JP2002090712A - Method for manufacturing liquid crystal display device - Google Patents

Method for manufacturing liquid crystal display device

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JP2002090712A
JP2002090712A JP2000275387A JP2000275387A JP2002090712A JP 2002090712 A JP2002090712 A JP 2002090712A JP 2000275387 A JP2000275387 A JP 2000275387A JP 2000275387 A JP2000275387 A JP 2000275387A JP 2002090712 A JP2002090712 A JP 2002090712A
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JP
Japan
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substrate
liquid crystal
electrode
transparent
display device
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Application number
JP2000275387A
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Japanese (ja)
Inventor
Yoshihisa Ishimoto
佳久 石本
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Sharp Corp
Original Assignee
Sharp Corp
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for manufacturing a liquid crystal display device bringing about no influence on patterning accuracy of electrodes, wiring and elements formed on a transparent substrate due to heat or moisture in the liquid crystal display device using the transparent substrate made of a transparent resin. SOLUTION: A transparent electrode film consisting of ITO(indium tin oxide), etc., is laminated on a glass substrate 201 with sputtering, etc., and is patterned to form stripe-shaped electrodes 202. Thereon a gas barrier 203 composed of SiO2, etc., is laminated and successively thereon an acrylic or epoxy transparent resin layer to be made into the transparent substrate (plastics substrate) 204 is laminated. Subsequently a simple matrix substrate 20 is obtained by etching and removing the glass substrate 201 with an etchant (acid), for example a mixture of HF and HNO3 in 1:20 ratio.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、液晶表示装置の製
造方法に関する。
The present invention relates to a method for manufacturing a liquid crystal display device.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、液晶表示装置は低消費電力、薄型
および軽量である特徴から、パーソナルコンピュータ、
ワードプロセッサ、オフィスオートメーション用の端末
表示装置、テレビジョンなどの表示用途に使用されてい
る。特に今後は携帯情報端末用液晶表示装置が多く使用
されると考えられる。携帯情報端末用液晶表示装置の1
つとして、携帯電話があり、ここ数年で数億台の市場に
成長すると予想されている。
2. Description of the Related Art In recent years, liquid crystal display devices have been characterized by low power consumption, thinness and light weight.
It is used for display applications such as word processors, office automation terminal displays, and televisions. In particular, it is considered that a liquid crystal display device for a portable information terminal will be frequently used in the future. Liquid crystal display for portable information terminals 1
One is mobile phones, which are expected to grow to hundreds of millions in the past few years.

【0003】現在の携帯電話は、液晶表示パネルの基板
としてガラス材が使用されており、また表示色は白黒で
あり、さらに、静止画が主流である。したがって、表示
パネルの基板がプラスチック(樹脂)材であるものは、
今のところはわずかである。しかし、今後はカラー化、
動画化および軽量化が進むと考えられ、プラスチック材
を使ったカラー動画対応液晶表示パネルも量産されると
想定される。
[0003] At present, mobile phones use a glass material as a substrate of a liquid crystal display panel, and display colors are black and white, and still images are mainly used. Therefore, if the substrate of the display panel is a plastic (resin) material,
For now it's a little. However, in the future, colorization,
It is expected that animation and weight reduction will progress, and it is expected that color animation-compatible liquid crystal display panels using plastic materials will be mass-produced.

【0004】プラスチック材を基板に用いた従来の液晶
表示装置を図5に示す。図5は、特許第2755844
号公報の先行技術に開示されてる液晶表示装置10を示
す図である。以下にその構造と製造方法を示す。
FIG. 5 shows a conventional liquid crystal display device using a plastic material for a substrate. FIG.
FIG. 1 is a view showing a liquid crystal display device 10 disclosed in the prior art of Japanese Patent Application Laid-Open No. H10-209,878. The structure and manufacturing method will be described below.

【0005】図5に示すように、液晶表示装置10は、
液晶110を挟持する一対のアクリル系(またはエポキ
シ系)のプラスチック基板103を備えている。各プラ
スチック基板(厚さ0.1〜0.5mm)103の両面
に、ディップおよび焼付けにより、オルガノシラン系、
アクリル系、メラミン系またはウレタン系などの有機系
樹脂から成るハードコート(厚さ2〜6μm)102,
104がそれぞれ設けられている。前記ハードコート1
04の液晶側に、スパッタ蒸着により、SiO Xから成
るアンダーコート(厚さ100〜600Å)105と、
錫添加酸化インジウムから成るITO電極106が順に
設けられる。このさらに液晶側に、公知の手法により、
前記ITO電極106を保護するトップコート(上側保
護膜)107と、液晶110を配向させる配向膜108
が設けられている。なお、109は液晶110を封止す
るシール材、101は偏光板を示している。
[0005] As shown in FIG.
A pair of acrylic (or epoxy) sandwiching the liquid crystal 110
A plastic substrate 103 is provided. Each plastic
Both sides of stick substrate (thickness 0.1-0.5mm) 103
Then, by dip and baking, organosilane-based,
Organics such as acrylic, melamine or urethane
Hard coat (thickness 2 to 6 μm) 102 made of resin
104 are provided. The hard coat 1
04 on the liquid crystal side by sputtering evaporation. XConsisting of
Undercoat (thickness 100 to 600 mm) 105,
An ITO electrode 106 made of tin-doped indium oxide is sequentially
Provided. On this liquid crystal side, a known method is used.
A top coat (upside protection) for protecting the ITO electrode 106
Protective film) 107 and an alignment film 108 for aligning the liquid crystal 110
Is provided. Incidentally, 109 seals the liquid crystal 110.
A sealing material 101 indicates a polarizing plate.

【0006】また、特開平10−177187号公報に
は、元基板(たとえば、ガラス基板など)上に分離層お
よび液晶駆動電極をこの順で作製し、その上に接着剤を
介して転写体となるプラスチック基板を接合し、その
後、元基板の裏面からレーザを照射して、分離層にて剥
離を起こらせ、元基板を離脱させる技術(以下、転写技
術という)が開示されている。
Japanese Patent Application Laid-Open No. 10-177187 discloses that a separation layer and a liquid crystal drive electrode are formed in this order on an original substrate (for example, a glass substrate), and a transfer body is formed thereon via an adhesive. A technique has been disclosed in which a plastic substrate is bonded, and then a laser is radiated from the back surface of the original substrate to cause separation in the separation layer and separate the original substrate (hereinafter, referred to as a transfer technology).

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】上記したようなプラス
チック材を基板として用いる液晶表示装置として、現
在、白黒表示の単純マトリクス型液晶表示装置が量産さ
れている。しかしながら、プラスチックは水分や熱によ
って伸び縮みしやすいため、精度のよい表示装置の作成
が難しい。つまり、対向するプラスチック基板はそれぞ
れの貼合わせ前の寸法を同じにしておくので、精度のよ
い表示装置を作成するには伸び縮みの量を制御する難し
い技術が必要となるためである。
As a liquid crystal display device using the above-mentioned plastic material as a substrate, a black-and-white display simple matrix type liquid crystal display device is currently mass-produced. However, plastic is easily expanded and contracted by moisture and heat, so that it is difficult to produce an accurate display device. That is, since the opposing plastic substrates have the same dimensions before bonding, it is necessary to use a difficult technique for controlling the amount of expansion and contraction in order to produce an accurate display device.

