JP2002083907A - Semiconductor device, board, liquid crystal display and plasma display using the same - Google Patents

Semiconductor device, board, liquid crystal display and plasma display using the same

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JP2002083907A
JP2002083907A JP2000271592A JP2000271592A JP2002083907A JP 2002083907 A JP2002083907 A JP 2002083907A JP 2000271592 A JP2000271592 A JP 2000271592A JP 2000271592 A JP2000271592 A JP 2000271592A JP 2002083907 A JP2002083907 A JP 2002083907A
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Japan
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semiconductor device
semiconductor
semiconductor chip
heat
liquid crystal
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JP2000271592A
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Japanese (ja)
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Koji Senda
耕司 千田
Yutaka Minamino
裕 南野
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Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/0001Technical content checked by a classifier
    • H01L2924/0002Not covered by any one of groups H01L24/00, H01L24/00 and H01L2224/00

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a constitution capable of displaying a sufficient radiation effect on heating of a semiconductor chip mounted on a circuit board in a COG(chip on glass) system. SOLUTION: Heat sinks 4c,..., 6c,... are provided on semiconductor chips 4b,..., 6b,... mounted on a glass array board 1 in a COG(chip on glass) system.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体装置に関
し、例えば、液晶ディスプレイやプラズマディスプレイ
での、半導体チップを直接ガラス基板上に実装するチッ
プオングラス(COG)方式における、半導体チップか
らの放熱効率を向上させるための構成に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor device, and more particularly to a heat dissipation efficiency from a semiconductor chip in a chip-on-glass (COG) system in which a semiconductor chip is directly mounted on a glass substrate in a liquid crystal display or a plasma display. To improve the configuration.

【0002】[0002]

【従来の技術】液晶ディスプレイやプラズマディスプレ
イは、小型軽量化が要求されるノート型パソコン等の用
途に適するものであるが、その小型軽量化の要求に対応
するために、半導体チップ(ベアチップ)を表示パネル
に直付けして駆動回路を構成するCOG実装方式がとら
れている。
2. Description of the Related Art Liquid crystal displays and plasma displays are suitable for applications such as notebook personal computers that require small size and light weight. To meet the demand for small size and light weight, semiconductor chips (bare chips) are required. A COG mounting method in which a drive circuit is directly attached to a display panel is employed.

【0003】ここで、従来の、COG実装方式がとられ
ている液晶ディスプレイについて、図5、図6を用いて
説明する。図5は従来の液晶ディスプレイの概略平面
図、図6は図5のA−A線概略部分断面図である。
Here, a conventional liquid crystal display employing a COG mounting method will be described with reference to FIGS. FIG. 5 is a schematic plan view of a conventional liquid crystal display, and FIG. 6 is a schematic partial sectional view taken along line AA of FIG.

【0004】図5、図6に示すように、20はガラス、
石英等からなるアレー基板であり、該アレー基板20に
対向するように対向基板21が配置され、該対向基板2
1とアレー基板20との間には液晶材料が挟持されて液
晶ディスプレイが構成されている。
As shown in FIGS. 5 and 6, reference numeral 20 denotes glass,
An array substrate made of quartz or the like; an opposing substrate 21 is arranged so as to oppose the array substrate 20;
A liquid crystal material is sandwiched between 1 and the array substrate 20 to constitute a liquid crystal display.

【0005】前記アレー基板20上には画素領域28が
形成され、該画素領域28の周縁部には、複数の半導体
チップ23b…からなる走査信号駆動回路23、複数の
半導体チップ25b…からなる画像信号駆動回路25が
配置されている。
A pixel region 28 is formed on the array substrate 20, and a scanning signal drive circuit 23 composed of a plurality of semiconductor chips 23b and an image composed of a plurality of semiconductor chips 25b are provided on the periphery of the pixel region 28. A signal drive circuit 25 is provided.

