JP2002076244A - Multi-chip semiconductor device - Google Patents

Multi-chip semiconductor device

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JP2002076244A
JP2002076244A JP2000258341A JP2000258341A JP2002076244A JP 2002076244 A JP2002076244 A JP 2002076244A JP 2000258341 A JP2000258341 A JP 2000258341A JP 2000258341 A JP2000258341 A JP 2000258341A JP 2002076244 A JP2002076244 A JP 2002076244A
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semiconductor
semiconductor chip
chip
chips
semiconductor device
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JP2000258341A
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Japanese (ja)
Inventor
Koichi Ikeda
浩一 池田
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Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
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Publication date
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    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/26Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/31Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process
    • H01L2224/32Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process of an individual layer connector
    • H01L2224/321Disposition
    • H01L2224/32135Disposition the layer connector connecting between different semiconductor or solid-state bodies, i.e. chip-to-chip

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a multifunction semiconductor device in which inter-chip alignment is facilitated, effective wiring length between functional chips is shortened, working frequency range is widened, and a plurality of semiconductor chips constitute a single semiconductor device. SOLUTION: A plurality of semiconductor chips, each having a circuit formed therein, are assembled three-dimensionally where a second semiconductor chip 21 is disposed substantially perpendicular to a first semiconductor chip 11, and the first and second semiconductor chips 11 and 21 are connected electrically at a plurality of contacts.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、マルチチップ半導
体装置に関し、詳しくは複数の半導体チップで立体的に
構成されたマルチチップ半導体装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a multi-chip semiconductor device, and more particularly, to a multi-chip semiconductor device formed of a plurality of semiconductor chips in a three-dimensional manner.

【0002】[0002]

【従来の技術】システムLSIの機能を向上させる一つ
の方策として、複数の機能の混載がある。例えば、DR
AM(Dynamic Random Access Memory )とロジックL
SIの混載、デジタルLSIとアナログLSIとの混
載、等の方向性が示されている。また、混載される機能
の数も2種類のみならず、3種類以上の機能の混載が期
待され、議論されている。
2. Description of the Related Art As one measure for improving the functions of a system LSI, there is a combination of a plurality of functions. For example, DR
AM (Dynamic Random Access Memory) and logic L
Directionality such as mixed mounting of SI and mixed mounting of digital LSI and analog LSI is shown. Also, the number of functions to be mixed is not limited to two, and three or more functions are expected to be mixed and discussed.

【0003】ところが、LSI製造工程フローは、それ
ぞれの機能に対して異なるため、総工程数は著しく増加
することになる。それは、個々の機能を有するLSI製
造工程数の単純な足し合わせにはならないものの、その
ことにともなって製造コストは著しく増加する。また、
工程の増加により、製造歩留りへの影響も考慮する必要
があり、高機能システムLSIの実現には困難な課題が
多い。
However, since the LSI manufacturing process flow is different for each function, the total number of processes is significantly increased. Although this is not a simple addition of the number of LSI manufacturing steps having individual functions, the manufacturing cost is significantly increased accordingly. Also,
Due to the increase in the number of processes, it is necessary to consider the influence on the manufacturing yield, and there are many difficult problems in realizing a high-performance system LSI.

【0004】しかしながら、いわゆるシステムLSIの
機能付加価値を高めるためには、上述した複数機能混載
のシステムLSIを実現する製造プロセス技術の開発が
望まれてきた。このようなニーズに対して、いくつかの
解が示されている。
However, in order to increase the added value of functions of a so-called system LSI, it has been desired to develop a manufacturing process technology for realizing the above-described system LSI with a plurality of functions. Several solutions have been suggested for such needs.

【0005】例えば、図13に示すように、基台となる
チップ111に別のチップ112、113を平面的に張
り合わせた構成のシステムLSI101がある。
[0005] For example, as shown in FIG. 13, there is a system LSI 101 having a configuration in which another chip 112 or 113 is planarly attached to a chip 111 serving as a base.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
ような張り合わせた構成もしくは重ね合わせた構成で
は、組み合わせるチップ間のアライメントの困難さが課
題となる。もしくは合わせずれが発生した場合の修正技
術等の開発が必須である。この課題は解決されておら
ず、現段階では実用的ではない。また、完成品の性能を
考察しても、実効的な各機能チップ間の配線距離が必ず
しも短くならない、またコンタクト抵抗が信号遅延に悪
影響を与えて所望の性能が得られない、等の問題を有し
ている。結局のところ、実効配線長を短くすることがで
きず、広い周波数領域で使用したいというバンド幅の要
請にも応えられないという問題があり、今後の高機能シ
ステムLSIへの適用には問題があった。このことにつ
いては、SSDM(1999)p588−589に開示
されており、同時に一つの解決策として、図14に示す
ように、第1のチップ211を貫通する接続孔212を
開口し、第2のチップ221に対して電極213を介し
てチップ間接続を行う技術が発表されている。また、半
導体チップを重ね合わせる構造では、特に多層に重ね合
わせる構造では、半導体チップからの発熱を効率よく放
熱することが困難である。
However, in the above-mentioned laminated or superposed structure, it is difficult to align the chips to be combined. Alternatively, it is necessary to develop a correction technique or the like when misalignment occurs. This problem has not been solved and is not practical at this stage. Also, considering the performance of the finished product, problems such as the fact that the effective wiring distance between each functional chip is not necessarily shortened, and that the contact resistance adversely affects the signal delay and the desired performance cannot be obtained. Have. After all, there is a problem that the effective wiring length cannot be shortened, and the demand for a bandwidth for use in a wide frequency range cannot be met, and there is a problem in application to a high-performance system LSI in the future. Was. This is disclosed in SSDM (1999) p588-589. At the same time, as one solution, a connection hole 212 penetrating through the first chip 211 is opened as shown in FIG. A technology for connecting the chips 221 via the electrodes 213 has been disclosed. Further, it is difficult to efficiently radiate heat generated from the semiconductor chip in a structure in which semiconductor chips are stacked, particularly in a structure in which semiconductor chips are stacked.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】本発明は、上記課題を解
決するためになされたマルチチップ半導体装置である。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention is a multi-chip semiconductor device for solving the above-mentioned problems.

【0008】本発明のマルチチップ半導体装置は、回路
が形成された複数の半導体チップを立体的に組立てたも
のであり、複数の半導体チップの少なくとも一組の半導
体チップは複数の接点で電気的に接続されているもので
ある。
A multi-chip semiconductor device according to the present invention is obtained by three-dimensionally assembling a plurality of semiconductor chips on which circuits are formed, and at least one set of the plurality of semiconductor chips is electrically connected by a plurality of contacts. What is connected.

