JP3372028B2 - Plasma display panel, manufacturing method and manufacturing apparatus - Google Patents

Plasma display panel, manufacturing method and manufacturing apparatus

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JP3372028B2 JP16899599A JP16899599A JP3372028B2 JP 3372028 B2 JP3372028 B2 JP 3372028B2 JP 16899599 A JP16899599 A JP 16899599A JP 16899599 A JP16899599 A JP 16899599A JP 3372028 B2 JP3372028 B2 JP 3372028B2
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  • Manufacture Of Electron Tubes, Discharge Lamp Vessels, Lead-In Wires, And The Like (AREA)
  • Formation Of Various Coating Films On Cathode Ray Tubes And Lamps (AREA)
  • Gas-Filled Discharge Tubes (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、カラーテレビジョ
ン受像機のディスプレイ等に使用するプラズマディスプ
レイパネル及びその製造方法に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a plasma display panel used for a display of a color television receiver and a method for manufacturing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、コンピュータやテレビ等に用いら
れているディスプレイ装置において、プラズマディスプ
レイパネル(Plasma Display Panel,以下PDPと記載
する)は、大型で薄型軽量を実現することのできるもの
として注目されており、高精細なPDPに対する要望も
高まっている。
2. Description of the Related Art In recent years, a plasma display panel (hereinafter referred to as PDP) in a display device used in a computer, a television, etc. has been noted as a device that can realize a large size, a thin shape and a light weight. Therefore, the demand for high-definition PDP is increasing.

【0003】図29は、一般的な交流型(AC型)PD
Pの一例を示す概略断面図である。本図において、前面
ガラス基板101上に表示電極102が形成され、この
表示電極102は誘電体ガラス層103及び酸化マグネ
シウム(MgO)からなる誘電体保護層104で覆われ
ている(例えば特開平5−342991号公報参照)。
FIG. 29 shows a general AC (AC) type PD.
It is a schematic sectional drawing which shows an example of P. In this figure, a display electrode 102 is formed on a front glass substrate 101, and the display electrode 102 is covered with a dielectric glass layer 103 and a dielectric protective layer 104 made of magnesium oxide (MgO) (for example, Japanese Patent Laid-Open No. HEI 5). -342991 publication).

【0004】また、背面ガラス基板105上には、アド
レス電極106および隔壁107が設けられ、隔壁10
7どうしの間隙に各色(赤、緑、青)の蛍光体層110
〜112が設けられている。前面ガラス基板101は背
面ガラス基板105の隔壁107上に配設され、両基板
101・105間に放電ガスが封入されて放電空間10
9が形成されている。
Address electrodes 106 and partition walls 107 are provided on the rear glass substrate 105.
A phosphor layer 110 of each color (red, green, blue) in the gap between the seven
~ 112 are provided. The front glass substrate 101 is disposed on the partition wall 107 of the rear glass substrate 105, and the discharge gas is sealed between the both substrates 101 and 105 so that the discharge space 10 is formed.
9 is formed.

【0005】このPDPにおいて、放電空間109で
は、放電に伴って真空紫外線(主に波長147nm)が
発生し、各色蛍光体層110〜112が励起発光される
ことによってカラー表示がなされる。上記PDPは、次
のように製造することができる。前面ガラス基板101
に、銀ペーストを塗布・焼成して表示電極102を形成
し、誘電体ガラスペーストを塗布し焼成して誘電体ガラ
ス層103を形成し、その上に保護層104を形成す
る。
In this PDP, vacuum ultraviolet rays (mainly having a wavelength of 147 nm) are generated in the discharge space 109 due to the discharge, and the phosphor layers 110 to 112 of the respective colors are excited and emitted to perform color display. The PDP can be manufactured as follows. Front glass substrate 101
Then, a silver paste is applied and baked to form a display electrode 102, a dielectric glass paste is applied and baked to form a dielectric glass layer 103, and a protective layer 104 is formed thereon.

【0006】背面ガラス基板105上に、銀ペーストを
塗布・焼成してアドレス電極106を形成し、ガラスペ
ーストを所定のピッチで塗布し焼成して隔壁107を形
成する。そして隔壁107の間に、各色蛍光体ペースト
を塗布し、500℃程度で焼成してペースト内の樹脂成
分等を除去することにより蛍光体層110〜112を形
成する。
On the rear glass substrate 105, silver paste is applied and baked to form address electrodes 106, and glass paste is applied and baked at a predetermined pitch to form partition walls 107. Then, phosphor paste of each color is applied between the partition walls 107, and the phosphor layers 110 to 112 are formed by removing the resin component and the like in the paste by baking at about 500 ° C.

【0007】蛍光体焼成後、背面ガラス基板105の周
囲に封着用ガラスフリットを塗布し、形成された封着ガ
ラス層内の樹脂成分等を除去するために350℃程度で
仮焼する(フリット仮焼工程)。その後、上記の前面ガ
ラス基板101と背面ガラス基板105とを、表示電極
102とアドレス電極106とが直交して対向するよう
積み重ねる。そして、これを封着用ガラスの軟化温度よ
りも高い温度(450℃程度)に加熱することによって
封着する(封着工程)。
After the phosphor is fired, a glass frit for sealing is applied around the rear glass substrate 105 and calcined at about 350 ° C. to remove the resin component and the like in the formed sealing glass layer (temporary frit). Baking process). Then, the front glass substrate 101 and the rear glass substrate 105 are stacked so that the display electrodes 102 and the address electrodes 106 are orthogonal to each other and face each other. Then, this is heated to a temperature higher than the softening temperature of the glass for sealing (about 450 ° C.) to perform sealing (sealing step).

【0008】その後、封着したパネルを350℃程度ま
で加熱しながら、両基板間に形成される内部空間(前面
板と背面板との間に形成され蛍光体が臨んでいる空間)
から排気し(排気工程)、排気終了後に放電ガスを所定
圧力(通常300〜500Torr)となるように導入
する。
Thereafter, while heating the sealed panel up to about 350 ° C., an internal space formed between both substrates (a space formed between the front plate and the back plate and facing the phosphor).
After that, the discharge gas is introduced so as to have a predetermined pressure (usually 300 to 500 Torr).

【0009】[0009]

【発明が解決しようとする課題】このようにして製造さ
れるPDPにおいて、輝度向上をはじめとして如何に発
光特性の優れたものとするかが課題となっている。その
ために例えば蛍光体自体の発光特性の改良もなされてき
ているが、更に、発光特性の優れたPDPとすることが
望まれる。
In the PDP manufactured as described above, there is a problem of how to improve the light emission characteristics including improving the brightness. Therefore, for example, the emission characteristics of the phosphor itself have been improved, and further, it is desired to make a PDP having excellent emission characteristics.

【0010】また、上記のような製造方法を用いて、P
DPが量産化されつつあるが、現状ではCRTと比べる
とPDPはかなり製造コストが高いため、これを下げる
ことが望まれている。PDPを製造する上で、コストを
低減するには、いろいろな面から可能性が考えられる
が、例えば、上記のように加熱を必要とするいくつかの
工程において要する消費エネルギーや労力(作業時間)
が大きいことを考慮すると、これらを低減することが一
つの解決方法として望まれる。
Further, using the manufacturing method as described above, P
Although DP is being mass-produced, the production cost of PDP is considerably higher than that of CRT at present, and it is desired to lower the cost. There are various possibilities to reduce the cost in manufacturing a PDP, but for example, the energy consumption and labor (working time) required in some processes that require heating as described above.
Considering that the value is large, it is desirable to reduce these as one solution.

【0011】本発明は、高い発光効率で動作し色再現性
の良好なPDPを提供することを第1の目的とし、PD
Pを製造する上で、仮焼工程、封着工程、排気工程を、
短い作業時間及び低い消費エネルギーで行うことが可能
な方法を提供することによって製造コストを低減するこ
とを第2の目的とする。
A first object of the present invention is to provide a PDP which operates with high luminous efficiency and has good color reproducibility.
In manufacturing P, calcination process, sealing process, exhaust process,
A second object is to reduce the manufacturing cost by providing a method that can be performed with short working time and low energy consumption.

【0012】[0012]

【課題を解決するための手段】上記第1の目的は、PD
Pにおいて、すべてのセルを同一電力条件で点灯させた
ときの発光色の色温度が7000K以上、好ましくは、
8000K以上,9000K以上,10000K以上と
なるようにすることによって達成できる。このように白
バランスにおける色温度を高くするためには、青色蛍光
体層の発光色度を向上させることが重要であって、青色
セルのみを点灯させたときの発光色の色度座標y(CI
E表色系)または青色蛍光体層を真空紫外線で励起した
ときに放出される光の色度座標yが、0.08以下、好
ましくは0.07以下,0.06以下となるようにすれ
ばよい。或は、青色セルのみを点灯させたときの発光ス
ペクトルにおけるピーク波長が455nm以下、好まし
くは453nm以下,451nm以下となるようにすれ
ばよい。
Means for Solving the Problems The first purpose is to provide PD
In P, the color temperature of the emission color when all the cells are turned on under the same power condition is 7,000 K or more, preferably,
This can be achieved by setting the temperature to 8,000K or higher, 9000K or higher, and 10,000K or higher. As described above, in order to increase the color temperature in the white balance, it is important to improve the emission chromaticity of the blue phosphor layer, and the chromaticity coordinate y (of the emission color when only the blue cell is turned on) CI
E color system) or the blue phosphor layer should be such that the chromaticity coordinate y of the light emitted when excited by vacuum ultraviolet rays is 0.08 or less, preferably 0.07 or less, 0.06 or less. Good. Alternatively, the peak wavelength in the emission spectrum when only the blue cell is turned on may be 455 nm or less, preferably 453 nm or less and 451 nm or less.

【0013】また、上記のように青色蛍光体層の発光色
度を向上させれば、色再現性も向上される。上記のよう
に青色蛍光体層の発光色度が優れたPDPは、PDPを
製造する工程の中で、配設された蛍光体が加熱される工
程(蛍光体焼成工程、封着材仮焼工程、封着工程、排気
工程など)を、乾燥ガス雰囲気中、もしくは減圧で乾燥
ガスが流れる雰囲気中で行うことによって製造すること
ができる。
If the emission chromaticity of the blue phosphor layer is improved as described above, the color reproducibility is also improved. As described above, the PDP having excellent emission chromaticity of the blue phosphor layer has a step of heating the disposed phosphor in the step of manufacturing the PDP (phosphor firing step, sealing material calcination step , Sealing step, evacuation step, etc.) in a dry gas atmosphere or an atmosphere in which the dry gas flows under reduced pressure.

【0014】即ち、本発明者等は、従来のPDPの製造
方法において、蛍光体層が加熱される工程において、青
色蛍光体が熱劣化してその発光強度や発光色度が低下す
ることを見出し、上記製造方法を用いることによって、
この熱劣化を防止することを可能としたのである。ここ
で「乾燥ガス」というのは、通常より水蒸気分圧の小さ
いガスのことであって、乾燥処理された空気(乾燥空
気)を用いることが好ましい。
That is, the present inventors have found that in the conventional PDP manufacturing method, the blue phosphor is thermally deteriorated in the step of heating the phosphor layer, and the emission intensity and emission chromaticity of the blue phosphor are reduced. By using the above manufacturing method,
It is possible to prevent this thermal deterioration. Here, the "dry gas" is a gas having a steam partial pressure smaller than usual, and it is preferable to use dried air (dry air).

【0015】乾燥ガスの雰囲気中での水蒸気分圧は、1
5Torr以下とすることが好ましく、更に、10To
rr以下,5Torr以下,1Torr以下,0.5T
orr以下とすることが好ましい。乾燥ガスの露点温度
は、20℃以下が好ましく、更に、10℃以下,0℃以
下,−20℃以下,−40℃以下とすることが好ましい
ということも言える。
The partial pressure of water vapor in the atmosphere of dry gas is 1
It is preferably 5 Torr or less, and further 10 To
rr or less, 5 Torr or less, 1 Torr or less, 0.5T
It is preferable to set it to or or less. It can be said that the dew point temperature of the dry gas is preferably 20 ° C. or lower, more preferably 10 ° C. or lower, 0 ° C. or lower, −20 ° C. or lower, −40 ° C. or lower.

【0016】また、上記のように青色蛍光体層の発光色
度が優れたPDPは、前面基板及び背面基板を対向面が
開放された状態で仮焼する方法、前面基板及び背面基板
を内部空間に乾燥ガスを流しながら封着する方法、ある
いは、前面基板及び背面基板を、対向面が開放された状
態で予備加熱した後、両基板を重ね合わせて封着する方
法を用いることによっても製造することができる。
As described above, in the PDP having the blue phosphor layer with excellent emission chromaticity, the front substrate and the rear substrate are calcined in a state where the facing surfaces are open, and the front substrate and the rear substrate are inside space. It is also manufactured by using a method of sealing while flowing a dry gas to the substrate, or a method of preheating the front substrate and the rear substrate in a state where the facing surfaces are opened and then sealing the both substrates by stacking them. be able to.

【0017】また、前面パネル基板と背面パネル基板を
重ね合わせた状態で封着材を封着温度に保って封着する
封着工程を行った後、室温まで降下させることなく、封
着された両基板間の内部空間の気体を排気する排気工程
を開始すること、或は、封着材が配設された基板を仮焼
温度に保って仮焼する封着材仮焼工程の後、当該基板を
室温まで降下させることなく封着工程を開始することに
よって、上記第1の目的と共に第2の目的を達成でき
る。
Further, after performing a sealing step of sealing the sealing material at the sealing temperature in a state where the front panel substrate and the rear panel substrate are superposed on each other, they are sealed without lowering to room temperature. After starting the exhausting step of exhausting the gas in the internal space between the two substrates, or after the sealing material calcination step of calcining the substrate provided with the sealing material at the calcination temperature, By starting the sealing process without lowering the temperature of the substrate to room temperature, the first and second objects can be achieved.

【0018】即ち、実際の製造工程において、このよう
な各工程は加熱炉を用いて行うが、従来は一般的に、封
着材仮焼工程、封着工程、排気工程が別々に行われ、工
程と工程との間では基板が室温まで冷却されていたた
め、後の工程で再び加熱昇温するのに、それだけ長い時
間と多くのエネルギーが消費されるが、これに対して、
上記のように工程と工程との間で基板を室温まで降温す
ることなく行えば、加熱に要する時間及び消費エネルギ
ーを低減することができる。
That is, in the actual manufacturing process, each of these processes is performed using a heating furnace, but conventionally, the sealing material calcination process, the sealing process, and the exhaust process are generally performed separately. Since the substrate was cooled to room temperature between the steps, it takes a long time and a lot of energy to reheat and raise the temperature in the later step.
As described above, if the process is performed between the processes without lowering the temperature of the substrate to room temperature, the time required for heating and the energy consumption can be reduced.

【0019】[0019]

【発明の実施の形態】[実施の形態1]図1は、実施の
形態に係る交流面放電型PDPを示す要部斜視図であっ
て、本図ではPDPの中央部にある表示領域を部分的に
示している。このPDPは、前面ガラス基板11上に表
示電極12(走査電極12a,維持電極12b)、誘電
体層13、保護層14が配されてなる前面パネル基板1
0と、背面ガラス基板21上にアドレス電極22、誘電
体層23が配された背面パネル基板20とが、表示電極
12a,12bとアドレス電極22とを対向させた状態
で互いに平行に間隔をおいて配されて構成されている。
そして、前面パネル基板10と背面パネル基板20との
間隙は、ストライプ状の隔壁24で仕切られることによ
って放電空間30が形成され、当該放電空間30内には
放電ガスが封入されている。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS [First Embodiment] FIG. 1 is a perspective view showing a main part of an AC surface discharge type PDP according to an embodiment, in which a display region in a central portion of the PDP is partially shown. It is shown in the figure. This PDP has a front panel substrate 1 in which display electrodes 12 (scan electrodes 12a, sustain electrodes 12b), a dielectric layer 13, and a protective layer 14 are arranged on a front glass substrate 11.
0 and the rear panel substrate 20 having the address electrodes 22 and the dielectric layer 23 on the rear glass substrate 21 are parallel to each other with the display electrodes 12a, 12b and the address electrodes 22 facing each other. It is arranged and configured.
The gap between the front panel substrate 10 and the rear panel substrate 20 is partitioned by the partition wall 24 in a stripe shape to form a discharge space 30, and the discharge space 30 is filled with a discharge gas.

【0020】また、この放電空間30内において、背面
パネル基板20側には、蛍光体層25が配設されてい
る。なお、蛍光体層25は、赤,緑,青の順で繰返し並
べられている。表示電極12及びアドレス電極22は、
共にストライプ状であって、表示電極12は隔壁24と
直交する方向に、アドレス電極22は隔壁24と平行に
配されている。そして、表示電極12とアドレス電極2
2が交差するところに、赤,緑,青の各色を発光するセ
ルが形成されたパネル構成となっている。
In the discharge space 30, a phosphor layer 25 is arranged on the rear panel substrate 20 side. The phosphor layers 25 are repeatedly arranged in the order of red, green and blue. The display electrode 12 and the address electrode 22 are
Both are stripe-shaped, the display electrodes 12 are arranged in a direction orthogonal to the partition walls 24, and the address electrodes 22 are arranged in parallel with the partition walls 24. Then, the display electrode 12 and the address electrode 2
A panel structure is formed in which cells that emit red, green, and blue colors are formed where the two intersect.

【0021】そして、このPDPを駆動する時には、駆
動回路(不図示)によって、走査電極12aとアドレス
電極22とにアドレス放電パルスを印加することによっ
て、発光させようとするセルに壁電荷を蓄積し、その
後、表示電極対12a,12bに維持放電パルスを印加
することによって壁電荷が蓄積されたセルで維持放電を
行うという動作を繰り返すことによって発光表示を行
う。
When driving the PDP, a drive circuit (not shown) applies an address discharge pulse to the scan electrode 12a and the address electrode 22 to accumulate wall charges in the cell to be made to emit light. After that, the operation of performing sustain discharge in the cells in which the wall charges are accumulated by applying the sustain discharge pulse to the display electrode pair 12a and 12b is repeated to perform the light emission display.

【0022】アドレス電極22は、金属電極(例えば、
銀電極あるいはCr−Cu−Cr電極)である。表示電
極12は、ITO,SnO2,ZnO等の導電性金属酸
化物からなる幅広の透明電極の上に、細い幅のバス電極
(銀電極,Cr−Cu−Cr電極)を積層させた電極構
成とするのが、表示電極の抵抗を低く且つセル内の放電
面積を広く確保する上で好ましいが、アドレス電極22
と同様に銀電極とすることもできる。
The address electrode 22 is a metal electrode (for example,
A silver electrode or a Cr-Cu-Cr electrode). The display electrode 12 has an electrode configuration in which a bus electrode (silver electrode, Cr—Cu—Cr electrode) having a narrow width is laminated on a wide transparent electrode made of a conductive metal oxide such as ITO, SnO 2 or ZnO. It is preferable to set the resistance of the display electrode to be low and to secure a large discharge area in the cell.
Similarly to the above, a silver electrode can be used.

【0023】誘電体層13は、前面ガラス基板11の表
示電極12が配された表面全体を覆って配設された誘電
物質からなる層であって、一般的に、鉛系低融点ガラス
が用いられているが、ビスマス系低融点ガラス、或は鉛
系低融点ガラスとビスマス系低融点ガラスの積層物で形
成しても良い。保護層14は、酸化マグネシウム(Mg
O)からなる薄層であって、誘電体層13の表面全体を
覆っている。
The dielectric layer 13 is a layer made of a dielectric material, which is arranged so as to cover the entire surface of the front glass substrate 11 on which the display electrodes 12 are arranged. Generally, a lead-based low melting point glass is used. However, it may be formed of a bismuth-based low melting point glass or a laminate of a lead-based low melting point glass and a bismuth-based low melting point glass. The protective layer 14 is made of magnesium oxide (Mg
It is a thin layer of O) and covers the entire surface of the dielectric layer 13.

【0024】誘電体層23は、誘電体層13と同様のも
のであるが、可視光反射層としての働きも兼ねるように
TiO2粒子が混合されている。隔壁24は、ガラス材
料からなり、背面パネル基板20の誘電体層23の表面
上に突設されている。蛍光体層25を構成する蛍光体材
料として、ここでは、 青色蛍光体: BaMgAl1017:Eu 緑色蛍光体: Zn2SiO4:Mn 赤色蛍光体: Y23:Eu を用いることとする。
The dielectric layer 23 is similar to the dielectric layer 13, but TiO 2 particles are mixed so as to also function as a visible light reflecting layer. The partition wall 24 is made of a glass material and is provided so as to project on the surface of the dielectric layer 23 of the rear panel substrate 20. As the phosphor material forming the phosphor layer 25, here, a blue phosphor: BaMgAl 10 O 17 : Eu green phosphor: Zn 2 SiO 4 : Mn red phosphor: Y 2 O 3 : Eu is used. .

【0025】これらの蛍光体材料の組成は、従来からP
DPに用いられているものと基本的には同じであるが、
従来のPDPにおける蛍光体層と比べて、製造工程で蛍
光体が受けた熱劣化の度合が少ないため、発光色がより
良好である。ここで、発光色が良好であるというのは、
青色セルが発光する光の色度座標y値が小さく(青色発
光のピーク波長が短い)、青色付近における色再現域が
広くなっている。
The composition of these phosphor materials has conventionally been P.
It is basically the same as that used for DP,
As compared with the phosphor layer in the conventional PDP, the degree of heat deterioration of the phosphor in the manufacturing process is small, and thus the emission color is better. Here, good emission color means
The chromaticity coordinate y value of the light emitted by the blue cell is small (the peak wavelength of blue light emission is short), and the color reproduction range near blue is wide.

【0026】従来の一般的なPDPでは、青色セルのみ
を点灯させたときの発光色の色度座標y(CIE表色
系)が0.085以上(発光スペクトルのピーク波長が
456nm以上)であって、色補正なしの白バランスで
色温度が6000K程度である。この白バランスでの色
温度を向上させる技術として、例えば、青色セルの幅
(隔壁ピッチ)だけを大きく設定し、青色セルの面積を
緑色セルや赤色セルの面積よりも大きくする技術も知ら
れているが、この方法で色温度7000K以上とするに
は、青色セルの面積を緑色セルや赤色セルの面積と比べ
て1.3倍程度以上に設定しなければならない。
In the conventional general PDP, the chromaticity coordinate y (CIE color system) of the emission color when only the blue cell is turned on is 0.085 or more (the peak wavelength of the emission spectrum is 456 nm or more). The color temperature is about 6000K with white balance without color correction. As a technique for improving the color temperature in this white balance, for example, a technique in which only the width of the blue cell (partition pitch) is set large and the area of the blue cell is made larger than the area of the green cell or the red cell is also known. However, in order to increase the color temperature to 7,000 K or higher by this method, the area of the blue cell must be set to about 1.3 times or more the area of the green cell or the red cell.

【0027】これに対し、本実施の形態のPDPでは、
青色セルのみを点灯させたときの発光色の色度座標yが
0.08以下、発光スペクトルのピーク波長が455n
m以下であって、これにより、特に青色セルの面積を大
きく設定しなくても、色補正なしの白バランスで色温度
を7000K以上にすることが可能となっている。ま
た、製造時の条件によっては、色度座標yをもっと低く
するができ、色補正なしの白バランスで色温度も100
00K程度とすることが可能でなる。
On the other hand, in the PDP of this embodiment,
The chromaticity coordinate y of the emission color when only the blue cell is turned on is 0.08 or less, and the peak wavelength of the emission spectrum is 455n.
m or less, which makes it possible to set the color temperature to 7,000 K or more in white balance without color correction without particularly setting the area of the blue cell large. Also, depending on the manufacturing conditions, the chromaticity coordinate y can be made lower, and the color temperature is 100 with white balance without color correction.
It is possible to set it to about 00K.

【0028】なお、青色セルの色度座標yの値が小さい
ことと、青色発光のピーク波長が短いこととが同等の意
味を持つことは、実施の形態3並びに実施の形態5で説
明する。また、青色セルの色度座標yの値が小さいほど
色再現域が広くなることや、青色セルが発光する光の色
度座標y値と、色補正なしの白バランスでの色温度との
関係については、後の実施例のところで詳述する。
The fact that the value of the chromaticity coordinate y of the blue cell is small and the peak wavelength of blue light emission is short have the same meaning, which will be described in the third and fifth embodiments. Further, the smaller the value of the chromaticity coordinate y of the blue cell, the wider the color reproduction range, and the relationship between the chromaticity coordinate y value of the light emitted by the blue cell and the color temperature in white balance without color correction. This will be described in detail in a later example.

【0029】なお、本実施の形態では、40インチクラ
スのハイビジョンテレビに合わせて、誘電体層13の膜
厚は20μm程度、保護層14の膜厚は0.5μm程度
とする。また、隔壁24の高さは0.1〜0.15m
m、隔壁ピッチは0.15〜0.3mm、蛍光体層25
の膜厚は5〜50μmとする。また、封入する放電ガス
は、Ne−Xe系で、Xeの含有量は5体積%とし、封
入圧力は500〜800Torrの範囲に設定する。
In the present embodiment, the film thickness of the dielectric layer 13 is about 20 μm and the film thickness of the protective layer 14 is about 0.5 μm according to the 40-inch class high-definition television. The height of the partition wall 24 is 0.1 to 0.15 m.
m, partition pitch 0.15 to 0.3 mm, phosphor layer 25
The film thickness is 5 to 50 μm. Further, the discharge gas to be sealed is Ne-Xe system, the content of Xe is 5% by volume, and the sealing pressure is set in the range of 500 to 800 Torr.

【0030】PDPの駆動時には、図2に示すように、
PDPに各ドライバ及びパネル駆動回路100を接続し
て、点灯させようとするセルの走査電極12aとアドレ
ス電極22間に印加してアドレス放電を行った後に、表
示電極12a,12b間にパルス電圧を印加して維持放
電を行う。そして、当該セルで放電に伴って紫外線を発
光し、蛍光体層25で可視光に変換する。このようにし
てセルが点灯することによって、画像が表示される。
〔PDPの作製方法について〕以下、上記構成のPDP
を製造する方法について説明する。
At the time of driving the PDP, as shown in FIG.
After each driver and panel drive circuit 100 is connected to the PDP, and a voltage is applied between the scan electrode 12a and the address electrode 22 of the cell to be lit to perform address discharge, a pulse voltage is applied between the display electrodes 12a and 12b. Apply and sustain discharge. Then, in the cell, ultraviolet rays are emitted with the discharge, and the phosphor layer 25 converts the light into visible light. An image is displayed by lighting the cell in this manner.
[Production Method of PDP] Hereinafter, the PDP having the above configuration
A method of manufacturing the will be described.

【0031】(前面パネル基板の作製)前面パネル基板
10は、前面ガラス基板11上に、銀電極用のペースト
をスクリーン印刷で塗布した後に焼成することにより表
示電極12を形成し、その上を覆うように、鉛系のガラ
ス材料(その組成は、例えば、酸化鉛[PbO]70重
量%,酸化硼素[B23]15重量%,酸化硅素[Si
2]15重量%。)を含むペーストをスクリーン印刷
法で塗布し焼成することによって、誘電体層13を形成
し、更に誘電体層13の表面に真空蒸着法などで酸化マ
グネシウム(MgO)からなる保護層14を形成するこ
とによって作製する。
(Production of Front Panel Substrate) The front panel substrate 10 has a display electrode 12 formed by applying a silver electrode paste on the front glass substrate 11 by screen printing and then baking the paste to cover it. As described above, a lead-based glass material (the composition of which is, for example, lead oxide [PbO] 70% by weight, boron oxide [B 2 O 3 ] 15% by weight, silicon oxide [Si 2
O 2 ] 15% by weight. Is applied by a screen printing method and baked to form a dielectric layer 13, and a protective layer 14 made of magnesium oxide (MgO) is further formed on the surface of the dielectric layer 13 by a vacuum deposition method or the like. It is made by

【0032】(背面パネル基板の作製)背面パネル基板
は、背面ガラス基板21上に、銀電極用のペーストをス
クリーン印刷しその後焼成する方法によってアドレス電
極22を形成し、その上に、TiO2粒子と誘電体ガラス
粒子とを含むペーストをスクリーン印刷法で塗布して焼
成することによって誘電体層23を形成し、同じくガラ
ス粒子を含むペーストをスクリーン印刷法を用いて所定
のピッチで繰返し塗布した後、焼成することによって隔
壁24を形成する。
(Preparation of Back Panel Substrate) The back panel substrate has a rear glass substrate 21 on which an address electrode 22 is formed by screen-printing a paste for a silver electrode and then firing the paste, and TiO 2 particles are formed on the address electrode 22. And a dielectric glass particle are applied by a screen printing method and baked to form a dielectric layer 23, and the same glass particle containing paste is repeatedly applied at a predetermined pitch using the screen printing method. The partition wall 24 is formed by firing.

【0033】そして、赤色,緑色,青色の各色蛍光体ペ
ーストを作製し、これを隔壁24どうしの間隙にスクリ
ーン印刷法で塗布し、後で詳述するように空気中で焼成
することによって各色蛍光体層25を形成する。ここで
用いる各色蛍光体ペーストは、以下のようにして作製す
ることができる。
Then, red, green, and blue phosphor pastes of respective colors are prepared, applied to the gaps between the partition walls 24 by a screen printing method, and fired in the air as described in detail later, whereby phosphors of respective colors are formed. The body layer 25 is formed. Each color phosphor paste used here can be manufactured as follows.

【0034】青色蛍光体(BaMgAl1017:Eu)
は、原料として、炭酸バリウム(BaCO3)、炭酸マ
グネシウム(MgCO3)、酸化アルミニウム(α−A
23)をBa,Mg,Alの原子比で1対1対10に
なるように配合する。次に、この混合物に対して所定量
の酸化ユーロピウム(Eu23)を添加する。そして、
適量のフラックス(AlF2,BaCl2)と共にボール
ミルで混合し、還元雰囲気(H2,N2中)下、所定時間
(例えば、0.5時間)、温度1400℃〜1650℃
で焼成することによって得られる。
Blue phosphor (BaMgAl 10 O 17 : Eu)
Is, as a raw material, barium carbonate (BaCO 3 ), magnesium carbonate (MgCO 3 ), aluminum oxide (α-A
1 2 O 3 ) is blended so that the atomic ratio of Ba, Mg, and Al is 1: 1: 10. Next, a predetermined amount of europium oxide (Eu 2 O 3 ) is added to this mixture. And
Mix with an appropriate amount of flux (AlF 2 , BaCl 2 ) in a ball mill, and under a reducing atmosphere (in H 2 , N 2 ) for a predetermined time (for example, 0.5 hours), temperature 1400 ° C to 1650 ° C.
It is obtained by firing at.

【0035】赤色蛍光体(Y23:Eu)は、原料とし
ての水酸化イットリウムY2(OH)3に、所定量の酸化ユ
ーロピウム(Eu23)を添加する。そして、適量のフ
ラックスと共にボールミルで混合し、空気中で、所定時
間(例えば1時間)、温度1200℃〜1450℃で焼
成することによって得られる。緑色蛍光体(Zn2Si
4:Mn)は、原料として、酸化亜鉛(ZnO)、酸
化珪素(Si02)をZn,Siの原子比2対1になるよ
うに配合する。次に、この混合物に所定量の酸化マンガ
ン(Mn23)を添加する。そして、ボールミルで混合
後、空気中で、所定時間(例えば0.5時間)、温度1
200℃〜1350℃で焼成することによって得られ
る。
For the red phosphor (Y 2 O 3 : Eu), a predetermined amount of europium oxide (Eu 2 O 3 ) is added to yttrium hydroxide Y 2 (OH) 3 as a raw material. Then, it is obtained by mixing with an appropriate amount of flux in a ball mill and firing in air at a temperature of 1200 ° C to 1450 ° C for a predetermined time (for example, 1 hour). Green phosphor (Zn 2 Si
O 4 : Mn) is mixed with zinc oxide (ZnO) and silicon oxide (SiO 2 ) as raw materials so that the atomic ratio of Zn and Si is 2: 1. Next, a predetermined amount of manganese oxide (Mn 2 O 3 ) is added to this mixture. Then, after mixing with a ball mill, the temperature is set to 1
It is obtained by firing at 200 ° C to 1350 ° C.

