期間pは同時に出現している。つまり、第
3のSDRAM207に映像信号が書き込まれるのと並
行して、第1のSDRAM203から映像信号が2回読
み出されている。
The write period (p + 1) and the first and second read periods p appear at the same time. That is, the video signal is read twice from the first SDRAM 203 in parallel with the video signal being written to the third SDRAM 207.

【0174】また書き込み期間(p+2)と、第1及び
第2読み出し期間(p+1)は同時に出現している。つ
まり、第2のSDRAM204に映像信号が書き込まれ
るのと並行して、第3のSDRAM207から映像信号
が2回読み出されている。
The writing period (p + 2) and the first and second reading periods (p + 1) appear simultaneously. That is, the video signal is read from the third SDRAM 207 twice in parallel with the video signal being written to the second SDRAM 204.

【0175】第1及び第2読み出し期間pが終了すると
ブランク期間が出現する。第1のSDRAM203のブ
ランク期間中、第2のSDRAM204は書き込み期間
(p+2)中であり、第3のSDRAM207は第1及
び第2読み出し期間(p+1)中である。
When the first and second readout periods p end, a blank period appears. During the blank period of the first SDRAM 203, the second SDRAM 204 is in the writing period (p + 2), and the third SDRAM 207 is in the first and second reading periods (p + 1).

【0176】第1及び第2読み出し期間(p−1)が終
了するとブランク期間が出現する。第2のSDRAM2
04のブランク期間中、第3のSDRAM207は書き
込み期間(p+1)中であり、第1のSDRAM203
は第1及び第2読み出し期間p中である。
When the first and second read-out periods (p-1) end, a blank period appears. Second SDRAM 2
04 during the blank period, the third SDRAM 207 is in the write period (p + 1), and the first SDRAM 203
During the first and second readout periods p.

【0177】第1及び第2読み出し期間(p+1)が終
了するとブランク期間が出現する。第3のSDRAM2
07のブランク期間中、第1のSDRAM203は書き
込み期間(p+3)中であり、第2のSDRAM204
は第1及び第2読み出し期間(p+2)中である。
When the first and second readout periods (p + 1) are completed, a blank period appears. Third SDRAM 2
07, the first SDRAM 203 is in the writing period (p + 3), and the second SDRAM 204 is in the writing period (p + 3).
During the first and second readout periods (p + 2).

【0178】第1のSDRAM203、第2のSDRA
M204、第3のSDRAM207において、ブランク
期間が終了すると、それぞれ次の書きこみ期間が開始さ
れる。
First SDRAM 203, Second SDRA
In the M204 and the third SDRAM 207, when the blank period ends, the next write period starts.

【0179】2回読み出された映像信号はデータフォー
マット部205に入力される。そしてデータフォーマッ
ト部205において、2回読み出された映像信号のうち
どちらか一方の映像信号は、アナログに変換された際に
液晶の対向電極の電位を基準として極性が反転するよう
に、データ処理される。そして、データ処理された映像
信号とデータ処理されなかった映像信号との2つの映像
信号が、データフォーマット部205から出力される。
The video signal read twice is input to the data format unit 205. Then, in the data format unit 205, one of the video signals read out twice is subjected to data processing so that the polarity is inverted with respect to the potential of the counter electrode of the liquid crystal when converted into analog. Is done. Then, two video signals, a video signal subjected to data processing and a video signal not subjected to data processing, are output from the data format unit 205.

【0180】データフォーマット部205から出力され
た2つの映像信号は、D/A変換回路208に入力さ
れ、アナログに変換される。アナログに変換された2つ
の映像信号は、対向電極の電位を基準として極性が反転
している。アナログに変換された2つの映像信号は、順
にソース信号線駆動回路に入力される。
The two video signals output from the data format unit 205 are input to a D / A conversion circuit 208 and are converted into analog signals. The two video signals converted into analog have inverted polarities with reference to the potential of the counter electrode. The two video signals converted to analog are sequentially input to the source signal line driving circuit.

【0181】なお、データフォーマット部205におい
て、映像信号をシリアル−パラレル変換して、分割駆動
の分割数分だけ分割してから、D/A変換回路208に
入力しても良い。
Note that the data format section 205 may perform serial-parallel conversion on the video signal, divide the video signal by the number of divisions of the division drive, and then input the divided signal to the D / A conversion circuit 208.

【0182】本発明の駆動方法が用いられるアクティブ
マトリクス型液晶表示装置の構造と、画素部に入力され
る表示信号の極性については、図4〜図9に示したもの
と同じであるので、本実施例では説明を省略する。
The structure of the active matrix type liquid crystal display device using the driving method of the present invention and the polarity of the display signal input to the pixel portion are the same as those shown in FIGS. The description is omitted in the embodiment.

【0183】なお、本実施例では、図12の第1のSD
RAM203と第2のSDRAM204と第3のSDR
AM207における映像信号の書き込みと読み出しは、
図13に示したタイミングで行われるとは限らない。第
1及び第2の読み出し期間が、書き込み期間よりも長い
くても良いし、短くても良い。ただし、2つ以上のSD
RAMに映像信号が書きこまれたり、また2つ以上のS
DRAMから映像信号が読み出されたりすることがない
ように、ブランク期間の長さを調整することが重要であ
る。
In this embodiment, the first SD shown in FIG.
RAM 203, second SDRAM 204, and third SDR
Writing and reading of a video signal in the AM 207 are performed as follows.
It is not always performed at the timing shown in FIG. The first and second read periods may be longer or shorter than the write period. However, two or more SD
Video signals are written to RAM, and two or more S
It is important to adjust the length of the blank period so that the video signal is not read from the DRAM.

【0184】またブランク期間は、書き込み期間と第1
読み出し期間との間に設けても良いし、第2読み出し期
間と書き込み期間の間に設けても良い。また第1読み出
し期間と第2読み出し期間の間に設けても良い。
The blank period includes the writing period and the first period.
It may be provided between the reading period or between the second reading period and the writing period. Further, it may be provided between the first reading period and the second reading period.

【0185】2回読み出された映像信号はデータフォー
マット部205に入力される。
The video signal read twice is input to the data format unit 205.

【0186】(実施例4)本実施例では、アナログ方式
で駆動する本発明の半導体表示装置の詳しい構成につい
て説明する。図14にアナログ方式で駆動する本発明の
半導体表示装置の一例を、ブロック図で示す。
(Embodiment 4) In this embodiment, a detailed configuration of a semiconductor display device of the present invention driven by an analog system will be described. FIG. 14 is a block diagram showing an example of a semiconductor display device of the present invention driven by an analog method.

【0187】301はソース信号線駆動回路、302は
ゲート信号線駆動回路、303は画素部を示している。
本実施例ではソース信号線駆動回路とゲート信号線駆動
回路とを1つづつ設けたが、本発明はこの構成に限定さ
れない。ソース信号線駆動回路を2つ設けても良いし、
ゲート信号線駆動回路を2つ設けても良い。
Reference numeral 301 denotes a source signal line driving circuit, 302 denotes a gate signal line driving circuit, and 303 denotes a pixel portion.
In this embodiment, one source signal line driving circuit and one gate signal line driving circuit are provided, but the present invention is not limited to this configuration. Two source signal line driving circuits may be provided,
Two gate signal line driver circuits may be provided.

【0188】ソース信号線駆動回路301は、シフトレ
ジスタ301_1、レベルシフト301_2、サンプリ
ング回路301_3を有している。なおレベルシフト3
01_2は必要に応じて用いればよく、必ずしも用いな
くとも良い。また本実施例においてレベルシフト301
_2はシフトレジスタ301_1とサンプリング回路3
01_3との間に設ける構成としたが、本発明はこの構
成に限定されない。シフトレジスタ301_1の中にレ
ベルシフト301_2が組み込まれている構成にしても
良い。
[0188] The source signal line driver circuit 301 includes a shift register 301_1, a level shift 301_2, and a sampling circuit 301_3. Level shift 3
01_2 may be used as needed and need not be used. In the present embodiment, the level shift 301
_2 is the shift register 301_1 and the sampling circuit 3
01_3, the present invention is not limited to this configuration. A structure in which the level shift 301_2 is incorporated in the shift register 301_1 may be employed.

【0189】画素部303では、ソース信号線駆動回路
301に接続されたソース信号線304と、ゲート信号
線駆動回路302に接続されたゲート信号線306とが
交差している。そのソース信号線304とゲート信号線
306とに囲まれた領域に、画素305の薄膜トランジ
スタ(画素TFT)307と、対向電極と画素電極の間
に液晶を挟んだ液晶セル308と、保持容量309とが
設けられている。なお本実施例では保持容量309を設
けた構成を示すが、保持容量309は必ずしも設ける必
要はない。
[0189] In the pixel portion 303, a source signal line 304 connected to the source signal line driver circuit 301 and a gate signal line 306 connected to the gate signal line driver circuit 302 intersect. In a region surrounded by the source signal line 304 and the gate signal line 306, a thin film transistor (pixel TFT) 307 of the pixel 305, a liquid crystal cell 308 having liquid crystal interposed between a counter electrode and a pixel electrode, and a storage capacitor 309 Is provided. Note that this embodiment shows a configuration in which the storage capacitor 309 is provided; however, the storage capacitor 309 is not necessarily provided.

【0190】またゲート信号線駆動回路302は、シフ
トレジスタ、バッファ(いずれも図示せず)を有してい
る。また、レベルシフトを有していても良い。
The gate signal line driving circuit 302 has a shift register and a buffer (both not shown). Further, a level shift may be provided.

【0191】パネル制御信号であるソース用のクロック
信号(S−CLK)、ソース用のスタートパルス信号
(S−SP)がシフトレジスタ301_1に入力され
る。シフトレジスタ301_1から表示信号をサンプリ
ングするためのサンプリング信号が出力される。出力さ
れたサンプリング信号はレベルシフト301_2に入力
され、その電位の振幅が大きくなって出力される。
A source clock signal (S-CLK) and a source start pulse signal (S-SP), which are panel control signals, are input to the shift register 301_1. A sampling signal for sampling the display signal is output from the shift register 301_1. The output sampling signal is input to the level shift 301_2, and is output with its potential amplitude increased.

【0192】レベルシフト301_2から出力されたサ
ンプリング信号は、サンプリング回路301_3に入力
される。そして同時に、映像信号線(図示せず)を介し
て映像信号がサンプリング回路301_3に入力され
る。
The sampling signal output from the level shift 301_2 is input to a sampling circuit 301_3. At the same time, a video signal is input to the sampling circuit 301_3 via a video signal line (not shown).

【0193】サンプリング回路301_3において、入
力された映像信号がサンプリング信号によってそれぞれ
サンプリングされ、表示信号としてソース信号線304
に入力される。
In the sampling circuit 301_3, the input video signal is sampled by the sampling signal, and the source signal line 304 is displayed as a display signal.
Is input to

【0194】画素TFT307は、ゲート信号線駆動回
路302からゲート信号線306を介して入力される選
択信号によってオンの状態になる。サンプリングされて
ソース信号線304に入力された表示信号は、オンの状
態の画素TFT307を介して所定の画素305の画素
電極に入力される。
The pixel TFT 307 is turned on by a selection signal input from the gate signal line driving circuit 302 via the gate signal line 306. The display signal sampled and input to the source signal line 304 is input to the pixel electrode of a predetermined pixel 305 via the pixel TFT 307 in an ON state.

【0195】この入力された表示信号の電位により液晶
が駆動し、透過光量を制御して、画素305に画像の一
部(各画素に相当する画像)が表示される。
The liquid crystal is driven by the potential of the input display signal, the amount of transmitted light is controlled, and a part of an image (an image corresponding to each pixel) is displayed on the pixel 305.

【0196】なお本実施例は、実施例1〜3と自由に組
み合わせることが可能である。
This embodiment can be freely combined with Embodiments 1 to 3.

【0197】(実施例5)本実施例では、実施例4で示
したソース信号線駆動回路301の詳しい回路構成につ
いて説明する。なお実施例4で示したソース信号線駆動
回路は、本実施例で示す構成に限定されない。
Embodiment 5 In this embodiment, a detailed circuit configuration of the source signal line driving circuit 301 shown in Embodiment 4 will be described. Note that the source signal line driver circuit described in Embodiment 4 is not limited to the configuration described in Embodiment 4.

【0198】図15に本実施例のソース信号線駆動回路
の回路図を示す。301_1はシフトレジスタ、301
_2はレベルシフト、301_3はサンプリング回路を
示している。
FIG. 15 is a circuit diagram of the source signal line driving circuit of this embodiment. 301_1 is a shift register, 301
_2 indicates a level shift, and 301_3 indicates a sampling circuit.

【0199】ソース用のクロック信号S−CLK、ソー
ス用のスタートパルス信号S−SP、駆動方向切り替え
信号SL/Rは、それぞれ図に示した配線からシフトレ
ジスタ301_1に入力される。映像信号は映像信号線
310を介してサンプリング回路301_3に入力され
る。本実施例では4分割で分割駆動した場合の例を示
す。よって、映像信号線310は4本存在する。しかし
本実施例はこの構成に限定されず、分割数は任意に定め
ることができる。
A source clock signal S-CLK, a source start pulse signal S-SP, and a drive direction switching signal SL / R are input to the shift register 301_1 from the wirings shown in the figure. The video signal is input to the sampling circuit 301_3 through the video signal line 310. In the present embodiment, an example in the case of divided driving with four divisions is shown. Therefore, there are four video signal lines 310. However, the present embodiment is not limited to this configuration, and the number of divisions can be arbitrarily determined.

【0200】各映像信号310に入力された映像信号
は、サンプリング回路301_3において、レベルシフ
ト301_2から入力されるサンプリング信号によって
サンプリングされる。具体的には、映像信号はサンプリ
ング回路301_3が有するアナログスイッチ311に
おいてサンプリングされ、それぞれ対応するソース信号
線304_1〜304_4に同時に入力される。
The video signal input to each video signal 310 is sampled in a sampling circuit 301_3 by a sampling signal input from a level shift 301_2. Specifically, the video signal is sampled by the analog switch 311 included in the sampling circuit 301_3, and is simultaneously input to the corresponding source signal lines 304_1 to 304_4.

【0201】上記動作を繰り返すことによって、全ての
ソース信号線に表示信号が入力される。
By repeating the above operation, display signals are input to all the source signal lines.

【0202】図16(A)にアナログスイッチ311の
等価回路図を示す。アナログスイッチ311はnチャネ
ル型TFTとpチャネル型TFTとを有している。映像
信号が図に示す配線からVinとして入力される。そし
てレベルシフト301_2から出力されたサンプリング
信号と該サンプリング信号とは逆の極性を有する信号
が、それぞれINまたはINbから入力される。このサ
ンプリング信号によって映像信号がサンプリングされ、
表示信号としてVoutから出力される。
FIG. 16A is an equivalent circuit diagram of the analog switch 311. The analog switch 311 has an n-channel TFT and a p-channel TFT. A video signal is input as Vin from the wiring shown in the figure. Then, a sampling signal output from the level shift 301_2 and a signal having a polarity opposite to that of the sampling signal are input from IN or INb, respectively. The video signal is sampled by this sampling signal,
It is output from Vout as a display signal.

【0203】図16(B)にレベルシフト301_2の
等価回路図を示す。シフトレジスタ301_1から出力
されたサンプリング信号と該サンプリング信号とは逆の
極性を有する信号が、それぞれVinまたはVinbか
ら入力される。また、Vddhはプラスの電圧、Vss
はマイナスの電圧の印加を示している。レベルシフト3
01_2は、Vinに入力された信号を高電圧化し反転
させた信号が、Voutbから出力されるように設計さ
れている。つまり、VinにHiが入力されるとVou
tbからVss相当の信号が、Loが入力されるとVo
utbからVddh相当の信号が出力される。
FIG. 16B is an equivalent circuit diagram of the level shift 301_2. A sampling signal output from the shift register 301_1 and a signal having a polarity opposite to that of the sampling signal are input from Vin or Vinb, respectively. Vddh is a plus voltage, Vss
Indicates the application of a negative voltage. Level shift 3
01_2 is designed so that a signal obtained by increasing the voltage of the signal input to Vin and inverting the signal is output from Voutb. That is, when Hi is input to Vin, Vou
When a signal corresponding to Vss is input from tb, when Vo is input, Vo
utb outputs a signal corresponding to Vddh.

【0204】なお本実施例は、実施例1〜4と自由に組
み合わせることが可能である。
This embodiment can be freely combined with Embodiments 1 to 4.

【0205】(実施例6)以下に、本発明の半導体表示
装置が有するフレームレート変換部について、図17を
用いて説明する。
(Embodiment 6) A frame rate converter provided in a semiconductor display device of the present invention will be described below with reference to FIG.

【0206】図17に示すフレームレート変換部100
は図1に示したものと同じであるので、詳しい動作や構
成についての説明は、実施の形態を参照する。ただし、
本実施例では、フレームレート変換部100から出力さ
れた映像信号は、D/A変換回路に入力せずに、デジタ
ルのままソース信号線駆動回路に入力している。
A frame rate conversion unit 100 shown in FIG.
Is the same as that shown in FIG. 1, and therefore, the detailed description of the operation and configuration will refer to the embodiment. However,
In the present embodiment, the video signal output from the frame rate conversion unit 100 is not input to the D / A conversion circuit, but is input digitally to the source signal line drive circuit.

【0207】なおSDRAMの数は2つに限定されず、
2つ以上であればいくつでも良い。
Note that the number of SDRAMs is not limited to two.
Any number of two or more may be used.

【0208】本実施例で用いるデジタル方式で駆動する
半導体表示装置について、図18を用いて説明する。
A semiconductor display device driven by a digital method used in this embodiment will be described with reference to FIG.

【0209】図18にデジタル方式で駆動する本発明の
半導体表示装置のブロック図を示す。ここでは、4ビッ
トのデジタル駆動方式の半導体表示装置を例にとってい
る。なお本実施例で用いられるデジタル駆動方式の半導
体表示装置は図18に示した構造に限定されない。デジ
タルの映像信号を用いて表示を行うことができれば、半
導体表示装置がどのような構造を有していても良い。
FIG. 18 is a block diagram of a semiconductor display device of the present invention driven by a digital method. Here, a 4-bit digital drive type semiconductor display device is taken as an example. The digital drive type semiconductor display device used in this embodiment is not limited to the structure shown in FIG. The semiconductor display device may have any structure as long as display can be performed using a digital video signal.

【0210】デジタル駆動方式の半導体表示装置は、図
18に示すように、ソース信号線駆動回路412、ゲー
ト信号線駆動回路409及び画素部413が設けられて
いる。
[0210] As shown in FIG. 18, a digital drive type semiconductor display device includes a source signal line drive circuit 412, a gate signal line drive circuit 409, and a pixel portion 413.

【0211】ソース信号線駆動回路412は、シフトレ
ジスタ401、ラッチ1(LAT1)403、ラッチ2
(LAT2)404及びD/A変換回路406が設けら
れている。そしてフレームレート変換部100からデジ
タルの映像信号がアドレス線402(a〜d)に入力さ
れている。
[0211] The source signal line driving circuit 412 includes a shift register 401, a latch 1 (LAT1) 403, and a latch 2
(LAT2) 404 and a D / A conversion circuit 406 are provided. A digital video signal is input from the frame rate conversion unit 100 to the address lines 402 (a to d).