【0009】すなわち、第1のマルチチップ半導体装置
は、回路が形成された第1の半導体チップと、前記第1
の半導体チップに対してほぼ垂直に設けられたもので回
路が形成された第2の半導体チップとを備え、前記第1
の半導体チップと前記第2の半導体チップとは複数の接
点で電気的に接続されているものである。
That is, a first multi-chip semiconductor device comprises: a first semiconductor chip on which a circuit is formed;
A second semiconductor chip provided with a circuit substantially perpendicular to the semiconductor chip and having a circuit formed therein,
And the second semiconductor chip are electrically connected by a plurality of contacts.

【0010】第2のマルチチップ半導体装置は、回路が
形成された第1の半導体チップと、前記第1の半導体チ
ップに対してほぼ垂直に設けられたもので回路が形成さ
れた複数の第2の半導体チップとを備え、前記第1の半
導体チップと前記第2の半導体チップのうち、少なくと
も一つの半導体チップとは複数の接点で電気的に接続さ
れているものである。
A second multi-chip semiconductor device comprises a first semiconductor chip on which a circuit is formed and a plurality of second semiconductor chips provided substantially perpendicular to the first semiconductor chip and on which a circuit is formed. And at least one of the first semiconductor chip and the second semiconductor chip is electrically connected by a plurality of contacts.

【0011】第3のマルチチップ半導体装置は、回路が
形成された第1の半導体チップと、前記第1の半導体チ
ップに対してほぼ垂直に設けられたもので回路が形成さ
れた複数の第2の半導体チップと、回路が形成されたも
ので前記第2の半導体チップ上に設けられた第3の半導
体チップとを備え、前記第1の半導体チップと前記各第
2の半導体チップのうち、少なくとも一つの半導体チッ
プとは複数の接点で電気的に接続されていて、前記各第
2の半導体チップのうち少なくとも一つの半導体チップ
と前記第3の半導体チップとは複数の接点で電気的に接
続されているものである。
A third multi-chip semiconductor device comprises a first semiconductor chip on which a circuit is formed, and a plurality of second semiconductor chips provided substantially perpendicular to the first semiconductor chip and on which a circuit is formed. And a third semiconductor chip provided with a circuit and provided on the second semiconductor chip, wherein at least one of the first semiconductor chip and each of the second semiconductor chips is provided. One semiconductor chip is electrically connected with a plurality of contacts, and at least one of the second semiconductor chips and the third semiconductor chip are electrically connected with a plurality of contacts. Is what it is.

【0012】第4のマルチチップ半導体装置は、回路が
形成された第1の半導体チップと、前記第1の半導体チ
ップの表面側に対してほぼ垂直に設けられたもので回路
が形成された第2の半導体チップと、前記第1の半導体
チップの裏面側上に対してほぼ垂直に設けられたもので
回路が形成された第3の半導体チップとを備え、前記第
1の半導体チップと前記第2の半導体チップとは複数の
接点で電気的に接続されていて、前記第2の半導体チッ
プと前記第3の半導体チップとは複数の接点で電気的に
接続されているものである。
A fourth multi-chip semiconductor device is provided with a first semiconductor chip on which a circuit is formed and a first semiconductor chip on which a circuit is formed substantially perpendicular to the front surface side of the first semiconductor chip. A second semiconductor chip, and a third semiconductor chip provided with a circuit substantially perpendicular to the back surface side of the first semiconductor chip and having a circuit formed therein. The second semiconductor chip is electrically connected to the second semiconductor chip by a plurality of contacts, and the second semiconductor chip and the third semiconductor chip are electrically connected to each other by a plurality of contacts.

【0013】上記各マルチチップ半導体装置は、複数の
半導体チップを組み込むことによって一つの半導体装置
が構成されていることから、複数種の異なる機能を有す
る半導体チップを組み込むことによって、多機能を有す
る半導体装置が一つの半導体装置として実現される。
In each of the above multi-chip semiconductor devices, one semiconductor device is formed by incorporating a plurality of semiconductor chips. Therefore, by incorporating a plurality of types of semiconductor chips having different functions, a semiconductor having a multi-function is provided. The device is realized as one semiconductor device.

【0014】[0014]

【発明の実施の形態】本発明の第1のマルチチップ半導
体装置に係る第1の実施の形態を、図1の(1)の概略
構成斜視図、図1の(2)の部分断面斜視図によって説
明する。図1では、一例として、二つの半導体チップを
組み合わせたマルチチップ半導体装置を示す。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS A first embodiment according to a first multi-chip semiconductor device of the present invention is shown in a schematic perspective view of FIG. 1 (1) and a partial sectional perspective view of FIG. 1 (2). It will be explained by. FIG. 1 shows a multichip semiconductor device in which two semiconductor chips are combined as an example.

【0015】図1の(1)に示すように、マルチチップ
半導体装置1には、回路が形成された第1の半導体チッ
プ11が備えられている。この第1の半導体チップ11
に対して、回路が形成された第2の半導体チップ21が
ほぼ垂直に設けられている。
As shown in FIG. 1A, the multi-chip semiconductor device 1 includes a first semiconductor chip 11 on which circuits are formed. This first semiconductor chip 11
In contrast, a second semiconductor chip 21 on which a circuit is formed is provided substantially vertically.

【0016】例えば、図1の(2)に示すように、第1
の半導体チップ11の表面には溝12が形成され、その
溝12内に上記第2の半導体チップ21の一部が組み入
れられている。そして、第1、第2の半導体チップ1
1,21どうしは、例えば接着剤による接着、シリサイ
ド反応のような反応を利用した接着、共晶反応を利用し
た接着、分子間力を利用した接着、合金化による接着、
半導体チップどうしの焼結による接着、等種々の接着方
法によって固定されている。
For example, as shown in FIG.
A groove 12 is formed on the surface of the semiconductor chip 11 described above, and a part of the second semiconductor chip 21 is incorporated in the groove 12. Then, the first and second semiconductor chips 1
For example, bonding between the two is based on bonding using an adhesive, bonding using a reaction such as a silicide reaction, bonding using a eutectic reaction, bonding using an intermolecular force, bonding by alloying,
The semiconductor chips are fixed by various bonding methods such as bonding by sintering.

