JP2002080888A - アニオン性界面活性剤および洗浄剤 - Google Patents

アニオン性界面活性剤および洗浄剤

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JP2002080888A
JP2002080888A JP2001023385A JP2001023385A JP2002080888A JP 2002080888 A JP2002080888 A JP 2002080888A JP 2001023385 A JP2001023385 A JP 2001023385A JP 2001023385 A JP2001023385 A JP 2001023385A JP 2002080888 A JP2002080888 A JP 2002080888A
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Japan
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group
anionic surfactant
carbon atoms
mol
hydrogen atom
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Application number
JP2001023385A
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English (en)
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Hideji Miura
三浦秀司
Masahiro Matsuoka
松岡正弘
Yukihiro Nishida
西田幸弘
Koji Kawaguchi
川口幸治
Ariyoshi Kawasaki
河崎有美
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Sanyo Chemical Industries Ltd
Original Assignee
Sanyo Chemical Industries Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 少量の使用で洗浄性、起泡性、乳化性、浸透
性に優れるアニオン性界面活性剤を提供する。 【解決手段】 特定の化合物の混合物からなり、下記関
係式(I)を満足するアニオン性界面活性剤である。 Ya 0.5<7.5×exp{−0.05×T} (I)

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、アニオン性界面活
性剤に関する。さらに詳しくは、洗浄剤、乳化剤、分散
剤、可溶化剤、浸透剤および湿潤剤として有用な界面活
性剤に関する。
【0002】
【従来の技術】従来から工業分野や家庭分野で洗浄剤成
分として、アニオン性界面活性剤が広く用いられてい
る。このような界面活性剤として、特定のアルカンジオ
ールのアルキレンオキシド(以下AOと略記)付加物、
あるいはその硫酸化物からなる界面活性剤をアルキルグ
ルコシドと併用してなる組成物が開示されている(特開
平2−206696号公報)。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
アルカンジオールのAO付加物およびその硫酸化物から
なる界面活性剤は、低濃度での性能が充分ではない。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記の課
題を解決すべく鋭意検討の結果、特定の構造で、かつ特
定のAO基の分布を有するアニオン性界面活性剤が、少
量の使用で洗浄性、起泡性に優れることを見いだし、本
発明に到達した。
【0005】すなわち本発明は、下記一般式(1)で表
される化合物の混合物からなり、下記関係式(I)を満
足するアニオン性界面活性剤;下記一般式(6)で表さ
れ下記関係式(II)を満たすポリオキシアルキレンジオ
ールの混合物をアニオン化してなるアニオン性界面活性
剤;並びにこれらのアニオン性界面活性剤を含有する洗
浄剤、および乳化剤、分散剤、可溶化剤、浸透剤または
湿潤剤である。
【0006】
【化6】
【0007】
【化7】
【0008】[式中、R1およびR2は、それぞれ独立に
水素原子、並びに炭素数1〜30の脂肪族および脂環式
の1価炭化水素基からなる群から選ばれる基であり、R
1とR2の炭素数の合計は6〜44であり、R3およびR4
はそれぞれ独立に水素原子、および炭素数1〜6のアル
キル基からなる群から選ばれる基である。tは1または
2以上の整数であり、tが2以上の場合の複数のR1
2、R3およびR4は同一でも異なっていてもよい。A
は炭素数2〜5のアルキレン基である。mおよびnは、
mとnの合計の平均値が0〜35となる0または1〜2
0の整数である。XおよびZの一方または双方は下記一
般式(2)〜(5)のいずれかで示される基であり、他
方は水素原子でもよい。 −(CH2pCH2COOM1/r (2) −(CH2pSO31/r (3)
【0009】
【化8】
【0010】
【化9】
【0011】pは0または1〜5の整数、Lの一方はS
31/rで、他方は水素原子である。Mは水素原子また
はr価のカチオンを示し、rは1または2である。] Ya 0.5<7.5×exp{−0.05×T} (I) Yb 0.5<7.5×exp{−0.05×T} (II) [式中、YaおよびYbは、それぞれ一般式(1)および
(6)において、m、nの一方または両方が0である化
合物の割合(モル%)であり、Tはmとnの合計の平均
値である。]
【0012】
【発明の実施の形態】本発明におけるYaは、一般式
(1)で、n、mの一方あるいは両方が0である化合物
の割合(モル%)を表し、Yaが下記関係式(I)を満足
することが必要であり、下記関係式(I’)を満足する
ことが好ましい。 Ya 0.5 <7.5×exp{−0.05×T} (I) Ya 0.5 <6.0×exp{−0.05×T} (I’) Tはmとnの合計の平均値であり、TおよびYaは、H1
−NMR測定から求めることが出来る。Yが関係式
(I)を満足しない場合は、低濃度での洗浄性が低下す
る。一般式(1)で表される化合物の混合物および一般
式(6)で表されるポリオキシアルキレンジオールの混
合物とは、AOを付加する方法などによって製造された
混合物[通常、付加モル数(すなわち、m、n)が異な
るものの混合物]を意味し、別々に製造されたものを配
合してなる混合物を意味するものではない。
【0013】一般式(1)および(6)において、
1、R2の炭素数1〜30の脂肪族もしくは脂環式の1
価炭化水素基としては、直鎖または分岐のアルキル基、
例えばメチル、エチル、n−およびi−プロピル、n−
およびi−ブチル、n−およびi−ヘプチル、2−エチ
ルヘキシル、n−およびi−オクチル、n−およびi−
ノニル、n−およびi−デシル、n−およびi−ドデシ
ル、トリデシル、ミリスチル、セチル、ステアリル、ノ
ナデシル、ベヘニル基など;直鎖または分岐のアルケニ
ル基、例えばアリル、プロペニル、1−および2−ブテ
ニル、1−ヘキセニル、1−オクテニル、1−デセニ
ル、1−ドデセニル、1−トリデセニル、1−ペンタデ
セニル、オレイル、ガドレイル基など;アルカジエニル
基、例えばリノレイル基など;シクロアルキル基、例え
ばシクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、
アダマンチル基など;アルキルシクロアルキル基、例え
ばエチルシクロヘキシル、プロピルシクロヘキシル、オ
クチルシクロヘキシル、ノニルシクロヘキシル基などが
挙げられる。また、R1とR2の炭素数の合計は6〜4
4、好ましくは10〜36である。R 12の炭素数の合
計が6未満では、界面活性剤としての機能が低下し、ま
た44を超えると溶解性が著しく低下する。R1または
2は炭素数12〜18のアルキル基であるのが好まし
い。
【0014】R3およびR4の炭素数1〜6のアルキル基
としては、直鎖または分岐のアルキル基、例えばメチ
ル、エチル、n−およびi−プロピル、n−およびi−
ブチル、n−ヘキシル基などが挙げられる。また、R3
およびR4は、いずれも水素原子であることが好まし
い。
【0015】Aは、炭素数2〜5のアルキレン基であ
る。アルキレン基としては、エチレン、1,2−および
1,3−プロピレン、1,2−、1,3−、1,4−お
よび2,3−ブチレン、1,2−、1,3−、1,4
−、1,5−、2,3−および2,4−ペンテン基な
ど、ならびにこれらの2種以上の組み合わせが挙げられ
る。これらのうち好ましいのはエチレン基及び1,2−
プロピレン基であり、Aが2種以上である場合はブロッ
ク状でもランダム状でも両者の組み合わせでもよい。t
は1または2以上(2〜8またはそれ以上)の整数であ
り、好ましくは1または2〜4、さらに好ましくは1ま
たは2である。tが2以上の場合、複数のR 1、R2、R
3およびR4は同一でも異なっていてもよく、好ましくは
異なっていた方がよい。n、mは0または1〜20の整
数であり、好ましくは1〜10である。またTは0〜3
5であり、好ましくは2〜20、さらに好ましくは3〜
10である。
【0016】一般式(2)〜(5)におけるMで表され
るr価のカチオンとしては、アルカリ金属(例えばナト
リウム、カリウム、リチウム)、アルカリ土類金属(例
えばカルシウム、マグネシウム、バリウム)、有機アミ
ンカチオンおよび第4級アンモニウムカチオンが挙げら
れる。
【0017】有機アミンカチオンを構成する有機アミン
としては、脂肪族アミン、脂環式アミン、複素環アミン
もしくはアルカノールアミン又はこれらのAO付加物等
が挙げられる。脂肪族アミンとしては、ヘキシルアミ
ン、オクチルアミン、メチルヘキシルアミン、メチルオ
クチルアミン、ジメチルヘキシルアミン、ジメチルオク
チルアミン、ジメチルラウリルアミンおよびジメチルセ
チルアミンなどのアルキル基の炭素数が1〜18のモノ
−、ジ−およびトリ−アルキルアミンが挙げられる。脂
環式アミンとしては、シクロブチルアミン、シクロヘキ
シルアミン、シクロペンチルアミン、シクロオクチルア
ミン、N−メチルシクロヘキシルアミンおよびN−エチ
ルシクロヘキシルアミンなどのシクロアルキル基の炭素
数が4〜12のシクロアルキルアミンおよびこれらのア
ルキル(炭素数1〜6)置換体が挙げられる。複素環ア
ミンとしては、モルホリンなどの炭素数が4〜10の複
素環アミンが挙げられ、アルカノールアミンとしては、
モノエタノールアミン、ジエタノールアミンおよびトリ
エタノールアミンなどのヒドロキシアルキル基の炭素数
が2〜8のモノ−、ジ−およびトリ−ヒドロキシアルキ
ルアミンが挙げられる。これらのAO付加物のAOとし
ては、エチレンオキサイド(以下EOと略す)、プロピ
レンオキサイド(以下POと略す)及びブチレンオキシ
ドが挙げられる。好ましくはEOである。これらの付加
モル数は、通常、活性水素1個当り1〜5モルであり、
好ましくは1〜2モルである。これらのAO付加物の具
体例としては、ジヒドロキシエチルヘキシルアミン、ヒ
ドロキシエチルメチルヘキシルアミンなどが挙げられ
る。
【0018】第4級アンモニウムカチオンの具体例とし
ては、トリメチルエチルアンモニウム、トリエチルメチ
ルアンモニウム、トリメチルヘキシルアンモニウム、ト
リメチルオクチルアンモニウム、トリブチルオクチルア
ンモニウム、トリメチルデシルアンモニウム、トリメチ
ルテトラデシルアンモニウム、トリメチルセチルアンモ
ニウムおよびモノメチルトリオクチルアンモニウムなど
のアルキル基の炭素数が1〜18のテトラアルキルアン
モニウムカチオン;N,N−ジメチルシクロへキシルア
ンモニウムおよびN,N−ジエチルシクロへキシルアン
モニウムなどのシクロアルキル基の炭素数が4〜12お
よびアルキル基の炭素数が1〜6のシクロアルキルジア
ルキルアンモニウムカチオン;トリヒドロキシエチルへ
キシルアンモニウムなどのヒドロキシアルキル基の炭素
数が2〜8およびアルキル基の炭素数が1〜6のトリヒ
ドロキシアルキルアルキルアンモニウムカチオンなどが
挙げられる。Mのうち好ましいものは、アルカリ金属、
有機アミンカチオンおよび第4級アンモニウムカチオン
であり、さらに好ましくは、ナトリウム、カリウム、脂
肪族および脂環式アミンもしくはそのアルキレンオキシ
ド付加物、並びに第4級アンモニウムカチオンである。
【0019】X、Zとして好ましいものは、上記一般式
(3)で示される基であり、さらに好ましくは−SO3
Na基である。
【0020】本発明のアニオン性界面活性剤は、例えば
ポリオキシアルキレンジオールに、一般式(2)〜
(5)のいずれかで示される基を導入することで得られ
る。アニオン化は公知の方法の組み合わせによってでき
る。
【0021】一般式(2)で示される基のポリオキシア
ルキレンジオールへの導入は、通常のカルボキシアルキ
ル化方法により行うことができる。例えばアルカリ(水
酸化ナトリウムなど)の存在下にモノハロゲン化アルキ
ルカルボン酸(アルキル基の炭素数1〜6好ましくは
1;モノクロル酢酸、モノブロム酢酸など)を反応させ
る方法、ならびにアルカリの存在下にアクリロニトリル
又はアクリル酸低級アルキル(炭素数1〜4)エステル
をマイケル付加させた後加水分解する方法が挙げられ
る。これらの場合、水酸基に対するモノハロゲン化アル
キルカルボン酸、アクリロニトリル又はアクリル酸低級
アルキルエステルの当量比は通常0.95〜1.5/水
酸基である。また反応温度は通常30〜120℃であ
る。アニオン化度は通常90モル%以上であり、好まし
くは95モル%以上である。また、ジアニオン化物/モ
ノアニオン化物/未反応ジオールの含量は、通常90〜
100/0〜20/0〜3モル%である。
【0022】上記一般式(3)で示される基のポリオキ
シアルキレンジオールへの導入は、通常のスルホン化ま
たは硫酸化方法、例えばクロロスルホン酸、無水硫酸、
スルファミン酸または硫酸を反応させる方法により行う
ことができる。無水硫酸については、乾燥窒素等で希釈
して用いる。いずれの場合も、硫酸化剤のモル比は通常
0.95〜1.03/水酸基であり、反応温度は、クロ
ロスルホン酸または無水硫酸の場合は0〜70℃、スル
ファミン酸または硫酸の場合は50〜150℃である。
結合硫酸量の測定によって求められるアニオン化度は通
常90%モル以上であり、好ましくは95モル%以上で
ある。また、ジアニオン化物/モノアニオン化物/未反
応ジオールの含量は、通常90〜100/0〜20/0
〜3モル%である。
【0023】上記一般式(4)で示される基のポリオキ
シアルキレンジオールへの導入は、通常のリン酸化方
法、例えばリン酸、ポリリン酸、無水リン酸、オキシ塩
化リン等のリン酸化剤と反応させる方法により行うこと
ができる。一例として、無水リン酸との反応は、反応温
度30〜150℃で、窒素雰囲気中で行うことができ
