JP2002096337A - Method for manufacturing plastic sheet having high dimensional stability - Google Patents

Method for manufacturing plastic sheet having high dimensional stability

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JP2002096337A
JP2002096337A JP2000286506A JP2000286506A JP2002096337A JP 2002096337 A JP2002096337 A JP 2002096337A JP 2000286506 A JP2000286506 A JP 2000286506A JP 2000286506 A JP2000286506 A JP 2000286506A JP 2002096337 A JP2002096337 A JP 2002096337A
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To reduce the internal strain remaining in a plastic sheet to ensure dimensional stability, in a method for manufacturing the plastic sheet by irradiating a photosetting resin composition with active energy beam to polymerize and cure the same. SOLUTION: In the method for manufacturing the plastic sheet by irradiating the photosetting resin composition, injected in a cavity, with active energy to polymerize and cure the same, a light path correction mask having a plurality of screens, which are vertical to the length direction of an active energy beam source, at an equal interval is arranged between the active energy beam source and the cavity. The height (b) of the screens of the light path correction mask, the pitch (a) of them and the distance (d) between the active energy beam source and the cavity satisfy formulae: b>=2a and b>=d/2.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、寸法安定性の高い
プラスチックシートの製造方法に関する。詳しくは、光
硬化性樹脂組成物に活性エネルギー線を照射し、重合硬
化させてプラスチックシートを製造する方法の改良に関
する。本発明により得られるプラスチックシートは、パ
ネル製造時の加熱や温水洗浄工程後における寸法変化が
小さく、有機EL表示パネル用、タッチパネル用等の表
示用、光ディスク等の記憶、記録用、太陽電池パネル
用、等の光学部材、特に低複屈折光学部材、殊に液晶表
示パネル用に好適である。
The present invention relates to a method for producing a plastic sheet having high dimensional stability. Specifically, the present invention relates to an improvement in a method for producing a plastic sheet by irradiating a photocurable resin composition with an active energy ray and polymerizing and curing the same. The plastic sheet obtained by the present invention has a small dimensional change after heating or hot water washing step during panel production, for display for organic EL display panel, for touch panel, etc., for storage and recording of optical discs and the like, for solar cell panel And the like, particularly low birefringence optical members, particularly suitable for liquid crystal display panels.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来使用されている液晶表示パネル(セ
ルと呼ばれることがある)は、ガラス板を基板として使
用するものであるが、このようなパネルでは、ガラスの
低密度化と機械的強度の向上に関して限界があるため、
現在要望されている軽量薄型化に対応できない。また生
産性の向上に関しても成形性、加工性の観点から問題点
が指摘されており、プラスチックを基板として用いたパ
ネルに注目が集まっている。
2. Description of the Related Art A conventionally used liquid crystal display panel (sometimes called a cell) uses a glass plate as a substrate. In such a panel, the glass has low density and mechanical strength. Because there is a limit to improving
It cannot respond to the demand for thinner and thinner products. Further, problems have been pointed out from the viewpoints of moldability and workability regarding the improvement of productivity, and attention has been paid to panels using plastic as a substrate.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、ガラス
の代りにプラスチック基板を使用した場合、従来用いら
れているプラスチック基板については、パネルを製造す
る際の、加熱や温水洗浄工程の工程後において、基板の
脱ガスや脱水、吸湿等に伴う寸法変化が大きく、パネル
が完全に設計通りに製造された場合であっても、製造後
に表示不良を来たす。
However, when a plastic substrate is used in place of glass, the conventionally used plastic substrate cannot be used after a heating or hot water washing step in manufacturing a panel. Dimensional change due to degassing, dehydration, moisture absorption, etc. is large, and even if the panel is manufactured completely as designed, display failure occurs after manufacturing.

【0004】特にカラー表示を行うパネルを作製する際
には、この寸法変化が大きな問題となる。通常カラー表
示には、カラーフィルターと呼ばれるR(赤)、G
(緑)、B(青)及びブラックマトリックス(黒)が形
成された基板と、対向基板と呼ばれるこれらの画素のな
い基板が必要となる。このカラーフィルター上に透明電
極をパターニングしたものと、対向基板上に透明電極を
パターニングしたものを、共に配向膜処理した後シール
材を介して貼り合わせ、基板間に液晶を注入することに
より表示用パネルが完成する。このパネル化工程後に基
板が寸法変形を起こすと、下記のような問題が発生す
る。
In particular, when manufacturing a panel for performing color display, this dimensional change poses a serious problem. Normally, color display includes R (red), G called color filters.
A substrate on which (green), B (blue) and black matrix (black) are formed, and a substrate without these pixels called a counter substrate are required. After patterning the transparent electrode on this color filter and patterning the transparent electrode on the opposing substrate, they are treated together with an alignment film and then pasted together via a sealing material, and liquid crystal is injected between the substrates for display. The panel is completed. If the substrate undergoes dimensional deformation after this paneling process, the following problems occur.

【0005】(1)パネル全体又は一部に応力歪みが生
じ耐久性が低下する。 (2)貼り合わせ後の基板が撓み、セルギャップが変化
し、表示品質が低下する。 従って液晶表示パネルを作製する場合には、上記問題を
改良する寸法安定性の高いプラスチック基板が不可欠と
なっている。
(1) Stress distortion occurs on the whole or a part of the panel, and the durability is reduced. (2) The bonded substrate warps, the cell gap changes, and the display quality deteriorates. Therefore, when manufacturing a liquid crystal display panel, a plastic substrate having high dimensional stability which improves the above problem is indispensable.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】本発明者は、かかる事情
に鑑み、パネル化工程後における基板の寸法変化につい
て詳細に検討を行った。パネル化工程においては、主と
して、下記の二つの処理がある。 (1)画素を形成する際のインキ乾燥時や透明電極成膜
時、配向膜焼結時等に行われる加熱処理 (2)画素形成後や透明電極パターニング後、或いは配
向膜処理後に行われる温水洗浄処理 これらの処理の結果、基板は一旦、内部ガスの揮発や吸
水により、寸法収縮或いは寸法膨脹を起こす。その後基
板を常温常湿条件下で保管(例えば23℃、50%R
H、1週間)しておくと、生じた寸法収縮或いは寸法膨
脹によって変化した寸法は、初期の値に漸近する。
In view of such circumstances, the present inventors have studied in detail the dimensional change of the substrate after the panel forming process. The paneling process mainly includes the following two processes. (1) Heat treatment performed at the time of ink drying when forming pixels, formation of a transparent electrode, sintering of an alignment film, and the like. (2) Warm water performed after pixel formation, after transparent electrode patterning, or after alignment film processing. Cleaning Process As a result of these processes, the substrate once undergoes dimensional contraction or dimensional expansion due to volatilization or water absorption of the internal gas. Thereafter, the substrate is stored under normal temperature and normal humidity conditions (for example, 23 ° C., 50% R).
H, one week), the dimension changed by the resulting dimensional contraction or dimensional expansion approaches the initial value.

【0007】ところが、延伸操作等により基板面内に何
らかのストレスや構造上の不均一性がある場合等は、上
記の加熱処理や温水洗浄処理における不均一な内部ガス
揮発や吸水脱水が原因となって、生じた収縮或いは膨脹
によって変化した寸法が、処理後一定時間を経過しても
初期の値に戻らなかったり、或いは継続的に不規則な寸
法変化を起こしたりすることが判明した。
[0007] However, when there is some stress or structural non-uniformity in the substrate surface due to the stretching operation or the like, the above-mentioned non-uniform internal gas volatilization or water absorption dehydration in the heating process or the hot water cleaning process is a cause. As a result, it was found that the dimensions changed due to the resulting shrinkage or expansion did not return to the initial values after a certain period of time after the treatment, or that the dimensions continuously changed irregularly.

【0008】そして、本発明者は、かかる基板の寸法変
化挙動の解析結果、液晶表示パネル用のプラスチックシ
ートとしては、光硬化性樹脂組成物に活性エネルギー線
を照射し、重合硬化させてプラスチックシートを製造す
る際に、活性エネルギー線の照射を均一にすることによ
りシートに残留する内部歪みを低減し、寸法安定性を確
保することができること、また、かかるプラスチックシ
ートとしては、特定の重合性組成物を重合硬化させて得
られるものが好ましいことを見出し、本発明を完成する
に至った。
The inventor of the present invention has analyzed the dimensional change behavior of the substrate and found that, as a plastic sheet for a liquid crystal display panel, a photocurable resin composition was irradiated with active energy rays to polymerize and cure the plastic sheet. In manufacturing, it is possible to reduce the internal strain remaining in the sheet by making the irradiation of active energy rays uniform, to secure dimensional stability, and to use a specific polymerizable composition as such a plastic sheet. It has been found that a product obtained by polymerizing and curing a product is preferable, and the present invention has been completed.

【0009】即ち、本発明の要旨は、キャビティ内に注
入された光硬化性樹脂組成物に活性エネルギー線を照射
し、重合硬化させてプラスチックシートを製造する方法
において、活性エネルギー線光源とキャビティとの間に
活性エネルギー線光源の長さ方向に垂直な複数の等間隔
の衝立を備えた光路補正マスクを配設し、且つ光路補正
マスクの衝立の高さ(b)、そのピッチ(a)、及び活
性エネルギー線光源とキャビティとの距離(d)が下記
式(1)を満足することを特徴とするプラスチックシー
トの製造方法、にある。
That is, the gist of the present invention is to provide a method for producing a plastic sheet by irradiating the photocurable resin composition injected into the cavity with an active energy ray and polymerizing and curing the active energy ray light source and the cavity. An optical path correction mask provided with a plurality of equally spaced partitions perpendicular to the longitudinal direction of the active energy ray light source, and the height (b) of the partition of the optical path correction mask, its pitch (a), And a distance (d) between the active energy ray light source and the cavity satisfies the following formula (1).

【0010】[0010]

【数2】 b≧2a 且つ b≧d/2 (1) (式中、a、b及びdは、それぞれ、衝立のピッチ、衝
立の高さ及び活性エネルギー線光源とキャビティとの距
離を表す)
B ≧ 2a and b ≧ d / 2 (1) (where a, b and d represent the pitch of the screen, the height of the screen, and the distance between the active energy ray light source and the cavity, respectively)

【0011】[0011]

【発明の実施の形態】以下、本発明を詳細に説明する。
本発明のプラスチックシートの製造方法は、キャビティ
内に注入された光硬化性樹脂組成物に活性エネルギー線
を照射し、重合硬化させてプラスチックシートを製造す
る方法において、活性エネルギー線光源とキャビティと
の間に活性エネルギー線光源の長さ方向に垂直な複数の
等間隔の衝立を備えた光路補正マスクを配設し、且つ光
路補正マスクの衝立の高さ(b)、そのピッチ(a)、
及び活性エネルギー線光源とキャビティとの距離(d)
が下記式(1)を満足することを特徴とするものであ
る。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, the present invention will be described in detail.
The method for producing a plastic sheet of the present invention is a method for producing a plastic sheet by irradiating a photocurable resin composition injected into a cavity with an active energy ray and polymerizing and curing the plastic sheet. An optical path correction mask having a plurality of equally spaced partitions perpendicular to the longitudinal direction of the active energy ray light source is disposed therebetween, and the height of the partition of the optical path correction mask (b), its pitch (a),
And the distance between the active energy ray light source and the cavity (d)
Satisfies the following expression (1).

【0012】[0012]

【数3】 b≧2a 且つ b≧d/2 (1) (式中、a、b及びdは、それぞれ、衝立のピッチ、衝
立の高さ及び活性エネルギー線光源とキャビティとの距
離を表す) 本発明により製造されるプラスチックシートについて
は、分子内に二個以上の重合性官能基を有する重合性単
量体を重合硬化させて得られるものであれば特に限定さ
れるものではないが、アクリル系樹脂が好ましく、後述
する特定の光硬化性組成物が特に好ましい。
B ≧ 2a and b ≧ d / 2 (1) (where a, b, and d represent the pitch of the screen, the height of the screen, and the distance between the active energy ray light source and the cavity, respectively) The plastic sheet produced according to the present invention is not particularly limited as long as it is obtained by polymerizing and curing a polymerizable monomer having two or more polymerizable functional groups in a molecule. A system resin is preferable, and a specific photocurable composition described later is particularly preferable.

【0013】以下、この特定の光硬化性組成物、これを
重合硬化させて得られるプラスチックシート(以下、光
硬化性樹脂層又は光硬化性樹脂シートということがあ
る)及びそのシートを用いるプラスチック積層体につい
て述べる。 (光硬化性組成物)本発明に用いられる光硬化性組成物
とは、成分A、B及びCを含有してなるものである。
Hereinafter, the specific photocurable composition, a plastic sheet obtained by polymerizing and curing the composition (hereinafter, sometimes referred to as a photocurable resin layer or a photocurable resin sheet), and a plastic laminate using the sheet. Describe the body. (Photocurable composition) The photocurable composition used in the present invention contains components A, B and C.

【0014】ここで、「含有してなる」とは、挙示成分
A、B及びCの外に、本発明の趣旨を損なわない限り、
少量の補助成分を含有してもよいことを意味する。な
お、「(メタ)アクリル」及び「(メタ)アクリレー
ト」とは、アクリルないしメタクリル及びアクリレート
ないしメタクリレートをそれぞれ総称するものである。
Here, the term "contains" means, in addition to the components A, B and C, unless the purpose of the present invention is impaired.
It means that small amounts of auxiliary components may be contained. In addition, "(meth) acryl" and "(meth) acrylate" are generic names of acryl or methacryl and acrylate or methacrylate, respectively.

【0015】<成分A:含脂環骨格ビス(メタ)アクリ
レート>成分Aは、式(I)で表される脂環式炭化水素
骨格を有するビス(メタ)アクリレート(含脂環骨格ビ
ス(メタ)アクリレート又はビス(メタ)アクリレート
と略記することがある)である。
<Component A: alicyclic skeleton bis (meth) acrylate> Component A is a bis (meth) acrylate having an alicyclic hydrocarbon skeleton represented by the formula (I) (an alicyclic skeleton bis (meth) acrylate). A) acrylate or bis (meth) acrylate).

【0016】[0016]

【化3】 Embedded image

【0017】(式中、R1 及びR2 は、それぞれ独立し
て、水素原子又はメチル基を示し、mは1又は2を示
し、nは0又は1を示し、p及びqは、それぞれ独立し
て0、1又は2を示す) 式(I)の含脂環骨格ビス(メタ)アクリレートの具体
例としては、例えばビス(ヒドロキシ)トリシクロ
[5.2.1.02,6 ]デカン=ジアクリレート、ビス
(ヒドロキシ)トリシクロ[5.2.1.02,6 ]デカ
ン=ジメタクリレート、ビス(ヒドロキシ)トリシクロ
[5.2.1.02,6]デカン=アクリレートメタクリ
レート及びこれらの混合物、ビス(ヒドロキシ)ペンタ
シクロ[6.5.1.13,6 .02,7 .09,13]ペンタ
デカン=ジアクリレート、ビス(ヒドロキシ)ペンタシ
クロ[6.5.1.13,6 .02,7 .09,13]ペンタデ
カン=ジメタクリレート、ビス(ヒドロキシ)ペンタシ
クロ[6.5.1.13,6 .0 2,7 .09,13]ペンタデ
カン=アクリレートメタクリレート及びこれらの混合
物、ビス(ヒドロキシメチル)トリシクロ[5.2.
1.02,6 ]デカン=ジアクリレート、ビス(ヒドロキ
シメチル)トリシクロ[5.2.1.02,6 ]デカン=
ジメタクリレート、ビス(ヒドロキシメチル)トリシク
ロ[5.2.1.02, 6 ]デカン=アクリレートメタク
リレート及びこれらの混合物、ビス(ヒドロキシメチ
ル)ペンタシクロ[6.5.1.13,6 .02,7 .0
9,13]ペンタデカン=ジアクリレート、ビス(ヒドロキ
シメチル)ペンタシクロ[6.5.1.13, 6
2,7 .09,13]ペンタデカン=ジメタクリレート、ビ
ス(ヒドロキシメチル)ペンタシクロ[6.5.1.1
3,6 .02,7 .09,13]ペンタデカン=アクリレートメ
タクリレート及びこれらの混合物、ビス(ヒドロキシエ
チル)トリシクロ[5.2.1.02,6 ]デカン=ジア
クリレート、ビス(ヒドロキシエチル)トリシクロ
[5.2.1.02,6 ]デカン=ジメタクリレート、ビ
ス(ヒドロキシエチル)トリシクロ[5.2.1.0
2,6 ]デカン=アクリレートメタクリレート及びこれら
の混合物、ビス(ヒドロキシエチル)ペンタシクロ
[6.5.1.13,6 .02,7 .09,13]ペンタデカン
=ジアクリレート、ビス(ヒドロキシエチル)ペンタシ
クロ[6.5.1.13,6 .02,7 .09,13]ペンタデ
カン=ジメタクリレート、ビス(ヒドロキシエチル)ペ
ンタシクロ[6.5.1.1 3,6 .02,7 .09,13]ペ
ンタデカン=アクリレートメタクリレート及びこれらの
混合物、等が挙げられる。
(Where R1And RTwoAre independent
Represents a hydrogen atom or a methyl group, and m represents 1 or 2.
And n represents 0 or 1, and p and q are each independently
0, 1 or 2) Specific examples of the alicyclic skeleton bis (meth) acrylate of the formula (I)
Examples include, for example, bis (hydroxy) tricyclo
[5.2.1.02,6] Decane diacrylate, bis
(Hydroxy) tricyclo [5.2.1.02,6 ] Big
Dimethacrylate, bis (hydroxy) tricyclo
[5.2.1.02,6] Decane = acrylate methacrylate
And mixtures thereof, bis (hydroxy) penta
Cyclo [6.5.1.13,6. 02,7. 09,13] Penta
Decane = diacrylate, bis (hydroxy) pentane
Black [6.5.1.13,6. 02,7. 09,13] Pentade
Can = dimethacrylate, bis (hydroxy) pentasi
Black [6.5.1.13,6. 0 2,7. 09,13] Pentade
Can = acrylate methacrylate and mixtures thereof
Product, bis (hydroxymethyl) tricyclo [5.2.
1.02,6] Decane diacrylate, bis (hydroxy
Cimethyl) tricyclo [5.2.1.02,6] Decane =
Dimethacrylate, bis (hydroxymethyl) trisic
B [5.2.1.02, 6] Decane = Acrylate Methac
Acrylates and mixtures thereof, bis (hydroxymethyl
Le) pentacyclo [6.5.1.13,6. 02,7. 0
9,13] Pentadecane diacrylate, bis (hydroxy
Cimethyl) pentacyclo [6.5.1.13, 6.
02,7. 09,13] Pentadecane dimethacrylate, bi
S (hydroxymethyl) pentacyclo [6.5.1.1
3,6. 02,7. 09,13] Pentadecane = acrylate
Tacrylates and their mixtures, bis (hydroxy
Tyl) tricyclo [5.2.1.02,6] Decane-Gia
Acrylate, bis (hydroxyethyl) tricyclo
[5.2.1.02,6] Decane dimethacrylate, bi
Tris (hydroxyethyl) tricyclo [5.2.1.0
2,6] Decane = acrylate methacrylate and these
Of bis (hydroxyethyl) pentacyclo
[6.5.1.13,6. 02,7. 09,13] Pentadecane
= Diacrylate, bis (hydroxyethyl) pentane
Black [6.5.1.13,6. 02,7. 09,13] Pentade
Can = dimethacrylate, bis (hydroxyethyl) pe
Nantacyclo [6.5.1.1 3,6. 02,7. 09,13]
Nantadecane acrylate methacrylate and these
Mixtures and the like.