【0017】このように、溝に組み込み接着することに
より二つの半導体チップを容易に組み上げることができ
るので、従来の張り合わせによるマルチチップ構造より
アライメントが容易になる。また、半導体チップが立体
的に組み上げられることができるため、従来の張り合わ
せによるマルチチップ構造よりも半導体チップの冷却効
果が高まる。
As described above, the two semiconductor chips can be easily assembled by incorporating and bonding them in the grooves, so that the alignment becomes easier than the conventional multi-chip structure by bonding. Further, since the semiconductor chips can be assembled three-dimensionally, the cooling effect of the semiconductor chips is enhanced as compared with the conventional multi-chip structure by bonding.

【0018】次に、上記第1、第2の半導体チップ1
1,21どうしの電気的な接続状態の一例を図2によっ
て説明する。図2の(1)には斜視図を示し、図2の
(2)には断面図を示す。
Next, the first and second semiconductor chips 1
An example of an electrical connection state between the terminals 21 and 21 will be described with reference to FIG. FIG. 2A is a perspective view, and FIG. 2B is a cross-sectional view.

【0019】図2の(1)、(2)に示すように、第1
の半導体チップ11の表面には複数の電極(もしくは配
線)13が形成されている。また第1の半導体チップ1
1に形成された溝12に挿入される第2の半導体チップ
の表面にも複数の電極(もしくは配線)23が形成され
ている。上記各電極13,23は、それぞれが接触可能
な間隔で形成されている。そして、第2の半導体チップ
21の各電極23は第2の半導体チップ21とともに溝
12内に挿入されて電極23の表面23Sが電極13の
側面13Sに接触され、接点が形成されている。この接
点を介して第1の半導体チップ11と第2の半導体チッ
プ21との導通が取られている。また、図示はしない
が、第1の半導体チップ11に形成される電極13は溝
12の内部に延長して形成されていてもよい。
As shown in (1) and (2) of FIG.
A plurality of electrodes (or wires) 13 are formed on the surface of the semiconductor chip 11. Also, the first semiconductor chip 1
A plurality of electrodes (or wiring) 23 are also formed on the surface of the second semiconductor chip inserted into the groove 12 formed in the first semiconductor chip. The electrodes 13 and 23 are formed at intervals at which they can come into contact with each other. Then, each electrode 23 of the second semiconductor chip 21 is inserted into the groove 12 together with the second semiconductor chip 21, and the surface 23S of the electrode 23 contacts the side surface 13S of the electrode 13 to form a contact. Through these contacts, conduction between the first semiconductor chip 11 and the second semiconductor chip 21 is established. Although not shown, the electrode 13 formed on the first semiconductor chip 11 may be formed to extend inside the groove 12.

【0020】上記マルチチップ半導体装置1において
は、例えば、挿入する第2の半導体チップ21もしくは
挿入される第1の半導体チップ11のいずれかがDRA
Mであれば、DRAM混載システムLSIとなる。な
お、このようなDRAM混載システムLSIでは、電気
的接続に寄与する部分は挿入される第2の半導体チップ
21の1辺の長さしかないので、信号数によりDRAM
を形成する半導体チップを決定する必要がある。
In the multi-chip semiconductor device 1, for example, either the second semiconductor chip 21 to be inserted or the first semiconductor chip 11 to be inserted is DRA.
If it is M, it becomes a DRAM embedded system LSI. In such a DRAM-embedded system LSI, the portion contributing to the electrical connection is only one side of the second semiconductor chip 21 to be inserted.
Needs to be determined.

【0021】次に、上記第1、第2の半導体チップ1
1、21どうしの電気的な接続状態の別の一例を図3,
図4によって説明する。図3の(1)には斜視図を示
し、図3の(2),図4には断面図を示す。
Next, the first and second semiconductor chips 1
FIG. 3 shows another example of the electrical connection state between the devices 1 and 21.
This will be described with reference to FIG. 3A is a perspective view, and FIGS. 3B and 4 are cross-sectional views.

【0022】図3の(1)、(2)に示すように、第1
の半導体チップ11の表面には複数の電極(もしくは配
線)13が溝12の側端に達するように形成されてい
る。また第1の半導体チップ11に形成された溝12に
挿入される第2の半導体チップの表面にも複数の電極
(もしくは配線)23が形成されている。以下、配線も
含めて電極と表現する。上記各電極13,23は、それ
ぞれが接触可能な間隔で形成されている。そして、第2
の半導体チップ21の各電極23は第2の半導体チップ
21が溝12内に挿入されるとともに電極13に押し付
けられて、もしくは圧着されて、接点が形成されてい
る。この接点を介して第1の半導体チップ11と第2の
半導体チップ21との導通が取られている。
As shown in (1) and (2) of FIG.
A plurality of electrodes (or wirings) 13 are formed on the surface of the semiconductor chip 11 so as to reach the side end of the groove 12. Also, a plurality of electrodes (or wiring) 23 are formed on the surface of the second semiconductor chip inserted into the groove 12 formed in the first semiconductor chip 11. Hereinafter, the term “electrode” includes the wiring. The electrodes 13 and 23 are formed at intervals at which they can come into contact with each other. And the second
Each of the electrodes 23 of the semiconductor chip 21 is formed by inserting the second semiconductor chip 21 into the groove 12 and pressing or crimping the electrode 13 to form a contact. The conduction between the first semiconductor chip 11 and the second semiconductor chip 21 is established via this contact.

【0023】また、図4の(1)に示すように、第2の
半導体チップ21は、その表面に絶縁膜25が形成さ
れ、その絶縁膜25表面に電極23が形成されていても
よい。さらに、図4の(2)に示すように、第1の半導
体チップ11の溝12表面に絶縁膜15が形成されてい
てもよい。
As shown in FIG. 4A, the second semiconductor chip 21 may have an insulating film 25 formed on the surface thereof and electrodes 23 formed on the surface of the insulating film 25. Further, as shown in FIG. 4B, an insulating film 15 may be formed on the surface of the groove 12 of the first semiconductor chip 11.