【0036】このように作製された各色蛍光体を、粉砕
後ふるい分けすることによって、所定の粒径分布を有す
る各色蛍光体粒子が得られる。この各色蛍光体粒子をバ
インダ及び溶剤と混合することによって、各色蛍光体ペ
ーストが得られる。なお、蛍光体層25を形成する際に
は、上記のスクリーン印刷法による方法以外に、蛍光体
インキをノズルから吐出させながら走査する方法、ある
いは、各色の蛍光体材料を含有する感光性樹脂のシート
を作製し、これを背面ガラス基板21の隔壁24を配し
た側の面に貼り付け、フォトリソグラフィでパターニン
グし現像することにより不要な部分を除去する方法によ
っても形成することができる。
By pulverizing and sieving each color phosphor thus produced, each color phosphor particle having a predetermined particle size distribution can be obtained. A phosphor paste of each color is obtained by mixing the phosphor particles of each color with a binder and a solvent. When forming the phosphor layer 25, in addition to the screen printing method described above, a method of scanning while ejecting phosphor ink from a nozzle, or a method of using a photosensitive resin containing phosphor materials of respective colors It can also be formed by a method of producing a sheet, adhering the sheet to the surface of the rear glass substrate 21 on which the partition wall 24 is arranged, patterning by photolithography, and developing to remove an unnecessary portion.

【0037】(前面パネル基板と背面パネル基板の封
着、真空排気、放電ガス封入)このように作製した前面
パネル基板10及び背面パネル基板20のどちらか一方
または両方に封着用ガラスフリットを塗布して封着ガラ
ス層を形成し、後で詳述するように、ガラスフリット内
の樹脂成分等を除去するために仮焼し、前面パネル基板
10の表示電極12と背面パネル基板20のアドレス電
極22とが直交して対向するように重ね合わせ、重ね合
わせた両基板10,20を、後で詳述するように加熱し
て封着ガラス層を軟化させることによって封着する。
(Sealing of Front Panel Substrate and Back Panel Substrate, Vacuum Evacuation, Filling with Discharge Gas) Either one or both of the front panel substrate 10 and the rear panel substrate 20 thus prepared are coated with a glass frit for sealing. To form a sealing glass layer, which is calcined to remove resin components and the like in the glass frit, as will be described in detail later, and the display electrode 12 of the front panel substrate 10 and the address electrode 22 of the rear panel substrate 20 are formed. And are overlapped so as to be orthogonal to each other, and both of the overlapped substrates 10 and 20 are heated as described in detail later to soften the sealing glass layer to seal the substrates.

【0038】そして、封着したパネル基板の内部空間を
真空排気しながらパネルを焼成する(350℃で3時
間)。その後、上記組成の放電ガスを所定の圧力で封入
することによってPDPが作製される。(蛍光体焼成工
程、フリット仮焼工程、封着工程についての詳細)蛍光
体の焼成工程、フリット仮焼工程、封着工程について以
下に詳細に説明する。
Then, the panel is fired while evacuating the inner space of the sealed panel substrate (at 350 ° C. for 3 hours). Then, a discharge gas having the above composition is sealed at a predetermined pressure to produce a PDP. (Details of phosphor firing step, frit calcination step, sealing step) The phosphor firing step, frit calcination step, and sealing step will be described in detail below.

【0039】図3は、本実施の形態で、蛍光体の焼成時
及び仮焼時に使用するベルト式加熱装置の構成を模式的
に示す図である。この加熱装置40は、基板を加熱する
加熱炉41、加熱炉41内を通過するようパネル基板を
搬送する搬送ベルト42、加熱炉41内に雰囲気ガスを
導入するガス導入パイプ43などから構成されており、
加熱炉41内には、搬送方向に沿って複数のヒータ(不
図示)が設置されている。
FIG. 3 is a diagram schematically showing the configuration of a belt-type heating device used in the present embodiment for firing and calcination of the phosphor. The heating device 40 includes a heating furnace 41 for heating the substrate, a conveyor belt 42 for conveying the panel substrate so as to pass through the heating furnace 41, a gas introduction pipe 43 for introducing an atmospheric gas into the heating furnace 41, and the like. Cage,
In the heating furnace 41, a plurality of heaters (not shown) are installed along the transport direction.

【0040】そして、各ヒータで加熱炉41の入口44
から出口45に至るまでの各箇所の温度を設定すること
によって、任意の温度プロファイルで基板を焼成するこ
とができ、また、ガス導入パイプ43から雰囲気ガスを
導入することによって、加熱炉41内を雰囲気ガスで満
たすことができるようになっている。雰囲気ガスとして
乾燥空気を送り込む場合、空気を低温(マイナス数十
度)に冷却して水分を凝結させるガス乾燥器(不図示)
を経由させ、空気中の水蒸気量(水蒸気分圧)を低減す
ることによって、乾燥空気を生成することができる。
The inlet 44 of the heating furnace 41 is connected to each heater.
The substrate can be fired with an arbitrary temperature profile by setting the temperature of each part from the outlet to the outlet 45, and by introducing the atmospheric gas from the gas introducing pipe 43, the inside of the heating furnace 41 can be controlled. It can be filled with atmospheric gas. When sending dry air as atmospheric gas, a gas dryer (not shown) that cools the air to a low temperature (minus several tens of degrees) to condense water
Dry air can be generated by reducing the amount of water vapor in the air (water vapor partial pressure) via

【0041】蛍光体焼成時には、この加熱装置40を用
いて、蛍光体層25を形成した背面ガラス基板21を、
乾燥空気中で焼成する(ピーク温度520℃、10分
間)。このように、蛍光体焼成時に乾燥ガスを流しなが
ら焼成することによって、蛍光体焼成時における雰囲気
中の水蒸気による熱劣化を抑えることができる。このと
き用いる乾燥空気中の水蒸気分圧は、低く設定するほど
蛍光体の熱劣化を抑える効果は大きい。即ち、水蒸気分
圧は、15Torr以下とすることが望ましく、更に、
10Torr以下、5Torr以下、1Torr、0.
1Torr以下と低くするにしたがって効果が顕著にな
る。
At the time of firing the phosphor, the heating device 40 is used to remove the rear glass substrate 21 having the phosphor layer 25 formed thereon.
Bake in dry air (peak temperature 520 ° C., 10 minutes). As described above, when the phosphor is fired while the dry gas is allowed to flow, the thermal deterioration due to the water vapor in the atmosphere during the phosphor firing can be suppressed. The lower the steam partial pressure in the dry air used at this time, the greater the effect of suppressing the thermal deterioration of the phosphor. That is, it is desirable that the water vapor partial pressure be 15 Torr or less.
10 Torr or less, 5 Torr or less, 1 Torr, 0.
The effect becomes more remarkable as it becomes lower than 1 Torr.

【0042】なお、水蒸気分圧と露点温度とは一定の関
係があるので、乾燥空気中の水分について「露点温度」
を用いて言い換えると、露点温度を低く設定するほど、
蛍光体焼成時の熱劣化を抑えるのに好ましく、乾燥ガス
の露点温度としては20℃以下が好ましく、0℃以下、
−20℃以下、−40℃以下とするのがより好ましいと
言える。
Since there is a certain relationship between the partial pressure of water vapor and the dew point temperature, the "dew point temperature" of water in dry air is
In other words, the lower the dew point temperature is set,
It is preferable to suppress thermal deterioration during the firing of the phosphor, and the dew point temperature of the drying gas is preferably 20 ° C. or lower, 0 ° C. or lower,
It can be said that it is more preferable to set the temperature to −20 ° C. or lower and −40 ° C. or lower.

【0043】フリット仮焼時には、この加熱装置40を
用いて、封着ガラス層を形成した前面ガラス基板11あ
るいは背面ガラス基板21を、乾燥空気中で焼成する
(ピーク温度350℃、30分間)。この仮焼工程にお
いても、上記蛍光体焼成工程と同様に、加熱炉41内に
導入する乾燥空気は、水蒸気分圧を15Torr以下と
することが望ましく、さらに水蒸気分圧を、10Tor
r以下、5Torr以下、1Torr、0.1Torr
以下と低く設定するほど蛍光体の熱劣化を抑えることが
できる。即ち、乾燥空気の露点温度を20℃以下とする
のが好ましく、0℃以下、−20℃以下、−40℃以下
とするのがより好ましい。
At the time of frit calcination, the front glass substrate 11 or the rear glass substrate 21 having the sealing glass layer formed thereon is fired in dry air using the heating device 40 (peak temperature 350 ° C., 30 minutes). Also in this calcination step, it is desirable that the dry air introduced into the heating furnace 41 has a water vapor partial pressure of 15 Torr or less, and a water vapor partial pressure of 10 Torr.
r or less, 5 Torr or less, 1 Torr, 0.1 Torr
The lower the value is set, the more the thermal deterioration of the phosphor can be suppressed. That is, the dew point temperature of the dry air is preferably 20 ° C. or lower, more preferably 0 ° C. or lower, −20 ° C. or lower, and −40 ° C. or lower.

【0044】図4は、封着用加熱装置の構成を模式的に
示す図である。この封着用加熱装置50は、内部に収納
される基板(ここでは重ね合わせられた前面パネル基板
10及び背面パネル基板20)を加熱する加熱炉51
と、加熱炉51の外部から両パネル基板10,20間の
内部空間に雰囲気ガスを送り込む配管52a、この内部
空間から加熱炉51の外部に雰囲気ガスを排出する配管
52bとから構成されている。配管52aには、雰囲気
ガスとしての乾燥空気を送り込むガス供給源53が接続
され、配管52bには真空ポンプ54が接続されてい
る。また、配管52a及び配管52bには、これを通過
するガスの流量を調整する調整バルブ55a及び調整バ
ルブ55bが設けられている。
FIG. 4 is a diagram schematically showing the structure of the sealing heating device. The heating apparatus for sealing 50 includes a heating furnace 51 for heating the substrates (the front panel substrate 10 and the rear panel substrate 20 which are stacked in this case) housed inside.
And a pipe 52a for sending the atmospheric gas from the outside of the heating furnace 51 to the internal space between the panel substrates 10 and 20, and a pipe 52b for discharging the atmospheric gas from the internal space to the outside of the heating furnace 51. A gas supply source 53 that feeds dry air as an atmospheric gas is connected to the pipe 52a, and a vacuum pump 54 is connected to the pipe 52b. Further, the pipes 52a and 52b are provided with adjusting valves 55a and 55b for adjusting the flow rate of gas passing therethrough.

【0045】この封着用加熱装置50を用いて、以下の
ように封着工程を行う。背面パネル基板20には、表示
領域より外側の外周部に、通気口21a及び通気口21
bが設けられており、これらの通気口21a・21bに
はガラス管26a・26bが取り付けられている。な
お、図4では、背面パネル基板20における隔壁や蛍光
体は省略してある。
Using this sealing heating device 50, the sealing step is performed as follows. The rear panel substrate 20 has a vent hole 21a and a vent hole 21 on the outer peripheral portion outside the display area.
b is provided, and glass tubes 26a and 26b are attached to these vents 21a and 21b. In addition, in FIG. 4, the partition walls and the phosphors in the rear panel substrate 20 are omitted.

【0046】前面パネル基板10と背面パネル基板20
とを、位置合わせしながら、封着ガラス層15が両基板
の間に介挿されるように重ね合わせ、加熱炉51の中に
入れる。ここで位置合わせされた前面パネル基板10と
背面パネル基板20とが位置ずれしないようにクランプ
等によって締め付けておくのが好ましい。そして、ガラ
ス管26a・26bに、加熱炉51の外部から挿設され
た配管52a・52bを連結し、配管52bから真空ポ
ンプ54で排気することによって内部空間を一旦真空に
した後、真空ポンプ54は使わずに配管52aから一定
の流量で乾燥空気を送り込む。これによって、両パネル
基板10・20間の内部空間に乾燥空気が流通し、配管
52bから排出される。
Front panel substrate 10 and rear panel substrate 20
While being aligned, the sealing glass layer 15 is superposed so as to be interposed between both substrates, and is put in the heating furnace 51. It is preferable that the front panel substrate 10 and the rear panel substrate 20 aligned here are clamped by a clamp or the like so as not to be displaced. Then, the glass tubes 26a and 26b are connected to the pipes 52a and 52b inserted from the outside of the heating furnace 51, and the pipe 52b is evacuated by the vacuum pump 54 to once evacuate the internal space, and then the vacuum pump 54 The dry air is sent through the pipe 52a at a constant flow rate without being used. As a result, dry air circulates in the internal space between the panel substrates 10 and 20 and is discharged from the pipe 52b.

【0047】このように乾燥空気を流しながら、両パネ
ル基板10・20を加熱する(ピーク温度450℃で3
0分間加熱)ことによって、封着ガラス層15を軟化さ
せて両パネル基板10・20を封着する。封着が完了す
れば、ガラス管26a・26bのどちらか一つを密栓
し、次の真空排気工程では、残りのガラス管に真空ポン
プを連結して行う。次に、放電ガスの封入工程では、残
りのガラス管に、放電ガスが入っているボンベを連結し
て、排気装置を作動させながら内部空間に放電ガスを封
入する。
In this way, both panel substrates 10 and 20 are heated while flowing the dry air (3 at the peak temperature of 450 ° C.).
By heating for 0 minutes), the sealing glass layer 15 is softened to seal both panel substrates 10 and 20. When the sealing is completed, one of the glass tubes 26a and 26b is sealed, and a vacuum pump is connected to the remaining glass tubes in the next evacuation step. Next, in the process of filling the discharge gas, a cylinder containing the discharge gas is connected to the remaining glass tube, and the discharge gas is filled in the internal space while operating the exhaust device.

【0048】(本実施の形態の製造方法による効果)本
実施形態の封着方法によれば、従来の封着方法と比べ
て、次のような効果を奏する。通常、前面パネル基板や
背面パネル基板には、水蒸気などのガスが吸着されてい
るが、これらの基板を加熱昇温すると、吸着されている
ガスが放出される。
(Effects of the manufacturing method of this embodiment) According to the sealing method of this embodiment, the following effects are obtained as compared with the conventional sealing method. Usually, gases such as water vapor are adsorbed on the front panel substrate and the rear panel substrate, but when these substrates are heated and heated, the adsorbed gas is released.

【0049】従来の一般的な製造方法では、仮焼工程の
後、封着工程では、前面パネル基板と背面パネル基板と
を室温で重ね合わせてから加熱昇温して封着するので、
この封着工程時に、前面パネル基板と背面パネル基板に
吸着されているガスが放出される。仮焼工程において、
基板に吸着されているガスがある程度抜けても、その
後、封着工程開始時まで大気中で室温にすることによっ
て再びガスが吸着されるので、封着工程においてガスの
放出は生じる。そして、放出されたガスが狭い内部空間
内に閉じ込められる。このとき、内部空間における水蒸
気分圧は、通常20Torr以上になることが測定の結
果わかっている。
In the conventional general manufacturing method, after the calcination step, in the sealing step, the front panel substrate and the rear panel substrate are superposed at room temperature and then heated and heated for sealing.
During this sealing process, the gas adsorbed on the front panel substrate and the rear panel substrate is released. In the calcination process,
Even if the gas adsorbed on the substrate escapes to some extent, the gas is adsorbed again by bringing the temperature to room temperature in the atmosphere until the start of the sealing process, so that the gas is released in the sealing process. Then, the released gas is confined in the narrow internal space. At this time, it is known from the measurement result that the partial pressure of water vapor in the internal space is usually 20 Torr or more.

【0050】そのため、内部空間に臨んでいる蛍光体層
25がガスの影響(特に保護層14から放出される水蒸
気の影響)で熱劣化しやすい。そして、蛍光体層(特に
青色蛍光体層)が熱劣化すると発光強度が低下する。こ
れに対して、本実施の形態のように、加熱時に内部空間
に乾燥空気を流通させて、内部空間内に発生する水蒸気
を外部に排出し続けることによって、水蒸気による蛍光
体層の熱劣化が抑えられる。
Therefore, the phosphor layer 25 facing the internal space is likely to be thermally deteriorated by the influence of gas (in particular, the influence of water vapor emitted from the protective layer 14). When the phosphor layer (particularly the blue phosphor layer) is thermally deteriorated, the emission intensity is reduced. On the other hand, as in the present embodiment, when dry air is circulated in the internal space during heating and the steam generated in the internal space is continuously discharged to the outside, thermal deterioration of the phosphor layer due to steam is caused. It can be suppressed.

【0051】この封着工程においても、上記蛍光体焼成
工程と同様に、内部空間を流す乾燥空気は、水蒸気分圧
を15Torr以下とすることが望ましく、さらに水蒸
気分圧を、10Torr以下、5Torr以下、1To
rr、0.1Torr以下と低く設定するほど蛍光体の
熱劣化を抑えることができる。即ち、乾燥空気の露点温
度を20℃以下とするのが好ましく、0℃以下、−20
℃以下、−40℃以下とするのがより好ましい。
Also in this sealing step, it is desirable that the dry air flowing through the internal space has a water vapor partial pressure of 15 Torr or less, and a water vapor partial pressure of 10 Torr or less and 5 Torr or less, as in the phosphor firing step. 1 To
The lower the value of rr is set to 0.1 Torr or less, the more the thermal deterioration of the phosphor can be suppressed. That is, the dew point temperature of the dry air is preferably 20 ° C. or lower, and 0 ° C. or lower, −20.
It is more preferable that the temperature is not higher than -40 ° C.

【0052】(雰囲気ガス中の水蒸気分圧についての考
察)雰囲気ガス中の水蒸気分圧を減少させることによっ
て、青色蛍光体の加熱による熱劣化を防止することが可
能であることについて、以下のように実験に基づいて考
察した:図5,6は、水蒸気分圧をいろいろと変えた空
気中で、青色蛍光体(BaMgAl1017:Eu)を焼
成したときの相対発光強度及び色度座標yの測定結果で
ある。焼成条件として、ピーク温度は450℃とし、ピ
ーク温度で維持する時間は20分とした。
(Consideration on Water Vapor Partial Pressure in Atmosphere Gas) By reducing the water vapor partial pressure in the atmosphere gas, it is possible to prevent thermal deterioration due to heating of the blue phosphor as follows. 5 and 6 show the relative emission intensity and chromaticity coordinate y when the blue phosphor (BaMgAl 10 O 17 : Eu) was fired in the air with various partial pressures of water vapor. Is the measurement result. As the firing conditions, the peak temperature was 450 ° C., and the time for maintaining the peak temperature was 20 minutes.

【0053】図5に示す相対発光強度は、発光強度測定
値を、焼成前の青色蛍光体の発光強度測定値を基準値1
00としたときの相対値で表わしたものである。発光強
度は、分光光度計を用いて蛍光体層からの発光スペクト
ルを測定し、この測定値から色度座標y値を算出し、こ
の色度座標y値と、輝度計で予め測定した輝度値とか
ら、式(発光強度=輝度/色度座標y値)で算出した値
である。
The relative luminescence intensity shown in FIG. 5 is obtained by measuring the luminescence intensity measurement value and the luminescence intensity measurement value of the blue phosphor before firing as a reference value 1.
This is represented by a relative value when 00 is set. The emission intensity is obtained by measuring the emission spectrum from the phosphor layer using a spectrophotometer, calculating the chromaticity coordinate y value from this measurement value, and measuring the chromaticity coordinate y value and the luminance value previously measured with a luminance meter. And the value calculated from the equation (emission intensity = luminance / chromaticity coordinate y value).

【0054】なお、焼成前の青色蛍光体の色度座標y
は、0.052であった。図5,6の結果より、水蒸気
分圧が0Torr付近では、加熱に伴う発光強度の低下
並びに色度変化は全く見られないが、水蒸気分圧が増加
するに従って、青色の相対発光強度は低下し、青色の色
度座標yは大きくなっていることがわかる。
The chromaticity coordinate y of the blue phosphor before firing
Was 0.052. From the results of FIGS. 5 and 6, when the water vapor partial pressure is near 0 Torr, no decrease in emission intensity and no change in chromaticity due to heating are observed, but as the water vapor partial pressure increases, the relative blue emission intensity decreases. It can be seen that the chromaticity coordinate y of blue is large.

【0055】ところで、青色蛍光体(BaMgAl10
17:Eu)を加熱するときに発光強度が劣化したり色度
座標y値が大きくなったりするのは、付活剤Eu2+イオ
ンが加熱により酸化されEu3+イオンになることが原因
であると従来から考えられているが(J.Electr
ochem. Soc.Vol.145,No.11,
November 1998 参照)、上記の青色蛍光
体の色度座標y値が雰囲気中の水蒸気分圧に依存すると
いう結果とを組み合わせて考察すると、Eu2+イオンが
ガス雰囲気(例えば空気)中の酸素と直接反応するので
はなく、ガス雰囲気中の水蒸気によって劣化に係る反応
が促進されるものと考えられる。
By the way, a blue phosphor (BaMgAl 10 O
(17 : Eu) causes the emission intensity to deteriorate and the chromaticity coordinate y value to increase because the activator Eu 2+ ion is oxidized by heating and becomes Eu 3+ ion. It has been conventionally considered that there is (J. Electr
ochem. Soc. Vol. 145, no. 11,
(November 1998) and the above-mentioned result that the y value of the chromaticity coordinate of the blue phosphor depends on the partial pressure of water vapor in the atmosphere, the Eu 2+ ions and oxygen in the gas atmosphere (for example, air) are considered. It is considered that the reaction relating to the deterioration is promoted by the water vapor in the gas atmosphere instead of directly reacting.

【0056】ちなみに、加熱温度をいろいろと変化させ
て、上記と同様にして青色蛍光体(BaMgAl
1017:Eu)の熱による発光強度の低下度合や色度座
標yの変化を調べてみたところ、加熱温度が300℃か
ら600℃の範囲では、加熱温度が高いほど熱による発
光強度の低下は大きくなり、いずれの加熱温度でも水蒸
気分圧が高いほど発光強度の低下が大きくなるという傾
向が見られた。一方、水蒸気分圧が高いほど熱による色
度座標yの変化が大きくなるという傾向は見られたが、
色度座標yの変化度合が加熱温度に依存するという傾向
は見られなかった。
Incidentally, the blue phosphor (BaMgAl) was changed in the same manner as above by changing the heating temperature variously.
When the degree of decrease in emission intensity due to the heat of 10 O 17 : Eu) and the change in the chromaticity coordinate y were examined, it was found that in the heating temperature range of 300 to 600 ° C., the higher the heating temperature, the lower the emission intensity due to heat. It was observed that the higher the water vapor partial pressure, the greater the decrease in emission intensity at any heating temperature. On the other hand, there was a tendency that the higher the water vapor partial pressure, the greater the change in the chromaticity coordinate y due to heat.
No tendency was found that the degree of change in the chromaticity coordinate y depends on the heating temperature.

【0057】また、前面ガラス基板11、表示電極1
2、誘電体層13、保護層14、背面ガラス基板21、
アドレス電極22、誘電体層23、隔壁24、蛍光体層
25を形成する各部材を加熱したとき水蒸気放出量を測
定したところ、保護層14の材料であるMgOからの水
蒸気放出量が最も多かった。これより、封着時に蛍光体
層25の熱劣化を引き起こす主要な原因は、保護層14
(MgO)から水蒸気が放出されることにあると推測さ
れる。
Further, the front glass substrate 11 and the display electrode 1
2, dielectric layer 13, protective layer 14, rear glass substrate 21,
When the amount of water vapor released when each member forming the address electrode 22, the dielectric layer 23, the partition wall 24, and the phosphor layer 25 was heated, the amount of water vapor released from MgO, which is the material of the protective layer 14, was the highest. . Therefore, the main cause of the thermal deterioration of the phosphor layer 25 at the time of sealing is the protective layer 14
It is assumed that water vapor is released from (MgO).

【0058】(本実施形態の変形例)なお、本実施の形
態では、封着工程において、内部空間に乾燥空気を一定
量流すようにしたが、内部空間を真空排気した後に乾燥
空気を導入する操作を交互に繰り返すことによっても、
内部空間に発生する水蒸気を効率的に排出することがで
き、蛍光体層の熱劣化を抑えることができる。
(Modification of this Embodiment) In this embodiment, a fixed amount of dry air is flown into the internal space in the sealing process, but the dry air is introduced after the internal space is evacuated. By repeating the operation alternately,
Water vapor generated in the internal space can be efficiently discharged, and thermal deterioration of the phosphor layer can be suppressed.

【0059】また、必ずしも、蛍光体焼成工程、仮焼工
程、封着工程の全てを乾燥ガス乾燥ガス雰囲気中で行わ
なくても、この中の1工程あるいは2工程だけを乾燥ガ
ス雰囲気中で行うことによっても、ある程度の効果を得
ることができる。また本実施形態では、封着工程におい
て、内部空間に雰囲気ガスとして乾燥空気を流したが、
蛍光体層と反応を起こさない窒素等の不活性ガスであっ
て水蒸気分圧の低いものを流しても、同様の効果が得ら
れる。
Further, even if all of the phosphor firing step, the calcination step and the sealing step are not performed in the dry gas dry gas atmosphere, only one or two of them are performed in the dry gas atmosphere. By doing so, some effect can be obtained. Further, in the present embodiment, in the sealing step, dry air was flown as an atmospheric gas in the internal space,
The same effect can be obtained by flowing an inert gas such as nitrogen which does not react with the phosphor layer and has a low water vapor partial pressure.

【0060】また本実施形態では、封着工程において両
パネル基板10・20間の内部空間にガラス管26aか
ら乾燥空気を強制的に送り込みながら封着するようにし
たが、このように強制的に乾燥空気を送り込まなくて
も、例えば、図3に示した加熱装置40を用いて、乾燥
空気雰囲気中で両パネル基板10・20を封着しても、
乾燥ガスが通気口21a・21bから多少内部空間に流
入するので、ある程度の効果が得られる。
Further, in this embodiment, in the sealing step, the dry air is forcedly fed from the glass tube 26a into the inner space between the panel substrates 10 and 20 for sealing. Even without sending dry air, for example, by using the heating device 40 shown in FIG. 3 to seal both panel substrates 10 and 20 in a dry air atmosphere,
Since the dry gas flows into the internal space to some extent from the ventilation holes 21a and 21b, some effect can be obtained.

【0061】また、本実施形態では説明しなかったが、
この他に、保護層14が形成された前面パネル基板10
を乾燥ガス雰囲気中で焼成することによっても、保護層
14に吸着されている水分量が少なくなるので、これだ
けでも、封着工程における青色蛍光体層の熱劣化はある
程度抑制される。また、このような乾燥ガス雰囲気中に
おける前面パネル基板10の焼成を、本実施形態の製造
方法と組み合わせれば、更なる効果が期待できる。
Although not described in this embodiment,
In addition to this, the front panel substrate 10 on which the protective layer 14 is formed
The amount of water adsorbed on the protective layer 14 is also reduced by firing the product in a dry gas atmosphere, so that thermal deterioration of the blue phosphor layer in the sealing step can be suppressed to some extent. Further, if the firing of the front panel substrate 10 in such a dry gas atmosphere is combined with the manufacturing method of this embodiment, a further effect can be expected.

【0062】また、本実施形態の製法で作成されたPD
Pは、蛍光体層に含有されている水分も少ないため、P
DP駆動時における異常放電が少ないという効果も得ら
れる。(実施例1)
The PD prepared by the manufacturing method of the present embodiment
Since P also contains a small amount of water in the phosphor layer, P
It is also possible to obtain an effect that there is little abnormal discharge during DP driving. (Example 1)

【0063】[0063]

【表1】 [Table 1]

【0064】パネルNo.1〜4は、本実施の形態に基
づいて作製した実施例に係るPDPであって、蛍光体焼
成工程、フリット仮焼工程、封着工程で流す乾燥空気の
水蒸気分圧を、0〜12Torrの範囲内でいろいろな
値に変化させたものである。また、パネルNo.5は、
比較例に係るPDPであって、蛍光体焼成工程、フリッ
ト仮焼工程、封着工程を、未乾燥の空気(水蒸気分圧2
0Torr)中で行ったものである。
Panel No. Reference numerals 1 to 4 are PDPs according to the examples produced based on the present embodiment, and the vapor partial pressure of the dry air flowing in the phosphor firing step, the frit calcination step, and the sealing step is set to 0 to 12 Torr. The values are changed to various values within the range. In addition, the panel No. 5 is
In the PDP according to the comparative example, the phosphor firing step, the frit calcination step, and the sealing step are performed with undried air (steam partial pressure 2
It was carried out in 0 Torr).

【0065】これらの各PDPにおいて、蛍光体層の膜
厚は30μmとし、放電ガスはNe(95%)−Xe
(5%)を500Torrで封入した。 〈発光特性試験〉 試験方法及び結果:これらの各PDPについて、発光特
性として、色補正なしで白バランスでのパネル輝度及び
色温度(青色セル,赤色セル,緑色セルを同じ電力で発
光させたときのパネル輝度及び色温度)、青色セル及び
緑色セルを同じ電力で発光させたときの発光スペクトル
のピーク強度比を測定した。
In each of these PDPs, the thickness of the phosphor layer was 30 μm, and the discharge gas was Ne (95%)-Xe.
(5%) was sealed at 500 Torr. <Luminescence characteristic test> Test method and result: For each of these PDPs, as the luminescence characteristics, when the panel brightness and color temperature (blue cell, red cell, green cell) with white balance without color correction were lit with the same power. And the peak intensity ratio of the emission spectrum when the blue cell and the green cell were made to emit light with the same electric power.

【0066】これらの測定結果は、表1に示す通りであ
る。なお、作製した各PDPを分解し、背面パネル基板
にクリプトンエキシマランプを用いて真空紫外線(中心
波長146nm)を照射し、青色,緑色,赤色の全色を
発光させたときの色温度、並びに、青色及び緑色を発光
させたときの発光スペクトルのピーク強度比を測定した
ところ、作製した前面パネル基板に色フィルタなどを設
けていないため、上記点灯による結果と同等の結果が得
られた。
The results of these measurements are shown in Table 1. It should be noted that each PDP produced was disassembled, and the back panel substrate was irradiated with vacuum ultraviolet rays (center wavelength 146 nm) using a krypton excimer lamp to emit light of all colors of blue, green, and red, and When the peak intensity ratio of the emission spectrum when emitting blue light and green light was measured, the same result as the above lighting result was obtained because the manufactured front panel substrate was not provided with a color filter or the like.

【0067】更に、パネルから青色蛍光体を取り出し、
TDS分析法(昇温脱離ガス質量分析法)で、青色蛍光
体1g当りから脱離するH2Oガス分子数を測定した。
また、X線回折によって青色蛍光体結晶のa軸長及びc
軸長も測定した。TDS分析では、日本真空技術(株)
製の赤外線加熱型昇温脱離ガス質量分析装置を用いて次
のように測定した。
Further, take out the blue phosphor from the panel,
The number of H 2 O gas molecules desorbed from 1 g of the blue phosphor was measured by TDS analysis (thermal desorption gas mass spectrometry).
In addition, the a-axis length and c of the blue phosphor crystal were determined by X-ray diffraction.
The axial length was also measured. In TDS analysis, Japan Vacuum Technology Co., Ltd.
The measurement was carried out as follows using an infrared heating type thermal desorption gas mass spectrometer manufactured by K.K.

