JP2002075217A - Plasma display member, plasma display and its manufacturing method - Google Patents

Plasma display member, plasma display and its manufacturing method

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JP2002075217A
JP2002075217A JP2000252137A JP2000252137A JP2002075217A JP 2002075217 A JP2002075217 A JP 2002075217A JP 2000252137 A JP2000252137 A JP 2000252137A JP 2000252137 A JP2000252137 A JP 2000252137A JP 2002075217 A JP2002075217 A JP 2002075217A
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plasma display
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electrodes
sealing
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健太郎 奥山
Hitoshi Nobumasa
均 信正
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a plasma display that has high luminance and is stable in display action and its manufacturing method. SOLUTION: This manufacturing method of a plasma display has a process in which a sealing frit is applied and fired on a plasma display member which has a residual carbon content of 15 at % or less on the fluorescent layer surface after formation of plasma display and a member which has formed a fluorescent layer by applying and firing a fluorescent substance paste and/or a member which has formed plural electrodes for discharging, and then both members are sealed, and a process in which vacuum exhausting is made and a gas for discharging is sealed. After the fluorescent substance layer is formed on the members, ultraviolet rays are applied on the fluorescent layer in the atmosphere containing oxygen.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、プラズマディスプ
レイ用部材およびプラズマディスプレイならびにその製
造方法に関する。
The present invention relates to a member for a plasma display, a plasma display, and a method of manufacturing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】プラズマディスプレイは、放電のための
複数の電極を形成した部材と蛍光体層を形成した部材と
の間に設けられた放電空間内で、放電のための電極間に
プラズマ放電を生じさせ、放電空間内に封入されたガス
から発生した紫外線を、放電空間内に設けた蛍光体に照
射させることにより表示が行われる。AC型のプラズマ
ディスプレイでは、放電時のイオン衝撃から電極や誘電
体層を保護する目的で、放電のための複数の電極を形成
した部材上にMgO(酸化マグネシウム)膜が形成され
る場合が多い。また、MgOは2次電子放出係数の高い
金属酸化物であり、これを用いることによりプラズマデ
ィスプレイの放電開始電圧が下がることから駆動が容易
となる利点もある。
2. Description of the Related Art In a plasma display, a plasma discharge is generated between electrodes for discharge in a discharge space provided between a member on which a plurality of electrodes for discharge are formed and a member on which a phosphor layer is formed. The display is performed by irradiating the fluorescent material provided in the discharge space with ultraviolet rays generated from the gas sealed in the discharge space. In an AC type plasma display, an MgO (magnesium oxide) film is often formed on a member on which a plurality of electrodes for discharge are formed in order to protect the electrodes and the dielectric layer from ion bombardment during discharge. . In addition, MgO is a metal oxide having a high secondary electron emission coefficient, and the use of MgO also has an advantage that the discharge starting voltage of the plasma display is reduced, so that driving is easy.

【0003】プラズマディスプレイにおいて、MgO膜
表面や蛍光体層表面は放電空間に接していることから、
これらの表面状態はプラズマディスプレイの放電特性や
発光特性に大きな影響を及ぼす。MgO膜の表面状態
は、表示の安定化、駆動性、長寿命などの上で重要な因
子であり、蛍光体層表面は輝度特性に敏感である。
In a plasma display, since the surface of an MgO film or the surface of a phosphor layer is in contact with a discharge space,
These surface conditions greatly affect the discharge characteristics and light emission characteristics of the plasma display. The surface state of the MgO film is an important factor in stabilizing the display, drivability, long life, and the like, and the phosphor layer surface is sensitive to luminance characteristics.

【0004】MgOはH2O、CO2などの大気成分の影
響を受けやすく、MgO表面にはMg(OH)2、Mg
CO3などが形成されやすい。MgO膜表面にMg(O
H)2やMgCO3が形成されると、放電電圧が上昇する
といった問題が生じやすい。
MgO is susceptible to atmospheric components such as H 2 O and CO 2, and Mg (OH) 2 , Mg
CO 3 and the like are easily formed. Mg (O)
When H) 2 and MgCO 3 are formed, it is likely to occur a problem discharge voltage increases.

【0005】蛍光体層は、蛍光体粉末と樹脂成分を含有
した蛍光体ペーストを、スクリーン印刷法などにより塗
布後、通常500℃程度で焼成して形成される。焼成温
度が高すぎると蛍光体粉末の劣化(輝度低下)が生じや
すく、低すぎると焼成残さが残りやすいといった問題が
生じやすい。
[0005] The phosphor layer is formed by applying a phosphor paste containing a phosphor powder and a resin component by a screen printing method or the like, and then baking it at about 500 ° C. If the firing temperature is too high, the phosphor powder tends to deteriorate (decrease in luminance), while if it is too low, the problem that the firing residue tends to remain tends to occur.

【0006】従来、プラズマディスプレイの製造方法と
しては、あらかじめ作製した放電のための複数の電極を
形成した部材と蛍光体層を形成した部材を封着フリット
で封着し、350℃程度に加熱しながら封着した該部材
の内部、すなわち放電空間内部の真空排気を行い、放電
ガスを封入する方法がある。加熱しながら真空排気を行
う目的は、放電空間内部の残留ガスの排出だけでなく、
MgO膜表面のMg(OH)2やMgCO3をMgOに改
質することにある。
Conventionally, as a method of manufacturing a plasma display, a member formed with a plurality of electrodes for discharge and a member formed with a phosphor layer, which have been prepared in advance, are sealed with a sealing frit and heated to about 350 ° C. There is a method in which the inside of the sealed member, that is, the inside of the discharge space is evacuated to fill the discharge gas. The purpose of evacuating while heating is not only to discharge residual gas inside the discharge space,
The Mg (OH) 2 and MgCO 3 MgO layer surface is to modify the MgO.

【0007】このような加熱しながら真空排気を行うだ
けでは、MgO膜表面状態の改質が難しいので、特開2
000−76989号公報にはMgO膜などの保護層に
紫外線を照射し、表面改質を行う手法が、また、特開2
000−57939号公報には同じく保護層にプラズマ
処理する手法が開示されている。
[0007] It is difficult to modify the surface state of the MgO film only by evacuating while heating as described above.
JP-A-000-67989 discloses a method of irradiating a protective layer such as an MgO film with ultraviolet rays to perform surface modification.
Japanese Patent Application Laid-Open No. 000-57939 also discloses a method of plasma-treating a protective layer.

【0008】しかし、これらの手法だけでは、表示動作
の信頼性という点で十分とは言えなかった。
However, these techniques alone have not been sufficient in terms of the reliability of the display operation.

【0009】[0009]

【発明が解決しようとする課題】本発明者等は蛍光体層
表面に残存する炭素成分の低減が重要であると考えた。
つまり、従来の製造方法によれば、蛍光体粉末と樹脂成
分を含有した蛍光体ペーストをスクリーン印刷法などに
よりセルを仕切るための隔壁間に塗布後、通常500℃
程度に加熱し焼成する。蛍光体層を焼成する工程では、
樹脂成分を分解・燃焼、ガス化し除去しているが、焼成
温度が低すぎると樹脂成分が除去されずにその炭素成分
が残りやすい。焼成温度を高くしても蛍光体層の最表面
に存在する炭素成分の完全な除去は難しいだけでなく、
蛍光体粉末が劣化し、輝度低下や色度変化が起こるとい
った問題も生じやすいことを見出した。
The present inventors have considered that it is important to reduce the carbon component remaining on the phosphor layer surface.
That is, according to the conventional manufacturing method, the phosphor paste containing the phosphor powder and the resin component is applied between the partition walls for partitioning the cells by a screen printing method or the like, and then usually at 500 ° C.
Heat to a degree and bake. In the step of firing the phosphor layer,
Although the resin component is decomposed, burned and gasified and removed, if the firing temperature is too low, the carbon component is likely to remain without removing the resin component. Even if the firing temperature is increased, not only is it difficult to completely remove the carbon component present on the outermost surface of the phosphor layer, but also
It has been found that problems such as deterioration of the phosphor powder and reduction in luminance and chromaticity change are likely to occur.