【0006】前記走査信号駆動回路23を構成する半導
体チップ23bには、バンプ(図示せぬ)が設けられ、
該バンプは、画素領域を構成する薄膜トランジスタのゲ
ート電極(図示せぬ)に走査信号線22を介して接続さ
れている。また、前記画像信号駆動回路25を構成する
半導体チップ25bにもバンプ29が設けられ、該バン
プ29は、画素領域を構成する薄膜トランジスタのソー
ス電極に画像信号線24を介して接続されている。ま
た、前記半導体チップ23b…・25b…は接着材26
によりアレー基板20に接着されるとともに、エポキシ
樹脂等からなる保護樹脂膜27により被覆されて保護さ
れている。
A bump (not shown) is provided on a semiconductor chip 23b constituting the scanning signal drive circuit 23.
The bump is connected via a scanning signal line 22 to a gate electrode (not shown) of a thin film transistor forming a pixel region. Also, a bump 29 is provided on the semiconductor chip 25b constituting the image signal drive circuit 25, and the bump 29 is connected to the source electrode of the thin film transistor constituting the pixel region via the image signal line 24. The semiconductor chips 23b... 25b.
And is protected by being covered with a protective resin film 27 made of epoxy resin or the like.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】しかし、前記従来の構
造の液晶表示装置を作動させると、駆動回路(半導体チ
ップ)で熱が発生する。そして、基板としてガラスを使
用すると、該ガラス基板は熱伝導率が悪いために、駆動
回路部分に熱が局在し駆動回路の性能が低下するという
問題がある。また、前記駆動回路部分に熱が局在する
と、該駆動回路の周辺の部材、例えば、シール材や液晶
材料等に影響を及ぼし、液晶表示装置の表示性能が劣化
することもある。
However, when the conventional liquid crystal display device is operated, heat is generated in the drive circuit (semiconductor chip). When glass is used as the substrate, there is a problem that heat is localized in the driving circuit portion and the performance of the driving circuit is reduced because the glass substrate has poor thermal conductivity. Further, when heat is localized in the drive circuit portion, members around the drive circuit, such as a sealant and a liquid crystal material, are affected, and the display performance of the liquid crystal display device may be degraded.

【0008】また、図6に示したように、前記駆動回路
を保護樹脂膜で被覆することにより駆動回路を保護して
いるのであるが、駆動回路からの熱は逆に放出されにく
くなり、駆動回路の更なる性能の低下を招いてしまう。
Further, as shown in FIG. 6, the drive circuit is protected by covering the drive circuit with a protective resin film. However, heat from the drive circuit is unlikely to be radiated. This causes a further decrease in the performance of the circuit.

【0009】また、狭額縁化パネルの要請や、液晶表示
装置の高性能化の要求に対応するために、駆動回路を更
に高集積化する必要性が生じてきており、その高集積化
に伴って、駆動回路からの発熱量が飛躍的に増大する可
能性もあり、駆動回路からの熱の放出を促進させる必要
がある。
Further, in order to meet the demand for narrower frame panels and the demand for higher performance of liquid crystal display devices, it has become necessary to further integrate drive circuits. As a result, the amount of heat generated from the drive circuit may increase dramatically, and it is necessary to promote the release of heat from the drive circuit.

【0010】本発明は、前記課題を解決するためのもの
であり、半導体チップからの放熱を効率的に行い得る構
成の提供を目的としている。
[0010] The present invention has been made to solve the above-mentioned problem, and has as its object to provide a configuration capable of efficiently dissipating heat from a semiconductor chip.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】即ち、前記課題を解決す
るために請求項1に記載の発明は、半導体装置であっ
て、 基板上にCOG(チップオングラス)方式で実装
される半導体チップと、該半導体チップ上に設けられた
放熱板と、を備えたことを特徴とする。
In order to solve the above-mentioned problems, the invention according to claim 1 is a semiconductor device, comprising: a semiconductor chip mounted on a substrate by a COG (chip-on-glass) method; And a heat sink provided on the semiconductor chip.