【0068】Ta製皿に詰めた蛍光体資料を予備排気室
で10-4Paオーダまで排気した後、測定室へ挿入し、
10-7Paオーダまで排気した。その後、赤外線ヒータ
を用いて、室温から1100℃まで、昇温速度10℃/
minで昇温しながら、蛍光体から脱離するH2O分子
(質量数18)の分子数を、測定間隔15秒のスキャン
モードで測定した。図7(a),(b),(c)は、パネ
ルNo.2,4,5から取り出した青色蛍光体について
測定した結果を示すチャートである。
The phosphor material packed in the Ta dish was evacuated to the order of 10 -4 Pa in the preliminary exhaust chamber, and then inserted into the measuring chamber,
It was evacuated to the order of 10 −7 Pa. Then, using an infrared heater, the temperature rising rate from room temperature to 1100 ° C was 10 ° C /
The number of H 2 O molecules (mass number 18) desorbed from the phosphor was measured in a scan mode with a measurement interval of 15 seconds while the temperature was raised at min. 7 (a), (b) and (c) show panel No. It is a chart which shows the result of having measured about the blue fluorescent substance taken out from 2,4,5.

【0069】図7のチャートにおいて、青色蛍光体から
脱離するH2O分子数のピークは、100〜200℃付
近と400〜600℃付近で見られる。100〜200
℃付近のピークは物理吸着ガスが脱離したもの、400
〜600℃付近のピークは化学吸着ガスが脱離したもの
によると考えられる。表1には、200℃以上の領域で
現れる脱離H2Oの分子数のピーク値、即ち、400〜
600℃付近の脱離H2Oの分子数のピーク値、及び青
色蛍光体結晶のa軸長に対するc軸長の比の測定結果も
示されている。
In the chart of FIG. 7, peaks of the number of H 2 O molecules desorbed from the blue phosphor can be seen near 100 to 200 ° C. and around 400 to 600 ° C. 100-200
The peak near ℃ is the desorption of the physical adsorption gas, 400
The peak around ˜600 ° C. is considered to be due to desorption of the chemisorption gas. In Table 1, the peak value of the number of molecules of desorbed H 2 O appearing in the region of 200 ° C. or higher, that is, 400 to
The measurement results of the peak value of the number of desorbed H 2 O molecules near 600 ° C. and the ratio of the c-axis length to the a-axis length of the blue phosphor crystal are also shown.

【0070】考察:表1の測定結果において、実施例
(パネルNo.1〜4)と、比較例(パネルNo.5)
とについて、発光特性を比較すると、実施例は比較例よ
り発光特性が優れている(パネル輝度が高く、色温度が
高い。)。パネルNo.1〜4について発光特性を比較
すると、パネルNo.1,2,3,4の順で発光特性が
向上している。
Discussion: In the measurement results of Table 1, Examples (Panel Nos. 1 to 4) and Comparative Examples (Panel No. 5)
When the light emission characteristics are compared with respect to and, the light emission characteristics of the example are superior to those of the comparative example (the panel brightness is high and the color temperature is high). Panel No. Comparing the light emitting characteristics of Nos. 1 to 4, panel No. The emission characteristics are improved in the order of 1, 2, 3, 4.

【0071】この結果から、蛍光体焼成工程、フリット
仮焼工程、封着工程における水蒸気分圧が低いほど、発
光特性(パネル輝度、色温度)が優れていることがわか
る。このように水蒸気分圧を低減すると発光特性が向上
するのは、青色蛍光体層(BaMgAl1017:Eu)
の熱劣化が防止され、色度座標yの値が小さくなるため
と考えられる。
From these results, it can be seen that the lower the water vapor partial pressure in the phosphor firing step, the frit calcination step, and the sealing step, the better the light emission characteristics (panel brightness, color temperature). The emission characteristics are improved by reducing the water vapor partial pressure in this way because the blue phosphor layer (BaMgAl 10 O 17 : Eu) is used.
It is considered that this is because the thermal deterioration of No. 1 is prevented and the value of the chromaticity coordinate y becomes small.

【0072】また、本実施例の青色蛍光体では、昇温脱
離ガス質量分析における200℃以上の領域で現れる脱
離H2Oの分子数のピーク値が1×1016個/g以下で
あり、a軸長に対するc軸長の比が4.0218以下で
あるのに対して、比較例の青色蛍光体では、上記各値よ
り大きい値を示している。 [実施の形態2]本実施形態のPDPは、図1に示す実
施の形態1のPDPと同様の構成である。
Further, in the blue phosphor of this example, the peak value of the number of desorbed H 2 O molecules appearing in the region of 200 ° C. or higher in the temperature programmed desorption gas mass spectrometry was 1 × 10 16 / g or less. However, the ratio of the c-axis length to the a-axis length is 4.0218 or less, whereas the blue phosphor of the comparative example shows values larger than the above respective values. [Second Embodiment] The PDP of the present embodiment has the same configuration as the PDP of the first embodiment shown in FIG.

【0073】また、PDPの製造方法についても上記実
施の形態1と同様であるが、背面ガラス基板21の外周
部における通気口の開設位置や、封着ガラスフリットを
塗布する形態などに違いがある。即ち、PDPの製造工
程の中でも、封着工程においては、蛍光体焼成工程やフ
リット仮焼工程と比べて、加熱時に前面板上の保護層、
蛍光体層、封着用ガラスなどから発生する水蒸気を含む
ガスが、隔壁で仕切られた狭い内部空間に閉じ込められ
ることによって、蛍光体層が熱劣化をより大きく受けや
すいことを考慮し、本実施形態では、封着工程におい
て、内部空間に導入された乾燥空気が、隔壁間の空間を
安定して流れるように工夫を施し、隔壁間の空間に発生
するガスを効率よく排出して、蛍光体層の熱劣化を防止
する効果を高めるようにしている。
The manufacturing method of the PDP is also the same as that of the first embodiment, but there are differences in the opening position of the ventilation hole in the outer peripheral portion of the rear glass substrate 21, the form of applying the sealing glass frit, and the like. . That is, in the PDP manufacturing process, in the sealing process, compared with the phosphor firing process and the frit calcination process, the protective layer on the front plate during heating,
In consideration of the fact that the gas containing water vapor generated from the phosphor layer, the glass for sealing, etc. is confined in the narrow internal space partitioned by the partition walls, the phosphor layer is more susceptible to thermal deterioration, and the present embodiment Then, in the sealing step, the dry air introduced into the internal space was devised so as to flow stably in the space between the partition walls, and the gas generated in the space between the partition walls was efficiently discharged, so that the phosphor layer The effect of preventing thermal deterioration of is enhanced.

【0074】図8〜図16は、背面ガラス基板21の外
周部における通気口の開設位置や、封着ガラスフリット
を塗布する形態の具体例を示す図である。なお、背面パ
ネル基板20には、画像表示領域全体にわたってストラ
イプ状の隔壁24が設けられているが、図8〜図16に
おいては、両サイドの数本の隔壁24だけを表示してお
り、中央部の隔壁24は図示を省略している。
8 to 16 are views showing a specific example of the opening position of the vent hole in the outer peripheral portion of the rear glass substrate 21 and the form of applying the sealing glass frit. It should be noted that the rear panel substrate 20 is provided with stripe-shaped partition walls 24 over the entire image display region, but in FIGS. 8 to 16, only a few partition walls 24 on both sides are displayed and the center wall is shown. The partition wall 24 is not shown.

【0075】これらの図に示すように、背面ガラス基板
21の外周部において、枠状の封着ガラス領域60(封
着ガラス層15が配される領域)が設定されている。こ
の封着ガラス領域60は、最も外側に配列された隔壁2
4に沿って延びる一対の縦封着領域61と、隔壁24の
幅方向に延びる一対の横封着領域62とからなる。そし
て、封着時において、隔壁24間の各間隙65を乾燥空
気が流れる。
As shown in these figures, a frame-shaped sealing glass region 60 (region where the sealing glass layer 15 is arranged) is set on the outer peripheral portion of the rear glass substrate 21. The sealing glass region 60 is formed on the outermost partition wall 2
4 and a pair of vertical sealing regions 61 extending in the width direction of the partition wall 24. Then, at the time of sealing, the dry air flows through the gaps 65 between the partition walls 24.

【0076】以下、各図に示した例の特徴について説明
する。図8〜図12に示す例では、封着ガラス領域60
の内側における対角位置に通気口21a及び通気口21
bが開設されており、封着時において、上記図4のよう
に通気口21aから導入される乾燥空気は、隔壁端部2
4aと横封着領域62との間の間隙63aを通過し、隔
壁24間の各間隙65に分配されこれを流れた後に、隔
壁端部24bと横封着領域62との間の間隙63bを通
過して、通気口21bから排出される。
The features of the example shown in each drawing will be described below. In the example shown in FIGS. 8 to 12, the sealing glass region 60 is used.
Vents 21a and vents 21 at diagonal positions inside the
b is opened, and during sealing, the dry air introduced from the vent 21a as shown in FIG.
After passing through the gap 63a between the partition wall 4a and the lateral sealing region 62 and being distributed to each gap 65 between the partition walls 24 and flowing therethrough, the gap 63b between the partition end 24b and the horizontal sealing region 62 is formed. It passes through and is discharged from the vent 21b.

【0077】図8に示す例では、横封着領域62と隔壁
端部24aとの間隙63a及び横封着領域62と隔壁端
部24bとの間隙63bが、縦封着領域61とそれに隣
接する隔壁24との間隙64a及び間隙64bよりも広
く設定されている(間隙63aの最小幅をD1及び間隙
63bの最小幅をD2、間隙64a最小幅をd1、間隙6
4bの最小幅をd2とするとD1,D2>d1,d2に設定
されている)。
In the example shown in FIG. 8, a gap 63a between the horizontal sealing region 62 and the partition end 24a and a gap 63b between the horizontal sealing region 62 and the partition end 24b are adjacent to the vertical sealing region 61. It is set to be wider than the gap 64a and the gap 64b with the partition wall 24 (the minimum width of the gap 63a is D1, the minimum width of the gap 63b is D2, the minimum width of the gap 64a is d1, the gap 6).
If the minimum width of 4b is d2, D1, D2> d1, d2 are set).

【0078】この構成によって、通気口21aから導入
される乾燥空気が隔壁24間の間隙65を流通するとき
のガス流通抵抗が、間隙64a及び間隙64bを流通す
るときのガス流通抵抗と比べて小さくなるので、乾燥空
気が間隙63a及び63bに広がりやすく、乾燥空気
は、安定して各間隙65に分配されこれを流通する。従
って、各間隙65内に発生するガスは、効率良く排出さ
れるため、封着工程における蛍光体層の熱劣化を防止す
る効果が高められる。
With this configuration, the gas flow resistance when the dry air introduced from the ventilation port 21a flows through the gap 65 between the partition walls 24 is smaller than the gas flow resistance when flowing through the gap 64a and the gap 64b. Therefore, the dry air easily spreads in the gaps 63a and 63b, and the dry air is stably distributed to the gaps 65 and flows therethrough. Therefore, the gas generated in each gap 65 is efficiently discharged, and the effect of preventing thermal deterioration of the phosphor layer in the sealing step is enhanced.

【0079】そして、間隙63aの最小幅D1及び間隙
63bの最小幅D2を、間隙64aの最小幅d1及び間隙
64bの最小幅d2と比べて、2倍あるいは3倍と大き
くすればするほど、隔壁24間の間隙65を流通すると
きのガス流通抵抗が小さくなり、乾燥空気がより安定に
各間隙65を流れるので、効果も大きくなる。、図9に
示す例では縦封着領域61は、それに隣接する隔壁24
と、中央部において接触しており、間隙64aの最小幅
d1及び間隙64bの最小幅d2は0である。この場合、
間隙64a及び間隙64bには乾燥空気が流れないの
で、乾燥空気が更に安定して各間隙65に分配される。
Further, the minimum width D1 of the gap 63a and the minimum width D2 of the gap 63b are made twice or three times as large as the minimum width d1 of the gap 64a and the minimum width d2 of the gap 64b. The gas flow resistance when flowing through the gaps 65 between 24 becomes small, and the dry air flows more stably through the gaps 65, so the effect also becomes large. In the example shown in FIG. 9, the vertical sealing region 61 has the partition wall 24 adjacent to it.
, And the minimum width d1 of the gap 64a and the minimum width d2 of the gap 64b are 0. in this case,
Since the dry air does not flow through the gaps 64a and 64b, the dry air is more stably distributed to the gaps 65.

【0080】図10〜図16に示す例では、封着ガラス
領域60の内周に沿って、流止隔壁70が設けられてい
る。この流止隔壁70は、縦封着領域61に沿った縦隔
壁71と横封着領域62に沿った横隔壁72とからなる
枠状であって、通気口21a,21bはこの流止隔壁7
0の内側に隣接している(但し、図12に示す例では、
縦隔壁71はなく、横隔壁72だけ設けられてい
る。)。
In the example shown in FIGS. 10 to 16, a flow stop partition wall 70 is provided along the inner circumference of the sealing glass region 60. The baffle partition 70 has a frame shape composed of a vertical baffle 71 along the vertical sealing area 61 and a horizontal baffle 72 along the horizontal sealing area 62, and the vents 21a and 21b are provided in the baffle partition 7 respectively.
It is adjacent to the inside of 0 (however, in the example shown in FIG. 12,
There is no vertical partition wall 71, and only the horizontal partition wall 72 is provided. ).

【0081】このような流止隔壁70は、隔壁24と同
様の形状及び材料で形成されたものであって、隔壁24
を形成するときに流止隔壁70も一緒に形成することが
できる。この流止隔壁70は、封着ガラス領域60に配
設される封着ガラスが、加熱されて軟化したときに、パ
ネル中央の表示領域に流れ込むのを防止する。
The flow stop partition wall 70 is formed of the same shape and material as the partition wall 24.
The baffle partition 70 can also be formed together when forming. The flow stop partition wall 70 prevents the sealing glass disposed in the sealing glass region 60 from flowing into the display region at the center of the panel when it is heated and softened.

【0082】図10に示す例では、上記図8の場合と同
様、横隔壁72と隔壁端部24aとの間隙63a及び横
隔壁72と隔壁端部24bとの間隙63bが、縦隔壁7
1とそれに隣接する隔壁24との間隙64a及び間隙6
4bよりも広く設定されており(D1,D2>d1,d
2)、図8の場合と同様の効果を奏する。図11に示す
例では、更に、縦隔壁71とそれに隣接する隔壁24と
の間隙64a及び間隙64bを仕切る仕切隔壁73a及
び仕切隔壁73bが設けられている。この仕切隔壁73
a及び73bによって、縦隔壁71とそれに隣接する隔
壁24とが、中央部において仕切られているため、図9
の場合と同様に、間隙64aの最小幅d1及び間隙64
bの最小幅d2は0である。よって、図9の場合と同様
の効果を奏する。
In the example shown in FIG. 10, the gap 63a between the horizontal partition 72 and the partition end 24a and the gap 63b between the horizontal partition 72 and the partition end 24b are the same as in the case of FIG.
1 and the partition wall 24 adjacent to the partition wall 64a and the gap 6
It is set wider than 4b (D1, D2> d1, d
2), the same effect as in the case of FIG. 8 is obtained. In the example shown in FIG. 11, a partition wall 73a and a partition wall 73b for partitioning the gap 64a and the gap 64b between the vertical partition 71 and the partition 24 adjacent thereto are further provided. This partition wall 73
Since the vertical partition wall 71 and the partition wall 24 adjacent to the vertical partition wall 71 are partitioned by a and 73b in the central portion,
As in the case of, the minimum width d1 of the gap 64a and the gap 64
The minimum width d2 of b is 0. Therefore, the same effect as in the case of FIG. 9 is obtained.

【0083】図12に示す例では、図9の場合と同様
に、縦封着領域61は、それに隣接する隔壁24と、中
央部において接触しており、間隙64aの最小幅d1及
び間隙64bの最小幅d2は0であるので、図9の場合
と同様の効果を奏する。図13に示す例では、流止隔壁
70内側における通気口21a、21bの位置が、対角
位置ではなく、縦隔壁71の中央付近に隣接して設けら
れていると共に、間隙64a及び間隙64bの端部にお
いて当該間隙を仕切る仕切隔壁73a及び仕切隔壁73
bが設けられている。この場合、乾燥空気は、図11の
場合と同様に流通し、図11の場合と同様の効果を奏す
る。
In the example shown in FIG. 12, as in the case of FIG. 9, the vertical sealing region 61 is in contact with the partition wall 24 adjacent thereto at the central portion, and the minimum width d1 of the gap 64a and the gap 64b. Since the minimum width d2 is 0, the same effect as in the case of FIG. 9 is obtained. In the example shown in FIG. 13, the positions of the vent holes 21a and 21b inside the baffle partition wall 70 are provided not adjacent to each other but in the vicinity of the center of the vertical partition wall 71, and the gaps 64a and 64b are formed. Partition wall 73a and partition wall 73 that partition the gap at the end
b is provided. In this case, the dry air circulates as in the case of FIG. 11 and has the same effect as in the case of FIG.

【0084】図14に示す例は、図11の例と略同様で
あるが、ガス入口となる通気口21a及びガス出口にな
る通気口21bが、2ヶ所づつに形成されていると共
に、ストライプ状に並設されている複数の隔壁24の中
で、真ん中に位置する中央隔壁27は横隔壁72につな
がるよう延設されている。この場合、中央隔壁27で分
割された2つの領域ごとに、乾燥空気が別々に流通する
ことになるが、間隙63a及び間隙63bが、間隙64
a及び間隙64bよりも広く設定されているので、図1
1の場合と同様の効果を奏する。また、この図14の例
では、2つの領域ごとに乾燥空気の流通量を調整するこ
とも可能である。
The example shown in FIG. 14 is substantially the same as the example shown in FIG. 11, except that the gas inlet vent holes 21a and the gas vent vent holes 21b are formed in two places each and have a stripe shape. Among the plurality of partition walls 24 arranged side by side, the central partition wall 27 located at the center is extended so as to be connected to the horizontal partition wall 72. In this case, the dry air flows separately in each of the two regions divided by the central partition wall 27, but the gap 63a and the gap 63b become the gap 64.
Since it is set wider than a and the gap 64b,
The same effect as the case of 1 is produced. Further, in the example of FIG. 14, it is also possible to adjust the flow rate of dry air for each of the two regions.

【0085】(本実施形態の変形例)なお、本実施の形
態において、封着工程で内部空間に流す乾燥空気は、水
蒸気分圧を15Torr以下(または露点温度が20℃
以下)とするのが好ましい点や、封着工程で流すガス
は、乾燥空気に限られず、蛍光体層と反応を起こさない
窒素等の不活性ガスであって水蒸気分圧の低いものを流
しても、同様の効果が得られる点などについては、実施
の形態1で説明した通りである。
(Modification of this Embodiment) In this embodiment, the dry air flowing in the internal space in the sealing step has a water vapor partial pressure of 15 Torr or less (or a dew point temperature of 20 ° C.).
The following points are preferable, and the gas to be flown in the sealing step is not limited to dry air, but an inert gas such as nitrogen which does not react with the phosphor layer and has a low water vapor partial pressure can be used. However, the same effects can be obtained as described in the first embodiment.

【0086】また、本実施形態においては、背面パネル
基板側に隔壁が設けられる場合について説明したが、前
面パネル基板側に隔壁が設けられる場合においても、同
様に実施することができ、同様の効果を奏する。(実施
例2)
Further, although the case where the partition wall is provided on the rear panel substrate side has been described in the present embodiment, the same effect can be obtained also when the partition wall is provided on the front panel substrate side. Play. (Example 2)

【0087】[0087]

【表2】 [Table 2]

【0088】パネルNo.6のPDPは、本実施の形態
における図10の例に基づいて作製したPDPであっ
て、封着工程で流す乾燥空気の水蒸気分圧は2Torr
(露点温度−10℃)とした。パネルNo.7のPDP
は、背面パネル基板20が、図15に示すように、横隔
壁72と隔壁端部24aとの間隙63a及び横隔壁72
と隔壁端部24bとの間隙63bが、縦隔壁71とそれ
に隣接する隔壁24との間隙64a及び間隙64bより
も狭く設定されている(D1,D2<d1,d2)が、それ
以外は図10に示す例と同様である。このパネルNo.
7は、パネルNo.6と同様の条件で封着を行うことに
よって作製したPDPである。
Panel No. The PDP No. 6 is a PDP manufactured based on the example of FIG. 10 in the present embodiment, and the steam partial pressure of the dry air flowing in the sealing step is 2 Torr.
(Dew point temperature −10 ° C.). Panel No. 7 PDP
15, the rear panel substrate 20 has a gap 63a between the horizontal partition 72 and the partition end 24a and a horizontal partition 72 as shown in FIG.
The gap 63b between the partition wall end portion 24b and the partition wall end portion 24b is set to be narrower than the gap 64a and the gap 64b between the vertical partition wall 71 and the partition wall 24 adjacent thereto (D1, D2 <d1, d2). It is similar to the example shown in. This panel No.
No. 7 is the panel No. It is a PDP manufactured by sealing under the same conditions as in No. 6.

【0089】パネルNo.8のPDPは、図16に示す
ように、背面パネル基板20に通気口21aが1カ所だ
け設けられている。このパネルNo.8は、比較例に係
るものであって、封着工程において、前面パネル基板1
0と背面パネル基板20とを重ね合わせた後に内部空間
に乾燥空気を流すことなく加熱昇温して封着したもので
ある。
Panel No. In the PDP No. 8 as shown in FIG. 16, the back panel substrate 20 is provided with only one vent hole 21a. This panel No. 8 is related to the comparative example, and in the sealing step, the front panel substrate 1
0 and the rear panel substrate 20 are superposed and then heated and heated to seal the inner space without flowing dry air.

【0090】これらのパネルNo.6〜8のPDPにお
いて、封着工程以外の製造過程は同じ条件とした。ま
た、パネル構成も、通気口と流れ止め用隔壁以外は同じ
構成とし、蛍光体膜厚は30μmとし、放電ガスはNe
(95%)−Xe(5%)を500Torrで封入し
た。 〈発光特性試験〉 試験方法及び結果:これらの各PDPについて、発光特
性として、色補正なしで白バランスでのパネル輝度及び
色温度、青色セル及び緑色セルを同じ電力で発光させた
ときの発光スペクトルのピーク強度比を測定した。
These panel No. In PDPs 6 to 8, the manufacturing process was the same except the sealing process. The panel structure is the same except for the vent hole and the partition wall for blocking the flow, the phosphor film thickness is 30 μm, and the discharge gas is Ne.
(95%)-Xe (5%) was encapsulated at 500 Torr. <Light emission characteristic test> Test method and result: For each of these PDPs, as the light emission characteristics, the panel luminance and color temperature in white balance without color correction, and the light emission spectrum when the blue cell and the green cell were made to emit light at the same power The peak intensity ratio was measured.

【0091】これらの測定結果は、表2に示す通りであ
る。また、作製した各PDPを分解し、背面パネル基板
にクリプトンエキシマランプを用いて真空紫外線を照射
し、全色を発光させたときの色温度、並びに、青色及び
緑色を発光させたときの発光スペクトルのピーク強度比
を測定したところ、上記点灯による結果と同等の結果が
得られた。
The results of these measurements are shown in Table 2. In addition, each PDP produced was disassembled, and the rear panel substrate was irradiated with vacuum ultraviolet rays using a krypton excimer lamp to emit light of all colors, and emission spectra of blue and green. When the peak intensity ratio was measured, the same result as that obtained by the above lighting was obtained.

【0092】更に、パネルから青色蛍光体を取り出し、
TDS分析法で青色蛍光体1g当りから200℃以上で
脱離するH2Oガス分子数を測定した。また、X線回折
により、青色蛍光体結晶のa軸長に対するc軸長の比も
測定した。表2には、これらの結果も示されている。 考察:表2の測定結果において、パネルNo.6が最も
良好な発光特性を示している。
Further, take out the blue phosphor from the panel,
The number of H 2 O gas molecules desorbed from 1 g of the blue phosphor at 200 ° C. or higher was measured by the TDS analysis method. The ratio of the c-axis length to the a-axis length of the blue phosphor crystal was also measured by X-ray diffraction. Table 2 also shows these results. Discussion: In the measurement results of Table 2, the panel No. No. 6 shows the best light emission characteristic.

【0093】パネルNo.6の発光特性がパネルNo.
7の発光特性よりも良かったのは、パネルNo.6では
封着工程で、隔壁間の空間を乾燥空気が安定に流れ、内
部で発生したガスを効率良く排出できたのに対し、パネ
ルNo.7は、通気口21aから導入された乾燥空気の
ほとんどが、間隙63a及び間隙63bを通って通気口
21bから排出され、隔壁間の間隙65にはあまり流れ
なかったため、間隙65に発生したガスを効率良く排出
できなかったことが理由と考えられる。
Panel No. The light emission characteristics of panel No. 6 are panel No.
Panel No. 7 was better than the emission characteristics of No. 7. In No. 6, in the sealing step, the dry air stably flowed through the space between the partition walls, and the gas generated inside could be efficiently discharged, while the panel No. In No. 7, most of the dry air introduced from the ventilation port 21a was discharged from the ventilation port 21b through the gaps 63a and 63b and did not flow so much into the gap 65 between the partition walls, so the gas generated in the gap 65 was removed. It is considered that the reason was that it could not be efficiently discharged.

【0094】また、パネルNo.8の発光特性が悪いの
は、乾燥ガスが間隙65に流れないため、間隙65に発
生したガスが排出されないためと考えられる。なお、本
実施例では、図10に基づくPDPについて述べたが、
図10〜図16のいずれに基づくPDPにおいても、ほ
ぼ同等に良好な発光特性が得られた。 [実施の形態3]本実施形態のPDPは、図1に示す実
施の形態1のPDPと同様の構成である。
Further, the panel No. It is considered that the light emission characteristics of No. 8 are poor because the dry gas does not flow into the gap 65 and the gas generated in the gap 65 is not discharged. Although the PDP based on FIG. 10 has been described in this embodiment,
In the PDP based on any of FIGS. 10 to 16, almost the same good emission characteristics were obtained. [Third Embodiment] The PDP of the present embodiment has the same configuration as the PDP of the first embodiment shown in FIG.

【0095】また、PDPの製造方法においても上記実
施の形態1と同様であるが、封着工程において、前面パ
ネル基板10と背面パネル基板20とを封着する際に、
内部空間が大気圧より低い圧力になるよう調整しつつ乾
燥空気を流しながら、加熱を行う。即ち、前面パネル基
板10及び背面パネル基板20の少なくとも一方に封着
用ガラスフリットを塗布して封着ガラス層を形成して、
仮焼する。仮焼した後、両基板10,20を重ね合わ
せ、重ね合わせた両基板10,20を、上記図4に示す
封着用加熱装置50の加熱炉51内に入れ、ガラス管2
6a・26bに配管52a・52bを連結し、配管52
bから真空ポンプ54で排気することにより内部空間を
減圧状態にしながら、ガス供給源53からの乾燥空気を
配管52aを通して一定の流量で送り込む。このとき、
内部空間が大気圧より低い所定圧力に維持されるよう
に、調整バルブ55a,55bを調整する。
The manufacturing method of the PDP is the same as that of the first embodiment, but when the front panel substrate 10 and the rear panel substrate 20 are sealed in the sealing step,
Heating is performed while flowing dry air while adjusting the internal space to a pressure lower than atmospheric pressure. That is, a glass frit for sealing is applied to at least one of the front panel substrate 10 and the rear panel substrate 20 to form a sealing glass layer,
Calcine. After calcination, both substrates 10 and 20 are superposed, and the superposed substrates 10 and 20 are put into the heating furnace 51 of the heating apparatus for sealing 50 shown in FIG.
6a and 26b are connected to the pipes 52a and 52b, and the pipe 52
The dry air from the gas supply source 53 is sent at a constant flow rate through the pipe 52a while the internal space is depressurized by exhausting from the b through the vacuum pump 54. At this time,
The adjusting valves 55a and 55b are adjusted so that the internal space is maintained at a predetermined pressure lower than the atmospheric pressure.

【0096】このように内部空間に減圧状態で乾燥空気
を流しながら、両パネル基板10・20を加熱昇温し、
封着温度(ピーク温度450℃)で30分間加熱するこ
とによって、封着ガラス層15を軟化させて両パネル基
板10・20を封着する。そして、付着したパネル基板
の内部空間を真空排気しながらパネルを焼成する(35
0℃で3時間)。その後、上記組成の放電ガスを所定の
圧力で封入することによってPDPが作製される。
As described above, both panel substrates 10 and 20 are heated and heated while flowing dry air in the internal space under reduced pressure,
By heating at the sealing temperature (peak temperature 450 ° C.) for 30 minutes, the sealing glass layer 15 is softened and both panel substrates 10 and 20 are sealed. Then, the panel is fired while evacuating the internal space of the attached panel substrate (35).
3 hours at 0 ° C). Then, a discharge gas having the above composition is sealed at a predetermined pressure to produce a PDP.

【0097】(本実施の形態における効果)本実施形態
の封着工程においては、実施の形態1と同様、内部空間
に乾燥ガスを流しながら封着を行うので、上記したよう
に蛍光体が水蒸気と接触することによる熱劣化が抑えら
れる。内部空間に流通している乾燥空気の水蒸気分圧に
ついては、実施の形態1と同様、15Torr以下とす
ることが望ましく、さらに水蒸気分圧を、10Torr
以下、5Torr以下、1Torr、0.1Torr以
下と低く設定するほど蛍光体の熱劣化を抑えることがで
き、乾燥空気の露点温度としては、これを20℃以下と
するのが好ましく、0℃以下、−20℃以下、−40℃
以下とするのがより好ましい。
(Effects of the Present Embodiment) In the sealing step of the present embodiment, as in the case of the first embodiment, the sealing is performed while the dry gas is allowed to flow in the internal space. The thermal deterioration due to contact with is suppressed. The vapor partial pressure of the dry air flowing in the internal space is preferably 15 Torr or less, as in the first embodiment, and the vapor partial pressure is 10 Torr.
The lower the temperature is set to 5 Torr or less, 1 Torr, 0.1 Torr or less, the more the thermal deterioration of the phosphor can be suppressed, and the dew point temperature of the dry air is preferably 20 ° C. or less, 0 ° C. or less, -20 ℃ or less, -40 ℃
The following is more preferable.

【0098】更に、本実施の形態では、内部空間を大気
圧より低い圧力に保ちつつ封着を行うので、内部空間で
発生した水蒸気が、実施の形態1と比べて、より効率よ
く外部へ排出される。また、内部空間を大気圧以下に維
持しながら乾燥空気を導入しているので、封着時に内部
空間が膨らむことなく、前面パネル基板10と背面パネ
ル基板20とを密着性よく封着できる。
Further, in this embodiment, since the sealing is performed while keeping the internal space at a pressure lower than the atmospheric pressure, the steam generated in the internal space is discharged to the outside more efficiently than in the first embodiment. To be done. Further, since the dry air is introduced while maintaining the internal space at atmospheric pressure or lower, the front panel substrate 10 and the rear panel substrate 20 can be sealed with good adhesion without the internal space expanding during sealing.

【0099】封着時における内部空間の圧力を低く設定
するほど、水蒸気分圧を低くしやすく、密着性よく封着
できる点で好ましい。この点で、内部空間の圧力は、5
00Torr以下に設定することが好ましく、300T
orr以下に設定することがより好ましい。一方、乾燥
空気を流す場合、あまり圧力を低くし過ぎると、雰囲気
ガスの酸素分圧が低くなる。そのため、PDPで多用さ
れているBaMgAl1017:Eu、Zn2SiO4:M
nやY23:Eu等の酸化物系の蛍光体は、無酸素の雰
囲気中で加熱すると、酸素欠陥等の欠陥が形成され、発
光効率が低下起こりやすくなる。従って、この点から見
ると、圧力を300Torr以上に設定することが好ま
しいということが言える。
The lower the pressure of the internal space at the time of sealing is, the more preferable it is because the partial pressure of water vapor can be easily lowered and the sealing can be performed with good adhesion. At this point, the pressure in the internal space is 5
It is preferable to set below 00 Torr, 300T
It is more preferable to set it to or or less. On the other hand, when flowing dry air, if the pressure is too low, the oxygen partial pressure of the atmospheric gas will be low. Therefore, BaMgAl 10 O 17 : Eu and Zn 2 SiO 4 : M which are often used in PDPs.
When oxide-based phosphors such as n and Y 2 O 3 : Eu are heated in an oxygen-free atmosphere, defects such as oxygen defects are formed, and the luminous efficiency is likely to decrease. Therefore, from this point of view, it can be said that it is preferable to set the pressure to 300 Torr or more.