る。無水リン酸を使用する場合、片末端モノフォスフェ
ート[X、Zのうちの一方が式(4)のもの]を主成分
として得る目的には無水リン酸のモル比は好ましくは
0.3以上0.7未満/水酸基であり、両末端モノフォ
スフェート[X、Zの両方が式(4)のもの]を主成分
として得る目的には無水リン酸のモル比は通常0.7〜
1.5/水酸基である。生成物の酸価の測定によって求
められるアニオン化度は通常90モル%以上であり、好
ましくは95モル%以上である。また、両末端アニオン
化物/片末端アニオン化物/未反応ジオールの含量は、
通常90〜100/0〜20/0〜3モル%である。
【0024】上記一般式(5)で示される基のポリオキ
シアルキレンジオールへの導入は、通常のスルホコハク
酸エステル化方法(マレイン化しスルホン化する方
法)、例えば無水マレイン酸を無触媒で非水系で反応さ
せ、ジオールの両末端がマレイン酸ハーフエステルであ
るジエステルを製造し、さらに、亜硫酸塩または酸性亜
流酸塩を反応させる方法により行うことができる。ハー
フエステル化反応の温度は通常40〜150℃であり、
無水マレイン酸のモル比は0.9〜1.1/水酸基であ
る。スルホン化の温度は40〜100℃であり、亜硫酸
塩または酸性亜流酸塩の当量比は0.9〜1.5/水酸
基である。結合硫酸量の測定によって求められるアニオ
ン化度は通常90%以上であり、好ましくは95%以上
である。また、ジスルホン化物/モノスルホン化物/未
反応ジエステル/未反応ジオールの含量は、通常90〜
100/0〜20/0〜1.5/0〜1.5モル%であ
る。
【0025】本発明のアニオン性界面活性剤は、ポリオ
キシアルキレンジオールのアニオン化後、その反応生成
物を精留、抽出及び再結晶等の精製方法により精製する
という方法で得ることもできる。好ましい製造方法は、
一般式(6)で示され前記関係式(II)を満足するポリ
オキシアルキレンジオールを上記方法でアニオン化する
方法である。
【0026】また、該ポリオキシアルキレンジオール
は、例えば触媒の存在下、下記一般式(7)のジオール
にAOを付加する方法などで得られる。
【0027】
【化10】
【0028】R1、R2、R3、R4およびtは、一般式
(1)におけるものと同じである。
【0029】tが1であるものとしては、例えば、1,
2−、2,3−、および3,4−ドデカンジオール、
1,2−、2,3−、および3,4−トリデカンジオー
ル、1,2−、2,3−、および3,4−テトラデカン
ジオール、1,2−、2,3−、および3,4−オクタ
デカンジオール、1,2−、2,3−、および3,4−
イコサンジオール、1,2−、2,3−、および3,4
−トリアコンタンジオール、1,2−、2,3−、およ
び3,4−テトラコンタンジオールなどが挙げられる。
【0030】これらのうち好ましくは、1,2−ドデカ
ンジオール、1,2−トリデカンジオール、1,2−テ
トラデカンジオールおよび1,2−オクタデカンジオー
ルなどである。
【0031】tが2であるものとしては、例えば、表1
に示される化合物a1〜a6などが挙げられる。表1お
よび後述の表3において、t1はt=2である一般式
(7)の2つのオキシアルキレン基[括弧( )内]の
うちの左側のもの[式(7)中のHと結合するもの]を
構成するR1〜R4を表し、t2は右側のもの[式(7)
中のOHと結合するもの]を構成するR1〜R4を表す。
これらのうちで好ましいものはa1、a2、a5および
a6である。
【0032】
【表1】
【0033】tが2以上であるジオール類の製造方法
は、例えば触媒の存在下、下記一般式(8)のジオール
に下記一般式(9)のエポキシドを付加する方法などが
挙げられる。 また、下記一般式(8)のジオールの1
位の水酸基とエポキシドの1位の炭素が結合するのが通
常であるが、それぞれ1位と2位、2位と1位、2位と
2位が結合したものも副生成物として含まれる。なお、
通常はtが2、即ち、1モルのジオールと1モルのエポ
キシドが反応したものが主生成物であるが、該主生成物
の水酸基とエポキシドがさらに反応してtが3のもの、
さらに順次エポキシドが反応した生成物(tが4〜8ま
たはそれ以上のもの)が副生成物として生成する。
【0034】
【化11】
【0035】R5、R6、R7は、一般式(7)における
3またはR4と同じく、水素原子または炭素数1〜6の
アルキル基である。
【0036】
【化12】
【0037】R8、R9、R10は、一般式(7)における
3またはR4と同じく、水素原子または炭素数1〜6の
アルキル基である。
【0038】一般式(8)で表されるジオールとして
は、一般式(7)でtが1である場合のジオールとして
例示されたものなどが挙げられる。これらのうち好まし
いのは、1,2−アルカンジオール、特に好ましいのは
1,2−ドデカンジオール、1,2−トリデカンジオー
ル、1,2−テトラデカンジオールおよび1,2−オク
タデカンジオールである。
【0039】一般式(9)で表されるエポキシドとして
は、例えば、1,2−、2,3−、および3,4−エポ
キシドデカン、1,2−、2,3−、および3,4−エ
ポキシトリデカン、1,2−、2,3−、および3,4
−エポキシテトラデカン、1,2−、2,3−、および
3,4−エポキシオクタデカン、1,2−、2,3−、
および3,4−エポキシイコサン、1,2−、2,3
−、および3,4−エポキシトリアコンタン、1,2
−、2,3−、および3,4−エポキシテトラコンタン
などが挙げられる。これらのうち好ましいのは、1,2
−エポキシド、さらに好ましいのは、1,2−エポキシ
ドデカン、1,2エポキシトリデカン、1,2−エポキ
シテトラデカンおよび1,2−エポキシオクタデカンで
ある。
【0040】製造条件としては、特に制限はないが、例
えば一般式(8)で示されるジオールと後述の触媒(d
1)、(d2)、アルカリ触媒、もしくはルイス酸を混
合し、窒素雰囲気下、80〜200℃の温度で一般式
(9)で表されるエポキシドを投入し反応させる方法等
が挙げられる。ジオール1モル当たりのエポキシドの付
加モル数はtに応じて広範囲に(例えば1〜2モルまた
はそれ以上)変えることができるが、t=2の場合は通
常1.0〜1.3モル、好ましくは1.0〜1.1モル
である。生成物中のエポキシ基の消失をH1−NMRで
確認し、水酸基価を測定することにより目的のジオール
が生成していることが確認できる。
【0041】一般式(7)で表されるジオールに付加さ
れるAOとしては、前記アルキレン基Aに対応するアル
キレンオキシド、例えばEO、PO、1,2−、2,3
−、1,3−および1,4−ブチレンオキシドなどが挙
げられる。
【0042】AOを付加するための触媒としては、Ha
mmetの酸度関数による酸強度H 0が−30.0〜−
11.0の酸(d1)及びその金属塩(d2);ならび
に(d1)および/または(d2)とアルカリ触媒(水
酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属の水
酸化物;水酸化マグネシウム等のアルカリ土類金属の水
酸化物)もしくはルイス酸(AlCl3、SbCl5、B
3、FeCl3等)との併用が挙げられる。好ましいの
は、(d1)及び(d2)である。
【0043】(d1)としては、例えば、H2SO4-S
3(1:0.2モル比)[H0=−13.4]、H2SO4
−SO3(1:1モル比)[H0=−14.3]、HClO
4[H0=−13.0]、ClSO3H[H0=−13.8]、H
F−SbF5(1:0.06モル比)[H0=−14.