【0008】また、今後はカラー動画対応の携帯電話用
液晶表示装置が主流になると考えられる。動画対応用液
晶表示装置としては、2端子非線形素子もしくは3端子
素子をスイッチング素子として用いる液晶表示装置が考
えられる。2端子非線形素子を用いた液晶表示装置では
単純マトリクス液晶表示装置にはない、2端子非線形素
子の下部電極および上部電極と画素電極との重ね合わせ
の工程があるため、さらに基板の伸び縮みの量を高精度
に制御する技術が必要である。また、3端子素子を用い
た液晶表示装置では、一般的に製造工程に200℃以上
の高温プロセスがある。このため、熱により基板が大き
くダメージを受けるため、プラスチック基板上に素子を
形成することは不可能である。また、カラー対応用液晶
表示装置は、2端子非線形素子を用いた液晶表示装置と
同様な、カラーフィルタ層(R(Red)、G(Green)、
B(Blue)、BM(Black Matrix))と画素電極(IT
O)との重ね合わせの工程がある。このため、基板の伸
び縮みの量を高精度に制御する技術が必要である。な
お、前述した基板の伸び縮みの量は、水分の有無により
大きく変化するため制御は難しく、未だ基板の伸び縮み
を制御する技術の確立はなされていない。
[0008] In the future, it is considered that the liquid crystal display device for portable telephones compatible with color moving images will become mainstream. As a liquid crystal display device for moving images, a liquid crystal display device using a two-terminal non-linear element or a three-terminal element as a switching element can be considered. In a liquid crystal display device using a two-terminal nonlinear element, a lower electrode and an upper electrode of a two-terminal nonlinear element are superposed on a pixel electrode, which is not available in a simple matrix liquid crystal display device. The technology which controls a high precision is needed. In a liquid crystal display device using a three-terminal element, a high-temperature process of 200 ° C. or more is generally performed in a manufacturing process. Therefore, since the substrate is greatly damaged by heat, it is impossible to form an element on a plastic substrate. In addition, the liquid crystal display device for color display has the same color filter layers (R (Red), G (Green),
B (Blue), BM (Black Matrix)) and pixel electrodes (IT
O). For this reason, a technique for controlling the amount of expansion and contraction of the substrate with high accuracy is required. The amount of expansion and contraction of the substrate described above varies greatly depending on the presence or absence of moisture, so that it is difficult to control it. A technique for controlling the expansion and contraction of the substrate has not yet been established.

【0009】これら課題を解決するためには、前述した
特開平10−177187号公報に開示されているよう
な転写技術が有効と考えられる。しかしながら、特開平
10−177187号公報では、基板にレーザを照射す
ることで基板上に形成された素子の特性への影響があ
る。また、レーザ照射をするために、剥離層および液晶
駆動電極を形成する元基板は透明である必要がある。こ
のため、基板として利用できる材料が限定される。ま
た、分離層を分離する工程においてレーザの照射条件が
確立されていないため、分離がうまくなされず良品率が
悪いといった問題がある。
In order to solve these problems, it is considered that a transfer technique as disclosed in the above-mentioned Japanese Patent Application Laid-Open No. H10-177187 is effective. However, in Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 10-177187, irradiating a substrate with a laser has an effect on the characteristics of an element formed on the substrate. In addition, in order to perform laser irradiation, the original substrate on which the separation layer and the liquid crystal drive electrode are formed needs to be transparent. For this reason, materials that can be used as the substrate are limited. In addition, since laser irradiation conditions are not established in the step of separating the separation layer, there is a problem that separation is not performed well and the yield rate is low.

【0010】本発明の目的は、透明樹脂から成る透明基
板を用いた液晶表示装置において、熱および水分などに
よって透明基板に形成される電極、配線、素子およびカ
ラーフィルタなどのパターン精度が影響を受けない液晶
表示装置の製造方法を提供することである。
An object of the present invention is to provide a liquid crystal display device using a transparent substrate made of a transparent resin, in which the accuracy of patterns of electrodes, wirings, elements, color filters and the like formed on the transparent substrate is affected by heat and moisture. The object of the present invention is to provide a method for manufacturing a liquid crystal display device.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】本発明は、液晶層と、こ
の液晶層を介在して対向配置される一対の透明基板とを
有し、これらの透明基板の各対向面に前記液晶層を駆動
するために電圧を印加する電極層を有する液晶表示装置
の製造方法において、第1の基板上に電極層を形成する
第1工程と、透明基板となる透明樹脂層を電極層上に形
成する第2工程と、エッチングによって第1の基板を除
去する第3工程とを含むことを特徴とする液晶表示装置
の製造方法である。
According to the present invention, there is provided a liquid crystal layer and a pair of transparent substrates opposed to each other with the liquid crystal layer interposed therebetween. In a method for manufacturing a liquid crystal display device having an electrode layer to which a voltage is applied for driving, a first step of forming an electrode layer on a first substrate, and forming a transparent resin layer to be a transparent substrate on the electrode layer A method for manufacturing a liquid crystal display device, comprising a second step and a third step of removing the first substrate by etching.

【0012】本発明に従えば、透明基板となる透明樹脂
層が水分や熱などに対して伸び縮みをする特性を持って
いても、第1の基板が水分や熱などに対して伸び縮みし
ない特性であれば、電極層のパターンを高精度にパター
ンニングでき、対向する各透明基板を貼り合わせる工程
において電極層の重ね合わせの精度がよくなる。
According to the present invention, even if the transparent resin layer serving as the transparent substrate has the property of expanding and contracting with respect to moisture and heat, the first substrate does not expand and contract with respect to moisture and heat. With the characteristics, the pattern of the electrode layer can be patterned with high accuracy, and the accuracy of the superposition of the electrode layers can be improved in the step of bonding the opposing transparent substrates.

【0013】また、第1の基板はエッチングによって除
去されるため、容易に除去することができ、さらに、透
明基板および不透明基板のどちらを使ってもよい。この
ため、第1の基板に使用する材料の選定範囲が増えるの
で、より安価な材料を使うことができる。
Since the first substrate is removed by etching, it can be easily removed, and either a transparent substrate or an opaque substrate may be used. For this reason, the selection range of the material used for the first substrate is increased, so that a less expensive material can be used.

【0014】また本発明は、液晶層と、この液晶層を介
在して対向配置される一対の透明基板とを有し、これら
一対の透明基板のうち一方基板の液晶層側表面に画素電
極と、各画素電極に電圧を印加するための配線および2
端子非線形素子とを有し、他方基板の液晶層側表面にス
トライプ状の対向電極を有する液晶表示装置の製造方法
において、第1の基板上に画素電極と、各画素電極に電
圧を印加するための配線および2端子非線形素子とを形
成する第1工程と、透明基板となる透明樹脂層を画素電
極、配線および2端子非線形素子上に形成する第2工程
と、エッチングによって第1の基板を除去する第3工程
とを含むことを特徴とする液晶表示装置の製造方法であ
る。
According to the present invention, there is provided a liquid crystal layer and a pair of transparent substrates disposed to face each other with the liquid crystal layer interposed therebetween. Wiring for applying a voltage to each pixel electrode, and 2
A method for manufacturing a liquid crystal display device having a terminal non-linear element and a stripe-shaped counter electrode on the liquid crystal layer side surface of the other substrate, wherein a pixel electrode is provided on the first substrate and a voltage is applied to each pixel electrode. A first step of forming a wiring and a two-terminal nonlinear element, a second step of forming a transparent resin layer to be a transparent substrate on the pixel electrode, the wiring and the two-terminal nonlinear element, and removing the first substrate by etching And a third step of manufacturing the liquid crystal display device.

【0015】本発明に従えば、透明基板となる透明樹脂
層が水分や熱などに対して伸び縮みをする特性を持って
いても、第1の基板が水分や熱などに対して伸び縮みし
ない特性であれば、画素電極、配線および2端子非線形
素子のパターンを高精度にパターニングでき、対向する
各透明基板を貼り合わせる工程において画素電極の重ね
合わせの精度がよくなる。
According to the present invention, even if the transparent resin layer serving as the transparent substrate has the property of expanding and contracting with respect to moisture and heat, the first substrate does not expand and contract with respect to moisture and heat. With the characteristics, the pattern of the pixel electrode, the wiring, and the pattern of the two-terminal nonlinear element can be patterned with high accuracy, and the accuracy of the superposition of the pixel electrodes can be improved in the step of bonding the opposing transparent substrates.