【0012】前記構成とすることにより、COG方式で
回路基板上に実装された半導体チップから発生する熱は
放熱板に伝わり、該放熱板から大気中へ放出されること
となるので、半導体チップに熱が局在化することはな
い。従って、チップの特性劣化は起こることはないの
で、半導体チップの信頼性を向上することができる。ま
た、前記放熱板を半導体チップ上に設けることにより、
半導体装置の占有面積は大きくならず、スペースの有効
利用を図ることができる。
With this configuration, heat generated from the semiconductor chip mounted on the circuit board by the COG method is transmitted to the heat radiating plate and released from the heat radiating plate to the atmosphere. No heat is localized. Accordingly, the characteristics of the chip do not deteriorate, so that the reliability of the semiconductor chip can be improved. Also, by providing the heat sink on a semiconductor chip,
The occupied area of the semiconductor device does not increase, and the space can be effectively used.

【0013】また、請求項2に記載の発明は、請求項1
に記載の半導体装置であって、前記放熱板の面積は前記
半導体チップの面積より小さいことを特徴とする。
The invention described in claim 2 is the first invention.
Wherein the area of the heat sink is smaller than the area of the semiconductor chip.

【0014】前記構成とすることにより、例え、前記半
導体チップを高密度実装する場合であっても、前記放熱
板は邪魔になるようなことはなく、半導体チップの高密
度実装が可能となる。
According to the above configuration, even when the semiconductor chips are mounted at a high density, the heat sink does not become an obstacle, and the semiconductor chips can be mounted at a high density.

【0015】また、請求項3に記載の発明は、請求項1
または請求項2に記載の半導体装置であって、前記放熱
板の表面は凹凸構造を有することを特徴とする。
[0015] The invention described in claim 3 is based on claim 1.
Alternatively, the semiconductor device according to claim 2, wherein a surface of the heat sink has an uneven structure.

【0016】前記構成とすることにより、前記放熱板の
表面積が実効的に大きくなるので、半導体チップの熱を
放熱板から大気中に更に放出することができるようにな
り、放熱効率が向上する。
According to the above configuration, since the surface area of the heat radiating plate is effectively increased, the heat of the semiconductor chip can be further released from the heat radiating plate to the atmosphere, and the heat radiation efficiency is improved.

【0017】また、請求項4に記載の発明は、請求項1
〜請求項3の何れかに記載の半導体装置であって、前記
放熱板は、該放熱板と略同等以上の熱伝導率を有する接
着材によって前記半導体チップ上に接着されている構成
であることを特徴とする。
The invention described in claim 4 is the first invention.
4. The semiconductor device according to claim 3, wherein the radiator plate is bonded to the semiconductor chip with an adhesive having a thermal conductivity substantially equal to or higher than that of the radiator plate. 5. It is characterized by.

【0018】前記構成のように、前記放熱板と略同等以
上の熱伝導率を有する接着材によって半導体チップ上に
放熱板を接着することにより、半導体チップの熱が放熱
板に伝導し易くなり、放熱効率が向上する。
By bonding the heat sink to the semiconductor chip with an adhesive having a thermal conductivity substantially equal to or higher than that of the heat sink, heat of the semiconductor chip is easily conducted to the heat sink. Heat dissipation efficiency is improved.

【0019】また、請求項5に記載の発明は、COG方
式で複数の半導体装置が実装された基板であって、前記
半導体装置は請求項1〜請求項4のいずれかに記載の半
導体装置であり、これら半導体装置は、前記放熱板の少
なくとも一部が露出するように保護樹脂膜により被覆さ
れて実装されていることを特徴とする。
According to a fifth aspect of the present invention, there is provided a substrate on which a plurality of semiconductor devices are mounted by a COG method, wherein the semiconductor device is the semiconductor device according to any one of the first to fourth aspects. In addition, these semiconductor devices are characterized in that at least a part of the heat sink is covered with a protective resin film and mounted.

【0020】前記構成のように、保護樹脂膜より前記放
熱板が露出した構成とすることにより、保護樹脂膜によ
って半導体チップを保護することができるとともに、半
導体チップから発生する熱を前記放熱板により大気中に
放出することができる。
By adopting a configuration in which the radiator plate is exposed from the protective resin film as in the above configuration, the semiconductor chip can be protected by the protective resin film, and the heat generated from the semiconductor chip can be reduced by the radiator plate. Can be released to the atmosphere.