【0100】(本実施形態の変形例)なお、本実施の形
態では、封着工程において、内部空間に雰囲気ガスとし
て乾燥空気を流したが、蛍光体層と反応を起こさない酸
素、窒素等の不活性ガスであって水蒸気分圧の低いもの
を流しても、同様の効果が得られる。ただし、酸素を含
む雰囲気ガスを流す方が、輝度劣化が抑えられる点で好
ましい。
(Modification of this Embodiment) In the present embodiment, in the sealing step, dry air was flown as an atmosphere gas in the internal space, but oxygen, nitrogen, etc. which do not react with the phosphor layer The same effect can be obtained by flowing an inert gas having a low water vapor partial pressure. However, it is preferable to flow an atmosphere gas containing oxygen because luminance deterioration can be suppressed.

【0101】また、本実施の形態では、封着用ガラスが
軟化していない低温時から、内部空間を減圧状態にした
が、この場合、前面パネル基板10と背面パネル基板2
0との隙間から、加熱炉51内のガスが内部空間に流入
することもあり得るので、加熱炉51内にも乾燥空気を
充填したり流すようにすることが好ましい。また、封着
工程において、加熱炉51内のガスが内部空間に流入し
ないようにするため、封着用ガラスが軟化していない低
温時には、内部空間から乾燥ガスを強制的に排出せず
に、大気圧近くに保っておき、ある程度に温度が上昇し
てから強制的に排出して内部空間を大気圧より低くする
ようにしてもよい。この場合、排気を開始する温度は、
封着用ガラスが軟化し始める温度以上とすることが望ま
しい。この点から、排気を開始する温度は、300℃以
上とすることが好ましく、より好ましくは350℃以
上、更に400℃以上とすることが好ましい。
Further, in the present embodiment, the internal space is depressurized from the low temperature when the sealing glass is not softened. In this case, the front panel substrate 10 and the rear panel substrate 2 are
Since the gas in the heating furnace 51 may flow into the internal space through the gap between the heating furnace 51 and 0, it is preferable to fill or flow dry air also in the heating furnace 51. Further, in the sealing step, in order to prevent the gas in the heating furnace 51 from flowing into the internal space, the dry gas is not forcibly discharged from the internal space at a low temperature when the sealing glass is not softened, and a large amount of gas is not generated. The internal space may be kept close to the atmospheric pressure, and after the temperature rises to some extent, the internal space may be forcibly discharged to lower the internal space below the atmospheric pressure. In this case, the temperature at which exhaust starts is
It is desirable that the temperature is equal to or higher than the temperature at which the sealing glass begins to soften. From this point of view, the temperature at which exhaust is started is preferably 300 ° C. or higher, more preferably 350 ° C. or higher, and further preferably 400 ° C. or higher.

【0102】また、本実施形態では、封着工程を、内部
空間を減圧状態にしつつ乾燥空気を流しながら行うこと
について説明したが、蛍光体焼成工程、仮焼工程につい
ても、減圧状態で乾燥空気を流した雰囲気中で行うこと
も可能であって、同様の効果を奏する。また、本実施形
態においても、上記実施の形態2で説明したようなパネ
ル構造を適用すればより効果的である。
Further, in the present embodiment, the sealing process is described as being performed while flowing the dry air while keeping the internal space in the reduced pressure state. However, the phosphor firing process and the calcination process are also performed in the reduced pressure state under the dry air condition. It is also possible to carry out in a flowing atmosphere, and the same effect is obtained. Also in this embodiment, it is more effective if the panel structure as described in the second embodiment is applied.

【0103】(実施例3)(Example 3)

【0104】[0104]

【表3】 [Table 3]

【0105】表3に、本実施の形態及び実施形態1に基
づいて作製した実施例に係るPDP、及び比較例に係る
PDPについて、作製条件を示す。パネルNo.11〜
21のPDPは、本実施形態に基づくPDPであって、
封着工程でパネル内部に流す乾燥ガスの水蒸気分圧、パ
ネル内部空間のガス圧、パネル内部空間を大気圧以下に
し始める温度、および乾燥ガスの種類を変化させたもの
である。
Table 3 shows manufacturing conditions for the PDP according to the example manufactured based on the present embodiment and the first embodiment and the PDP according to the comparative example. Panel No. 11-
21 is a PDP based on this embodiment,
The water vapor partial pressure of the dry gas flowing inside the panel in the sealing step, the gas pressure of the panel internal space, the temperature at which the panel internal space starts to be below atmospheric pressure, and the type of the dry gas are changed.

【0106】パネルNo.22のPDPは、実施の形態
1に基づくPDPであって、封着工程において、内部空
間に乾燥空気を導入したが、強制的に排気を行わなかっ
たものである。パネルNo.23のPDPは、比較例に
係るPDPであって、封着工程において内部空間に乾燥
ガスを導入することなく従来通りの方法で行ったもので
ある。
Panel No. The PDP No. 22 is the PDP according to the first embodiment, and the dry air was introduced into the internal space in the sealing step, but the exhaust was not forcibly performed. The PDP of panel No. 23 is the PDP according to the comparative example, which was manufactured by the conventional method in the sealing step without introducing dry gas into the internal space.

【0107】これらの各PDPにおいて、蛍光体層の膜
厚は30μmとし、放電ガスはNe(95%)−Xe
(5%)を500Torrで封入した。 〈発光特性試験〉試験方法及び結果これらの各PDPに
ついて、発光特性として、青色発光の相対発光強度、青
色発光の色度座標yの値、青色発光のピーク波長、白色
表示(色補正なし)の色温度、青色セル及び緑色セルを
同じ電力で発光させたときの発光スペクトルのピーク強
度比を測定した。
In each of these PDPs, the thickness of the phosphor layer was 30 μm, and the discharge gas was Ne (95%)-Xe.
(5%) was sealed at 500 Torr. <Luminescence Characteristic Test> Test Method and Results For each of these PDPs, the relative luminous intensity of blue light emission, the value of the chromaticity coordinate y of blue light emission, the peak wavelength of blue light emission, and the white display (without color correction) were used as the light emission characteristics. The peak intensity ratio of the emission spectrum when the color temperature, the blue cell and the green cell were made to emit light with the same power was measured.

【0108】青色発光強度、青色発光の色度座標yの
値、白色表示(色補正なし)の色温度については、実施
の形態1で説明した方法で測定した。青色発光のピーク
波長については、青色セルのみを点灯させ、その発光ス
ペクトルを測定することによって求めた。 これらの測
定結果は、表3に示す通りである。なお、表3に示す青
色発光の相対発光強度は、発光強度測定値を、比較例に
係るパネルNo.23についての発光強度測定値を基準
値100としたときの相対値で表わしたものである。
The blue emission intensity, the value of the chromaticity coordinate y of blue emission, and the color temperature of white display (without color correction) were measured by the method described in the first embodiment. The peak wavelength of blue light emission was determined by turning on only the blue cell and measuring the emission spectrum. The measurement results are shown in Table 3. The relative emission intensities of blue emission shown in Table 3 are obtained by comparing the emission intensity measured values with the panel No. 1 according to the comparative example. 23 is a relative value when the emission intensity measurement value for 23 is set to a reference value of 100.

【0109】また、作製した各PDPを分解し、背面パ
ネル基板にクリプトンエキシマランプを用いて真空紫外
線を照射し、青色発光時の色度座標y、全色を発光させ
たときの色温度、並びに、青色及び緑色を発光させたと
きの発光スペクトルのピーク強度比を測定したところ、
上記点灯による結果と同等の結果が得られた。更に、パ
ネルから青色蛍光体を取り出し、TDS分析法で青色蛍
光体1g当りから200℃以上で脱離するH2Oガス分
子数を測定した。また、X線回折により、青色蛍光体結
晶のa軸長に対するc軸長の比も測定した。表3には、
これらの結果も示されている。
Further, each PDP produced was disassembled, and the rear panel substrate was irradiated with vacuum ultraviolet rays using a krypton excimer lamp to obtain chromaticity coordinates y when emitting blue light, color temperature when emitting all colors, and When the peak intensity ratio of the emission spectrum when emitting blue and green light was measured,
The same result as the result of the above lighting was obtained. Further, the blue phosphor was taken out from the panel, and the number of H 2 O gas molecules desorbed from 1 g of the blue phosphor at 200 ° C. or higher was measured by TDS analysis. The ratio of the c-axis length to the a-axis length of the blue phosphor crystal was also measured by X-ray diffraction. Table 3 shows
These results are also shown.

【0110】考察:実施例(パネルNo.11〜21)
と、比較例(パネルNo.23)とで、発光特性を比較
すると、実施例は比較例より発光特性が優れている(青
色発光の発光強度が高く、白色表示の色温度が高
い。)。パネルNo.14及びパネルNo.22の発光特
性を比べると、同等の値を示している。これは、内部空
間に流れる乾燥空気の水蒸気分圧が同等であるなら、内
部空間が大気圧状態であっても、減圧状態であっても同
等の効果(発光特性)が得られることを示している。
Consideration: Example (Panel Nos. 11 to 21)
And the comparative example (panel No. 23) are compared with each other in terms of light emitting characteristics, the example shows superior light emitting characteristics to the comparative example (higher emission intensity of blue light emission and higher color temperature of white display). Comparing the light emission characteristics of panel No. 14 and panel No. 22, the same value is shown. This shows that if the vapor partial pressure of the dry air flowing in the internal space is the same, the same effect (light emission characteristics) can be obtained whether the internal space is at atmospheric pressure or at reduced pressure. There is.

【0111】但し、パネルNo.22の中で、隔壁と前
面パネル基板との間に隙間が見られたものもあった。こ
れは、パネルNo.22においては、封着中に導入する
乾燥ガスで内部空間が多少膨らんだためと考えられる。
パネルNo.11〜14の発光特性を比較すると、No.
11〜14の順で青色発光強度が高く、また青色発光の
色度座標yも小さくなっていることがわかる。これよ
り、乾燥空気の水蒸気分圧が低いほど、青色発光強度が
高くなり、青色発光の色度座標yも小さくなることがわ
かる。これは、青色蛍光体の熱劣化が、水蒸気分圧を低
減することによって防止されたためと考えられる。
However, in Panel No. 22, there were some in which a gap was seen between the partition wall and the front panel substrate. It is considered that this is because in Panel No. 22, the internal space swelled to some extent by the dry gas introduced during sealing.
Comparing the light emission characteristics of panel Nos. 11 to 14, No.
It can be seen that the blue emission intensity is high and the chromaticity coordinate y of blue emission is also small in the order of 11 to 14. From this, it is understood that the lower the water vapor partial pressure of the dry air, the higher the blue light emission intensity and the smaller the chromaticity coordinate y of the blue light emission. It is considered that this is because the heat deterioration of the blue phosphor was prevented by reducing the water vapor partial pressure.

【0112】パネルNo.14〜16の発光特性を比較
すると、青色発光の色度座標yについては同等であっ
て、青色発光の色度座標yが内部空間の圧力に影響され
ないことを示している。一方、青色発光の相対発光強度
については、パネルNo.14〜16の順で低下してい
る。これは、雰囲気ガスの酸素分圧が低くなると、蛍光
体に酸素欠陥等の欠陥が発生し、青色発光の発光強度が
低下することを示している。
Comparing the light emission characteristics of Panel Nos. 14 to 16, it is shown that the chromaticity coordinate y of blue light emission is the same and that the chromaticity coordinate y of blue light emission is not affected by the pressure of the internal space. . On the other hand, the relative emission intensity of blue emission decreases in the order of Panel Nos. 14-16. This indicates that when the oxygen partial pressure of the atmospheric gas becomes low, defects such as oxygen defects occur in the phosphor, and the emission intensity of blue light emission decreases.

【0113】パネルNo.14及びパネルNo.20,2
1の発光特性を比べると、青色発光の色度座標yについ
ては同等であって、青色発光の色度座標yが内部空間に
流す乾燥ガスの種類に影響されないことを示している。
一方、青色発光の相対発光強度については、パネルN
o.20,21では、パネルNo.14と比べて低くなっ
ている。これは、乾燥ガスとして窒素やNe(95%)
−Xe(5%)のような酸素が含まれないガスを用いた
場合、蛍光体に酸素欠陥等の欠陥が発生し、発光強度が
低下することを示している。
Panel No. 14 and Panel Nos. 20, 2
Comparing the emission characteristics of No. 1 shows that the chromaticity coordinates y of blue light emission are the same and that the chromaticity coordinates y of blue light emission are not affected by the type of dry gas flowing into the internal space.
On the other hand, for the relative emission intensity of blue emission, see panel N
Nos. 20 and 21 are lower than those of Panel No. 14. This is nitrogen and Ne (95%) as dry gas.
This indicates that when a gas that does not contain oxygen, such as -Xe (5%), is used, defects such as oxygen defects occur in the phosphor and the emission intensity decreases.

【0114】パネルNo.14及びパネルNo.17〜1
9の発光特性を比べると、パネルNo.17、18、1
4、19の順で、青色発光強度が向上し、色度座標yも
小さくなっている。これは、内部空間を真空排気して大
気圧より低くし始める温度が高いほど、青色発光強度が
高く、色度座標yも小さくなることを示しており、内部
空間の排気開始温度を高くすることで、パネル周囲の雰
囲気ガスがパネル内部空間に流入することを防げたため
と考えられる。
Panel No. 14 and Panel Nos. 17 to 1
Comparing the light emission characteristics of No. 9, panel No. 17, 18, 1
In the order of 4 and 19, the blue light emission intensity is improved and the chromaticity coordinate y is also decreased. This indicates that the higher the temperature at which the inner space is evacuated and the pressure becomes lower than the atmospheric pressure, the higher the blue emission intensity and the smaller the chromaticity coordinate y become. Therefore, the evacuation start temperature of the inner space should be increased. It is considered that the atmospheric gas around the panel was prevented from flowing into the internal space of the panel.

【0115】また、表3に示した各パネルNo.におけ
る青色発光の色度座標yと青色発光のピーク波長との関
係を見ると、青色発光の色度座標yの値が小さいほど、
青色発光のピーク波長は短いことがわかる。これは、青
色発光の色度座標y値が小さいことと、青色発光のピー
ク波長が短いこととが同等であることを示している。
[実施の形態4]本実施形態のPDPは、図1に示す実
施の形態1のPDPと同様の構成である。
Further, each panel No. shown in Table 3 Looking at the relationship between the chromaticity coordinate y of the blue light emission and the peak wavelength of the blue light emission in FIG.
It can be seen that the peak wavelength of blue light emission is short. This indicates that the chromaticity coordinate y value of blue emission is small and the peak wavelength of blue emission is short.
[Fourth Embodiment] The PDP of the present embodiment has the same configuration as the PDP of the first embodiment shown in FIG.

【0116】本実施形態のPDPの製造方法において
は、前面パネル基板10と背面パネル基板20とを封着
する封着工程までは、従来と同様の方法で行うが(即
ち、封着工程では、前面パネル基板10と背面パネル基
板20とを重ね合わせた後に内部空間に乾燥空気を流す
ことなく加熱昇温する。)、排気工程において、真空排
気を開始する前に、乾燥ガスを内部空間に流しながら加
熱する処理を行う点が異なっており、これによって、封
着工程までに熱劣化した青色蛍光体層の発光特性を回復
させることができる。
In the method for manufacturing a PDP of this embodiment, the conventional method is performed up to the sealing step of sealing the front panel substrate 10 and the rear panel substrate 20 (that is, in the sealing step, After the front panel substrate 10 and the rear panel substrate 20 are superposed on each other, the temperature is raised by heating without flowing dry air into the internal space.) In the exhausting step, a dry gas is flown into the internal space before the vacuum exhaust is started. However, the difference is that the heating treatment is performed, and this makes it possible to restore the emission characteristics of the blue phosphor layer that has been thermally deteriorated by the sealing step.

【0117】以下、本実施の形態における排気工程につ
いて、詳述説明する。本実施の形態の排気工程では、図
4に示す封着用加熱装置と同じものを用いるので、図4
を参照しながら説明する。背面パネル基板20の通気口
21a、21bには、予めガラス管26a・26bが取
り付けられている。ガラス管26a・26bに配管52
a・52bを連結し、配管52bから真空ポンプ54で
排気することによって内部空間を一旦真空にした後、真
空ポンプ54は使わずに配管52aから一定の流量で乾
燥空気を送り込む。これによって、両パネル基板10・
20間の内部空間に乾燥空気が流通し、配管52bから
排出される。
Hereinafter, the exhaust process in the present embodiment will be described in detail. In the exhaust step of the present embodiment, the same heating device for sealing as shown in FIG.
Will be described with reference to. Glass tubes 26a and 26b are previously attached to the ventilation holes 21a and 21b of the rear panel substrate 20. Piping 52 on the glass tubes 26a and 26b
After connecting the a and 52b and evacuating the pipe 52b with the vacuum pump 54 to temporarily evacuate the internal space, the vacuum pump 54 is not used and the dry air is sent from the pipe 52a at a constant flow rate. As a result, both panel substrates 10
Dry air circulates in the internal space between the 20 and is discharged from the pipe 52b.

【0118】このように内部空間に乾燥空気を流しなが
ら、両パネル基板10・20を所定の温度になるまで加
熱昇温する。その後、乾燥空気の供給を停止し、今度
は、真空ポンプ54を用いて排気を行いながら、所定の
排気温度に保つことによって、パネル基板10・20の
内部に吸着されているガスを排出する。
In this way, while the dry air is flowing into the internal space, both panel substrates 10 and 20 are heated and heated to a predetermined temperature. After that, the supply of dry air is stopped, and the gas adsorbed inside the panel substrates 10 and 20 is exhausted by maintaining a predetermined exhaust temperature while exhausting using the vacuum pump 54.

【0119】このように排気工程が終了した後、放電ガ
スを封入することによってPDPが作製される。 (本実施形態の効果について)本実施形態の排気工程に
よれば、排気工程における蛍光体層の熱劣化を防止する
効果がある。
After the exhaust process is completed in this way, a discharge gas is filled in to produce a PDP. (Regarding Effects of the Present Embodiment) According to the exhaust process of the present embodiment, there is an effect of preventing thermal deterioration of the phosphor layer in the exhaust process.

【0120】また、PDPの製造工程の中で、蛍光体を
塗布し蛍光体層を形成した後でこれを焼成する蛍光体焼
成工程、封着用ガラスフリットを塗布した後でこれを仮
焼する仮焼工程、並びに前面パネル基板と背面パネル基
板を重ね合わせて封着する封着工程において、蛍光体層
(特に青色蛍光体)に熱劣化が生じやすいが、仮に排気
工程を行う前の封着工程などで蛍光体層が熱劣化して発
光特性が低下していたとしても、蛍光体層の発光特性を
回復させることが可能である。
In the PDP manufacturing process, a phosphor firing process of applying a phosphor to form a phosphor layer and then firing the phosphor layer, and a process of applying a sealing glass frit and then calcining it In the baking process and the sealing process of overlapping and sealing the front panel substrate and the rear panel substrate, the phosphor layer (especially the blue phosphor) is likely to be thermally deteriorated, but the sealing process before the exhaust process is temporarily performed. Even if the phosphor layer is deteriorated due to heat due to the above conditions and the light emitting characteristic is deteriorated, the light emitting characteristic of the phosphor layer can be recovered.

【0121】この理由は、次のように考えられる。封着
工程によって封着されたパネル基板を加熱昇温すると、
内部空間にはガス(特に水蒸気)が放出される。例え
ば、封着されたパネル基板を大気中に放置しておくと内
部にも水分等が吸着されるので、これを加熱すると水蒸
気などが放出されることになる。ここで、本実施形態の
排気工程によれば、真空排気を開始する前に、内部空間
に乾燥空気を流通させながらパネル基板を加熱昇温させ
るという乾燥ガス処理で水蒸気等が放出され効率よくパ
ネル外部に排出される。従って、乾燥ガス処理を行わず
単純に真空排気を行う従来の排気工程と比べて、熱劣化
は少なくなる。
The reason for this is considered as follows. When the panel substrate sealed by the sealing process is heated and heated,
Gas (especially water vapor) is released into the internal space. For example, if the sealed panel substrate is left to stand in the atmosphere, moisture or the like is also adsorbed inside, so that when it is heated, water vapor or the like is released. Here, according to the exhaust process of the present embodiment, before the vacuum exhaust is started, water vapor or the like is efficiently released by the dry gas treatment of heating and raising the temperature of the panel substrate while circulating the dry air in the internal space. It is discharged to the outside. Therefore, compared with the conventional exhaust process of simply performing vacuum exhaust without performing the dry gas treatment, thermal deterioration is reduced.

【0122】また、乾燥ガス処理によるガス排出作用に
よって、蛍光体層が熱劣化する時とは逆の反応が起こっ
てガスが排出され、発光特性が回復されると考えられ
る。このように本実施形態では、一旦熱劣化した青色蛍
光体の発光特性を、最後の熱プロセスとなる排気工程で
回復させることができるため、実用的効果も大きい。
Further, it is considered that the gas discharge action by the dry gas treatment causes a reaction opposite to that when the phosphor layer is thermally deteriorated to discharge the gas and restore the light emission characteristics. As described above, in the present embodiment, the light emission characteristics of the blue phosphor that has once been thermally deteriorated can be recovered in the exhaust step which is the final thermal process, so that the practical effect is large.

【0123】本排気工程における青色蛍光体の発光特性
を回復させる効果をより高めるために、以下のように条
件を設定することが好ましい。排気工程におけるピーク
温度(即ち、乾燥ガスを流しながら加熱するときの温度
及び真空排気を行うときの温度の温度の中で高い方の温
度)は、高く設定する程、青色蛍光体の発光特性回復効
果は大きくなる。
In order to enhance the effect of recovering the emission characteristics of the blue phosphor in this exhaust step, it is preferable to set the following conditions. The peak temperature in the exhausting process (that is, the higher temperature of the temperature when heating while flowing the drying gas and the temperature when performing vacuum evacuation), the higher the temperature is set, the more the emission characteristics of the blue phosphor are recovered. The effect increases.

【0124】十分な発光特性の回復効果を得るために、
ピーク温度(乾燥ガス処理時の温度及び排気温度に中で
高い方の温度)は300℃以上に設定することが好まし
く、更に、360℃、380℃、400℃とより高く設
定するのが好ましい。但し、封着用ガラスが軟化して流
れ出すほど温度を高くしないようにする必要がある。ま
た、乾燥ガス処理において加熱昇温する温度は、真空排
気を行うときの排気温度よりも高く設定する方が好まし
い。これは、真空排気時の排気温度が乾燥ガス処理にお
ける加熱温度より高いと、真空排気時において基板から
内部空間に放出されるガス(特に水蒸気)によって効果
が低減するのに対して、乾燥ガス処理時の加熱温度の方
を高くすると、真空排気時において内部空間に放出され
るガスが少なくなるためと考えられる。
In order to obtain a sufficient effect of recovering the emission characteristics,
It is preferable to set the peak temperature (higher temperature among the drying gas treatment temperature and the exhaust gas temperature) to 300 ° C. or higher, and further to 360 ° C., 380 ° C., 400 ° C. or higher. However, it is necessary not to raise the temperature so high that the sealing glass softens and flows out. Further, it is preferable that the temperature for heating and raising in the dry gas treatment is set higher than the exhaust temperature at the time of vacuum exhaust. This is because when the exhaust temperature during vacuum exhaust is higher than the heating temperature during dry gas treatment, the effect is reduced by the gas (especially water vapor) released from the substrate into the internal space during vacuum exhaust, whereas dry gas treatment It is considered that when the heating temperature at this time is higher, the amount of gas released to the internal space during vacuum evacuation decreases.

【0125】乾燥ガス処理において流通させる乾燥ガス
の水蒸気分圧は、低く設定するほど好ましい。即ち、青
色蛍光体の発光特性が回復する効果は、乾燥ガスの水蒸
気分圧が低いほど向上するが、従来の真空排気工程と比
較して顕著な効果が現れるのは、水蒸気分圧が15To
rr以下の範囲である。熱劣化した青色蛍光体の発光特
性を回復できることは、以下の実験からもわかる。
The steam partial pressure of the dry gas to be circulated in the dry gas treatment is preferably set lower. That is, the effect of recovering the emission characteristics of the blue phosphor is improved as the water vapor partial pressure of the dry gas is lower, but the remarkable effect is exhibited as compared with the conventional vacuum evacuation process.
It is in the range of rr or less. It can be seen from the following experiment that the emission characteristics of the blue phosphor that has been thermally deteriorated can be recovered.

【0126】図17及び図18は、青色蛍光体(BaM
gAl1017:Eu)を一旦熱劣化させた後、空気中で
再焼成して発光特性を回復させる効果の水蒸気分圧依存
性を示す特性図であって、以下のように測定したもので
ある。先ず、青色蛍光体(色度座標y値は、0.05
2)を、水蒸気分圧30Torrの空気中で焼成(ピー
ク温度450℃で20分)することによって熱劣化させ
た。この熱劣化した青色蛍光体は、色度座標y値は0.
092、相対発光強度(全く未焼成の青色蛍光体の発光
強度を100としたときの発光強度の指標)は85であ
った。
17 and 18 show the blue phosphor (BaM).
(gAl 10 O 17 : Eu) is a characteristic diagram showing the steam partial pressure dependence of the effect of recovering the emission characteristics by re-baking in air after thermally degrading it, which was measured as follows. is there. First, a blue phosphor (with a chromaticity coordinate y value of 0.05
2) was thermally deteriorated by baking (20 minutes at a peak temperature of 450 ° C.) in air having a water vapor partial pressure of 30 Torr. The heat-deteriorated blue phosphor has a chromaticity coordinate y value of 0.
The relative emission intensity was 092 and the relative emission intensity (an index of the emission intensity when the emission intensity of the completely unfired blue phosphor was 100) was 85.

【0127】そして、この熱劣化した青色蛍光体を、水
蒸気分圧の値をいろいろに変えた空気中で所定のピーク
温度で再焼成した後、相対発光強度並びに色度座標y値
を測定した。なお、再焼成時に、ピーク温度は350℃
および450℃に設定し、ピーク温度維持時間は30分
とした。図17は、再焼成時における空気中の水蒸気分
圧と測定した相対発光強度との関係を示し、図18は、
再焼成時における空気中の水蒸気分圧と測定した色度座
標y値との関係を示している。
Then, the heat-deteriorated blue phosphor was re-baked at a predetermined peak temperature in air with various values of water vapor partial pressure, and then the relative emission intensity and the chromaticity coordinate y value were measured. The peak temperature during re-baking is 350 ° C.
And 450 ° C., and the peak temperature maintenance time was 30 minutes. FIG. 17 shows the relationship between the partial pressure of water vapor in air and the measured relative luminescence intensity during re-firing, and FIG. 18 shows
The relationship between the partial pressure of water vapor in air and the measured chromaticity coordinate y value during re-firing is shown.

【0128】図17,18の特性図から、再焼成の温度
が350℃,450℃のいずれの場合でも、再焼成時に
おける空気中の水蒸気分圧が0〜30Torrの範囲に
おいて、青色相対発光強度は高く、青色色度座標y値は
小さくなっていることがわかる。これは、青色蛍光体
が、水蒸気が多く含まれる雰囲気で焼成することによっ
て熱劣化し発光特性が低下しても、より水蒸気分圧の低
い雰囲気中で再焼成することによって、発光特性が回復
すること、即ち、青色蛍光体の熱劣化が可逆的反応であ
ることを示している。
From the characteristic diagrams of FIGS. 17 and 18, the blue relative luminescence intensity is obtained in the case where the re-baking temperature is 350 ° C. or 450 ° C. and the water vapor partial pressure in the air during re-baking is in the range of 0 to 30 Torr. It can be seen that is high and the blue chromaticity coordinate y value is small. This is because even if the blue phosphor is heat-deteriorated by firing in an atmosphere containing a large amount of water vapor and the emission characteristics are deteriorated, the emission characteristics are recovered by re-firing in an atmosphere with a lower water vapor partial pressure. That is, it means that the thermal deterioration of the blue phosphor is a reversible reaction.

【0129】また、図17,18の特性図から、再焼成
時における空気中の水蒸気分圧が低いほど、そして再焼
成温度が高いほど、発光特性の回復効果が大きいことも
わかる。なお詳しい説明は省略するが、この他に、ピー
ク温度で維持する時間を変えて同様の測定を行った。そ
の結果、ピーク温度で維持する時間が長いほど、発光特
性の回復効果は大きいことがわかった。
It is also understood from the characteristic diagrams of FIGS. 17 and 18 that the lower the water vapor partial pressure in the air during re-firing and the higher the re-firing temperature, the greater the effect of recovering the light emission characteristics. Although detailed description is omitted, in addition to this, the same measurement was performed by changing the time for maintaining at the peak temperature. As a result, it was found that the longer the time of maintaining at the peak temperature, the greater the effect of recovering the light emission characteristics.

【0130】(本実施形態の変形例)本実施形態の排気
工程では、乾燥ガス処理を行うのに乾燥空気を用いた
が、窒素やアルゴン等の不活性ガスを用いても同様に実
施でき、同様の効果が得られる。また、本実施形態の排
気工程では、真空排気を開始する前に、乾燥空気を流通
させながらパネル基板を加熱昇温させる乾燥ガス処理を
行ったが、乾燥ガス処理を行わず単純に真空排気を行う
場合でも、排気温度を従来の一般的な排気温度よりも高
めの排気温度(360℃以上)に設定することによっ
て、蛍光体層の発光特性をある程度回復することはでき
る。そして、この場合も、排気温度を高く設定する程、
大きい発光特性回復効果が得られる。
(Modification of this Embodiment) In the exhaust process of this embodiment, dry air is used for performing the dry gas treatment, but it can be similarly carried out by using an inert gas such as nitrogen or argon. The same effect can be obtained. Further, in the exhaust step of the present embodiment, before the vacuum exhaust is started, the dry gas treatment for heating and raising the temperature of the panel substrate while circulating the dry air was performed, but the vacuum exhaust is simply performed without performing the dry gas treatment. Even when it is performed, the emission characteristics of the phosphor layer can be restored to some extent by setting the exhaust temperature to a higher exhaust temperature (360 ° C. or higher) than the conventional general exhaust temperature. And, also in this case, the higher the exhaust temperature is set,
A large effect of recovering the light emission characteristic can be obtained.

【0131】但し、乾燥ガス処理を行う方が、蛍光体層
の発光特性回復効果は大きい。これは、内部空間が狭い
ために、乾燥ガス処理を行わないと、真空排気時に放出
される水蒸気がパネル外部へ十分に排気されにくいため
と考えられる。また、本実施形態においても、上記実施
の形態2で説明したようなパネル構造を適用すれば、乾
燥ガス処理時においてより大きなガス排出効果が期待で
きる。
However, the effect of recovering the emission characteristics of the phosphor layer is greater when the dry gas treatment is performed. It is considered that this is because the inner space is narrow, so that it is difficult to sufficiently exhaust the steam released during vacuum exhaust to the outside of the panel unless the dry gas treatment is performed. Further, in the present embodiment as well, if the panel structure described in the second embodiment is applied, a larger gas discharging effect can be expected during the dry gas treatment.

【0132】(実施例4)(Example 4)

【0133】[0133]

【表4】 [Table 4]

【0134】パネルNo.21〜29は、本実施の形態
に基づいて、乾燥ガス処理を行った後、真空排気して作
製した実施例のPDPであって、乾燥ガス処理時の加熱
温度および排気温度とを、いろいろな温度に変えて作製
した。乾燥ガス処理では、乾燥空気を流しながら所定の
加熱温度で30分間維持し、真空排気時には、所定の排
気温度で2時間維持した。
Panel No. Reference numerals 21 to 29 are PDPs of the examples produced by performing a dry gas treatment and then vacuum-evacuating based on the present embodiment, and various heating temperatures and exhaust temperatures during the dry gas treatment are set. It was prepared by changing the temperature. In the dry gas treatment, a predetermined heating temperature was maintained for 30 minutes while flowing dry air, and a predetermined exhaust temperature was maintained for 2 hours during vacuum evacuation.