【0018】これらの中、ビス(ヒドロキシメチル)ト
リシクロ[5.2.1.02,6 ]デカン=ジアクリレー
ト、ビス(ヒドロキシメチル)トリシクロ[5.2.
1.0 2,6 ]デカン=ジメタクリレート、ビス(ヒドロ
キシメチル)トリシクロ[5.2.1.02,6 ]デカン
=アクリレートメタクリレート及びこれらの混合物が好
ましい。
Among these, bis (hydroxymethyl) to
Licyclo [5.2.1.02,6] Decane-diak relay
G, bis (hydroxymethyl) tricyclo [5.2.
1.0 2,6] Decane dimethacrylate, bis (hydro
Xymethyl) tricyclo [5.2.1.02,6] Decane
= Acrylate methacrylate and mixtures thereof are preferred
Good.

【0019】なお、これらのトリシクロデカン化合物及
びペンタシクロデカン化合物は、群内及び/又は群間で
二種以上併用してもよい。本発明に用いる光硬化性組成
物中のビス(メタ)アクリレートの割合は、成分Aと成
分Bとの合計(以下、全アクリレート成分ということが
ある)100重量部に対して70〜99重量部、好まし
くは80〜98重量部、より好ましくは88〜97重量
部、特に好ましくは92〜96重量部である。
These tricyclodecane compounds and pentacyclodecane compounds may be used in combination of two or more in the group and / or between the groups. The proportion of bis (meth) acrylate in the photocurable composition used in the present invention is 70 to 99 parts by weight based on 100 parts by weight of the total of the components A and B (hereinafter, sometimes referred to as all acrylate components). , Preferably 80 to 98 parts by weight, more preferably 88 to 97 parts by weight, particularly preferably 92 to 96 parts by weight.

【0020】ビス(メタ)アクリレートの製造方法につ
いては、特に限定されるものではなく、一般的なエステ
ル合成法(日本化学会編,新実験化学講座,14,有機
化合物の合成と反応(II)(丸善,1977年刊)等に
準拠して行うことができるが、代表的な製造方法として
は、(i)式(1)で表される含脂環骨格ジオール(以
下、式(1)のジオール又はジオールと略記することが
ある)と(メタ)アクリル酸とのエステル化反応による
方法(特開昭62−225508号公報)、
The method for producing bis (meth) acrylate is not particularly limited, and a general ester synthesis method (edited by The Chemical Society of Japan, New Experimental Chemistry Course, 14, Synthesis and Reaction of Organic Compounds (II)) (Maruzen, 1977), and the like. Typical production methods include (i) an alicyclic skeleton diol represented by the formula (1) (hereinafter, a diol of the formula (1)) Or abbreviated as diol) and (meth) acrylic acid by an esterification reaction (JP-A-62-225508).

【0021】[0021]

【化4】 Embedded image

【0022】(式中、mは1又は2であり、nは0又は
1である)なお、式(1)の化合物の具体例としては、
例えばビス(ヒドロキシメチル)トリシクロ[5.2.
1.02,6 ]デカン、ビス(ヒドロキシメチル)ペンタ
シクロ[6.5.1.13,6 .02,7 .09,13]ペンタ
デカン等を挙げることができる。これらの中、ビス(ヒ
ドロキシメチル)トリシクロデカンは、「TCDアルコ
ールDM(ヘキスト社商品名)」として市販されてい
る。
Wherein m is 1 or 2 and n is 0 or 1. Specific examples of the compound of the formula (1) include:
For example, bis (hydroxymethyl) tricyclo [5.2.
1.0 2,6 ] decane, bis (hydroxymethyl) pentacyclo [6.5.1.1 3,6 . 0 2,7 . 0 9,13 ] pentadecane. Among them, bis (hydroxymethyl) tricyclodecane is commercially available as “TCD alcohol DM (trade name of Hoechst)”.

【0023】(ii)ジオールと(メタ)アクリル酸エス
テルとのエステル交換反応による方法、(iii)ジオー
ルと(メタ)アクリル酸ハライドとの反応による方法、
等が挙げられる。これらの中、(i)及び(ii)の方法
が実用的であり、好ましい。
(Ii) a method by a transesterification reaction between a diol and a (meth) acrylate, (iii) a method by a reaction between a diol and a (meth) acrylic halide,
And the like. Among these, the methods (i) and (ii) are practical and preferred.

【0024】(i)のジオールと(メタ)アクリル酸と
のエステル化反応は、ジオール1モルに対して、通常
2.0〜2.6モルの(メタ)アクリル酸を用い、触媒
として、例えば、硫酸、塩酸、リン酸、フッ化硼素、p
−トルエンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、カチオン
型イオン交換樹脂等を用い、通常トルエン、ベンゼン、
へプタン、ヘキサン等の溶媒の存在下、反応により生成
する水を留去しながら行う。また、(ii)のジオールと
(メタ)アクリル酸エステルとのエステル交換反応は、
ジオール1モルに対して、一般的には(メタ)アクリル
酸メチルを通常2.0〜10.0モルを用い、触媒とし
て、例えば、硫酸、P−トルエンスルホン酸、テトラブ
チルチタネート、テトライソプロピルチタネート、カリ
ウムブトキシド等を用い、通常トルエン、ベンゼン、ヘ
プタン、ヘキサン等の溶媒の存在下、反応により生成す
るメタノールを留去しながら行う。
In the esterification reaction between the diol and (meth) acrylic acid in (i), usually 2.0 to 2.6 mol of (meth) acrylic acid is used per 1 mol of the diol, and a catalyst such as , Sulfuric acid, hydrochloric acid, phosphoric acid, boron fluoride, p
Using toluene sulfonic acid, benzene sulfonic acid, cationic ion exchange resin, etc., usually toluene, benzene,
The reaction is performed in the presence of a solvent such as heptane or hexane while distilling off water produced by the reaction. In addition, the transesterification reaction between the diol of (ii) and the (meth) acrylate ester,
Generally, 2.0 to 10.0 mol of methyl (meth) acrylate is used per 1 mol of the diol, and as a catalyst, for example, sulfuric acid, P-toluenesulfonic acid, tetrabutyl titanate, tetraisopropyl titanate , Potassium butoxide or the like, usually in the presence of a solvent such as toluene, benzene, heptane or hexane while distilling off methanol produced by the reaction.

【0025】反応は、重合禁止剤として、例えば、ハイ
ドロキノン、ハイドロキノンモノメチルエーテル、フェ
ノチアジン、銅塩等を用いることができる。これらの反
応においては、反応の進行状況を高速液体クロマトグラ
フ、ガスクロマトグラフ等により分析し、反応が100
%完結する前段階で停止して、反応混合物から未反応の
ジオール、(メタ)アクリル酸、触媒、重合禁止剤、溶
媒、等を除去することにより、ビス(メタ)アクリレー
トとモノ(メタ)アクリレートとの混合物を得ることが
できる。
In the reaction, for example, hydroquinone, hydroquinone monomethyl ether, phenothiazine, copper salt and the like can be used as a polymerization inhibitor. In these reactions, the progress of the reaction was analyzed by high performance liquid chromatography, gas chromatography, etc.
%, The unreacted diol, (meth) acrylic acid, catalyst, polymerization inhibitor, solvent, etc. are removed from the reaction mixture to obtain bis (meth) acrylate and mono (meth) acrylate. And a mixture with

【0026】そして、その混合割合が適当なものについ
ては、本発明に用いる光硬化性組成物の成分Aと成分B
との混合物原料として、そのまま用いることができるの
で、便利であり、好ましい。 <成分B:含脂環骨格モノ(メタ)アクリレート>成分
Bは、式(II)で表される脂環式炭化水素骨格を有する
モノ(メタ)アクリレート(含脂環骨格モノ(メタ)ア
クリレート又はモノ(メタ)アクリレートと略記するこ
とがある)である。
As for those having a proper mixing ratio, components A and B of the photocurable composition used in the present invention are used.
It is convenient and preferable because it can be used as a raw material of a mixture with the above. <Component B: alicyclic skeleton mono (meth) acrylate> Component B is a mono (meth) acrylate having an alicyclic hydrocarbon skeleton represented by the formula (II) (alicyclic skeleton mono (meth) acrylate or Mono (meth) acrylate).

【0027】[0027]

【化5】 Embedded image

【0028】(式中、R3 は水素原子又はメチル基を示
し、mは1又は2を示し、nは0又は1を示し、r及び
sは、それぞれ独立して、0、1又は2を示す) 式(II)の含脂環骨格モノ(メタ)アクリレートの具体
例としては、例えばビス(ヒドロキシ)トリシクロ
[5.2.1.02,6 ]デカン=モノアクリレート、ビ
ス(ヒドロキシ)トリシクロ[5.2.1.02,6 ]デ
カン=モノメタクリレート及びこれらの混合物、ビス
(ヒドロキシ)ペンタシクロ[6.5.1.1 3,6 .0
2,7 .09,13]ペンタデカン=モノアクリレート、ビス
(ヒドロキシ)ペンタシクロ[6.5.1.13,6 .0
2,7 .09,13]ペンタデカン=モノメタクリレート及び
これらの混合物、ビス(ヒドロキシメチル)トリシクロ
[5.2.1.02,6 ]デカン=モノアクリレート、ビ
ス(ヒドロキシメチル)トリシクロ[5.2.1.0
2,6 ]デカン=モノメタクリレート及びこれらの混合
物、ビス(ヒドロキシメチル)ペンタシクロ[6.5.
1.13,6 .02,7 .09,13]ペンタデカン=モノアク
リレート、ビス(ヒドロキシメチル)ペンタシクロ
[6.5.1.13,6 .02,7 .09,13]ペンタデカン
=モノメタクリレート及びこれらの混合物、ビス(ヒド
ロキシエチル)トリシクロ[5.2.1.02,6 ]デカ
ン=モノアクリレート、ビス(ヒドロキシエチル)トリ
シクロ[5.2.1.02,6 ]デカン=モノメタクリレ
ート及びこれらの混合物、ビス(ヒドロキシエチル)ペ
ンタシクロ[6.5.1.13,6 .02,7 .09,13]ペ
ンタデカン=モノアクリレート、ビス(ヒドロキシエチ
ル)ペンタシクロ[6.5.1.13,6.02,7 .0
9,13]ペンタデカン=モノメタクリレート及びこれらの
混合物、等が挙げられる。
(Where RThreeRepresents a hydrogen atom or a methyl group
M represents 1 or 2, n represents 0 or 1, r and
s independently represents 0, 1 or 2) Specific examples of the alicyclic skeleton mono (meth) acrylate of the formula (II)
Examples include, for example, bis (hydroxy) tricyclo
[5.2.1.02,6] Decane = monoacrylate, bi
S (hydroxy) tricyclo [5.2.1.02,6]
Can = monomethacrylate and mixtures thereof, bis
(Hydroxy) pentacyclo [6.5.1.1 3,6. 0
2,7. 09,13] Pentadecane monoacrylate, bis
(Hydroxy) pentacyclo [6.5.1.13,6. 0
2,7. 09,13Pentadecane monomethacrylate and
These mixtures, bis (hydroxymethyl) tricyclo
[5.2.1.02,6] Decane = monoacrylate, bi
S (hydroxymethyl) tricyclo [5.2.1.0
2,6] Decane = monomethacrylate and mixtures thereof
Product, bis (hydroxymethyl) pentacyclo [6.5.
1.13,6. 02,7. 09,13] Pentadecane = Monoac
Relate, bis (hydroxymethyl) pentacyclo
[6.5.1.13,6. 02,7. 09,13] Pentadecane
= Monomethacrylate and mixtures thereof, bis (hydr
Roxyethyl) tricyclo [5.2.1.02,6] Big
= Monoacrylate, bis (hydroxyethyl) tri
Cyclo [5.2.1.02,6] Decane = Monomethacryle
And their mixtures, bis (hydroxyethyl) paper
Nantacyclo [6.5.1.13,6. 02,7. 09,13]
Nantadecane = monoacrylate, bis (hydroxyethyl
Le) pentacyclo [6.5.1.13,6. 02,7. 0
9,13] Pentadecane monomethacrylate and these
Mixtures and the like.

【0029】これらの中、ビス(ヒドロキシメチル)ト
リシクロ[5.2.1.02,6 ]デカン=モノアクリレ
ート、ビス(ヒドロキシメチル)トリシクロ[5.2.
1.02,6 ]デカン=モノメタクリレート及びこれらの
混合物、が好ましい。これらのトリシクロデカン化合物
及びペンタシクロデカン化合物は、群内及び/又は群間
で二種以上併用してもよい。
Among these, bis (hydroxymethyl) tricyclo [5.2.1.0 2,6 ] decane = monoacrylate and bis (hydroxymethyl) tricyclo [5.2.
1.0 2,6 ] decane = monomethacrylate and mixtures thereof are preferred. Two or more of these tricyclodecane compounds and pentacyclodecane compounds may be used in groups and / or between groups.

【0030】本発明に用いる光硬化性組成物中のモノ
(メタ)アクリレートの割合は、全アクリレート成分1
00重量部に対して1〜30重量部、好ましくは2〜2
0重量部、より好ましくは3〜12重量部、特に好まし
くは4〜8重量部である。モノ(メタ)アクリレートの
割合が少なすぎると、硬化樹脂の機械強度改良効果が得
られなくなるし、逆に多すぎると硬化樹脂の耐熱性が低
下する。
The proportion of the mono (meth) acrylate in the photocurable composition used in the present invention is 1% of the total acrylate component.
1 to 30 parts by weight, preferably 2-2 to 100 parts by weight
0 parts by weight, more preferably 3 to 12 parts by weight, particularly preferably 4 to 8 parts by weight. If the proportion of the mono (meth) acrylate is too small, the effect of improving the mechanical strength of the cured resin will not be obtained, and if it is too large, the heat resistance of the cured resin will be reduced.

【0031】かかるモノ(メタ)アクリレートについて
は、式(I)のビス(メタ)アクリレートの合成法の例
えば(i)又は(iii)の方法において、ジオール1モ
ルに対する(メタ)アクリル酸の量を半分の1〜1.3
モルにするとか、(メタ)アクリル酸ハライドの量を半
分の1モルにするとかにして、半エステルが生成する条
件で反応を行うことにより合成することができる。
For such a mono (meth) acrylate, in the method for synthesizing the bis (meth) acrylate of the formula (I), for example, the method of (i) or (iii), the amount of (meth) acrylic acid per 1 mol of diol is determined. Half 1 to 1.3
It can be synthesized by conducting the reaction under the condition that a half ester is formed, for example, by making the amount of the (meth) acrylic halide half the amount of 1 mole.

【0032】しかしながら、前記の式(I)のビス(メ
タ)アクリレートを例えば(i)の方法により合成する
際に、前述したように、反応を途中で停止することによ
り、モノ(メタ)アクリレートの所望量を含むビス(メ
タ)アクリレートの混合物が得られ、これを本発明に用
いる光硬化性組成物の原料としてそのまま使用すること
ができるので、通常は、モノ(メタ)アクリレートを別
途合成するには及ばない。
However, when the bis (meth) acrylate of the formula (I) is synthesized, for example, by the method (i), the reaction is stopped halfway as described above, so that the mono (meth) acrylate Since a mixture of bis (meth) acrylate containing a desired amount is obtained and can be used as it is as a raw material of the photocurable composition used in the present invention, it is usually necessary to separately synthesize mono (meth) acrylate. Does not reach.

【0033】<成分C:少なくとも二官能性のメルカプ
ト化合物>本発明に用いる光硬化性組成物に用いられる
メルカプト化合物は、少なくとも二官能性の、好ましく
は三官能性以上のメルカプト化合物(以下、多官能メル
カプト化合物ということがある)である。少なくとも二
官能性のメルカプト化合物の具体例としては、例えば一
般式(III)、(IV)及び(V)でそれぞれ表される化
合物並びに2,2−ビス(2−ヒドロキシ−3−メルカ
プトプロポキシフェニル)プロパン、1,10−デカン
ジチオール、ジメルカプトトリエチレンジスルフィド、
ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリプ
ロピレングリコールジグリシジルエーテル、のようなジ
グリシジル化合物と硫化水素との反応により合成される
ジメルカプト化合物、等が挙げられる。
<Component C: At least Bifunctional Mercapto Compound> The mercapto compound used in the photocurable composition used in the present invention is at least a difunctional, preferably trifunctional or higher, mercapto compound (hereinafter referred to as polyfunctional compound). A functional mercapto compound). Specific examples of the at least bifunctional mercapto compound include, for example, compounds represented by the general formulas (III), (IV) and (V) and 2,2-bis (2-hydroxy-3-mercaptopropoxyphenyl) Propane, 1,10-decanedithiol, dimercaptotriethylene disulfide,
Dimercapto compounds synthesized by the reaction of a diglycidyl compound such as polyethylene glycol diglycidyl ether and polypropylene glycol diglycidyl ether with hydrogen sulfide, and the like.