【0212】アドレス線402(a〜d)はラッチ1
(LAT1)403に接続されている。またラッチパル
ス線405がラッチ2(LAT2)404に接続されて
いる。また階調電圧線407がD/A変換回路406に
接続されている。
The address lines 402 (a to d) are connected to the latch 1
(LAT1) 403. A latch pulse line 405 is connected to the latch 2 (LAT2) 404. Further, a gradation voltage line 407 is connected to the D / A conversion circuit 406.

【0213】なお本実施例では、ラッチ1 403およ
びラッチ2 404(LAT1およびLAT2)は、そ
れぞれ4個のラッチが便宜上一まとめに示されている。
In this embodiment, each of the latches 1 403 and 2 404 (LAT1 and LAT2) has four latches collectively shown for convenience.

【0214】そしてソース信号線駆動回路412のD/
A変換回路406に接続されたソース信号線408と、
ゲート信号線駆動回路409に接続されたゲート信号線
410が画素部413に設けられている。
The D / D of the source signal line driving circuit 412
A source signal line 408 connected to the A conversion circuit 406,
A gate signal line 410 connected to the gate signal line driver circuit 409 is provided in the pixel portion 413.

【0215】画素部413において、ソース信号線40
8と、ゲート信号線410とが交差した部分に画素41
5が設けられており、画素415は画素TFT411及
び液晶セル414を有している。
In the pixel portion 413, the source signal line 40
8 and the gate signal line 410 intersect with the pixel 41
5 is provided, and the pixel 415 has a pixel TFT 411 and a liquid crystal cell 414.

【0216】シフトレジスタ401からのタイミング信
号により、アドレス線402(a〜d)に供給されたデ
ジタルの映像信号が、全てのLAT1 403に順次書
き込まれる。なお、本明細書において、全てのLAT1
403をLAT1群と総称する。
The digital video signals supplied to the address lines 402 (a to d) are sequentially written to all the LATs 403 according to the timing signal from the shift register 401. In this specification, all LAT1
403 is generally referred to as LAT1 group.

【0217】LAT1群へのデジタルの映像信号の書き
込みが一通り終了するまでの期間は、1ライン期間と呼
ばれる。すなわち、一番左側のLAT1へのデジタルの
映像信号の書き込みが開始されてから、一番右側のLA
T1へのデジタルの映像信号の書き込みが終了する時点
までの期間が1ライン期間である。なお、LAT1群へ
のデジタルの映像信号の書き込みが一通り終了するまで
の期間と、水平帰線期間とを合わせて、1つのライン期
間としても良い。
The period until the writing of the digital video signal to the LAT1 group is completely completed is called one line period. That is, after the writing of the digital video signal to the leftmost LAT 1 is started, the rightmost LA
The period up to the end of the writing of the digital video signal to T1 is one line period. Note that the period until the writing of the digital video signal to the LAT1 group is completely completed and the horizontal retrace period may be combined into one line period.

【0218】LAT1群に対するデジタルの映像信号の
書き込みが終了した後、LAT1群に書き込まれたデジ
タルの映像信号は、ラッチパルス線405に入力される
ラッチシグナルによって、全てのLAT2 404に一
斉に伝送され、書き込まれる。なお、本明細書におい
て、全てのLAT2をLAT2群と総称する。
After the writing of the digital video signal to the LAT1 group is completed, the digital video signal written to the LAT1 group is transmitted to all the LAT2 404 simultaneously by the latch signal input to the latch pulse line 405. Is written. In this specification, all LAT2s are collectively referred to as a LAT2 group.

【0219】デジタルの映像信号をLAT2群に伝送し
た後、2順目のライン期間が開始される。よって、シフ
トレジスタ401からのタイミング信号により、再びL
AT1群に、アドレス線402(a〜d)に供給される
デジタルの映像信号の書き込みが順次行なわれる。
After transmitting the digital video signal to the LAT2 group, the second line period starts. Therefore, the timing signal from the shift register 401 causes L
Digital video signals supplied to the address lines 402 (a to d) are sequentially written to the AT1 group.

【0220】この2順目の1ライン期間の開始に合わせ
て、LAT2群に書き込まれたデジタルの映像信号がD
/A変換回路406に一斉に入力される。そして入力さ
れたデジタルの映像信号がD/A変換回路406に一斉
に入力される。そして入力されたデジタルの映像信号
は、D/A変換回路406において、そのデジタルの映
像信号の有する画像情報に応じた電圧を有するアナログ
の表示信号に変換され、ソース信号線408に入力され
る。
At the start of the second-order one-line period, the digital video signal written to the LAT2 group is
/ A conversion circuit 406. Then, the input digital video signal is input to the D / A conversion circuit 406 all at once. The input digital video signal is converted in a D / A conversion circuit 406 into an analog display signal having a voltage corresponding to image information of the digital video signal, and input to a source signal line 408.

【0221】ゲート信号線駆動回路409から出力され
る選択信号によって、対応する画素TFT411のスイ
ッチングが行われ、ソース信号線408に入力されるア
ナログの表示信号によって液晶分子が駆動される。
The switching of the corresponding pixel TFT 411 is performed by the selection signal output from the gate signal line driving circuit 409, and the liquid crystal molecules are driven by the analog display signal input to the source signal line 408.

【0222】本実施例ではアドレス線402に入力され
る映像信号の値を各フレーム期間ごとに変化させること
で、D/A変換回路406から出力されるアナログの表
示信号の極性を変化させている。
In this embodiment, the polarity of the analog display signal output from the D / A conversion circuit 406 is changed by changing the value of the video signal input to the address line 402 for each frame period. .

【0223】なお本実施例は、実施例1〜3と自由に組
み合わせることが可能である。
This embodiment can be freely combined with Embodiments 1 to 3.

【0224】(実施例7)本発明の半導体表示装置の1
つである液晶表示装置の作成方法の一例について、図1
9〜図22を用いて説明する。ここでは、画素部の画素
TFTおよび保持容量と、画素部の周辺に設けられるソ
ース信号線駆動回路及びゲート信号線駆動回路のTFT
を同時に作製する方法について、工程に従って詳細に説
明する。
(Embodiment 7) One of the semiconductor display devices of the present invention
One example of a method for manufacturing a liquid crystal display device is shown in FIG.
This will be described with reference to FIGS. Here, a pixel TFT and a storage capacitor of a pixel portion and a TFT of a source signal line driver circuit and a gate signal line driver circuit provided around the pixel portion are provided.
Will be described in detail according to the steps.

【0225】図19(A)において、基板501にはコ
ーニング社の#7059ガラスや#1737ガラスなど
に代表されるバリウムホウケイ酸ガラスやアルミノホウ
ケイ酸ガラスなどのガラス基板や石英基板などを用い
る。ガラス基板を用いる場合には、ガラス歪み点よりも
10〜20℃程度低い温度であらかじめ熱処理しておい
ても良い。そして、基板501のTFTを形成する表面
に、基板501からの不純物拡散を防ぐために、酸化シ
リコン膜、窒化シリコン膜または酸化窒化シリコン膜な
どの絶縁膜から成る下地膜502を形成する。例えば、
プラズマCVD法でSiH4、NH3、N2Oから作製さ
れる酸化窒化シリコン膜502aを10〜200nm(好
ましくは50〜100nm)、同様にSiH4、N2Oから
作製される酸化窒化水素化シリコン膜502bを50〜
200nm(好ましくは100〜150nm)の厚さに積層
して形成する。ここでは下地膜502を2層構造として
示したが、前記絶縁膜の単層膜または2層以上積層させ
て形成しても良い。
In FIG. 19A, a glass substrate such as barium borosilicate glass or aluminoborosilicate glass typified by Corning # 7059 glass or # 1737 glass, a quartz substrate, or the like is used as a substrate 501. When a glass substrate is used, heat treatment may be performed in advance at a temperature lower by about 10 to 20 ° C. than the glass strain point. Then, a base film 502 made of an insulating film such as a silicon oxide film, a silicon nitride film, or a silicon oxynitride film is formed on the surface of the substrate 501 where a TFT is to be formed, in order to prevent impurity diffusion from the substrate 501. For example,
A silicon oxynitride film 502a formed from SiH 4 , NH 3 , and N 2 O by a plasma CVD method is hydrogenated from 10 to 200 nm (preferably 50 to 100 nm), and similarly is a hydrogen oxynitride formed from SiH 4 and N 2 O. Silicon film 502b
It is formed to have a thickness of 200 nm (preferably 100 to 150 nm). Here, the base film 502 is shown as having a two-layer structure, but may be formed as a single-layer film of the insulating film or a stack of two or more layers.

【0226】酸化窒化シリコン膜502aは平行平板型
のプラズマCVD法を用いて形成する。酸化窒化シリコ
ン膜502aは、SiH4を10SCCM、NH3を100SC
CM、N2Oを20SCCMとして反応室に導入し、基板温度
325℃、反応圧力40Pa、放電電力密度0.41W/cm
2、放電周波数60MHzとした。一方、酸化窒化水素化シ
リコン膜502bは、SiH4を5SCCM、N2Oを120
SCCM、H2を125SCCMとして反応室に導入し、基板温
度400℃、反応圧力20Pa、放電電力密度0.41W/
cm2、放電周波数60MHzの条件下で形成した。これらの
膜は、基板温度を変化させ、反応ガスの切り替えのみで
連続して形成することができる。
The silicon oxynitride film 502a is formed by using a parallel plate type plasma CVD method. The silicon oxynitride film 502a is made of 10 SCCM for SiH 4 and 100 SC for NH 3 .
CM and N 2 O were introduced into the reaction chamber at 20 SCCM, the substrate temperature was 325 ° C., the reaction pressure was 40 Pa, and the discharge power density was 0.41 W / cm.
2. The discharge frequency was 60 MHz. On the other hand, the hydrogenated silicon nitride oxide film 502b is an SiH 4 5 SCCM, the N 2 O 120
SCCM, was introduced into the reaction chamber of H 2 as a 125 SCCM, a substrate temperature of 400 ° C., a reaction pressure 20 Pa, discharge power density 0.41W /
It was formed under the conditions of cm 2 and a discharge frequency of 60 MHz. These films can be continuously formed only by changing the substrate temperature and switching the reaction gas.

【0227】このようにして作製した酸化窒化シリコン
膜502aは、密度が9.28×1022/cm3であり、フ
ッ化水素アンモニウム(NH4HF2)を7.13%とフ
ッ化アンモニウム(NH4F)を15.4%含む混合溶
液(ステラケミファ社製、商品名LAL500)の20
℃におけるエッチング速度が約63nm/minと遅く、緻密
で硬い膜である。このような膜を下地膜に用いると、こ
の上に形成する半導体層にガラス基板からのアルカリ金
属元素が拡散するのを防ぐのに有効である。
The silicon oxynitride film 502a thus manufactured has a density of 9.28 × 10 22 / cm 3 , 7.13% of ammonium hydrogen fluoride (NH 4 HF 2 ) and ammonium fluoride (NH 4 HF 2 ). 20% of a mixed solution containing 15.4% of NH 4 F) (trade name: LAL500, manufactured by Stella Chemifa).
The etching rate at a temperature of ° C is as low as about 63 nm / min, and the film is dense and hard. The use of such a film as a base film is effective in preventing an alkali metal element from a glass substrate from diffusing into a semiconductor layer formed thereover.

【0228】次に、25〜80nm(好ましくは30〜6
0nm)の厚さで非晶質構造を有する非晶質半導体層50
3aを、プラズマCVD法やスパッタ法などの方法で形
成する。非晶質構造を有する半導体膜には、非晶質半導
体層や微結晶半導体膜があり、非晶質シリコンゲルマニ
ウム膜などの非晶質構造を有する化合物半導体膜を適用
しても良い。プラズマCVD法で非晶質半導体層503
aとして非晶質シリコン膜を形成する場合には、下地膜
502と非晶質半導体層503aとは両者を連続形成す
ることも可能である。例えば、前述のように酸化窒化シ
リコン膜502aと酸化窒化水素化シリコン膜502b
をプラズマCVD法で連続して成膜後、反応ガスをSi
4、N2O、H2からSiH4とH2或いはSiH4のみに
切り替えれば、一旦大気雰囲気に晒すことなく連続形成
できる。その結果、酸化窒化水素化シリコン膜502b
の表面の汚染を防ぐことが可能となり、作製するTFT
の特性バラツキやしきい値電圧の変動を低減させること
ができる。
Next, 25 to 80 nm (preferably 30 to 6 nm)
Amorphous semiconductor layer 50 having an amorphous structure with a thickness of 0 nm).
3a is formed by a method such as a plasma CVD method or a sputtering method. The semiconductor film having an amorphous structure includes an amorphous semiconductor layer and a microcrystalline semiconductor film, and a compound semiconductor film having an amorphous structure such as an amorphous silicon germanium film may be used. Amorphous semiconductor layer 503 by plasma CVD
When an amorphous silicon film is formed as a, both the base film 502 and the amorphous semiconductor layer 503a can be formed continuously. For example, as described above, the silicon oxynitride film 502a and the hydrogenated silicon oxynitride film 502b
Is continuously formed by a plasma CVD method, and then the reaction gas is Si.
H 4, N 2 O, be switched from H 2 only SiH 4 and H 2 or SiH 4, once can be continuously formed without exposure to the atmosphere. As a result, the hydrogenated silicon oxynitride film 502b
To prevent contamination of the surface of the TFT
Characteristic variation and fluctuations in the threshold voltage can be reduced.

【0229】そして、結晶化の工程を行い非晶質半導体
層503aから結晶質半導体層503bを作製する。そ
の方法としてレーザーアニール法や熱アニール法(固相
成長法)、またはラピットサーマルアニール法(RTA
法)を適用することができる。前述のようなガラス基板
や耐熱性の劣るプラスチック基板を用いる場合には、特
にレーザーアニール法を適用することが好ましい。RT
A法では、赤外線ランプ、ハロゲンランプ、メタルハラ
イドランプ、キセノンランプなどを光源に用いる。或い
は特開平7−130652号公報で開示された技術に従
って、触媒元素を用いる結晶化法で結晶質半導体層50
3bを形成することもできる。結晶化の工程ではまず、
非晶質半導体層が含有する水素を放出させておくことが
好ましく、400〜500℃で1時間程度の熱処理を行
い含有する水素量を5atom%以下にしてから結晶化させ
ると膜表面の荒れを防ぐことができるので良い。
Then, a crystallization step is performed to form a crystalline semiconductor layer 503b from the amorphous semiconductor layer 503a. Laser annealing, thermal annealing (solid phase growth), or rapid thermal annealing (RTA)
Law) can be applied. When a glass substrate or a plastic substrate having low heat resistance as described above is used, it is particularly preferable to apply a laser annealing method. RT
In the method A, an infrared lamp, a halogen lamp, a metal halide lamp, a xenon lamp, or the like is used as a light source. Alternatively, according to the technique disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 7-130652, the crystalline semiconductor layer 50 is formed by a crystallization method using a catalytic element.
3b can also be formed. First, in the crystallization process,
It is preferable to release the hydrogen contained in the amorphous semiconductor layer, and heat treatment is performed at 400 to 500 ° C. for about 1 hour to reduce the amount of hydrogen contained to 5 atom% or less. It is good because it can be prevented.

【0230】また、プラズマCVD法で非晶質シリコン
膜の形成工程において、反応ガスにSiH4とアルゴン
(Ar)を用い、成膜時の基板温度を400〜450℃
として形成すると、非晶質シリコン膜の含有水素濃度を
5atomic%以下にすることもできる。このような場合に
おいて水素を放出させるための熱処理は不要となる。
In the step of forming an amorphous silicon film by plasma CVD, SiH 4 and argon (Ar) are used as reaction gases, and the substrate temperature during film formation is 400 to 450 ° C.
When formed, the hydrogen concentration in the amorphous silicon film can be reduced to 5 atomic% or less. In such a case, heat treatment for releasing hydrogen is unnecessary.

【0231】結晶化をレーザーアニール法にて行う場合
には、パルス発振型または連続発振型のエキシマレーザ
ーやアルゴンレーザーをその光源とする。パルス発振型
のエキシマレーザーを用いる場合には、レーザー光を線
状に加工してレーザーアニールを行う。レーザーアニー
ル条件は実施者が適宣選択するものであるが、例えば、
レーザーパルス発振周波数300Hzとし、レーザーエ
ネルギー密度を100〜500mJ/cm2(代表的には30
0〜400mJ/cm2)とする。そして線状ビームを基板全
面に渡って照射し、この時の線状ビームの重ね合わせ率
(オーバーラップ率)を50〜90%として行う。この
ようにして図19(B)に示すように結晶質半導体層5
03bを得ることができる。
When crystallization is performed by laser annealing, a pulse oscillation type or continuous oscillation type excimer laser or argon laser is used as the light source. When a pulse oscillation type excimer laser is used, laser annealing is performed by processing a laser beam into a linear shape. Laser annealing conditions are appropriately selected by the practitioner, for example,
The laser pulse oscillation frequency is 300 Hz, and the laser energy density is 100 to 500 mJ / cm 2 (typically 30 to
0 to 400 mJ / cm 2 ). Then, a linear beam is irradiated over the entire surface of the substrate, and the superposition rate (overlap rate) of the linear beam at this time is set to 50 to 90%. In this way, as shown in FIG.
03b can be obtained.

【0232】そして、結晶質半導体層503b上に第1
のフォトマスク(PM1)を用い、フォトリソグラフィ
ーの技術を用いてレジストパターンを形成し、ドライエ
ッチングによって結晶質半導体層を島状に分割し、図1
9(C)に示すように島状半導体層504〜508を形
成する。結晶質シリコン膜のドライエッチングにはCF
4とO2の混合ガスを用いる。
The first semiconductor layer is formed on the crystalline semiconductor layer 503b.
Using a photomask (PM1), a resist pattern is formed using photolithography technology, and the crystalline semiconductor layer is divided into islands by dry etching.
As shown in FIG. 9C, island-shaped semiconductor layers 504 to 508 are formed. CF for dry etching of crystalline silicon film
A mixed gas of 4 and O 2 is used.

【0233】このような島状半導体層に対し、TFTの
しきい値電圧(Vth)を制御する目的でp型を付与する
不純物元素を1×1016〜5×1017atoms/cm3程度の
濃度で島状半導体層の全面に添加しても良い。半導体に
対してp型を付与する不純物元素には、ホウ素(B)、
アルミニウム(Al)、ガリウム(Ga)など周期律表
第13族の元素が知られている。その方法として、イオ
ン注入法やイオンドープ法(或いはイオンシャワードー
ピング法)を用いることができるが、大面積基板を処理
するにはイオンドープ法が適している。イオンドープ法
ではジボラン(B26)をソースガスとして用いホウ素
(B)を添加する。このような不純物元素の注入は必ず
しも必要でなく省略しても差し支えないが、特にnチャ
ネル型TFTのしきい値電圧を所定の範囲内に収めるた
めに好適に用いる手法である。
In order to control the threshold voltage (Vth) of the TFT, an impurity element imparting a p-type is added to such an island-shaped semiconductor layer in an amount of about 1 × 10 16 to 5 × 10 17 atoms / cm 3 . The concentration may be added to the entire surface of the island-shaped semiconductor layer. The impurity element imparting p-type to the semiconductor includes boron (B),
Elements of Group 13 of the periodic table, such as aluminum (Al) and gallium (Ga), are known. As the method, an ion implantation method or an ion doping method (or an ion shower doping method) can be used, but the ion doping method is suitable for treating a large-area substrate. In the ion doping method, diborane (B 2 H 6 ) is used as a source gas and boron (B) is added. The implantation of such an impurity element is not always necessary and may be omitted. However, it is a method preferably used for keeping the threshold voltage of the n-channel TFT within a predetermined range.