【0010】蛍光体層形成後、低軟化点ガラスフリット
と樹脂成分を混合した封着ペーストを蛍光体層が形成さ
れた部材、および放電のための複数の電極を形成した部
材の少なくとも一方の部材にスクリーン印刷法やディス
ペンサー法などで塗布する。その後、封着ペーストが塗
布された部材を加熱し、封着ペースト中の樹脂成分を除
去する焼成工程を行う。焼成された封着ペーストが形成
された部材と、それと対になる部材を重ねて再び加熱
し、蛍光体層を形成した部材と放電のための複数の電極
を形成した部材を貼り合わせる封着工程を行う。
[0010] After the phosphor layer is formed, at least one of a member on which the phosphor layer is formed and a member on which a plurality of electrodes for discharge are formed is formed of a sealing paste obtained by mixing a low softening point glass frit and a resin component. Is applied by a screen printing method or a dispenser method. Thereafter, a baking step of heating the member to which the sealing paste has been applied and removing the resin component in the sealing paste is performed. A sealing step in which the member on which the fired sealing paste is formed and the member to be paired with each other are stacked and heated again, and the member on which the phosphor layer is formed and the member on which a plurality of electrodes for discharge are formed are bonded. I do.

【0011】最後に、封着した該部材内部を350℃程
度に加熱しながら真空排気を行う加熱排気工程を行い、
放電ガスを封入し、プラズマディスプレイを完成する。
Finally, a heating and exhausting step of evacuating while sealing the inside of the member to about 350 ° C. is performed.
The discharge gas is sealed to complete the plasma display.

【0012】封着ペーストの焼成工程では、蛍光体層の
焼成工程と同じく封着ペースト中の樹脂成分を分解・燃
焼、ガス化し除去しているが、ガス化した炭素成分が加
熱炉の雰囲気中に残存し、封着ペーストの焼成工程にお
ける降温時に、その残存したガス成分が蛍光体層の表面
に付着していた。
In the baking step of the sealing paste, the resin component in the sealing paste is decomposed, burned, and gasified and removed as in the baking step of the phosphor layer. And the remaining gas components adhered to the surface of the phosphor layer when the temperature of the sealing paste was lowered in the firing step.

【0013】封着ペーストの焼成工程で蛍光体層の表面
に付着した炭素成分は、その後の封着工程や加熱排気工
程では、除去されずに蛍光体層表面に残存する。残存し
た炭素成分はプラズマ放電で発生した紫外線を吸収して
しまうので、蛍光体自体に入射する紫外線量が低減し、
輝度低下を生じる。また、放電のための複数の電極を形
成した部材と蛍光体層を形成した部材間でのリセット放
電により発生した電子や希ガスの荷電粒子が、蛍光体層
に衝突するので、蛍光体層表面に残存した炭素成分は徐
々に放電空間に飛び出すと考えられる。放電空間に飛び
出した炭素成分は、プラズマディスプレイの点灯、すな
わち放電中には放電のエネルギーによりイオン化され、
さらに駆動電圧で加速され前面板のMgO膜に衝突し、
MgO膜表面にMgCO3などの変質層を形成しやす
い。また、プラズマディスプレイの非点灯中、すなわち
放電を行っていない時は、これらの炭素成分はMgO膜
表面に吸着すると考えられる。
The carbon component attached to the surface of the phosphor layer in the baking step of the sealing paste remains on the surface of the phosphor layer without being removed in the subsequent sealing step or heating and exhausting step. Since the remaining carbon component absorbs the ultraviolet light generated by the plasma discharge, the amount of ultraviolet light incident on the phosphor itself is reduced,
This causes a decrease in brightness. In addition, charged particles of electrons and rare gases generated by reset discharge between a member having a plurality of electrodes for discharge and a member having a phosphor layer collide with the phosphor layer, so that the surface of the phosphor layer It is considered that the carbon component remaining in the gas gradually jumps into the discharge space. The carbon component that has jumped into the discharge space is ionized by the energy of the discharge during lighting of the plasma display, that is, during discharge,
Furthermore, it is accelerated by the driving voltage and collides with the MgO film on the front panel,
An altered layer such as MgCO 3 is easily formed on the surface of the MgO film. Further, it is considered that these carbon components are adsorbed on the MgO film surface when the plasma display is not lit, that is, when no discharge is performed.

【0014】このようにMgO膜表面に変質層を形成し
たり、放電ガス以外のガス成分が吸着すると、放電電圧
が上昇してしまうので安定した表示動作は行えなくな
る。
If a deteriorated layer is formed on the surface of the MgO film or a gas component other than the discharge gas is adsorbed, the discharge voltage increases, so that stable display operation cannot be performed.

【0015】そこで本発明は、従来の技術における上述
した新たな課題に鑑みてなされたもので、その目的とす
るところは、表面の残存炭素成分が少ない蛍光体層を形
成することで、高輝度で表示動作が安定なプラズマディ
スプレイおよびその製造方法を提供することにある。
The present invention has been made in view of the above-mentioned new problems in the prior art, and an object of the present invention is to form a phosphor layer having a small amount of residual carbon component on the surface, thereby achieving high luminance. And to provide a plasma display having a stable display operation and a method of manufacturing the same.

【0016】[0016]

【課題を解決するための手段】すなわち本発明は、蛍光
体層を有するプラズマディスプレイ用部材であって、プ
ラズマディスプレイ形成後の蛍光体層表面の残存炭素成
分が15at%以下であることを特徴とするプラズマデ
ィスプレイ用部材である。
That is, the present invention provides a member for a plasma display having a phosphor layer, wherein the residual carbon component on the surface of the phosphor layer after the plasma display is formed is 15 at% or less. For a plasma display.

【0017】また、本発明は、上記プラズマディスプレ
イ用部材を用いたことを特徴とするプラズマディスプレ
イである。
Further, the present invention is a plasma display using the above-mentioned member for a plasma display.

【0018】さらに、本発明は、蛍光体層を形成した部
材および/または放電のための複数の電極を形成した部
材に封着フリットを塗布・焼成した後、蛍光体層を形成
した部材と放電のための複数の電極を形成した部材を封
着する工程、および封着した蛍光体層を形成した部材と
放電のための複数の電極を形成した部材内を真空排気し
放電のためのガスを封入する工程を有するプラズマディ
スプレイの製造方法であって、部材に蛍光体層を形成し
た後に酸素を含む雰囲気下で蛍光体層に紫外線を照射す
ることを特徴とするプラズマディスプレイの製造方法で
ある。
Further, according to the present invention, after the sealing frit is applied to the member on which the phosphor layer is formed and / or the member on which a plurality of electrodes for discharge are formed and fired, the member on which the phosphor layer is formed is discharged. A step of sealing a member having a plurality of electrodes formed thereon, and a member for forming a sealed phosphor layer and a member having a plurality of electrodes formed for discharge are evacuated to discharge gas for discharge. What is claimed is: 1. A method for manufacturing a plasma display, comprising a step of encapsulating, wherein a phosphor layer is formed on a member, and then the phosphor layer is irradiated with ultraviolet rays in an atmosphere containing oxygen.

【0019】また、本発明のプラズマディスプレイの製
造方法は、紫外線を照射する雰囲気が、外囲器内を真空
排気した後所定の不純物濃度以下の酸素を含むガスを導
入したものであって、蛍光体層を形成した部材に封着フ
リットを塗布・焼成し、該雰囲気下で蛍光体層に紫外線
を照射した後、該雰囲気を大気開放せずに蛍光体層を形
成した部材と放電のための複数の電極を形成した部材を
封着する工程、および封着した蛍光体層を形成した部材
と放電のための複数の電極を形成した部材内を真空排気
し放電のためのガスを封入する工程を行うことを特徴と
する。
Further, in the method of manufacturing a plasma display according to the present invention, the atmosphere for irradiating the ultraviolet rays may be a vacuum-evacuated atmosphere inside the envelope and then introducing a gas containing oxygen having a predetermined impurity concentration or less. After applying and baking a sealing frit to the member on which the body layer is formed, and irradiating the phosphor layer with ultraviolet rays under the atmosphere, the member on which the phosphor layer is formed and discharge for discharging without releasing the atmosphere to the atmosphere. A step of sealing the member on which the plurality of electrodes are formed, and a step of evacuating the member on which the sealed phosphor layer is formed and the member on which the plurality of electrodes are formed for discharging and filling a gas for discharging; Is performed.

【0020】[0020]

【発明の実施の形態】以下に、本発明の好ましい実施の
形態を説明する。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Preferred embodiments of the present invention will be described below.

