JP2002093961A - ヒートシンク及び半導体装置 - Google Patents

ヒートシンク及び半導体装置

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JP2002093961A
JP2002093961A JP2000278246A JP2000278246A JP2002093961A JP 2002093961 A JP2002093961 A JP 2002093961A JP 2000278246 A JP2000278246 A JP 2000278246A JP 2000278246 A JP2000278246 A JP 2000278246A JP 2002093961 A JP2002093961 A JP 2002093961A
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heat sink
heat
semiconductor device
radiating portion
heat radiating
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JP2000278246A
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Minoru Sato
稔 佐藤
Hideo Saito
秀夫 斎藤
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Nihon Inter Electronics Corp
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Nihon Inter Electronics Corp
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 ヒートシンクの表面に凹凸を設ける等の加工
を施すことができ、さらにはヒートシンクと半導体装置
本体との間に隙間が生じるのを防ぐことができるヒート
シンク及びこのヒートシンクを備えた半導体装置を提供
する。 【解決手段】 順送プレス加工により、ヒートシンク1
2の取付部12aにおける装置本体11の取り付けてあ
る面の裏面及び放熱部12bの両面に、葛折りが繰り返
し延在する方向と垂直に交わる方向に複数の溝12c及
び突状12dを設けて、ヒートシンク12の表面に凹凸
を形成する。また、ヒートシンク12を順送プレス加工
により加工し、装置本体11とヒートシンク12の取付
部12aとの取付面の最適設計を行う。これにより、装
置本体11から発生する熱による熱膨張が生じても、装
置本体11とヒートシンク12との間に隙間が生じるの
を防ぐ半導体装置10を提供できる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明はヒートシンク及びこ
のヒートシンクを備えた半導体装置に関する。
【0002】
【従来の技術】周知のように、高出力で発熱量が大きな
半導体装置本体には放熱フィン(放熱板)を備えたヒー
トシンクが接するように設けられ、このヒートシンクに
より半導体装置の放熱が行われる。このようなヒートシ
ンクは、通常、熱伝導率が高いほど冷却効率が優れるこ
とから、アルミニウムやアルミニウム合金等の高熱伝導
率材料から構成され、押出成形により成形加工されてい
た。
【0003】例えば図11(a)〜(c)に示すような
アルミニウム製ヒートシンク(半導体装置)が製作され
ていた。図11(a)、(c)に示す半導体装置3は、
半導体装置本体1がネジ留めあるいは半田付等によりヒ
ートシンク2に固定されてなり、ヒートシンク2は板状
をした複数枚の放熱フィン2aを所定の間隔で並列させ
羽根板状の断面形状を有していた。また図11(b)に
示す半導体装置3は、半導体装置本体1がヒートシンク
2にネジ留めされてなり、ヒートシンク2はスリット2
bを設けた断面形状を有していた。これらヒートシンク
