JP2002095930A - 乾式脱硫・脱硝装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】パージ槽、コンベヤ等を配設する必要がなく、
乾式脱硫・脱硝装置のコストを低くすることができるよ
うにする。 【解決手段】移動層と、被処理ガス供給室６１と、被処
理ガス排出室と、移動層の上端に配設され、複数のホッ
パ室を備えた上部ホッパと、移動層より上方に配設され
た上部分配ホッパ３６と、上部分配ホッパ３６と各ホッ
パ室との間に配設され、上部分配ホッパ３６内の媒体１
７を各ホッパ室に供給するシュート４７と、上部分配ホ
ッパ３６と被処理ガス供給室６１及び被処理ガス排出室
のうちの少なくとも一方との間に配設されたパージ管４
１と、パージ管４１に配設された開閉手段とを有する。
上部分配ホッパ３６内の媒体１７は、被処理ガス供給室
６１及び被処理ガス排出室のうちの少なくとも一方内に
蓄えられる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、乾式脱硫・脱硝装
置に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来、乾式脱硫・脱硝装置においては、
反応塔の上端から下端に向けて活性炭等の媒体を移動さ
せ、その間に被処理ガスを通すことによって脱硫と脱硝
とを同時に行い、被処理ガスから亜硫酸ガス（ＳＯ₂ ）
等の硫黄酸化物、及び窒素酸化物（ＮＯ_X ）を除去する
ようにしている。

【０００３】図２は従来の反応塔の斜視図、図３は従来
の反応塔の断面図、図４は従来の粒度分布の測定結果を
示す図である。

【０００４】図において、１１は内部に互いに平行な一
対の移動層１０が形成された反応塔本体であり、該反応
塔本体１１は、角錐（すい）形状を有する上部ホッパ１
２、該上部ホッパ１２と連結された断面が矩（く）形の
胴部１３、該胴部１３と連結された角錐形状を有する下
部ホッパ１４を備える。そして、前記上部ホッパ１２は
上端に媒体供給口１５を、前記下部ホッパ１４は下端に
媒体排出口１６を有し、前記媒体供給口１５を介して供
給された媒体１７は上部ホッパ１２内、移動層１０内及
び下部ホッパ１４内を下方に移動し、媒体排出口１６か
ら外部に排出される。さらに、前記媒体排出口１６を介
して排出された媒体１７は、図示されない再生装置にお
いて再生させられ、再び上部ホッパ１２に供給される。

【０００５】前記胴部１３の側壁の一方には、被処理ガ
スが供給される被処理ガス供給部１８が、側壁の他方に
は、被処理ガスが排出される被処理ガス排出部２０が形
成され、前記胴部１３内において、前記被処理ガス供給
部１８から供給された被処理ガスは左右に分流され、各
移動層１０内を移動し、被処理ガス排出部２０から排出
される。なお、前記反応塔本体１１、被処理ガス供給部
１８、被処理ガス排出部２０等によって反応塔が、該反
応塔、再生装置等によって乾式脱硫・脱硝装置が構成さ
れる。

【０００６】そして、前記移動層１０は、前記被処理ガ
スの流れ方向における上流側に入口ルーバ１０ａを、下
流側に出口ルーバ１０ｂを備える。また、移動層１０の
本体部分は上下方向に延在させて配設された複数の区画
板１０ｃによって区画され、複数の区画室が形成され
る。前記入口ルーバ１０ａは媒体１７が落下しないよう
な開口の構造を有し、出口ルーバ１０ｂは多孔プレート
から成り、該多孔プレートの各穴の径は前記媒体１７の
粒子径より小さく設定され、いずれも被処理ガスだけを
通過させ、媒体１７が入口ルーバ１０ａ及び出口ルーバ
１０ｂから外部に流出することがないようになってい
る。

【０００７】前記移動層１０の下端、すなわち、前記胴
部１３と下部ホッパ１４との間には、図示されない駆動
系によって回転させられ、移動層１０のレベルを一定に
調整しながら媒体排出口１６から媒体１７を定量ずつ排
出するための切出装置２２が配設される。したがって、
移動層１０内の媒体１７は、一定の速度で下方に移動さ
せられ、その間に被処理ガスと直交流で接触し、脱硫及
び脱硝を同時に行う。