3]、FSO3H[H0=−15.07]、HF−SbF
5(1:0.14モル比)[H0=−15.3]、FSO3
−SO3(1:0.1モル比)[H0=−15.52]、F
SO3H−AsF5(1:0.05モル比)[H0=−1
6.61]、FSO3H−SbF5(1:0.05モル
比)[H0=−18.24]、HSO3H−SbF5(1:
0.1モル比)[H0=−18.94]、FSO3H−Sb
5(1:0.2モル比)[H0=−20.0]等の超強酸
が挙げられる。これらの内で、好ましくはH0=−2
5.0〜−12.5の酸であり、特に好ましくは−2
0.0〜−13.0の酸である。
【0044】(d2)としては、(d1)の金属塩であれ
ば特に限定されるものではないが、具体的には、Mg、
Ca、Sr、Ba、Zn、Co、Ni、Cu、Al等の
塩が挙げらる。好ましくは、2価以上の塩を形成する金
属であり、特に好ましくは2価又は3価である。酸強度
0が−30.0以上であると、ジオールに対する付加
反応が起こりやすく、−11.0以下であると前述の関
係式(3)を満足する生成物が得やすくなる。Hamm
etの酸度関数による酸強度H0については例えば「超
強酸・超強塩基」(講談社、1988年6月1日発行)
に記載がある。
【0045】(d1)及び(d2)は、上記の二種以上
を併用してもよく、(d1)と(d2)を併用してもよ
い。(d1)及び/又は(d2)の使用量としては、反
応速度と経済性の観点から、AOと前述の一般式(7)
のジオールの合計100重量部当たり、0.001〜1
重量部が好ましい。さらに好ましくは0.003〜0.
8重量部、特に好ましくは0.005〜0.5重量部で
ある。また、さらに、(d1)及び/又は(d2)を用
いてAOの一部(例えば1〜17モル)を付加させた
後、アルカリ触媒またはルイス酸等の触媒を用いて残り
のAOを付加させてもよい。
【0046】製造条件としては、特に制限はないが、例
えば、前記一般式(7)で示されるジオールと(d1)
及び/又は(d2)を混合して、窒素置換後、−0.8
〜5kgf/cm2の圧力下、80〜200℃の温度で
AOを投入し、80〜200℃の反応系内の圧力が平衡
になるまで反応を行う方法等が挙げられる。複数の種類
のAOを使用する場合の付加形式は、ブロック付加、ラ
ンダム付加、およびこれらの組み合わせのいずれでもよ
い。
【0047】上記の一般式(6)において、tが1の場
合のポリオキシアルキレンジオールの具体例としては、
1,2−ドデカンジオールのEO2モル付加物、1,2
−ドデカンジオールのEO4モル付加物、1,2−ドデ
カンジオールのEO6モル付加物、1,2−ドデカンジ
オールのPO4モル付加物、1,2−ドデカンジオール
のPO6モル付加物、1,2−トリデカンジオールのE
O3モル付加物、1,2−トリデカンジオールのPO4
モル付加物、5,6−オクタデカンジオールのEO4モ
ル付加物、10,11−ドコサンジオールのEO4モル
付加物、15,16−ドトリアコンタンジオールのEO
4モル付加物、並びに19,20−テトラコンタンジオ
ールのEO6モル付加物などが挙げられる。また、一般
式(6)において、tが2の場合のポリオキシアルキレ
ンジオールの具体例としては、下記の表2に示される化
合物b1〜b6などが挙げられる。
【0048】
【表2】
【0049】本発明のアニオン性界面活性剤の具体例と
しては、1,2−ドデカンジオールのEO4モル付加物
の硫酸化物;1,2−ドデカンジオールのPO4モル付
加物の硫酸化物;5,6−オクタデカンジオールのEO
4モル付加物のリン酸化物;10,11−ドコサンジオ
ールのEO4モル付加物の硫酸化物;15,16−ドト
リアコンタンジオールのEO4モル付加物の硫酸化物;
19,20−テトラコンタンジオールEO6モル付加物
のリン酸化物;表2のb1の硫酸化物;b2のリン酸化
物;b6の硫酸化物;1,2−ドデカンジオールのEO
4モル付加物のカルボキシメチルエーテル化物;b4の
スルホコハク酸エステル;並びにこれらのアルカリ金属
塩(ナトリウム、カリウム塩など)、アルカリ土類金属
塩(カルシウム、マグネシウム塩など)、アンモニウ
ム、有機アミン塩(トリエタノールアミン塩、トリメチ
ルアミン塩、トリエチルアミン塩など)、および第4級
アンモニウム塩(テトラメチルアンモニウム塩、テトラ
エチルアンモニウム塩、ベンジルトリメチルアンモニウ
ム塩など)が挙げられる。これらのうち好ましいものは
硫酸化物の塩であり、特に好ましくはそれぞれのナトリ
ウム塩である。
【0050】本発明のアニオン性界面活性剤をその用途
に適用する際には、他のアニオン性界面活性剤、ノニオ
ン界面活性剤、カチオン性界面活性剤および/または両
性界面活性剤を配合してもよい。これらの界面活性剤と
しては、米国特許第4331447号明細書に記載のも
のが使用できる。他のアニオン性界面活性剤としては、
炭素数8〜24の炭化水素基を有するエーテルカルボン
酸またはその塩[(ポリ)オキシエチレン(重合度=1
〜100)ラウリルエーテル酢酸ナトリウム等]、炭素
数8〜24の炭化水素基を有する硫酸エステルもしくは
エーテル硫酸エステルまたはそれらの塩[ラウリル硫酸
ナトリウム、(ポリ)オキシエチレン(重合度=1〜1
00)ラウリル硫酸ナトリウム、(ポリ)オキシエチレ
ン(重合度=1〜100)ラウリル硫酸トリエタノール
アミン、(ポリ)オキシエチレン(重合度=1〜10
0)ヤシ油脂肪酸モノエタノールアミド硫酸ナトリウム