【0016】また、第1の基板はエッチングによって除
去されるため、容易に除去することができ、さらに、透
明基板および不透明基板のどちらを使ってもよい。この
ため、第1の基板に使用する材料の選定範囲が増えるの
で、より安価な材料を使うことができる。
Further, since the first substrate is removed by etching, it can be easily removed, and either a transparent substrate or an opaque substrate may be used. For this reason, the selection range of the material used for the first substrate is increased, so that a less expensive material can be used.

【0017】また本発明は、液晶層と、この液晶層を介
在して対向配置される一対の透明基板とを有し、これら
一対の透明基板のうち一方基板の液晶層側表面に画素電
極と、各画素電極に電圧を印加するための配線および3
端子素子とを有し、他方基板の液晶層側表面に対向電極
を有する液晶表示装置の製造方法において、第1の基板
上に画素電極と、各画素電極に電圧を印加するための配
線および3端子素子とを形成する第1工程と、透明基板
となる透明樹脂層を画素電極、配線および3端子素子上
に形成する第2工程と、エッチングによって第1の基板
を除去する第3工程とを含むことを特徴とする液晶表示
装置の製造方法である。
The present invention also includes a liquid crystal layer and a pair of transparent substrates opposed to each other with the liquid crystal layer interposed therebetween. One of the pair of transparent substrates has a pixel electrode on a surface of the liquid crystal layer side. Wiring for applying a voltage to each pixel electrode and 3
In a method for manufacturing a liquid crystal display device having a terminal element and a counter electrode on the surface of the other substrate on the liquid crystal layer side, a pixel electrode on a first substrate, a wiring for applying a voltage to each pixel electrode, and 3 A first step of forming a terminal element, a second step of forming a transparent resin layer to be a transparent substrate on the pixel electrode, the wiring and the three-terminal element, and a third step of removing the first substrate by etching. A method for manufacturing a liquid crystal display device, comprising:

【0018】本発明に従えば、透明樹脂層が水分や熱な
どに対して伸び縮みをする特性を持っていても、第1の
基板が水分や熱などに対して伸び縮みしない特性であれ
ば、画素電極、配線および3端子素子のパターンを高精
度にパターニングでき、対向する各透明基板を貼り合わ
せる工程において画素電極の重ね合わせの精度がよくな
る。
According to the present invention, even if the transparent resin layer has the property of expanding and contracting with respect to moisture and heat, the first substrate may have the property of not expanding and contracting with respect to moisture and heat. In addition, the pattern of the pixel electrode, the wiring, and the pattern of the three-terminal element can be patterned with high accuracy, and the accuracy of the superposition of the pixel electrodes can be improved in the step of bonding the opposing transparent substrates.

【0019】また、第1の基板はエッチングによって除
去されるため、容易に除去することができ、さらに、透
明基板だけでなく不透明基板を用いてもよい。このた
め、第1の基板に使用する材料の選定範囲が増え、より
安価な材料を使うことができる。
Further, since the first substrate is removed by etching, it can be easily removed. Further, not only a transparent substrate but also an opaque substrate may be used. For this reason, the selection range of the material used for the first substrate is increased, and a less expensive material can be used.

【0020】また本発明は、液晶層と、この液晶層を介
在して対向配置される一対の透明基板とを有し、これら
の透明基板の各対向面に前記液晶層を駆動するために電
圧を印加する電極層を有し、さらに一方基板には、カラ
ーフィルタを有する液晶表示装置の製造方法において、
第1の基板上に電極層およびカラーフィルタを形成する
第1工程と、透明基板となる透明樹脂層をカラーフィル
タ上に形成する第2工程と、エッチングによって第1の
基板を除去する第3工程とを含むことを特徴とする液晶
表示装置の製造方法である。
Further, the present invention has a liquid crystal layer and a pair of transparent substrates opposed to each other with the liquid crystal layer interposed therebetween, and a voltage for driving the liquid crystal layer on each of the opposed surfaces of the transparent substrates. In the method for manufacturing a liquid crystal display device having an electrode layer for applying
A first step of forming an electrode layer and a color filter on a first substrate, a second step of forming a transparent resin layer to be a transparent substrate on the color filter, and a third step of removing the first substrate by etching And a method for manufacturing a liquid crystal display device.

【0021】本発明に従えば、透明樹脂層が水分や熱な
どに対して伸び縮みをする特性を持っていても第1の基
板が水分や熱などに対して伸び縮みしない特性であれ
ば、電極層およびカラーフィルタ層のパターンを高精度
にパターンニングでき、対向する各透明基板を貼り合わ
せる工程において電極層およびカラーフィルタ層の重ね
合わせの精度がよくなる。
According to the present invention, even if the transparent resin layer has the property of expanding and contracting with respect to moisture and heat, if the first substrate does not expand and contract with respect to moisture and heat, The pattern of the electrode layer and the color filter layer can be patterned with high precision, and the accuracy of the lamination of the electrode layer and the color filter layer in the step of bonding the opposing transparent substrates is improved.

【0022】また、第1の基板はエッチングによって除
去されるため、容易に除去することができ、さらに、透
明基板および不透明基板のどちらを使ってもよい。この
ため、第1の基板に使用する材料の選定範囲が増えるの
で、より安価な材料を使うことができる。
Further, since the first substrate is removed by etching, it can be easily removed, and either a transparent substrate or an opaque substrate may be used. For this reason, the selection range of the material used for the first substrate is increased, so that a less expensive material can be used.

【0023】また本発明で、前記第1の基板は、複数の
除去工程を経て除去されることを特徴とする。
In the present invention, the first substrate is removed through a plurality of removing steps.

【0024】たとえば、エッチングレートがはやいエッ
チャント(酸)のみで第1の基板をエッチングすると、
第1の基板のエッチング終了後、第1の基板上に形成す
る電極、配線、素子およびカラーフィルタなどにダメー
ジを与える。また、エッチングレートが遅いエッチャン
トのみで第1の基板をエッチングすると、第1の基板の
エッチング終了後、第1の基板上に形成する電極、配
線、素子およびカラーフィルタなどにダメージは与えな
いが処理時間が長くなる。
For example, when the first substrate is etched only with an etchant (acid) having a high etching rate,
After the etching of the first substrate, the electrodes, wirings, elements, color filters, and the like formed over the first substrate are damaged. In addition, when the first substrate is etched only with an etchant having a low etching rate, the electrodes, wirings, elements, color filters, and the like formed on the first substrate are not damaged after the etching of the first substrate, but the processing is performed. The time gets longer.

【0025】本発明に従えば、たとえば、エッチングレ
ートがはやいエッチャントを用いて第1の基板をエッチ
ングする工程およびエッチングレートの遅いエッチャン
トを用いて第1の基板をエッチングする工程の両方で第
1の基板をエッチングする。このように、第1の基板を
複数の除去工程により除去することで、第1の基板上に
形成される電極、配線、素子およびカラーフィルタなど
へのエッチングによるダメージはほとんど無くなり、ま
た、処理時間も長くならない。
According to the present invention, for example, the first step is performed in both the step of etching the first substrate using an etchant having a high etching rate and the step of etching the first substrate using an etchant having a low etching rate. Etch the substrate. Thus, by removing the first substrate through a plurality of removal steps, damage to electrodes, wirings, elements, color filters, and the like formed on the first substrate due to etching is almost eliminated, and processing time is reduced. Does not become long.