【0034】[0034]

【化6】 Embedded image

【0035】(式中、R4 はメチレン基又はエチレン基
を示し、R5 はエーテル酸素を含んでいてもよい炭素数
2〜15の炭化水素残基を示し、aは2〜6の整数を示
す) 式(III)において、R5 はエーテル酸素を含んでいて
もよい炭素数2〜15の炭化水素残基であるが、その具
体例としては、例えばペンタエリスリトール残基、ジペ
ンタエリスリトール残基、トリメチロールプロパン残
基、エチレングリコール残基、ジエチレングリコール残
基、トリエチレングリコール残基、ブタンジオール残
基、等が挙げられる。
(Wherein, R 4 represents a methylene group or an ethylene group, R 5 represents a hydrocarbon residue having 2 to 15 carbon atoms which may contain ether oxygen, and a represents an integer of 2 to 6) In the formula (III), R 5 is a hydrocarbon residue having 2 to 15 carbon atoms which may contain an ether oxygen. Specific examples thereof include, for example, a pentaerythritol residue and a dipentaerythritol residue. , A trimethylolpropane residue, an ethylene glycol residue, a diethylene glycol residue, a triethylene glycol residue, a butanediol residue, and the like.

【0036】式(III)のメルカプト化合物は、2〜6
価のチオグリコール酸エステル又はチオプロピオン酸エ
ステルであるが、その具体例としては、例えば、ペンタ
エリスリトールテトラキス(β−チオプロピオネー
ト)、ペンタエリスリトールテトラキス(チオグリコレ
ート)、トリメチロールプロパントリス(β−チオプロ
ピオネート)、トリメチロールプロパントリス(チオグ
リコレート)、エチレングリコールビス(β−チオプロ
ピオネート)、エチレングリコールビス(チオグリコレ
ート)、ジエチレングリコールビス(β−チオプロピオ
ネート)、ジエチレングリコールビス(チオグリコレー
ト)、トリエチレングリコールビス(β−チオプロピオ
ネート)、トリエチレングリコール(チオグリコレー
ト)、ブタンジオールビス(β−チオプロピオネー
ト)、ブタンジオールビス(チオグリコレート)、ジペ
ンタエリスリトールヘキサキス(β−チオプロピオネー
ト)、ジペンタエリスリトールヘキサキス(チオグリコ
レート)等が挙げられる。
The mercapto compound of the formula (III) is
And thioerythritol tetrakis (β-thiopropionate), pentaerythritol tetrakis (thioglycolate), and trimethylolpropane tris (β -Thiopropionate), trimethylolpropane tris (thioglycolate), ethylene glycol bis (β-thiopropionate), ethylene glycol bis (thioglycolate), diethylene glycol bis (β-thiopropionate), diethylene glycol Bis (thioglycolate), triethylene glycol bis (β-thiopropionate), triethylene glycol (thioglycolate), butanediol bis (β-thiopropionate), butanediol bis (thio Rikoreto), dipentaerythritol hexakis (beta-thiopropionate), dipentaerythritol hexakis (thioglycolate), and the like.

【0037】[0037]

【化7】 Embedded image

【0038】(式中、XはHS−(CH2 b −CO−
(OCH2 CH2 d −(CH2 c−を示す。但し、
b及びcは、それぞれ独立して、1〜8の整数を示し、
dは0、1又は2を示す) 式(IV)の化合物は、ω−チオール基含有イソシアネー
トである。式(IV)の化合物の具体例としては、例え
ば、トリス[2−(β−チオプロピオニルオキシ)エチ
ル]イソシアヌレート、トリス(2−チオグリコニルオ
キシエチル)イソシアヌレート、トリス[2−(β−チ
オグリコニルオキシエトキシ)エチル]イソシアヌレー
ト、トリス(2−チオグリコニルオキシエトキシ)エチ
ル]イソシアヌレート、トリス[3−(β−チオプロピ
オニルオキシ)プロピル]イソシアヌレート、トリス
(3−チオグリコニルオキシプロピル)イソシアヌレー
ト等が挙げられる。
(Wherein X is HS— (CH 2 ) b —CO—
(OCH 2 CH 2) d - (CH 2) c - shows the. However,
b and c each independently represent an integer of 1 to 8,
d represents 0, 1 or 2) The compound of the formula (IV) is an isocyanate containing an ω-thiol group. Specific examples of the compound of the formula (IV) include, for example, tris [2- (β-thiopropionyloxy) ethyl] isocyanurate, tris (2-thioglyconyloxyethyl) isocyanurate, tris [2- (β- Thioglyconyloxyethoxy) ethyl] isocyanurate, tris (2-thioglyconyloxyethoxy) ethyl] isocyanurate, tris [3- (β-thiopropionyloxy) propyl] isocyanurate, tris (3-thioglyconyloxy Propyl) isocyanurate and the like.

【0039】[0039]

【化8】 Embedded image

【0040】(式中、R6 及びR7 は、それぞれ独立し
て、アルキレン基を示し、e及びfは、それぞれ独立し
て、0又は1を示し、gは1又は2を示す) 式(V)の化合物はチオール基含有炭化水素である。式
(V)の化合物の具体例としては、例えばベンゼンジメ
ルカプタン、キシリレンジメルカプタン、4,4′−ジ
メルカプトジフェニルスルフィド、等が挙げられる。
(Wherein R 6 and R 7 each independently represent an alkylene group, e and f each independently represent 0 or 1, and g represents 1 or 2) The compound V) is a thiol group-containing hydrocarbon. Specific examples of the compound of the formula (V) include, for example, benzenedimercaptan, xylylenedimercaptan, 4,4'-dimercaptodiphenylsulfide and the like.

【0041】これらの少なくとも二官能性のメルカプト
化合物の中、式(III)、(IV)及び(V)でそれぞれ
表される化合物が好ましく、これらの化合物の中、三官
能性以上のメルカプト化合物がより好ましく、四官能性
のメルカプト化合物が特に好ましい。本発明に用いる光
硬化性組成物中の少なくとも二官能性のメルカプト化合
物の配合割合は、全アクリレート成分100重量部に対
して1〜15重量部、好ましくは4〜12の重量部であ
る。
Among these at least bifunctional mercapto compounds, compounds represented by the formulas (III), (IV) and (V) are preferable. Among these compounds, trifunctional or higher functional mercapto compounds are preferred. More preferred are tetrafunctional mercapto compounds. The compounding ratio of the at least bifunctional mercapto compound in the photocurable composition used in the present invention is 1 to 15 parts by weight, preferably 4 to 12 parts by weight based on 100 parts by weight of all acrylate components.

【0042】メルカプト化合物の割合が少なすぎると、
硬化樹脂の複屈折が増大するし、逆に多すぎると硬化樹
脂の耐熱性が低下する。本発明に用いる光硬化性組成物
の中から、前記成分Bの含脂環骨格モノ(メタ)アクリ
レートを除いた組成物でも、低複屈折性と高耐熱性の二
つの課題だけであれば解決することが可能である。即
ち、前記成分Aの含脂環骨格ビス(メタ)アクリレート
と前記成分Cの多官能メルカプト化合物よりなる組成物
を光重合硬化させることにより、低複屈折且つ高耐熱性
を有する樹脂が得られる。多官能メルカプト化合物を配
合する理由は、メルカプト化合物中のチオール基が連
鎖移動剤として作用し、重合硬化を緩やかに均一に進行
させることにより、硬化物中の複屈折を大幅に低減す
る。また分子内に二個以上のチオール基を有する多官
能性のメルカプト化合物を用いることにより、前記成分
Aのビス(メタ)アクリレート化合物から形成される三
次元網目構造にメルカプタン化合物が入り込む際、耐熱
性を損なうことなく上記複屈折の問題を解決することが
できる。
If the proportion of the mercapto compound is too small,
The birefringence of the cured resin increases, and if it is too large, the heat resistance of the cured resin decreases. The composition obtained by removing the alicyclic skeleton mono (meth) acrylate of the component B from the photocurable composition used in the present invention can be solved if it has only two problems of low birefringence and high heat resistance. It is possible to That is, a resin having low birefringence and high heat resistance can be obtained by photopolymerizing and curing a composition comprising the alicyclic skeleton bis (meth) acrylate of the component A and the polyfunctional mercapto compound of the component C. The reason for blending the polyfunctional mercapto compound is that the thiol group in the mercapto compound acts as a chain transfer agent, and the polymerization cure proceeds slowly and uniformly, thereby greatly reducing the birefringence in the cured product. In addition, by using a polyfunctional mercapto compound having two or more thiol groups in the molecule, heat resistance when the mercaptan compound enters the three-dimensional network structure formed from the bis (meth) acrylate compound of the component A Can be solved without impairing the birefringence.

【0043】しかしながら、成分Aも成分Cも多官能性
であり、得られる硬化物は高度に架橋された高分子構造
を有するため、耐衝撃性等の機械強度に劣る問題があ
る。この問題は前記成分Bの含脂環骨格モノ(メタ)ア
クリレートを特定の割合配合することにより解決され
る。即ち、高度に架橋された高分子の中に、単官能であ
り、架橋には寄与しない成分Bが入り込むことにより、
架橋密度が適度に制御される。その結果、耐衝撃性等の
機械強度が向上すると共に、成形時の製品割れ等生産歩
留まりの問題を解決することができる。
However, both component A and component C are polyfunctional, and the resulting cured product has a highly crosslinked polymer structure, and thus has a problem of poor mechanical strength such as impact resistance. This problem is solved by blending the alicyclic skeleton mono (meth) acrylate of the component B at a specific ratio. That is, the component B, which is monofunctional and does not contribute to crosslinking, enters the highly crosslinked polymer,
The crosslink density is moderately controlled. As a result, the mechanical strength such as impact resistance is improved, and the problem of production yield such as cracking of the product during molding can be solved.

【0044】重要なのは成分Bを配合した際に、硬化物
の複屈折を増大させたり、耐熱性の低下や吸水率の悪化
を引き起こさないことであるが、本発明における成分B
は、成分Aと同様な脂環骨格を有する(メタ)アクリレ
ートであるため両者の重合速度はほぼ等しく、また相分
離を起こさないため全く複屈折は変化しない。耐熱性や
吸水率に関しても、成分AとBからそれぞれ得られる硬
化物は同様な特性を持つため、性能悪化を引き起こすこ
となく液晶表示用の低複屈折光学部材として十分な性能
を維持している。
It is important that the compound B does not cause an increase in birefringence of the cured product, a decrease in heat resistance or a deterioration in water absorption when the component B is blended.
Is a (meth) acrylate having an alicyclic skeleton similar to that of the component A, so that the polymerization rates of the two are almost equal, and birefringence does not change at all because no phase separation occurs. As for the heat resistance and the water absorption, the cured products obtained from the components A and B have the same characteristics, and thus maintain sufficient performance as a low birefringence optical member for a liquid crystal display without deteriorating the performance. .

【0045】<ラジカル重合開始剤>本発明に用いる光
硬化性組成物の共重合に用いられるラジカル重合開始剤
(以下、光重合開始剤又は光開始剤ということがある)
については、紫外線等の活性エネルギー線によりラジカ
ルを発生するものであれば、特に限定されるものではな
い。その具体例としては、例えば一般式(VI)で表され
る化合物、アセトフェノン系光開始剤及びベンゾフェノ
ン系光開始剤を挙げることができる。
<Radical polymerization initiator> A radical polymerization initiator used for copolymerization of the photocurable composition used in the present invention (hereinafter sometimes referred to as a photopolymerization initiator or a photoinitiator).
Is not particularly limited as long as radicals are generated by active energy rays such as ultraviolet rays. Specific examples thereof include a compound represented by the general formula (VI), an acetophenone-based photoinitiator, and a benzophenone-based photoinitiator.

【0046】[0046]

【化9】 Embedded image

【0047】(式中、R8 はメチル基、メトキシ基又は
塩素原子を示し、nは2又は3の数を示し、Rはフェニ
ル基又はメトキシ基を示す) そして、式(VI)の化合物の具体例としては、例えば
2,6−ジメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキ
シド、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルホ
スフィンオキシド、2,4,6−トリメチルベンゾイル
フェニルホスフィン酸メチルエステル、2,6−ジクロ
ルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、2,6−
ジメトキシベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド等
のアシルホスフィンオキシド及びアシルホスフィン酸エ
ステル類、を挙げることができる。
(Wherein, R 8 represents a methyl group, a methoxy group or a chlorine atom, n represents a number of 2 or 3, and R represents a phenyl group or a methoxy group). Specific examples include, for example, 2,6-dimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, 2,4,6-trimethylbenzoylphenylphosphinic acid methyl ester, 2,6-dichlorobenzoyldiphenyl Phosphine oxide, 2,6-
Acyl phosphine oxides such as dimethoxybenzoyl diphenyl phosphine oxide and acyl phosphinic esters can be mentioned.

【0048】また、アセトフェノン系化合物の具体例と
しては、例えば1−フェニル−2−ヒドロキシ−2−メ
チルプロパン−1−オン、1−ヒドロキシシクロヘキシ
ルフェニルケトン、4−ジフェノキシジクロロアセトフ
ェノン、ジエトキシジアセトフェノン、1−(4−イソ
プロピルフェニル)−2−ヒドロキシ−2−メチルプロ
パン−1−オン、等を挙げることができる。
Specific examples of the acetophenone compound include, for example, 1-phenyl-2-hydroxy-2-methylpropan-1-one, 1-hydroxycyclohexylphenyl ketone, 4-diphenoxydichloroacetophenone, diethoxydiacetphenone. , 1- (4-isopropylphenyl) -2-hydroxy-2-methylpropan-1-one, and the like.

【0049】また、ベンゾフェノン系化合物の具体例と
しては、例えばベンゾフェノン、ベンゾイル安息香酸メ
チル、4−フェニルベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾ
フェノン、3,3′−ジメチル−4−メトキシベンゾフ
ェノン、ジフェノキシベンゾフェノン、等を挙げること
ができる。これらの中、2,4,6−トリメチルベンゾ
イルジフェニルホスフィンオキシド、トリメチルベンゾ
イルフェニルホスフィン酸メチルエステル、1−ヒドロ
キシシクロヘキシルフェニルケトン、ベンゾフェノン及
び、ジフェノキシベンゾフェノンが好ましく、2,4,
6−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシ
ド、ベンゾフェノンが特に好ましい。
Specific examples of the benzophenone-based compound include, for example, benzophenone, methyl benzoylbenzoate, 4-phenylbenzophenone, hydroxybenzophenone, 3,3'-dimethyl-4-methoxybenzophenone, diphenoxybenzophenone, and the like. Can be. Among these, 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, trimethylbenzoylphenylphosphinic acid methyl ester, 1-hydroxycyclohexylphenylketone, benzophenone, and diphenoxybenzophenone are preferable, and 2,4,4
6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide and benzophenone are particularly preferred.

【0050】これらの光重合開始剤は二種以上を併用し
てもよい。なお、光重合開始剤の添加量は、モノマー1
00重量部に対し0.01〜1重量部、好ましくは0.
02〜0.3重量部である。光重合開始剤の添加量が多
すぎると、重合が急激に進行し複屈折の増大をもたらす
だけでなく色相も悪化する。また、少なすぎると組成物
を十分に硬化させることができなくなる。
These photopolymerization initiators may be used in combination of two or more. The amount of the photopolymerization initiator added depends on the amount of the monomer 1
0.01 to 1 part by weight, preferably 0.1 to 100 parts by weight.
02 to 0.3 parts by weight. If the amount of the photopolymerization initiator is too large, the polymerization proceeds rapidly, causing not only an increase in birefringence but also a deterioration in hue. If the amount is too small, the composition cannot be cured sufficiently.