【0021】本発明のプラズマディスプレイ用部材は、
プラズマディスプレイ形成後の蛍光体層表面の残存炭素
成分が15at%以下であることが必要である。15a
t%以下であれば、放電により発生した紫外線が表面の
残存炭素成分で吸収され蛍光体自体に入射する紫外線量
が低下せず、最終的に高輝度なプラズマディスプレイを
作製できるためである。また、放電のための複数の電極
を形成した部材と蛍光体層を形成した部材間でのリセッ
ト放電により、蛍光体層表面から放電空間にスパッタリ
ング、または脱離する炭素成分量も少なくなるので、前
述したMgO膜表面の変質層形成や、非放電時における
放電ガス以外のMgO膜表面へのガス吸着が起こりにく
い。したがって、プラズマディスプレイの表示動作が安
定に行える。より好ましくは、8at%以下である。
The member for a plasma display of the present invention comprises:
It is necessary that the residual carbon component on the phosphor layer surface after the plasma display is formed is 15 at% or less. 15a
When the content is not more than t%, the ultraviolet ray generated by the discharge is absorbed by the residual carbon component on the surface, and the amount of the ultraviolet ray incident on the phosphor itself does not decrease, so that a plasma display with high brightness can be finally manufactured. In addition, the reset discharge between the member on which the plurality of electrodes are formed for discharge and the member on which the phosphor layer is formed reduces the amount of carbon components sputtered or desorbed from the phosphor layer surface into the discharge space. The formation of the altered layer on the surface of the MgO film and the adsorption of gas to the surface of the MgO film other than the discharge gas during non-discharge are less likely to occur. Therefore, the display operation of the plasma display can be stably performed. More preferably, it is 8 at% or less.

【0022】一方、蛍光体層表面の残存炭素成分が15
at%よりも多い場合、放電により発生した紫外線がこ
の残存炭素成分で吸収されてしまうので、蛍光体自体に
入射する紫外線量が減少するので、輝度の低下が顕著と
なる。さらに、リセット放電により放電空間にスパッタ
リング、または脱離する炭素成分も多いので、MgO膜
表面に変質層を形成したり、非放電時に炭素成分がMg
O膜表面にガス吸着しやすい。したがって、プラズマデ
ィスプレイの表示動作が安定に行えないといった問題が
生じる。
On the other hand, when the residual carbon component on the phosphor layer surface is 15
When the content is more than at%, the ultraviolet ray generated by the discharge is absorbed by the residual carbon component, so that the amount of the ultraviolet ray incident on the phosphor itself is reduced, so that the luminance is significantly reduced. Furthermore, since many carbon components are sputtered or desorbed into the discharge space by the reset discharge, an altered layer is formed on the surface of the MgO film,
Gas is easily adsorbed on the O film surface. Therefore, there is a problem that the display operation of the plasma display cannot be performed stably.

【0023】次に、本発明のプラズマディスプレイの製
造方法を順に沿って説明する。図1に、以下の工程を用
いて作製したプラズマディスプレイパネルの概略断面図
を示す。便宜上、放電のための複数の電極を形成した部
材を前面板、蛍光体層を形成した部材を背面板と部分的
に表記したが、表記の違いだけで意味するところは異な
るところがない。
Next, a method of manufacturing a plasma display according to the present invention will be described in order. FIG. 1 shows a schematic cross-sectional view of a plasma display panel manufactured using the following steps. For convenience, a member having a plurality of electrodes for discharge is partially described as a front plate, and a member having a phosphor layer is partially described as a rear plate.

【0024】(部材作製工程)まず、部材作製工程に関
し、前面板1の作製方法について述べる。
(Member Production Step) First, regarding the member production step, a method for producing the front plate 1 will be described.

【0025】前面板1に用いるガラス基板については、
特に限定しないが、一般的にはソーダライムガラスやソ
ーダライムガラスをアニール処理したガラス、または、
高歪み点ガラス(例えば、旭硝子社製“PD−20
0”)等を用いることができる。ガラス基板のサイズは
特に限定はなく、厚みは1〜5mmのものを用いること
ができる。
With respect to the glass substrate used for the front plate 1,
Although not particularly limited, generally, soda lime glass or glass obtained by annealing soda lime glass, or
High strain point glass (for example, Asahi Glass “PD-20”
0 ") etc. The size of the glass substrate is not particularly limited, and a glass substrate having a thickness of 1 to 5 mm can be used.

【0026】まず、ガラス基板上に、放電のための複数
の電極を形成する。電極形成法としては、例えば、酸化
錫、ITOなどの透明電極をリフトオフ法、フォトエッ
チング法などによって、銀やアルミ、銅、金、ニッケル
等をスクリーン印刷や感光性導電ペーストを用いたフォ
トリソグラフィー法によってパターン形成してもよい。
また、より低抵抗な電極を形成する目的で透明電極の上
にバス電極を形成してもよい。ここで、放電のための複
数の電極を形成したガラス基板上に、透明誘電体層をス
クリーン印刷法などにより形成することもできる。その
場合の透明誘電体材料は特に限定されないが、PbO、
23、SiO2を含有する誘電体材料が適用される。
First, a plurality of electrodes for discharging are formed on a glass substrate. As the electrode forming method, for example, a transparent electrode such as tin oxide or ITO is screen-printed with silver, aluminum, copper, gold, nickel, or the like by a lift-off method, a photo-etching method, or a photolithography method using a photosensitive conductive paste. May be used to form a pattern.
Further, a bus electrode may be formed on the transparent electrode for the purpose of forming a lower resistance electrode. Here, a transparent dielectric layer may be formed by a screen printing method or the like on a glass substrate on which a plurality of electrodes for discharge are formed. Although the transparent dielectric material in that case is not particularly limited, PbO,
A dielectric material containing B 2 O 3 and SiO 2 is applied.

【0027】放電のための複数の電極を形成したガラス
基板上に、放電によるイオン衝撃からの保護を目的とし
てMgO膜を形成することも好ましい。形成手法は、電
子ビーム蒸着法、プラズマ蒸着法、イオンビームアシス
ト蒸着法、Mgターゲットの反応性スパッタ法、イオン
ビームスパッタ法、CVD法などが適用できる。
It is also preferable to form an MgO film on a glass substrate on which a plurality of electrodes for discharge are formed for the purpose of protecting against ion bombardment due to discharge. As a forming method, an electron beam evaporation method, a plasma evaporation method, an ion beam assisted evaporation method, a reactive sputtering method of a Mg target, an ion beam sputtering method, a CVD method, or the like can be applied.

【0028】次に背面板2の作製方法について述べる。
背面板2に用いるガラス基板は、前面板1に述べたもの
と同様である。
Next, a method for manufacturing the back plate 2 will be described.
The glass substrate used for the back plate 2 is the same as that described for the front plate 1.

【0029】ガラス基板上に、スクリーン印刷や感光性
導電ペーストを用いたフォトリソグラフィー法によっ
て、銀やアルミ、銅、金、ニッケル、酸化錫、ITO等
を含むアドレス電極層をパターン形成する。さらに、放
電の安定化のためにアドレス電極層の上に誘電体層を設
けても良い。
On a glass substrate, an address electrode layer containing silver, aluminum, copper, gold, nickel, tin oxide, ITO, or the like is pattern-formed by screen printing or photolithography using a photosensitive conductive paste. Further, a dielectric layer may be provided on the address electrode layer for stabilizing discharge.

【0030】アドレス電極層を形成したガラス基板上
に、セルを仕切るための隔壁をサンドブラスト法、型転
写法、フォトリソグラフィー法等によって形成する。本
発明に使用する隔壁の材料や隔壁の形状としては特に限
定されない。
On the glass substrate on which the address electrode layer has been formed, partitions for partitioning cells are formed by a sandblast method, a mold transfer method, a photolithography method, or the like. The material of the partition used in the present invention and the shape of the partition are not particularly limited.