【0026】[0026]

【発明の実施の形態】本発明の液晶表示装置の製造方法
により製造される液晶表示装置は、図5に示す液晶表示
装置1と同様な一対の基板間に液晶を挟持させた液晶表
示装置である。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS A liquid crystal display device manufactured by a method of manufacturing a liquid crystal display device according to the present invention is a liquid crystal display device having a liquid crystal sandwiched between a pair of substrates similar to the liquid crystal display device 1 shown in FIG. is there.

【0027】各基板の製造方法を以下に示す。 (実施例1)本発明の実施例を図1(a)、図1(b)
および図1(c)を用いて説明する。
The method of manufacturing each substrate will be described below. (Embodiment 1) FIGS. 1A and 1B show an embodiment of the present invention.
This will be described with reference to FIG.

【0028】図1(a)、図1(b)および図1(c)
は、本発明の一実施例における単純マトリクス基板20
の製造方法を説明するための図であり、図1(a)は、
単純マトリクス基板20の製造過程を示す断面図であ
り、図1(b)は、単純マトリクス基板20の平面図で
あり、図1(c)は、図1(b)の切断面線I−Iから
見た断面図である。
FIGS. 1 (a), 1 (b) and 1 (c)
Is the simple matrix substrate 20 in one embodiment of the present invention.
FIG. 1A is a diagram for explaining a manufacturing method of FIG.
1B is a cross-sectional view illustrating a manufacturing process of the simple matrix substrate 20, FIG. 1B is a plan view of the simple matrix substrate 20, and FIG. 1C is a cross-sectional line II of FIG. It is sectional drawing seen from.

【0029】まず、図1(a)に示すように、第1の基
板であるガラス基板201上にITOなどから成る透明
電極膜をスパッタリング法などにより積層し、これをパ
ターニングしてストライプ状の電極202を形成する。
次に、ストライプ状の電極202の上に、たとえば、S
iO2などから成るガスバリア203を積層し、その上
に透明基板(プラスチック基板)204となるアクリル
系もしくはエポキシ系の透明樹脂層を積層する。
First, as shown in FIG. 1A, a transparent electrode film made of ITO or the like is laminated on a glass substrate 201 as a first substrate by a sputtering method or the like, and is patterned to form a striped electrode. 202 is formed.
Next, for example, S
A gas barrier 203 made of iO 2 or the like is laminated, and an acrylic or epoxy transparent resin layer serving as a transparent substrate (plastic substrate) 204 is laminated thereon.

【0030】その後、ガラス基板201を、たとえば、
HFとHNO3とを1:20の割合で混合したエッチャ
ント(酸)などでエッチングして除去することで、図1
(c)に示すような単純マトリクス基板20を得る。
Thereafter, the glass substrate 201 is
FIG. 1 shows that HF and HNO 3 are removed by etching with an etchant (acid) mixed at a ratio of 1:20.
A simple matrix substrate 20 as shown in FIG.

【0031】従来、プラスチック基板に電極層をパター
ニングする場合、プラスチック基板上で吸水、脱水など
により基板が伸び縮みするためパターン精度が良くなか
ったが、以上のようにストライプ状の電極202のパタ
ーニングはガラス基板201上で行うため、プラスチッ
ク基板上に形成する電極層のパターン精度が良くなっ
た。
Conventionally, when patterning an electrode layer on a plastic substrate, the pattern precision is not good because the substrate expands and contracts due to water absorption, dehydration and the like on the plastic substrate. Since the process is performed on the glass substrate 201, the pattern accuracy of the electrode layer formed on the plastic substrate is improved.

【0032】前記方法で製造した2枚の単純マトリクス
基板20のストライプ状の電極202を形成した面を対
向させて、基板間に液晶を挟持させることで液晶表示置
が完成する。また、後述する実施例4のカラーフィルタ
を備えた単純マトリクス基板50と組合わせることによ
って、カラー表示可能な液晶表示装置ができる。
The liquid crystal display is completed by facing the surfaces of the two simple matrix substrates 20 manufactured by the above method on which the stripe-shaped electrodes 202 are formed, and sandwiching the liquid crystal between the substrates. Further, by combining with a simple matrix substrate 50 having a color filter according to a fourth embodiment described later, a liquid crystal display device capable of color display can be obtained.

【0033】(実施例2)本発明の実施例を図2
(a)、図2(b)および図2(c)を用いて説明す
る。
(Embodiment 2) An embodiment of the present invention is shown in FIG.
This will be described with reference to (a), FIG. 2 (b) and FIG. 2 (c).

【0034】図2(a)、図2(b)および図2(c)
は、本発明の一実施例における2端子非線形素子を用い
たアクティブマトリクス基板30の製造方法を説明する
ための図であり、図2(a)は、アクティブマトリクス
基板30の製造過程を示す断面図であり、図2(b)
は、アクティブマトリクス基板30の平面図であり、図
2(c)は、図2(b)の切断面線II−IIから見た
断面図である。
FIGS. 2 (a), 2 (b) and 2 (c)
FIG. 2 is a diagram for explaining a method of manufacturing an active matrix substrate 30 using a two-terminal nonlinear element according to one embodiment of the present invention. FIG. 2A is a cross-sectional view illustrating a manufacturing process of the active matrix substrate 30. And FIG. 2 (b)
Is a plan view of the active matrix substrate 30, and FIG. 2C is a cross-sectional view taken along the line II-II of FIG. 2B.

【0035】まず、図2(a)に示すように、第1の基
板であるガラス基板301上にスパッタリング法などに
より、2端子非線形素子の下部電極302と成るタンタ
ル膜を3000Åの厚さに積層する。そして、フォトリ
ソグラフィ法により所定の形状にパターニングして配線
(信号線)308および下部電極302を形成する。そ
の後、陽極酸化法により、下部電極302の表面を陽極
酸化して厚み600Åの五酸化タンタルから成る絶縁膜
303を形成する。
First, as shown in FIG. 2A, a tantalum film serving as a lower electrode 302 of a two-terminal nonlinear element is laminated on a glass substrate 301 as a first substrate to a thickness of 3000 ° by a sputtering method or the like. I do. Then, the wiring (signal line) 308 and the lower electrode 302 are formed by patterning into a predetermined shape by photolithography. Thereafter, the surface of the lower electrode 302 is anodized by anodic oxidation to form an insulating film 303 made of tantalum pentoxide having a thickness of 600 °.

【0036】次に、前記下部電極および絶縁膜303を
形成したガラス基板301の全面にスパッタリング法な
どにより、2端子非線形素子の上部電極304となるチ
タン膜を4000Åの厚さに積層する。そして、フォト
リソグラフィ法により前記チタン膜を所定の形状にパタ
ーニングして上部電極304を形成して2端子非線形素
子が完成する。
Next, a titanium film to be the upper electrode 304 of the two-terminal non-linear element is laminated to a thickness of 4000 ° on the entire surface of the glass substrate 301 on which the lower electrode and the insulating film 303 are formed by sputtering or the like. Then, the titanium film is patterned into a predetermined shape by photolithography to form an upper electrode 304, thereby completing a two-terminal nonlinear element.

【0037】そして、ITOなどから成る透明電極膜を
スパッタリング法などにより上部電極304およびガラ
ス基板301に積層し、これをパターニングして画素電
極305を形成する。次に、2端子非線形素子、配線お
よび画素電極305を形成したガラス基板301の表面
全体に、SiO2などから成るガスバリア306を積層
し、その上に透明基板(プラスチック基板)307とな
るアクリル系もしくはエポキシ系の透明樹脂層を積層す
る。
Then, a transparent electrode film made of ITO or the like is laminated on the upper electrode 304 and the glass substrate 301 by a sputtering method or the like, and this is patterned to form a pixel electrode 305. Next, a gas barrier 306 made of SiO 2 or the like is laminated on the entire surface of the glass substrate 301 on which the two-terminal nonlinear element, the wiring, and the pixel electrode 305 are formed, and an acrylic or plastic substrate 307 is formed thereon as a transparent substrate (plastic substrate) 307. An epoxy-based transparent resin layer is laminated.