【0021】また、請求項6に記載の発明は、液晶ディ
スプレイであって、請求項5に記載の基板を用いたこと
を特徴とする。
According to a sixth aspect of the present invention, there is provided a liquid crystal display, wherein the substrate according to the fifth aspect is used.

【0022】また、請求項7に記載の発明は、プラズマ
ディスプレイであって、請求項5に記載の基板を用いた
ことを特徴とする。
According to a seventh aspect of the present invention, there is provided a plasma display, wherein the substrate according to the fifth aspect is used.

【0023】前記構成とすることにより、請求項5に記
載の基板の特徴を備えた(即ち、放熱特性に優れた)液
晶ディスプレイやプラズマディスプレイを提供すること
ができる。
According to the above configuration, it is possible to provide a liquid crystal display or a plasma display having the features of the substrate described in claim 5 (ie, excellent in heat radiation characteristics).

【0024】[0024]

【発明の実施の形態】以下に、本発明の半導体装置を適
用した液晶ディスプレイについて、図1〜図3を参照し
ながら説明する。図1は本発明の実施の形態に係る半導
体装置を適用した液晶ディスプレイの概略平面図、図2
は図1のB−B線概略部分断面図、図3は半導体チップ
上に設けられた放熱板の斜視図である。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS A liquid crystal display to which the semiconductor device of the present invention is applied will be described below with reference to FIGS. FIG. 1 is a schematic plan view of a liquid crystal display to which a semiconductor device according to an embodiment of the present invention is applied, and FIG.
Is a schematic partial cross-sectional view taken along the line BB of FIG. 1, and FIG. 3 is a perspective view of a heat sink provided on the semiconductor chip.

【0025】図1〜図3に示すように、1はガラス、石
英等からなるアレー基板であり、該アレー基板1に対向
するように対向基板2が配置されている。前記アレー基
板1上には画素領域7が形成され、該画素領域7の周縁
部には、COG(チップオングラス)方式によって、走
査信号駆動回路4、画像信号駆動回路6が実装されてい
る。前記走査信号駆動回路4、画像信号駆動回路6は、
それぞれ、複数の半導体装置4a…・6a…とにより構
成され、前記半導体装置4aは、半導体チップ4bと放
熱板4cとにより構成され、また、前記半導体装置6a
は、半導体チップ6bと放熱板6cとにより構成されて
いる。
As shown in FIGS. 1 to 3, reference numeral 1 denotes an array substrate made of glass, quartz, or the like, and an opposing substrate 2 is arranged so as to oppose the array substrate 1. A pixel region 7 is formed on the array substrate 1, and a scanning signal driving circuit 4 and an image signal driving circuit 6 are mounted on the periphery of the pixel region 7 by a COG (chip-on-glass) method. The scanning signal driving circuit 4 and the image signal driving circuit 6
Each of the semiconductor devices 4a... 6a... Is formed by a semiconductor chip 4b and a heat sink 4c.
Is composed of a semiconductor chip 6b and a heat sink 6c.

【0026】より詳しく説明すると、前記半導体チップ
4b…・6b…は、前記アレー基板1上に接着材8によ
って接着されており、半導体チップ6b…にはバンプ1
4・14が設けられ、該バンプ14・14は、画素領域
7を構成する薄膜トランジスタのソース電極に画像信号
線5を介して接続されている。また、また、半導体チッ
プ4b…にもバンプ(図示せぬ)が設けられ、該バンプ
は、画素領域7を構成する薄膜トランジスタのゲート電
極(図示せぬ)に走査信号線3を介して接続されてい
る。
More specifically, the semiconductor chips 4b... 6b are adhered on the array substrate 1 by an adhesive 8, and the semiconductor chips 6b.
The bumps 14 are connected to the source electrodes of the thin film transistors constituting the pixel region 7 via the image signal lines 5. Further, a bump (not shown) is also provided on the semiconductor chip 4b. The bump is connected to the gate electrode (not shown) of the thin film transistor forming the pixel region 7 via the scanning signal line 3. I have.