【0031】さらに、電極層および隔壁層を形成したガ
ラス基板上に、蛍光体粉末と樹脂を含有する蛍光体ペー
ストを用い、ディスペンサー法、スクリーン印刷法や、
さらに感光成分を添加したペーストを用いた感光性ペー
スト法等によって蛍光体層を塗布し、焼成する。蛍光体
ペーストに用いるポリマーおよび溶媒は特に限定されな
い。ポリマーとしてはポリメチルメタクリレート(PM
MA)などのアクリル系樹脂やエチルセルロース、溶媒
としてα−ターピネオール、ベンジルアルコール等であ
る。本発明に使用する蛍光体材料は特に限定されない。
例えば、赤色では、Y23:Eu、YVO4:Eu、
(Y、Gd)BO3:Eu、Y23S:Eu、γ−Zn3
(PO42:Mnがある。緑色では、Zn2GeO2:M
n、BaAl1219:Mn、Zn2SiO4:Mn、La
PO4:Tb、ZnS:Cu,Al、Zn2SiO4:M
n,As、(ZnCd)S:Cu,Al、ZnO:Zn、
YBO3:Tbなどがある。青色では、Sr5(PO4
3Cl:Eu、BaMgAl1423:Eu、BaMgA
1017:Eu、BaMg2Al1424:Eu、Zn
S:Ag+赤色顔料、Y2SiO3:Ceなどが挙げられ
る。このようにして、背面板2を作製することができ
る。
Further, a phosphor paste containing a phosphor powder and a resin is formed on a glass substrate on which an electrode layer and a partition layer are formed by a dispenser method, a screen printing method, or the like.
Further, a phosphor layer is applied by a photosensitive paste method using a paste to which a photosensitive component is added, and baked. The polymer and the solvent used for the phosphor paste are not particularly limited. Polymethyl methacrylate (PM
MA) and ethyl cellulose, and α-terpineol and benzyl alcohol as solvents. The phosphor material used in the present invention is not particularly limited.
For example, in red, Y 2 O 3 : Eu, YVO 4 : Eu,
(Y, Gd) BO 3 : Eu, Y 2 O 3 S: Eu, γ-Zn 3
(PO 4 ) 2 : Mn. In green, Zn 2 GeO 2 : M
n, BaAl 12 O 19 : Mn, Zn 2 SiO 4 : Mn, La
PO 4 : Tb, ZnS: Cu, Al, Zn 2 SiO 4 : M
n, As, (ZnCd) S: Cu, Al, ZnO: Zn,
YBO3: Tb and the like. For blue, Sr 5 (PO 4 )
3 Cl: Eu, BaMgAl 14 O 23 : Eu, BaMgA
l 10 O 17 : Eu, BaMg 2 Al 14 O 24 : Eu, Zn
S: Ag + red pigment, Y 2 SiO 3 : Ce and the like. In this way, the back plate 2 can be manufactured.

【0032】プラズマディスプレイの輝度や表示動作の
信頼性を向上するには、プラズマディスプレイ形成後の
蛍光体層表面に残存する炭素成分が少ない蛍光体層を形
成することが重要である。そのためには、蛍光体粉末と
樹脂成分を含有する蛍光体ペーストを塗布・焼成後に酸
素を含む雰囲気下で蛍光体層に紫外線を照射することが
必要である。
In order to improve the brightness of the plasma display and the reliability of the display operation, it is important to form a phosphor layer with a small amount of carbon component remaining on the phosphor layer surface after the plasma display is formed. For this purpose, it is necessary to apply a phosphor paste containing a phosphor powder and a resin component, and then irradiate the phosphor layer with ultraviolet rays in an atmosphere containing oxygen after firing.

【0033】図2に示したように酸素を含む雰囲気下で
蛍光体層に紫外線を照射することで、焼成において除去
できなかった残存炭素成分を除去できる。すなわち、紫
外線により雰囲気中に存在する酸素O2はオゾンO3とな
る。発生したオゾンO3は、酸素O2と励起酸素原子Oに
分解する。励起された酸素原子は非常に酸化力が強いの
で、蛍光体層表面の残存炭素成分を酸化し、COやCO
2などにガス化し脱離することができる。酸素を含む雰
囲気下とは、酸素単体ガスだけでなく、ネオン、アルゴ
ンなどの希ガスや窒素などの紫外線に対して安定なガス
と酸素との混合ガス、および大気も指す。紫外線の発生
方法は特に限定されないが、水銀ランプ、Xeランプ、
重水素ランプや、誘電体バリア放電エキシマランプなど
を使用することができる。
As shown in FIG. 2, by irradiating the phosphor layer with ultraviolet rays in an atmosphere containing oxygen, the residual carbon components that could not be removed during firing can be removed. That is, the oxygen O 2 present in the atmosphere due to the ultraviolet rays becomes ozone O 3 . The generated ozone O 3 is decomposed into oxygen O 2 and excited oxygen atoms O. Since the excited oxygen atoms have a very strong oxidizing power, they oxidize the residual carbon component on the phosphor layer surface, and cause CO or CO
It can be degassed into 2 and so on. The atmosphere containing oxygen refers to not only a simple oxygen gas but also a mixed gas of oxygen and a rare gas such as neon or argon, or a gas stable against ultraviolet rays such as nitrogen. The method of generating ultraviolet light is not particularly limited, but a mercury lamp, a Xe lamp,
A deuterium lamp, a dielectric barrier discharge excimer lamp, or the like can be used.

【0034】酸素を含む雰囲気下で蛍光体層に紫外線を
照射することで、表面に残存した炭素成分が少ない蛍光
体層を形成できるので、前述したように放電により発生
した紫外線が蛍光体表面の残存成分で吸収されず、高輝
度なプラズマディスプレイを作製できる。また、前面板
電極と背面板電極間でのリセット放電により、蛍光体層
表面から放電空間にスパッタリング、または脱離する炭
素成分も少なくなるので、MgO膜表面の変質層形成
や、非放電時における放電ガス以外のMgO膜表面への
ガス吸着が起こりにくい。したがって、プラズマディス
プレイの表示動作が安定に行える。
By irradiating the phosphor layer with ultraviolet rays in an atmosphere containing oxygen, a phosphor layer having a small amount of carbon component remaining on the surface can be formed. A high-luminance plasma display that is not absorbed by the remaining components can be manufactured. In addition, the reset discharge between the front plate electrode and the back plate electrode reduces the amount of carbon components sputtered or desorbed from the phosphor layer surface into the discharge space. Gas adsorption to the surface of the MgO film other than the discharge gas hardly occurs. Therefore, the display operation of the plasma display can be stably performed.

【0035】蛍光体層に紫外線を照射しなかった場合、
蛍光体層形成時の焼成では、表面の炭素成分は完全には
除去できないので、プラズマディスプレイ形成後の蛍光
体層表面には炭素成分が残存し、輝度低下や放電電圧の
上昇、すなわち表示動作が安定しないといった問題が生
じやすい。
When the phosphor layer was not irradiated with ultraviolet rays,
Since the carbon component on the surface cannot be completely removed by firing at the time of forming the phosphor layer, the carbon component remains on the phosphor layer surface after the plasma display is formed, and the brightness decreases and the discharge voltage increases, that is, the display operation is not performed. Problems such as instability tend to occur.

【0036】本発明のプラズマディスプレイの製造方法
は蛍光体層表面の残存成分の低減に関するので、172
nm付近で最大ピークを持つ紫外線を照射することが好
ましい。172nm付近で最大ピークを持つ紫外線を照
射することで、効率よく励起酸素原子を生成でき、さら
に残存している炭素成分の結合を紫外線で直接的に切断
できるので、効率よく蛍光体層表面の残存炭素成分を除
去できる。172nm付近で最大ピークを持つ紫外線を
照射するには、Xeガスを封入した誘電体バリア放電エ
キシマランプ(例えば、ウシオ電機株式会社製UER2
0−172)を用いることができる。172nm付近で
最大ピークを持つ紫外線を照射しなかった場合、励起酸
素原子の生成量が少ないので、蛍光体層表面の炭素成分
を効率よく除去しにくい傾向にある。
The method for manufacturing a plasma display of the present invention relates to the reduction of residual components on the surface of the phosphor layer.
It is preferable to irradiate an ultraviolet ray having a maximum peak near nm. By irradiating with ultraviolet light having a maximum peak at around 172 nm, excited oxygen atoms can be efficiently generated, and furthermore, the bond of the remaining carbon component can be directly cut off by ultraviolet light, so that the surface of the phosphor layer can be efficiently left. Carbon component can be removed. In order to irradiate an ultraviolet ray having a maximum peak near 172 nm, a dielectric barrier discharge excimer lamp filled with Xe gas (for example, UER2 manufactured by Ushio Inc.)
0-172) can be used. When the ultraviolet ray having the maximum peak near 172 nm is not irradiated, the amount of excited oxygen atoms is small, so that it tends to be difficult to efficiently remove the carbon component on the phosphor layer surface.

【0037】本発明において紫外線を照射する時間は特
に限定されないが、10分〜1時間程度でよい。雰囲気
の圧力や酸素濃度も特に限定されないが、焼成後の蛍光
体層表面に残存する炭素成分の量や状態により適宜調整
できる。さらに、残存炭素成分の脱離を促進するため
に、照射する基板を150℃程度に加熱してもよい。
In the present invention, the time for irradiating the ultraviolet rays is not particularly limited, but may be about 10 minutes to 1 hour. The pressure and the oxygen concentration of the atmosphere are not particularly limited, but can be appropriately adjusted depending on the amount and the state of the carbon component remaining on the phosphor layer surface after firing. Further, the substrate to be irradiated may be heated to about 150 ° C. in order to promote the desorption of the residual carbon component.

【0038】このようにして背面板2を作製することが
できる。
Thus, the back plate 2 can be manufactured.

【0039】(封着工程)前面板と背面板を封着用のガ
ラスフリットを用いて封着する工程(封着工程)につい
て述べる。
(Sealing Step) A step (sealing step) of sealing the front plate and the back plate using a glass frit for sealing will be described.