【０００８】ところで、前記媒体１７は反応塔本体１１
の上方の１箇所に形成された媒体供給口１５を介して供
給されるので、移動層１０の上端に所定の安息角θを有
する媒体１７の山が形成される。なお、胴部１３の幅を
Ｌとし、上部ホッパ１２内に形成された媒体１７の山の
高さをＨとすると、前記安息角θは θ＝ｔａｎ^-1｛Ｈ／（Ｌ／２）｝ で表すことができる。そして、媒体１７として活性炭を
使用した場合、該活性炭は、移動層１０内を図４に示さ
れるような粒度分布で移動させられる。

【０００９】ところで、前記移動層１０において、入口
ルーバ１０ａ、出口ルーバ１０ｂ、区画板１０ｃ等が破
損したり、各区画室内において媒体１７が閉塞（そく）
したりして反応塔に何らかの異常が発生すると、脱硫及
び脱硝を円滑に行うことができなくなってしまう。そこ
で、反応塔に異常が発生すると、媒体排出口１６から排
出された媒体１７を前記再生装置に供給せず、図示され
ないパージ槽に供給し、該パージ槽に一時的に蓄えるよ
うにしている。したがって、その間に、入口ルーバ１０
ａ、出口ルーバ１０ｂ、区画板１０ｃ等を補修したり、
各区画室内において閉塞した媒体１７を除去したりする
ようにしている。

【００１０】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記従
来の乾式脱硫・脱硝装置においては、反応塔に異常が発
生したときに、媒体１７を蓄えるための前記パージ槽が
必要になるだけでなく、媒体排出口１６から排出された
媒体１７を前記パージ槽に供給するためにコンベヤ等の
図示されない搬送手段が必要になるので、乾式脱硫・脱
硝装置のコストが高くなってしまう。

【００１１】本発明は、前記従来の乾式脱硫・脱硝装置
の問題点を解決して、パージ槽、コンベヤ等を配設する
必要がなく、コストを低くすることができる乾式脱硫・
脱硝装置を提供することを目的とする。

【００１２】

【課題を解決するための手段】そのために、本発明の乾
式脱硫・脱硝装置においては、移動層と、該移動層に隣
接させて配設され、被処理ガスを移動層に供給するため
の被処理ガス供給室と、前記移動層に隣接させて配設さ
れ、被処理ガスを移動層から排出するための被処理ガス
排出室と、前記移動層の上端に配設され、複数のホッパ
室を備えた上部ホッパと、前記移動層より上方に配設さ
れ、媒体入口を介して媒体が供給される上部分配ホッパ
と、該上部分配ホッパと各ホッパ室との間に配設され、
上部分配ホッパ内の媒体を各ホッパ室に供給するシュー
トと、前記上部分配ホッパと被処理ガス供給室及び被処
理ガス排出室のうちの少なくとも一方との間に配設され
たパージ管と、該パージ管に配設された開閉手段とを有
する。

【００１３】本発明の他の乾式脱硫・脱硝装置において
は、さらに、異常が発生したかどうかを判断する異常発
生判断処理手段と、異常が発生したと判断された場合
に、前記開閉手段を開放する開放処理手段とを有する。

【００１４】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て図面を参照しながら詳細に説明する。

【００１５】図１は本発明の実施の形態における乾式脱
硫・脱硝装置の要部を示す概略図、図５は本発明の実施
の形態における反応塔の要部を示す概略図、図６は本発
明の実施の形態における反応塔の平面図である。

【００１６】図において、３１は反応塔本体であり、該
反応塔本体３１は、上部分配ホッパ３６、上部ホッパ４
２、４３、胴部４８及び図示されない下部ホッパを備え
る。また、３５は媒体供給コンベヤであり、該媒体供給
コンベヤ３５によって搬送された媒体１７は、上部分配
ホッパ３６内に落下させられる。