【0234】ゲート絶縁膜509はプラズマCVD法ま
たはスパッタ法を用い、膜厚を40〜150nmとしてシ
リコンを含む絶縁膜で形成する。本実施例では、120
nmの厚さで酸化窒化シリコン膜から形成する。また、S
iH4とN2OにO2を添加させて作製された酸化窒化シ
リコン膜は、膜中の固定電荷密度が低減されているので
この用途に対して好ましい材料となる。また、SiH4
とN2OとH2とから作製する酸化窒化シリコン膜はゲー
ト絶縁膜の界面欠陥密度を低減できるので好ましい。勿
論、ゲート絶縁膜はこのような酸化窒化シリコン膜に限
定されるものでなく、他のシリコンを含む絶縁膜を単層
または積層構造として用いても良い。例えば、酸化シリ
コン膜を用いる場合には、プラズマCVD法で、TEO
S(Tetraethyl Orthosilicate)とO2とを混合し、反
応圧力40Pa、基板温度300〜400℃とし、高周波
(13.56MHz)電力密度0.5〜0.8W/cm2で放電
させて形成することができる。このようにして作製され
た酸化シリコン膜は、その後400〜500℃の熱アニ
ールによりゲート絶縁膜として良好な特性を得ることが
できる。(図19(C))
[0234] The gate insulating film 509 is formed of a silicon-containing insulating film with a thickness of 40 to 150 nm by a plasma CVD method or a sputtering method. In this embodiment, 120
It is formed from a silicon oxynitride film with a thickness of nm. Also, S
A silicon oxynitride film formed by adding O 2 to iH 4 and N 2 O is a preferable material for this application because the fixed charge density in the film is reduced. In addition, SiH 4
A silicon oxynitride film formed from N 2 O and H 2 is preferable because the interface defect density of the gate insulating film can be reduced. Needless to say, the gate insulating film is not limited to such a silicon oxynitride film, and another insulating film containing silicon may be used as a single layer or a stacked structure. For example, when a silicon oxide film is used, TEO is
Mixing S (Tetraethyl Orthosilicate) and O 2 , reacting at a pressure of 40 Pa, a substrate temperature of 300 to 400 ° C., and discharging at a high frequency (13.56 MHz) power density of 0.5 to 0.8 W / cm 2. Can be. The silicon oxide film thus manufactured can obtain good characteristics as a gate insulating film by subsequent thermal annealing at 400 to 500 ° C. (FIG. 19C)

【0235】そして、図19(D)に示すように、第1
の形状のゲート絶縁膜509上にゲート電極を形成する
ための耐熱性導電層511を200〜400nm(好まし
くは250〜350nm)の厚さで形成する。耐熱性導電
層511は単層で形成しても良いし、必要に応じて二層
あるいは三層といった複数の層から成る積層構造として
も良い。耐熱性導電層にはTa、Ti、Wから選ばれた
元素、または前記元素を成分とする合金か、前記元素を
組み合わせた合金膜が含まれる。これらの耐熱性導電層
はスパッタ法やCVD法で形成されるものであり、低抵
抗化を図るために含有する不純物濃度を低減させること
が好ましく、特に酸素濃度に関しては30ppm以下と
すると良い。本実施例ではW膜を300nmの厚さで形成
する。W膜はWをターゲットとしてスパッタ法で形成し
ても良いし、6フッ化タングステン(WF6)を用いて
熱CVD法で形成することもできる。いずれにしてもゲ
ート電極として使用するためには低抵抗化を図る必要が
あり、W膜の抵抗率は20μΩcm以下にすることが望
ましい。W膜は結晶粒を大きくすることで低抵抗率化を
図ることができるが、W中に酸素などの不純物元素が多
い場合には結晶化が阻害され高抵抗化する。このことよ
り、スパッタ法による場合、純度99.9999%また
は99.99%のWターゲットを用い、さらに成膜時に
気相中からの不純物の混入がないように十分配慮してW
膜を形成することにより、抵抗率9〜20μΩcmを実
現することができる。
Then, as shown in FIG.
A heat-resistant conductive layer 511 for forming a gate electrode is formed with a thickness of 200 to 400 nm (preferably 250 to 350 nm) on the gate insulating film 509 having the shape of FIG. The heat-resistant conductive layer 511 may be formed as a single layer, or may have a stacked structure including a plurality of layers such as two layers or three layers as necessary. The heat-resistant conductive layer includes an element selected from Ta, Ti, and W, an alloy containing the above element, or an alloy film combining the above elements. These heat-resistant conductive layers are formed by a sputtering method or a CVD method, and it is preferable to reduce the concentration of impurities contained therein in order to reduce the resistance. In particular, the oxygen concentration is preferably 30 ppm or less. In this embodiment, a W film is formed to a thickness of 300 nm. The W film may be formed by sputtering using W as a target, or may be formed by thermal CVD using tungsten hexafluoride (WF 6 ). In any case, it is necessary to reduce the resistance in order to use it as a gate electrode, and it is desirable that the resistivity of the W film be 20 μΩcm or less. The resistivity of the W film can be reduced by enlarging the crystal grains. However, when there are many impurity elements such as oxygen in W, the crystallization is inhibited and the resistance is increased. From this, in the case of using the sputtering method, a W target having a purity of 99.9999% or 99.99% is used, and furthermore, it is necessary to pay sufficient attention to prevent impurities from being mixed in the gas phase during film formation.
By forming a film, a resistivity of 9 to 20 μΩcm can be realized.

【0236】一方、耐熱性導電層511にTa膜を用い
る場合には、同様にスパッタ法で形成することが可能で
ある。Ta膜はスパッタガスにArを用いる。また、ス
パッタ時のガス中に適量のXeやKrを加えておくと、
形成する膜の内部応力を緩和して膜の剥離を防止するこ
とができる。α相のTa膜の抵抗率は20μΩcm程度で
ありゲート電極に使用することができるが、β相のTa
膜の抵抗率は180μΩcm程度でありゲート電極とする
には不向きであった。TaN膜はα相に近い結晶構造を
持つので、Ta膜の下地にTaN膜を形成すればα相の
Ta膜が容易に得られる。また、図示しないが、耐熱性
導電層511の下に2〜20nm程度の厚さでリン(P)
をドープしたシリコン膜を形成しておくことは有効であ
る。これにより、その上に形成される導電膜の密着性向
上と酸化防止を図ると同時に、耐熱性導電層511が微
量に含有するアルカリ金属元素が第1の形状のゲート絶
縁膜509に拡散するのを防ぐことができる。いずれに
しても、耐熱性導電層511は抵抗率を10〜50μΩ
cmの範囲ですることが好ましい。
On the other hand, when a Ta film is used for the heat-resistant conductive layer 511, it can be similarly formed by a sputtering method. The Ta film uses Ar as a sputtering gas. Also, if an appropriate amount of Xe or Kr is added to the gas during sputtering,
The internal stress of the film to be formed can be relaxed to prevent the film from peeling. The resistivity of the α-phase Ta film is about 20 μΩcm and can be used for the gate electrode.
The resistivity of the film was about 180 μΩcm, and was not suitable for use as a gate electrode. Since the TaN film has a crystal structure close to the α-phase, if a TaN film is formed under the Ta film, an α-phase Ta film can be easily obtained. Although not shown, phosphorus (P) having a thickness of about 2 to 20 nm is formed under the heat-resistant conductive layer 511.
It is effective to form a silicon film doped with a. Accordingly, the adhesion of the conductive film formed thereon is improved and oxidation is prevented, and at the same time, a small amount of the alkali metal element contained in the heat-resistant conductive layer 511 diffuses into the first shape gate insulating film 509. Can be prevented. In any case, the heat-resistant conductive layer 511 has a resistivity of 10 to 50 μΩ.
It is preferred to be within the range of cm.

【0237】次に、第2のフォトマスク(PM2)を用
い、フォトリソグラフィーの技術を使用してレジストに
よるマスク512〜517を形成する。そして、第1の
エッチング処理を行う。本実施例ではICPエッチング
装置を用い、エッチング用ガスにCl2とCF4を用い、
1Paの圧力で3.2W/cm2のRF(13.56MHz)電力を投
入してプラズマを形成して行う。基板側(試料ステー
ジ)にも224mW/cm2のRF(13.56MHz)電力を投入
し、これにより実質的に負の自己バイアス電圧が印加さ
れる。この条件でW膜のエッチング速度は約100nm/m
inである。第1のエッチング処理はこのエッチング速度
を基にW膜がちょうどエッチングされる時間を推定し、
それよりもエッチング時間を20%増加させた時間をエ
ッチング時間とした。
Next, using the second photomask (PM2), resist masks 512 to 517 are formed by photolithography. Then, a first etching process is performed. In this embodiment, an ICP etching apparatus is used, and Cl 2 and CF 4 are used as etching gases.
A plasma is formed by applying an RF (13.56 MHz) power of 3.2 W / cm 2 at a pressure of 1 Pa. RF (13.56 MHz) power of 224 mW / cm 2 is also applied to the substrate side (sample stage), whereby a substantially negative self-bias voltage is applied. Under these conditions, the etching rate of the W film is about 100 nm / m
in. The first etching process estimates the time when the W film is just etched based on the etching rate,
The time obtained by increasing the etching time by 20% was defined as the etching time.

【0238】第1のエッチング処理により第1のテーパ
ー形状を有する導電層518〜523が形成される。導
電層518〜523のテーパー部の角度は15〜30°
となるように形成される。残渣を残すことなくエッチン
グするためには、10〜20%程度の割合でエッチング
時間を増加させるオーバーエッチングを施すものとす
る。W膜に対する酸化窒化シリコン膜(第1の形状のゲ
ート絶縁膜509)の選択比は2〜4(代表的には3)
であるので、オーバーエッチング処理により、酸化窒化
シリコン膜が露出した面は20〜50nm程度エッチング
され第1のテーパー形状を有する導電層518〜523
の端部近傍にテーパー形状が形成された第2の形状のゲ
ート絶縁膜580が形成される。
[0238] Conductive layers 518 to 523 having a first tapered shape are formed by the first etching process. The angle of the tapered portion of the conductive layers 518 to 523 is 15 to 30 °
It is formed so that In order to perform etching without leaving a residue, over-etching is performed to increase the etching time at a rate of about 10 to 20%. The selectivity of the silicon oxynitride film (the first shape gate insulating film 509) to the W film is 2 to 4 (typically 3).
Therefore, the surface where the silicon oxynitride film is exposed is etched by about 20 to 50 nm by the over-etching, and the conductive layers 518 to 523 having the first tapered shape are formed.
A second shape gate insulating film 580 having a tapered shape is formed near the end of the gate insulating film 580.

【0239】そして、第1のドーピング処理を行い一導
電型の不純物元素を島状半導体層に添加する。ここで
は、n型を付与する不純物元素添加の工程を行う。第1
の形状の導電層を形成したマスク512〜517をその
まま残し、第1のテーパー形状を有する導電層518〜
523をマスクとして自己整合的にn型を付与する不純
物元素をイオンドープ法で添加する。n型を付与する不
純物元素をゲート電極の端部におけるテーパー部と第2
の形状のゲート絶縁膜580とを通して、その下に位置
する半導体層に達するように添加するためにドーズ量を
1×1013〜5×1014atoms/cm2とし、加速電圧を8
0〜160keVとして行う。n型を付与する不純物元
素として15族に属する元素、典型的にはリン(P)ま
たは砒素(As)を用いるが、ここではリン(P)を用
いた。このようなイオンドープ法により第1の不純物領
域524〜528には1×1020〜1×1021atomic/c
m3の濃度範囲でn型を付与する不純物元素が添加され、
テーパー部の下方に形成される第2の不純物領域(A)
529〜533には同領域内で必ずしも均一ではないが
1×1017〜1×1020atomic/cm3の濃度範囲でn型を
付与する不純物元素が添加される。(図20(A))
[0239] Then, a first doping process is performed to add an impurity element of one conductivity type to the island-shaped semiconductor layer. Here, a step of adding an n-type impurity element is performed. First
The masks 512 to 517 on which the conductive layers having the shapes shown in FIGS.
Using 523 as a mask, an impurity element imparting n-type in a self-aligned manner is added by an ion doping method. An impurity element for imparting n-type is formed in the tapered portion at the end of the gate electrode by a second step.
Through the gate insulating film 580 of the shape, and the dose of 1 × 10 13 ~5 × 10 14 atoms / cm 2 in order to add to reach the semiconductor layer located thereunder, the acceleration voltage 8
The operation is performed at 0 to 160 keV. As the impurity element imparting n-type, an element belonging to Group 15 of the periodic table, typically phosphorus (P) or arsenic (As) is used. Here, phosphorus (P) is used. By such an ion doping method, the first impurity regions 524 to 528 have 1 × 10 20 to 1 × 10 21 atomic / c.
the impurity element is added that imparts n-type conductivity in a concentration range of m 3,
Second impurity region (A) formed below the tapered portion
To 529 to 533, an impurity element imparting n-type is added in a concentration range of 1 × 10 17 to 1 × 10 20 atomic / cm 3 although it is not necessarily uniform in the same region. (FIG. 20A)

【0240】この工程において、第2の不純物領域
(A)529〜533において、少なくとも第1の形状
の導電層518〜523と重なった部分に含まれるn型
を付与する不純物元素の濃度変化は、テーパー部の膜厚
変化を反映する。即ち、第2の不純物領域(A)529
〜533へ添加されるリン(P)の濃度は、第1の形状
の導電層518〜523に重なる領域において、該導電
層の端部から内側に向かって徐々に濃度が低くなる。こ
れはテーパー部の膜厚の差によって、半導体層に達する
リン(P)の濃度が変化するためである。
In this step, in the second impurity regions (A) 529 to 533, the change in the concentration of the impurity element imparting n-type contained in at least the portion overlapping the first shape conductive layers 518 to 523 is as follows: This reflects the change in the thickness of the tapered portion. That is, the second impurity region (A) 529
The concentration of phosphorus (P) added to the conductive layers 533 to 533 gradually decreases in the region overlapping with the conductive layers 518 to 523 of the first shape from the end of the conductive layer toward the inside. This is because the concentration of phosphorus (P) reaching the semiconductor layer changes depending on the difference in the thickness of the tapered portion.

【0241】次に、図20(B)に示すように第2のエ
ッチング処理を行う。エッチング処理も同様にICPエ
ッチング装置により行い、エッチングガスにCF4とC
2の混合ガスを用い、RF電力3.2W/cm2(13.56MH
z)、バイアス電力45mW/cm2(13.56MHz)、圧力1.0P
aでエッチングを行う。この条件で形成される第2の形
状を有する導電層540〜545が形成される。その端
部にはテーパー部が形成され、該端部から内側にむかっ
て徐々に厚さが増加するテーパー形状となる。第1のエ
ッチング処理と比較して基板側に印加するバイアス電力
を低くした分等方性エッチングの割合が多くなり、テー
パー部の角度は30〜60°となる。マスク512〜5
17はエッチングされて端部が削れ、マスク534〜5
39となる。また、第2の形状のゲート絶縁膜580の
表面が40nm程度エッチングされ、新たに第3の形状の
ゲート絶縁膜570が形成される。
Next, a second etching process is performed as shown in FIG. The etching process is also performed using an ICP etching apparatus, and CF 4 and C are used as etching gases.
RF power 3.2 W / cm 2 (13.56 MHz) using l 2 mixed gas
z), bias power 45mW / cm 2 (13.56MHz), pressure 1.0P
Etching is performed with a. Conductive layers 540 to 545 having the second shape formed under these conditions are formed. A tapered portion is formed at the end, and the tapered shape gradually increases inward from the end. As compared with the first etching process, the ratio of the isotropic etching is increased by the lower bias power applied to the substrate side, and the angle of the tapered portion is 30 to 60 °. Mask 512-5
17 is etched and the end is scraped, and the masks 534 to 5
39. The surface of the second shape gate insulating film 580 is etched by about 40 nm, and a third shape gate insulating film 570 is newly formed.

【0242】そして、第1のドーピング処理よりもドー
ズ量を下げ高加速電圧の条件でn型を付与する不純物元
素をドーピングする。例えば、加速電圧を70〜120
keVとし、1×1013/cm2のドーズ量で行い、第2の
形状を有する導電層540〜545と重なる領域の不純
物濃度を1×1016〜1×1018atoms/cm3となるよう
にする。このようにして、第2の不純物領域(B)54
6〜550を形成する。
Then, an impurity element for imparting n-type is doped under the condition of a high acceleration voltage with a lower dose than in the first doping process. For example, when the accelerating voltage is 70 to 120
KeV is applied at a dose of 1 × 10 13 / cm 2 so that the impurity concentration of a region overlapping the conductive layers 540 to 545 having the second shape is 1 × 10 16 to 1 × 10 18 atoms / cm 3. To Thus, the second impurity region (B) 54
6 to 550 are formed.

【0243】そして、pチャネル型TFTを形成する島
状半導体層504、506に一導電型とは逆の導電型の
不純物領域556、557を形成する。この場合も第2
の形状の導電層540、542をマスクとしてp型を付
与する不純物元素を添加し、自己整合的に不純物領域を
形成する。このとき、nチャネル型TFTを形成する島
状半導体層505、507、508は、第3のフォトマ
スク(PM3)を用いてレジストのマスク551〜55
3を形成し全面を被覆しておく。ここで形成される不純
物領域556、557はジボラン(B26)を用いたイ
オンドープ法で形成する。不純物領域556、557の
p型を付与する不純物元素の濃度は、2×1020〜2×
1021atoms/cm3となるようにする。
Then, impurity regions 556 and 557 of a conductivity type opposite to one conductivity type are formed in the island-shaped semiconductor layers 504 and 506 forming the p-channel TFT. In this case also the second
By using the conductive layers 540 and 542 having the above-mentioned shape as a mask, an impurity element imparting p-type is added to form an impurity region in a self-aligned manner. At this time, the island-shaped semiconductor layers 505, 507, and 508 forming the n-channel TFT are formed by using resist masks 551 to 55 using a third photomask (PM3).
3 is formed and the entire surface is covered. The impurity regions 556 and 557 formed here are formed by an ion doping method using diborane (B 2 H 6 ). The concentration of the impurity element imparting p-type in impurity regions 556 and 557 is 2 × 10 20 to 2 ×
It is set to 10 21 atoms / cm 3 .