【0040】本発明に使用する封着用のガラスフリット
材料は特に限定されないが、例えば、PbO、B23
を含有する低融点ガラスとセラミックスフィラーからな
る複合系フリットや、PbO、ZnO、B23等からな
る結晶性フリットを好ましく用いることができる。各組
成については、使用するガラス基板の熱膨張係数や封着
後の工程での最高処理温度などによって適宜選択するこ
とができる。
The glass frit material for sealing used in the present invention is not particularly limited. For example, a composite frit composed of a low melting point glass containing PbO, B 2 O 3 and the like and a ceramic filler, PbO, ZnO, B A crystalline frit made of 2 O 3 or the like can be preferably used. Each composition can be appropriately selected depending on the coefficient of thermal expansion of the glass substrate to be used, the maximum processing temperature in the process after sealing, and the like.

【0041】前面板と背面板の間の所定の位置に封着用
ペーストを塗布する方法としては、封着用ガラスフリッ
トをペースト化し、背面板と前面板のどちらか一方、ま
たは双方に塗布することができる。封着用ペーストに用
いるポリマーおよび溶媒は特に限定されない。例えば、
ポリマーとしてはポリメチルメタクリレート(PMM
A)などのアクリル系樹脂、溶媒としてα−ターピネオ
ール等である。塗布方法としては、例えば、スクリーン
印刷法、ディスペンサー法などを用いることができる。
As a method of applying the sealing paste at a predetermined position between the front plate and the back plate, the sealing glass frit can be made into a paste and applied to one or both of the back plate and the front plate. The polymer and the solvent used for the sealing paste are not particularly limited. For example,
Polymethyl methacrylate (PMM)
An acrylic resin such as A) and α-terpineol as a solvent. As a coating method, for example, a screen printing method, a dispenser method, or the like can be used.

【0042】次に、塗布した封着ペースト中の樹脂や溶
媒などを除去する目的で、封着ペーストを塗布した部材
を焼成する。焼成温度、保持時間は使用する樹脂や溶媒
により適宜選択できるが、樹脂が脱バインダーする温度
で一定時間保持し、その後封着用ペーストが流動性を示
さない範囲でさらに温度を上げるのがよい。
Next, the member to which the sealing paste has been applied is fired in order to remove the resin, solvent, and the like in the applied sealing paste. The firing temperature and the holding time can be appropriately selected depending on the resin and the solvent to be used. However, it is preferable to hold the resin at a temperature at which the resin is debindered for a certain period of time, and then further raise the temperature within a range where the sealing paste does not show fluidity.

【0043】さらに、封着ペーストが塗布・焼成された
部材とそれと対になる部材を貼り合わせ、ガラスフリッ
トの軟化点以上の温度で一定時間保持することで前面板
と背面板を封着する。封着温度や保持時間は、ガラスフ
リットの材料により適宜設定することができる。
Further, the member on which the sealing paste has been applied and fired is bonded to a member to be paired with the member, and the front plate and the rear plate are sealed by maintaining the temperature at or above the softening point of the glass frit for a certain time. The sealing temperature and the holding time can be appropriately set depending on the material of the glass frit.

【0044】本発明のプラズマディスプレイの製造方法
は、蛍光体層表面の残存炭素成分の低減に関するので、
蛍光体層を形成した部材に封着フリット塗布・焼成した
後、酸素を含む雰囲気下で蛍光体層に紫外線を照射する
ことが好ましい。封着フリット塗布・焼成前に、酸素を
含む雰囲気下で蛍光体層に紫外線を照射すると、封着フ
リット塗布・焼成後に同じく紫外線を照射する場合に比
べて、蛍光体層表面に残存する炭素成分は多い傾向にあ
る。これは、封着フリット塗布・焼成を行っている間に
蛍光体層表面に炭素成分が付着しているためと考えられ
る。すなわち、封着フリットを焼成する際に、封着フリ
ットペースト中の樹脂成分が分解・燃焼しガス化したも
のが、降温時に蛍光体層表面に再付着したものと考えら
れる。
The method for manufacturing a plasma display of the present invention relates to the reduction of the residual carbon component on the phosphor layer surface.
After applying and baking the sealing frit to the member on which the phosphor layer is formed, it is preferable to irradiate the phosphor layer with ultraviolet rays in an atmosphere containing oxygen. When the phosphor layer is irradiated with ultraviolet rays in an atmosphere containing oxygen before the application and firing of the sealing frit, the carbon component remaining on the phosphor layer surface is compared with the case where the ultraviolet rays are similarly irradiated after application and firing of the sealing frit. Tend to be many. This is presumably because the carbon component adhered to the surface of the phosphor layer during the application and firing of the sealing frit. That is, when the sealing frit is fired, the resin component in the sealing frit paste is decomposed, burned, and gasified, and is considered to have reattached to the surface of the phosphor layer when the temperature was lowered.

【0045】酸素を含む雰囲気下で紫外線を照射するこ
とで残存炭素成分を除去した蛍光体層表面の汚染を防止
する目的で、次にのようにプラズマディスプレイを作製
してもよい。紫外線を照射する雰囲気が、外囲器内を真
空排気した後所定の不純物濃度以下の酸素を含むガスを
導入したものであって、蛍光体層を形成した部材に封着
フリットを塗布・焼成し、該雰囲気下で蛍光体層に紫外
線を照射した後、該雰囲気を大気開放せずに蛍光体層を
形成した部材と放電のための複数の電極を形成した部材
を封着する工程、および封着した蛍光体層を形成した部
材と放電のための複数の電極を形成した部材内を真空排
気し放電のためのガスを封入する工程を行う。図3を用
いて詳細を説明する。焼成された蛍光体層を形成した基
板を紫外線照射ゾーン内に配置し、真空排気を行い(例
えば10-3Pa以下まで)、所定の不純物濃度以下の酸
素を含むガスを導入し、該雰囲気下で紫外線を照射し蛍
光体層表面の残存炭素成分を除去する。次に大気開放せ
ずに封着ゾーンに搬送し、所定の封着工程を行い前面板
と背面板を封着する。さらに加熱排気・放電ガス封入ゾ
ーンに封着された前面板と背面板を搬送し、所定の加熱
排気・放電ガス封入工程を行い、プラズマディスプレイ
を作製する。
For the purpose of preventing contamination of the phosphor layer surface from which residual carbon components have been removed by irradiating ultraviolet rays in an atmosphere containing oxygen, a plasma display may be manufactured as follows. The atmosphere for irradiating ultraviolet rays is a gas in which oxygen containing a predetermined impurity concentration or less is introduced after evacuation of the inside of the envelope, and a sealing frit is applied and fired on the member on which the phosphor layer is formed. Irradiating the phosphor layer with ultraviolet light in the atmosphere, and then sealing the member having the phosphor layer formed thereon and the member having the plurality of electrodes formed thereon for discharge without exposing the atmosphere to the atmosphere; and A step of evacuating the inside of the member on which the attached phosphor layer is formed and the member on which a plurality of electrodes for discharge are formed and filling a gas for discharge is performed. Details will be described with reference to FIG. The fired phosphor layer-formed substrate is placed in an ultraviolet irradiation zone, evacuated (for example, to 10 −3 Pa or less), and a gas containing oxygen having a predetermined impurity concentration or less is introduced. UV light is applied to remove residual carbon components on the phosphor layer surface. Next, it is conveyed to a sealing zone without opening to the atmosphere, and a predetermined sealing step is performed to seal the front plate and the back plate. Further, the front plate and the back plate sealed in the heating exhaust / discharge gas filling zone are transported, and a predetermined heating exhaust / discharge gas filling step is performed to produce a plasma display.

【0046】酸素を含むガスとは、酸素単体ガスだけで
なく、ネオン、アルゴンなどの希ガスや窒素などの紫外
線に対して安定なガスと酸素の混合ガスを指す。所定の
不純物濃度以下とは、上記ガス以外(例えば、メタン)
の含有量が0.1%程度以下であることを言う。紫外線
照射後、大気開放を行った場合、大気中に浮遊している
有機物ガスや、基板の取り出し、運搬などにより発生す
る有機物が蛍光体層に付着するので、プラズマディスプ
レイ形成後の蛍光体層表面には炭素成分が残存してしま
い、輝度低下や放電電圧の上昇、すなわち表示動作が安
定しないといった問題が生じやすい。
The gas containing oxygen means not only a simple gas of oxygen but also a rare gas such as neon or argon, or a gas mixture of oxygen and a gas stable against ultraviolet rays such as nitrogen. Below the predetermined impurity concentration, other than the above gas (for example, methane)
Is about 0.1% or less. When exposed to the atmosphere after ultraviolet irradiation, the organic substance gas floating in the air and the organic matter generated by taking out and transporting the substrate adhere to the phosphor layer, so the surface of the phosphor layer after the plasma display is formed , A carbon component remains, which tends to cause a problem such as a decrease in luminance and an increase in discharge voltage, that is, an unstable display operation.