2は半導体装置本体1で発生する熱を効率的に外部へ放
熱させる働きを有しており、半導体装置本体1の電気特
性や外形によって発熱効率が最適になるように設計され
ている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】従来の半導体装置3は
以上のように構成されており、特にヒートシンク2が最
適に設計されていない場合、半導体装置本体1の熱膨張
により図12に示すように半導体装置本体1とヒートシ
ンク2との間に隙間が生じ半導体装置本体1で発生する
熱を効率良くヒートシンク2に伝導させ、ヒートシンク
2から熱を効率良く放熱させることができない場合があ
った。
【0005】また、図11(a)〜(c)に示したよう
に押出成形によりヒートシンク2の断面形状を複雑にし
表面積を大きくして放熱性を高めることはできても、ヒ
ートシンク2(または放熱フィン2a)の表面に加工を
施すことはできなかった。
【0006】そこで、本発明者は斯かる従来の不便、不
都合さを解消し、上記要望に応えるべく種々検討を重ね
た結果、本発明のヒートシンク及び半導体装置を案出し
たのである。すなわち、アルミニウムよりも熱伝導率の
高い銅を利用し(押出成形ではなく)順送プレス加工に
よりヒートシンクの表面に凹凸を設ける等の加工を施す
ことができ、さらには前述したヒートシンクと半導体装
置本体との間に隙間が生じるのを防ぐことができるヒー
トシンク及びこのヒートシンクを備えた半導体装置を提
供することを目的としたのである。
【0007】
【課題を解決するための手段】請求項1記載の発明は、
例えば図1に示すように半導体装置(10)に取り付け
るヒートシンク(12)であって、板体を葛折りにした
形状を有する放熱部(12b)と、該放熱部に設けられ
て、かつ、半導体装置が取り付けられる取付部(12
a)とを備えることを特徴とする。
【0008】請求項1記載の発明によれば、放熱部は葛
折りにした形状を有するので、平坦な形状に比べヒート
シンクの表面積を大きくし放熱性を高めることができ
る。また、葛折りの部分を例えば密な構造とすることに
よりヒートシンクの表面積をさらに大きくし放熱性を高
めることもできる。放熱部の葛折りにした部分を例えば
密な構造を有するものとし、すなわち放熱部の寸法を任
意に設計し半導体装置の小型化に対応したヒートシンク
の設計ができる。
【0009】なお葛折りとはツヅラの蔓のように折れ曲
がっている意であり、板体の断面形状において凹凸が交
互に繰り返される形状、波形の形状、ジグザグの形状、
ループが繰り返される形状のいずれであってもよい。ま
た、折れ曲がる折部においては角状に屈曲するものでも
よいし、あるいは該折部が湾曲するようなものでもよ
い。
【0010】前記した葛折りの形状は、順送プレス加工
により板体に形成可能となるものである。従って、従
来、押出成形によってヒートシンクの断面形状の設計し
かできなかったのに対して、順送プレス加工を施すこと
により前述した葛折りの形状を有する放熱部を備えるヒ
ートシンクを提供できるのである。また例えば順送プレ
ス加工により、ヒートシンクの放熱部表面に貫通孔、切
り起こし、スリット等を設けたりすることも可能とな
る。すなわち、断面形状の設計のみならずヒートシンク
の表面に加工を施すことができるので、放熱部の周囲に
滞留する空気の流れを改善する構造や表面積を大きくす
る構造の設計が可能となり、ヒートシンクの最適設計に
必要な設計アイテムを増やすことができる。また、順送
プレス加工により銅でも安価に成形加工してヒートシン
クを製造することができる。これによりアルミニウムよ
りも熱伝導率の高い銅を利用して、放熱性の高いヒート
シンクを提供することが可能になる。
【0011】請求項2記載の発明は、請求項1記載のヒ
ートシンクにおいて、例えば図1に示すように前記放熱
部の葛折りとなる折りが繰り返して延在する方向の少な
くとも一方の端部に、前記放熱部に連続して前記取付部
が設けられていることを特徴とする。
【0012】請求項2記載の発明によれば、請求項1と
同様の効果を奏する。また取付部は放熱部の端部に取り