など]、本発明の一般式(1)以外の炭素数8〜24の
炭化水素基を有するスルホン酸塩[ドデシルベンゼンス
ルホン酸ナトリウム等]、および炭素数8〜24の炭化
水素基を有するリン酸エステルもしくはエーテルリン酸
エステルまたはそれらの塩[ラウリルリン酸ナトリウ
ム、(ポリ)オキシエチレン(重合度=1〜100)ラ
ウリルエーテルリン酸ナトリウム等]であって、本発明
で規定した関係式(I)を満たさないもの;ならびに炭
素数8〜24の炭化水素基を有する脂肪酸塩[ラウリン
酸ナトリウム、ラウリン酸トリエタノールアミン等]お
よび炭素数8〜24の炭化水素基を有するアシル化アミ
ノ酸塩[ヤシ油脂肪酸メチルタウリンナトリウム、ヤシ
油脂肪酸サルコシンナトリウム、ヤシ油脂肪酸サルコシ
ントリエタノールアミン、N−ヤシ油脂肪酸アシル−L
−グルタミン酸トリエタノールアミン、N−ヤシ油脂肪
酸アシル−L−グルタミン酸ナトリウム、ラウロイルメ
チル−β−アラニンナトリウム等]等、並びに、国際特
許公開WO00/18857号明細書記載のアニオン界
面活性剤が挙げられる。
【0051】カチオン性界面活性剤としては、第4級ア
ンモニウム塩型[塩化ステアリルトリメチルアンモニウ
ム、塩化ベヘニルトリメチルアンモニウム、塩化ジステ
アリルジメチルアンモニウム、エチル硫酸ラノリン脂肪
酸アミノプロピルエチルジメチルアンモニウム等]、ア
ミン塩型[ステアリン酸ジエチルアミノエチルアミド乳
酸塩、ジラウリルアミン塩酸塩、オレイルアミン乳酸塩
等]等が挙げられる。両性界面活性剤としては、ベタイ
ン型両性界面活性剤[ヤシ油脂肪酸アミドプロピルジメ
チルアミノ酢酸ベタイン、ラウリルジメチルアミノ酢酸
ベタイン、2−アルキル−N−カルボキシメチル−N−
ヒドロキシエチルイミダゾリニウムベタイン、ラウリル
ヒドロキシスルホベタイン、ラウロイルアミドエチルヒ
ドロキシエチルカルボキシメチルベタインヒドロキシプ
ロピルリン酸ナトリウム等]、アミノ酸型両性界面活性
剤[β−ラウリルアミノプロピオン酸ナトリウム等]が
挙げられる。ノニオン性界面活性剤としては、脂肪族ア
ルコール(炭素数8〜24)アルキレンオキシド(炭素
数2〜8)付加物(重合度=1〜100)、多価(2価
〜10価またはそれ以上)アルコール脂肪酸(炭素数8
〜24)エステル[モノステアリン酸グリセリン、モノ
ラウリン酸ソルビタン等]、脂肪酸(炭素数8〜24)
アルカノールアミド[1:1型ヤシ油脂肪酸ジエタノー
ルアミド、1:1型ラウリン酸ジエタノールアミド
等]、(ポリ)オキシアルキレン(炭素数2〜8、重合
度=1〜100)アルキル(炭素数1〜22)フェニル
エーテル、(ポリ)オキシアルキレン(炭素数2〜8、
重合度=1〜100)アルキル(炭素数8〜24)アミ
ンおよびアルキル(炭素数8〜24)ジアルキル(炭素
数1〜6)アミンオキシド[ラウリルジメチルアミンオ
キシド等]等、前述の一般式(6)で表されるポリオキ
シアルキキレンジオール、並びに国際特許公開公報WO
00/18857号明細書記載のノニオン界面活性剤が
挙げられる。
【0052】本発明の洗浄剤における全界面活性剤合計
中のアニオン界面活性剤の含量、ノニオン界面活性剤の
含量、カチオン界面活性剤および/または両性界面活性
剤の含量は、特に限定されないが、好ましくはそれぞれ
3〜80重量%(以下において特に断りのない限り%は
重量%を表す)/0〜60%/0〜50%である。ま
た、全界面活性剤合計中の一般式(1)のアニオン界面
活性剤の含量は好ましくは10〜100%、さらに好ま
しくは15〜100%である。また、一般式(1)のア
ニオン界面活性剤と一般式(6)のポリオキシアルキレ
ンジオールの合計中の一般式(1)のアニオン界面活性
剤の含量は、好ましくは30〜100%、さらに好まし
くは40〜100%である。また、アニオン界面活性剤
合計中の一般式(1)のアニオン界面活性剤の含量は、
好ましくは30〜100%、さらに好ましくは40〜1
00%である。
【0053】本発明のアニオン性界面活性剤またはこれ
と他の界面活性剤とからなる洗浄剤には、必要に応じて
公知の補助成分を配合することができる。このような成
分としては、ビルダー(ゼオライト、炭酸ソーダ、硫酸
ソーダ、トリポリリン酸ソーダ、ポリカルボン酸塩
等)、保湿剤(グリセリン、ピロリドンカルボン酸ナト
リウム等)、防腐剤[パラ安息香酸アルキル(炭素数1
〜5)エステル、安息香酸、デヒドロ酢酸等]、酸化防
止剤(2,6−ジ−t−ブチル−p−クレゾール、ブチ
ル化ヒドロキシアニソール、トリフェニルホスファイ
ト、オクチル化ジフェニルアミン等)、紫外線吸収剤
[2−(2’−ヒドロキシ−5’−メチルフェニル)ベ
ンゾトリアゾール、2−ヒドロキシ−4−メトキシベン
ゾフェノン等]、キレート剤(エチレンジアミン四酢酸
ナトリウム、ポリリン酸ナトリウム、メタリン酸ナトリ
ウム等)、殺菌剤(塩化ベンザルコニウム等)、pH調
整剤(モノおよびジエタノールアミン、苛性ソーダ、乳
酸、クエン酸等)、色素(食添青色1号、食添赤色2
号、食添黄色4号等)、香料(リモネン、フェニルエチ
ルアルコール、ヘキシルシンナミックアルデヒド等)、
酵素(プロテアーゼ、セルラーゼ等)、蛍光増白剤およ
び漂白剤(亜塩素酸ソーダ等)等が挙げられる。該補助
成分の量は特に限定されないが、酵素、ビルダー、キレ
ート剤、蛍光増白剤および漂白剤については、本発明の
アニオン性界面活性剤の100重量部に対してそれぞれ