【0047】(真空排気・放電ガス封入工程)封着した
前面板と背面板内部を真空排気し、放電ガスを封入する
工程について説明する。封着した前面板と背面板内部を
真空排気し、10-2Pa程度まで到達したら、封着され
た前面板と背面板の加熱を始める。加熱温度は、封着フ
リットが流動性を示さない範囲であれば特に限定され
ず、前面板上にMgO膜を形成した場合では通常200
〜380℃程度がよい。また、保持時間も特に限定され
ず、大型のプラズマディスプレイになれば保持時間は長
くなるが、42インチ程度のプラズマディスプレイでも
10時間以下程度である。
(Vacuum Evacuation / Discharge Gas Enclosing Step) The step of evacuating the inside of the sealed front plate and back plate to fill the discharge gas will be described. The insides of the sealed front plate and back plate are evacuated, and when the pressure reaches about 10 -2 Pa, heating of the sealed front plate and back plate is started. The heating temperature is not particularly limited as long as the sealing frit does not show fluidity, and is usually 200 when a MgO film is formed on the front plate.
~ 380 ° C is preferable. In addition, the holding time is not particularly limited, and the holding time becomes longer when a large-sized plasma display is used, but is about 10 hours or less for a plasma display of about 42 inches.

【0048】排気しながら所定の加熱を行った後、排気
を続けながら室温付近まで封着した前面板と背面板を冷
却し、放電ガスを所定の圧力まで封入する。
After performing a predetermined heating while evacuating, the front and back plates sealed to around room temperature are cooled while continuing the evacuation, and the discharge gas is sealed to a predetermined pressure.

【0049】最後に、駆動回路を実装してプラズマディ
スプレイを完成する。
Finally, the driving circuit is mounted to complete the plasma display.

【0050】[0050]

【実施例】以下に、本発明を実施例を用いて具体的に説
明する。但し、本発明はこれに限定されない。 (測定方法) (1)蛍光体層表面の残存炭素成分の測定は、X線光電
子分光法(XPS)を用いて行った。X線源は、単結晶
分光したAlのKα線を用いた。測定領域は300×3
00μmの楕円形とした。試料はプラズマディスプレイ
を蛍光体層が剥離しないように窒素雰囲気中で分解し、
適当な大きさに切断したものを用いた。
The present invention will be specifically described below with reference to examples. However, the present invention is not limited to this. (Measurement Method) (1) The measurement of the residual carbon component on the phosphor layer surface was performed using X-ray photoelectron spectroscopy (XPS). As the X-ray source, single crystal K-rays of Al were used. Measurement area is 300 × 3
The shape was an ellipse of 00 μm. The sample decomposes the plasma display in a nitrogen atmosphere so that the phosphor layer does not peel off,
A piece cut to an appropriate size was used.

【0051】(実施例1)プラズマディスプレイを以下
の手順にて作製した。
(Example 1) A plasma display was manufactured in the following procedure.

【0052】旭硝子社製“PD−200”ガラス基板上
に、感光性銀ペーストを用いたフォトリソグラフィー法
によりアドレス電極パターンを形成した後焼成した。ア
ドレス電極が形成されたガラス基板上に誘電体層をスク
リーン印刷法により20μmの厚みで形成した。しかる
後、感光性隔壁ペーストを用いたフォトリソグラフィー
法により隔壁パターンを形成した。次に蛍光体層をディ
スペンサー法にて形成した。蛍光体ペーストは、蛍光体
粉末:ポリマー=5:1の重量比で3本ロールを用いて
混練した。蛍光体粉末は、赤:(Y、Gd、Eu)BO
3、緑:(Zn、Mn)2SiO4、青:(Ba、Eu)
MgAl1017の組成のものを用いた。ポリマーはベン
ジルアルコールで溶解したエチルセルロースを用いた。
蛍光体層の焼成は大気中で、4℃/分の速度で500℃
まで昇温し、その温度で30分間保持したのち室温まで
冷却した。次に、焼成した蛍光体層に、波長が172n
m付近に最大ピークを持つ紫外線を大気中で30分間照
射した。紫外線源はエキシマランプ(ウシオ電機製UE
R20H−172)を用いた。紫外線により発生したオ
ゾンO3や励起酸素原子Oを効率よく蛍光体層と接触さ
せるために、ステンレス製の容器内で紫外線を照射し蛍
光体層を形成した部材を得た。
An address electrode pattern was formed on a "PD-200" glass substrate manufactured by Asahi Glass Co., Ltd. by a photolithography method using a photosensitive silver paste, followed by firing. A dielectric layer having a thickness of 20 μm was formed on the glass substrate on which the address electrodes were formed by a screen printing method. Thereafter, a partition pattern was formed by a photolithography method using a photosensitive partition paste. Next, a phosphor layer was formed by a dispenser method. The phosphor paste was kneaded using a three-roll roll at a phosphor powder: polymer = 5: 1 weight ratio. The phosphor powder is red: (Y, Gd, Eu) BO
3 , green: (Zn, Mn) 2 SiO 4 , blue: (Ba, Eu)
MgAl 10 O 17 was used. Ethyl cellulose dissolved in benzyl alcohol was used as the polymer.
The phosphor layer is fired in air at a rate of 4 ° C./min at 500 ° C.
And kept at that temperature for 30 minutes before cooling to room temperature. Next, a wavelength of 172 n was applied to the fired phosphor layer.
Ultraviolet light having a maximum peak near m was irradiated in the air for 30 minutes. The UV light source is an excimer lamp (Ushio's UE
R20H-172) was used. In order to efficiently contact the phosphor layer with ozone O 3 and excited oxygen atoms O generated by ultraviolet rays, ultraviolet rays were irradiated in a stainless steel container to obtain a member having the phosphor layer formed thereon.

【0053】同様に“PD−200”ガラス基板上に、
フォトエッチング法によりITO電極を形成した後、感
光性銀ペーストを用いたフォトリソグラフィー法により
バス電極パターンを形成した。しかる後、透明誘電体層
をスクリーン印刷法により30μmの厚みで形成した。
さらに500nm厚のMgO膜を電子ビーム蒸着法によ
り形成して、放電のための複数の電極を形成した部材を
得た。
Similarly, on a “PD-200” glass substrate,
After forming an ITO electrode by a photoetching method, a bus electrode pattern was formed by a photolithography method using a photosensitive silver paste. Thereafter, a transparent dielectric layer was formed with a thickness of 30 μm by a screen printing method.
Further, an MgO film having a thickness of 500 nm was formed by an electron beam evaporation method to obtain a member having a plurality of electrodes for discharge.

【0054】次に、封着用ペーストをディスペンサー法
を用いて蛍光体層を形成した部材に塗布した。ガラスフ
リットはPbO、B23およびセラミックスフィラーか
らなる複合系であり、軟化点は410℃である。溶媒は
α−ターピネオール、ポリマーにはPMMAを用いた。
封着フリットを塗布した部材を380℃で15分間保持
した後、430℃で15分保持することで、封着ペース
トの焼成を行った。
Next, the sealing paste was applied to the member having the phosphor layer formed thereon by using a dispenser method. Glass frit is a composite system composed of PbO, B 2 O 3 and a ceramic filler, and has a softening point of 410 ° C. The solvent used was α-terpineol, and the polymer used was PMMA.
The member to which the sealing frit was applied was held at 380 ° C. for 15 minutes and then at 430 ° C. for 15 minutes, thereby firing the sealing paste.

【0055】蛍光体層を形成した部材のアドレス電極と
放電のための複数の電極を形成した部材のバス電極が平
行するようにこれら部材を配置して、インコネル製耐熱
クリップを用いて対称に外力を加えた。封着は450℃
で15分間行った。昇温および降温速度は5℃/分で行
った。これら部材を封着する時に一緒に、蛍光体層を形
成した部材側にガラス配管を設けた。
These members are arranged so that the address electrode of the member on which the phosphor layer is formed and the bus electrode of the member on which a plurality of electrodes for discharge are formed are parallel to each other. Was added. 450 ° C for sealing
For 15 minutes. The temperature was raised and lowered at a rate of 5 ° C./min. At the time of sealing these members, a glass pipe was provided on the member side on which the phosphor layer was formed.