【0024】ここで、半導体チップどうしの接着方法の
一例を図5によって説明する。図5に示すように、既存
のリソグラフィー技術とエッチングとによって、電極1
3が形成されている第1の半導体チップ11に溝12を
形成する。この溝12は、溝12に組み入れる第2の半
導体チップ21の厚さにもよるが、例えば、第2の半導
体チップの厚さよりも0.5μm〜10μm程度広い幅
とし、溝12の深さは100μm〜300μm程度とす
る。そして、溝12の内部に絶縁体の前駆体(図示せ
ず)を形成しておき、その溝12の内部に第2の半導体
チップ21を挿入して焼結し、第1の半導体チップ11
と第2の半導体チップ21とを接着固定する。その際、
電極23が電極13に接触するように、第2の半導体チ
ップ21を第1の半導体チップ11側に押し付ける。そ
して第1の半導体チップ11と第2の半導体チップ21
との間には絶縁膜28が形成され、その絶縁膜28によ
って、第1の半導体チップ11と第2の半導体チップ2
1とが接着固定される。
Here, an example of a method of bonding semiconductor chips will be described with reference to FIG. As shown in FIG. 5, the electrode 1 is formed by the existing lithography technique and etching.
The groove 12 is formed in the first semiconductor chip 11 on which 3 is formed. The width of the groove 12 is, for example, 0.5 μm to 10 μm wider than the thickness of the second semiconductor chip depending on the thickness of the second semiconductor chip 21 incorporated in the groove 12, and the depth of the groove 12 is It is about 100 μm to 300 μm. Then, a precursor (not shown) of an insulator is formed inside the groove 12, and the second semiconductor chip 21 is inserted into the groove 12 and sintered, and the first semiconductor chip 11 is formed.
And the second semiconductor chip 21 are bonded and fixed. that time,
The second semiconductor chip 21 is pressed against the first semiconductor chip 11 so that the electrode 23 contacts the electrode 13. Then, the first semiconductor chip 11 and the second semiconductor chip 21
Is formed between the first semiconductor chip 11 and the second semiconductor chip 2 by the insulating film 28.
1 are bonded and fixed.

【0025】次に、本発明の第2のマルチチップ半導体
装置に係る第1〜第4の実施の形態を、図6の(1)、
(2)および図7(1)、(2)の斜視図によって説明
する。
Next, first to fourth embodiments according to the second multi-chip semiconductor device of the present invention will be described with reference to FIG.
This will be described with reference to the perspective view of (2) and FIGS.

【0026】図6の(1)に示すように、第1の半導体
チップ11上に複数の第2の半導体チップ21(21
a、21b、21c)を設けることも可能である。第1
の半導体チップ11と各第2の半導体チップ21との取
りつけ方法および第1、第2の半導体チップ11、21
に形成された電極(図示せず)どうしの接着方法は前記
説明した方法による。
As shown in FIG. 6A, a plurality of second semiconductor chips 21 (21
a, 21b, 21c) can also be provided. First
Mounting method between first semiconductor chip 11 and each second semiconductor chip 21, and first and second semiconductor chips 11, 21
The method of bonding the electrodes (not shown) formed in the above is based on the method described above.

【0027】また、図6の(2)に示すように、第1の
半導体チップ11上に複数の第2の半導体チップ21
(21a、21b)を設け、第2の半導体チップ21
a、21bを互いに所定の角度をなす状態(図示例では
直角になる状態)に設けることも可能である。第1の半
導体チップ11と各第2の半導体チップ21との取りつ
け方法および第1、第2の半導体チップ11、21に形
成された電極(図示せず)どうしの接着方法は前記説明
した方法による。
As shown in FIG. 6B, a plurality of second semiconductor chips 21 are formed on the first semiconductor chip 11.
(21a, 21b), the second semiconductor chip 21
It is also possible to provide a and 21b at a predetermined angle to each other (in the illustrated example, at a right angle). The method for attaching the first semiconductor chip 11 to each of the second semiconductor chips 21 and the method for bonding electrodes (not shown) formed on the first and second semiconductor chips 11 and 21 are the same as those described above. .

【0028】図7の(1)に示すように、第1の半導体
チップ11上に複数の第2の半導体チップ21(21
a、21b)を設け、第2の半導体チップ21a、21
bを互いに所定の角度をなす状態(図示例では直角にな
る状態)にかつ接続する状態に設けることも可能であ
る。第1の半導体チップ11と各第2の半導体チップ2
1との取りつけ方法、第2の半導体チップ21どうしの
取りつけ方法、および第1、第2の半導体チップ11、
21に形成された電極(図示せず)どうしの接着方法は
前記説明した方法による。
As shown in FIG. 7A, a plurality of second semiconductor chips 21 (21
a, 21b), the second semiconductor chips 21a, 21
It is also possible to provide b in a state of forming a predetermined angle with each other (in the illustrated example, at a right angle) and in a connected state. First semiconductor chip 11 and each second semiconductor chip 2
1, a method of attaching the second semiconductor chips 21 to each other, and a method of attaching the first and second semiconductor chips 11,
The method of bonding the electrodes (not shown) formed on 21 is based on the method described above.

【0029】さらに、図7の(2)に示すように、第1
の半導体チップ11上に複数の高さの異なる第2の半導
体チップ21(21a、21b、21c)を設けること
も可能である。第1の半導体チップ11と各第2の半導
体チップ21との取りつけ方法および第1、第2の半導
体チップ11、21に形成された電極(図示せず)の接
着方法は前記説明した方法による。
Further, as shown in FIG.
It is also possible to provide a plurality of second semiconductor chips 21 (21a, 21b, 21c) having different heights on the semiconductor chip 11 of FIG. The method of attaching the first semiconductor chip 11 to each of the second semiconductor chips 21 and the method of bonding electrodes (not shown) formed on the first and second semiconductor chips 11 and 21 are the same as those described above.

【0030】このように複数の半導体チップを組み込む
場合には、半導体チップの方向や高さがそろっている必
要はない。また、上記実施の形態では、第2の半導体チ
ップ21は例えば互いに直角になるように、もしくは互
いに平行になるように第1の半導体チップ11上に配置
されているが、この角度は、母体となる第1の半導体チ
ップ11との電気的接続に支障がない限り、自由に選択
することが可能である。また、第1の半導体チップ11
に組み込む第2の半導体チップ21の数は、第1の半導
体チップ11上に組み込むことができる数であればいく
つであってもよい。また、組み込む第2の半導体チップ
21の大きさは自由に選択することができる。
When a plurality of semiconductor chips are incorporated as described above, the directions and heights of the semiconductor chips need not be uniform. Further, in the above embodiment, the second semiconductor chips 21 are arranged on the first semiconductor chip 11 so as to be, for example, perpendicular to each other or parallel to each other. It can be freely selected as long as the electrical connection with the first semiconductor chip 11 is not hindered. Also, the first semiconductor chip 11
The number of the second semiconductor chips 21 incorporated in the first semiconductor chip 11 may be any number as long as it can be incorporated on the first semiconductor chip 11. Further, the size of the second semiconductor chip 21 to be incorporated can be freely selected.

【0031】次に、本発明の第3のマルチチップ半導体
装置に係る実施の形態を、図8の斜視図によって説明す
る。
Next, an embodiment of the third multi-chip semiconductor device of the present invention will be described with reference to the perspective view of FIG.