【0244】しかしながら、この不純物領域556、5
57は詳細にはn型を付与する不純物元素を含有する3
つの領域に分けて見ることができる。第3の不純物領域
556a、557aは1×1020〜1×1021atoms/cm
3の濃度でn型を付与する不純物元素を含み、第4の不
純物領域(A)556b、557bは1×1017〜1×
1020atoms/cm3の濃度でn型を付与する不純物元素を
含み、第4の不純物領域(B)556c、557cは1
×1016〜5×1018atoms/cm3の濃度でn型を付与す
る不純物元素を含んでいる。しかし、これらの不純物領
域556b、556c、557b、557cのp型を付
与する不純物元素の濃度を1×1019atoms/cm3以上と
なるようにし、第3の不純物領域556a、557aに
おいては、p型を付与する不純物元素の濃度をn型を付
与する不純物元素の濃度の1.5から3倍となるように
することにより、第3の不純物領域でpチャネル型TF
Tのソース領域およびドレイン領域として機能するため
に何ら問題は生じない。また、第4の不純物領域(B)
556c、557cは一部が第2のテーパー形状を有す
る導電層540または542と一部が重なって形成され
る。
However, the impurity regions 556,
Numeral 57 designates 3 containing an impurity element imparting n-type.
It can be divided into two areas. The third impurity regions 556a and 557a are 1 × 10 20 to 1 × 10 21 atoms / cm.
An impurity element imparting n-type at a concentration of 3 is contained, and the fourth impurity regions (A) 556b and 557b are 1 × 10 17 to 1 ×
The fourth impurity region (B) 556c, 557c contains an impurity element imparting n-type at a concentration of 10 20 atoms / cm 3 ,
It contains an impurity element imparting n-type at a concentration of × 10 16 to 5 × 10 18 atoms / cm 3 . However, the concentration of the impurity element imparting p-type in these impurity regions 556b, 556c, 557b, and 557c is set to 1 × 10 19 atoms / cm 3 or more, and in the third impurity regions 556a and 557a, By setting the concentration of the impurity element imparting the type to be 1.5 to 3 times the concentration of the impurity element imparting the n-type, the p-channel type TF is formed in the third impurity region.
There is no problem because it functions as the source and drain regions of T. Further, a fourth impurity region (B)
The portions 556c and 557c partially overlap with the conductive layer 540 or 542 having the second tapered shape.

【0245】その後、図21(A)に示すように、第2
の形状を有する導電層540〜545およびゲート絶縁
膜570上に第1の層間絶縁膜558を形成する。第1
の層間絶縁膜558は酸化シリコン膜、酸化窒化シリコ
ン膜、窒化シリコン膜、またはこれらを組み合わせた積
層膜で形成すれば良い。いずれにしても第1の層間絶縁
膜558は無機絶縁物材料から形成する。第1の層間絶
縁膜558の膜厚は100〜200nmとする。第1の層
間絶縁膜558として酸化シリコン膜を用いる場合に
は、プラズマCVD法でTEOSとO2とを混合し、反
応圧力40Pa、基板温度300〜400℃とし、高周波
(13.56MHz)電力密度0.5〜0.8W/cm2で放電
させて形成することができる。また、第1の層間絶縁膜
558として酸化窒化シリコン膜を用いる場合には、プ
ラズマCVD法でSiH4、N2O、NH3から作製され
る酸化窒化シリコン膜、またはSiH4、N2Oから作製
される酸化窒化シリコン膜で形成すれば良い。この場合
の作製条件は反応圧力20〜200Pa、基板温度300
〜400℃とし、高周波(60MHz)電力密度0.1〜
1.0W/cm2で形成することができる。また、第1の層
間絶縁膜558としてSiH4、N2O、H2から作製さ
れる酸化窒化水素化シリコン膜を適用しても良い。窒化
シリコン膜も同様にプラズマCVD法でSiH4、NH3
から作製することが可能である。
Thereafter, as shown in FIG.
The first interlayer insulating film 558 is formed on the conductive layers 540 to 545 having the shapes described above and the gate insulating film 570. First
The interlayer insulating film 558 may be formed of a silicon oxide film, a silicon oxynitride film, a silicon nitride film, or a stacked film combining these. In any case, the first interlayer insulating film 558 is formed from an inorganic insulating material. The thickness of the first interlayer insulating film 558 is 100 to 200 nm. When a silicon oxide film is used as the first interlayer insulating film 558, TEOS and O 2 are mixed by a plasma CVD method, the reaction pressure is 40 Pa, the substrate temperature is 300 to 400 ° C., and the high frequency (13.56 MHz) power density is used. It can be formed by discharging at 0.5 to 0.8 W / cm 2 . In the case where a silicon oxynitride film is used as the first interlayer insulating film 558, a silicon oxynitride film formed from SiH 4 , N 2 O, and NH 3 by a plasma CVD method, or a silicon oxynitride film formed from SiH 4 and N 2 O is used. What is necessary is just to form with the manufactured silicon oxynitride film. The manufacturing conditions in this case are a reaction pressure of 20 to 200 Pa and a substrate temperature of 300.
~ 400 ° C, high frequency (60MHz) power density 0.1 ~
It can be formed at 1.0 W / cm 2 . Alternatively, as the first interlayer insulating film 558, a silicon oxynitride hydride film formed using SiH 4 , N 2 O, and H 2 may be used. Similarly, the silicon nitride film is made of SiH 4 and NH 3 by a plasma CVD method.
It is possible to produce from.

【0246】そして、それぞれの濃度で添加されたn型
またはp型を付与する不純物元素を活性化する工程を行
う。この工程はファーネスアニール炉を用いる熱アニー
ル法で行う。その他に、レーザーアニール法、またはラ
ピッドサーマルアニール法(RTA法)を適用すること
ができる。熱アニール法では酸素濃度が1ppm以下、
好ましくは0.1ppm以下の窒素雰囲気中で400〜
700℃、代表的には500〜600℃で行うものであ
り、本実施例では550℃で4時間の熱処理を行った。
また、基板501に耐熱温度が低いプラスチック基板を
用いる場合にはレーザーアニール法を適用することが好
ましい。
Then, a step of activating the n-type or p-type imparting impurity element added at each concentration is performed. This step is performed by a thermal annealing method using a furnace annealing furnace. In addition, a laser annealing method or a rapid thermal annealing method (RTA method) can be applied. In the thermal annealing method, the oxygen concentration is 1 ppm or less,
Preferably in a nitrogen atmosphere of 0.1 ppm or less 400 ~
The heat treatment is performed at 700 ° C., typically 500 to 600 ° C. In this embodiment, the heat treatment is performed at 550 ° C. for 4 hours.
When a plastic substrate having a low heat-resistant temperature is used as the substrate 501, a laser annealing method is preferably used.

【0247】活性化の工程に続いて、雰囲気ガスを変化
させ、3〜100%の水素を含む雰囲気中で、300〜
450℃で1〜12時間の熱処理を行い、島状半導体層
を水素化する工程を行う。この工程は熱的に励起された
水素により島状半導体層にある1016〜1018/cm3のダ
ングリングボンドを終端する工程である。水素化の他の
手段として、プラズマ水素化(プラズマにより励起され
た水素を用いる)を行っても良い。いずれにしても、島
状半導体層504〜508中の欠陥密度を10 16/cm3
下とすることが望ましく、そのために水素を0.01〜
0.1atomic%程度付与すれば良い。
Following the activation step, the atmosphere gas was changed.
And in an atmosphere containing 3 to 100% hydrogen,
Heat treatment at 450 ° C. for 1 to 12 hours to form an island-shaped semiconductor layer
Is carried out. This process was thermally excited
10 in the island-like semiconductor layer due to hydrogen16-1018/cmThreeNo da
This is a step of terminating the ringing bond. Other hydrogenation
As a means, plasma hydrogenation (excited by plasma
Using hydrogen). In any case, the island
Defect density in the semiconductor layers 504 to 508 is 10 16/cmThreeLess than
It is preferable to set the hydrogen content to 0.01 to
What is necessary is just to give about 0.1 atomic%.

【0248】そして、有機絶縁物材料からなる第2の層
間絶縁膜559を1.0〜2.0μmの平均膜厚で形成
する。有機樹脂材料としては、ポリイミド、アクリル、
ポリアミド、ポリイミドアミド、BCB(ベンゾシクロ
ブテン)等を使用することができる。例えば、基板に塗
布後、熱重合するタイプのポリイミドを用いる場合に
は、クリーンオーブンで300℃で焼成して形成する。
また、アクリルを用いる場合には、2液性のものを用
い、主材と硬化剤を混合した後、スピナーを用いて基板
全面に塗布した後、ホットプレートで80℃で60秒の
予備加熱を行い、さらにクリーンオーブンで250℃で
60分焼成して形成することができる。
Then, a second interlayer insulating film 559 made of an organic insulating material is formed with an average thickness of 1.0 to 2.0 μm. As organic resin materials, polyimide, acrylic,
Polyamide, polyimide amide, BCB (benzocyclobutene) and the like can be used. For example, in the case of using a polyimide of a type that is thermally polymerized after being applied to a substrate, it is formed by firing at 300 ° C. in a clean oven.
In the case of using acrylic, a two-component type is used, and after mixing the main material and the curing agent, the whole surface is applied using a spinner and then pre-heated at 80 ° C. for 60 seconds on a hot plate. Then, it can be formed by firing in a clean oven at 250 ° C. for 60 minutes.

【0249】このように、第2の層間絶縁膜559を有
機絶縁物材料で形成することにより、表面を良好に平坦
化させることができる。また、有機樹脂材料は一般に誘
電率が低いので、寄生容量を低減できる。しかし、吸湿
性があり保護膜としては適さないので、本実施例のよう
に、第1の層間絶縁膜558として形成した酸化シリコ
ン膜、酸化窒化シリコン膜、窒化シリコン膜などと組み
合わせて用いると良い。
As described above, by forming the second interlayer insulating film 559 from an organic insulating material, the surface can be satisfactorily planarized. In addition, since organic resin materials generally have a low dielectric constant, parasitic capacitance can be reduced. However, since it is hygroscopic and is not suitable as a protective film, it is preferable to use it in combination with a silicon oxide film, a silicon oxynitride film, a silicon nitride film, or the like formed as the first interlayer insulating film 558 as in this embodiment. .

【0250】その後、第4のフォトマスク(PM4)を
用い、所定のパターンのレジストマスクを形成し、それ
ぞれの島状半導体層に形成されソース領域またはドレイ
ン領域とする不純物領域に達するコンタクトホールを形
成する。コンタクトホールはドライエッチング法で形成
する。この場合、エッチングガスにCF4、O2、Heの
混合ガスを用い有機樹脂材料から成る第2の層間絶縁膜
559をまずエッチングし、その後、続いてエッチング
ガスをCF4、O2として第1の層間絶縁膜558をエッ
チングする。さらに、島状半導体層との選択比を高める
ために、エッチングガスをCHF3に切り替えて第3の
形状のゲート絶縁膜570をエッチングすることにより
コンタクトホールを形成することができる。
Thereafter, using a fourth photomask (PM4), a resist mask having a predetermined pattern is formed, and a contact hole is formed in each island-like semiconductor layer and reaches an impurity region serving as a source region or a drain region. I do. The contact hole is formed by a dry etching method. In this case, the second interlayer insulating film 559 made of organic resin material using a mixed gas of CF 4, O 2, He as an etching gas is first etched, then followed by the first etching gas as CF 4, O 2 Is etched. Further, in order to increase the selectivity with respect to the island-shaped semiconductor layer, a contact hole can be formed by switching the etching gas to CHF 3 and etching the third shape gate insulating film 570.

【0251】そして、導電性の金属膜をスパッタ法や真
空蒸着法で形成し、第5のフォトマスク(PM5)によ
りレジストマスクパターンを形成し、エッチングによっ
てソース線560〜564とドレイン線565〜568
を形成する。画素電極569はドレイン線と一緒に形成
される。画素電極571は隣の画素に帰属する画素電極
を表している。図示していないが、本実施例ではこの配
線を、Ti膜を50〜150nmの厚さで形成し、島状半
導体層のソースまたはドレイン領域を形成する不純物領
域とコンタクトを形成し、そのTi膜上に重ねてアルミ
ニウム(Al)を300〜400nmの厚さで形成し、さ
らにその上に透明導電膜を80〜120nmの厚さで形成
した。透明導電膜には酸化インジウム酸化亜鉛合金(I
23―ZnO)、酸化亜鉛(ZnO)も適した材料で
あり、さらに可視光の透過率や導電率を高めるためにガ
リウム(Ga)を添加した酸化亜鉛(ZnO:Ga)な
どを好適に用いることができる。
Then, a conductive metal film is formed by a sputtering method or a vacuum evaporation method, a resist mask pattern is formed by a fifth photomask (PM5), and the source lines 560 to 564 and the drain lines 565 to 568 are etched.
To form The pixel electrode 569 is formed together with the drain line. The pixel electrode 571 represents a pixel electrode belonging to an adjacent pixel. Although not shown, in this embodiment, this wiring is formed by forming a Ti film with a thickness of 50 to 150 nm, forming a contact with an impurity region forming a source or drain region of the island-shaped semiconductor layer, and forming the Ti film. Aluminum (Al) was formed to a thickness of 300 to 400 nm on top of it, and a transparent conductive film was formed thereon to a thickness of 80 to 120 nm. Indium oxide zinc oxide alloy (I
n 2 O 3 —ZnO) and zinc oxide (ZnO) are also suitable materials, and zinc oxide (ZnO: Ga) to which gallium (Ga) is added to increase the transmittance and conductivity of visible light is also preferable. Can be used.

【0252】こうして5枚のフォトマスクにより、同一
の基板上に、駆動回路(ソース信号線駆動回路及びゲー
ト信号線駆動回路)のTFTと、画素部の画素TFTと
を有した基板を完成させることができる。駆動回路には
第1のpチャネル型TFT600、第1のnチャネル型
TFT601、第2のpチャネル型TFT602、第2
のnチャネル型TFT603、画素部には画素TFT6
04、保持容量605が形成されている。本明細書では
便宜上このような基板をアクティブマトリクス基板と呼
ぶ。
[0252] In this way, a substrate having TFTs of driver circuits (source signal line driver circuits and gate signal line driver circuits) and pixel TFTs of a pixel portion is completed over the same substrate by using five photomasks. Can be. The driving circuit includes a first p-channel TFT 600, a first n-channel TFT 601, a second p-channel TFT 602, and a second p-channel TFT 602.
N-channel type TFT 603, and the pixel portion has a pixel TFT 6
04, a storage capacitor 605 is formed. In this specification, such a substrate is referred to as an active matrix substrate for convenience.

【0253】第1のpチャネル型TFT600には、第
2のテーパー形状を有する導電層がゲート電極620と
しての機能を有し、島状半導体層504にチャネル形成
領域606、ソース領域またはドレイン領域として機能
する第3の不純物領域607a、ゲート電極620と重
ならないLDD領域を形成する第4の不純物領域(A)
607b、一部がゲート電極620と重なるLDD領域
を形成する第4の不純物領域(B)607cを有する構
造となっている。
In the first p-channel TFT 600, a conductive layer having a second tapered shape has a function as a gate electrode 620, and the island-shaped semiconductor layer 504 serves as a channel formation region 606 and a source region or a drain region. A functioning third impurity region 607a and a fourth impurity region (A) forming an LDD region that does not overlap with the gate electrode 620
607b has a fourth impurity region (B) 607c which forms an LDD region partly overlapping the gate electrode 620.

【0254】第1のnチャネル型TFT601には、第
2のテーパー形状を有する導電層がゲート電極621と
しての機能を有し、島状半導体層505にチャネル形成
領域608、ソース領域またはドレイン領域として機能
する第1の不純物領域609a、ゲート電極621と重
ならないLDD領域を形成する第2の不純物領域(A)
609b、一部がゲート電極621と重なるLDD領域
を形成する第2の不純物領域(B)609cを有する構
造となっている。チャネル長2〜7μmに対して、第2
の不純物領域(B)609cがゲート電極621と重な
る部分の長さは0.1〜0.3μmとする。このLovの
長さはゲート電極621の厚さとテーパー部の角度から
制御する。nチャネル型TFTにおいてこのようなLD
D領域を形成することにより、ドレイン領域近傍に発生
する高電界を緩和して、ホットキャリアの発生を防ぎ、
TFTの劣化を防止することができる。
In the first n-channel TFT 601, a conductive layer having a second tapered shape has a function as the gate electrode 621, and the island-shaped semiconductor layer 505 serves as a channel formation region 608 and a source region or a drain region. A functioning first impurity region 609a and a second impurity region (A) forming an LDD region which does not overlap with the gate electrode 621
609b has a second impurity region (B) 609c which forms an LDD region partly overlapping the gate electrode 621. For a channel length of 2 to 7 μm, the second
The length of the portion where the impurity region (B) 609c overlaps with the gate electrode 621 is 0.1 to 0.3 μm. The length of Lov is controlled from the thickness of the gate electrode 621 and the angle of the tapered portion. Such an LD in an n-channel TFT
By forming the D region, a high electric field generated near the drain region is relieved, and the generation of hot carriers is prevented.
Deterioration of the TFT can be prevented.

【0255】駆動回路の第2のpチャネル型TFT60
2は同様に、第2のテーパー形状を有する導電層がゲー
ト電極622としての機能を有し、島状半導体層506
にチャネル形成領域610、ソース領域またはドレイン
領域として機能する第3の不純物領域611a、ゲート
電極622と重ならないLDD領域を形成する第4の不
純物領域(A)611b、一部がゲート電極622と重
なるLDD領域を形成する第4の不純物領域(B)61
1cを有する構造となっている。
Second p-channel TFT 60 of drive circuit
Similarly, the island-shaped semiconductor layer 506 has a second tapered conductive layer functioning as a gate electrode 622.
A channel formation region 610, a third impurity region 611a functioning as a source region or a drain region, a fourth impurity region (A) 611b forming an LDD region which does not overlap with the gate electrode 622, and a portion overlaps with the gate electrode 622. Fourth impurity region (B) 61 forming LDD region
1c.

【0256】駆動回路の第2のnチャネル型TFT60
3には、第2のテーパー形状を有する導電層がゲート電
極623としての機能を有し、島状半導体層507にチ
ャネル形成領域612、ソース領域またはドレイン領域
として機能する第1の不純物領域613a、ゲート電極
623と重ならないLDD領域を形成する第2の不純物
領域(A)613b、一部がゲート電極623と重なる
LDD領域を形成する第2の不純物領域(B)613c
を有する構造となっている。第2のnチャネル型TFT
601と同様に第2の不純物領域(B)613cがゲー
ト電極623と重なる部分の長さは0.1〜0.3μm
とする。
Second n-channel TFT 60 of drive circuit
3, a conductive layer having a second tapered shape has a function as a gate electrode 623, and a channel formation region 612, a first impurity region 613 a which functions as a source region or a drain region in the island-shaped semiconductor layer 507, Second impurity region (A) 613b forming an LDD region that does not overlap with gate electrode 623, and second impurity region (B) 613c forming an LDD region that partially overlaps with gate electrode 623
It has a structure having. Second n-channel TFT
Similarly to 601, the length of the portion where the second impurity region (B) 613 c overlaps with the gate electrode 623 is 0.1 to 0.3 μm.
And

【0257】駆動回路はシフトレジスタ、バッファ等の
ロジック回路やアナログスイッチで形成されるサンプリ
ング回路などを有している。図21(B)ではこれらを
形成するTFTを一対のソース・ドレイン間に一つのゲ
ート電極を設けたシングルゲートの構造で示したが、複
数のゲート電極を一対のソース・ドレイン間に設けたマ
ルチゲート構造としても差し支えない。
The driving circuit has a logic circuit such as a shift register and a buffer, a sampling circuit formed by analog switches, and the like. In FIG. 21B, the TFTs forming them have a single-gate structure in which one gate electrode is provided between a pair of sources and drains. However, a multi-gate in which a plurality of gate electrodes are provided between a pair of sources and drains is shown. A gate structure may be used.