【0027】また、前記半導体チップ4b…・6b…上
には、アルミニウムや銅等の熱伝導率の高い材質からな
る放熱板4c…・6c…が高熱伝導性の接着材10によ
り接着されている。また、前記放熱板4c…・6c…は
表面に凹凸構造を有している。
On the semiconductor chips 4b... 6b, heat radiating plates 4c... 6c made of a material having high thermal conductivity such as aluminum and copper are adhered by an adhesive material 10 having a high thermal conductivity. . The heat radiating plates 4c... 6c have an uneven structure on the surface.

【0028】また、前記半導体チップ4b…・6b…
は、エポキシ樹脂等からなる保護樹脂膜9で保護されて
おり、該保護樹脂膜9には開口部9aが開口され、該開
口部9aから前記放熱板4c…・6c…の凹凸構造の少
なくとも一部が露出した構成とされている。
The semiconductor chips 4b... 6b.
Are protected by a protective resin film 9 made of an epoxy resin or the like. The protective resin film 9 has an opening 9a, and at least one of the concave and convex structures of the heat radiating plates 4c. The part is exposed.

【0029】前記実装構造の製造方法であるが、予め、
半導体チップ4b…・6b…上に放熱板4c…・6c…
を接着材10により接着しておき、次に、該半導体チッ
プ4b…・6b…をアレー基板1上に実装し、その後、
該半導体チップ4b…・6b…を保護樹脂膜9により被
覆する。尚、前記保護樹脂膜9により被覆する際、前記
放熱板4c…・6c…全体を保護樹脂膜9によって被覆
してしまわないようにし、少なくとも凹凸構造の一部が
露出するようにする。
The manufacturing method of the mounting structure is as follows.
Heat sinks 4c 6c on semiconductor chips 4b 6b
6b are mounted on the array substrate 1 and then the semiconductor chips 4b... 6b.
The semiconductor chips 4b are covered with a protective resin film 9. When covering with the protective resin film 9, the whole of the heat sinks 4c... 6c is prevented from being covered with the protective resin film 9, and at least a part of the uneven structure is exposed.

【0030】また、その他の製造方法であるが、まず、
半導体チップ4b…・6b…をアレー基板1上に実装
し、次に、該半導体チップ4b…・6b…を保護樹脂膜
9により被覆する。その後、該保護樹脂膜9にエッチン
グ等の処理によって開口部9aを開口し、その開口部9
aを介して放熱板4c…・6c…を接着材10により半
導体チップ4b…・6b…上に接着するようにしても良
い。
Another manufacturing method is as follows.
The semiconductor chips 4b... 6b are mounted on the array substrate 1, and then the semiconductor chips 4b. Thereafter, an opening 9a is opened in the protective resin film 9 by a process such as etching, and the opening 9a is formed.
The heat sinks 4c... 6c... may be bonded onto the semiconductor chips 4b.

【0031】このようにして、前記半導体チップ4b…
・6b…で発生する熱を、放熱板4c…・6c…によっ
て大気中へ放出するすることができ、半導体チップ3b
…・4b…から構成される駆動回路4・6に熱が局在す
ることはなく、従って、駆動回路4・6の信頼性は向上
する。
Thus, the semiconductor chips 4b.
The heat generated in the semiconductor chip 3b can be released to the atmosphere by the heat radiating plates 4c.
Heat is not localized in the driving circuits 4 and 6 composed of... 4b, and therefore, the reliability of the driving circuits 4 and 6 is improved.