【0135】パネルNo.30〜32は、上記変形例に
基づいて、乾燥ガス処理は行わず、360℃以上の排気
温度で真空排気して作製した実施例のPDPである。パ
ネルNo.33は、従来と同様に、乾燥ガス処理を行う
ことなく350℃で加熱しながら2時間真空排気して作
製した比較例に係るPDPである。これらの各PDPに
おいて、パネル構成は同じとし、蛍光体層の膜厚は30
μmとし、放電ガスはNe(95%)−Xe(5%)を
500Torrで封入した。
Panel No. Nos. 30 to 32 are PDPs of the examples produced by vacuum evacuation at an exhaust temperature of 360 ° C. or higher without performing the dry gas treatment based on the above modification. Panel No. 33 is a PDP according to a comparative example, which was manufactured by vacuum evacuation for 2 hours while heating at 350 ° C. without performing dry gas treatment, as in the conventional case. In each of these PDPs, the panel structure is the same, and the thickness of the phosphor layer is 30.
The discharge gas was Ne (95%)-Xe (5%) sealed at 500 Torr.

【0136】〈発光特性試験〉これらの各PDPについ
て、発光特性として、青色発光の相対発光強度、青色発
光の色度座標y値を測定した。試験結果と考察:これら
の測定結果は、表4に示す通りである。なお、発光強度
は、比較例のパネルNo.33の発光強度を100と
し、相対発光強度で示している。
<Light Emission Characteristic Test> For each of these PDPs, the relative light emission intensity of blue light emission and the chromaticity coordinate y value of blue light emission were measured as light emission characteristics. Test results and discussion: These measurement results are as shown in Table 4. In addition, the emission intensity is the panel No. of the comparative example. The emission intensity of 33 is 100, and the relative emission intensity is shown.

【0137】パネルNo.21〜28は、いずれもパネ
ルNo.33と比べて、発光強度が高く青色発光の色度
座標y値が小さい。これは、本実施の形態の排気工程を
用いてPDPを製造することによって、従来よりPDP
の発光特性が向上することを示している。パネルNo.
21〜24の間で発光特性を比べると、パネルNo.2
1,22,23,24の順で発光特性が向上している
(相対発光強度が高くなり、色度座標y値が小さくなっ
ている)。これは、乾燥ガス処理時における加熱温度を
高く設定する程、青色蛍光体層の発光特性回復効果が向
上することを示している。
Panel No. Nos. 21 to 28 are all panel numbers. 33, the emission intensity is high and the chromaticity coordinate y value of blue emission is small. This is because the PDP is manufactured by using the exhaust process of the present embodiment, so that
It shows that the light emission characteristics of are improved. Panel No.
Comparing the emission characteristics between Nos. 21 to 24, the panel No. Two
The emission characteristics are improved in the order of 1, 22, 23 and 24 (the relative emission intensity is increased and the chromaticity coordinate y value is decreased). This indicates that the higher the heating temperature during the dry gas treatment is set, the more the effect of recovering the emission characteristics of the blue phosphor layer is improved.

【0138】また、パネルNo.24,25,26の間
で発光特性を比較すると、パネルNo.26,25,2
4の順で発光特性が向上している。これは、乾燥ガス処
理時における加熱温度を、真空排気時の排気温度よりも
高く設定する方が、青色蛍光体層の発光特性回復効果が
向上することを示している。また、パネルNo.24,
27〜29の間で発光特性を比べると、パネルNo.2
7,28,24,29の順で発光特性が向上している。
これは、乾燥ガス処理時の水蒸気分圧を小さく設定する
ほど、青色蛍光体層の発光特性回復効果が向上すること
を示している。
Further, the panel No. Comparing the light emission characteristics among 24, 25, and 26, the panel No. 26, 25, 2
In the order of 4, the light emission characteristics are improved. This indicates that the effect of recovering the emission characteristics of the blue phosphor layer is improved by setting the heating temperature during the dry gas treatment higher than the exhaust temperature during vacuum exhaust. In addition, the panel No. 24,
Comparing the light emission characteristics between Nos. 27 to 29, the panel No. Two
The emission characteristics are improved in the order of 7, 28, 24, 29.
This indicates that the smaller the partial pressure of water vapor during the dry gas treatment is set, the more the effect of recovering the emission characteristics of the blue phosphor layer is improved.

【0139】また、パネルNo.30〜32は、パネル
No.33と比べて、いずれも発光強度が高く青色発光
の色度座標y値が小さい。これは、上記変形例の排気工
程を用いてPDPを製造することによっても、従来より
PDPの発光特性が向上することを示している。ただ
し、パネルNo.30〜32は、パネルNo.21等と
比べると発光特性は劣っている。これは、乾燥ガス処理
を行う方が、青色蛍光体層の発光特性の回復効果が大き
いことを示している。
In addition, the panel No. Nos. 30 to 32 are panel Nos. Compared with No. 33, the emission intensity is high and the chromaticity coordinate y value of blue emission is small. This indicates that the emission characteristics of the PDP are improved as compared with the conventional case by manufacturing the PDP using the exhaust process of the above modification. However, the panel No. Nos. 30 to 32 are panel Nos. The emission characteristics are inferior to those of 21 and the like. This shows that the effect of recovering the emission characteristics of the blue phosphor layer is greater when the dry gas treatment is performed.

【0140】[実施の形態5]本実施形態のPDPは、
図1に示す実施の形態1のPDPと同様の構成である。
PDPの製造方法においても、仮焼工程までは上記実施
の形態1と同様であるが、前面パネル基板10と背面パ
ネル基板20とを封着する際に、前面パネル基板10と
背面パネル基板20の対向面を開放した状態で予備加熱
し、加熱された状態で重ね合わせて封着する点が異なっ
ている。
[Embodiment 5] The PDP of this embodiment is
It has the same configuration as the PDP of the first embodiment shown in FIG.
The PDP manufacturing method is the same as that of the first embodiment up to the calcination step, but when the front panel substrate 10 and the rear panel substrate 20 are sealed, the front panel substrate 10 and the rear panel substrate 20 are separated. They differ in that they are preheated in a state where the facing surfaces are open, and are superposed and sealed in a heated state.

【0141】本実施形態のPDPは、青色セルのみを点
灯させたときの発光色の色度座標yが0.08以下、発
光スペクトルのピーク波長が455nm以下であって、
色補正なしの白バランスで色温度を7000K以上とす
ることができる。更に製造条件によっては青色発光の色
度座標yを0.06以下とすることにより、色補正なし
の白バランスで色温度を11000K程度とすることも
可能となる。
In the PDP of this embodiment, the chromaticity coordinate y of the emission color when only the blue cell is turned on is 0.08 or less, and the peak wavelength of the emission spectrum is 455 nm or less.
With white balance without color correction, the color temperature can be set to 7,000K or higher. Further, depending on the manufacturing conditions, by setting the chromaticity coordinate y of blue light emission to 0.06 or less, it is possible to set the color temperature to about 11000K with white balance without color correction.

【0142】以下、本実施形態における封着工程につい
て詳細に説明する。図19は、封着工程に用いる封着装
置の構成を模式的に示す図である。この封着装置80
は、前面パネル基板10及び背面パネル基板20を加熱
する加熱炉81に、加熱炉81内ヘ導入する雰囲気ガス
の導入量を調整するガス導入弁82、加熱炉81から排
出するガスの排出量を調整するガス排出弁83等が取り
付けられて構成されている。
Hereinafter, the sealing step in this embodiment will be described in detail. FIG. 19: is a figure which shows typically the structure of the sealing device used for a sealing process. This sealing device 80
Is a gas introduction valve 82 for adjusting the introduction amount of the atmospheric gas introduced into the heating furnace 81 to the heating furnace 81 for heating the front panel substrate 10 and the rear panel substrate 20, and the discharge amount of the gas discharged from the heating furnace 81. A gas discharge valve 83 and the like for adjustment are attached and configured.

【0143】加熱炉81内は、ヒータ(不図示)によっ
て高温に加熱できるようになっている。また、加熱炉8
1内には、前面パネル基板及び背面パネル基板が加熱さ
れる雰囲気を形成する雰囲気ガス(例えば乾燥空気)
を、ガス導入弁82から導入することができ、ガス排出
弁83から真空ポンプ(不図示)で排気して加熱炉81
内を高真空にできるようにもなっている。そして、この
ガス導入弁82及びガス排出弁83で加熱炉81内の真
空度を調整することができる。
The inside of the heating furnace 81 can be heated to a high temperature by a heater (not shown). Also, heating furnace 8
Atmosphere gas (for example, dry air) that forms an atmosphere in which the front panel substrate and the rear panel substrate are heated
Can be introduced from the gas introduction valve 82, and exhausted from the gas discharge valve 83 by a vacuum pump (not shown) to heat the furnace 81.
It is also designed to be able to create a high vacuum inside. The degree of vacuum in the heating furnace 81 can be adjusted by the gas introduction valve 82 and the gas discharge valve 83.

【0144】なお、雰囲気ガス供給源から加熱炉81へ
の間には、雰囲気ガスを低温(マイナス数十度)に冷却
して水分を凝結させることによって除去するガス乾燥器
(不図示)が設けられており、このガス乾燥器を経由す
ることによって、雰囲気ガス中の水蒸気量(水蒸気分
圧)が低減される。加熱炉81の中には、前面パネル基
板10と背面パネル基板20を重ね合わせて載置する載
置台84が設けられ、この載置台84の上部には、背面
パネル基板20を平行移動させる移動ピン85が設置さ
れている。また載置台84の上方には、背面パネル基板
20を下方に押圧するための押圧機構86が設置されて
いる。
A gas dryer (not shown) is provided between the atmospheric gas supply source and the heating furnace 81 to remove the atmospheric gas by cooling it to a low temperature (minus several tens of degrees) to condense water. By passing through this gas dryer, the amount of water vapor in the atmospheric gas (water vapor partial pressure) is reduced. The heating furnace 81 is provided with a mounting table 84 on which the front panel substrate 10 and the rear panel substrate 20 are stacked and mounted. On the mounting table 84, a moving pin for moving the rear panel substrate 20 in parallel is provided. 85 is installed. A pressing mechanism 86 for pressing the rear panel substrate 20 downward is installed above the mounting table 84.

【0145】図20は、加熱炉81の内部の構成を示す
斜視図である。図19,20において、背面パネル基板
20は、隔壁の長手方向が図面横方向に沿うように配置
されている。図19,20に示すように、隔壁の長手方
向(図面横方向)において、背面パネル基板20は、前
面パネル基板10よりも若干長く設定されており、背面
パネル基板20の両端部が前面パネル基板10の両端部
より外方にはみ出している。なお、このはみ出し部分に
は、アドレス電極22を駆動回路に接続するための引出
し線が配設されている。そして、移動ピン85及び押圧
機構86は、載置台84上に載置される背面パネル基板
20のはみ出し部分を、背面パネル基板20の4角付近
において上下から挟みこむように配置されている。
FIG. 20 is a perspective view showing the internal structure of the heating furnace 81. 19 and 20, the rear panel substrate 20 is arranged so that the longitudinal direction of the partition walls is along the lateral direction of the drawing. As shown in FIGS. 19 and 20, the rear panel substrate 20 is set to be slightly longer than the front panel substrate 10 in the longitudinal direction (lateral direction in the drawing) of the partition wall, and both ends of the rear panel substrate 20 are front panel substrates. It protrudes outward from both ends of 10. A lead wire for connecting the address electrode 22 to the drive circuit is provided in this protruding portion. The moving pin 85 and the pressing mechanism 86 are arranged so as to sandwich the protruding portion of the rear panel substrate 20 mounted on the mounting table 84 from above and below near the four corners of the rear panel substrate 20.

【0146】4つの移動ピン85は、ピン上端が載置台
84の上面から上方に突き出ており、載置台84の内部
に設けられたピン昇降機構(不図示)によって同時に昇
降できるようになっている。4つの押圧機構86の各々
は、加熱炉81の上部に固着されている円筒状の支持部
86aと、支持部86aの内側を上下移動可能な状態で
支持されているスライド棒86bと、支持部86aの内
部にあってスライド棒86bを下方に付勢するバネ86
cとから構成され、バネ86cの付勢力によりスライド
棒86bの下端が背面パネル基板20を押圧するように
なっている。
The upper ends of the four moving pins 85 project upward from the upper surface of the mounting table 84, and can be simultaneously moved up and down by a pin elevating mechanism (not shown) provided inside the mounting table 84. . Each of the four pressing mechanisms 86 has a cylindrical support portion 86a fixed to the upper portion of the heating furnace 81, a slide rod 86b supported inside the support portion 86a in a vertically movable state, and a support portion. A spring 86 which is inside 86a and biases the slide rod 86b downward.
c, and the lower end of the slide rod 86b presses the rear panel substrate 20 by the urging force of the spring 86c.

【0147】図21は、この封着装置を用いて予備加熱
工程及び封着工程を行う際の動作を示す図である。本図
を参照しながら、仮焼・予備加熱・封着工程について説
明する。 仮焼工程:予め、前面パネル基板10の対向面(背面パ
ネル基板20と対向する面)の外周部、あるいは背面パ
ネル基板20の対向面(前面パネル基板10と対向する
面)の外周部、あるいは前面パネル基板10及び背面パ
ネル基板20両方の対向面の外周部に、封着用ガラス
(ガラスフリット)からなるペーストを塗布し、350
℃程度で10〜30分間、仮焼成することによって封着
ガラス層15を形成しておく(なお、図では、封着ガラ
ス層15は前面パネル基板10の対向面に形成されてい
る。)。
FIG. 21 is a diagram showing the operation when the preheating process and the sealing process are performed using this sealing device. The calcination, preheating, and sealing steps will be described with reference to this figure. Calcining step: In advance, the outer peripheral portion of the facing surface of the front panel substrate 10 (the surface facing the rear panel substrate 20) or the outer peripheral portion of the facing surface of the rear panel substrate 20 (the surface facing the front panel substrate 10), or A paste made of glass for sealing (glass frit) is applied to the outer peripheral portions of the facing surfaces of both the front panel substrate 10 and the rear panel substrate 20.
The sealing glass layer 15 is formed by pre-baking at about 10 ° C. for 10 to 30 minutes (the sealing glass layer 15 is formed on the facing surface of the front panel substrate 10 in the figure).

【0148】予備加熱工程:そして、前面パネル基板1
0及び背面パネル基板20を位置合わせして重ね合わせ
た状態で、載置台84上の定位置に載置し、押圧機構8
6をセットして背面パネル基板20を押える(図21
(a)参照)。次に、加熱炉81内に雰囲気ガス(乾燥
空気)を流通させながら(もしくはガス排出弁83から
の真空排気を併用しながら)、以下の操作を行う。
Preheating Step: Then, the front panel substrate 1
0 and the rear panel substrate 20 are aligned with each other and placed in a fixed position on the mounting table 84, and the pressing mechanism 8 is pressed.
6 is set and the rear panel substrate 20 is pressed (see FIG. 21).
(See (a)). Next, the following operation is performed while circulating the atmospheric gas (dry air) in the heating furnace 81 (or while using vacuum exhaust from the gas exhaust valve 83).

【0149】移動ピン85を上昇させ、背面パネル基板
20を上方に押し上げて平行移動させる(図21(b)
参照)。これによって前面パネル基板10及び背面パネ
ル基板20の対向面の間隙が広がり、背面パネル基板2
0の蛍光体層25が配された面は、加熱炉81内の広い
空間に開放されることになる。この状態で加熱炉81内
を加熱昇温することによってパネル基板10,20から
ガスを放出する。そして、所定の温度(例えば400
℃)に達したら、予備加熱工程を終える。
The moving pin 85 is raised to push the rear panel substrate 20 upward to move it in parallel (FIG. 21B).
reference). As a result, the gap between the facing surfaces of the front panel substrate 10 and the rear panel substrate 20 is widened, and the rear panel substrate 2
The surface on which the 0 phosphor layer 25 is arranged is opened to a large space in the heating furnace 81. In this state, the gas is released from the panel substrates 10 and 20 by heating and heating the inside of the heating furnace 81. Then, at a predetermined temperature (for example, 400
(° C) is reached, the preheating step is completed.

【0150】封着工程:続いて、移動ピン85を降下さ
せて、背面パネル基板20を前面パネル基板10に再度
重ね合わせる。このとき、背面パネル基板20は、もと
のように位置合わせした状態で重ね合わせられる(図2
1(c)参照)。そして、加熱炉81内が、封着ガラス
層15の軟化点より高い所定の封着温度(450℃前
後)に達したら、10〜20分間その封着温度に維持す
る。このとき、軟化した封着用ガラスによって、前面パ
ネル基板10と背面パネル基板20の外周部が封止され
る。この間、押圧機構86によって背面パネル基板20
は前面パネル基板10に押えつけられているので、安定
した封着が行える。
Sealing step: Subsequently, the moving pin 85 is lowered to re-stack the rear panel substrate 20 on the front panel substrate 10. At this time, the rear panel substrate 20 is overlaid in the original aligned state (FIG. 2).
1 (c)). When the inside of the heating furnace 81 reaches a predetermined sealing temperature (about 450 ° C.) higher than the softening point of the sealing glass layer 15, the sealing temperature is maintained for 10 to 20 minutes. At this time, the outer peripheral portions of the front panel substrate 10 and the rear panel substrate 20 are sealed by the softened sealing glass. During this time, the back panel 20 is pressed by the pressing mechanism 86.
Since it is pressed against the front panel substrate 10, stable sealing can be performed.

【0151】そして、封着が完了したら、押圧機構86
を解除して、封着された基板を取り出す。このように封
着工程を行った後、排気工程を行う。本実施形態では、
図19,20に示すように、背面パネル基板20外周部
に通気口21aが1つだけ設けられており、当該通気口
21aに取り付けられたガラス管26に真空ポンプ(不
図示)を連結して排気を行う。そして、この排気工程の
後、ガラス管26から内部空間に放電ガスを封入し、通
気口21aを封止してガラス管26を切り取ることによ
って、PDPが作製される。
When the sealing is completed, the pressing mechanism 86
To release the sealed substrate. After performing the sealing process in this manner, an exhaust process is performed. In this embodiment,
As shown in FIGS. 19 and 20, only one vent hole 21a is provided on the outer peripheral portion of the back panel substrate 20, and a vacuum pump (not shown) is connected to the glass tube 26 attached to the vent hole 21a. Exhaust. After this evacuation step, the discharge gas is sealed from the glass tube 26 into the internal space, the ventilation port 21a is sealed, and the glass tube 26 is cut off to manufacture the PDP.

【0152】(本実施形態の製造方法の効果について)
本実施形態の製造方法は、従来の製造方法と比べて、以
下のような効果を奏する。実施の形態1で説明したよう
に、従来の一般的な製造方法では、封着工程において、
放出ガスが狭い内部空間内に閉じ込められるため、内部
空間に臨んでいる蛍光体層25がガスの影響(特に保護
層14から放出される水蒸気の影響)で熱劣化しやす
い。そして、蛍光体層(特に青色蛍光体層)が熱劣化す
ると発光強度が低下する。
(Regarding Effects of Manufacturing Method of this Embodiment)
The manufacturing method of the present embodiment has the following effects as compared with the conventional manufacturing method. As described in the first embodiment, in the conventional general manufacturing method, in the sealing step,
Since the released gas is confined in the narrow inner space, the phosphor layer 25 facing the inner space is likely to be thermally deteriorated by the influence of the gas (in particular, the influence of water vapor emitted from the protective layer 14). When the phosphor layer (particularly the blue phosphor layer) is thermally deteriorated, the emission intensity is reduced.

【0153】これに対して、本実施形態の製造方法によ
れば、予備加熱によって前面パネル基板10及び背面パ
ネル基板20に吸着されている水蒸気などのガスが放出
されるが、このとき両パネル基板10・20間に広い間
隙が形成されているため、発生するガスが内部空間に閉
じ込められることはない。そして、予備加熱後、両パネ
ル基板10・20が加熱された状態で封着されるため、
予備加熱の後で両パネル基板10・20に水分などが吸
着することもない。よって、封着時に両パネル基板10
・20から発生するガスは少なくなり、蛍光体層25の
熱劣化が防止されることになる。
On the other hand, according to the manufacturing method of the present embodiment, gas such as water vapor adsorbed on the front panel substrate 10 and the rear panel substrate 20 is released by preheating. Since a wide gap is formed between 10 and 20, the generated gas is not confined in the internal space. Then, after preheating, since both panel substrates 10 and 20 are sealed in a heated state,
Moisture or the like will not be adsorbed on both panel substrates 10 and 20 after preheating. Therefore, both panel substrates 10 can be sealed.
The gas generated from 20 is reduced, and thermal deterioration of the phosphor layer 25 is prevented.

【0154】更に、本実施の形態では、予備加熱工程か
ら封着工程までを、乾燥空気が流通する雰囲気で行って
いるので、雰囲気ガス中の水蒸気によって蛍光体層25
の熱劣化が生じることもない。また、上記のように封着
装置80を用いることにより、予備加熱工程と封着工程
を、同じ加熱炉81内で連続して行うことができるの
で、これらの工程を迅速に且つ少ない消費エネルギーで
行うことができる。
Further, in the present embodiment, the steps from the preheating step to the sealing step are performed in the atmosphere in which the dry air flows, so that the phosphor layer 25 is formed by the water vapor in the atmosphere gas.
Does not cause thermal deterioration. Further, by using the sealing device 80 as described above, the preheating step and the sealing step can be continuously performed in the same heating furnace 81, so that these steps can be performed quickly and with less energy consumption. It can be carried out.

【0155】また、上記のように封着装置80を用い
て、最初に前面パネル基板10と背面パネル基板20を
位置合わせして載置すれば、位置合せされた状態で封着
がなされる。 (予備加熱で昇温させる温度、並びに前面パネル基板と
背面パネル基板とを重ね合わせるタイミングについての
考察)封着時に基板から発生するガス(保護層14から
放出される水蒸気)によって蛍光体層25が熱劣化する
のを防止する観点から、できるだけ高い温度まで加熱し
た後に重ね合わせる方がよいと言える。
If the front panel substrate 10 and the rear panel substrate 20 are first aligned and placed using the sealing device 80 as described above, sealing is performed in the aligned state. (Consideration of temperature to be raised by preheating and timing of overlapping front panel substrate and rear panel substrate) The phosphor layer 25 is formed by the gas (water vapor emitted from the protective layer 14) generated from the substrate at the time of sealing. From the viewpoint of preventing thermal deterioration, it can be said that it is better to superpose them after heating to a temperature as high as possible.

【0156】この点について更に詳細に調べるために、
以下の実験を行った。前面パネル基板10と同様にMg
O層が形成されたガラス基板を、一定の昇温速度で徐々
に加熱昇温しながら、昇温脱離ガス質量分析計を用い
て、MgO層から放出される水蒸気量を経時的に測定し
た。図22は、その測定結果であって、700℃までの
各加熱温度における放出水蒸気量が示されている。
To investigate this point in more detail,
The following experiment was conducted. As with the front panel substrate 10, Mg
The amount of water vapor released from the MgO layer was measured with time using a thermal desorption gas mass spectrometer while gradually heating the glass substrate on which the O layer was formed at a constant heating rate. . FIG. 22 shows the measurement results, and shows the amount of released water vapor at each heating temperature up to 700 ° C.

【0157】図22のグラフでは、200℃〜300℃
付近に第1のピークが見られ、450℃〜500℃付近
で第2のピークが見られる。図22の結果から、保護層
14を加熱昇温していくと、第1のピークに相当する2
00℃〜300℃付近で水蒸気がかなり放出され、更に
保護層14を加熱昇温していくと、第2のピークに相当
する450℃〜500℃付近でも水蒸気がかなり放出さ
れることが推測される。
In the graph of FIG. 22, 200 ° C. to 300 ° C.
A first peak is seen in the vicinity, and a second peak is seen around 450 ° C to 500 ° C. From the result of FIG. 22, when the temperature of the protective layer 14 is increased by heating, the value corresponding to the first peak is 2
It is presumed that a large amount of water vapor is released near 00 ° C to 300 ° C, and when the temperature of the protective layer 14 is further increased by heating, a large amount of water vapor is also released near 450 ° C to 500 ° C, which corresponds to the second peak. It

【0158】従って、封着工程における加熱昇温時に、
保護層14から放出される水蒸気が内部空間に閉じ込め
られるのを避けるためには、少なくとも200℃程度の
温度まで、好ましくは300℃〜400℃程度まで、前
面パネル基板10と背面パネル基板20とを離した状態
で加熱昇温するべきであると考えられる。また、前面パ
ネル基板10と背面パネル基板20とを離した状態で、
450℃程度以上の高い温度まで昇温させてから重ね合
わせれば、重ね合わせた後においてパネルからガスが放
出されるのはほぼ完全に抑えられると考えられる。そし
て、この場合、封着時に蛍光体が熱劣化をほとんど受け
ない状態で封着でき、PDP完成後においても、パネル
内に吸着されている水蒸気が放電中に徐々に放出される
可能性も極めて少なくなるので、パネル完成後の経時変
化等を抑えることもできる。
Therefore, at the time of heating and heating in the sealing step,
In order to prevent water vapor released from the protective layer 14 from being trapped in the internal space, the front panel substrate 10 and the rear panel substrate 20 are kept at a temperature of at least about 200 ° C., preferably about 300 ° C. to 400 ° C. It is considered that the temperature should be raised by heating in the separated state. Also, with the front panel substrate 10 and the rear panel substrate 20 separated from each other,
It is considered that if the temperature is raised to a high temperature of about 450 ° C. or higher and the layers are superposed, the gas released from the panel after the superposition is almost completely suppressed. In this case, the phosphor can be sealed in a state where it is hardly thermally deteriorated during sealing, and even after the PDP is completed, water vapor adsorbed in the panel may be gradually released during discharge. Since the number is reduced, it is possible to suppress a change with time after the panel is completed.

【0159】ただし、蛍光体層やMgO保護層を形成す
るときの焼成温度は一般的に520℃程度であるので、
この温度を越えることは好ましくない。従って、450
℃〜520℃程度の高温度に昇温させてから重ね合わせ
るのが更に好ましいということが言える。一方、前面パ
ネル基板と背面パネル基板が離された状態で、封着用ガ
ラスの軟化点以上に加熱すると封着用ガラスが本来の位
置から流れ出し、安定に封止できなくなる可能性があ
る。
However, since the firing temperature for forming the phosphor layer and the MgO protective layer is generally about 520 ° C.,
Exceeding this temperature is not preferred. Therefore, 450
It can be said that it is more preferable to raise the temperature to a high temperature of about 520 to 520 ° C and then stack the layers. On the other hand, when the front panel substrate and the rear panel substrate are separated from each other, if the glass for sealing is heated above the softening point, the glass for sealing may flow out from its original position and stable sealing may not be possible.

【0160】よって、発生するガスによる蛍光体層の劣
化を防止することと、安定に封止することとを両立する
観点に立つと、次の(1),(2),(3)のように考
察することができる。 (1)前面パネル基板と背面パネル基板を離した状態
で、用いる封着用ガラスの軟化点以下のできるだけ高い
温度まで加熱昇温した後、重ね合わせて、封着するのが
よいと考察できる。
Therefore, from the viewpoint of preventing both deterioration of the phosphor layer due to generated gas and stable sealing, the following (1), (2), and (3) are considered. Can be considered. (1) It can be considered that the front panel substrate and the rear panel substrate are separated from each other, and after heating up to a temperature as high as possible, which is equal to or lower than the softening point of the glass for sealing to be used, it is preferable to stack and seal.

【0161】従って、例えば従来から一般的に使用され
ている軟化点が400℃程度の封着用ガラスを用いる場
合、封止の安定を保ちつつ、ガスによる蛍光体への影響
をできるだけ少なくするために、前面パネル基板と背面
パネル基板を離した状態で400℃近くまで加熱昇温し
て、その後、前面パネル基板と背面パネル基板を重ね合
わせて、更に軟化点以上に加熱して封着するのがよいと
考えられる。
Therefore, for example, in the case of using a sealing glass having a softening point of about 400 ° C. which has been generally used in the past, in order to keep the sealing stable and reduce the influence of gas on the phosphor as much as possible. , The front panel substrate and the rear panel substrate are separated from each other, the temperature is raised to near 400 ° C., and then the front panel substrate and the rear panel substrate are superposed, and further heated to a softening point or higher for sealing. Considered good.

【0162】(2)ここで、もっと軟化点の高い封着用
ガラスを用いるようにすれば、それだけ高い温度まで前
面パネル基板と背面パネル基板を離した状態で加熱昇温
しても安定した封着ができることになる。従って、この
ように高軟化点の封着用ガラスを用いて、その軟化点近
くまで加熱昇温し、その後、前面パネル基板と背面パネ
ル基板を重ね合わせて、更に軟化点以上に加熱して封着
すれば、封止の安定を保ちつつ、ガスによる蛍光体への
影響を更に少なくすることができる。
(2) If glass for sealing having a higher softening point is used, stable sealing can be achieved even if the front panel substrate and the rear panel substrate are heated to such a high temperature and heated. You will be able to Therefore, by using a glass for sealing having a high softening point as described above, the temperature is raised to near the softening point, and then the front panel substrate and the back panel substrate are superposed and further heated to a temperature equal to or higher than the softening point for sealing. By doing so, it is possible to further reduce the influence of the gas on the phosphor while keeping the sealing stable.

【0163】(3)一方、前面パネル基板あるいは背面
パネル基板において、外周部に形成した封着ガラス層が
軟化しても流れないような工夫をすれば、前面パネル基
板と背面パネル基板を離した状態で封着用ガラスの軟化
点以上の高温度まで加熱しても、安定した封止をするこ
とができる。例えば、前面パネル基板あるいは背面パネ
ル基板の外周部において、封着用ガラスを塗布する領域
と表示領域との間に流れ止め用の隔壁を形成しておけ
ば、封着用ガラスが軟化したときに表示領域に流れ出る
のを防止することができる。
(3) On the other hand, in the front panel substrate or the back panel substrate, the front panel substrate and the back panel substrate are separated by devising such that the sealing glass layer formed on the outer periphery does not flow even if softened. Stable sealing can be achieved even when heated to a high temperature above the softening point of the glass for sealing in this state. For example, in the outer peripheral portion of the front panel substrate or the rear panel substrate, if a partition wall for preventing flow is formed between the region to which the sealing glass is applied and the display region, the display region when the sealing glass softens. Can be prevented from flowing out.

【0164】従って、このような封着用ガラス流出防止
の工夫をした上で、前面パネル基板と背面パネル基板を
離した状態で封着用ガラスの軟化点以上の高温度まで加
熱昇温し、前面パネル基板と背面パネル基板を重ね合わ
せて封着すれば、封止の安定を保ちつつ、ガスによる蛍
光体への影響を更に少なくすることができる。即ち、こ
の場合、前面パネル基板と背面パネル基板を重ね合わせ
た後に加熱昇温しなくても封着できるので、重ね合わせ
後におけるパネルからのガス放出をほぼ完全に抑えられ
る。よって、蛍光体が熱劣化をほとんど受けない状態で
封着が可能となる。
Therefore, after taking measures to prevent the sealing glass from flowing out, the front panel and the rear panel substrate are separated from each other and heated to a temperature higher than the softening point of the sealing glass to raise the temperature of the front panel. If the substrate and the back panel substrate are overlapped and sealed, the effect of gas on the phosphor can be further reduced while maintaining stable sealing. That is, in this case, since the front panel substrate and the rear panel substrate can be sealed without heating and heating after they are superposed, gas emission from the panels after superposition can be almost completely suppressed. Therefore, the sealing can be performed in a state where the phosphor is hardly subjected to thermal deterioration.