【0258】画素TFT604には、第2のテーパー形
状を有する導電層がゲート電極624としての機能を有
し、島状半導体層508にチャネル形成領域614a、
614b、ソース領域またはドレイン領域として機能す
る第1の不純物領域615a、616、617a、ゲー
ト電極624と重ならないLDD領域を形成する第2の
不純物領域(A)615b、一部がゲート電極624と
重なるLDD領域を形成する第2の不純物領域(B)6
15cを有する構造となっている。第2の不純物領域
(B)613cがゲート電極624と重なる部分の長さ
は0.1〜0.3μmとする。また、第1の不純物領域
617から延在し、第2の不純物領域(A)619b、
第2の不純物領域(B)619c、導電型を決定する不
純物元素が添加されていない領域618を有する半導体
層と、第3の形状を有するゲート絶縁膜と同層で形成さ
れる絶縁層と、第2のテーパー形状を有する導電層から
形成される容量配線625から保持容量605が形成さ
れている。
In the pixel TFT 604, a conductive layer having a second taper shape has a function as a gate electrode 624, and a channel forming region 614a is formed in the island-shaped semiconductor layer 508.
614b, first impurity regions 615a, 616, 617a functioning as a source region or a drain region, a second impurity region (A) 615b forming an LDD region which does not overlap with the gate electrode 624, part of which overlaps with the gate electrode 624 Second impurity region (B) 6 forming LDD region
15c. The length of the portion where the second impurity region (B) 613c overlaps with the gate electrode 624 is 0.1 to 0.3 μm. Further, the second impurity region (A) 619b extending from the first impurity region 617,
A second impurity region (B) 619c, a semiconductor layer including a region 618 to which an impurity element determining a conductivity type is not added, an insulating layer formed using the same layer as a gate insulating film having a third shape, A storage capacitor 605 is formed from a capacitor wiring 625 formed of a conductive layer having a second tapered shape.

【0259】画素TFT604のゲート電極624はゲ
ート絶縁膜570を介してその下の島状半導体層508
と交差し、さらに複数の島状半導体層に跨って延在して
ゲート信号線を兼ねている。保持容量605は、画素T
FT604のドレイン領域617aから延在する半導体
層とゲート絶縁膜570を介して容量配線625が重な
る領域で形成されている。この構成において半導体層6
18には、価電子制御を目的とした不純物元素は添加さ
れていない。
The gate electrode 624 of the pixel TFT 604 is formed via the gate insulating film 570 with the island-like semiconductor layer 508 thereunder.
And extends over a plurality of island-shaped semiconductor layers to serve also as a gate signal line. The storage capacitor 605 is connected to the pixel T
The capacitor 625 is formed in a region where the semiconductor layer extending from the drain region 617a of the FT 604 and the capacitor wiring 625 overlap with the gate insulating film 570 interposed therebetween. In this configuration, the semiconductor layer 6
18 does not contain an impurity element for controlling valence electrons.

【0260】以上の様な構成は、画素TFTおよび駆動
回路が要求する仕様に応じて各回路を構成するTFTの
構造を最適化し、半導体表示装置の動作性能と信頼性を
向上させることを可能としている。さらにゲート電極
を、耐熱性を有する導電性材料で形成することによりL
DD領域やソース領域およびドレイン領域の活性化を容
易としている。さらに、ゲート電極にゲート絶縁膜を介
して重なるLDD領域を形成する際に、導電型を制御す
る目的で添加した不純物元素に濃度勾配を持たせてLD
D領域を形成することで、特にドレイン領域近傍におけ
る電界緩和効果が高まることが期待できる。
The configuration described above makes it possible to optimize the structure of the TFT constituting each circuit according to the specifications required by the pixel TFT and the driving circuit, and to improve the operation performance and reliability of the semiconductor display device. I have. Further, by forming the gate electrode with a conductive material having heat resistance, L
Activation of the DD region, the source region, and the drain region is facilitated. Further, when forming an LDD region overlapping the gate electrode with a gate insulating film interposed therebetween, the impurity element added for the purpose of controlling the conductivity type is provided with a concentration gradient so that the LDD region is formed.
By forming the D region, it can be expected that the effect of alleviating the electric field particularly near the drain region is enhanced.

【0261】アクティブマトリクス型の液晶表示装置の
場合、第1のpチャネル型TFT600と第1のnチャ
ネル型TFT601は高速動作を重視するシフトレジス
タ、バッファ、レベルシフトなどを形成するのに用い
る。図21(B)ではこれらの回路をロジック回路部と
して表している。第1のnチャネル型TFT601の第
2の不純物領域(B)609cはホットキャリア対策を
重視した構造となっている。さらに、耐圧を高め動作を
安定化させるために、ロジック回路部のTFTを一対の
ソース・ドレイン間に2つのゲート電極を設けたダブル
ゲート構造にしても良い。ダブルゲート構造のTFTは
本実施例の工程を用いて同様に作製できる。
[0261] In the case of an active matrix liquid crystal display device, the first p-channel TFT 600 and the first n-channel TFT 601 are used for forming a shift register, a buffer, a level shift, and the like that emphasize high-speed operation. FIG. 21B illustrates these circuits as logic circuit portions. The second impurity region (B) 609c of the first n-channel TFT 601 has a structure in which measures against hot carriers are emphasized. Further, in order to increase the breakdown voltage and stabilize the operation, the TFT of the logic circuit portion may have a double gate structure in which two gate electrodes are provided between a pair of source and drain. A TFT having a double gate structure can be manufactured in the same manner by using the steps of this embodiment.

【0262】また、アナログスイッチで構成するサンプ
リング回路には、ロジック回路部と同様な構成の第2の
pチャネル型TFT602と第2のnチャネル型TFT
603を適用することができる。サンプリング回路はホ
ットキャリア対策と低オフ電流動作が重視されるので、
サンプリング回路部の第2のpチャネル型TFT602
を、一対のソース領域・ドレイン領域間に3つのゲート
電極を設けたトリプルゲート構造にしても良く、このよ
うなTFTは本実施例の工程を用いて同様に作製でき
る。チャネル長は3〜7μmとして、ゲート電極と重な
るLDD領域をLovとしてそのチャネル長方向の長さは
0.1〜0.3μmとする。
The sampling circuit composed of analog switches includes a second p-channel TFT 602 and a second n-channel TFT having the same configuration as the logic circuit portion.
603 can be applied. Because the sampling circuit emphasizes hot carrier measures and low off-current operation,
Second p-channel TFT 602 in sampling circuit section
May have a triple gate structure in which three gate electrodes are provided between a pair of source and drain regions, and such a TFT can be manufactured in the same manner by using the steps of this embodiment. The channel length is 3 to 7 μm, the LDD region overlapping with the gate electrode is Lov, and the length in the channel length direction is 0.1 to 0.3 μm.

【0263】このように、TFTのゲート電極の構成を
シングルゲート構造とするか、複数のゲート電極を一対
のソース・ドレイン間に設けたマルチゲート構造とする
かは、回路の特性に応じて実施者が適宣選択すれば良
い。
As described above, whether the configuration of the gate electrode of the TFT is a single gate structure or a multi-gate structure in which a plurality of gate electrodes are provided between a pair of sources and drains depends on the characteristics of the circuit. It is only necessary for the person to choose appropriately.

【0264】次に、図22(A)に示すように、図21
(B)の状態のアクティブマトリクス基板に柱状スペー
サから成るスペーサを形成する。スペーサは数μmの粒
子を散布して設ける方法でも良いが、ここでは基板全面
に樹脂膜を形成した後これをパターニングして形成する
方法を採用した。このようなスペーサの材料に限定はな
いが、例えば、JSR社製のNN700を用い、スピナ
ーで塗布した後、露光と現像処理によって所定のパター
ンに形成する。さらにクリーンオーブンなどを用いて、
150〜200℃で加熱して硬化させる。このようにし
て作製されるスペーサは露光と現像処理の条件によって
形状を異ならせることができるが、好ましくは、スペー
サの形状は柱状で頂部が平坦な形状となるようにする
と、対向側の基板を合わせたときに液晶パネルとしての
機械的な強度を確保することができる。形状は円錐状、
角錐状など特別の限定はないが、例えば円錐状としたと
きに具体的には、高さを1.2〜5μmとし、平均半径
を5〜7μm、平均半径と底部の半径との比を1対1.
5とする。このとき側面のテーパー角は±15°以下と
する。
Next, as shown in FIG.
A spacer made of a columnar spacer is formed on the active matrix substrate in the state shown in FIG. The spacer may be provided by scattering particles of several μm, but here, a method of forming a resin film on the entire surface of the substrate and then patterning the resin film is adopted. Although there is no limitation on the material of such a spacer, for example, NN700 manufactured by JSR Co., Ltd. is applied by a spinner, and then formed into a predetermined pattern by exposure and development processing. Using a clean oven, etc.
Heat and cure at 150-200 ° C. The spacer manufactured in this way can have different shapes depending on the conditions of the exposure and development processing.However, preferably, the shape of the spacer is columnar and the top is flat, so that the opposing substrate is When combined, the mechanical strength of the liquid crystal panel can be secured. The shape is conical,
Although there is no particular limitation such as a pyramid shape, for example, when the shape is a cone, specifically, the height is 1.2 to 5 μm, the average radius is 5 to 7 μm, and the ratio of the average radius to the bottom radius is 1 Vs. 1.
5 is assumed. At this time, the taper angle of the side surface is set to ± 15 ° or less.

【0265】スペーサの配置は任意に決定すれば良い
が、好ましくは、図22(A)で示すように、画素部に
おいては画素電極569のコンタクト部631と重ねて
その部分を覆うように柱状スペーサ656を形成すると
良い。コンタクト部631は平坦性が損なわれこの部分
では液晶がうまく配向しなくなるので、このようにして
コンタクト部631にスペーサ用の樹脂を充填する形で
柱状スペーサ656を形成することでスペーサ656近
傍の電界に乱れによる液晶分子の配向の乱れを防止する
ことができる。また、駆動回路のTFT上にもスペーサ
655a〜655eを形成しておく。このスペーサは駆
動回路部の全面に渡って形成しても良いし、図22
(A)で示すようにソース線およびドレイン線を覆うよ
うにして設けても良い。
The arrangement of the spacers may be arbitrarily determined, but preferably, as shown in FIG. 22A, in the pixel portion, the columnar spacer is overlapped with the contact portion 631 of the pixel electrode 569 so as to cover that portion. 656 may be formed. Since the flatness of the contact portion 631 is impaired and the liquid crystal is not well aligned in this portion, the columnar spacer 656 is formed in such a manner that the contact portion 631 is filled with the resin for the spacer. In this way, it is possible to prevent the liquid crystal molecules from being disturbed by the disturbance. Further, spacers 655a to 655e are also formed on the TFT of the driving circuit. This spacer may be formed over the entire surface of the drive circuit section, or as shown in FIG.
The source line and the drain line may be provided as shown in FIG.

【0266】その後、配向膜657を形成する。通常液
晶表示素子の配向膜にはポリイミド樹脂を用いる。配向
膜を形成した後、ラビング処理を施して液晶分子がある
一定のプレチルト角を持って配向するようにした。画素
部に設けた柱状スペーサ656の端部からラビング方向
に対してラビングされない領域が2μm以下となるよう
にした。また、ラビング処理では静電気の発生がしばし
ば問題となるが、駆動回路のTFT上に形成したスペー
サ655a〜655eにより静電気からTFTを保護す
る効果を得ることができる。また図には示さないが、配
向膜657を先に形成してから、スペーサ656、65
5a〜655eを形成した構成としても良い。
Then, an alignment film 657 is formed. Usually, a polyimide resin is used for the alignment film of the liquid crystal display element. After forming the alignment film, a rubbing treatment was performed so that the liquid crystal molecules were aligned with a certain pretilt angle. The area not rubbed in the rubbing direction from the end of the columnar spacer 656 provided in the pixel portion was set to 2 μm or less. In the rubbing treatment, generation of static electricity often poses a problem, but the effect of protecting the TFT from static electricity can be obtained by the spacers 655a to 655e formed on the TFT of the driving circuit. Although not shown in the drawing, after forming the alignment film 657 first, the spacers 656 and 65 are formed.
5a to 655e may be formed.

【0267】対向側の対向基板651には、遮光膜65
2、透明導電膜653および配向膜654を形成する。
遮光膜652はTi膜、Cr膜、Al膜などを150〜
300nmの厚さで形成する。そして、画素部と駆動回路
が形成されたアクティブマトリクス基板と対向基板とを
シール剤658で貼り合わせる。シール剤658にはフ
ィラー(図示せず)が混入されていて、このフィラーと
スペーサ656、655a〜655eによって均一な間
隔を持って2枚の基板が貼り合わせられる。その後、両
基板の間に液晶材料659を注入する。液晶材料には公
知の液晶材料を用いれば良い。例えば、TN液晶の他
に、電場に対して透過率が連続的に変化する電気光学応
答性を示す、無しきい値反強誘電性混合液晶を用いるこ
ともできる。この無しきい値反強誘電性混合液晶には、
V字型の電気光学応答特性を示すものもある。このよう
にして図22(B)に示すアクティブマトリクス型液晶
表示装置が完成する。
On the opposing substrate 651 on the opposing side, a light shielding film 65 is provided.
2. A transparent conductive film 653 and an alignment film 654 are formed.
The light-shielding film 652 includes a Ti film, a Cr film, an Al film,
It is formed with a thickness of 300 nm. Then, the active matrix substrate on which the pixel portion and the driver circuit are formed and the counter substrate are attached with a sealant 658. A filler (not shown) is mixed in the sealant 658, and the two substrates are bonded to each other at a uniform interval by the filler and the spacers 656 and 655a to 655e. After that, a liquid crystal material 659 is injected between the two substrates. A known liquid crystal material may be used as the liquid crystal material. For example, in addition to the TN liquid crystal, a thresholdless antiferroelectric mixed liquid crystal exhibiting electro-optical response in which the transmittance changes continuously with respect to an electric field can be used. In this thresholdless antiferroelectric mixed liquid crystal,
Some exhibit a V-shaped electro-optical response characteristic. Thus, the active matrix liquid crystal display device shown in FIG. 22B is completed.

【0268】本実施例で示した作製方法を用いて形成さ
れたTFTは、半導体層の結晶性が高いため、応答速度
の速さが要求される本発明の半導体表示装置に用いるこ
とは極めて有効である。
A TFT formed by the manufacturing method described in this embodiment has a high crystallinity of a semiconductor layer, and therefore is extremely effective for use in a semiconductor display device of the present invention which requires a high response speed. It is.

【0269】本発明の半導体表示装置の作製方法は、本
実施例において説明した作製方法に限定されない。本発
明の半導体表示装置は公知の方法を用いて作成すること
が可能である。
[0269] The method for manufacturing the semiconductor display device of the present invention is not limited to the manufacturing method described in this embodiment. The semiconductor display device of the present invention can be manufactured by using a known method.

【0270】なお本実施例は、実施例1〜5と自由に組
み合わせることが可能である。
This embodiment can be freely combined with Embodiments 1 to 5.

【0271】(実施例8)本発明は様々な液晶パネルに
用いることができる。即ち、それら液晶パネル(アクテ
ィブマトリクス型液晶ディスプレイ)を表示媒体として
組み込んだ半導体表示装置(電子機器)全てに本発明を
実施できる。
(Embodiment 8) The present invention can be used for various liquid crystal panels. That is, the present invention can be applied to all semiconductor display devices (electronic devices) incorporating these liquid crystal panels (active matrix type liquid crystal displays) as display media.

【0272】その様な電子機器としては、ビデオカメ
ラ、デジタルカメラ、プロジェクター(リア型またはフ
ロント型)、ヘッドマウントディスプレイ(ゴーグル型
ディスプレイ)、ゲーム機、カーナビゲーション、パー
ソナルコンピュータ、携帯情報端末(モバイルコンピュ
ータ、携帯電話または電子書籍等)などが挙げられる。
それらの一例を図23に示す。
As such electronic equipment, a video camera, digital camera, projector (rear or front type), head mounted display (goggle type display), game machine, car navigation, personal computer, portable information terminal (mobile computer) , A mobile phone or an electronic book).
One example of them is shown in FIG.

【0273】図23(A)はディスプレイであり、筐体
2001、支持台2002、表示部2003等を含む。
本発明は表示部2003に適用することができる。
[0273] FIG. 23A shows a display, which includes a housing 2001, a support 2002, a display portion 2003, and the like.
The present invention can be applied to the display portion 2003.

【0274】図23(B)はビデオカメラであり、本体
2101、表示部2102、音声入力部2103、操作
スイッチ2104、バッテリー2105、受像部210
6で構成される。本発明を表示部2102に適用するこ
とができる。
FIG. 23B shows a video camera, which includes a main body 2101, a display portion 2102, an audio input portion 2103, operation switches 2104, a battery 2105, and an image receiving portion 210.
6. The present invention can be applied to the display portion 2102.

【0275】図23(C)は頭部取り付け型のディスプ
レイの一部(右片側)であり、本体2201、信号ケー
ブル2202、頭部固定バンド2203、スクリーン部
2204、光学系2205、表示部2206等を含む。
本発明は表示部2206に適用できる。
FIG. 23C shows a part (right side) of a head-mounted display, which includes a main body 2201, a signal cable 2202, a head fixing band 2203, a screen section 2204, an optical system 2205, a display section 2206, and the like. including.
The present invention can be applied to the display portion 2206.

【0276】図23(D)は記録媒体を備えた画像再生
装置(具体的にはDVD再生装置)であり、本体230
1、記録媒体(DVD等)2302、操作スイッチ23
03、表示部(a)2304、表示部(b)2305等
を含む。表示部(a)2304は主として画像情報を表
示し、表示部(b)2305は主として文字情報を表示
するが、本発明の半導体表示装置はこれら表示部(a)
2304、(b)2305に用いることができる。な
お、記録媒体を備えた画像再生装置には家庭用ゲーム機
器なども含まれる。
FIG. 23D shows an image reproducing apparatus (specifically, a DVD reproducing apparatus) provided with a recording medium.
1, recording medium (DVD or the like) 2302, operation switch 23
03, a display unit (a) 2304, a display unit (b) 2305, and the like. The display portion (a) 2304 mainly displays image information, and the display portion (b) 2305 mainly displays character information. The semiconductor display device of the present invention employs these display portions (a).
2304 and (b) 2305. Note that the image reproducing device provided with the recording medium includes a home game machine and the like.