付けられるので、取付部のスペースさえ確保すれば放熱
部の設計は自由にでき、半導体装置本体の種類に限定さ
れることなく種々の半導体装置本体に対応したヒートシ
ンクを提供できる。
【0013】請求項3記載の発明は、請求項1記載のヒ
ートシンクにおいて、例えば図9に示すように前記取付
部(15a)から左右にそれぞれ延出するように放熱部
(15b)が設けられていることを特徴とする。
【0014】請求項3記載の発明によれば、放熱部は発
熱体となる半導体装置本体の取付部から左右にそれぞれ
延出するように設けられるので、半導体装置本体からの
発熱を効率よく分散させることができ放熱性の高いヒー
トシンクを提供することができる。
【0015】請求項4記載の発明は、請求項1記載のヒ
ートシンクにおいて、例えば図10に示すように葛折り
にした形状とされることにより凹部(16c)と凸部
(16d)が繰り返される放熱部(16b)の側部に、
前記取付部(16a)が複数の凸部に渡るように設けら
れていることを特徴とする。
【0016】請求項4記載の発明によれば、凹部と凸部
が繰り返される放熱部の側部に、取付部が複数の凸部に
渡るように設けられるので半導体装置本体とヒートシン
クを備えた半導体装置をコンパクトな形状に納めること
ができる。
【0017】請求項5記載の発明は、請求項1〜4のい
ずれか一つに記載のヒートシンクにおいて、例えば図2
または図3に示すように前記ヒートシンクは銅板からな
り、前記ヒートシンクの前記放熱部には一つ以上の凹部
(溝12cまたは12e)及び凸部(突条12d)のう
ちの少なくとも一方が形成されていることを特徴とす
る。
【0018】請求項5記載の発明によれば、放熱部には
一つ以上の凹部及び凸部のうちの少なくとも一方が形成
されているので、平坦な面に比べヒートシンクの表面積
を大きくし放熱性を高めることができる。またヒートシ
ンクはアルミニウムよりも熱伝導率の高い銅(銅板)か
らなるので、半導体装置本体で発生する熱が効率よくヒ
ートシンクに伝わり放熱性を高めることができる。この
ためアルミニウム製ヒートシンクに比べ、たとえ表面積
が小さいヒートシンクであっても、銅製のものであれば
放熱性を高めることができるのでサイズの小さなヒート
シンクの設計ができ半導体装置の小型化に対応させるこ
とができる。
【0019】請求項6記載の発明は、請求項1〜5のい
ずれか一つに記載のヒートシンクにおいて、例えば図4
に示すように前記ヒートシンクは銅板からなり、前記ヒ
ートシンクの前記放熱部には一つ以上の貫通孔(12
f)が形成されていることを特徴とする。
【0020】請求項7記載の発明は、請求項1〜6のい
ずれか一つに記載のヒートシンクにおいて、例えば図5
に示すように前記ヒートシンクは銅板からなり、前記ヒ
ートシンクの前記放熱部には一つ以上の切り起こし(1
2g)が形成されていることを特徴とする。
【0021】請求項8記載の発明は、請求項1〜7のい
ずれか一つに記載のヒートシンクにおいて、例えば図6
に示すように前記ヒートシンクは銅板からなり、前記ヒ
ートシンクの前記放熱部には一つ以上のスリット(12
h)が形成されていることを特徴とする。
【0022】請求項6〜8記載の発明によれば、ヒート
シンクは銅板からなるので請求項5と同様の効果が得ら
れる。また、ヒートシンクの放熱部に貫通孔、切り起こ
し、スリットが形成されているので、ヒートシンクの表
面積を大きくし放熱性を高めることができるとともに、
放熱部の周囲に滞留する空気の流れを改善することがで
き放熱性をより高めることができる。例えば、このヒー
トシンクを備えた半導体装置にファン等を設け、強制的
に通風させるようにすれば放熱性はさらに高まるもので
ある。
【0023】請求項9記載の発明は、請求項1〜8のい
ずれか一つに記載のヒートシンクを備えた半導体装置で
あって、例えば図1に示すように前記放熱部と前記取付
部とを備えたヒートシンク部と、前記取付部に取り付け
られた半導体装置本体(11)とを備えたことを特徴と
する。
【0024】請求項9記載の発明によれば、請求項1〜