【0051】<補助成分>本発明に用いる低複屈折材料
は成分A、B及びCを含んでなる組成物を重合硬化させ
てなるものであり、この組成物が少量の補助成分を含ん
でもよいことは前記したところである。従って本発明に
用いるプラスチックシート用樹脂は、その硬化前の組成
物100重量部に対し30重量部程度までの量でラジカ
ル重合可能な他の単量体を混合して共重合させて製造す
ることも可能である。その際に用いる他の単量体として
は、例えばメチル(メタ)アクリレート、フェニル(メ
タ)アクリレート、2−ヒドロキシエチル(メタ)アク
リレート、メタクリロイルオキシメチルテトラシクロデ
カン、メタクリロイルオキシメチルテトラシクロドデセ
ン、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエ
チレングリコールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘ
キセンジオールジ(メタ)アクリレート、ビスフェノー
ルAジアクリレート、ビスフェノールAジメタクリレー
ト、ビスフェノールAアクリレートメタクリレート及び
これらの混合物、ビスフェノールAビス[(オキシエチ
ル)エーテル]=ジアクリレート、ビスフェノールAビ
ス[(オキシエチル)エーテル]=ジメタクリレート、
ビスフェノールAビス[(オキシエチル)エーテル]=
アクリレートメタクリレート及びこれらの混合物、テト
ラブロモビスフェノールAビス[(オキシエチル)エー
テル]=ジアクリレート、テトラブロモビスフェノール
Aビス[(オキシエチル)エーテル]=ジメタクリレー
ト、テトラブロモビスフェノールAビス[(オキシエチ
ル)エーテル]=アクリレートメタクリレート及びこれ
らの混合物、ビスフェノールAビス[(ジオキシエチ
ル)エーテル]=ジアクリレート、ビスフェノールAビ
ス[(ジオキシエチル)エーテル]=ジメタクリレー
ト、ビスフェノールAビス[(ジオキシエチル)エーテ
ル]=アクリレートメタクリレート及びこれらの混合
物、ビスフェノールAビス[(ポリオキシエチル)エー
テル]=ジアクリレート、ビスフェノールAビス[(ポ
リオキシエチル)エーテル]=ジメタクリレート、ビス
フェノールAビス[(ポリオキシエチル)エーテル]=
アクリレートメタクリレート、2,2′−ビス[4−
(β−メタクリロイルオキシエトキシ)シクロヘキシ
ル]プロパン、1,4−ビス(メタクリロイルオキシメ
チル)シクロヘキサン、トリメチロールプロパントリ
(メタ)アクリレート等の(メタ)アクリレート化合
物、スチレン、クロルスチレン、ジビニルベンゼン、α
−メチルスチレン等の核及び/又は側鎖置換及び非置換
スチレン等が挙げられる。
<Auxiliary Component> The low birefringence material used in the present invention is obtained by polymerizing and curing a composition containing components A, B and C, and this composition may contain a small amount of an auxiliary component. This is as described above. Therefore, the resin for a plastic sheet used in the present invention is produced by mixing and copolymerizing other radically polymerizable monomers in an amount of up to about 30 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the composition before curing. Is also possible. Other monomers used at that time include, for example, methyl (meth) acrylate, phenyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, methacryloyloxymethyltetracyclodecane, methacryloyloxymethyltetracyclododecene, ethylene Glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, 1,6-hexenediol di (meth) acrylate, bisphenol A diacrylate, bisphenol A dimethacrylate, bisphenol A acrylate methacrylate and mixtures thereof, bisphenol A bis [( [Oxyethyl) ether] = diacrylate, bisphenol A bis [(oxyethyl) ether] = dimethacrylate,
Bisphenol A bis [(oxyethyl) ether] =
Acrylate methacrylate and mixtures thereof, tetrabromobisphenol A bis [(oxyethyl) ether] = diacrylate, tetrabromobisphenol A bis [(oxyethyl) ether] = dimethacrylate, tetrabromobisphenol A bis [(oxyethyl) ether] = acrylate Methacrylates and mixtures thereof, bisphenol A bis [(dioxyethyl) ether] = diacrylate, bisphenol A bis [(dioxyethyl) ether] = dimethacrylate, bisphenol A bis [(dioxyethyl) ether] = acrylate methacrylate and mixtures thereof, bisphenol A bis [(polyoxyethyl) ether] = diacrylate, bisphenol A bis [(polyoxyethyl) ether ] = Dimethacrylate, bisphenol A bis [(polyoxyethylene) ether] =
Acrylate methacrylate, 2,2'-bis [4-
(Β-methacryloyloxyethoxy) cyclohexyl] propane, (meth) acrylate compounds such as 1,4-bis (methacryloyloxymethyl) cyclohexane, trimethylolpropanetri (meth) acrylate, styrene, chlorostyrene, divinylbenzene, α
Nucleus and / or side chain substituted and unsubstituted styrene such as -methylstyrene.

【0052】これらの他の単量体の中でもメタクリロイ
ルオキシメチルシクロドデカン、2,2−ビス[4−
(β−メタクリロイルオキシエトキシ)フェニル]プロ
パン、2,2−ビス[4−(β−メタクリロイルオキシ
エトキシ)シクロヘキシル]プロパン、1,4−ビス
(メタクリロイルオキシメチル)シクロヘキサン、及び
これらの混合物が特に好ましい。
Among these other monomers, methacryloyloxymethylcyclododecane and 2,2-bis [4-
(Β-methacryloyloxyethoxy) phenyl] propane, 2,2-bis [4- (β-methacryloyloxyethoxy) cyclohexyl] propane, 1,4-bis (methacryloyloxymethyl) cyclohexane, and mixtures thereof are particularly preferred.

【0053】補助成分としては、その他にも、酸化防止
剤、紫外線吸収剤、染顔料、充填剤等がある。なお、所
望により添加してもよい紫外線吸収剤については、特に
限定されるものではないが、ベンゾフェノン系のもの
と、トリアゾール系のものが好ましく、これらは単独で
使用してもよく、また二種以上を併用してもよい。
Other auxiliary components include antioxidants, ultraviolet absorbers, dyes and pigments, and fillers. The UV absorbers that may be added as desired are not particularly limited, but benzophenone-based and triazole-based UV absorbers are preferred, and these may be used alone or in combination with two or more. The above may be used in combination.

【0054】その具体例としては、2,4−ジヒドロキ
シベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−メトキシベン
ゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−オクトキシベンゾフ
ェノン、2−ヒドロキシ−4−オクタデシロキシベンゾ
フェノン、2,2′−ジヒドロキシ−4−メトキシベン
ゾフェノン、2,2′−ジヒドロキシ−4,4′−ジメ
トキシベンゾフェノン等のベンゾフェノン系化合物、2
−(2′−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)ベンゾト
リアゾール、2−(2′−ヒドロキシ−3′,5′−ジ
ターシャリーブチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2
−(2′−ヒドロキシ−3′−ターシャリーブチル−
5′−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール等のベンゾ
トリアゾール系化合物を挙げることができる。
Specific examples thereof include 2,4-dihydroxybenzophenone, 2-hydroxy-4-methoxybenzophenone, 2-hydroxy-4-octoxybenzophenone, 2-hydroxy-4-octadecyloxybenzophenone, and 2,2 '. Benzophenone-based compounds such as -dihydroxy-4-methoxybenzophenone and 2,2'-dihydroxy-4,4'-dimethoxybenzophenone;
-(2'-hydroxy-5-methylphenyl) benzotriazole, 2- (2'-hydroxy-3 ', 5'-ditert-butylphenyl) benzotriazole,
-(2'-hydroxy-3'-tert-butyl-
Benzotriazole-based compounds such as 5'-methylphenyl) benzotriazole can be mentioned.

【0055】これらの紫外線吸収剤の割合は、ジエチレ
ン性不飽和単量体100重量部に対して、0.01〜
0.2重量部、好ましくは0.03〜0.1重量部であ
る。紫外線吸収剤の配合割合が、多すぎると、硬化物が
充分に硬化しないが、もしくは、得られた硬化物の内部
均質性が悪くなる。また、少なすぎると、所望の紫外線
カット性が得られなくなる。
The ratio of these ultraviolet absorbers is 0.01 to 100 parts by weight of the diethylenically unsaturated monomer.
0.2 parts by weight, preferably 0.03 to 0.1 parts by weight. If the blending ratio of the ultraviolet absorber is too large, the cured product will not be sufficiently cured, or the obtained cured product will have poor internal homogeneity. On the other hand, if the amount is too small, a desired ultraviolet ray cut property cannot be obtained.

【0056】(プラスチックシートの製造) <光硬化性組成物の重合>本発明においては、キャビテ
ィ内に注入された光硬化性樹脂組成物は、ラジカル重合
開始剤の存在下に活性エネルギー線を照射することによ
り容易に重合硬化(共重合、光重合、光重合硬化又は光
硬化ということがある)させることができる。
(Production of Plastic Sheet) <Polymerization of Photocurable Composition> In the present invention, the photocurable resin composition injected into the cavity is irradiated with an active energy ray in the presence of a radical polymerization initiator. By doing so, it can be easily polymerized and cured (sometimes referred to as copolymerization, photopolymerization, photopolymerization curing or photocuring).

【0057】活性エネルギー線については、ラジカル重
合開始剤に作用してラジカルを発生させるものであれば
特に限定されるものではなく、例えば電子線、紫外線等
を用いることができる。これらの中、樹脂及び重合開始
剤の種類、量を参酌して、200〜400nmの紫外線
を0.1〜200jの範囲で照射するのが好ましい。照
射が極端に少ない場合は重合が不完全なため硬化物の耐
熱性、機械特性が十分に発現されず、逆に極端な過剰な
場合は硬化物の黄変等の光による劣化を生じるので好ま
しくない。
The active energy ray is not particularly limited as long as it acts on the radical polymerization initiator to generate a radical. For example, an electron beam, ultraviolet light, or the like can be used. Among these, it is preferable to irradiate ultraviolet rays of 200 to 400 nm in the range of 0.1 to 200 j in consideration of the types and amounts of the resin and the polymerization initiator. If the irradiation is extremely small, the polymerization is incomplete, and the heat resistance and mechanical properties of the cured product are not sufficiently exhibited. Conversely, if the irradiation is excessive, the cured product is deteriorated by light such as yellowing, which is preferable. Absent.

【0058】(キャビティ)本発明においては、活性エ
ネルギーを通過可能な二枚の相対する平板(以下「成形
型」という)を用い、スペーサー等によりキャビティを
形成させ周辺部をシールしてなる型をキャビティと称す
る。成形型の材質は、硬化後のシートの表面平滑性を考
慮し、好ましくはガラスを用い、光硬化性樹脂を硬化さ
せるのに十分な活性エネルギー線の透過性を持ち、熱等
による容易にその形状を変化させないものであればよ
い。また、ガラスと同等な表面平滑性が得られるアクリ
ル板等のプラスチック等が挙げられる。
(Cavity) In the present invention, two opposing flat plates (hereinafter referred to as "molds") capable of passing active energy are used, a cavity is formed by a spacer or the like, and a peripheral portion is sealed. Called cavity. The material of the molding die is preferably made of glass in consideration of the surface smoothness of the sheet after curing, and has sufficient transmittance of active energy rays to cure the photocurable resin, and is easily formed by heat or the like. What is necessary is just a thing which does not change a shape. Further, plastics such as an acrylic plate which can obtain surface smoothness equivalent to that of glass can be used.

【0059】成形型の面内厚み精度が高く、又面内透過
性のバラツキが小さいと、硬化反応が均一になるため、
寸法安定性のより良好なプラスチックシートが得られ
る。その好ましい面内厚み精度は±3%以内、好ましく
は面内透過性のバラツキの範囲は、透過率±1%以内で
ある。また、必要により成形型上に剥離剤等の塗布、又
は剥離層を設け、硬化後の光硬化性樹脂シートを成形型
より除去しやすくなる処理を行うこともできる。用いる
剥離剤、剥離層、その塗布方法等については特に限定さ
れるものではないが、光硬化性樹脂を硬化させるに十分
な活性エネルギー線の透過性を持つ物質であり、更に、
光硬化性樹脂を硬化させるための活性エネルギー線や硬
化時に発生する熱等により容易にその形成状態を変形し
ない物質であり、ガラス表面並の平面性が得られる物質
であればよい。
If the in-plane thickness accuracy of the mold is high and the variation in the in-plane permeability is small, the curing reaction becomes uniform.
A plastic sheet having better dimensional stability can be obtained. The preferable in-plane thickness accuracy is within ± 3%, and the range of the in-plane transmittance is preferably within ± 1%. Further, if necessary, a coating of a release agent or the like or a release layer may be provided on the molding die, and a treatment for easily removing the cured photocurable resin sheet from the molding die may be performed. The release agent to be used, the release layer, its application method and the like are not particularly limited, but a substance having a sufficient transmittance of active energy rays to cure the photocurable resin,
It is a substance which does not easily change its state of formation due to active energy rays for curing the photocurable resin or heat generated at the time of curing, and may be any substance capable of obtaining a flatness comparable to a glass surface.

【0060】キャビティを形成させるスペーサー等につ
いては特に限定されないが、所望の厚み及び厚み精度の
シートが得られるものであればよい。例えば、シリコン
ゴム等のゴム製、金属製の板若しくは棒状のもの、テフ
ロン(登録商標)等の樹脂製の板若しくは棒状のものが
挙げられる。スペーサー精度は厚みの±5%以内、より
好ましくは±3%以内になるようにする。精度がこれよ
りも悪いと、得られたプラスチックシートの寸法安定性
が低下し好ましくない。
The spacers and the like for forming the cavities are not particularly limited, as long as a sheet having a desired thickness and thickness accuracy can be obtained. For example, a plate or bar made of rubber or metal such as silicon rubber, or a plate or bar made of resin such as Teflon (registered trademark) may be used. The spacer accuracy is set to be within ± 5% of the thickness, more preferably, within ± 3%. If the accuracy is lower than this, the dimensional stability of the obtained plastic sheet decreases, which is not preferable.

【0061】(光路補正マスク)本発明は、光硬化性組
成物を活性エネルギー線照射によって硬化する際に、特
定の構造を有する光路補正マスクを用いることを特徴と
する。この光路補正マスクを用いることにより、得られ
たプラスチックシート内に局部的に残留する微小な内部
歪みを抑制することができる等のために、プラスチック
シートの寸法安定性を飛躍的に向上することができる。
(Optical Path Correction Mask) The present invention is characterized in that an optical path correction mask having a specific structure is used when the photocurable composition is cured by irradiation with active energy rays. By using the optical path correction mask, it is possible to suppress minute internal distortion locally remaining in the obtained plastic sheet, etc., so that the dimensional stability of the plastic sheet can be significantly improved. it can.

【0062】光路補正マスクは、外枠と、平行な複数の
等間隔の衝立を備えたものであって、光源とキャビティ
の間の位置に、外枠の外側に活性エネルギー線が漏れな
いように配置されていれば特に限定はされないが、その
素材としては、活性エネルギー線や活性エネルギー線光
源から発生する熱等によって変形しない鋼材等が好まし
い。また、その表面で活性エネルギー線を反射しないよ
うに、黒色の耐熱塗料等で塗装されたものが好ましく用
いられる。活性エネルギー線が反射すると、キャビティ
に照射される活性エネルギー線が部分的に不均一とな
り、プラスチックシートの寸法安定性が悪化するため好
ましくない。
The optical path correction mask is provided with an outer frame and a plurality of partitions at equal intervals which are parallel to each other, so that the active energy ray does not leak outside the outer frame at a position between the light source and the cavity. The material is not particularly limited as long as it is arranged, but the material is preferably a steel material or the like that does not deform due to active energy rays or heat generated from an active energy ray light source. Further, a material coated with a black heat-resistant paint or the like is preferably used so that the active energy ray is not reflected on the surface. When the active energy rays are reflected, the active energy rays applied to the cavity become partially non-uniform, and the dimensional stability of the plastic sheet deteriorates.

【0063】衝立の高さbは、衝立のピッチaの通常2
倍の長さ、好ましくは4倍の長さよりも高くなるように
し、且つ活性エネルギー線光源とキャビティとの距離d
の通常半分以上、好ましくは3分の2以上になるように
する。即ち、b≧2a 且つ b≧d/2、好ましくは
b≧4a 且つ b≧2d/3である。衝立の高さが
2a又はd/2よりも低くなると、得られるプラスチッ
クシートの寸法安定性が低下するため好ましくない。
The height b of the partition is usually two times the pitch a of the partition.
Twice as long, preferably four times as long, and the distance d between the active energy ray source and the cavity
Is usually at least half, preferably at least two-thirds. That is, b ≧ 2a and b ≧ d / 2, preferably b ≧ 4a and b ≧ 2d / 3. If the height of the partition is lower than 2a or d / 2, the dimensional stability of the obtained plastic sheet is undesirably reduced.

【0064】その理論的根拠は必ずしも解明されていな
いが、活性エネルギー線が空気中を進む際、空気分子に
よってそのエネルギーが減衰されるため、衝立の高さが
一定の値よりも小さいと、光源ランプからの光路長の短
い光が比較的多く照射されるキャビティ中央部の光硬化
性組成物の重合度が、キャビティ周辺部と比べて高くな
り、その結果として中央部と周辺部との間に局部的且つ
微小な内部歪みが生じ、寸法安定性の低下を招くものと
推定される。
Although the theoretical basis is not necessarily elucidated, the energy is attenuated by air molecules when the active energy ray travels in the air, so that when the height of the partition is smaller than a certain value, the light source The degree of polymerization of the photocurable composition at the center of the cavity, where relatively short light from the lamp is irradiated, is higher than at the periphery of the cavity, and as a result, between the center and the periphery. It is presumed that local and minute internal distortion occurs, leading to a decrease in dimensional stability.

【0065】衝立の厚みは5mm以下、好ましくは2m
m以下、且つ衝立のキャビティに最も近い部分からキャ
ビティまでの距離は、少なくとも1cm以上、好ましく
は5cm以上離すようにする。衝立の厚みが大きすぎた
り、また衝立とキャビティの距離が小さすぎると、活性
エネルギー線の照射量が低い部分が生じ、重合が不均一
となって、得られたプラスチックシートの寸法安定性を
損なうため好ましくない。
The screen has a thickness of 5 mm or less, preferably 2 m
m and the distance from the portion closest to the cavity of the screen to the cavity is at least 1 cm or more, preferably 5 cm or more. If the screen is too thick, or if the distance between the screen and the cavity is too small, there will be portions where the dose of active energy rays is low, polymerization will be uneven, and the dimensional stability of the resulting plastic sheet will be impaired. Therefore, it is not preferable.

【0066】活性エネルギー線の照射をキャビティの両
面から行うと、光硬化性組成物が均一に重合するため好
ましい。また、平行に配置された同じ長さの二本の棒状
形状の活性エネルギー線光源ランプの中線を、その中線
に対して垂直方向に等速度でキャビティを通過させ、キ
ャビティの裏と表から同時に等量の活性エネルギー線が
照射されるようにして光硬化性組成物を硬化させると、
重合が極めて均一に進行するためより好ましい。更にま
た、そのキャビティの進行方向に対する幅が、活性エネ
ルギー線光源のランプの長さよりも小さいと、特にキャ
ビティ周辺部の重合が均一となるため、更により好まし
い。
It is preferable that the active energy ray is irradiated from both sides of the cavity because the photocurable composition is uniformly polymerized. In addition, the center line of two rod-shaped active energy ray light source lamps of the same length arranged in parallel is passed through the cavity at a constant speed in the direction perpendicular to the center line, and from the back and front of the cavity When curing the photocurable composition so that the same amount of active energy rays are irradiated at the same time,
It is more preferable because the polymerization proceeds extremely uniformly. Furthermore, it is even more preferable that the width of the cavity in the traveling direction is smaller than the length of the lamp of the active energy ray light source, especially since the polymerization around the cavity becomes uniform.