【0038】その後、ガラス基板301を、たとえば、
HFとHNO3とを1:20の割合で混合したエッチャ
ント(酸)などでエッチングして除去することで、図2
(c)に示すようなアクティブマトリクス基板30を得
る。
Thereafter, the glass substrate 301 is
FIG. 2 shows that HF and HNO 3 are removed by etching with an etchant (acid) mixed at a ratio of 1:20.
An active matrix substrate 30 as shown in FIG.

【0039】従来、プラスチック基板に画素電極をパタ
ーニングする場合、プラスチック基板上で吸水、脱水お
よび熱などにより基板が伸び縮みしたために各パターン
のパターン精度および重合わせ精度が良くなかったが、
以上のように、2端子非線形素子の下部電極302およ
び上部電極304と画素電極302のパターニングはガ
ラス基板301上で行うため、パターン精度および重合
わせ精度が良くなった。
Conventionally, when patterning pixel electrodes on a plastic substrate, the pattern accuracy and the overlay accuracy of each pattern were not good because the substrate expanded and contracted due to water absorption, dehydration and heat on the plastic substrate.
As described above, since the patterning of the lower electrode 302 and the upper electrode 304 of the two-terminal nonlinear element and the pixel electrode 302 is performed on the glass substrate 301, the pattern accuracy and the overlay accuracy are improved.

【0040】前記方法で製造したアクティブマトリクス
基板30と、実施例1の単純マトリクス基板20と同様
な方法で製造される、ストライプ状の対向電極を形成し
た対向基板とを組合わせ、基板間に液晶を挟持させるこ
とで、液晶表示装置が完成する。また、後述する実施例
4のように、一方基板に基板にカラーフィルタを形成し
てもよい。
The active matrix substrate 30 manufactured by the above-described method is combined with a counter substrate having stripe-shaped counter electrodes formed by the same method as the simple matrix substrate 20 of the first embodiment. , The liquid crystal display device is completed. Further, as in a fourth embodiment described later, a color filter may be formed on the one substrate.

【0041】(実施例3)本発明の実施例を図3
(a)、図3(b)および図3(c)を用いて説明す
る。
(Embodiment 3) An embodiment of the present invention is shown in FIG.
This will be described with reference to FIGS. 3 (a), 3 (b) and 3 (c).

【0042】図3(a)、図3(b)および図3(c)
は、本発明の一実施例における3端子素子を用いたアク
ティブマトリクス基板40の製造方法を説明するための
図である。また、図3(a)は、アクティブマトリクス
基板40の製造過程を示す断面図であり、図3(b)
は、アクティブマトリクス基板40の平面図であり、図
3(c)は、図1(b)の切断面線III−IIIから
見た断面図である。
FIGS. 3 (a), 3 (b) and 3 (c)
FIG. 3 is a diagram for explaining a method of manufacturing an active matrix substrate 40 using a three-terminal element according to one embodiment of the present invention. FIG. 3A is a cross-sectional view showing a manufacturing process of the active matrix substrate 40, and FIG.
Is a plan view of the active matrix substrate 40, and FIG. 3C is a cross-sectional view taken along line III-III in FIG. 1B.

【0043】まず、図3(a)に示すように、第1の基
板であるガラス基板401上にスパッタリング法などに
より、3000Åの厚さのタンタル金属層を形成する。
そして、このタンタル金属層をフォトリソグラフィ法に
より所定の形状にパターニングして、図3(b)に示す
ようなゲートバス配線411およびゲートバス配線41
1から分岐したゲート電極402を形成する。
First, as shown in FIG. 3A, a 3000 ° thick tantalum metal layer is formed on a glass substrate 401 as a first substrate by a sputtering method or the like.
Then, this tantalum metal layer is patterned into a predetermined shape by a photolithography method to form a gate bus wiring 411 and a gate bus wiring 41 as shown in FIG.
A gate electrode 402 branched from 1 is formed.

【0044】次に、プラズマCVD法によって4000
Åの厚さの窒化シリコン(SiNX)から成る絶縁膜を
ゲートバス配線411およびゲート電極402の上に積
層し、パターニングしてゲート絶縁膜403を形成す
る。次に、厚さ1000Åのa−Si層をゲート電極4
02の上に積層し、パターニングして半導体層404を
形成する。次に、厚さ2000Åのモリブデン金属をス
パッタ法によって半導体層404、およびゲート絶縁膜
403の上に積層し、パターニングを行って、ソース電
極405、ドレイン電極406およびソースバス配線4
10を形成し、3端子素子(TFT)が完成する。次
に、ITOなどから成る透明電極膜をスパッタリング法
などにより積層し、これをパターニングして画素電極4
07を形成する。
Next, 4000 plasma CVD methods are used.
An insulating film made of silicon nitride (SiN x ) having a thickness of Å is laminated on the gate bus wiring 411 and the gate electrode 402 and patterned to form a gate insulating film 403. Next, an a-Si layer having a thickness of 1000
And a semiconductor layer 404 is formed by patterning. Next, molybdenum metal having a thickness of 2000 ° is stacked on the semiconductor layer 404 and the gate insulating film 403 by a sputtering method, and is patterned to form a source electrode 405, a drain electrode 406, and a source bus wiring 4.
Then, a three-terminal element (TFT) is completed. Next, a transparent electrode film made of ITO or the like is laminated by a sputtering method or the like, and this is patterned to form a pixel electrode 4.
07 is formed.

【0045】次に、3端子素子、配線および画素電極4
07を形成したガラス基板401の表面全体に、たとえ
ば、SiO2などから成るガスバリア408を積層し、
その上に透明基板(プラスチック基板)409となるア
クリル系もしくはエポキシ系の透明樹脂層を積層する。
Next, the three-terminal element, wiring and pixel electrode 4
07, a gas barrier 408 made of, for example, SiO 2 is laminated on the entire surface of the glass substrate 401 on which
An acrylic or epoxy-based transparent resin layer serving as a transparent substrate (plastic substrate) 409 is laminated thereon.

【0046】その後、ガラス基板401を、たとえばH
FとHNO3とを1:20の割合で混合しエッチャント
(酸)などでエッチングして除去し、図3(c)に示す
ようなアクティブマトリクス基板40を得る。
Thereafter, the glass substrate 401 is
F and HNO 3 are mixed at a ratio of 1:20 and removed by etching with an etchant (acid) or the like to obtain an active matrix substrate 40 as shown in FIG.

【0047】従来、プラスチック基板に画素電極、配
線、および素子をパターニングする場合、プラスチック
基板上で吸水、脱水および熱などにより基板が伸び縮み
したために各パターンのパターン精度および重合わせ精
度が良くなかった。さらに、3端子素子を形成する場合
には、その製造工程において高温プロセスがあるため、
熱によってプラスチック基板自体が変質するという問題
もあったが、以上のように各パターンのパターニングは
ガラス基板上で行うため、パターン精度および重合わせ
が良くなった。
Conventionally, when patterning pixel electrodes, wirings, and elements on a plastic substrate, the pattern accuracy and overlay accuracy of each pattern were poor because the substrate expanded and contracted due to water absorption, dehydration, heat, and the like on the plastic substrate. . Further, when forming a three-terminal element, there is a high-temperature process in the manufacturing process,
Although there was a problem that the plastic substrate itself was deteriorated by heat, patterning of each pattern was performed on the glass substrate as described above, so that pattern accuracy and overlap were improved.