8のいずれか一つに記載のヒートシンクを備えるので、
ヒートシンクの幅広い最適設計に対応する半導体装置を
提供することができる。また、前述したヒートシンクを
備えた半導体装置は、半導体装置本体から発生する熱に
よる熱膨張が生じても、半導体装置本体とヒートシンク
との間に隙間が生じるのを防ぐ半導体装置の設計ができ
る。
【0025】
【発明の実施の形態】本実施の形態の基本構成を図面に
基づいて説明する。図1に示すように本実施の形態に係
る半導体装置10は、半導体装置本体(以下、装置本体
と称する)11と装置本体11から発生する熱を放熱す
るヒートシンク12とから構成される。ヒートシンク1
2は銅板からなり、装置本体11を取り付ける取付部1
2aと、取付部12aから連続して装置本体11が取り
付けられている側の反対側に延在する放熱部12bとを
備えている。このヒートシンク12はアルミニウムより
も熱伝導性の高い銅(銅板)からなるので、後述するよ
うに装置本体11で発生する熱が効率良くヒートシンク
12に伝わり放熱性を高めることができる。
【0026】ヒートシンク12は順送プレス加工により
加工されてなり、特に放熱部12bの断面形状は葛折り
にされた形状を有している。すなわち、放熱部12bの
断面形状は装置本体11が取り付けられる平坦な取付部
12aから連続して、図1中下方へ、下方から右方へ、
右方から下方へ、下方から左方へ、というように繰り返
し直角に屈曲して形成されている。
【0027】放熱部12bはこのように葛折りにされた
形状を有するので、平坦な形状に比べ表面積が大きくな
り放熱性の高いものとなる。また、図1に示すように取
付部12aを放熱部12bの端部に取り付けるようにし
て取付部12aのスペースさえ確保すれば、放熱部12
bの設計は順送プレス加工により自由にでき、装置本体
11の種類に限定されることなく種々の装置本体11に
対応したヒートシンク12を提供できる。
【0028】銅板からなるヒートシンク12は順送プレ
ス加工により加工処理されるので、半導体装置10はヒ
ートシンク12の表面に図2〜6に示すような加工を施
すことができる。図2に示す半導体装置10には、取付
部12aにおける装置本体11の取り付けてある面の裏
面及び放熱部12bの両面に、葛折りが繰り返し延在す
る方向と垂直に交わる方向に複数の溝12c(凹部)及
び突条12d(凸部)を設けて、ヒートシンク12の表
面に凹凸が形成されている。
【0029】図3に示す半導体装置10にはヒートシン
ク12の表面に円形の凹部12eが複数設けられてい
る。図2及び3に示したように、ヒートシンク12の表
面に複数の凹凸を形成することによりヒートシンク12
の表面積を大きくし、放熱性を高めることができる。
【0030】また図4に示す半導体装置10にはヒート
シンク12に円形の貫通孔12fが複数設けられてい
る。図5に示す半導体装置10には、放熱部12bの縦
の部分にヒートシンク12の内側に切り起こしてなる切
り起こし12gが曲折して設けられている。図6に示す
半導体装置10には放熱部12bの葛折りの延在する方
向と平行にスリット12hが設けられている。
【0031】図4〜6に示した半導体装置10のよう
に、ヒートシンク12に貫通孔12f、切り起こし12
g、スリット12hが形成された場合、ヒートシンク1
2の表面積が大きくなり、かつ放熱部12bの周囲に滞
留する空気の流れを改善することができるので放熱性は
高まる。また例えば、このヒートシンク12を備えた半
導体装置10にファン等を設け、強制的に通風させるよ
うにすれば放熱性はさらに高まる。
【0032】そして図1〜6に示した半導体装置10が
作動すると、発熱体である装置本体11から熱が発生す
る。発生した熱は、装置本体11からヒートシンク12
の取付部12aに伝導し、さらに放熱部12bへと伝わ
り、この放熱部12bから放熱する。前述したようにヒ
ートシンク12はアルミニウムより熱伝導性の高い銅
(銅板)からなるので、アルミニウム製ヒートシンクよ
りたとえ表面積が小さいとしても放熱性を高めることが
できる。このため、サイズの小さなヒートシンク12の