【0032】また、前記放熱板4c…・6c…を半導体
チップ4b…・6b…上に設けた構成とすることによ
り、半導体チップ4b…・6b…と放熱板4c…・6c
…とからなる半導体装置4a…・6a…の専有面積を小
さくすることができ、従って、液晶表示装置内のスペー
スの有効利用を図れ、液晶表示装置のコンパクト化(狭
額縁化)を図ることができる。
The heat sinks 4c... 6c are provided on the semiconductor chips 4b... 6b so that the semiconductor chips 4b.
The semiconductor device 4a has a small area occupied by the semiconductor devices 4a, 6a,.... it can.

【0033】また、本実施の形態のように、液晶表示装
置を構成するアレー基板の周縁部上に半導体チップをC
OG方式で実装する場合、液晶表示装置は薄型構成であ
るので、放熱板の厚みを大きくする等して放熱効率を向
上することはできない。しかし、放熱板に凹凸構造を有
するよう構成することにより表面積が増大し、駆動回路
で発生する熱を放熱板を介して大気中に更に放出するこ
とができ、また、液晶表示装置の厚み方向の狭いスペー
スの有効利用を図ることができる。
Further, as in the present embodiment, a semiconductor chip is mounted on the periphery of an array substrate constituting a liquid crystal display device.
In the case of mounting by the OG method, since the liquid crystal display device has a thin configuration, the heat radiation efficiency cannot be improved by increasing the thickness of the heat radiation plate. However, by configuring the radiator plate to have a concavo-convex structure, the surface area increases, and the heat generated by the drive circuit can be further released to the atmosphere through the radiator plate. Effective use of a narrow space can be achieved.

【0034】また、今後の更なる液晶表示装置の性能向
上、例えば、高速応答や高精細化等の要求に対応するた
めに半導体チップ(駆動回路)を高密度実装する場合、
その高密度実装に対応して、放熱板は小さくなるが、該
放熱板に凹凸構造を有することによって放熱板の実効的
な表面積は小さくならない。従って、半導体チップを高
密度実装する場合でも、放熱特性が低下するようなこと
はなく、半導体チップの信頼性が損なわれるようなこと
はない。
Further, when semiconductor chips (drive circuits) are mounted at a high density in order to respond to demands for further performance improvement of the liquid crystal display device, for example, high speed response and high definition,
Although the heat radiating plate becomes smaller corresponding to the high-density mounting, the effective surface area of the heat radiating plate does not become smaller due to the unevenness of the heat radiating plate. Therefore, even when the semiconductor chips are mounted at a high density, the heat radiation characteristics do not deteriorate and the reliability of the semiconductor chips does not deteriorate.

【0035】また、前記半導体チップ4b…・6b…を
保護樹脂膜9で被覆すると、該半導体チップ4b…・6
b…で発生する熱を放出する放熱効率が低下してしまう
のであるが、図2に示したように、前記放熱板4c…・
6c…を保護樹脂膜9より露出した構成とすることによ
り、放熱効率を低下させることなく、保護することが可
能となる。
When the semiconductor chips 4b... 6b are covered with a protective resin film 9, the semiconductor chips 4b.
The heat radiation efficiency for releasing the heat generated in b ... decreases, but as shown in FIG.
6c are exposed from the protective resin film 9, thereby enabling protection without lowering the heat radiation efficiency.

【0036】(その他の事項) 前記実施の形態では、放熱板は凹凸構造を有している
が、該凹凸構造を有さない構成とすることもできる。そ
して、そのような場合であっても、半導体チップの熱を
放熱板から放出することは可能であるのは勿論である。
また、前記凹凸構造の形状は、前記実施の形態に示す形
状に限定されるものではない。
(Other Matters) In the above embodiment, the heat radiating plate has a concave-convex structure. However, a structure without the concave-convex structure may be adopted. And even in such a case, it is of course possible to release the heat of the semiconductor chip from the heat sink.
Further, the shape of the uneven structure is not limited to the shape described in the above embodiment.

【0037】前記実施の形態では、放熱板は凹凸構造
を有しているが、例えば、図4に示すような構成とする
ことも可能である。図4は本発明の実施の形態の他の例
を示す概略断面図である。
In the above embodiment, the heat radiating plate has an uneven structure. However, for example, a structure as shown in FIG. 4 can be adopted. FIG. 4 is a schematic sectional view showing another example of the embodiment of the present invention.