【0056】ガラス配管を通して、封着した該部材の内
部の真空排気を行った。この封着した該部材内部の真空
度が1×10-3Pa以下に達した後に、このまま排気を
行いながら350℃で5時間の加熱を行った。排気を行
いながら、加熱を止め、室温まで冷却した後、放電ガス
であるXe5%−Neガスを66.5kPaまで封入し
た。ガラス配管を電熱ヒーターを用いて溶断し、最後
に、駆動回路を実装して、表示画素数640×480セ
ルのプラズマディスプレイを作製した。
The inside of the sealed member was evacuated through a glass pipe. After the degree of vacuum inside the sealed member reached 1 × 10 −3 Pa or less, heating was performed at 350 ° C. for 5 hours while evacuating as it was. After evacuation, the heating was stopped and the temperature was cooled to room temperature, and then a discharge gas of Xe5% -Ne gas was sealed up to 66.5 kPa. The glass pipe was blown off using an electric heater, and finally, a drive circuit was mounted to produce a plasma display having 640 × 480 display pixels.

【0057】このプラズマディスプレイの白色ピーク輝
度は、350cd/m2であった。また、プラズマディ
スプレイの中央部に10×10cm角の領域に千鳥格子
のパターン表示を行った時に、表示動作が安定しないセ
ル数は7個であった。表示動作が安定しないセル数は少
ない方が良く、10個以下さらには5個以下であること
が望ましい。すなわち、本実施例で作製したプラズマデ
ィスプレイの表示動作は良好であった。
The white peak luminance of this plasma display was 350 cd / m 2 . When a staggered pattern was displayed in a 10 × 10 cm square area in the center of the plasma display, the number of cells whose display operation was not stable was seven. It is preferable that the number of cells in which the display operation is not stable is small, and it is desirable that the number is 10 or less, and more preferably 5 or less. That is, the display operation of the plasma display manufactured in this example was good.

【0058】同条件で作製のプラズマディスプレイの蛍
光体層表面の残存炭素成分は、13.8at%であっ
た。
The residual carbon component on the surface of the phosphor layer of the plasma display manufactured under the same conditions was 13.8 at%.

【0059】(実施例2)蛍光体ペーストに分子量10
万のPMMA溶液を用い、蛍光体層の焼成温度を460
℃にした以外は、実施例1と同様にプラズマディスプレ
イを作製した。
Example 2 The phosphor paste had a molecular weight of 10
Using a PMMA solution of 10,000, and setting the firing temperature of the phosphor layer to 460.
A plasma display was manufactured in the same manner as in Example 1 except that the temperature was changed to ° C.

【0060】このプラズマディスプレイの白色ピーク輝
度は、357cd/m2であった。また、プラズマディ
スプレイの中央部に10×10cm角の領域に千鳥格子
のパターン表示を行った時に、表示動作が安定しないセ
ル数7個であった。すなわち、本実施例で作成したプラ
ズマディスプレイの表示動作は良好であった。
The white peak luminance of this plasma display was 357 cd / m 2 . When a staggered lattice pattern was displayed in a 10 × 10 cm square area at the center of the plasma display, the number of cells whose display operation was unstable was seven. That is, the display operation of the plasma display produced in this example was good.

【0061】同条件で作製のプラズマディスプレイの蛍
光体層表面の残存炭素成分は、12.9at%であっ
た。
The residual carbon component on the surface of the phosphor layer of the plasma display manufactured under the same conditions was 12.9 at%.

【0062】(実施例3)蛍光体層形成直後には紫外線
を照射せず、封着ペーストを塗布・焼成後に蛍光体層に
紫外線を照射した以外は、実施例1と同様にプラズマデ
ィスプレイを作製した。
Example 3 A plasma display was manufactured in the same manner as in Example 1 except that the phosphor layer was irradiated with ultraviolet rays after applying and firing the sealing paste without applying ultraviolet rays immediately after the phosphor layer was formed. did.

【0063】このプラズマディスプレイの白色ピーク輝
度は、360cd/m2であった。また、プラズマディ
スプレイの中央部に10×10cm角の領域に千鳥格子
のパターン表示を行った時に、表示動作が安定しないセ
ル数は6個であった。すなわち、本実施例で作成したプ
ラズマディスプレイの表示動作は良好であった。
The white peak luminance of this plasma display was 360 cd / m 2 . When a staggered pattern was displayed in a 10 × 10 cm square area in the center of the plasma display, the number of cells whose display operation was not stable was six. That is, the display operation of the plasma display produced in this example was good.

【0064】同条件で作製のプラズマディスプレイの蛍
光体層表面の残存炭素成分は、7.2at%であった。
The residual carbon component on the phosphor layer surface of the plasma display manufactured under the same conditions was 7.2 at%.

【0065】(実施例4)蛍光体層形成直後には紫外線
を照射せず、図3に示したような外囲器内に、焼成され
た蛍光体層および焼成された封着ペーストが形成された
背面板を配置し、10-3Paまで真空排気を行った後、
50kPaまで10%O2−Arガスを導入した雰囲気
下で紫外線照射を行い、さらにこの雰囲気を大気開放し
た後、蛍光体層を形成した部材と放電のための複数の電
極を形成した部材を封着した以外は実施例1と同様にプ
ラズマディスプレイを作製した。
(Example 4) Immediately after the formation of the phosphor layer, ultraviolet rays were not irradiated, and the fired phosphor layer and the fired sealing paste were formed in an envelope as shown in FIG. After arranging the back plate and evacuating to 10 −3 Pa,
UV irradiation is performed in an atmosphere in which 10% O 2 -Ar gas is introduced up to 50 kPa, and after the atmosphere is opened to the atmosphere, the member on which the phosphor layer is formed and the member on which a plurality of electrodes for discharge are formed are sealed. A plasma display was produced in the same manner as in Example 1 except that the plasma display was worn.

【0066】このプラズマディスプレイの白色ピーク輝
度は、357cd/m2であった。また、プラズマディ
スプレイの中央部に10×10cm角の領域に千鳥格子
のパターン表示を行った時に、表示動作が安定しないセ
ル数は4個であった。すなわち、本実施例で作成したプ
ラズマディスプレイの表示動作は良好であった。
The white peak luminance of this plasma display was 357 cd / m 2 . When a staggered pattern was displayed in a 10 × 10 cm square area in the center of the plasma display, the number of cells whose display operation was not stable was four. That is, the display operation of the plasma display produced in this example was good.

【0067】同条件で作製のプラズマディスプレイの蛍
光体層表面の残存炭素成分は、7.6at%であった。
The residual carbon component on the surface of the phosphor layer of the plasma display manufactured under the same conditions was 7.6 at%.

【0068】(実施例5)紫外線照射後に大気開放せず
に蛍光体層を形成した部材と放電のための複数の電極を
形成した部材を封着し、さらに加熱排気・放電ガス封入
工程を行った以外は実施例4と同様にプラズマディスプ
レイを作製した。
Embodiment 5 After irradiation with ultraviolet rays, the member on which the phosphor layer is formed and the member on which a plurality of electrodes for discharge are formed are sealed without opening to the atmosphere, and a heating / exhausting / discharging gas sealing step is performed. A plasma display was produced in the same manner as in Example 4 except for the above.

【0069】このプラズマディスプレイの白色ピーク輝
度は、372cd/m2であった。また、プラズマディ
スプレイの中央部に10×10cm角の領域に千鳥格子
のパターン表示を行った時に、表示動作が安定しないセ
ル数は3個であった。すなわち、本実施例で作成したプ
ラズマディスプレイの表示動作は良好であった。
The white peak luminance of this plasma display was 372 cd / m 2 . When a staggered pattern was displayed in a 10 × 10 cm square area at the center of the plasma display, the number of cells whose display operation was not stable was three. That is, the display operation of the plasma display produced in this example was good.

【0070】同条件で作製のプラズマディスプレイの蛍
光体層表面の残存炭素成分は、5.3at%であった。
The residual carbon component on the surface of the phosphor layer of the plasma display manufactured under the same conditions was 5.3 at%.

【0071】(比較例1)紫外線照射を行わなかった以
外は実施例1と同様にプラズマディスプレイを作製し
た。
(Comparative Example 1) A plasma display was manufactured in the same manner as in Example 1 except that ultraviolet irradiation was not performed.

【0072】このプラズマディスプレイの白色ピーク輝
度は、337cd/m2であった。また、プラズマディ
スプレイの中央部に10×10cm角の領域に千鳥格子
のパターン表示を行った時に、表示動作が安定しないセ
ル数は13個であった。すなわち、本実施例で作製した
プラズマディスプレイの表示動作は良好ではなかった。
The white peak luminance of this plasma display was 337 cd / m 2 . When a staggered pattern was displayed in a 10 × 10 cm square area in the center of the plasma display, the number of cells whose display operation was not stable was thirteen. That is, the display operation of the plasma display manufactured in this example was not good.