0.01〜800重量部が好ましい。また、保湿剤、防
腐剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、殺菌剤、pH調整
剤、色素、香料については、本発明のアニオン性界面活
性剤の100重量部に対してそれぞれ0.0001〜5
00重量部が好ましい。
【0054】本発明のアニオン性界面活性剤は、家庭用
洗浄剤(衣料用洗剤、頭髪用洗浄剤、食器用洗剤な
ど)、工業用洗浄剤(金属、精密部品等の洗浄剤な
ど)、乳化剤(乳化重合用乳化剤、農薬乳剤用乳化剤、
金属加工用乳化剤、化粧品用乳化剤、水系塗料用乳化剤
など)、分散剤(顔料や脂肪酸金属塩などの紙用薬剤の
分散剤、農薬粒剤用分散剤、懸濁重合用分散剤など)、
可溶化剤(香料用可溶化剤など)、起泡剤、浸透剤およ
び湿潤剤などに有用である。
【0055】本発明のアニオン界面活性剤が家庭用洗浄
剤の衣料用洗剤またはシャンプーに使用される場合の配
合処方としては、例えば、下記の例が挙げられる。
【0056】<衣料用洗浄剤の配合例(重量%)> 本発明のアニオン界面活性剤 :3〜40% 併用されるアニオン界面活性剤 :0〜37% 併用されるノニオン界面活性剤 :5〜20% 無機ビルダー ゼオライト :10〜30% 珪酸ソーダおよび炭酸ソーダ:15〜35% 硫酸ソーダ :5〜10% 有機ビルダー ポリカルボン酸塩など :2〜10% 蛍光増白剤 :0〜3% 酵素 :0.2〜2% 水分 :1〜10%
【0057】 <シャンプーの配合例(重量%)> 本発明のアニオン界面活性剤 :0.3〜20% 併用されるアニオン界面活性剤 :0.7〜20% 併用されるノニオン界面活性剤 :0〜10% 保湿剤(グリセリンなど) :0.1〜0.8% 増粘剤(ヤシ油ジエタノールアミドなど):0.5〜10% キレート剤 :適量 香料 :適量 防腐剤 :適量 水分 :60〜92%
【0058】本発明のアニオン界面活性剤が乳化重合用
乳化剤に使用される場合、乳化重合の対象となる単量体
としては、下記の公知のビニル系モノマーが挙げられ
る。
【0059】ビニル系炭化水素:脂肪族ビニル系炭化水
素[アルケン類、例えばブテン、イソブチレン、ペンテ
ン、ヘプテン、ジイソブチレン、オクテン、ドデセン
等;アルカジエン類、例えばブタジエン、イソプレン、
1,4−ペンタジエン、1,6−ヘキサジエン、1,7
−オクタジエン等]、脂環式ビニル系炭化水素[(ジ)
シクロペンタジエン、ビニルシクロヘキセン等]、芳香
族ビニル系炭化水素[スチレン類、例えばスチレン、α
−メチルスチレン、ビニルトルエン等]、
【0060】炭素数1〜50のアルキル基を有するアル
キル(メタ)アクリレート[メチル(メタ)アクリレー
ト、エチル(メタ)アクリレート、プロピル(メタ)ア
クリレート、ブチル(メタ)アクリレート、2−エチル
ヘキシル(メタ)アクリレート、ドデシル(メタ)アク
リレート等]、
【0061】カルボキシル基含有ビニル系モノマー及び
その塩:炭素数3〜30の不飽和モノカルボン酸、不飽
和ジカルボン酸およびそのモノアルキル(炭素数1〜2
4)エステル[例えば(メタ)アクリル酸、(無水)マ
レイン酸、マレイン酸モノアルキルエステル、イタコン
酸など]、塩としては、例えばアルカリ金属塩(ナトリ
ウム塩、カリウム塩等)、アルカリ土類金属塩(カルシ
ウム塩、マグネシウム塩等)、アンモニウム塩、アミン
塩もしくは4級アンモニウム塩が挙げられる。
【0062】その他のモノマーとしては、スルホン基含
有ビニル系モノマー、ヒドロキシル基含有ビニル系モノ
マー、含窒素ビニル系モノマー、第4級アンモニウムカ
チオン基含有ビニル系モノマー、ニトロ基含有ビニル系
モノマー、エポキシ基含有ビニル系モノマー、ハロゲン
元素含有ビニル系モノマー、ビニルエステル、ビニル
(チオ)エーテル、ビニルケトン、ビニルスルホンなど
が挙げられる。
【0063】本発明のアニオン界面活性剤を使用する乳
化重合の方法は、特に限定されず、重合開始剤および連
鎖移動剤などは従来公知のものが使用でき、モノマー濃
度および乳化剤の使用例は、例えば以下のものが挙げら
れる。 モノマー濃度:30〜50重量% 乳化剤:本発明のアニオン界面活性剤0.1〜15重量
%/モノマー 併用するノニオン界面活性剤0.2〜10重量%/モノ
マー 併用するアニオン界面活性剤0.1〜5重量%/モノマ
ー また、本発明のアニオン界面活性剤は上記水系乳化重合
に限定されず、W/O型懸濁重合、非水系懸濁重合の懸
濁安定剤としても使用できる。
【0064】
【実施例】以下、製造例および実施例により本発明をさ
らに詳細に説明するが、本発明はこれに限定されるもの
ではない。特に記載のない限り、部は重量部を示す。
【0065】製造例1 撹拌および温度調節機能の付いたステンレス製オートク
レーブに、1,2−ドデカンジオール202部(1モ
ル)、過塩素酸アルミニウム9水塩0.04部を投入
し、混合系内を窒素で置換した後、減圧下(20mmH
g)、120℃にて1時間脱水を行った。次いでEO2
32部(4モル)を150℃にて、ゲージ圧が1〜3k
gf/cm2となるように導入した。付加重合に要した
時間は10時間であった。この反応物434部を、撹
拌、温度調節機能および滴下ロートの付いたガラス容器
に移し、温度を20℃に保ちながら、クロルスルホン酸
240部(2.06モル)を滴下した。同温度で2時間
脱塩酸を行った後、水酸化ナトリウム82.4部(2.