【0067】活性エネルギー線照射ランプの形状は、特
に限定されず、球状(ボールランプ)、棒状、円形状
(サークライン)、面状、等が使用できるが、棒状及び
面状のものが好ましく、本発明の効果を最も奏するラン
プ形状は、棒状形状のものである。また、前記ランプの
数は、片面から照射する場合、少なくとも1個あればよ
く、両面から照射する場合は、それぞれの面側に少なく
とも1個設置すればよい。
The shape of the active energy ray irradiation lamp is not particularly limited, and may be spherical (ball lamp), rod shape, circular shape (circle line), planar shape, etc., but the rod shape and planar shape are preferable. The lamp shape that provides the best effect of the present invention is a rod shape. The number of the lamps may be at least one when irradiating from one side, and at least one on each side when irradiating from both sides.

【0068】本発明において好ましい態様は、キャビテ
ィの両面から活性エネルギー線の照射を行う方法であ
り、この場合、それぞれの側に2本以上のランプを設置
するのが好ましい。この様なランプの配置を採ることに
より、キャビティに対して活性エネルギー線を緩やかに
照射する、等の照射強度のコントロール及び照射の均一
化を一層図ることができて好ましい。
A preferred embodiment of the present invention is a method of irradiating active energy rays from both sides of the cavity. In this case, it is preferable to install two or more lamps on each side. By adopting such a lamp arrangement, it is preferable that the irradiation intensity can be controlled more uniformly and irradiation can be controlled more gently, such as irradiating the cavity with active energy rays.

【0069】上記それぞれの側に2本以上のランプを設
置する場合、光路補正マスクは、それぞれのランプに配
置するのが好ましいが、ランプ間の距離が小さいとき
は、各光路補正マスクを一体化させ、衝立を格子状の構
造とすることができる。また、面状構造の光源を使用す
る場合も上記方法に準じて、格子状の衝立を有する光路
補正マスクを用いることにより、キャビティに照射され
る活性エネルギー線を均一にすることができる。
When two or more lamps are installed on each side, it is preferable that the optical path correction mask is arranged on each lamp. However, when the distance between the lamps is small, the optical path correction masks are integrated. Thus, the screen can be formed in a lattice-like structure. Also, when a light source having a planar structure is used, the active energy rays applied to the cavity can be made uniform by using an optical path correction mask having a lattice-shaped screen according to the above method.

【0070】活性エネルギー線の照射については、一段
で行ってもよいが、表面性状の良好なシートを得るため
には、複数段で、少なくとも二段で行うことが好まし
い。照射を二段で行う場合、その第一段階では活性エネ
ルギー線の硬化所要量の15%以下、好ましくは10%
以下、特に好ましくは7%以下を照射して、キャビティ
内の光硬化性樹脂を自己保形性を有するように、即ち、
スペーサーを取外しても樹脂が漏洩しないようにゲル化
させる。なお、本明細書において活性エネルギー源の硬
化所要量とは、キャビティ内の樹脂組成物のエチレン性
炭素−炭素二重結合の80%を消失させるのに要する照
射量を指すものとする。なお、活性エネルギー線の照射
によるエチレン性炭素−炭素二重結合の消失の割合は、
下記式により算出される。
The irradiation with active energy rays may be performed in one step, but in order to obtain a sheet having good surface properties, it is preferable to perform the irradiation in a plurality of steps and at least two steps. When the irradiation is performed in two stages, the first stage requires 15% or less, preferably 10%, of the required amount of hardening of the active energy ray.
Irradiation is carried out below, particularly preferably 7% or less, so that the photocurable resin in the cavity has a self-retaining property, that is,
Gel is formed so that the resin does not leak even if the spacer is removed. In addition, in this specification, the hardening | requirement amount of an active energy source shall point out the irradiation amount required to make 80% of the ethylenic carbon-carbon double bond of the resin composition in a cavity disappear. The rate of disappearance of the ethylenic carbon-carbon double bond by irradiation with active energy rays is as follows:
It is calculated by the following equation.

【0071】消失量=(1−K/M)×100(%) M=AM /BMM :活性エネルギー線照射前の赤外吸収における二重
結合のピーク面積 BM :活性エネルギー線照射前の赤外吸収におけるC−
H結合のピーク面積 K=AK /BKK :活性エネルギー線照射後の赤外吸収における二重
結合のピーク面積 BK :活性エネルギー線照射後の赤外吸収におけるC−
H結合のピーク面積 なお、二重結合のピークは1658.5〜1591cm
-1に出現し、C−H結合のピークは3210〜280
9.8cm-1に出現する。
Elimination = (1−K / M) × 100 (%) M = A M / B M A M : Peak area of double bond in infrared absorption before irradiation with active energy ray B M : Active energy ray C- in infrared absorption before irradiation
H bond peak area K = A K / B K A K: the peak area of the double bond in the infrared absorption after irradiation with an active energy ray B K: C-in infrared absorption after active energy ray irradiation
The peak area of the H bond is 1658.5 to 1591 cm.
-1 and the peak of CH bond is 3210-280.
Appears at 9.8 cm -1 .

【0072】この第一段階における活性エネルギー線照
射量が硬化所要量の15%を超えると、硬化収縮が起
り、キャビティ内の樹脂が面板から剥離して、生成する
樹脂シート表面に欠陥を生じ易い。また、ゲル化した樹
脂がスペーサーに強固に付着して、スペーサーが取外し
難くなるという問題もある。好ましくは照射量が硬化所
要量の10%以下の段階で面板間の間隔を一定に保持す
る手段を解放する。逆に活性エネルギー線照射量が少な
すぎると、ゲル化が不十分で、成形型の面板の緊締を解
放したときに、キャビティ内の樹脂が成形型の隙間から
漏れる事故が起こり易い。また、ゲル化した樹脂と面板
との付着力が弱く、成形型の面板の緊締を解放したとき
の衝撃で樹脂が面板から剥離するという事故が起ること
もある。
If the amount of active energy ray irradiation in the first stage exceeds 15% of the required curing amount, curing shrinkage occurs, and the resin in the cavity is peeled off from the face plate, and defects are easily generated on the surface of the resulting resin sheet. . In addition, there is also a problem that the gelled resin firmly adheres to the spacer, making it difficult to remove the spacer. Preferably, the means for keeping the distance between the face plates constant when the irradiation amount is 10% or less of the required curing amount is released. Conversely, if the amount of active energy ray irradiation is too small, gelation is insufficient, and when the tightening of the face plate of the mold is released, the resin in the cavity easily leaks from the gap of the mold. In addition, the adhesive force between the gelled resin and the face plate is weak, and an accident may occur in which the resin peels off from the face plate due to an impact when the tightening of the face plate of the mold is released.

【0073】そして、第二段階において、モノマーの9
5〜100%が反応するように照射を行い、重合を完結
させる。活性エネルギー線を照射する雰囲気は、通常の
大気中、又は不活性ガス雰囲気中のいずれでもよい。ま
た、照射時の温度は、通常、第1段:常温〜100℃、
第2段:常温〜300℃であり、照射時間は、通常、第
1段:1秒〜1分、第2段:10秒〜10分である。
Then, in the second step, 9
Irradiation is performed so that 5 to 100% of the reaction is completed, thereby completing the polymerization. The atmosphere for irradiating the active energy ray may be any of ordinary air or an inert gas atmosphere. The temperature at the time of irradiation is usually the first stage: room temperature to 100 ° C.,
The second stage: normal temperature to 300 ° C., and the irradiation time is usually the first stage: 1 second to 1 minute, and the second stage: 10 seconds to 10 minutes.

【0074】活性エネルギー線用の光源としては、ケミ
カルランプ、キセノンランプ、低圧水銀ランプ、高圧水
銀ランプ、メタルハライドランプ等が用いられる。硬化
を速やかに完了させる目的で、熱重合を併用してもよ
い。即ち、光照射と同時に組成物並びに型全体を30〜
300℃の範囲で加熱する。この場合は重合をよりよく
完結するためにラジカル重合開始剤を添加してもよい
が、過剰な使用は複屈折の増大と色相の悪化をもたら
す。熱重合開始剤の具体例としてはベンゾイルパーオキ
シド、ジイソプロピルパーオキシカーボネート、t−ブ
チルパーオキシ(2−エチルヘキサノエート)等が挙げ
られ、使用量はモノマー100重量部に対して1重量部
以下が好ましい。
As a light source for an active energy ray, a chemical lamp, a xenon lamp, a low-pressure mercury lamp, a high-pressure mercury lamp, a metal halide lamp and the like are used. For the purpose of quickly completing the curing, thermal polymerization may be used in combination. That is, the composition and the whole mold are simultaneously irradiated with light at 30 to
Heat in the range of 300 ° C. In this case, a radical polymerization initiator may be added in order to complete the polymerization better, but excessive use causes an increase in birefringence and a deterioration in hue. Specific examples of the thermal polymerization initiator include benzoyl peroxide, diisopropyl peroxy carbonate, t-butyl peroxy (2-ethylhexanoate), and the amount used is 1 part by weight or less based on 100 parts by weight of the monomer. Is preferred.

【0075】更に本発明において光照射によるラジカル
重合を行った後、硬化物を加熱することにより重合反応
の完結及び重合時に発生する内部歪を低減することも可
能である。加熱温度は、硬化物の組成やガラス転移温度
に合わせて適宜選択されるが、過剰な加熱は硬化物の色
相悪化をもたらすため、ガラス転移温度付近かそれ以下
の温度が望ましい。
Further, in the present invention, the completion of the polymerization reaction and the internal strain generated during the polymerization can be reduced by heating the cured product after performing the radical polymerization by light irradiation. The heating temperature is appropriately selected according to the composition of the cured product and the glass transition temperature. However, since excessive heating causes deterioration in the hue of the cured product, a temperature near or below the glass transition temperature is desirable.

【0076】上記により得られるプラスチックシート
は、低複屈折性を有する光学部材である。本発明のプラ
スチックシートは、複屈折の値が、10nm以下、好ま
しくは5nm以下、更に好ましくは2nm以下、特に好
ましくは1nm以下のものである。 <ガスバリア膜>本発明に用いられる硬化物の表面に
は、種々の方法により、ガスバリア膜を形成することが
でき、ガスバリア付き光学部材として利用することがで
きる。
The plastic sheet obtained as described above is an optical member having low birefringence. The plastic sheet of the present invention has a birefringence of 10 nm or less, preferably 5 nm or less, more preferably 2 nm or less, particularly preferably 1 nm or less. <Gas Barrier Film> A gas barrier film can be formed on the surface of the cured product used in the present invention by various methods, and can be used as an optical member with a gas barrier.

【0077】ガスバリア膜としては公知のものが使用で
きる。例えば、無機酸化物膜、或いは、ポリビニルアル
コール、エチレンービニルアルコール共重合体、塩化ビ
ニリデン等のガスバリア性樹脂層が挙げられるが、好ま
しくは無機酸化物膜である。無機酸化物とは、金属、非
金属、亜金属の酸化物であり、具体例としては、酸化ア
ルミニウム、酸化亜鉛、酸化アンチモン、酸化インジウ
ム、酸化カルシウム、酸化カドミウム、酸化銀、酸化
金、酸化クロム、酸化珪素、酸化コバルト、酸化ジルコ
ニウム、酸化錫、酸化チタン、酸化鉄、酸化銅、酸化ニ
ッケル、酸化白金、酸化パラジウム、酸化ビスマス、酸
化マグネシウム、酸化マンガン、酸化モリブデン、酸化
バナジウム、酸化バリウム等が挙げられるが、酸化珪素
が特に好ましい。なお、無機酸化物には、微量の金属、
非金属、亜金属単体やそれらの水酸化物、また、可撓性
を向上させるために適宜炭素又はフッ素が含まれていて
もよい。
Known gas barrier films can be used. For example, an inorganic oxide film or a gas barrier resin layer such as polyvinyl alcohol, an ethylene-vinyl alcohol copolymer, and vinylidene chloride may be mentioned, but an inorganic oxide film is preferable. Inorganic oxides are oxides of metals, nonmetals, and submetals. Specific examples include aluminum oxide, zinc oxide, antimony oxide, indium oxide, calcium oxide, cadmium oxide, silver oxide, gold oxide, and chromium oxide. , Silicon oxide, cobalt oxide, zirconium oxide, tin oxide, titanium oxide, iron oxide, copper oxide, nickel oxide, platinum oxide, palladium oxide, bismuth oxide, magnesium oxide, manganese oxide, molybdenum oxide, vanadium oxide, barium oxide, etc. Among them, silicon oxide is particularly preferable. In addition, a small amount of metal,
Non-metals, sub-metals or hydroxides thereof, and carbon or fluorine may be appropriately contained in order to improve flexibility.

【0078】ガスバリア膜を形成する方法としては、樹
脂等をコートする方法、無機酸化物よりなる蒸着膜を形
成する方法が挙げられる。蒸着膜を形成する方法として
は、真空蒸着法、真空スパッタ法、イオンプレーティン
グ法、CVD法等、従来公知の方法が使用できる。以上
のガスバリア膜の厚さは特に制限はなく、ガスバリア膜
の構成成分の種類によっても異なるが、例えば、酸化珪
素の場合には、酸素ガスバリア性及び水蒸気ガスバリア
性、更には経済性を考慮すると、膜の厚さは5〜50n
mが好ましい。更に高度な酸素ガスバリア性や水蒸気バ
リア性を得るためには膜の厚さを厚くすればよいが、5
0nm以上では成膜する際生じる膜応力からクラックが
入りやすくなる。また、膜の厚さが5nm未満ではガス
バリア性が不十分である。
As a method of forming a gas barrier film, a method of coating a resin or the like and a method of forming a vapor deposition film made of an inorganic oxide can be mentioned. As a method for forming the deposited film, a conventionally known method such as a vacuum deposition method, a vacuum sputtering method, an ion plating method, and a CVD method can be used. The thickness of the above gas barrier film is not particularly limited, and varies depending on the type of the constituent components of the gas barrier film.For example, in the case of silicon oxide, in consideration of oxygen gas barrier properties and water vapor gas barrier properties, and further economics, The film thickness is 5-50n
m is preferred. In order to obtain more advanced oxygen gas barrier properties and water vapor barrier properties, the thickness of the film may be increased.
When the thickness is 0 nm or more, cracks are easily formed due to film stress generated during film formation. If the thickness of the film is less than 5 nm, the gas barrier properties are insufficient.

【0079】<硬化被膜>本発明における硬化被膜はプ
ラスチックシート上に導電膜を積層する際に、導電膜と
基板との密着性を向上し、更にガスバリア膜を保護する
ための樹脂膜である。この膜はアクリレート系の光硬化
性モノマーとイソシアネート基含有化合物、好ましくは
イソシアネート基含有アクリレート化合物、更に好まし
くはイソシアネート基含有シランカップリング剤と分子
内に水酸基と3個以上のアクリロイル基を有する水酸基
含有多官能アクリレートとを反応して得られる化合物、
を含んでなる光硬化性組成物を重合硬化して得られる。
ここで、「含んでなる」とは、アクリレート系の光硬化
性モノマーとイソシアネート基含有化合物以外に活性エ
ネルギー線の照射による重合硬化を阻害しないポリマー
等を全組成物100重量部中50重量部以下の範囲で併
用してもよいことを意味する。
<Hardened film> The hardened film in the present invention is a resin film for improving the adhesion between the conductive film and the substrate when laminating the conductive film on the plastic sheet and further protecting the gas barrier film. This film is composed of an acrylate-based photocurable monomer and an isocyanate group-containing compound, preferably an isocyanate group-containing acrylate compound, more preferably an isocyanate group-containing silane coupling agent, and a hydroxyl group containing a hydroxyl group and three or more acryloyl groups in the molecule. A compound obtained by reacting with a polyfunctional acrylate,
Can be obtained by polymerizing and curing a photocurable composition containing
Here, "comprising" means not more than 50 parts by weight of 100 parts by weight of the total composition of a polymer or the like that does not inhibit polymerization and curing by irradiation with active energy rays other than the acrylate-based photocurable monomer and the isocyanate group-containing compound. Means that they may be used together.