【００１７】該上部分配ホッパ３６は、直径が約３
〔ｍ〕のほぼ円柱形の形状を有し、上壁に媒体入口３７
を備えるとともに、下壁に角度が４５〔°〕の逆円錐形
の形状を有する下部逆円錐部３８が形成される。該下部
逆円錐部３８の斜面には、半径１〔ｍ〕の同一円上の１
６箇所にシュート入口３９が形成される。また、下部逆
円錐部３８の最下部には、１個のパージ穴４０が形成さ
れ、該パージ穴４０に鉄製パイプから成るパージ管４１
が接続される。

【００１８】前記胴部４８は、一対の移動層５５、各移
動層５５間において移動層５５に隣接させて配設され、
被処理ガスを各移動層５５に供給するための被処理ガス
供給室６１、及び前記各移動層５５の外側において移動
層５５に隣接させて配設され、被処理ガスを各移動層５
５から排出するための一対の被処理ガス排出室６２、６
３を備え、前記被処理ガス供給室６１に被処理ガス入口
６５が、前記被処理ガス排出室６２、６３にそれぞれ被
処理ガス出口６６、６７が形成される。なお、前記上部
分配ホッパ３６は各移動層５５より上方に配設される。
また、前記反応塔本体３１、被処理ガス入口６５、被処
理ガス出口６６、６７等によって反応塔が構成される。

【００１９】そして、前記各移動層５５は、被処理ガス
供給室６１に面する側に入口ルーバ７１を、被処理ガス
排出室６２、６３に面する側に図示されない出口ルーバ
を備えるとともに、それぞれ上端に上部ホッパ４２、４
３を、下端に前記下部ホッパを備え、該各上部ホッパ４
２、４３はそれぞれ８個の角錐形の形状を有するホッパ
室４５を備える。前記入口ルーバ７１は媒体１７が落下
しないような開口の構造を有し、出口ルーバは多孔プレ
ートから成り、該多孔プレートの各穴の径は前記媒体１
７の粒子径より小さく設定され、いずれも被処理ガスだ
けを通過させることができ、媒体１７が入口ルーバ７１
及び出口ルーバから外部に流出することがないようにな
っている。

【００２０】そして、前記上部分配ホッパ３６と各ホッ
パ室４５との間に、直径が２００〜３００〔ｍｍ〕の鉄
製パイプから成るシュート４７が配設され、各シュート
４７によって、上部分配ホッパ３６内の媒体１７が各ホ
ッパ室４５に供給される。また、前記パージ穴４０と被
処理ガス供給室６１との間に前記パージ管４１が配設さ
れ、該パージ管４１を介して、必要に応じて上部分配ホ
ッパ３６内の媒体１７が被処理ガス供給室６１に供給さ
れる。そして、前記各移動層５５は７個の区画板４９に
よって区画され、前記各ホッパ室４５に対応させて８個
の区画室５０が形成される。

【００２１】前記下部ホッパは角錐形状の形状を有し、
下部ホッパの下端に媒体排出口が形成される。また、前
記各移動層５５の下端、すなわち、前記胴部４８と下部
ホッパとの間には、図示されない駆動系によって回転さ
せられ、移動層５５のレベルを一定に調整しながら媒体
排出口から媒体１７を定量ずつ排出するための図示され
ない切出装置が配設される。したがって、各移動層５５
内の媒体１７は、一定の速度で下方に移動させられ、そ
の間に被処理ガスと接触し、脱硫及び脱硝を同時に行
う。

【００２２】前記構成の反応塔において、被処理ガス入
口６５から図６における矢印方向に供給された被処理ガ
スは、被処理ガス供給室６１において左右（図６におけ
る上下）に分流され、各移動層５５内を通過して被処理
ガス排出室６２、６３に送られ、被処理ガス出口６６、
６７から図６における矢印方向に排出される。

【００２３】また、媒体供給コンベヤ３５によって搬送
された媒体１７は媒体入口３７を介して上部分配ホッパ
３６に供給される。このとき、前記媒体１７は、上部分
配ホッパ３６内の中心部に落下し、粒径の大きな媒体１
７は、山の斜面に沿って落下して上部分配ホッパ３６内
の周辺部に集まり、粒径の小さな媒体１７は、上部分配
ホッパ３６内の中央部に集まるが、円周方向において
は、同じ粒度分布で集まる。したがって、同じ粒径の媒
体１７が、各シュート４７を通り、上部ホッパ４２、４
３の各ホッパ室４５に供給される。