06モル)を水1110部に溶解した水溶液で硫酸化物
を中和しアニオン性界面活性剤A1を得た。
【0066】製造例2 製造例1と同様のオートクレーブに、1,2−ヘキサデ
カンジオール258部(1モル)、過塩素酸マグネシウ
ム0.05部および水酸化マグネシウム0.03部を投
入し、混合系内を窒素で置換した後、減圧下(20mm
Hg)、120℃にて1時間脱水を行った。次いでEO
220部(5モル)を150℃にて、ゲージ圧が1〜3
kgf/cm2となるように導入した。付加重合に要し
た時間は15時間であった。この反応物478部(1モ
ル)とモノクロル酢酸ナトリウム257部(2.2モ
ル)、トルエン500部を、撹拌および温度調節機能の
付いたガラス容器に移し、温度を50℃に保ちながら、
減圧度を75mmHgとした。その後減圧脱水しながら
顆粒状の水酸化ナトリウム100部(2.5モル)を2
時間かけて仕込む、6時間反応を行った。その後、水5
00部を加え、塩酸で酸性にして、静置、分液後、脱ト
ルエンし、水酸化ナトリウム80部(2モル)を水16
00部に溶解した液を加えて、アニオン性界面活性剤A
2を得た。
【0067】製造例3 製造例1と同様のオートクレーブに、1,2−テトラデ
カンジオール230部(1モル)、過塩素酸アルミニウ
ム0.01部と過塩素酸マグネシウム0.06部を投入
し、混合系内を窒素で置換した後、減圧下(約20mm
Hg)、120℃にて1時間脱水を行った。次いでEO
88部(2モル)、PO290部(5モル)を150℃
にて、ゲージ圧が1〜3kgf/cm2となるように導
入した。この反応物608部と無水マレイン酸206部
(2.1モル)とを、製造例2と同様のガラス容器に移
し、65℃で8時間反応後、亜硫酸ナトリウム303部
(2.5モル)を水3000部に溶解したものを60℃
で加え、5時間反応してスルホン化物を得た。その後、
クエン酸でpHを6.5にし、アニオン性界面活性剤A
3を得た。
【0068】製造例4 製造例1と同様のオートクレーブに、1,2−テトラデ
カンジオール230部(1モル)、過塩素酸アルミニウ
ム0.01部と過塩素酸マグネシウム0.06部を投入
し、混合系内を窒素で置換した後、減圧下(約20mm
Hg)、120℃にて1時間脱水を行った。次いでPO
290部(5モル)を150℃にて、ゲージ圧が1〜3
kgf/cm2となるように導入した。この反応物60
8部と無水マレイン酸206部(2.1モル)とを、撹
拌および温度調節機能の付いたガラス容器に移し、温度
を20℃に保ちながら、クロルスルホン酸240部
(2.06モル)を滴下した。同温度で2時間脱塩酸を
行った後、水酸化ナトリウム82.4部(2.06モ
ル)を水1110部に溶解した水溶液で硫酸化物を中和
しアニオン性界面活性剤A4を得た。
【0069】製造例5 製造例1と同様のガラス容器に、1,2−ドデカンジオ
ール202部(1モル)、過塩素酸アルミニウム9水塩
0.04部を投入し、混合系内を窒素で通気しながら、
温度を95℃に保って、1,2−エポキシドデカン18
4部(1モル)を滴下した。付加反応に要した時間は7
時間であった。この反応物386部(1モル)を製造例
1と同様のオートクレーブに仕込み、混合系内を窒素で
置換した後、減圧下(20mmHg)、120℃にて1
時間脱水を行った。次いでEO176部(4モル)を1
50℃にて、ゲージ圧が1〜3kgf/cm2となるよ
うに導入した。付加重合に要した時間は10時間であっ
た。この反応物562部を、製造例2と同様のガラス容
器に移し、温度を20℃に保ちながら、クロルスルホン
酸240部(2.06モル)を滴下した。同温度で2時
間脱塩酸を行った後、水酸化ナトリウム82.4部
(2.06モル)を水1110部に溶解した水溶液で硫
酸化物を中和しアニオン性界面活性剤A5を得た。
【0070】製造例6 製造例1と同様のガラス容器に、1,2−ヘキサデカン
ジオール258部(1モル)、過塩素酸マグネシウム
0.05部および水酸化マグネシウム0.03部を投入
し、混合系内を窒素で通気しながら、温度を120℃に
保って、1,2−エポキシヘキサデカン240部(1モ
ル)を滴下した。付加反応に要した時間は10時間であ
った。この反応物498部(1モル)を製造例1と同様
のオートクレーブに投入し、混合系内を窒素で置換した
後、減圧下(20mmHg)、120℃にて1時間脱水
を行った。次いでEO220部(5モル)を150℃に
て、ゲージ圧が1〜3kgf/cm2となるように導入
した。付加重合に要した時間は15時間であった。この
反応物718部(1モル)とモノクロル酢酸ナトリウム
257部(2.2モル)、トルエン500部を、製造例
2と同様のガラス容器に移し、温度を50℃に保ちなが
ら、減圧度を75mmHgとした。その後、50℃で減
圧下に脱水しながら顆粒状の水酸化ナトリウム100部
(2.5モル)を2時間かけて仕込み、さらに同温度で
6時間反応を行った。その後、水500部を加え、塩酸
で酸性にして、静置、分液後、脱トルエンし、水酸化ナ
トリウム80部(2モル)を水1600部に溶解した液
を加えて、アニオン性界面活性剤A6を得た。
【0071】比較製造例1 製造例1において、過塩素酸アルミニウム9水塩0.0
4部に代えて、水酸化ナトリウム0.3部を用いた以外
は同様にして、アニオン性界面活性剤B1を得た。
【0072】比較製造例2 製造例2において、過塩素酸マグネシウム0.05部お
よび水酸化マグネシウム0.03部に代えて水酸化カリ
ウム0.5部を用いた以外は同様にして、アニオン性界
面活性剤B2を得た。
【0073】比較製造例3 製造例3において、過塩素酸アルミニウム0.01部と
過塩素酸マグネシウム0.06部に代えて水酸化カリウ
ム0.5部を用いた以外は同様にして、アニオン性界面
活性剤B3を得た。
【0074】比較製造例4 製造例5において、過塩素酸アルミニウム9水塩0.0
4部に代えて、水酸化ナトリウム0.3部を用いた以外
は同様にして、アニオン性界面活性剤B4を得た。
【0075】アニオン性界面活性剤A1〜A6及びB1
〜B4の組成を表3および表4に示す。 <Tの測定法>本発明のアニオン性界面活性剤のH1
NMRを測定し、全H原子に対するオキシアルキレン基
に帰属するH原子の割合から算出した。 <Yaの測定法>本発明のアニオン性界面活性剤をトリ
フルオロ酢酸でラベル化した後、H1−NMRを測定
し、一般式(7)における水酸基が結合しているメチン
基と、その他の水酸基が結合しているメチレン基の割合
から算出した。
【0076】
【表3】
【0077】
【表4】
【0078】実施例1〜6及び比較例1〜4 <洗浄力試験> <試験法>アニオン性界面活性剤A1〜A6及びB1〜
B4の、0.03%の各水溶液を調整し、試料溶液とし
た。JIS湿式人工汚染布を10枚及びJIS L08
03規定する試験布(110mm×100mm)を15
枚用意し、試験布のうち10枚にそれぞれ人工汚染布を
ホッチキスで止めた。こうして作成した試験布15枚を
使用し、以下の条件で洗浄力試験を行った。 試験器:かき混ぜ式洗浄力試験器(JIS K336
2) 回転数:120±5rpm 液量 :1000ml 液温 :30℃ 時間 :洗浄 10分間 すすぎ 3分間×2回(水道水) 試験後、洗浄後の人工汚染布を風乾した。 <評価法>洗浄後の人工汚染布、未洗浄の人工汚染布及
び清浄布の反射率(540nm)を測定し、下式により
洗浄力を算出した。 洗浄力(%)={(Rw−Rs)/(RI−Rs)}×
100 RI:清浄布の反射率 Rw:洗浄後の人工汚染布の反射率 Rs:未洗浄の人工汚染布の反射率 反射率の測定には多光源分光測色計(スガ試験機製)を
使用した。 <評価基準> ◎:洗浄力が40%以上 ○:洗浄力が32%以上40%未満 △:洗浄力が20%以上32%未満 ×:洗浄力が20%未満 評価結果を表5に示す。
【0079】
【表5】