【0073】同条件で作製のプラズマディスプレイの蛍
光体層表面の残存炭素成分は、22.5at%であっ
た。
The residual carbon component on the surface of the phosphor layer of the plasma display manufactured under the same conditions was 22.5 at%.

【0074】(比較例2)蛍光体層の焼成温度を550
℃にし、紫外線照射を行わなかった以外は実施例1と同
様にプラズマディスプレイを作製した。
(Comparative Example 2) The firing temperature of the phosphor layer was 550
° C, and a plasma display was produced in the same manner as in Example 1 except that ultraviolet irradiation was not performed.

【0075】このプラズマディスプレイの白色ピーク輝
度は、320cd/m2であった。また、プラズマディ
スプレイの中央部に10×10cm角の領域に千鳥格子
のパターン表示を行った時に、表示動作が安定しないセ
ル数は14個であった。すなわち、本実施例で作製した
プラズマディスプレイの表示動作は良好ではなかった。
The white peak luminance of this plasma display was 320 cd / m 2 . When a staggered lattice pattern was displayed in a 10 × 10 cm square area at the center of the plasma display, the number of cells whose display operation was not stable was 14 cells. That is, the display operation of the plasma display manufactured in this example was not good.

【0076】同条件で作製のプラズマディスプレイの蛍
光体層表面の残存炭素成分は、19.7at%であっ
た。
The residual carbon component on the surface of the phosphor layer of the plasma display manufactured under the same conditions was 19.7 at%.

【0077】実施例1〜3、および比較例1、2の作製
工程の一部を図4に示す。
FIG. 4 shows a part of the manufacturing steps of Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 and 2.

【0078】実施例1〜5、および比較例1、2の、蛍
光体層表面の残存炭素成分、作製したプラズマディスプ
レイで千鳥格子のパターン表示を行った時に表示動作が
安定しないセル数、およびプラズマディスプレイの輝度
を表1に示す。
The carbon components remaining on the phosphor layer surface in Examples 1 to 5 and Comparative Examples 1 and 2, the number of cells whose display operation was not stable when a houndstooth pattern was displayed on the manufactured plasma display, and Table 1 shows the luminance of the plasma display.

【0079】[0079]

【表1】 [Table 1]

【0080】[0080]

【発明の効果】本発明によれば、表面の残存炭素成分の
少ない蛍光体層が形成でき、高輝度で表示動作が安定な
プラズマディスプレイを作製できる。
According to the present invention, a phosphor layer having a small amount of residual carbon component on the surface can be formed, and a plasma display with high luminance and stable display operation can be manufactured.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の実施例を説明するための放電型ディス
プレイの断面概略図。
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of a discharge type display for explaining an embodiment of the present invention.

【図2】本発明の実施例を説明するための紫外線照射す
る装置の概略図。
FIG. 2 is a schematic view of an apparatus for irradiating ultraviolet rays for explaining an embodiment of the present invention.

【図3】本発明の実施例を説明するための紫外線照射、
封着、真空排気・放電ガス封入する装置の概略図。
FIG. 3 is a diagram illustrating irradiation of ultraviolet light for explaining an embodiment of the present invention;
Schematic diagram of a device for sealing, evacuating and filling discharge gas.

【図4】本発明の実施例1〜3、および比較例1、2を
説明するためのプラズマディスプレイの作製工程図。
FIG. 4 is a manufacturing process diagram of a plasma display for explaining Examples 1 to 3 of the present invention and Comparative Examples 1 and 2.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 :放電のための複数の電極を形成した部材(前面
板) 2 :蛍光体層を形成した部材(背面板) 3,4:ガラス基板 5 :アドレス電極 6 :誘電体 7 :隔壁 8 :蛍光体 9 :透明電極 10 :バス電極 11 :透明誘電体 12 :MgO膜 13 :封着用ガラスフリット 14 :紫外線ランプ 15 :酸素を含有した雰囲気 16 :容器 17 :紫外線照射ゾーン 18 :封着ゾーン 19 :加熱排気・放電ガス封入ゾーン 20、22:真空排気ポンプ 21 :酸素を含むガス 23 :放電ガス 24 :ヒーター
1: Member having a plurality of electrodes for discharge (front panel) 2: Member having a phosphor layer (back panel) 3, 4: Glass substrate 5: Address electrode 6: Dielectric 7: Partition wall 8: Fluorescence Body 9: Transparent electrode 10: Bus electrode 11: Transparent dielectric 12: MgO film 13: Glass frit for sealing 14: Ultraviolet lamp 15: Atmosphere containing oxygen 16: Container 17: Ultraviolet irradiation zone 18: Sealing zone 19: Heating / discharging / discharging gas filling zone 20, 22: vacuum pump 21: gas containing oxygen 23: discharge gas 24: heater

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】蛍光体層を有するプラズマディスプレイ用
部材であって、プラズマディスプレイ形成後の蛍光体層
表面の残存炭素成分が15at%以下であることを特徴
とするプラズマディスプレイ用部材。
1. A member for a plasma display having a phosphor layer, wherein the residual carbon component on the surface of the phosphor layer after the plasma display is formed is 15 at% or less.
【請求項2】請求項1に記載のプラズマディスプレイ用
部材を用いたことを特徴とするプラズマディスプレイ。
2. A plasma display using the member for a plasma display according to claim 1.
【請求項3】蛍光体層を形成した部材および/または放
電のための複数の電極を形成した部材に封着フリットを
塗布・焼成した後、蛍光体層を形成した部材と放電のた
めの複数の電極を形成した部材を封着する工程、および
封着した蛍光体層を形成した部材と放電のための複数の
電極を形成した部材内を真空排気し放電のためのガスを
封入する工程を有するプラズマディスプレイの製造方法
であって、部材に蛍光体層を形成した後に酸素を含む雰
囲気下で蛍光体層に紫外線を照射することを特徴とする
プラズマディスプレイの製造方法。
3. A member on which a phosphor layer is formed and / or a member on which a plurality of electrodes for discharge are formed, a sealing frit is applied and fired, and the member on which the phosphor layer is formed and the plurality of electrodes for discharge are formed. A step of sealing the member having the electrodes formed thereon, and a step of evacuating the inside of the member having the plurality of electrodes formed thereon for forming the sealed phosphor layer and a plurality of electrodes for discharging and filling a gas for discharging. A method for manufacturing a plasma display, comprising: forming a phosphor layer on a member; and irradiating the phosphor layer with ultraviolet rays in an atmosphere containing oxygen.
【請求項4】蛍光体層を形成した部材に封着フリットを
塗布・焼成した後、酸素を含む雰囲気下で蛍光体層に紫
外線を照射することを特徴とする請求項3記載のプラズ
マディスプレイの製造方法。
4. The plasma display according to claim 3, wherein the sealing frit is applied and baked on the member on which the phosphor layer is formed, and then the phosphor layer is irradiated with ultraviolet rays in an atmosphere containing oxygen. Production method.
【請求項5】照射する紫外線が、172nm付近の波長
で最大ピークを持つことを特徴とする請求項3記載のプ
ラズマディスプレイの製造方法。
5. The method according to claim 3, wherein the ultraviolet light to be irradiated has a maximum peak at a wavelength near 172 nm.
【請求項6】紫外線を照射する雰囲気が、外囲器内を真
空排気した後所定の不純物濃度以下の酸素を含むガスを
導入したものであって、蛍光体層を形成した部材に封着
フリットを塗布・焼成し、該雰囲気下で蛍光体層に紫外
線を照射した後、該雰囲気を大気開放せずに蛍光体層を
形成した部材と放電のための複数の電極を形成した部材
を封着する工程、および封着した蛍光体層を形成した部
材と放電のための複数の電極を形成した部材内を真空排
気し放電のためのガスを封入する工程を行うことを特徴
とするプラズマディスプレイの製造方法。
6. An atmosphere for irradiating an ultraviolet ray, wherein the envelope is evacuated and then a gas containing oxygen having a predetermined impurity concentration or less is introduced. Is applied and baked, and the phosphor layer is irradiated with ultraviolet rays in the atmosphere, and then the member having the phosphor layer formed thereon and the member having the plurality of electrodes formed thereon for discharge are sealed without opening the atmosphere to the atmosphere. And a step of vacuum-evacuating the inside of the member on which the sealed phosphor layer is formed and the member on which a plurality of electrodes are formed for discharge and enclosing a gas for discharge. Production method.
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