設計ができ半導体装置10の小型化に対応させることが
できる。
【0033】なお、装置本体11とヒートシンク12の
取付部12aとの取付においては、装置本体11をヒー
トシンク12にネジ留めしてもよいし、ろう材、半田、
あるいは伝熱性の接着剤等で取り付けてもよい。また、
ヒートシンク12は順送プレス加工により加工されてい
るので、装置本体11とヒートシンク12の取付部12
aとの取付面の最適設計を行うことができる。このた
め、装置本体11から発生する熱による熱膨張が生じて
も、装置本体11とヒートシンク12との間に隙間が生
じるのを防ぐ半導体装置10の設計ができる。
【0034】図1〜6に基づいて本実施の形態の基本構
成を示したが、他の変形例として図7〜10に示すよう
に構成することができる。なお、図7〜10に示すヒー
トシンク13,14,15,16も前述したヒートシン
ク12と同様に、銅板からなり順送プレス加工により加
工されている。
【0035】図7に示す半導体装置10は装置本体11
とヒートシンク13とからなる。ヒートシンク13は装
置本体11を取り付ける取付部13aと、断面形状が葛
折りにされた形状を有する放熱部13bとから構成され
ている。放熱部13bの断面形状は装置本体11が取り
付けられる平坦な取付部13aから連続して、図7中下
方へ、下方から右方へ、右方から下方へ、下方から左方
へ、というように繰り返し直角に屈曲して形成されてい
る。放熱部13bの葛折りにされた部分は、装置本体1
1に近い部分が密に折り畳まれるように屈曲した形状を
有する。このように放熱部13bの葛折りの部分を密な
構造とすれば、ヒートシンク13の表面積をさらに大き
くし放熱性を高めることができる。
【0036】図8に示すヒートシンク14の放熱部14
bは、断面形状が取付部14aから連続して波形の形状
が形成されている。図9に示すヒートシンク15におい
ては、装置本体11を取り付ける取付部15aから左右
にそれぞれ延出するように放熱部15bが設けられてい
る。放熱部15bの断面形状は、波形の形状を有してい
る。このように放熱部15bが取付部15aから左右に
延出するように形成されると、発熱体である装置本体1
1からの発熱を効率よく分散させることができ、放熱性
の高いヒートシンク15となる。
【0037】また放熱部14b,15bの断面形状が波
形の形状を有する部分を密に折り畳むように湾曲させて
表面積を大きくし放熱性を高めることも可能である。こ
のように順送プレス加工により放熱部14b,15bの
寸法を任意に設計することができるので、半導体装置1
0の小型化に対応したヒートシンク14,15の設計が
できる。
【0038】図10に示すヒートシンク16の放熱部1
6bにおいては、断面形状がループ状の形状を同じ側に
連続させ、放熱部16bの両端をループ状の形状の側に
折り曲げて形成されている。すなわち放熱部16bは、
ループ状の形状を連続させることで凹部16cと凸部1
6dが繰り返されるように葛折りにされた形状を有す
る。そして取付部16aは凸部16dに渡るように(ル
ープ状の形状を有する側とは反対側の側部に)設けら
れ、装置本体11はこの取付部16aに取り付けられて
いる。この場合、装置本体11と凹部16cとの接触は
なくなるが、装置本体11と取付部16aとの接触面積
を増やすため凹部16cをループ状に形成し、凸部16
dの装置本体11との接触する部分が大きくなるような
設計がなされている。ヒートシンク16の構造をこのよ
うなものとすれば、半導体装置10をコンパクトな形状
に納めることができる。
【0039】なお、これら図7〜10に示したヒートシ
ンク12においても、前述したように順送プレス加工に
よりヒートシンク13,14,15,16の表面に凹凸
を形成したり、また貫通孔12f、切り起こし12g、
スリット12hをヒートシンク13,14,15,16
に形成することができる。
【0040】以上、本実施の形態に係るヒートシンク1
2及びこのヒートシンク12を備えた半導体装置10に
よれば、従来、押出成形によるヒートシンク12の断面