【0048】前記方法で製造したアクティブマトリクス
基板40と、対向電極を基板の全面に形成した対向基板
とを組合わせ、基板間に液晶を挟持させることで、液晶
表示装置が完成する。また、後述する実施例4のよう
に、一方基板上にカラーフィルタを形成してもよい。
The liquid crystal display device is completed by combining the active matrix substrate 40 manufactured by the above method and a counter substrate having a counter electrode formed on the entire surface of the substrate and sandwiching liquid crystal between the substrates. Further, as in a fourth embodiment described later, a color filter may be formed on one substrate.

【0049】(実施例4)本発明の実施例を図4
(a)、図4(b)および図4(c)を用いて説明す
る。
(Embodiment 4) An embodiment of the present invention is shown in FIG.
This will be described with reference to (a), FIG. 4 (b) and FIG. 4 (c).

【0050】図4(a)、図4(b)および図4(c)
は、本発明の一実施例におけるカラーフィルタを有する
単純マトリクス基板50の製造方法を説明するための図
であり、図4(a)は、単純マトリクス基板50の製造
過程を示す断面図であり、図4(b)は、単純マトリク
ス基板50の平面図であり、図4(c)は、図4(b)
の切断面線IV−IVから見た断面図である。
FIGS. 4 (a), 4 (b) and 4 (c)
FIG. 4A is a diagram for explaining a method of manufacturing a simple matrix substrate 50 having a color filter according to an embodiment of the present invention, and FIG. 4A is a cross-sectional view illustrating a manufacturing process of the simple matrix substrate 50; FIG. 4B is a plan view of the simple matrix substrate 50, and FIG. 4C is a plan view of FIG.
FIG. 4 is a cross-sectional view taken along line IV-IV of FIG.

【0051】まず、図4(a)に示すように、第1の基
板であるガラス基板501上にITOなどから成る透明
電極膜をスパッタリング法などにより積層し、これをパ
ターニングしてストライプ状の電極502を形成する。
次に、ストライプ状の電極502の上に赤、緑および青
色のカラーフィルタ503,504,505を形成す
る。カラーフィルタの形成方法は、たとえば、顔料分散
法、染色法、印刷法、電着法などである。特に電着法を
用いる場合では、電着用電極と液晶駆動用電極を共通化
できるという利点がある。次に、カラーフィルタに積層
して、たとえば、SiO2などから成るガスバリア50
6を積層し、その上に透明基板(プラスチック基板)5
07となるアクリル系もしくはエポキシ系の透明樹脂層
を積層する。
First, as shown in FIG. 4A, a transparent electrode film made of ITO or the like is laminated on a glass substrate 501 as a first substrate by a sputtering method or the like, and is patterned to form a stripe-shaped electrode. Form 502.
Next, red, green, and blue color filters 503, 504, and 505 are formed on the stripe-shaped electrodes 502. The method of forming the color filter includes, for example, a pigment dispersion method, a dyeing method, a printing method, and an electrodeposition method. In particular, when the electrodeposition method is used, there is an advantage that the electrodeposition electrode and the liquid crystal driving electrode can be shared. Next, a gas barrier 50 made of, for example, SiO 2 is laminated on the color filter.
6 and a transparent substrate (plastic substrate) 5
An acrylic or epoxy-based transparent resin layer which becomes 07 is laminated.

【0052】その後、ガラス基板501を、たとえば、
HFとHNO3とを1:20の割合で混合したエッチャ
ント(酸)などでエッチングして除去し、図4(c)に
示すような単純マトリクス基板50を得る。
Thereafter, the glass substrate 501 is
HF and HNO 3 are removed by etching with an etchant (acid) or the like mixed at a ratio of 1:20 to obtain a simple matrix substrate 50 as shown in FIG.

【0053】従来、プラスチック基板に電極層をパター
ニングする場合、プラスチック基板上で吸水、脱水など
により基板が伸び縮みしたためにパターン精度が良くな
かったが、以上のようにストライプ状の電極502およ
びカラーフィルタ503,504,505のパターニン
グはガラス基板501上で行うため、パターン精度が良
くなった。
Conventionally, when patterning an electrode layer on a plastic substrate, the pattern accuracy was not good because the substrate expanded and contracted due to water absorption and dehydration on the plastic substrate. However, as described above, the stripe-shaped electrode 502 and the color filter Since patterning of 503, 504 and 505 is performed on the glass substrate 501, the pattern accuracy is improved.

【0054】前記方法で製造した単純マトリクス基板5
0と前記実施例1の単純マトリクス基板20とを組合
せ、基板間に液晶を挟持させることでカラー表示可能な
液晶表示置が完成する。
The simple matrix substrate 5 manufactured by the above method
0 and the simple matrix substrate 20 of the first embodiment are combined, and liquid crystal is sandwiched between the substrates to complete a liquid crystal display device capable of color display.

【0055】(実施例5)前記実施例1〜4のガラス基
板201,301,401,501をエッチングする工
程において、たとえば、エッチングレートが速いエッチ
ャント(酸)のみでエッチングする。この場合、ガラス
基板のエッチング終了後、ストライプ状の電極および画
素電極202,305,407,502とガスバリア2
03,306,408,506とがエッチングされ、こ
れらにダメージを与える可能性が大きくなる。一方、エ
ッチングレートが遅いエッチャント(酸)のみでエッチ
ングするとダメージを与える可能性は小さくなるが、処
理時間が長くなる。
(Embodiment 5) In the step of etching the glass substrates 201, 301, 401, and 501 of the embodiments 1 to 4, for example, etching is performed only with an etchant (acid) having a high etching rate. In this case, after the etching of the glass substrate, the stripe-shaped electrodes and pixel electrodes 202, 305, 407, and 502 and the gas barrier 2
03, 306, 408, and 506 are etched, and the possibility of damaging them is increased. On the other hand, when etching is performed only with an etchant (acid) having a low etching rate, the possibility of causing damage is reduced, but the processing time is increased.

【0056】そこで、ダメージを与える可能性を小さく
して処理時間を短くするためにガラス基板の厚さが数千
Åになるまではエッチングレートが速いエッチャント
(たとえば、HFとHNO3とを1:20の割合で混合
した酸)でエッチングして、残りはエッチングレートが
遅いエッチャント(たとえば、HFとNH4Fとを1:
10の割合で混合した酸)でエッチングする。以上のよ
うに、ガラス基板をエッチングして除去する工程をエッ
チング液の成分を変えた複数の工程とすることで、スト
ライプ状の電極および画素電極とガスバリアへのダメー
ジはほとんどなくなり、処理時間も長くなることはな
い。
Therefore, in order to reduce the possibility of causing damage and shorten the processing time, an etchant having a high etching rate (for example, HF and HNO 3 : Etching with an acid mixed at a ratio of 20) and the rest with an etchant having a low etching rate (for example, HF and NH 4 F in a ratio of 1:
(Acid mixed at a ratio of 10). As described above, by performing the process of etching and removing the glass substrate as a plurality of processes in which the components of the etchant are changed, damage to the stripe-shaped electrodes and pixel electrodes and the gas barrier is almost eliminated, and the processing time is increased. It will not be.

【0057】以上のように、本発明によれば、電極、配
線、素子およびカラーフィルタなどのパターニングをガ
ラス基板上で行い、これらの上に透明基板となる透明樹
脂層を形成し、この後、ガラス基板をエッチングによっ
て除去するので、水分や熱などによってパターン精度が
影響を受けない。
As described above, according to the present invention, patterning of electrodes, wirings, elements, color filters, and the like is performed on a glass substrate, and a transparent resin layer serving as a transparent substrate is formed thereon. Since the glass substrate is removed by etching, pattern accuracy is not affected by moisture or heat.