【0165】(雰囲気ガス及び圧力についての考察)封
着時に加熱炉81内を流通させる雰囲気ガスとしては、
酸素を含有しないガスよりも、空気のように酸素を含有
するガスを用いることが望ましい。これは、実施の形態
1で説明したように、PDPで多用されている酸化物系
の蛍光体は、無酸素の雰囲気中で加熱すると発光効率が
低下する傾向があるためである。
(Study on Atmosphere Gas and Pressure) As atmosphere gas to be circulated in the heating furnace 81 at the time of sealing,
It is desirable to use a gas containing oxygen, such as air, rather than a gas containing no oxygen. This is because, as described in the first embodiment, the oxide-based phosphor often used in the PDP tends to have lower luminous efficiency when heated in an oxygen-free atmosphere.

【0166】また、雰囲気ガスとして外気を常圧で送り
込んでもある程度の効果を奏するが、蛍光体層の劣化を
防止する効果を高めるために、加熱炉81内に乾燥空気
をはじめとする乾燥ガスを流通させたり、加熱炉81内
を真空排気しながら行うことが望ましい。乾燥ガスを流
通させるのが好ましいのは、雰囲気ガスに含まれている
水蒸気によって蛍光体層の熱劣化が引起こされることが
ないためである。また、加熱炉81内を真空排気するの
が望ましいのは、加熱に伴ってパネル基板10・20か
ら放出されるガス(水蒸気等)が効率よく排出されるた
めである。
Although a certain effect can be obtained even if the outside air is sent as the atmospheric gas at the normal pressure, in order to enhance the effect of preventing the deterioration of the phosphor layer, dry gas such as dry air is fed into the heating furnace 81. It is desirable that the heating is performed while circulating or evacuation of the heating furnace 81. The reason why the dry gas is allowed to flow is that steam contained in the atmospheric gas does not cause thermal deterioration of the phosphor layer. Further, it is desirable to evacuate the inside of the heating furnace 81 in order to efficiently discharge the gas (water vapor etc.) released from the panel substrates 10 and 20 due to the heating.

【0167】雰囲気ガスとして乾燥ガスを流通させる場
合、その水蒸気分圧が低いほど青色蛍光体層の熱劣化が
抑えられる(実施形態1で説明した図5,6の実験結果
参照)。十分な効果を得るために、水蒸気分圧は、15
Torr以下に設定するのが望ましく、更に、10To
rr、5Torr、1Torr、0.1Torrと低く
設定するほどより効果が期待できる。
When a dry gas is passed as the atmospheric gas, the lower the partial pressure of water vapor, the more the thermal deterioration of the blue phosphor layer is suppressed (see the experimental results of FIGS. 5 and 6 described in the first embodiment). In order to obtain a sufficient effect, the water vapor partial pressure is 15
It is desirable to set below Torr, and further, 10To
The lower the setting is rr, 5 Torr, 1 Torr, and 0.1 Torr, the more the effect can be expected.

【0168】(封着用ガラスの塗布について)PDPの
封着時において、一方の基板にのみ(一般的には背面基
板側のみ)に封着用ガラスを塗布して、両基板を重ね合
わせて封着するのが一般的である。ところで、本実施の
形態では、封着装置80内で、押圧機構86によって背
面パネル基板20を前面パネル基板10に押圧するよう
にしているので、クランプで締め付けるように強い圧力
で押さえつけることは難しい。
(About application of glass for sealing) At the time of sealing the PDP, the glass for sealing is applied only to one substrate (generally only the back substrate side), and both substrates are superposed and sealed. It is common to do. By the way, in the present embodiment, since the rear panel substrate 20 is pressed against the front panel substrate 10 by the pressing mechanism 86 in the sealing device 80, it is difficult to press with a strong pressure so as to tighten with a clamp.

【0169】そのため、背面ガラス基板側だけに封着ガ
ラス層を形成して封着すると、封着用ガラスと前面ガラ
ス板との塗れ性が悪い場合、封着用ガラスによる封着が
完全になされないこともあり得るが、前面ガラス基板と
背面ガラス基板の両方に封着ガラス層を形成しておけ
ば、封着後に前面ガラス基板と背面ガラス基板が完全に
接着されるので、歩留まり良くPDPを製造することが
できる。
Therefore, if a sealing glass layer is formed and sealed only on the rear glass substrate side and the wettability between the sealing glass and the front glass plate is poor, the sealing by the sealing glass cannot be completed. However, if a sealing glass layer is formed on both the front glass substrate and the rear glass substrate, the front glass substrate and the rear glass substrate are completely adhered after sealing, so that the PDP can be manufactured with good yield. be able to.

【0170】なお、このように前面ガラス基板と背面ガ
ラス基板の両方に封着ガラス層を形成して封着する方法
は、本実施の形態の場合に限らず、一般的なPDP製造
の封着工程において、歩留まりよく封着を行うのに有効
である。 (本実施形態の変形例)なお、上記封着装置80におい
ては、加熱前に前面パネル基板10と背面パネル基板2
0とを重ね合わせて位置合わせした後、移動ピン85で
背面パネル基板20を押し上げることによって背面パネ
ル基板20を前面パネル基板10から引き離すようにし
たが、背面パネル基板20を前面パネル基板10から引
き離す方法はこれに限らない。
The method of forming and sealing the sealing glass layer on both the front glass substrate and the rear glass substrate in this way is not limited to the case of the present embodiment, and is generally used for PDP manufacturing. In the process, it is effective for sealing with good yield. (Modification of this Embodiment) In the sealing device 80, the front panel substrate 10 and the rear panel substrate 2 are heated before heating.
After aligning and aligning 0 and 0, the rear panel substrate 20 is separated from the front panel substrate 10 by pushing up the rear panel substrate 20 with the moving pin 85, but the rear panel substrate 20 is separated from the front panel substrate 10. The method is not limited to this.

【0171】例えば、図23に示す例では、前面パネル
基板10の外周の外側に填まるような枠体87を、上下
にスライド駆動する吊下げ棒88で加熱炉の上方から吊
下げており、背面パネル基板20のはみ出し部分を枠体
87上に載せて背面パネル基板20を上下に平行移動す
ることができるようになっている。即ち、枠体87を上
方に引き上げることによって背面パネル基板20を前面
パネル基板10から引き離し、枠体87を下方に下げる
ことによって、背面パネル基板20を前面パネル基板1
0に重ね合わせることができる。
For example, in the example shown in FIG. 23, a frame 87 that fits outside the outer periphery of the front panel substrate 10 is suspended from above the heating furnace by a suspension rod 88 that slides up and down. The protruding portion of the back panel substrate 20 is placed on the frame 87 so that the back panel substrate 20 can be moved up and down in parallel. That is, by pulling up the frame 87 upward, the rear panel substrate 20 is separated from the front panel substrate 10, and by lowering the frame 87 downward, the rear panel substrate 20 is moved to the front panel substrate 1.
Can be overlaid on zero.

【0172】また、上記封着装置80では、押圧機構8
6で背面パネル基板20を前面パネル基板10に押圧す
るようにしたが、図23に示す例では、押圧機構86を
設ける代わりに背面パネル基板20上に重り89を載せ
てある。この場合、枠体87を下に降ろしたときに、重
り89にかかる重力で背面パネル基板20が前面パネル
基板10に押えつけられる。
In the sealing device 80, the pressing mechanism 8
Although the rear panel substrate 20 is pressed against the front panel substrate 10 at 6, in the example shown in FIG. 23, a weight 89 is placed on the rear panel substrate 20 instead of providing the pressing mechanism 86. In this case, the rear panel substrate 20 is pressed against the front panel substrate 10 by the gravity applied to the weight 89 when the frame body 87 is lowered.

【0173】図24は、別の変形例における封着工程の
動作を示す図である。この図24の例では、封着工程に
おいて、背面パネル基板20を部分的に接近させた状態
で回転させることによって、前面パネル基板10から引
き離したり、重ね合わせたりするようになっている。即
ち、載置台84の上部には、図20の場合と同様に、背
面パネル基板20の4角付近に合計4つのピン85a・
85bが設けられているが、一方側(図24で左側)に
ある1対のピン85aは、その先端で、背面パネル基板
20の一定位置を支持しており(例えば、ピン85aの
先端部を球面状に形成すると共に、背面パネル基板20
にも球面状の凹みを形成して填め込むようにする。)、
他方側(図24で右側)にある1対のピン85bは、上
下に駆動できるようになっている。
FIG. 24 is a diagram showing the operation of the sealing step in another modification. In the example of FIG. 24, in the sealing step, the rear panel substrate 20 is rotated in a state where the rear panel substrate 20 is partially brought close to the front panel substrate 10 so that the rear panel substrate 20 can be separated from the front panel substrate 10 or overlapped with each other. That is, in the upper part of the mounting table 84, as in the case of FIG. 20, a total of four pins 85a.
85b is provided, but a pair of pins 85a on one side (the left side in FIG. 24) support a fixed position of the rear panel substrate 20 at their tips (for example, the tip portion of the pins 85a is The rear panel substrate 20 is formed in a spherical shape.
Also, a spherical recess should be formed and fitted. ),
A pair of pins 85b on the other side (right side in FIG. 24) can be driven up and down.

【0174】この場合、図24(a)に示すように、前
面パネル基板10と背面パネル基板20を重ね合わせた
状態で載置台84に載置し、図24(b)に示すよう
に、一対のピン85bを上方に動かすことによって、一
対のピン85aの先端を中心にして背面パネル基板20
を回転させ、前面パネル基板10から引き離すことがで
きる。また、図24(c)に示すように、一対のピン8
5bを下方に動かすことによって、背面パネル基板20
を同じ経路で逆方向に回転させ、前面パネル基板10に
位置合わせされた状態で重ね合わせることもできる。
In this case, as shown in FIG. 24 (a), the front panel substrate 10 and the rear panel substrate 20 are placed on the mounting table 84 in a state of being superposed, and as shown in FIG. By moving the pins 85b of the rear panel upward, the rear panel substrate 20 is centered around the tips of the pair of pins 85a.
Can be rotated and separated from the front panel substrate 10. In addition, as shown in FIG.
By moving 5b downward, the rear panel substrate 20
Can also be rotated in the opposite direction along the same path to be superposed in a state of being aligned with the front panel substrate 10.

【0175】なお、図24(b)の状態では、一対のピ
ン85a側で、前面パネル基板10と背面パネル基板2
0とが接触状態にあるが、背面パネル基板20の蛍光体
層が配設された対向面は開放されているので、ガスが発
生しても内部空間に閉じこめられることはない。(実施
例5)
In the state of FIG. 24B, the front panel substrate 10 and the rear panel substrate 2 are on the side of the pair of pins 85a.
Although it is in contact with 0, since the facing surface of the rear panel substrate 20 on which the phosphor layer is disposed is open, even if gas is generated, it is not confined in the internal space. (Example 5)

【0176】[0176]

【表5】 [Table 5]

【0177】パネルNo.41〜50のPDPは、本実
施の形態に基づいて、前面パネル基板と背面パネル基板
を加熱するときの雰囲気ガス、圧力、重ね合わせるとき
の温度やタイミングをいろいろ変えて封着工程を行い、
作製した実施例である。仮焼成は、いずれも350℃で
行った。雰囲気ガスとして、パネルNo.41〜46,
48,49,50では、水蒸気分圧を0〜12Torr
の範囲内でいろいろな値に設定した乾燥空気を用いた。
また、パネルNo.47では、真空排気しながら加熱を
行った。
Panel No. Based on the present embodiment, the PDPs 41 to 50 perform the sealing process by changing the atmospheric gas and pressure when heating the front panel substrate and the back panel substrate, and the temperature and timing when they are superposed,
It is a produced example. The calcination was performed at 350 ° C. in each case. As the atmosphere gas, the panel No. 41-46,
At 48, 49 and 50, the water vapor partial pressure is 0 to 12 Torr.
Dry air set to various values within the range was used.
In addition, the panel No. In 47, heating was performed while evacuation was performed.

【0178】パネルNo.43〜47においては、封着
工程で、パネル基板を室温から加熱昇温して400℃
(封着用ガラスの軟化点より低い温度)に達したとき
に、両パネル基板を重ね合わせた。そして、更に加熱昇
温して封着温度450℃(封着用ガラスの軟化点以上の
温度)に達したら、10分間以上保持し、その後、排気
温度350℃に降温し、この排気温度に維持しながら排
気工程を行った。
Panel No. In Nos. 43 to 47, the panel substrate was heated from room temperature to 400 ° C. in the sealing step.
When the temperature (lower than the softening point of the glass for sealing) was reached, both panel substrates were superposed. Then, when the temperature is further raised by heating to reach a sealing temperature of 450 ° C (a temperature above the softening point of the glass for sealing), the temperature is held for 10 minutes or longer, and then the exhaust temperature is lowered to 350 ° C and maintained at this exhaust temperature. While performing the exhaust process.

【0179】これに対して、パネルNo.41,42で
は、封着工程において、少し低めの温度250℃,35
0℃で、両パネル基板を重ね合わせた。また、パネルN
o.48では、封着工程において、封着温度450℃ま
で昇温した後に、両パネル基板を重ね合わせ、パネルN
o.49では、封着工程において、封着温度(ピーク温
度)500℃まで昇温した後に、両パネル基板を重ね合
わせた。
On the other hand, the panel No. 41 and 42, a slightly lower temperature of 250 ° C., 35
Both panel substrates were superposed at 0 ° C. Also, panel N
o. In No. 48, in the sealing step, after raising the sealing temperature to 450 ° C., both panel substrates are superposed and the panel N
o. In No. 49, both panel substrates were superposed after the sealing temperature (peak temperature) was raised to 500 ° C. in the sealing step.

【0180】また、パネルNo.50では、封着工程に
おいて、ピーク温度480℃まで昇温した後、封着温度
450℃まで降温してから両パネル基板を重ね合わせて
封着した。パネルNo.51のPDPは、本実施の形態
5の図24に示す変形例に基づいて、封着温度(ピーク
温度)450℃まで昇温した後に、両パネル基板を重ね
合わせて封着したものである。
Also, the panel No. In No. 50, in the sealing step, after the temperature was raised to the peak temperature of 480 ° C., the temperature was lowered to the sealing temperature of 450 ° C., and then both panel substrates were superposed and sealed. Panel No. In the PDP 51, based on the modification of the fifth embodiment shown in FIG. 24, both panel substrates are superposed and sealed after the sealing temperature (peak temperature) is raised to 450 ° C.

【0181】パネルNo.52のPDPは、先ず、室温
で前面パネル基板と背面パネル基板を重ね合わせてお
き、大気圧の乾燥空気中で450℃まで加熱昇温して封
着することによって作製した比較例である。なお、上記
パネルNo.41〜52のPDPにおいて、蛍光体膜厚
は30μm、放電ガスはNe(95%)−Xe(5
%)、その封入圧力は500Torrとし、パネル構成
が同一となるようにした。
Panel No. The PDP No. 52 is a comparative example prepared by first stacking the front panel substrate and the rear panel substrate at room temperature, heating them to 450 ° C. in dry air at atmospheric pressure, and sealing them. The above panel No. In the PDPs Nos. 41 to 52, the phosphor film thickness is 30 μm, and the discharge gas is Ne (95%)-Xe (5
%), And the filling pressure was 500 Torr so that the panel configurations were the same.

【0182】〈発光特性試験〉 試験方法及び結果:上記パネルNo.41〜52の各P
DPについて、発光特性として、青色セルのみを点灯さ
せたときの発光強度と色度座標yと発光スペクトルのピ
ーク波長、及び色補正なしで白バランスでのパネル輝度
及び色温度、青色セル及び緑色セルを同じ電力で発光さ
せたときの発光スペクトルのピーク強度比を測定した。
<Light Emission Property Test> Test method and result: the above panel No. Each P of 41-52
Regarding DP, as the emission characteristics, the emission intensity and the chromaticity coordinate y when only the blue cell is turned on, the peak wavelength of the emission spectrum, and the panel brightness and color temperature in white balance without color correction, the blue cell and the green cell The peak intensity ratio of the emission spectrum when light was emitted at the same power was measured.

【0183】更に、作製した各PDPを分解し、背面パ
ネル基板の青色蛍光体層にクリプトンエキシマランプを
用いて真空紫外線(中心波長146nm)を照射し、発
光光の色度座標yを測定した。これらの測定結果は、表
5に示す通りである。なお、表5に示す青色セルの発光
強度は、パネルNo.52(比較例)の発光強度を10
0とした相対発光強度である。
Further, each produced PDP was disassembled, and the blue phosphor layer of the rear panel substrate was irradiated with vacuum ultraviolet rays (center wavelength 146 nm) using a krypton excimer lamp, and the chromaticity coordinate y of the emitted light was measured. The results of these measurements are as shown in Table 5. The emission intensity of the blue cell shown in Table 5 is as shown in Panel No. The emission intensity of 52 (Comparative Example) was 10
The relative emission intensity is set to 0.

【0184】また、作製した各PDPを分解し、背面パ
ネル基板にクリプトンエキシマランプを用いて真空紫外
線を照射し、全色発光時の色温度、並びに、青色及び緑
色を発光させたときの発光スペクトルのピーク強度比を
測定したところ、上記点灯による結果と同等の結果が得
られた。また図25は、パネルNo.45,50,52
のPDPについて、青色セルのみを点灯させたときの発
光スペクトルである。
Further, each produced PDP was disassembled, and the rear panel substrate was irradiated with vacuum ultraviolet rays by using a krypton excimer lamp, and the color temperature at the time of emitting all colors and the emission spectrum when emitting blue and green light were obtained. When the peak intensity ratio was measured, the same result as that obtained by the above lighting was obtained. Further, FIG. 45, 50, 52
FIG. 3 is an emission spectrum of the PDP when only the blue cell is turned on.

【0185】なお、表5には示していないが、赤色セル
及び緑色セルの発光色の色度座標x、yについては、パ
ネルNo.41〜53のいずれも略同じ値であり、赤色
が(0.636,0.350)、緑色が(0.251,
0.692)であった。比較例のPDPでは、青色セル
発光色の色度座標が(0.170,0.090)、発光
スペクトルのピーク波長が458nmであった。
Although not shown in Table 5, the chromaticity coordinates x and y of the emission colors of the red cell and the green cell are shown in the panel No. All of 41 to 53 have substantially the same value, red is (0.636, 0.350) and green is (0.251,
It was 0.692). In the PDP of the comparative example, the chromaticity coordinate of the blue cell emission color was (0.170, 0.090), and the peak wavelength of the emission spectrum was 458 nm.

【0186】更に、パネルから青色蛍光体を取り出し、
TDS分析法で青色蛍光体1g当りから200℃以上で
脱離するH2Oガス分子数を測定した。また、X線回折
により、青色蛍光体結晶のa軸長に対するc軸長の比も
測定した。表5には、これらの結果も示されている。 考察:パネルNo.41〜51と、パネルNo.52と
について発光特性を比較すると、パネルNo.41〜5
1のいずれにおいても、パネルNo.52より発光特性
が優れている(相対発光強度が高く、色度座標yが小さ
い)。これは、上記実施例の封着方法によれば、比較例
の封着方法と比べて、両パネル基板を重ね合わせた後に
内部空間に放出されるガスが少なくなるからと考えられ
る。
Further, take out the blue phosphor from the panel,
The number of H 2 O gas molecules desorbed from 1 g of the blue phosphor at 200 ° C. or higher was measured by the TDS analysis method. The ratio of the c-axis length to the a-axis length of the blue phosphor crystal was also measured by X-ray diffraction. Table 5 also shows these results. Consideration: Panel No. 41-51 and panel No. 52 and panel No. 52, the panel No. 41-5
Panel No. 1 in each case 52, the light emission characteristics are superior (the relative light emission intensity is high and the chromaticity coordinate y is small). It is considered that this is because the sealing method according to the above-described embodiment reduces the amount of gas released into the internal space after the two panel substrates are superposed on each other, as compared with the sealing method according to the comparative example.

【0187】パネルNo.52のPDPでは、青色発光
の色度座標yが0.088であって、この場合、色補正
なしで白バランスでの色温度は5800Kであるのに対
して、パネルNo.41〜51では、青色発光の色度座
標yが0.08以下で、色補正なしで白バランスでの色
温度は6500K以上である。特に、パネルNo.4
8,49,50,51のように青色の色度座標yが低い
PDPでは、色補正なしで白バランスで11000K程
度の高い色温度が実現されている。
Panel No. In the PDP of No. 52, the chromaticity coordinate y of blue emission is 0.088, and in this case, the color temperature in the white balance without color correction is 5800K, while the panel No. In Nos. 41 to 51, the chromaticity coordinate y of blue light emission is 0.08 or less, and the color temperature in the white balance without color correction is 6500K or more. In particular, the panel No. Four
In a PDP having a low chromaticity coordinate y of blue, such as 8, 49, 50, and 51, a high color temperature of about 11000K is realized with white balance without color correction.

【0188】図26は、実施例と比較例のPDPについ
て、青色付近の色再現域をCIE色度図上に示したもの
である。図中の領域(a)は青色発光の色度座標yが
0.09(発光スペクトルのピーク波長が458nm)
程度の場合(パネルNo.52相当)について、領域
(b)は青色発光の色度座標yが0.08(発光スペク
トルのピーク波長が455nm)程度の場合(パネルN
o.41相当)について、領域(c)は青色発光の色度
座標yが0.052(発光スペクトルのピーク波長が4
48nm)程度の場合(パネルNo.50相当)につい
て、青色付近における色再現域を示している。
FIG. 26 is a diagram showing the CIE chromaticity diagram of the color reproduction region near blue for the PDPs of the example and the comparative example. In the area (a) in the figure, the chromaticity coordinate y of blue emission is 0.09 (the peak wavelength of the emission spectrum is 458 nm).
As for the case (corresponding to panel No. 52), the region (b) has a chromaticity coordinate y of blue emission of about 0.08 (peak wavelength of emission spectrum is 455 nm) (panel N).
o. 41), the region (c) has a chromaticity coordinate y of blue emission of 0.052 (the peak wavelength of the emission spectrum is 4).
48 nm) (corresponding to panel No. 50), the color reproduction range near blue is shown.

【0189】本図から、青色付近における色再現域が、
(a)と比べて、(b)では広くなり、(c)では更に
広くなっていることがわかる。これは、青色セル発光の
色度座標yが小さくなる(発光スペクトルのピーク波長
が短くなる)に従って、青色付近における色再現域の広
いPDPを実現できることを示している。次に、パネル
No.41,42,45,48(いずれも乾燥空気の水
蒸気分圧は2Torr)の間で発光特性を比較すると、
パネルNo.41,42,45,48の順で発光特性が
向上している(相対発光強度が高く、色度座標yが小さ
くなっている)。この結果から、前面パネル基板10と
背面パネル基板20とを重ね合わせるときの温度を高く
設定するほど、PDPの発光特性が向上することがわか
る。
From this figure, the color reproduction range near blue is
It can be seen that, as compared with (a), it becomes wider in (b) and further wider in (c). This indicates that as the chromaticity coordinate y of blue cell emission becomes smaller (the peak wavelength of the emission spectrum becomes shorter), a PDP having a wider color reproduction range near blue can be realized. Next, panel No. Comparing the emission characteristics among 41, 42, 45, and 48 (the water vapor partial pressure of dry air is 2 Torr),
Panel No. The emission characteristics are improved in the order of 41, 42, 45, 48 (the relative emission intensity is high and the chromaticity coordinate y is small). From this result, it is understood that the higher the temperature at which the front panel substrate 10 and the rear panel substrate 20 are superposed on each other, the higher the emission characteristics of the PDP.

【0190】これは、前面パネル基板10と背面パネル
基板20を離した状態で高い温度まで予備加熱する程、
各パネル基板から放出されるガスを十分に排気できるた
め、両パネル基板を重ね合わせた後に内部空間に放出さ
れるガスが少なくなるからと考えられる。また、パネル
No.43,44,45,46(封着工程での温度プロ
ファイルが同じ)の間で発光特性を比較すると、パネル
No.43,44,45,46の順で発光特性が向上し
ている(色度座標yが小さい)。この結果から、雰囲気
ガス中の水蒸気分圧が低いほど発光特性が向上すること
がわかる。
This is because as the front panel substrate 10 and the rear panel substrate 20 are separated from each other, they are preheated to a higher temperature.
It is considered that the gas released from each panel substrate can be sufficiently exhausted, so that the amount of gas released into the internal space after the both panel substrates are superposed is reduced. In addition, the panel No. Panel No. 43, 44, 45, and 46 (having the same temperature profile in the sealing step) were compared in terms of light emission characteristics. The emission characteristics are improved in the order of 43, 44, 45, 46 (the chromaticity coordinate y is small). From this result, it is understood that the light emission characteristics are improved as the water vapor partial pressure in the atmosphere gas is lower.

【0191】また、パネルNo.46及びパネルNo.
47(封着工程での温度プロファイルが同じ)について
発光特性を比較すると、パネルNo.46の方がPDP
の発光特性が若干優れている。これは、パネルNo.4
6では酸素が含まれる雰囲気ガス中で予備加熱されてい
るのに対して、パネルNo.47では無酸素雰囲気中で
予備加熱されているので、酸化物である蛍光体の酸素が
一部が抜けて酸素欠陥が形成されたためと考えられる。
Further, the panel No. 46 and panel no.
Comparing the emission characteristics of No. 47 (having the same temperature profile in the sealing step), panel No. 46 is PDP
The light emission characteristics of are slightly better. This is the panel No. Four
In No. 6, panel No. 6 was preheated in an atmosphere gas containing oxygen, whereas in Panel No. In No. 47, since it was preheated in an oxygen-free atmosphere, it is considered that oxygen in the phosphor, which is an oxide, was partly removed and an oxygen defect was formed.

【0192】また、パネルNo.48及びパネルNo.
51について発光特性を比較すると、発光特性はほとん
ど同じであることがわかる。これは予備加熱する際に、
前面パネル基板10と背面パネル基板20の対向面を完
全に引き離して開放した場合と、一部を接触させた状態
で開放した場合とで、PDPの発光特性にほとんど差が
ないことを示している。
Further, the panel No. 48 and panel no.
Comparing the emission characteristics of No. 51, it can be seen that the emission characteristics are almost the same. This is when preheating
It is shown that there is almost no difference in the emission characteristics of the PDP between the case where the facing surfaces of the front panel substrate 10 and the rear panel substrate 20 are completely separated and opened, and the case where they are opened in a state of being partially in contact with each other. .

【0193】また、表5に示した各パネルNo.におい
て、青色蛍光体層を真空紫外線で励起したときに放出さ
れる光の色度座標yと、青色セルのみを点灯させたとき
の色度座標yとは、ほぼ同じ値を示している。また、表
5に示した各パネルNo.における青色発光の色度座標
yと青色発光のピーク波長との関係を見ると、青色発光
の色度座標yの値が小さいほど、青色発光のピーク波長
は短いことがわかる。これは、青色発光の色度座標y値
が小さいことと青色発光のピーク波長が短いこととが同
等の意味を持つことを示している。 [実施の形態6]本実施形態のPDPは、図1に示す実
施の形態1のPDPと同様の構成である。
In addition, each panel No. shown in Table 5 In, the chromaticity coordinate y of the light emitted when the blue phosphor layer is excited by vacuum ultraviolet rays and the chromaticity coordinate y when only the blue cell is turned on show substantially the same value. Moreover, each panel No. shown in Table 5 was used. Looking at the relationship between the chromaticity coordinate y of blue light emission and the peak wavelength of blue light emission in, the smaller the value of the chromaticity coordinate y of blue light emission, the shorter the peak wavelength of blue light emission. This indicates that the chromaticity coordinate y value of blue light emission is small and that the peak wavelength of blue light emission is short. [Sixth Embodiment] The PDP of the present embodiment has the same configuration as the PDP of the first embodiment shown in FIG.

【0194】またPDPの製造方法については、上記実
施の形態5とほぼ同様であるが、前面パネル基板10お
よび背面パネル基板20の少なくとも一方に封着用ガラ
スを塗布した後、封着装置80の加熱炉81内で、仮焼
工程・封着工程・排気工程を、連続して行う点が異なっ
ている。以下、本実施形態における仮焼・封着・排気工
程について以下に詳細に説明する。
The manufacturing method of the PDP is almost the same as that of the fifth embodiment, except that at least one of the front panel substrate 10 and the rear panel substrate 20 is coated with the sealing glass, and then the sealing device 80 is heated. The difference is that the calcination process, the sealing process, and the exhaust process are continuously performed in the furnace 81. Hereinafter, the calcination / sealing / exhaust steps in the present embodiment will be described in detail below.

【0195】本実施形態の仮焼工程・封着工程・排気工
程は、上記実施形態5の図18,19に示す封着装置を
用いて行う。但し本実施形態では、図27に示すよう
に、背面パネル基板20の通気口21aに取り付けられ
ているガラス管26には、加熱炉81の外部から挿設さ
れた配管90が接続されている。図27は、この封着装
置を用いて仮焼工程から排気工程までを行う際の動作を
示す図である。
The calcination step / sealing step / evacuating step of this embodiment is performed using the sealing apparatus shown in FIGS. However, in the present embodiment, as shown in FIG. 27, a pipe 90 inserted from the outside of the heating furnace 81 is connected to the glass tube 26 attached to the ventilation hole 21 a of the rear panel substrate 20. FIG. 27 is a diagram showing an operation when a calcination process to an exhaust process are performed using this sealing device.

【0196】本図を参照しながら、仮焼・予備加熱・封
着・排気工程について説明する。 仮焼工程:予め、前面パネル基板10の対向面(背面パ
ネル基板20と対向する面)の外周部、あるいは背面パ
ネル基板20の対向面(前面パネル基板10と対向する
面)の外周部、あるいは前面パネル基板10及び背面パ
ネル基板20両方の対向面の外周部に、封着用ガラスペ
ーストを塗布することによって封着ガラス層15を形成
しておく(なお、図では、封着ガラス層15は前面パネ
ル基板10の対向面に形成されている。)。
The calcination / preheating / sealing / exhausting steps will be described with reference to this figure. Calcining step: In advance, the outer peripheral portion of the facing surface of the front panel substrate 10 (the surface facing the rear panel substrate 20) or the outer peripheral portion of the facing surface of the rear panel substrate 20 (the surface facing the front panel substrate 10), or The sealing glass layer 15 is formed by applying a sealing glass paste to the outer peripheral portions of the facing surfaces of both the front panel substrate 10 and the rear panel substrate 20 (note that in the figure, the sealing glass layer 15 is the front face). It is formed on the opposite surface of the panel substrate 10.).

【0197】そして、前面パネル基板10及び背面パネ
ル基板20を位置合わせして重ね合わせた状態で、載置
台84上の定位置に載置し、押圧機構86をセットして
背面パネル基板20を押える(図27(a)参照)。次
に、加熱炉81内に雰囲気ガス(乾燥空気)を流通させ
ながら(もしくはガス排出弁83からの真空排気を併用
しながら)、以下の操作を行う。
Then, with the front panel substrate 10 and the rear panel substrate 20 aligned and superposed, they are placed in a fixed position on the mounting table 84, and the pressing mechanism 86 is set to press the rear panel substrate 20. (See FIG. 27 (a)). Next, the following operation is performed while circulating the atmospheric gas (dry air) in the heating furnace 81 (or while using vacuum exhaust from the gas exhaust valve 83).

【0198】移動ピン85を上昇させ、背面パネル基板
20を上方に押し上げて平行移動させる(図27(b)
参照)。これによって前面パネル基板10及び背面パネ
ル基板20の対向面の間隙が広がり、背面パネル基板2
0の蛍光体層25が配された面は、加熱炉81内の広い
空間に開放されることになる。この状態で加熱炉81内
を仮焼温度(350℃程度)まで加熱昇温し、この仮焼
温度で10〜30分間程度保持することによって仮焼す
る。
The moving pin 85 is raised to push the rear panel substrate 20 upward to move it in parallel (FIG. 27B).
reference). As a result, the gap between the facing surfaces of the front panel substrate 10 and the rear panel substrate 20 is widened, and the rear panel substrate 2
The surface on which the 0 phosphor layer 25 is arranged is opened to a large space in the heating furnace 81. In this state, the inside of the heating furnace 81 is heated to the calcination temperature (about 350 ° C.) and heated, and the calcination temperature is maintained for about 10 to 30 minutes to perform calcination.