【0032】図8に示すように、マルチチップ半導体装
置6には、回路が形成された第1の半導体チップ11が
備えられている。この第1の半導体チップ11に対し
て、回路が形成されたもので高さが同等の第2の半導体
チップ21(21a、21b、21c)がほぼ垂直に設
けられている。さらに、各第2の半導体チップ21上に
は第3の半導体チップ31が設けられている。
As shown in FIG. 8, the multi-chip semiconductor device 6 includes a first semiconductor chip 11 on which circuits are formed. A second semiconductor chip 21 (21a, 21b, 21c) on which a circuit is formed and having the same height is provided substantially perpendicular to the first semiconductor chip 11. Further, a third semiconductor chip 31 is provided on each second semiconductor chip 21.

【0033】上記第1の半導体チップ11と上記各第2
の半導体チップ21どうし、および上記各第2の半導体
チップ11と上記第3の半導体チップ31どうしは、前
記図1〜図4によって説明したのと同様な構成によって
組立てられている。また、第1の半導体チップ11と各
第2の半導体チップ21どうしの電気的接続、および各
第2の半導体チップ11と第3の半導体チップ31どう
しの電気的接続は前記図1〜図4によって説明したのと
同様な構成による。
The first semiconductor chip 11 and the second
The semiconductor chips 21 and the second semiconductor chip 11 and the third semiconductor chip 31 are assembled by the same configuration as that described with reference to FIGS. The electrical connection between the first semiconductor chip 11 and each second semiconductor chip 21 and the electrical connection between each second semiconductor chip 11 and the third semiconductor chip 31 are shown in FIGS. The configuration is similar to that described.

【0034】次に、本発明の第4のマルチチップ半導体
装置に係る実施の形態を、図9の斜視図によって説明す
る。
Next, an embodiment of the fourth multi-chip semiconductor device of the present invention will be described with reference to the perspective view of FIG.

【0035】図9に示すように、マルチチップ半導体装
置7には、回路が形成された第1の半導体チップ11が
備えられている。この第1の半導体チップ11の表面側
に、回路が形成された第2の半導体チップ21がほぼ垂
直に設けられている。さらに、第1の半導体チップ11
の裏面側には第3の半導体チップ41がほぼ垂直に設け
られている。図面では、第2の半導体チップ21と第3
の半導体チップ41とは第1の半導体チップ11を挟ん
で対向する位置に設けられているが、第2の半導体チッ
プ21と第3の半導体チップ41は互いに対向する位置
に配置されてなくてもよい。
As shown in FIG. 9, the multi-chip semiconductor device 7 includes a first semiconductor chip 11 on which circuits are formed. On the front side of the first semiconductor chip 11, a second semiconductor chip 21 on which a circuit is formed is provided substantially vertically. Further, the first semiconductor chip 11
A third semiconductor chip 41 is provided substantially vertically on the back side of the semiconductor chip. In the drawing, the second semiconductor chip 21 and the third
Is provided at a position opposing the first semiconductor chip 11 with the first semiconductor chip 11 interposed therebetween, but the second semiconductor chip 21 and the third semiconductor chip 41 may not be disposed at positions opposing each other. Good.

【0036】上記第1の半導体チップ11と上記第2の
半導体チップ21どうし、および上記第1の半導体チッ
プ11と上記第3の半導体チップ41どうしは、前記図
1〜図4によって説明したのと同様な構成によって組立
てられている。また、第1の半導体チップ11と第2の
半導体チップ21どうしの電気的接続、および第の半導
体チップ11と第3の半導体チップ41どうしの電気的
接続は前記図1〜図4によって説明したのと同様な構成
による。
The first semiconductor chip 11 and the second semiconductor chip 21 and the first semiconductor chip 11 and the third semiconductor chip 41 are the same as those described with reference to FIGS. They are assembled by a similar configuration. The electrical connection between the first semiconductor chip 11 and the second semiconductor chip 21 and the electrical connection between the first semiconductor chip 11 and the third semiconductor chip 41 have been described with reference to FIGS. The configuration is the same as described above.

【0037】次に、本発明の第3のマルチチップ半導体
装置と第4のマルチチップ半導体装置とを組み合わせた
構成のマルチチップ半導体装置に係る実施の形態を、図
10の斜視図によって説明する。
Next, an embodiment of a multi-chip semiconductor device having a configuration in which the third multi-chip semiconductor device and the fourth multi-chip semiconductor device of the present invention are combined will be described with reference to a perspective view of FIG.

【0038】図10に示すように、マルチチップ半導体
装置8には、回路が形成された第1の半導体チップ11
が備えられている。この第1の半導体チップ11に対し
て、回路が形成されたもので高さが同等の第2の半導体
チップ21(21a、21b、21c)がほぼ垂直に設
けられている。さらに、各第2の半導体チップ21上に
は第3の半導体チップ31の裏面側が接続するようにこ
の第3の半導体チップ31が設けられている。さらに、
上記第3の半導体チップ31の表面側には第4の半導体
チップ51が設けられている。
As shown in FIG. 10, a multi-chip semiconductor device 8 has a first semiconductor chip 11 on which a circuit is formed.
Is provided. A second semiconductor chip 21 (21a, 21b, 21c) on which a circuit is formed and having the same height is provided substantially perpendicular to the first semiconductor chip 11. Further, the third semiconductor chip 31 is provided on each of the second semiconductor chips 21 so that the back surface of the third semiconductor chip 31 is connected. further,
A fourth semiconductor chip 51 is provided on the front side of the third semiconductor chip 31.

【0039】上記第1の半導体チップ11と上記各第2
の半導体チップ21どうし、上記各第2の半導体チップ
11と上記第3の半導体チップ31どうし、および上記
第3の半導体チップ31と上記第4の半導体チップ51
どうし、は、前記図1〜図4によって説明したのと同様
な構成によって組立てられている。また、第1の半導体
チップ11と各第2の半導体チップ21どうしの電気的
接続、各第2の半導体チップ11と第3の半導体チップ
31どうしの電気的接続、および第3の半導体チップ3
1と第4の半導体チップ51どうしの電気的接続は、前
記図1〜図4によって説明したのと同様な構成による。
The first semiconductor chip 11 and the second
Between the semiconductor chips 21, the second semiconductor chip 11 and the third semiconductor chip 31, and between the third semiconductor chip 31 and the fourth semiconductor chip 51.
The two are assembled by the same configuration as that described with reference to FIGS. Further, the first semiconductor chip 11 and the second semiconductor chips 21 are electrically connected to each other, the second semiconductor chip 11 and the third semiconductor chips 31 are electrically connected to each other, and the third semiconductor chip 3
The electrical connection between the first and fourth semiconductor chips 51 has the same configuration as that described with reference to FIGS.