【0080】アクリレート系の光硬化性のモノマーとし
ては、例えば、ジエチレングリコールジアクリレート、
ジエチレングリコールジメタクリレート、トリエチレン
グリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジ
メタクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレー
ト、1,3−ブチレングリコールジアクリレート、1,
3−ブチレングリコールジメタクリレート、1,4−ブ
タンジオールジアクリレート、1,4−ブタンジオール
ジメタクリレート、トリプロピレングリコールジアクリ
レート、トリプロピレングリコールジメタクリレート、
ポリプロピレングリコールジアクリレート、1,6−ヘ
キサンジオールジアクリレート、1,6−ヘキサンジオ
ールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジアク
リレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、
ジエチレングリコールジアクリレート、ビス(オキシメ
チル)トリシクロ[5.2.1.02,6 ]デカンジアク
リレート、ビス(オキシメチル)トリシクロ[5.2.
1.02,6 ]デカンジメタクリレート、ビス(オキシメ
チル)ペンタシクロ[6.5.1.13,6 .02,7.0
9,13]ペンタデカンジメタクリレート、ビス(オキシメ
チル)ペンタシクロ[6.5.1.13,6 .02,7 .0
9,13]ペンタデカンジメタクリレート、2,2−ビス
(4−(アクリルオキシジエトキシ)フェニル)プロパ
ン、2,2−ビス(4−(メタクリルオキシジエトキ
シ)フェニル)プロパン、トリシクロ[5.2.1.0
2,6 ]デカン−3,8−ジイルジメチルジアクリレー
ト、トリシクロ[5.2.1.02,6 ]デカン−3,8
−ジイルジメチルジメタクリレート、トリメチロールプ
ロパントリアクリレート、トリメチロールプロパントリ
メタアクリレート、トリメチロールプロパンエトキシト
リアクリレート、トリメチロールプロパンエトキシトリ
メタクリレート、テトラメチロールメタントリアクリレ
ート、テトラメチロールメタントリメタクリレート、テ
トラメチロールメタンテトラアクリレート、テトラメチ
ロールメタンテトラメタクリレート、ペンタエリスリト
ールトリアクリレート、ペンタエリスリトールトリメタ
クリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレー
ト、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ジト
リメチロールプロパンテトラアクリレート、ジトリメチ
ロールプロパンテトラメタクリレート、ジペンタエリス
リトールヘキサアクリレート、ジペンタエリスリトール
ヘキサメタクリレート、トリス(2−ヒドロキシエチ
ル)イソシアネートトリアクリレート、トリス(2−ヒ
ドロキシエチル)イソシアヌレートトリメタクリレート
等が挙げられる。
As the acrylate-based photocurable monomer, for example, diethylene glycol diacrylate,
Diethylene glycol dimethacrylate, triethylene glycol diacrylate, triethylene glycol dimethacrylate, polyethylene glycol diacrylate, 1,3-butylene glycol diacrylate, 1,
3-butylene glycol dimethacrylate, 1,4-butanediol diacrylate, 1,4-butanediol dimethacrylate, tripropylene glycol diacrylate, tripropylene glycol dimethacrylate,
Polypropylene glycol diacrylate, 1,6-hexanediol diacrylate, 1,6-hexanediol dimethacrylate, neopentyl glycol diacrylate, neopentyl glycol dimethacrylate,
Diethylene glycol diacrylate, bis (oxymethyl) tricyclo [5.2.1.0 2,6 ] decane diacrylate, bis (oxymethyl) tricyclo [5.2.
1.0 2,6 ] decane dimethacrylate, bis (oxymethyl) pentacyclo [6.5.1.1 3,6 . 0 2,7 . 0
9,13 ] pentadecane dimethacrylate, bis (oxymethyl) pentacyclo [6.5.1.1 3,6 . 0 2,7 . 0
9,13 ] pentadecane dimethacrylate, 2,2-bis (4- (acryloxydiethoxy) phenyl) propane, 2,2-bis (4- (methacryloxydiethoxy) phenyl) propane, tricyclo [5.2. 1.0
2,6 ] decane-3,8-diyldimethyldiacrylate, tricyclo [5.2.1.0 2,6 ] decane-3,8
-Diyldimethyldimethacrylate, trimethylolpropane triacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, trimethylolpropaneethoxytriacrylate, trimethylolpropaneethoxytrimethacrylate, tetramethylolmethane triacrylate, tetramethylolmethanetrimethacrylate, tetramethylolmethanetetraacrylate , Tetramethylol methane tetramethacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol trimethacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, pentaerythritol tetramethacrylate, ditrimethylolpropane tetraacrylate, ditrimethylolpropane tetramethacrylate, dipentaerythritol hexaac Rate, dipentaerythritol hexa methacrylate, tris (2-hydroxyethyl) isocyanate triacrylate, tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate trimethacrylate, and the like.

【0081】イソシアネート基含有化合物の例として
は、アクリルイソシアネート、メチルイソシアネート、
イソプロピルイソシアネート、t−ブチルイソシアネー
ト、シクロヘキシルイソシアネート、m−イソプロペニ
ル−α,α−ジメチルベンジルイソシアネート、オクタ
デシルイソシアネート、(メタ)アクリロイルイソシア
ネート、2−(メタ)アクリロイルオキシエチルイソシ
アネート、3−イソプロペニルイソシアネート、ジメチ
ル(m−イソプロペニル)ベンジルイソシアネート、キ
シリレンジイソシアネート、1,2−ジイソシアネート
エタン、1,3−ジイソシアネートプロパン、1,2−
ジイソシアネートプロパン、1,4−ジイソシアネート
ブタン、1,5−ジイソシアネートブタン、1,5−ジ
イソシアネートペンタン、1,6−ヘキサメチレンジイ
ソシアネート、ビス(3−イソシアネートプロピル)エ
ーテル、ビス(3−イソシアネートプロピル)スルフィ
ド、ビス(6−イソシアネートヘキシル)スルフィド、
1,7−ジイソシアネートヘプタン、1,5−ジイソシ
アネート−2,2−ジメチルペンタン、2,6−ジイソ
シアネート−3−メトキシヘキサン、1,8−ジイソシ
アネートオクタン、1,5−ジイソシアネート−2,
2,4−トリメチルペンタン、1,9−ジイソシアネー
トノナン、1,10−ジイソシアネートデカン、1,1
1−ジイソシアネートウンデカン、1,12−ジイソシ
アネートドデカン、1,4−シクロヘキサンジイソシア
ネート、4,4′−ジシクロヘキシルメタンジイソシア
ネート、2,4−ジシクロヘキシルメタンジイソシアネ
ート、3,3′−ジシクロヘキシルメタンジイソシアネ
ート、リジンイソシアネート、トリレンジイソシアネー
ト、イソホロンジイソシアネート、1,5−ナフチレン
ジイソシアネート、4,4′−ジフェニルメタンジイソ
シアネート、1,3−ビス(α,α−ジメチルイソシア
ネートメチル)ベンゼン、1,3−ビス(イソシアネー
トメチル)シクロヘキサン、トリメチルヘキサメチレン
ジイソシアネート等が挙げられる。
Examples of the isocyanate group-containing compound include acrylic isocyanate, methyl isocyanate,
Isopropyl isocyanate, t-butyl isocyanate, cyclohexyl isocyanate, m-isopropenyl-α, α-dimethylbenzyl isocyanate, octadecyl isocyanate, (meth) acryloyl isocyanate, 2- (meth) acryloyloxyethyl isocyanate, 3-isopropenyl isocyanate, dimethyl (M-isopropenyl) benzyl isocyanate, xylylene diisocyanate, 1,2-diisocyanateethane, 1,3-diisocyanatepropane, 1,2-
Diisocyanate propane, 1,4-diisocyanate butane, 1,5-diisocyanate butane, 1,5-diisocyanate pentane, 1,6-hexamethylene diisocyanate, bis (3-isocyanatopropyl) ether, bis (3-isocyanatepropyl) sulfide, Bis (6-isocyanatohexyl) sulfide,
1,7-diisocyanate heptane, 1,5-diisocyanate-2,2-dimethylpentane, 2,6-diisocyanate-3-methoxyhexane, 1,8-diisocyanatooctane, 1,5-diisocyanate-2,
2,4-trimethylpentane, 1,9-diisocyanatononane, 1,10-diisocyanatodecane, 1,1
1-diisocyanate undecane, 1,12-diisocyanatododecane, 1,4-cyclohexane diisocyanate, 4,4'-dicyclohexylmethane diisocyanate, 2,4-dicyclohexylmethane diisocyanate, 3,3'-dicyclohexylmethane diisocyanate, lysine isocyanate, tolylene diisocyanate Isocyanate, isophorone diisocyanate, 1,5-naphthylene diisocyanate, 4,4'-diphenylmethane diisocyanate, 1,3-bis (α, α-dimethylisocyanatomethyl) benzene, 1,3-bis (isocyanatomethyl) cyclohexane, trimethylhexa Methylene diisocyanate and the like can be mentioned.

【0082】イソシアネート基含有アクリレートとして
は、公知のジイソシアネートと公知のヒドロキシアクリ
レート、例えば、2−ヒドロキシエチルアクリレート、
2−ヒドロキシプロピルアクリレート、4−ヒドロキシ
ブチルアクリレート、4−ヒドロキシブチルジアクリレ
ート、1,4−シクロヘキサンジメタノールモノアクリ
レート、2−ヒドロキシ−3−フェノキシプロピルアク
リレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート等を
反応させて得られる化合物等が挙げられるが、好ましく
は、5−イソシアネート−1−(イソシアネートメチ
ル)−1,3,3−トリメチルシクロヘキサンと2−ヒ
ドロキシエチルアクリレートの付加体、2−(5−イソ
シアネート−1,3,3−トリメチル−シクロヘキシル
メチルカルバモイルオキシ)−エチルアクリレート、2
−(3−イソシアネートメチル−3,5,5−トリメチ
ル−シクロヘキシルカルバモイルオキシ)−エチルアク
リレート、2−(4′−イソシアネート−4−ジフェニ
ルメタンカルバモイルオキシ)−エチルアクリレート、
2−(5−イソシアネート−1−カルバモイルオキシ)
−エチルアクリレート、4−(5−イソシアネート−
1,3,3−トリメチル−シクロヘキシルメチルカルバ
モイルオキシ)−ブチルアクリレート、4−(3−イソ
シアネートメチル−3,5,5−トリメチル−シクロヘ
キシルカルバモイルオキシ)−ブチルアクリレート、4
−(4′−イソシアネート−4−ジフェニルメタンカル
バモイルオキシ)−ブチルアクリレート、4−(5−イ
ソシアネート−1−カルバモイルオキシ)−ブチルアク
リレート、2−メタクリロイルオキシエチルイソシアネ
ート等が挙げられる。イソシアネート基含有シランカッ
プリング剤は、一般式で表わされるものが使用される。
Examples of the isocyanate group-containing acrylate include known diisocyanates and known hydroxy acrylates such as 2-hydroxyethyl acrylate,
It is obtained by reacting 2-hydroxypropyl acrylate, 4-hydroxybutyl acrylate, 4-hydroxybutyl diacrylate, 1,4-cyclohexane dimethanol monoacrylate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl acrylate, pentaerythritol triacrylate and the like. Although a compound etc. are mentioned, Preferably, the adduct of 5-isocyanate-1- (isocyanatomethyl) -1,3,3-trimethylcyclohexane and 2-hydroxyethyl acrylate, 2- (5-isocyanate-1,3,3) 3-trimethyl-cyclohexylmethylcarbamoyloxy) -ethyl acrylate, 2
-(3-isocyanatomethyl-3,5,5-trimethyl-cyclohexylcarbamoyloxy) -ethyl acrylate, 2- (4'-isocyanato-4-diphenylmethanecarbamoyloxy) -ethyl acrylate,
2- (5-isocyanate-1-carbamoyloxy)
-Ethyl acrylate, 4- (5-isocyanate-
1,3,3-trimethyl-cyclohexylmethylcarbamoyloxy) -butyl acrylate, 4- (3-isocyanatomethyl-3,5,5-trimethyl-cyclohexylcarbamoyloxy) -butyl acrylate,
-(4'-isocyanato-4-diphenylmethanecarbamoyloxy) -butyl acrylate, 4- (5-isocyanate-1-carbamoyloxy) -butyl acrylate, 2-methacryloyloxyethyl isocyanate and the like. The isocyanate group-containing silane coupling agent represented by the general formula is used.

【0083】[0083]

【化10】 Embedded image

【0084】(式中、R1 及びR2 は同じ又は異なる一
価炭化水素基であり、好ましくはR1及びR2 はメチ
ル、エチル、プロピル等の低級アルキル基である。R3
は炭素数2〜8の二価炭化水素基である。aは2〜3の
整数、bは0〜1の整数、cは4−a−bに等しい整数
である) イソシアネート基含有シランカップリング剤の具体例と
しては、3−イソシアナトプロピルトリメトキシシラ
ン、2−イソシアナトエチルトリメトキシシラン、3−
イソシアナトプロピルトリエトキシシラン、2−イソシ
アナトエチルトリエトキシシラン、3−イソシアナトプ
ロピルメチルジメトキシシラン、2−イソシアナトエチ
ルメチルジメトキシシラン、3−イソシアナトプロピル
メチルジエトキシシラン、2−イソシアナトエチルメチ
ルジエトキシシラン等が挙げられる。次に、分子内に水
酸基と3個以上のアクリロイル基を有する水酸基含有多
官能アクリレートとしては、ペンタエリスリトールトリ
アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラアクリレ
ート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、及
びこれらの混合物等が挙げられる。
(Wherein R 1 and R 2 are the same or different monovalent hydrocarbon groups, preferably R 1 and R 2 are lower alkyl groups such as methyl, ethyl and propyl. R 3
Is a divalent hydrocarbon group having 2 to 8 carbon atoms. a is an integer of 2 to 3, b is an integer of 0 to 1, and c is an integer equal to 4-ab.) Specific examples of the isocyanate group-containing silane coupling agent include 3-isocyanatopropyltrimethoxysilane. , 2-isocyanatoethyltrimethoxysilane, 3-
Isocyanatopropyltriethoxysilane, 2-isocyanatoethyltriethoxysilane, 3-isocyanatopropylmethyldimethoxysilane, 2-isocyanatoethylmethyldimethoxysilane, 3-isocyanatopropylmethyldiethoxysilane, 2-isocyanatoethylmethyl Diethoxysilane and the like can be mentioned. Next, examples of the hydroxyl group-containing polyfunctional acrylate having a hydroxyl group and three or more acryloyl groups in a molecule include pentaerythritol triacrylate, dipentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol pentaacrylate, and mixtures thereof.

【0085】イソシアネート基含有シランカップリング
剤と水酸基含有多官能アクリレートの反応は、各化合物
を−NCO/−OH基≦1の割合で混合し、60〜11
0℃で1〜20時間攪拌することにより得られる。これ
らの光硬化性組成物はアクリレート系の光硬化性モノマ
ー50〜99重量部に対して、イソシアネート基含有化
合物を1〜50重量部、より好ましくは5〜30重量
部、更に好ましくは10〜20重量部配合することによ
り、硬化被膜としての物性バランスが得られる。イソシ
アネート基含有化合物が無くても光硬化性樹脂シートと
硬化被膜の密着性は得られるが、イソシアネート基を添
加することにより、更にガスバリア膜及び透明導電膜と
の密着性が得られるようになる。即ち、これらの無機膜
上の水酸基とイソシアネート基が反応することにより強
固な結合が形成され、導電膜側のアンカー能及びガスバ
リア膜側の保護層としての両性能が発現する。イソシア
ネート基含有化合物の量が少なすぎるとガスバリア膜側
の密着性が低下し、多すぎると耐薬品性が低下する。
The reaction between the isocyanate group-containing silane coupling agent and the hydroxyl group-containing polyfunctional acrylate is carried out by mixing the respective compounds at a ratio of -NCO / -OH group ≤1, and
It is obtained by stirring at 0 ° C. for 1 to 20 hours. These photocurable compositions contain an isocyanate group-containing compound in an amount of 1 to 50 parts by weight, more preferably 5 to 30 parts by weight, and still more preferably 10 to 20 parts by weight, based on 50 to 99 parts by weight of an acrylate-based photocurable monomer. By blending parts by weight, a balance of physical properties as a cured film can be obtained. The adhesion between the photocurable resin sheet and the cured film can be obtained without the isocyanate group-containing compound, but the addition of the isocyanate group can further improve the adhesion between the gas barrier film and the transparent conductive film. That is, a strong bond is formed by the reaction between the hydroxyl group and the isocyanate group on these inorganic films, and both the performance as an anchor function on the conductive film side and the performance as a protective layer on the gas barrier film side are exhibited. If the amount of the isocyanate group-containing compound is too small, the adhesion on the gas barrier film side will decrease, and if it is too large, the chemical resistance will decrease.

【0086】また、その他併用できるポリマー等とし
て、幾つかを例示すると次の通りである。ポリメチルア
クリレート、ポリブチルアクリレート、ポリエチレング
リコール、ポリヒドロキシエチルアクリレート。また、
これら活性エネルギー線硬化性組成物には公知の添加
剤、例えば、酸化防止剤、紫外線吸収剤、レベリング
剤、熱重合禁止剤、シランカップリング剤等が配合され
ていてもよい。上記組成物は通常揮発性溶媒により希釈
して塗布されることが好ましい。溶媒及び希釈度は特に
限定されないが、使用に当って被塗布物の表面性状を損
なわないことが要求される。更には、組成物の安定性、
基材に対する濡れ性、揮発性等も考慮して溶媒は決めら
れるべきである。また、溶媒は一種のみならず、二種以
上の混合物として用いることも可能である。溶媒として
は、アルコール、エステル、エーテル、ケトン、ハロゲ
ン化炭化水素、トルエンやキシレン等の芳香族炭化水
素、及び、非プロトン性極性溶媒等が挙げられる。
Some examples of other polymers that can be used in combination are as follows. Polymethyl acrylate, polybutyl acrylate, polyethylene glycol, polyhydroxyethyl acrylate. Also,
Known additives such as an antioxidant, an ultraviolet absorber, a leveling agent, a thermal polymerization inhibitor, a silane coupling agent and the like may be added to these active energy ray-curable compositions. It is preferable that the composition is usually diluted with a volatile solvent and applied. The solvent and the degree of dilution are not particularly limited, but are required not to impair the surface properties of the object to be used during use. Further, the stability of the composition,
The solvent should be determined in consideration of wettability to the substrate, volatility, and the like. Further, the solvent may be used not only as one kind but also as a mixture of two or more kinds. Examples of the solvent include alcohols, esters, ethers, ketones, halogenated hydrocarbons, aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene, and aprotic polar solvents.