【0199】予備加熱工程:パネル基板10,20を更
に加熱昇温して、パネル基板10,20に吸着されてい
るガスを放出させる。そして、所定の温度(例えば40
0℃)に達したら、予備加熱工程を終える。 封着工程:続いて、移動ピン85を降下させて、背面パ
ネル基板20を前面パネル基板10に再度重ね合わせ
る。このとき、背面パネル基板20は、もとのように位
置合わせした状態で重ね合わせられる(図27(c)参
照)。
Preheating step: The panel substrates 10 and 20 are further heated and heated to release the gas adsorbed on the panel substrates 10 and 20. Then, at a predetermined temperature (for example, 40
(0 ° C.), the preheating step is finished. Sealing step: Subsequently, the moving pin 85 is lowered and the rear panel substrate 20 is overlaid on the front panel substrate 10 again. At this time, the rear panel substrate 20 is overlaid in the original aligned state (see FIG. 27C).

【0200】そして、加熱炉81内の温度が、封着ガラ
ス層15の軟化点より高い封着温度(450℃前後)に
達したら、10〜20分間その封着温度に維持する。こ
のとき、軟化した封着用ガラスによって、前面パネル基
板10と背面パネル基板20の外周部が封止される。こ
の間、押圧機構86によって背面パネル基板20は前面
パネル基板10に押えつけられているので、安定した封
着が行える。
When the temperature in the heating furnace 81 reaches the sealing temperature (about 450 ° C.) higher than the softening point of the sealing glass layer 15, the sealing temperature is maintained for 10 to 20 minutes. At this time, the outer peripheral portions of the front panel substrate 10 and the rear panel substrate 20 are sealed by the softened sealing glass. During this time, since the rear panel substrate 20 is pressed against the front panel substrate 10 by the pressing mechanism 86, stable sealing can be performed.

【0201】排気工程:加熱炉81内を封着用ガラスの
軟化点より低い排気温度に下げ、その排気温度に維持し
て焼成しながら(例えば、350℃程度で1時間)、封
着した両パネル基板の内部空間を高真空(8×10-7
orr)に排気することによって、内部空間のガス抜き
を行う。この排気工程は、配管90に真空ポンプ(不図
示)を連結して行う。
Exhaust process: The inside of the heating furnace 81 is lowered to an exhaust temperature lower than the softening point of the glass for sealing, and the two panels are sealed while being baked at the exhaust temperature (for example, about 350 ° C. for 1 hour). High vacuum (8 × 10 -7 T
The inner space is degassed by evacuating to orr). This evacuation process is performed by connecting a vacuum pump (not shown) to the pipe 90.

【0202】そして、この排気工程の後、内部空間を真
空に保ったままパネル基板を室温まで冷却し、ガラス管
26から内部空間に放電ガスを封入し、通気口21aを
封止してガラス管26切り取ることによって、PDPが
作製される。 (本実施形態の封着方法の効果について)従来は、仮焼
工程、封着工程、排気工程は、加熱炉を用いて別々に行
われ、工程と工程では基板が室温まで冷却されていたた
め、後の工程で加熱昇温するのに、長い時間が必要で消
費エネルギーも多くなるが、本実施の形態では、仮焼工
程、予備加熱工程、封着工程、排気工程を、室温まで降
温することなく、同じ封着装置の中で連続して行ってい
るので、これら一連の工程を速く行い且つ加熱のための
エネルギー消費も低くすることができる。
After this evacuation process, the panel substrate is cooled to room temperature while keeping the internal space in vacuum, the discharge gas is sealed from the glass tube 26 into the internal space, and the ventilation port 21a is sealed to close the glass tube. A PDP is made by cutting 26. (Regarding the effect of the sealing method of the present embodiment) Conventionally, the calcination step, the sealing step, and the exhaust step were separately performed using a heating furnace, and the substrate was cooled to room temperature in the step and the step, It takes a long time to heat and raise the temperature in a later step and consumes a large amount of energy, but in the present embodiment, the calcination step, the preheating step, the sealing step, and the exhaust step must be cooled to room temperature. However, since the steps are continuously performed in the same sealing device, these series of steps can be performed quickly and the energy consumption for heating can be reduced.

【0203】更に、本実施形態では、加熱炉81内を封
着工程を行う封着温度まで昇温させる途中で、仮焼工
程、予備加熱工程を行っているので、仮焼工程から封着
工程までをより迅速に且つ低い消費エネルギーで行うこ
とができ、更に、封着工程の後、封着された基板を室温
まで降温させる途中で排気工程を行っているので、封着
工程から排気工程までをより迅速に且つ低い消費エネル
ギーで行うことができる。
Further, in the present embodiment, the calcination step and the preheating step are performed while the temperature inside the heating furnace 81 is being raised to the sealing temperature at which the sealing step is performed. Can be performed more quickly and with lower energy consumption. Furthermore, after the sealing process, the exhaust process is performed while the temperature of the sealed substrate is being lowered to room temperature, so from the sealing process to the exhaust process. Can be performed more quickly and with lower energy consumption.

【0204】更に、本実施形態の封着方法によれば、従
来の封着方法と比べて、以下に説明するように、上記実
施の形態5と同様の効果を奏する。通常、前面パネル基
板や背面パネル基板には、水蒸気などのガスが吸着され
ているが、これらの基板を加熱昇温すると、吸着されて
いるガスが放出される。従来の一般的な製造方法では、
仮焼工程の後、封着工程では、前面パネル基板と背面パ
ネル基板とを室温で重ね合わせてから加熱昇温して封着
するので、この封着工程時に、前面パネル基板と背面パ
ネル基板に吸着されているガスが放出される。仮焼工程
において、基板に吸着されているガスがある程度抜けて
も、その後、封着工程開始時まで大気中で室温にするこ
とによって再びガスが吸着されるので、封着工程におい
てガスの放出は生じる。ここで、放出されたガスが狭い
内部空間内に閉じ込められるため、特に保護層14から
放出される水蒸気の影響で蛍光体層が熱劣化し、その発
光強度が低下しやすい。
Furthermore, according to the sealing method of the present embodiment, as compared with the conventional sealing method, as described below, the same effects as those of the above-mentioned fifth embodiment are exhibited. Usually, gases such as water vapor are adsorbed on the front panel substrate and the rear panel substrate, but when these substrates are heated and heated, the adsorbed gas is released. In the conventional general manufacturing method,
After the calcination step, in the sealing step, the front panel substrate and the rear panel substrate are superposed at room temperature and then heated and heated for sealing, so during the sealing step, the front panel substrate and the rear panel substrate are The adsorbed gas is released. Even if the gas adsorbed on the substrate is released to some extent in the calcination step, the gas is adsorbed again by bringing the temperature to room temperature in the atmosphere until the start of the sealing step. Occurs. Here, since the released gas is confined in the narrow internal space, the phosphor layer is thermally deteriorated due to the influence of the water vapor released from the protective layer 14, and the emission intensity thereof is likely to decrease.

【0205】これに対して、本実施形態の製造方法によ
れば、封着工程や予備加熱工程によって前面パネル基板
10及び背面パネル基板20に吸着されている水蒸気な
どのガスが放出されるが、このとき両パネル基板10・
20間に広い間隙が形成されているため、発生するガス
が内部空間に閉じ込められることはない。そして、予備
加熱後、両パネル基板10・20が加熱された状態で封
着されるため、予備加熱の後で両パネル基板10・20
に水分などが吸着することもない。よって、封着時に両
パネル基板10・20から発生するガスは少なくなり、
蛍光体層25の熱劣化が防止されることになる。
On the other hand, according to the manufacturing method of this embodiment, the gas such as water vapor adsorbed on the front panel substrate 10 and the rear panel substrate 20 is released by the sealing step and the preheating step. At this time, both panel substrates 10
Since the wide gap is formed between the 20, the generated gas is not confined in the internal space. After the preheating, both panel substrates 10 and 20 are sealed in a heated state. Therefore, after the preheating, both panel substrates 10 and 20 are sealed.
No water will be adsorbed on. Therefore, the gas generated from both panel substrates 10 and 20 at the time of sealing is reduced,
The thermal deterioration of the phosphor layer 25 is prevented.

【0206】また、上記のように封着装置80を用いる
ことにより、最初に前面パネル基板10と背面パネル基
板20を位置合わせしておけば、位置合せされた状態で
封着がなされる。更に、本実施の形態では、予備加熱工
程から封着工程までを、乾燥空気が流通する雰囲気で行
っているので、雰囲気ガス中の水蒸気によって蛍光体層
25の熱劣化が生じることもない。
Further, by using the sealing device 80 as described above, if the front panel substrate 10 and the rear panel substrate 20 are first aligned with each other, sealing is performed in the aligned state. Further, in the present embodiment, since the preheating step to the sealing step are performed in the atmosphere in which the dry air flows, the phosphor layer 25 is not thermally deteriorated by the water vapor in the atmospheric gas.

【0207】なお、予備加熱で昇温させる温度、前面パ
ネル基板と背面パネル基板とを重ね合わせるタイミング
の好ましい条件、並びに、雰囲気ガスの種類、圧力、水
蒸気分圧の好ましい条件については、上記実施の形態5
で説明した通りである。 (本実施形態の変形例)なお、本実施の形態では、上述
したように仮焼工程−予備加熱工程−封着工程−排気工
程を、同じ装置の中で連続的に行ったが、予備加熱工程
を省略することもでき、その場合でも同様の効果がある
程度得られる。また、仮焼工程−封着工程だけを同じ装
置の中で連続的に行ったり、封着工程−排気工程だけを
同じ装置の中で連続的に行うことによっても、ある程度
の効果を得ることはできる。
Regarding the temperature to be raised by the preheating, the preferable condition of the timing of stacking the front panel substrate and the rear panel substrate, and the preferable conditions of the kind of atmospheric gas, the pressure, and the partial pressure of water vapor, the above-mentioned embodiment is performed. Form 5
It is as explained in. (Modification of the present embodiment) In the present embodiment, as described above, the calcination step-preheating step-sealing step-exhaust step was continuously performed in the same apparatus, but preheating The steps can be omitted, and even in that case, the same effect can be obtained to some extent. Further, even if only the calcination step-sealing step is continuously performed in the same apparatus, or only the sealing step-exhaust step is continuously performed in the same apparatus, some effects cannot be obtained. it can.

【0208】また、本実施形態において、封着工程の後
に、加熱炉81内を封着用ガラスの軟化点より低い排気
温度(350℃)に下げてから排気工程を行ったが、封
着工程における封着温度と同程度の高い温度のまま排気
工程を行うようにすれば、短時間で十分に排気すること
が可能である。但し、この場合、封着用ガラス流出防止
に対する工夫(例えば、図10〜16に示した流止隔
壁)を施すことが必要と考えられる。
Further, in the present embodiment, after the sealing step, the inside of the heating furnace 81 is lowered to the exhaust temperature (350 ° C.) lower than the softening point of the glass for sealing, and then the exhaust step is performed. If the exhaust process is performed at a temperature as high as the sealing temperature, it is possible to exhaust sufficiently in a short time. However, in this case, it is considered necessary to take measures for preventing the glass for sealing from flowing out (for example, the flow stop partition wall shown in FIGS. 10 to 16).

【0209】また、本実施の形態では、封着に際して、
前面パネル基板10と背面パネル基板20の対向面を開
放した状態で、仮焼工程・予備加熱工程を行ったが、上
記実施の形態3のように、前面パネル基板10と背面パ
ネル基板20を位置合わせして重ね合わせて、そのまま
内部空間を減圧にしつつ乾燥空気を流しながら加熱昇温
して封着を行う場合でも、以下のようにして、仮焼工程
−封着工程−排気工程を同じ装置の中で連続的に行うこ
とは可能である。
In addition, in this embodiment, at the time of sealing,
The calcination step and the preheating step were performed with the facing surfaces of the front panel substrate 10 and the rear panel substrate 20 open, but the front panel substrate 10 and the rear panel substrate 20 were positioned as in the third embodiment. Even in the case where the inner space is depressurized and the inner space is heated and the temperature is raised while the dry air is being heated to perform the sealing, the calcining step-sealing step-exhaust step is performed by the same apparatus as described below. It is possible to carry out continuously in the.

【0210】即ち、図4の封着用加熱装置50を用い、
前面パネル基板10及び背面パネル基板20の少なくと
も一方の対向面に、封着用ガラスを塗布し、封着ガラス
層15を形成し、仮焼は行わずに位置合わせしながら重
ね合わせ、加熱炉51の中に入れる。そして、背面パネ
ル基板20の通気口21aに付けられたガラス管26a
に配管52aを連結し、配管52aから真空ポンプ(不
図示)で排気する。それと共に、背面パネル基板20の
通気口21bに付けられたガラス管26bに配管52b
を連結し、乾燥空気を送り込むことによって、両パネル
基板10・20間の内部空間を、減圧にしつつ乾燥空気
が流れる状態にする。
That is, using the sealing heating device 50 of FIG.
At least one of the front panel substrate 10 and the rear panel substrate 20 is provided with a sealing glass to form a sealing glass layer 15 on the opposing surface thereof, and the sealing glass layer 15 is superposed while being aligned without calcination. insert. Then, the glass tube 26a attached to the vent hole 21a of the rear panel substrate 20.
The pipe 52a is connected to the pipe 52a, and the pipe 52a is evacuated by a vacuum pump (not shown). At the same time, the pipe 52b is attached to the glass tube 26b attached to the vent hole 21b of the rear panel substrate 20.
Are connected to each other and the dry air is fed thereinto, so that the inner space between the panel substrates 10 and 20 is brought into a state in which the dry air flows while the pressure is reduced.

【0211】そして、両パネル基板10・20間の内部
空間をこの状態に保ちながら、加熱炉51の内部を、仮
焼温度まで昇温して仮焼する(350℃、10〜30分
保持)。このとき、単に前面パネル基板10と背面パネ
ル基板とを重ね合わせた状態でパネルを加熱昇温するだ
けでは、封着ガラス層に酸素が供給されにくいので仮焼
が十分にできないが、上記のようにパネル内部に乾燥空
気を流しながら加熱すれば、十分に仮焼を行うことが可
能である。
Then, while maintaining the internal space between both panel substrates 10 and 20 in this state, the inside of the heating furnace 51 is heated to the calcination temperature and calcined (350 ° C., hold for 10 to 30 minutes). . At this time, the calcination cannot be sufficiently performed because oxygen is difficult to be supplied to the sealing glass layer only by heating and heating the panels in a state where the front panel substrate 10 and the rear panel substrate are superposed on each other, but as described above. If calcination is performed while flowing dry air inside the panel, calcination can be sufficiently performed.

【0212】次に、更に、封着ガラスの軟化点以上の封
着温度まで加熱昇温して保持する(例えば、ピーク温度
が450℃、30分保持)ことによって封着を行う。そ
して、加熱炉51内を封着用ガラスの軟化点より低い排
気温度に下げ、その排気温度に維持しながら、封着した
両パネル基板の内部空間から高真空で排気を行うことに
よって、内部空間からガス抜きを行い、排気工程の後、
パネル基板を室温まで冷却し、ガラス管26から内部空
間に放電ガスを封入し、通気口21aを封止してガラス
管26を切り取ることによって、PDPを作製する。
Next, further sealing is carried out by heating up to a sealing temperature above the softening point of the sealing glass and holding it (for example, the peak temperature is held at 450 ° C. for 30 minutes). Then, the inside of the heating furnace 51 is lowered to an exhaust temperature lower than the softening point of the glass for sealing, and while maintaining the exhaust temperature, high-vacuum exhaust is performed from the internal spaces of the both panel substrates that are sealed, thereby After degassing and exhausting process,
The panel substrate is cooled to room temperature, the discharge gas is sealed from the glass tube 26 into the internal space, the vent hole 21a is sealed, and the glass tube 26 is cut out to manufacture a PDP.

【0213】この変形例の場合も、本実施の形態と同様
に、仮焼工程、封着工程、排気工程を、同じ封着装置の
中で、室温まで降温することなく連続的に行っているの
で、これら一連の工程を速く行い且つ加熱のためのエネ
ルギー消費も低くすることができる。なお、この変形例
において、加熱炉51内で、仮焼工程−封着工程だけ、
或は封着工程−排気工程だけを連続して行うことも可能
である。 (実施例6)
Also in the case of this modification, similarly to the present embodiment, the calcination step, the sealing step, and the exhaust step are continuously performed in the same sealing apparatus without lowering the temperature to room temperature. Therefore, the series of steps can be performed quickly and the energy consumption for heating can be reduced. In this modification, in the heating furnace 51, only the calcination step-sealing step,
Alternatively, it is possible to continuously perform only the sealing process and the exhaust process. (Example 6)

【0214】[0214]

【表6】 [Table 6]

【0215】パネルNo.61〜69は本実施形態に基
づいて作製した実施例にかかるPDPであって、前面パ
ネル基板と背面パネル基板を加熱するときの雰囲気ガ
ス、圧力、重ね合わせるときの温度やタイミングをいろ
いろ変えて封着工程を行った。図28は、パネルNo.
63〜67のPDPを製造する際に、仮焼工程−封着工
程−排気工程で用いた温度プロファイルである。
Panel No. Reference numerals 61 to 69 denote PDPs according to the examples produced based on the present embodiment, which are sealed by changing the atmosphere gas and pressure when heating the front panel substrate and the rear panel substrate, and the temperature and timing when they are superposed. The dressing process was performed. 28 shows the panel No.
It is the temperature profile used in the calcination step-sealing step-exhaust step when manufacturing PDPs 63 to 67.

【0216】雰囲気ガスとして、パネルNo.61〜6
6,68,69では、水蒸気分圧を0〜12Torrの
範囲内でいろいろな値に設定した乾燥空気を用い、パネ
ルNo.70では未乾燥の空気を用いた。また、パネル
No.67では、真空排気しながら加熱を行った。パネ
ルNo.63〜67では、パネル基板を室温から加熱昇
温して、350℃に達したら350℃で10分間保持し
て仮焼を行い、更に加熱昇温して400℃(封着用ガラ
スの軟化点より低い温度)に達したときに、両パネル基
板を重ね合わせた。そして、更に加熱昇温して封着温度
450℃(封着用ガラスの軟化点以上の温度)に達した
ら、10分間以上保持し、その後、炉内を350℃まで
下降させ、350℃に維持しながら排気工程を行った。
As the atmosphere gas, the panel No. 61-6
In Panel Nos. 6, 68, and 69, the dry air in which the partial pressure of water vapor was set to various values within the range of 0 to 12 Torr was used. In 70, undried air was used. In addition, the panel No. In 67, heating was performed while evacuation was performed. Panel No. In 63 to 67, the panel substrate was heated from room temperature to 350 ° C., and when it reached 350 ° C., it was held at 350 ° C. for 10 minutes for calcination, and further heated to 400 ° C. (from the softening point of the sealing glass. When the temperature reached low, both panel substrates were overlaid. Then, when the temperature is further increased by heating to reach a sealing temperature of 450 ° C (a temperature above the softening point of the glass for sealing), the temperature is maintained for 10 minutes or more, and then the temperature inside the furnace is lowered to 350 ° C and maintained at 350 ° C. While performing the exhaust process.

【0217】これに対して、パネルNo.61,62の
封着工程では、少し低めの温度250℃並びに350℃
で、両パネル基板を重ね合わせた。また、パネルNo.
68の封着工程では、封着温度450℃まで昇温した後
に、両パネル基板を重ね合わせ、パネルNo.69の封
着工程では、ピーク温度480℃まで昇温した後、封着
温度450℃まで降温してから両パネル基板を重ね合わ
せて封着した。
On the other hand, the panel No. In the sealing process of 61 and 62, a slightly lower temperature of 250 ° C and 350 ° C
Then, both panel substrates were overlapped. In addition, the panel No.
In the sealing step of No. 68, after raising the sealing temperature to 450 ° C., both panel substrates are superposed and the panel No. In the sealing step of No. 69, after the temperature was raised to the peak temperature of 480 ° C. and then the temperature was lowered to the sealing temperature of 450 ° C., both panel substrates were superposed and sealed.

【0218】パネルNo.70は比較例にかかるPDP
であって、従来の封着工程通り、仮焼の後、室温で前面
パネル基板と背面パネル基板を重ね合わせて、大気圧の
空気中で封着温度450℃まで加熱昇温して封着し、一
旦室温まで降温させた。そして、再び加熱炉で排気温度
350℃まで加熱し、この排気温度350℃に維持しな
がら排気工程を行った。
Panel No. 70 is a PDP according to a comparative example
However, as in the conventional sealing process, after calcination, the front panel substrate and the back panel substrate are superposed at room temperature and heated to a sealing temperature of 450 ° C. in air at atmospheric pressure for sealing. The temperature was once lowered to room temperature. Then, the exhaust gas was heated again to 350 ° C. in the heating furnace, and the exhaust process was performed while maintaining the exhaust temperature at 350 ° C.

【0219】なお、上記パネルNo.61〜70におい
て、蛍光体層の膜厚は30μm、放電ガスはNe(95
%)−Xe(5%)、その封入圧力は500Torrと
し、パネル構成が同一となるようにした。 〈発光特性試験〉 試験方法及び結果:上記パネルNo.61〜70の各P
DPについて、発光特性として、青色セルのみを点灯さ
せたときの発光強度と色度座標yと発光スペクトルのピ
ーク波長、及び色補正なしで白バランスでの色温度、青
色セル及び緑色セルを同じ電力で発光させたときの発光
スペクトルのピーク強度比を測定した。
The above panel No. 61 to 70, the thickness of the phosphor layer was 30 μm, and the discharge gas was Ne (95
%)-Xe (5%), and the filling pressure was 500 Torr so that the panel configurations would be the same. <Luminescence characteristic test> Test method and result: the above panel No. 61-70 of each P
Regarding DP, as the emission characteristics, the emission intensity and the chromaticity coordinate y when only the blue cell is turned on, the peak wavelength of the emission spectrum, the color temperature in white balance without color correction, the blue cell and the green cell have the same power. The peak intensity ratio of the emission spectrum when light was emitted at was measured.

【0220】これらの測定結果は、表6に示す通りであ
る。なお、表6に示す青色セルの発光強度は、パネルN
o.70の発光強度を100とした相対発光強度であ
る。また、作製した各PDPを分解し、背面パネル基板
にクリプトンエキシマランプを用いて真空紫外線を照射
し、青色発光の色度座標y、全色発光時の色温度、並び
に、青色及び緑色を発光させたときの発光スペクトルの
ピーク強度比を測定したところ、上記点灯による結果と
同等の結果が得られた。
The results of these measurements are shown in Table 6. The emission intensity of the blue cell shown in Table 6 is as shown in panel N
o. It is a relative emission intensity with the emission intensity of 70 as 100. Further, each PDP produced is disassembled, and the rear panel substrate is irradiated with vacuum ultraviolet rays by using a krypton excimer lamp to emit chromaticity coordinates y of blue light emission, color temperature at all color light emission, and blue and green light. When the peak intensity ratio of the emission spectrum at that time was measured, the same result as that obtained by the above lighting was obtained.

【0221】更に、パネルから青色蛍光体を取り出し、
TDS分析法で青色蛍光体1g当りから200℃以上で
脱離するH2Oガス分子数を測定した。また、X線回折
により、青色蛍光体結晶のa軸長に対するc軸長の比も
測定した。表6には、これらの結果も示されている。 考察:パネルNo.61〜69と、パネルNo.70と
について発光特性を比較すると、パネルNo.61〜6
9のいずれにおいても、パネルNo.70より発光特性
が優れている(相対発光強度が高く、色度座標yが小さ
い)。これは、パネルNo.61〜69で用いた封着方
法によれば、パネルNo.70で用いた封着方法と比べ
て、両パネル基板を重ね合わせた後に内部空間に放出さ
れるガスが少なくなるからと考えられる。
Further, take out the blue phosphor from the panel,
The number of H 2 O gas molecules desorbed from 1 g of the blue phosphor at 200 ° C. or higher was measured by the TDS analysis method. The ratio of the c-axis length to the a-axis length of the blue phosphor crystal was also measured by X-ray diffraction. Table 6 also shows these results. Consideration: Panel No. 61 to 69 and panel No. Comparing the light emission characteristics of panel No. 70 and panel No. 70, 61-6
In any of No. 9, panel No. 70 is superior in light emission characteristics (high relative light emission intensity and small chromaticity coordinate y). This is the panel No. According to the sealing method used in Nos. 61 to 69, panel No. It is considered that the amount of gas released to the internal space after the both panel substrates are superposed is smaller than that in the sealing method used in 70.

【0222】パネルNo.70のPDPでは、青色発光
の色度座標yが0.090であって、色温度補正なしの
白バランスでの色温度は5800Kであるのに対して、
パネルNo.61〜69では、青色発光の色度座標yが
0.08以下で、色温度補正なしの白バランスでの色温
度は6500K以上である。特に、パネルNo.68,
69のように青色の色度座標yが低いPDPでは、色補
正なしの白バランスで11000K程度の高い色温度が
実現されている。
Panel No. In the PDP of 70, the chromaticity coordinate y of blue light emission is 0.090, and the color temperature in the white balance without color temperature correction is 5800K.
Panel No. In Nos. 61 to 69, the chromaticity coordinate y of blue light emission is 0.08 or less, and the color temperature in the white balance without color temperature correction is 6500K or more. In particular, the panel No. 68,
In a PDP having a low chromaticity coordinate y of blue like 69, a high color temperature of about 11000K is realized with white balance without color correction.

【0223】次に、パネルNo.61,62,65,6
8,69(いずれも乾燥空気の水蒸気分圧は2Tor
r)の間で発光特性を比較すると、パネルNo.61,
62,65,68,69の順で発光特性が向上(相対発
光強度が高く、色度座標yが小さく)している。この結
果から、前面パネル基板10と背面パネル基板20とを
重ね合わせるときの温度を高く設定するほど、発光特性
が向上することがわかる。
Next, the panel No. 61, 62, 65, 6
8,69 (both dry air has a water vapor partial pressure of 2 Torr)
Comparing the light emission characteristics between panel No. r) and panel No. r. 61,
The emission characteristics are improved in the order of 62, 65, 68, 69 (the relative emission intensity is high and the chromaticity coordinate y is small). From this result, it is understood that the higher the temperature at which the front panel substrate 10 and the rear panel substrate 20 are superposed is set, the more the light emission characteristics are improved.

【0224】また、パネルNo.63,64,65,6
6(封着工程での温度プロファイルが同じ)の間で発光
特性を比較すると、パネルNo.63,64,65,6
6の順で発光特性が向上している(色度座標yが小さ
い)。この結果から、雰囲気ガス中の水蒸気分圧が低い
ほど発光特性が向上することがわかる。また、パネルN
o.66及びパネルNo.67(封着工程での温度プロ
ファイルが同じ)について発光特性を比較すると、パネ
ルNo.66の方が発光特性が若干優れている。
Further, the panel No. 63, 64, 65, 6
Comparing the light emission characteristics between No. 6 (having the same temperature profile in the sealing step), the panel No. 63, 64, 65, 6
In the order of 6, the emission characteristics are improved (the chromaticity coordinate y is small). From this result, it is understood that the light emission characteristics are improved as the water vapor partial pressure in the atmosphere gas is lower. Also, panel N
o. 66 and panel no. 67 (when the temperature profile in the sealing step is the same), the emission characteristics are compared. 66 has a slightly better light emission characteristic.

【0225】これは、パネルNo.66では酸素が含ま
れる雰囲気ガス中で加熱されているのに対して、パネル
No.67では無酸素雰囲気中で加熱されており、無酸
素雰囲気で蛍光体層を加熱すると、酸化物である蛍光体
の酸素が一部が抜けて酸素欠陥が形成されるためと考え
られる。 (その他の事項)以上の実施の形態1〜6においては、
面放電型のPDPを製造する場合について説明したが、
本発明は、対向放電型のPDPを製造する場合にも適用
することができる。
This is the panel number. In No. 66, the panel No. 66 is heated in the atmosphere gas containing oxygen. It is considered that the sample No. 67 is heated in an oxygen-free atmosphere, and when the phosphor layer is heated in the oxygen-free atmosphere, oxygen in the phosphor that is an oxide partly escapes to form an oxygen defect. (Other matters) In the first to sixth embodiments described above,
The case of manufacturing a surface discharge type PDP has been described.
The present invention can be applied to the case of manufacturing a counter discharge type PDP.

【0226】また、蛍光体層を形成する蛍光体の組成と
しては、上で示したもの以外に、一般的にPDPの蛍光
体層に使用されているものを用いても、同様に実施する
ことができる。また、上記実施の形態1〜6に示したよ
うに、蛍光体層を形成した後に、封着用ガラスを塗布す
るのが一般的であるが、この順序を入れ換えて行うこと
も可能と考えられる。
Further, as the composition of the phosphor forming the phosphor layer, other than those shown above, those generally used for the phosphor layer of the PDP can be used in the same manner. You can Further, as shown in the first to sixth embodiments, it is general that the sealing glass is applied after the phosphor layer is formed, but it is conceivable that the order may be changed.

【0227】[0227]

【発明の効果】以上のように、本発明のPDPの製造方
法によれば、配設された蛍光体が加熱される工程(蛍光
体焼成工程、封着材仮焼工程、封着工程、排気工程な
ど)を、乾燥ガス雰囲気中、もしくは減圧で乾燥ガスが
流れる雰囲気中で行うことによって、青色セルのみを点
灯させたときの発光色の色度座標y(CIE表色系)ま
たは青色蛍光体層を真空紫外線で励起したときに放出さ
れる光の色度座標yが、0.08以下となるような発光
色度が優れたPDPを製造することができる。
As described above, according to the PDP manufacturing method of the present invention, the steps of heating the disposed phosphors (phosphor firing step, sealing material calcination step, sealing step, exhaust gas) Process) is performed in a dry gas atmosphere or in an atmosphere in which the dry gas flows under reduced pressure, so that the chromaticity coordinate y (CIE color system) or the blue phosphor of the emission color when only the blue cell is turned on. It is possible to manufacture a PDP with excellent emission chromaticity such that the chromaticity coordinate y of the light emitted when the layer is excited by vacuum ultraviolet rays is 0.08 or less.

【0228】このようなPDPは、白バランスにおける
色温度を7000K以上とすることができ、更に800
0K以上,9000K以上,10000K以上とするこ
とも可能である。また、青色蛍光体層の発光色度が向上
すれば、色再現性も向上される。また、上記のように青
色蛍光体層の発光色度が優れたPDPは、前面基板及び
背面基板を対向面が開放された状態で仮焼する方法、前
面基板及び背面基板を内部空間に乾燥ガスを流しながら
封着する方法、あるいは、前面基板及び背面基板を、対
向面が開放された状態で予備加熱した後、両基板を重ね
合わせて封着する方法を用いることによっても製造する
ことができる。
With such a PDP, the color temperature in the white balance can be set to 7,000 K or more, and further 800
It is also possible to set it to 0K or more, 9000K or more, and 10000K or more. Further, if the emission chromaticity of the blue phosphor layer is improved, the color reproducibility is also improved. In addition, as described above, the PDP having excellent emission chromaticity of the blue phosphor layer is a method of calcining the front substrate and the rear substrate in a state where the facing surfaces are opened, and the front substrate and the rear substrate in a dry gas in the internal space. It is also possible to manufacture by using a method of sealing while flowing, or a method of preheating the front substrate and the rear substrate in a state where the facing surfaces are opened and then sealing the both substrates by overlapping. .