【0080】実施例7〜12及び比較例5〜8 アニオン性界面活性剤A1〜A6及びB1〜B4を、表
5の処方で頭髪用洗浄剤(シャンプー)として調製し、
使用性の評価を行った。 <評価法>男女各10名のパネラーに使用時の「泡
立」、「泡質」、「風合い」について、以下の5段階基
準で判定し、その合計点を以て評価した。評価結果を表
6に示す。 <評価基準> 「泡立ち」; 非常によく泡立つ 5点 かなり泡立つ 4点 普通に泡立つ 3点 泡立ち少ない 2点 ほとんど泡立たない 1点 「泡質」; 微細なクリーミーな泡 5点 やや細かい泡 4点 普通の大きさの泡 3点 やや荒い泡 2点 非常に荒い泡 1点 「風合い」 指通りが非常に滑らか 5点 指通りがかなり滑らか 4点 普通の指通り 3点 指通りがやや重い 2点 指通りが悪く、ひっかかる 1点
【0081】
【表6】
【0082】
【表7】
【0083】
【発明の効果】本発明のアニオン性界面活性剤は、低濃
度でも洗浄性、起泡性、使用性に優れるため、家庭用洗
浄剤(衣料用洗剤、頭髪用洗浄剤、食器用洗剤など)お
よび工業用洗浄剤(金属、精密部品等の洗浄剤など)と
して好適である。また、乳化性、分散性、浸透性、起泡
性、湿潤性などにも優れているので、乳化剤(乳化重合
用乳化剤、農薬乳剤用乳化剤、金属加工用乳化剤、化粧
品用乳化剤、水系塗料用乳化剤など)、分散剤(顔料や
脂肪酸金属塩などの紙用薬剤の分散剤、農薬粒剤用分散
剤、懸濁重合用分散剤など)、可溶化剤(香料用可溶化
剤など)、起泡剤、浸透剤および湿潤剤などにも有用で
ある。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 川口幸治 京都市東山区一橋野本町11番地の1 三洋 化成工業株式会社内 (72)発明者 河崎有美 京都市東山区一橋野本町11番地の1 三洋 化成工業株式会社内 Fターム(参考) 4C083 AC122 AC241 AC242 AC642 AC712 AC791 AC792 AC901 AD132 BB05 CC38 DD23 DD27 EE03 4D077 AB10 AC01 AC05 AC06 AC07 BA13 CA15 DC02Z DC08Z DC19Y DC26Y DC59Y DC67Y DD32Y DD33Y DE02Y DE07Y DE10Y DE29Y DE32Y 4H003 AB05 AB20 AB22 AB39 AC13 AD04 DA01 DA02 DA09 DA14 DA15 DA17 EA12 EA15 EA16 EB05 EB42 ED02 FA18

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 下記一般式(1)で表される化合物の混
    合物からなり、下記関係式(I)を満足するアニオン性
    界面活性剤。 【化1】 [式中、R1およびR2は、それぞれ独立に水素原子、並
    びに炭素数1〜30の脂肪族および脂環式の1価炭化水
    素基からなる群から選ばれる基であり、R1とR2の炭素
    数の合計は6〜44であり、R3およびR4はそれぞれ独
    立に水素原子、および炭素数1〜6のアルキル基からな
    る群から選ばれる基である。tは1または2以上の整数
    であり、tが2以上の場合の複数のR1、R2、R3およ
    びR4は同一でも異なっていてもよい。Aは炭素数2〜
    5のアルキレン基である。mおよびnはmとnの合計の
    平均値が0〜35となる0または1〜20の整数であ
    る。XおよびZの一方または双方は下記一般式(2)〜
    (5)のいずれかで示される基であり、他方は水素原子
    でもよい。 −(CH2pCH2COOM1/r (2) −(CH2pSO31/r (3) 【化2】 【化3】 pは0または1〜5の整数、Lの一方はSO31/rで、
    他方は水素原子である。Mは水素原子またはr価のカチ
    オンを示し、rは1または2である。] Ya 0.5<7.5×exp{−0.05×T} (I) [式中、Yaは一般式(1)において、m、nの一方ま
    たは両方が0である化合物の割合(モル%)であり、T
    はmとnの合計の平均値である。]
  2. 【請求項2】 下記一般式(6)で表され、下記関係式
    (II)を満たすポリオキシアルキレンジオールの混合物
    をアニオン化してなるアニオン性界面活性剤。 【化4】 [式中、R1およびR2は、それぞれ独立に水素原子、並
    びに炭素数1〜30の脂肪族および脂環式の1価炭化水
    素基からなる群から選ばれる基であり、R1とR2の炭素
    数の合計は6〜44であり、R3およびR4はそれぞれ独
    立に水素原子、および炭素数1〜6のアルキル基からな
    る群から選ばれる基である。tは1または2以上の整数
    であり、tが2以上の場合の複数のR1、R2、R3およ
    びR4は同一でも異なっていてもよい。Aは炭素数2〜
    5のアルキレン基である。mおよびnは、mとnの合計
    の平均値が0〜35となる0または1〜20の整数であ
    る。] Yb 0.5<7.5×exp{−0.05×T} (II) [Ybは、一般式(6)において、m、nの一方または
    両方が0である化合物の割合(モル%)であり、Tはm
    とnの合計の平均値である。]
  3. 【請求項3】 ポリオキシアルキレンジオールが、Ha
    mmetの酸度関数による酸強度H0が−30.0〜−
    11.0の酸(d1)及び/又はその金属塩(d2)か
    らなる触媒の存在下に、下記一般式(7)のジオールに
    炭素数2〜5の一種以上のアルキレンオキシドを付加し
    てなることを特徴とする請求項2記載のアニオン性界面
    活性剤。 【化5】 [式中、各記号は一般式(6)におけると同じである。]
  4. 【請求項4】 アニオン化が、カルボキシアルキル化、
    スルホン化、硫酸化、リン酸化、またはスルホコハク酸
    エステル化である請求項2または3記載のアニオン性界
    面活性剤。
  5. 【請求項5】 R1またはR2が水素原子である請求項1
    〜4いずれか記載のアニオン性界面活性剤。
  6. 【請求項6】 請求項1〜5いずれか記載のアニオン性
    界面活性剤を含有することを特徴とする洗浄剤。
  7. 【請求項7】 さらに他のアニオン性界面活性剤、ノニ
    オン界面活性剤、両性界面活性剤、カチオン性界面活性
    剤、ビルダー、保湿剤、防腐剤、酸化防止剤、紫外線吸
    収剤、キレート剤、殺菌剤、pH調整剤、色素、香料、
    酵素および漂白剤からなる群から選ばれる1種類以上を
    配合してなる請求項6記載の洗浄剤。
  8. 【請求項8】 請求項1〜5いずれか記載のアニオン性
    界面活性剤からなることを特徴とする乳化剤、分散剤、
    可溶化剤、浸透剤または湿潤剤。
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008506804A (ja) * 2004-07-15 2008-03-06 アクゾ ノーベル ナムローゼ フェンノートシャップ ホスフェート化アルカノール、そのハイドロトロープとしての使用および該組成物を含有する洗浄用組成物
JP2008144057A (ja) * 2006-12-11 2008-06-26 Sanyo Chem Ind Ltd 洗浄剤組成物
CN102965206A (zh) * 2012-11-13 2013-03-13 山东泰德新能源有限公司 一种发动机积碳清洗剂及其制备方法
CN111234957A (zh) * 2020-03-18 2020-06-05 诺而曼环保科技(江苏)有限公司 一种高效环保除金属粉屑碳氢清洗剂及其制作方法

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