【００２４】そして、該各ホッパ室４５の媒体１７は、
それぞれ各区画室５０に供給され、区画室５０内を下方
に移動させられるが、その間に被処理ガス供給室６１か
ら供給された被処理ガスと直交流で接触し、被処理ガス
中の亜硫酸ガス等の硫黄酸化物を吸着するとともに、窒
素酸化物を無害な窒素（Ｎ₂ ）と水（Ｈ₂ Ｏ）とに分解
する。このようにして脱硫及び脱硝が同時に行われる。

【００２５】そして、各区画室５０から下部ホッパに供
給された媒体１７は、前記媒体排出口から排出されて図
示されない再生装置に送られ、該再生装置において再生
させられ、再び上部分配ホッパ３６に供給される。な
お、前記反応塔、再生装置等によって乾式脱硫・脱硝装
置が構成される。

【００２６】ところで、前記上部分配ホッパ３６の内径
をＤ₁ とし、各シュート入口３９の中心を通る円の直径
をＤ₂ とし、シュート４７の直径をＤ₃ とし、上部ホッ
パ４２、４３の分割数、すなわち、各上部ホッパ４２、
４３におけるホッパ室４５の数をｎとし、各シュート入
口３９間のピッチをＰとすると、 Ｄ₂ ＝（２ｎ・Ｄ₃ ＋２ｎ・Ｐ）／π の関係になる。

【００２７】そして、 Ｄ₂ ／Ｄ₁ ＝２／３ とし、また、媒体１７の直径をＤ₄ としたとき、各シュ
ート４７の直径Ｄ₃ を、 Ｄ₃ ＝Ｋ₁ ・Ｄ₄ （Ｋ₁ ：１０〜３０） とする。なお、通常は、 Ｄ₄ ＝１０〔ｍｍ〕 ｎ＝８〜１２ Ｐ＝５０〜１００〔ｍｍ〕 であるので、 Ｄ₁ ＝２〜３〔ｍ〕 Ｄ₂ ＝１．３〜２〔ｍ〕 程度とするのが好ましい。

【００２８】そして、前記上部分配ホッパ３６の高さを
Ｈとし、上部分配ホッパ３６の上壁から上部分配ホッパ
３６内に形成される媒体１７の山の頂上までの高さをｈ
₁ とし、山の頂上から山の麓（ふもと）までの高さをｈ
₂ とし、山の麓から上部分配ホッパ３６の下壁までの高
さをｈ₃ とすると、 Ｈ＝ｈ₁ ＋ｈ₂ ＋ｈ₃ になり、 ｈ₁ ≒ｈ₂ ≒ｈ₃ になる。

【００２９】また、媒体１７の山の安息角θは、 θ＝ｔａｎ^-1｛ｈ₂ ／（Ｄ₁ ／２）｝ になり、通常、３５〔°〕程度である。

【００３０】そして、各シュート４７と各上部ホッパ４
２、４３とが連結される部分の傾き角をθ₁ 〜θ₈ とす
ると、傾き角θ₁ 〜θ₈ は、 θ₁ ＝θ₈ ＜θ₂ ＝θ₇ ＜θ₃ ＝θ₆ ＜θ₄ ＝θ₅ になるように設定される。通常、傾き角θ₁ は４５
〔°〕以上にするのが好ましい。さらに、各移動層５５
の幅をＬとし、各ホッパ室４５の底部の幅をＬ₁ 〜Ｌ ₈
とし、各ホッパ室４５の高さをｈ₄ とすると、 Ｌ＝Ｋ₂ ・Ｌ₁ （Ｋ₂ ：４〜１０） Ｌ₁ ＝Ｌ₂ ＝Ｌ₃ ＝Ｌ₄ ＝Ｌ₅ ＝Ｌ₆ ＝Ｌ₇ ＝Ｌ₈ であり、各ホッパ室４５の角錐の角度θ′は、 θ′＝ｔａｎ^-1｛ｈ₄ ／（Ｌ₁ ／２）｝ で表すことができ、稜（りょう）角で４０〔°〕とする
のが好ましい。