【0087】これらの光硬化性組成物は、紫外線等の活
性エネルギー線によりラジカルを発生する光重合開始剤
を添加する公知のラジカル重合により硬化させる。その
際に用いる重合開始剤としては、例えば、ベンゾフェノ
ン、ベンゾイルメチルエーテル、ベンゾイルイソプロピ
ルエーテル、ジエトキシアセトフェノン、1−ヒドロキ
シシクロヘキシルフェニルケトン、2,6−ジメチルベ
ンゾイルフェニルホスフィンオキシド等が挙げられる。
好ましい開始剤としては、1−ヒドロキシシクロヘキシ
ルフェニルケトン、ビス(2,6−ジメトキシベンゾイ
ル)−2,4,4−トリメチルペンチルホスフィンオキ
シド、2,4,6−トリメチルベンゾイルフェニルホス
フィンオキシドである。これら光重合開始剤は二種以上
を併用してもよい。
These photocurable compositions are cured by a known radical polymerization in which a photopolymerization initiator that generates a radical by active energy rays such as ultraviolet rays is added. Examples of the polymerization initiator used at that time include benzophenone, benzoylmethyl ether, benzoylisopropyl ether, diethoxyacetophenone, 1-hydroxycyclohexylphenyl ketone, 2,6-dimethylbenzoylphenylphosphine oxide and the like.
Preferred initiators are 1-hydroxycyclohexylphenyl ketone, bis (2,6-dimethoxybenzoyl) -2,4,4-trimethylpentylphosphine oxide, and 2,4,6-trimethylbenzoylphenylphosphine oxide. Two or more of these photopolymerization initiators may be used in combination.

【0088】光重合開始剤の添加量は、光硬化性組成物
100重量部に対し、1〜30重量部、好ましくは10
〜20重量部である。光開始剤の添加量が多すぎると、
重合が急激に進行し、複屈折の増大をもたらすだけでな
く、色相も悪化する。また、少なすぎると組成物を十分
に硬化させることができなくなる。硬化被膜を形成する
には、ディップコート法が最適である。即ち、ガスバリ
ア付き光硬化性樹脂シートを硬化被膜を形成する光硬化
性組成物中に浸漬して引き上げた後、活性エネルギー線
を照射して硬化させればよい。この時、塗布してから硬
化させる前に予備加熱を行ってもよい。光硬化性組成物
が溶剤で希釈されている場合には、この予備加熱の工程
において溶剤を除去しなければならない。硬化被膜の膜
厚は、特に限定されるものではないが、接着強度の保持
や硬度等の点から、通常0.1〜50μm、好ましくは
0.3〜10μmである。硬化被膜の膜厚はディップコ
ート時の引き上げ速度、溶剤の希釈度でコントロールす
ることができる。
The addition amount of the photopolymerization initiator is 1 to 30 parts by weight, preferably 10 parts by weight, per 100 parts by weight of the photocurable composition.
-20 parts by weight. If the amount of the photoinitiator is too large,
The polymerization progresses rapidly, causing not only an increase in birefringence, but also a deterioration in hue. If the amount is too small, the composition cannot be cured sufficiently. The dip coating method is optimal for forming a cured film. That is, the photocurable resin sheet with a gas barrier may be dipped in the photocurable composition for forming a cured film, pulled up, and then cured by irradiation with active energy rays. At this time, preheating may be performed after application and before curing. If the photocurable composition has been diluted with a solvent, the solvent must be removed in this preheating step. The thickness of the cured film is not particularly limited, but is usually 0.1 to 50 μm, preferably 0.3 to 10 μm from the viewpoint of maintaining the adhesive strength and hardness. The thickness of the cured film can be controlled by the pulling speed during dip coating and the degree of dilution of the solvent.

【0089】照射する活性エネルギー線の量は光重合開
始剤がラジカルを発生する範囲であれば任意であるが、
200〜400nmの紫外線を0.1〜100J/cm
2 、好ましくは1〜30J/cm2 の範囲で照射する。
使用するランプの具体例としては、メタルハライドラン
プ、高圧水銀灯ランプ等が挙げられる。 <導電膜>本発明に用いられる硬化物の表面には種々の
手法により各種透明導電膜を好ましく形成することがで
き、透明電極付光学部材として利用することができる。
硬化物の表面に形成できる透明導電膜には特に制限はな
いが、例えば、この導電膜を形成する導電物質として、
酸化インジウム、酸化スズ、金、銀、銅、ニッケル等が
挙げられ、これらは単独又は二種以上を混合して使用す
ることができる。このうち、通常は酸化インジウム99
〜90%と酸化スズ1〜10%との混合物よりなるイン
ジウムスズオキサイド(以下「ITO」という)が透明
性と導電性のバランスの面から好ましい。透明導電膜を
形成する方法は、従来から公知の真空蒸着法、スパッタ
リング法、イオンプレーティング法、化学蒸着法等を用
いて行うことができる。このうち、スパッタリング法が
密着性の点から好ましい。以上の透明導電膜の厚さは、
500〜2000Åの範囲が透明性、導電性のバランス
の面から好ましい。
The amount of the active energy ray to be irradiated is arbitrary as long as the photopolymerization initiator generates a radical.
UV radiation of 200 to 400 nm is 0.1 to 100 J / cm.
2 , preferably in the range of 1 to 30 J / cm 2 .
Specific examples of the lamp used include a metal halide lamp and a high-pressure mercury lamp. <Conductive Film> Various transparent conductive films can be preferably formed on the surface of the cured product used in the present invention by various methods, and can be used as an optical member with a transparent electrode.
There is no particular limitation on the transparent conductive film that can be formed on the surface of the cured product. For example, as a conductive material that forms this conductive film,
Indium oxide, tin oxide, gold, silver, copper, nickel and the like can be mentioned, and these can be used alone or in combination of two or more. Of these, usually indium oxide 99
Indium tin oxide (hereinafter, referred to as "ITO") composed of a mixture of 90% and 1-10% of tin oxide is preferable in terms of balance between transparency and conductivity. The method for forming the transparent conductive film can be performed by using a conventionally known vacuum evaporation method, sputtering method, ion plating method, chemical vapor deposition method, or the like. Of these, the sputtering method is preferred from the viewpoint of adhesion. The thickness of the above transparent conductive film is
The range of 500 to 2000 ° is preferable from the viewpoint of the balance between transparency and conductivity.

【0090】(積層体の構成)本発明のプラスチック積
層体は、光硬化性樹脂層(A)の少なくとも片面にガス
バリア層(B)を設けてなるもの(積層体1)、積層体
1の少なくとも片面に更に硬化被膜(C)を設けてなる
もの(積層体2)及び積層体1又は2の少なくとも片面
に更に導電膜を設けてなるものである。
(Structure of Laminate) The plastic laminate of the present invention comprises a photocurable resin layer (A) having at least one surface provided with a gas barrier layer (B) (laminate 1). One obtained by further providing a cured film (C) on one surface (laminate 2) and one obtained by further providing a conductive film on at least one surface of the laminate 1 or 2.

【0091】そして、積層体1の具体例が図1及び図2
に示されており、積層体2の具体例が図3ないし図7に
示されている。なお、光硬化性樹脂層(A)、例えばプ
ラスチックシート基板の厚みは、通常、0.05〜3m
m、好ましくは0.1〜1.5mmの範囲内である。 (積層体の性質)本発明のプラスチック積層体は、55
0nmの光の波長での光線透過率が80%以上であるこ
とが好ましい。光線透過率が80%未満であると画面が
暗くなるため液晶表示パネルとして使用でき難い。ま
た、プラスチック積層体の複屈折率としては、通常10
nm以下であるが、好ましくは5nm以下、更に好まし
くは2nm以下、特には1nm以下であることが好まし
い。20nmよりも大きいと表示パネルとした場合、表
示画面の色ムラが生じる傾向がある。
FIGS. 1 and 2 show specific examples of the laminate 1.
And specific examples of the laminate 2 are shown in FIGS. 3 to 7. The thickness of the photocurable resin layer (A), for example, the plastic sheet substrate is usually 0.05 to 3 m.
m, preferably in the range of 0.1 to 1.5 mm. (Properties of the laminate) The plastic laminate of the present invention
It is preferable that the light transmittance at a wavelength of light of 0 nm is 80% or more. If the light transmittance is less than 80%, the screen becomes dark, so that it is difficult to use it as a liquid crystal display panel. The birefringence of the plastic laminate is usually 10
nm or less, preferably 5 nm or less, more preferably 2 nm or less, and particularly preferably 1 nm or less. If it is larger than 20 nm, when the display panel is used, color unevenness of the display screen tends to occur.

【0092】また、プラスチック積層体の厚みは、0.
05〜3mmが好ましい。0.05mm未満では、シー
トが自重により撓み易く、従来の液晶装置の製造プロセ
スが使用できない傾向があり、一方、3mmを越える
と、従来の0.7〜1.5mmのガラス基板と同じ重量
となり、軽量化の目的から外れてしまう。本発明のプラ
スチック積層体の応用例としては、例えば、液晶表示装
置用基板として使用する場合、通常、二枚のプラスチッ
ク積層体によって液晶を挟んだ構成をとる。即ち、プラ
スチック積層体の導電膜上に、必要に応じて絶縁膜、更
に、その上に配向膜が設けられた基板により液晶層を挟
持した構造をとる。また、液晶層を挟持した基板の外側
には偏光板が設けられる。また、エレクトロルミネッセ
ンス表示素子においては、通常、本発明のプラスチック
積層体上に、発光体層、絶縁層及び背面電極を順次形成
し、更に全体をガスバリア層で被覆した構造の物が例示
される。この場合、発光体層には硫化亜鉛、硫化カドミ
ウム、セレン化亜鉛等が、絶縁層には酸化イットリウ
ム、酸化タリウム、窒化シリコン等が、背面電極にはア
ルミニウム等が用いられる。
The thickness of the plastic laminate is set at 0.1.
It is preferably from 0.5 to 3 mm. If it is less than 0.05 mm, the sheet tends to bend due to its own weight, and the conventional liquid crystal device manufacturing process tends to be unusable. On the other hand, if it exceeds 3 mm, the weight becomes the same as that of a conventional 0.7 to 1.5 mm glass substrate. However, it is out of the purpose of weight reduction. As an application example of the plastic laminate of the present invention, for example, when the plastic laminate is used as a substrate for a liquid crystal display device, a liquid crystal is usually sandwiched between two plastic laminates. That is, a structure is adopted in which a liquid crystal layer is sandwiched between a substrate having an insulating film, if necessary, and an alignment film provided thereon on a conductive film of a plastic laminate. Further, a polarizing plate is provided outside the substrate holding the liquid crystal layer. In addition, in the case of an electroluminescence display element, a structure is generally exemplified in which a light-emitting layer, an insulating layer, and a back electrode are sequentially formed on a plastic laminate of the present invention, and the whole is covered with a gas barrier layer. In this case, zinc sulfide, cadmium sulfide, zinc selenide or the like is used for the light emitting layer, yttrium oxide, thallium oxide, silicon nitride or the like is used for the insulating layer, and aluminum or the like is used for the back electrode.

【0093】本発明により得られるプラスチックシート
は、透明性はもとより高耐熱性と高機械強度を併せ持
ち、液晶や有機EL等のディスプレイ基板、光ディスク
基板、太陽電池基板、各種レンズ、プリズム、光学フィ
ルター、光通信材料等の多くの光学用途に用いることが
できる。
The plastic sheet obtained by the present invention has not only transparency but also high heat resistance and high mechanical strength, and has a display substrate such as liquid crystal or organic EL, an optical disk substrate, a solar cell substrate, various lenses, prisms, optical filters, It can be used for many optical applications such as optical communication materials.

【0094】[0094]

【実施例】以下に本発明の内容及び効果を実施例により
更に具体的に説明するが、本発明はその要旨を越えない
限り、以下の実施例に限定されるものではない。また実
施例及び比較例で得られたプラスチックシート及びプラ
スチック積層体は以下の方法で評価した。
EXAMPLES The contents and effects of the present invention will be more specifically described below with reference to examples, but the present invention is not limited to the following examples unless it exceeds the gist. The plastic sheet and the plastic laminate obtained in the examples and comparative examples were evaluated by the following methods.

【0095】(1)光線透過率:500nmにおける光
線透過率を0.5mm厚の試験片で測定した。 (2)複屈折:0.5mm厚の試験片で複屈折測定装置
(オーク社製)を用いて25℃で測定した。 (3)耐熱性:3mm×30mm×0.5mmの短冊状
試験片を用いて、ガラス転移温度Tgを引っ張り法TM
Aにて加重2gで測定した。
(1) Light transmittance: The light transmittance at 500 nm was measured on a test piece having a thickness of 0.5 mm. (2) Birefringence: Measured at 25 ° C. using a birefringence measuring device (manufactured by Oak) with a 0.5 mm thick test piece. (3) Heat resistance: Using a rectangular test piece of 3 mm × 30 mm × 0.5 mm, the glass transition temperature Tg was measured by a pulling method TM.
A was measured with a weight of 2 g at A.

【0096】(4)加熱後放置試験における寸法変化:
100mm×100mm×0.5mm厚の試験片の四隅
に、隣り合うマーキング間の距離が約80mmになるよ
うに微細な十字型のマーキングを施す。この試験片をオ
ーブン中で150℃、3時間加熱し、次いで23℃、5
0%RHの恒温恒湿室に1週間放置して冷却した後、正
確に(精度±1μm)各マーキング間の距離を測長す
る。その後再び23℃、50%RHの恒温恒湿室に8週
間放置する加熱放置試験中、1週間毎に同様に各マーキ
ング間の距離を測長する。下記式に基づき寸法変化量及
び寸法安定性を評価した。
(4) Dimensional change in standing test after heating:
Fine cross-shaped markings are applied to the four corners of a 100 mm × 100 mm × 0.5 mm thick test piece so that the distance between adjacent markings is about 80 mm. The specimen was heated in an oven at 150 ° C. for 3 hours, then at 23 ° C., 5
After leaving to cool in a constant temperature and humidity room of 0% RH for one week, the distance between each marking is accurately measured (accuracy ± 1 μm). Thereafter, during a heating standing test in which the sample is left in a constant temperature and humidity room at 23 ° C. and 50% RH for 8 weeks, the distance between the markings is similarly measured every week. The dimensional change and dimensional stability were evaluated based on the following formula.

【0097】加熱後放置試験前のマーキング間の距離:
a(μm) 試験開始n週間後におけるマーキング間の距離:b
n(μm)(n=1、2、…、8) 寸法変化量cn(%)=(a−bn)×100/a 寸法安定性C(%)=|(cnの最大値)−(cnの最小
値)|(5)温水浸漬後放置試験における寸法変化:1
00mm×100mm×0.5mm厚の試験片の四隅
に、隣り合うマーキング間の距離が約80mmになるよ
うに微細な十字型のマーキングを施す。この試験片を4
0℃の温水中に1時間浸漬し、表面の水分を吸湿紙で除
去して、23℃、50%RHの恒温恒湿室に1週間放置
した後、正確に(精度±1μm)各マーキング間の距離
を測長する。その後再び23℃、50%RHの恒温恒湿
室に8週間放置する温水浸漬後放置試験中、1週間毎に
同様の各マーキング間の距離を測長する。下記式に基づ
き寸法変化量及び寸法安定性を評価した。
Distance between markings after heating and before standing test:
a (μm) Distance between markings n weeks after the start of test: b
n (μm) (n = 1,2 , ..., 8) dimensional change c n (%) = (a -b n) × 100 / a dimensionally stable C (%) = | (the maximum value of c n) - (minimum value of c n) | (5) dimensional change in shelf test after immersion in hot water: 1
Fine cross-shaped markings are applied to the four corners of a test piece having a thickness of 00 mm x 100 mm x 0.5 mm so that the distance between adjacent markings is about 80 mm. 4
Immerse in hot water at 0 ° C for 1 hour, remove moisture on the surface with absorbent paper, leave in a constant temperature and humidity room at 23 ° C and 50% RH for 1 week, and accurately (accuracy ± 1 µm) between each marking Measure the distance of. Thereafter, the same distance between the respective markings is measured every week during the standing test after immersion in warm water, which is again left in a constant temperature and humidity room at 23 ° C. and 50% RH for 8 weeks. The dimensional change and dimensional stability were evaluated based on the following formula.

【0098】温水浸漬後放置試験前のマーキング間の距
離:d(μm) 試験開始n週間後におけるマーキング間の距離:e
n(μm)(n=1、2、…、8) 寸法変化量fn(%)=(d−en)×100/d 寸法安定性F(%)=|(enの最大値)−(enの最小
値)| (6)ガスバリア測定:0.5mm厚の試験片でオキシ
トラン社製酸素モコン測定器にて23℃、湿度80%の
条件下で酸素透過率を測定した。
Distance between markings before immersion in hot water and before standing test: d (μm) Distance between markings after n weeks from the start of test: e
n (μm) (n = 1,2 , ..., 8) dimensional change f n (%) = (d -e n) × 100 / d dimensional stability F (%) = | (the maximum value of e n) - (minimum value of e n) | (6) gas barrier measurement: 0.5mm thick 23 ° C. at Okishitoran Co. oxygen Mocon instrument at the test piece was measured oxygen permeability under conditions of 80% humidity.