【0040】次に、本発明の第3のマルチチップ半導体
装置と第4のマルチチップ半導体装置とを組み合わせた
構成のマルチチップ半導体装置に係る別の実施の形態
を、図11の斜視図によって説明する。
Next, another embodiment of a multi-chip semiconductor device having a configuration in which the third multi-chip semiconductor device and the fourth multi-chip semiconductor device of the present invention are combined will be described with reference to the perspective view of FIG. I do.

【0041】図11に示すように、マルチチップ半導体
装置8には、回路が形成された第1の半導体チップ11
が備えられている。さらに、上記第1の半導体チップ1
1には、回路が形成されたもので高さが同等の第2の半
導体チップ21(21a、21b、21c)が例えば互
いが平行となるように、かつこの第1の半導体チップに
対してほぼ垂直に設けられている。
As shown in FIG. 11, a multi-chip semiconductor device 8 has a first semiconductor chip 11 on which a circuit is formed.
Is provided. Further, the first semiconductor chip 1
1, a second semiconductor chip 21 (21a, 21b, 21c) on which a circuit is formed and having the same height is, for example, parallel to each other, and is substantially parallel to the first semiconductor chip. It is provided vertically.

【0042】また、各第2の半導体チップ21上には第
3の半導体チップ31の裏面側が接続するようにこの第
3の半導体チップ31が設けられている。さらに、上記
第3の半導体チップ31の表面側には、複数の第4の半
導体チップ51(51a、51b)が例えば互いに平行
となるようにかつ第3の半導体チップ31に対して垂直
になるように設けられている。
The third semiconductor chip 31 is provided on each of the second semiconductor chips 21 so that the back side of the third semiconductor chip 31 is connected. Further, on the front surface side of the third semiconductor chip 31, the plurality of fourth semiconductor chips 51 (51 a, 51 b) are, for example, parallel to each other and perpendicular to the third semiconductor chip 31. It is provided in.

【0043】また、各第4の半導体チップ51上には第
5の半導体チップ61の裏面側が接続するようにこの第
5の半導体チップ61が設けられている。さらに、上記
第5の半導体チップ61の表面側には、複数の第6の半
導体チップ71(71a、71b、71c)が例えば互
いに平行となるようにかつ第5の半導体チップ61に対
して垂直になるように設けられている。
The fifth semiconductor chip 61 is provided on each of the fourth semiconductor chips 51 so that the back surface of the fifth semiconductor chip 61 is connected. Further, on the front side of the fifth semiconductor chip 61, a plurality of sixth semiconductor chips 71 (71a, 71b, 71c) are, for example, parallel to each other and perpendicular to the fifth semiconductor chip 61. It is provided so that it becomes.

【0044】上記第1の半導体チップ11と上記各第2
の半導体チップ21どうし、上記各第2の半導体チップ
11と上記第3の半導体チップ31どうし、上記第3の
半導体チップ31と上記各第4の半導体チップ51どう
し、上記各第4の半導体チップ51と上記第5の半導体
チップ61どうし、および上記各第5の半導体チップ6
1と上記第6の半導体チップ71どうしは、前記図1〜
図4によって説明したのと同様な構成によって組立てら
れている。また、第1の半導体チップ11と各第2の半
導体チップ21どうしの電気的接続、各第2の半導体チ
ップ11と第3の半導体チップ31どうしの電気的接
続、第3の半導体チップ31と各第4の半導体チップ5
1どうしの電気的接続、各第4の半導体チップ51と第
5の半導体チップ61どうしの電気的接続、および第5
の半導体チップ61と各第6の半導体チップ71どうし
の電気的接続は、前記図1〜図4によって説明したのと
同様な構成による。
The first semiconductor chip 11 and the second
Between the second semiconductor chips 11 and the third semiconductor chips 31, between the third semiconductor chips 31 and the fourth semiconductor chips 51, and between the fourth semiconductor chips 51. And the fifth semiconductor chips 61 and the respective fifth semiconductor chips 6
1 and the sixth semiconductor chip 71 are the same as those in FIGS.
It is assembled by a configuration similar to that described with reference to FIG. Also, the electrical connection between the first semiconductor chip 11 and each second semiconductor chip 21, the electrical connection between each second semiconductor chip 11 and the third semiconductor chip 31, and the electrical connection between the third semiconductor chip 31 and each Fourth semiconductor chip 5
Electrical connection between each other, electrical connection between each fourth semiconductor chip 51 and fifth semiconductor chip 61, and fifth electrical connection.
The electrical connection between the semiconductor chip 61 and each of the sixth semiconductor chips 71 has the same configuration as that described with reference to FIGS.

【0045】図11に示した例では半導体チップを3段
に組み上げているが、さらに多段に組み上げることも可
能である。
In the example shown in FIG. 11, the semiconductor chips are assembled in three stages, but it is also possible to assemble the semiconductor chips in more stages.

【0046】また、上記各実施の形態において、半導体
チップどうしの接続は、図12に示すように、第1の半
導体チップ11の1辺側に形成した段差部17の側壁1
7Sおよび底部17Bに接着するように第2の半導体チ
ップ21を設けてもよい。この場合の第1の半導体チッ
プ11と第2の半導体チップ21との接着方法は前記説
明したのと同様の方法による。また第1の半導体チップ
11と第2の半導体チップ21との電気的接続方法は前
記説明したのと同様の方法による。
In each of the above-described embodiments, the connection between the semiconductor chips is made by connecting the side walls 1 of the step 17 formed on one side of the first semiconductor chip 11 as shown in FIG.
A second semiconductor chip 21 may be provided so as to adhere to 7S and bottom 17B. In this case, the method of bonding the first semiconductor chip 11 and the second semiconductor chip 21 is the same as described above. The method of electrically connecting the first semiconductor chip 11 and the second semiconductor chip 21 is the same as described above.

【0047】上記説明したような実施の形態の構成によ
れば、半導体チップを台となる半導体チップに組み込む
ために、母体となる第1の半導体チップへの溝形成のア
ライメントと、組み込む第2の半導体チップの切断によ
り決定され、挿入時に特にアライメント制御機構を必要
としない利点がある。そのため、従来の重ね合わせによ
る張り合わせ技術において開示したアライメントの問題
が解決される。
According to the configuration of the embodiment as described above, in order to incorporate the semiconductor chip into the semiconductor chip serving as a base, alignment of forming a groove in the first semiconductor chip serving as a base and second integration to be incorporated are performed. There is an advantage that it is determined by cutting the semiconductor chip and does not require an alignment control mechanism at the time of insertion. Therefore, the problem of the alignment disclosed in the conventional lamination technique by superposition is solved.