【0229】また、前面パネル基板と背面パネル基板を
重ね合わせた状態で封着材を封着温度に保って封着する
封着工程を行った後、室温まで降下させることなく、封
着された両基板間の内部空間の気体を排気する排気工程
を開始すること、或は、封着材が配設された基板を仮焼
温度に保って仮焼する封着材仮焼工程の後、当該基板を
室温まで降下させることなく封着工程を開始することに
よっても製造でき、この場合、加熱に要する時間及び消
費エネルギーを低減することもできる。
[0229] Further, after performing a sealing step of sealing the sealing material at the sealing temperature in a state where the front panel substrate and the rear panel substrate were superposed on each other, they were sealed without lowering to room temperature. After starting the exhausting step of exhausting the gas in the internal space between the two substrates, or after the sealing material calcination step of calcining the substrate provided with the sealing material at the calcination temperature, It can also be manufactured by starting the sealing process without lowering the temperature of the substrate to room temperature. In this case, the time required for heating and the energy consumption can be reduced.

【0230】[0230]

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】実施の形態1に係る交流面放電型PDPを示す
要部斜視図である。
FIG. 1 is a main part perspective view showing an AC surface discharge PDP according to a first embodiment.

【図2】上記PDPに駆動回路を接続したPDP表示装
置を示す図である。
FIG. 2 is a diagram showing a PDP display device in which a drive circuit is connected to the PDP.

【図3】実施の形態1で用いるベルト式加熱装置の構成
を示す図である。
FIG. 3 is a diagram showing a configuration of a belt-type heating device used in the first embodiment.

【図4】実施の形態1で用いる封着用加熱装置の構成を
示す図である。
FIG. 4 is a diagram showing a configuration of a sealing heating device used in the first embodiment.

【図5】水蒸気分圧を変えた空気中で青色蛍光体を焼成
したときの相対発光強度測定結果である。
FIG. 5 is a result of relative emission intensity measurement when a blue phosphor is fired in air with a changed partial pressure of water vapor.

【図6】水蒸気分圧を変えた空気中で青色蛍光体を焼成
したときの色度座標yの測定結果である。
FIG. 6 is a measurement result of chromaticity coordinates y when a blue phosphor is fired in air with a changed water vapor partial pressure.

【図7】青色蛍光体から脱離するH2O分子数を測定し
た測定結果の一例である。
FIG. 7 is an example of a measurement result of measuring the number of H 2 O molecules desorbed from the blue phosphor.

【図8】実施の形態2における背面ガラス基板の具体例
を示す図である。
FIG. 8 is a diagram showing a specific example of a back glass substrate in the second embodiment.

【図9】実施の形態2における背面ガラス基板の具体例
を示す図である。
FIG. 9 is a diagram showing a specific example of a back glass substrate in the second embodiment.

【図10】実施の形態2における背面ガラス基板の具体
例を示す図である。
FIG. 10 is a diagram showing a specific example of a back glass substrate in the second embodiment.

【図11】実施の形態2における背面ガラス基板の具体
例を示す図である。
FIG. 11 is a diagram showing a specific example of a back glass substrate in the second embodiment.

【図12】実施の形態2における背面ガラス基板の具体
例を示す図である。
FIG. 12 is a diagram showing a specific example of a back glass substrate in the second embodiment.

【図13】実施の形態2における背面ガラス基板の具体
例を示す図である。
FIG. 13 is a diagram showing a specific example of a back glass substrate in the second embodiment.

【図14】実施の形態2における背面ガラス基板の具体
例を示す図である。
FIG. 14 is a diagram showing a specific example of a back glass substrate in the second embodiment.

【図15】実施の形態2における背面ガラス基板の具体
例を示す図である。
FIG. 15 is a diagram showing a specific example of a back glass substrate in the second embodiment.

【図16】実施の形態2における背面ガラス基板の具体
例を示す図である。
FIG. 16 is a diagram showing a specific example of a back glass substrate in the second embodiment.

【図17】青色蛍光体を一旦熱劣化させた後、空気中で
再焼成して発光特性を回復させる効果の水蒸気分圧依存
性を示す特性図である。
FIG. 17 is a characteristic diagram showing water vapor partial pressure dependence of the effect of recovering the light emission characteristics by re-baking in blue after the blue phosphor is once thermally deteriorated.

【図18】青色蛍光体を一旦熱劣化させた後、空気中で
再焼成して発光特性を回復させる効果の水蒸気分圧依存
性を示す特性図である。
FIG. 18 is a characteristic diagram showing water vapor partial pressure dependence of the effect of recovering the light emitting characteristics by re-baking the blue phosphor in the air after thermally degrading it.

【図19】実施の形態5で封着工程に用いる封着装置の
構成を示す図である。
FIG. 19 is a diagram showing a configuration of a sealing device used in a sealing step in the fifth embodiment.

【図20】上記封着装置における加熱炉の内部の構成を
示す斜視図である。
FIG. 20 is a perspective view showing an internal configuration of a heating furnace in the sealing device.

【図21】上記封着装置を用いて予備加熱工程及び封着
工程を行う際の動作を示す図である。
FIG. 21 is a diagram showing an operation when performing a preheating step and a sealing step using the sealing device.

【図22】実施の形態5に係る実験で、MgO層から放
出される水蒸気量を経時的に測定した結果を示す図であ
る。
FIG. 22 is a diagram showing a result of time-dependent measurement of the amount of water vapor released from the MgO layer in the experiment according to the fifth embodiment.

【図23】実施の形態5にかかる封着装置の一変形例を
示す図である。
FIG. 23 is a diagram showing a modified example of the sealing device according to the fifth exemplary embodiment.

【図24】実施の形態5にかかる封着装置の別の変形例
の動作を示す図である。
FIG. 24 is a diagram showing an operation of another modification of the sealing device according to the fifth exemplary embodiment.

【図25】実施例5PDPについて、青色セルのみを点
灯させたときの発光スペクトルである。
FIG. 25 is an emission spectrum of Example 5 PDP when only the blue cell is turned on.

【図26】実施例5と比較例のPDPについて、青色付
近の色再現域をCIE色度図上に示したものである。
FIG. 26 is a diagram showing a color reproduction region near blue for the PDPs of Example 5 and Comparative Example on a CIE chromaticity diagram.

【図27】実施の形態6において、封着装置を用いて仮
焼工程から排気工程までを行う際の動作を示す図であ
る。
FIG. 27 is a diagram showing an operation when performing a calcination process to an exhaust process using the sealing device in the sixth embodiment.

【図28】実施例6で、PDPを製造する際に、仮焼工
程−封着工程−排気工程で用いた温度プロファイルであ
る。
28 is a temperature profile used in a calcination step-sealing step-exhaust step when manufacturing a PDP in Example 6. FIG.

【図29】一般的な交流型(AC型)PDPの一例を示
す概略断面図である。
FIG. 29 is a schematic sectional view showing an example of a general alternating-current (AC) PDP.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10 前面パネル基板 11 前面ガラス基板 12a,12b 表示電極 13 誘電体層 14 保護層 15 封着ガラス層 20 背面パネル基板 21 背面ガラス基板 21a,21b 通気口 22 アドレス電極 23 誘電体層 24 隔壁 25 蛍光体層 26 ガラス管 30 放電空間 40 加熱装置 41 加熱炉 42 搬送ベルト 43 ガス導入パイプ 50 封着用加熱装置 51 加熱炉 53 ガス供給源 54 真空ポンプ 60 封着ガラス領域 70 流止隔壁 80 封着装置 10 Front panel board 11 Front glass substrate 12a, 12b display electrodes 13 Dielectric layer 14 Protective layer 15 Sealed glass layer 20 Back panel board 21 Rear glass substrate 21a, 21b vent 22 Address electrode 23 Dielectric layer 24 partitions 25 Phosphor layer 26 glass tubes 30 discharge space 40 heating device 41 heating furnace 42 Conveyor belt 43 Gas introduction pipe 50 Heating device for sealing 51 heating furnace 53 gas supply source 54 vacuum pump 60 sealing glass area 70 Drain bulkhead 80 Sealing device

フロントページの続き (31)優先権主張番号 特願平10−222987 (32)優先日 平成10年8月6日(1998.8.6) (33)優先権主張国 日本(JP) (31)優先権主張番号 特願平11−39280 (32)優先日 平成11年2月17日(1999.2.17) (33)優先権主張国 日本(JP) (31)優先権主張番号 特願平11−137764 (32)優先日 平成11年5月18日(1999.5.18) (33)優先権主張国 日本(JP) (31)優先権主張番号 特願平11−137763 (32)優先日 平成11年5月18日(1999.5.18) (33)優先権主張国 日本(JP) (72)発明者 青木 正樹 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電 器産業株式会社内 (56)参考文献 特開 平5−234512(JP,A) 特開 平5−211031(JP,A) 特開 昭60−221926(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H01J 9/227 H01J 9/26 H01J 9/38 - 9/395 H01J 11/00 - 17/49 Continuation of the front page (31) Priority claim number Japanese Patent Application No. 10-222987 (32) Priority date August 6, 1998 (8.6.8.6) (33) Priority claim country Japan (JP) (31) Priority claim number Japanese Patent Application No. 11-39280 (32) Priority date February 17, 1999 (Feb. 17, 1999) (33) Country of priority claim Japan (JP) (31) Priority claim number Japanese Patent Application No. 11-137764 (32) Priority date May 18, 1999 (May 18, 1999) (33) Priority claiming country Japan (JP) (31) Priority claim number Japanese Patent Application No. 11-137763 (32) Priority Japan May 18, 1999 (May 18, 1999) (33) Priority claiming country Japan (JP) (72) Inventor Masaki Aoki 1006 Kadoma, Kadoma City, Osaka Prefecture Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. (56 ) Reference JP-A-5-234512 (JP, A) JP-A-5-211031 (JP, A) JP-A-60-221926 (JP, A) (58) Fields investigated (Int.Cl. 7 , DB) (Name) H01J 9/227 H01J 9/26 H01J 9/38-9/395 H01J 11/00-17/49

Claims (29)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 前面基板及び背面基板の対向面の少なく
とも一方に少なくとも青色蛍光体を含む蛍光体を配設す
る蛍光体配設ステップと、 前記蛍光体を配設した基板を加熱する加熱ステップとを
備え、前記加熱ステップは前記蛍光体配設ステップで配設され
た蛍光体を乾燥ガスを流しながら焼成する蛍光体焼成ス
テップであることを特徴とする プラズマディスプレイパ
ネルの製造方法。
1. A phosphor disposing step of disposing a phosphor containing at least a blue phosphor on at least one of facing surfaces of a front substrate and a back substrate, and a heating step of heating a substrate on which the phosphor is disposed. And the heating step is performed in the phosphor providing step.
The phosphor firing step for firing the phosphor while flowing a dry gas
A method of manufacturing a plasma display panel, which is a step .
【請求項2】 前面基板及び背面基板の対向面の少なく
とも一方に少なくとも青色蛍光体を含む蛍光体層を形成
する蛍光体層形成ステップと、 前面基板及び背面基板の対向面の少なくとも一方に封着
材層を形成する封着材層形成ステップと、 前記蛍光体層形成ステップ及び封着材層形成ステップの
後に、前記前面基板及び背面基板を両基板の間に内部空
間が形成されるよう重ね合わせた状態で、前記封着材が
軟化する温度以上の封着温度に保つことにより封着する
封着ステップとを備え、 前記封着ステップは、前記内部空間に乾燥ガスを流しな
がらなされることを特徴とするプラズマディスプレイパ
ネルの製造方法。
2. A phosphor layer forming step of forming a phosphor layer containing at least a blue phosphor on at least one of the facing surfaces of the front substrate and the back substrate, and sealing on at least one of the facing surfaces of the front substrate and the back substrate. A sealing material layer forming step of forming a material layer, and stacking the front substrate and the rear substrate so that an internal space is formed between the substrates after the phosphor layer forming step and the sealing material layer forming step. And a sealing step in which the sealing material is sealed by maintaining the sealing temperature at a temperature equal to or higher than the temperature at which the sealing material softens, and the sealing step does not flow dry gas into the internal space.
And a plasma display panel manufacturing method.
【請求項3】 前面基板及び背面基板の対向面の少なく
とも一方に少なくとも青色蛍光体を含む蛍光体層を形成
する蛍光体層形成ステップと、 前面基板及び背面基板の対向面の少なくとも一方にMg
O層を形成するMgO層形成ステップと、 前面基板及び背面基板の対向面の少なくとも一方に封着
材層を形成する封着材層形成ステップと、 前記蛍光体層形成ステップ,MgO層形成ステップ及び
封着材層形成ステップの後に、前記前面基板及び背面基
板を、両基板の間に内部空間が形成されるよう重ね合わ
せた状態で、前記封着材が軟化する温度以上の封着温度
に保つことにより封着する封着ステップとを備えるプラ
ズマディスプレイパネルの製造方法において、 前記封着ステップは、 前記内部空間に乾燥ガスが供給されている状態で,前記
内部空間に乾燥ガスを流しながらなされることを特徴と
するプラズマディスプレイパネルの製造方法。
3. A phosphor layer forming step of forming a phosphor layer containing at least a blue phosphor on at least one of the facing surfaces of the front substrate and the back substrate, and Mg on at least one of the facing surfaces of the front substrate and the back substrate.
An MgO layer forming step of forming an O layer, a sealing material layer forming step of forming a sealing material layer on at least one of the facing surfaces of the front substrate and the back substrate, the phosphor layer forming step, the MgO layer forming step, and After the step of forming the sealing material layer, the front substrate and the rear substrate are superposed such that an internal space is formed between the substrates, and the sealing temperature is maintained at a temperature higher than the softening temperature of the sealing material. A method of manufacturing a plasma display panel, comprising: a sealing step of sealing by means of :
A method for manufacturing a plasma display panel, which is performed while flowing a dry gas into the internal space .
【請求項4】 前記封着ステップは前記内部空間に乾燥
ガスを充填する操作及び当該内部空間からガスを排出す
る操作を交互に繰り返しながらなされる請求項2又は3
の何れかに記載のプラズマディスプレイパネルの製造方
法。
4. The method of claim 2 or 3 wherein the sealing step is performed while alternately repeating an operation for discharging the gas from the operation and the interior space is filled with a dry gas into the interior space
A method for manufacturing a plasma display panel according to any one of 1 .
【請求項5】 前記封着ステップは、 前記内部空間内の圧力を大気圧より低い封着圧力に保ち
つつ乾燥ガスを流しながらなされることを特徴とする請
求項2又は3の何れかに記載のプラズマディスプレイパ
ネルの製造方法。
Wherein said sealing step, according to claim 2 or 3, characterized in that made while flowing dry gas while maintaining the pressure in the inner space lower sealing pressure than the atmospheric pressure Of manufacturing plasma display panel of.
【請求項6】 前記封着圧力は、 500Torr以下であることを特徴とする請求項
載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
Wherein said sealing pressure, plasma display panel manufacturing method of claim 5, wherein a is less than 500 Torr.
【請求項7】 前記封着圧力は、 300Torr以下であることを特徴とする請求項
載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
Wherein said sealing pressure, plasma display panel manufacturing method of claim 5, wherein a is less than 300 Torr.
【請求項8】 前記封着圧力より高い圧力に前記蛍光体
層を晒した状態で前記前面基板及び背面基板を加熱昇温
した後に、 前記内部空間のガス圧を前記封着圧力に低下させて前記
封着ステップを開始することを特徴とする請求項記載
のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
8. After heating heating the front and rear substrates in a state of exposing the phosphor layer to a pressure higher than the sealing pressure, and the gas pressure of the internal space is lowered to the sealing pressure The method for manufacturing a plasma display panel according to claim 5, wherein the sealing step is started.
【請求項9】 前記封着圧力より高い圧力に蛍光体層を
晒した状態で前記前面基板及び背面基板を、前記封着材
の軟化点以上に加熱昇温した後に、 前記内部空間のガス圧を前記封着圧力に低下させて前記
封着ステップを開始することを特徴とする請求項記載
のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
9. The gas pressure in the internal space after heating the front substrate and the rear substrate to a temperature higher than the softening point of the sealing material while exposing the phosphor layer to a pressure higher than the sealing pressure. 9. The method for manufacturing a plasma display panel according to claim 8, wherein the sealing step is started by lowering the sealing pressure to the sealing pressure.
【請求項10】 前記封着圧力より高い圧力に蛍光体層
を晒した状態で前記前面基板及び背面基板を、300℃
以上に加熱昇温した後に、 前記内部空間のガス圧を前記封着圧力に低下させて前記
封着ステップを開始することを特徴とする請求項記載
のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
10. the front and rear substrates in a state of exposure of the phosphor layer to a pressure higher than the sealing pressure, 300 ° C.
9. The method of manufacturing a plasma display panel according to claim 8 , wherein after the heating and heating, the gas pressure in the internal space is reduced to the sealing pressure to start the sealing step.
【請求項11】 前記封着圧力より高い圧力に蛍光体層
を晒した状態で前記前面基板及び背面基板を、350℃
以上に加熱昇温した後に、 前記内部空間のガス圧を前記封着圧力に低下させて前記
封着ステップを開始することを特徴とする請求項記載
のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
11. The front substrate and the rear substrate are heated to 350 ° C. while the phosphor layer is exposed to a pressure higher than the sealing pressure.
9. The method of manufacturing a plasma display panel according to claim 8 , wherein after the heating and heating, the gas pressure in the internal space is reduced to the sealing pressure to start the sealing step.
【請求項12】 前記封着圧力より高い圧力に蛍光体層
を晒した状態で前記前面基板及び背面基板を、400℃
以上に加熱昇温した後に、 前記内部空間のガス圧を前記封着圧力に低下させて前記
封着ステップを開始することを特徴とする請求項記載
のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
12. the front and rear substrates in a state of exposure of the phosphor layer to a pressure higher than the sealing pressure, 400 ° C.
9. The method of manufacturing a plasma display panel according to claim 8 , wherein after the heating and heating, the gas pressure in the internal space is reduced to the sealing pressure to start the sealing step.
【請求項13】 前記封着ステップでは、 前記内部空間からガスを強制的に排気することを特徴と
する請求項記載のプラズマディスプレイパネルの製造
方法。
13. The method of manufacturing a plasma display panel according to claim 8 , wherein in the sealing step, gas is forcibly exhausted from the internal space.
【請求項14】 前記封着ステップでは、 前記前面基板及び背面基板の間に、ストライプ状に配列
された複数の隔壁が前記封着材層の内側に介在し、且
つ、前記複数の隔壁の各長手方向端部と前記封着材層と
の間には、一対の第1間隙が存在し、当該第1間隙の最
小幅は、前記複数の隔壁の中で最も外側に配列されたも
のと前記封着材層との間に存在する第2間隙の最小幅よ
りも大きい状態であって、 前記乾燥ガスは、前記一対の第1間隙の一方から他方に
かけて流通することを特徴とする請求項2又は3の何れ
かに記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
14. In the sealing step, a plurality of barrier ribs arranged in stripes are interposed inside the sealing material layer between the front substrate and the rear substrate, and each of the plurality of barrier ribs is disposed. There is a pair of first gaps between the longitudinal ends and the sealing material layer, and the minimum width of the first gaps is that the ones are arranged at the outermost side among the plurality of partition walls. a larger state than the minimum width of the second gap that exists between the sealing material layer, the dry gas, according to claim 2, characterized in that the flow to the other from one of the pair of first gap Or any of 3
A method for manufacturing a plasma display panel as described in 1.
【請求項15】 前記封着ステップでは、 前記前面基板及び背面基板の間に、前記封着材層の内側
に、ストライプ状に配列された複数の第1隔壁と、当該
封着材層の内側に沿って設けられた第2隔壁が介在し、
且つ、前記複数の第1隔壁の各長手方向端部と第2隔壁
との間には、第1間隙が存在し、当該第1間隙の最小幅
は、前記複数の第1隔壁の中で最も外側に配列されたも
のと前記第2隔壁との間に存在する第2間隙の最小幅よ
りも大きい状態であって、 前記乾燥ガスは、前記一対の第1間隙の一方から他方に
かけて流通することを特徴とする請求項2又は3の何れ
かに記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
15. In the sealing step, a plurality of first barrier ribs arranged in stripes inside the sealing material layer between the front substrate and the back substrate, and inside the sealing material layer. A second partition provided along the
In addition, a first gap exists between each longitudinal end of the plurality of first partition walls and the second partition wall, and a minimum width of the first gap is the largest among the plurality of first partition walls. The dry gas is in a state of being larger than the minimum width of the second gap existing between the second partition and the one arranged outside, and the dry gas is circulated from one of the pair of first gaps to the other. Either of claim 2 or 3 characterized by
A method for manufacturing a plasma display panel as described in 1.
【請求項16】 前面基板及び背面基板の対向面の少な
くとも一方に蛍光体層を形成する蛍光体層形成ステップ
と、 前記前面基板及び背面基板の対向面の少なくとも一方に
封着材を配設する封着材配設ステップと、 前記蛍光体層形成ステップ及び封着材配設ステップの後
に、前記前面基板及び背面基板を、両基板の間に内部空
間が形成されるよう重ね合わせた状態で、前記封着材が
軟化する温度以上の封着温度に保つことにより封着する
封着ステップと、 封着された両基板を室温より高い排気温度に保ちながら
両基板間の内部空間の気体を排気する排気ステップとを
有するプラズマディスプレイパネルの製造方法におい
て、前記封着ステップは、内部空間に乾燥ガスを流しながら
行われ, 前記封着ステップで封着された両基板を室温まで降温さ
せることなく前記排気ステップを開始することを特徴と
するプラズマディスプレイパネルの製造方法。
16. A phosphor layer forming step of forming a phosphor layer on at least one of the facing surfaces of the front substrate and the back substrate, and providing a sealing material on at least one of the facing surfaces of the front substrate and the back substrate. After the sealing material disposing step, the phosphor layer forming step and the sealing material disposing step, the front substrate and the rear substrate are superposed so that an internal space is formed between the substrates, A sealing step in which the sealing material is sealed by maintaining the sealing temperature at a temperature higher than the softening temperature of the sealing material; In the method for manufacturing a plasma display panel, the sealing step comprises applying a dry gas to the internal space.
A method of manufacturing a plasma display panel, wherein the exhausting step is performed without lowering the temperatures of both substrates sealed in the sealing step to room temperature.
【請求項17】 前面基板及び背面基板の対向面の少な
くとも一方に蛍光体層を形成する蛍光体層形成ステップ
と、 前記前面基板及び背面基板の対向面の少なくとも一方に
封着材を配設する封着材配設ステップと、 前記封着材が配設された基板を仮焼温度に保つことによ
り仮焼する封着材仮焼ステップと、 前記蛍光体層形成ステップ及び封着材仮焼ステップの後
に、前記前面基板及び背面基板を、両基板の間に内部空
間が形成されるよう重ね合わせた状態で、前記封着材が
軟化する温度以上の封着温度に保つことにより封着する
封着ステップとを有するプラズマディスプレイパネルの
製造方法において、前記封着ステップは、内部空間に乾燥ガスを流しながら
行われ, 前記封着材仮焼ステップは,前記前面基板及び背面基板
を、両基板の間に内部空間が形成されるよう重ね合わせ
た状態で、内部空間に乾燥ガスを流しながら行われ, 前記封着材仮焼ステップで加熱された基板を室温まで降
温させることなく前記封着ステップを開始することを特
徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法。
17. A phosphor layer forming step of forming a phosphor layer on at least one of the facing surfaces of the front substrate and the back substrate; and providing a sealing material on at least one of the facing surfaces of the front substrate and the back substrate. Sealing material disposing step, sealing material calcining step of calcining the substrate on which the sealing material is disposed by calcining at a calcining temperature, phosphor layer forming step and sealing material calcining step After that, the front substrate and the rear substrate are overlapped with each other so that an internal space is formed between the two substrates, and are sealed by maintaining the sealing temperature at a temperature higher than the temperature at which the sealing material is softened. In the method of manufacturing a plasma display panel, the sealing step comprises applying a dry gas to the inner space.
The sealing material calcination step is performed by the front substrate and the rear substrate.
Are stacked so that an internal space is formed between the two substrates.
In the plasma display panel, the sealing step is started without causing the substrate heated in the sealing material calcination step to cool down to room temperature. Production method.
【請求項18】 前面基板及び背面基板の対向面の少な
くとも一方に蛍光体層を形成する蛍光体層形成ステップ
と、 前記前面基板及び背面基板の対向面の少なくとも一方に
封着材を配設する封着材配設ステップと、 前記封着材が配設された基板を仮焼温度に保つことによ
り仮焼する封着材仮焼ステップと、 前記蛍光体層形成ステップ及び封着材仮焼ステップの後
に、前記前面基板及び背面基板を、両基板の間に内部空
間が形成されるよう重ね合わせた状態で、前記封着材が
軟化する温度以上の封着温度に保つことにより封着する
封着ステップと、 封着された両基板を室温より高い排気温度に保ちながら
両基板間の内部空間の気体を排気する排気ステップとを
有するプラズマディスプレイパネルの製造方法におい
て、前記封着ステップは、内部空間に乾燥ガスを流しながら
行われ, 前記仮焼ステップは,前記前面基板及び背面基板を、両
基板の間に内部空間が形成されるよう重ね合わせた状態
で、内部空間に乾燥ガスを流しながら行われ, 前記封着材仮焼ステップから封着ステップを経て排気ス
テップに到るまで、前記前面基板及び背面基板が室温よ
り高い温度に保たれた状態でなされることを特徴とする
プラズマディスプレイパネルの製造方法。
18. A phosphor layer forming step of forming a phosphor layer on at least one of the facing surfaces of the front substrate and the back substrate, and disposing a sealing material on at least one of the facing surfaces of the front substrate and the back substrate. Sealing material disposing step, sealing material calcining step of calcining the substrate on which the sealing material is disposed by calcining at a calcining temperature, phosphor layer forming step and sealing material calcining step After that, the front substrate and the rear substrate are overlapped with each other so that an internal space is formed between the two substrates, and are sealed by maintaining the sealing temperature at a temperature higher than the temperature at which the sealing material is softened. and wear steps, in the manufacturing method of a plasma display panel having an exhaust step for exhausting the gas in the inner space between the substrates while keeping the substrates that are sealed to high exhaust temperatures than room temperature, the sealing step, the internal While flowing dry gas into the space
The calcination step is performed on both the front substrate and the rear substrate.
Stacked so that an internal space is formed between the substrates
In a state in which the front substrate and the rear substrate are kept at a temperature higher than room temperature from the sealing material calcination step to the sealing step to the exhaust step. A method of manufacturing a plasma display panel, comprising:
【請求項19】 前記仮焼ステップの後、仮焼温度に加
熱されている基板を更に封着温度まで加熱昇温して前記
封着ステップを開始することを特徴とする請求項17〜
18の何れかに記載のプラズマディスプレイパネルの製
造方法。
19. After the calcination step, according to claim 17 in which the substrate is heated to a calcining temperature was further Atsushi Nobori to sealing temperature, characterized in that to start the sealing step
19. The method for manufacturing a plasma display panel according to any one of 18 .
【請求項20】 前記封着ステップの後、封着された両
基板の温度を排気温度まで降下させてから排気ステップ
を開始することを特徴とする請求項16又は18の何れ
かに記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
20. The plasma according to claim 16, wherein after the sealing step, the temperature of both the sealed substrates is lowered to the exhaust temperature before the exhaust step is started. Display panel manufacturing method.
【請求項21】 前記封着ステップの後、封着された両
基板^の温度を封着温度と同等の温度に維持したまま排
気ステップを開始することを特徴とする請求項16又は
18の何れかに記載のプラズマディスプレイパネルの製
造方法。
21. After the sealing step, according to claim 16 or the temperature of the substrates ^ which is sealed, characterized in that to start the pumping step while maintaining the sealing temperature and the same temperature
19. The method for manufacturing a plasma display panel according to any one of 18 .
【請求項22】 前記仮焼ステップは、 封着材が配された基板の対向面が開放された状態で行わ
れ、 前記仮焼ステップと封着ステップとの間に、乾燥ガス雰囲気の中で, 前記前面基板と背面基板とを、
対向面が開放された状態で加熱する予備加熱ステップを
備えることを特徴とする請求項17〜18の何れかに
載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
22. The calcination step is performed in a state where the facing surface of the substrate on which the sealing material is arranged is open, and in a dry gas atmosphere between the calcination step and the sealing step. , The front substrate and the back substrate,
The method of manufacturing a plasma display panel according to any one of claims 17 to 18, further comprising a preheating step of heating with the facing surface open.
【請求項23】 前記予備加熱ステップでは、 前記前面基板と背面基板とを、仮焼温度よりも高い温度
まで加熱することを特徴とする請求項22記載のプラズ
マディスプレイパネルの製造方法。
23. The method of manufacturing a plasma display panel according to claim 22 , wherein in the preheating step, the front substrate and the rear substrate are heated to a temperature higher than a calcination temperature.
【請求項24】 前記予備加熱ステップでは、 前記前面基板と背面基板とを、封着温度よりも高い温度
まで加熱し、 その後、前記前面基板と背面基板を封着温度まで降温し
てから封着ステップを開始することを特徴とする請求項
22記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
24. In the preheating step, the front substrate and the rear substrate are heated to a temperature higher than a sealing temperature, and then the front substrate and the rear substrate are cooled to a sealing temperature and then sealed. The step of starting a step.
22. A method for manufacturing a plasma display panel according to item 22 .
【請求項25】 前記予備加熱ステップは、 減圧雰囲気中で行われることを特徴とする請求項22
載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
25. The method of manufacturing a plasma display panel according to claim 22 , wherein the preheating step is performed in a reduced pressure atmosphere.
【請求項26】 前記乾燥ガスは、 それが使用される雰囲気における水蒸気分圧が15To
rr以下であることを特徴とする請求項1〜5,16〜
18,22のいずれかに記載のプラズマディスプレイパ
ネルの製造方法。
26. The dry gas has a water vapor partial pressure of 15 To in an atmosphere in which it is used.
It is below rr, It is characterized by the above-mentioned 1-5,16-.
23. A method of manufacturing a plasma display panel according to any one of 18 and 22 .
【請求項27】 前記乾燥ガスの露点温度が20℃以下
であることを特徴とする請求項1〜5,16〜18,2
のいずれかに記載のプラズマディスプレイパネルの製
造方法。
27. The dew point temperature of the dry gas is 20 ° C. or lower, and the dew point temperature is 1 to 5, 16 to 18, 2.
3. The method for manufacturing a plasma display panel according to any one of 2 .
【請求項28】 前記乾燥ガスには、 酸素が含まれていることを特徴とする請求項1〜5,1
6〜18,22のいずれかに記載のプラズマディスプレ
イパネルの製造方法。
The method according to claim 28 wherein said dry gas, claim, characterized in that oxygen is contained 1~5,1
23. The method for manufacturing a plasma display panel according to any one of 6 to 18 , 22 .
【請求項29】 前記乾燥ガスは、 乾燥空気であることを特徴とする請求項1〜5,16〜
18,22のいずれかに記載のプラズマディスプレイパ
ネルの製造方法。
29. The dry gas, claim, characterized in that a dry air 1~5,16~
23. A method of manufacturing a plasma display panel according to any one of 18 and 22 .
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WO2003056598A1 (en) 2001-12-25 2003-07-10 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Plasma display panel and its manufacturing method
DE102007009192A1 (en) * 2007-02-26 2008-08-28 Osram Gesellschaft mit beschränkter Haftung Method for manufacturing discharge lamp, involves applying fluorescent material layer on surface of upper part and lower part by providing plate-type upper part and plate-type lower part
WO2009031181A1 (en) * 2007-09-04 2009-03-12 Hitachi, Ltd. Plasma display panel
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JP2010262814A (en) * 2009-05-01 2010-11-18 Nippon Hoso Kyokai <Nhk> Method for manufacturing plasma display panel and substrate sealing device
CN103151266B (en) * 2009-11-20 2016-08-03 株式会社半导体能源研究所 The method being used for producing the semiconductor devices
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