【0099】(7)硬化被膜の硬度:JIS K540
0に準拠して、硬化被膜の鉛筆硬度を測定した。 実施例1 (プラスチックシートの製造)ビス(ヒドロキシメチ
ル)トリシクロ[5.2.1.02,6 ]デカン=ジメタ
クリレート94部、ビス(ヒドロキシメチル)トリシク
ロ[5.2.1.02,6]デカン=モノメタクリレート
6部のアクリレート組成物に、ペンタエリスリトールテ
トラキス(β−チオプロピオネート)6部、光開始剤と
して2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルホス
フィンオキシド(BASF社製「ルシリンTPO」)
0.1部、ベンゾフェノン0.1部を均一に撹拌混合し
た後、脱泡して組成物を得た。この組成物をスペーサー
として厚さ0.5mm(厚み精度±3%)のシリコン板
を用いた光学研磨ガラスの型(厚み精度±2%)に注液
し、ガラス面より距離40cmで上下にある同じ長さで
平行に配置された出力80W/cmのメタルハライドラ
ンプに、それぞれ図8に示すように光路補正マスクを装
着し、5分間紫外線を照射した。紫外線照射後脱型し、
160℃で1時間加熱して硬化物を得た。硬化物の光線
透過率は92%、複屈折は0.4nm、耐熱性は190
℃であった。
(7) Hardness of cured film: JIS K540
According to 0, the pencil hardness of the cured film was measured. Example 1 (Production of plastic sheet) bis (hydroxymethyl) tricyclo [5.2.1.0 2,6 ] decane = dimethacrylate 94 parts, bis (hydroxymethyl) tricyclo [5.2.1.0 2, 6 ] Decane monomethacrylate 6 parts acrylate composition, pentaerythritol tetrakis (β-thiopropionate) 6 parts, photoinitiator 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide (BASF's “Lucillin TPO”) ")
After uniformly mixing 0.1 part of benzophenone and 0.1 part of benzophenone, the composition was defoamed to obtain a composition. This composition was poured into an optically polished glass mold (thickness accuracy: ± 2%) using a 0.5 mm thick (thickness accuracy: ± 3%) silicon plate as a spacer, and was placed 40 cm above and below the glass surface. As shown in FIG. 8, an optical path correction mask was attached to metal halide lamps having an output of 80 W / cm and arranged in parallel at the same length, and irradiated with ultraviolet rays for 5 minutes. Demold after UV irradiation,
The cured product was obtained by heating at 160 ° C. for 1 hour. The light transmittance of the cured product is 92%, the birefringence is 0.4 nm, and the heat resistance is 190.
° C.

【0100】(ガスバリア膜の成膜)得られた0.5m
m厚の硬化物の片面に、スパッタ装置(徳田製作所;形
式CFS−4ES)にてSiOxを300Å成膜した。
得られたプラスチック積層体の酸素透過率は1cc/m
2 ・24h・atmであった。 (硬化被膜の成膜)得られたガスバリア膜付きプラスチ
ックシートのSiOx面上に、ビス(ヒドロキシメチ
ル)トリシクロ[5.2.1.02,6 ]デカン=ジアク
リレート20部と2,4,6−トリメチルベンゾイルジ
フェニルホスフィンオキシド2部と溶剤としてプロピレ
ングリコールモノメチルエーテルアセテート78部より
なる組成物をスピンコートした後、100℃で5分加熱
して溶剤を乾燥し、出力80W/cmのメタルハライド
ランプにて5分間紫外線を照射した。得られた硬化被膜
の鉛筆硬度は4H、膜厚は2μmであった。また加熱後
放置試験及び温水浸漬後放置試験における寸法変化の絶
対値の最大値、及び寸法安定性は表1に示す通りであっ
た。
(Deposition of Gas Barrier Film) Obtained 0.5 m
On one surface of the cured product having a thickness of m, a film of SiOx was formed to a thickness of 300 ° by a sputtering apparatus (Tokuda Seisakusho; Model CFS-4ES).
The oxygen permeability of the obtained plastic laminate is 1 cc / m.
Was 2 · 24h · atm. (Formation of cured film) On the SiOx surface of the obtained plastic sheet with a gas barrier film, 20 parts of bis (hydroxymethyl) tricyclo [5.2.1.0 2,6 ] decane = diacrylate and 2,4,4 After spin-coating a composition consisting of 2 parts of 6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide and 78 parts of propylene glycol monomethyl ether acetate as a solvent, the solvent is dried by heating at 100 ° C. for 5 minutes to form a metal halide lamp having an output of 80 W / cm. For 5 minutes. The pencil hardness of the obtained cured film was 4H, and the film thickness was 2 μm. Further, the maximum value of the absolute value of the dimensional change and the dimensional stability in the standing test after heating and the standing test after immersion in warm water were as shown in Table 1.

【0101】実施例2 ビス(オキシメチル)トリシクロ[5.2.1.0
2,6 ]デカン=ジメタクリレート92部、ビス(ヒドロ
キシメチル)トリシクロ[5.2.1.02,6 ]デカン
=モノメタクリレート8部のアクリレート組成物を用い
る以外は、実施例1と同様に行い硬化物を得た。硬化物
の光線透過率は92%、複屈折は0.4nm、耐熱性は
195℃、加熱後放置試験及び温水浸漬後放置試験にお
ける寸法変化の絶対値の最大値、及び寸法安定性は表1
に示す通りであった。
Example 2 Bis (oxymethyl) tricyclo [5.2.1.0
2,6 ] decane = dimethacrylate 92 parts, bis (hydroxymethyl) tricyclo [5.2.1.0 2,6 ] decane = monomethacrylate 8 parts, except that an acrylate composition was used in the same manner as in Example 1. A cured product was obtained. The light transmittance of the cured product is 92%, the birefringence is 0.4 nm, the heat resistance is 195 ° C., and the maximum absolute value of dimensional change in the standing test after heating and the standing test after immersion in warm water, and the dimensional stability are shown in Table 1.
As shown in FIG.

【0102】実施例3 ビス(オキシメチル)トリシクロ[5.2.1.0
2,6 ]デカン=ジメタクリレート92部、ビス(ヒドロ
キシメチル)トリシクロ[5.2.1.02,6 ]デカン
=モノメタクリレート8部のアクリレート組成物を用い
る以外は、実施例2と同様に行い硬化物を得た。硬化物
の厚み精度は±4%、光線透過率は92%、複屈折は1
nm、耐熱性は190℃、加熱後放置試験及び温水浸漬
後放置試験における寸法変化の絶対値の最大値、及び寸
法安定性は表1に示す通りであった。
Example 3 bis (oxymethyl) tricyclo [5.2.1.0
2,6 ] decane = dimethacrylate 92 parts, bis (hydroxymethyl) tricyclo [5.2.1.0 2,6 ] decane = monomethacrylate 8 parts except that an acrylate composition was used in the same manner as in Example 2. A cured product was obtained. The thickness accuracy of the cured product is ± 4%, the light transmittance is 92%, and the birefringence is 1
nm, the heat resistance was 190 ° C., the maximum value of the absolute value of the dimensional change in the standing test after heating and the standing test after immersion in warm water, and the dimensional stability were as shown in Table 1.

【0103】比較例1 市販の0.5mm厚のポリカーボネート製プラスチック
シート(厚み精度±4%)の加熱後放置試験及び温水浸
漬後放置試験における寸法変化の絶対値の最大値、及び
寸法安定性は表1に示す通りであった。このシートの光
線透過率は90%、複屈折は10nm、耐熱性は140
℃であった。
Comparative Example 1 The maximum absolute value of the dimensional change and the dimensional stability of a commercially available 0.5 mm-thick polycarbonate plastic sheet (thickness accuracy: ± 4%) in a standing test after heating and a standing test after immersion in warm water were as follows: As shown in Table 1. This sheet has a light transmittance of 90%, a birefringence of 10 nm, and a heat resistance of 140.
° C.

【0104】比較例2 光路補正スリットを用いない以外は、実施例1と同様に
行い硬化物を得た。硬化物の光線透過率は92%、複屈
折は0.4nm、耐熱性は190℃、加熱後放置試験及
び温水浸漬後放置試験における、寸法変化の絶対値の最
大値、及び寸法安定性は表1に示す通りであった。
Comparative Example 2 A cured product was obtained in the same manner as in Example 1 except that the optical path correcting slit was not used. The light transmittance of the cured product is 92%, the birefringence is 0.4 nm, the heat resistance is 190 ° C, and the maximum absolute value of the dimensional change and the dimensional stability in the standing test after heating and the standing test after immersion in warm water are shown in the table. As shown in FIG.

【0105】比較例3 図9に示した光路補正マスクを図9に示すように装着し
た以外は、実施例1と同様に行い硬化物を得た。硬化物
の光線透過率は92%、複屈折は0.4nm、耐熱性は
190℃、加熱後放置試験及び温水浸漬後放置試験にお
ける寸法変化の絶対値の最大値、及び寸法安定性は表1
に示す通りであった。
Comparative Example 3 A cured product was obtained in the same manner as in Example 1 except that the optical path correction mask shown in FIG. 9 was mounted as shown in FIG. The light transmittance of the cured product is 92%, the birefringence is 0.4 nm, the heat resistance is 190 ° C., the maximum absolute value of the dimensional change in the standing test after heating and the standing test after immersion in warm water, and the dimensional stability are shown in Table 1.
As shown in FIG.

【0106】[0106]

【表1】 [Table 1]

【0107】[0107]

【発明の効果】本発明によれば、光硬化性樹脂組成物に
活性エネルギー線を照射し、重合硬化させてプラスチッ
クシートを製造する際に、活性エネルギー線の照射を均
一にすることによりシートに残留する内部歪みを低減
し、寸法安定性を確保することができる。
According to the present invention, when a photocurable resin composition is irradiated with an active energy ray and polymerized and cured to produce a plastic sheet, the irradiation of the active energy ray is made uniform to obtain a plastic sheet. The remaining internal distortion can be reduced, and dimensional stability can be ensured.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明のプラスチック積層体の一態様を示す。FIG. 1 shows one embodiment of the plastic laminate of the present invention.

【図2】本発明のプラスチック積層体の一態様を示す。FIG. 2 shows one embodiment of the plastic laminate of the present invention.

【図3】本発明のプラスチック積層体の一態様を示す。FIG. 3 shows one embodiment of the plastic laminate of the present invention.

【図4】本発明のプラスチック積層体の一態様を示す。FIG. 4 shows one embodiment of the plastic laminate of the present invention.

【図5】本発明のプラスチック積層体の一態様を示す。FIG. 5 shows one embodiment of the plastic laminate of the present invention.

【図6】本発明のプラスチック積層体の一態様を示す。FIG. 6 shows one embodiment of the plastic laminate of the present invention.

【図7】本発明のプラスチック積層体の一態様を示す。FIG. 7 shows one embodiment of the plastic laminate of the present invention.

【図8】実施例1に用いられた光路補正マスクを示す。FIG. 8 shows an optical path correction mask used in the first embodiment.

【図9】比較例3に用いられた光路補正マスクを示す。FIG. 9 shows an optical path correction mask used in Comparative Example 3.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

A 低複屈折板 B ガスバリア膜 C 硬化被膜 A low birefringent plate B gas barrier film C cured film

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) C08J 5/18 CEY C08J 5/18 CEY //(C08F 220/20 (C08F 220/20 220:28) 220:28) B29K 33:04 B29K 33:04 105:24 105:24 B29L 7:00 B29L 7:00 C08L 33:08 C08L 33:08 33:10 33:10 Fターム(参考) 4F071 AA33 AA86 AF31Y AF54Y AF61Y AH12 AH19 BB12 BC01 BC12 4F204 AA43 AG01 AR06 AR12 EA03 EB01 EE03 EE07 EF01 EF27 EK17 EK18 EW01 EW34 4J011 GB08 QA03 QA12 QA34 QA45 TA08 TA10 UA01 UA03 VA05 WA10 4J100 AL08Q AL66P BA03Q BC07P BC07Q CA04 CA23 CA27 DA25 DA36 DA63 JA32 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat ゛ (Reference) C08J 5/18 CEY C08J 5/18 CEY // (C08F 220/20 (C08F 220/20 220: 28) 220 : 28) B29K 33:04 B29K 33:04 105: 24 105: 24 B29L 7:00 B29L 7:00 C08L 33:08 C08L 33:08 33:10 33:10 F term (reference) 4F071 AA33 AA86 AF31Y AF54Y AF61Y AH12 AH19 BB12 BC01 BC12 4F204 AA43 AG01 AR06 AR12 EA03 EB01 EE03 EE07 EF01 EF27 EK17 EK18 EW01 EW34 4J011 GB08 QA03 QA12 QA34 QA45 TA08 TA10 UA01 UA03 VA05 WA10 4J100 CA08Q27 CA03 DA03 CA03 DA03

Claims (10)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 キャビティ内に注入された光硬化性樹脂
組成物に活性エネルギー線を照射し、重合硬化させてプ
ラスチックシートを製造する方法において、活性エネル
ギー線光源とキャビティとの間に活性エネルギー線光源
の長さ方向に垂直な複数の等間隔の衝立を備えた光路補
正マスクを配設し、且つ光路補正マスクの衝立の高さ
(b)、そのピッチ(a)、及び活性エネルギー線光源
とキャビティとの距離(d)が下記式(1)を満足する
ことを特徴とするプラスチックシートの製造方法。 【数1】 b≧2a 且つ b≧d/2 (1) (式中、a、b及びdは、それぞれ、衝立のピッチ、衝
立の高さ及び活性エネルギー線光源とキャビティとの距
離を表す)
1. A method for producing a plastic sheet by irradiating a photocurable resin composition injected into a cavity with an active energy ray and polymerizing and curing the same to form an active energy ray between an active energy ray light source and the cavity. An optical path correction mask provided with a plurality of equally spaced partitions perpendicular to the length direction of the light source, and a height (b) of the partition of the optical path correction mask, its pitch (a), and an active energy ray light source; A method for producing a plastic sheet, wherein a distance (d) from a cavity satisfies the following expression (1). B ≧ 2a and b ≧ d / 2 (1) (where a, b and d represent the pitch of the screen, the height of the screen, and the distance between the active energy ray light source and the cavity, respectively)
【請求項2】 光硬化性樹脂組成物に対する活性エネル
ギー線の照射が、平行に配置された同じ長さの二本の棒
状形状の活性エネルギー線光源ランプの中線を、その中
線に対して垂直方向に等速度でキャビティを通過するよ
うに行われ、且つキャビティの進行方向に対する幅が活
性エネルギー線光源ランプの長さよりも小さい請求項1
に記載の方法。
2. The method of irradiating the photocurable resin composition with an active energy ray is performed by arranging two parallel rod-shaped active energy ray light source lamps of the same length, which are arranged in parallel, with respect to the intermediate line. 2. A method according to claim 1, wherein the width of the cavity in the traveling direction is smaller than the length of the active energy ray light source lamp.
The method described in.
【請求項3】 プラスチックシートが空気中で150
℃、3時間加熱した後、50%RHの空気中で23℃、
1時間放置する加熱試験において、試験後の寸法変化量
が±0.01%以内である請求項1又は2に記載の方
法。
3. The method according to claim 1, wherein the plastic sheet is in air for 150 hours.
After heating for 3 hours at 23 ° C. in 50% RH air,
The method according to claim 1, wherein a dimensional change after the test is within ± 0.01% in a heating test left for 1 hour.
【請求項4】 プラスチックシートが40℃の温水中に
1時間浸漬した後、50%RHの空気中で23℃、1週
間放置する温水試験において、試験後の寸法変化量が±
0.01%以内である請求項1ないし3のいずれかに記
載の方法。
4. In a hot water test in which a plastic sheet is immersed in warm water at 40 ° C. for 1 hour and then left at 50 ° C. in air at 23 ° C. for 1 week, the dimensional change after the test is ±
The method according to any one of claims 1 to 3, wherein the content is within 0.01%.
【請求項5】 プラスチックシートの厚みが0.05〜
3mmの範囲にある請求項1ないし4のいずれかに記載
の方法。
5. The plastic sheet has a thickness of 0.05 to 0.05.
5. The method according to claim 1, which is in the range of 3 mm.
【請求項6】 プラスチックシートのガラス転移温度が
150℃以上である請求項1ないし5のいずれかに記載
の方法。
6. The method according to claim 1, wherein the glass transition temperature of the plastic sheet is 150 ° C. or higher.
【請求項7】 プラスチックシートの複屈折が5nm以
下である請求項1ないし6のいずれかに記載の方法。
7. The method according to claim 1, wherein the plastic sheet has a birefringence of 5 nm or less.
【請求項8】 プラスチックシートが分子内に二個以上
の重合性官能基を有する重合性単量体を含む重合性組成
物を重合硬化させて得られる請求項1ないし7のいずれ
かに記載の方法。
8. The plastic sheet according to claim 1, wherein the plastic sheet is obtained by polymerizing and curing a polymerizable composition containing a polymerizable monomer having two or more polymerizable functional groups in a molecule. Method.
【請求項9】 重合性組成物が下記成分A、B及びCを
含有してなるもの(但し、各成分の割合は成分Aと成分
Bとの合計を100重量部として表す)である請求項8
に記載の方法。成分A:一般式(I)で表される含脂環
骨格ビス(メタ)アクリレート:70〜99重量部 【化1】 (式中、R1 及びR2 は、それぞれ独立して、水素原子
又はメチル基を示し、mは1又は2を示し、nは0又は
1を示し、p及びqは、それぞれ独立して、0、1又は
2を示す) 成分B:一般式(II)で表される含脂環骨格モノ(メ
タ)アクリレート:1〜30重量部 【化2】 (式中、R3 は水素原子又はメチル基を示し、mは1又
は2を示し、nは0又は1を示し、r及びsは、それぞ
れ独立して、0、1又は2を示す) 成分C:少なくとも二官能性のメルカプト化合物:1〜
15重量部
9. A polymerizable composition comprising the following components A, B and C (however, the proportion of each component is represented by 100 parts by weight of the sum of the components A and B). 8
The method described in. Component A: alicyclic skeleton bis (meth) acrylate represented by the general formula (I): 70 to 99 parts by weight (Wherein, R 1 and R 2 each independently represent a hydrogen atom or a methyl group, m represents 1 or 2, n represents 0 or 1, p and q each independently represent 0, 1, or 2) Component B: alicyclic skeleton mono (meth) acrylate represented by the general formula (II): 1 to 30 parts by weight (Wherein, R 3 represents a hydrogen atom or a methyl group, m represents 1 or 2, n represents 0 or 1, r and s each independently represent 0, 1 or 2) C: at least bifunctional mercapto compound: 1 to
15 parts by weight
【請求項10】 プラスチックシートが液晶表示パネル
用である請求項1〜9のいずれかに記載の方法。
10. The method according to claim 1, wherein the plastic sheet is for a liquid crystal display panel.
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JP2009157252A (en) * 2007-12-27 2009-07-16 Sumitomo Chemical Co Ltd Manufacturing apparatus for light control film, and method for manufacturing the same

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