【0048】例えば、メモリチップを組み込み(差し込
み)チップとしているシステム製造において、上記実施
の形態で説明したように、台となる第1の半導体チップ
に溝を形成し、その溝にメモリチップで形成された第2
の半導体チップを組み込む方法を用いた場合には、組み
込む第2の半導体チップのメモリ容量は、自由に選択で
きることから、単一種類の母体基板(第1の半導体チッ
プ)に、複数種の性能を有するマルチチップ半導体装置
を生産することができる。
For example, in the manufacture of a system in which a memory chip is incorporated (inserted), a groove is formed in the first semiconductor chip serving as a base and a memory chip is formed in the groove as described in the above embodiment. The second
When the method of incorporating a semiconductor chip is used, since the memory capacity of the second semiconductor chip to be incorporated can be freely selected, a plurality of types of performance can be provided on a single type of mother substrate (first semiconductor chip). And a multi-chip semiconductor device having the same.

【0049】以上、述べたように、組み込まれる半導体
チップは複数でもよいが、さらに組み込まれてチップ間
の接続については、接触していても、離れていてもどち
らでもよい。電気的な接続がなされれば、さらに高性能
なシステムLSI装置が得られる。
As described above, a plurality of semiconductor chips may be incorporated, but further incorporated and connected between the chips may be in contact with or separated from each other. If the electrical connection is made, a higher performance system LSI device can be obtained.

【0050】[0050]

【発明の効果】以上、説明したように本発明のマルチチ
ップ半導体装置によれば、複数の半導体チップを組み込
むことによって一つの半導体装置が構成されているの
で、複数種の異なる機能を有する半導体チップを組み込
むことによって、多機能を有する半導体装置が一つの半
導体装置として実現できる。よって、システムLSIへ
の多機能混載技術に新たな解決策を提供することがで
き、高機能システムLSIの製造コスト、歩留りを著し
く向上することができる。
As described above, according to the multi-chip semiconductor device of the present invention, since one semiconductor device is formed by incorporating a plurality of semiconductor chips, a plurality of types of semiconductor chips having different functions are provided. , A semiconductor device having multiple functions can be realized as one semiconductor device. Therefore, it is possible to provide a new solution to the multi-function mixed technology in the system LSI, and it is possible to significantly improve the manufacturing cost and the yield of the high-performance system LSI.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の第1のマルチチップ半導体装置に係る
第1の実施の形態を示す図であり、(1)は概略構成斜
視図、(2)は部分断面斜視図である。
FIG. 1 is a diagram showing a first embodiment of a first multi-chip semiconductor device of the present invention, wherein (1) is a schematic perspective view and (2) is a partial cross-sectional perspective view.

【図2】第1、第2の半導体チップどうしの電気的な接
続状態の一例を示す図であり、(1)は斜視図、(2)
は断面図である。
FIG. 2 is a diagram showing an example of an electrical connection state between first and second semiconductor chips, where (1) is a perspective view and (2)
Is a sectional view.

【図3】第1、第2の半導体チップどうしの電気的な接
続状態の別の一例を示す図であり、(1)は斜視図、
(2)は断面図である。
FIG. 3 is a diagram showing another example of an electrical connection state between the first and second semiconductor chips, (1) is a perspective view,
(2) is a sectional view.

【図4】第1、第2の半導体チップどうしの電気的な接
続状態の別の一例を示す図であり、(1)は斜視図、
(2)は断面図である。
FIG. 4 is a diagram showing another example of an electrical connection state between the first and second semiconductor chips, (1) is a perspective view,
(2) is a sectional view.

【図5】半導体チップどうしの接着方法の一例を示す断
面図である。
FIG. 5 is a cross-sectional view illustrating an example of a method of bonding semiconductor chips.

【図6】本発明の第2のマルチチップ半導体装置に係る
第1〜第2の実施の形態を示す図であり、(1)、
(2)は斜視図である。
FIG. 6 is a diagram showing first and second embodiments of the second multi-chip semiconductor device of the present invention, wherein (1),
(2) is a perspective view.

【図7】本発明の第2のマルチチップ半導体装置に係る
第3〜第4の実施の形態を示す図であり、(1)、
(2)は斜視図である。
FIGS. 7A and 7B are diagrams showing third and fourth embodiments according to the second multi-chip semiconductor device of the present invention, wherein FIGS.
(2) is a perspective view.

【図8】本発明の第3のマルチチップ半導体装置に係る
実施の形態を示す斜視図である。
FIG. 8 is a perspective view showing an embodiment according to a third multi-chip semiconductor device of the present invention.

【図9】本発明の第3のマルチチップ半導体装置に係る
実施の形態を示す斜視図である。
FIG. 9 is a perspective view showing an embodiment according to a third multi-chip semiconductor device of the present invention.

【図10】本発明の第3のマルチチップ半導体装置と第
4のマルチチップ半導体装置とを組み合わせた構成のマ
ルチチップ半導体装置に係る実施の形態を示す斜視図で
ある。
FIG. 10 is a perspective view showing an embodiment of a multichip semiconductor device having a configuration in which a third multichip semiconductor device and a fourth multichip semiconductor device of the present invention are combined.

【図11】本発明の第3のマルチチップ半導体装置と第
4のマルチチップ半導体装置とを組み合わせた構成のマ
ルチチップ半導体装置に係る別の実施の形態を示す斜視
図である。
FIG. 11 is a perspective view showing another embodiment of a multi-chip semiconductor device having a configuration in which a third multi-chip semiconductor device and a fourth multi-chip semiconductor device of the present invention are combined.

【図12】各実施の形態における半導体チップどうしの
接続構造の別の一例を示す斜視図である。
FIG. 12 is a perspective view showing another example of a connection structure between semiconductor chips in each embodiment.

【図13】従来のマルチチップ半導体装置を示す斜視図
である。
FIG. 13 is a perspective view showing a conventional multi-chip semiconductor device.