形状の設計しかできなかったのに対して、順送プレス加
工を施すことにより、ヒートシンク12の放熱部12b
表面に凹凸、貫通孔12f、切り起こし12g、スリッ
ト12h等を設けたりすることも可能となる。これによ
り、断面形状の設計のみならずヒートシンク12の表面
に加工を施すことができるので、放熱部12bの周囲に
滞留する空気の流れを改善する構造や表面積を大きくす
る構造の設計が可能となり、ヒートシンク12の最適設
計に必要な設計アイテムを増やすことができる。さら
に、順送プレス加工によってアルミニウムよりも熱伝導
率の高い銅でも安価に成形加工し、かつ、放熱性の高い
ヒートシンクを提供することができる。
【0041】また半導体装置10はヒートシンク12を
備えるので、ヒートシンク12の幅広い最適設計に対応
することができる。さらに前述したようにヒートシンク
12は順送プレス加工により最適に設計され形成される
ので、装置本体11の熱膨張による装置本体11とヒー
トシンク12との間に隙間が生じるのを防ぐ半導体装置
10を提供できる。
【0042】なお、本実施の形態に示した順送プレス加
工は、金型内部に複数の工程(穴、抜き、曲げなど)を
置き、設計製作された順送金型をプレスに取り付け、プ
レスを往復運動させ一定の厚みに圧延された材料をプレ
スの中に一定の送り長さで連続に送り出して、加工する
ものである。本実施の形態のヒートシンク12に施され
た葛折りの形状、あるいはヒートシンク12表面に形成
した凹凸、あるいは貫通孔12f、切り起こし12g、
スリット12hは全て一つの順送金型を用いて形成する
ことができる。また例えば図2に示すヒートシンク12
において、先にヒートシンク12の表面に凹凸を形成
し、後に葛折りの形状を形成してもよいし工程順序を逆
にしてもよい。同様にして、前述した葛折りの形状、あ
るいはヒートシンク12表面に形成した凹凸、あるいは
貫通孔12f、切り起こし12g、スリット12hをヒ
ートシンク12に形成する場合、その工程順序は問わな
い。さらに本実施の形態に係るヒートシンク12は銅板
からなるものとしたが、熱伝導率の高いものであればど
のような物質からなるものでもよく、順送プレス加工に
より加工可能なものが好ましい。本発明は上記の実施の
形態に限定されることなく、本発明の主旨を逸脱しない
範囲において、種々の改良並びに設計の変更を行っても
よい。
【0043】
【発明の効果】請求項1記載の発明によれば、放熱部は
葛折りにした形状を有するので、平坦な形状に比べヒー
トシンクの表面積を大きくし放熱性を高めることができ
る。
【0044】請求項2記載の発明によれば、請求項1と
同様の効果を奏する。また、取付部のスペースさえ確保
すれば放熱部の設計は自由にでき、半導体装置本体の種
類に限定されることなく種々の半導体装置本体に対応し
たヒートシンクを提供できる。
【0045】請求項3記載の発明によれば、半導体装置
本体からの発熱を効率よく分散させることができ放熱性
の高いヒートシンクを提供することができる。
【0046】請求項4記載の発明によれば、半導体装置
本体とヒートシンクを備えた半導体装置をコンパクトな
形状に納めることができる。
【0047】請求項5記載の発明によれば、平坦な面に
比べヒートシンクの表面積を大きくし放熱性を高めるこ
とができる。またヒートシンクはアルミニウムよりも熱
伝導率の高い銅(銅板)からなるので、半導体装置本体
で発生する熱が効率よくヒートシンクに伝わり放熱性を
高めることができる。
【0048】請求項6〜8記載の発明によれば、ヒート
シンクは銅板からなるので請求項5と同様の効果が得ら
れる。また、ヒートシンクの放熱部に貫通孔、切り起こ
し、スリットが形成されているので、放熱部の周囲に滞
留する空気の流れを改善することができ放熱性をより高
めることができる。
【0049】請求項9記載の発明によれば、請求項1〜
8のいずれか一つに記載のヒートシンクを備えるので、
ヒートシンクの幅広い最適設計に対応する半導体装置を
提供することができる。また、半導体装置本体から発生
する熱による熱膨張が生じても、半導体装置本体とヒー