【0058】また、前述した特開平10−177187
号公報の転写技術では、レーザの照射条件が確立されて
おらず、剥離がうまくいかないことが多いが、本発明で
は、エッチングによりガラス基板自体を除去するので、
容易にガラス基板を除去することができる。
Further, the above-mentioned Japanese Patent Application Laid-Open No. 10-177187.
In the transfer technology disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open Publication No. H10-157, the laser irradiation conditions have not been established, and peeling often does not succeed. However, in the present invention, since the glass substrate itself is removed by etching,
The glass substrate can be easily removed.

【0059】さらに、本発明では、エッチングによって
第1の基板を除去するので、第1の基板として使用する
基板は、ガラスのような透明基板でなくてもよく、不透
明基板を使用してもよい。このことにより、基板の選定
範囲が増え、より安価な材料を使うことができる。
Further, in the present invention, since the first substrate is removed by etching, the substrate used as the first substrate does not have to be a transparent substrate such as glass, and may be an opaque substrate. . As a result, the selection range of the substrate is increased, and a less expensive material can be used.

【0060】[0060]

【発明の効果】本発明に従えば、透明基板となる透明樹
脂層が水分や熱などに対して伸び縮みをする特性を持っ
ていても、第1の基板が水分や熱などに対して伸び縮み
しない特性であれば、電極層のパターンを高精度にパタ
ーンニングでき、対向する各透明基板を貼り合わせる工
程において電極層の重ね合わせの精度がよくなる。
According to the present invention, even if the transparent resin layer serving as the transparent substrate has the property of expanding and contracting with respect to moisture and heat, the first substrate expands with respect to moisture and heat. If the characteristics do not shrink, the pattern of the electrode layer can be patterned with high accuracy, and the accuracy of overlapping the electrode layers in the step of bonding the opposing transparent substrates is improved.

【0061】また本発明によれば、透明基板となる透明
樹脂層が水分や熱などに対して伸び縮みをする特性を持
っていても、第1の基板が水分や熱などに対して伸び縮
みしない特性であれば、画素電極、配線および2端子非
線形素子のパターンを高精度にパターニングでき、対向
する各透明基板を貼り合わせる工程において画素電極の
重ね合わせの精度がよくなる。
According to the present invention, even if the transparent resin layer serving as the transparent substrate has the property of expanding and contracting with respect to moisture and heat, the first substrate expands and contracts with respect to moisture and heat. If not, the pattern of the pixel electrode, the wiring, and the pattern of the two-terminal nonlinear element can be patterned with high accuracy, and the accuracy of the superposition of the pixel electrodes in the step of bonding the opposing transparent substrates is improved.

【0062】また本発明によれば、透明樹脂層が水分や
熱などに対して伸び縮みをする特性を持っていても、第
1の基板が水分や熱などに対して伸び縮みしない特性で
あれば、画素電極、配線および3端子素子のパターンを
高精度にパターニングでき、対向する各透明基板を貼り
合わせる工程において画素電極の重ね合わせの精度がよ
くなる。
According to the present invention, even if the transparent resin layer has the property of expanding and contracting with respect to moisture and heat, the first substrate does not have the property of expanding and contracting with respect to moisture and heat. For example, the pattern of the pixel electrode, the wiring, and the pattern of the three-terminal element can be patterned with high accuracy, and the accuracy of the superposition of the pixel electrodes can be improved in the step of bonding the opposing transparent substrates.

【0063】また本発明によれば、透明樹脂層が水分や
熱などに対して伸び縮みをする特性を持っていても第1
の基板が水分や熱などに対して伸び縮みしない特性であ
れば、電極層およびカラーフィルタのパターンを高精度
にパターンニングでき、対向する各透明基板を貼り合わ
せる工程において電極層およびカラーフィルタの重合わ
せの精度がよくなる。
According to the present invention, even if the transparent resin layer has the property of expanding and contracting with respect to moisture, heat, etc., the first
If the substrate does not expand and contract with moisture, heat, etc., the pattern of the electrode layer and the color filter can be patterned with high precision. The alignment accuracy is improved.

【0064】また本発明によれば、第1の基板を複数の
除去工程により除去することで、第1の基板上に形成さ
れる電極、カラーフィルタ、素子などへのエッチングに
よるダメージはほとんど無くなり、また、処理時間も長
くならない。
Further, according to the present invention, by removing the first substrate through a plurality of removal steps, damage to the electrodes, color filters, elements, etc. formed on the first substrate due to etching is almost eliminated. Further, the processing time does not increase.

【0065】また、第1の基板はエッチングによって除
去されるため、透明基板および不透明基板のどちらを使
ってもよい。このため、第1の基板に使用する材料の選
定範囲が増えるので、より安価な材料を使うことができ
る。
Since the first substrate is removed by etching, either a transparent substrate or an opaque substrate may be used. For this reason, the selection range of the material used for the first substrate is increased, so that a less expensive material can be used.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】図1(a)は、単純マトリクス基板20の製造
過程を示す断面図であり、図1(b)は、単純マトリク
ス基板20の平面図であり、図1(c)は、図1(b)
の切断面線I−Iから見た断面図である。
1A is a cross-sectional view illustrating a process of manufacturing a simple matrix substrate 20, FIG. 1B is a plan view of the simple matrix substrate 20, and FIG. 1 (b)
FIG. 2 is a cross-sectional view taken along line II of FIG.

【図2】図1(a)は、アクティブマトリクス基板30
の製造過程を示す断面図であり、図1(b)は、アクテ
ィブマトリクス基板30の平面図であり、図1(c)
は、図1(b)の切断面線II−IIから見た断面図で
ある。
FIG. 1A shows an active matrix substrate 30;
1B is a cross-sectional view showing the manufacturing process of FIG. 1, and FIG. 1B is a plan view of the active matrix substrate 30 and FIG.
FIG. 2 is a cross-sectional view taken along line II-II in FIG.

【図3】図3(a)は、アクティブマトリクス基板40
の製造過程を示す断面図であり、図3(b)は、アクテ
ィブマトリクス基板40の平面図であり、図3(c)
は、図1(b)の切断面線III−IIIから見た断面
図である。
FIG. 3A shows an active matrix substrate 40;
FIG. 3B is a cross-sectional view showing the manufacturing process of FIG. 3, and FIG. 3B is a plan view of the active matrix substrate 40, and FIG.
FIG. 3 is a cross-sectional view taken along the line III-III in FIG.

【図4】図4(a)は、カラーフィルタを有する単純マ
トリクス基板50の製造過程を示す断面図であり、図4
(b)は、単純マトリクス基板50の平面図であり、図
4(c)は、図4(b)の切断面線IV−IVから見た
断面図である。
FIG. 4A is a cross-sectional view showing a manufacturing process of a simple matrix substrate 50 having a color filter.
4B is a plan view of the simple matrix substrate 50, and FIG. 4C is a cross-sectional view taken along the line IV-IV of FIG. 4B.