【0277】図23(E)はパーソナルコンピュータで
あり、本体2401、映像入力部2402、表示部24
03、キーボード2404で構成される。本発明を映像
入力部2402、表示部2403に適用することができ
る。
FIG. 23E shows a personal computer, which includes a main body 2401, a video input section 2402, and a display section 24.
03, a keyboard 2404. The present invention can be applied to the video input unit 2402 and the display unit 2403.

【0278】図23(F)はゴーグル型ディスプレイで
あり、本体2501、表示部2502、アーム部250
3で構成される。本発明は表示部2502に適用するこ
とができる。
FIG. 23F shows a goggle type display, which comprises a main body 2501, a display section 2502, and an arm section 250.
3 The present invention can be applied to the display portion 2502.

【0279】以上の様に、本発明の適用範囲は極めて広
く、あらゆる分野の電子機器に適用することが可能であ
る。また、本実施例の電子機器は実施例1〜7のどのよ
うな組み合わせからなる構成を用いても実現することが
できる。
As described above, the applicable range of the present invention is extremely wide, and can be applied to electronic devices in all fields. Further, the electronic apparatus according to the present embodiment can be realized by using any combination of the embodiments 1 to 7.

【0280】(実施例9)本発明はプロジェクター(リ
ア型またはフロント型)に適用することができる。それ
らの一例を図24及び図25に示す。
(Embodiment 9) The present invention can be applied to a projector (rear type or front type). Examples of these are shown in FIGS.

【0281】図24(A)はフロント型プロジェクター
であり、光源光学系及び表示装置7601、スクリーン
7602で構成される。本発明は表示装置7601に適
用することができる。
FIG. 24A shows a front type projector, which comprises a light source optical system, a display device 7601, and a screen 7602. The present invention can be applied to the display device 7601.

【0282】図24(B)はリア型プロジェクターであ
り、本体7701、光源光学系及び表示装置7702、
ミラー7703、ミラー7704、スクリーン7705
で構成される。本発明は表示装置7702に適用するこ
とができる。
FIG. 24B shows a rear projector, in which a main body 7701, a light source optical system and a display device 7702,
Mirror 7703, mirror 7704, screen 7705
It consists of. The present invention can be applied to the display device 7702.

【0283】なお、図24(C)は、図24(A)及び
図24(B)中における光源光学系及び表示装置760
1、7702の構造の一例を示した図である。光源光学
系及び表示装置7601、7702は、光源光学系78
01、ミラー7802、7804〜7806、ダイクロ
イックミラー7803、光学系7807、表示装置78
08、位相差板7809、投射光学系7810で構成さ
れる。投射光学系7810は、投射レンズを備えた複数
の光学レンズで構成される。この構成は、表示装置78
08を三つ使用しているため三板式と呼ばれている。ま
た、図24(C)中において矢印で示した光路に実施者
が適宜、光学レンズや、偏光機能を有するフィルムや、
位相差を調節するためのフィルム、IRフィルム等を設
けてもよい。
FIG. 24C shows the light source optical system and the display device 760 shown in FIGS. 24A and 24B.
1 is a diagram showing an example of the structure of 7702. FIG. The light source optical system and the display devices 7601 and 7702 are
01, mirrors 7802, 7804 to 7806, dichroic mirror 7803, optical system 7807, display device 78
08, a phase difference plate 7809, and a projection optical system 7810. The projection optical system 7810 includes a plurality of optical lenses provided with a projection lens. This configuration corresponds to the display 78
It is called a three-plate type because it uses three 08s. Further, the practitioner may appropriately place an optical lens, a film having a polarizing function,
A film for adjusting the phase difference, an IR film, or the like may be provided.

【0284】また、図24(D)は、図24(C)中に
おける光源光学系7801の構造の一例を示した図であ
る。本実施例では、光源光学系7801は、リフレクタ
ー7811、光源7812、レンズアレイ7813、7
814、偏光変換素子7815、集光レンズ7816で
構成される。なお、図24(D)に示した光源光学系は
一例であって、この構成に限定されない。例えば、光源
光学系に実施者が適宜、光学レンズや、偏光機能を有す
るフィルムや、位相差を調節するフィルム、IRフィル
ム等を設けてもよい。
FIG. 24D is a diagram showing an example of the structure of the light source optical system 7801 in FIG. In the present embodiment, the light source optical system 7801 includes a reflector 7811, a light source 7812, and lens arrays 7813 and 7813.
814, a polarization conversion element 7815, and a condenser lens 7816. Note that the light source optical system shown in FIG. 24D is an example, and the present invention is not limited to this structure. For example, a practitioner may appropriately provide an optical lens, a film having a polarizing function, a film for adjusting a phase difference, an IR film, or the like to the light source optical system.

【0285】図24(C)は三板式の例を示したが、図
25(A)は単板式の一例を示した図である。図25
(A)に示した光源光学系及び表示装置は、光源光学系
7901、表示装置7902、投射光学系7903、位
相差板7904で構成される。投射光学系7903は、
投射レンズを備えた複数の光学レンズで構成される。図
25(A)に示した光源光学系及び表示装置は図24
(A)及び図24(B)中における光源光学系及び表示
装置7601、7702に適用できる。また、光源光学
系7901は図24(D)に示した光源光学系を用いれ
ばよい。なお、表示装置7902にはカラーフィルター
(図示しない)が設けられており、表示映像をカラー化
している。
FIG. 24 (C) shows an example of a three-plate type, while FIG. 25 (A) shows an example of a single-plate type. FIG.
The light source optical system and the display device illustrated in FIG. 1A include a light source optical system 7901, a display device 7902, a projection optical system 7903, and a retardation plate 7904. The projection optical system 7903 is
It is composed of a plurality of optical lenses provided with a projection lens. The light source optical system and the display device shown in FIG.
24A and 24B can be applied to the light source optical system and the display devices 7601 and 7702. The light source optical system 7901 may use the light source optical system shown in FIG. Note that the display device 7902 is provided with a color filter (not shown) to colorize a display image.

【0286】また、図25(B)に示した光源光学系及
び表示装置は、図25(A)の応用例であり、カラーフ
ィルターを設ける代わりに、RGBの回転カラーフィル
ター円板7905を用いて表示映像をカラー化してい
る。図25(B)に示した光源光学系及び表示装置は図
24(A)及び図24(B)中における光源光学系及び
表示装置7601、7702に適用できる。
The light source optical system and the display device shown in FIG. 25B are an application example of FIG. 25A. Instead of providing a color filter, an RGB rotating color filter disk 7905 is used. The display image is colorized. The light source optical system and the display device shown in FIG. 25B can be applied to the light source optical system and the display devices 7601 and 7702 in FIGS. 24A and 24B.

【0287】また、図25(C)に示した光源光学系及
び表示装置は、カラーフィルターレス単板式と呼ばれて
いる。この方式は、表示装置7916にマイクロレンズ
アレイ7915を設け、ダイクロイックミラー(緑)7
912、ダイクロイックミラー(赤)7913、ダイク
ロイックミラー(青)7914を用いて表示映像をカラ
ー化している。投射光学系7917は、投射レンズを備
えた複数の光学レンズで構成される。図25(C)に示
した光源光学系及び表示装置は図24(A)及び図24
(B)中における光源光学系及び表示装置7601、7
702に適用できる。また、光源光学系7911として
は、光源の他に結合レンズ、コリメータレンズを用いた
光学系を用いればよい。
The light source optical system and the display device shown in FIG. 25C are called a color filterless single plate type. In this method, a microlens array 7915 is provided on a display device 7916, and a dichroic mirror (green) 7 is provided.
912, a dichroic mirror (red) 7913, and a dichroic mirror (blue) 7914 are used to colorize the display image. The projection optical system 7917 includes a plurality of optical lenses provided with a projection lens. The light source optical system and the display device shown in FIG.
(B) Light source optical system and display devices 7601 and 7 in FIG.
702. Further, as the light source optical system 7911, an optical system using a coupling lens and a collimator lens in addition to the light source may be used.

【0288】以上の様に、本発明の適用範囲は極めて広
く、あらゆる分野の電子機器に適用することが可能であ
る。また、本実施例の電子機器は実施例1〜7のどのよ
うな組み合わせからなる構成を用いても実現することが
できる。
As described above, the applicable range of the present invention is extremely wide, and can be applied to electronic devices in all fields. Further, the electronic apparatus according to the present embodiment can be realized by using any combination of the embodiments 1 to 7.

【0289】[0289]

【発明の効果】本発明は上記構成によって、ICに入力
される映像信号の周波数を高くすることなくフレーム周
波数を高くすることができるため、映像信号を生成して
いる電子機器に負担をかけることなく、観察者にチラツ
キや縦縞、横縞及び斜め縞が視認されにくい、鮮明で高
精細な画像の表示を行うことができる。
According to the present invention, since the frame frequency can be increased without increasing the frequency of the video signal input to the IC by the above-described configuration, a burden is imposed on the electronic device generating the video signal. In addition, it is possible to display a clear and high-definition image in which a flicker, vertical stripes, horizontal stripes, and oblique stripes are hardly visually recognized by an observer.

【0290】また、本発明で特にフレーム反転を用いる
ことによって、隣接画素間にディスクリネーションと呼
ばれる現象縞が発生するのを抑え、表示画面全体の明る
さが低減されるのを防ぐことができる。
In addition, by using frame inversion in the present invention, the occurrence of a phenomenon stripe called disclination between adjacent pixels can be suppressed, and the brightness of the entire display screen can be prevented from being reduced. .

【0291】さらに、連続する2つの各フレーム期間に
おいて、各画素に入力される表示信号の電位は対向電極
の電位(対向電位)を基準として反転しているので、画
素部に同じ映像が表示される。上記構成により、各画素
に入力される表示信号の電位の時間的な平均が対向電位
により近くなり、各フレーム期間において異なる表示信
号を各画素に入力している場合に比べて、液晶の劣化を
防ぐのにより有効である。
Further, in two consecutive frame periods, the potential of the display signal input to each pixel is inverted with reference to the potential of the counter electrode (counter potential), so that the same image is displayed in the pixel portion. You. With the above structure, the temporal average of the potential of the display signal input to each pixel becomes closer to the opposite potential, and the deterioration of the liquid crystal is reduced as compared with the case where different display signals are input to each pixel in each frame period. More effective to prevent.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 本発明の半導体表示装置が有するフレームレ
ート変換部のブロック図。
FIG. 1 is a block diagram of a frame rate conversion unit included in a semiconductor display device of the present invention.

【図2】 フレーム周波数変換部のブロック図。FIG. 2 is a block diagram of a frame frequency conversion unit.

【図3】 SDRAMの映像信号の書き込みと読み出し
のタイミングを示す図。
FIG. 3 is a diagram showing write and read timings of a video signal of the SDRAM.

【図4】 本発明の半導体表示装置の画素部及び駆動回
路の図と画素のパターン図。
FIG. 4 is a diagram of a pixel portion and a driving circuit of a semiconductor display device of the present invention, and a pattern diagram of pixels.

【図5】 画素部における選択信号と表示信号のタイミ
ングチャート。
FIG. 5 is a timing chart of a selection signal and a display signal in a pixel portion.

【図6】 フレーム反転駆動時の画素部に入力される表
示信号の極性を示すパターン図。
FIG. 6 is a pattern diagram showing the polarity of a display signal input to a pixel portion during frame inversion driving.

【図7】 ソースライン反転駆動時の画素部に入力され
る表示信号の極性を示すパターン図。
FIG. 7 is a pattern diagram showing the polarity of a display signal input to a pixel portion during source line inversion driving.

【図8】 ゲートライン反転駆動時の画素部に入力され
る表示信号の極性を示すパターン図。
FIG. 8 is a pattern diagram showing the polarity of a display signal input to a pixel portion during gate line inversion driving.

【図9】 ドット反転駆動時の画素部に入力される表示
信号の極性を示すパターン図。
FIG. 9 is a pattern diagram showing the polarity of a display signal input to a pixel portion during dot inversion driving.

【図10】 SDRAMの映像信号の書き込みと読み出
しのタイミングを示す図。
FIG. 10 is a diagram showing timings of writing and reading of a video signal of the SDRAM.

【図11】 SDRAMの映像信号の書き込みと読み出
しのタイミングを示す図。
FIG. 11 is a diagram showing timings of writing and reading of a video signal of the SDRAM.

【図12】 本発明の半導体表示装置が有するフレーム
レート変換部のブロック図。
FIG. 12 is a block diagram of a frame rate conversion unit included in the semiconductor display device of the present invention.

【図13】 SDRAMの映像信号の書き込みと読み出
しのタイミングを示す図。
FIG. 13 is a diagram showing timings of writing and reading of a video signal of the SDRAM.

【図14】 本発明のアナログ駆動の半導体表示装置の
画素部及び駆動回路の図。
FIG. 14 is a diagram of a pixel portion and a driver circuit of an analog drive semiconductor display device of the present invention.

【図15】 ソース信号線駆動回路の回路図。FIG. 15 is a circuit diagram of a source signal line driver circuit.

【図16】 アナログスイッチとレベルシフトの回路
図。
FIG. 16 is a circuit diagram of an analog switch and a level shift.

【図17】 本発明の半導体表示装置が有するフレーム
レート変換部のブロック図。
FIG. 17 is a block diagram of a frame rate converter included in the semiconductor display device of the present invention.

【図18】 本発明のデジタル駆動の半導体表示装置の
画素部及び駆動回路の図。
FIG. 18 is a diagram of a pixel portion and a driver circuit of a digitally driven semiconductor display device of the present invention.

【図19】 半導体表示装置の作製行程を示す図。FIG. 19 illustrates a manufacturing process of a semiconductor display device.

【図20】 半導体表示装置の作製行程を示す図。FIG. 20 illustrates a manufacturing process of a semiconductor display device.

【図21】 半導体表示装置の作製行程を示す図。FIG. 21 illustrates a manufacturing process of a semiconductor display device.

【図22】 半導体表示装置の作製行程を示す図。FIG. 22 illustrates a manufacturing process of a semiconductor display device.

【図23】 本発明を適用した電子機器の図。FIG. 23 is a diagram of an electronic device to which the present invention is applied.

【図24】 本発明を適用したプロジェクターの図。FIG. 24 is a diagram of a projector to which the invention is applied.

【図25】 本発明を適用したプロジェクターの図。FIG. 25 is a diagram of a projector to which the invention is applied.

【図26】 アクティブマトリクス型液晶表示装置の上
面図、及び画素の配置を示す図。
26A and 26B are a top view of an active matrix liquid crystal display device and a diagram showing an arrangement of pixels.

【図27】 交流化駆動における極性パターンを示す
図。
FIG. 27 is a diagram showing a polarity pattern in AC driving.

【図28】 従来のフレーム反転駆動のタイミングチャ
ート図。
FIG. 28 is a timing chart of a conventional frame inversion drive.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) G09G 3/20 631 G09G 3/20 631B 650 650J 680 680V (72)発明者 井上 昇 神奈川県厚木市長谷398番地 株式会社半 導体エネルギー研究所内 Fターム(参考) 2H092 JA24 NA01 PA06 2H093 NA16 NA33 NC13 NC24 NC34 ND10 5C006 AC07 AC24 AC28 AF04 AF05 AF44 BB16 BC16 BF02 EC11 EC13 FA23 5C080 AA10 BB05 DD01 DD06 EE32 FF11 JJ01 JJ02 JJ03 JJ04 JJ06 KK02 KK43 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme court ゛ (Reference) G09G 3/20 631 G09G 3/20 631B 650 650J 680 680V (72) Inventor Noboru Inoue 398 Nagatani, Atsugi-shi, Kanagawa Prefecture Address F-term in Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. (reference) 2H092 JA24 NA01 PA06 2H093 NA16 NA33 NC13 NC24 NC34 ND10 5C006 AC07 AC24 AC28 AF04 AF05 AF44 BB16 BC16 BF02 EC11 EC13 FA23 5C080 AA10 BB05 DD01 DD06 EE32 FF11 JJ03 JJ02JJ02 KK43