【００３１】また、各移動層５５の層厚ｗ₁ は、脱硝率
によって左右され、 ｗ₁ ＝１〜２〔ｍ〕 とするのが好ましく、また、移動層５５間の距離ｗ
₂ は、 ｗ₂ ＝Ｋ₃ ・ｗ₁ （Ｋ₃ ：１〜３） である。

【００３２】なお、本実施の形態においては、 ０．６＜Ｌ₁ ／ｗ₁ ≦１．０ である。

【００３３】このように、同じ粒径の媒体１７が、各ホ
ッパ室４５に供給され、各区画室５０内を下方に移動さ
せられるので、被処理ガスは、移動層５５内を均一に流
れるようになる。したがって、ガス偏流が発生するのを
防止することができるので、脱硫率及び脱硝率を高くす
ることができる。

【００３４】ところで、前記各移動層５５において、入
口ルーバ７１、出口ルーバ、区画板４９等が破損した
り、各区画室５０内において媒体１７が閉塞したりして
反応塔に何らかの異常が発生すると、脱硫及び脱硝を円
滑に行うことができなくなってしまう。そこで、反応塔
に異常が発生すると、上部分配ホッパ３６内の媒体１７
を、前記上部ホッパ４２、４３に供給せず、パージ管４
１を介して被処理ガス供給室６１に供給し、該被処理ガ
ス供給室６１に一時的に蓄えるようにしている。したが
って、その間に、入口ルーバ７１、出口ルーバ、区画板
４９等を補修したり、各区画室５０内において閉塞した
媒体１７を除去したりするようにしている。

【００３５】そのために、前記パージ管４１の所定の位
置に開閉手段としての弁７２が配設され、駆動手段とし
てのアクチュエータ７３を駆動することによって弁７２
を開閉させることができる。この場合、前記弁７２とし
て開閉弁、スライドゲート等を、アクチュエータ７３と
してモータ、エアシリンダ等を使用することができる。

【００３６】また、前記上部分配ホッパ３６内の所定の
位置にレベルセンサ７５が配設され、該レベルセンサ７
５によって上部分配ホッパ３６内の媒体１７の高さｈが
検出され、検出された高さｈが制御部７４に送られる。
なお、本実施の形態においては、レベルセンサ７５は媒
体１７の山の頂上の近傍に配設されるようになっている
が、山の頂上に配設したり、山の麓の近傍に配設したり
することもできる。また、前記レベルセンサ７５として
は、静電容量の変化に基づいて媒体１７の高さｈを検出
するレベル指示計を使用することができる。

【００３７】そして、前記被処理ガス入口６５に第１の
圧力センサ７６が、被処理ガス出口６６に第２の圧力セ
ンサ７７が配設され、前記第１の圧力センサ７６によっ
て被処理ガス入口６５側の被処理ガスの圧力Ｐ１が検出
され、前記第２の圧力センサ７７によって被処理ガス出
口６６側の被処理ガスの圧力Ｐ２が検出され、検出され
た圧力Ｐ１、Ｐ２が制御部７４に送られる。なお、必要
に応じて被処理ガス出口６７に第３の圧力センサを配設
し、該第３の圧力センサによって被処理ガス出口６７側
の被処理ガスの圧力を検出し、検出された圧力を制御部
７４に送ることもできる。

【００３８】そして、前記制御部７４の図示されない異
常発生判断処理手段は、前記高さｈを受けると、該高さ
ｈとあらかじめ設定された上限値ｈｍａｘとを比較する
ことによって、第１の異常判定条件が成立するかどうか
を判断し、前記高さｈが上限値ｈｍａｘ以上である場
合、第１の異常判定条件が成立すると判断し、前記高さ
ｈが上限値ｈｍａｘより低い場合、第１の異常判定条件
が成立しないと判断する。

【００３９】また、前記異常発生判断処理手段は、前記
高さｈとあかじめ設定された下限値ｈｍｉｎとを比較す
ることによって、第２の異常判定条件が成立するかどう
かを判断し、前記高さｈが下限値ｈｍｉｎ以下である場
合、第２の異常判定条件が成立すると判断し、前記高さ
ｈが下限値ｈｍｉｎより高い場合、第２の異常判定条件
が成立しないと判断する。この場合、前記上限値ｈｍａ
ｘ及び下限値ｈｍｉｎは、レベルセンサ７５が配設され
る位置に対応させて設定される。