トシンクとの間に隙間が生じるのを防ぐ半導体装置の設
計ができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本実施の形態に係る半導体装置を示す斜視図で
ある。
【図2】本実施の形態に係るヒートシンクに複数の凹凸
を設けた前記半導体装置を示す斜視図である。
【図3】前記ヒートシンクに複数の円形の凹凸を設けた
前記半導体装置を示す斜視図である。
【図4】前記ヒートシンクに複数の貫通孔を設けた前記
半導体装置を示す図である。
【図5】前記ヒートシンクに切り起こしを設けた前記半
導体装置を示す図である。
【図6】前記ヒートシンクにスリットを設けた前記半導
体装置を示す図である。
【図7】前記ヒートシンクの変形例を示す斜視図であ
る。
【図8】前記ヒートシンクの変形例を示す斜視図であ
る。
【図9】前記ヒートシンクの変形例を示す斜視図であ
る。
【図10】前記ヒートシンクの変形例を示す斜視図であ
る。
【図11】従来の半導体装置を示す斜視図である。
【図12】課題を提示するための半導体装置を示す断面
図である。
【符号の説明】
10 半導体装置 11 半導体装置本体 12 ヒートシンク 12a 取付部 12b 放熱部 12c 溝(凹部) 12d 突状(凸部) 12e,16c 凹部 12f 貫通孔 12g 切り起こし 12h スリット 16d 凸部

Claims (9)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 半導体装置に取り付けるヒートシンクで
    あって、 板体を葛折りにした形状を有する放熱部と、該放熱部に
    設けられて、かつ、半導体装置が取り付けられる取付部
    とを備えることを特徴とするヒートシンク。
  2. 【請求項2】 請求項1記載のヒートシンクにおいて、 前記放熱部の葛折りとなる折りが繰り返して延在する方
    向の少なくとも一方の端部に、前記放熱部に連続して前
    記取付部が設けられていることを特徴とするヒートシン
    ク。
  3. 【請求項3】 請求項1記載のヒートシンクにおいて、 前記取付部から左右にそれぞれ延出するように放熱部が
    設けられていることを特徴とするヒートシンク。
  4. 【請求項4】 請求項1記載のヒートシンクにおいて、 葛折りにした形状とされることにより凹部と凸部が繰り
    返される放熱部の側部に、前記取付部が複数の凸部に渡
    るように設けられていることを特徴とするヒートシン
    ク。
  5. 【請求項5】 請求項1〜4のいずれか一つに記載のヒ
    ートシンクにおいて、 前記ヒートシンクは銅板からなり、前記ヒートシンクの
    前記放熱部には一つ以上の凹部及び凸部のうちの少なく
    とも一方が形成されていることを特徴とするヒートシン
    ク。
  6. 【請求項6】 請求項1〜5のいずれか一つに記載のヒ
    ートシンクにおいて、 前記ヒートシンクは銅板からなり、前記ヒートシンクの
    前記放熱部には一つ以上の貫通孔が形成されていること
    を特徴とするヒートシンク。
  7. 【請求項7】 請求項1〜6のいずれか一つに記載のヒ
    ートシンクにおいて、 前記ヒートシンクは銅板からなり、前記ヒートシンクの
    前記放熱部には一つ以上の切り起こしが形成されている
    ことを特徴とするヒートシンク。
  8. 【請求項8】 請求項1〜7のいずれか一つに記載のヒ
    ートシンクにおいて、 前記ヒートシンクは銅板からなり、前記ヒートシンクの
    前記放熱部には一つ以上のスリットが形成されているこ
    とを特徴とするヒートシンク。
  9. 【請求項9】 請求項1〜8のいずれか一つに記載のヒ
    ートシンクを備えた半導体装置であって、 前記放熱部と前記取付部とを備えたヒートシンク部と、
    前記取付部に取り付けられた半導体装置本体とを備えた
    ことを特徴とする半導体装置。
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