Claims (24)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】複数のスイッチング素子と、複数の画素電
極と、対向電極と、フレームレート変換部とを有する半
導体表示装置において、 前記複数のスイッチング素子を介して前記複数の画素電
極に表示信号が入力されており、 前記複数の画素電極に入力される全ての表示信号は、各
フレーム期間中、前記対向電極の電位を基準として同じ
極性を有しており、 前記フレームレート変換部は前記表示信号に同期して動
作しており、 隣接している任意の2つのフレーム期間のうち、後に出
現するフレーム期間において前記複数の画素電極に入力
される表示信号は、先に出現するフレーム期間において
前記複数の画素電極に入力される表示信号の電位を前記
対向電極の電位を基準として反転させた信号であること
を特徴とする半導体表示装置。
1. A semiconductor display device having a plurality of switching elements, a plurality of pixel electrodes, a counter electrode, and a frame rate conversion unit, wherein a display signal is applied to the plurality of pixel electrodes via the plurality of switching elements. All display signals that are input and input to the plurality of pixel electrodes have the same polarity with respect to the potential of the counter electrode during each frame period. The display signals input to the plurality of pixel electrodes in a later appearing frame period of any two adjacent frame periods are synchronized with the plurality of display signals in the earlier appearing frame period. Wherein the potential of the display signal input to the pixel electrode is inverted with respect to the potential of the counter electrode.
【請求項2】複数のスイッチング素子と、複数の画素電
極と、対向電極と、複数のソース信号線と、フレームレ
ート変換部とを有する半導体表示装置において、 前記複数のソース信号線に入力される表示信号は、前記
複数のスイッチング素子を介して前記複数の画素電極に
入力され、 各フレーム期間中、前記複数のソース信号線の隣り合う
ソース信号線には、前記対向電極の電位を基準として互
いに逆の極性を有する表示信号が入力されており、かつ
前記複数のソース信号線のそれぞれに入力される表示信
号は、前記対向電極の電位を基準として常に同じ極性を
有しており、 前記フレームレート変換部は前記表示信号に同期して動
作しており、 隣接している任意の2つのフレーム期間のうち、後に出
現するフレーム期間において前記複数の画素電極に入力
される表示信号は、先に出現するフレーム期間において
前記複数の画素電極に入力される表示信号の電位を前記
対向電極の電位を基準として反転させた信号であること
を特徴とする半導体表示装置。
2. A semiconductor display device having a plurality of switching elements, a plurality of pixel electrodes, a counter electrode, a plurality of source signal lines, and a frame rate conversion unit, wherein the plurality of switching elements are input to the plurality of source signal lines. A display signal is input to the plurality of pixel electrodes via the plurality of switching elements. During each frame period, adjacent source signal lines of the plurality of source signal lines are connected to each other with reference to the potential of the counter electrode. A display signal having a reverse polarity is input, and display signals input to each of the plurality of source signal lines always have the same polarity with reference to the potential of the counter electrode, and the frame rate The conversion unit operates in synchronization with the display signal, and, in any two adjacent frame periods, a plurality of the plurality of adjacent frame periods appear in a later appearing frame period. The display signal input to the pixel electrode is a signal obtained by inverting the potential of the display signal input to the plurality of pixel electrodes in the previously appearing frame period with reference to the potential of the counter electrode. Semiconductor display device.
【請求項3】複数のスイッチング素子と、複数の画素電
極と、対向電極と、複数のソース信号線と、フレームレ
ート変換部とを有する半導体表示装置において、 前記複数のソース信号線に入力される表示信号は、前記
複数のスイッチング素子を介して前記複数の画素電極に
入力され、 各ライン期間中、前記複数のソース信号線の全てに入力
される表示信号は、前記対向電極の電位を基準として常
に同じ極性を有しており、 隣接しているライン期間において、前記複数のソース信
号線に入力される表示信号の極性は、前記対向電極の電
位を基準として互いに反転しており、 前記フレームレート変換部は前記表示信号に同期して動
作しており、 隣接している任意の2つのフレーム期間のうち、後に出
現するフレーム期間において前記複数の画素電極に入力
される表示信号は、先に出現するフレーム期間において
前記複数の画素電極に入力される表示信号の電位を前記
対向電極の電位を基準として反転させた信号であること
を特徴とする半導体表示装置。
3. A semiconductor display device having a plurality of switching elements, a plurality of pixel electrodes, a counter electrode, a plurality of source signal lines, and a frame rate conversion unit, wherein the plurality of switching elements are input to the plurality of source signal lines. A display signal is input to the plurality of pixel electrodes via the plurality of switching elements. During each line period, a display signal input to all of the plurality of source signal lines is based on a potential of the counter electrode. Always have the same polarity, and in adjacent line periods, the polarities of the display signals input to the plurality of source signal lines are inverted with respect to the potential of the counter electrode. The conversion unit operates in synchronization with the display signal, and, in any two adjacent frame periods, the plurality of images in a later appearing frame period. The display signal input to the electrode is a signal obtained by inverting the potential of the display signal input to the plurality of pixel electrodes in the previously appearing frame period with reference to the potential of the counter electrode. Display device.
【請求項4】複数のスイッチング素子と、複数の画素電
極と、対向電極と、複数のソース信号線と、フレームレ
ート変換部とを有する半導体表示装置において、 前記複数のソース信号線に入力される表示信号は、前記
複数のスイッチング素子を介して前記複数の画素電極に
入力され、 各フレーム期間中、前記複数のソース信号線の隣り合う
ソース信号線には、前記対向電極の電位を基準として互
いに逆の極性を有する表示信号が入力されており、 隣接しているライン期間において、前記複数のソース信
号線に入力される表示信号の極性は、前記対向電極の電
位を基準として互いに反転しており、 前記フレームレート変換部は前記表示信号に同期して動
作しており、 隣接している任意の2つのフレーム期間のうち、後に出
現するフレーム期間において前記複数の画素電極に入力
される表示信号は、先に出現するフレーム期間において
前記複数の画素電極に入力される表示信号の電位を前記
対向電極の電位を基準として反転させた信号であること
を特徴とする半導体表示装置。
4. A semiconductor display device having a plurality of switching elements, a plurality of pixel electrodes, a counter electrode, a plurality of source signal lines, and a frame rate conversion section, wherein the plurality of source signal lines are input. A display signal is input to the plurality of pixel electrodes via the plurality of switching elements. During each frame period, adjacent source signal lines of the plurality of source signal lines are connected to each other with reference to the potential of the counter electrode. Display signals having opposite polarities are input, and in adjacent line periods, the polarities of the display signals input to the plurality of source signal lines are inverted with respect to the potential of the counter electrode. The frame rate conversion unit is operating in synchronization with the display signal, and, of any two adjacent frame periods, a frame period that appears later Wherein the display signal input to the plurality of pixel electrodes is a signal obtained by inverting the potential of the display signal input to the plurality of pixel electrodes in the previously appearing frame period with reference to the potential of the counter electrode. A semiconductor display device characterized by the above-mentioned.
【請求項5】複数の画素を有する画素部と、ソース信号
線駆動回路と、フレームレート変換部とを有する半導体
表示装置であって、 前記複数の画素は、スイッチング素子と、画素電極と、
対向電極とをそれぞれ有しており、 前記フレームレート変換部は1つまたは複数のRAMを
有しており、 前記1つのRAM、または前記複数のRAMのいずれか
1つに映像信号が書き込まれ、 前記1つのRAM、または前記複数のRAMのいずれか
1つに書き込まれた映像信号は2回ずつ読み出され、 前記1つのRAM、または前記複数のRAMのいずれか
1つから2回ずつ読み出された映像信号は共にソース信
号線駆動回路に入力され、 前記ソース信号線駆動回路によって2つの表示信号が生
成され、 前記2つの表示信号は互いに極性が反転しており、 前記生成された2つの表示信号は前記スイッチング素子
を介して前記画素電極に入力され、 前記1つのRAM、または前記複数のRAMのいずれか
1つへの映像信号の書き込みと前記1つのRAM、また
は前記複数のRAMのいずれか1つに映像信号を書き込
む期間は、前記書き込まれた映像信号が1回目に読み出
される期間及び2回目に読み出される期間よりも長いこ
とを特徴とする半導体表示装置。
5. A semiconductor display device comprising: a pixel portion having a plurality of pixels; a source signal line driving circuit; and a frame rate converter, wherein the plurality of pixels include a switching element, a pixel electrode,
The frame rate conversion unit has one or a plurality of RAMs, and a video signal is written into one of the one or the plurality of RAMs, The video signal written to the one RAM or any one of the plurality of RAMs is read twice, and the video signal is read twice from the one RAM or any one of the plurality of RAMs twice. The generated video signals are both input to a source signal line driving circuit, two display signals are generated by the source signal line driving circuit, and the two display signals have opposite polarities. A display signal is input to the pixel electrode via the switching element, and a video signal is written to the one RAM or any one of the plurality of RAMs. A period in which the video signal is written to one RAM or any one of the plurality of RAMs is longer than a period in which the written video signal is read for the first time and a period in which the video signal is read for the second time. Semiconductor display device.
【請求項6】複数の画素を有する画素部と、ソース信号
線駆動回路と、フレームレート変換部とを有する半導体
表示装置であって、 前記複数の画素は、スイッチング素子と、画素電極と、
対向電極とをそれぞれ有しており、 前記フレームレート変換部は1つまたは複数のRAMを
有しており、 前記1つのRAM、または前記複数のRAMのいずれか
1つに映像信号が書き込まれ、 前記1つのRAM、または前記複数のRAMのいずれか
1つに書き込まれた映像信号は2回ずつ読み出され、 前記1つのRAM、または前記複数のRAMのいずれか
1つから2回ずつ読み出された映像信号は、共にD/A
変換回路においてアナログに変換されてからソース信号
線駆動回路に入力され、 前記ソース信号線駆動回路によって2つの表示信号が生
成され、 前記2つの表示信号は互いに極性が反転しており、 前記生成された2つの表示信号は前記スイッチング素子
を介して前記画素電極に入力され、 前記1つのRAM、または前記複数のRAMのいずれか
1つに映像信号を書き込む期間は、前記書き込まれた映
像信号が1回目に読み出される期間及び2回目に読み出
される期間よりも長いことを特徴とする半導体表示装
置。
6. A semiconductor display device comprising: a pixel portion having a plurality of pixels; a source signal line driving circuit; and a frame rate conversion portion, wherein the plurality of pixels include a switching element, a pixel electrode,
The frame rate conversion unit has one or a plurality of RAMs, and a video signal is written into one of the one or the plurality of RAMs, The video signal written to the one RAM or any one of the plurality of RAMs is read twice, and the video signal is read twice from the one RAM or any one of the plurality of RAMs twice. D / A
The conversion signal is converted into an analog signal and then input to a source signal line driving circuit. The source signal line driving circuit generates two display signals. The two display signals have inverted polarities. The two display signals are input to the pixel electrodes via the switching elements. During a period in which the video signal is written to the one RAM or any one of the plurality of RAMs, the written video signal is 1 A semiconductor display device, wherein the period is longer than a period during which the second reading is performed and a period during which the second reading is performed.
【請求項7】複数の画素を有する画素部と、ソース信号
線駆動回路と、フレームレート変換部とを有する半導体
表示装置であって、 前記複数の画素は、スイッチング素子と、画素電極と、
対向電極とをそれぞれ有しており、 前記フレームレート変換部は1つまたは複数のRAMを
有しており、 前記1つのRAM、または前記複数のRAMのいずれか
1つに映像信号が書き込まれ、 前記1つのRAM、または前記複数のRAMのいずれか
1つに書き込まれた映像信号は2回ずつ読み出され、 前記1つのRAM、または前記複数のRAMのいずれか
1つから2回ずつ読み出された映像信号は共にソース信
号線駆動回路に入力され、 前記ソース信号線駆動回路によって2つの表示信号が生
成され、 前記2つの表示信号は互いに極性が反転しており、 前記生成された2つの表示信号は前記スイッチング素子
を介して前記画素電極に入力され、 前記画素電極に入力される全ての表示信号は、各フレー
ム期間中、前記対向電極の電位を基準として同じ極性を
有しており、 前記1つのRAM、または前記複数のRAMのいずれか
1つに映像信号を書き込む期間は、前記書き込まれた映
像信号が1回目に読み出される期間及び2回目に読み出
される期間よりも長いことを特徴とする半導体表示装
置。
7. A semiconductor display device comprising: a pixel portion having a plurality of pixels; a source signal line driving circuit; and a frame rate conversion portion, wherein the plurality of pixels include a switching element, a pixel electrode,
The frame rate conversion unit has one or a plurality of RAMs, and a video signal is written into one of the one or the plurality of RAMs, The video signal written to the one RAM or any one of the plurality of RAMs is read twice, and the video signal is read twice from the one RAM or any one of the plurality of RAMs twice. The generated video signals are both input to a source signal line driving circuit, two display signals are generated by the source signal line driving circuit, and the two display signals have opposite polarities. A display signal is input to the pixel electrode via the switching element, and all display signals input to the pixel electrode change the potential of the counter electrode during each frame period. The video signal has the same polarity as a reference, and a period during which the video signal is written to the one RAM or any one of the plurality of RAMs is a period during which the written video signal is read out for the first time and a second time. A semiconductor display device which is longer than a readout period.
【請求項8】複数の画素を有する画素部と、ソース信号
線駆動回路と、フレームレート変換部とを有する半導体
表示装置であって、 前記複数の画素は、スイッチング素子と、画素電極と、
対向電極とをそれぞれ有しており、 前記フレームレート変換部は1つまたは複数のRAMを
有しており、 前記1つのRAM、または前記複数のRAMのいずれか
1つに映像信号が書き込まれ、 前記1つのRAM、または前記複数のRAMのいずれか
1つに書き込まれた映像信号は2回ずつ読み出され、 前記1つのRAM、または前記複数のRAMのいずれか
1つから2回ずつ読み出された映像信号は共にD/A変
換回路においてアナログに変換されてからソース信号線
駆動回路に入力され、 前記ソース信号線駆動回路によって2つの表示信号が生
成され、 前記2つの表示信号は互いに極性が反転しており、 前記生成された2つの表示信号は前記スイッチング素子
を介して前記画素電極に入力され、 前記画素電極に入力される全ての表示信号は、各フレー
ム期間中、前記対向電極の電位を基準として同じ極性を
有しており、 前記1つのRAM、または前記複数のRAMのいずれか
1つに映像信号を書き込む期間は、前記書き込まれた映
像信号が1回目に読み出される期間及び2回目に読み出
される期間よりも長いことを特徴とする半導体表示装
置。
8. A semiconductor display device comprising: a pixel portion having a plurality of pixels; a source signal line driving circuit; and a frame rate conversion portion, wherein the plurality of pixels include a switching element, a pixel electrode,
The frame rate conversion unit has one or a plurality of RAMs, and a video signal is written into one of the one or the plurality of RAMs, The video signal written to the one RAM or any one of the plurality of RAMs is read twice, and the video signal is read twice from the one RAM or any one of the plurality of RAMs twice. The converted video signals are both converted to analog in a D / A conversion circuit and then input to a source signal line driving circuit, where two display signals are generated by the source signal line driving circuit, and the two display signals are mutually polar. Are inverted, and the two generated display signals are input to the pixel electrode via the switching element, and all the display signals input to the pixel electrode are displayed. The signal has the same polarity with respect to the potential of the counter electrode during each frame period, and the period during which a video signal is written to the one RAM or any one of the plurality of RAMs is the period during which the video signal is written. A period in which the video signal is read out for the first time and a period in which the video signal is read out for the second time.
【請求項9】複数の画素を有する画素部と、ソース信号
線駆動回路と、複数のソース信号線と、フレームレート
変換部とを有する半導体表示装置であって、 前記複数の画素は、スイッチング素子と、画素電極と、
対向電極とをそれぞれ有しており、 前記フレームレート変換部は1つまたは複数のRAMを
有しており、 前記1つのRAM、または前記複数のRAMのいずれか
1つに映像信号が書き込まれ、 前記1つのRAM、または前記複数のRAMのいずれか
1つに書き込まれた映像信号は2回ずつ読み出され、 前記1つのRAM、または前記複数のRAMのいずれか
1つから2回ずつ読み出された映像信号は共にソース信
号線駆動回路に入力され、 前記ソース信号線駆動回路によって2つの表示信号が生
成され、 前記2つの表示信号は互いに極性が反転しており、 前記生成された2つの表示信号は前記複数のソース信号
線及び前記スイッチング素子を介して前記画素電極に入
力され、 各フレーム期間中、前記複数のソース信号線の隣り合う
ソース信号線には、前記対向電極の電位を基準として互
いに逆の極性を有する表示信号が入力されており、かつ
前記複数のソース信号線のそれぞれに入力される表示信
号は、前記対向電極の電位を基準として常に同じ極性を
有しており、 前記1つのRAM、または前記複数のRAMのいずれか
1つに映像信号を書き込む期間は、前記書き込まれた映
像信号が1回目に読み出される期間及び2回目に読み出
される期間よりも長いことを特徴とする半導体表示装
置。
9. A semiconductor display device comprising: a pixel portion having a plurality of pixels; a source signal line driving circuit; a plurality of source signal lines; and a frame rate conversion section, wherein the plurality of pixels are switching elements. And a pixel electrode,
The frame rate conversion unit has one or a plurality of RAMs, and a video signal is written into one of the one or the plurality of RAMs, The video signal written to the one RAM or any one of the plurality of RAMs is read twice, and the video signal is read twice from the one RAM or any one of the plurality of RAMs twice. The generated video signals are both input to a source signal line driving circuit, two display signals are generated by the source signal line driving circuit, and the two display signals have opposite polarities. A display signal is input to the pixel electrode via the plurality of source signal lines and the switching element, and a source signal line adjacent to the plurality of source signal lines during each frame period. A display signal having polarities opposite to each other with respect to the potential of the counter electrode is input to the signal line, and a display signal input to each of the plurality of source signal lines changes the potential of the counter electrode. The same polarity is always used as a reference, and a period during which the video signal is written to the one RAM or any one of the plurality of RAMs includes a period during which the written video signal is read out for the first time and a second period. A semiconductor display device, wherein the period is longer than the period of time when data is read out.
【請求項10】複数の画素を有する画素部と、ソース信
号線駆動回路と、複数のソース信号線と、フレームレー
ト変換部とを有する半導体表示装置であって、 前記複数の画素は、スイッチング素子と、画素電極と、
対向電極とをそれぞれ有しており、 前記フレームレート変換部は1つまたは複数のRAMを
有しており、 前記1つのRAM、または前記複数のRAMのいずれか
1つに映像信号が書き込まれ、 前記1つのRAM、または前記複数のRAMのいずれか
1つに書き込まれた映像信号は2回ずつ読み出され、 前記1つのRAM、または前記複数のRAMのいずれか
1つから2回ずつ読み出された映像信号は、共にD/A
変換回路においてアナログに変換されてからソース信号
線駆動回路に入力され、 前記ソース信号線駆動回路によって2つの表示信号が生
成され、 前記2つの表示信号は互いに極性が反転しており、 前記生成された2つの表示信号は前記複数のソース信号
線及び前記スイッチング素子を介して前記画素電極に入
力され、 各フレーム期間中、前記複数のソース信号線の隣り合う
ソース信号線には、前記対向電極の電位を基準として互
いに逆の極性を有する表示信号が入力されており、かつ
前記複数のソース信号線のそれぞれに入力される表示信
号は、前記対向電極の電位を基準として常に同じ極性を
有しており、 前記1つのRAM、または前記複数のRAMのいずれか
1つに映像信号を書き込む期間は、前記書き込まれた映
像信号が1回目に読み出される期間及び2回目に読み出
される期間よりも長いことを特徴とする半導体表示装
置。
10. A semiconductor display device comprising: a pixel portion having a plurality of pixels; a source signal line driving circuit; a plurality of source signal lines; and a frame rate converter, wherein the plurality of pixels are switching elements. And a pixel electrode,
The frame rate conversion unit has one or a plurality of RAMs, and a video signal is written into one of the one or the plurality of RAMs, The video signal written to the one RAM or any one of the plurality of RAMs is read twice, and the video signal is read twice from the one RAM or any one of the plurality of RAMs twice. D / A
The conversion signal is converted into an analog signal and then input to a source signal line driving circuit. The source signal line driving circuit generates two display signals. The two display signals have inverted polarities. The two display signals are input to the pixel electrode via the plurality of source signal lines and the switching element. During each frame period, a source signal line adjacent to the plurality of source signal lines includes the counter electrode. Display signals having polarities opposite to each other with respect to the potential are input, and the display signals input to each of the plurality of source signal lines always have the same polarity with reference to the potential of the counter electrode. In a period during which a video signal is written to the one RAM or any one of the plurality of RAMs, the written video signal is output for the first time. The semiconductor display device comprising longer than the period to be read period and a second time to Desa seen.