【００４０】さらに、前記異常発生判断処理手段は、前
記圧力Ｐ１、Ｐ２を受けると、圧力差ΔＰ ΔＰ＝Ｐ１−Ｐ２ を算出するとともに、該圧力差ΔＰとあらかじめ設定さ
れた閾（しきい）値Ｐｔｈとを比較することによって、
異常判定付加条件が成立するかどうかを判断し、前記圧
力差ΔＰが閾値Ｐｔｈ以上である場合、異常判定付加条
件が成立すると判断し、前記圧力差ΔＰが閾値Ｐｔｈよ
り小さい場合、異常判定付加条件が成立しないと判断す
る。

【００４１】次に、前記異常発生判断処理手段は、第
１、第２の異常判定条件及び異常判定付加条件が成立す
るかどうかによって反応塔に異常が発生しているかどう
かを判断する。すなわち、前記異常発生判断処理手段
は、第１の異常判定条件が成立し、かつ、異常判定付加
条件が成立する場合、及び第２の異常判定条件が成立
し、かつ、異常判定付加条件が成立しない場合には、反
応塔に異常が発生したと判断し、第１、第２の異常判定
条件がいずれも成立しない場合には、前記異常判定付加
条件が成立するしないにかかわらず、反応塔に異常が発
生していないと判断する。

【００４２】なお、本実施の形態においては、第１、第
２の異常判定条件及び異常判定付加条件が成立するかど
うかによって反応塔に異常が発生したかどうかを判断す
るようになっているが、第１、第２の異常判定条件が成
立するかどうかによって反応塔に異常が発生したかどう
かを判断することもできる。そのために、前記異常発生
判断処理手段は、第１、第２の異常判定条件のうちのい
ずれか一方が成立する場合、反応塔に異常が発生したと
判断し、第１、第２の異常判定条件がいずれも成立しな
い場合、反応塔に異常が発生していないと判断する。

【００４３】このようにして、異常発生判断処理が行わ
れ、異常が発生していると判断されると、前記制御部７
４の図示されない警報処理手段は図示されない警報器、
表示装置等によってアラームを発生させる。また、前記
制御部７４の図示されない開放処理手段は、前記アクチ
ュエータ７３を駆動して弁７２を開放する。この場合、
上部分配ホッパ３６内の媒体１７は、各移動層５５には
送られず、パージ管４１を介して被処理ガス供給室６１
内に送られ、一時的に蓄えられる。したがって、各移動
層５５内から媒体１７を除去することができるので、そ
の間に、入口ルーバ７１、出口ルーバ、区画板４９等を
補修したり、各区画室５０内において閉塞した媒体１７
を除去したりすることができる。なお、前記被処理ガス
供給室６１の底部に前記媒体１７を排出するための媒体
出口８１が形成され、前記被処理ガス供給室６１内に蓄
えられた媒体１７を排出することができるようになって
いる。そのために、前記被処理ガス供給室６１の底部は
傾斜させられ、媒体１７は自重で排出される。

【００４４】このように、媒体１７を蓄えるためのパー
ジ槽を別に配設する必要がなくなるだけでなく、媒体１
７を前記パージ槽に供給するためのコンベヤ等の搬送手
段が不要になるので、乾式脱硫・脱硝装置のコストを低
くすることができる。

【００４５】なお、本実施の形態においては、上部分配
ホッパ３６と被処理ガス供給室６１とをパージ管４１に
よって接続し、上部分配ホッパ３６内の媒体１７を被処
理ガス供給室６１に供給するようになっているが、上部
分配ホッパ３６と被処理ガス排出室６２、６３とをパー
ジ管によって接続し、上部分配ホッパ３６内の媒体１７
を被処理ガス排出室６２、６３に供給することもでき
る。

【００４６】また、本実施の形態において、弁７２はア
クチュエータ７３を駆動することによって開放するよう
になっているが、前記警報器、表示装置等によるアラー
ムに従って手動で開放することもできる。