【0038】即ち、放熱板6dの上部に凹凸構造を有す
るよう構成しているのは前記と同様であるが、放熱板6
dの下部(半導体チップ6b側)にも凹凸構造を有する
ように構成している。
That is, the structure of the heat radiating plate 6d having an uneven structure on the upper part is the same as that described above.
The lower portion d (on the side of the semiconductor chip 6b) also has an uneven structure.

【0039】このような構成においては、放熱板6dの
下部の凹凸構造により放熱板6dの下部の表面積を大き
くすることができると共に、放熱板6dと半導体チップ
6bとを接着する接着材10による接着性が向上するの
で、半導体チップ4bから発生する熱が、更に、放熱板
6dに伝達されやすくなり、放熱効率がより向上する。
In such a configuration, the surface area of the lower part of the heat radiating plate 6d can be increased by the concave-convex structure of the lower part of the heat radiating plate 6d, and the bonding by the adhesive 10 for bonding the heat radiating plate 6d and the semiconductor chip 6b. Since heat dissipation is improved, heat generated from the semiconductor chip 4b is more easily transmitted to the heat radiating plate 6d, and the heat radiation efficiency is further improved.

【0040】前記実施の形態では、半導体装置を液晶
ディスプレイの駆動回路部分に適応した例を示したが、
これに限られるものではなく、プラズマディスプレイに
前記半導体装置を適用することもできる。その場合、プ
ラズマディスプレイは消費電力が大きく、駆動回路で発
生する熱量は大きいと考えられるが、本発明の構成によ
ってプラズマディスプレイの放熱効果が高くなる。
In the above-described embodiment, an example is shown in which the semiconductor device is applied to a drive circuit portion of a liquid crystal display.
The present invention is not limited to this, and the semiconductor device can be applied to a plasma display. In that case, it is considered that the power consumption of the plasma display is large and the amount of heat generated in the driving circuit is large. However, the configuration of the present invention increases the heat radiation effect of the plasma display.

【0041】前記実施の形態では、保護樹脂膜によっ
て半導体チップを被覆する構成としているが、保護樹脂
膜による被覆は必ずしも行わなくても良い。
In the above embodiment, the semiconductor chip is covered with the protective resin film. However, the covering with the protective resin film is not always required.

【0042】[0042]

【発明の効果】本発明は、以上説明したような形態で実
施され、以下に記載されるような効果を奏する。
The present invention is embodied in the form described above and has the following effects.

【0043】即ち、半導体チップと、該半導体チップ上
に設けられた放熱板と、を備えた半導体装置を提供する
ことにより、半導体チップからの放熱効率が向上する。
従って、半導体チップの特性劣化が起こるようなことが
なく、半導体チップ(半導体装置)の信頼性が向上する
という効果を奏する。そして、そのような半導体装置
は、プラズマディスプレイや液晶ディスプレイの駆動回
路部分等に適用することができ、液晶ディスプレイやプ
ラズマディスプレイの信頼性が向上する。
That is, by providing a semiconductor device having a semiconductor chip and a heat radiating plate provided on the semiconductor chip, heat radiation efficiency from the semiconductor chip is improved.
Accordingly, there is an effect that the characteristics of the semiconductor chip do not deteriorate and the reliability of the semiconductor chip (semiconductor device) is improved. Such a semiconductor device can be applied to a driving circuit portion of a plasma display or a liquid crystal display, and the reliability of the liquid crystal display or the plasma display is improved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の実施の形態に係る半導体装置を適用し
た液晶ディスプレイの概略平面図である。
FIG. 1 is a schematic plan view of a liquid crystal display to which a semiconductor device according to an embodiment of the present invention is applied.

【図2】図1のB−B線概略部分断面図である。FIG. 2 is a schematic partial sectional view taken along line BB of FIG.

【図3】半導体チップ上に設けられた放熱板の斜視図で
ある。
FIG. 3 is a perspective view of a heat sink provided on a semiconductor chip.