【図5】従来の一般的なプラスチック材を基板とした液
晶表示装置10の断面図である。
FIG. 5 is a cross-sectional view of a conventional liquid crystal display device 10 using a general plastic material as a substrate.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10 液晶表示装置 20,50 単純マトリクス基板 30,40 アクティブマトリクス基板 101 偏光板 103,204,307,409,507 透明基板
(プラスチック基板) 102,104 ハードコート 105 アンダーコート 106 ITO電極 107 トップコート 108 配向膜 109 シール剤 110 液晶 201,301,401,501 ガラス基板 202,502 ストライプ状の電極 305,407 画素電極 203,306,408,506 ガスバリア 302 下部電極 303 絶縁膜 304 上部電極 308 信号配線 402 ゲート電極 403 ゲート絶縁膜 404 半導体層 405 ソース電極 406 ドレイン電極 410 ソースバス配線 411 ゲートバス配線 503,504,505 カラーフィルタ
Reference Signs List 10 liquid crystal display device 20, 50 simple matrix substrate 30, 40 active matrix substrate 101 polarizing plate 103, 204, 307, 409, 507 transparent substrate (plastic substrate) 102, 104 hard coat 105 undercoat 106 ITO electrode 107 topcoat 108 orientation Film 109 Sealant 110 Liquid crystal 201, 301, 401, 501 Glass substrate 202, 502 Striped electrode 305, 407 Pixel electrode 203, 306, 408, 506 Gas barrier 302 Lower electrode 303 Insulating film 304 Upper electrode 308 Signal wiring 402 Gate electrode 403 Gate insulating film 404 Semiconductor layer 405 Source electrode 406 Drain electrode 410 Source bus wiring 411 Gate bus wiring 503, 504, 505 Color filter

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 2H088 FA05 FA10 FA16 FA18 FA28 FA29 FA30 HA08 KA01 MA16 2H090 HA02 JA16 JB03 JC07 JC14 JC18 JD09 JD13 JD18 LA01 LA04 5C094 AA05 AA42 AA43 BA03 BA04 BA43 CA19 CA23 EA03 EA04 EA07 EB02 ED02 FB01 FB12 GB01 5F110 AA17 BB01 CC05 CC07 DD01 EE04 EE44 FF03 FF30 GG02 GG15 GG25 GG45 HK04 HK07 HK21 HK33 NN23 NN72 QQ16 5G435 AA17 BB12 CC09 CC12 GG12 HH02 KK05  ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page F term (reference) 2H088 FA05 FA10 FA16 FA18 FA28 FA29 FA30 HA08 KA01 MA16 2H090 HA02 JA16 JB03 JC07 JC14 JC18 JD09 JD13 JD18 LA01 LA04 5C094 AA05 AA42 AA43 BA03 BA04 BA43 CA02 EA03 EB03 FB12 GB01 5F110 AA17 BB01 CC05 CC07 DD01 EE04 EE44 FF03 FF30 GG02 GG15 GG25 GG45 HK04 HK07 HK21 HK33 NN23 NN72 QQ16 5G435 AA17 BB12 CC09 CC12 GG12 HH02 KK05

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 液晶層と、この液晶層を介在して対向配
置される一対の透明基板とを有し、これらの透明基板の
各対向面に前記液晶層を駆動するために電圧を印加する
電極層を有する液晶表示装置の製造方法において、 第1の基板上に電極層を形成する第1工程と、 透明基板となる透明樹脂層を電極層上に形成する第2工
程と、 エッチングによって第1の基板を除去する第3工程とを
含むことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
1. A liquid crystal layer, and a pair of transparent substrates disposed to face each other with the liquid crystal layer interposed therebetween, and a voltage is applied to each of the opposing surfaces of the transparent substrates to drive the liquid crystal layer. In a method for manufacturing a liquid crystal display device having an electrode layer, a first step of forming an electrode layer on a first substrate, a second step of forming a transparent resin layer to be a transparent substrate on the electrode layer, And a third step of removing the first substrate.
【請求項2】 液晶層と、この液晶層を介在して対向配
置される一対の透明基板とを有し、これら一対の透明基
板のうち一方基板の液晶層側表面に画素電極と、各画素
電極に電圧を印加するための配線および2端子非線形素
子とを有し、他方基板の液晶層側表面にストライプ状の
対向電極を有する液晶表示装置の製造方法において、 第1の基板上に画素電極と、各画素電極に電圧を印加す
るための配線および2端子非線形素子とを形成する第1
工程と、 透明基板となる透明樹脂層を画素電極、配線および2端
子非線形素子上に形成する第2工程と、 エッチングによって第1の基板を除去する第3工程とを
含むことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
2. A liquid crystal layer, and a pair of transparent substrates disposed to face each other with the liquid crystal layer interposed therebetween. A pixel electrode and a pixel electrode are formed on a surface of one of the pair of transparent substrates on the liquid crystal layer side. In a method for manufacturing a liquid crystal display device having a wiring for applying a voltage to an electrode and a two-terminal non-linear element, and a stripe-shaped counter electrode on a surface of the other substrate on a liquid crystal layer side, a pixel electrode is provided on a first substrate And a first line forming a wiring for applying a voltage to each pixel electrode and a two-terminal nonlinear element.
A liquid crystal, comprising: a step of forming a transparent resin layer to be a transparent substrate on the pixel electrode, the wiring, and the two-terminal nonlinear element; and a third step of removing the first substrate by etching. A method for manufacturing a display device.
【請求項3】 液晶層と、この液晶層を介在して対向配
置される一対の透明基板とを有し、これら一対の透明基
板のうち一方基板の液晶層側表面に画素電極と、各画素
電極に電圧を印加するための配線および3端子素子とを
有し、他方基板の液晶層側表面に対向電極を有する液晶
表示装置の製造方法において、 第1の基板上に画素電極と、各画素電極に電圧を印加す
るための配線および3端子素子とを形成する第1工程
と、 透明基板となる透明樹脂層を画素電極、配線および3端
子素子上に形成する第2工程と、 エッチングによって第1の基板を除去する第3工程とを
含むことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
3. A liquid crystal layer, and a pair of transparent substrates disposed so as to face each other with the liquid crystal layer interposed therebetween. In a method for manufacturing a liquid crystal display device having a wiring for applying a voltage to an electrode and a three-terminal element and having a counter electrode on a surface of a liquid crystal layer on the other substrate, a pixel electrode and a pixel are provided on a first substrate. A first step of forming a wiring and a three-terminal element for applying a voltage to the electrode; a second step of forming a transparent resin layer serving as a transparent substrate on the pixel electrode, the wiring and the three-terminal element; And a third step of removing the first substrate.
【請求項4】 液晶層と、この液晶層を介在して対向配
置される一対の透明基板とを有し、これらの透明基板の
各対向面に前記液晶層を駆動するために電圧を印加する
電極層を有し、さらに一方基板には、カラーフィルタを
有する液晶表示装置の製造方法において、 第1の基板上に電極層およびカラーフィルタを形成する
第1工程と、 透明基板となる透明樹脂層をカラーフィルタ上に形成す
る第2工程と、 エッチングによって第1の基板を除去する第3工程とを
含むことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
4. A liquid crystal layer and a pair of transparent substrates opposed to each other with the liquid crystal layer interposed therebetween, and a voltage is applied to each of the opposing surfaces of the transparent substrates to drive the liquid crystal layer. A method of manufacturing a liquid crystal display device having an electrode layer and a color filter on one substrate, a first step of forming an electrode layer and a color filter on a first substrate, and a transparent resin layer to be a transparent substrate A method of manufacturing a liquid crystal display device, comprising: a second step of forming a first substrate on a color filter; and a third step of removing the first substrate by etching.
【請求項5】 前記第1の基板は、複数の除去工程を経
て除去されることを特徴とする請求項1〜4のいずれか
1つに記載の液晶表示装置の製造方法。
5. The method according to claim 1, wherein the first substrate is removed through a plurality of removing steps.
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2009093158A (en) * 2007-09-21 2009-04-30 Toshiba Matsushita Display Technology Co Ltd Display element
JP2010072529A (en) * 2008-09-22 2010-04-02 Hitachi Displays Ltd Liquid crystal display device and method for manufacturing the same
US9632635B2 (en) 2012-07-02 2017-04-25 Sharp Kabushiki Kaisha Touch panel and touch panel-equipped display device

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