【請求項11】複数の画素を有する画素部と、ソース信
号線駆動回路と、複数のソース信号線と、フレームレー
ト変換部とを有する半導体表示装置であって、 前記複数の画素は、スイッチング素子と、画素電極と、
対向電極とをそれぞれ有しており、 前記フレームレート変換部は1つまたは複数のRAMを
有しており、 前記1つのRAM、または前記複数のRAMのいずれか
1つに映像信号が書き込まれ、 前記1つのRAM、または前記複数のRAMのいずれか
1つに書き込まれた映像信号は2回ずつ読み出され、 前記1つのRAM、または前記複数のRAMのいずれか
1つから2回ずつ読み出された映像信号は共にソース信
号線駆動回路に入力され、 前記ソース信号線駆動回路によって2つの表示信号が生
成され、 前記2つの表示信号は互いに極性が反転しており、 前記生成された2つの表示信号は前記複数のソース信号
線及び前記スイッチング素子を介して前記画素電極に入
力され、 各ライン期間中、前記複数のソース信号線の全てに入力
される表示信号は、前記対向電極の電位を基準として常
に同じ極性を有しており、 隣接しているライン期間において、前記複数のソース信
号線に入力される表示信号の極性は、前記対向電極の電
位を基準として互いに反転しており、 前記1つのRAM、または前記複数のRAMのいずれか
1つに映像信号を書き込む期間は、前記書き込まれた映
像信号が1回目に読み出される期間及び2回目に読み出
される期間よりも長いことを特徴とする半導体表示装
置。
11. A semiconductor display device comprising: a pixel portion having a plurality of pixels; a source signal line driving circuit; a plurality of source signal lines; and a frame rate conversion section, wherein the plurality of pixels are switching elements. And a pixel electrode,
The frame rate conversion unit has one or a plurality of RAMs, and a video signal is written into one of the one or the plurality of RAMs, The video signal written to the one RAM or any one of the plurality of RAMs is read twice, and the video signal is read twice from the one RAM or any one of the plurality of RAMs twice. The generated video signals are both input to a source signal line driving circuit, two display signals are generated by the source signal line driving circuit, and the two display signals have opposite polarities. A display signal is input to the pixel electrode via the plurality of source signal lines and the switching element, and is input to all of the plurality of source signal lines during each line period. The display signal always has the same polarity with reference to the potential of the counter electrode. In the adjacent line period, the polarity of the display signal input to the plurality of source signal lines is equal to the potential of the counter electrode. The period during which the video signal is written to the one RAM or any one of the plurality of RAMs is a period during which the written video signal is read for the first time and a period during which the video signal is written at the second time. A semiconductor display device, wherein the period is longer than the period of time.
【請求項12】複数の画素を有する画素部と、ソース信
号線駆動回路と、フレームレート変換部とを有する半導
体表示装置であって、 前記複数の画素は、スイッチング素子と、画素電極と、
対向電極とをそれぞれ有しており、 前記フレームレート変換部は1つまたは複数のRAMを
有しており、 前記1つのRAM、または前記複数のRAMのいずれか
1つに映像信号が書き込まれ、 前記1つのRAM、または前記複数のRAMのいずれか
1つに書き込まれた映像信号は2回ずつ読み出され、 前記1つのRAM、または前記複数のRAMのいずれか
1つから2回ずつ読み出された映像信号は、共にD/A
変換回路においてアナログに変換されてからソース信号
線駆動回路に入力され、 前記ソース信号線駆動回路によって2つの表示信号が生
成され、 前記2つの表示信号は互いに極性が反転しており、 前記生成された2つの表示信号は前記スイッチング素子
を介して前記画素電極に入力され、 各ライン期間中、前記複数のソース信号線の全てに入力
される表示信号は、前記対向電極の電位を基準として常
に同じ極性を有しており、 隣接しているライン期間において、前記複数のソース信
号線に入力される表示信号の極性は、前記対向電極の電
位を基準として互いに反転しており、 前記1つのRAM、または前記複数のRAMのいずれか
1つに映像信号を書き込む期間は、前記書き込まれた映
像信号が1回目に読み出される期間及び2回目に読み出
される期間よりも長いことを特徴とする半導体表示装
置。
12. A semiconductor display device comprising: a pixel portion having a plurality of pixels; a source signal line driving circuit; and a frame rate conversion portion, wherein the plurality of pixels include a switching element, a pixel electrode,
The frame rate conversion unit has one or a plurality of RAMs, and a video signal is written into one of the one or the plurality of RAMs, The video signal written to the one RAM or any one of the plurality of RAMs is read twice, and the video signal is read twice from the one RAM or any one of the plurality of RAMs twice. D / A
The conversion signal is converted into an analog signal and then input to a source signal line driving circuit. The source signal line driving circuit generates two display signals. The two display signals have inverted polarities. The two display signals are input to the pixel electrode via the switching element. During each line period, the display signals input to all of the plurality of source signal lines are always the same with reference to the potential of the counter electrode. The polarities of the display signals input to the plurality of source signal lines in adjacent line periods are inverted with respect to the potential of the counter electrode, and the one RAM, Alternatively, a period in which the video signal is written to any one of the plurality of RAMs is a period in which the written video signal is read for the first time and a period in which the video signal is read for the second time. The semiconductor display device comprising longer than the period issued.
【請求項13】複数の画素を有する画素部と、ソース信
号線駆動回路と、複数のソース信号線と、フレームレー
ト変換部とを有する半導体表示装置であって、 前記複数の画素は、スイッチング素子と、画素電極と、
対向電極とをそれぞれ有しており、 前記フレームレート変換部は1つまたは複数のRAMを
有しており、 前記1つのRAM、または前記複数のRAMのいずれか
1つに映像信号が書き込まれ、 前記1つのRAM、または前記複数のRAMのいずれか
1つに書き込まれた映像信号は2回ずつ読み出され、 前記1つのRAM、または前記複数のRAMのいずれか
1つから2回ずつ読み出された映像信号は共にソース信
号線駆動回路に入力され、 前記ソース信号線駆動回路によって2つの表示信号が生
成され、 前記2つの表示信号は互いに極性が反転しており、 前記生成された2つの表示信号は前記スイッチング素子
を介して前記画素電極に入力され、 各フレーム期間中、前記複数のソース信号線の隣り合う
ソース信号線には、前記対向電極の電位を基準として互
いに逆の極性を有する表示信号が入力されており、 隣接しているライン期間において、前記複数のソース信
号線に入力される表示信号の極性は、前記対向電極の電
位を基準として互いに反転しており、 前記1つのRAM、または前記複数のRAMのいずれか
1つに映像信号を書き込む期間は、前記書き込まれた映
像信号が1回目に読み出される期間及び2回目に読み出
される期間よりも長いことを特徴とする半導体表示装
置。
13. A semiconductor display device comprising: a pixel portion having a plurality of pixels; a source signal line drive circuit; a plurality of source signal lines; and a frame rate conversion section, wherein the plurality of pixels are switching elements. And a pixel electrode,
The frame rate conversion unit has one or a plurality of RAMs, and a video signal is written into one of the one or the plurality of RAMs, The video signal written to the one RAM or any one of the plurality of RAMs is read twice, and the video signal is read twice from the one RAM or any one of the plurality of RAMs twice. The generated video signals are both input to a source signal line driving circuit, two display signals are generated by the source signal line driving circuit, and the two display signals have opposite polarities. A display signal is input to the pixel electrode via the switching element. During each frame period, a source signal line adjacent to the plurality of source signal lines is provided with the counter electrode. Display signals having polarities opposite to each other with respect to the potential are input, and in adjacent line periods, the polarities of the display signals input to the plurality of source signal lines are determined with reference to the potential of the counter electrode. The period during which the video signal is written to the one RAM or any one of the plurality of RAMs is shorter than the period during which the written video signal is read for the first time and the period at which the video signal is read for the second time. Semiconductor display device characterized by having a long length.
【請求項14】複数の画素を有する画素部と、ソース信
号線駆動回路と、複数のソース信号線と、フレームレー
ト変換部とを有する半導体表示装置であって、 前記複数の画素は、スイッチング素子と、画素電極と、
対向電極とをそれぞれ有しており、 前記フレームレート変換部は1つまたは複数のRAMを
有しており、 前記1つのRAM、または前記複数のRAMのいずれか
1つに映像信号が書き込まれ、 前記1つのRAM、または前記複数のRAMのいずれか
1つに書き込まれた映像信号は2回ずつ読み出され、 前記1つのRAM、または前記複数のRAMのいずれか
1つから2回ずつ読み出された映像信号は、共にD/A
変換回路においてアナログに変換されてからソース信号
線駆動回路に入力され、 前記ソース信号線駆動回路によって2つの表示信号が生
成され、 前記2つの表示信号は互いに極性が反転しており、 前記生成された2つの表示信号は前記スイッチング素子
を介して前記画素電極に入力され、 各フレーム期間中、前記複数のソース信号線の隣り合う
ソース信号線には、前記対向電極の電位を基準として互
いに逆の極性を有する表示信号が入力されており、 隣接しているライン期間において、前記複数のソース信
号線に入力される表示信号の極性は、前記対向電極の電
位を基準として互いに反転しており、 前記1つのRAM、または前記複数のRAMのいずれか
1つに映像信号を書き込む期間は、前記書き込まれた映
像信号が1回目に読み出される期間及び2回目に読み出
される期間よりも長いことを特徴とする半導体表示装
置。
14. A semiconductor display device comprising: a pixel portion having a plurality of pixels; a source signal line driving circuit; a plurality of source signal lines; and a frame rate conversion portion, wherein the plurality of pixels are switching elements. And a pixel electrode,
The frame rate conversion unit has one or a plurality of RAMs, and a video signal is written into one of the one or the plurality of RAMs, The video signal written to the one RAM or any one of the plurality of RAMs is read twice, and the video signal is read twice from the one RAM or any one of the plurality of RAMs twice. D / A
The conversion signal is converted into an analog signal and then input to a source signal line driving circuit. The source signal line driving circuit generates two display signals. The two display signals have inverted polarities. The two display signals are input to the pixel electrode via the switching element. During each frame period, the source signal lines adjacent to the plurality of source signal lines are opposite to each other with respect to the potential of the counter electrode. A display signal having a polarity is input, and in adjacent line periods, polarities of the display signals input to the plurality of source signal lines are inverted with respect to a potential of the counter electrode, During the period of writing the video signal to one RAM or any one of the plurality of RAMs, the written video signal is read out for the first time. The semiconductor display device comprising longer than the period to be read period and the second time that.
【請求項15】請求項5乃至請求項14のいずれか1項
において、前記RAMはSRAM、DRAMまたはSD
RAMであることを特徴とする半導体表示装置。
15. The RAM according to claim 5, wherein the RAM is an SRAM, a DRAM or an SD.
A semiconductor display device, which is a RAM.
【請求項16】請求項1乃至請求項15のいずれか1項
において、前記スイッチング素子は、単結晶シリコンを
用いて形成されたトランジスタ、多結晶シリコンを用い
て形成された薄膜トランジスタまたはアモルファスシリ
コンを用いて形成された薄膜トランジスタであることを
特徴とする半導体表示装置。
16. The switching element according to claim 1, wherein the switching element uses a transistor formed using single crystal silicon, a thin film transistor formed using polycrystalline silicon, or amorphous silicon. A semiconductor display device, characterized in that it is a thin film transistor formed by:
【請求項17】請求項1乃至請求項16のいずれか1項
に記載の前記半導体表示装置を用いたコンピュータ。
17. A computer using the semiconductor display device according to any one of claims 1 to 16.
【請求項18】請求項1乃至請求項16のいずれか1項
に記載の前記半導体表示装置を用いたビデオカメラ。
18. A video camera using the semiconductor display device according to any one of claims 1 to 16.
【請求項19】請求項1乃至請求項16のいずれか1項
に記載の前記半導体表示装置を用いたDVDプレーヤ
ー。
19. A DVD player using the semiconductor display device according to any one of claims 1 to 16.
【請求項20】複数のスイッチング素子と、複数の画素
電極と、対向電極と、フレームレート変換部とを有する
半導体表示装置の駆動方法において、 前記複数のスイッチング素子を介して前記複数の画素電
極に表示信号が入力されており、 前記フレームレート変換部は前記表示信号に同期して動
作しており、 隣接している任意の2つのフレーム期間のうち、後に出
現するフレーム期間において前記複数の画素電極に入力
される表示信号は、先に出現するフレーム期間において
前記複数の画素電極に入力される表示信号の極性を前記
対向電極の電位を基準として反転させた信号であること
を特徴とする半導体表示装置の駆動方法。
20. A method of driving a semiconductor display device having a plurality of switching elements, a plurality of pixel electrodes, a counter electrode, and a frame rate conversion unit, wherein the plurality of pixel electrodes are connected to the plurality of pixel electrodes via the plurality of switching elements. A display signal is input, and the frame rate conversion unit is operating in synchronization with the display signal, and the plurality of pixel electrodes are arranged in a frame period that appears later in any two adjacent frame periods. The display signal input to the plurality of pixel electrodes is a signal obtained by inverting the polarity of the display signal input to the plurality of pixel electrodes with respect to the potential of the counter electrode in a frame period that appears earlier. How to drive the device.
【請求項21】複数のスイッチング素子と、複数の画素
電極と、対向電極と、フレームレート変換部とを有する
半導体表示装置の駆動方法において、 前記複数のスイッチング素子を介して前記複数の画素電
極に表示信号が入力されており、 前記複数の画素電極に入力される全ての表示信号は、各
フレーム期間中、前記対向電極の電位を基準として同じ
極性を有しており、 前記フレームレート変換部は前記表示信号に同期して動
作しており、 隣接している任意の2つのフレーム期間のうち、後に出
現するフレーム期間において前記複数の画素電極に入力
される表示信号は、先に出現するフレーム期間において
前記複数の画素電極に入力される表示信号の電位を前記
対向電極の電位を基準として反転させた信号であること
を特徴とする半導体表示装置の駆動方法。
21. A method for driving a semiconductor display device having a plurality of switching elements, a plurality of pixel electrodes, a counter electrode, and a frame rate conversion unit, wherein the plurality of pixel electrodes are connected to the plurality of pixel electrodes via the plurality of switching elements. A display signal is input, and all display signals input to the plurality of pixel electrodes have the same polarity with respect to the potential of the counter electrode during each frame period. The display signal which is operated in synchronization with the display signal and which is input to the plurality of pixel electrodes in a later appearing frame period of any two adjacent frame periods is a frame period which appears earlier. 3. The semiconductor device according to claim 1, wherein the potential of the display signal input to the plurality of pixel electrodes is inverted with reference to the potential of the counter electrode. The driving method of the indicating device.
【請求項22】複数のスイッチング素子と、複数の画素
電極と、対向電極と、複数のソース信号線と、フレーム
レート変換部とを有する半導体表示装置の駆動方法にお
いて、前記複数のソース信号線に入力される表示信号
は、前記複数のスイッチング素子を介して前記複数の画
素電極に入力され、 各フレーム期間中、前記複数のソース信号線の隣り合う
ソース信号線には、前記対向電極の電位を基準として互
いに逆の極性を有する表示信号が入力されており、かつ
前記複数のソース信号線のそれぞれに入力される表示信
号は、前記対向電極の電位を基準として常に同じ極性を
有しており、 前記フレームレート変換部は前記表示信号に同期して動
作しており、 隣接している任意の2つのフレーム期間のうち、後に出
現するフレーム期間において前記複数の画素電極に入力
される表示信号は、先に出現するフレーム期間において
前記複数の画素電極に入力される表示信号の電位を前記
対向電極の電位を基準として反転させた信号であること
を特徴とする半導体表示装置の駆動方法。
22. A method for driving a semiconductor display device having a plurality of switching elements, a plurality of pixel electrodes, a counter electrode, a plurality of source signal lines, and a frame rate conversion section, wherein the plurality of source signal lines are An input display signal is input to the plurality of pixel electrodes via the plurality of switching elements. During each frame period, a potential of the counter electrode is applied to a source signal line adjacent to the plurality of source signal lines. Display signals having polarities opposite to each other as a reference are input, and the display signals input to each of the plurality of source signal lines always have the same polarity with reference to the potential of the counter electrode, The frame rate conversion unit operates in synchronization with the display signal, and in a frame period appearing later, of any two adjacent frame periods. The display signal input to the plurality of pixel electrodes is a signal obtained by inverting the potential of the display signal input to the plurality of pixel electrodes in a previously appearing frame period with reference to the potential of the counter electrode. A method for driving a semiconductor display device.
【請求項23】複数のスイッチング素子と、複数の画素
電極と、対向電極と、複数のソース信号線と、フレーム
レート変換部とを有する半導体表示装置の駆動方法にお
いて、 前記複数のソース信号線に入力される表示信号は、前記
複数のスイッチング素子を介して前記複数の画素電極に
入力され、 各ライン期間中、前記複数のソース信号線の全てに入力
される表示信号は、前記対向電極の電位を基準として常
に同じ極性を有しており、 隣接しているライン期間において、前記複数のソース信
号線に入力される表示信号の極性は、前記対向電極の電
位を基準として互いに反転しており、 前記フレームレート変換部は前記表示信号に同期して動
作しており、 隣接している任意の2つのフレーム期間のうち、後に出
現するフレーム期間において前記複数の画素電極に入力
される表示信号は、先に出現するフレーム期間において
前記複数の画素電極に入力される表示信号の電位を前記
対向電極の電位を基準として反転させた信号であること
を特徴とする半導体表示装置の駆動方法。
23. A method for driving a semiconductor display device having a plurality of switching elements, a plurality of pixel electrodes, a counter electrode, a plurality of source signal lines, and a frame rate conversion unit, wherein: An input display signal is input to the plurality of pixel electrodes via the plurality of switching elements. During each line period, a display signal input to all of the plurality of source signal lines is a potential of the counter electrode. Have the same polarity as a reference, and in adjacent line periods, the polarities of display signals input to the plurality of source signal lines are inverted with respect to the potential of the counter electrode, The frame rate conversion unit operates in synchronization with the display signal, and in any two adjacent frame periods, a frame period that appears later The display signal input to the plurality of pixel electrodes is a signal obtained by inverting the potential of the display signal input to the plurality of pixel electrodes in the previously appearing frame period with reference to the potential of the counter electrode. A method for driving a semiconductor display device.
【請求項24】複数のスイッチング素子と、複数の画素
電極と、対向電極と、複数のソース信号線と、フレーム
レート変換部とを有する半導体表示装置の駆動方法にお
いて、 前記複数のソース信号線に入力される表示信号は、前記
複数のスイッチング素子を介して前記複数の画素電極に
入力され、 各フレーム期間中、前記複数のソース信号線の隣り合う
ソース信号線には、前記対向電極の電位を基準として互
いに逆の極性を有する表示信号が入力されており、 隣接しているライン期間において、前記複数のソース信
号線に入力される表示信号の極性は、前記対向電極の電
位を基準として互いに反転しており、 前記フレームレート変換部は前記表示信号に同期して動
作しており、 隣接している任意の2つのフレーム期間のうち、後に出
現するフレーム期間において前記複数の画素電極に入力
される表示信号は、先に出現するフレーム期間において
前記複数の画素電極に入力される表示信号の電位を前記
対向電極の電位を基準として反転させた信号であること
を特徴とする半導体表示装置の駆動方法。
24. A method for driving a semiconductor display device having a plurality of switching elements, a plurality of pixel electrodes, a counter electrode, a plurality of source signal lines, and a frame rate conversion unit, wherein: An input display signal is input to the plurality of pixel electrodes via the plurality of switching elements. During each frame period, a potential of the counter electrode is applied to a source signal line adjacent to the plurality of source signal lines. Display signals having polarities opposite to each other are input as a reference, and in adjacent line periods, the polarities of the display signals input to the plurality of source signal lines are inverted with respect to the potential of the counter electrode. The frame rate conversion unit is operating in synchronization with the display signal, and appears later in any two adjacent frame periods. The display signal input to the plurality of pixel electrodes in a frame period is a signal obtained by inverting the potential of the display signal input to the plurality of pixel electrodes in the previously appearing frame period with reference to the potential of the counter electrode. A method for driving a semiconductor display device.
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