【００４７】次に、従来の乾式脱硫・脱硝装置と本発明
の乾式脱硫・脱硝装置との粒度分布の差について説明す
る。

【００４８】図７は従来の乾式脱硫・脱硝装置における
粒度分布を示す図、図８は本発明の実施の形態における
乾式脱硫・脱硝装置の粒度分布を示す図である。

【００４９】この場合、媒体１７（図１）の全体（触媒
全体）及び各区画室＃１〜＃８に供給された媒体１７の
粒度分布を示している。

【００５０】図７に示されるように、従来の乾式脱硫・
脱硝装置においては、粒径の大きな媒体１７は移動層１
０（図３参照）の幅Ｌ方向における周辺部の区画室＃
１、＃８に集まり、粒径の小さな媒体１７は移動層１０
の幅Ｌ方向における中央部の区画室＃４、＃５に集まっ
てしまう。この場合、粒径のばらつきを示す標準偏差σ
は１４．７４である。

【００５１】これに対して、図８に示されるように、本
発明の乾式脱硫・脱硝装置においては、粒径の大きな媒
体１７も粒径の小さな媒体１７も、移動層５５（図５）
の幅Ｌ方向における全体にほぼ均一に供給される。この
場合、標準偏差σは２．９９である。

【００５２】次に、本実施の形態における脱硝率、空間
速度及び媒体１７の粒径の関係について説明する。

【００５３】図９は本発明の実施の形態における脱硝
率、空間速度及び粒径の関係を示した図である。なお、
図において、横軸に空間速度ｓｖを、縦軸に脱硝率を採
ってある。

【００５４】ここで、空間速度ｓｖとは、被処理ガスの
量を媒体１７（図１）の量で割って得られる値であり、
一定量の媒体１７によって処理を行うことができる被処
理ガスの量を示す。

【００５５】図に示されるように、空間速度ｓｖが低く
なると、脱硝率が高くなり、また、粒径が小さいほど脱
硝率が高くなる。

【００５６】前述されたように、前記移動層５５（図
５）の幅Ｌ方向において粒度分布は均一になるので、被
処理ガスに偏流が発生することはない。したがって、空
間速度ｓｖを一様に低くすることができ、脱硝率を高く
することができる。

【００５７】図１０は各区画室ごとの脱硝率について、
従来の乾式脱硫・脱硝装置と本発明の乾式脱硫・脱硝装
置とを比較した図、図１１は各区画室ごとの空間速度に
ついて、従来の乾式脱硫・脱硝装置と本発明の乾式脱硫
・脱硝装置とを比較した図である。

【００５８】図から分かるように、本発明の乾式脱硫・
脱硝装置においては、脱硝率及び空間速度ｓｖのいずれ
も各区画室＃１〜＃８にわたって平均的な値を有するこ
とができるので、乾式脱硫・脱硝装置の全体で脱硝率を
約１．２〔％〕高くすることができる。

【００５９】なお、本実施の形態においては、乾式脱硫
・脱硝装置の反応塔について説明しているが、本発明を
媒体補給槽、脱離塔等に適用することもできる。

【００６０】また、媒体１７（図１）としては、活性炭
のほかに、金属系脱硝媒体等の一般的な媒体を使用する
こともできる。

【００６１】なお、本発明は前記実施の形態に限定され
るものではなく、本発明の趣旨に基づいて種々変形させ
ることが可能であり、それらを本発明の範囲から排除す
るものではない。

【００６２】

【発明の効果】以上詳細に説明したように、本発明によ
れば、乾式脱硫・脱硝装置においては、移動層と、該移
動層に隣接させて配設され、被処理ガスを移動層に供給
するための被処理ガス供給室と、前記移動層に隣接させ
て配設され、被処理ガスを移動槽から排出するための被
処理ガス排出室と、前記移動層の上端に配設され、複数
のホッパ室を備えた上部ホッパと、前記移動層より上方
に配設され、媒体入口を介して媒体が供給される上部分
配ホッパと、該上部分配ホッパと各ホッパ室との間に配
設され、上部分配ホッパ内の媒体を各ホッパ室に供給す
るシュートと、前記上部分配ホッパと被処理ガス供給室
及び被処理ガス排出室のうちの少なくとも一方との間に
配設されたパージ管と、該パージ管に配設された開閉手
段とを有する。