【図4】本発明の実施の形態の他の例を示す概略断面図
である。
FIG. 4 is a schematic sectional view showing another example of the embodiment of the present invention.

【図5】従来の液晶ディスプレイの概略平面図である。FIG. 5 is a schematic plan view of a conventional liquid crystal display.

【図6】図5のA−A線概略部分断面図である。FIG. 6 is a schematic partial sectional view taken along line AA of FIG. 5;

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 アレー基板 2 対向基板 3 走査信号線 4 走査信号駆動回路 4a 半導体装置 4b 半導体チップ 4c 放熱板 5 画像信号線 6 画像信号駆動回路 6a 半導体装置 6b 半導体チップ 6c 放熱板 6d 放熱板 7 画素領域 8 接着材 9 保護樹脂膜 10 接着材 14 バンプ 20 アレー基板 21 対向基板 22 走査信号線 23 走査信号駆動回路 23b 半導体チップ 24 画像信号線 25 画像信号駆動回路 25b 半導体チップ 26 接着材 27 保護樹脂膜 28 画素領域 29 バンプ DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Array substrate 2 Counter substrate 3 Scan signal line 4 Scan signal drive circuit 4a Semiconductor device 4b Semiconductor chip 4c Heat sink 5 Image signal line 6 Image signal drive circuit 6a Semiconductor device 6b Semiconductor chip 6c Heat sink 6d Heat sink 7 Pixel area 8 Adhesion Material 9 Protective resin film 10 Adhesive 14 Bump 20 Array substrate 21 Counter substrate 22 Scan signal line 23 Scan signal drive circuit 23b Semiconductor chip 24 Image signal line 25 Image signal drive circuit 25b Semiconductor chip 26 Adhesive 27 Protective resin film 28 Pixel area 29 Bump

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 基板上にCOG(チップオングラス)方
式で実装される半導体チップと、 該半導体チップ上に設けられた放熱板と、 を備えたことを特徴とする半導体装置。
1. A semiconductor device comprising: a semiconductor chip mounted on a substrate by a COG (chip-on-glass) method; and a heat sink provided on the semiconductor chip.
【請求項2】 前記放熱板の面積は前記半導体チップの
面積より小さいことを特徴とする請求項1に記載の半導
体装置。
2. The semiconductor device according to claim 1, wherein an area of the heat sink is smaller than an area of the semiconductor chip.
【請求項3】 前記放熱板の表面は凹凸構造を有するこ
とを特徴とする請求項1または請求項2に記載の半導体
装置。
3. The semiconductor device according to claim 1, wherein the surface of the heat sink has an uneven structure.
【請求項4】 前記放熱板は、該放熱板と略同等以上の
熱伝導率を有する接着材によって前記半導体チップ上に
接着されている構成であることを特徴とする請求項1〜
請求項3のいずれかに記載の半導体装置。
4. The heat sink according to claim 1, wherein said heat sink is bonded to said semiconductor chip by an adhesive having a thermal conductivity substantially equal to or higher than that of said heat sink.
The semiconductor device according to claim 3.
【請求項5】 COG方式で複数の半導体装置が実装さ
れた基板であって、 前記半導体装置は請求項1〜請求項4のいずれかに記載
の半導体装置であり、これら半導体装置は、前記放熱板
の少なくとも一部が露出するように保護樹脂膜により被
覆されて実装されていることを特徴とする基板。
5. A substrate on which a plurality of semiconductor devices are mounted by a COG method, wherein said semiconductor device is the semiconductor device according to claim 1, and said semiconductor device is characterized in that: A substrate which is mounted by being covered with a protective resin film so that at least a part of the plate is exposed.
【請求項6】 請求項5に記載の基板を用いたことを特
徴とする液晶ディスプレイ。
6. A liquid crystal display using the substrate according to claim 5.
【請求項7】 請求項5に記載の基板を用いたことを特
徴とするプラズマディスプレイ。
7. A plasma display using the substrate according to claim 5.
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