【図14】従来のマルチチップ半導体装置を示す斜視図
である。
FIG. 14 is a perspective view showing a conventional multi-chip semiconductor device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…マルチチップ半導体装置、11…第1の半導体チッ
プ、21…第2の半導体チップ
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Multi chip semiconductor device, 11 ... 1st semiconductor chip, 21 ... 2nd semiconductor chip

Claims (11)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 回路が形成された複数の半導体チップを
備え、 前記複数の半導体チップは立体的に組立てられ、 前記複数の半導体チップの少なくとも一組の半導体チッ
プは複数の接点で電気的に接続されていることを特徴と
するマルチチップ半導体装置。
1. A semiconductor device comprising: a plurality of semiconductor chips on which circuits are formed; wherein the plurality of semiconductor chips are three-dimensionally assembled; and at least one set of the plurality of semiconductor chips is electrically connected by a plurality of contacts. A multi-chip semiconductor device characterized by being performed.
【請求項2】 回路が形成された第1の半導体チップ
と、 前記第1の半導体チップに対してほぼ垂直に設けられた
もので回路が形成された第2の半導体チップとを備え、 前記第1の半導体チップと前記第2の半導体チップとは
複数の接点で電気的に接続されていることを特徴とする
マルチチップ半導体装置。
2. A semiconductor device comprising: a first semiconductor chip having a circuit formed thereon; and a second semiconductor chip having a circuit formed substantially perpendicular to the first semiconductor chip and having a circuit formed therein. A multi-chip semiconductor device, wherein one semiconductor chip and the second semiconductor chip are electrically connected by a plurality of contacts.
【請求項3】 前記第2の半導体チップはその一部が前
記第1の半導体チップに形成された溝の内部に組み入れ
られていることを特徴とする請求項2記載のマルチチッ
プ半導体装置。
3. The multi-chip semiconductor device according to claim 2, wherein a part of said second semiconductor chip is incorporated in a groove formed in said first semiconductor chip.
【請求項4】 前記第1の半導体チップと前記第2の半
導体チップとの電気的接点は前記第1の半導体チップに
形成されている溝の内部に設けられていることを特徴と
する請求項3記載のマルチチップ半導体装置。
4. The semiconductor device according to claim 1, wherein an electrical contact between said first semiconductor chip and said second semiconductor chip is provided inside a groove formed in said first semiconductor chip. 4. The multi-chip semiconductor device according to 3.
【請求項5】 前記第1の半導体チップと前記第2の半
導体チップとの電気的接点は前記第1の半導体チップの
表面に設けられていることを特徴とする請求項2記載の
マルチチップ半導体装置。
5. The multi-chip semiconductor according to claim 2, wherein an electrical contact between said first semiconductor chip and said second semiconductor chip is provided on a surface of said first semiconductor chip. apparatus.
【請求項6】 前記第1の半導体チップと前記第2の半
導体チップとの電気的接点は前記第1の半導体チップの
表面に設けられていることを特徴とする請求項3記載の
マルチチップ半導体装置。
6. The multi-chip semiconductor according to claim 3, wherein an electrical contact between said first semiconductor chip and said second semiconductor chip is provided on a surface of said first semiconductor chip. apparatus.
【請求項7】 回路が形成された第1の半導体チップ
と、 前記第1の半導体チップに対してほぼ垂直に設けられた
もので回路が形成された複数の第2の半導体チップとを
備え、 前記第1の半導体チップと前記第2の半導体チップのう
ち、少なくとも一つの半導体チップとは複数の接点で電
気的に接続されていることを特徴とするマルチチップ半
導体装置。
7. A semiconductor chip comprising: a first semiconductor chip on which a circuit is formed; and a plurality of second semiconductor chips provided substantially perpendicular to the first semiconductor chip and having a circuit formed thereon, A multi-chip semiconductor device, wherein at least one of the first semiconductor chip and the second semiconductor chip is electrically connected by a plurality of contacts.
【請求項8】 前記第2の半導体チップのうち、少なく
とも一組の第2の半導体チップは接続され、 前記接続された組の第2の半導体チップどうしは複数の
接点で電気的に接続されていることを特徴とする請求項
7記載のマルチチップ半導体装置。
8. At least one set of second semiconductor chips among the second semiconductor chips is connected, and the connected sets of second semiconductor chips are electrically connected to each other through a plurality of contacts. The multi-chip semiconductor device according to claim 7, wherein:
【請求項9】 前記接続されている第2の半導体チップ
どうしのうち、一方の第2の半導体チップに溝が形成さ
れ、他方の第2の半導体チップは前記溝に挿入されて組
立てられていることを特徴とする請求項7記載のマルチ
チップ半導体装置。
9. A groove is formed in one of the connected second semiconductor chips, and the other second semiconductor chip is assembled by being inserted into the groove. The multi-chip semiconductor device according to claim 7, wherein:
【請求項10】 回路が形成された第1の半導体チップ
と、 前記第1の半導体チップに対してほぼ垂直に設けられた
もので回路が形成された複数の第2の半導体チップと、 回路が形成されたもので前記第2の半導体チップ上に設
けられた第3の半導体チップとを備え、 前記第1の半導体チップと前記各第2の半導体チップの
うち、少なくとも一つの半導体チップとは複数の接点で
電気的に接続されていて、 前記各第2の半導体チップのうち少なくとも一つの半導
体チップと前記第3の半導体チップとは複数の接点で電
気的に接続されていることを特徴とするマルチチップ半
導体装置。
10. A first semiconductor chip on which a circuit is formed, a plurality of second semiconductor chips provided substantially perpendicular to the first semiconductor chip and having a circuit formed thereon, A third semiconductor chip formed on the second semiconductor chip, wherein at least one of the first semiconductor chip and the second semiconductor chip has a plurality of semiconductor chips. And at least one of the second semiconductor chips and the third semiconductor chip are electrically connected by a plurality of contacts. Multi-chip semiconductor device.
【請求項11】 回路が形成された第1の半導体チップ
と、 前記第1の半導体チップの表面側に対してほぼ垂直に設
けられたもので回路が形成された第2の半導体チップ
と、 前記第1の半導体チップの裏面側上に対してほぼ垂直に
設けられたもので回路が形成された第3の半導体チップ
とを備え、前記第1の半導体チップと前記第2の半導体
チップとは複数の接点で電気的に接続されていて、 前記第2の半導体チップと前記第3の半導体チップとは
複数の接点で電気的に接続されていることを特徴とする
マルチチップ半導体装置。
11. A first semiconductor chip on which a circuit is formed, a second semiconductor chip on which a circuit is formed substantially perpendicular to a surface side of the first semiconductor chip, and A third semiconductor chip provided with a circuit substantially perpendicular to the upper surface of the back surface of the first semiconductor chip and having a circuit formed therein, wherein the first semiconductor chip and the second semiconductor chip are provided in plural; Wherein the second semiconductor chip and the third semiconductor chip are electrically connected by a plurality of contacts.
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