【００６３】この場合、前記上部分配ホッパと被処理ガ
ス供給室及び被処理ガス排出室のうちの少なくとも一方
との間にパージ管が配設され、開閉手段の開放に伴っ
て、上部分配ホッパ内の媒体がパージ管を介して前記被
処理ガス供給室及び被処理ガス排出室のうちの少なくと
も一方に供給される。

【００６４】したがって、上部分配ホッパ内の媒体は、
移動層には送られず、被処理ガス供給室及び被処理ガス
排出室のうちの少なくとも一方内に一時的に蓄えられ
る。その結果、移動層内から媒体を除去することができ
るので、その間に、入口ルーバ、出口ルーバ、区画板等
を補修したり、各区画室内において閉塞した媒体を除去
したりすることができる。

【００６５】また、媒体を蓄えるためのパージ槽を別に
配設する必要がなくなるだけでなく、媒体を前記パージ
槽に供給するためのコンベヤ等の搬送手段が不要になる
ので、乾式脱硫・脱硝装置のコストを低くすることがで
きる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施の形態における乾式脱硫・脱硝装
置の要部を示す概略図である。

【図２】従来の反応塔の斜視図である。

【図３】従来の反応塔の断面図である。

【図４】従来の粒度分布の測定結果を示す図である。

【図５】本発明の実施の形態における反応塔の要部を示
す概略図である。

【図６】本発明の実施の形態における反応塔の平面図で
ある。

【図７】従来の乾式脱硫・脱硝装置における粒度分布を
示す図である。

【図８】本発明の実施の形態における乾式脱硫・脱硝装
置の粒度分布を示す図である。

【図９】本発明の実施の形態における脱硝率、空間速度
及び粒径の関係を示した図である。

【図１０】各区画室ごとの脱硝率について、従来の乾式
脱硫・脱硝装置と本発明の乾式脱硫・脱硝装置とを比較
した図である。

【図１１】各区画室ごとの空間速度について、従来の乾
式脱硫・脱硝装置と本発明の乾式脱硫・脱硝装置とを比
較した図である。

【符号の説明】

１７ 媒体 ３６ 上部分配ホッパ ３７ 媒体入口 ４１ パージ管 ４２、４３ 上部ホッパ ４５ ホッパ室 ４７ シュート ５５ 移動層 ６１ 被処理ガス供給室 ６２、６３ 被処理ガス排出室 ７２ 弁 ７４ 制御部

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 4D002 AA02 AA12 BA04 BA06 CA08 DA41 EA03 FA10 GA02 GA03 GB04 GB20 HA10 4D048 AA02 AA06 AB03 BB01 CB01 CD10 EA04

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 （ａ）移動層と、（ｂ）該移動層に隣接
   させて配設され、被処理ガスを移動層に供給するための
   被処理ガス供給室と、（ｃ）前記移動層に隣接させて配
   設され、被処理ガスを移動層から排出するための被処理
   ガス排出室と、（ｄ）前記移動層の上端に配設され、複
   数のホッパ室を備えた上部ホッパと、（ｅ）前記移動層
   より上方に配設され、媒体入口を介して媒体が供給され
   る上部分配ホッパと、（ｆ）該上部分配ホッパと各ホッ
   パ室との間に配設され、上部分配ホッパ内の媒体を各ホ
   ッパ室に供給するシュートと、（ｇ）前記上部分配ホッ
   パと被処理ガス供給室及び被処理ガス排出室のうちの少
   なくとも一方との間に配設されたパージ管と、（ｈ）該
   パージ管に配設された開閉手段とを有することを特徴と
   する乾式脱硫・脱硝装置。
2. 【請求項２】 （ａ）異常が発生したかどうかを判断す
   る異常発生判断処理手段と、（ｂ）異常が発生したと判
   断された場合に、前記開閉手段を開放する開放処理手段
   とを有する請求項１に記載の乾式脱硫・脱硝装置。